BR112015014898B1 - Chapas para impressão sensível à radiação no espectro eletromagnético e gráfica e processo de revelação de imagem - Google Patents

Chapas para impressão sensível à radiação no espectro eletromagnético e gráfica e processo de revelação de imagem Download PDF

Info

Publication number
BR112015014898B1
BR112015014898B1 BR112015014898-0A BR112015014898A BR112015014898B1 BR 112015014898 B1 BR112015014898 B1 BR 112015014898B1 BR 112015014898 A BR112015014898 A BR 112015014898A BR 112015014898 B1 BR112015014898 B1 BR 112015014898B1
Authority
BR
Brazil
Prior art keywords
bis
printing plate
plate according
triarylsulfonium
borate
Prior art date
Application number
BR112015014898-0A
Other languages
English (en)
Other versions
BR112015014898A2 (pt
Inventor
Andre Luiz Arias
Luiz Nei Arias
Marjorie Arias
Mario Italo Provenzano
Original Assignee
Ibf Industria Brasileira De Filmes S/A.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibf Industria Brasileira De Filmes S/A. filed Critical Ibf Industria Brasileira De Filmes S/A.
Publication of BR112015014898A2 publication Critical patent/BR112015014898A2/pt
Publication of BR112015014898B1 publication Critical patent/BR112015014898B1/pt

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41NPRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/04Printing plates or foils; Materials therefor metallic
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/72Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
    • G03C1/73Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/085Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/38Treatment before imagewise removal, e.g. prebaking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

composição sensível à radiação em regiões do espectro eletromagnético para fins de impressão, chapa para impressão compreendendo a referida composição, uso da referida composição e processo de revelação de imagem. a presente invenção refere-se à composição sensível à radiação em regiões do espectro eletromagnético para fins de impressão compreendendo (a) um polímero, ou mais de um, aglutinante; (b) um composto etilenicamente insaturado; (c) um ou mais compostos absorvedores de radiações na região do espectro selecionado; (d) um sensibilizador; (e) opcionalmente um fotoacelerador; (f) um promotor de adesão; (g) um pigmento; e (h) opcionalmente inibidores térmicos de polimerização. a presente invenção refere-se ainda à chapa para impressão compreendendo a referida composição sensível à radiação, bem como ao uso da mesma e processo de revelação de imagem.

Description

CAMPO DA INVENÇÃO
[001] A presente invenção refere-se à composição sensível à radiação em regiões do espectro eletromagnético para fins de impressão, a chapas para impressão compreendendo a referida composição, ao uso da referida composição, bem como ao processo de revelação de imagem.
ANTECEDENTES DA INVENÇÃO
[002] Do elenco de normas existentes, a ISO14.001 - Sistema de Gerenciamento Ambiental - foi criada para auxiliar empresas públicas ou privadas a identificar, priorizar e gerenciar seus riscos ambientais como parte de suas práticas usuais. A ISO14.001 exige que as empresas se comprometam com a prevenção da poluição e com melhorias contínuas, como parte do ciclo normal da gestão empresarial. O acompanhamento rigoroso de cada etapa do processo operacional de fabricação é procedimento obrigatório para garantir o equilíbrio do meio ambiente e a melhoria contínua da qualidade de vida.
[003] As máquinas de impressão offset utilizam uma chapa de alumínio contendo uma imagem gravada, que serve como matriz para impressão. Esta chapa de alumínio é fixada no cilindro da impressora e este ao girar permite que a chapa se carregue com tinta na área de imagem (área oleofílica) ao passar pelos rolos tinteiros e após, retenha água na área de não imagem (área hidrofílica) no contato com cilindros denominados "molhadores", que ficam imersos em uma solução aquosa denominada solução fonte. A tinta da área de imagem é transferida para uma manta de borracha especial fixada em outro cilindro que transporta a tinta para o papel.
[004] O processo de utilização de matrizes de impressão planográficas em substrato de alumínio gera resíduos industriais que hoje força a Indústria gráfica a segregar e pagar por sua destinação correta. Os reveladores são os grandes vilões pois possuem pH extremamente alcalino e não podem ser descartados em efluentes sem o devido tratamento de neutralização de pH.
[005] Cada chapa offset ou matriz de impressão planográfica é determinada pela sensibilidade fotográfica a uma determinada fonte luminosa, podendo ser proveniente das seguintes faixas espectrais: Térmica ou Infravermelha (800 ~ 830nm), Violeta (405 ~ 410nm) ou Ultravioleta (< 400nm).
[006] Atualmente no mercado existem chapas sensíveis à radiação UV (ultravioleta) do espectro (320nm), denominadas de convencionais (analógicas), chapas sensíveis à radiação infravermelha do espectro (830nm), denominadas de digitais (chapas térmicas), e chapas sensíveis à radiação violeta do espectro (410 nm), denominadas fotopolímeras. Em geral, no processamento das referidas chapas para se obter a imagem desejada, são utilizados reveladores contendo produtos químicos agressivos e de pH elevado (acima de 12) ou solventes orgânicos associados a tensoativos.
[007] Existem no mercado chapas sensíveis à radiação na faixa entre 405 a 410nm do espectro de radiações, conforme o pedido de patente EP1349006 e a patente US7955776, porém, para se obter a imagem desejada no processamento das referidas chapas são empregados reveladores alcalinos (pH > 13) incluindo uma etapa de tratamento preliminar com lavagem com água para se remover a segunda camada protetora, permitindo, desta forma, a ação adequada do revelador para solubilizar as áreas não expostas.
[008] Como outros exemplos de chapas para impressão que utilizam como revelador uma solução alcalina, estão os pedidos de patente Brasileiros PI0400607-0 e PI0109106-9.
[009] O pedido de patente PI0400607-0 revela uma composição fotossensível apresentando sensibilidade aumentada, compreendendo um monômero etilenicamente insaturado, uma composição iniciadora de fotopolimerização e um ligante de polímero. Também é revelada uma placa para impressão litográfica fotossensível compreendendo a composição fotossensível anteriormente citada em um suporte apresentando uma superfície hidrofílica. A revelação da placa para impressão é realizada utilizando uma solução reveladora alcalina aquosa que apresenta preferencialmente um pH de 8,5 a 12, 5.
[0010] O pedido de patente PI0109106-9 revela uma composição fotossensível, que pode ser aplicada a chapas de impressão planográfica fotossensíveis e a materiais fotorresistentes. Mais particularmente, o presente documento refere-se a uma composição fotossensível que proporciona um filme de revestimento tendo excelentes resistência a solventes e resistência ao desgaste, e a uma chapa de impressão planográfica fotossensível tendo excelentes resistência a solvente e vida útil da prensa usando a mesma. O presente documento cita como exemplo de revelador utilizado para revelação da referida chapa de impressão planográfica, uma solução aquosa alcalina (solução aquosa básica).
[0011] Portanto, torna-se necessário o desenvolvimento de camadas sensíveis à radiação em regiões do espectro eletromagnético aplicadas em substrato de alumínio para fins de impressão offset em que no processo de formação de imagem utilizem produtos ecologicamente adequados ou corretos, conhecidos no mercado como solução lavadora e protetora, evitando que o usuário da chapa de impressão tenha gastos financeiros no descarte adequado dos produtos químicos utilizados no processamento das chapas, tanto analógicas, como digitais e fotopolímeras, que geralmente são tóxicos e corrosivos.
SUMÁRIO DA INVENÇÃO
[0012] A presente invenção refere-se à composição sensível à radiação em regiões do espectro eletromagnético para fins de impressão compreendendo:
[0013] (a) um ou mais de um polímero aglutinante;
[0014] (b) um composto etilenicamente insaturado;
[0015] (c) um ou mais compostos capazes de gerar radicais livres na região do espectro selecionado;
[0016] (d) um sensibilizador;
[0017] (e) opcionalmente um fotoacelerador;
[0018] (f) um promotor de adesão;
[0019] (g) um pigmento; e
[0020] (h) opcionalmente inibidores térmicos de polimerização.
[0021] Uma outra concretização da presente invenção refere-se à chapa para impressão compreendendo:
[0022] (1) um substrato hidrofílico de alumínio devidamente tratado;
[0023] (2) uma primeira camada sensível a radiações Ultravioleta, Violeta ou Infravermelha do espectro de radiações eletromagnéticas composta da composição fotossensível como descrita acima, aplicada sobre o substrato de alumínio; e
[0024] (3) uma segunda camada aplicada sobre a primeira, impermeável ao oxigênio do ar.
[0025] Uma outra concretização da presente invenção refere-se ao uso da composição fotossensível descrita acima, na preparação de uma chapa para impressão.
[0026] Uma outra concretização da presente invenção refere-se ao processo de revelação de imagem compreendendo:
[0027] (i) preparar uma chapa para impressão como descrita acima;
[0028] (ii) expor a chapa obtida na etapa (i) à radiação ultravioleta, violeta ou infravermelho,
[0029] (iii) revelar a chapa obtida na etapa (ii) com uma composição reveladora aquosa adequada ou correta do ponto de vista ambiental, e
[0030] (iv) secar a chapa obtida na etapa (iii) para se formar um filme protetor na superfície da chapa.
DESCRIÇÃO DETALHADA DA INVENÇÃO
[0031] A presente invenção tem como objetivo o desenvolvimento de chapas que possibilitem a utilização de produtos químicos de pH neutro e biodegradáveis no processo de formação de imagem, de forma que os usuários das referidas chapas se enquadrem na norma ISO 14.001 com descarte apropriado de materiais de processamento. As chapas desenvolvidas garantem assim o equilíbrio do meio ambiente e a melhoria contínua da qualidade de vida.
[0032] Além das vantagens relacionadas aos aspectos ecológicos, o processo de cópia das chapas ecologicamente adequadas ou corretas da presente invenção é mais simplificado pois as gráficas não precisam controlar a temperatura do revelador, a condutividade ou simplesmente não processam a chapa em processadoras, gerando um número menor de variáveis no processo e economia de energia elétrica e tempo.
[0033] Os produtos usados como reveladores (produtos ecologicamente corretos) das chapas da presente invenção são à base de compostos tensoativos e sais de ácidos orgânicos biodegradáveis e se apresentam em baixa concentração na solução de revelação utilizada.
[0034] O objetivo da presente invenção é obter uma composição sensível na faixa do Ultravioleta, Violeta e Infravermelho do espectro de radiações, contendo um aglutinante capaz de aglutinar os demais componentes da composição tais como compostos etilenicamente insaturados, um sistema iniciador de polimerização via radicais livres, um sensibilizador, um fotoacelerador e um promotor de adesão. A composição é aplicada em um substrato de alumínio na forma líquida, por dissolução dos componentes em solventes orgânicos e seca em condição apropriada para formar um filme sobre o substrato. Este filme quando exposto a radiações na faixa do Ultravioleta, Violeta e Infravermelho do espectro de radiações eletromagnéticas torna-se insolúvel em soluções aquosas ecologicamente adequadas ou corretas do ponto de vista ambiental. Como a solubilidade da área não exposta se mantém preservada, esta é facilmente removida pela solução reveladora aquosa ecologicamente correta de pH na faixa de 6 a 8, dispensando assim lavagem com água antes da revelação e permanecendo no substrato enquanto a imagem desejada ao processo de impressão é revestida pelo filme protetor formado pelo polímero existente na solução reveladora.
[0035] A composição da presente invenção contendo um aglutinante e demais componentes é usualmente submetida a radiações de diodos emissores de raios lasers.
[0036] Fontes emissoras de infravermelho contendo lasers emitindo na região do infravermelho próximo, na faixa de comprimento de onda entre 800 a 1100 nm, podem ser empregadas para formação da imagem na chapa. Os lasers emissores preferidos são aqueles capazes de emitir na faixa de comprimento de onda entre 830 nm a 1060 nm. As densidades de energia de exposição utilizadas atualmente ficam na faixa de 60 a 200 mJ/cm2, preferivelmente de 80 a 120 mJ/cm2, dependendo da sensibilidade da camada termossensível. Os dispositivos existentes no mercado para formação de imagem são os Screen PlateRite 4300 ou 8600 fabricados por Screen, Chicago.
[0037] Lasers emissores na região visível do espectro de radiações, emitindo na região de 390 a 600 nm, também podem ser empregados para formação de imagem na chapa. Atualmente estão sendo empregados os lasers emissores na região violeta do espectro, em torno de 410 nm, sendo que as densidades de energia de exposição são situadas na faixa de 5 a 100 mJ/cm2, dependendo da sensibilidade da camada fotossensível.
[0038] Como exemplo de dispositivos emissores de radiações violeta e ultravioleta são citados os fabricados por Xanté Corporation, Alabama, EUA e Micra platesetter fabricada por Screen (Japão)
[0039] Lasers emissores de radiações na faixa do espectro entre 200 a 390 nm também podem ser empregados. Os preferidos são os lasers ultravioleta e lasers diodo ultravioleta (LEDs) tendo um comprimento de onda entre 350 e 390 nm.
[0040] As chapas contendo tais composições ao serem processadas em uma solução reveladora aquosa ecologicamente adequada ou correta proporciona a formação de um filme plástico oleofílico com excelente aderência ao substrato de alumínio devidamente tratado, apresentando alta resistência aos produtos químicos utilizados no processo de impressão gráfica offset e grande resistência à abrasão, fornecendo elevado número de cópias impressas. A área de imagem formada possui característica oleofílica, portanto, atrai a tinta de impressão, ao passo que, a área de não imagem, por ter característica hidrofílica, atrai a água expulsando a tinta.
[0041] A chapa de impressão de acordo com a presente invenção é composta de
[0042] (1) um substrato hidrofílico de alumínio devidamente tratado;
[0043] (2) uma primeira camada sensível a radiações na faixa do Ultravioleta, Violeta e Infravermelho do espectro de radiações eletromagnéticas aplicada sobre o substrato compreendendo a seguinte composição:
[0044] (a) um ou mais de um polímero aglutinante;
[0045] (b) um composto etilenicamente insaturado;
[0046] (c) um ou mais compostos capazes de gerar radicais livres na região do espectro selecionado;
[0047] (d) um sensibilizador;
[0048] (e) opcionalmente um fotoacelerador;
[0049] (f) um promotor de adesão;
[0050] (g) um pigmento; e
[0051] (h) opcionalmente inibidores térmicos de polimerização.
[0052] (3) uma segunda camada aplicada sobre a primeira, impermeável ao oxigênio do ar.
Tratamento do substrato de alumínio hidrofílico
[0053] O tratamento comumente empregado é o seguinte:
[0054] - desengraxe e desoxidação da superfície de alumínio pela ação de uma substância alcalina, geralmente emprega-se solução de hidróxido de sódio a 2 % na temperatura de 60°C;
[0055] - em seguida, a superfície do alumínio é submetida a um tratamento eletroquímico que altera a morfologia da superfície aumentando sua área. Geralmente se emprega uma solução de 10 a 15 g/L de ácido clorídrico na temperatura de 30 a 40°C contendo íons Al. O tempo de tratamento é de cerca de 20 segundos com uma densidade de corrente de 60 A/dm2.
[0056] - com o objetivo de aumentar a resistência da superfície, o alumínio é submetido ao tratamento de anodização durante 15 segundos, por imersão em uma solução de H2SO4 a 15% na temperatura de 35 a 45°C com uma densidade de corrente de 25 A/dm2.
[0057] - após lavagem com água deionizada, trata-se a superfície do alumínio com uma solução de ácido polivinil fosfônico a 0,2% na temperatura de 70°C.
Primeira camada sensível a radiações na faixa do Ultravioleta, Violeta e Infravermelho do espectro de radiações eletromagnéticas
[0058] A primeira camada fotossensível é aplicada no substrato de alumínio (devidamente tratado conforme exposto acima) na forma de solução, onde todos os componentes devem ser solúveis. Como exemplo de solventes que podem ser empregados têm-se os éteres de glicol (etilenoglicol monometil éter, propilenoglicol monometil éter), metil etil cetona, metil isobutil cetona, tetra-hidrofurano, acetato de butila, entre outros. Dependendo da mistura de solventes utilizada, a primeira camada fotossensível é seca em temperaturas de até 110 °C. O filme seco deve pesar aproximadamente de 0,5 g/m2a 1,5 g/m2.
[0059] Os percentuais de cada componente da primeira camada fotossensível em relação ao peso total da composição são os seguintes:
[0060] (a) Polímero aglutinante - 10 a 40 % em peso na solução
[0061] Como exemplos de polímeros aglutinantes têm-se os polímeros de polivinil acetais, os polímeros acrílicos e preferencialmente mistura destes.
[0062] Polímeros de polivinil acetal são usados como aglutinantes em composições fotossensíveis, principalmente as utilizadas em chapas negativas convencionais para impressão em offset, por serem bons formadores de filmes, possuírem boa resistência ao ataque químico e boas propriedades físicas. Outra vantagem é o fato de serem oleofílicos atraindo a tinta de impressão na área de imagem. Ocorre que as composições propostas que utilizam esses polivinil acetais, mesmo contendo hidroxilas ou carboxilas nas unidades de acetal, por não serem facilmente solúveis em soluções aquosas, necessitam de determinado percentual de solvente na composição da solução reveladora, que em geral, possui pH acima de 9, o que inviabiliza o seu uso, como aglutinante, em composições que possam ser processadas com soluções ecologicamente corretas.
[0063] Estes polímeros de polivinil acetal anteriormente utilizados são descritos nos pedidos de patente US4665124, US4940646, US5169898, US5169897 e US5700619.
[0064] O polivinil acetal é obtido pela reação de um aldeído com um polímero de álcool polivinílico. O álcool polivinílico é obtido pela hidrólise de polímeros de éster vinílico, preferencialmente obtidos a partir do acetato de vinila, tendo em vista que o álcool vinílico não é existente. O grau de saponificação é o grau de hidrólise molar, independentemente do processo utilizado para a hidrólise. Álcool polivinílico puro tem, por exemplo, um grau de saponificação de 100% mol, mas nos produtos comerciais pode-se encontrar um grau de saponificação de 88 a 98 % em mol.
[0065] Comercialmente o álcool polivinílico é encontrado no mercado com o nome Mowiol, fabricado por Kuraray América, Inc e Celvol fabricado por Celanese Chemicals. A identificação dos tipos dos polímeros possuem 2 números associados, sendo o primeiro o valor da viscosidade de uma solução aquosa do polímero a 4% na temperatura de 20 °C expressa em mPa.s e o segundo o grau de saponificação.
[0066] Os aldeídos comumente empregados são acetaldeído, propionaldeído, butiraldeído, valeraldeído, hidroxibenzaldeído, vanilina, ácido formilfenoxiacético, entre outros.
[0067] A síntese de polivinil acetais é amplamente conhecida e geralmente é feita na presença de um ácido inorgânico ou orgânico forte. Pode ser utilizado ácido clorídrico, ácido sulfúrico ou p-tolueno sulfônico. A concentração do ácido deve ser a necessária para permitir que ocorra a protonação sem que provoque hidrólise indesejável do produto final. Geralmente se emprega como meio reacional solventes orgânicos dipolares apróticos como N metil pirrolidona ou dimetilsufóxido. Misturas de água com alcoóis também podem ser empregadas, particularmente, misturas entre água e propanol, água e metanol e água e etanol.
[0068] A temperatura da reação depende do tipo do aldeído, do nível de substituição desejada e do solvente empregado. A faixa preferida fica entre 50 a 60 °C.
[0069] O polivinil acetal desejado é separado do meio reacional por adição de água contendo bicarbonato de sódio ou carbonato de sódio, em concentração necessária ao ajuste do pH em torno de 7, forte agitação, sendo após, filtrado e seco, preferivelmente, a vácuo em baixa temperatura.
[0070] Dentre os polímeros acrílicos aglutinantes empregados na presente invenção pode-se ter os copolímeros ou terpolímeros contendo unidades de ácido acrílico, ácido metacrílico, hidróxi alquil metacrilatos, alquil metacrilatos, alcenil metacrilatos, aril acrilatos, alquilaril metacrilatos, acrilonitrila, acrilamida, metacrilamida, N- metoximetacrilamida, ésteres de ácido acrílico ou ácido metacrílico com polietilenoglicol ou polipropilenoglicol, estireno e estirenos substituídos. Os polímeros aglutinantes contendo hidroxialquilmetacrilatos podem ser esterificados com anidridos tais como o anidrido maleico, crotônico, etc., bem como esterificados com cloretos de ácido como o cloreto de acriloíla, cloreto de metacriloíla, cloreto de cinamoíla e outros. Estes polímeros podem ser obtidos por técnicas de polimerização usuais, sendo o peso molecular preferido na faixa de 10.000 a 120.000.
[0071] Um dos objetivos da presente invenção é prover um filme capaz de ser processado em soluções ecologicamente corretas ou adequadas, possuir boa oleofilia e resistência à abrasão durante o processo de impressão mediante uso de polímeros de polivinil acetal e copolímeros ou terpolímeros acrílicos capazes de aglomerar os demais constituintes da composição sensível a radiações. A relação entre o polivinil acetal e o polímero acrílico pode variar de 3:1 a 1:3.
[0072] (b) Composto etilenicamente insaturado - 10 a 60% em peso na solução
[0073] Os compostos etilenicamente insaturados são monômeros ou oligômeros possuindo no mínimo um grupo etilênico terminal e que podem se polimerizar pela ação dos radicais livres obtidos durante a exposição dos iniciadores à radiação.
[0074] Como exemplo de monômeros ou oligômeros têm-se os monômeros dos ésteres multifuncionais do ácido acrílico ou do ácido metacrílico com etilenoglicol, ou trimetilolpropano, ou pentaeritritol, ou etilenoglicol etoxilado, ou trimetilolpropano etoxilado, ésteres multifuncionais de uretano com o ácido acrílico ou com o ácido metacrílico, ésteres epoxilados do ácido acrílico ou do ácido metacrílico e diacrilatos oligoméricos de amina.
[0075] Os compostos contendo radicais polimerizáveis preferidos são o pentaeritritol tetra-acrilato, pentaeritritol metacrilato, dipentaeritritol penta-acrilato, dipentaeritritol penta-acrilato di(metilol propano) tetra-acrilato, di(metilol propano) tetrametacrilato, dietileno glicol diacrilato, dietilenoglicol dimetacrilato e oligômeros de uretano acrilatos e uretanos metacrilatos contendo na cadeia unidades de propileno diglicol.
[0076] (c) Composto gerador de radicais livres- 0,05 a 20% em peso na solução
[0077] O composto gerador de radicais livres deve ser selecionado de forma a absorver consideravelmente na faixa do espectro da fonte emissora de radiação desejada.
[0078] Os referidos compostos devem ser capazes de gerar radicais livres quando expostos na região desejada do espectro, podendo ser utilizados sozinhos ou em combinação com outros para aumentar a efetividade da polimerização.
[0079] Como exemplo de compostos geradores de radicais livres são citados os seguintes derivados de acetofenona (2,2-dimetil-2- fenilacetofenona e 2-metil-1-[4-(metiltio)fenil]-2-morfolino propan-1- ona), benzofenona, benzila, ceto cumarinas (3-benzoil-7-metóxi- cumarina ), antraquinonas alquila substituídas, xantona e tioxantona.
[0080] Uma classe preferida de compostos geradores de radicais livres é a dos titanocenos. Como exemplos para tais compostos são citados: dicloreto de diciclopentadienil-Ti, diciclopentadienil-Ti-bisfenila, diciclopentadienil-Ti-bis-2,3,5,6-tetrafluorfen-1-ila, diciclopentadienil-Ti- bis-2,4,6-tetrafluorfen-ila, diciclopentadienil-Ti-bis-2,6-difluorfen-1-ila, diciclopentadienil-Ti-bis-2,4-difluorfen-1-ila, dimetilciclopentadienil-Ti- bis-2,3,4,5,6-15-pentafluorfen-1-ila e dimetilciclopentadienil-Ti-2,6-15- difluorfen-1-ila.
[0081] Uma outra classe de compostos é a dos hexa-arilbi- imidazóis. Como exemplos para tais compostos são citados: 2,2'- bis(o-clorofenil)-4,4',5,5'-tetra(p-fluorfenil)bi-imidazol, 2,2'-bis (o- clorofenil)-4, 4', 5,5',-tetra (p-clorofenil) bi-imidazol, 2,2'-bis (o- clorofenil)-4, 4', 5,5',-tetra (o-clorofenil) bi-imidazol, 2,2'-bis (o- clorofenil)-4, 4', 5,5',-tetra (o, p-diclorofenil) bi-imidazol, e 2,2'-bis (o- clorofenil)-4, 4', 5,5',-tetra (o, p-dibromofenil) bi-imidazol.
[0082] As triazinas substituídas com halometila também podem ser empregadas. Como exemplos para tais compostos são citadas: 2,4- bis(triclorometil)-6-(p-metóxi-estiril)-s-triazina, 2,4-bis(triclorometil)-6-(4- metoxi-naft-1-il)-s-triazina, 2,4-bis(triclorometil)-6-piperonil-s-triazina e outras s-triazinas descritas nos pedidos de patente US 6037098 e US 6010824.
[0083] Um outro grupo de compostos empregados como fotoiniciadores são os sais de ônio. Dentre as classes de compostos existentes os mais úteis são os de iodônio e sulfônio. Exemplos específicos são o cloreto de difenil iodônio, o hexafluorfosfato de difenil iodônio, o hexafluorantimonato de triarilsulfônio, hexafluorfosfato de triarilsulfônio, p-toluenossulfonato de triarilsulfônio e sais de ônio descritos nos pedidos de patente US 5955238 e US 6037098.
[0084] Os sais de ônio preferidos são os sais de diariliodônio e os sais de triarilsulfônio.
[0085] Outra classe de iniciadores são os sais de borato como o tetrabutilamônio trifenil (n-butil) borato, difeniliodônio tetrafenilborato, tetraetilamônio trifenil(n-butil)borato, trifenilsulfônio trifenil(n-butil)borato e outros descritos nas patentes US 6232038 e US 6218076.
[0086] Os sais de ônio, os sais de borato e as s-triazinas são os iniciadores de radicais livres preferidos para as composições sensíveis na faixa de comprimento de onda entre 700 a 1200 nm do espectro de radiações.
[0087] (d) Sensibilizador - 0,02 a 10% em peso na solução
[0088] Com o objetivo de aumentar a sensibilidade do sistema iniciador, são adicionados à composição, compostos capazes de transmitir a energia absorvida de um feixe de lasers para um iniciador por meio de transferência de energia ou de transferência de elétrons e deve ser escolhido de acordo com o comprimento de onda do laser usado para a exposição.
[0089] Os compostos que atuam como sensibilizadores utilizados nas camadas fotossensíveis a radiações na região do espectro ultravioleta e violeta, devem absorver na faixa de comprimento de onda entre 200 a 600 nm. Como exemplos de sensibilizadores para esta região violeta do espectro são citados: corantes de cianina, compostos de rodamina, compostos tais como 4-dimetilaminobenzoato de etila e dialquilaminobenzeno, compostos de dialquilaminobenzofenona tais como 4,4’- bis(dimetilamino)benzofenona, 4,4’-bis(dietilamino)benzofenona, 2-(p- dimetilaminofenil) benzoxazol, 2-(p-dietilaminofenil)benzoxazol, 2-(p- dimetilaminofenil)benzo[6,7] benzoxazol, 2,5-bis(p- dimetilaminofenil)1,3,4-oxadiazol, 2-fenil-4-(2-clorofenil)-5-(4-N,N- dietilaminofenil)oxazol-1,3, 2-(p-dietilaminofenil)benzimidazol, 2,5- bis(p-dietilaminofenil) 1,3,4-tiodiazol, (p-dimetilaminofenil)piridina, 2-(p- dimetilaminofenil) quinolina, 2-(p-dimetilaminofenil)pirimidina, compostos de cumarina tais como o 3-benzoil-7-metóxi-cumarina e 7- metoxicumarina, compostos de tioxanteno como o 2-isopropil tioxantenona, xantenos e pirenos.
[0090] Outros tipos de compostos que podem ser utilizados como sensibilizadores são citados no pedido de petente EP1349006, tais como os estilbenos, bis-estirilbenzenos, divinilestilbenos, triazinilaminoestilbenos, furanos, benzofuranos, estilbenilnaftotriazóis, bis-triazolestilbenos, benzoxazóis, bisfenilbenzoxazóis, estilbenilbenzoxazóis, difeniloxadiazol e naftalimidas. Esses compostos tratam-se de branqueadores óticos e são comercialmente conhecidos como Uvitex OB e fabricados por Ciba Specialty Chemicals, Basel, Suíça. Esses compostos são capazes de absorver a luz na faixa de comprimento de onda entre 300 a 450 nm e de emitir a energia absorvida na faixa de 400 a 500 nm sob a forma de luz fluorescente.
[0091] Os sensibilizadores comumente empregados nas camadas sensíveis a radiações na região do infravermelho próximo, na faixa de comprimento de onda entre 700 a 1200 nm, são corantes. Esses corantes são definidos em diversos pedidos de patentes, por exemplo, nos US 5705309, US 5858604, US 6017677 e US 6022668. Os corantes preferidos são aqueles derivados de classes que incluem, mas não restritos, os de esquarílio, ftalocianina, indocianina, cianina (incluindo polimetina), merocianina, indolizina, pirílio, calcogenopiriloarilideno.
[0092] As camadas fotossensíveis podem conter um ou mais corantes absorvedors de infravermelho, mesmo de diferentes comprimentos de onda. Uma chapa de impressão que contenha corantes de diferentes comprimentos de onda oferece a vantagem de ser utilizada em diferentes dispositivos formadores de imagem existentes no mercado.
[0093] Em uma composição termossensível, um corante ou um pigmento absorve a radiação infravermelha emitida pelo laser dentro de uma faixa requerida e a devolve sob a forma de calor que é utilizado na decomposição térmica do iniciador de polimerização por meio da transferência desta carga térmica.
[0094] (e) Fotoacelerador - 0.01 a 2% em peso na solução
[0095] Para se obter uma alta sensibilidade, é vantajoso adicionar na composição fotopolimerizável, um fotoacelerador contendo como radical um agente de transferência de cadeia. Como agentes de transferência de cadeia preferidos têm-se compostos contendo enxofre, especialmente os tióis como o 2-mercaptobenzotiazol, 2- mercaptobenzoxazol e 2-mercaptobenzimidazol.
[0096] (f) Promotor de adesão - 0,01 a 5% em peso na solução
[0097] O promotor de adesão é adicionado com o objetivo de aumentar a ancoragem da camada na superfície do alumínio e com isso aumentar o número de impressões da chapa.
[0098] O promotor de adesão pode ser utilizado da seguinte forma:
[0099] - como um dos componentes da camada fotossensível;
[00100] - aplicado isoladamente na superfície do substrato de alumínio tratado na forma de uma solução e posteriormente seco; ou
[00101] - como reagente na síntese do copolímero empregado como aglutinante.
[00102] Como promotores de adesão preferidos têm-se os fosfatos ésteres de polietileno glicol metacrilatos, comercialmente conhecidos como Blemmer PE e fabricados por NOF Corporation, CA, EUA e Sipomer PAM fabricado por Rhodia, NJ, EUA.
[00103] O promotor de adesão pode ser considerado como um monômero e participar na síntese do polímero aglutinante na camada fotossensível através da reação da dupla ligação da unidade reativa do metacrilato com os monômeros ou oligômeros pertencentes à composição, ao mesmo tempo em que está ligado quimicamente ao substrato metálico pelos grupos fosfatos ativos.
[00104] (g) Pigmento - 0,1 a 10% em peso na solução
[00105] Pigmentos são utilizados na composição fotossensível da presente invenção para se obter um contraste entre a área de não imagem e a área de imagem de forma que o usuário visualize, previamente, o trabalho que será impresso.
[00106] Os pigmentos são praticamente insolúveis nos solventes utilizados nas composições, portanto, antes de serem adicionados na composição fotossensível, devem ser dispersos, previamente, em uma solução contendo parte do polímero aglutinante como dispersante e parte do solvente que serão utilizados na composição. Para facilitar a incorporação do pigmento no solvente emprega-se um agente de dispersão. Como agente de dispersão podem ser usados Solsperse e Disperbik, fabricados respectivamente por Lubrizol, Ohio, EUA e BYK- Chemie GmbH Alemanha.
[00107] A solução contendo o solvente, o pigmento, o polímero dispersante e o agente de dispersão é colocada em um dispositivo dispersor de alta velocidade contendo discos ou lâminas com o objetivo de reduzir o tamanho das partículas dos pigmentos tornando- as bem finas. Podem ser empregados também, moinhos de esferas ou moinho de cilindros, tais como os empregados na confecção de tintas. Durante a dispersão ou a moagem, a relação entre o pigmento e o polímero dispersante pode variar de 1:1 a 1:5 e o teor de sólidos da dispersão varia de 10 a 20%, preferivelmente utilizando como solvente o mesmo que é utilizado em maior quantidade na solução do revestimento fotossensível. O agente de dispersão é utilizado na faixa de 0,01 a 0,5% em peso na solução. Os tipos de pigmentos mais utilizados são os de ftalocianina azul de nome comercial Heliogen Blue fabricados por Basf no Brasil, preferencialmente o isento de cobre chamado de Heliogen Blue L 7460.
[00108] Comercialmente pode-se encontrar preparações de pigmentos dispersos em polímeros na forma de pó e que podem ser adicionados diretamente à composição fotossensível. É citada como exemplo uma preparação de pigmento azul em polivinil butiral, contendo 50% de pigmento, denominada Renol Blue B2G HW30, fabricado por Clariant, Alemanha.
[00109] (h) Inibidores térmicos de polimerização - 0,01 a 2% em peso na solução
[00110] A composição pode conter pequenas quantidades de inibidores térmicos de polimerização para evitar polimerizações indesejáveis na fase de secagem da camada durante a produção, no transporte ou na estocagem do produto. Como exemplos têm-se: hidroquinona, p-metoxifenol,2,6-di-butil-p-cresol e butil catecol.
Segunda camada transparente protetora
[00111] A polimerização via radicais livres é sensível ao oxigênio e esta segunda camada transparente protetora evita o contato da primeira camada fotopolimerizável com o ar. Esta camada protetora deve ser transparente à radiação, homogênea, suficientemente impermeável ao oxigênio e solúvel em água.
[00112] A camada protetora contém álcool polivinílico, preferivelmente uma mistura de no mínimo 2 tipos, de forma a se obter um grau de saponificação médio de aproximadamente 92 % em mol
[00113] A espessura da camada protetora a ser aplicada deve ser de 0,2 g/m2a 2,5 g/m2tomando-se por base a camada seca.
[00114] É formada na superfície da chapa de alumínio contendo a composição descrita acima, após exposição à radiação e após submetida a uma solução aquosa reveladora para remover a área não exposta, e quando seca, forma um filme protetor até que a chapa seja montada na máquina de impressão.
Processamento da chapa da presente invenção
[00115] O método de processamento da chapa da presente invenção pode ser feito manualmente por imersão e agitação da chapa em um recipiente contendo a solução lavadora e protetora, manual ou automaticamente com utilização de um dispositivo de processamento automático, sendo o tempo de processamento definido como sendo o suficiente para total remoção e limpeza da área de não imagem.
[00116] Geralmente, a solução aquosa lavadora e protetora contém um tensoativo, um polímero protetor, um conservador, sais para restaurar a hidrofilia da superfície do alumínio, sendo seu pH ajustado em torno de 7.
[00117] Os tensoativos que podem ser empregados na solução lavadora podem ser aniônicos, não iônicos ou mistura dos dois em concentração suficiente para se obter uma tensão de superfície em torno de 60mN/m.
[00118] Como exemplos de tensoativos aniônicos têm-se os alquilbenzenossulfonatos, alquilnaftalenossulfonatos, n- alquilsulfossuccinatos e sais dissulfonados de alquildifenilóxido. Os preferidos são o dodecilbenzenossulfonato de sódio, metilenodinaftalenossulfonato de sódio e dioctilsulfossuccinato de sódio. Comercialmente podem ser encontrados como Rhodacal DSB, fabricado por Rhodia SA, Maranil DB-50 fabricado por Cognis, Brasil, Lankropol 4500 fabricado por Akzo Nobel, Brazil.
[00119] Dentre os tensoativos não iônicos, podem ser utilizados os alquil fenol etoxilados, comercialmente encontrados como Triton X100 fabricado por Dow Chemical Corporation, EUA, e Witconol NP-100 fabricado por Akzo Nobel, Brazil.
[00120] São empregados como conservadores compostos bactericidas que evitam o ataque dos componentes da solução por micro-organismos. São citados como exemplo os comercialmente encontrados como Bioban BP Plus, fabricado por Dow Chemical EUA, ou Acticide LA 1206, fabricado por Thor Specialities, EUA.
[00121] Os polímeros protetores que podem ser empregados como formadores do filme protetor da chapa são a goma arábica, a carboximetilcelulose, a dextrina, o poli(vinil álcool) e a poli(vinil pirrolidona), em uma quantidade que pode variar de 1 a 3% em peso na solução.
[00122] A adição de ácidos orgânicos ou inorgânicos associados a sais orgânicos ou inorgânicos à solução reveladora é necessária para restaurar a hidrofilia da superfície, bem como, ajudar na manutenção do pH ao redor de 7. Dentre os ácidos orgânicos têm-se os carboxílicos, sulfônicos e fosfônicos, bem como, seus sais. Quanto aos ácidos inorgânicos têm-se, o ácido clorídrico, sulfúrico, fosfórico e nítrico, bem como seus sais. A quantidade empregada não deve ultrapassar 2% em peso na solução.
[00123] Se necessário podem ser adicionados umectantes na solução com a finalidade de facilitar sua remoção na máquina de impressão. Podem ser empregados para este fim os derivados de glicol (trietilenoglicol, etileno glicol e etc), glicerina e o sorbitol.
EXEMPLOS:
[00124] Os exemplos a seguir são variações preferenciais e ilustrativas da presente invenção e não devem ser interpretados como limitações da mesma. Nesse sentido, deve ser entendido que o escopo da presente invenção abrange outras possíveis variações, sendo limitado tão somente pelo teor das reivindicações apensas, aí incluídos os possíveis equivalentes. Exemplo de uma solução limpadora e protetora da chapa:
Figure img0001
Exemplos de obtenção de polímeros aglutinantes:
[00125] Exemplo 1: obtenção de polivinil acetal
[00126] Em um reator de vidro com 3 bocas, equipado com funil de adição, condensador de refluxo, termômetro, agitação mecânica e aquecimento, adicionou-se 50 g de álcool polivinílico (12% de grupos acetato e com peso molecular em torno de 27000) dissolvidos em 200 ml de dimetilsulfóxido e elevou-se a temperatura para 90°C, mantendo- se esta temperatura durante 4 horas até total solubilização do álcool polivinílico.
[00127] A temperatura da solução foi reduzida a 60°C e adicionou- se, lentamente, uma solução de 2,0 g de ácido sulfúrico concentrado em 20 ml de dimetil sulfóxido.
[00128] Em seguida uma solução contendo 12g de salicilaldeído, 25g de 4-carboxibenzaldeído e 100 ml de dimetilsulfóxido, foi adicionada durante 30 minutos, permanecendo com agitação na mesma temperatura por mais 3 horas. A mistura foi resfriada para temperatura de 50°C e adicionou-se durante meia-hora 10 g de propionaldeído, mantendo-se a reação por mais 3 horas. Após esse tempo, a água formada na mistura reacional foi retirada por destilação à pressão reduzida e a mistura foi neutralizada com solução de carbonato de sódio até pH 7.
[00129] O polímero foi precipitado vertendo-se a massa reacional em 3 litros de água com forte agitação.
[00130] Após filtração, o produto foi lavado em água, filtrado e seco a vácuo na temperatura de 45°C. Obteve-se 75,2 g de polímero com índice de acidez em torno de 110 mg de KOH/g, sendo o rendimento da reação de 92,3%.
[00131] Exemplo 2: obtenção de polímero acrílico
[00132] Uma mistura de monômeros contendo 54 g de metilmetacrilato, 5g de ácido metacrílico, 40 g de CD552, 1g de Sipomer PAM 100, 0,25 g de n-dodecilmercaptana e 0,6 g de Vazo 67 (iniciador de polimerização fabricado por Du Pont) foi colocada em um funil de adição.
[00133] Em um reator de vidro de 1 litro e com 4 bocas equipado com agitador, condensador de refluxo, funil de adição, termômetro e entrada para nitrogênio, colocou-se 400 mL de metil etil cetona. Em ambiente inerte por nitrogênio, adicionou-se sob agitação a quarta parte da mistura de monômeros acima elevando-se a temperatura para 80°C. A reação foi mantida nessas condições durante 1 hora e após, o restante da mistura de monômeros contida no funil de adição foi adicionada lentamente durante 90 minutos. Em seguida foram feitas 12 adições de 0,06 g de Vazo 67, intercaladas por 1 hora, deixando-se a reação prosseguir por mais 90 minutos nas mesmas condições.
[00134] A mistura reacional foi resfriada para a temperatura de 25°C. A conversão em polímero foi de 97%, com peso molecular de aproximadamente 40.000 e número ácido de 97 mg de KOH/g. O teor de sólidos da solução foi ajustado para 10% com adição do solvente metil etil cetona. Exemplos de soluções de revestimentos fotossensíveis para as diversas faixas de radiações:
Figure img0002
(*) 10% em peso do polímero na solução UV - ultravioleta V – violeta IV – infravermelho
[00135] - Dowanol PM – éter de polietileno glicol fabricado por Dow Chemical
[00136] - SR 399 – Dipentaeritritol Penta-acrilato fornecido por Sartomer Inc., USA
[00137] - CN9101 – oligômero de Acrilato de Uretano fornecido por Sartomer Inc., USA
[00138] - Triazina P - 2,4-bis(triclorometil)-6-piperonil-s-triazina fabricado por PCAS, França.
[00139] - VPOXA - 2-fenil-4-(2-clorofenil)-5-(4-N,N- dietilaminofenil)oxazol-1,3 fabricado por AZ Eletronic Material, Germany
[00140] - HABI - 1H-Imidazol,2(2-clorofenil)-1[2-(2-clorofenil)-4,5- difenil-2H-imidazol-2-il]-4,5-difenil
[00141] - Irgacure 250 - (4-metilfenil)[4-(2-metilpropil)fenil] - iodônio, hexafluorfosfato (1-) fabricado por CIBA Specialty Chemicals
[00142] - Corante S0507 - corante de cianina sensível na região do espectro entre 790 a 819 nm fabricado por FEW Chemicals GmbH , Alemanha
[00143] - Renol Blue - dispersão de pigmento à base de ftalocianina fabricado por Clariant Corporation, USA
[00144] - Hostanox 03 - etileno bis[3,3-bis(3-terc-butil-4- hidroxifenil)butirato] - antioxidante
[00145] - 2-Mercaptobenzotiazol - fornecido por Sigma Aldrich, St. Louis,USA
[00146] - Blemmer PE - fosfato de polietileno glicol monometacrilato, fornecido por NOF Corporation, Tókio, Japão
[00147] Em chapas de alumínio no formato 200 cm x 615 cm, devidamente eletrogranitadas, anodizadas e tratadas com ácido polivinil fosfônico, foram aplicadas com técnicas usuais, respectivamente, as soluções fotossensíveis da primeira camada, exemplificadas acima, sendo todas as chapas submetidas ao processo de secagem para evaporação de solventes na temperatura de 100°C durante 1 minuto. Posteriormente, sobre o filme seco da primeira camada dessas chapas, foi aplicada uma solução aquosa de álcool polivinílico que também foi seca na temperatura de 100°C por 1 minuto. Tanto a solução da primeira camada como a solução da segunda camada, foram aplicadas por processos convencionais de revestimento, de maneira a se obter as gramaturas desejadas de acordo com o tipo de região do espectro. As gramaturas das camadas secas foram as seguintes:
Figure img0003
[00148] Com o objetivo de se formar imagem para possibilitar a análise da reprodução da película fotossensível e sua resistência ao processo de impressão, as chapas referentes aos exemplos acima foram colocadas nos respectivos dispositivos formadores de imagem conforme seu comprimento de onda de absorção, ou seja, chapas 1, 2 e 3 submetidas ao dispositivo Basys Print com lâmpadas de emissão de raios UV com comprimento de onda de 365 nm, com uma densidade de energia em torno de 80 mJ/cm2, chapas 4, 5 e 6 colocadas em um dispositivo contendo diodos emissores na região violeta 405 nm, Micra Platesetter Screen, o qual foi ajustado a uma densidade de energia de 50 μm/cm2e chapas 7, 8 e 9 colocadas em um dispositivo contendo lasers de infravermelho 810 nm, Screen Plate Rite 4300, com densidade de energia de exposição de 170 mJ/cm2.
[00149] Em todos os dispositivos criou-se a possibilidade de formar uma escala de pontos variando de 1% a 99%, com 175 pontos por polegada, que reproduz todas as passagens tonais da imagem. As regiões eleitas para a análise dos pontos de imagem formados foram os intervalos de 1 a 3%, de 97 a 99%, bem como os pontos de 50% que representam as áreas de meio tons.
[00150] As chapas expostas às radiações ultravioleta e infravermelha foram processadas com a solução lavadora e protetora, porém as chapas que foram expostas à radiação violeta foram submetidas a um tratamento térmico durante 1 minuto na temperatura de 110°C antes de serem processadas na referida solução.
[00151] Os resultados obtidos das medições de pontos formados, com o auxílio de um medidor de pontos marca Teckon, foram os seguintes:
Figure img0004
[00152] As chapas foram colocadas em uma máquina de impressão Heidelberg, modelo SORM - Z, para avaliar a resistência do revestimento durante o processo de impressão, cujas medições de pontos na chapa, após 30.000 cópias, encontram-se no quadro abaixo:
Figure img0005
[00153] Na tabela acima, os resultados apresentados pelas chapas de impressão contendo as composições 1, 2, 4, 5, 7 e 8 demonstram resultados não satisfatórios em termos de resolução, mas podem ser ajustados através de software R.I.P. (Raster Image Pocessor) para a resolução de 1 a 99%.
[00154] De acordo com os resultados apresentados acima, pode-se concluir que todas as camadas fotossensíveis podem ser utilizadas na fabricação de chapas de alumínio pré-sensibilizadas ecologicamente corretas para uso em impressão gráfica.

Claims (14)

1. Chapa para impressão que compreende uma composição fotossensível à radiação nas faixas do espectro eletromagnético para fins de impressão, caracterizada pelo fato de que consiste em: (a) uma mistura de polímeros aglutinantes; (b) um composto etilenicamente insaturado; (c) um ou mais compostos capazes de gerar radicais livres em uma região do espectro selecionado; (d) um sensibilizador; (e) um corante; e (f) um promotor de adesão, em que a referida mistura de polímeros de ligação compreende polímeros de polivinilacetal e polímeros acrílicos e uma proporção em peso entre o polivinilacetal e o polímero acrílico que varia de 3: 1 a 1: 3, em que o referido corante é selecionado do grupo que consiste em azul de ftalocianina e um preparação de corante azul em polivinilbutiral contendo 50% de corante, e em que a chapa compreende: (l) um substrato hidrofílico de alumínio previamente tratado, em que o tratamento prévio do substrato de alumínio compreende: (a) desengraxe e desoxidação da superfície de alumínio pela ação de uma substância alcalina (b) tratamento eletroquímico (c) tratamento de anodização (d) lavagem com água deionizada, e (e) tratamento da superfície do alumínio com uma solução de ácido polivinil fosfônico; (m) uma primeira camada de solução de promotor de adesão aplicada isoladamente na superfície do substrato de alumínio tratado; (n) uma segunda camada sensível a radiações Ultravioleta, Violeta ou Infravermelha do espectro de radiações eletromagnéticas composta da composição fotossensível, aplicada sobre o substrato de alumínio; e (o) uma terceira camada aplicada sobre a segunda, impermeável ao oxigênio do ar.
2. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que o referido composto etilenicamente insaturado é um monômero ou oligômero com pelo menos um grupo etilênico terminal.
3. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 2, caracterizada pelo fato de que o referido composto etilenicamente insaturado é selecionado a partir do grupo que consiste em tetraacrilato de pentaeritritol, metacrilato de pentaeritritol, pentaacrilato de dipentaeritritol, pentaacrilato de dipentaeritritol, tentaacrilato de di- metacrilatos de uretano apresentando, na cadeia, unidades de propileno diglicol.
4. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que os referidos um ou mais compostos capazes de gerar radicais livres são selecionados do grupo que consiste em derivados de acetofenona, benzofenona, benzil, ceto- cumarinas, antraquinonas substituídas por alquil, xantona e tioxantona, titanocens, hexaarilbiimidazóis, triazinas substituídas por halometil, sais de onium e sais de borato.
5. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 4, caracterizada pelo fato de que o referido um ou mais compostos capazes de gerar radicais livres é selecionado do grupo que consiste em 2,2-dimetil-2-fenilacetofenona, 2-metil-1- [4- (metiltio) fenil] -2- morfolino propan-1 -ona, 3-benzoil-7-metoxi-cumarina, dicloreto de diciclopentadienil-Ti, diciclopentadienil-Ti-bisfenil, diciclopentadienil-Ti- bis-2,3,5,6-tetrafluorofen-1-il, diciclopentadienil-Ti-bis-2 , 4,6- tetrafluorofen-il, diciclopentadienil-Ti-bis-2,6-difluorofen-1-il, diciclopentadienil-Ti-bis-2,4-difluorofen-1-il, dimetilciclopentadienil-Ti- bis-2,3, 4,5,6-15-pentafluorofen-1-il, dimetilciclopentadienil-Ti-2,6-15- difluorofen-1-il, 2,2‘-bis (o-clorofenil) -4-4‘, 5, 5'-tetra (p-fluorofenil) biimidazol, 2,2‘-bis (o-clorofenil) -4,4‘, 5,5‘-tetra (p-clorofenil) biimidazol, 2,2‘-bis (o- clorofenil) -4,4 ‘, 5,5‘-tetra (o-clorofenil) biimidazol, 2,2‘-bis (o-clorofenil) -4,4‘, 5,5'-tetra (o, p-diclorofenil) biimidazol, 2,2‘-bis (o- clorofenil) -4,4‘, 5,5‘-tetra (o, p-dibromofenil) biimidazol, 2,4-bis (triclorometil) -6- (p-metoxi-estiril) -s-triazina, 2,4-bis (triclorometil) -6- (4-metoxi-naft-1-il) -s-triazina, 2,4-bis (triclorometil) -6-piperonil-s- triazina, cloreto de difenil iodônio, hexafluorofosfato de difenil idônio, hexafluoroantimonato de triarilsulfônio, hexafluorofosfato de triarilsulfônio, hexafluorofosfato de triarilsulfônio, hexafluorofosfato de triarilsulfônio, p-toluenossulfonato de triarilsulfônio, bicloreto de etileno, tetrabutilamino, tetrabutilamino borato e trifenilsulfônio (n-butil) borato.4-bis (triclorometil)-6-(4-metoxi-naft-1-il) -s-triazina, 2,4-bis (triclorometil) -6-piperonil-s-triazina, cloreto de difenil iodônio, hexafluorofosfato de difenil idônio, hexafluoroantimonato de triarilsulfônio, hexafluorofosfato de triarilsulfônio, p-toluenossulfonato de triarilsulfônio, trifenilamônio (n-butil) borato, tetrabutilamônio trifenil (n-butil) borato;4-bis (triclorometil) -6- (4-metoxi-naft-1-il) -s-triazina, 2,4-bis (triclorometil) -6-piperonil-s-triazina, cloreto de difenil iodônio, hexafluorofosfato de difenil idônio, hexafluoroantimonato de triarilsulfônio, hexafluorofosfato de triarilsulfônio, p-toluenossulfonato de triarilsulfônio, trifenilamônio (n-butil) borato, tetrabutilamônio trifenil (n-butil) borato;e trifenilsulfónio (n-butil) borato.e trifenilsulfónio (n-butil) borato.
6. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que o referido sensibilizador é selecionado do grupo que consiste em corantes de cianina, compostos de rodamina, 4-dimetilaminobenzoato de etila, dialquilaminobenzeno, compostos de dialquilaminobenzofenona, compostos de 2-(p- dimetilaminofenil) benzoxazol, 2-(p-dietilaminofenil)benzoxazol, 2-(p- dietilaminofenil) benzoxazol, 2-(p-dimetilaminofenil)benzo[6,7] benzoxazol, 2,5-bis(p-dimetilaminofenil)1,3,4-oxadiazol, 2-fenil-4-(2- clofenil)-5-(4-N, N-dietilaminofenil ) oxazol-1,3, 2- (p-dietilaminofenil) benzimidazol, 2,5-bis (p-dietilaminofenil) 1,3,4-tiodiazol, (p- dimetilaminofenil) piridina, 2-(p-dimetilamionofenil)quinolina, 2-(p- dimetilaminofenil) pirimidina, compostos de cumarina, compostos de tioxanteno, xantenos e pirenos, estilbenos, bis-estirilbenzenos, divinilestilbenos, triazinilaminostilbenos, furanos, benzofuranos, estilbenilnaftotriazóis, bis-triazolazilazilbenzeno, bis- estilbenilbenzoxazóis, difeniloxadiazol e naftalimidas, esquarilio, ftalocianina, indocianina, cianina, merocianina, indolizina, pirilio e calcogenirilarilideno.
7. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 1, caracterizada pelo fato de compreende ainda um fotoacelerador que compreende, como radical, um agente de transferência de cadeia que é um composto contendo enxofre.
8. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que o promotor de adesão compreende ésteres de fosfato de metacrilatos de polietileno glicol.
9. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 1, caracterizada pelo fato de compreende ainda um inibidor de polimerização térmica selecionado do grupo que consiste em hidroquinona, p-metoxifenol, 2,6-di-butil-p-cresol e butil catecol.
10. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que o referido composto etilenicamente insaturado é um monômero de ésteres multifuncionais de ácido acrílico ou ácido metacrílico.
11. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que compreende ainda um fotoacelerador selecionado do grupo que consiste em 2-mercaptobenzotiazol, 2- mercaptobenzoxazol e 2-mercaptobenzimidazol.
12. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que compreende ainda um fotoacelerador.
13. Chapa para impressão de acordo com reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que compreende ainda um inibidor de polimerização térmica.
14. Processo de revelação de imagem, caracterizado pelo fato de que compreende: (i) preparar uma chapa para impressão, como definida na reivindicação 1; (ii) expor a chapa obtida na etapa (i) à radiação ultravioleta, violeta ou infravermelha, (iii) revelar a chapa obtida na etapa (ii) com uma composição reveladora aquosa, em que a composição reveladora aquosa apresenta um pH na faixa de 6 a 8, e (iv) secar a chapa obtida na etapa (iii) para formar um filme protetor na superfície da chapa.
BR112015014898-0A 2012-12-19 2012-12-19 Chapas para impressão sensível à radiação no espectro eletromagnético e gráfica e processo de revelação de imagem BR112015014898B1 (pt)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/BR2012/000519 WO2014094080A1 (pt) 2012-12-19 2012-12-19 Composição sensível à radiação em regiões do espectro eletromagnético para fins de impressão, chapa para impressão compreendendo a referida composição, uso da referida composição e processo de revelação de imagem

Publications (2)

Publication Number Publication Date
BR112015014898A2 BR112015014898A2 (pt) 2017-07-11
BR112015014898B1 true BR112015014898B1 (pt) 2021-12-07

Family

ID=50977425

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BR112015014898-0A BR112015014898B1 (pt) 2012-12-19 2012-12-19 Chapas para impressão sensível à radiação no espectro eletromagnético e gráfica e processo de revelação de imagem

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10254646B2 (pt)
EP (1) EP2937733A4 (pt)
BR (1) BR112015014898B1 (pt)
WO (1) WO2014094080A1 (pt)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107001761B (zh) 2014-12-08 2020-06-16 3M创新有限公司 丙烯酸聚乙烯醇缩醛膜、组合物以及热粘结性制品
KR20170092652A (ko) 2014-12-08 2017-08-11 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 아크릴 폴리비닐 아세탈 필름 및 조성물
CN108430769B (zh) 2015-12-22 2021-07-16 3M创新有限公司 包括第二层的丙烯酸类聚乙烯醇缩醛膜
WO2017112537A1 (en) 2015-12-22 2017-06-29 3M Innovative Properties Company Acrylic polyvinyl acetal films comprising an adhesive layer
AU2016378200B2 (en) 2015-12-22 2019-08-15 3M Innovative Properties Company Acrylic polyvinyl acetal graphic films
CN108430766B (zh) 2015-12-22 2020-11-10 3M创新有限公司 包括结构化层的丙烯酸类膜
WO2017214007A1 (en) 2016-06-07 2017-12-14 3M Innovative Properties Company Acrylic polyvinyl acetal film for a light directing article

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4665124A (en) 1985-08-02 1987-05-12 American Hoechst Corporation Resin
DE3644162A1 (de) 1986-12-23 1988-07-07 Hoechst Ag Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
EP0411839A3 (en) * 1989-07-29 1992-04-15 Canon Kabushiki Kaisha Image forming medium and image forming method
JPH04161383A (ja) * 1990-10-25 1992-06-04 Nisshinbo Ind Inc 昇華型感熱転写受像紙
US5169897A (en) 1991-07-30 1992-12-08 Eastman Kodak Company Binary acetal polymers useful in photosensitive compositions and lithographic printing plates
US5169898A (en) 1991-07-30 1992-12-08 Eastman Kodak Company Acid-substituted ternary acetal polymers useful in photosensitive compositions and lithographic printing plates
US6010824A (en) 1992-11-10 2000-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same
EP0720057A4 (en) 1994-07-11 1997-01-22 Konishiroku Photo Ind INITIAL ELEMENT FOR LITHOGRAPHIC PLATE AND PROCESS FOR PREPARING SAID PLATE
DE19524851C2 (de) * 1995-07-07 1998-05-07 Sun Chemical Corp Acetalpolymere und Verwendung derselben in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und für lithographische Druckplatten
JPH09239942A (ja) 1996-03-08 1997-09-16 Fuji Photo Film Co Ltd 湿し水不要平版印刷原版及びその製版方法
US5705309A (en) 1996-09-24 1998-01-06 Eastman Kodak Company Photosensitive composition and element containing polyazide and an infrared absorber in a photocrosslinkable binder
US5912105A (en) * 1996-12-23 1999-06-15 Agfa-Gevaert Thermally imageable material
EP0855267B1 (en) 1997-01-24 2002-04-17 Fuji Photo Film Co., Ltd. Planographic printing plate
EP0869393B1 (en) 1997-03-31 2000-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition
US6218076B1 (en) 1997-08-26 2001-04-17 Showa Denko K.K. Stabilizer for organic borate salts and photosensitive composition containing the same
US6022668A (en) 1998-01-19 2000-02-08 Kodak Polychrome Graphics Llc Positive-working direct write waterless lithographic printing members and methods of imaging and printing using same
US6232038B1 (en) 1998-10-07 2001-05-15 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it
JP3654422B2 (ja) 2000-01-31 2005-06-02 三菱製紙株式会社 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
DE10011096A1 (de) 2000-03-09 2001-10-11 Clariant Gmbh Verwendung von carboxylgruppenhaltigen Acetalpolymeren in lichtempfindlichen Zusammensetzungen und lithographischen Druckplatten
BR0102218B1 (pt) 2001-05-31 2012-10-16 produto sensìvel à radiação, e processo de impressão ou revelação de imagem utilizando o referido produto.
EP1349006B1 (en) 2002-03-28 2013-09-25 Agfa Graphics N.V. Photopolymerizable composition sensitized for the wavelength range from 300 to 450 nm.
AU2003260206A1 (en) * 2003-09-24 2005-04-11 Ibf Industria Brasileira De Filmes Ltda. Light sensitive coating compositions useful for lithographic elements
BRPI0400607A (pt) 2004-01-28 2005-09-13 Konica Minolta Med & Graphic Composição fotosensìvel e placa para impressão litográfica fotosensìvel
JP4806019B2 (ja) * 2005-07-20 2011-11-02 イーストマン コダック カンパニー 平版印刷版に適したフォトポリマー組成物
WO2009063024A1 (en) * 2007-11-16 2009-05-22 Agfa Graphics Nv Method of making a lithographic printing plate

Also Published As

Publication number Publication date
EP2937733A4 (en) 2016-09-14
US10254646B2 (en) 2019-04-09
EP2937733A1 (en) 2015-10-28
US20160026080A1 (en) 2016-01-28
WO2014094080A1 (pt) 2014-06-26
BR112015014898A2 (pt) 2017-07-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BR112015014898B1 (pt) Chapas para impressão sensível à radiação no espectro eletromagnético e gráfica e processo de revelação de imagem
JP3654422B2 (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2004294935A (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
BRPI0712408B1 (pt) Precursor de placa de impressão litográfica sensível a radiação infravermelha, método para produzir uma placa de impressão litográfica convertida em imagem, e, método para produzir uma placa de impressão litográfica sensível a radiação infravermelha
JP2001290271A5 (pt)
JP2002311569A (ja) 感光性組成物及びネガ型平版印刷版
JP2001092127A (ja) 光重合性組成物
JP4152597B2 (ja) 感光性組成物
CN102460308B (zh) 制备具有增强的对比度的平版印版的方法
JP4395276B2 (ja) 感光性組成物
JP2013020103A (ja) ネガ型感光性平版印刷版
JP2007139840A (ja) 光重合性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2005283632A (ja) 重合性組成物およびネガ型画像記録材料
JP2002069109A (ja) 光重合性組成物
JP2007155988A (ja) ネガ型感光性平版印刷材料
JP2004294934A (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP5074906B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP4143270B2 (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP2005284143A (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版
JP4496039B2 (ja) 感光性組成物
JP2008026358A (ja) 感光性平版印刷版
JP4243044B2 (ja) 感光性組成物
JP4648695B2 (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版材料
JP4208437B2 (ja) 感光性組成物
JP4695715B2 (ja) 感光性組成物および感光性平版印刷版材料

Legal Events

Date Code Title Description
B06F Objections, documents and/or translations needed after an examination request according [chapter 6.6 patent gazette]
B06U Preliminary requirement: requests with searches performed by other patent offices: procedure suspended [chapter 6.21 patent gazette]
B07A Application suspended after technical examination (opinion) [chapter 7.1 patent gazette]
B09A Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette]
B16A Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette]

Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 20 (VINTE) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 19/12/2012, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS.