JPH09239942A - 湿し水不要平版印刷原版及びその製版方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高感度でレーザー記録でき、解像力、保存
性に優れ、且つ、剥離現像が可能である湿し水不要平版
印刷原版、及び、これを用いた簡便で精度の高い印刷用
平版の製版方法を提供する。 【解決手段】 支持体上に、（Ａ）活性光線の照射によ
り酸を発生する物質と、（Ｂ）レーザー光を熱に変換す
る物質と、（Ｃ）酸性条件下で加熱することで分解する
高分子化合物と、を含有するレーザー感応層（第１
層）、さらに、この上にインク反発性の表面を有する層
（第２層）を設けたことを特徴とする湿し水不要平版印
刷原版、及び、その湿し水不要平版印刷原版を製版する
方法であって、（１）紫外線もしくは可視光線を全面露
光する工程と、（２）レーザー光を画像様に照射し、レ
ーザー光照射部を加熱する工程と、（３）レーザー光照
射部において少なくともインク反発性の表面を有する層
を除去する工程と、を含むことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いない
で印刷が可能な湿し水不要性平版印刷原版（以下、水な
し平版と称する）に関し、特にコンピューター等のデジ
タル信号から直接描画できるダイレクト製版用の湿し水
不要性平版印刷原版及びその簡単な製版方法に関する。

【従来の技術】印刷を行うための印刷版の手法には、活
版印刷、グラビア印刷および平版オフセット印刷などが
伝統的な手法として知られている。近年、特殊な分野を
除いては平版を用いる印刷が増加している。この平版オ
フセット印刷においては、プレート表面に親水性、親油
性の画像パターンを形成し、インキ反発性化合物として
湿し水を用いる水あり平版と、プレート表面にインキ反
発性、インキ受容性の画像パターンを形成し、湿し水を
用いない水なし平版とが知られている。このうち水なし
平版は、（ｉ）湿し水を用いないために印刷作業に熟練
を要しないこと、（ii）インキ濃度が印刷初期から安定
し、損紙が少なく少部数の印刷を行う場合にも経済的で
ある、など水あり平版に対して有利な特徴を持ってい
る。

【０００１】さて、コンピューター技術の進展により、
従来手作業で行われていた印刷の前工程である製版工程
がデジタル化され、印刷の画像がデジタルデーター化さ
れてきている。このため、デジタル画像データーからリ
スフイルムを介さず直接印刷版材料を形成する技術（コ
ンピューター・ツー・プレート技術）が近年進展してき
ている。しかしこれらの技術は、水あり平版を形成する
ものは多く提供されているが、水なし平版を形成できる
ものはほとんど知られていないのが実状である。

【０００２】レーザー書き込みにより水なし平版を形成
できる例として、レーザー光源として赤外線レーザーな
どのレーザー光を用い、レーザー光を露光し、吸収され
たエネルギーを熱に変換することで、露光部のみを加熱
し、部分的な燃焼・爆発反応を生起させ、この反応によ
りインク反発層であるシリコーン層を除去するか、又は
除去を容易になすことで、水なし平版が形成されるもの
が知られている。この例として、特公昭４２−２１８７
９号公報にその最も古い開示があり、ここには、インキ
反発性のシリコーン層をレーザー照射により一部除去し
てインク付着性とし、水なし印刷用の平版を製版するこ
とが記載されている。さらに、特開昭５０−１５８４０
５号公報および欧州特許ＥＰ−０５７３０９１号明細書
には、シリコーンゴム表面層を有する印刷原版に、赤外
光レーザーであるＹＡＧレーザーを照射し、レーザー照
射部を除去して水なし平版を製版する方法が開示されて
いる。

【０００３】国際出願ＷＯ−９４０１２８０号には、シ
リコーン層上にカバーシートを設けた印刷原版を、レー
ザー照射してシリコーン層をカバーシートに転写し、そ
の後カバーシートを転写されたシリコーン層とともに剥
離除去して水なし平版を形成する熱転写方式の水なし平
版の製版方法が記載されている。この明細書には、熱に
より分解して酸を発生する化合物を添加することが示さ
れ、発生した酸を触媒にして分解するバインダーを用い
た系が開示されている。

【０００４】上記のように、レーザー光を熱エネルギー
に変換して水なし平版を形成する方法は、従来いくつか
提案されているが、まだ未解決の問題点を有している。
即ち、前記の水なし平版はいずれもレーザーに対する感
度が低く、感度の低さを補うために書き込み用のレーザ
ー光源を数多く使用しないと実用的な記録速度が達成で
きない。このため、多くの光源レーザーの使用は書き込
み機のコストを増大させる大きな要因となっており、レ
ーザーに対する感度、即ち書き込み感度を上げられば、
用いるレーザー光源数を低減でき、書き込み機の低コス
ト化に極めて有用である。また、これら公知の水なし平
版は、書き込み条件によっては画像のエッジシャープネ
スが劣化する問題を有している。たとえば、書き込み時
間を短縮するために、レーザーの出力を上げ、レーザー
照射時間を短縮する（与える総エネルギーは同一のま
ま）と、画像のエッジシャープネスが大きく低下し、書
き込み時間短縮の障害となっていた。また、公知の熱分
解して酸を生成する化合物を用いた系では、酸発生反応
と酸触媒熱分解反応とがレーザー照射の短い時間内には
充分進行せず、感度が不十分であった。さらに、レーザ
ー光を熱エネルギーに変換し、所望の層間剥離性の向上
を達成するために、赤外線吸収色素自身が酸発生剤であ
るような高価な赤外線吸収剤を必要とし、高コストとな
ることも問題であった。

【０００５】例えば、特開昭６３−８８５５６号公報に
は、光により酸を発生する化合物（光酸発生剤）、酸に
より分解可能なＣ−Ｏ−Ｃ結合を有し分解して溶解性の
変化する化合物、水溶性バインダーを含有する感光層、
さらに無定型ケイ酸からなる中間層を介しシリコーンゴ
ム層を有する水なし平版が開示されており、この平版を
露光した後、現像液を用いて可溶化した感光層を溶解除
去すると同時に、その上のシリコーンゴム層も除去して
インク受容部とする製版方法が提案されている。しかし
ながら、この場合には、感光層内に反応性の化合物が共
存し、生保存性がわるいこと、シリコーンゴム層などの
除去が溶剤を必要とする溶解現像に限られ、より簡易な
剥離現像が不可能なこと、長波長領域のレーザーに対す
る感度を有しないこと、など種々の問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、高感度でレーザー記録でき、解像力、保存性を満足
する水なし平版を提供することにある。また、本発明の
目的は、短時間露光時にはエッジシャープネスが悪化せ
ず、解像力の良好なレーザー記録ができる水なし平版を
提供することにある。本発明の目的は、高価な赤外線吸
収剤を使用せずに赤外線に感度を有するレーザー記録可
能な水なし平版を実現することにある。本発明の目的
は、溶解現像することなく、より簡易な剥離現像が可能
である水なし平版を提供することにある。また、本発明
のさらなる目的は、上記水なし平版を用いた、簡便で精
度の高い印刷用平版の製版方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、レーザー
書き込みできる水なし平版について鋭意検討を行った結
果、上記の目的は、下記の湿し水不要平版印刷原版およ
びその製版方法により達成しうることを見出し、本発明
を完成した。

【０００８】本発明の湿し水不要平版印刷原版は、支持
体上に、（Ａ）活性光線の照射により酸を発生する化合
物（以下、光酸発生剤と称する）、（Ｂ）レーザー光を
熱に変換する化合物（以下、光熱変換化合物と称す
る）、及び、（Ｃ）酸性条件下で加熱することで分解す
る高分子化合物（以下、酸分解性バインダーと称す
る）、を含有するレーザー感応層（第１層）を設け、さ
らにこの上にインク反発性の表面を有する層（以下、適
宜、インク反発層と称する）（第２層）を設けたことを
特徴とする。

【０００９】また、本発明の湿し水不要平版印刷原版の
製版方法は、支持体上に、（Ａ）活性光線の照射により
酸を発生する化合物、（Ｂ）レーザー光を熱に変換する
化合物、及び、（Ｃ）酸性条件下で加熱することで分解
する高分子化合物、を含有するレーザー感応層（第１
層）を設け、さらにこの上にインク反発性の表面を有す
る層（第２層）を設けた、湿し水不要平版印刷原版の製
版方法であって、（１）紫外線もしくは可視光線を全面
露光する工程、（２）赤外線レーザー光を画像様に照射
し、レーザー光照射部を加熱する工程、及び、（３）レ
ーザー光照射部において少なくともインク反発性の表面
を有する層を除去する工程、を含むことを特徴とする。

【００１０】本発明の水なし平版は、レーザー露光する
前に、印刷原版が全面に前露光される。これによりレー
ザー感応層中の（Ａ）光酸発生剤が分解し、印刷原版全
面において一様に酸を生成する。次に印刷原版はレーザ
ー光を画像様に照射され、その部分のみがレーザー露光
される。このときレーザー感応層中の（Ｂ）光熱変換化
合物の作用によりレーザー露光部のみが選択的に加熱さ
れる。従って、（Ｃ）酸性条件下で加熱することにより
分解する高分子化合物が、前記（Ａ）及び（Ｂ）の化合
物による酸と加熱との影響で分解され、当該部分ではレ
ーザー感応層とその上に形成されたインク反発性の表面
を有する層、一般にはシリコーン層、との密着性が低下
し、剥離もしくはコスリ等によりインク反発層が容易に
除去されインク受容性の画像パターンが形成される。従
来のレーザー露光による加熱のみでは実現できない化学
変化を、触媒量の酸の存在により有利に実現することで
レーザー感度が向上され、さらに、触媒となる酸をレー
ザー露光の直前に生成させることで版材の生保存性を向
上させることができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下に本発明をさらに詳細に説明
する。本発明において使用される水なし平版は、レーザ
ー感応層（第１層）とインク反発性層（第２層）を支持
体の上に設けてなるものである。第１層であるレーザー
感応層は支持体とインク反発性の第２層との間に形成さ
れている。

【００１２】本発明の水なし平版の支持体としては、通
常オフセット印刷に用いられる公知の金属、プラスチッ
クフィルム、紙およびこれらの複合化された形態のすべ
ての支持体が使用できる。用いる印刷条件下で必要とさ
れる機械的強度、耐伸び特性などの物理的性能を満たす
必要があることは当然である。例えば、アルミニウムの
ような金属支持体、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、ポリカーボネートなどのプラス
チック支持体、紙もしくは紙にポリエチレン、ポリプロ
ピレンなどのプラスチックフィルムがラミネートされた
複合シートなどを例示することができる。支持体の膜厚
は２５μｍから３ｍｍ、好ましくは７５μｍから５００
μｍが適当であるが、用いる支持体の種類と印刷条件に
より最適な厚さは変動する。一般には１００μｍから３
００μｍが最も好ましい。

【００１３】本発明の水なし平版において前記支持体の
上に配置されるレーザー感応層（第１層）中には、
（Ａ）光酸発生剤、（Ｂ）光熱変換剤、及び、（Ｃ）酸
分解性バインダーを含有する。

【００１４】ここで、用いられる（Ａ）光酸発生剤は、
レーザー露光時の光を吸収して酸を発生するのでのでは
なく、レーザー露光前の全面露光時の光を吸収して酸を
生成する機能を有する。この光酸発生剤、即ち、活性光
線又は放射線の照射により分解して酸を発生する化合物
としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合
の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマ
イクロレジスト等に使用されている公知の光により酸を
発生する化合物、及びそれらの混合物を適宜に選択して
使用することができる。

【００１５】具体的には、例えば、S.I. Schlesinger,
Photogr. Sci.Eng.,第18巻、387 頁(1974 年) 、T.S.Ba
l et al, Polymer,第21巻、423 頁(1980 年) に記載の
ジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055 号、同4,069,05
6 号、同 Re 27,992号、特願平3-140140号の明細書に記
載のアンモニウム塩、D. C. Necker et al, Macromolec
ules, 第17巻、2468頁(1984 年) 、C.S.Wen et al.Teh,
Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, 478頁、Tokyo, Oct(1
988 年) 、米国特許第4,069,055 号、同4,069,056 号に
記載のホスホニウム塩、J.V.Crivello et al, Macromol
ecules, 第10巻、( 第 6号) 、1307頁(1977 年) 、Che
m. & Eng. News,第28巻,31 頁,(1988年)、欧州特許第10
4,143 号、米国特許第339,049 号、同第410,201 号、特
開平2-150848号、特開平2-296514号に記載のヨードニウ
ム塩、J.V.Crivello et al, Polymer J. 第17巻,73 頁
(1985 年) 、J. V. Crivello et al, J. Org. Chem .,
第43巻,30505頁、(1978 年) 、W.R. Watt et al,J. Pol
ymer Sci., Polymer Chem.Ed., 第22巻, 1789頁(1984
年) 、J. V. Crivello et al, Polymer Bull.,第14巻,
279 頁(1985 年) 、

【００１６】J. V. Crivello et al, Macromolecules,
第14巻(5) ，1141頁(1981 年) 、J. V. Crivello et a
l, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 第17巻, 287
7頁(1979 年) 、欧州特許第370,693 号、同3,902,114
号、同233,567 号、同297,443 号、同297,442 号、米国
特許第4,933,377 号、同161,811 号、同410,201 号、同
339,049 号、同4,760,013 号、同4,734,444 号、同2,83
3,827 号、独国特許第2,904,626 号、同3,604,580 号、
同3,604,581 号に記載のスルホニウム塩、 J.V.Crivell
o et al, Macromolecules, 第10巻(6),1307頁(1977
年) 、J.V.Crivello et al, J. Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 第17巻, 1047頁(1979 年) に記載のセレノ
ニウム塩、C. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. C
uring ASIA,Tokyo, 478 頁 Oct(1988年) に記載のアル
ソニウム塩等のオニウム塩、

【００１７】米国特許第3,905,815 号、特公昭46-4605
号、特開昭48-36281号、特開昭55-32070号、特開昭60-2
39736号、特開昭61-169835 号、特開昭61-169837 号、
特開昭62-58241号、特開昭62-212401 号、特開昭63-702
43号、特開昭63-298339号に記載の有機ハロゲン化合
物、K. Meier et al, J. Rad. Curing, 第13巻(4) ，26
頁(1986 年) 、T.P.Gill et al, Inorg. Chem., 第19
巻, 3007(1980)、D. Astruc, Acc. Chem. Res., 第19巻
(12),377頁(1896 年) 、特開平2-161445号に記載の有機
金属／有機ハロゲン化物、S. Hayase et al, J. Polyme
r Sci., 第25巻, 753 頁(1987 年) 、E Reichmanis et
al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 第23巻,1頁
(1985 年) 、

【００１８】Q. Q. Zhu et al, J. Photochem., 第36
巻, 85, 39, 317 頁(1987)、B. Amit etal,Tetrahedron
Lett., (24) 2205頁(1973 年) ,D. H. R. Barton et a
l, J. Chem Soc., 3571頁(1965 年) 、P. M. Collins e
t al, J. Chem. Soc., Perkin I, 1695頁(1975 年) 、
M. Rudinstein et al, Tetrahedron Lett., (17), 1445
頁(1975 年) 、J. W. Walker et al, J. Am. Chem. So
c., 110, 7170頁(1988 年)、S. C. Busman et al, J. I
maging Technol., 第11巻(4), 191頁(1985 年) 、H.
M. Houlihan et al, Macoromolecules, 第21巻, 2001
頁(1988 年) 、P. M.Collins et al, J. Chem. Soc., C
hem. Commun., 532頁(1972 年) 、S. Hayaseet al, Mac
romolecules, 18 巻, 1799(1985 年) 、E. Reichmanis
et al, J. Electrochem. Soc., Solid State Sci. Tech
nol., 130(6) F. M. Houlihan et al,Macromolecules,
21 巻, 2001頁(1988 年) 、欧州特許第0290,750号、同0
46,083 号、同156,535 号、同271,851 号、同0,388,343
号、米国特許第3,901,710 号、同4,181,531 号、特開
昭60-198538 号、特開昭53-133022 号に記載のｏ−ニト
ロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、M. TUNOOKA e
t al, Polymer Preprints Japan, 38(8) 、G. Berner
et al, J. Rad. Curing, 13(4)、W. J. Mijs etal, Coa
ting Technol., 55巻(697), 45 頁(1983 年) 、Akzo,
H. Adachi et al,Polymer Preprints, Japan, 37(3)、
欧州特許第0199,672号、同84515 号、同199,672 号、同
044,115 号、同0101,122号、米国特許第4,618,564 号、
同4,371,605 号、同4,431,774 号、特開昭64−18143
号、特開平2-245756号、特開平4-365048号に記載のイミ
ノスルフォネート等に代表される、光分解してスルホン
酸を発生する化合物、

【００１９】特開昭61−166544号に記載のジスルホン化
合物、G. Buhr et al, SPIE(1086), 117頁, (1989 年)
、R. Hayase et al, J. Photopolymer Sci. Technol,
6(4), 495頁(1993 年) 、特開昭53−8128号、特願平3-1
40107号に記載のｏ−ナフトキノンジアジド化合物を挙
げることができる。

【００２０】またこれらの光により酸を発生する基、あ
るいは化合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合
物、例えば、M. E. Woodhouse et al, J. Am. Chem. So
c.,第104 巻, 5586頁(1982 年) 、S. P. Pappas et al,
J. Imaging Sci.,第30巻(5), 218頁(1986 年) 、S. Ko
ndo er al. Makromol. Chem., Rapid Commun., 第 9巻,
625頁(1988 年) 、Y.Yamada et al, Makromol. Chem.,
152, 153, 163頁(1972 年) 、J. V. Crivello er al.
J.Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,第17巻,3845頁(19
79 年) 、米国特許第3,849,137 号、独国特許第3,914,4
07 、特開昭63−26653 号、特開昭55−164824号、特開
昭62−69263 号、特開昭63−1460387 、特開昭63−1634
52号、特開昭62−153853号、特開昭63−146029号に記載
の化合物を用いることができる。

【００２１】更に、V. N. R. Pillai, Synthesis, (1),
1頁(1980 年) 、A. Abad et al, Tetrahedron Lett.,
(47)4555頁(1971 年) 、D. H. R. Barton et al, J. Ch
em.Soc., (C),329 頁(1970 年) 、米国特許第3,779,778
号、欧州特許第126,712 号に記載の光により酸を発生
する化合物も使用することができる。

【００２２】上記（Ａ）光酸発生剤、即ち、活性光線又
は放射線の照射により分解して酸を発生する化合物の中
で、特に有効に用いられるものについて以下に説明す
る。 （Ａ−１）トリハロメチル基が置換した下記一般式（VI
II）で表されるオキサゾール誘導体又は下記一般式（I
X）で表されるＳ−トリアジン誘導体。

【００２３】

【化１】

【００２４】式中、Ｒ⁶ は置換もしくは未置換のアリー
ル基又はアルケニル基であり、Ｒ⁷は置換もしくは未置
換のアリール基、アルケニル基、アルキル基又は−ＣＹ
³ を表す。Ｙは塩素原子又は臭素原子を示す。上記オキ
サゾール誘導体（VIII）及びＳ−トリアジン誘導体（I
X）の具体例としては、以下のVIII−１〜８及び化合物I
X−１〜１０を挙げることができるが、これらに限定さ
れるものではない。

【００２５】

【化２】

【００２６】

【化３】

【００２７】

【化４】

【００２８】

【化５】

【００２９】

【化６】

【００３０】（Ａ−２）下記一般式（Ｘ）で表されるヨ
ードニウム塩又は下記一般式（XI）で表されるスルホニ
ウム塩。

【００３１】

【化７】

【００３２】式中、Ar¹ 及びAr² は各々独立に置換もし
くは未置換のアリール基を示す。好ましくは、炭素原子
数６〜１４のアリール基又はそれらの置換誘導体が挙げ
られる。好ましい置換基としては、アルキル基、ハロア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ
基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、ヒドロキシ基、メルカプト基及びハロゲン原子が挙
げられる。Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰は各々独立に、置換もし
くは未置換のアルキル基又はアリール基を示す。好まし
くは炭素数６〜１４のアリール基、炭素数１〜８のアル
キル基又はそれらの置換誘導体である。好ましい置換基
は、アリール基に対しては炭素数１〜８のアルコキシ
基、炭素数１〜８のアルキル基、ニトロ基、カルボキシ
ル基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子であり、アルキル
基に対しては炭素１〜８のアルコキシ基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基である。

【００３３】Ｚ^- は対アニオンを示し、たとえばB
F₄ ^- 、AsF₆ ^- 、PF₆ ^- 、SbF₆ ^- 、SiF₆ ^-、CI
O₄ ^- 、 CF₃SO ^-、BPh₄ ^- (Ph＝フェニル）、ナフタレン
−１−スルホン酸アニオン、アントラキノンスルホン酸
アニオン等の縮合多核芳香族スルホン酸アニオン、スル
ホン酸基含有染料等を挙げることができるが、これらに
限定されるものではない。

【００３４】また、Ｒ⁸ 、Ｒ⁹ 及びＲ¹⁰のうちの２つ並
びにＡｒ¹ 及びＡｒ² はそれぞれ単結合又は置換基を介
して結合してもよい。一般式（Ｘ）及び（XI）で示され
る上記オニウム塩は公知であり、例えばJ. W. Knapczyk
et al, J. Am. Chem. Soc.,第91巻, 145 頁(1969 年)
、A. L. Maycok et al, J. Org. Chem., 第35巻, 253
2頁(1970 年) 、E. Goethas et al, Bull. Soc. Chem.
Belg., 第73巻, 546 頁, (1964 年) 、H. M. Leicest
er, J.Am. Chem. Soc., 第51巻, 3587頁(1929 年) 、J.
B. Crivello etal, J. Polym.Chem. Ed., 第18巻, 267
7頁(1980 年) 、米国特許第2,807,648 号及び同4,247,4
73 号、特開昭53−101,331 号に記載の方法により合成
することができる。

【００３５】一般式（Ｘ）及び（XI）のオニウム化合物
の具体例としては、以下に示す化合物Ｘ−１〜２２及び
XI−１〜３４が挙げられるが、これに限定されるもので
はない。

【００３６】

【化８】

【００３７】

【化９】

【００３８】

【化１０】

【００３９】

【化１１】

【００４０】

【化１２】

【００４１】

【化１３】

【００４２】

【化１４】

【００４３】

【化１５】

【００４４】

【化１６】

【００４５】

【化１７】

【００４６】

【化１８】

【００４７】

【化１９】

【００４８】（Ａ−３） 下記一般式（XII)で表される
ジスルホン誘導体又は下記一般式（XIII）で表されるイ
ミノスルホネート誘導体。 Ａｒ³ −ＳＯ₂ −ＳＯ₂ −Ａｒ⁴ （XII) 式中、Ａｒ³ 及びＡｒ⁴ は各々独立に置換もしくは未置
換のアリール基を示す。好ましくは、炭素原子数６〜１
４のアリール基又はそれらの置換誘導体が挙げられる。
好ましい置換基としては、アルキル基、ハロアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ニ
トロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヒ
ドロキシ基、メルカプト基及びハロゲン原子が挙げられ
る。

【００４９】

【化２０】

【００５０】式中、Ｒ¹¹は置換もしくは未置換のアルキ
ル基又はアリール基を表す。Ａ¹ は置換もしくは未置換
のアルキレン基、アルケニレン基又はアリーレン基を示
す。Ｒ¹¹としては好ましくは、炭素原子数１〜１８のア
ルキル基、炭素原子数６〜１４のアリール基又はそれら
の置換誘導体が挙げられる。好ましい置換基としては、
アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、ヒドロキシ基、メルカプト基及
びハロゲン原子が挙げられる。また、Ａ¹ としては好ま
しくは、炭素原子数１〜５のアルキレン基、炭素原子数
１〜５のアルケニレン基、炭素原子数６〜１４のアリー
レン基又はそれらの置換誘導体が挙げられる。好ましい
置換基としては、アルキル基、ハロアルキル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシ
基、メルカプト基及びハロゲン原子が挙げられる。一般
式（XII)及び（XIII）で示される化合物の具体例として
は、以下に示す化合物XII −１〜１２及びXIII−１〜１
２が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

【００５１】

【化２１】

【００５２】

【化２２】

【００５３】

【化２３】

【００５４】

【化２４】

【００５５】

【化２５】

【００５６】

【化２６】

【００５７】（Ａ−４） 下記一般式（XIV)で表される
ｏ−ナフトキノンジアジド化合物。

【００５８】

【化２７】

【００５９】式中Ａ² は、置換もしくは未置換のアルキ
レン基、アルクニレン基、又はアリーレン基を示す。Ａ
² としては好ましくは、炭素原子数１〜５のアルキレン
基、炭素原子数１〜５のアルケニレン基、炭素原子数６
〜１４のアリーレン基、又は、それらの置換誘導体が挙
げられる。好ましい置換基としては、アルキル基、ハロ
アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニ
ル基、ヒドロキシ基、メルカプト基及びハロゲン原子が
挙げられる。一般式（XIV)で示される化合物の具体例と
しては以下に示す化合物XIV −１〜２４が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。

【００６０】

【化２８】

【００６１】

【化２９】

【００６２】

【化３０】

【００６３】

【化３１】

【００６４】

【化３２】

【００６５】

【化３３】

【００６６】

【化３４】

【００６７】これらの（Ａ）光酸発生物質の添加量は、
レーザー感応層を構成する組成物の全固形分を基準とし
て、通常０．００１〜４０重量％の範囲であり、好まし
くは０．１〜２０重量％、より好ましくは０．２〜１０
重量％の範囲である。酸を発生する化合物の添加量が、
少な過ぎると感度が低下し、また多過ぎても感度は一定
以上にはあがらずコストが高くなる。

【００６８】本発明の水なし平版に用いるレーザー感応
層には必要に応じて、前記（Ａ）光酸発生物質の光酸発
生効率を増大させる化合物（増感剤）、染料、顔料、可
塑剤など公知の種々の化合物を添加することができる。

【００６９】増感剤としては、ピレン、ペリレン等の電
子供与性化合物、あるいはメロシアニン色素、シアニン
色素等を使用できるが、これらに限定されるものではな
い。これらの増感剤と前記成分（Ａ）との割合は、好ま
しくはモル比で０．０１／１〜２０／１、重量比で０．
１／１〜５／１の範囲である。

【００７０】次に本発明の水なし平版に用いられる
（Ｂ）光熱変換剤について説明する。この（Ｂ）光熱変
換剤とは、照射されたレーザーの光を吸収し、熱に変換
する機能を有する物質を指す。本発明においては、全面
露光により（Ａ）光酸発生剤が分解し酸性物質が生成し
た後に、系を加熱して（Ｃ）酸分解性バインダーを分解
させるための熱を発生させるための機能を有し、レーザ
ー照射された部分のみがこの（Ｂ）光熱変換剤の作用に
より画像様に加熱され、画像様に（Ｃ）酸分解性バイン
ダーの分解反応を生ぜしめる。（Ｂ）光熱変換剤として
は、レーザー光源を赤外線レーザーとした場合、赤外線
吸収色素、赤外線吸収顔料、赤外線吸収金属もしくは金
属酸化物、金属硫化物など、書き込みに使用するレーザ
ーの波長の光を吸収する各種の有機および無機材料が使
用可能である。有機顔料としては酸性カーボンブラッ
ク、塩基性カーボンブラック、中性カーボンブラックな
ど各種カーボンブラック、分散性改良等のために表面修
飾もしくは表面コートされた各種カーボンブラック、ニ
グロシン類、有機色素としては「赤外増感色素」（松岡
著 Plenum Press , New York, NY(1990年))に記載され
ている、アニン系、メロシアニン系、フタロシアニン
系、スクアリリウム系、金属ジチオレン類、ナフトキノ
ン系、ピリリウム系等の染料があげられ、例えば特開昭
５８−１２５２４６号、同５９−８４３５６号、同５９
−２０２８２９号、同６０−７８７８７号等に記載され
ているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、同
５８−１８１６９０号、同５８−１９４５９５号等に記
載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３
号、同５８−２２４７９３号、同５９−４８１８７号、
同５９−７３９９６号、同６０−５２９４０号、同６０
−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、
特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクア
リリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニ
ン染料等が好適に用いられる。また米国特許第５，１５
６，９３８号記載の近赤外吸収剤、米国特許第３，８８
１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）
ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号記載のトリ
メチンチオピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１
号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、
同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９
−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号記載のピリ
リウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシ
アニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号記載のペ
ンタメチンチオピリリウム塩や特公平５−１３５１４
号、同５−１９７０２号公報に開示されているピリリウ
ム化合物は特に好ましく用いられる。また特に好ましい
別の例として、米国特許４，７５６，９９３号明細書中
に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染
料をあげることができる。金属もしくは金属酸化物とし
ては、特開昭５２−２０８２１、特開昭５９−６８８４
７号公報等のレーザー記録材料において公知の、Ｍｇ，
Ｓｃ，Ｙ，Ｔｉ、Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，
Ｍｏ、Ｗ，Ｍｎ，Ｒｅ、Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ｉｒ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ，Ｃ
ｄ，Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ａｓ、Ｓ
ｂ，Ｂｉ，Ｓｅ等の金属および、これらの金属とＭｏＯ
₂ 、ＺｎＯ₂ 、ＮｉＯ、ＧｅＯ、ＴｉＯ、ＶＯ₂ 、Ｓｎ
Ｓ、ＺｎＳ、ＭｏＳなどの金属酸化物もしくは金属硫化
物との混合物などをあげることができる。この他にポリ
ピロール、ポリアニリンなどの導電性ポリマーなども使
用可能である。

【００７１】これらの（Ｂ）光熱変換剤は、第１層の全
固形分に対して０．０１〜５０重量％、好ましくは０．
１〜２０重量％の割合で添加することができる。後述す
るように、第１層自身を２層に分けて隣接して形成する
場合には、両層の全固形分に対して用いられている光熱
変換剤がこの重量比の範囲になるように添加されていれ
ば良い。

【００７２】本発明の水なし平版のレーザー感応層に含
有される（Ｃ）酸分解性バインダーは、酸性条件下にお
いて加熱することで分解する高分子化合物を指し、これ
は、従来フォトレジスト分野で公知のいわゆる「化学増
幅系」に用いられる高分子化号物がそのまま使用でき
る。より好ましくは、酸性条件下で加熱したとき高分子
化合物の主鎖結合が部分的に切断され、低分子量化する
高分子化合物が用いられる。具体的には、例えば、ポリ
オルトエステル、ポリアセタール、ポリフタルアルデヒ
ド、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート等
を挙げることができる。これらについては、Polymer Jo
urnal,第19巻、第１号,31-49頁(1987 年)、Ｊounal of
Imaging Science, 第30巻、第 2号,59 頁(1986 年) 、P
olymer Engineering and Science,第23号,1012 頁(1983
年) 、J. Electrochem. Soc., 第133巻,36 頁(1986
年) 、特開昭48−89003 号、同53−133429号、同56−17
345号、同59−92532 号、同62−190211号、同62−13663
8号公報などにその例示がある。これらのうち、たとえ
ば、ポリカーボネートとしては、下記の一般式で例示さ
れる単位からなるポリマーが好ましく使用される。

【００７３】

【化３５】

【００７４】ポリウレタンとしては、下記の一般式で例
示される単位からなるポリマーが好ましく使用される。

【００７５】

【化３６】

【００７６】ポリエステルとしては、下記の一般式で例
示される単位からなるポリマーが好ましく使用される。

【００７７】

【化３７】

【００７８】ポリオルトエステル、ポリアセタール、ポ
リフタルアルデヒドとしては、上記の公知の資料に例示
されているものが使用できる。以下に、このような高分
子化合物の重合単位の具体例を例示する。

【００７９】

【化３８】

【００８０】

【化３９】

【００８１】

【化４０】

【００８２】これらのバインダーの添加量は第１層の全
固形分量の１０〜９０重量％、好ましくは、１５〜７５
重量％である。

【００８３】これらのバインダーは酸性物質の存在する
条件下で、加熱されると主鎖結合が分解し低分子量化す
るものである。例えば、（Ｐ−１）の高分子化合物の場
合は、下記式で表されるような分解が起きる。

【００８４】

【化４１】

【００８５】本発明においては、必ずしも上記のように
完全に分解しなくても、主鎖の一部が部分的に分解し、
分解した化合物の分子量が、例えば、もとの高分子化合
物の分子量の１／５以下、好ましくは、１／１０以下程
度になる如く低分子量化していれば充分である。即ち、
例えば、分子量１５万の高分子化合物の主鎖結合のうち
の一部が切断され、平均分子量１．５万に低分子量化す
るだけでも、第１層、第２層間の剥離性を向上させると
いう目的を達成しうる効果が得られることが解ってい
る。この場合、主鎖結合の約１０カ所だけが切断されて
いれば良いことを示している。

【００８６】本発明における第１層には、以上の必須成
分の他に、水なし平版を構成する各材料の種々の特性を
改良するために、本発明の効果を損なわない限りにおい
て、公知の添加剤を含有することができる。これらの添
加剤は、第１層の機械的強度を向上させたり、レーザー
記録感度を向上させたり、第１層中の分散物の分散性を
向上させたり、支持体や第２層など隣接する層に対する
密着性を向上させるなど種々の目的に応じて添加され
る。

【００８７】例えば、第１層と第２層の密着性を向上さ
せるために第２層と相互作用の強い成分を含有する手段
が考えられ、この場合には補助的なバインダーとして水
素結合可能な極性基を有する化合物を用いることが考え
られ、この場合には補助的なバインダーとして水素結合
可能な極性基を有する高分子化合物等が別途添加され
る。例えば、アミド結合やウレタン結合を有する化合物
などはその代表的なものである。また、第１層で発生す
る熱を増幅させ、これにより記録感度を増加させる機能
を有する従来公知の物質を添加剤として含有することが
できる。このような物質としては、分解反応により熱を
発生する化合物が挙げられ、ニトロセルロースなどが代
表的な化合物として挙げられる。（Ｂ）光熱変換剤とし
てカーボンブラックなどの顔料を用いた場合には、顔料
の分散度がレーザー記録感度に影響を与えることがあ
る。また、第２層を安定に塗布するなどの目的のため顔
料の分散度を向上させる必要があることが多い。このた
め各種の顔料分散剤が添加剤として使用される。この他
にも、塗布性を改良するための界面活性剤など必要に応
じて各種の添加剤が使用される。

【００８８】本発明の水なし平版においては、レーザー
感応層（第１層）の膜厚は、０．０５μｍから１０μ
ｍ、好ましくは０．１μｍから５μｍである。第１層の
膜厚は厚すぎるとレーザー記録感度の低下など好ましく
ない結果を与える。第１層は、２つの層に分離して積層
し形成することもできる。この場合、例えば、（Ｂ）光
熱変換剤を蒸着法などにより薄膜状に形成し、隣接して
他の成分からなる膜を形成して本発明の第１層として機
能させる等が可能である。このように、蒸着法にて薄膜
が形成できる場合は、蒸着層の膜厚は５０Åから１００
０Å、好ましくは１００Åから５００Åである。隣接す
る層の膜厚は、０．０５μｍから１０μｍ、好ましくは
０．１μｍから５μｍであり、この膜厚は厚すぎるとレ
ーザー記録感度の低下など好ましくない結果を与える。
本発明におけるインク反発層（第２層）はインク反発性
の表面を有する層であり、従来公知のインク反発性表面
を有するものが使用できる。従来公知のインク反発性表
面には、低表面エネルギーを有する物質としてフッ素あ
るいはシリコーン化合物が良く知られている。特にシリ
コーンゴム（シリコーンエラストマー）が水なし平版の
インク反発層に好適に用いられる。シリコーンゴムは大
別して、縮合型シリコーンゴム、付加型シリコーン
ゴム、放射線硬化型シリコーンゴムの３種に分類され
るが、本発明における水なし平版の第２層のシリコーン
ゴムとしては、これら全ての従来公知の各種のシリコー
ンゴムが使用できる。縮合型シリコーンゴムは縮合反応
により生成されるシリコーンゴムである。通常、末端シ
ラノール基（−Ｓｉ−ＯＨ）を有するポリジメチルシロ
キサンをベースポリマーとし、これに下記の一般式で表
される縮合型架橋剤を有機スズ化合物、有機チタン化合
物などの公知触媒下に縮合反応させることにより合成で
きる。 Ｒ_m ・Ｓｉ・Ｘ_n （ｍ＋ｎ＝４、ｎは２以上の数） 式中、Ｒは炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子
数６〜２０のアリール基であり置換基を有していても良
い。ＸはＣｌ，Ｂｒ等のハロゲン原子、水素原子、水酸
基、−ＯＣＯＲ¹ 、−ＯＲ² 、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ⁴ ）−
Ｒ³ 等の有機基を表す。Ｒ¹ は炭素原子数１から１０の
アルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基であり置
換基を有していても良い。Ｒ² 、Ｒ³ 、Ｒ⁴ は炭素原子
数１〜１０のアルキル基であり置換基を有していても良
い。

【００８９】付加型シリコーンゴムはヒドロシリル化反
応によりＳｉ−Ｈ基と二重結合基との付加反応により生
成されるシリコーンゴムである。通常、末端ビニル置換
のポリジメチルポリシロキサンをベースポリマーとし、
これに複数のＳｉ−Ｈ基を有するシリコーン化合物架橋
剤をプラチナ系の公知の触媒下で、ヒドロシリル化反応
し生成される。放射線硬化型シリコーンゴムは、放射線
照射により重合可能な官能基を有するシリコーンベース
ポリマーの放射線により架橋反応により合成される。通
常、アクリル系の官能基を有するベースポリマーを使用
し紫外線照射により架橋し生成する。これらのシリコー
ンゴムについては、「Ｒ＆ＤレポートＮｏ．２２シリコ
ーンの最新応用技術」（ＣＭＣ発行、１９８２年）、特
公昭５６−２３１５０号、特開平３−１５５５３号、特
公平５−１９３４号公報などに詳しく記載されている。
上記のシリコーンゴムにより第２層を形成する場合に
は、第１層の上に直接もしくは間に他の層を介してこれ
らシリコーンゴム材料を塗設して形成することができ
る。例えば、縮合型や付加型シリコーンゴムの場合は、
通常、ベースポリマー、架橋剤、触媒を溶解した液をコ
ーティング液とし、これを塗布、加熱することで架橋反
応が起こりシリコーンゴム層が形成される。放射線硬化
型シリコーンゴムの場合には、ベースポリマーを開始剤
と共に溶解した液をコーティング液とし、塗布後に、全
面放射線露光することで形成される。これらのシリコー
ンゴム層の膜厚は０．３μｍから２０μｍ、好ましくは
０．５μｍから１０μｍ、さらに好ましくは０．７μｍ
から３μｍが良い。

【００９０】第２層と隣接する層との密着性を改良する
ために、公知の密着改良剤を第２層形成時のコーティン
グ液に添加しても良い。また、あらかじめ隣接する層に
シリコーンへの密着を促進する密着促進の表面処理を行
っても良い。このような効果を有するものとしてポリテ
トラブチルチタネートやポリテトライソプロピルチタネ
ートのようなチタン系カップリング剤が有利に使用でき
ることが知られている。

【００９１】支持体と第１層との間には、種々の目的で
付加的な層を設置することができる。例えば、レーザー
露光されたシリコーン除去部のインキ受容性向上のため
に、インキ受容性の層を設けることができる。これに使
用される層は、インク受容性の公知の有機コーティング
が使用可能である。例えば、アクリル系、メタクリル
系、スチレン系、ビニルエステル系、ポリエステル系、
ポリウレタン系など種々のポリマーコーティングが利用
できる。第１層が金属支持体のような非インク受容性物
質の上に直接形成されている場合に、このようなインク
受容層は有用である。また、印刷時のシリコーン層への
圧力緩和のためクッション層として支持体と第１層の間
にコーティング層を設けることができる。この場合も、
支持体が圧力緩和能力を有しない金属支持体の場合にこ
のコーティング層の形成は効果的である。前述した有機
コーティングはこの目的のためにも十分機能する。

【００９２】次に水なし平版の製版方法について説明す
る。本発明においては、レーザー露光に先立って、光酸
発生剤が吸収する波長の光を水なし平版の全面照射（前
露光）する。これが（１）紫外線もしくは可視光線を全
面露光する工程であり、これにより光酸発生剤を分解
し、平版材のレーザー感応層中に酸を発生させる。この
場合の露光波長は、後のレーザー露光の波長と異なるこ
とが好ましい。レーザー露光は赤外線域の波長において
行うのが好ましいため、この前露光は紫外線もしくは可
視光で行うことが好ましい。光源としては、水銀灯、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルラン
プ、カーボンアーク灯など従来公知の露光光源が使用で
きる。この前露光を行うことにより、次のレーザー露光
に対する感度が向上し、レーザー書き込みエネルギーを
低減することができる。

【００９３】上記の（１）前露光工程の後に、画像様に
レーザー照射（レーザー露光）を行う。即ち、（２）レ
ーザー光を画像様に照射し、レーザー光照射部を加熱す
る工程である。ここで使用されるレーザーは、インク反
発層であるシリコーン層がこの第１層より剥離除去され
るのに十分な第１層、第２層間の密着力の低下が起きる
のに必要な露光量を与えるものであれば特に制限はな
く、Ａｒレーザー、炭酸ガスレーザーのごときガスレー
ザー、ＹＡＧレーザーのような固体レーザー、そして半
導体レーザーなどが使用できる。通常、出力が１００ｍ
Ｗクラス以上のレーザーが必要となる。保守性、価格な
どの実用的な面からは、半導体レーザーおよび半導体励
起の固体レーザー（ＹＡＧレーザーなど）など赤外線レ
ーザーが好適に使用される。これらの赤外線レーザーの
記録波長としては、８００ｎｍから１１００ｎｍの発振
波長を利用することが多い。本発明では、第１の工程で
レーザー感応層中に酸が発生し、さらに第２の工程によ
り、レーザー照射部において（Ｂ）光熱変換剤の作用に
より熱が発生し、酸と熱との作用により（Ｃ）酸分解性
バインダーが一部分解し、第１層と第２層の密着性が低
下する。この密着性の低下のため、シリコーンゴム等か
らなるインク反発層表面に外力を加えることにより、こ
のレーザー照射部のみが、容易且つ選択的に除去される
ことになり、（３）レーザー光を照射してなる露光部に
おいて少なくともインク反発性の表面を有する層を除去
する工程が、容易に行われ、画像様にインク受容性の表
面が現れ、印刷に使用される水なし平版が形成される。
インク反発層を除去する方法としては、シリコーンを膨
潤させる液体、もしくはシリコーンを膨潤させない液体
を用いてシリコーン表面を擦る方法、液体を用いないで
シリコーン表面を物理的に擦る方法、レーザー照射後に
インク反発性の第２層表面に接着できる接着シートを圧
着し、剥離することでインク反発性物質を選択的に剥
離、除去する方法等が挙げられる。これらの方法により
表面のインク反発層を除去して、インク受容性部を露出
させ、水なし平版を製版するものである。

【００９４】

【実施例】本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。本発明は下記の実施例に限定されるものではない。

【００９５】〔実施例１〕（支持体） 厚さ１７５μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルム上に密着層として、乾燥膜厚０．２μｍとな
るようにゼラチン下塗り層を形成した。（第１層の形成） （カーボンブラック分散液の作成）下記の混合液をペイ
ントシェーカーにて３０分間分散した後、ガラスビーズ
をろ別してカーボンブラック分散液を作成した。 （混合液組成） 光熱変換剤：カーボンブラック（＃４０ 三菱カーボン社製） ５．０ｇ ポリウレタン （ニッポラン２３０４ 日本ポリウレタン社製）５．０ｇ ソルスパースＳ２００００（ＩＣＩ社製） ０．２７ｇ ソルスパースＳ１２０００（ＩＣＩ社製） ０．２２ｇ テトラヒドロフラン ４５ｇ ガラスビーズ １６０ｇ 前記のゼラチン下塗りポリエチレンテレフタレート上
に、下記の塗布液を乾燥膜厚２μｍとなるように塗布し
第１層を形成した。 （第１層塗布液組成） 上記のカーボンブラック分散液 ５５ｇ 光酸発生剤（ＸＩ−５） ０．２ｇ 酸分解性バインダー（Ｐ−１） ２．０ｇ テトラヒドロフラン ４５ｇ

【００９６】（第２層の形成）下記の塗布液を作成し、
第１層上に塗布した後、２分間、１１０℃に加熱して、
乾燥することにより、乾燥膜厚２μｍの付加型シリコー
ンゴムよりなる第２層を形成し、レーザー記録用水なし
平版（原版）を作成した。 （第２層塗布液組成） α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合度約７００） ９．００ｇ (CH₃)₃-Si-O-(SiH(CH₃)-O)₈-Si(CH₃)₃ １．００ｇ ポリジメチルシロキサン（重合度 約８０００） ０．５０ｇ オレフィン−塩化白金酸 ０．０４ｇ 抑制剤[H₂C=C-C(CH₃)₂-O-Si(CH₃)₃] ０．０７ｇ ヘプタン ５５ｇ

【００９７】（水なし平版の製版）前記の如くして得ら
れた水なし平版を紫外線ランプにより全面露光した。次
に、波長８６０ｎｍ、ビーム径１００μｍ（１／ｅ² ）
の半導体レーザーを用いて連続線の書き込みを行った。
記録エネルギーは０．７５Ｊ／ｃｍ² とした。その後、
接着シートとして住友スリーエム社製のシリコーン用接
着テープ「スコッチテープ＃８５１Ａ」を前記水なし平
版表面に圧着して剥離することにより、第２層であるシ
リコーン層のレーザー照射部のみが接着シートに付着
し、水なし平版表面から容易に除去された。一方、レー
ザー未照射部のシリコーン層は除去されずに水なし平版
表面に保持され、シャープなエッジのシリコーン画像が
形成できた。また、同様の水なし平版を紫外線ランプに
より全面露光した後、版面上パワー１１０ｍＷ、波長８
２５ｎｍ、ビーム径１０μｍ（１／ｅ² ）の半導体レー
ザーを用いて、主操作速度６ｍ／秒にて書き込みを行
い、前記と同一の接着シートで圧着、剥離してレーザー
照射部のシリコーン層を除去し、水なし平版を製版し
た。レーザー記録感度は１５０ｍＪ／ｃｍ² 、解像力は
６μｍでシャープなエッジの水なし平版が形成された。
この記録条件にて、１７５線の網点形成を行ったところ
網点面積率１％から９９％までが版上に形成できた。こ
のようにして製版された水なし平版を、印刷機を用いて
印刷したところ２万枚の汚れのない良好な印刷物が得ら
れた。また、１年間室温保存後も記録性、印刷性など性
能に変化は見られなかった。

【００９８】〔比較例１〕実施例１において第１層塗布
液に光酸発生剤（ＸＩ−５）を添加しなかった他は、実
施例１と全く同様にして比較例１の水なし平版を作成し
た。実施例１と同様に、得られた水なし平版を紫外線ラ
ンプにより全面露光した後、同様に半導体レーザーを用
いて連続線の書き込みを行い、同様に接着シートを水な
し平版表面に圧着して剥離したが、レーザー照射部が部
分的にしか除去されず充分な版形成ができなかった。レ
ーザー露光時のエネルギーを４倍にすることにより版形
成ができたが、エッジシャープネスが不十分であった。 〔比較例２〕実施例１において第１層塗布液に酸分解性
バインダー（Ｐ−１）を添加するかわりに、ｎ−ブチル
メタクリレート重合体を用いた他は、実施例１と全く同
様にして比較例２の水なし平版を作成した。実施例１と
同様に、得られた水なし平版を紫外線ランプにより全面
露光した後、同様に半導体レーザーを用いて連続線の書
き込みを行い、同様に接着シートを水なし平版表面に圧
着して剥離したが、レーザー照射部が部分的にしか除去
されず充分な版形成ができなかった。レーザー露光時の
エネルギーを３倍にすることにより、製版ができたが、
エッジシャープネスが不十分であった。 〔比較例３〕実施例１で得られた水なし平版を紫外線に
よる前露光をしない他は、実施例１と同様な操作により
水なし平版を製版した。レーザー照射部が部分的にしか
除去されず充分な版形成ができなかった。レーザー露光
時のエネルギーを４倍にすることにより版形成ができた
が、エッジシャープネスが不十分であった。

【実施例２〜１０】実施例１の（Ａ）光酸発生剤と
（Ｃ）酸分解性バインダーが下表である以外は実施例１
と全く同様にして実施例２〜１０の水なし平版を作成し
た。

【表１】 得られた水なし平版を実施例１と同様に前露光、レーザ
ー露光、シリコーン除去処理し、印刷したところエッジ
シャープネスの良好な印刷物が作成できた。

【実施例１１】実施例１と同様にしてゼラチン下塗り層
を有するポリエチレンテレフテレート支持体上に、光熱
変換剤としてＴｉＯ金属酸化物蒸着膜をスパッタリング
法にて厚さ２００Åとなるように形成した。この上に、
下記の塗布液を乾燥膜厚が１μになるように塗布乾燥
し、蒸着膜と併せて第１層を形成した。 （第１層塗布液組成） 光酸発生剤（ＸＩ−５） ０．２ｇ 酸分解性バインダー（Ｐ−３） ２．０ｇ テトラヒドロフラン ４５ｇ メチルイソブチルケトン １０ｇ さらに実施例１と同様にして、第２層を形成し水なし平
版を得た。得られた水なし平版を実施例１と同様に前露
光、レーザー露光、シリコーン除去処理し、印刷したと
ころエッジシャープネスの良好な印刷物が作成できた。

【００９９】

【発明の効果】以上のごとく、本発明により、高感度に
レーザー記録でき、解像力、エッジシャープネスを満足
する水なし平版が提供できた。また、レーザー露光直前
に前露光するため高感度を維持しながら保存性を満足す
ることが可能となった。さらに、赤外線吸収色素自身が
酸発生剤であるような高価な赤外線吸収剤を用いる必要
がなく、カーボンブラックのような安価な赤外吸収剤が
利用でき、且つ、解像力、エッジシャープネスを満足す
る安価な水なし平版が提供できた。この水なし平版は剥
離現像のようなドライ条件下での処理も可能であり、簡
易で、環境保全性を満足する水なし平版の製版方法が提
供できた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/11 Ｇ０３Ｆ 7/11

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に、（Ａ）活性光線の照射によ
   り酸を発生する化合物、（Ｂ）レーザー光を熱に変換す
   る化合物、及び、（Ｃ）酸性条件下で加熱することで分
   解する高分子化合物、を含有するレーザー感応層（第１
   層）を設け、さらにこの上にインク反発性の表面を有す
   る層（第２層）を設けたことを特徴とする湿し水不要平
   版印刷原版。
2. 【請求項２】 前記（Ｃ）酸性条件下で加熱することで
   分解する高分子化合物が、酸性条件下で加熱すること
   で、主鎖結合が部分的に切断され、低分子量化する高分
   子化合物であることを特徴とする請求項１記載の湿し水
   不要平版印刷原版。
3. 【請求項３】 前記酸性条件下で加熱することで、主鎖
   結合が部分的に切断され、低分子量化する高分子化合物
   が、ポリオルトエステル、ポリアセタール、ポリフタル
   アルデヒド、ポリエステル、ポリウレタン、及びポリカ
   ーボネートからなる群より選ばれる少なくとも１種の高
   分子化合物であることを、特徴とする請求項２記載の湿
   し水不要平版印刷原版。
4. 【請求項４】 支持体上に、（Ａ）活性光線の照射によ
   り酸を発生する化合物、（Ｂ）レーザー光を熱に変換す
   る化合物、及び、（Ｃ）酸性条件下で加熱することで分
   解する高分子化合物、を含有するレーザー感応層（第１
   層）を設け、さらにこの上にインク反発性の表面を有す
   る層（第２層）を設けた、湿し水不要平版印刷原版の製
   版方法であって、 （１）紫外線もしくは可視光線を全面露光する工程、
   （２）赤外線レーザー光を画像様に照射し、レーザー光
   照射部を加熱する工程、及び、（３）レーザー光照射部
   において少なくともインク反発性の表面を有する層を除
   去する工程、を含むことを特徴とする湿し水不要平版印
   刷原版の製版方法。