CN109212900B - 光刻胶组合物及彩色滤光片 - Google Patents

光刻胶组合物及彩色滤光片 Download PDF

Info

Publication number
CN109212900B
CN109212900B CN201811058840.8A CN201811058840A CN109212900B CN 109212900 B CN109212900 B CN 109212900B CN 201811058840 A CN201811058840 A CN 201811058840A CN 109212900 B CN109212900 B CN 109212900B
Authority
CN
China
Prior art keywords
photoresist composition
weight
parts
acrylic resin
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201811058840.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109212900A (zh
Inventor
李颖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL Huaxing Photoelectric Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201811058840.8A priority Critical patent/CN109212900B/zh
Priority to PCT/CN2018/106598 priority patent/WO2020051939A1/zh
Publication of CN109212900A publication Critical patent/CN109212900A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109212900B publication Critical patent/CN109212900B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

本发明公开一种光刻胶组合物及彩色滤光片。所述光刻胶组合物包含︰4至10重量份的树脂基体;5至8重量份的着色剂;大于0且小于或等于5重量份的自由基聚合单体;大于0且小于或等于0.2重量份的自由基光引发剂;大于0且小于或等于0.002重量份的阳离子光引发剂,其中所述阳离子光引发剂的最大吸收波长在介于280至400纳米之间;及70至80重量份的溶剂。所述光刻胶组合物不受活性氧原子的影响,有利于提升光刻胶组合物与基板之间的附着力,并且适用于高色域或者高色浓度的彩色光刻胶组合物。

Description

光刻胶组合物及彩色滤光片
技术领域
本发明涉及液晶显示面板技术领域,尤其涉及一种光刻胶组合物及彩色滤光片。
背景技术
液晶显示器(liquid crystal display,LCD)是目前市场中应用最广泛的现实产品。例如,薄膜晶体管液晶显示器(thin film transistor liquid crystal display,TFT-LCD)主要包括彩色滤光片(color filter,CF)基板、液晶、薄膜晶体管(Thin FilmTransistor,TFT)基板三个组成部分。CF基板上的红、绿、蓝(即RGB)三色像素点分别对应薄膜晶体管基板上的三个子像素,三个子像素合成一个像素。液晶显示器的色彩显示主要是依靠彩色滤光片基板上RGB三色像素点实现的。RGB三色像素点则是通过RGB三种不同体系的光刻胶成膜形成设计需求的图案结构,进而完成协助显示颜色。
RGB负性光刻胶(photoresist)是在光刻胶混合物中加入光引发剂、分散树脂、颜料/染料(着色剂)、反应性单体等,并通过紫外线(UV)光照下进行固化反应而形成图案。在RGB负性光刻胶的膜厚达到一定厚度时,在光固化反应过程中,底层与表层反应程度不一致,容易产生光刻胶剥落(peeling)等问题。上述光刻胶剥落的问题,可通过提升光刻胶材料与基板之间的附着力来克服。一般而言,可通过提高底层反应程度及硬化度来提高附着力。但是,在实际制程中,RGB涂布之前会进行超紫外光(EUV)或者深紫外光(DUV)的清洗过程。这个清洗过程中会产生一些活性氧原子,这些活性氧原子会对自由基聚合的引发剂产生影响,造成引发剂失去活性,而无法提高附着力。
对于上述问题,虽然可通过在光刻胶组合物中添加氧阻聚剂类物质来消耗活性氧原子,从而提高光刻胶组合物的反应效率。然而,对于高色域或者高色浓度的彩色光刻胶组合物而言,由于颜料或者染料成分含量较高,所以添加氧阻聚剂类物质的方式会使得彩色光刻胶组合物中的其他材料成分的比例受到限制。
故,有必要提供一种光刻胶组合物及彩色滤光片,以解决现有技术所存在的问题。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种光刻胶组合物及彩色滤光片,以解决现有技术所存在的添加氧阻聚剂类物质的方式会使得彩色光刻胶组合物中的其他材料成分的比例受到限制的问题。
本发明的一目的在于提供一种光刻胶组合物及彩色滤光片,其是通过加入少量的阳离子光引发剂,以使光刻胶组合物不受活性氧原子的影响,进而提升光刻胶组合物与基板之间的附着力,并且可适用于高色域或者高色浓度的彩色光刻胶组合物。
为达成本发明的前述目的,本发明一实施例提供一种光刻胶组合物,其中所述光刻胶组合物包含︰4至10重量份的树脂基体;5至8重量份的着色剂;大于0且小于或等于5重量份的自由基聚合单体;大于0且小于或等于0.2重量份的自由基光引发剂;大于0且小于或等于0.002重量份的阳离子光引发剂,其中所述阳离子光引发剂的最大吸收波长在介于280至400纳米之间;及70至80重量份的溶剂。
在本发明的一实施例中,所述阳离子光引发剂选自于二芳基碘鎓盐及其衍生物所组成的一族群。
在本发明的一实施例中,所述二芳基碘鎓盐的衍生物是由下列所组成的一族群所选出:
Figure BDA0001796534720000031
Figure BDA0001796534720000032
Figure BDA0001796534720000033
其中:
R1是CnH2n+1、OCnH2n+1、C(CH3)3或NO2,其中8<n<20;及
X是BF4 、PF6 、SbF6 或AsF6
在本发明的一实施例中,所述树脂基体中包含有丙烯酸树脂及其衍生物中的至少一种。
在本发明的一实施例中,所述丙烯酸树脂的衍生物包含环氧丙烯酸树脂、聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂及聚醚丙烯酸树脂中的至少一种。
在本发明的一实施例中,所述着色剂包含偶氮类、喹吖啶酮类、苝系类、钛菁类、蒽醌类、蒽醌类衍生物、吡喏并吡喏二酮类、吡喏并吡喏二酮类衍生物、三芳甲烷类以及三芳甲烷类衍生物中的至少一种。
在本发明的一实施例中,所述自由基聚合单体包含丙烯酸烷基酯、丙烯酸羟基酯、乙烯基活性稀释剂、乙二醇类二丙烯酸酯、丙二醇类二丙烯酸酯、二醇类二丙烯酸酯、烷氧基化丙烯酸酯、乙烯基醚类丙烯酸酯、甲基丙烯酸磷酸酯、含有杂环或苯环的丙烯酸酯以及含有活性胺的丙烯酸酯中的至少一种。
在本发明的一实施例中,所述自由基光引发剂包含硫杂蒽酮、硫杂蒽酮衍生物、二苯甲酮及二苯甲酮衍生物中的至少一种。
在本发明的一实施例中,所述光刻胶组合物还包括为0.1至0.2重量份的添加剂。
为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是:提供一种彩色滤光片,其中所述彩色滤光片涂布有上述任一种的光刻胶组合物。
与现有技术相比较,本发明的光刻胶组合物及彩色滤光片,不受活性氧原子的影响,进而提升光刻胶组合物与基板之间的附着力,并且可适用于高色域或者高色浓度的彩色光刻胶组合物。
具体实施方式
以下各实施例的说明用以例示本发明可用以实施的特定实施例。
本发明实施例提供一种光刻胶组合物,所述光刻胶组合物包括:4至10重量份的树脂基体;5至8重量份的着色剂(亦可称为颜料或染料);大于0且小于或等于5重量份的自由基聚合单体;大于0且小于或等于0.2重量份的自由基光引发剂;大于0且小于或等于0.002重量份的阳离子光引发剂,其中所述阳离子光引发剂的最大吸收波长在介于280至400纳米之间;及70至80重量份的溶剂。
在一实施例中,所述树脂基体中包含有丙烯酸树脂及其衍生物中的至少一种。在一范例中,所述丙烯酸树脂的衍生物包含环氧丙烯酸树脂、聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂及聚醚丙烯酸树脂中的至少一种。
在一实施例中,所述着色剂包含偶氮类、喹吖啶酮类、苝系类、钛菁类、蒽醌类、蒽醌类衍生物、吡喏并吡喏二酮类(DPP类)、吡喏并吡喏二酮类衍生物、三芳甲烷类以及三芳甲烷类衍生物中的至少一种。在一范例中,所述偶氮类颜料对应的索引号包含R144、R37、R38、R41、R111、Y12、Y16或Y17。在另一范例中,所述喹吖啶酮类对应的索引号包含Y138、R209、V19、PR122或PR202。在又一范例中,所述苝系类对应的索引号包含R178、R179、R190、R244、R123、R149、V29。在再一范例中,所述钛菁类对应的索引号包含G58、G59、G63、G7、G36、B15、B15:1、B15:3、B15:4、B15:6或B16;所述蒽醌类对应的索引号包含R177、R83、R168、R216、R226、B21、B22、B60、B64、B65、Y23或Y147;所述吡喏并吡喏二酮类对应的索引号包含R254、R255、R264或R272;所述三芳甲烷类对应的索引号包含B18、B19、B56、B61、B62、V3、V27、V39、R169、R81:1或R81:2。
在一实施例中,所述自由基聚合单体包含丙烯酸烷基酯、丙烯酸羟基酯、乙烯基活性稀释剂、乙二醇类二丙烯酸酯、丙二醇类二丙烯酸酯、二醇类二丙烯酸酯、烷氧基化丙烯酸酯、乙烯基醚类丙烯酸酯、甲基丙烯酸磷酸酯、含有杂环或苯环的丙烯酸酯以及含有活性胺的丙烯酸酯中的至少一种。
在一实施例中,所述阳离子光引发剂选自于二芳基碘鎓盐及其衍生物所组成的一族群。这边要提到的是,所述二芳基碘鎓盐及其衍生物在通过光分解反应后,不仅可引发阳离子聚合,也可引发自由基聚合,故具有较高的光引发效率。
在一范例中,所述二芳基碘鎓盐的结构式如下式(1)所述。
Figure BDA0001796534720000051
在另一范例中,所述二芳基碘鎓盐的衍生物是由下列所组成的一族群所选出,如式(2)至式(4)所示:
Figure BDA0001796534720000052
Figure BDA0001796534720000061
Figure BDA0001796534720000062
其中:
R1是CnH2n+1、OCnH2n+1、C(CH3)3或NO2,其中8<n<20;及
X是BF4 、PF6 、SbF6 或AsF6
这边要提到的是,所述二芳基碘鎓盐的衍生物例如是基于提高最大吸收波长的目的,而对所述二芳基碘鎓盐所进行的改质产物。一般而言,所述二芳基碘鎓盐(式(1))虽然最大吸光波大致上是280纳米,但是光吸收率不高。因此,通过改质的方式(例如连接光能吸收率较高的芳酮基团至所述二芳基碘鎓盐上)可使所述二芳基碘鎓盐的衍生物(式(2)至式(4))的最大吸光波长高于所述二芳基碘鎓盐。在一实施例中,如式(2)的所述二芳基碘鎓盐的衍生物的最大吸光波长大致上是250-300纳米。在另一实施例中,如式(3)的所述二芳基碘鎓盐的衍生物的最大吸光波长大致上是335纳米。在又一实施例中,如式(4)的所述二芳基碘鎓盐的衍生物的最大吸光波长大致上是296或336纳米。
另外要提到的是,当R1是CnH2n+1或OCnH2n+1,为了提高所述阳离子光引发剂在光刻胶组合物的体系中的溶解性,并且降低所述阳离子光引发剂的毒性,n值较佳是位在8与20之间。在一具体范例中,n值例如是9、10、11、12、13、14、15、16、17、18或19。
在一实施例中,所述自由基光引发剂包含硫杂蒽酮、硫杂蒽酮衍生物、二苯甲酮及二苯甲酮衍生物中的至少一种。在一实施例中,所述自由基引发剂可用于拓宽所述阳离子光引发剂(例如二芳基碘鎓盐或其衍生物)的光吸收波长范围(例如提高最大光吸收波长)。所述自由基引发剂吸收光能后,可将电子转移给所述阳离子光引发剂(例如二芳基碘鎓盐或其衍生物),从而产生超强酸。所述超强酸可引发阳离子聚合反应和自由基聚合反应。
在一具体范例中,所述二芳基碘鎓盐如式(5)至式(7)的结构,在搭配与自由基引发剂硫杂蒽酮、二苯甲酮等类别物质后可产生超强酸,同时引发阳离子聚合反应和自由基聚合反应。下式中的SbF6 亦可替换为BF4 、PF6 或AsF6
Figure BDA0001796534720000071
Figure BDA0001796534720000072
Figure BDA0001796534720000073
其中,8<n<20。
另外,式(5)至式(7)的结构含有支链为C原子数量大于8的烷烃链状结构,该结构可以提高该引发剂使用时在体系中的溶解性,降低毒性。
在一实施例中,所述光刻胶组合物还包括为0.1至0.2重量份的添加剂。在一范例中,所述添加剂包含润湿分散剂、流平剂及阻聚剂中的至少一种。
为解决上述技术问题,本发明采用的另一个技术方案是:提供一种彩色滤光片,其中所述彩色滤光片涂布有上述任一种的光刻胶组合物。具体的,所述彩色滤光片包括:基板;设置在所述基板上的黑矩阵;和设置在所述黑矩阵上的彩色滤光层,所述彩色滤光层由本发明实施方式中提供的光刻胶组合物形成。进一步的,在所述彩色滤光片各个膜层上涂布所述光刻胶组合物,所述光刻胶组合物不受活性氧原子的影响,进而提升光刻胶组合物与基板之间的附着力,可提升所述彩色滤光片的良率。
这边要提到的是,本发明的光刻胶组合物及使用其的彩色滤光片涉及于阳离子光固化体系,并且具有以下优点。
1.添加二芳基碘鎓盐作为阳离子光引发剂的方法可适用于当前高色浓度光刻胶材料,由于阳离子光引发剂的添加量少(例如约为大于0且小于或等于0.002重量百分比),且不需额外添加阳离子单体,因此不会产生其他材料成分的比例受到限制的问题。
2.本发明实施例的光刻胶组合物是在原有的配方基础上,把自由基光引发剂的一部分替换为阳离子光引发剂,故不影响原有体系光固化特性,且可与原自由基固化体系(例如丙烯酸类树脂类)具有较好的兼容性。此外,阳离子光引发剂除了可引发阳离子聚合,也同时可引发自由基聚合,引发效率较高。
3.阳离子光引发剂不受基板表面活性氧影响,不会发生氧阻聚及引发剂失活,固化收缩率小,有利于增加光刻胶组合物对基材的附着力。
4.这种阳离子光固化体系有很好的深层固化性,故可降低或避免光刻胶剥落的风险。
5.涉及阳离子引发体系的光刻胶组合物具有较小的体积收缩率(相对于自由基引发体系),且在光固化反应后具有后固化(post curing)的特点,进一步加强光刻胶组合物的硬化性。
本发明已由上述相关实施例加以描述,然而上述实施例仅为实施本发明的范例。必需指出的是,已公开的实施例并未限制本发明的范围。相反地,包含于权利要求书的精神及范围的修改及均等设置均包括于本发明的范围内。

Claims (10)

1.一种光刻胶组合物,其特征在于:所述光刻胶组合物包含:
4至10重量份的树脂基体;
5至8重量份的着色剂;
大于0且小于或等于5重量份的自由基聚合单体;
大于0且小于或等于0.2重量份的自由基光引发剂;
大于0且小于或等于0.002重量份的阳离子光引发剂,其中所述阳离子光引发剂的最大吸收波长在介于280至400纳米之间;及
70至80重量份的溶剂。
2.如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述阳离子光引发剂选自于二芳基碘鎓盐及其衍生物所组成的一族群。
3.如权利要求2所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述二芳基碘鎓盐的衍生物是由下列所组成的一族群所选出:
Figure FDA0002293235300000011
Figure FDA0002293235300000012
Figure FDA0002293235300000013
其中:
R1是CnH2n+1、OCnH2n+1、C(CH3)3或NO2,其中8<n<20;及
X是BF4 、PF6 、SbF6 或AsF6
4.如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述树脂基体中包含有丙烯酸树脂及其衍生物中的至少一种。
5.如权利要求4所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述丙烯酸树脂的衍生物包含环氧丙烯酸树脂、聚氨酯丙烯酸树脂、聚酯丙烯酸树脂及聚醚丙烯酸树脂中的至少一种。
6.如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述着色剂包含偶氮类、喹吖啶酮类、苝系类、钛菁类、蒽醌类、吡喏并吡喏二酮类以及三芳甲烷类中的至少一种。
7.如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述自由基聚合单体包含丙烯酸烷基酯、丙烯酸羟基酯、乙烯基活性稀释剂、二醇类二丙烯酸酯、烷氧基化丙烯酸酯、乙烯基醚类丙烯酸酯、甲基丙烯酸磷酸酯、含有杂环或苯环的丙烯酸酯以及含有活性胺的丙烯酸酯中的至少一种。
8.如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述自由基光引发剂包含硫杂蒽酮、硫杂蒽酮衍生物、二苯甲酮及二苯甲酮衍生物中的至少一种。
9.如权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述光刻胶组合物还包括为0.1至0.2重量份的添加剂。
10.一种彩色滤光片,其特征在于,所述彩色滤光片涂布有如权利要求1-9任一项所述的光刻胶组合物。
CN201811058840.8A 2018-09-11 2018-09-11 光刻胶组合物及彩色滤光片 Active CN109212900B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811058840.8A CN109212900B (zh) 2018-09-11 2018-09-11 光刻胶组合物及彩色滤光片
PCT/CN2018/106598 WO2020051939A1 (zh) 2018-09-11 2018-09-20 光刻胶组合物及彩色滤光片

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811058840.8A CN109212900B (zh) 2018-09-11 2018-09-11 光刻胶组合物及彩色滤光片

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109212900A CN109212900A (zh) 2019-01-15
CN109212900B true CN109212900B (zh) 2020-04-03

Family

ID=64983485

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811058840.8A Active CN109212900B (zh) 2018-09-11 2018-09-11 光刻胶组合物及彩色滤光片

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN109212900B (zh)
WO (1) WO2020051939A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113881245B (zh) * 2020-07-03 2023-11-17 山东凯瑞尔光电科技有限公司 用于光刻胶的改性黄色颜料、其制备方法及应用
CN113881246B (zh) * 2020-07-03 2023-11-17 山东凯瑞尔光电科技有限公司 用于光刻胶的改性红色色沉颜料、其制备方法及应用
CN112485967A (zh) * 2020-12-29 2021-03-12 安徽邦铭新材料科技有限公司 一种用于tft-lcd光刻胶组合物

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5955238A (en) * 1996-03-08 1999-09-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Waterless planographic printing plate and method of plate making using the same
CN101178539A (zh) * 2006-10-31 2008-05-14 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 可光固化树脂组合物
CN101592859A (zh) * 2009-06-24 2009-12-02 广州机械科学研究院 一种立体光刻快速成形光敏树脂及其制备方法和应用
CN101738857A (zh) * 2008-11-07 2010-06-16 京东方科技集团股份有限公司 黑光阻及其制备方法和构图方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1181029C (zh) * 2002-04-04 2004-12-22 湘潭大学 自由基和阳离子杂化光固化引发剂及其制备方法和用途
CN105602345A (zh) * 2016-04-05 2016-05-25 湖北科亿华科技有限公司 一种可led-uv光固化黑色喷墨墨水及其制备方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5955238A (en) * 1996-03-08 1999-09-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Waterless planographic printing plate and method of plate making using the same
CN101178539A (zh) * 2006-10-31 2008-05-14 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 可光固化树脂组合物
CN101738857A (zh) * 2008-11-07 2010-06-16 京东方科技集团股份有限公司 黑光阻及其制备方法和构图方法
CN101592859A (zh) * 2009-06-24 2009-12-02 广州机械科学研究院 一种立体光刻快速成形光敏树脂及其制备方法和应用

Also Published As

Publication number Publication date
WO2020051939A1 (zh) 2020-03-19
CN109212900A (zh) 2019-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109212900B (zh) 光刻胶组合物及彩色滤光片
KR101367581B1 (ko) 염료를 포함하는 고분자 화합물 및 이를 포함하는 경화성 수지 조성물
CN108047749B (zh) 着色树脂组合物、滤色片、液晶显示装置及有机el显示装置
CN102365586B (zh) 感光性着色组合物及滤色器
US20150322265A1 (en) Xanthene-based purple dye compound, coloring resin composition for color filter containing same and color filter using same
US20150060744A1 (en) Triarylmethane blue dye compound, blue resin composition for color filter containing same and color filter using same
KR101788399B1 (ko) 내열안정성이 우수한 옥심 에스테르 화합물, 그것을 포함하는 광중합 개시제 및 감광성 수지 조성물
JPH0980225A (ja) 液晶ディスプレーカラーフィルター用顔料分散フォトレジスト組成物
WO2020156262A1 (zh) 投影屏幕光学涂料
KR20130016046A (ko) 염료를 포함하는 고분자 화합물 및 이를 포함하는 경화성 수지 조성물
JP5969166B2 (ja) カラーフィルタ用感光性着色剤分散樹脂組成物、カラーフィルタ及び画像表示装置
CN101162364A (zh) 感光树脂组合物及其制备方法和成膜方法
JP2004124096A (ja) マクロポリマー及び感光性樹脂組成物
CN101215369B (zh) 光固化树脂、感光树脂组合物及其制备方法
JP2012087233A (ja) 添加剤、顔料分散液、カラーフィルタ用着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機el表示装置
JP2998931B2 (ja) カラーフィルタ形成用の熱硬化性着色組成物
KR20240026179A (ko) 감광성 착색 수지 조성물, 경화물, 컬러 필터, 표시 장치, 및 유기 발광 소자와 외광 반사 방지막의 적층체의 제조 방법
JP2020012921A (ja) 着色樹脂組成物、カラーフィルタ及び画像表示装置
KR102436143B1 (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치
JP2018162364A (ja) 着色樹脂組成物、カラーフィルタ及び画像表示装置
JP6408230B2 (ja) 硬化性樹脂組成物およびカラーフィルタ
KR19980015678A (ko) 칼라필터용 안료분산포토레지스트 조성물
KR20180023249A (ko) 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상표시장치
JP5838923B2 (ja) 着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子
WO2014069416A1 (ja) 新規化合物、顔料析出抑制剤、着色組成物、着色樹脂組成物、カラーフィルター、液晶表示装置、及び有機発光表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Patentee after: TCL Huaxing Photoelectric Technology Co.,Ltd.

Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province

Patentee before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd.

CP01 Change in the name or title of a patent holder