JPH0659119A - カラーフィルターの作成方法 - Google Patents
カラーフィルターの作成方法Info
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- JPH0659119A JPH0659119A JP11154393A JP11154393A JPH0659119A JP H0659119 A JPH0659119 A JP H0659119A JP 11154393 A JP11154393 A JP 11154393A JP 11154393 A JP11154393 A JP 11154393A JP H0659119 A JPH0659119 A JP H0659119A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 全面にわたり平坦性の良好な高い遮光性を有
するパターン画素を有するカラーフィルターの作成方法
を提供する。 【構成】 透明基板上に多色パターン形成する工程、該
多色パターンを覆って該透明基板上の全面に遮光性感光
性樹脂層を転写により形成する工程、該透明基板を通し
て活性光線を照射し、該遮光性感光性樹脂層を硬化させ
る工程、該遮光性感光性樹脂層を現像して該多色パター
ンが存在しない部分に遮光性を有する画素を形成する工
程、を含む。また、遮光性感光性樹脂層の感光波長域に
おいて、該多色パターンを形成する各画素に、耐熱性で
かつ、該遮光性感光性樹脂層の感光波長域に対する光吸
収性が良好な化合物を含有させ、好ましくは、該多色パ
ターンを形成する各画素の４００ｎｍ以下の光透過率が
２％以下（遮光性感光性樹脂組成物を実質的に感光させ
る波長の透過率で測定する）であるカラーフイルターの
作成方法。
するパターン画素を有するカラーフィルターの作成方法
を提供する。 【構成】 透明基板上に多色パターン形成する工程、該
多色パターンを覆って該透明基板上の全面に遮光性感光
性樹脂層を転写により形成する工程、該透明基板を通し
て活性光線を照射し、該遮光性感光性樹脂層を硬化させ
る工程、該遮光性感光性樹脂層を現像して該多色パター
ンが存在しない部分に遮光性を有する画素を形成する工
程、を含む。また、遮光性感光性樹脂層の感光波長域に
おいて、該多色パターンを形成する各画素に、耐熱性で
かつ、該遮光性感光性樹脂層の感光波長域に対する光吸
収性が良好な化合物を含有させ、好ましくは、該多色パ
ターンを形成する各画素の４００ｎｍ以下の光透過率が
２％以下（遮光性感光性樹脂組成物を実質的に感光させ
る波長の透過率で測定する）であるカラーフイルターの
作成方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ等に
用いられるカラーフィルターの作成方法、特に遮光性を
有するパターン画素の作成方法に関する。
用いられるカラーフィルターの作成方法、特に遮光性を
有するパターン画素の作成方法に関する。
【０００２】
【従来技術】フルカラーの液晶ディスプレイで使用され
るカラーフィルターは、光モレを防止し、コントラスト
を向上させる目的でＲ、Ｇ、Ｂ各画素の間に遮光性を有
するパターン画素を設けている。この遮光性を有するパ
ターン画素には、クロム等の金属膜や感光性樹脂に黒色
色素等を分散させた物等を用いて形成している。クロム
等の金属膜の場合、蒸着等の手段によりガラス基板全面
に金属膜を蒸着し、その後レジストを塗布し、パターニ
ングし、エッチングすることにより金属膜をパターニン
グしている。この方法では非常に工程が複雑で、歩留り
も悪く、コスト的に問題があった。一方で感光性樹脂と
カーボン等を組合わせた感光性黒色樹脂による遮光性を
有するパターン画素の形成方法が知られているが、この
場合、ある程度の遮光性を得るためには膜厚が数μm必
要であり、通常カラーフィルターの作成は、アライメン
ト誤差等の問題から遮光性を有するパターン画素とＲ、
Ｇ、Ｂ画素とはある程度の重なりを有しているのが現状
であるので、カラーフィルターの表面には凹凸が生じ
る。良好な平坦性を得るためにはさらにその上に平坦化
層を設けたり、表面研磨を行っているのが実情である。
そこで、特開平３−２０９２０３や特開平４−６９６０
２にはＲ、Ｇ、Ｂ形成後に黒色感光性樹脂層を全面に塗
布し、裏面から露光し、ＲＧＢの間隙に遮光性を有する
パターン画素を形成する方法が検討されている。しかし
ながら、これらの方法では全面にわたりＲ、Ｇ、Ｂの各
画素間にそのＲ、Ｇ、Ｂと同じ膜厚で黒色感光性樹脂層
を塗布することは非常に困難であり、これらの方法で作
成したカラーフィルターを用いて、液晶パネルを作成し
たところ、セルギャップが均一にならず表示ムラが発生
してしまう等の問題があった。
るカラーフィルターは、光モレを防止し、コントラスト
を向上させる目的でＲ、Ｇ、Ｂ各画素の間に遮光性を有
するパターン画素を設けている。この遮光性を有するパ
ターン画素には、クロム等の金属膜や感光性樹脂に黒色
色素等を分散させた物等を用いて形成している。クロム
等の金属膜の場合、蒸着等の手段によりガラス基板全面
に金属膜を蒸着し、その後レジストを塗布し、パターニ
ングし、エッチングすることにより金属膜をパターニン
グしている。この方法では非常に工程が複雑で、歩留り
も悪く、コスト的に問題があった。一方で感光性樹脂と
カーボン等を組合わせた感光性黒色樹脂による遮光性を
有するパターン画素の形成方法が知られているが、この
場合、ある程度の遮光性を得るためには膜厚が数μm必
要であり、通常カラーフィルターの作成は、アライメン
ト誤差等の問題から遮光性を有するパターン画素とＲ、
Ｇ、Ｂ画素とはある程度の重なりを有しているのが現状
であるので、カラーフィルターの表面には凹凸が生じ
る。良好な平坦性を得るためにはさらにその上に平坦化
層を設けたり、表面研磨を行っているのが実情である。
そこで、特開平３−２０９２０３や特開平４−６９６０
２にはＲ、Ｇ、Ｂ形成後に黒色感光性樹脂層を全面に塗
布し、裏面から露光し、ＲＧＢの間隙に遮光性を有する
パターン画素を形成する方法が検討されている。しかし
ながら、これらの方法では全面にわたりＲ、Ｇ、Ｂの各
画素間にそのＲ、Ｇ、Ｂと同じ膜厚で黒色感光性樹脂層
を塗布することは非常に困難であり、これらの方法で作
成したカラーフィルターを用いて、液晶パネルを作成し
たところ、セルギャップが均一にならず表示ムラが発生
してしまう等の問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、全面にわたり平坦性の良好な遮光性を有するパター
ン画素を有するカラーフィルターの作成方法を提供する
ものである。本発明の第二の目的は、高い遮光性を有す
るパターン画素を形成する方法を提供することである。
は、全面にわたり平坦性の良好な遮光性を有するパター
ン画素を有するカラーフィルターの作成方法を提供する
ものである。本発明の第二の目的は、高い遮光性を有す
るパターン画素を形成する方法を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の第一の目的は、
透明基板上に、それぞれ光の３原色の１を有する画素に
より形成された多色パターン及び該画素が存在しない部
分を遮光する遮光性を有する画素を設けたカラーフィル
ターの製造方法において、透明基板上に該多色パターン
形成する工程、該多色パターンを覆って該透明基板上の
全面に遮光性感光性樹脂層を転写により形成する工程、
該透明基板を通して活性光線を照射し、該遮光性感光性
樹脂層を硬化させる工程、該遮光性感光性樹脂層を現像
して該多色パターンが存在しない部分に遮光性を有する
画素を形成する工程、を含むことを特徴とするカラーフ
ィルターの作成方法により達成された。本発明の第二の
目的は、遮光性感光性樹脂層の感光波長域において、該
多色パターンを形成する各画素に、耐熱性でかつ、該遮
光性感光性樹脂層の感光波長域に対する光吸収性が良好
な化合物を含有させ、好ましくは、該多色パターンを形
成する各画素の４００ｎｍ以下の光透過率が２％以下
（遮光性感光性樹脂組成物を実質的に感光させる波長の
透過率で測定する）であるカラーフイルターの作成方
法、あるいは遮光性感光性樹脂層の感光波長域におい
て、該多色パターンを形成する各画素の光透過光率が２
％以下となる波長を有する光を照射するカラーフイルタ
ーの作成方法により達成された。
透明基板上に、それぞれ光の３原色の１を有する画素に
より形成された多色パターン及び該画素が存在しない部
分を遮光する遮光性を有する画素を設けたカラーフィル
ターの製造方法において、透明基板上に該多色パターン
形成する工程、該多色パターンを覆って該透明基板上の
全面に遮光性感光性樹脂層を転写により形成する工程、
該透明基板を通して活性光線を照射し、該遮光性感光性
樹脂層を硬化させる工程、該遮光性感光性樹脂層を現像
して該多色パターンが存在しない部分に遮光性を有する
画素を形成する工程、を含むことを特徴とするカラーフ
ィルターの作成方法により達成された。本発明の第二の
目的は、遮光性感光性樹脂層の感光波長域において、該
多色パターンを形成する各画素に、耐熱性でかつ、該遮
光性感光性樹脂層の感光波長域に対する光吸収性が良好
な化合物を含有させ、好ましくは、該多色パターンを形
成する各画素の４００ｎｍ以下の光透過率が２％以下
（遮光性感光性樹脂組成物を実質的に感光させる波長の
透過率で測定する）であるカラーフイルターの作成方
法、あるいは遮光性感光性樹脂層の感光波長域におい
て、該多色パターンを形成する各画素の光透過光率が２
％以下となる波長を有する光を照射するカラーフイルタ
ーの作成方法により達成された。
【０００５】以下、本発明について詳細に説明する。透
明基板上にＲ、Ｇ、Ｂの画素から成る多色パターンを形
成する方法としては、染色法、印刷法、顔料分散法、電
着法、転写法等の公知の方法をすべて用いることができ
る。遮光性感光性樹脂の感光波長領域に対するＲ、Ｇ、
Ｂ画素の光透過率が２％を超える場合は、あらかじめ
Ｒ、Ｇ、Ｂ画素の中に光吸収剤等を加え、その透過率を
２％以下にすることが好ましい。この際使用する光吸収
剤としては、公知の種々の化合物を用いることができ
る。例えば、ベンゾフェノン誘導体（ミヒラーズケトン
等）、メロシアニン系化合物、金属酸化物、ベンゾトリ
アゾール系化合物、クマリン系化合物等を挙げることが
できる。その中でも、光吸収性が良好で、かつ２００℃
以上の熱処理の後でも２５％以上の光吸収性能を保持す
るものが好ましく、具体的には酸化チタン、酸化亜鉛、
ベンゾトリアゾール系化合物、クマリン系化合物が挙げ
られる。これらの中では、クマリン系化合物が耐熱性、
光吸収性の両観点から特に好ましい。更に、クマリン系
化合物は、多色パターンを光重合性組成物を用いて作成
する場合に、これらの光重合を阻害することが無いこと
も好ましい。なお、上述の２００℃以上の熱処理は、カ
ラーフィルター作成時に必要に応じてパターン画素を一
層硬化させるために行われる。
明基板上にＲ、Ｇ、Ｂの画素から成る多色パターンを形
成する方法としては、染色法、印刷法、顔料分散法、電
着法、転写法等の公知の方法をすべて用いることができ
る。遮光性感光性樹脂の感光波長領域に対するＲ、Ｇ、
Ｂ画素の光透過率が２％を超える場合は、あらかじめ
Ｒ、Ｇ、Ｂ画素の中に光吸収剤等を加え、その透過率を
２％以下にすることが好ましい。この際使用する光吸収
剤としては、公知の種々の化合物を用いることができ
る。例えば、ベンゾフェノン誘導体（ミヒラーズケトン
等）、メロシアニン系化合物、金属酸化物、ベンゾトリ
アゾール系化合物、クマリン系化合物等を挙げることが
できる。その中でも、光吸収性が良好で、かつ２００℃
以上の熱処理の後でも２５％以上の光吸収性能を保持す
るものが好ましく、具体的には酸化チタン、酸化亜鉛、
ベンゾトリアゾール系化合物、クマリン系化合物が挙げ
られる。これらの中では、クマリン系化合物が耐熱性、
光吸収性の両観点から特に好ましい。更に、クマリン系
化合物は、多色パターンを光重合性組成物を用いて作成
する場合に、これらの光重合を阻害することが無いこと
も好ましい。なお、上述の２００℃以上の熱処理は、カ
ラーフィルター作成時に必要に応じてパターン画素を一
層硬化させるために行われる。
【０００６】クマリン化合物としては、一般式（Ｉ）、
（ＩＩ）もしくは（ＩＩＩ）で示される化合物を挙げる
ことができる。
（ＩＩ）もしくは（ＩＩＩ）で示される化合物を挙げる
ことができる。
【０００７】
【化１】
【０００８】ここで、 Ｒ1，Ｒ2：同一でも異なっていても良く、水素、アミノ
基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルアミノ基、Ｎ置
換アミノアルキル基、ハロゲン、もしくはアルコキシ基
を表す。アルキル及びアルコキシとしては炭素数１〜４
のものが好ましい。 Ｒ3 ：炭素数１〜７、好ましくは１〜４のアルキル
基を表す。 Ｒ4，Ｒ5：同一でも異なっていても良く、水素もしくは
炭素数１〜７、好ましくは１〜４のアルキル基を表す。 Ｒ6，Ｒ7：同一でも異なっていても良く、水素、炭素数
１〜７、好ましくは１〜４のアルキル基、もしくは炭素
数１〜４のアルコキシ基を表す。
基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルアミノ基、Ｎ置
換アミノアルキル基、ハロゲン、もしくはアルコキシ基
を表す。アルキル及びアルコキシとしては炭素数１〜４
のものが好ましい。 Ｒ3 ：炭素数１〜７、好ましくは１〜４のアルキル
基を表す。 Ｒ4，Ｒ5：同一でも異なっていても良く、水素もしくは
炭素数１〜７、好ましくは１〜４のアルキル基を表す。 Ｒ6，Ｒ7：同一でも異なっていても良く、水素、炭素数
１〜７、好ましくは１〜４のアルキル基、もしくは炭素
数１〜４のアルコキシ基を表す。
【０００９】具体的には、 ７−｛｛４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−ｓ−ト
リアジン−２−イル｝アミノ｝−３−フェニルクマリン ７−｛｛４−メトキシ−６−（ジエチルアミノ）−ｓ−
トリアジン−２−イル｝アミノ｝−３−フェニルクマリ
ン ７−｛｛４−メトキシ−６−（ジエチルアミノプロピル
アミノ）−ｓ−トリアジン−２−イル｝アミノ｝−３−
フェニルクマリン Ｎ−（γ−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ’−｛３−フ
ェニルクマリニル−（７）｝ウレア ３−フェニル−７−（４’−メチル−５’−ｎ−ブトキ
シ−ベンゾトリアゾリル−２）クマリン 等を挙げることができる。これらの中では、７−｛｛４
−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−ｓ−トリアジン−
２−イル｝アミノ｝−３−フェニルクマリンが特に好ま
しい。
リアジン−２−イル｝アミノ｝−３−フェニルクマリン ７−｛｛４−メトキシ−６−（ジエチルアミノ）−ｓ−
トリアジン−２−イル｝アミノ｝−３−フェニルクマリ
ン ７−｛｛４−メトキシ−６−（ジエチルアミノプロピル
アミノ）−ｓ−トリアジン−２−イル｝アミノ｝−３−
フェニルクマリン Ｎ−（γ−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ’−｛３−フ
ェニルクマリニル−（７）｝ウレア ３−フェニル−７−（４’−メチル−５’−ｎ−ブトキ
シ−ベンゾトリアゾリル−２）クマリン 等を挙げることができる。これらの中では、７−｛｛４
−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−ｓ−トリアジン−
２−イル｝アミノ｝−３−フェニルクマリンが特に好ま
しい。
【００１０】本発明において、カラーフィルターを覆っ
て該透明基板上の全面に遮光性感光性樹脂層を転写によ
り形成する工程で用いる転写材料、転写方法、および現
像方法は、特願平２−４０００４７、特願平３−９２９
２、特願平３−１２０２２３、特願平３−１５３２２
７、特願平４−１２９８０および特願平４−６４８７０
に記載の感光性転写材料、転写方法および現像方法を用
いることができる。
て該透明基板上の全面に遮光性感光性樹脂層を転写によ
り形成する工程で用いる転写材料、転写方法、および現
像方法は、特願平２−４０００４７、特願平３−９２９
２、特願平３−１２０２２３、特願平３−１５３２２
７、特願平４−１２９８０および特願平４−６４８７０
に記載の感光性転写材料、転写方法および現像方法を用
いることができる。
【００１１】透明基板を通して露光する（裏露光と称す
る）に際して、光源としては、遮光性感光性樹脂層の感
光性に応じて選択され、超高圧水銀灯、キセノン灯、カ
ーボンアーク灯、アルゴンレーザー等の公知の光源が使
用できる。
る）に際して、光源としては、遮光性感光性樹脂層の感
光性に応じて選択され、超高圧水銀灯、キセノン灯、カ
ーボンアーク灯、アルゴンレーザー等の公知の光源が使
用できる。
【００１２】この際、遮光性感光性樹脂層の感光波長領
域に対するＲ、Ｇ、Ｂ画素の光透過率が２％を超える場
合は、光学濃度（ＯＤ）１．５以上の遮光性を有するパ
ターン画素を形成する場合、Ｒ、Ｇ、Ｂ画素上に光硬化
した遮光膜が残留し、カラーフイルターとして実用する
ことが困難となる。Ｒ、Ｇ、Ｂ画素の光透過率が２％を
超える場合は、前述したようにあらかじめＲ、Ｇ、Ｂ画
素の中に光吸収剤等を加えるか、あるいは別の方法とし
て、光学フィルターを用いて所望の波長領域のみを選択
的に取りだしても良く、この場合には、少なくとも遮光
性感光性樹脂層の感光波長域の４００ｎｍ以上の透過率
が２％以下の光学フィルターを用いるのが好ましい。ま
た、両者を組合わせても良い。この方法により、Ｒ、
Ｇ、Ｂの各画素の上に転写された遮光性感光性樹脂層
は、基板を通して露光をした際に、実質的に硬化せず、
引き続く現像処理により除去することが可能となる。以
下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
域に対するＲ、Ｇ、Ｂ画素の光透過率が２％を超える場
合は、光学濃度（ＯＤ）１．５以上の遮光性を有するパ
ターン画素を形成する場合、Ｒ、Ｇ、Ｂ画素上に光硬化
した遮光膜が残留し、カラーフイルターとして実用する
ことが困難となる。Ｒ、Ｇ、Ｂ画素の光透過率が２％を
超える場合は、前述したようにあらかじめＲ、Ｇ、Ｂ画
素の中に光吸収剤等を加えるか、あるいは別の方法とし
て、光学フィルターを用いて所望の波長領域のみを選択
的に取りだしても良く、この場合には、少なくとも遮光
性感光性樹脂層の感光波長域の４００ｎｍ以上の透過率
が２％以下の光学フィルターを用いるのが好ましい。ま
た、両者を組合わせても良い。この方法により、Ｒ、
Ｇ、Ｂの各画素の上に転写された遮光性感光性樹脂層
は、基板を通して露光をした際に、実質的に硬化せず、
引き続く現像処理により除去することが可能となる。以
下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１３】
実施例１ 厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
仮支持体の上に下記の処方Ｈ１からなる塗布液を塗布、
乾燥させ、乾燥膜厚が２０μｍの熱可塑性樹脂層を設け
た。
仮支持体の上に下記の処方Ｈ１からなる塗布液を塗布、
乾燥させ、乾燥膜厚が２０μｍの熱可塑性樹脂層を設け
た。
【００１４】 熱可塑性樹脂層処方Ｈ１： メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル メタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比） ＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝５００００） １５．０重量部 ポリプロピレングリコールジアクリレート（平均分子量＝８２２） ６．５重量部 テトラエチレングリコールジメタクリレート １．５重量部 ｐ−トルエンスルホンアミド ０．５重量部 ベンゾフェノン １．０重量部 メチルエチルケトン ３０．０重量部
【００１５】次に上記熱可塑性樹脂層上に下記処方Ｂ１
から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μ
ｍ厚の分離性を有する中間層を設けた。
から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μ
ｍ厚の分離性を有する中間層を設けた。
【００１６】 中間層処方Ｂ１： ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ２０５、鹸化率＝８０％） １３０重量部 ポリビニルピロリドン（ＧＡＦコーポレーション社製ＰＶＰ、Ｋ−９０） ６０重量部 弗素系界面活性剤（旭硝子（株）社製サーフロンＳ−１３１） １０重量部 蒸留水 ３３５０重量部
【００１７】上記熱可塑性樹脂層及び中間層を有する仮
支持体の上に、以下の処方Ｃ１からなる塗布液を塗布、
乾燥させ、乾燥膜厚が２μｍの遮光性感光性樹脂層を形
成した。
支持体の上に、以下の処方Ｃ１からなる塗布液を塗布、
乾燥させ、乾燥膜厚が２μｍの遮光性感光性樹脂層を形
成した。
【００１８】 処方Ｃ１： ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （モル比＝７０／３０、極限粘度＝０．１２） ３０．００重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ７．４０重量部 ミヒラーズケトン ０．０４重量部 ２（ο−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル イミダゾール２量体 ０．４０重量部 カーボンブラック ３．８０重量部 ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．０１重量部 メチルセロソルブアセテート ２８０．００重量部 メチルエチルケトン １４０．００重量部
【００１９】さらに上記遮光性感光性樹脂層の上にポリ
プロピレン（厚さ１２μｍ）の被覆シートを圧着し、遮
光性感光性転写材料を作成した。この遮光性感光性樹脂
層の感光波長は３５０ｎｍから４２０ｎｍであり、光源
に超高圧水銀灯を用いた場合の主感光波長は３６５ｎｍ
（ｉ線）と４０５ｎｍ（ｈ線）であり、ＯＤは２．０で
あった（マクベス濃度計を用いて測定）。
プロピレン（厚さ１２μｍ）の被覆シートを圧着し、遮
光性感光性転写材料を作成した。この遮光性感光性樹脂
層の感光波長は３５０ｎｍから４２０ｎｍであり、光源
に超高圧水銀灯を用いた場合の主感光波長は３６５ｎｍ
（ｉ線）と４０５ｎｍ（ｈ線）であり、ＯＤは２．０で
あった（マクベス濃度計を用いて測定）。
【００２０】また、下記表１に示した組成の、赤
（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の着色感光層を形成した。
ただし、Ｒ層のｉ線透過率が１％となるようにミヒラー
ズケトンを添加した。
（Ｒ）、青（Ｂ）、緑（Ｇ）の着色感光層を形成した。
ただし、Ｒ層のｉ線透過率が１％となるようにミヒラー
ズケトンを添加した。
【００２１】 表１：感光層の処方 Ｒ層 Ｇ層 Ｂ層 Ｋ層 ────────────────────────────────── ヘ゛ンシ゛ルメタクリレート／ 60.0 60.0 60.0 60.0 メタクリル酸共重合体 （モル比＝73/27 粘度＝0.12） ペンタエリスリトール 43.2 43.2 43.2 43.2 テトラアクリレート ミヒラーズケトン 2.4 2.4 2.4 2.4 ２−（ｏ−クロロフェニル 2.5 2.5 2.5 2.5 ジフェニルイミダゾール２量体 イルガシンレッドＢＰＴ(赤色) 5.4 --- --- --- スーダンブルー(青色) --- 5.2 --- --- 銅フタロシアニン(緑色) --- --- 5.6 --- カーボンブラック(黒色) --- --- --- 5.6 メチルセロソルブアセテート 560 560 560 560 メチルエチルケトン 280 280 280 280
【００２２】これを用い、ガラス基板（厚さ１．１ｍ
ｍ）上にＲ、Ｇ、Ｂ画素から成るカラーフィルターを形
成した。この場合のｉ線およびｈ線の透過率は表２の様
になった。
ｍ）上にＲ、Ｇ、Ｂ画素から成るカラーフィルターを形
成した。この場合のｉ線およびｈ線の透過率は表２の様
になった。
【００２３】
【００２４】遮光性感光性転写材料の被覆シートを剥離
し、Ｒ、Ｇ、Ｂ画素から成る多色パターン上に、遮光性
感光性樹脂層面を多色パターン面にラミネーター（大成
ラミネータ（株）製ＶＰ−ＩＩ）を用いて加圧（０．８
ｋｇ／ｃｍ2）、加熱（１３０℃）して貼り合わせ、続
いて仮支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支
持体を除去した。
し、Ｒ、Ｇ、Ｂ画素から成る多色パターン上に、遮光性
感光性樹脂層面を多色パターン面にラミネーター（大成
ラミネータ（株）製ＶＰ−ＩＩ）を用いて加圧（０．８
ｋｇ／ｃｍ2）、加熱（１３０℃）して貼り合わせ、続
いて仮支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支
持体を除去した。
【００２５】次にガラス基板を通して、超高圧水銀灯を
用いて全面露光を行ったが、この場合、表２に示したよ
うにＢ画素の、ｈ線の透過率が２％を超えているので、
光源とガラス基板の間に、東芝ガラスフィルター（ＵＶ
Ｄ３６ｃ）を設置した。露光量は、１００mj/cm2であっ
た。その後、１％炭酸ナトリウム水溶液で現像して非硬
化部を除去し、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素の間隙に遮光性を有す
るパターン画素を形成した。出来上がったカラーフィル
ターは、遮光性を有するパターン画素とＲＧＢ画素との
重なりが無く、平坦性は良好であり、更に、ＲＧＢ各画
素の上には、実質的に遮光性感光性樹脂層の残留はなか
った。
用いて全面露光を行ったが、この場合、表２に示したよ
うにＢ画素の、ｈ線の透過率が２％を超えているので、
光源とガラス基板の間に、東芝ガラスフィルター（ＵＶ
Ｄ３６ｃ）を設置した。露光量は、１００mj/cm2であっ
た。その後、１％炭酸ナトリウム水溶液で現像して非硬
化部を除去し、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素の間隙に遮光性を有す
るパターン画素を形成した。出来上がったカラーフィル
ターは、遮光性を有するパターン画素とＲＧＢ画素との
重なりが無く、平坦性は良好であり、更に、ＲＧＢ各画
素の上には、実質的に遮光性感光性樹脂層の残留はなか
った。
【００２６】比較例１ 露光時に東芝ガラスフィルター（ＵＶＤ３６ｃ）を設置
しなかった以外は、実施例１と同じ方法でカラーフイル
ターを作成した。この場合、Ｂの画素上に遮光性感光性
樹脂層が残留し、カラーフイルターとしての使用は困難
であった。
しなかった以外は、実施例１と同じ方法でカラーフイル
ターを作成した。この場合、Ｂの画素上に遮光性感光性
樹脂層が残留し、カラーフイルターとしての使用は困難
であった。
【００２７】比較例２ 実施例１の表１に示した組成の、赤（Ｒ）、青（Ｂ）、
緑（Ｇ）の着色感光層を用いて、ガラス基板（厚さ１．
１ｍｍ）上にＲ、Ｇ、Ｂ多色パターンを形成した。この
場合のｉ線およびｈ線の透過率は表３の様になった。
緑（Ｇ）の着色感光層を用いて、ガラス基板（厚さ１．
１ｍｍ）上にＲ、Ｇ、Ｂ多色パターンを形成した。この
場合のｉ線およびｈ線の透過率は表３の様になった。
【００２８】
【００２９】実施例１と同様に遮光性転写材料を用い
て、上記多色パターン上に遮光性感光性樹脂層を設け、
東芝ガラスフィルター（ＵＶＤ３６ｃ）を通して、１０
０mj/cm2で露光し、その後、１％炭酸ナトリウム水溶液
で現像して非硬化部分を除去し、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素の間
隙に遮光性を有するパターン画素を形成した。この場
合、Ｒのｉ線の透過率が２％を超えているので、Ｒの画
素上に遮光層が残る故障が発生した。
て、上記多色パターン上に遮光性感光性樹脂層を設け、
東芝ガラスフィルター（ＵＶＤ３６ｃ）を通して、１０
０mj/cm2で露光し、その後、１％炭酸ナトリウム水溶液
で現像して非硬化部分を除去し、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素の間
隙に遮光性を有するパターン画素を形成した。この場
合、Ｒのｉ線の透過率が２％を超えているので、Ｒの画
素上に遮光層が残る故障が発生した。
【００３０】実施例２ 厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
仮支持体の上に下記の処方Ｈ１からなる塗布液を塗布、
乾燥させ、乾燥膜厚が２０μｍの熱可塑性樹脂層を設け
た。 熱可塑性樹脂層処方Ｈ１： メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル メタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比） ＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝５００００） １５．０重量部 ポリプロピレングリコールジアクリレート（平均分子量＝８２２） ６．５重量部 テトラエチレングリコールジメタクリレート １．５重量部 ｐ−トルエンスルホンアミド ０．５重量部 ベンゾフェノン １．０重量部 メチルエチルケトン ３０．０重量部
仮支持体の上に下記の処方Ｈ１からなる塗布液を塗布、
乾燥させ、乾燥膜厚が２０μｍの熱可塑性樹脂層を設け
た。 熱可塑性樹脂層処方Ｈ１： メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ベンジル メタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合組成比（モル比） ＝５５／３０／１０／５、重量平均分子量＝５００００） １５．０重量部 ポリプロピレングリコールジアクリレート（平均分子量＝８２２） ６．５重量部 テトラエチレングリコールジメタクリレート １．５重量部 ｐ−トルエンスルホンアミド ０．５重量部 ベンゾフェノン １．０重量部 メチルエチルケトン ３０．０重量部
【００３１】次に上記熱可塑性樹脂層上に下記処方Ｂ１
から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μ
ｍ厚の中間層を設けた。 分離層処方Ｂ１： ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ２０５、鹸化率＝８０％） １３０重量部 ポリビニルピロリドン（ＧＡＦコーポレーション社製ＰＶＰ、Ｋ−９０） ６０重量部 弗素系界面活性剤（旭硝子（株）社製サーフロンＳ−１３１） １０重量部 蒸留水 ３３５０重量部
から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が１．６μ
ｍ厚の中間層を設けた。 分離層処方Ｂ１： ポリビニルアルコール（クラレ（株）製ＰＶＡ２０５、鹸化率＝８０％） １３０重量部 ポリビニルピロリドン（ＧＡＦコーポレーション社製ＰＶＰ、Ｋ−９０） ６０重量部 弗素系界面活性剤（旭硝子（株）社製サーフロンＳ−１３１） １０重量部 蒸留水 ３３５０重量部
【００３２】上記熱可塑性樹脂層及び中間層を有する仮
支持体の上に、以下の処方Ｃ１からなる塗布液を塗布、
乾燥させ、乾燥膜厚が２μｍの遮光性感光性樹脂層を形
成した。 処方Ｃ１： ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （モル比＝７０／３０、極限粘度＝０．１２） ３０．００重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ７．４０重量部 ミヒラーズケトン ０．０４重量部 ２（ο−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル イミダゾール２量体 ０．４０重量部 カーボンブラック ２．８０重量部 ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．０１重量部 メチルセロソルブアセテート ２８０．００重量部 メチルエチルケトン １４０．００重量部
支持体の上に、以下の処方Ｃ１からなる塗布液を塗布、
乾燥させ、乾燥膜厚が２μｍの遮光性感光性樹脂層を形
成した。 処方Ｃ１： ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （モル比＝７０／３０、極限粘度＝０．１２） ３０．００重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ７．４０重量部 ミヒラーズケトン ０．０４重量部 ２（ο−クロロフェニル）−４，５−ジフェニル イミダゾール２量体 ０．４０重量部 カーボンブラック ２．８０重量部 ハイドロキノンモノメチルエーテル ０．０１重量部 メチルセロソルブアセテート ２８０．００重量部 メチルエチルケトン １４０．００重量部
【００３３】さらに上記遮光性感光性樹脂層の上にポリ
プロピレン（厚さ１２μｍ）の被覆シートを圧着し、遮
光性感光性転写材料を作成した。この遮光性感光性樹脂
層の感光波長は３５０ｎｍから４２０ｎｍであり、光源
に超高圧水銀灯を用いた場合の主感光波長は３６５ｎｍ
（ｉ線）と４０５ｎｍ（ｈ線）であり、ＯＤ（光学濃
度）は１．５であった。（マクベス濃度計を用いて測
定） 次に、実施例１の表１に示した組成の赤、緑、青の着色
感光層を形成した。ただし、全色に7-((4-クロロ-6-(シ゛エチル
アミノ)-S-トリアシ゛ン-2-イル)アミノ)-3-フェニルクマリンを固形分８％にな
るように添加した。これを用い、ガラス基板（厚さ１．
１ｍｍ）上にＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルターを作成した。
この場合、各色毎に２２０℃２０分の熱処理を行い、各
画素を完全硬化させた。得られた各色画素のｉ線および
ｈ線の透過率は、表４の通りであった。
プロピレン（厚さ１２μｍ）の被覆シートを圧着し、遮
光性感光性転写材料を作成した。この遮光性感光性樹脂
層の感光波長は３５０ｎｍから４２０ｎｍであり、光源
に超高圧水銀灯を用いた場合の主感光波長は３６５ｎｍ
（ｉ線）と４０５ｎｍ（ｈ線）であり、ＯＤ（光学濃
度）は１．５であった。（マクベス濃度計を用いて測
定） 次に、実施例１の表１に示した組成の赤、緑、青の着色
感光層を形成した。ただし、全色に7-((4-クロロ-6-(シ゛エチル
アミノ)-S-トリアシ゛ン-2-イル)アミノ)-3-フェニルクマリンを固形分８％にな
るように添加した。これを用い、ガラス基板（厚さ１．
１ｍｍ）上にＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルターを作成した。
この場合、各色毎に２２０℃２０分の熱処理を行い、各
画素を完全硬化させた。得られた各色画素のｉ線および
ｈ線の透過率は、表４の通りであった。
【００３４】
【００３５】遮光性感光性転写材料の被覆シートを剥離
し、遮光性感光性樹脂層面を上記のＲ、Ｇ、Ｂ画素を有
するカラーフィルター面にラミネーター（大成ラミネー
タ（株）製ＶＰ−ＩＩ）を用いて加圧（０．８ｋｇ／ｃ
ｍ2）、加熱（１３０℃）して貼り合わせ、続いて仮支
持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除
去した。次にカラーフィルター面とは反対の側から超高
圧水銀灯を用いて裏露光を行ったが、この際、表４に示
したようにＢのｈ線の透過率が２％を超えているので、
光源とサンプルの間に東芝ガラスフィルター（ＵＶＤ３
６ｃ）を介して露光量は１００mj/cm2で行った。その
後、１％炭酸ナトリウム水溶液で現像して不要部を除去
し、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素間隙に遮光膜を形成した。出来上
がったカラーフィルターは遮光膜とＲＧＢ層との重なり
は無く、平坦性は良好であった。
し、遮光性感光性樹脂層面を上記のＲ、Ｇ、Ｂ画素を有
するカラーフィルター面にラミネーター（大成ラミネー
タ（株）製ＶＰ−ＩＩ）を用いて加圧（０．８ｋｇ／ｃ
ｍ2）、加熱（１３０℃）して貼り合わせ、続いて仮支
持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除
去した。次にカラーフィルター面とは反対の側から超高
圧水銀灯を用いて裏露光を行ったが、この際、表４に示
したようにＢのｈ線の透過率が２％を超えているので、
光源とサンプルの間に東芝ガラスフィルター（ＵＶＤ３
６ｃ）を介して露光量は１００mj/cm2で行った。その
後、１％炭酸ナトリウム水溶液で現像して不要部を除去
し、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素間隙に遮光膜を形成した。出来上
がったカラーフィルターは遮光膜とＲＧＢ層との重なり
は無く、平坦性は良好であった。
【００３６】実施例３ 実施例２の7-((4-クロロ-6-(シ゛エチルアミノ)-S-トリアシ゛ン-2-イル)アミ
ノ)-3-フェニルクマリンを7-((4-メトキシ-6-シ゛エチルアミノ)-s-トリアシ゛ン-2-イ
ル)アミノ)-3-フェニルクマリンに代えた以外は実施例２と同様にし
てカラーフィルターを作製した。この時、得られた各色
画素のｉ線およびｈ線の透過率は、表５の通りであっ
た。
ノ)-3-フェニルクマリンを7-((4-メトキシ-6-シ゛エチルアミノ)-s-トリアシ゛ン-2-イ
ル)アミノ)-3-フェニルクマリンに代えた以外は実施例２と同様にし
てカラーフィルターを作製した。この時、得られた各色
画素のｉ線およびｈ線の透過率は、表５の通りであっ
た。
【００３７】
【００３８】以下、実施例２と同様の評価を行ったとこ
ろ、同様の良好な結果を得た。
ろ、同様の良好な結果を得た。
【００３９】
【発明の効果】本願発明の方法（セルフアライメント）
では、遮光性を有する感光性樹脂層を多色パターン上に
転写し、該画素上にある遮光性樹脂層が実質的に硬化し
ない状態で裏露光できるので、平坦性の優れたカラーフ
イルターを容易に作成することができる。
では、遮光性を有する感光性樹脂層を多色パターン上に
転写し、該画素上にある遮光性樹脂層が実質的に硬化し
ない状態で裏露光できるので、平坦性の優れたカラーフ
イルターを容易に作成することができる。
Claims (5)
- 【請求項１】 透明基板上に、それぞれ光の３原色の１
を有する画素により形成された多色パターン及び該画素
が存在しない部分を遮光する遮光性を有する画素を設け
たカラーフィルターの製造方法において、透明基板上に
該多色パターン形成する工程、該多色パターンを覆って
該透明基板上の全面に遮光性感光性樹脂層を転写により
形成する工程、該透明基板を通して活性光線を照射し、
該遮光性感光性樹脂層を硬化させる工程、該遮光性感光
性樹脂層を現像して該多色パターンが存在しない部分に
遮光性を有する画素を形成する工程、を含むことを特徴
とするカラーフィルターの作成方法。 - 【請求項２】 請求項１において、該多色パターン画素
が、耐熱性でかつ、該遮光性感光性樹脂層の感光波長域
に対する光吸収性が良好な化合物を含有することを特徴
とするカラーフィルター作成方法。 - 【請求項３】 請求項２において、該遮光性感光性樹脂
層の感光波長域における該多色パターン画素の光透過率
が２％以下であることを特徴とするカラーフィルター作
成方法。 - 【請求項４】 請求項１において、該透明基板を通し
て、該遮光性感光性樹脂層の感光波長域における該多色
パターン画素の光透過率が２％以下である波長を有する
光を照射することを特徴とするカラーフィルター作成方
法。 - 【請求項５】 請求項１において、該活性光線の光源と
該透明基板の間に、少なくとも該遮光性感光性樹脂層の
感光波長域の４００ｎｍ以上の波長の光透過率が２％以
下であるフィルターを設けることを特徴とするカラーフ
ィルターの作成方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11154393A JP3308038B2 (ja) | 1992-06-10 | 1993-05-13 | カラーフィルターの作成方法 |
| US08/241,571 US5489621A (en) | 1993-05-12 | 1994-05-12 | Process for forming colored partial picture element and light-shielding light-sensitive resin composition used therefor |
| US08/556,090 US5780203A (en) | 1993-05-12 | 1995-11-09 | Process for forming colored partial picture element and light-shielding light-sensitive resin composition used therefor |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4-150691 | 1992-06-10 | ||
| JP15069192 | 1992-06-10 | ||
| JP11154393A JP3308038B2 (ja) | 1992-06-10 | 1993-05-13 | カラーフィルターの作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0659119A true JPH0659119A (ja) | 1994-03-04 |
| JP3308038B2 JP3308038B2 (ja) | 2002-07-29 |
Family
ID=26450910
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11154393A Expired - Fee Related JP3308038B2 (ja) | 1992-06-10 | 1993-05-13 | カラーフィルターの作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3308038B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5622794A (en) * | 1993-12-09 | 1997-04-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-shielding photosensitive resin composition, light-shielding photosensitive transfer material and method for forming light-shielding film |
| JPH09197120A (ja) * | 1996-01-19 | 1997-07-31 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法 |
| US5693436A (en) * | 1994-12-08 | 1997-12-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a color filter |
| WO1998005712A1 (fr) * | 1996-08-02 | 1998-02-12 | Toppan Printing Co., Ltd. | Composition de resine photosensible noire, filtre couleur produit a l'aide de celle-ci et son procede de production |
| JP2004125868A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 液晶表示装置用シート及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法 |
-
1993
- 1993-05-13 JP JP11154393A patent/JP3308038B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5622794A (en) * | 1993-12-09 | 1997-04-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-shielding photosensitive resin composition, light-shielding photosensitive transfer material and method for forming light-shielding film |
| US5693436A (en) * | 1994-12-08 | 1997-12-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for forming a color filter |
| JPH09197120A (ja) * | 1996-01-19 | 1997-07-31 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ及びその製造方法 |
| WO1998005712A1 (fr) * | 1996-08-02 | 1998-02-12 | Toppan Printing Co., Ltd. | Composition de resine photosensible noire, filtre couleur produit a l'aide de celle-ci et son procede de production |
| US5925484A (en) * | 1996-08-02 | 1999-07-20 | Toppan Printing Co., Ltd. | Black photosensitive resin composition, color filter made by using the same, and a process for the production thereof |
| JP2004125868A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 液晶表示装置用シート及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法 |
| JP4599792B2 (ja) * | 2002-09-30 | 2010-12-15 | 日立化成工業株式会社 | 液晶表示装置用シート及びそれを用いた液晶表示装置の製造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3308038B2 (ja) | 2002-07-29 |
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