JP2003064130A - 光重合性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像形成技術の中でも最も高感度で有望視さ
れている光ラジカル重合系組成物において、高感度と優
れた保存安定性を見事に両立できる光重合性組成物を提
供すること。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で表される架橋剤を含
有する光重合性組成物。 Ｑ¹−Ｒ−Ｑ² 一般式（Ｉ） （式中、Ｑ¹、Ｑ²はラジカル重合性末端基を、Ｒはエス
テル連結基（−ＯＣ(＝Ｏ)−）、炭酸エステル連結基
（−ＯＣ(＝Ｏ)Ｏ−）及びカルボニル連結基（−Ｃ(＝
Ｏ)−）から選ばれる少なくともいずれかで連結される
２価の炭化水素連結基を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、３次元光造形やホ
ログラフィー、平版印刷版材やカラープルーフ、フォト
レジスト及びカラーフィルターといった画像形成材料や
インクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料用途に量でき
る光重合性材料に関する。特にコンピューター等のデジ
タル信号から各種レーザを用いて直接製版できる、いわ
ゆるダイレクト製版可能な平版印刷版材として好適に用
いられる光重合性組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】波長３００ｎｍ〜１２００ｎｍの紫外
光、可視光、赤外光を放射する固体レーザ及び半導体レ
ーザ、ガスレーザは高出力かつ小型のものが容易に入手
できるようになっており、これらのレーザはコンピュー
タ等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源と
して、非常に有用である。これら各種レーザ光に感応す
る記録材料については種々研究されており、代表的なも
のとして、第一に、感光波長７６０ｎｍ以上の赤外線レ
ーザで記録可能な材料としては米国特許第４７０８９２
５号記載のポジ型記録材料、特開平８−２７６５５８号
に記載されている酸触媒架橋型のネガ型記録材料等があ
る。第二に、３００ｎｍ〜７００ｎｍの紫外光または可
視光レーザ対応型の記録材料としては米国特許２８５０
４４５号及び特公昭44-20189に記載されているラジカル
重合型のネガ型記録材料等が多数ある。

【０００３】一方、３００ｎｍ以下の短波長光及び電子
線に関しては、特にフォトレジスト材料として重要であ
る。近年では集積回路がその集積度を益々高め、超ＬＳ
Ｉなどの半導体基板の製造でもハーフミクロン以下の線
幅からなる超微細パターンの加工が必要とされており、
その必要性を満たすためにフォトリソグラフィーに用い
られる露光装置の使用波長は益々短波化し、遠紫外光や
エキシマレーザ光（ＸｅＣｌ、ＫｒＦ、ＡｒＦなど）が
検討され、さらに電子線による超微細パターンの形成が
検討されるに至っている。特に電子線は次世代のパター
ン形成技術の光源として有望しされている。

【０００４】これらの画像形成材料全てに共通の課題と
しては上述の各種エネルギー照射部と未照射部におい
て、その画像のＯＮ−ＯＦＦをいかに拡大できるかであ
り、つまり画像形成材料の高感度と保存安定性の両立で
ある。上記課題を達成するために高感度な光ラジカル重
合性組成物を用いた例が多数あり、その光ラジカル重合
性組成物の主成分としては、ラジカル重合性架橋剤およ
びポリマーバインダーが使用されている。またラジカル
重合性架橋剤としては通常その架橋効率を高めるために
分子内に重合性基を２つ以上有する多官能の架橋剤が使
用されている。しかし、光ラジカル重合性組成物は確か
に高感度ではあるが、高温、高湿度下に放置すると、架
橋剤が固体の場合、結晶化したり、また、液体の場合、
べたつくなど表面に浮き出てくる現象がみられ、より一
層の保存安定性を向上する技術が望まれていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、画像形成技術の中でも最も高感度で有望視されてい
る光ラジカル重合系組成物において、高感度と優れた保
存安定性を見事に両立できる光重合性組成物を提供する
ことである。特に紫外光、可視光及び赤外光を放射する
固体レーザ及び半導体レーザ光を用いて記録することに
よりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可
能な平板印刷用版材として好適な光重合性組成物を提供
することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の目的
を達成すべく、鋭意検討した結果、特定の構造を有する
２官能架橋剤を含有する光ラジカル重合性組成物が高感
度と保存安定性を両立できることを見出した。即ち、本
発明は以下の通りである。

【０００７】（１）下記一般式（Ｉ）で表される架橋剤
を含有する光重合性組成物。 Ｑ¹−Ｒ−Ｑ² 一般式（Ｉ） （式中、Ｑ¹、Ｑ²はラジカル重合性末端基を、Ｒは１以
上のエステル連結基（−ＯＣ(＝Ｏ)−）、炭酸エステル
連結基（−ＯＣ(＝Ｏ)Ｏ−）及びカルボニル連結基（−
Ｃ(＝Ｏ)−）から選ばれる少なくともいずれかで連結さ
れる２価の炭化水素連結基を表す。） （２）前記一般式（Ｉ）におけるＱ¹、Ｑ²が、それぞれ
独立して、下記一般式（ａ）または（ｂ）で表される基
であり、Ｒが下記一般式（ｃ）で表される連結基である
前記（１）記載の光重合性組成物。

【０００８】

【化２】

【０００９】（式中、ＺはＨ、ＣＨ₃、ＣＨＲ^bＸ¹を、
Ｘ¹、Ｘ²はそれぞれ独立して置換オキシ基、置換アミノ
基、置換チオ基を、Ｒ¹〜Ｒ⁵はそれぞれ独立して酸素で
連結していても良い脂肪族炭化水素連結基または単結合
を表す。但し、Ｒ¹〜Ｒ⁵の全てが単結合となることはな
い。Ｔ¹〜Ｔ⁴はそれぞれ独立して−ＯＣＯ−、−ＣＯ₂
−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ₂−または単結合を表す。但
し、Ｔ¹〜Ｔ⁴の全てが単結合となることはない。Ｒ^a、
Ｒ^bは、水素原子、炭化水素基を表す）

【００１０】本発明の上記一般式（Ｉ）で表される架橋
剤を含有する光重合性組成物により高感度と保存安定性
が両立できるようになる機構は明確ではないが、２つの
重合性基を連結する連結鎖上の官能基に特異性があるこ
とからポリマーバインダーとの相溶性を高め保存性を向
上することが示唆される。また２官能によるゲル化点低
下による重合速度向上と高相溶性に由来する膜中での均
一分布により光ラジカル重合時にポリマーバインダーを
うまく絡み込み実質的に強固な硬化膜を作ることが合わ
さって、高感度化をなし得たものと考えている。特に紫
外光、可視光及び赤外光を放射する固体レーザ及び半導
体レーザ光を用いて記録することによりコンピューター
等のデジタルデータから直接製版可能な平板印刷用版材
として好適な光重合性組成物を提供することができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下に本発明の印刷版の製版方法
について詳細に説明する。 〈本発明における一般式（Ｉ）で示される架橋剤〉本発
明において、好ましい２官能架橋剤は、下記一般式
（Ｉ）で表される構造を有し、２個のエチレン性重合性
基を１分子中に有する２官能架橋剤である。 Ｑ¹−Ｒ−Ｑ² 一般式（Ｉ） （式中、Ｑ¹、Ｑ²はラジカル重合性末端基を、Ｒは１以
上のエステル連結基（−ＯＣ(＝Ｏ)−）、炭酸エステル
連結基（−ＯＣ(＝Ｏ)Ｏ−）及びカルボニル連結基（−
Ｃ(＝Ｏ)−）から選ばれる少なくともいずれかで連結さ
れる２価の炭化水素連結基を表す。） Ｑ¹，Ｑ²の重合性末端基とは、アクリル基、メタクリル
基、クロトニル基、イタコニル基、α−ヘテロ置換メタ
クリル基、スチレン基、α−メチルスチレン基、ビニル
アミド基、ビニルオキシ基等の重合性基を末端に有する
基を挙げることができる。さらにより好ましくは、下記
一般式（a)、（b)で表される基である。

【００１２】

【化３】

【００１３】（式中、ＺはＨ、ＣＨ₃、ＣＨＲ^bＸ¹を、
Ｘ¹、Ｘ²はそれぞれ独立して置換オキシ基、置換アミノ
基、置換チオ基を、Ｒ¹〜Ｒ⁵はそれぞれ独立して酸素で
連結していても良い脂肪族炭化水素連結基または単結合
を表す。但し、Ｒ¹〜Ｒ⁵の全てが単結合となることはな
い。Ｔ¹〜Ｔ⁴はそれぞれ独立して−ＯＣＯ−、−ＣＯ₂
−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ₂−または単結合を表す。但
し、Ｔ¹〜Ｔ⁴の全てが単結合となることはない。Ｒ^a、
Ｒ^bは、水素原子、炭化水素基を表す）

【００１４】一般式（Ｉ）中、Ｒとしては１以上のエス
テル連結基（−ＯＣ(＝Ｏ)−）、炭酸エステル連結基
（−ＯＣ(＝Ｏ)Ｏ−）、及び／またはカルボニル連結基
（−Ｃ(＝Ｏ)−）で連結される２価の炭化水素連結
基）、さらにより好ましくは、上記一般式（c)で表され
る連結基である。最も好ましくはＲ部分に２個以上のエ
ステル基を有し、ラジカル重合性基末端Ｑ¹、Ｑ²が両方
ともアクリレートのもの、又はＱ¹、Ｑ²が異なる場合で
あり、これらは、反応性や相溶性の点で特に優れる。

【００１５】次に、一般式（a)、（b)におけるＸ¹，
Ｘ²、Ｒ¹〜Ｒ⁵の脂肪族炭化水素連結基における各置換
基、Ｒ^a、Ｒ^bの炭化水素基の例を示す。Ｘ¹，Ｘ²は置換
オキシ基、置換アミノ基、置換チオ基である。Ｒ¹〜Ｒ⁵
の脂肪族炭化水素連結基は、アルキル基及び置換アルキ
ル基から水素を一つ除いて得られる２価の連結基であ
る。Ｒ^a、Ｒ^bの炭化水素基は置換基を有していても良く
不飽和結合を含んでいても良い炭化水素基である。

【００１６】上記、置換基を有していても良くかつ不飽
和結合を含んでいても良い炭化水素基としては、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基及び置
換アルキニル基があげられる。

【００１７】アルキル基としては炭素原子数が１から２
０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基をあ
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基をあげることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。

【００１８】置換アルキル基は置換基とアルキレン基と
の結合により構成され、その置換基としては、水素を除
く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例として
は、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジ
チオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルア
ミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、
Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール
ウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′
−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−
ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−
Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ
−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−
アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基及びその共役塩基基（以下、カルボ
キシラートと称す）、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ
−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバ
モイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スル
ホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロ
キシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
スルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモ
イル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アル
キルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモ
イル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びそ
の共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル
基（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩
基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−Ｓ
Ｏ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ
−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ
₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリール
スルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｌｌ
ｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−
Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）₃）、アリーロキシシリル基（−
Ｓｉ（Ｏａｌｌｙｌ）₃）、ヒドロキシシリル基（−Ｓ
ｉ（ＯＨ）₃）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−Ｐ
Ｏ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称
す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙ
ｌ）₂）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）
₂）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙ
ｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ
₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アル
キルホスホナト基と称す）、モノアリールホスホノ基
（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以
後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキシ基
（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、ホスホナ
トオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基（−
ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスホノオキシ
基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホス
ホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙ
ｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アルキル
ホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホスホノオ
キシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基
基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称す）、シア
ノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基があげられる。

【００１９】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基があげられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオ
フェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル
基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェ
ニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、
ホスホナトフェニル基などをあげることができる。ま
た、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペ
ニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−
１−エテニル基、等があげられ、アルキニル基の例とし
ては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル
基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基
等があげられる。

【００２０】上述のアシル基（Ｒ4ＣＯ−）としては、
Ｒ4が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基をあげることができる。一
方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述
の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のい
ずれか１つを除し、２価の有機残基としたものをあげる
ことができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直
鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素
原子数５から１０までの環状のアルキレン基をあげるこ
とができる。好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホ
フェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノ
フェニル）スルファモイルオクチル基、

【００２１】

【化４】

【００２２】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル
基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等をあげること
ができる。

【００２３】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、、インデニル基、アセナブテニル基、
フルオレニル基、をあげることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。

【００２４】置換アリール基は、置換基がアリール基に
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものをあげる
ことができる。これらの、置換アリール基の好ましい具
体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−
メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カル
バモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スル
ホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エ
チルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スル
ファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナ
トフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニ
ルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メ
チルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル
基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、１−プロ
ペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフ
ェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロ
ピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチ
ニルフェニル基、等をあげることができる。

【００２５】アルケニル基としては、上述のものを挙げ
ることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケ
ニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、こ
の置換基としては、上述の置換アルキル基における置換
基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基
を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例
としては

【００２６】

【化５】

【００２７】等をあげることができる。アルキニル基と
しては、上述のものを挙げることができる。置換アルキ
ニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わ
り、結合したものであり、この置換基としては、上述の
置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキ
ニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。

【００２８】ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘ
テロ環の例としては、

【００２９】

【化６】

【００３０】

【化７】

【００３１】等をあげることができる。

【００３２】置換オキシ基（Ｒ5Ｏ−）としては、Ｒ5が
水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いること
ができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ
基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリ
ールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバ
モイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホ
スホノオキシ基、ホスホナトオキシ基をあげる事ができ
る。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基と
しては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、ア
リール基、置換アリール基として示したものをあげる事
ができる。また、アシルオキシ基におけるアシル基（Ｒ
6ＣＯ−）としては、Ｒ6が、前述のアルキル基、置換ア
ルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを
あげることができる。これらの置換基の中では、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールス
ルホキシ基、がより好ましい。好ましい置換オキシ基の
具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオ
キシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、
ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ
基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエ
チルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メ
トキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエ
トキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モル
ホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリ
ロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキ
シ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニル
オキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニ
ルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニル
オキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナ
フチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホ
ノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられる。

【００３３】置換チオ基（Ｒ7Ｓ−）としてはＲ7が水素
を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好まし
い置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシル
チオ基をあげることができる。これらにおけるアルキル
基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキ
ル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示し
たものをあげることができ、アシルチオ基におけるアシ
ル基（Ｒ6ＣＯ−）のＲ6は前述のとおりである。これら
の中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がよ
り好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシ
エチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカル
ボニルチオ基等があげられる。

【００３４】置換アミノ基（Ｒ8ＮＨ−，（Ｒ9）（Ｒ1
0）Ｎ−）としては、Ｒ8，Ｒ9，Ｒ10が水素を除く一価
の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基の好
ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ
アルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ
基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ
−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、
Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウ
レイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド
基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアル
キル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
リールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アル
コキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリー
ロキシカルボニルアミノ基があげられる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものをあげることができ、アシルアミノ
基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシル
アミノ基におけるアシル基（Ｒ6ＣＯ−）のＲ6は前述の
とおりである。これらの内、より好ましいものとして
は、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、があげら
れる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホ
リノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等があげら
れる。

【００３５】次に一般式（Ｉ）で示される構造を有する
化合物（架橋剤）の具体例を示す。

【００３６】

【表１】

【００３７】

【表２】

【００３８】

【表３】

【００３９】

【表４】

【００４０】

【表５】

【００４１】本発明の一般式（Ｉ）で示される２官能架
橋剤として、最も好ましくはＲ部分に２個以上のエステ
ル基を有し、ラジカル重合性基末端Ｑ¹、Ｑ²が両方とも
アクリレートのもの、又はＱ¹、Ｑ²が異なる場合であ
り、これらは、反応性や相溶性の点で特に優れる。本発
明の光重合性組成物では、付加重合可能なエチレン性重
合性基を２個有する架橋剤として上記の一般式（Ｉ）で
表される架橋剤単独及びそれらの２種以上の混合物、或
いは以下に述べる従来公知の付加重合可能なエチレン性
不飽和結合を有する化合物との混合物が使用される。従
来公知の付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する
化合物としては、例えば、不飽和カルボン酸（例えば、
アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、
イソクロトン酸、マレイン酸など）と脂肪族多価アルコ
ール化合物とのエステル、上記不飽和カルボン酸と脂肪
族多価アミン化合物とのアミド等があげられる。

【００４２】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、へキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【００４３】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、へキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（アクリルオキシエトキシ）
フェニル〕ジメチルメタン等がある。イタコン酸エステ
ルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロ
ピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオ
ールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコ
ネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペ
ンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテト
ライタコネート等がある。

【００４４】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネー卜等がある。マ
レイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレ
ート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリ
スリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等
がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあ
げることができる。また、脂肪族多価アミン化合物と不
飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例として
は、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メ
タクリルアミド、１，６−へキサメチレンビス−アクリ
ルアミド、１，６−へキサメチレンビス−メタクリルア
ミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キ
シリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリ
ルアミド等がある。

【００４５】その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加した１分子中に２個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。ＣＨ
₂＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ′）ＯＨ （Ｃ）
（ただし、ＲおよびＲ′はＨあるいはＣＨ₃を示す。）

【００４６】また、特開昭５１−３７１９３号に記載さ
れているようなウレタンアクリレー卜類、特開昭４８−
６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２
−３０４９０号公報に記載されているようなポリエステ
ルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸
を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアク
リレートやメタクリレートをあげることができる。さら
に日本接着協会誌vol.２０、No．７、３００〜３０８ぺ
ージ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマー
として紹介されているものも使用することができる。本
発明において、これらのモノマーはプレポリマー、すな
わち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの
混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態で使
用しうる。

【００４７】一般式（Ｉ）で表される架橋剤およびその
他の架橋剤を含む、全ての重合性基含有架橋剤の使用量
は光重合性組成物の全成分の重量に対して、通常１〜9
9.99％、好ましくは５〜90.0％、更に好ましくは10〜70
％の量が使用される。（ここで言う％は重量％であ
る）。但し、全ての重合性基含有化合物中に含有される
本発明の一般式（Ｉ）の化合物の含有量は、5〜100重量
％、好ましくは10〜90重量％、更に好ましくは、30〜70
重量％であり、この量が5％より少ないと本発明の効果
が発揮できない場合がある。

【００４８】次に本発明の光重合性組成物に使用される
光重合開始剤について説明する。好ましい光重合開始剤
としては（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）芳香族オニウム
塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｄ）チオ化合物、
（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケ
トオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、
（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、
（ｊ）活性エステル化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を
有する化合物等が挙げられる。 （ａ）芳香族ケトン類の好ましい例としては、「RADIAT
ION CURING IN POLYMERSCIENCE AND TECHNOLOGY」J.P.F
OUASSIER J.F.RABEK (1993)、p77〜117記載のベンゾフ
ェノン骨格或いはチオキサントン骨格を有する化合物、
例えば

【００４９】

【化８】

【００５０】

【化９】

【００５１】

【化１０】

【００５２】等が挙げられる。より好ましい（ａ）芳香
族ケトン類の例としては、特公昭４７−６４１６記載の
α−チオベンゾフェノン化合物、特公昭４７−３９８１
記載のベンゾインエーテル化合物、例えば

【００５３】

【化１１】

【００５４】特公昭４７−２２３２６記載のα−置換ベ
ンゾイン化合物、例えば

【００５５】

【化１２】

【００５６】特公昭４７−２３６６４記載のベンゾイン
誘導体、特開昭５７−３０７０４記載のアロイルホスホ
ン酸エステル、特公昭６０−２６４８３記載のジアルコ
キシベンゾフェノン、例えば

【００５７】

【化１３】

【００５８】特公昭６０−２６４０３、特開昭６２−８
１３４５記載のベンゾインエーテル類、例えば、

【００５９】

【化１４】

【００６０】特公平１−３４２４２、米国特許第４，３
１８，７９１号、ヨーロッパ特許０２８４５６１Ａ１号
記載のα−アミノベンゾフェノン類、例えば

【００６１】

【化１５】

【００６２】特開平２−２１１４５２記載のｐ−ジ（ジ
メチルアミノベンゾイル）ベンゼン、例えば

【００６３】

【化１６】

【００６４】特開昭６１−１９４０６２記載のチオ置換
芳香族ケトン、例えば、

【００６５】

【化１７】

【００６６】特公平２−９５９７記載のアシルホスフィ
ンスルフィド、例えば、

【００６７】

【化１８】

【００６８】特公平２−９５９６記載のアシルホスフィ
ン、例えば、

【００６９】

【化１９】

【００７０】特公昭６３−６１９５０記載のチオキサン
トン類、特公昭５９−４２８６４記載のクマリン類等を
挙げることができる。また、別の例である（ｂ）芳香族
オニウム塩としては、周期律表の第Ｖ、VIおよびVII族
の元素、具体的にはＮ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、
Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、またはＩの芳香族オニウム塩が含まれ
る。このような芳香族オニウム塩の例としては、特公昭
５２−１４２７７号、特公昭５２−１４２７８号、特公
昭５２−１４２７９号に示されている化合物を挙げるこ
とができる。具体的には、

【００７１】

【化２０】

【００７２】

【化２１】

【００７３】

【化２２】

【００７４】

【化２３】

【００７５】をあげることができる。さらに以下のジア
ゾニウム塩もあげることができる。

【００７６】

【化２４】

【００７７】

【化２５】

【００７８】本発明に使用される光重合開始剤の他の例
である（ｃ）「有機過酸化物」としては分子中に酸素−
酸素結合を１個以上有する有機化合物のほとんど全てが
含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパー
オキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，
３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、
メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセ
トンパーオキサイド、１，１−ビス（ターシャリイブチ
ルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサ
ン、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）シ
クロヘキサン、２，２−ビス（ターシャリイブチルパー
オキシ）ブタン、ターシャリイブチルハイドロパーオキ
サイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピ
ルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイド
ロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５
−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラ
メチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリイ
ブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルクミルパー
オキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス（ターシャ
リイブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５
−ジメチル−２，５−ジ（ターシャリイブチルパーオキ
シ）ヘキサン、２，５−キサノイルパーオキサイド、過
酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサ
イド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−
２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２
−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキ
シイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチ
ル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、
ターシャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリ
イブチルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパ
ーオキシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオ
キシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオキシ−
３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ターシャリイ
ブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネー
ト、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テ
トラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェ
ノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパー
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′
−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパー
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′
−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパー
オキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキ
シルパーオキシ二水素二フタレート）等がある。

【００７９】これらの中で、３，３′４，４′−テトラ
−（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−アミルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テ
トラ−（ｔ−ヘキシルパーオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−オクチルパ
ーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，
４′−テトラ−（クミルパーオキシカルボニル）ベンゾ
フェノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｐ−イソプロ
ピルクミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、ジ
−ｔ−ブチルジパーオキシイソフタレートなどの過酸化
エステル系が好ましい。

【００８０】本発明で使用される光重合開始剤としての
（ｄ）チオ化合物は、下記一般式〔II]で示される。

【００８１】

【化２６】

【００８２】（ここで、Ｒ²⁰はアルキル基、アリール基
または置換アリール基を示し、Ｒ²¹は水素原子またはア
ルキル基を示す。また、Ｒ²⁰とＲ²¹は、互いに結合して
酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含
んでもよい５員ないし７員環を形成するのに必要な非金
属原子群を示す。） 上記一般式〔II〕におけるアルキル基としては炭素原子
数１〜４個のものが好ましい。またアリール基としては
フェニル、ナフチルのような炭素原子数６〜１０個のも
のが好ましく、置換アリール基としては、上記のような
アリール基に塩素原子のようなハロゲン原子、メチル基
のようなアルキル基、メトシキ基、エトキシ基のような
アルコキシ基で置換されたものが含まれる。Ｒ²¹は、好
ましくは炭素原子数１〜４個のアルキル基である。一般
式〔II〕で示されるチオ化合物の具体例としては、下記
に示すような化合物が挙げられる。

【００８３】

【表６】

【００８４】本発明に使用される光重合開始剤の他の例
である（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾールとしては、
特公昭４５−３７３７７号、特公昭４４−８６５１６号
記載のロフィンダイマー類、例えば２，２′−ビス（ｏ
−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェ
ニルビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ブロモフェ
ニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｐ−ジクロロフェニル）
−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾー
ル、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，
４′，５，５′−テトラ（ｍ−メトキシフェニル）ビイ
ミダゾール、２，２′−ビス（ｏ，ｏ′−ジクロロフェ
ニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、２，２′−ビス（ｏ−ニトロフェニル）−４，
４′，５，５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，
２′−ビス（ｏ−メチルフェニル）−４，４′，５，
５′−テトラフェニルビイミダゾール、２，２′−ビス
（ｏ−トリフルオロフェニル）−４，４′，５，５′−
テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。

【００８５】本発明で使用される光重合開始剤の他の例
である（ｆ）ケトオキシムエステルとしては３−ベンゾ
イロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミ
ノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブ
タン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−
オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−
１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプ
ロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシ
イミノブタン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキ
シイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げら
れる。本発明における光重合開始剤の他の例である
（ｇ）ボレート塩の例としては下記一般式[III] で表わ
される化合物をあげる事ができる。

【００８６】

【化２７】

【００８７】（ここで、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵は
互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは
非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール
基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは
非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素
環基を示し、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵はその２個以
上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、
Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ ²⁵のうち、少なくとも１つは
置換もしくは非置換のアルキル基である。Ｚ⁺はアルカ
リ金属カチオンまたは第４級アンモニウムカチオンを示
す）。上記Ｒ²²〜Ｒ ²⁵のアルキル基としては、直鎖、分
枝、環状のものが含まれ、炭素原子数１〜１８のものが
好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ス
テアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上
記のようなアルキル基に、ハロゲン原子（例えば−Ｃ
ｌ、−Ｂｒなど）、シアノ基、ニトロ基、アリール基
（好ましくはフェニル基）、ヒドロキシ基、

【００８８】

【化２８】

【００８９】（ここでＲ²⁶、Ｒ²⁷は独立して水素原子、
炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示
す。）、−ＣＯＯＲ²⁸（ここでＲ²⁸は水素原子、炭素数
１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す。）、−
ＯＣＯＲ²⁹又は−ＯＲ³⁰（ここでＲ ²⁹、Ｒ³⁰は炭素数１
〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す。）を置換
基として有するものが含まれる。上記Ｒ²²〜Ｒ²⁵のアリ
ール基としては、フェニル基、ナフチル基などの１〜３
環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上
記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基
又は、炭素数１〜１４のアルキル基を有するものが含ま
れる。上記Ｒ²²〜Ｒ²⁵のアルケニル基としては、炭素数
２〜１８の直鎖、分枝、環状のものが含まれ。置換アル
ケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置
換基として挙げたものが含まれる。上記Ｒ²²〜Ｒ²⁵のア
ルキニル基としては、炭素数２〜２８の直鎖又は分枝の
ものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前
記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれ
る。また、上記Ｒ²²〜Ｒ²⁵の複素環基としてはＮ、Ｓお
よびＯの少なくとも１つを含む５員環以上、好ましくは
５〜７員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮
合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述の置
換アリール基の置換基として挙げたものを有していても
よい。一般式[III] で示される化合物例としては具体的
には米国特許３，５６７，４５３号、同４，３４３，８
９１号、ヨーロッパ特許１０９，７７２号、同１０９，
７７３号に記載されている化合物および以下に示すもの
が挙げられる。

【００９０】

【化２９】

【００９１】本発明の光重合開始剤の他の例である
（ｈ）アジニウム塩化合物の例としては、特開昭６３−
１３８３４５号、特開昭６３−１４２３４５号、特開昭
６３−１４２３４６号、特開昭６３−１４３５３７号な
らびに特公昭４６−４２３６３号記載のＮ−Ｏ結合を有
する化合物群をあげることができる。

【００９２】光重合開始剤の他の例である（ｉ）メタロ
セン化合物の例としては、特開昭５９−１５２３９６
号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−４１４
８４号、特開平２−２４９号、特開平２−４７０５号記
載のチタノセン化合物ならびに、特開平１−３０４４５
３号、特開平１−１５２１０９号記載の鉄−アレーン錯
体をあげることができる。

【００９３】上記チタノセン化合物の具体例としては、
ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ
−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−
シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，
６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフル
オロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔ
ｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジフル
オロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔ
ｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−
メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，
４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メ
チルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，
６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシク
ロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフ
ェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニ
ル）チタニウム、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（メチルスルホンアミド）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルビアロイル−
アミノ）フェニル〕チタン、

【００９４】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチルアセチルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルプロピオ
ニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチル
−（２，２−ジメチルブタノイル）アミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチルブ
タノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペ
ンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−
ペンチル−（２，２−ジメチルブタノイル）アミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル）−（２，
２−ジメチルブタノイル）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−メチルブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−メチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタ
ン、

【００９５】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルシクロヘキシルカル
ボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチ
ルイソブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シク
ロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（２，２，５，５−テトラメチル−１，２，５−ア
ザジシロリジニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（オクチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（４−トリルスルホンアミド）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（４−ドデシルフェニルスルホニルアミ
ド）フェニル〕チタン、

【００９６】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（４−（１−ペンチルヘプチル）
フェニルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（エチルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（（４−ブロモフェニル）−スルホニルアミド）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（２−ナフチルスルホニル
アミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ヘキサデシルス
ルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メ
チル−（４−ドデシルフェニル）スルホニルアミド）フ
ェニル〕チタン、

【００９７】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチル−４−（１−ペンチ
ルヘプチル）フェニル）スルホニルアミド）〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−トリル）−スルホニル
アミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ピロリジン−
２，５−ジオニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（３，４−ジメチル−３−ピロリジン−２，５−ジ
オニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フタル
イミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−イソブトキシカル
ボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（エトキシ
カルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペ
ンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（（２
−クロロエトキシ）−カルボニルアミノ）フェニル〕チ
タン、

【００９８】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（フェノキシカルボニルアミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェニルチオウレイ
ド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−ブチルチオウレ
イド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェニルウ
レイド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−ブチルウレ
イド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ，Ｎ−ジアセ
チルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３，３−ジ
メチルウレイド）フェニル〕チタン、

【００９９】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（アセチルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（ブチリルアミノ）フェニル〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（デカノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（オクタデカノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（イソブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（２−エチルヘキサノイルアミノ）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（２−メチルブタノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（ピバロイルアミノ）フェニル〕
チタン、

【０１００】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチルブタノイルア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−エチル−２
−メチルヘプタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（シクロヘキシルカルボニルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパ
ノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェ
ニルプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（２−クロロメチル−２−メチル−３−クロロプロパノ
イルアミノ）フェニル〕チタン、

【０１０１】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（３，４−キシロイルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（４−エチルベンゾイルア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，４，６−メ
シチルカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−（３−フェニルプロピル）ベンゾイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−エチルヘプチル）−
２，２−ジメチルペンタノイルアミノ〕フェニルチタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−トルイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチルベン
ゾイルアミノ）フェニル〕チタン、

【０１０２】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチルピバ
ロイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（オ
クソラニ−２−イルメチル）ベンゾイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−エチルヘプチル）−
２，２−ジメチルブタノイルアミノ）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロピル−（４−ト
ルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−
（オクソラニ−２−イルメチル）−（４−トルイル）ア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−トル
イルメチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、

【０１０３】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−トルイルメチル）−
（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−ブチルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（Ｎ−ブチル−（４−トルイル）アミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−トルイ
ル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２，
４−ジメチルペンチル）−２，２−ジメチルブタノイル
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，４−ジメチ
ルペンチル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）
フェニル〕チタン、

【０１０４】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（（４−トルイル）アミノ）フェ
ニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチルペンタ
ノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−
ジメチル−３−エトキシプロパノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチル−３−アリル
オキシプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−アリルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（２−エチルブタノイルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチルベンゾイル
アミノ）フェニル〕チタン、

【０１０５】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−
（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−（２−エチルヘキシル）ベンゾイルアミノ）フェ
ニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソプロピルベンゾ
イルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−
フェニルプロピル）−２，２−ジメチルペンタノイル）
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシルベ
ンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シ
クロヘキシルメチル−２，２−ジメチルペンタノイル）
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルベン
ゾイルアミノ）フェニル〕チタン、

【０１０６】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−
２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−２，２−ジメチルペン
タノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イ
ソプロピル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロ
ピル）ピバロイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−ブチル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチ
ル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、

【０１０７】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジルベンゾイルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジル−（４
−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−（２−メトキシエチル）−（４−トルイル）アミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニ
ルメチル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチ
ル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−
（２−エチル−２−メチルヘプタノイル）アミノ）フェ
ニル〕チタン、

【０１０８】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベン
ゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘ
キシル−（２−エチル−２−メチルブタノイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシル
−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−（オクソラニ−２−イルメチ
ル）−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシル−（４−ク
ロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−シクロヘキシル−（２−クロロベンゾイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３，３−ジメチル−
２−アゼチジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、

【０１０９】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−イソシアナトフェニル）チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−エチル−（４−トリルスルホニル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４
−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−
トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプ
ロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、

【０１１０】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロパノイ
ル）−２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）ア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキ
シルメチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノ
イル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソ
ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイ
ル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２−
クロロメチル−２−メチル−３−クロロプロパノイル）
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ブチルチオカル
ボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フェニル
チオカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、

【０１１１】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−イソシアナトフェニル）チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−エチル−（４−トリルスルホニル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４
−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−
トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプ
ロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−（３−フェニルプロパノイル）−２，２−ジメチル−
３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、

【０１１２】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−
（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−
（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２−クロロメチ
ル−２−メチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（ブチルチオカルボニルア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フェニルチオカ
ルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（メチルシク
ロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−ヘキシル−２，２−ジメチルブタノイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、

【０１１３】ビス（メチルシクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−２，２−
ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（メチルシクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフル
オロ−３−（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルプロピオニルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（トリメチルシリルペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチ
ル−２，２−ジメチルプロパノイルアミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチル）−トリ
メチルシリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−ブチルヘキシルジメチルシリルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−エチル−（１，１，２，−トリメ
チルプロピル）ジメチルシリルアミノ）フェニル〕チタ
ン、

【０１１４】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（３−エトキシメチル−３−メチ
ル−２−アゼチオジノニ−１−イル）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（３−アリルオキシメチル−３−メチル−
２−アゼチジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（３−クロロメチル−３−メチル−２−アゼチジノ
ニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベン
ジル−２，２−ジメチルプロパノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（５，５−ジメチル−２−ピロリ
ジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペ
ンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（６，
６−ジフェニル−２−ピペリジノニ−１−イル）フェニ
ル〕チタン、

【０１１５】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１，
２−ベンジソチアゾロ−３−オン（１，１−ジオキシ
ド）−２−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘ
キシル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（２−クロロベンゾ
イル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソ
プロピル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニルメチ
ル）−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニルメチル）−
（２−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、

【０１１６】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベン
ゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベ
ンジル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−
４−トリル−スルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−（３−オキサヘプチル）ベンゾイルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオ
キサデシル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（トリフルオロメチルスルホニル）アミノ）フェ
ニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロアセチルア
ミノ）フェニル〕チタン、

【０１１７】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（２−クロロベンゾイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−クロロベンゾイ
ル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，
６−ジオキサデシル）−２，２−ジメチルペンタノイル
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，７−
ジメチル−７−メトキシオクチル）ベンゾイルアミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルベン
ゾイルアミノ）フェニル〕チタン、等を挙げることがで
きる。

【０１１８】光重合開始剤の他の例である（ｊ）活性エ
ステル化合物の例としては特公昭６２−６２２３記載の
イミドスルホネート化合物、特公昭６３−１４３４０
号、特開昭５９−１７４８３１号記載の活性スルホネー
ト類をあげることができる。

【０１１９】光重合開始剤の一例である（ｋ）炭素ハロ
ゲン結合を有する化合物の好ましい例としては、下記一
般式〔IV〕から[X] のものを挙げることができる。

【０１２０】

【化３０】

【０１２１】（式中、Ｘ²はハロゲン原子を表わす。Ｙ²
は−Ｃ（Ｘ²）₃、−ＮＨ₂、−ＮＨＲ^{3 2}、−ＮＲ³²、−
ＯＲ³²を表わす。ここでＲ³²はアルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、置換アリール基を表わす。またＲ³¹
は−Ｃ（Ｘ²）₃、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、置換アルケニル基、を表わ
す。）で表わされる化合物。

【０１２２】

【化３１】

【０１２３】（ただし、Ｒ³³は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、Ｘ³
はハロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。）で
表わされる化合物。

【０１２４】

【化３２】

【０１２５】（ただし、Ｒ³⁴は、アリール基又は置換ア
リール基であり、Ｒ³⁵は

【０１２６】

【化３３】

【０１２７】又はハロゲンであり、Ｚ²は−Ｃ（＝Ｏ）
−、−Ｃ（＝Ｓ）−又は−ＳＯ₂−であり、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷
はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換ア
ルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ
³⁸は一般式〔IV] 中のＲ³²と同じであり、Ｘ³はハロゲ
ン原子であり、ｍは１又は２である。）で表わされる化
合物。

【０１２８】

【化３４】

【０１２９】ただし、式中、Ｒ³⁹は置換されていてもよ
いアリール基又は複素環式基であり、Ｒ⁴⁰は炭素原子１
〜３個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケ
ニル基であり、ｐは１、２又は３である。

【０１３０】

【化３５】

【０１３１】（ただし、Ｌは水素原子又は式：ＣＯ−
（Ｒ⁴¹）q（Ｃ（Ｘ⁴）₃）rの置換基であり、Ｑはイオ
ウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アル
ケン−１，２−イレン基、１，２−フェニレン基又はＮ
−Ｒ基であり、Ｍは置換又は非置換のアルキレン基又は
アルケニレン基であるか、又は１，２−アリーレン基で
あり、Ｒ⁴²はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシ
アルキル基であり、Ｒ⁴¹は炭素環式又は複素環式の２価
の芳香族基であり、Ｘ⁴は塩素、臭素またはヨウ素原子
であり、ｑ＝０及びｒ＝１であるか又はｑ＝１及びｒ＝
１又は２である。）で表わされる、トリハロゲノメチル
基を有するカルボニルメチレン複素環式化合物。

【０１３２】

【化３６】

【０１３３】（ただし、Ｘ⁵はハロゲン原子であり、ｔ
は１〜３の整数であり、ｓは１〜４の整数であり、Ｒ⁴³
は水素原子又はＣＨ_3-tＸ_5t基であり、Ｒ⁴⁴はｓ価の置
換されていてもよい不飽和有機基である）で表わされ
る、４−ハロゲノ−５−（ハロゲノメチル−フェニル）
−オキサゾール誘導体。

【０１３４】

【化３７】

【０１３５】（ただし、Ｘ⁶はハロゲン原子であり、ｖ
は１〜３の整数であり、ｕは１〜４の整数であり、Ｒ⁴⁵
は水素原子又はＣＨ_3-vＸ_6v基であり、Ｒ⁴⁶はｕ価の置
換されていてもよい不飽和有機基である。）で表わされ
る、２−（ハロゲノメチル−フェニル）−４−ハロゲノ
−オキサゾール誘導体。

【０１３６】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物の具体例としては、たとえば、若林ら著、Bull. Ch
em. Soc. Japan，４２、２９２４（１９６９）記載の化
合物、たとえば、２−フェニル４，６−ビス（トリクロ
ルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−クロルフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−（ｐ−トリル）−４，６−ビス（トリクロル
メチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシフェニ
ル）−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリア
ジン、２−（２′，４′−ジクロルフェニル）−４，６
−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２，
４，６−トリス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジ
ン、２−メチル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−
Ｓ−トリアジン、２−ｎ−ノニル−４，６−ビス（トリ
クロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（α，α，β−
トリクロルエチル）−４，６−ビス（トリクロルメチ
ル）−Ｓ−トリアジン等が挙げられる。その他、英国特
許１３８８４９２号明細書記載の化合物、たとえば、２
−スチリル−４，６−ビス（トリクロルメチル）−Ｓ−
トリアジン、２−（ｐ−メチルスチリル）−４，６−ビ
ス（トリクロルメチル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−
メトキシスチリル）−４，６−ビス（トリクロルメチ
ル）−Ｓ−トリアジン、２−（ｐ−メトキシスチリル）
−４−アミノ−６−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン
等、特開昭５３−１３３４２８号記載の化合物、たとえ
ば、２−（４−メトキシ−ナフト−１−イル）−４，６
−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４
−エトキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリ
クロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−〔４−（２−エト
キシエチル）−ナフト−１−イル〕−４，６−ビス−ト
リクロルメチル−Ｓ−トリアジン、２−（４，７−ジメ
トキシ−ナフト−１−イル）−４，６−ビス−トリクロ
ルメチル−Ｓ−トリアジン）、２−（アセナフト−５−
イル）−４，６−ビス−トリクロルメチル−Ｓ−トリア
ジン等、独国特許３３３７０２４号明細書記載の化合
物、たとえば、

【０１３７】

【化３８】

【０１３８】

【化３９】

【０１３９】等を挙げることができる。また、F. C. Sc
haefer等によるJ. Org. Chem. ２９、１５２７（１９６
４）記載の化合物、たとえば２−メチル−４，６−ビス
（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，４，６−
トリス（トリブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、２，
４，６−トリス（ジブロムメチル）−Ｓ−トリアジン、
２−アミノ−４−メチル−６−トリブロムメチル−Ｓ−
トリアジン、２−メトキシ−４−メチル−６−トリクロ
ルメチル−Ｓ−トリアジン等を挙げることができる。さ
らに特開昭６２−５８２４１号記載の化合物、たとえ
ば、

【０１４０】

【化４０】

【０１４１】

【化４１】

【０１４２】等を挙げることができる。更に特開平５−
２８１７２８号記載の化合物、例えば、

【０１４３】

【化４２】

【０１４４】等を挙げることができる。あるいはさらに
M. P. Hutt、E. F. ElslagerおよびL.M. Herbel著「Jou
rnalof Heterocyclic chemistry」第７巻（Ｎｏ．
３）、第５１１頁以降（１９７０年）に記載されている
合成方法に準じて、当業者が容易に合成することができ
る次のような化合物群

【０１４５】

【化４３】

【０１４６】

【化４４】

【０１４７】

【化４５】

【０１４８】

【化４６】

【０１４９】

【化４７】

【０１５０】

【化４８】

【０１５１】あるいは、ドイツ特許第２６４１１００号
に記載されているような化合物、例えば、４−（４−メ
トキシ−スチリル）−６−（３，３，３−トリクロルプ
ロペニル）−２−ピロンおよび４−（３，４，５−トリ
メトキシ−スチリル）−６−トリクロルメチル−２−ピ
ロン、あるいはドイツ特許第３３３３４５０号に記載さ
れている化合物、例えば、

【０１５２】

【化４９】

【０１５３】式中、Ｒ⁴¹はベンゼン環を、Ｒ⁴²はアルキ
ル基、アラルキル基またはアルコキシアルキル基を表
す。

【０１５４】

【表７】

【０１５５】あるいはドイツ特許第３０２１５９０号に
記載の化合物群、

【０１５６】

【化５０】

【０１５７】

【化５１】

【０１５８】あるいはドイツ特許第３０２１５９９号に
記載の化合物群例えば、

【０１５９】

【化５２】

【０１６０】を挙げることができる。本発明における光
重合開始剤のさらにより好ましい例としては、上述の
（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）芳香族オニウム塩、
（ｃ）有機過酸化物、（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾ
ール、（ｉ）メタロセン化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結
合を有する化合物をあげることができ、さらに最も好ま
しい例としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾ
ニウム塩、チタノセン化合物、一般式〔ＩＶ〕であらわ
されるトリハロメチル−Ｓ−トリアジン化合物をあげる
ことができる。本発明における光重合開始剤は単独もし
くは２種以上の併用によって好適に用いられる。次に、
本発明の光重合性組成物の１成分となり得る増感色素と
しては、分光増感色素、光源の光を吸収して光重合開始
剤と相互作用する染料あるいは顔料があげられる。好ま
しい分光増感色素または染料としては多核芳香族類（例
えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン） キサンテン類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、
エリスロシン、ローダミンＢ、ローズベンガル シアニン類（例えば、チアカルボシアニン、オキサカル
ボシアニン） メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシ
アニン） チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブルー、トル
イジンブルー） アクリジン類（例えば、アクリジンオレンジ、クロロフ
ラビン、アクリフラビン） フタロシアニン類（例えば、フタロシアニン、メタルフ
タロシアニン） ポルフィリン類（例えば、テトラフェニルポルフィリ
ン、中心金属置換ポルフィリン） クロロフィル類（例えば、クロロフィル、クロロフィリ
ン、中心金属置換クロロフィル） 金属錯体、例えば

【０１６１】

【化５３】

【０１６２】アントラキノン類、例えば（アントラキノ
ン） スクアリウム類、例えば（スクアリウム）等が挙げられ
る。より好ましい分光増感色素又は染料の例としては特
公平３７−１３０３４号記載のスチリル系色素、例え
ば、

【０１６３】

【化５４】

【０１６４】特開昭６２−１４３０４４号記載の陽イオ
ン染料、例えば、

【０１６５】

【化５５】

【０１６６】特公昭５９−２４１４７号記載のキノキサ
リニウム塩、例えば、

【０１６７】

【化５６】

【０１６８】特開昭６４−３３１０４号記載の新メチレ
ンブルー化合物、例えば、

【０１６９】

【化５７】

【０１７０】特開昭６４−５６７６７号記載のアントラ
キノン類、例えば

【０１７１】

【化５８】

【０１７２】特開平２−１７１４号記載のベンゾキサン
テン染料。特開平２−２２６１４８号及び特開平２−２
２６１４９号記載のアクリジン類、例えば、

【０１７３】

【化５９】

【０１７４】特公昭４０−２８４９９号記載のピリリウ
ム塩類、例えば

【０１７５】

【化６０】

【０１７６】特公昭４６−４２３６３号記載のシアニン
類、例えば

【０１７７】

【化６１】

【０１７８】特開平２−６３０５３号記載のベンゾフラ
ン色素、例えば

【０１７９】

【化６２】

【０１８０】特開平２−８５８５８号、特開平２−２１
６１５４号の共役ケトン色素、例えば

【０１８１】

【化６３】

【０１８２】特開昭５７−１０６０５号記載の色素。特
公平２−３０３２１号記載のアゾシンナミリデン誘導
体、例えば、

【０１８３】

【化６４】

【０１８４】特開平１−２８７１０５号記載のシアニン
系色素、例えば、

【０１８５】

【化６５】

【０１８６】特開昭６２−３１８４４号、特開昭６２−
３１８４８号、特開昭６２−１４３０４３号記載のキサ
ンテン系色素、例えば、

【０１８７】

【化６６】

【０１８８】特公昭５９−２８３２５号記載のアミノス
チリルケトン、例えば

【０１８９】

【化６７】

【０１９０】特公昭６１−９６２１号記載の以下の一般
式〔１〕〜〔８〕で表されるメロシアニン色素、例え
ば、

【０１９１】

【化６８】

【０１９２】一般式〔３〕ないし〔８〕において、Ｘ⁸
は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、置換アリール基、アリールオキシ基、
アラルキル基又はハロゲン原子を表わす。一般式〔２〕
においてＰｈはフェニル基を表わす。一般式〔１〕ない
し〔８〕において、Ｒ⁴⁸、Ｒ⁴⁹およびＲ⁵⁰はそれぞれア
ルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、アリール
基、置換アリール基又はアラルキル基を表わし、互いに
等しくても異なってもよい。特開平２−１７９６４３号
記載の以下の一般式

〔９〕〜〔１１〕で表わされる色
素、例えば

【０１９３】

【化６９】

【０１９４】Ａ：酸素原子、イオウ原子、セレン原子、
テルル原子、アルキル又はアリール置換された窒素原子
またはジアルキル置換された炭素原子を表わす。 Ｙ³：水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、アラルキル基、アシル基、また
は置換アルコキシカルボニル基を表わす。 Ｒ⁵¹、Ｒ⁵²：水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、
もしくは置換基として、Ｒ⁵³Ｏ−、

【０１９５】

【化７０】

【０１９６】−（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）ｗ−Ｒ⁵³、ハロゲン原
子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）を有する炭素数１〜１８の置
換アルキル基。但し、Ｒ⁵³は水素原子又は炭素数１〜１
０のアルキル基を表わし、Ｂは、ジアルキルアミノ基、
水酸基、アシルオキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基を表
わす。ｗは０〜４の整数、ｘは１〜２０の整数を表わ
す。特開平２−２４４０５０号記載の以下の一般式〔１
２〕で表されるメロシアニン色素、例えば、

【０１９７】

【化７１】

【０１９８】（式中Ｒ⁵⁴およびＲ⁵⁵は各々独立して水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル
基を表わす。Ａ²は酸素原子、イオウ原子、セレン原
子、テルル原子、アルキルないしはアリール置換された
窒素原子、またはジアルキル置換された炭素原子を表わ
す。Ｘ⁹は含窒素ヘテロ五員環を形成するのに必要な非
金属原子群を表わす。Ｙ⁴は置換フェニル基、無置換な
いし置換された多核芳香環、または無置換ないしは置換
されたヘテロ芳香環を表わす。Ｚ³は水素原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシ
カルボニル基を表わし、Ｙ⁴と互いに結合して環を形成
していてもよい。好ましい具体例としては

【０１９９】

【化７２】

【０２００】特公昭５９−２８３２６号記載の以下の一
般式〔１３〕で表されるメロシアニン色素、例えば、

【０２０１】

【化７３】

【０２０２】上式において、Ｒ⁵⁶およびＲ⁵⁷はそれぞれ
水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基またはアラルキル基を表わし、それらは
互いに等しくても異ってもよい。Ｘ¹⁰はハメット（Hamm
ett）のシグマ（σ）値が−０．９から＋０．５までの
範囲内の置換基を表わす。特開昭５９−８９３０３号記
載の以下の一般式〔１４〕で表されるメロシアニン色
素、例えば、

【０２０３】

【化７４】

【０２０４】（式中Ｒ⁵⁸およびＲ⁵⁹は各々独立して水素
原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換
アリール基またはアラルキル基を表わす。Ｘ¹¹はハメッ
ト（Hammett）のシグマ（σ）値が−０．９から＋０．
５までの範囲内の置換基を表わす。Ｙ⁵は水素原子、ア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、アラルキル基、アシル基またはアルコキシカルボニ
ル基を表わす。）好ましい具体例としては、

【０２０５】

【化７５】

【０２０６】特開平８−１２９２５７号記載の以下の一
般式〔１５〕で表されるメロシアニン色素、例えば

【０２０７】

【化７６】

【０２０８】（式中、Ｒ⁶⁰、Ｒ⁶¹、Ｒ⁶²、Ｒ⁶³、Ｒ⁶⁸、
Ｒ⁶⁹、Ｒ⁷⁰、Ｒ⁷¹はそれぞれ独立して、水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、
置換アリール基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メル
カプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、置換
カルボニル基、スルホ基、スルホナト基、置換スルフィ
ニル基、置換スルホニル基、ホスフォノ基、置換ホスフ
ォノ基、ホスフォナト基、置換ホスフォナト基、シアノ
基、ニトロ基を表すか、もしくは、Ｒ⁶⁰とＲ⁶¹、Ｒ⁶¹と
Ｒ⁶²、Ｒ⁶²とＲ⁶³、Ｒ⁶⁸とＲ⁶⁹、Ｒ⁶⁹とＲ⁷⁰、Ｒ⁷⁰とＲ
⁷¹が互いに結合して脂肪族又は芳香族環を形成していて
も良く、Ｒ⁶⁴は水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基、又は置換アリール基を表し、Ｒ⁶⁵は置
換、又は無置換のアルケニルアルキル基、又は置換もし
くは無置換のアルキニルアルキル基を表し、Ｒ⁶⁶、Ｒ⁶⁷
はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
置換カルボニル基を表す）好ましい具体例としては

【０２０９】

【化７７】

【０２１０】特開平８−３３４８９７号公報記載の以下
の一般式〔１６〕で表されるベンゾピラン系色素、例え
ば

【０２１１】

【化７８】

【０２１２】（式中、Ｒ⁷²〜Ｒ⁷⁵は互いに独立して、水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、水酸
基、アルコキシ基又はアミノ基を表す。またＲ⁷²〜Ｒ⁷⁵
はそれらが各々結合できる炭素原子と共に非金属原子か
ら成る環を形成していても良い。Ｒ⁷⁶は水素原子、アル
キル基、アリール基、ヘテロ芳香族基、シアノ基、アル
コキシ基、カルボキシ基又はアルケニル基を表す。Ｒ⁷⁷
はＲ⁷⁶で表される基または−Ｚ−Ｒ⁷⁶であり、Ｚはカル
ボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはアリー
レンジカルボニル基を表す。またＲ⁷⁶及びＲ⁷⁷は共に非
金属原子から成る環を形成しても良い。ＡはＯ原子、Ｓ
原子、ＮＨまたは置換基を有するＮ原子を表す。ＢはＯ
原子、または＝Ｃ（Ｇ1）（Ｇ2）の基を表す。Ｇ1、Ｇ2
は同一でも異なっていても良く、水素原子、シアノ基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、又はフルオロスルホニル基を表す。但
し、Ｇ1、Ｇ2は同時に水素原子となることはない。また
Ｇ1及びＧ2は炭素原子と共に非金属原子からなる環を形
成していても良い、ＥＰ１０４８９８２Ａ１記載の短波
型ケトン系及びスチリル系色素、例えば、下記化学構
造）。等を挙げることができる。

【０２１３】

【化７９】

【０２１４】その他、増感色素として特に以下の赤外線
吸収剤（染料或いは顔料）も好適に使用される。好まし
い前記染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４
６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２
８２９号、特開昭６０−７８７８７号公報等に記載され
ているシアニン染料、英国特許４３４，８７５号明細書
記載のシアニン染料等を挙げることができる。

【０２１５】また、米国特許第５，１５６，９３８号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、さら
に、米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置
換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭
５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９
号）公報に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭
５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５
９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８
４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６
０６１号公報に記載のピリリウム系化合物、特開昭５９
−２１６１４６号公報に記載のシアニン色素、米国特許
第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチ
オピリリウム塩等や、特公平５−１３５１４号、同５−
１９７０２号公報に記載されているピリリウム化合物も
好ましく用いられる。

【０２１６】また、米国特許第４，７５６，９９３号明
細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外
吸収染料、ＥＰ９１６５１３Ａ２号明細書に記載のフタ
ロシアニン系染料も好ましい染料として挙げることがで
きる。

【０２１７】さらに、特願平１０−７９９１２号公報に
記載のアニオン性赤外線吸収剤も、好適に使用すること
ができる。アニオン性赤外線吸収剤とは、実質的に赤外
線を吸収する色素の母核にカチオン構造がなく、アニオ
ン構造を有するものを示す。例えば、（ｃ１）アニオン
性金属錯体、（ｃ２）アニオン性カーボンブラック、
（ｃ３）アニオン性フタロシアニン、さらに（ｃ４）下
記一般式６で表される化合物などが挙げられる。これら
のアニオン性赤外線吸収剤の対カチオンは、プロトンを
含む一価の陽イオン、あるいは多価の陽イオンである。

【０２１８】

【化８０】

【０２１９】ここで、（ｃ１）アニオン性金属錯体と
は、実質的に光を吸収する錯体部の中心金属および配位
子全体でアニオンとなるものを示す。

【０２２０】（ｃ２）アニオン性カーボンブラックは、
置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等
のアニオン基が結合しているカーボンブラックが挙げら
れる。これらの基をカーボンブラックに導入するには、
カーボンブラック便覧第三版（カーボンブラック協会
編、１９９５年４月５日、カーボンブラック協会発行）
第１２頁に記載されるように、所定の酸でカーボンブラ
ックを酸化する等の手段をとればよい。

【０２２１】（ｃ３）アニオン性フタロシアニンは、フ
タロシアニン骨格に、置換基として、先に（ｃ２）の説
明において挙げたアニオン基が結合し、全体としてアニ
オンとなっているものを示す。

【０２２２】次に、前記（ｃ４）一般式６で表される化
合物について、詳細に説明する。前記一般式６中、Ｇ_a ^-
はアニオン性置換基を表し、Ｇ_bは中性の置換基を表
す。Ｘ^{m +}は、プロトンを含む１〜ｍ価のカチオンを表
し、ｍは１ないし６の整数を表す。Ｍは共役鎖を表し、
この共役鎖Ｍは置換基や環構造を有していてもよい。共
役鎖Ｍは、下記式で表すことができる。

【０２２３】

【化８１】

【０２２４】前記式中、Ｒ¹、Ｒ²，Ｒ³はそれぞれ独立
に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、
アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル
基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ
基、アミノ基を表し、これらは互いに連結して環構造を
形成していてもよい。ｎは、１〜８の整数を表す。

【０２２５】前記一般式６で表されるアニオン性赤外線
吸収剤のうち、以下のＡ−１〜Ａ−５のものが、好まし
く用いられる。

【０２２６】

【化８２】

【０２２７】また、以下のＣＡ−１〜ＣＡ−４４に示す
カチオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。

【０２２８】

【化８３】

【０２２９】

【化８４】

【０２３０】

【化８５】

【０２３１】

【化８６】

【０２３２】

【化８７】

【０２３３】

【化８８】

【０２３４】

【化８９】

【０２３５】

【化９０】

【０２３６】

【化９１】

【０２３７】

【化９２】

【０２３８】

【化９３】

【０２３９】

【化９４】

【０２４０】

【化９５】

【０２４１】

【化９６】

【０２４２】

【化９７】

【０２４３】前記構造式中、Ｔ^-は、１価の対アニオン
を表し、好ましくは、ハロゲンアニオン（Ｆ^-，Ｃｌ^-、
Ｂｒ^-、Ｉ^-）、ルイス酸アニオン（ＢＦ₄−、ＰＦ₆ ^-、
ＳｂＣｌ₆ ^-、ＣｌＯ₄ ^-）、アルキルスルホン酸アニオ
ン、アリールスルホン酸アニオンである。

【０２４４】前記アルキルスルホン酸のアルキルとは、
炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、又は環
状のアルキル基を意味し、具体的には、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。

【０２４５】また前記アリールスルホン酸のアリールと
は、１個のベンゼン環からなるもの、２又は3個のベン
ゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽
和環が縮合環を形成したものを表し、具体例としては、
フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリ
ル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル
基、を挙げることができ、これらの中でも、フェニル
基、ナフチル基がより好ましい。

【０２４６】また、以下のＮＡ−１〜ＮＡ−１２に示す
非イオン性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。

【０２４７】

【化９８】

【０２４８】

【化９９】

【０２４９】

【化１００】

【０２５０】

【化１０１】

【０２５１】前記例示化合物中、特に好ましいアニオン
性赤外線吸収剤としてはＡ−１が、カチオン性赤外線吸
収剤としてはＣＡ−７、ＣＡ−３０、ＣＡ−４０、およ
びＣＡ−４２が、非イオン性赤外線吸収剤としてはＮＡ
−１１が挙げられる。

【０２５２】他の染料としては、市販の染料及び例えば
「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）
等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタ
ロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染
料、メチン染料、ジインモニウム染料、アミニウム染
料、スクワリリウム色素、金属チオレート錯体等の染料
が挙げられる。

【０２５３】また、増感色素として、他の顔料として
は、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便
覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７
年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６
年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。例えば、顔料
の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素
が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレー
キ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシア
ニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリ
ノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔
料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キ
ノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニ
トロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔
料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料の
うち好ましいものはカーボンブラックである。

【０２５４】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。前記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載されている。

【０２５５】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍであ
るのが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍであるのがさら
に好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍであるのが特に好
ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは、分散
物の画像記録層塗布液中での安定性の点で好ましくな
く、また、１０μｍを越えると画像記録層の均一性の点
で好ましくない。

【０２５６】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１
９８６年刊）に記載されている。

【０２５７】本発明における増感色素のさらにより好ま
しい例としては、上述の特公昭６１−９６２１号記載の
メロシアニン色素、特開平２−１７９６４３号記載のメ
ロシアニン色素、特開平２−２４４０５０号記載のメロ
シアニン色素、特公昭５９−２８３２６号記載のメロシ
アニン色素、特開昭５９−８９３０３号記載のメロシア
ニン色素、特開平８−１２９２５７号記載のメロシアニ
ン色素及び特開平８−３３４８９７号記載のベンゾピラ
ン系色素、ＥＰ１０４８９８２Ａ１記載の短波型ケトン
系及びスチリル系色素を挙げることができる。更に上述
の特開平11-209001号記載の赤外線吸収剤を挙げること
ができる。本発明における増感色素も単独もしくは２種
以上の併用によって好適に用いられる。さらに本発明の
光重合性組成物には、感度を一層向上させる、あるいは
酸素による重合阻害を抑制する等の作用を有する公知の
化合物を共増感剤として加えても良い。

【０２５８】この様な共増感剤の例としては、アミン
類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polymer Soc
iety」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−
２０１８９号、特開昭５１−８２１０２号、特開昭５２
−１３４６９２号、特開昭５９−１３８２０５、特開昭
６０−８４３０５号、特開昭６２−１８５３７号、特開
昭６４−３３１０４号、Research Disclosure ３３８２
５号記載の化合物、等があげられ、具体的には、トリエ
タノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチルチ
オジメチルアニリン、等があげられる。

【０２５９】共増感剤の別の例としてはチオールおよび
スルフィド類、例えば、特開昭５３−７０２号、特公昭
５５−５００８０６号、特開平５−１４２７７２号記載
のチオール化合物、特開昭５６−７５６４３号のジスル
フィド化合物等があげられ、具体的には、２−メルカプ
トベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプ
ト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレ
ン等があげられる。

【０２６０】また別の例としては、アミノ酸化合物
（例、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９
６５号記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテ
ート等）、特公昭５５−３４４１４号記載の水素供与
体、特開平６−３０８７２７号記載のイオウ化合物
（例、トリチアン等）、特開平６−２５０３８７号記載
のリン化合物（ジエチルホスファイト等）、特願平６−
１９１６０５号記載のＳｉ−Ｈ、Ｇｅ−Ｈ化合物等があ
げられる。

【０２６１】本発明における組成物中の光重合開始剤の
使用量は光重合性組成物の全成分の重量に対し、0.01〜
60重量％、より好ましくは0.05〜３０重量％である。ま
た、本発明において増感色素を用いる場合、光重合性組
成物中の光重合開始剤と増感色素のモル比は100：０〜
1：９９であり、より好ましくは、９０：１０〜１０：
９０であり、最も好ましくは８０：２０〜２０：８０で
ある。上記共増感剤を使用する場合には光重合開始剤１
重量部に対して、0.01〜50重量部使用するのが適当であ
る。

【０２６２】〔線状有機高分子重合体〕本発明の光重合
性組成物には、バインダーとしての線状有機高分子重合
体を含有させることが好ましい。このような「線状有機
高分子重合体」としては、光重合可能なエチレン性不飽
和化合物と相溶性を有している線状有機高分子重合体で
ある限り、どれを使用しても構わない。好ましくは水現
像或いは弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱ア
ルカリ水可溶性または膨潤性である線状有機高分子重合
体が選択される。線状有機高分子重合体は、該組成物の
皮膜形成剤としてだけでなく、現像剤として水、弱アル
カリ水或いは有機溶剤のいずれが使用されるかに応じて
適宜選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子重合
体を用いると水現像が可能になる。この様な線状有機高
分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加
重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４
−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５
４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭
５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号に記載
されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、ア
クリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共
重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン
酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン酸基を
有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水酸基を
有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなど
が有用である。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）ア
クリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他
の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル
（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好
適である。この他に水溶性線状有機高分子として、ポリ
ビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用で
ある。また硬化皮膜の強度をあげるためにアルコール可
溶性ポリアミドや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェ
ニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル
等も有用である。これらの線状有機高分子重合体は全組
成中に任意な量を混和させることができる。しかし組成
物の全成分の重量に対して９０重量％を超える場合には
形成される画像強度等の点で好ましい結果を与えない。
好ましくは３０〜８５％である。また光重合可能なエチ
レン性不飽和化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で１／９〜７／３の範囲とするのが好ましい。より好ま
しい範囲は３／７〜５／５である。

【０２６３】重合禁止剤 また、本発明においては以上の基本成分の他に光重合性
組成物製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻
止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ま
しい。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ
−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−
６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒ
ドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合
防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１
重量％〜約５重量％が好ましい。また必要に応じて、酸
素による重合阻害を防止するためにべヘン酸やベヘン酸
アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後
の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５重量％〜
約１０重量％が好ましい。

【０２６４】着色剤等 さらに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を
添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後
の視認性や、画像濃度測定機適性といったいわゆる検版
性を向上させることができる。着色剤としては、多くの
染料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色
剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例として
は例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボン
ブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料お
よび顔料の添加量は全組成物の約０．５重量％〜約５重
量％が好ましい。

【０２６５】その他の添加剤 さらに、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤
や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上さ
せうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。

【０２６６】可塑剤としては例えばジオクチルフタレー
ト、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジ
カプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリク
レジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチル
セバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤
を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化
合物と結合剤との合計重量に対し１０重量％以下添加す
ることができる。

【０２６７】また、後述する膜強度（耐刷性）向上を目
的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するため
の、ＵＶ開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。

【０２６８】その他、感光層と支持体との密着性向上
や、未露光感光層の現像除去性を高めるための添加剤、
中間層を設けることを可能である。例えば、ジアゾニウ
ム構造を有する化合物や、ホスホン化合物、等、基板と
比較的強い相互作用を有する化合物の添加や下塗りによ
り、密着性が向上し、耐刷性を高めることが可能であ
り、一方ポリアクリル酸や、ポリスルホン酸のような親
水性ポリマーの添加や下塗りにより、非画像部の現像性
が向上し、汚れ性の向上が可能となる。

【０２６９】本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布
する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メ
トキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピ
ルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳
酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混
合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固
形分の濃度は、２〜５０重量％が適当である。

【０２７０】感光層の支持体被覆量は、主に、感光層の
感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響しうるもの
で、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆量が
少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一方多
すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかかる
上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましくな
い。本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版と
しては、その被覆量は乾燥後の重量で約０．１g/m²〜約
１０g/m²の範囲が適当である。より好ましくは０．５〜
５g/m²である。

【０２７１】「支持体」本発明の主要な目的の一つであ
る、平版印刷版を得るには上記感光層を、表面が親水性
の支持体上に設けることが望ましい。親水性の支持体と
しては、従来公知の、平版印刷版に使用される親水性支
持体を限定無く使用することができる。使用される支持
体は寸度的に安定な板状物であることが好ましく、例え
ば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金
属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチ
ックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セル
ロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢
酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、
上記のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙も
しくはプラスチックフィルム等が含まれ、これらの表面
に対し、必要に応じ親水性の付与や、強度向上、等の目
的で適切な公知の物理的、化学的処理を施しても良い。

【０２７２】特に、好ましい支持体としては、紙、ポリ
エステルフィルムまたはアルミニウム板が挙げられ、そ
の中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に
応じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提
供できるアルミニウム板は特に好ましい。また、特公昭
４８−１８３２７号に記載されているようなポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結
合された複合体シートも好ましい。

【０２７３】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含
む合金板であり、更にはアルミニウムがラミネートまた
は蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニ
ウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガ
ン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッ
ケル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々
１０重量％以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ０．１mm〜０．６mm程度、好
ましくは０．１５mm〜０．４mm、特に好ましくは０．２
mm〜０．３mmである。

【０２７４】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、粗面化（砂目立て）処理、珪酸ソ
ーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液
への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理が
なされていることが好ましい。

【０２７５】アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種
々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化す
る方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ、磨法等の公知の方法を用いることが
できる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸、硝
酸等の電解液中で交流または直流により行う方法があ
る。また、特開昭５４−６３９０２号に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。また、アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望
により、表面の圧延油を除去するために、例えば、界面
活性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液等による脱脂
処理が行われる。

【０２７６】さらに、粗面化したのちに珪酸ナトリウム
水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用
できる。特公昭４７−５１２５号に記載されているよう
にアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ
金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用さ
れる。陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫
酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミン酸等
の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶液の単
独または二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウ
ム板を陽極として電流を流すことにより実施される。

【０２７７】また、米国特許第３６５８６６２号に記載
されているようなシリケート電着も有効である。

【０２７８】さらに、特公昭４６−２７４８１号、特開
昭５２−５８６０２号、特開昭５２−３０５０３号に開
示されているような電解グレインを施した支持体と、上
記陽極酸化処理および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処
理も有用である。

【０２７９】また、特開昭５６−２８８９３号に開示さ
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。

【０２８０】さらに、これらの処理を行った後に、水溶
性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩（例えば硼酸亜鉛）もしくは、黄色染
料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。

【０２８１】さらに特願平５−３０４３５８号に開示さ
れているようなラジカルによって付加反応を起こし得る
官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用
いられる。

【０２８２】その他好ましい例として、任意の支持体上
に表面層として耐水性の親水性層を設けたものも上げる
ことができる。このような表面層としては例えばＵＳ３
０５５２９５号や、特開昭５６−１３１６８号記載の無
機顔料と結着剤とからなる層、特開平９−８０７４４号
記載の親水性膨潤層、特表平８−５０７７２７号記載の
酸化チタン、ポリビニルアルコール、珪酸類からなるゾ
ルゲル膜等を挙げることができる。

【０２８３】これらの親水化処理は、支持体の表面を親
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。

【０２８４】「保護層」本発明において、走査露光用平
版印刷版においては、通常露光を大気中で行うため、光
重合性組成物の層の上に、さらに、保護層を設けること
ができる。保護層は、感光層中で露光により生じる画像
形成反応を阻害する大気中に存在する塩基性物質等の低
分子化合物の感光層への混入を防止し、大気中での露光
を可能とする。従って、このような保護層に望まれる特
性は、低分子化合物の透過性が低いことであり、さら
に、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感光層との
密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去で
きることが望ましい。このような、保護層に関する工夫
が従来よりなされており、米国特許第３，４５８，３１
１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく記載されてい
る。保護層に使用できる材料としては例えば、比較的、
結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることがよ
く、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピ
ロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知ら
れているが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成
分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といっ
た基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に
使用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と
水溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を
含有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセ
タールで置換されていても良い。また、同様に一部が他
の共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコー
ルの具体例としては７１〜１００モル％加水分解され、
分子量が重量平均分子量で３００から２４００の範囲の
ものを挙げることができる。具体的には、株式会社クラ
レ製のＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１
７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２
４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳ
Ｔ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、
ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、Ｐ
ＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、
ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４
Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１
３、Ｌ−８等が挙げられる。

【０２８５】保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の使
用）、塗布量等は、低分子物質遮断性・現像除去性の
他、カブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。
一般には使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層
中の未置換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚
が厚い程低分子物質遮断性が高くなり、感度の点で有利
である。しかしながら、極端に低分子物質遮断性を高め
ると、製造時、生保存時に不要な重合反応が生じたり、
また画像露光時に、不要なカブリ、画線の太りが生じた
りという問題を生じる。また、画像部との密着性や、耐
傷性も版の取り扱い上極めて重要である。即ち、水溶性
ポリマーからなる親水性の層を親油性の重合層に積層す
ると、接着力不足による膜剥離が発生しやすい。これに
対し、これら２層間の接着性を改良すべく種々の提案が
なされている。例えば米国特許第２９２５０１号、米国
特許第４４５６３号には、主にポリビニルアルコールか
らなる親水性ポリマー中に、アクリル系エマルジョンま
たは水不溶性ビニルピロリドン−ビニルアセテート共重
合体などを２０〜６０重量％混合し、重合層の上に積層
することにより、十分な接着性が得られることが記載さ
れている。本発明における保護層に対しては、これらの
公知の技術をいずれも適用することができる。このよう
な保護層の塗布方法については、例えば米国特許第３，
４５８，３１１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく
記載されている。

【０２８６】さらに保護層には他の機能を付与すること
もできる。例えば、光源としてレーザー光を使用する場
合、感光性組成物としてはその光源波長での感光性には
優れるが、他の波長では感光してほしくない場合があ
る。例えば、光源が７５０ｎｍ以上の赤外領域のもので
あれば、実質上明室で使用することができるが、実際に
は蛍光灯の光など短波の光でも感光する場合がある。そ
の場合には、光源の光透過性に優れ、かつ７００ｎｍ未
満の波長光を効率良く吸収しうる着色剤（水溶性染料
等）の添加が好ましい。また、別の例として光源が４５
０ｎｍ以下の紫外領域のものであれば、実質上セーフラ
イト下で使用することができる。しかし実際には、５０
０ｎｍ以上の可視光により感光する場合がある。その場
合には、光源の光透過性に優れ、かつ５００ｎｍ以上の
光を効率良く吸収しうる、着色剤（水溶性染料等）の添
加により、感度低下を起こすことなく、セーフライト適
性をさらに高めることができる。

【０２８７】本発明の光重合性組成物を用いた感光材料
を画像形成材料として使用する際には、通常、画像露光
したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を
得る。これらの光重合性組成物を平版印刷版の作成に使
用する際の好ましい現像液としては、特公昭５７−７４
２７号に記載されているような現像液が挙げられ、ケイ
酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、
第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭
酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ
剤やモノエタノールアミンまたはジエタノールアミンな
どのような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。この
ようなアルカリ溶液の濃度が０．１〜１０重量％、好ま
しくは０．５〜５重量％になるように添加される。

【０２８８】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やべンジルアルコール、２−フ
ェノキシエタノール、２−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
３３７５１７１号および同第３６１５４８０号に記載さ
れているものを挙げることができる。

【０２８９】さらに、特開昭５０−２６６０１号、同５
８−５４３４１号、特公昭５６−３９４６４号、同５６
−４２８６０号の各公報に記載されている現像液も優れ
ている。

【０２９０】その他、本発明の光重合性組成物の好適な
用途である平版印刷版原版の製版プロセスとしては、必
要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、
全面を加熱しても良い。このような加熱により、感光層
中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や、
感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強
度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、
全面後加熱もしくは、全面露光を行うことも有効であ
る。通常現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行
うことが好ましい。温度が高すぎると、非画像部までが
かぶってしまう等の問題を生じる。現像後の加熱には非
常に強い条件を利用する。通常は２００〜５００℃の範
囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られ
ず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解と
いった問題を生じる。本発明による走査露光平版印刷版
の露光方法は、公知の方法を制限なく用いることができ
る。光源としてはレーザが好ましく。例えば、３５０〜
４５０nmの波長の入手可能なレーザー光源としては以下
のものを利用することができる。

【０２９１】ガスレーザーとして、Ａｒイオンレーザー
（３６４nm、３５１nm、１０mW〜１Ｗ）、Ｋｒイオンレ
ーザー（３５６nm，３５１nm，１０mW〜１W）、Ｈｅ−
Ｃｄレーザー（４４１nm，３２５nm，１mW〜１００m
W）、固体レーザーとして、Ｎｄ：ＹＡＧ（ＹＶＯ₄）と
ＳＨＧ結晶×２回の組み合わせ（３５５mm、５mW〜１
Ｗ）、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合わせ（４
３０nm，１０mW）、半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ
₃、リング共振器（４３０nm，３０mW）、導波型波長変
換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わ
せ（３８０nm〜４５０ｎｍ、５mW〜１００mW）、導波型
波長変換素子とＡｌＧａＩｎＰ、ＡｌＧａＡｓ半導体の
組み合わせ（３００nm〜３５０nm、５mW〜１００mW）、
ＡｌＧａＩｎＮ（３５０nm〜４５０nm、５mW〜３０mW） その他、パルスレーザーとしてＮ₂レーザー（３３７n
m、パルス０．１〜１０ｍＪ）、ＸｅＦ（３５１nm、パ
ルス１０〜２５０mJ）

【０２９２】特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザ
ー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０n
m、5〜30mW）が波長特性、コストの面で好適である。

【０２９３】その他、４５０ｎｍ〜７００ｎｍの入手可
能な光源としてはAr＋レーザ−（４８８ｎｍ）、ＹＡＧ
−ＳＨＧレーザー（５３２ｎｍ）、Ｈｅ−Ｎeレーザー
（６３３ｎｍ）、Ｈｅ―Ｃｄレーザー、赤色半導体レー
ザー（６５０〜６９０ｎｍ）、及び７００ｎｍ〜１２０
０ｎｍの入手可能な光源としては半導体レーザ（８００
〜８５０ｎｍ）、Ｎｄ−ＹＡＧレーザ（１０６４ｎｍ）
が好適に利用できる。

【０２９４】その他、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水
銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、紫外のレーザランプ（ＡｒＦエ
キシマレーザー、ＫｒＦエキシマレーザーなど）、放射
線としては電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線など
も利用できるが、安価な点で上述の３５０ｎｍ以上のレ
ーザー光源が特に好ましい。

【０２９５】また、露光機構は内面ドラム方式、外面ド
ラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。ま
た本発明の感光層成分は高い水溶性のものを使用するこ
とで、中性の水や弱アルカリ水に可溶とすることもでき
るが、このような構成の平版印刷版は印刷機上に装填
後、機上で露光-現像といった方式を行うこともでき
る。

【０２９６】また、本発明による光重合性組成物の用途
としては走査露光用平版印刷版の他、広く、光硬化樹脂
の用途として知られるものに制限なく適用できる。例え
ば、必要に応じカチオン重合性化合物と併用した液状の
光重合性組成物に適用することで、高感度な光造形用材
料が得られる。また、光重合にともなう、屈折率の変化
を利用し、ホログラム材料とすることもできる。光重合
に伴う、表面の粘着性の変化を利用して様々な転写材料
（剥離感材、トナー現像感材等）にも応用できる。マイ
クロカプセルの光硬化にも適用できる。フォトレジスト
等の電子材料製造、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹
脂材料にも応用できる。

【０２９７】

【実施例】以下、実施例によって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

【０２９８】〔本発明の一般式（Ｉ）で示される構造を
有する化合物の合成〕 〈一般的な合成方法〉上記本発明の化合物（一般式
（Ｉ）で示される構造を有する架橋剤）は一般的には、
例えば、下記方法１及び方法２等により容易に合成でき
る。ここでは、一般的な合成法をより簡単に説明するた
め、Ｔ³、Ｒ⁴、Ｔ⁴、Ｒ⁵が全て単結合の場合について記
載する。

【０２９９】（方法１：Ｔ¹、Ｔ²がエステル、炭酸エス
テルの場合）

【０３００】

【化１０２】

【０３０１】反応式中の（ta¹、tb¹）、（ta²、tb²）
は、互いに反応しエステル基及び炭酸エステル基を生成
する反応性基の組み合わせであり、具体的には（OH、CO
₂H）、（OH、COCl）、（OH、OCOCl）等（カッコ内は順
不同）が挙げられる。塩基は、ヒ゜リシ゛ン、トリエチルアミン等の有
機塩基或いは炭酸水素ナトリウム等の無機塩基を表す。縮合
剤は、1,3-シ゛シクロヘキシルカルホ゛シ゛イミト゛（DCC）等の脱水縮合剤
を表す。

【０３０２】（方法２：Ｔ¹、Ｔ²にカルボニルを含む場
合）

【０３０３】

【化１０３】

【０３０４】反応式中の（qa¹、qb¹）、（ta²、tb²）
は、互いに反応しラジカル重合性末端基を生成する反性
基の組み合わせであり、具体的には

【０３０５】

【化１０４】

【０３０６】等（カッコ内は順不同）が挙げられる。塩
基は、ヒ゜リシ゛ン、トリエチルアミン等の有機塩基或いは炭酸水素ナト
リウム等の無機塩基を表す。縮合剤は、1,3-シ゛シクロヘキシルカルホ゛
シ゛イミト゛（DCC）等の脱水縮合剤を表す。

【０３０７】＜合成例１：Ｉ−１＞フラスコに２−ヒド
ロキシエチルアクリレート（０．２ｍｏｌ）、ピリジン
（０．２ｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．
０２ｍｏｌ）、酢酸エチル（２００ｍｌ）を入れ、１０
℃に冷却しコハク酸クロリド（０．１ｍｏｌ）を１時間
かけて滴下する。滴下終了後、室温に戻し、攪拌３時間
後水（３００ｍｌ）を加えて抽出後、塩酸水、食塩水、
重曹水で酢酸エチル層を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥、減圧濃縮する。目的とするＩ−１が２６．７ｇ（収
率８５％）で得られた。化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡ
ＳＳ、IＲにより確認。

【０３０８】＜合成例２：Ｉ−４＞フラスコに２−ヒド
ロキシエチルアクリレート（０．２ｍｏｌ）、ピリジン
（０．２ｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．
０２ｍｏｌ）、酢酸エチル（２００ｍｌ）を入れ、１０
℃に冷却しアジピン酸クロリド（０．１ｍｏｌ）を１時
間かけて滴下する。滴下終了後、室温に戻し、攪拌３時
間後水（３００ｍｌ）を加えて抽出後、塩酸水、食塩
水、重曹水で酢酸エチル層を洗浄し、硫酸マグネシウム
で乾燥、減圧濃縮する。目的とするＩ−４が２８．４ｇ
（収率８３％）で得られた。化合物の構造は、ＮＭＲ、
ＭＡＳＳ、IＲにより確認。

【０３０９】＜合成例３：Ｉ−７＞フラスコに２−ヒド
ロキシエチルアクリレート（０．２ｍｏｌ）、ピリジン
（０．２ｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．
０２ｍｏｌ）、酢酸エチル（２００ｍｌ）を入れ、１０
℃に冷却しコハク酸無水物（０．２ｍｏｌ）を１時間か
けて滴下する。次にジシクロヘキシルカルボジイミド
（ＤＣＣ、０．２ｍｏｌ）、エチレングリコール（０．
１ｍｏｌ）を入れ、室温に戻し、攪拌３時間後、シリカ
ゲルショートカラムを通し、濾液に水（３００ｍｌ）を
加えて抽出後、塩酸水、食塩水、重曹水で酢酸エチル層
を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮する。目
的とするＩ−７が３０．９ｇ（収率７０％）で得られ
た。化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IＲにより確
認。

【０３１０】＜合成例４：Ｉ−１５＞フラスコに２−カ
ルボキシルエチルアクリレート（０．１ｍｏｌ）、酢酸
エチル（２００ｍｌ）を入れ、１０℃に冷却し、ジシク
ロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ、０．１ｍｏｌ）、
２−ヒドロキシエチルアクリレート（０．１ｍｏｌ）を
入れ１ｈ攪拌する。室温に戻し、攪拌３時間後、シリカ
ゲルショートカラムを通し、濾液に水（３００ｍｌ）を
加えて抽出後、塩酸水、食塩水、重曹水で酢酸エチル層
を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮する。目
的とするＩ−１５が１９．４ｇ（収率８０％）で得られ
た。化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IＲにより確
認。

【０３１１】＜合成例５：Ｉ−２２＞フラスコに２−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート（０．２ｍｏｌ）、ピリ
ジン（０．２ｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン
（０．０２ｍｏｌ）、酢酸エチル（２００ｍｌ）を入
れ、１０℃に冷却しコハク酸クロリド（０．１ｍｏｌ）
を１時間かけて滴下する。滴下終了後、室温に戻し、攪
拌３時間後水（３００ｍｌ）を加えて抽出後、塩酸水、
食塩水、重曹水で酢酸エチル層を洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥、減圧濃縮する。目的とするＩ−２２が２
９．８ｇ（収率８７％）で得られた。化合物の構造は、
ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IＲにより確認。

【０３１２】＜合成例６：Ｉ−３４＞フラスコにビス
（２−ヒドロキシエチル）ケトン（０．１ｍｏｌ）、ピ
リジン（０．２ｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン
（０．０２ｍｏｌ）０、酢酸エチル（２００ｍｌ）を入
れ、１０℃に冷却しα−アセトキシメチルアクリル酸ク
ロリド（０．２ｍｏｌ）を１時間かけて滴下する。滴下
終了後、室温に戻し、攪拌３時間後水（３００ｍｌ）を
加えて抽出後、塩酸水、食塩水、重曹水で酢酸エチル層
を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮する。目
的とするＩ−３４が３０．３ｇ（収率８２％）で得られ
た。化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IＲにより確
認。

【０３１３】＜合成例７：Ｉ−３９＞フラスコにエチレ
ングリコール（０．１ｍｏｌ）、トリエチルアミン
（０．２ｍｏｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（０．
０２ｍｏｌ）、酢酸エチル（２００ｍｌ）を入れ、コハ
ク酸無水物（０．２ｍｏｌ）を加える。次にα−ブロモ
メチルアクリル酸メチル（０．２ｍｏｌ）を１時間かけ
て滴下する。滴下終了、攪拌３時間後水（３００ｍｌ）
を加えて抽出後、塩酸水、食塩水、重曹水で酢酸エチル
層を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥、減圧濃縮する。
目的とするＩ−３９が３２．１ｇ（収率７０％）で得ら
れた。化合物の構造は、ＮＭＲ、ＭＡＳＳ、IＲにより
確認。

【０３１４】＜合成例８：Ｉ−４８＞フラスコに４−ケ
トピメリン酸（０．１ｍｏｌ）、トリエチルアミン
（０．２ｍｏｌ）、酢酸エチル（２００ｍｌ）を入れ、
次にα−ブロモメチルアクリル酸メチル（０．２ｍｏ
ｌ）を１時間かけて滴下する。滴下終了、攪拌３時間後
水（３００ｍｌ）を加えて抽出後、塩酸水、食塩水、重
曹水で酢酸エチル層を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥、減圧濃縮する。目的とするＩ−４８が２９．６ｇ
（収率８０％）で得られた。化合物の構造は、ＮＭＲ、
ＭＡＳＳ、IＲにより確認。以上のようにして具体例に
示した全ての化合物を合成できる。

【０３１５】〔光重合性組成物の実施例１〕 （支持体の調製）厚さ０．３mmのアルミニウム板を１０
重量％水酸化ナトリウムに６０℃で２５秒間浸漬してエ
ッチングした後、流水で水洗後２０重量％硝酸で中和洗
浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を
用いて１重量％硝酸水溶液中で３００クーロン／dm²の
陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて１
重量％水酸化ナトリウム水溶液中に４０℃で５秒間浸漬
後３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、６０℃で４０秒
間デスマット処理した後、２０重量％硫酸水溶液中、電
流密度２Ａ／dm²において、陽極酸化皮膜の厚さが２．
７g/m²になるように、２分間陽極酸化処理した。その表
面粗さを測定したところ、０．３μｍ（ＪＩＳ Ｂ０６
０１によるＲａ表示）であった。

【０３１６】このように処理された基板の裏面に下記の
ゾル−ゲル反応液をバーコーターで塗布し１００℃で１
分間乾燥し、乾燥後の塗布量が７０ｍg/m²のバックコー
ト層を設けた支持体を作成した。

【０３１７】 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート ５０重量部 水 ２０重量部 メタノール １５重量部 リン酸 ０．０５重量部

【０３１８】上記成分を混合、撹拌すると約５分で発熱
が開始した。６０分間反応させた後以下に示す液を加え
ることによりバックコート塗布液を調製した。

【０３１９】 ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂（分子量２０００） ４重量部 ジメチルフタレート ５重量部 フッ素系界面活性剤（Ｎ−ブチルペルフルオロオクタン ０．７重量部 スルホンアミドエチルアクリレート／ポリオキシエチレン アクリレート共重合体：分子量２万） メタノールシリカゾル（日産化学工業（株）製、メタノール３０重量％） ５０重量部 メタノール ８００重量部

【０３２０】（感光層の調製）このように処理されたア
ルミニウム板上に下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布
量が１．５ｇ／ｍ²となるように塗布し、１００℃で１
分乾燥させ感光層を形成させた。

【０３２１】 （感光層形成溶液） 下表−Ａの本発明または比較の化合物［Ｘ］ （２．０−ｒ）ｇ 下表−Ａの光重合開始剤［Ｙ］ ０．３ｇ 下表−Ａの高分子バインダー［Ｚ］ ２．０ｇ 下表−Ａの重合性化合物[Ｒ] ｒｇ 下表−Ａの添加剤［Ｓ］ ０．４ｇ フッ素系界面活性剤 ０．０３ｇ （メカ゛ファックF-177：大日本インキ化学工業(株)製） 熱重合禁止剤 Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミシアルミニウム塩 ０．０１ｇ 顔料分散物 ２．０ｇ 顔料分散物の組成 組成：Pigment Blue 15:6 １５重量部 アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 １０重量部 （共重合モル比８３／１７） シクロヘキサノン １５重量部 メトキシプロピルアセテート ２０重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ４０重量部 メチルエチルケトン ２０ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０ｇ

【０３２２】（保護層の調製）上述の感光層の一部（下
表−Ａに示す）には、その感光層上にポリビニルアルコ
ール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）の３重量％
の水溶液を乾燥塗布重量が２ｇ／ｍ²となるように塗布
し、１００℃で２分間乾燥した。

【０３２３】（感度の評価）このように得られた感材は
その露光波長に応じてそれぞれ異なる光源を利用し、感
度評価を行った。たとえば、４００ｎｍの半導体レーザ
ー、５３２ｎｍのＦＤ−ＹＡＧレーザー、８３０ｎｍの
半導体レーザーをそれぞれ用い大気中で露光した。下記
組成の現像液に２５℃、１０秒間浸漬し、現像を行い、
画像ができるその最小露光量からそれぞれの露光条件で
の感度をmJ/cm²単位で算出した。この数値が小さい方が
高感度である。但し、光源波長が違うと光子１つ当たり
が有するエネルギー量が異なるため、単純に考えても通
常は短波になるほど上述の露光量が少なくても感光する
ことが可能となり、短波の方が高感度となる。従って、
表−Ｂは、異なる露光条件間での感度比較には意味がな
く、あくまでも同一露光条件での実施例と比較例での差
をみるためのものである。結果を下表−Ｂに示す。

【０３２４】 （現像液の組成） ・ＤＰ−４（富士写真フイルム社製） ６５．０ｇ ・水 ８８０．０ｇ ・リポミンＬＡ（２０％水溶液、ライオン(株）社製） ５０．０ｇ

【０３２５】（保存安定性の評価）レーザ露光前の上記
感光材料を高温条件下（６０℃）に３日間放置し、その
後この保存後の感材を前記と同様にレーザ露光し記録に
必要なエネルギー量を算出し、高湿保存前後のエネルギ
ー比（高温保存後のエネルギー／高温保存前のエネルギ
ー）を求めた。このエネルギー比が１．１以下であるこ
とが製造上好ましく保存安定性においても良好といえ
る。この評価結果も下表−Ｂに示す。

【０３２６】

【表８】

【０３２７】

【表９】

【０３２８】

【表１０】

【０３２９】

【表１１】

【０３３０】

【化１０５】

【０３３１】

【化１０６】

【０３３２】

【化１０７】

【０３３３】

【化１０８】

【０３３４】

【化１０９】

【０３３５】

【化１１０】

【０３３６】

【化１１１】

【０３３７】表−Ｂから明らかなように、本発明の光重
合性組成物を用いた印刷版は高感度であり、保存安定性
も良好である。

【０３３８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光重合性
組成物は、画像形成技術の中でも最も高感度で有望視さ
れている光ラジカル重合系組成物において、本発明の一
般式（Ｉ）で表される２官能型架橋剤を含有することに
より、高感度と優れた保存安定性を見事に両立させるこ
とが可能である。特に紫外光、可視光及び赤外光を放射
する固体レーザ及び半導体レーザ光を用いて記録するこ
とによりコンピューター等のデジタルデータから直接製
版可能な平板印刷用版材として好適な光重合性組成物を
提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AB03 AB09 AB13 AB20 AC01 AC08 AD01 BC32 BC42 CA01 CA14 CA18 CA28 CA39 CA48 CB14 CB43 CC20 FA03 FA17 2H096 AA07 AA08 AA23 AA28 AA30 BA05 BA16 BA20 EA02 EA04 GA08 4J100 AJ10P AL66P AL69P AL71P AM23P AN14P BA02P BA12P BA15P BA22P BA53P BC43P CA01 JA01 JA03 JA07 JA38

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表される架橋剤を含
   有する光重合性組成物。 Ｑ¹−Ｒ−Ｑ² 一般式（Ｉ） （式中、Ｑ¹、Ｑ²はラジカル重合性末端基を、Ｒはエス
   テル連結基（−ＯＣ(＝Ｏ)−）、炭酸エステル連結基
   （−ＯＣ(＝Ｏ)Ｏ−）及びカルボニル連結基（−Ｃ(＝
   Ｏ)−）から選ばれる少なくともいずれかで連結される
   ２価の炭化水素連結基を表す。）
2. 【請求項２】 前記一般式（Ｉ）におけるＱ¹、Ｑ²が、
   それぞれ独立して、下記一般式（ａ）または（ｂ）で表
   される基であり、Ｒが下記一般式（ｃ）で表される連結
   基である請求項１記載の光重合性組成物。 【化１】 （式中、ＺはＨ、ＣＨ₃、ＣＨＲ^bＸ¹を、Ｘ¹、Ｘ²はそ
   れぞれ独立して置換オキシ基、置換アミノ基、置換チオ
   基を、Ｒ¹〜Ｒ⁵はそれぞれ独立して酸素で連結していて
   も良い脂肪族炭化水素連結基または単結合を表す。但
   し、Ｒ¹〜Ｒ⁵の全てが単結合となることはない。Ｔ¹〜
   Ｔ⁴はそれぞれ独立して−ＯＣＯ−、−ＣＯ₂−、−ＣＯ
   −、−ＯＣＯ₂−または単結合を表す。但し、Ｔ¹〜Ｔ⁴
   の全てが単結合となることはない。Ｒ^a、Ｒ^bは、水素原
   子、炭化水素基を表す）