JP2001092127A - 光重合性組成物 - Google Patents

光重合性組成物

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JP2001092127A JP26884299A JP26884299A JP2001092127A JP 2001092127 A JP2001092127 A JP 2001092127A JP 26884299 A JP26884299 A JP 26884299A JP 26884299 A JP26884299 A JP 26884299A JP 2001092127 A JP2001092127 A JP 2001092127A
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 画像形成技術の中でも最も高感度で有望視さ
れている光ラジカル重合系組成物において、高感度と優
れた保存安定性を見事に両立できる光重合性組成物を提
供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される構造を有す
る化合物と光重合開始剤を含有することを特徴とする光
重合性組成物。 （一般式（Ｉ）中、Ｘ１、Ｘ２は各々独立して、ヘテロ
原子又はハロゲン原子を表す。Ｒａ、Ｒｂは各々独立し
て、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は有機残基を
表す。また、Ｘ１とＸ２、ＲａとＲｂ、又はＸ１とＲａ
あるいはＲｂとが互いに結合して環状構造を形成しても
よい。）

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、３次元光造形やホ
ログラフィー、平版印刷用版材やカラープルーフ、フォ
トレジスト及びカラーフィルターといった画像形成材料
やインクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料用途に利用
できる光重合性材料に関する。特にコンピュータ等のデ
ジタル信号から各種レーザを用いて直接製版できる、い
わゆるダイレクト製版可能な平版印刷用版材として好適
に用いられる光重合性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの紫外
光、可視光、赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レ
ーザ、ガスレーザは高出力かつ小型のものが容易に入手
できるようになっており、これらのレーザはコンピュー
タ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源と
して、非常に有用である。これら各種レーザ光に感応す
る記録材料については種々研究されており、代表的なも
のとして、第一に、感光波長７６０ｎｍ以上の赤外線レ
ーザで記録可能な材料としては米国特許第４７０８９２
５号記載のポジ型記録材料、特開平８−２７６５５８号
に記載されている酸触媒架橋型のネガ型記録材料等があ
る。第二に、３００ｎｍ〜７００ｎｍの紫外光または可
視光レーザ対応型の記録材料としては米国特許２８５０
４４５号及び特公昭44-20189に記載されているラジカル
重合型のネガ型記録材料等が多数ある。
【０００３】一方、３００ｎｍ以下の短波長光及び電子
線に関しては、特にフォトレジスト材料として重要であ
る。近年では集積回路がその集積度を益々高め、超ＬＳ
Ｉなどの半導体基板の製造でもハーフミクロン以下の線
幅からなる超微細パターンの加工が必要とされており、
その必要性を満たすためにフォトリソグラフィーに用い
られる露光装置の使用波長は益々短波化し、遠紫外光や
エキシマレーザ光（ＸｅＣｌ、ＫｒＦ、ＡｒＦなど）が
検討され、さらに電子線による超微細パターンの形成が
検討されるに至っている。特に電子線は次世代のパター
ン形成技術の光源として有望しされている。
【０００４】これらの画像形成材料全てに共通の課題と
しては上述の各種エネルギー照射部と未照射部におい
て、その画像のＯＮ−ＯＦＦをいかに拡大できるかであ
り、つまり画像形成材料の高感度と保存安定性の両立で
ある。通常、光ラジカル重合系は高感度であるが、空気
中の酸素による重合阻害により大きく低感度化する。そ
のため、画像形成層の上に酸素遮断性の層を設ける手段
が取られている。しかし、酸素遮断性の層を設けると逆
に暗重合等によるカブリが発生し、保存安定性が悪化す
る。従って、高感度と保存安定性の両立は、困難な課題
であり、従来の技術では十分に満足できる結果は得られ
ておらず、従来にはない新たな技術が求められていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、画像形成技術の中でも最も高感度で有望視されてい
る光ラジカル重合系組成物において、高感度と優れた保
存安定性を見事に両立できる光重合性組成物を提供する
ことである。特に紫外光、可視光及び赤外光を放射する
固体レーザ及び半導体レーザ光を用いて記録することに
よりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可
能な平板印刷用版材として好適な光重合性組成物を提供
することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討し
た結果、光重合性組成物において特定の重合性基を有す
る化合物を用いることにより、上記目的を達成すること
を見いだした。即ち、本発明は、以下の構成を有する。
下記一般式（I）で表される構造を有する化合物と光重
合開始剤を含有することを特徴とする光重合性組成物。
【０００７】
【化２】
【０００８】（一般式（Ｉ）中、Ｘ1、Ｘ2は各々独立し
て、ヘテロ原子又はハロゲン原子を表す。Ｒa、Ｒbは各
々独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は有
機残基を表す。また、Ｘ1とＸ2、ＲaとＲb、又はＸ1と
ＲaあるいはＲbとが互いに結合して環状構造を形成して
もよい。）
【０００９】従来から最も一般的なラジカル重合性の化
合物として、重合性が高いアクリル酸エステル基、アク
リル酸アミド基、メタクリル酸エステル基、メタクリル
酸アミド基等を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー
などが利用されてきたが、これらのものでは、酸素によ
る重合阻害を受けるため、光重合性組成物に用いたとき
に感度と保存安定性の両立という課題を達成できるもの
でなかった。
【００１０】一方、ポリマーの構成成分として、アクリ
ル系に匹敵する重合性をもつ基としてα-ヘテロ置換メ
チルアクリル基やα-ハロゲン置換メチルアクリル基を
有する化合物（モノマー）が知られている。これらの化
合物は、同じα位に置換基を有する重合性の低いイタコ
ン酸基やα-アルキルアクリル基などとは違い、α位に
置換されたヘテロ原子或いはハロゲン原子の電子的効果
及び立体的効果により、ポリマーの構成成分としての重
合性が向上すると言われている。
【００１１】本発明者は、α位にヘテロ原子あるいはハ
ロゲン原子が置換した重合性基を有する構造を含有する
化合物を光重合開始剤とともに光重合性組成物に用いる
ことにより、従来のラジカル重合性化合物が有する課
題、即ち上述の酸素の重合阻害の影響を大幅に低減で
き、上記光重合性組成物特有の課題である高感度と優れ
た保存安定性の両立を解決できるということを見いだし
た。酸素の重合阻害の影響を低減する機構は明確ではな
いが、本発明における一般式（Ｉ）で表される構造を有
する化合物は、そのα-位の置換基効果により、従来の
アクリル系やメタクリル系と比較し重合成長速度定数は
あまり高くはないが、停止速度定数が極端に小さいた
め、連鎖成長時に酸素と反応しにくく、結果として酸素
の重合阻害の影響を受けにくくなったのではないかと考
えられる。
【００１２】
【発明の実施の形態】＜本発明における一般式（Ｉ）で
示される構造を有する化合物＞本発明における特徴の化
合物は、一般式（Ｉ）で表される構造を有し、重合性基
を少なくとも１つ有する化合物である。一般式（Ｉ）で
示される構造は、１価あるいは２価以上の置換基となっ
ていてもよいし、一般式（Ｉ）におけるＲa、Ｒb、
Ｘ1、Ｘ2が全て末端基を表して、それ自身で１つの化合
物となっていてもよい。一般式（Ｉ）で示される構造が
１価あるいは２価以上の置換基となっている場合には、
一般式（Ｉ）におけるＲa、Ｒb、Ｘ1、Ｘ2のうち少なく
とも１つが、１つ以上の結合手を有する。更に、Ｘ1、
Ｘ2がｎ個の連結可能な部位を有する連結基となって、
その末端に一般式（Ｉ）で示される基をｎ個連結してい
ても良い（ｎは２以上の整数）（多量体）。さらに、Ｘ
1、Ｘ2のうち少なくとも１つで、重合体鎖に結合してい
てもよい。即ち、重合体鎖の側鎖に一般式（Ｉ）で表さ
れる構造が存在する形態を取っていてもよい。ここで、
重合体鎖としては後述の線状有機高分子重合体が挙げら
れる。具体的には、ポリウレタン、ノボラック、ポリビ
ニルアルコール等のようなビニル系高分子、ポリヒドロ
シスチレン、ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリル酸エス
テル、ポリ(メタ)アクリル酸アミド、ポリアセタール等
が挙げられる。これら重合体はホモポリマーでも、コポ
リマー(共重合体)でもよい。該一般式（Ｉ）において、
Ｘ1、Ｘ2は、ヘテロ原子又はハロゲン原子を表すが、そ
れらが末端基になってもよいし、また連結基となり、他
の置換基（ここで置換基としては、上述の如く、一般式
（Ｉ）の構造や重合体鎖も含む）に連結されてもよい。
ヘテロ原子としては、好ましくは非金属原子であり、具
体的には酸素原子、イオウ原子、窒素原子、リン原子が
挙げられる。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子、フッ素原子等が挙げられる。Ｘ1とし
て好ましくは、ハロゲン原子、あるいはＸ1が連結基と
なり、そこに他の置換基が連結されている基として、ヒ
ドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ
基、アミノ基、置換アミノ基、スルホ基、スルホナト
基、置換スルフィニル基、置換スルホニル基、ホスホノ
基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト
基、ニトロ基、ヘテロ環基（但し、ヘテロ原子で連結し
ている）を表す。Ｘ2として好ましくは、ハロゲン原
子、あるいはＸ2が連結基となり、そこに他の置換基が
連結されている基として、ヒドロキシル基、置換オキシ
基、メルカプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ
基、ヘテロ環基（但し、ヘテロ原子で連結している）を
表す。
【００１３】Ｘ1又はＸ2が連結基となり、そこに他の置
換基が連結されている基となる場合において、それらの
基からｎ個の水素を除いて、ｎ個の連結可能な部位を有
する連結基となり、その末端に一般式（Ｉ）の基をｎ個
連結していても良い（ｎは２以上の整数）。またＸ1、
Ｘ2が互いに結合し環状構造を形成していても良い。
【００１４】Ｒa、Ｒbは各々独立して、より好ましく
は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、あるいは有機
残基として、置換基を有していても良くかつ不飽和結合
を含んでいても良い炭化水素基、置換オキシ基、置換チ
オ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カルボキシラ
ート基を表し、またＲaとＲbは互いに結合し環状構造を
形成していても良い。
【００１５】次に、一般式（Ｉ）におけるＸ1、Ｘ2、Ｒ
a、Ｒbにおける上述の各置換基の例を示す。上記、置換
基を有していても良くかつ不飽和結合を含んでいても良
い炭化水素基としては、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基、アルケニル基、置換アル
ケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基があげら
れる。
【００１６】アルキル基としては炭素原子数が１から２
０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基をあ
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基をあげることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。
【００１７】置換アルキル基は置換基とアルキレン基と
の結合により構成され、その置換基としては、水素を除
く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例として
は、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジ
チオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルア
ミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、
Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール
ウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′
−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−
ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−
Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ
−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−
アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基及びその共役塩基基（以下、カルボ
キシラートと称す）、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ
−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバ
モイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スル
ホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロ
キシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
スルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモ
イル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アル
キルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモ
イル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びそ
の共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル
基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩
基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−Ｓ
Ｏ2ＮＨＳＯ2（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ
−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ
2（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリール
スルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2（ａｌｌ
ｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−
Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）3）、アリーロキシシリル基（−
Ｓｉ（Ｏａｌｌｙｌ）3）、ヒドロキシシリル基（−Ｓ
ｉ（ＯＨ）3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−Ｐ
Ｏ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称
す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3（ａｌｋｙ
ｌ）2）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ3（ａｒｙｌ）
2）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ3（ａｌｋｙ
ｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ
3Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アル
キルホスホナト基と称す）、モノアリールホスホノ基
（−ＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以
後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキシ基
（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以後、ホスホナ
トオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基（−
ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）2）、ジアリールホスホノオキシ
基（−ＯＰＯ3（ａｒｙｌ）2）、アルキルアリールホス
ホノオキシ基（−ＯＰＯ3（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙ
ｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ
（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アルキル
ホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホスホノオ
キシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基
基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称す）、シア
ノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基があげられる。
【００１８】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基があげられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオ
フェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル
基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェ
ニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、
ホスホナトフェニル基などをあげることができる。ま
た、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペ
ニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−
１−エテニル基、等があげられ、アルキニル基の例とし
ては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル
基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基
等があげられる。
【００１９】上述のアシル基（Ｒ4ＣＯ−）としては、
Ｒ4が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基をあげることができる。一
方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述
の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のい
ずれか１つを除し、２価の有機残基としたものをあげる
ことができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直
鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素
原子数５から１０までの環状のアルキレン基をあげるこ
とができる。好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホ
フェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノ
フェニル）スルファモイルオクチル基、
【００２０】
【化３】
【００２１】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル
基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等をあげること
ができる。
【００２２】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、、インデニル基、アセナブテニル基、
フルオレニル基、をあげることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【００２３】置換アリール基は、置換基がアリール基に
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものをあげる
ことができる。これらの、置換アリール基の好ましい具
体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−
メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カル
バモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スル
ホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エ
チルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スル
ファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナ
トフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニ
ルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メ
チルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル
基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、１−プロ
ペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフ
ェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロ
ピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチ
ニルフェニル基、等をあげることができる。
【００２４】アルケニル基としては、上述のものを挙げ
ることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケ
ニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、こ
の置換基としては、上述の置換アルキル基における置換
基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基
を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例
としては
【００２５】
【化４】
【００２６】等をあげることができる。アルキニル基と
しては、上述のものを挙げることができる。置換アルキ
ニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わ
り、結合したものであり、この置換基としては、上述の
置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキ
ニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。
【００２７】ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘ
テロ環の例としては、
【００２８】
【化５】
【００２９】
【化６】
【００３０】等をあげることができる。
【００３１】置換オキシ基（Ｒ5Ｏ−）としては、Ｒ5が
水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いること
ができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ
基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリ
ールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバ
モイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホ
スホノオキシ基、ホスホナトオキシ基をあげる事ができ
る。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基と
しては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、ア
リール基、置換アリール基として示したものをあげる事
ができる。また、アシルオキシ基におけるアシル基（Ｒ
6ＣＯ−）としては、Ｒ6が、前述のアルキル基、置換ア
ルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを
あげることができる。これらの置換基の中では、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールス
ルホキシ基、がより好ましい。好ましい置換オキシ基の
具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオ
キシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、
ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ
基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエ
チルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メ
トキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエ
トキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モル
ホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリ
ロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキ
シ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニル
オキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニ
ルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニル
オキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナ
フチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホ
ノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられる。
【００３２】置換チオ基（Ｒ7Ｓ−）としてはＲ7が水素
を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好まし
い置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシル
チオ基をあげることができる。これらにおけるアルキル
基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキ
ル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示し
たものをあげることができ、アシルチオ基におけるアシ
ル基（Ｒ6ＣＯ−）のＲ6は前述のとおりである。これら
の中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がよ
り好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシ
エチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカル
ボニルチオ基等があげられる。
【００３３】置換アミノ基（Ｒ8ＮＨ−，（Ｒ9）（Ｒ1
0）Ｎ−）としては、Ｒ8，Ｒ9，Ｒ10が水素を除く一価
の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基の好
ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ
アルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ
基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ
−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、
Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウ
レイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド
基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアル
キル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
リールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アル
コキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリー
ロキシカルボニルアミノ基があげられる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものをあげることができ、アシルアミノ
基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシル
アミノ基におけるアシル基（Ｒ6ＣＯ−）のＲ6は前述の
とおりである。これらの内、より好ましいものとして
は、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、があげら
れる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホ
リノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等があげら
れる。
【００３４】置換カルボニル基（Ｒ11−ＣＯ−）として
は、Ｒ11が一価の非金属原子団のものを使用できる。置
換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキ
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基があげられる。これらにおけるアルキル基、アリ
ール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、な
らびにアリール基、置換アリール基として示したものを
あげることができる。これらの内、より好ましい置換カ
ルボニル基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、があげられ、更により好ましいものと
しては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基ならびにアリーロキシカルボニル基があげられる。好
ましい置換カルボニル基の具体例としては、ホルミル
基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メト
キシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、Ｎ−メ
チルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニ
ル基等があげられる。
【００３５】置換スルフィニル基（Ｒ12−ＳＯ−）とし
てはＲ12が一価の非金属原子団のものを使用できる。好
ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルス
ルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイ
ル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリー
ルスルフィナモイル基があげられる。これらにおけるア
ルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基とし
て示したものをあげることができる。これらの内、より
好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、があげられる。このような置換スルフ
ィニル基の具体例としては、へキシルスルフィニル基、
ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等があ
げられる。
【００３６】置換スルホニル基（Ｒ13−ＳＯ2−）とし
ては、Ｒ13が一価の非金属原子団のものを使用できる。
より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基をあげることができる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものをあげることができる。このような、
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等があげられる。
【００３７】スルホナト基（−ＳＯ3 -）は前述のとお
り、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意
味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好まし
い。このような対陽イオンとしては、一般に知られるも
の、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、ス
ルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジ
ニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃ
ａ2+、Ｚｎ2+等）があげられる。
【００３８】カルボキシラート基（−ＣＯ2 -）は前述の
とおり、カルボキシル基（ＣＯ2Ｈ）の共役塩基陰イオ
ン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが
好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知ら
れるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム
類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎ
ａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）があげられる。
【００３９】置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基
の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換さ
れたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアル
キルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリ
ールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリー
ルホスホノ基があげられる。これらの中ではジアルキル
ホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ま
しい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ
基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等があ
げられる。
【００４０】ホスホナト基（−ＰＯ3 2-、−ＰＯ3Ｈ-）
とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）の、酸第
一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオ
ン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類：アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ
+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）があげられる。
【００４１】置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ
基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共
役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノ
アルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モ
ノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（ａｒｙｌ））の共
役塩基をあげることができる。通常は対陽イオンと共に
使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとして
は、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類
（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、
ヨードニウム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イ
オン類（Ｎａ+、Ｋ+、Ｃａ2+、Ｚｎ2+等）があげられ
る。
【００４２】次に、Ｘ1とＸ2、ＲaとＲb、又はＸ1とＲa
あるいはＲbとが互いに結合して形成する環状構造の例
を示す。Ｘ1とＸ2、ＲaとＲb、又はＸ1とＲaあるいはＲ
bとが互いに結合して形成する脂肪族環としては、５員
環、６員環、７員環及び８員環の脂肪族環をあげること
ができ、より好ましくは、５員環、６員環の脂肪族環を
あげることができる。これらは更に、これらを構成する
炭素原子上に置換基を有していても良く（置換基の例と
しては、前述の置換アルキル基上の置換基をあげること
ができる）、また、環構成炭素の一部が、ヘテロ原子
（酸素原子、硫黄原子、窒素原子等）で置換されていて
も良い。また更に、この脂肪族環の一部が芳香族環の一
部を形成していても良い。次に一般式（Ｉ）で示される
構造を有する化合物の具体例を示す。
【００４３】
【表１】
【００４４】
【表２】
【００４５】
【表３】
【００４６】
【表４】
【００４７】
【表５】
【００４８】
【表６】
【００４９】
【表７】
【００５０】
【表８】
【００５１】
【表９】
【００５２】
【表１０】
【００５３】
【表１１】
【００５４】
【表１２】
【００５５】
【表１３】
【００５６】
【表１４】
【００５７】
【表１５】
【００５８】
【表１６】
【００５９】
【化７】
【００６０】
【化８】
【００６１】
【化９】
【００６２】
【化１０】
【００６３】
【化１１】
【００６４】
【化１２】
【００６５】
【化１３】
【００６６】
【化１４】
【００６７】本発明の化合物としては、最も好ましくは
分子内に一般式（Ｉ）で示される構造を２個以上有する
多官能型（２官能以上と高分子型）のもの或いは、分子
内に一般式（Ｉ）で示される構造と他のラジカル重合性
の基を併せ持つ、実質光重合において多官能の寄与をす
るものである。本発明の光重合性組成物では、付加重合
可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物として上記
の一般式（Ｉ）で示される構造を有する化合物単独及び
それらの２種以上の混合物、或いは以下に述べる従来公
知の付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物との混合物が使用される。従来公知の付加重合可能な
エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例え
ば、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、上記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物と
のアミド等があげられる。
【００６８】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、へキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
【００６９】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、へキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（アクリルオキシエトキシ）
フェニル〕ジメチルメタン等がある。イタコン酸エステ
ルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロ
ピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオ
ールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコ
ネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペ
ンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテト
ライタコネート等がある。
【００７０】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネー卜等がある。マ
レイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレ
ート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリ
スリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等
がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあ
げることができる。また、脂肪族多価アミン化合物と不
飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例として
は、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メ
タクリルアミド、１，６−へキサメチレンビス−アクリ
ルアミド、１，６−へキサメチレンビス−メタクリルア
ミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キ
シリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリ
ルアミド等がある。
【００７１】その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加した１分子中に２個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。 ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｒ′）ＯＨ （Ａ） （ただし、ＲおよびＲ′はＨあるいはＣＨ3を示す。） また、特開昭５１−３７１９３号に記載されているよう
なウレタンアクリレー卜類、特開昭４８−６４１８３
号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９
０号公報に記載されているようなポリエステルアクリレ
ート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させ
たエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートや
メタクリレートをあげることができる。さらに日本接着
協会誌vol.２０、No．７、３００〜３０８ぺージ（１９
８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。本発明におい
て、これらのモノマーはプレポリマー、すなわち２量
体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物な
らびにそれらの共重合体などの化学的形態で使用しう
る。
【００７２】一般式（Ｉ）で示される構造を有する化合
物を含む、全ての重合性基含有化合物の使用量は光重合
性組成物の全成分の重量に対して、通常１〜99.99％、
好ましくは５〜90.0％、更に好ましくは１０〜７０％の
量が使用される。（ここで言う％は重量％である）。但
し、全ての重合性基含有化合物中に含有される本発明の
一般式（Ｉ）の化合物の含有量は、0.005〜100重量％、
好ましくは１％〜100重量％、更に好ましくは、30％〜1
00重量％であり、この量が0.005より少ないと本発明の
効果が発揮できない場合がある。
【００７３】次に本発明の光重合性組成物に使用される
光重合開始剤について説明する。好ましい光重合開始剤
としては（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）芳香族オニウム
塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｄ）チオ化合物、
（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケ
トオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、
（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、
（ｊ）活性エステル化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を
有する化合物等が挙げられる。（ａ）芳香族ケトン類の
好ましい例としては、「RADIATION CURING IN POLYMERS
CIENCE AND TECHNOLOGY」J.P.FOUASSIER J.F.RABEK (19
93)、p77〜117記載のベンゾフェノン骨格或いはチオキ
サントン骨格を有する化合物、例えば
【００７４】
【化１５】
【００７５】
【化１６】
【００７６】
【化１７】
【００７７】等が挙げられる。より好ましい（ａ）芳香
族ケトン類の例としては、特公昭４７−６４１６記載の
α−チオベンゾフェノン化合物、特公昭４７−３９８１
記載のベンゾインエーテル化合物、例えば
【００７８】
【化１８】
【００７９】特公昭４７−２２３２６記載のα−置換ベ
ンゾイン化合物、例えば
【００８０】
【化１９】
【００８１】特公昭４７−２３６６４記載のベンゾイン
誘導体、特開昭５７−３０７０４記載のアロイルホスホ
ン酸エステル、特公昭６０−２６４８３記載のジアルコ
キシベンゾフェノン、例えば
【００８２】
【化２０】
【００８３】特公昭６０−２６４０３、特開昭６２−８
１３４５記載のベンゾインエーテル類、例えば、
【００８４】
【化２１】
【００８５】特公平１−３４２４２、米国特許第４，３
１８，７９１号、ヨーロッパ特許０２８４５６１Ａ１号
記載のα−アミノベンゾフェノン類、例えば
【００８６】
【化２２】
【００８７】特開平２−２１１４５２記載のｐ−ジ（ジ
メチルアミノベンゾイル）ベンゼン、例えば
【００８８】
【化２３】
【００８９】特開昭６１−１９４０６２記載のチオ置換
芳香族ケトン、例えば、
【００９０】
【化２４】
【００９１】特公平２−９５９７記載のアシルホスフィ
ンスルフィド、例えば、
【００９２】
【化２５】
【００９３】特公平２−９５９６記載のアシルホスフィ
ン、例えば、
【００９４】
【化２６】
【００９５】特公昭６３−６１９５０記載のチオキサン
トン類、特公昭５９−４２８６４記載のクマリン類等を
挙げることができる。また、別の例である（ｂ）芳香族
オニウム塩としては、周期律表の第Ｖ、VIおよびVII族
の元素、具体的にはＮ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、
Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、またはＩの芳香族オニウム塩が含まれ
る。このような芳香族オニウム塩の例としては、特公昭
５２−１４２７７号、特公昭５２−１４２７８号、特公
昭５２−１４２７９号に示されている化合物を挙げるこ
とができる。具体的には、
【００９６】
【化２７】
【００９７】
【化２８】
【００９８】
【化２９】
【００９９】
【化３０】
【０１００】をあげることができる。さらに以下のジア
ゾニウム塩もあげることができる。
【０１０１】
【化３１】
【０１０２】
【化３２】
【０１０３】本発明に使用される光重合開始剤の他の例
である（ｃ）「有機過酸化物」としては分子中に酸素−
酸素結合を１個以上有する有機化合物のほとんど全てが
含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパー
オキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，
３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、
メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセ
トンパーオキサイド、１，１−ビス（ターシャリイブチ
ルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサ
ン、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）シ
クロヘキサン、２，２−ビス（ターシャリイブチルパー
オキシ）ブタン、ターシャリイブチルハイドロパーオキ
サイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピ
ルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイド
ロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５
−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラ
メチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリイ
ブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルクミルパー
オキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス（ターシャ
リイブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５
−ジメチル−２，５−ジ（ターシャリイブチルパーオキ
シ）ヘキサン、２，５−キサノイルパーオキサイド、過
酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサ
イド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−
２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２
−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキ
シイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチ
ル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、
ターシャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリ
イブチルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパ
ーオキシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオ
キシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオキシ−
３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ターシャリイ
ブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネー
ト、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テ
トラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェ
ノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパー
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′
−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパー
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′
−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパー
オキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキ
シルパーオキシ二水素二フタレート）等がある。
【０１０４】これらの中で、３，３′４，４′−テトラ
−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テ
トラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，
４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾ
フェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロ
ピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ
−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化
エステル系が好ましい。
【０１０５】本発明で使用される光重合開始剤としての
（ｄ）チオ化合物は、下記一般式〔II]で示される。
【０１０６】
【化３３】
【０１０７】（ここで、Ｒ20はアルキル基、アリール基
または置換アリール基を示し、Ｒ21は水素原子またはア
ルキル基を示す。また、Ｒ20とＲ21は、互いに結合して
酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含
んでもよい５員ないし７員環を形成するのに必要な非金
属原子群を示す。） 上記一般式〔II〕におけるアルキル基としては炭素原子
数１〜４個のものが好ましい。またアリール基としては
フェニル、ナフチルのような炭素原子数６〜１０個のも
のが好ましく、置換アリール基としては、上記のような
アリール基に塩素原子のようなハロゲン原子、メチル基
のようなアルキル基、メトシキ基、エトキシ基のような
アルコキシ基で置換されたものが含まれる。Ｒ21は、好
ましくは炭素原子数１〜４個のアルキル基である。一般
式〔II〕で示されるチオ化合物の具体例としては、下記
に示すような化合物が挙げられる。
【０１０８】
【表１７】
【０１０９】本発明に使用される光重合開始剤の他の例
である（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾールとしては、
特公昭４５−３７３７７号、特公昭４４−８６５１６号
記載のロフィンダイマー類、例えば２，２′−ビス（ｏ
−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェ
ニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェ
ニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）
−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾー
ル、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
４′，５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイ
ミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｏ′−ジクロロフェ
ニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、２，２′−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，
４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２′−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４′，５，
５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス
（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４′，５，５′−
テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
【０１１０】本発明で使用される光重合開始剤の他の例
である（ｆ）ケトオキシムエステルとしては３−ベンゾ
イロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミ
ノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブ
タン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−
オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−
１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプ
ロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシ
イミノブタン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキ
シイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げら
れる。本発明における光重合開始剤の他の例である
（ｇ）ボレート塩の例としては下記一般式[III] で表わ
される化合物をあげる事ができる。
【０１１１】
【化３４】
【０１１２】（ここで、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24およびＲ25は
互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは
非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール
基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは
非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素
環基を示し、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24およびＲ25はその２個以
上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、
Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24およびＲ 25のうち、少なくとも１つは
置換もしくは非置換のアルキル基である。Ｚ+はアルカ
リ金属カチオンまたは第４級アンモニウムカチオンを示
す）。上記Ｒ22〜Ｒ 25のアルキル基としては、直鎖、分
枝、環状のものが含まれ、炭素原子数１〜１８のものが
好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ス
テアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上
記のようなアルキル基に、ハロゲン原子（例えば−Ｃ
ｌ、−Ｂｒなど）、シアノ基、ニトロ基、アリール基
（好ましくはフェニル基）、ヒドロキシ基、
【０１１３】
【化３５】
【０１１４】（ここでＲ26、Ｒ27は独立して水素原子、
炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示
す。）、−ＣＯＯＲ28（ここでＲ28は水素原子、炭素数
１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す。）、−
ＯＣＯＲ29又は−ＯＲ30（ここでＲ 29、Ｒ30は炭素数１
〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す。）を置換
基として有するものが含まれる。上記Ｒ22〜Ｒ25のアリ
ール基としては、フェニル基、ナフチル基などの１〜３
環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上
記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基
又は、炭素数１〜１４のアルキル基を有するものが含ま
れる。上記Ｒ22〜Ｒ25のアルケニル基としては、炭素数
２〜１８の直鎖、分枝、環状のものが含まれ。置換アル
ケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置
換基として挙げたものが含まれる。上記Ｒ22〜Ｒ25のア
ルキニル基としては、炭素数２〜２８の直鎖又は分枝の
ものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前
記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれ
る。また、上記Ｒ22〜Ｒ25の複素環基としてはＮ、Ｓお
よびＯの少なくとも１つを含む５員環以上、好ましくは
５〜７員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮
合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述の置
換アリール基の置換基として挙げたものを有していても
よい。一般式[III] で示される化合物例としては具体的
には米国特許３，５６７，４５３号、同４，３４３，８
９１号、ヨーロッパ特許１０９，７７２号、同１０９，
７７３号に記載されている化合物および以下に示すもの
が挙げられる。
【０１１５】
【化３６】
【０１１６】本発明の光重合開始剤の他の例である
（ｈ）アジニウム塩化合物の例としては、特開昭６３−
１３８３４５号、特開昭６３−１４２３４５号、特開昭
６３−１４２３４６号、特開昭６３−１４３５３７号な
らびに特公昭４６−４２３６３号記載のＮ−Ｏ結合を有
する化合物群をあげることができる。
【０１１７】光重合開始剤の他の例である（ｉ）メタロ
セン化合物の例としては、特開昭５９−１５２３９６
号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−４１４
８４号、特開平２−２４９号、特開平２−４７０５号記
載のチタノセン化合物ならびに、特開平１−３０４４５
３号、特開平１−１５２１０９号記載の鉄−アレーン錯
体をあげることができる。
【０１１８】上記チタノセン化合物の具体例としては、
ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ
−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−
シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，
６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフル
オロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔ
ｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジフル
オロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔ
ｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−
メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，
４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メ
チルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，
６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシク
ロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフ
ェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニ
ル）チタニウム ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（メチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−ブチルビアロイル−アミノ）フェニル〕
チタン、
【０１１９】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチルアセチルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルプロピオ
ニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチル
−（２，２−ジメチルブタノイル）アミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチルブ
タノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペ
ンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−
ペンチル−（２，２−ジメチルブタノイル）アミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル）−（２，
２−ジメチルブタノイル）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−メチルブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−メチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタ
ン、
【０１２０】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルシクロヘキシルカル
ボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチ
ルイソブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シク
ロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（２，２，５，５−テトラメチル−１，２，５−ア
ザジシロリジニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（オクチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（４−トリルスルホンアミド）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（４−ドデシルフェニルスルホニルアミ
ド）フェニル〕チタン、
【０１２１】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（４−（１−ペンチルヘプチル）
フェニルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（エチルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（（４−ブロモフェニル）−スルホニルアミド）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（２−ナフチルスルホニル
アミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ヘキサデシルス
ルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メ
チル−（４−ドデシルフェニル）スルホニルアミド）フ
ェニル〕チタン、
【０１２２】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチル−４−（１−ペンチ
ルヘプチル）フェニル）スルホニルアミド）〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−トリル）−スルホニル
アミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ピロリジン−
２，５−ジオニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（３，４−ジメチル−３−ピロリジン−２，５−ジ
オニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フタル
イミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−イソブトキシカル
ボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（エトキシ
カルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペ
ンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（（２
−クロロエトキシ）−カルボニルアミノ）フェニル〕チ
タン、
【０１２３】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（フェノキシカルボニルアミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェニルチオウレイ
ド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−ブチルチオウレ
イド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェニルウ
レイド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−ブチルウレ
イド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ，Ｎ−ジアセ
チルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３，３−ジ
メチルウレイド）フェニル〕チタン、
【０１２４】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（アセチルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（ブチリルアミノ）フェニル〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（デカノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（オクタデカノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（イソブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（２−エチルヘキサノイルアミノ）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（２−メチルブタノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（ピバロイルアミノ）フェニル〕
チタン、
【０１２５】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチルブタノイルア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−エチル−２
−メチルヘプタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（シクロヘキシルカルボニルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパ
ノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェ
ニルプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（２−クロロメチル−２−メチル−３−クロロプロパノ
イルアミノ）フェニル〕チタン、
【０１２６】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（３，４−キシロイルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（４−エチルベンゾイルア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，４，６−メ
シチルカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−（３−フェニルプロピル）ベンゾイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−エチルヘプチル）−
２，２−ジメチルペンタノイルアミノ〕フェニルチタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−トルイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチルベン
ゾイルアミノ）フェニル〕チタン、
【０１２７】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチルピバ
ロイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（オ
クソラニ−２−イルメチル）ベンゾイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−エチルヘプチル）−
２，２−ジメチルブタノイルアミノ）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロピル−（４−ト
ルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−
（オクソラニ−２−イルメチル）−（４−トルイル）ア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−トル
イルメチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、
【０１２８】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−トルイルメチル）−
（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−ブチルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（Ｎ−ブチル−（４−トルイル）アミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−トルイ
ル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２，
４−ジメチルペンチル）−２，２−ジメチルブタノイル
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，４−ジメチ
ルペンチル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）
フェニル〕チタン、
【０１２９】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（（４−トルイル）アミノ）フェ
ニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチルペンタ
ノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−
ジメチル−３−エトキシプロパノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチル−３−アリル
オキシプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−アリルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（２−エチルブタノイルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチルベンゾイル
アミノ）フェニル〕チタン、
【０１３０】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−
（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−（２−エチルヘキシル）ベンゾイルアミノ）フェ
ニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソプロピルベンゾ
イルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−
フェニルプロピル）−２，２−ジメチルペンタノイル）
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシルベ
ンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シ
クロヘキシルメチル−２，２−ジメチルペンタノイル）
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルベン
ゾイルアミノ）フェニル〕チタン、
【０１３１】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−
２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−２，２−ジメチルペン
タノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イ
ソプロピル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロ
ピル）ピバロイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−ブチル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチ
ル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、
【０１３２】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジルベンゾイルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジル−（４
−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−（２−メトキシエチル）−（４−トルイル）アミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニ
ルメチル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチ
ル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−
（２−エチル−２−メチルヘプタノイル）アミノ）フェ
ニル〕チタン、
【０１３３】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベン
ゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘ
キシル−（２−エチル−２−メチルブタノイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシル
−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−（オクソラニ−２−イルメチ
ル）−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシル−（４−ク
ロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−シクロヘキシル−（２−クロロベンゾイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３，３−ジメチル−
２−アゼチジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、
【０１３４】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−イソシアナトフェニル）チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−エチル−（４−トリルスルホニル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４
−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−
トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプ
ロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、
【０１３５】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロパノイ
ル）−２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）ア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキ
シルメチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノ
イル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソ
ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイ
ル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２−
クロロメチル−２−メチル−３−クロロプロパノイル）
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ブチルチオカル
ボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フェニル
チオカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、
【０１３６】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−イソシアナトフェニル）チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−エチル−（４−トリルスルホニル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４
−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−
トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプ
ロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−（３−フェニルプロパノイル）−２，２−ジメチル−
３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、
【０１３７】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−
（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−
（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２−クロロメチ
ル−２−メチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（ブチルチオカルボニルア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フェニルチオカ
ルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（メチルシク
ロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−ヘキシル−２，２−ジメチルブタノイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、
【０１３８】ビス（メチルシクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−２，２−
ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（メチルシクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフル
オロ−３−（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルプロピオニルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（トリメチルシリルペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチ
ル−２，２−ジメチルプロパノイルアミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチル）−トリ
メチルシリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−ブチルヘキシルジメチルシリルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−エチル−（１，１，２，−トリメ
チルプロピル）ジメチルシリルアミノ）フェニル〕チタ
ン、
【０１３９】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（３−エトキシメチル−３−メチ
ル−２−アゼチオジノニ−１−イル）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（３−アリルオキシメチル−３−メチル−
２−アゼチジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（３−クロロメチル−３−メチル−２−アゼチジノ
ニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベン
ジル−２，２−ジメチルプロパノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（５，５−ジメチル−２−ピロリ
ジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペ
ンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（６，
６−ジフェニル−２−ピペリジノニ−１−イル）フェニ
ル〕チタン、
【０１４０】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１，
２−ベンジソチアゾロ−３−オン（１，１−ジオキシ
ド）−２−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘ
キシル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（２−クロロベンゾ
イル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソ
プロピル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニルメチ
ル）−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニルメチル）−
（２−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、
【０１４１】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベン
ゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベ
ンジル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−
４−トリル−スルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−（３−オキサヘプチル）ベンゾイルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオ
キサデシル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（トリフルオロメチルスルホニル）アミノ）フェ
ニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロアセチルア
ミノ）フェニル〕チタン、
【０１４２】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（２−クロロベンゾイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−クロロベンゾイ
ル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，
６−ジオキサデシル）−２，２−ジメチルペンタノイル
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，７−
ジメチル−７−メトキシオクチル）ベンゾイルアミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルベン
ゾイルアミノ）フェニル〕チタン、等を挙げることがで
きる。
【０１４３】光重合開始剤の他の例である（ｊ）活性エ
ステル化合物の例としては特公昭６２−６２２３記載の
イミドスルホネート化合物、特公昭６３−１４３４０
号、特開昭５９−１７４８３１号記載の活性スルホネー
ト類をあげることができる。
【０１４４】光重合開始剤の一例である（ｋ）炭素ハロ
ゲン結合を有する化合物の好ましい例としては、下記一
般式〔IV〕から[X] のものを挙げることができる。
【０１４５】
【化３７】
【０１４６】（式中、Ｘ2はハロゲン原子を表わす。Ｙ2
は−Ｃ（Ｘ2）3、−ＮＨ2、−ＮＨＲ3 2、−ＮＲ32、−
ＯＲ32を表わす。ここでＲ32はアルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、置換アリール基を表わす。またＲ31
は−Ｃ（Ｘ2）3、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、置換アルケニル基、を表わ
す。）で表わされる化合物。
【０１４７】
【化３８】
【０１４８】（ただし、Ｒ33は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、Ｘ3
はハロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。）で
表わされる化合物。
【０１４９】
【化３９】
【０１５０】（ただし、Ｒ34は、アリール基又は置換ア
リール基であり、Ｒ35は
【０１５１】
【化４０】
【０１５２】又はハロゲンであり、Ｚ2は−Ｃ（＝Ｏ）
−、−Ｃ（＝Ｓ）−又は−ＳＯ2−であり、Ｒ36、Ｒ37
はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換ア
ルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ
38は一般式〔IV] 中のＲ32と同じであり、Ｘ3はハロゲ
ン原子であり、ｍは１又は２である。）で表わされる化
合物。
【０１５３】
【化４１】
【０１５４】ただし、式中、Ｒ39は置換されていてもよ
いアリール基又は複素環式基であり、Ｒ40は炭素原子１
〜３個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケ
ニル基であり、ｐは１、２又は３である。
【０１５５】
【化４２】
【０１５６】（ただし、Ｌは水素原子又は式：ＣＯ−
（Ｒ41）q（Ｃ（Ｘ4）3）rの置換基であり、Ｑはイオ
ウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アル
ケン−１，２−イレン基、１，２−フェニレン基又はＮ
−Ｒ基であり、Ｍは置換又は非置換のアルキレン基又は
アルケニレン基であるか、又は１，２−アリーレン基で
あり、Ｒ42はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシ
アルキル基であり、Ｒ41は炭素環式又は複素環式の２価
の芳香族基であり、Ｘ4は塩素、臭素またはヨウ素原子
であり、ｑ＝０及びｒ＝１であるか又はｑ＝１及びｒ＝
１又は２である。）で表わされる、トリハロゲノメチル
基を有するカルボニルメチレン複素環式化合物。
【０１５７】
【化４３】
【０１５８】（ただし、Ｘ5はハロゲン原子であり、ｔ
は１〜３の整数であり、ｓは１〜４の整数であり、Ｒ43
は水素原子又はＣＨ3-tＸ5t基であり、Ｒ44はｓ価の置
換されていてもよい不飽和有機基である）で表わされ
る、４−ハロゲノ−５−（ハロゲノメチル−フェニル）
−オキサゾール誘導体。
【０１５９】
【化４４】
【０１６０】（ただし、Ｘ6はハロゲン原子であり、ｖ
は１〜３の整数であり、ｕは１〜４の整数であり、Ｒ45
は水素原子又はＣＨ3-vＸ6v基であり、Ｒ46はｕ価の置
換されていてもよい不飽和有機基である。）で表わされ
る、２−（ハロゲノメチル−フェニル）−４−ハロゲノ
−オキサゾール誘導体。
【０１６１】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物の具体例としては、たとえば、若林ら著、Bull. Ch
em. Soc. Japan，４２、２９２４（１９６９）記載の化
合物、たとえば、２−フェニル４，６−ビス（トリクロ
ルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロル
メチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−（２′，４′−ジクロルフェニル）−４，６
−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２，
４，６−トリス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジ
ン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−
Ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリ
クロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−
トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチ
ル）−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特
許１３８８４９２号明細書記載の化合物、たとえば、２
−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−
トリアジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビ
ス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−
メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチ
ル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）
−４−アミノ−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン
等、特開昭５３−１３３４２８号記載の化合物、たとえ
ば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６
−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４
−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリ
クロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エト
キシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−ト
リクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメ
トキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロ
ルメチル−Ｓ−トリアジン）、２−（アセナフト−５−
イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリア
ジン等、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合
物、たとえば、
【０１６２】
【化４５】
【０１６３】
【化４６】
【０１６４】等を挙げることができる。また、F. C. Sc
haefer等によるJ. Org. Chem. ２９、１５２７（１９６
４）記載の化合物、たとえば２−メチル−４，６−ビス
（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−
トリス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，
４，６−トリス（ジブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、
２−アミノ−４−メチル−６−トリブロムメチル−Ｓ−
トリアジン、２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロ
ルメチル−Ｓ−トリアジン等を挙げることができる。さ
らに特開昭６２−５８２４１号記載の化合物、たとえ
ば、
【０１６５】
【化４７】
【０１６６】
【化４８】
【０１６７】等を挙げることができる。更に特開平５−
２８１７２８号記載の化合物、例えば、
【０１６８】
【化４９】
【０１６９】等を挙げることができる。あるいはさらに
M. P. Hutt、E. F. ElslagerおよびL.M. Herbel著「Jou
rnalof Heterocyclic chemistry」第７巻（Ｎｏ．
３）、第５１１頁以降（１９７０年）に記載されている
合成方法に準じて、当業者が容易に合成することができ
る次のような化合物群
【０１７０】
【化５０】
【０１７１】
【化５１】
【０１７２】
【化５２】
【０１７３】
【化５３】
【０１７４】
【化５４】
【０１７５】
【化５５】
【０１７６】あるいは、ドイツ特許第２６４１１００号
に記載されているような化合物、例えば、４−（４−メ
トキシ−スチリル）−６−（３，３，３−トリクロルプ
ロペニル）−２−ピロンおよび４−（３，４，５−トリ
メトキシ−スチリル）−６−トリクロルメチル−２−ピ
ロン、あるいはドイツ特許第３３３３４５０号に記載さ
れている化合物、例えば、
【０１７７】
【化５６】
【０１７８】式中、Ｒ41はベンゼン環を、Ｒ42はアルキ
ル基、アラルキル基またはアルコキシアルキル基を表
す。
【０１７９】
【表１８】
【０１８０】あるいはドイツ特許第３０２１５９０号に
記載の化合物群、
【０１８１】
【化５７】
【０１８２】
【化５８】
【０１８３】あるいはドイツ特許第３０２１５９９号に
記載の化合物群例えば、
【０１８４】
【化５９】
【０１８５】を挙げることができる。本発明における光
重合開始剤のさらにより好ましい例としては、上述の
（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）芳香族オニウム塩、
（ｃ）有機過酸化物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾ
ール、（ｉ）メタロセン化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結
合を有する化合物をあげることができ、さらに最も好ま
しい例としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾ
ニウム塩、チタノセン化合物、一般式〔ＩＶ〕であらわ
されるトリハロメチル−Ｓ−トリアジン化合物をあげる
ことができる。本発明における光重合開始剤は単独もし
くは２種以上の併用によって好適に用いられる。次に、
本発明の光重合性組成物の１成分となり得る増感色素と
しては、分光増感色素、光源の光を吸収して光重合開始
剤と相互作用する染料あるいは顔料があげられる。好ま
しい分光増感色素または染料としては多核芳香族類（例
えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン） キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、
エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカル
ボシアニン） メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシ
アニン） チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トル
イジンブルー） アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフ
ラビン、アクリフラビン） フタロシアニン類（例えば、フタロシアニン、メタルフ
タロシアニン） ポルフィリン類（例えば、テトラフェニルポルフィリ
ン、中心金属置換ポルフィリン） クロロフィル類（例えば、クロロフィル、クロロフィリ
ン、中心金属置換クロロフィル） 金属錯体、例えば
【０１８６】
【化６０】
【０１８７】アントラキノン類、例えば（アントラキノ
ン） スクアリウム類、例えば（スクアリウム） 等が挙げられる。より好ましい分光増感色素又は染料の
例としては特公平３７−１３０３４号記載のスチリル系
色素、例えば、
【０１８８】
【化６１】
【０１８９】特開昭６２−１４３０４４号記載の陽イオ
ン染料、例えば、
【０１９０】
【化６２】
【０１９１】特公昭５９−２４１４７号記載のキノキサ
リニウム塩、例えば、
【０１９２】
【化６３】
【０１９３】特開昭６４−３３１０４号記載の新メチレ
ンブルー化合物、例えば、
【０１９４】
【化６４】
【０１９５】特開昭６４−５６７６７号記載のアントラ
キノン類、例えば
【０１９６】
【化６５】
【０１９７】特開平２−１７１４号記載のベンゾキサン
テン染料。特開平２−２２６１４８号及び特開平２−２
２６１４９号記載のアクリジン類、例えば、
【０１９８】
【化６６】
【０１９９】特公昭４０−２８４９９号記載のピリリウ
ム塩類、例えば
【０２００】
【化６７】
【０２０１】特公昭４６−４２３６３号記載のシアニン
類、例えば
【０２０２】
【化６８】
【０２０３】特開平２−６３０５３号記載のベンゾフラ
ン色素、例えば
【０２０４】
【化６９】
【０２０５】特開平２−８５８５８号、特開平２−２１
６１５４号の共役ケトン色素、例えば
【０２０６】
【化７０】
【０２０７】特開昭５７−１０６０５号記載の色素。特
公平２−３０３２１号記載のアゾシンナミリデン誘導
体、例えば、
【０２０８】
【化７１】
【０２０９】特開平１−２８７１０５号記載のシアニン
系色素、例えば、
【０２１０】
【化７２】
【０２１１】特開昭６２−３１８４４号、特開昭６２−
３１８４８号、特開昭６２−１４３０４３号記載のキサ
ンテン系色素、例えば、
【０２１２】
【化７３】
【０２１３】特公昭５９−２８３２５号記載のアミノス
チリルケトン、例えば
【０２１４】
【化７４】
【０２１５】特公昭６１−９６２１号記載の以下の一般
式〔１〕〜〔８〕で表されるメロシアニン色素、例え
ば、
【０２１６】
【化７５】
【０２１７】一般式〔３〕ないし〔８〕において、Ｘ8
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、置換アリール基、アリールオキシ基、
アラルキル基又はハロゲン原子を表わす。一般式〔２〕
においてＰｈはフェニル基を表わす。一般式〔１〕ない
し〔８〕において、Ｒ48、Ｒ49およびＲ50はそれぞれア
ルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、アリール
基、置換アリール基又はアラルキル基を表わし、互いに
等しくても異なってもよい。特開平２−１７９６４３号
記載の以下の一般式
〔９〕〜〔１１〕で表わされる色
素、例えば
【０２１８】
【化７６】
【０２１９】Ａ：酸素原子、イオウ原子、セレン原子、
テルル原子、アルキル又はアリール置換された窒素原子
またはジアルキル置換された炭素原子を表わす。 Ｙ3：水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、また
は置換アルコキシカルボニル基を表わす。 Ｒ51、Ｒ52：水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、
もしくは置換基として、Ｒ53Ｏ−、
【０２２０】
【化７７】
【０２２１】−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｗ−Ｒ53、ハロゲン原
子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）を有する炭素数１〜１８の置
換アルキル基。但し、Ｒ53は水素原子又は炭素数１〜１
０のアルキル基を表わし、Ｂは、ジアルキルアミノ基、
水酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表
わす。ｗは０〜４の整数、ｘは１〜２０の整数を表わ
す。特開平２−２４４０５０号記載の以下の一般式〔１
２〕で表されるメロシアニン色素、例えば、
【０２２２】
【化７８】
【０２２３】（式中Ｒ54およびＲ55は各々独立して水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル
基を表わす。Ａ2は酸素原子、イオウ原子、セレン原
子、テルル原子、アルキルないしはアリール置換された
窒素原子、またはジアルキル置換された炭素原子を表わ
す。Ｘ9は含窒素ヘテロ五員環を形成するのに必要な非
金属原子群を表わす。Ｙ4は置換フェニル基、無置換な
いし置換された多核芳香環、または無置換ないしは置換
されたヘテロ芳香環を表わす。Ｚ3は水素原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシ
カルボニル基を表わし、Ｙ4と互いに結合して環を形成
していてもよい。好ましい具体例としては
【０２２４】
【化７９】
【０２２５】特公昭５９−２８３２６号記載の以下の一
般式〔１３〕で表されるメロシアニン色素、例えば、
【０２２６】
【化８０】
【０２２７】上式において、Ｒ56およびＲ57はそれぞれ
水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基またはアラルキル基を表わし、それらは
互いに等しくても異ってもよい。Ｘ10はハメット（Hamm
ett）のシグマ（σ）値が−０．９から＋０．５までの
範囲内の置換基を表わす。特開昭５９−８９３０３号記
載の以下の一般式〔１４〕で表されるメロシアニン色
素、例えば、
【０２２８】
【化８１】
【０２２９】（式中Ｒ58およびＲ59は各々独立して水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基またはアラルキル基を表わす。Ｘ11はハメッ
ト（Hammett）のシグマ（σ）値が−０．９から＋０．
５までの範囲内の置換基を表わす。Ｙ5は水素原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アラルキル基、アシル基またはアルコキシカルボニ
ル基を表わす。）好ましい具体例としては、
【０２３０】
【化８２】
【０２３１】特願平６−２６９０４７号記載の以下の一
般式〔１５〕で表されるメロシアニン色素、例えば
【０２３２】
【化８３】
【０２３３】（式中、Ｒ60、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ68、
Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メル
カプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換
カルボニル基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィ
ニル基、置換スルホニル基、ホスフォノ基、置換ホスフ
ォノ基、ホスフォナト基、置換ホスフォナト基、シアノ
基、ニトロ基を表すか、もしくは、Ｒ60とＲ61、Ｒ61と
Ｒ62、Ｒ62とＲ63、Ｒ68とＲ69、Ｒ69とＲ70、Ｒ70とＲ
71が互いに結合して脂肪族又は芳香族環を形成していて
も良く、Ｒ64は水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、又は置換アリール基を表し、Ｒ65は置
換、又は無置換のアルケニルアルキル基、又は置換もし
くは無置換のアルキニルアルキル基を表し、Ｒ66、Ｒ67
はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
置換カルボニル基を表す）好ましい具体例としては
【０２３４】
【化８４】
【０２３５】特願平７−１６４５８３号記載の以下の一
般式〔１６〕で表されるベンゾピラン系色素、例えば
【０２３６】
【化８５】
【０２３７】（式中、Ｒ72〜Ｒ75は互いに独立して、水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、水酸
基、アルコキシ基又はアミノ基を表す。またＲ72〜Ｒ75
はそれらが各々結合できる炭素原子と共に非金属原子か
ら成る環を形成していても良い。Ｒ76は水素原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ芳香族基、シアノ基、アル
コキシ基、カルボキシ基又はアルケニル基を表す。Ｒ77
はＲ76で表される基または−Ｚ−Ｒ76であり、Ｚはカル
ボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはアリー
レンジカルボニル基を表す。またＲ76及びＲ77は共に非
金属原子から成る環を形成しても良い。ＡはＯ原子、Ｓ
原子、ＮＨまたは置換基を有するＮ原子を表す。ＢはＯ
原子、または＝Ｃ（Ｇ1）（Ｇ2）の基を表す。Ｇ1、Ｇ2
は同一でも異なっていても良く、水素原子、シアノ基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、又はフルオロスルホニル基を表す。但
し、Ｇ1、Ｇ2は同時に水素原子となることはない。また
Ｇ1及びＧ2は炭素原子と共に非金属原子からなる環を形
成していても良い）。等を挙げることができる。
【０２３８】その他、増感色素として特に以下の赤外線
吸収剤（染料或いは顔料）も好適に使用される。好まし
い前記染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４
６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２
８２９号、特開昭６０−７８７８７号公報等に記載され
ているシアニン染料、英国特許４３４，８７５号明細書
記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【０２３９】また、米国特許第５，１５６，９３８号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、さら
に、米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置
換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭
５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９
号）公報に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭
５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５
９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８
４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６
０６１号公報に記載のピリリウム系化合物、特開昭５９
−２１６１４６号公報に記載のシアニン色素、米国特許
第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチ
オピリリウム塩等や、特公平５−１３５１４号、同５−
１９７０２号公報に記載されているピリリウム化合物も
好ましく用いられる。
【０２４０】また、米国特許第４，７５６，９９３号明
細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外
吸収染料、ＥＰ９１６５１３Ａ２号明細書に記載のフタ
ロシアニン系染料も好ましい染料として挙げることがで
きる。
【０２４１】さらに、特願平１０−７９９１２号公報に
記載のアニオン性赤外線吸収剤も、好適に使用すること
ができる。アニオン性赤外線吸収剤とは、実質的に赤外
線を吸収する色素の母核にカチオン構造がなく、アニオ
ン構造を有するものを示す。例えば、（ｃ１）アニオン
性金属錯体、（ｃ２）アニオン性カーボンブラック、
（ｃ３）アニオン性フタロシアニン、さらに（ｃ４）下
記一般式６で表される化合物などが挙げられる。これら
のアニオン性赤外線吸収剤の対カチオンは、プロトンを
含む一価の陽イオン、あるいは多価の陽イオンである。
【０２４２】
【化８６】
【０２４３】ここで、（ｃ１）アニオン性金属錯体と
は、実質的に光を吸収する錯体部の中心金属および配位
子全体でアニオンとなるものを示す。
【０２４４】（ｃ２）アニオン性カーボンブラックは、
置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等
のアニオン基が結合しているカーボンブラックが挙げら
れる。これらの基をカーボンブラックに導入するには、
カーボンブラック便覧第三版（カーボンブラック協会
編、１９９５年４月５日、カーボンブラック協会発行）
第１２頁に記載されるように、所定の酸でカーボンブラ
ックを酸化する等の手段をとればよい。
【０２４５】（ｃ３）アニオン性フタロシアニンは、フ
タロシアニン骨格に、置換基として、先に（ｃ２）の説
明において挙げたアニオン基が結合し、全体としてアニ
オンとなっているものを示す。
【０２４６】次に、前記（ｃ４）一般式６で表される化
合物について、詳細に説明する。前記一般式６中、Ｇa -
はアニオン性置換基を表し、Ｇbは中性の置換基を表
す。Ｘm +は、プロトンを含む１〜ｍ価のカチオンを表
し、ｍは１ないし６の整数を表す。Ｍは共役鎖を表し、
この共役鎖Ｍは置換基や環構造を有していてもよい。共
役鎖Ｍは、下記式で表すことができる。
【０２４７】
【化８７】
【０２４８】前記式中、Ｒ1、Ｒ2，Ｒ3はそれぞれ独立
に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、
アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル
基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ
基、アミノ基を表し、これらは互いに連結して環構造を
形成していてもよい。ｎは、１〜８の整数を表す。
【０２４９】前記一般式６で表されるアニオン性赤外線
吸収剤のうち、以下のＡ−１〜Ａ−５のものが、好まし
く用いられる。
【０２５０】
【化８８】
【０２５１】また、以下のＣＡ−１〜ＣＡ−４４に示す
カチオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
【０２５２】
【化８９】
【０２５３】
【化９０】
【０２５４】
【化９１】
【０２５５】
【化９２】
【０２５６】
【化９３】
【０２５７】
【化９４】
【０２５８】
【化９５】
【０２５９】
【化９６】
【０２６０】
【化９７】
【０２６１】
【化９８】
【０２６２】
【化９９】
【０２６３】
【化１００】
【０２６４】
【化１０１】
【０２６５】
【化１０２】
【０２６６】
【化１０３】
【０２６７】前記構造式中、Ｔ-は、１価の対アニオン
を表し、好ましくは、ハロゲンアニオン（Ｆ-，Ｃｌ-、
Ｂｒ-、Ｉ-）、ルイス酸アニオン（ＢＦ4−、ＰＦ6 -、
ＳｂＣｌ6 -、ＣｌＯ4 -）、アルキルスルホン酸アニオ
ン、アリールスルホン酸アニオンである。
【０２６８】前記アルキルスルホン酸のアルキルとは、
炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、又は環
状のアルキル基を意味し、具体的には、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。
【０２６９】また前記アリールスルホン酸のアリールと
は、１個のベンゼン環からなるもの、２又は3個のベン
ゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽
和環が縮合環を形成したものを表し、具体例としては、
フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリ
ル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル
基、を挙げることができ、これらの中でも、フェニル
基、ナフチル基がより好ましい。
【０２７０】また、以下のＮＡ−１〜ＮＡ−１２に示す
非イオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。
【０２７１】
【化１０４】
【０２７２】
【化１０５】
【０２７３】
【化１０６】
【０２７４】
【化１０７】
【０２７５】前記例示化合物中、特に好ましいアニオン
性赤外線吸収剤としてはＡ−１が、カチオン性赤外線吸
収剤としてはＣＡ−７、ＣＡ−３０、ＣＡ−４０、およ
びＣＡ−４２が、非イオン性赤外線吸収剤としてはＮＡ
−１１が挙げられる。
【０２７６】他の染料としては、市販の染料及び例えば
「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）
等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタ
ロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染
料、メチン染料、ジインモニウム染料、アミニウム染
料、スクワリリウム色素、金属チオレート錯体等の染料
が挙げられる。
【０２７７】また、増感色素として、他の顔料として
は、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便
覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７
年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６
年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。例えば、顔料
の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素
が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレー
キ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシア
ニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリ
ノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔
料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キ
ノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニ
トロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔
料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料の
うち好ましいものはカーボンブラックである。
【０２７８】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。前記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載されている。
【０２７９】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍであ
るのが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍであるのがさら
に好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍであるのが特に好
ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは、分散
物の画像記録層塗布液中での安定性の点で好ましくな
く、また、１０μｍを越えると画像記録層の均一性の点
で好ましくない。
【０２８０】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１
９８６年刊）に記載されている。
【０２８１】本発明における増感色素のさらにより好ま
しい例としては、上述の特公昭６１−９６２１号記載の
メロシアニン色素、特開平２−１７９６４３号記載のメ
ロシアニン色素、特開平２−２４４０５０号記載のメロ
シアニン色素、特公昭５９−２８３２６号記載のメロシ
アニン色素、特開昭５９−８９３０３号記載のメロシア
ニン色素、特願平６−２６９０４７号記載のメロシアニ
ン色素及び特願平７−１６４５８３号記載のベンゾピラ
ン系色素を挙げることができる。及び上述の特開平11-2
09001号記載の赤外線吸収剤を挙げることができる。本
発明における増感色素も単独もしくは２種以上の併用に
よって好適に用いられる。さらに本発明の光重合性組成
物には、感度を一層向上させる、あるいは酸素による重
合阻害を抑制する等の作用を有する公知の化合物を共増
感剤として加えても良い。
【０２８２】この様な共増感剤の例としては、アミン
類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polymer Soc
iety」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−
２０１８９号、特開昭５１−８２１０２号、特開昭５２
−１３４６９２号、特開昭５９−１３８２０５、特開昭
６０−８４３０５号、特開昭６２−１８５３７号、特開
昭６４−３３１０４号、Research Disclosure ３３８２
５号記載の化合物、等があげられ、具体的には、トリエ
タノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチルチ
オジメチルアニリン、等があげられる。
【０２８３】共増感剤の別の例としてはチオールおよび
スルフィド類、例えば、特開昭５３−７０２号、特公昭
５５−５００８０６号、特開平５−１４２７７２号記載
のチオール化合物、特開昭５６−７５６４３号のジスル
フィド化合物等があげられ、具体的には、２−メルカプ
トベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプ
ト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレ
ン等があげられる。
【０２８４】また別の例としては、アミノ酸化合物
（例、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９
６５号記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテ
ート等）、特公昭５５−３４４１４号記載の水素供与
体、特願平５−９１０８９号記載のイオウ化合物（例、
トリチアン等）、特願平５−３２１４７号記載のリン化
合物（ジエチルホスファイト等）、特願平６−１９１６
０５号記載のＳｉ−Ｈ、Ｇｅ−Ｈ化合物等があげられ
る。
【０２８５】本発明における組成物中の光重合開始剤の
使用量は光重合性組成物の全成分の重量に対し、0.01〜
60重量％、より好ましくは0.05〜３０重量％である。ま
た、本発明において増感色素を用いる場合、光重合性組
成物中の光重合開始剤と増感色素のモル比は100：０〜
1：９９であり、より好ましくは、９０：１０〜１０：
９０であり、最も好ましくは８０：２０〜２０：８０で
ある。上記共増感剤を使用する場合には光重合開始剤１
重量部に対して、0.01〜50重量部使用するのが適当であ
り、より好ましくは０．０２〜２０重量部、最も好まし
くは０．０５〜１０重量部である。
【０２８６】本発明の光重合性組成物には、バインダー
としての線状有機高分子重合体を含有させることが好ま
しい。このような「線状有機高分子重合体」としては、
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有して
いる線状有機高分子重合体である限り、どれを使用して
も構わない。好ましくは水現像或いは弱アルカリ水現像
を可能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨潤
性である線状有機高分子重合体が選択される。線状有機
高分子重合体は、該組成物の皮膜形成剤としてだけでな
く、現像剤として水、弱アルカリ水或いは有機溶剤のい
ずれが使用されるかに応じて適宜選択使用される。例え
ば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能
になる。この様な線状有機高分子重合体としては、側鎖
にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭５９
−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５
８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭
５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開
昭５９−７１０４８号に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘
導体がある。この他に水酸基を有する付加重合体に環状
酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれ
らの中で〔ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）ア
クリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノ
マー〕共重合体及び〔アリル（メタ）アクリレート／
（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性
ビニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶
性線状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリ
エチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強
度をあげるためにアルコール可溶性ポリアミドや２，２
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピ
クロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。これら
の線状有機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和さ
せることができる。しかし組成物の全成分の重量に対し
て９０重量％を超える場合には形成される画像強度等の
点で好ましい結果を与えない。好ましくは３０〜８５％
である。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物と線
状有機高分子重合体は、重量比で１／９〜７／３の範囲
とするのが好ましい。より好ましい範囲は３／７〜５／
５である。但し、本発明の一般式（Ｉ）で示される構造
を有する化合物として高分子型のものを使用する場合に
は、それ自体がバインダーとしての機能を有するため、
光重合性組成物中に上述のバインダーを含有していなく
ても良い。バインダーと混合して使用する場合には、本
発明の高分子型の重合性化合物とバインダーの比は上述
の重量比で用いることができる。
【０２８７】重合禁止剤 また、本発明においては以上の基本成分の他に光重合性
組成物製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻
止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ま
しい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ
−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合
防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１
重量％〜約５重量％が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにべヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５重量％〜
約１０重量％が好ましい。
【０２８８】着色剤等 さらに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を
添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後
の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版
性を向上させることができる。着色剤としては、多くの
染料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色
剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例として
は例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボン
ブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料お
よび顔料の添加量は全組成物の約０．５重量％〜約５重
量％が好ましい。
【０２８９】その他の添加剤 さらに、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤
や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上さ
せうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
【０２９０】可塑剤としては例えばジオクチルフタレー
ト、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジ
カプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリク
レジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチル
セバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤
を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化
合物と結合剤との合計重量に対し１０重量％以下添加す
ることができる。
【０２９１】また、後述する膜強度（耐刷性）向上を目
的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するため
の、ＵＶ開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。
【０２９２】その他、感光層と支持体との密着性向上
や、未露光感光層の現像除去性を高めるための添加剤、
中間層を設けることを可能である。例えば、ジアゾニウ
ム構造を有する化合物や、ホスホン化合物、等、基板と
比較的強い相互作用を有する化合物の添加や下塗りによ
り、密着性が向上し、耐刷性を高めることが可能であ
り、一方ポリアクリル酸や、ポリスルホン酸のような親
水性ポリマーの添加や下塗りにより、非画像部の現像性
が向上し、汚れ性の向上が可能となる。
【０２９３】本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布
する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メ
トキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピ
ルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳
酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混
合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固
形分の濃度は、２〜５０重量％が適当である。
【０２９４】感光層の支持体被覆量は、主に、感光層の
感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響しうるもの
で、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が
少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多
すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる
上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくな
い。本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版と
しては、その被覆量は乾燥後の重量で約０．１g/m2〜約
１０g/m2の範囲が適当である。より好ましくは０．５〜
５g/m2である。
【０２９５】「支持体」本発明の主要な目的の一つであ
る、平版印刷版を得るには上記感光層を、表面が親水性
の支持体上に設けることが望ましい。親水性の支持体と
しては、従来公知の、平版印刷版に使用される親水性支
持体を限定無く使用することができる。使用される支持
体は寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例え
ば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金
属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチ
ックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢
酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、
上記のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙も
しくはプラスチックフィルム等が含まれ、これらの表面
に対し、必要に応じ親水性の付与や、強度向上、等の目
的で適切な公知の物理的、化学的処理を施しても良い。
【０２９６】特に、好ましい支持体としては、紙、ポリ
エステルフィルムまたはアルミニウム板が挙げられ、そ
の中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に
応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提
供できるアルミニウム板は特に好ましい。また、特公昭
４８−１８３２７号に記載されているようなポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結
合された複合体シートも好ましい。
【０２９７】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にはアルミニウムがラミネートまた
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々
１０重量％以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ０．１mm〜０．６mm程度、好
ましくは０．１５mm〜０．４mm、特に好ましくは０．２
mm〜０．３mmである。
【０２９８】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、粗面化（砂目立て）処理、珪酸ソ
ーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液
への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理が
なされていることが好ましい。
【０２９９】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ、磨法等の公知の方法を用いることが
できる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸、硝
酸等の電解液中で交流または直流により行う方法があ
る。また、特開昭５４−６３９０２号に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。また、アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望
により、表面の圧延油を除去するために、例えば、界面
活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。
【０３００】さらに、粗面化したのちに珪酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用
できる。特公昭４７−５１２５号に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用さ
れる。陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶液の単
独または二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
【０３０１】また、米国特許第３６５８６６２号に記載
されているようなシリケート電着も有効である。
【０３０２】さらに、特公昭４６−２７４８１号、特開
昭５２−５８６０２号、特開昭５２−３０５０３号に開
示されているような電解グレインを施した支持体と、上
記陽極酸化処理および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処
理も有用である。
【０３０３】また、特開昭５６−２８８９３号に開示さ
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。
【０３０４】さらに、これらの処理を行った後に、水溶
性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩（例えば硼酸亜鉛）もしくは、黄色染
料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。
【０３０５】さらに特願平５−３０４３５８号に開示さ
れているようなラジカルによって付加反応を起こし得る
官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用
いられる。
【０３０６】その他好ましい例として、任意の支持体上
に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも上げる
ことができる。このような表面層としては例えばＵＳ３
０５５２９５号や、特開昭５６−１３１６８号記載の無
機顔料と結着剤とからなる層、特開平９−８０７４４号
記載の親水性膨潤層、特表平８−５０７７２７号記載の
酸化チタン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾ
ルゲル膜等を挙げることができる。
【０３０７】これらの親水化処理は、支持体の表面を親
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。
【０３０８】「保護層」本発明において、走査露光用平
版印刷版においては、通常露光を大気中で行うため、光
重合性組成物の層の上に、さらに、保護層を設けること
ができる。保護層は、感光層中で露光により生じる画像
形成反応を阻害する大気中に存在する塩基性物質等の低
分子化合物の感光層への混入を防止し、大気中での露光
を可能とする。従って、このような保護層に望まれる特
性は、低分子化合物の透過性が低いことであり、さら
に、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との
密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去で
きることが望ましい。このような、保護層に関する工夫
が従来よりなされており、米国特許第３，４５８，３１
１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく記載されてい
る。保護層に使用できる材料としては例えば、比較的、
結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることがよ
く、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピ
ロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知ら
れているが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成
分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といっ
た基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に
使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と
水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を
含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセ
タールで置換されていても良い。また、同様に一部が他
の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコー
ルの具体例としては７１〜１００モル％加水分解され、
分子量が重量平均分子量で３００から２４００の範囲の
ものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラ
レ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１
７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２
４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳ
Ｔ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、
ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、Ｐ
ＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、
ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４
Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１
３、Ｌ−８等が挙げられる。
【０３０９】保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使
用）、塗布量等は、低分子物質遮断性・現像除去性の
他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。
一般には使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層
中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚
が厚い程低分子物質遮断性が高くなり、感度の点で有利
である。しかしながら、極端に低分子物質遮断性を高め
ると、製造時、生保存時に不要な重合反応が生じたり、
また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じた
りという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐
傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性
ポリマーからなる親水性の層を親油性の重合層に積層す
ると、接着力不足による膜剥離が発生しやすい。これに
対し、これら２層間の接着性を改良すべく種々の提案が
なされている。例えば米国特許第２９２５０１号、米国
特許第４４５６３号には、主にポリビニルアルコールか
らなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンま
たは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重
合体などを２０〜６０重量％混合し、重合層の上に積層
することにより、十分な接着性が得られることが記載さ
れている。本発明における保護層に対しては、これらの
公知の技術をいずれも適用することができる。このよう
な保護層の塗布方法については、例えば米国特許第３，
４５８，３１１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく
記載されている。
【０３１０】さらに保護層には他の機能を付与すること
もできる。例えば、光源としてレーザー光を使用する場
合、感光性組成物としてはその光源波長での感光性には
優れるが、他の波長では感光してほしくない場合があ
る。例えば、光源が７５０ｎｍ以上の赤外領域のもので
あれば、実質上明室で使用することができるが、実際に
は蛍光灯の光など短波の光でも感光する場合がある。そ
の場合には、光源の光透過性に優れ、かつ７００ｎｍ未
満の波長光を効率良く吸収しうる着色剤（水溶性染料
等）の添加が好ましい。また、別の例として光源が４５
０ｎｍ以下の紫外領域のものであれば、実質上セーフラ
イト下で使用することができる。しかし実際には、５０
０ｎｍ以上の可視光により感光する場合がある。その場
合には、光源の光透過性に優れ、かつ５００ｎｍ以上の
光を効率良く吸収しうる、着色剤（水溶性染料等）の添
加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適
性をさらに高めることができる。
【０３１１】本発明の光重合性組成物を用いた感光材料
を画像形成材料として使用する際には、通常、画像露光
したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を
得る。これらの光重合性組成物を平版印刷版の作成に使
用する際の好ましい現像液としては、特公昭５７−７４
２７号に記載されているような現像液が挙げられ、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、
第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭
酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ
剤やモノエタノールアミンまたはジエタノールアミンな
どのような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。この
ようなアルカリ溶液の濃度が０．１〜１０重量％、好ま
しくは０．５〜５重量％になるように添加される。
【０３１２】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やべンジルアルコール、２−フ
ェノキシエタノール、２−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
３３７５１７１号および同第３６１５４８０号に記載さ
れているものを挙げることができる。
【０３１３】さらに、特開昭５０−２６６０１号、同５
８−５４３４１号、特公昭５６−３９４６４号、同５６
−４２８６０号の各公報に記載されている現像液も優れ
ている。
【０３１４】その他、本発明の光重合性組成物の好適な
用途である平版印刷版原版の製版プロセスとしては、必
要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、
全面を加熱しても良い。このような加熱により、感光層
中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や、
感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強
度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、
全面後加熱もしくは、全面露光を行うことも有効であ
る。通常現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行
うことが好ましい。温度が高すぎると、非画像部までが
かぶってしまう等の問題を生じる。現像後の加熱には非
常に強い条件を利用する。通常は２００〜５００℃の範
囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られ
ず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解と
いった問題を生じる。本発明による走査露光平版印刷版
の露光方法は、公知の方法を制限なく用いることができ
る。光源としてはレーザが好ましく。例えば、３５０〜
４５０nmの波長の入手可能なレーザー光源としては以下
のものを利用することができる。
【０３１５】ガスレーザーとして、Ａｒイオンレーザー
（３６４nm、３５１nm、１０mW〜１Ｗ）、Ｋｒイオンレ
ーザー（３５６nm，３５１nm，１０mW〜１W）、Ｈｅ−
Ｃｄレーザー（４４１nm，３２５nm，１mW〜１００m
W）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ4）と
ＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５mm、５mW〜１
Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合わせ（４
３０nm，１０mW）、半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ
3、リング共振器（４３０nm，３０mW）、導波型波長変
換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わ
せ（３８０nm〜４５０ｎｍ、５mW〜１００mW）、導波型
波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の
組み合わせ（３００nm〜３５０nm、５mW〜１００mW）、
ＡｌＧａＩｎＮ（３５０nm〜４５０nm、５mW〜３０mW） その他、パルスレーザーとしてＮ2レーザー（３３７n
m、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１nm、パ
ルス１０〜２５０mJ）
【０３１６】特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザ
ー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０n
m、5〜30mW）が波長特性、コストの面で好適である。
【０３１７】その他、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの入手可
能な光源としてはAr＋レーザ−（４８８ｎｍ）、ＹＡＧ
−ＳＨＧレーザー（５３２ｎｍ）、Ｈｅ−Ｎeレーザー
（６３３ｎｍ）、Ｈｅ―Ｃｄレーザー、赤色半導体レー
ザー（６５０〜６９０ｎｍ）、及び７００ｎｍ〜１２０
０ｎｍの入手可能な光源としては半導体レーザ（８００
〜８５０ｎｍ）、Ｎｄ−ＹＡＧレーザ（１０６４ｎｍ）
が好適に利用できる。
【０３１８】その他、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水
銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ（ＡｒＦエ
キシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザーなど）、放射
線としては電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線など
も利用できるが、安価な点で上述の３５０ｎｍ以上のレ
ーザー光源が特に好ましい。
【０３１９】また、露光機構は内面ドラム方式、外面ド
ラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。ま
た本発明の感光層成分は高い水溶性のものを使用するこ
とで、中性の水や弱アルカリ水に可溶とすることもでき
るが、このような構成の平版印刷版は印刷機上に装填
後、機上で露光-現像といった方式を行うこともでき
る。
【０３２０】また、本発明による光重合性組成物の用途
としては走査露光用平版印刷版の他、広く、光硬化樹脂
の用途として知られるものに制限なく適用できる。例え
ば、必要に応じカチオン重合性化合物と併用した液状の
光重合性組成物に適用することで、高感度な光造形用材
料が得られる。また、光重合にともなう、屈折率の変化
を利用し、ホログラム材料とすることもできる。光重合
に伴う、表面の粘着性の変化を利用して様々な転写材料
（剥離感材、トナー現像感材等）にも応用できる。マイ
クロカプセルの光硬化にも適用できる。フォトレジスト
等の電子材料製造、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹
脂材料にも応用できる。
【０３２１】
【実施例】以下、実施例によって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０３２２】＜本発明の一般式（Ｉ）で示される構造を
有するの化合物の合成＞上記一般式（Ｉ）の化合物は対
応するアクリル基含有化合物から 日本接着学会発行の
「接着の技術」 Vol.14 No.4（1995）通巻37号 ｐ.
２に記載の方法により容易に合成することができる。 ＜合成例１：化合物Ａ−１＞フラスコ内にメチルアクリ
レート（１．５ｍｏｌ）、３７％ホルマリン水溶液
（１．０ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）
を入れる。次にＤＡＢＣＯ（１，４−ジアザビシクロ
[2,2,2]オクタン）（０．１３５ｍｏｌ）を加え、攪拌
する。２４ｈ反応後、１Ｎ塩酸４０ｍｌ／水２００ｍｌ
を入れ、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥
後、濾過し、減圧濃縮すると化合物Ａ−１が収率３０％
で得られた。化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IRに
より確認した。
【０３２３】＜合成例２：化合物Ａ−１２＞フラスコ内
に化合物Ａ−１（１．０ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン
（１００ｍｌ）を入れる。次にＮａＨ（１．０ｍｏｌ）
を氷冷下で少しずつ加え、攪拌３０分後、臭化ベンジル
（１．０ｍｏｌ）を１時間で滴下し、室温に戻し３時間
攪拌する。反応後、水２００ｍｌを入れ、酢酸エチルで
抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減
圧濃縮すると化合物Ａ−１２が収率８０％で得られた。
化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IRにより確認し
た。
【０３２４】＜合成例３：化合物Ａ−１７＞フラスコ内
に化合物Ａ−１（１．０ｍｏｌ）、酢酸エチル（１００
ｍｌ）、ピリジン（１．０ｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（４−ジ
メチルアミノピリジン）（０．１ｍｏｌ）を入れる。次
に酢酸クロライド（１．０ｍｏｌ）を氷冷下で１時間で
滴下し、室温に戻し３時間攪拌する。反応後、水２００
ｍｌを入れ、酢酸エチル層を抽出し、硫酸マグネシウム
で乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮すると化合物Ａ−１
７が収率９５％で得られた。化合物の構造は、ＮＭＲ、
ＭＡＳＳ、IRにより確認した。
【０３２５】＜合成例４：化合物Ａ−２２＞フラスコ内
に化合物Ａ−１（１．０ｍｏｌ）、酢酸エチル（１００
ｍｌ）、ピリジン（１．０ｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（４−ジ
メチルアミノピリジン）（０．１ｍｏｌ）を入れる。次
にｐ−トルエンスルホニルクロライド（１．０ｍｏｌ）
を氷冷下で１時間で滴下し、室温に戻し３時間攪拌す
る。反応後、水２００ｍｌを入れ、酢酸エチル層を抽出
し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧濃
縮すると化合物Ａ−２２が収率９０％で得られた。化合
物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IRにより確認した。
【０３２６】＜合成例５：化合物Ａ−３３＞フラスコ内
に２−（ブロモメチル）アクリル酸（アルドリッチ社
製）（１．０ｍｏｌ）、クロロホルム（１００ｍｌ）を
入れ、次に氷冷下でＳＯＣｌ2（１．０ｍｏｌ）を１時
間で滴下し、室温に戻し２時間攪拌する。ここへ、ｎ−
ブタノール（２．０ｍｏｌ）を入れ室温で、２４時間反
応後、減圧濃縮し、水２００ｍｌを入れ、酢酸エチルで
抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減
圧濃縮すると化合物Ａ−３３が収率９０％で得られた。
化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IRにより確認し
た。
【０３２７】＜合成例５：化合物Ａ−２７＞フラスコ内
に２−（ブロモメチル）アクリル酸（アルドリッチ社
製）（１．０ｍｏｌ）、クロロホルム（１００ｍｌ）を
入れ、次に氷冷下でＳＯＣｌ2（１．０ｍｏｌ）を１時
間で滴下し、室温に戻し２時間攪拌する。ここへ、メタ
ノール（２．０ｍｏｌ）を入れ室温で、２４時間反応
後、減圧濃縮し、水２００ｍｌを入れ、酢酸エチルで抽
出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧
濃縮する。ここへ酢酸エチル（１００ｍｌ）、２−メル
カプトベンゾチアゾール（１．０ｍｏｌ）を入れ、氷冷
下でトリエチルアミン（１．０ｍｏｌ）を３０分で滴下
し、５時間攪拌する。水２００ｍｌを入れ、酢酸エチル
で抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に
減圧濃縮すると化合物Ａ−２７が収率８０％で得られ
た。化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IRにより確認
した。
【０３２８】＜合成例６：化合物Ａ−３８＞フラスコ内
に２−（ブロモメチル）アクリル酸（アルドリッチ社
製）（１．０ｍｏｌ）、クロロホルム（１００ｍｌ）を
入れ、次に氷冷下でＳＯＣｌ2（１．０ｍｏｌ）を１時
間で滴下し、室温に戻し２時間攪拌する。ここへ、メタ
ノール（２．０ｍｏｌ）を入れ室温で、２４時間反応
後、減圧濃縮し、水２００ｍｌを入れ、酢酸エチルで抽
出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧
濃縮する。ここへ酢酸エチル（１００ｍｌ）、モルホリ
ン（１．０ｍｏｌ）を入れ、氷冷下でトリエチルアミン
（１．０ｍｏｌ）を３０分で滴下し、５時間攪拌する。
水２００ｍｌを入れ、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮すると化合物
Ａ−３８が収率７０％で得られた。化合物の構造は、Ｎ
ＭＲ、ＭＡＳＳ、IRにより確認した。
【０３２９】＜合成例７：化合物Ｂ−５＞フラスコ内に
Ａ−１（１．０ｍｏｌ）、アセトン（１００ｍｌ）、を
入れ、次に氷冷下でn-ブチルイソシアナート（１．０ｍ
ｏｌ）、ジラウリル酸ジｎ−ブチルスズ（０．００１ｍ
ｏｌ）を入れ、室温で８時間攪拌する。ここへ水２００
ｍｌを入れ、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで
乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮する。ここへテトラヒ
ドロフラン（１００ｍｌ）を入れ、ＮａＨ（１．０ｍｏ
ｌ）氷冷下で少しずつ加え、１時間攪拌後、ｐ−メトキ
シフェノール（０．０１ｍｏｌ）を入れて、バス温８０
℃で１０時間攪拌する。攪拌後、水２００ｍｌを入れ、
酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥後、濾過
し、十分に減圧濃縮し、さらにシリカゲルカラムクロマ
ト（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で分離し、減圧濃
縮すると化合物Ｂ−５が収率２０％で得られた。化合物
の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IRにより確認した。
【０３３０】＜合成例８：化合物Ｃ−１＞フラスコ内に
１，６−ヘキサンジオール ジアクリレート（中村化学
社製）（０．７５ｍｏｌ）、３７％ホルマリン水溶液
（１．０ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）
を入れる。次にＤＡＢＣＯ（０．１３５ｍｏｌ）を加
え、攪拌する。２４ｈ反応後、１Ｎ塩酸４０ｍｌ／水２
００ｍｌを入れ、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、濾過し、減圧濃縮し、さらにシリカゲルカ
ラムクロマト（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で分離
し、減圧濃縮すると化合物Ｃ−１が収率２０％で得られ
た。 化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IRにより確
認した。
【０３３１】＜合成例８：化合物Ｄ−７＞フラスコ内に
化合物Ａ−１（１．０ｍｏｌ）、酢酸エチル（１００ｍ
ｌ）、ピリジン（１．０ｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（４−ジメ
チルアミノピリジン）（０．１ｍｏｌ）を入れる。次に
ブタンジオイル ジクロライド（０．５ｍｏｌ）を氷冷
下で１時間で滴下し、室温に戻し３時間攪拌する。反応
後、水２００ｍｌを入れ、酢酸エチル層を抽出し、硫酸
マグネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮すると
化合物Ｄ−７が収率８０％で得られた。化合物の構造
は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IRにより確認した。
【０３３２】＜合成例９：化合物Ｅ−４＞フラスコ内に
ペンタエリスリトール テトラアクリレート（中村化学
社製）（０．３７５ｍｏｌ）、３７％ホルマリン水溶液
（１．０ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１００ｍｌ）
を入れる。次にＤＡＢＣＯ（０．１３５ｍｏｌ）を加
え、攪拌する。２４ｈ反応後、１Ｎ塩酸４０ｍｌ／水２
００ｍｌを入れ、酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、濾過し、減圧濃縮し、さらにシリカゲルカ
ラムクロマト（ヘキサン／酢酸エチル＝９／１）で分離
し、減圧濃縮すると化合物Ｅ−４が収率１０％で得られ
た。 化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IRにより確
認した。
【０３３３】＜合成例８：化合物Ｆ−３＞フラスコ内に
化合物Ａ−１（１．０ｍｏｌ）、酢酸エチル（１００ｍ
ｌ）、ピリジン（１．０ｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（４−ジメ
チルアミノピリジン）（０．１ｍｏｌ）を入れる。次に
トリメソイルクロライド（０．３４ｍｏｌ）を氷冷下で
１時間で滴下し、室温に戻し３時間攪拌する。反応後、
水２００ｍｌを入れ、酢酸エチル層を抽出し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、濾過し、十分に減圧濃縮すると化合
物Ｆ−３が収率７０％で得られた。化合物の構造は、Ｎ
ＭＲ、ＭＡＳＳ、IRにより確認した。
【０３３４】＜合成例９：化合物Ｇ−５＞フラスコ内に
化合物Ａ−１（０．８ｍｏｌ）、アセトン（１００ｍ
ｌ）、ピリジン（１．０ｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（４−ジメ
チルアミノピリジン）（０．１ｍｏｌ）を入れる。次に
別途アクリル酸クロライドと熱重合開始剤Ｖ−６０１
（和光純薬社製）のラジカル重合により得た重量平均分
子量２００００のポリアクリル酸クロライドのテトラヒ
ロドフラン３０ｗｔ％溶液（ＣＯＣｌ基が化合物Ａ−１
に対して１．０ｍｏｌになる量）を氷冷下で加える。室
温に戻し２４時間攪拌する。反応後、水２０ｍｌを入
れ、さらに２４時間攪拌する。次に１Ｎ塩酸１００ｍｌ
／水１Ｌに反応液を滴下し、ポリマー沈殿物をとりだ
し、酢酸エチルに溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥後、
ｐ−メトキシフェノールを約５００ppmになるように入
れる。固形分濃度が３０％になるように減圧濃縮を加減
すると化合物Ｇ−５が収率９０％で得られた。化合物の
構造は、酸価滴定、ＧＰＣ、ＮＭＲ、IRにより確認し
た。
【０３３５】＜合成例９：化合物Ｇ−１３＞フラスコ内
に２−（ブロモメチル）アクリル酸（アルドリッチ社
製）（０．８ｍｏｌ）、クロロホルム（１００ｍｌ）を
入れ、次に氷冷下でＳＯＣｌ2（０．８ｍｏｌ）を１時
間で滴下し、室温に戻し２時間攪拌する。減圧濃縮後、
アセトン（１００ｍｌ）を入れ、ここへ、シュウ酸触媒
下でｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、ホルマリンから
合成した重量平均分子量４０００のノボラック（ＯＨ基
が上記２-（ブロモメチル）アクリル酸に対して１．０
ｍｏｌになる量）を入れ、トリエチルアミン（０．８ｍ
ｏｌ）を１時間で滴下する。室温で２４時間反応後、１
Ｎ塩酸１００ｍｌ／水１Ｌに反応液を滴下し、ポリマー
沈殿物をとりだし、酢酸エチルに溶解し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、ｐ−メトキシフェノールを約 ２０
０ppmになるように入れる。固形分濃度が３０％になる
ように減圧濃縮を加減すると化合物Ｇ−13が収率８０％
で得られた化合物の構造は、酸価測定、ＧＰＣ、ＮＭ
Ｒ、IRにより確認した。以上のようにして具体例に示し
た全ての化合物を合成できる。
【０３３６】＜光重合性組成物の実施例１＞ （支持体の調製）厚さ０．３mmのアルミニウム板を１０
重量％水酸化ナトリウムに６０℃で２５秒間浸漬してエ
ッチングした後、流水で水洗後２０重量％硝酸で中和洗
浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を
用いて１重量％硝酸水溶液中で３００クーロン／dm2の
陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて１
重量％水酸化ナトリウム水溶液中に４０℃で５秒間浸漬
後３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、６０℃で４０秒
間デスマット処理した後、２０重量％硫酸水溶液中、電
流密度２Ａ／dm2において、陽極酸化皮膜の厚さが２．
７g/m2になるように、２分間陽極酸化処理した。その表
面粗さを測定したところ、０．３μｍ（ＪＩＳ Ｂ０６
０１によるＲａ表示）であった。
【０３３７】このように処理された基板の裏面に下記の
ゾル−ゲル反応液をバーコーターで塗布し１００℃で１
分間乾燥し、乾燥後の塗布量が７０ｍg/m2のバックコー
ト層を設けた支持体を作成した。
【０３３８】 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート ５０重量部 水 ２０重量部 メタノール １５重量部 リン酸 ０．０５重量部
【０３３９】上記成分を混合、撹拌すると約５分で発熱
が開始した。６０分間反応させた後以下に示す液を加え
ることによりバックコート塗布液を調製した。
【０３４０】 ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂（分子量２０００） ４重量部 ジメチルフタレート ５重量部 フッ素系界面活性剤（Ｎ−ブチルペルフルオロオクタン ０．７重量部 スルホンアミドエチルアクリレート／ポリオキシエチレン アクリレート共重合体：分子量２万） メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製、メタノール３０重量％） ５０重量部 メタノール ８００重量部
【０３４１】（感光層の調製）このように処理されたア
ルミニウム板上に下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布
量が１．５ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で１
分乾燥させ感光層を形成させた。 （感光層形成溶液） 下表−Ａの本発明または比較の重合性基を有する化合物［Ｘ］ １．５g 下表−Ａの光重合開始剤［Ｙ］ ０．３g 下表−Ａの高分子バインダー［Ｚ］ ２．０ｇ 下表−Ａの重合性化合物［Ｒ］ ｒ g（表− Ａ） 下表−Ａの添加剤［Ｓ］ ０．４ｇ フッ素系界面活性剤（メカ゛ファックF-177：大日本インキ化学工業(株)製） ０．０３ｇ 熱重合禁止剤 Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミシアルミニウム塩 ０．０１ｇ 顔料分散物 ２．０ｇ 顔料分散物の組成 組成：Pigment Blue 15:6 １５重量部 アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 １０重量部 （共重合モル比８３／１７） シクロヘキサノン １５重量部 メトキシプロピルアセテート ２０重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０重量部 メチルエチルケトン ２０ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０ｇ
【０３４２】（保護層の調整）上述の感光層の一部（下
表−Ａに示す）には、その感光層上にポリビニルアルコ
ール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）の３重量％
の水溶液を乾燥塗布重量が２ｇ／ｍ2となるように塗布
し、１００℃で２分間乾燥した。
【０３４３】（感度の評価）このように得られた感材は
その露光波長に応じてそれぞれ異なる光源を利用し、感
度評価を行った。たとえば、４００ｎｍの半導体レーザ
ー、５３２ｎｍのＦＤ−ＹＡＧレーザー、８３０ｎｍの
半導体レーザーをそれぞれ用い大気中で露光した。下記
組成の現像液に２５℃、１０秒間浸漬し、現像を行い、
画像ができるその最小露光量からそれぞれの露光条件で
の感度をmJ/cm2単位で算出した。この数値が小さい方が
高感度である。但し、光源波長が違うと光子１つ当たり
が有するエネルギー量が異なるため、単純に考えても通
常は短波になるほど上述の露光量が少なくても感光する
ことが可能となり、短波の方が高感度となる。従って、
表−Ｂは、異なる露光条件間での感度比較には意味がな
く、あくまでも同一露光条件での実施例と比較例での差
をみるためのものである。結果を下表−Ｂに示す。 （現像液の組成） ＤＰ−４（富士写真フイルム社製） ６５．０ｇ 水 ８８０．０ｇ リポミンＬＡ（２０％水溶液、ライオン（株）社製） ５０．０ｇ
【０３４４】（保存安定性の評価）レーザ露光前の上記
感光材料を高温条件下（６０℃）に３日間放置し、その
後この保存後の感材を前記と同様にレーザ露光し記録に
必要なエネルギー量を算出し、高湿保存前後のエネルギ
ー比（高温保存後のエネルギー／高温保存前のエネルギ
ー）を求めた。このエネルギー比が１．１以下であるこ
とが製造上好ましく保存安定性においても良好といえ
る。この評価結果も下表−Ｂに示す。
【０３４５】
【表１９】
【０３４６】
【表２０】
【０３４７】
【表２１】
【０３４８】
【表２２】
【０３４９】
【化１０８】
【０３５０】
【化１０９】
【０３５１】
【化１１０】
【０３５２】
【化１１１】
【０３５３】
【化１１２】
【０３５４】
【化１１３】
【０３５５】
【化１１４】
【０３５６】
【化１１５】
【０３５７】
【化１１６】
【０３５８】
【化１１７】
【０３５９】表−Ｂより本発明の感光材料は高感度であ
り、保存安定性も良好である。
【０３６０】＜光重合性組成物の実施例２＞ＰＥＴ（ポ
リエチレンテレフタレート）上に下記組成の光重合性組
成物の溶液を乾燥塗布量が２．０ｇ／ｍ2となるように
塗布し、８０℃で１分乾燥させ感光層を形成させた。 （光重合性組成物の溶液） 下表−Ｃの本発明または比較の重合性基を有する化合物［Ｘ］ １．５g ＣＧＩ−７８４（チバガイギ−社製 チタノセン系開始剤） ０．２g ポリメチルメタクリレート（Ｍｗ３．０万、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．３） ２．０ｇ フッ素系界面活性剤（メカ゛ファックF-177：大日本インキ化学工業(株)製） ０．０３ｇ メチルエチルケトン ２０ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ２０ｇ
【０３６１】（感度の評価）得られた感材を１０ｃｍ×
１０ｃｍの正方形にカットしたものを１枚用意し、高圧
水銀ランプの光を感材上で３００ｍＪ/ｃｍ2になるよう
に、大気中で照射し、その後にこのものの重量（Ｗｉ
ｇ）を測定する。次にこれをメチルエチルケトン／１−
メトキシ−２−プロパノール＝５０ｗｔ％／５０ｗｔ
％、２５℃に１０分間浸漬し、溶剤現像を行い、乾燥
後、重量（Ｗｆ ｇ）を測定する。次の式で定義する硬
化度をもって感度の優劣を評価した。 硬化度（％） ＝１００―（Ｗｉ−Ｗｆ）／２ （％） 硬化度は１００％に近い程感度が高い。結果を下表−Ｃ
に示す。
【０３６２】
【表２３】
【０３６３】表−Ｃより本発明の光重合性組成物は酸素
の保護層がなくとも硬化し、酸素の影響を受けにくく、
高感度である。
【０３６４】
【発明の効果】本発明によれば、画像形成技術の中でも
最も高感度で有望視されている光ラジカル重合系組成物
において、高感度と優れた保存安定性を見事に両立でき
る光重合性組成物を提供することである。特に紫外光、
可視光及び赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レー
ザ光を用いて記録することによりコンピューター等のデ
ジタルデータから直接製版可能な平板印刷用版材として
好適な光重合性組成物を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA11 AB03 AB14 AC08 AD01 BC13 BC17 BC35 BC38 BC46 BC81 BF08 CA00 2H096 AA06 AA23 AA28 BA05 EA04 4J011 QA32 QA33 QA34 QA36 QA38 QA39 QA40 QA42 QA45 QA46 SA21 SA31 SA64 SA76 SA78 SA83 SA85 SA86 SA87 UA02 VA01 WA01 4J100 AJ03P AK09P AK14P AK37P AL24P AL26P AL29P AL31P AL61Q AL62Q AL65Q AL67Q AL69P AL71P AL75P AL79Q AL82Q AM23P AM24Q AM25P AM25Q AN02P AN04P AN06P AN13P AP01P AQ01P AQ06P AQ11P AQ15P AQ19P AQ28P AU26P AU27P AU29P BA02P BA02Q BA03P BA03Q BA05P BA11P BA16P BA20P BA28P BA28Q BA31P BA33P BA34P BA35P BA51P BA56P BA58P BA59P BA64P BA65P BB01P BC04P BC04Q BC43P BC49P BC74P BC75P BC83P CA01 CA04 JA01 JA03 JA07

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記一般式（I）で表される構造を有す
    る化合物と光重合開始剤を含有することを特徴とする光
    重合性組成物。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、Ｘ1、Ｘ2は各々独立して、ヘテロ原
    子又はハロゲン原子を表す。Ｒa、Ｒbは各々独立して、
    水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は有機残基を表
    す。また、Ｘ1とＸ2、ＲaとＲb、又はＸ1とＲaあるいは
    Ｒbとが互いに結合して環状構造を形成してもよい。）
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