JP4471101B2 - 平版印刷版原版 - Google Patents
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Description
即ち、本発明の目的は、露光により、高感度で硬化し、且つ保存安定性に優れた重合性組成物を用いてなり、高感度に記録可能であり、且つ、画像部においては耐アルカリ現像性が良好であり、保存安定性、耐刷性、及び汚れ性に優れた、赤外線レーザによる記録が可能なネガ型平版印刷版原版を提供することにある。
また、(D)側鎖にラジカル重合性基を少なくとも1つ有するバインダーポリマーが、さらに、下記一般式(II)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。
logP=log(Coil/Cwater)
Coil=油相中のモル濃度
Cwater=水相中のモル濃度
しかしながら、本発明に用いる(D)側鎖にラジカル重合性基を少なくとも1つ有するバインダーポリマーを記録層のバインダーとして用いると、硬化部の架橋密度が高くなるために、現像液の浸透が効果的に抑制されて画像部の受けるダメージを緩和することができ、耐刷性が向上するものと考えられる。
[重合性組成物]
本発明のネガ型平版印刷版原版の記録層が含有する重合性組成物は、(A)下記一般式(I)で表される化合物、一般式(III)表される化合物、又は一般式(IV)表される化合物、(B)赤外線吸収剤、及び(C)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物、を含有することを特徴とする重合性組成物である。
一般式(I)で表される化合物について説明する。
R 2 〜R6で表される1価の置換基について説明する。
R 2 〜R6が1価の置換基を表す場合、該1価の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基、置換カルボニル墓、水酸基、置換オキシ基、チオール基、チオエーテル基、シリル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、スルホ基、置換スルホニル基、スルホナト基、置換スルフィニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ基、ホスホナト基、置換ホスホナト基、等が挙げられ、導入可能な場合には更に置換基を有していてもよい。
また、R 2 〜R6で表されるアルキル基に導入可能な置換基におけるアリール部分の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、N−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、等を挙げることができる。
その具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、シクロへキシルチオ基などのアルキルチオ基、フェニルチオ基等のアリールチオ基等が挙げられる。
R 2 〜R6で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、臭素原子、塩素原子、ヨウ素原子が挙げられ、これらの中でも、塩素原子および臭素原子が好ましい。
R1 は炭素数6〜20の置換基を有してもよいアルキル基である。R2〜R6としては、置換基を有してもよい炭素数3〜20のアルキル基、芳香族基、ヘテロ環基が好ましく、置換基を有してもよい炭素数6〜20のアルキル基、芳香族基、ヘテロ環基がより好ましい。これは、前述したように、開始剤の酸素保護層への移動が抑制でき、さらには、発生ラジカルがアブレーションを起こし、感光層から放出されることが抑制され、発生するアルコキシラジカルを効率的に反応に用いることができるためであると考えている。
特定構造の骨格を分子中に2個以上有する態様の化合物としては、特に、下記一般式(III)で表される化合物物が好ましい。これは、アルコキシラジカルを同一分子中、多点で発生させることができ、後述する(C)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物と三次元架橋を形成させることができるため、好ましいと考えられる。
そのような化合物としては、特に、下記一般式(IV)で表される化合物であることが好ましい。
この態様は、上述したn価の有機連結基を介して、さらに特定構造の骨格を分子中に2個以上有するものと同様、付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物と、より三次元架橋を形成させることができるため、好ましいものと考えられる。
(1)p−トルエンスルホン酸 2−エチルヘキシルエステルの合成
1Lナス型フラスコにピリジン250mLを加え、p−トルエンスルホン酸クロリド75gを添加した。反応液を0℃まで冷却し、2−エチルヘキサノール34gを30分かけて滴下し、0℃冷却下、一晩静置した。反応液を冷却した1N塩酸にあけ、酢酸エチルを用いて抽出し、有機層を、1N塩酸にて、塩酸水層が酸性になるまで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムにて乾燥し、溶媒を留去させることによって、p−トルエンスルホン酸 2−エチルヘキシルエステル65gを得た。目的物であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、質量分析スペクトルから確認した。
100mLナス型フラスコに4−フェニルピリジン N−オキシド2.57g、およびp−トルエンスルホン酸 2−エチルヘキシルエステル4.29gを入れ、110℃で30分攪拌した。反応液を室温まで冷却し、固体を析出させ、析出した固体を酢酸エチルにてリスラリーし、ろ過・乾燥することにより、例示化合物(A−9)5.47gを得た。例示化合物(A−9)であることは、NMRスペクトル、IRスペクトル、質量分析スペクトルから確認した。
なお、一般式(III)で表される化合物又は一般式(IV)で表される化合物の態様で用いられる場合についても、重合性組成物中における含有量の好適な範囲は上記と同様である。
本発明の重合性組成物は、赤外光を吸収し、熱エネルギーに変換する赤外線吸収剤を含有することが好ましい。この赤外線吸収剤が吸収し得る波長の露光により、後述するラジカル開始剤のラジカル発生反応や、それによる上記特定重合性化合物の重合反応が促進されるものである。このような赤外線吸収剤としては、公知の分光増感色素又は光を吸収して光ラジカル開始剤と相互作用する染料或いは顔料が挙げられる。
本発明に用いられる(B)赤外線吸収剤として好ましい分光増感色素又は染料は、多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、フタロシアニン類(例えば、フタロシアニン、メタルフタロシアニン)、ポルフィリン類(例えば、テトラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリン)、クロロフィル類(例えば、クロロフィル、クロロフィリン、中心金属置換クロロフィル)、金属錯体(例えば、下記化合物)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)等が挙げられる。
特公昭40−28499号記載のピリリウム塩類、例えば、下記化合物が挙げられる。
本発明において使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)に記載されている顔料が利用できる。
特に、本発明の重合性組成物を後述する画像記録材料のネガ型記録層の材料として使用する場合、該記録層と同一の層に添加してもよいし、別の層を設け、そこへ添加してもよいが、ネガ型画像記録材料を作製した際に、記録層の波長300nm〜1200nmの範囲における吸収極大での光学濃度が、0.1〜3.0の間にあることが、感度の観点から好ましい。光学濃度は前記増感色素の添加量と記録層の厚みとにより決定されるため、所定の光学濃度は両者の条件を制御することにより得られる。記録層の光学濃度は常法により測定することができる。測定方法としては、例えば、透明、或いは白色の支持体上に、乾燥後の塗布量が平版印刷版として必要な範囲において適宜決定された厚みの記録層を形成し、透過型の光学濃度計で測定する方法、アルミニウム等の反射性の支持体上に記録層を形成し、反射濃度を測定する方法等が挙げられる。
また、本発明の重合性組成物中における赤外線吸収剤の含有量としては、画像記録材料等の記録層に適用する場合も同様に、重合性組成物の全固形分量に対し、0.01〜20質量%が好ましく、0.01〜10質量%がより好ましく、0.02〜5質量%が特に好ましい。
本発明の重合性組成物に使用される、(C)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物(以下、適宜、「付加重合性化合物」と称する。)は、エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマー及びその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
(ただし、R4及びR5は、H又はCH3を示す。)
これらの観点から、付加重合性化合物は、記録層中の不揮発性成分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。また、これらは単独で用いても2種以上併用してもよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量を任意に選択でき、更に場合によっては下塗り、上塗りといった層構成・塗布方法も実施しうる。
本発明の重合性組成物には、上記(A)乃至(C)成分に加えて、さらに、(D)側鎖にラジカル重合性基を少なくとも1つ有するバインダーポリマー(以下、適宜、「特定バインダーポリマー」と称する。)を含有することが好ましい。
より具体的には、下記一般式(A)〜(C)で表される構造のラジカル重合性基であることが好ましい。
ここで、これらの基に導入しうる置換基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピオキシカルボニル基、メチル基、エチル基、フェニル基等が挙げられる。
Xは、酸素原子、硫黄原子、又は、−N−R15を表し、ここで、R15としては、置換基を有してもよいアルキル基などが挙げられる。
ここで、これらの基に導入しうる置換基としては、一般式(A)において導入しうる置換基として挙げたものが例示される。
Yは、酸素原子、硫黄原子、又は−N−R15を表す。R15としては、一般式(A)におけるのと同様のものが挙げられる。
ここで、これらの基に導入しうる置換基としては、一般式(A)において導入しうる置換基として挙げたものが例示される。
Zは、酸素原子、硫黄原子、−N−R15又はフェニレン基を表す。R15としては、一般式(A)におけるのと同様のものが挙げられる。
下記一般式(D)で表されるラジカル重合性化合物の1種以上を用い、重合させて高分子化合物を合成した後に、塩基を用いて、プロトンを引き抜き、Z1を脱離させて所望の高分子化合物を得る方法。
これらの一般式(D)で表されるラジカル重合性化合物を1種以上と、必要に応じて他のラジカル重合性化合物を用いて、通常のラジカル重合法によって重合させ、高分子化合物を合成した後に、所望の量の塩基を高分子溶液中に、冷却或いは加熱条件下で滴下、反応を行い、必要に応じて、酸による中和処理を行うことで、一般式(A)で表される基を導入することできる。高分子化合物の製造には、一般的に公知の懸濁重合法或いは溶液重合法などを適用することできる。
ここで、用いられる塩基としては、無機化合物(無機塩基)、有機化合物(有機塩基)のどちらを使用してもよい。好ましい無機塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等が挙げられ、有機塩基としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム−t−ブトキシドのような金属アルコキシド、トリエチルアミン、ピリジン、ジイソプロピルエチルアミンのような有機アミン化合物等が挙げられる。
官能基を有するラジカル重合性化合物を1種以上用い、重合させて幹高分子化合物(主鎖を構成する高分子化合物)を合成した後に、前記幹高分子化合物の側鎖官能基と下記一般式(E)で表される構造を有する化合物を反応させて所望の高分子化合物を得る方法。
このような官能基を有するラジカル重合性化合物を1種以上重合させて、必要に応じて他のラジカル重合性化合物と共重合させ、幹高分子化合物を合成した後に、上記一般式(E)で表される基を有する化合物を反応させて所望の高分子化合物を得ることできる。
ここで、一般式(E)で表される基を有する化合物の例としては、前述のかかる官能基を有するラジカル重合性化合物の具体例として挙げた化合物が挙げられる。
一般式(B)で表される不飽和基と、該不飽和基よりも更に付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを有するラジカル重合性化合物を1種以上と、更に必要に応じて、他のラジカル重合性化合物を重合させて、高分子化合物を得る方法。この方法は、一分子中に付加重合性の異なるエチレン性不飽和基を複数有する化合物、例えば、アリルメタクリレートのような化合物を用いる方法である。
官能基を有するラジカル重合性化合物を1種以上重合させて高分子化合物を合成した後に、側鎖官能基と下記一般式(F)で表される構造を有する化合物を反応させて一般式(B)で表される基を導入する方法。
一般式(F)で表される構造を有する化合物としては、アリルアルコール、アリルアミン、ジアリルアミン、2−アリロキシエチルアルコール、2−クロロ−1−ブテン、アリルイソシアネート等が例として挙げられる。
一般式(C)で表される不飽和基と、該不飽和基よりも更に付加重合性に富んだエチレン性不飽和基とを有するラジカル重合性化合物を1種以上と、更に必要に応じて、他のラジカル重合性化合物と共重合させて、高分子化合物を得る方法。
官能基を有するラジカル重合性化合物を1種以上重合させて高分子化合物を合成した後に、側鎖官能基と一般式(G)で表される構造を有する化合物を反応させて導入する方法。
一般式(G)で表される構造を有する化合物としては、2−ヒドロキシエチルモノビニルエーテル、4−ヒドロキシブチルモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、4−クロロメチルスチレン等が例として挙げられる。
前記一般式(A)〜(C)で表される構造のラジカル重合性基を有する繰り返し単位として好ましい具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
コポリマーとして用いる場合の共重合成分としては、ラジカル重合可能なモノマーであれば従来公知のものを制限なく使用できる。具体的には、「高分子データハンドブック−基礎編−(高分子学会編、培風館、1986)」記載のモノマー類が挙げられる。このような共重合成分は1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせて使用してもよい。
より具体的には、R22で表される連結基の主骨格を構成する原子数が、1〜30であることが好ましく、3〜25であることがより好ましく、4〜20であることが更に好ましく、5〜10であることが最も好ましい。なお、本発明における「連結基の主骨格」とは、一般式(2)におけるAと末端COOHとを連結するためのみに使用される原子又は原子団を指し、特に、連結経路が複数ある場合には、使用される原子数が最も少ない経路を構成する原子又は原子団を指す。したがって、連結基内に環構造を有する場合、その連結部位(例えば、o−、m−、p−など)により算入されるべき原子数が異なる。
鎖状構造の連結基としては、エチレン、プロピレン等が挙げられる。また、これらのアルキレンがエステル結合を介して連結されている構造もまた好ましいものとして例示することができる。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−ノルボルニル基等の炭素数1〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルキル基が挙げられる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、インデニル基等が挙げられる。また、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる群から選ばれるヘテロ原子を1個含有する炭素数10までのヘテロアリール基を用いることもでき、具体的には、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基等が挙げられる。
アルケニル基の具体例としては、ビニル基、1−プロペニル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−シクロペンテニル基、1−シクロヘキセニル基等の炭素数2〜10までの直鎖状、分枝状、又は環状のアルケニル基が挙げられる。
アルキニル基の具体例としては、エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、1−オクチニル基等の炭素数2〜10までのアルキニル基が挙げられる。
ここで、R23で表される炭素数1〜10の一価の炭化水素基は更に置換基を有していてもよく、導入し得る置換基としては、R22が導入し得る置換基として挙げたものと同様である。但し、R23の炭素数は、置換基の炭素数を含めて1〜10である。
特定バインダーポリマー中における、一般式(II)で表される繰り返し単位の総含有量は、その構造や、記録層の設計等によって適宜決められるが、好ましくはポリマー成分の総モル量に対し、1〜99モル%、より好ましくは5〜40モル%、更に好ましくは5〜20モル%の範囲で含有される。
更に、これらの置換基における、アシル基(R01CO−)におけるR01としては、水素原子、並びに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。
本発明の重合性組成物は、感度向上という点から、(E)共開始剤を含有してもよい。
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(a)芳香族ケトン類としては、「RADIATION CURING IN POLYMER SCIENCE AND TECHNOLOGY」J.P.Fouassier,J.F.Rabek(1993),p77−117記載のベンゾフェノン骨格或いはチオキサントン骨格を有する化合物が挙げられる。例えば、
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(b)オニウム塩化合物としては、下記一般式(1)〜(3)で表される化合物が挙げられる。
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(c)有機過酸化物としては、分子中に酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、1,1−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)シクロヘキサン、2,2−ビス(ターシャリイブチルパーオキシ)ブタン、ターシャリイブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリイブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス(ターシャリイブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ターシャリイブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−キサノイルパーオキサイド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、ターシャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリイブチルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパーオキシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオキシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオキシ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、ターシャリイブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネート、3,3’4,4’−テトラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’4,4’−テトラ−(p−イソプロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレート)等がある。
本発明で用いられるラジカル開始剤として好ましい(d)チオ化合物としては、下記一般式(4)で示される構造を有する化合物が挙げられる。
上記一般式(4)におけるアルキル基としては、炭素原子数1〜4個のものが好ましい。またアリール基としてはフェニル、ナフチルのような炭素原子数6〜10個のものが好ましく、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に塩素原子のようなハロゲン原子、メチル基のようなアルキル基、メトシキ基、エトキシ基のようなアルコキシ基で置換されたものが含まれる。R27は、好ましくは炭素原子数1〜4個のアルキル基である。一般式(4)で示されるチオ化合物の具体例としては、下記に示すような化合物が挙げられる。
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(e)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、特公昭45−37377号、特公昭44−86516号記載のロフィンダイマー類、例えば2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(m−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o,o’−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニトロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフルオロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾール等が挙げられる。
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(f)ケトオキシムエステル化合物としては、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニルオキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシカルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等が挙げられる。
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(g)ボレート化合物の例としては、下記一般式(5)で表される化合物を挙げることができる。
上記R28〜R31のアルキル基としては、直鎖、分枝、環状のものが含まれ、炭素原子数1〜18のものが好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ステアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上記のようなアルキル基に、ハロゲン原子(例えば−Cl、−Brなど)、シアノ基、ニトロ基、アリール基(好ましくはフェニル基)、ヒドロキシ基、−COOR32(ここでR32は水素原子、炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す)、−OCOR33又は−OR34(ここでR33、R34は炭素数1〜14のアルキル基、又はアリール基を示す)、及び下記式で表されるものを置換基として有するものが含まれる。
上記R28〜R31のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基などの1〜3環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基又は、炭素数1〜14のアルキル基を有するものが含まれる。上記R28〜R31のアルケニル基としては、炭素数2〜18の直鎖、分枝、環状のものが含まれ。置換アルケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。上記R28〜R31のアルキニル基としては、炭素数2〜28の直鎖又は分枝のものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれる。また、上記R28〜R31の複素環基としてはN、S及びOの少なくとも1つを含む5員環以上、好ましくは5〜7員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述の置換アリール基の置換基として挙げたものを有していてもよい。一般式(5)で示される化合物例としては具体的には米国特許3,567,453号、同4,343,891号、ヨーロッパ特許109,772号、同109,773号に記載されている化合物及び以下に示すものが挙げられる。
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(h)アジニウム塩化合物としては、特開昭63−138345号、特開昭63−142345号、特開昭63−142346号、特開昭63−143537号ならびに特公昭46−42363号記載のN−O結合を有する化合物群をあげることができる。
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(i)メタロセン化合物としては、特開昭59−152396号、特開昭61−151197号、特開昭63−41484号、特開平2−249号、特開平2−4705号記載のチタノセン化合物ならびに、特開平1−304453号、特開平1−152109号記載の鉄−アレーン錯体をあげることができる。
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(j)活性エステル化合物としては、特公昭62−6223記載のイミドスルホネート化合物、特公昭63−14340号、特開昭59−174831号記載の活性スルホネート類をあげることができる。
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(k)炭素ハロゲン結合を有する化合物としては、下記一般式(6)から(12)のものを挙げることができる。
本発明に用いられるラジカル開始剤として好ましい(i)アゾ系化合物としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビスプロピオニトリル、1,1’−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビスイソ酪酸ジメチル、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミドオキシム)、2,2’−アゾビス[2−(2−イミダゾリン−2−イル)プロパン]、2,2’−アゾビス{2−メチル−N−[1,1−ビス(ヒドロキシメチル)−2−ヒドロキシエチル]プロピオンアミド}、2,2’−アゾビス[2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)プロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(N−ブチル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス(N−シクロヘキシル−2−メチルプロピオンアミド)、2,2’−アゾビス[N−(2−プロペニル)−2−メチルプロピオンアミド]、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等を挙げることができる。
本発明においては、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色剤として使用することができる。具体的には、オイルイエロー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー(CI52015)等、及び特開昭62−293247号に記載されている染料を挙げることができる。また、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンなどの顔料も好適に用いることができる。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、上述した重合性組成物を含む記録層を備えてなることを特徴とするネガ型平版印刷版原版である。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、本発明の重合性組成物を含む記録層を備えてなり、必要に応じて、バックコート層、中間層、保護層等の他の層を備えていてもよい。
塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。
本発明の平版印刷版原版に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)等が挙げられる。これらは、樹脂フィルムや金属板などの単一成分のシートであっても、2以上の材料の積層体であってもよく、例えば、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙やプラスチックフィルム、異種のプラスチックフィルム同志の積層シート等が含まれる。
前記アルミニウム板の厚みは、およそ0.1〜0.6mm程度、好ましくは0.15〜0.4mm、特に好ましくは0.2〜0.3mmである。
アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭54−63902号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
陽極酸化皮膜の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好ましくは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化被膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分であったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
尚、このような陽極酸化処理は平板印刷版の支持体の印刷に用いる面に施されるが、電気力線の裏回りにより、裏面にも0.01〜3g/m2の陽極酸化被膜が形成されるのが一般的である。
これらの中で、本発明において特に好ましい親水化処理は珪酸塩処理である。珪酸塩処理について、以下に説明する。
珪酸塩処理により、アルミニウム板表面上の親水性が一層改善されるため、印刷の際、インクが非画像部に付着しにくくなり、汚れ性能が向上する。
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては、特開平5−45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開平6−35174号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。
これらの被覆層のうち、SI(OCH3)4、SI(OC2H5)4、SI(OC3H7)4、SI(OC4H9)4などの珪素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから与られる金属酸化物の被覆層が耐現像性に優れており特に好ましい。
本発明の平版印刷版原版には、記録層と支持体との間の密着性や汚れ性を改善する目的で、中間層を設けてもよい。このような中間層の具体例としては、特公昭50−7481号、特開昭54−72104号、特開昭59−101651号、特開昭60−149491号、特開昭60−232998号、特開平3−56177号、特開平4−282637号、特開平5−16558号、特開平5−246171号、特開平7−159983号、特開平7−314937号、特開平8−202025号、特開平8−320551号、特開平9−34104号、特開平9−236911号、特開平9−269593号、特開平10−69092号、特開平10−115931号、特開平10−161317号、特開平10−260536号、特開平10−282682号、特開平11−84674号、特願平8−225335号、特願平8−270098号、特願平9−195863号、特願平9−195864号、特願平9−89646号、特願平9−106068号、特願平9−183834号、特願平9−264311号、特願平9−127232号、特願平9−245419号、特願平10−127602号、特願平10−170202号、特願平11−36377号、特願平11−165861号、特願平11−284091号、特願2000−14697号等に記載のものを挙げることができる。
本発明の平版印刷版原版は、通常、露光を大気中で行うため、記録層の上に、更に、保護層(オーバーコート層とも呼ばれる)を設けることが好ましい。保護層は、記録層中で露光により生じる画像形成反応を阻害する大気中に存在する酸素や塩基性物質等の低分子化合物の記録層への混入を防止し、大気中での露光を可能とする。従って、このような保護層に望まれる特性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであり、更に、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、記録層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易に除去できることが望ましい。このような、保護層に関する工夫が従来よりなされており、米国特許第3、458、311号、特公昭55−49729号に詳しく記載されている。保護層に使用できる材料としては、例えば、比較的結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いることがよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビアゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知られているが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成分として用いることが、酸素遮断性、現像除去性といった基本特性的に最も良好な結果を与える。
従って、本発明においては、接着力、感度、不要なカブリの観点から、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンを併用することが好ましい。添加量比(質量比)は、ポリビニルアルコール/ポリビニルピロリドンが3/1以下であることが好ましい。塗布質量としては、1.0g/m2〜3.0g/m2であることが好ましい。
上述された支持体表面に、本発明の重合性組成物を記録層に適用した平版印刷版原版は、赤外線レーザで記録することができる。また、紫外線ランプやサーマルヘッドによる熱的な記録も可能である。本発明においては、波長760nmから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及び半導体レーザにより画像露光されることが好ましい。
また、実質的に未使用の処理液で処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
平版印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28062号、特開昭62−31859号、同61−159655号の各公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8g/m2(乾燥質量)が適当である。
整面液が塗布された平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー(例えば、富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー:BP−1300)等で高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好ましい。
(支持体の作製)
99.5%以上のアルミニウムと、Fe 0.30%、SI 0.10%、TI0.02%、Cu 0.013%を含むJIS A 1050合金の溶湯を清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はDC鋳造法で行った。凝固した板厚500mmの鋳塊を表面から10mm面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように550℃で10時間均質化処理を行った。
次いで、400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で500℃60秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧0.30mmのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さRaを0.2μmに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。
まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去するため10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間脱脂処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行った。
次いで支持体と記録層の密着性を良好にし、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。1%の硝酸と0.5%の硝酸アルミを含有する水溶液を45℃に保ち、アルミウェブを水溶液中に流しながら、間接給電セルにより電流密度20A/dm2、デューティー比1:1の交番波形でアノード側電気量240C/dm2を与えることで電解砂目立てを行った。その後10%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処理を行い、30%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマット除去処理を行った。
下記組成の記録層塗布液1を調製し、上記のようにして得られたアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して記録層を形成した。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。
さらに、下記組成のオーバーコート層塗布液A又はオーバーコート層塗布液Bをスライドホッパーを用いて塗布し、温風乾燥装置にて120℃で75秒間乾燥して、各実施例及び比較例について各々2態様(オーバーコート層塗布液Aでオーバーコート層を形成した態様、及びオーバーコート層塗布液Bでオーバーコート層を形成した態様)の平版印刷版原版を得た。オーバーコート層の塗布量は2.3g/m2であった。
・(A)一般式(I)(III)、(IV)で表される化合物又は他のラジカル開始剤
(表1に記載の化合物) 0.35g
・(B)赤外線吸収剤(表2に記載の化合物) 0.08g
・(C)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物
(A−BPE−4、新中村化学(株)製) 2.0g
・(D)バインダーポリマー(表2に記載の化合物) 2.0g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) 0.01g
・メチルエチルケトン 9.0g
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 8.0g
・メタノール 10.0g
・ポリビニルアルコール 2.5g
(ケン化度98.5モル%、重合度500)
・ポリビニルピロリドン 0.5g
(K30、東京化成工業(株)製、分子量4万)
・非イオン性界面活性剤 0.05g
(EMAREX NP−10、日本エマルジョン社(株)製
・イオン交換水 96.95g
・ポリビニルアルコール 0.5g
(ケン化度98.5モル%、重合度500)
・ポリビニルピロリドン 2.5g
(K30、東京化成工業(株)製、分子量4万)
・非イオン性界面活性剤 0.05g
(EMAREX NP−10、日本エマルジョン社(株)製)
・イオン交換水 96.95g
得られた各ネガ型平版印刷版原版に対して露光及び現像処理を行うことで平版印刷版を得た。各処理の詳細は以下の通りである。
得られたネガ型平版印刷版原版を、水冷式40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter 3244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数210rpm、解像度2400dpiの条件で露光した。
露光後、富士写真フイルム(株)製自動現像機スタブロン900Nを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム(株)製DV−2の1:4水希釈液を用いた。現像浴の温度は30℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム(株)製FN−6の1:1水希釈液(pH=10.8)を用いた。
1.感度及び感度の酸素量依存性
オーバーコート層A又はオーバーコート層Bを形成した平版印刷版原版に対して、上記露光(波長830〜850nm程度の赤外線レーザによる)及び現像により得られた画像の線幅とレーザー出力、光学系でのロス及び走査速度を基に、記録に必要なエネルギー量を算出した。数値が小さいほど高感度であることを表す。結果を表2に併記する。
また、感度の酸素量依存性については、酸素透過性の低いオーバーコート層Aを用いた時の感度と、酸素透過性の高いオーバーコート層Bを用いた時の感度とを比較し、その感度に差がない場合に、感度の酸素量依存性が低いと評価する。
オーバーコート層Aを形成した各平版印刷版原版に対して、レーザ露光前の上記感光材料を高湿条件下(45℃、湿度75%)に3日間放置し、その後この保存後の感材を前記と同様にレーザ露光し記録に必要なエネルギー量を算出し、高湿保存前後のエネルギー比(高温保存後のエネルギー/高温保存前のエネルギー)を求めた。このエネルギー比が1.1以下であることが製造上好ましく保存安定性においても良好といえる。結果を表2に併記する。
オーバーコート層Aを形成した各平版印刷版原版に対して、ローラーンド社製R201の印刷機で、大日本インキ社製GEOS−G(N)のインキを用いて印刷を行った。ベタ画像部の印刷物を観察し、画像がかすれはじめた枚数によって耐刷性を調べた。枚数が多いほど耐刷性に優れる。結果を表2に併記する。
上記と同様の露光・現像処理を行って得られた各平版印刷版を用い、上記3.と同様に印刷し、1万枚印刷した後における汚れを目視で観察し評価した。結果を表2に併記する。
評価基準は、汚れがないものを◎、実用上問題のないものを○、顕著に汚れがあるものを×とした。
(下塗り層の形成)
実施例1と同様のアルミニウム支持体に、下記組成の下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥装置を用いて90℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は10mg/m2であった。
・β−アラニン 0.1g
・フェニルホスホン酸 0.1g
・メタノール 40g
・純水 60g
次に、下記組成の記録層塗布液2を調製し、上記の下塗り済みのアルミニウム板にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して記録層を形成した。乾燥後の記録層の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。さらに、実施例1と同様のオーバーコート層塗布液A又はオーバーコート層塗布液Bを、スライドホッパーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて120℃で75秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。オーバーコート層の塗布量2.3g/m2であった。
・(A)一般式(I)、(III)、(IV)で表される化合物、又は他のラジカル開始剤
(表1に記載の化合物) 0.35g
・(B)赤外線吸収剤(表3に記載の化合物) 0.08g
・(C)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物
(A−BPE−4、新中村化学(株)製) 2.0g
・(D)バインダーポリマー(表3に記載の化合物) 2.0g
・(E)共開始剤(表3に記載の化合物) 0.35g
・フッ素系界面活性剤
(メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) 0.01g
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g
・メチルエチルケトン 9.0g
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 8.0g
・メタノール 10.0g
得られたネガ型平版印刷版原版に対する露光及び現像処理は、実施例1と同様にして行った。
得られた各平版印刷版について、実施例1と同様にして、感度及び感度の酸素量依存性、保存安定性、耐刷性、及び汚れ性に関する評価を行った。結果を表3に併記する。
(下塗り層の形成)
実施例1と同様のアルミニウム支持体に、印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケート処理を行った。処理は3号珪酸ソーダ1.5%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接触時間が15秒となるよう通搬し、さらに水洗した。Siの付着量は10mg/m2であった。以上により作製した支持体のRa(中心線表面粗さ)は0.25μmであった。
下記組成の記録層塗布液3を上記下塗り済みのアルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して記録層を形成した。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。
・(A)一般式(I)、(III)、(IV)で表される化合物又は他のラジカル開始剤
(表4に記載の化合物) 0.35g
・(B)赤外線吸収剤(表4に記載の化合物) 0.08g
・(C)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物
(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート) 2.0g
・(D)バインダーポリマー(表4に記載の化合物) 2.0g
・(E)共開始剤(表4に記載の化合物) 0.35g
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g
・フッ素系界面活性剤 0.01g
(メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製)
・メチルエチルケトン 9.0g
・メタノール 10.0g
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g
得られたネガ型平版印刷版原版に対する露光及び現像処理は、実施例1と同様にして行った。
得られた平版印刷版に対して、実施例1と同様にして、感度、保存安定性、耐刷性、及び汚れ性に関する評価を行った。結果を表4に併記する。
また、本発明の重合性組成物を記録層に適用した本発明の平版印刷版原版は、高感度、保存安定性、耐刷性、及び汚れ性に優れた平版印刷版原版であり、特に、赤外光を放射する半導体レーザ光を用いて記録することによりコンピューター等のデジタルデータから直接製版可能なネガ型平版印刷版原版であることが分かった。
Claims (5)
- 支持体上に、(A)下記一般式(I)で表される化合物、(B)赤外線吸収剤、及び(C)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物、を含有する重合性組成物を含む記録層と、ポリビニルアルコールを含有する保護層と、を備えてなることを特徴とするネガ型平版印刷版原版。
(一般式(I)中、R1は、置換基を有してもよい炭素数6〜20のアルキル基を表す。R2、R3、R4、R5、及びR6は、各々独立に、水素原子又は一価の有機基を表す。X-は任意のアニオンを表す。) - 支持体上に、(A)下記一般式(III)で表される化合物、(B)赤外線吸収剤、及び(C)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物、を含有する重合性組成物を含む記録層と、ポリビニルアルコールを含有する保護層と、を備えてなることを特徴とするネガ型平版印刷版原版。
(一般式(III)中、R2〜R6は、水素原子、又は1価の有機基を表す。Wはn価の有機連結基を表す。nは2以上の整数を表す。X-は任意のアニオンを表す。) - 支持体上に、(A)下記一般式(IV)で表される化合物、(B)赤外線吸収剤、及び(C)付加重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも1つ有する化合物、を含有する重合性組成物を含む記録層と、ポリビニルアルコールを含有する保護層と、を備えてなることを特徴とするネガ型平版印刷版原版。
(一般式(IV)中、R2〜R6は、水素原子又は1価の有機基を表す。Pはポリマー主鎖を表す。Aは単結合又は2価の有機連結基を表す。mは1以上の整数を表す。) - 前記重合性組成物が、さらに、(D)側鎖にラジカル重合性基を少なくとも1つ有するバインダーポリマー、を含有する請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のネガ型平版印刷版原版。
- 前記(D)側鎖にラジカル重合性基を少なくとも1つ有するバインダーポリマーが、さらに、下記一般式(II)で表される繰り返し単位を有することを特徴とする請求項4に記載のネガ型平版印刷版原版。
(一般式(II)中、R21は水素原子又はメチル基を表し、R22は炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子からなる群より選択される2以上の原子を含んで構成され、その総原子数が2〜82である連結基を表す。Aは酸素原子又は−NR23−を表し、R23は水素原子又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基を表す。nは1〜5の整数を表す。)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004224215A JP4471101B2 (ja) | 2004-07-30 | 2004-07-30 | 平版印刷版原版 |
US11/192,425 US7771916B2 (en) | 2004-07-30 | 2005-07-29 | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor |
EP07007871A EP1803556A1 (en) | 2004-07-30 | 2005-07-29 | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor |
EP05016621A EP1621340A3 (en) | 2004-07-30 | 2005-07-29 | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004224215A JP4471101B2 (ja) | 2004-07-30 | 2004-07-30 | 平版印刷版原版 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006047374A JP2006047374A (ja) | 2006-02-16 |
JP4471101B2 true JP4471101B2 (ja) | 2010-06-02 |
Family
ID=35311302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004224215A Expired - Fee Related JP4471101B2 (ja) | 2004-07-30 | 2004-07-30 | 平版印刷版原版 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7771916B2 (ja) |
EP (2) | EP1803556A1 (ja) |
JP (1) | JP4471101B2 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1872942B1 (en) * | 2006-06-30 | 2014-06-18 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method |
JP4881756B2 (ja) * | 2007-02-06 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素 |
JP4887192B2 (ja) * | 2007-03-22 | 2012-02-29 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
EP1975706A3 (en) * | 2007-03-30 | 2010-03-03 | FUJIFILM Corporation | Lithographic printing plate precursor |
JP2009069761A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の製版方法 |
EP2098367A1 (en) | 2008-03-05 | 2009-09-09 | Eastman Kodak Company | Sensitizer/Initiator Combination for Negative-Working Thermal-Sensitive Compositions Usable for Lithographic Plates |
US8846160B2 (en) | 2008-12-05 | 2014-09-30 | 3M Innovative Properties Company | Three-dimensional articles using nonlinear thermal polymerization |
JP5538095B2 (ja) * | 2010-06-29 | 2014-07-02 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性組成物、並びに、この組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 |
US11796914B2 (en) | 2017-07-20 | 2023-10-24 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin structure for printing plate, and method for producing same |
CN111454598A (zh) * | 2020-04-17 | 2020-07-28 | 湖北固润科技股份有限公司 | 适用于近红外led光源辐照固化的光固化组合物及其用途 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE525225A (ja) * | 1951-08-20 | |||
JPS4028499B1 (ja) | 1961-10-23 | 1965-12-17 | ||
CA933792A (en) | 1968-10-09 | 1973-09-18 | W. Heseltine Donald | Photopolymerization |
US3574622A (en) * | 1968-10-09 | 1971-04-13 | Eastman Kodak Co | Photopolymerization using n-alkoxy heterocyclic initiators |
GB1513368A (en) | 1974-07-08 | 1978-06-07 | Vickers Ltd | Processing of radiation-sensitive members |
JPS51143409A (en) | 1975-06-04 | 1976-12-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method of making lithographic press plate |
JPS61159655A (ja) | 1985-01-07 | 1986-07-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版方法 |
JPS6231859A (ja) | 1985-08-01 | 1987-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版方法 |
US4743530A (en) | 1986-11-21 | 1988-05-10 | Eastman Kodak Company | Negative working photoresists responsive to longer wavelengths and novel coated articles |
US4876175A (en) | 1988-05-09 | 1989-10-24 | Eastman Kodak Company | Dye sensitized photographic imaging systems |
DE68916332T2 (de) | 1988-07-28 | 1994-12-08 | Du Pont | Bei längeren Wellenlängen wirksamer Photopolymerisations- sensibilisator. |
US5372915A (en) | 1993-05-19 | 1994-12-13 | Eastman Kodak Company | Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer |
JP3321288B2 (ja) | 1994-04-25 | 2002-09-03 | 日本ペイント株式会社 | 近赤外光重合性組成物 |
JPH09100306A (ja) | 1995-10-05 | 1997-04-15 | Showa Denko Kk | 光/熱重合性組成物 |
JP3791097B2 (ja) | 1997-03-10 | 2006-06-28 | 東洋インキ製造株式会社 | 重合開始剤、重合性組成物およびその硬化物 |
TW455616B (en) * | 1997-11-03 | 2001-09-21 | Ciba Sc Holding Ag | New quinolinium dyes and borates, combinations thereof as photoinitiator compositions and photopolymerizable compositions comprising these photoinitiators |
US6007833A (en) * | 1998-03-19 | 1999-12-28 | Surmodics, Inc. | Crosslinkable macromers bearing initiator groups |
DE19906823C2 (de) | 1999-02-18 | 2002-03-14 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | IR-Empfindliche Zusammensetzung und deren Verwendung zur Herstellung von Druckplatten |
US6638686B2 (en) * | 1999-12-09 | 2003-10-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Planographic printing plate |
EP1400851A3 (en) * | 2002-09-11 | 2006-09-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polymerizable composition and planographic printing plate precursor using the same |
JP2004115673A (ja) * | 2002-09-26 | 2004-04-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 重合性組成物 |
-
2004
- 2004-07-30 JP JP2004224215A patent/JP4471101B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-07-29 US US11/192,425 patent/US7771916B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-07-29 EP EP07007871A patent/EP1803556A1/en not_active Withdrawn
- 2005-07-29 EP EP05016621A patent/EP1621340A3/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006047374A (ja) | 2006-02-16 |
US7771916B2 (en) | 2010-08-10 |
EP1621340A3 (en) | 2006-08-30 |
EP1621340A2 (en) | 2006-02-01 |
EP1803556A1 (en) | 2007-07-04 |
US20060051701A1 (en) | 2006-03-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070126 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |