JP2001290271A - 感光性組成物および感光性平版印刷版材料 - Google Patents
感光性組成物および感光性平版印刷版材料Info
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Abstract
とから種々のレーザーを含めた光源が利用できる感光性
組成物を提供する。さらに、耐刷力に優れ、露光後に加
熱処理を行う必要のないネガ型の印刷版を提供する。 【解決手段】(1)側鎖にビニル基が置換したフェニル
基を有する重合体、光ラジカル発生剤、及び可視光から
赤外光の波長領域に吸収を有し前記光ラジカル発生剤を
増感させる増感剤とを含有することを特徴とする感光性
組成物。 (2)バインダー樹脂、光ラジカル発生剤、及び分子内
にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノ
マーを含有することを特徴とする感光性組成物。
Description
し、更にこれを利用した感光性平版印刷版材料に関す
る。更に詳しくは、レーザー等の走査露光装置を用いて
画像形成可能な感光性組成物および感光性平版印刷版材
料に関する。更に、プリント配線基板作成用レジスト
や、カラーフィルター、蛍光体パターンの形成等に好適
な感光性組成物に関する。
造が化学変化を起こし、その結果、物理現象(物性)に
変化が生じる。この光の作用による化学変化としては、
架橋・重合・分解・解重合・官能基変換などがあり、溶
解度・接着性・屈折率・物質浸透性および相変化など多
様である。このような感光性組成物は、印刷版、レジス
ト、塗料、コーティング剤、カラーフィルターなどの広
い分野で実用化されている。さらに、写真製版技術(フ
ォトリソグラフィ)を用いるフォトレジスト分野で活用
され、発展してきた。フォトレジストは、光反応による
溶解度の変化を利用したもので、高解像度の要求などか
らいっそうの精緻な材料設計が必要となっている。
は、アルミニウムベース支持体に塗布された感光性塗膜
を有する。この塗膜は、露光された塗膜部分は硬化し、
露光されなかった塗膜部分は現像処理で溶出される。こ
のような版をネガ型印刷版という。平版印刷は印刷版表
面に形成されたパターンと背景部のそれぞれの親油性、
親水性の表面物性を利用し、平版印刷においてインクと
湿し水を同時に印刷機上で版面に供給する際に、インク
が親油性表面を有するパターン上に選択的に転移するこ
とを利用するものである。パターン上に転移したインク
はその後ブランケットと呼ばれる中間体に転写され、こ
れから更に印刷用紙に転写することで印刷が行われる。
してレリーフ像を形成する感光性組成物は、従来から多
くの研究が成されており、また実用化されている。例え
ば、特公昭49−34041号、同平6−105353
号等には側鎖にエチレン性不飽和結合を有する重合体と
架橋剤と光重合開始剤を主体とする感光性組成物が開示
されている。これらは、400nm以下の紫外線領域を
中心とした短波長の光に対して感光性を有するものであ
る。
可視光に対して高感度を示す感光性材料が求められるよ
うになってきた。例えば、アルゴンレーザー、ヘリウム
・ネオンレーザー、赤色LED等を用いた出力機に対応
した感光性材料及び感光性平版印刷版の研究も活発に行
われている。
て700〜1300nmの近赤外レーザー光源を容易に
利用できるようになったことに伴い、該レーザー光に対
応する感光性材料及び感光性平版印刷版が注目されてい
る。
重合性組成物として、特開平9−134007号公報に
はエチレン性不飽和結合を有するラジカル重合可能な化
合物と400〜500nmに吸収ピークを持つ光増感色
素と重合開始剤とを含有する平版印刷版材料が開示さ
れ、特開昭62−143044号、同昭62−1502
42号、同平5−5988号、同平5−194619
号、同平5−197069号、同2000−98603
号公報等には、有機ホウ素アニオンと色素との組み合わ
せが開示され、特開平4−31863号、同平6−43
633号公報には色素とS−トリアジン系化合物との組
み合わせが開示され、特開平7−20629号、同平7
−271029号公報にはレゾール樹脂、ノボラック樹
脂、赤外線吸収剤及び光酸発生剤の組み合わせが開示さ
れ、特開平11−212252号、同平11−2315
35号公報には特定の重合体と光酸発生剤と近赤外増感
色素のく組み合わせが開示されている。
剤あるいは光酸発生剤を用いた重合性組成物は、可視光
〜近赤外領域に充分高い感光性を付与するのは難しく、
特に各種レーザー光を用いた走査露光に適用するには感
光性が不足していた。
光後、潜像が退行するという問題があった。即ち、本来
露光された部分は現像後に像を形成するが、露光してか
ら現像処理するまでの時間経過によって、像を十分に形
成しないという、いわゆる潜像退行の問題がある。この
現象は、温度湿度及び露光量等の条件よっては、露光後
数十分から数時間の間に起こり得るものである。
安定性、長期保存性を確保するのが難しいという問題が
あり、このために、感光層上部に酸素バリア性を高める
とともに表面の傷防止等を目的としたポリビニルアルコ
ール等からなるオーバー層を設けることが通常行われて
いる。このようなオーバー層の存在によりレーザー露光
の際に光の散乱等による画質の低下の問題や、現像の際
に、アルカリ現像に先立ってオーバー層除去のためのプ
レ水洗工程が必要となること、および製造にあたって感
光層塗布後に更にオーバー層を塗布する工程が必要であ
る等の問題があった。
よる重合は、露光のみでは不十分な場合が多く、露光後
あるいは現像処理後に加熱処理して、重合を促進完結さ
せる必要があった。特に、可視光〜赤外光の波長域に感
光性を付与した感光性平版印刷版材料の場合は、加熱処
理は重要な製版工程であった。しかしながら、加熱処理
は生産効率を低下させるのみではなく、品質を不安定に
する要因を含んでいる。例えば、露光部/未露光部の溶
解性の差を一定に保つのは難しく、十分な加熱が行われ
なければ現像液により露光部まで溶解する場合や、逆に
加熱温度が高すぎる場合には未露光部が部分的に不溶化
し、現像が十分に行われない等の問題点がある。
は、高感度な感光性組成物を提供することにある。特に
可視光から赤外光に充分高い感光性を有する感光性組成
物及び感光性平版印刷版を提供することにある。本発明
の他の目的は、加熱処理を必要としない、走査露光可能
な感光性組成物及び感光性平版印刷版を提供することに
ある。更に本発明の目的は、オーバーコート層を必要と
しない感光性組成物及び感光性平版印刷版を提供するこ
とにある。更に本発明の他の目的は、潜像退行のない感
光性組成物及び感光性平版印刷版を提供することにあ
る。
下の感光性組成物を用いることによって基本的に達成さ
れた。 (1)側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重
合体、光ラジカル発生剤、及び可視光から赤外光の波長
領域に吸収を有し前記光ラジカル発生剤を増感させる増
感剤とを含有することを特徴とする感光性組成物。 (2)バインダー樹脂、光ラジカル発生剤、及び分子内
にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノ
マーを含有することを特徴とする感光性組成物。 (3)側鎖に複素環を含む連結基を介してビニル基が置
換したフェニル基を有する重合体と光ラジカル発生剤を
含有することを特徴とする感光性組成物。
本発明に用いられる側鎖にビニル基が置換したフェニル
基を有する重合体とは、該フェニル基が直接もしくは連
結基を介して主鎖と結合したものであり、連結基として
は特に限定されず、任意の基、原子またはそれらの複合
した基が挙げられる。また、前記フェニル基は置換可能
な基もしくは原子で置換されていても良く、また、前記
ビニル基はハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニ
トロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、
アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等で置換
されていても良い。上記した側鎖にビニル基が置換した
フェニル基を有する重合体とは、更に詳細には、下記化
1で表される基を側鎖に有するものである。
びR3は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、ス
ルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、ア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基等であり、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ
基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ
基、ヒドロキシ基等で置換されていても良い。R4は置
換可能な基または原子を表す。nは0または1を表し、
m1は0〜4の整数を表し、k1は1〜4の整数を表す。
連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン基、
アルケニレン基、アリーレン基、−N(R5)−、−C
(O)−O−、−C(R6)=N−、−C(O)−、ス
ルホニル基、複素環基、及び下記化2で表される基等の
単独もしくは2以上が複合した基が挙げられる。ここで
R5及びR6は、水素原子、アルキル基、アリール基等を
表す。更に、上記した連結基には、アルキル基、アリー
ル基、ハロゲン原子等の置換基を有していてもよい。
ゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾ
ール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサ
ジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チア
ジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、イ
ンダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾ
ール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、
ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリ
ジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ト
リアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複
素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、更にこれ
らの複素環には置換基が結合していても良い。化1で表
される基の例を以下に示すが、これらの例に限定される
ものではない。
のが存在する。即ち、R1及びR2が水素原子でR3が水
素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル基(メチル
基、エチル基等)であるものが好ましい。更に、連結基
としては複素環を含むものが好ましく、k1は1または
2であるものが好ましい。
体としては、アルカリ性水溶液に可溶性を有することが
好ましく、そのためにカルボキシル基含有モノマーを共
重合成分として含む重合体であることが特に好ましい。
この場合、共重合体組成に於ける化1で示される基の割
合として、トータル組成100重量%中に於いて化1で
示される基は1重量%以上95重量%以下であることが
好ましく、これ以下の割合ではその導入の効果が認めら
れない場合がある。また、95重量%以上含まれる場合
に於いては、共重合体がアルカリ水溶液に溶解しない場
合がある。さらに、共重合体中に於けるカルボキシル基
含有モノマーの割合は同じく5重量%以上99重量%以
下であることが好ましく、これ以下の割合では共重合体
がアルカリ水溶液に溶解しない場合がある。
は、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸2−カルボ
キシエチルエステル、メタクリル酸2−カルボキシエチ
ルエステル、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、マレ
イン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエ
ステル、4−カルボキシスチレン等のような例が挙げら
れる。
共重合体中に他のモノマー成分を導入して多元共重合体
として合成、使用することも好ましく行うことが出来
る。こうした場合に共重合体中に組み込むことが出来る
モノマーとして、スチレン、4−メチルスチレン、4−
ヒドロキシスチレン、4−アセトキシスチレン、4−カ
ルボキシスチレン、4−アミノスチレン、クロロメチル
スチレン、4−メトキシスチレン等のスチレン誘導体、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸2−エ
チルヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリ
ル酸ドデシル等のメタクリル酸アルキルエステル類、メ
タクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル等のメタク
リル酸アリールエステル或いはアルキルアリールエステ
ル類、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタクリル
酸2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸メトキシジエ
チレングリコールモノエステル、メタクリル酸メトキシ
ポリエチレングリコールモノエステル、メタクリル酸ポ
リプロピレングリコールモノエステル等のアルキレンオ
キシ基を有するメタクリル酸エステル類、メタクリル酸
2−ジメチルアミノエチル、メタクリル酸2−ジエチル
アミノエチル等のアミノ基含有メタクリル酸エステル
類、或いはアクリル酸エステルとしてこれら対応するメ
タクリル酸エステルと同様の例、或いは、リン酸基を有
するモノマーとしてビニルホスホン酸等、或いは、アリ
ルアミン、ジアリルアミン等のアミノ基含有モノマー
類、或いは、ビニルスルホン酸およびその塩、アリルス
ルホン酸およびその塩、メタリルスルホン酸およびその
塩、スチレンスルホン酸およびその塩、2−アクリルア
ミド−2−メチルプロパンスルホン酸およびその塩等の
スルホン酸基を有するモノマー類、4−ビニルピリジ
ン、2−ビニルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N
−ビニルカルバゾール等の含窒素複素環を有するモノマ
ー類、或いは4級アンモニウム塩基を有するモノマーと
して4−ビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロラ
イド、アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウ
ムクロライド、メタクリロイルオキシエチルトリメチル
アンモニウムクロライド、ジメチルアミノプロピルアク
リルアミドのメチルクロライドによる4級化物、N−ビ
ニルイミダゾールのメチルクロライドによる4級化物、
4−ビニルベンジルピリジニウムクロライド等、或いは
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、またアクリル
アミド、メタクリルアミド、ジメチルアクリルアミド、
ジエチルアクリルアミド、N−イソプロピルアクリルア
ミド、ジアセトンアクリルアミド、N−メチロールアク
リルアミド、N−メトキシエチルアクリルアミド、4−
ヒドロキシフェニルアクリルアミド等のアクリルアミド
もしくはメタクリルアミド誘導体、さらにはアクリロニ
トリル、メタクリロニトリル、フェニルマレイミド、ヒ
ドロキシフェニルマレイミド、酢酸ビニル、クロロ酢酸
ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、ステアリン
酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル類、また
メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル等のビニ
ルエーテル類、その他、N−ビニルピロリドン、アクリ
ロイルモルホリン、テトラヒドロフルフリルメタクリレ
ート、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アリルアルコー
ル、ビニルトリメトキシシラン、グリシジルメタクリレ
ート等各種モノマーを適宜共重合モノマーとして使用す
ることが出来る。これらのモノマーの共重合体中に占め
る割合としては、先に述べた共重合体組成中に於ける化
1で示す基およびカルボキシル基含有モノマーの好まし
い割合が保たれている限りに於いて任意の割合で導入す
ることが出来る。
ましい範囲が存在し、重量平均分子量で1000から1
00万の範囲であることが好ましく、さらに1万から3
0万の範囲にあることが特に好ましい。
重合体の例を下記に示す。式中、数字は共重合体トータ
ル組成100重量%中に於ける各繰り返し単位の重量%
を表す。
ジカル発生剤と可視光〜赤外光の波長域に吸収を有し前
記光ラジカル発生剤を増感させる増感剤を含有する。本
発明に用いられる光ラジカル発生剤とは、光照射により
ラジカルを発生し得る化合物であれば任意の化合物を用
いることができる。例えば有機ホウ素塩、トリハロアル
キル置換された化合物(例えばトリハロアルキル置換さ
れた含窒素複素環化合物としてs−トリアジン化合物お
よびオキサジアゾール誘導体、トリハロアルキルスルホ
ニル化合物)、ヘキサアリールビスイミダゾール、チタ
ノセン化合物、ケトオキシム化合物、チオ化合物、有機
過酸化物等が挙げられる。これらの光ラジカル発生剤の
中でも、特に有機ホウ素塩、トリハロアルキル置換化合
物が好ましく用いられる。更に好ましくは、有機ホウ素
塩とトリハロアルキル置換化合物を組み合わせて用いる
ことである。
ンは、下記化12で表される。
同じであっても異なっていてもよく、アルキル基、アリ
ール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
シクロアルキル基、複素環基を表す。これらの内で、R
11、R12、R13およびR14の内の一つがアルキル基であ
り、他の置換基がアリール基である場合が特に好まし
い。
形成するカチオンが同時に存在する。この場合のカチオ
ンとしては、アルカリ金属イオン、オニウムイオン及び
カチオン性増感色素が挙げられる。オニウム塩として
は、アンモニウム、スルホニウム、ヨードニウムおよび
ホスホニウム化合物が挙げられる。アルカリ金属イオン
またはオニウム化合物と有機ホウ素アニオンとの塩を用
いる場合には、別に増感色素を添加することで色素が吸
収する光の波長範囲での感光性を付与することが行われ
る。また、カチオン性増感色素の対アニオンとして有機
ホウ素アニオンを含有する場合は、該増感色素の吸収波
長に応じて感光性が付与される。しかし、後者の場合は
更にアルカリ金属もしくはオニウム塩の対アニオンとし
て有機ホウ素アニオンを併せて含有するのが好ましい。
て、有機ホウ素塩とこれを増感する色素を併せて含む感
光性組成物であり、この場合の有機ホウ素塩は可視光か
ら赤外光の波長領域に感光性を示さず、増感色素の添加
によって初めてこうした波長領域の光に感光性を示すも
のである。
は、先に示した化12で表される有機ホウ素アニオンを
含む塩であり、塩を形成するカチオンとしてはアルカリ
金属イオンおよびオニウム化合物が好ましく使用され
る。特に好ましい例は、有機ホウ素アニオンとのオニウ
ム塩として、テトラアルキルアンモニウム塩等のアンモ
ニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等のスルホニウ
ム塩、トリアリールアルキルホスホニウム塩等のホスホ
ニウム塩が挙げられる。特に好ましい有機ホウ素塩の例
を下記に示す。
発生剤としてトリハロアルキル置換化合物が挙げられ
る。上記トリハロアルキル置換化合物とは、具体的には
トリクロロメチル基、トリブロモメチル基等のトリハロ
アルキル基を分子内に少なくとも一個以上有する化合物
であり、好ましい例としては、該トリハロアルキル基が
含窒素複素環基に結合した化合物としてs−トリアジン
誘導体およびオキサジアゾール誘導体が挙げられ、或い
は、該トリハロアルキル基がスルホニル基を介して芳香
族環或いは含窒素複素環に結合したトリハロアルキルス
ルホニル化合物が挙げられる。
合物やトリハロアルキルスルホニル化合物の特に好まし
い例を化15および化16に示す。
として有機過酸化物がある。例えば、クメンヒドロペル
オキシド、第3ブチルヒドロペルオキシド、ジクロルペ
ルオキシド、ジ第3ブチルペルオキシド、過酸化ベンゾ
イル、過酸化アセチル、過酸化ラウロイル、及び下記化
17等が挙げられる。
は、側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重合
体に対して、1〜100重量%の範囲で含まれることが
好ましく、更には1〜40重量%の範囲で含まれること
が好ましい。
光の各種光源に対応できるように、可視光から赤外光の
波長領域に吸収を有し、前述の光ラジカル発生剤を増感
する増感剤を併せて含有する。増感剤としては、各種増
感色素が好ましく用いられる。このような増感色素とし
て、シアニン、フタロシアニン、メロシアニン、クマリ
ン、ポリフィリン、スピロ化合物、フェロセン、フルオ
レン、フルギド、イミダゾール、ペリレン、フェナジ
ン、フェノチアジン、ポリエン、アゾ化合物、ジフェニ
ルメタン、トリフェニルメタン、ポリメチンアクリジ
ン、クマリン、ケトクマリン、キナクリドン、インジ
ゴ、スチリル、スクアリリウム化合物、ピリリウム化合
物が挙げられ、更に、欧州特許第0,568,993
号、米国特許第4,508,811号、同5,227,
227号に記載の化合物も用いることができる。
する増感色素の具体例を以下に示すが、本発明はこれら
に限定されない。
する青色半導体レーザーを搭載した出力機が開発されて
いる。この出力機は、最大露光エネルギー量が数十μJ
/cm2程度で、用いられる感光材料も高感度が要求さ
れる。本発明の感光性組成物は、上記した増感色素を組
み合わせて用いることによってこの出力機への対応を可
能にした。上記した増感色素の中でも、青色半導体レー
ザー用としてはピリリウム系化合物またはチオピリリウ
ム系化合物が好ましい。
赤外光、即ち700nm以上、更には750〜1100
nmの波長領域のレーザー光を用いた走査露光に対して
も極めて好適に用いられる。このような近赤外に増感す
るために用いられる増感色素の具体例を以下に示す。
前述した有機ホウ素アニオンに置換した増感色素も同様
に用いることができる。増感色素の含有量は、感光性組
成物1m2当たり3〜300mg程度が適当である。好
ましくは10〜200mg/m2である。
他の好ましい要素として分子内に2個以上の重合性二重
結合を有する重合性化合物(モノマーまたはオリゴマー
で分子量は1万以下、好ましくは5000以下)が挙げ
られる。好ましい重合性化合物の例としては、1,4−
ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ト
リスアクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、トリ
プロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコ
ールグリセロールトリアクリレート、グリセロールエポ
キシトリアクリレート、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート等の多官能ア
クリル系モノマーが挙げられる。
カル重合性を有するオリゴマーも好ましく使用され、ア
クリロイル基、メタクリロイル基を導入した各種オリゴ
マーとしてポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタ
ン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレー
ト等も同様に使用されるが、これらも重合性化合物とし
て同様に扱うことが出来る。
ニル基が置換したフェニル基を有する重合体の比率に関
しては好ましい範囲が存在し、重合体1重量部に対して
重合性化合物は0.01重量部から10重量部の範囲で
含まれることが好ましく、さらに0.05重量部から1
重量部の範囲で含まれることが特に好ましい。
合には、大気中の酸素の影響を受けやすく、一般に酸素
バリヤ性を有するポリビニルアルコールのような樹脂を
感光層の表面にオーバー層として設ける必要がった。ま
た、露光後に重合を促進あるいは完結させるため100
℃前後の温度で数分間程度加熱処理を行う必要があっ
た。
フェニル基を有する重合体を使用する場合には、上記の
ようなオーバー層を設けなくとも十分に光硬化する系を
与え、かつ、露光後に加熱処理を行う必要がないことが
特徴であり、さらに光ラジカル発生剤と増感色素とを組
み合わせて用いることによって高感度の感光性組成物が
得られる点が特徴として挙げられる。また、本発明の感
光性組成物は、潜像退行の極めて小さいことが特徴とし
て挙げられる。
ビニル基が置換したフェニル基を2個以上を有するモノ
マー、バインダー樹脂、及び光ラジカル発生剤を含有す
る感光性組成物について説明する。
2個以上有するモノマー(以降、本発明のモノマーと称
す)を使用した場合、発生するラジカルにより生成する
スチリルラジカル同士の再結合により効果的に架橋を行
うため、高感度で加熱処理を必要としないネガ型感光材
料を作成することができる。本発明のモノマーは、代表
的には下記一般式で表される。
びR23は、水素原子、ハロゲン原子、カルボキシ基、ス
ルホ基、ニトロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、ア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ
基等であり、更にこれらの基は、アルキル基、アミノ
基、アリール基、アルケニル基、カルボキシ基、スルホ
基、ヒドロキシ基等で置換されていても良い。R24は置
換可能な基または原子を表す。m2は0〜4の整数を表
し、k2は2以上の整数を表す。
の連結基としては、酸素原子、硫黄原子、アルキレン
基、アルケニレン基、アリーレン基、−N(R5)−、
−C(O)−O−、−C(R6)=N−、−C(O)
−、スルホニル基、複素環基等の単独もしくは2以上が
複合した基が挙げられる。ここでR5及びR6は、水素原
子、アルキル基、アリール基等を表す。更に、上記した
連結基には、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子等
の置換基を有していてもよい。
ゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾ
ール環、イソオキサゾール環、オキサゾール環、オキサ
ジアゾール環、イソチアゾール環、チアゾール環、チア
ジアゾール環、チアトリアゾール環、インドール環、イ
ンダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾ
ール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、
ベンズセレナゾール環、ベンゾチアジアゾール環、ピリ
ジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ト
リアジン環、キノリン環、キノキサリン環等の含窒素複
素環、フラン環、チオフェン環等が挙げられ、これらに
は置換基が結合していても良い。
しい化合物が存在する。即ち、R21及びR22は水素原子
でR23は水素原子もしくは炭素数4以下の低級アルキル
基(メチル基、エチル基等)で、mは2〜10の化合物
が好ましい。以下に化26で表される化合物の具体例を
示すが、これらの例に限定されるものではない。
インダー樹脂1重量部に対して0.01重量部から10
重量部の範囲で含まれることが好ましく、さらに0.0
5重量部から1重量部の範囲で含まれることが特に好ま
しい。
バインダー樹脂は、特に制限されず公知の各種バインダ
ー樹脂を用いることができる。具体的には、スチレン、
4−メチルスチレン、4−ヒドロキシスチレン、4一アセ
トキシスチレン、4−カルポキシスチレン、4一アミノス
チレン、クロロメチルスチレン、4−メトキシスチレン
等のスチレン誘導体、メタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシ
ル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸シ
クロヘキシル、メタクリル酸ドデシル等のメタクリル酸
アルキルエステル類、メタクリル酸フェニル、メタクリ
ル酸ベンジル等のメタクリル酸アリールエステル或いは
アルキルアリールエステル類、メタクリル酸2−ヒドロ
キシエチル、メタクリル酸2−ヒドロキシプロピル、メ
タクリル酸メトキシジエチレングリコールモノエステ
ル、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコールモノ
エステル、メタクリル酸ポリプロピレングリコールモノ
エステル等のアルキレンオキシ基を有するメタクリル酸
エステル類、メタクリル酸2−ジメチルアミノエチル、
メタクリル酸2−ジエチルアミノエチル等のアミノ基含
有メタクリル酸エステル類、或いはアクリル酸エステル
としてこれら対応するメタクリル酸エステルと同様の
例、或いは、リン酸基を有するモノマーとしてビニルホ
スホン酸等、或いは、アリルアミン、ジアリルアミン等
のアミノ基含有モノマー類、或いは、ビニルスルホン酸
およびその塩、アリルスルホン酸およびその塩、メタリ
ルスルホン酸およびその塩、スチレンスルホン酸および
その塩、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスル
ホン酸およびその塩等のスルホン酸基を有するモノマー
類、4−ビニルピリジン、2−ビニルピリジン、N−ビ
ニルイミダゾール、N−ビニルカルバゾール等の含窒素
複素環を有するモノマー類、或いは4級アンモニウム塩
基を有するモノマーとして4−ビニルベンジルトリメチ
ルアンモニウムクロライド、アクリロイルオキシエチル
トリメチルアンモニウムクロライド、メタクリロイルオ
キシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、ジメチ
ルアミノプロピルアクリルアミドのメチルクロライドに
よる4級化物、N−ビニルイミダゾールのメチルクロラ
イドによる4級化物、4−ビニルベンジルピリジニウム
クロライド等、或いはアクリロニトリル、メタクリロニ
トリル、またアクリルアミド、メタクリルアミド、ジメ
チルアクリルアミド、ジエチルアクリルアミド、N−イ
ソプロピルアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−メトキシエチ
ルアクリルアミド、4−ヒドロキシフェニルアクリルア
ミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド誘導
体、さらにはアクリロニトリル、メタクリロニトリル、
フェニルマレイミド、ヒドロキシフェニルマレイミド、
酢酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、プロビオン酸ビニル、
酪酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル等の
ビニルエステル類、またメチルビニルエーテル、ブチル
ビニルエーテル等のビニルエーテル類、その他、N−ビ
ニルピロリドン、アクリロイルモルホリン、テトラヒド
ロフルフリルメタクリレート、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、アリルアルコール、ビニルトリメトキシシラン、
グリシジルメタクリレート等各種モノマーを単独あるい
はこれらの任意の組み合わせで含む共重合体をバインダ
ーとして使用することが出来る。
リ性水溶液に可溶性を有することが好ましく、そのため
にカルボキシル基含有モノマーを共重合成分として含む
重合体であることが特に好ましい。この場合、共重合体
組成にカルボキシル基含有モノマーの割合として、トー
タル組成100重量%中に於いて5重量%以上99重量
%以下であることが好ましく、更には10〜70重量%
の割合で含有するのが好ましい。
は、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸2−カルボ
キシエチルエステル、メタクリル酸2−カルボキシエチ
ルエステル、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、マレ
イン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエ
ステル、4−カルボキシスチレン等のような例が挙げら
れる。
はフェノール性水酸基を有するポリマーが挙げられ、ポ
リビニルフェノール、フェノール樹脂、ポリヒドロキシ
ベンザール等も用いることが出来る。
ンダー樹脂の中でも、特に好ましいのは、前述した側鎖
にビニル基が置換したフェニル基を有する重合体であ
る。本発明のモノマーと側鎖にビニル基が置換したフェ
ニル基を有する重合体を併せて用いることによって、よ
り高感度で、より高耐刷力のレリーフ画像が、加熱処理
なしに得られる。更に、潜像退行が大幅に改良される。
に用いられる光ラジカル発生剤としては、前述した光ラ
ジカル発生剤が用いられる。好ましくは、有機ホウ素
塩、トリハロアルキル置換化合物であり、前述したよう
な化合物が用いられる。
ことによって、可視光から近赤外光の領域の波長に対し
て高感度の感光性組成物が得られる。
に複素環を含む連結基を介してビニル基が置換したフェ
ニル基を有する重合体と光ラジカル発生剤を含有する感
光性組成物について説明する。側鎖に複素環を含む連結
基を介してビニル基が置換したフェニル基を有する重合
体とは、該フェニル基が複素環を含む連結基を介して主
鎖と結合したものであり、前記フェニル基は置換可能な
基もしくは原子で置換されていても良く、また、前記ビ
ニル基はハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、ニト
ロ基、シアノ基、アミド基、アミノ基、アルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、アリールオキシ基等で置換さ
れていても良い。
基が置換したフェニル基を有する重合体における側鎖の
基は、詳細には前述した化1の一般式で表すことができ
る。但し、Z1の連結基は複素環を含み、nは1を表
す。該複素環としては化1で説明した複素環が挙げられ
る。複素環を含む連結基(Z1)は、複素環単独でも良
く、あるいは他の基や原子、例えば、酸素原子、硫黄原
子、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−
N(R5)−、−C(O)−O−、−C(R6)=N−、
−C(O)−、スルホニル基及び前記化2等が単独もし
くは2以上が複合した状態で含まれていても良い。その
他のR1、R2、R3、R4、m1及びk1は、化1と同義で
ある。
基が置換したフェニル基を有する重合体の具体例として
は、前述したP−1〜P−6が挙げられる。この重合体
とともに用いられる光ラジカル発生剤としては、前述し
た光ラジカル発生剤が用いられる。こうした構成の感光
性組成物は、紫外光から赤外光までの広い波長域で高感
度が得られるが、特に、可視光〜赤外光の走査型露光に
対して高感度が実現できる。可視光〜赤外光に増感する
ための増感色素は、前述した増感色素が用いれれる。
外にも種々の目的で他の成分を添加することも好ましく
行われる。特に、スチリル基の熱重合あるいは熱架橋を
防止し長期にわたる保存性を向上させる目的で種々の重
合禁止剤を添加することが好ましく行われる。この場合
の重合禁止剤としては、ハイドロキノン類、カテコール
類、ナフトール類、クレゾール類等の各種フェノール性
水酸基を有する化合物やキノン類化合物等が好ましく使
用され、特にハイドロキノンが好ましく使用される。こ
の場合の重合禁止剤の添加量としては、該重合体100
重量部に対して0.1重量部から10重量部の範囲で使
用することが好ましい。
に、画像の視認性を高める目的で種々の染料、顔料を添
加することや、感光性組成物のブロッキングを防止する
目的等で無機物微粒子あるいは有機物微粒子を添加する
ことも好ましく行われる。
層自体の厚みに関しては、支持体上に0.5ミクロンか
ら10ミクロンの範囲の乾燥厚みで形成することが好ま
しく、さらに1ミクロンから5ミクロンの範囲であるこ
とが耐刷性を大幅に向上させるために極めて好ましい。
感光層は上述の3つの要素を混合した溶液を作成し、公
知の種々の塗布方式を用いて支持体上に塗布、乾燥され
る。支持体については、例えばフィルムやポリエチレン
被覆紙を使用しても良いが、より好ましい支持体は、研
磨され、陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板である。
光層を有する材料を印刷版として使用するためには、こ
れに密着露光あるいはレーザー走査露光を行い、露光さ
れた部分が架橋することでアルカリ性現像液に対する溶
解性が低下することから、後述するアルカリ性現像液に
より未露光部を溶出することでパターン形成が行われ
る。
る重合体或いはバインダー樹脂を溶解する液で有れば特
に制限は無いが、好ましくは、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、メタ珪酸
ナトリウム、メタ珪酸カリウム、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリ
エチルアンモニウムハイドロキサイド等のようなアルカ
リ性化合物を溶解した水性現像液が良好に未露光部を選
択的に溶解し、下方の支持体表面を露出出来るため極め
て好ましい。さらには、エタノール、プロパノール、イ
ソプロパノール、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、グリセリン、ベンジ
ルアルコール等の各種アルコール類をアルカリ性現像液
中に添加することも好ましく行われる。こうしたアルカ
リ性現像液を用いて現像処理を行った後に、アラビアゴ
ム等を使用して通常のガム引きが好ましく行われる。
が置換したフェニル基を有する重合体及び分子内にビニ
ル基が置換したフェニル基を2個以上有するモノマーの
代表的な化合物の合成例を以下に示す。
チアジアゾール)150gを600mlのメタノール中
に懸濁させ、冷却しながらトリエチルアミン101gを
徐々に添加し、均一な溶液を得た。室温下に保ちながら
p−クロロメチルスチレン(セイミケミカル製、CMS
−14)を10分に亘り滴下し、さらに3時間攪拌を続
けた。反応生成物が次第に析出し、攪拌後に氷浴に移し
内温を10℃まで冷却した後、吸引濾過により生成物を
分離した。メタノールにより洗浄を行い、真空乾燥器内
で1昼夜乾燥することで収率75%で化30に示す化合
物を得た。
入管、温度計、還流冷却管を備えた1リッター4ツ口フ
ラスコ内にとり、メタクリル酸70gおよびエタノール
200ml、蒸留水50mlを加え、攪拌しながら水浴
上でトリエチルアミン110gを添加した。窒素雰囲気
下で内温を70℃になるよう加熱し、この温度でアゾビ
スイソブチロニトリル(AIBN)を1g添加し、重合
を開始した。6時間加熱攪拌を行い、その後重合系を室
温まで冷却した。一部(を取り出し、希塩酸を加えてp
Hを3程度に調整し、これを水中にあけることで化31
に示す構造のポリマーを得た。
中に1,4−ジオキサン100gおよびp−クロロメチ
ルスチレンを23g加え、室温で更に15時間攪拌を続
けた。その後、濃塩酸(35〜37%水溶液)80〜9
0gを加え、系のpHが4以下になったことを確認後、
3リッターの蒸留水中に全体を移した。析出した重合体
を濾過により分離し、蒸留水にて洗浄を繰り返した後、
真空乾燥器内で1昼夜乾燥した。収率90%で目的とす
る重合体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィーによる分子量測定により重量平均分子量9万(ポリ
スチレン換算)の重合体であり、さらにプロトンNMR
による解析により重合体P−1の構造を支持するもので
あった。
濁し、冷却しながら水酸化カリウム84gを溶解した3
0%水溶液を徐々に加え、均一な溶液を得た。これに、
室温下でp−クロロメチルスチレン230gを内温が4
0℃を越えないよう徐々に滴下した。添加後まもなく生
成物が析出してくるが攪拌を続け、3時間攪拌を行った
後に吸引濾過により生成物を分離した。メタノールによ
り洗浄を行い、真空乾燥器内で一昼夜乾燥を行った後、
90%の収率でモノマーC−5で示される化合物を得
た。
するが、効果はもとより本発明はこれら実施例に限定さ
れるものではない。
化アルミニウム板を使用して、この上に下記の処方で示
される感光性塗工液を乾燥厚みが2.0ミクロンになる
よう塗布を行い、75℃の乾燥器内にて6分間乾燥を行
った。 <感光性塗工液> 重合体 12重量部 光ラジカル発生剤 1重量部 重合性化合物 3重量部 (ヘ゜ンタエリスリトールトリアクリレート) 増感色素(S−20) 0.5重量部 ジオキサン 70重量部 シクロヘキサン 20重量部
生剤の種類を表1のように変化して、各種感光材料を作
成した。
印刷版材料)を、青色半導体レーザー搭載出力機;ES
CHER GARD社製イメージセッターCobalt8CTP
(発振波長410nm、出力30mW)を使用して露光
試験を行った。露光後、メタケイ酸ソーダを0.7重量
%含有するアルカリ性現像液で現像を行い、10ミクロ
ンの細線が明瞭にアルミ板上に形成されるかどうかで感
度を評価した。その結果を表1にまとめた。表1中、○
は10ミクロンの細線が明瞭に形成、×は形成されない
ことを意味する。
ート/メタクリル酸(モル比60/20/20)共重合体を表し、CP-2、CP
-3及びCP-4は、下記に示す。
能を評価した。通常のオフセット印刷機、インキ及び湿
し水を用いて、耐刷力を評価した。耐刷力は、印刷画質
が変化しない最大の印刷枚数で評価した。その結果、本
発明の印刷版は、いずれも15万枚の印刷が可能であっ
た。
ル基が置換したフェニル基を有する重合体と光ラジカル
発生剤と増感剤を併せて含む本発明の感光材料は、青色
半導体レーザー光による走査露光に対して極めて高感度
で、露光後加熱処理を行わなくても鮮鋭で高耐刷力のレ
リーフ画像が得られる。
る以外は、実施例1と同様に試験した。その結果、実施
例1と同様な結果が得られた。
化アルミニウム板を使用して、この上に下記の処方で示
される感光性塗工液を乾燥厚みが2.0ミクロンになる
よう塗布を行い、75℃の乾燥器内にて6分間乾燥を行
った。 <感光性塗工液> バインダー樹脂 10重量部 光ラジカル発生剤(T−4) 1重量部 本発明のモノマー又は比較化合物 4重量部 増感色素(S−20) 0.4重量部 ジオキサン 70重量部 シクロヘキサン 20重量部
明のモノマーあるいは比較化合物を表1のように変化し
て、各種感光材料を作成した。
印刷版材料)を、青色半導体レーザー搭載出力機;ES
CHER GARD社製イメージセッターCobalt8CTP
(発振波長410nm、出力30mW)を使用して露光
試験を行った。露光後、メタケイ酸ソーダを0.7重量
%含有するアルカリ性現像液で現像を行い、10ミクロ
ンの細線が明瞭にアルミ板上に形成されるかどうかで感
度を評価した。その結果を表2にまとめた。表2中、○
は10ミクロンの細線が明瞭に形成、×は形成されない
ことを意味する。
ート/メタクリル酸(モル比60/20/20)共重合体を表し、CC-1:スチ
レン、CC-2:シ゛ヒ゛ニルヘ゛ンセ゛ン、CC-3:シ゛アリルヘ゛ンセ゛ン、CC-4:ヘ
゜ンタエリスリトールテトラアクリレート、CC-5:テトラエチレンク゛リコールシ゛アクリレートを
表す。
能を評価した。通常のオフセット印刷機、インキ及び湿
し水を用いて、耐刷力を評価した。耐刷力は、印刷画質
が変化しない最大の印刷枚数で評価した。その結果、本
発明の感光材料(印刷版)20〜29は、いずれも20
万枚の印刷が可能であり、30〜34は15万枚の印刷
が可能であった。
樹脂と分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以
上有するモノマー及び光ラジカル発生剤、更に増感剤を
併せて含む本発明の感光材料は、青色半導体レーザー光
による走査露光に対して極めて高感度で、露光後加熱処
理を行わなくても鮮鋭で高耐刷力のレリーフ画像が得ら
れる。特に、バインダー樹脂として側鎖にビニル基が置
換したフェニル基を有する重合体を用いることによっ
て、更に耐刷力が向上する。
化アルミニウム板を使用して、この上に下記の処方で示
される感光性塗工液を乾燥厚みが2.0ミクロンになる
よう塗布を行い、75℃の乾燥器内にて6分間乾燥を行
った。 <感光性塗工液> 重合体 12重量部 光ラジカル発生剤 1重量部 重合性化合物 3重量部 (ヘ゜ンタエリスリトールトリアクリレート) 増感色素(S−22) 0.5重量部 ジオキサン 70重量部 シクロヘキサン 20重量部
生剤の種類を表3のように変化して、各種感光材料を作
成した。
行った。即ち、タングステンランプを光源とする露光機
(三菱製紙製ヒシラコピープリンター)を使用して、5
80nmの干渉フィルターを介在させ、この干渉フィル
ターを透過する光量が5mW/cm2になるように光量
を調整し、濃度差0.15間隔のステップウェッジを有
するコントロールウェッジ(富士写真フィルム製)を通
して30秒間露光を行った。露光後、1分以内、及び1
時間経過させた試料をメタケイ酸ソーダを0.7重量%
含有するアルカリ性現像液で現像を行った。現像処理後
に、アルミ板上に形成されたステップウェッジのパター
ンにおいて、画像として残らない最小のステップ段数を
感度として求めた。この数値が大きいほど感度が高いこ
とを表す。その結果を表3にまとめた。
同じである。
ル基が置換したフェニル基を有する重合体と光ラジカル
発生剤と増感剤を併せて含む本発明の感光材料は、可視
光領域で極めて高感度で、露光後加熱処理を行わなくて
も鮮鋭なレリーフ画像が得られる。また、本発明は比較
に比べて、潜像退行がほとんどないことが分かる。
化アルミニウム板を使用して、この上に下記の処方で示
される感光性塗工液を乾燥厚みが2.0ミクロンになる
よう塗布を行い、75℃の乾燥器内にて6分間乾燥を行
った。 <感光性塗工液> バインダー樹脂 12重量部 光ラジカル発生剤(T−8) 1重量部 本発明のモノマー又は比較化合物 3重量部 増感色素(S−22) 0.5重量部 ジオキサン 70重量部 シクロヘキサン 20重量部
明のモノマーあるいは比較化合物を表4のように変化し
て、各種感光材料を作成した。
評価した。その結果を表4にまとめた。
CC-5は、表2と同じである。
樹脂と分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以
上有するモノマー及び光ラジカル発生剤、更に増感剤を
併せて含む本発明の感光材料は、可視光領域で極めて高
感度で、露光後加熱処理を行わなくても鮮鋭なレリーフ
画像が得られる。また、本発明は比較に比べて、潜像退
行がほとんどないことが分かる。特に、バインダー樹脂
として側鎖にビニル基が置換したフェニル基を有する重
合体を用いることによって、更に感度が向上し、また潜
像退行も向上する。
化アルミニウム板を使用して、この上に下記の処方で示
される感光性塗工液を乾燥厚みが1.5ミクロンになる
よう塗布を行い、70℃の乾燥器内にて5分間乾燥を行
った。 重合体(P−1) 10重量部 本発明のモノマー(C−5) 2重量部 光ラジカル発生剤(下記化35) 0.5重量部 光ラジカル発生剤(T−4) 1.5重量部 ジオキサン 70重量部 シクロヘキサノン 20重量部
光源とする感光計を使用し、かつ光源からの光の内78
0nm以下の光をカットするフィルターを通して、所望
画像を焼き付けたネガパターンを重ねて20秒間露光を
行った。この時の光量としては10mW/cm2程度の
値であった。露光後、メタケイ酸ソーダを6重量%溶解
した現像液で現像を行ったところ、アルミニウム板上に
硬化した樹脂によるポジ画像が形成された。これを通常
のオフセット印刷機を使用して印刷を行ったところ十分
なインキ乗りおよび20万枚の耐刷力を示した。
処理を行った陽極酸化アルミニウム板を使用して、この
上に下記の処方で示される感光性塗工液を乾燥厚みが
1.5ミクロンになるよう塗布を行い、70℃の乾燥器
内にて5分間乾燥を行った。 重合体(P−1) 10重量部 光ラジカル発生剤(上記化35) 0.5重量部 光ラジカル発生剤(T−4) 1.5重量部 ジオキサン 70重量部 シクロヘキサノン 20重量部
印刷版材料)を円筒形ドラムの外面に巻き付け、830
nmに発光する出力1.2W(可変0〜1.2W)の半
導体レーザーを使用して、ドラム回転速度300〜20
00rpmの間でレーザー照射エネルギーおよびドラム
回転速度を種々変化させて露光試験を行った。この際の
レーザー光のスポット径は10ミクロンに調整した。露
光後に実施例6と同様なアルカリ性現像液で現像を行っ
た際に、10ミクロン線が明瞭にアルミ板上に形成され
るための最小露光エネルギーを感光材料の感度として求
めたところ、300mJ/cm2という高い感度を示し
た。
化アルミニウム板を使用して、この上に下記の処方で示
される感光性塗工液を乾燥厚みが2ミクロンになるよう
塗布を行い、70℃の乾燥器内にて6分間乾燥を行っ
た。 <感光性塗工液> 重合体 10重量部 光ラジカル発生剤 2重量部 重合性化合物 3重量部 (ヘ゜ンタエリスリトールトリアクリレート) 増感色素 0.5重量部 ジオキサン 70重量部 シクロヘキサン 20重量部
生剤及び増感色素の種類を表5のように変化して、各種
感光材料を作成した。
形ドラムの外面に巻き付け、830nmに発光する出力
1.2W(可変0〜1.2W)の半導体レーザーを使用
して、ドラム回転速度300〜2000rpmの間でレ
ーザー照射エネルギーおよびドラム回転速度を種々変化
させて露光試験を行った。この際のレーザー光のスポッ
ト径は10ミクロンに調整した。露光後、1分以内及び
1時間後に実施例1と同様なアルカリ性現像液で現像を
行った際に、10ミクロン線が明瞭にアルミ板上に形成
されるための最小露光エネルギーを感光材料の感度と
し、mJ/cm2の単位で表示した(数値が小さいほど
感度が高いことを表す)。結果を表5にまとめた。
の際の添加量は、それぞれ1重量部であり、CP-1、CP-
2、CP-3及びCP-4は、表1と同じである。
能を評価した。通常のオフセット印刷機、インキ及び湿
し水を用いて、耐刷力を評価した。耐刷力は、印刷画質
が変化しない最大の印刷枚数で評価した。その結果、本
発明の印刷版は、いずれも20万枚の印刷でも問題なか
ったが、比較の印刷版は、加熱処理しなかったため、耐
刷力は1万枚以下であった。
ル基が置換したフェニル基を有する重合体と光ラジカル
発生剤と増感剤を併せて含む本発明の感光材料は、近赤
外レーザー光による走査露光に対して極めて高感度で、
露光後加熱処理を行わなくても鮮鋭で高耐刷力のレリー
フ画像が得られる。また、本発明は比較に比べて、潜像
退行がほとんどないことが分かる。
化アルミニウム板を使用して、この上に下記の処方で示
される感光性塗工液を乾燥厚みが2ミクロンになるよう
塗布を行い、70℃の乾燥器内にて6分間乾燥を行っ
た。 <感光性塗工液> バインダー樹脂 10重量部 光ラジカル発生剤 2重量部 本発明のモノマー又は比較化合物 3重量部 増感色素 0.5重量部 ジオキサン 70重量部 シクロヘキサン 20重量部
明のモノマーあるいは比較化合物、光ラジカル発生剤及
び増感色素の種類を表6のように変化して、各種感光材
料を作成した。
例8と同様に評価した。結果を表6にまとめた。
CC-5は、表2と同じである。
能を評価した。通常のオフセット印刷機、インキ及び湿
し水を用いて、耐刷力を評価した。耐刷力は、印刷画質
が変化しない最大の印刷枚数で評価した。その結果、本
発明の印刷版は、いずれも20万枚の印刷でも問題なか
ったが、比較の印刷版は、加熱処理しなかったため、耐
刷力は1万枚以下であった。
樹脂と、分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個
以上有するモノマー及び光ラジカル発生剤、更に増感剤
を併せて含む本発明の感光材料は、近赤外レーザー光に
よる走査露光に対して極めて高感度で、露光後加熱処理
を行わなくても鮮鋭で高耐刷力のレリーフ画像が得られ
る。また、本発明は比較に比べて、潜像退行がほとんど
ないことが分かる。更にバインダー樹脂として、側鎖に
ビニル基が置換したフェニル基を有する重合体を用いる
ことによって、更に高感度で、かつ潜像退行が改良され
る。
性組成液を作成し、ワイアバーを使用して100ミクロ
ン厚みのポリエステルフィルム上に乾燥膜厚が3ミクロ
ンになるよう塗設し、感光性フィルムを作成した。 重合体(P−1) 10重量部 光ラジカル発生剤(T−4) 1重量部 ジオキサン 70重量部 シクロヘキサノン 20重量部
を光源とする感光計を使用して、220mWの光量で濃
度差0.15間隔のステップウェッジを有するマスクフ
ィルムを通して1秒間露光を行った。露光後すぐにメタ
珪酸ソーダを6重量%溶解した現像液を使用して現像を
行ったところ、約60mJ/cm2以上の露光量を与え
た部分が画像として残存し、レリーフパターンが形成さ
れた。
であり、露光後、加熱処理を行わなくても、現像及び印
刷に耐えられる画像を得ることができる。更に、感光波
長域が広く選択できることから種々のレーザーを含めた
光源が利用でき、さらに、耐刷力に優れた平版印刷版を
得ることができる。また、更に、潜像退行のない感光材
料及び平版印刷版が得られる。また、更にオーバー層を
必要としない感光材料及び平版印刷版が得られる。
Claims (9)
- 【請求項1】 側鎖にビニル基が置換したフェニル基を
有する重合体、光ラジカル発生剤、及び可視光から赤外
光の波長領域に吸収を有し前記光ラジカル発生剤を増感
させる増感剤とを含有することを特徴とする感光性組成
物。 - 【請求項2】 バインダー樹脂、光ラジカル発生剤、及
び分子内にビニル基が置換したフェニル基を2個以上有
するモノマーを含有することを特徴とする感光性組成
物。 - 【請求項3】 側鎖に複素環を含む連結基を介してビニ
ル基が置換したフェニル基を有する重合体と光ラジカル
発生剤を含有することを特徴とする感光性組成物。 - 【請求項4】 更に、可視光から赤外光の波長領域に吸
収を有し前記光ラジカル発生剤を増感させる増感剤を含
有することを特徴とする請求項2または3に記載の感光
性組成物。 - 【請求項5】 前記バインダー樹脂が側鎖にビニル基が
置換したフェニル基を有する重合体である請求項2に記
載の感光性組成物。 - 【請求項6】 走査露光用である請求項1、2または3
に記載の感光性組成物。 - 【請求項7】 750〜1100nmの近赤外レーザー
用である請求項1、2または3に記載の感光性組成物。 - 【請求項8】 400〜430nmの青色半導体レーザ
ー用である請求項1、2または3に記載の感光性組成
物。 - 【請求項9】 前記請求項のいずれか1つに記載の感光
性組成物を利用したことを特徴とする感光性平版印刷版
材料。
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