DE4125699A1 - Lichtempfindliches material umfassend eine auf einem traeger aufgebrachte lichtempfindliche schicht, polymerisierbare schicht und eine beschleunigungsschicht fuer die bilderzeugung - Google Patents
Lichtempfindliches material umfassend eine auf einem traeger aufgebrachte lichtempfindliche schicht, polymerisierbare schicht und eine beschleunigungsschicht fuer die bilderzeugungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Material, das
ein Silberhalogenid, ein Reduktionsmittel und eine ethyle
nisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und/oder ein
vernetzbares Polymer enthält. Weiterhin betrifft die Erfin
dung ein Verfahren für die Bilderzeugung mittels des licht
empfindlichen Materials.
Ein Verfahren zur Bilderzeugung mittels eines lichtempfind
lichen Materials, das Silberhalogenid, ein Reduktionsmittel
und eine polymerisierbare Verbindung enthält, ist in der ja
panischen Patentveröffentlichung Nr. 45(1970)-11 149 (ent
sprechend dem US-Patent Nr. 36 97 275, dem deutschen Patent
Nr. 17 20 665 und dem britischen Patent Nr. 11 31 200) of
fenbart. Das Verfahren umfaßt die Schritte von bildweisem
Belichten des lichtempfindlichen Materials und der Entwick
lung des Materials mittels einer Entwicklerlösung zum bild
weisen Härten der polymerisierbaren Verbindung, um so das
Polymerbild zu erzeugen. Bei dem Verfahren wird die Polyme
risation durch ein Radikal eines Oxidationsprodukts des Re
duktionsmittels, welches durch die Entwicklung des Silberha
logenids gebildet wird, verursacht.
Andererseits ist ein weiteres Verfahren zur Bilderzeugung,
bei dem ein Trockenentwicklungsverfahren angewandt wird, in
den japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 61(1986)-69 062
oder Nr. 61(1986)-73 145 offenbart (der Inhalt dieser beiden
Anmeldungen wird beschrieben im US-Patent Nr. 46 29 676 und
der vorläufigen europäischen Patentanmeldung Nr.
01 74 634A). Das Verfahren umfaßt bildweises Belichten eines
lichtempfindlichen Materials und Erhitzen des Materials zum
bildweisen Polymerisieren der polymerisierbaren Verbindung,
so daß sich ein Polymerbild ergibt. Weiterhin offenbart die
vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr. 64(1989)-
17 047 (entsprechend dem US-Patent Nr. 49 85 339) ein hit
zeentwickelbares lichtempfindliches Material, welches vor
teilhaft bei der Herstellung von Druckplatten eingesetzt
wird.
Bei den oben genannten Verfahren für die Bilderzeugung sind
Silberhalogenid, ein Reduktionsmittel und eine polymerisier
bare Verbindung essentielle Komponenten. Außerdem wurde eine
Komponente, deren Funktion die Beschleunigung der Bilderzeu
gung ist, wie eine Base, ein Basenvorläufer und ein Be
schleuniger für die Hitzeentwicklung vorzugsweise einge
setzt.
Bis jetzt waren diese funktionellen Komponenten für die Bil
derzeugung üblicherweise in einer einzigen Schicht (licht
empfindliche Schicht) enthalten. Mit anderen Worten: die
funktionellen Komponenten für die Bilderzeugung sind sehr
selten auf zwei Schichten aufgeteilt. Die folgenden drei
Ausführungsformen (A), (B) und (C) sind sämtliche bekannte
Multischichtausführungsformen.
A) Eine Ausführungsform ist ein lichtempfindliches Mate
rial, bei dem das Silberhalogenid von der polymerisierbaren
Verbindung getrennt ist, wie in der vorläufigen japanischen
Patentveröffentlichung Nr. 58(1983)-1 21 031 (entsprechend dem
US-Patent Nr. 45 47 450 und der vorläufigen deutschen Pa
tentanmeldung Nr. 33 00 817A) offenbart ist.
Fig. 9-A zeigt eine schematische Schnittansicht des in der
vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 58(1983)-
1 21 031 offenbarten lichtempfindlichen Materials. Wie in Fig.
9-A gezeigt, umfaßt das lichtempfindliche Material einen
Träger (101), eine die polymerisierbare Verbindung enthal
tende polymerisierbare Schicht (102) und eine das Silberha
logenid () enthaltende lichtempfindliche Schicht (103)
(photographische Silberhalogenidemulsionsschicht) in dieser
Reihenfolge. Das Reduktionsmittel kann in dem lichtempfind
lichen Material enthalten sein. Das Reduktionsmittel ist je
doch üblicherweise in einer Entwicklerlösung enthalten, weil
bei dem in der vorläufigen japanischen Patentveröffentli
chung Nr. 58(1983)-1 21 031 offenbarten Verfahren für die Bil
derzeugung ein Naßentwicklungsverfahren zur Anwendung kommt.
Bei dem lichtempfindlichen Material, welches eine getrennte
lichtempfindliche Schicht und polymerisierbare Schicht auf
weist, ist es für die Bilderzeugung wesentlich, daß das Ra
dikal des oxidierten Reduktionsmittels von der lichtempfind
lichen Schicht zu der polymerisierbaren Schicht übertragen
werden kann. Wie in der vorläufigen japanischen Patentveröf
fentlichung Nr. 58(1983)-1 21 031 (beschrieben in Spalte 2,
Zeilen 46 bis 53 im US-Patent Nr. 45 47 450), ist es, die
Instabilität von Radikalen in Betracht ziehend, überra
schend, daß ein Radikal, welches in der lichtempfindlichen
Schicht gebildet wurde, in eine andere Schicht diffundierte
und die Polymerisation einleitet.
Das in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung
Nr. 58(1983)-1 21 031 offenbarte Verfahren für die Bilderzeu
gung beinhaltet, wie oben erwähnt, ein Naßentwicklungsver
fahren, bei dem eine Entwicklerlösung verwendet wird. Demge
mäß durchdringt die Entwicklungslösung die lichtempfindliche
Schicht und die polymerisierbare Schicht beim Entwicklungs
verfahren. Außerdem sind die in der Anmeldung offenbarten
Reduktionsmittel wasserlöslich. Folglich wird das Radikal
des oxidierten Reduktionsmittels, welches in der lichtemp
findlichen Schicht gebildet wird, mit der Entwicklerlösung
in die polymerisierbare Schicht übertragen. Mit anderen Wor
ten: das in der Entwicklerlösung enthaltene Wasser wirkt als
Medium oder Träger des Radikals.
Wie oben erwähnt, ist das Naßentwicklungsverfahren das
Hauptanliegen der Trennung in der Offenbarung der vorläufi
gen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 58(1983)-1 21 031.
B) Beim Trocken- und Hitzeentwicklungsverfahren hat der
Anmelder gefunden, daß das Reduktionsmittel selbst zwischen
zwei Schichten übertragen werden kann. Deshalb hat der An
melder ein lichtempfindliches Material vorgeschlagen, bei
dem Silberhalogenid von einer polymerisierbaren Verbindung
so lange getrennt wird, wie das Reduktionsmittel selbst als
Polymerisationsinhibitor in einem Verfahren für die Bilder
zeugung wirkt, wie beschrieben in Fig. 2 der vorläufigen ja
panischen Patentveröffentlichung Nr. 61(1986)-75 342 (diese
entspricht der Fig. 2 des US-Patents Nr. 46 49 098).
Fig. 9-B zeigt eine schematische Schnittansicht des in der
vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 61-
(1986)-75 342 offenbarten lichtempfindlichen Materials. Wie
in Fig. 9-B gezeigt, umfaßt das lichtempfindliche Material
einen Träger (111), eine lichtempfindliche Schicht (112),
enthaltend Silberhalogenid () und ein Reduktionsmittel (▲),
welches die oben erwähnte spezifische Funktion hat, und eine
photopolymerisierbare Schicht (113) enthaltend eine polyme
risierbare Verbindung und einen Photopolymerisationsinitia
tor (⊖) in dieser Reihenfolge.
Wie in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung
Nr. 58(1983)-1 21 031 beschrieben wird, ist das Radikal des
oxidierten Reduktionsmittels jedoch viel instabiler als das
Reduktionsmittel selbst. Demgemäß wurde bisher überhaupt
noch nicht in Betracht gezogen oder versucht, das Radikal
zwischen zwei Schichten durch Hitze zu übertragen.
C) Die vorläufige japanische Patentveröffentlichung Nr.
62(1987)-2 53 140 (entsprechend dem US-Patent Nr. 47 97 343)
offenbart ein lichtempfindliches Material, wobei eine Base
oder ein Basenvorläufer in einer von der lichtempfindlichen
Schicht verschiedenen Schicht enthalten ist. Zwischen der
lichtempfindlichen Schicht und der Schicht, welche die Base
oder den Basenvorläufer enthält, liegt vorzugsweise eine
Barriereschicht. Die Barriereschicht schützt die Base oder
den Basenvorläufer von der lichtempfindlichen Schicht und
erlaubt die Übertragung der Base oder des Basenvorläufers,
wenn sie erhitzt wird. Demzufolge ist die Barriereschicht
nicht die funktionelle Schicht bei der Bilderzeugung.
Fig. 9-C zeigt eine schematische Schnittansicht des licht
empfindlichen Materials (mit der Barriereschicht), welches
in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr.
61(1986)-75 342 offenbart wird. Wie in Fig. 9-C gezeigt, um
faßt das lichtempfindliche Material einen Träger (121), eine
lichtempfindliche Schicht (122), welche Silberhalogenid ()
und ein Reduktionsmittel (∆) enthält, eine Barriereschicht
(123), welche die oben erwähnte Funktion hat, und eine
Schicht (124), welche eine Base oder einen Basenvorläufer
(∇) enthält, in dieser Reihenfolge.
Dem in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung
Nr. 61(1986)-75 342 offenbarten lichtempfindlichen Material
liegt die Erkenntnis zugrunde, daß die Base oder der Basen
vorläufer zwischen zwei Schichten übertragen werden kann.
Die separierte Komponente war auf die Base oder den Basen
vorläufer eingeschränkt, weil nicht herausgefunden wurde,
daß auch andere Komponenten als die Base oder der Basenvor
läufer zwischen zwei Schichten übertragen werden können.
Die bekannten vielschichtigen lichtempfindlichen Materialien
sind auf die oben beschriebenen Ausführungsformen (A), (B)
und (C) wegen der folgenden Gründe (1) und (2) einge
schränkt.
- 1) Um eine zur Bilderzeugung funktionelle Komponente von dem lichtempfindlichen Material zu trennen, muß die Kompo nente bei einem Entwicklungsverfahren zwischen zwei Schich ten übertragen werden. Es wurde gefunden, daß einige Kompo nenten zwischen zwei Schichten übertragen werden können, wie oben erwähnt. Die meisten der Komponenten verhielten sich jedoch unbestimmt bezüglich der Übertragung.
- 2) Das vielschichtige lichtempfindliche Material hat den Nachteil, daß das Verfahren zur Herstellung des Materials ziemlich kompliziert ist. Demzufolge ist das vielschichtige lichtempfindliche Material wertlos ohne einen Vorteil, wel cher diesen Nachteil kompensieren kann. Der Vorteil findet sich nur in den oben beschriebenen drei Ausführungsformen.
Wegen derselben wie der oben angeführten Ursachen wurde bis
her noch kein lichtempfindliches Material vorgeschlagen,
welches drei oder mehr funktionelle Schichten zur Bilderzeu
gung aufweist.
Der Anmelder fand in seinen Untersuchungen, daß das Radikal
des oxidierten Reduktionsmittels überraschenderweise durch
Hitze zwischen zwei Schichten (nämlich von der lichtempfind
lichen Schicht zu der polymerisierbaren Schicht) übertragen
wird. Diese Erkenntnis des Anmelders ermöglicht es, die
lichtempfindliche Schicht und die polymerisierbare Schicht
zu trennen, selbst wenn ein Trockenentwicklungsverfahren an
gewandt wird.
Der Anmelder hat kürzlich ein hitzeentwickelbares lichtemp
findliches Material mit zwei bilderzeugenden funktionellen
Schichten und ein Verfahren für die Bilderzeugung, bei dem
dieses Material verwendet wird, vorgeschlagen (siehe US-Pa
tentanmeldung Nr. 07/6 07 440, eingereicht am 31. Oktober
1990, jetzt erteilt, und europäische Patentveröffentlichung
Nr. 04 26 192A, veröffentlicht am 08. Mai 1991).
Gemäß weiteren Untersuchungen des Anmelders können verschie
dene Komponenten des lichtempfindlichen Materials zwischen
den Schichten übertragen werden, selbst wenn die Komponenten
in drei oder mehr Schichten aufgeteilt werden. Weiterhin
fand der Anmelder verschiedene Vorzüge eines lichtempfindli
chen Materials, das drei oder mehr funktionelle Schichten
zur Bilderzeugung aufweist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein lichtempfind
liches Material, welches eine hohe Empfindlichkeit aufweist
und ein Polymerbild von hoher mechanischer Festigkeit er
gibt, zu schaffen.
Weiterhin liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein
lichtempfindliches Material, welches in der Haltbarkeit ver
bessert ist, zu schaffen.
Weiterhin liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Ver
fahren zur Bilderzeugung, welches ein lichtempfindliches Ma
terial anwendet, bei dem die für die Bilderzeugung funktio
nellen Komponenten in drei oder mehr Schichten getrennt
sind, zu schaffen.
Außerdem liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein
lichtempfindliches Material welches vorteilhaft als vorsen
sibilisierte Druckplatte verwendet wird, und ein Verfahren
für die Bilderzeugung, welches vorteilhaft bei der Herstel
lung von Druckplatten eingesetzt wird, zu schaffen.
Diese Aufgaben werden durch das lichtempfindliche Material
gemäß Anspruch 1 und durch das Verfahren für die Bilderzeu
gung gemäß Anspruch 16 gelöst.
Die Unteransprüche betreffen vorteilhafte Ausgestaltungen
des lichtempfindlichen Materials bzw. des Verfahren für die
Bilderzeugung.
Die Erfindung schafft ein lichtempfindliches Material, ent
haltend Silberhalogenid, ein Reduktionsmittel und eine ethy
lenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und/oder
ein vernetzbares Polymer, wobei das lichtempfindliche Mate
rial umfaßt: einen Träger und wenigstens drei funktionelle
Schichten für die Bilderzeugung, enthaltend eine lichtemp
findliche Schicht, eine polymerisierbare Schicht und eine
die Bilderzeugung beschleunigende Schicht, wobei die licht
empfindliche Schicht Silberhalogenid, die polymerisierbare
Schicht eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Ver
bindung und/oder das vernetzbare Polymer enthält, und die
Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung eine Komponente
enthält, deren Funktion die Beschleunigung der Bilderzeugung
ist, ausgewählt aus einem Reduktionsmittel, einer Base, ei
nem Basenvorläufer und einem Beschleuniger für die Hitzeent
wicklung.
Die polymerisierbare Schicht liegt vorzugsweise zwischen dem
Träger und der lichtempfindlichen Schicht. Insbesondere ist
es von Vorteil, wenn das lichtempfindliche Material den Trä
ger, die polymerisierbare Schicht, die lichtempfindliche
Schicht und die Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung
in dieser Reihenfolge enthält. Weiterhin enthält die Be
schleunigungsschicht für die Bilderzeugung vorzugsweise den
Basenvorläufer.
Die Erfindung schafft auch ein Verfahren für die Bilderzeu
gung, umfassend die Schritte:
bildweises Belichten eines lichtempfindlichen Materials, enthaltend Silberhalogenid, ein Reduktionsmittel, eine ethy lenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und/oder ein vernetzbares Polymer und eine Base und/oder einen Basen vorläufer,
wobei das lichtempfindliche Material umfaßt einen Träger und wenigstens drei funktionelle Schichten für die Bilder zeugung, einschließlich eine lichtempfindliche Schicht, eine polymerisierbare Schicht und eine die Bilderzeugung be schleunigende Schicht, wobei die lichtempfindliche Schicht Silberhalogenid, die polymerisierbare Schicht die ethyle nisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und/oder das vernetzbare Polymer enthält, und die Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung eine Komponente enthält, deren Funk tion die Beschleunigung der Bilderzeugung ist, ausgewählt aus einem Reduktionsmittel, einer Base, einem Basenvorläufer und einem Beschleuniger für die Hitzeentwicklung;
gleichzeitiges oder nachfolgendes Erhitzen des lichtemp findlichen Materials auf eine Temperatur im Bereich von 60 bis 200°C unter Bedingungen, bei denen weitgehend kein Was ser für die Entwicklung des Silberhalogenids vorhanden ist und für die bildweise Härtung der polymerisierbaren Verbin dung zur Erzeugung eines Polymerbilds.
bildweises Belichten eines lichtempfindlichen Materials, enthaltend Silberhalogenid, ein Reduktionsmittel, eine ethy lenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und/oder ein vernetzbares Polymer und eine Base und/oder einen Basen vorläufer,
wobei das lichtempfindliche Material umfaßt einen Träger und wenigstens drei funktionelle Schichten für die Bilder zeugung, einschließlich eine lichtempfindliche Schicht, eine polymerisierbare Schicht und eine die Bilderzeugung be schleunigende Schicht, wobei die lichtempfindliche Schicht Silberhalogenid, die polymerisierbare Schicht die ethyle nisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und/oder das vernetzbare Polymer enthält, und die Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung eine Komponente enthält, deren Funk tion die Beschleunigung der Bilderzeugung ist, ausgewählt aus einem Reduktionsmittel, einer Base, einem Basenvorläufer und einem Beschleuniger für die Hitzeentwicklung;
gleichzeitiges oder nachfolgendes Erhitzen des lichtemp findlichen Materials auf eine Temperatur im Bereich von 60 bis 200°C unter Bedingungen, bei denen weitgehend kein Was ser für die Entwicklung des Silberhalogenids vorhanden ist und für die bildweise Härtung der polymerisierbaren Verbin dung zur Erzeugung eines Polymerbilds.
Bei der hier verwendeten Bezeichnungsweise bedeutet der Aus
druck "unter Bedingungen, bei denen weitgehend kein Wasser
vorhanden ist", daß der Wassergehalt des lichtempfindlichen
Materials weniger als 10 Gew.-%, bezogen auf die gesamte
Menge der lichtempfindlichen Schicht, beträgt.
Die Erfindung schafft ein lichtempfindliches Material mit
einem Träger und wenigstens drei für die Bilderzeugung funk
tionellen Schichten. Mittels des lichtempfindlichen Materi
als gemäß der Erfindung können die folgenden Effekte erzielt
werden.
1. Bei dem lichtempfindlichen Material gemäß der Erfin
dung sind die lichtempfindliche Schicht und die Beschleuni
gungsschicht für die Bilderzeugung von der polymerisierbaren
Schicht getrennt. Die Komponenten der lichtempfindlichen
Schicht und der Beschleunigungsschicht für die Bilderzeu
gung, wie Silberhalogenid, einer Base und einem Basenvorläu
fer, sind nicht in der polymerisierbaren Schicht enthalten.
Weil die polymerisierbare Schicht im wesentlichen nur aus
der polymerisierbaren Verbindung und dem vernetzbaren Poly
mer besteht, hat das in der polymerisierbaren Schicht gebil
dete Polymerbild folglich eine große mechanische Festigkeit.
Weiterhin ist das erzeugte Polymerbild äußerst wasserbestän
dig. Dieser Effekt ist besonders vorteilhaft, falls das
lichtempfindliche Material als vorsensibilisierte Druckplat
te gebraucht wird.
Andererseits kann eine Farbsubstanz, wie ein Farbstoff oder
ein Pigment, zur Färbung des Polymerbilds oder zur Vorbeu
gung der Lichthofbildung, in der polymerisierbaren Schicht
enthalten sein (es sei denn, daß die Farbsubstanz als ein
Strahlenschutzmittel eingesetzt wird, welches vorzugsweise
in der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist). Die in der
polymerisierbaren Schicht enthaltene Farbsubstanz hat keinen
Einfluß auf die Empfindlichkeit des Silberhalogenids, wel
ches in der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist.
2. Bei dem lichtempfindlichen Material gemäß der Erfin
dung enthält die Beschleunigungsschicht für die Bilderzeu
gung eine Komponente, deren Funktion die Beschleunigung der
Bilderzeugung ist, ausgewählt aus einem Reduktionsmittel,
einer Base, einem Basenvorläufer und einem Beschleuniger für
die Hitzeentwicklung. Entsprechend ist zumindest eine die
Bilderzeugung beschleunigende Komponente von der lichtemp
findlichen Schicht und der polymerisierbaren Schicht ge
trennt. Gemäß den Untersuchungen des Anmelders verbessert
diese Trennung die Haltbarkeit des lichtempfindlichen Mate
rials. Weiterhin bemerkt der Anmelder, daß die getrennte
Komponente in der Beschleunigungsschicht für die Bilderzeu
gung auf die anderen Schichten bei einem Hitzeentwicklungs
verfahren verteilt werden kann. Folglich hat die Trennung
der Komponente für die Beschleunigung der Bilderzeugung kei
nen Einfluß auf die bilderzeugende Reaktion.
3. Bei denjenigen Ausführungsformen, bei denen die poly
merisierbare Schicht zwischen dem Träger und der lichtemp
findlichen Schicht liegt, verhindert die lichtempfindliche
Schicht die Diffusion von Sauerstoff aus der Luft in die po
lymerisierbare Schicht bei dem Hitzeentwicklungsverfahren.
Der Sauerstoff wirkt als Polymerisationsinhibitor. Weil die
se Wirkung des Sauerstoffs durch die lichtempfindliche
Schicht verhindert wird, läuft die Polymerisationsreaktion
folglich in dem lichtempfindlichen Material gemäß der Erfin
dung reibungslos ab.
Falls das lichtempfindliche Material erhitzt wird, während
die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials der Luft
ausgesetzt ist, ist es weiterhin von Vorteil, wenn die ober
ste Schicht (die funktionelle Schicht für die Bilderzeugung
oder eine Schutzschicht) ein hydrophiles Polymerbindemittel
mit einem niedrigen Transmissionskoeffizienten für Sauer
stoff von nicht mehr als 1,0 × 10-11cm3·cm/cm2·sec·cmHg ent
hält.
4. Das Entwicklungsverfahren für das lichtempfindliche
Material umfaßt die Entwicklungsreaktion des Silberhaloge
nids und die Härtungsreaktion der polymerisierbaren Verbin
dung. Bei dem lichtempfindlichen Material gemäß der Erfin
dung verlaufen die beiden Reaktionen getrennt in der licht
empfindlichen Schicht und in der polymerisierbaren Schicht.
Die beiden Reaktionen verlaufen reibungslos, weil sie sich
nicht gegenseitig beeinflussen.
Bei dem Entwicklungsverfahren verläuft weiterhin eine Reak
tion, bei der eine Base aus einem Basenvorläufer entsteht.
Falls der Basenvorläufer in der Beschleunigungsschicht für
die Bilderzeugung enthalten ist, verlaufen die drei Reaktio
nen getrennt und reibungsfrei in den drei Schichten.
5. Ein Basenvorläufer besteht im allgemeinen aus einer
Base und einer Carbonsäure. Beim Entwicklungsverfahren wird
die Carbonsäure des Basenvorläufers durch Hitze zersetzt, so
daß die Base freigegeben wird. Die Bestandteile der zersetz
ten Säure bilden Kohlendioxid. Der Anmelder bemerkt, daß aus
Kohlendioxid gebildete Bläschen die Qualität des gewonnenen
Bildes vermindern.
Falls die oberste Schicht die Beschleunigungsschicht für die
Bilderzeugung ist, welche den Basenvorläufer enthält, wird
Kohlendioxid sehr schnell von dem lichtempfindlichen Materi
al freigesetzt. Folglich bilden sich bei dieser Ausführungs
form keine Kohlendioxidbläschen und ein Bild hoher Qualität
kann gewonnen werden.
6. Falls der Basenvorläufer in der lichtempfindlichen
Schicht enthalten ist, tendieren die Teilchen des Basenvor
läufers zu einer Ausfällung in der Bedeckungslösung (coating
solution) der lichtempfindlichen Schicht. Der Anmelder fand,
daß diese Fällung durch die Reaktion des Basenvorläufers mit
der Silberhalogenidemulsion verursacht wird.
Bei der Erfindung kann das Problem der Fällung durch die Zu
gabe des Basenvorläufers in eine Beschleunigungsschicht für
die Bilderzeugung gelöst werden.
Im folgenden wird die Erfindung anhand einer Zeichnung näher
erläutert, in der zeigt
Fig. 1 eine schematische Schnittansicht einer bevorzugten
Ausführungsform des lichtempfindlichen Materials gemäß der
Erfindung;
Fig. 2-A bis 2-C erfindungsgemäße Ausführungsformen des
lichtempfindlichen Materials mit vier oder mehr Schichten;
Fig. 3-A bis 3-C schematische Schnittansichten der bevorzug
ten Reihenfolge von lichtempfindlicher Schicht, polymeri
sierbarer Schicht und Beschleunigungsschicht für die Bilder
zeugung;
Fig. 4-A bis 4-F schematische Schnittansichten der bevorzug
ten Anordnung des Reduktionsmittels und des Basenvorläufers
(oder der Base);
Fig. 5-A bis 5-F schematische Schnittansichten der bevorzug
ten Anordnung des Beschleunigers für die Hitzeentwicklung;
Fig. 6 eine schematische Schnittansicht des Schritts der
bildweisen Belichtung des lichtempfindlichen Materials;
Fig. 6-A ein Diagramm der Reaktion des in Fig. 6 gezeigten
Schrittes;
Fig. 7 eine schematische Schnittansicht des Schritts der Er
hitzung des lichtempfindlichen Materials;
Fig. 7-A ein Diagramm der Reaktion des in Fig. 7 gezeigten
Schrittes;
Fig. 8 eine schematische Schnittansicht des Schrittes des
Spülens des lichtempfindlichen Materials mit einer Ätzlö
sung;
Fig. 9-A bis 9-C schematische Schnittansichten des lichtemp
findlichen Materials entsprechend dem Stand der Technik.
Zuerst werden bevorzugte erfindungsgemäße Ausführungsformen
beschrieben.
1) Die Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung ent
hält vorzugsweise eine Base oder einen Basenvorläufer. Die
Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung wird zur Tren
nung einer Beschleunigungskomponente für die Bilderzeugung
von einer lichtempfindlichen Schicht und einer polymerisier
baren Schicht geschaffen. Es ist von Vorteil, wenn die zu
separierende Komponente eine Base oder ein Basenvorläufer
ist.
Gegenüber einer Base weist ein Basenvorläufer den Vorteil
der Stabilität des lichtempfindlichen Materials auf. Der Ba
senvorläufer ist vorzugsweise ein Salz einer organischen Ba
se und einer Carbonsäure, welches die Base bei Erhitzung
freisetzt. Der Basenvorläufer setzt die Base vorzugsweise
bei einer Temperatur im Bereich von 50 bis 200°C frei.
Falls die Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung die
Base oder den Basenvorläufer enthält, kann das Reduktions
mittel in der Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung
oder in der lichtempfindlichen Schicht oder in der polymeri
sierbaren Schicht enthalten sein.
2) Das lichtempfindliche Material enthält vorzugsweise
einen Beschleuniger für die Hitzeentwicklung. Wird das
lichtempfindliche Material erhitzt, schmilzt es und be
schleunigt das Schmelzen oder die Ausbreitung der Reaktions
komponenten. Eine weitere Funktion des Beschleunigers ist
die Erhöhung der Formbarkeit des Polymers (welcher als Bin
demittel fungiert) bei Raumtemperatur oder bei einer erhöh
ten Temperatur im Hitzeentwicklungsverfahren. Folglich ist
die Zersetzung des Basenvorläufers, die Verteilung der ge
bildeten Base und des Radikals des oxidierten Reduktionsmit
tels, die Entwicklung des Silberhalogenids, die Polymerisa
tion der polymerisierbaren Verbindung und die Vernetzung des
Polymers beschleunigt. Der Beschleuniger für die Hitzeent
wicklung kann in zwei oder mehr Schichten enthalten sein.
3) Das Reduktionsmittel kann wahlweise in der Beschleu
nigungsschicht für die Bilderzeugung, der lichtempfindlichen
Schicht oder der polymerisierbaren Schicht enthalten sein.
Enthält jedoch die Beschleunigungsschicht für die Bilderzeu
gung nicht die anderen Beschleunigungskomponenten für die
Bilderzeugung, nämlich eine Base, einen Basenvorläufer und
einen Beschleuniger für die Hitzeentwicklung, sollte das Re
duktionsmittel in der Beschleunigungsschicht für die Bilder
zeugung enthalten sein.
Das Reduktionsmittel ist vorzugsweise in der Beschleuni
gungsschicht für die Bilderzeugung oder in der lichtempfind
lichen Schicht enthalten, falls das Reduktionsmittel als Po
lymerisationsinhibitor (beispielsweise wenn das Reduktions
mittel ein Radikal fängt) fungiert oder falls die mechani
sche Festigkeit des Polymerbilds weiter verbessert werden
soll.
4) Die polymerisierbare Schicht enthält vorzugsweise ei
ne ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung.
5) Die polymerisierbare Schicht enthält vorzugsweise ein
vernetzbares Polymer. Das Polymer hat vorzugsweise eine
ethylenisch ungesättigte Gruppe in seiner Seitenkette.
6) Insbesondere ist es von Vorteil, wenn die polymeri
sierbare Schicht sowohl die ethylenisch ungesättigte polyme
risierbare Verbindung und ein Polymer enthält. Das Polymer
ist vorzugsweise ein vernetzbares Polymer. In diesem Fall
hat auch das Polymer vorzugsweise eine ethylenisch ungesät
tigte Gruppe in seiner Seitenkette.
7) Die polymerisierbare Schicht enthält vorzugsweise ein
Polymerbindemittel, dessen Molekül eine saure Gruppe ent
hält.
Mittels des sauren Polymerbindemittels kann die ungehärtete
polymerisierbare Schicht durch eine wäßrige Lösung anstatt
eines organischen Lösungsmittels nach dem Hitzeentwicklungs
verfahren entfernt werden. Die wäßrige Lösung (eine Ätzlö
sung) ist vorzugsweise eine Alkalilösung.
Das saure Polymerbindemittel ist vorzugsweise vernetzbar.
8) Insbesondere ist es von Vorteil, wenn die polymeri
sierbare Schicht sowohl die ethylenisch ungesättigte polyme
risierbare Verbindung als auch das vernetzbare Polymerbinde
mittel, dessen Molekül eine saure Gruppe hat, enthält. Diese
Ausführungsform zeichnet sich durch erhöhte Geschwindigkeit
und Ausbeute (rate) bei der Polymerisationsreaktion aus. Au
ßerdem kann die ungehärtete polymerisierbare Schicht leicht
durch eine wäßrige Lösung entfernt werden.
Das in der polymerisierbaren Schicht enthaltene Polymerbin
demittel ist vorzugsweise nicht in dem Wasser, welches in
der Bedeckungslösung der lichtempfindlichen Schicht enthal
ten ist, lösbar. Weiterhin ist es auch von Vorteil, wenn das
Polymerbindemittel eine Affinität gegenüber Druckfarbe hat,
falls das Polymerbild als Druckplatte verwendet wird. Folg
lich ist das Polymerbindemittel vorzugsweise öllöslich und
hydrophob.
9) Die lichtempfindliche Schicht oder die oberste Be
schleunigungsschicht für die Bilderzeugung enthält vorzugs
weise ein hydrophiles Polymerbindemittel.
Falls das lichtempfindliche Material erhitzt wird, während
die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials von der Luft
abgeschirmt ist, besteht hinsichtlich dieses hydrophilen Po
lymerbindemittels keine bestimmte Einschränkung. Wird das
lichtempfindliche Material andererseits erhitzt, während die
Oberfläche des lichtempfindlichen Materials der Luft zugäng
lich ist, ist es von Vorteil, wenn das hydrophile Polymer
bindemittel einen Transmissionskoeffizienten für Sauerstoff
von nicht mehr als 1,0 × 10-11cm3·cm/cm2·sec·cmHg hat.
Weiterhin ist es von Vorteil, wenn das hydrophile Polymer
bindemittel wasserlöslich ist oder in Wasser anschwellt.
Genauer gesagt: das hydrophile Polymerbindemittel ist vor
zugsweise Gelatine oder Polyvinylalkohol. Polyvinylalkohol
ist besonders geeignet. Der Polyvinylalkohol hat vorzugswei
se einen hohen Verseifungsgrad von nicht weniger als 70%,
vorzugsweise von nicht weniger als 80%, insbesondere von
nicht weniger als 95%. Das hydrophile Polymerbindemittel
wird vorzugsweise in einer Menge im Bereich von 0,5 g bis 10
g/m2, insbesondere im Bereich von 1,0 g bis 5 g/m2, einge
setzt. Das Molekulargewicht liegt vorzugsweise im Bereich
von 3000 bis 500 000.
Wird das Polymer benutzt, kann das lichtempfindliche Materi
al erhitzt werden, während die Oberfläche des lichtempfind
lichen Materials der Luft zugänglich ist. Falls die Oberflä
che des lichtempfindlichen Materials der Luft zugänglich
ist, ergibt sich manchmal eine verbesserte Qualität der ge
wonnenen Bilder.
10) Eine schützende Schicht ist vorzugsweise als oberste
Schicht vorgesehen. Falls diese Schutzschicht vorhanden ist,
enthält sie vorzugsweise das oben erwähnte hydrophile Poly
mer.
Das hydrophile Polymer weist vorzugsweise den oben erwähnten
niedrigen Transmissionskoeffizienten für Sauerstoff auf.
Mittels dieses Polymers kann das lichtempfindliche Material
erhitzt werden, während die Oberfläche des lichtempfindli
chen Materials der Luft zugänglich ist.
11) Die oberste Schicht enthält vorzugsweise ein Mattier
mittel.
12) Die lichtempfindliche Schicht oder die polymerisier
bare Schicht kann eine Farbsubstanz enthalten.
Die Funktion der gefärbten Substanz ist die Erzeugung eines
sichtbaren Polymerbildes. Weiterhin fungiert die Farbsub
stanz als ein Antilichthoffarbstoff, falls das Absorptions
spektrum der Substanz dasjenige des Silberhalogenids über
lappt. Es ist von Vorteil, wenn die Farbsubstanz das Silber
halogenid (dessen Sensibilität und Entwicklung) und die Här
tungsreaktion (Polymerisation und Vernetzung) nicht beein
flußt.
13) Die lichtempfindliche Schicht kann eine Farbsubstanz
als Antiirradationsfarbstoff (antiirradation dye) enthalten.
Der Antiirradationsfarbstoff hat vorzugsweise keinen Einfluß
auf das Silberhalogenid (dessen Sensibilität und Entwick
lung) und auf die Härtungsreaktion (Polymerisation und Ver
netzung).
14) Ein Antischleiermittel ist vorzugsweise in irgendei
ner Schicht enthalten.
15) Das lichtempfindliche Material enthält vorzugsweise
ein organisches Silbersalz. Das organische Silbersalz fun
giert als Oxidationsmittel und es ist insbesondere von Vor
teil, wenn es in der lichtempfindlichen Schicht enthalten
ist.
16) Ein oberflächenaktives Mittel kann in jeder der
Schichten enthalten sein.
17) Der Träger ist vorzugsweise ein Aluminiumblatt. Das
Aluminiumblatt wird vorzugsweise einer Oberflächenbehand
lung, wie einer Oberflächenaufrauhung, oder einem Eloxier
verfahren unterworfen.
18) Das Silberhalogenid ist vorzugsweise in der lichtemp
findlichen Schicht in einer Bedeckungsmenge von 1 mg bis 5
g/m2, als Silber, enthalten. Die Menge des enthaltenen Re
duktionsmittels beträgt vorzugsweise 0,1 bis 10 Mol, bezogen
auf 1 Mol des Silberhalogenids. Die polymerisierbare Verbin
dung ist vorzugsweise in der polymerisierbaren Schicht in
einer Menge von 3 bis 90 Gew.-%, bezogen auf die Menge der
polymerisierbaren Schicht, enthalten.
Das vernetzbare Polymer ist vorzugsweise in der polymeri
sierbaren Schicht in einer Menge von 0,1 bis 7 g/m2 enthal
ten. Die Base und/oder der Basenvorläufer ist vorzugsweise
in der Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung in einer
Menge von 0,5 bis 50 Mol, bezogen auf 1 Mol des Silberhalo
genids, enthalten.
19) Die Dicke der polymerisierbaren Schicht liegt vor
zugsweise im Bereich von 0,3 bis 7 µm. Die Dicke der licht
empfindlichen Schicht liegt vorzugsweise im Bereich von 0,5
bis 20 µm. Die Dicke der Beschleunigungsschicht für die Bil
derzeugung liegt vorzugsweise im Bereich von 0,3 bis 20 µm.
Die Dicke der Schutzschicht liegt vorzugsweise im Bereich
von 0,5 bis 20 µm.
(20) Bei dem Verfahren für die Bilderzeugung ist es von
Vorteil, wenn das Oxidationsprodukt des Reduktionsmittels
durch die Entwicklung des Silberhalogenids gebildet wird,
das Oxidationsprodukt oder ein von dem Produkt gebildetes
Radikal von der lichtempfindlichen Schicht zu der polymeri
sierbaren Schicht übertragen wird, und die polymerisierbare
Verbindung bildweise durch die Wirkung des Oxidationspro
dukts oder des Radikals gehärtet wird.
21) Das lichtempfindliche Material kann erhitzt werden,
während die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials von
der Luft abgeschirmt wird. Dieses Verfahren ist von Vorteil,
falls das hydrophile Polymer mit dem niedrigen Transmis
sionskoeffizienten für Sauerstoff nicht in der obersten
Schicht eingesetzt wird.
22) Das lichtempfindliche Material kann auch erhitzt wer
den, während die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials
der Luft zugänglich ist. Dieses Verfahren ist vorteilhaft,
falls das hydrophile Polymer mit dem niedrigen Transmis
sionskoeffizienten für Sauerstoff in der obersten Schicht
verwendet wird, weil das Auftreten von Schleiern oder Ver
färbungen in dem erzeugten Polymerbild eingeschränkt ist und
dieses Verfahren einen weiten Spielraum der Entwicklungsbe
dingungen mit sich bringt.
23) Nachdem das Polymerbild erzeugt wurde (nämlich nach
dem Hitzeentwicklungsverfahren), wird das lichtempfindliche
Material vorzugsweise mit einer wäßrigen Ätzlösung (vorzugs
weise Alkalilösung) zur Entfernung der ungehärteten polyme
risierbaren Schicht ausgewaschen.
24) Nach Erzeugung des Polymerbildes kann das lichtemp
findliche Material mit Wasser oder einer wäßrigen Lösung zur
Entfernung der von der polymerisierbaren Schicht verschiede
nen Schichten ausgespült und dann mit einer Ätzlösung zur
Entfernung der ungehärteten polymerisierbaren Schicht ausge
spült werden.
25) Nach Erzeugung des Polymerbildes kann das lichtemp
findliche Material mit einer Ätzlösung zur Entfernung der
von der polymerisierbaren Schicht verschiedenen Schichten
und des ungehärteten polymerisierbaren Schicht gespült wer
den.
Im folgenden werden das lichtempfindliche Material und das
Verfahren zur Bilderzeugung gemäß der Erfindung detaillier
ter beschrieben, wobei im folgenden auf die Zeichnungen Be
zug genommen wird.
Fig. 1 zeigt eine schematische Schnittansicht der vorteil
haftesten erfindungsgemäßen Ausführungsform des lichtemp
findlichen Materials.
Wie in Fig. 1 dargestellt, ist auf einem Träger 1 eine poly
merisierbare Schicht 2, auf der polymerisierbaren Schicht 2
eine lichtempfindliche Schicht 3 und auf der lichtempfindli
chen Schicht 3 eine Beschleunigungsschicht für die Bilder
zeugung 4 angeordnet.
Die polymerisierbare Schicht 2 enthält eine ethylenisch un
gesättigte polymerisierbare Verbindung.
Die lichtempfindliche Schicht 3 enthält Silberhalogenid ,
ein Reduktionsmittel ∆ und einen Beschleuniger für die Hit
zeentwicklung ○.
Die Beschleunigungsschicht 4 für die Bilderzeugung enthält
einen Basenvorläufer ∇ und einen Beschleuniger für die Hit
zeentwicklung ○.
Fig. 2-A bis 2-C zeigen schematische Schnittansichten von
erfindungsgemäßen Ausführungsformen des lichtempfindlichen
Materials mit vier oder mehr Schichten.
Das in Fig. 2-A gezeigte lichtempfindliche Material ist ein
Beispiel für eine Ausführungsform mit vier funktionellen
Schichten für die Bilderzeugung. Wie in Fig. 2-A darge
stellt, ist auf einem Träger 11 eine polymerisierbare
Schicht 12 angeordnet, die eine ethylenisch ungesättigte po
lymerisierbare Verbindung enthält. Auf der polymerisierbaren
Schicht 12 ist eine erste Beschleunigungsschicht 13 für die
Bilderzeugung angeordnet, welche ein Reduktionsmittel Δ ent
hält. Auf der ersten Schicht für die Bilderzeugung 13 ist
eine lichtempfindliche Schicht 14 angeordnet, welche Silber
halogenid und einen Beschleuniger für die Hitzeentwicklung
○ enthält. Auf der lichtempfindlichen Schicht 14 ist eine
zweite Schicht für die Bilderzeugung 15 angeordnet, welche
einen Basenvorläufer ∇ enthält.
Das in der Fig. 2-B dargestellte lichtempfindliche Material
ist ein Beispiel für eine Ausführungsform mit fünf funktio
nellen Schichten für die Bilderzeugung. Wie in Fig. 2-B ge
zeigt, ist auf einem Träger 21 eine polymerisierbare Schicht
22 angeordnet, welche eine ethylenisch ungesättigte polyme
risierbare Verbindung enthält. Auf der polymerisierbaren
Schicht 22 ist eine erste Beschleunigungsschicht 23 für die
Bilderzeugung angeordnet, welche ein Reduktionsmittel ∆ ent
hält. Auf der ersten Schicht für die Bilderzeugung 23 ist
eine lichtempfindliche Schicht 24 angeordnet, die Silberha
logenid enthält. Auf der lichtempfindlichen Schicht 24
ist eine zweite Beschleunigungsschicht 25 für die Bilderzeu
gung angeordnet, die einen Beschleuniger für die Hitzeent
wicklung ○ enthält. Auf der zweiten Beschleunigungsschicht
25 für die Bilderzeugung ist eine dritte Schicht 26 für die
Bilderzeugung angeordnet, die einen Basenvorläufer ∇ ent
hält.
Das lichtempfindliche Material, das in Fig. 2-C dargestellt
ist, ist ein Beispiel für eine Ausführungsform, die funktio
nelle Schichten und nichtfunktionelle Schichten für die
Bilderzeugung aufweist. Wie in Fig. 2-C dargestellt, ist auf
einem Träger 31 eine Unterschicht 32 (undercoating layer)
angeordnet. Auf der Unterschicht 32 ist eine polymerisierba
re Schicht 33 angeordnet, welche eine ethylenisch ungesät
tigte polymerisierbare Verbindung enthält. Auf der polymeri
sierbaren Schicht 33 ist eine erste Zwischenschicht 34 ange
ordnet. Auf der ersten Zwischenschicht 34 ist eine lichtemp
findliche Schicht 35 angeordnet, welche Silberhalogenid ,
ein Reduktionsmittel ∆ und einen Beschleuniger für die Hit
zeentwicklung ○ enthält. Auf der lichtempfindlichen Schicht
35 ist eine zweite Zwischenschicht 36 angeordnet. Auf der
zweiten Zwischenschicht 36 ist eine Beschleunigungsschicht
37 für die Bilderzeugung angeordnet, welche einen Basenvor
läufer ∇ und einen Beschleuniger für die Hitzeentwicklung ○
enthält. Auf der Beschleunigungsschicht 37 für die Bilder
zeugung ist eine schützende Schicht 38 angeordnet.
Fig. 3-A bis 3-C zeigen schematische Schnittansichten der
vorzugsweisen Reihenfolge der lichtempfindlichen Schicht,
der polymerisierbaren Schicht und der Beschleunigungsschicht
für die Bilderzeugung.
Die polymerisierbare Schicht liegt vorzugsweise zwischen dem
Träger und der lichtempfindlichen Schicht, weil ansonsten
die polymerisierbare Schicht die Sensibilität der lichtemp
findlichen Schicht durch optische Absorption beeinflussen
kann. Falls das lichtempfindliche Material drei funktionelle
Schichten für die Bilderzeugung (nämlich eine lichtempfind
liche Schicht, eine polymerisierbare Schicht und eine Be
schleunigungsschicht für die Bilderzeugung) aufweist, exi
stieren folglich drei vorteilhafte Ausführungsformen bezüg
lich der Reihenfolge der Schichten, wie in Fig. 3-A bis 3-C
dargestellt ist.
Die in Fig. 3-A dargestellte Ausführungsform umfaßt einen
Träger 41, eine polymerisierbare Schicht 42, eine lichtemp
findliche Schicht 43 und eine Beschleunigungsschicht für die
Bilderzeugung 44 in dieser Reihenfolge. Die in Fig. 3-B dar
gestellte Ausführungsform umfaßt einen Träger 51, eine poly
merisierbare Schicht 52, eine Beschleunigungsschicht für die
Bilderzeugung 53 und eine lichtempfindliche Schicht 54 in
dieser Reihenfolge. Die in Fig. 3-C dargestellte Ausfüh
rungsform umfaßt einen Träger 61, eine Beschleunigungs
schicht für die Bilderzeugung 62, eine polymerisierbare
Schicht 63 und eine lichtempfindliche Schicht 64 in diese
Reihenfolge. Die in Fig. 3-A dargestellte Ausführungsform
ist besonders vorteilhaft.
Fig. 4-A bis 4-F zeigen schematische Schnittansichten der
bevorzugten Anordnung von Reduktionsmittel und Basenvorläu
fer (oder Base). Die Reihenfolge der in den Fig. 4-A bis 4-F
dargestellten Schichten entspricht derjenigen der vorteil
haftesten Ausführungsform (dargestellt in Fig. 3-A). Jede
der in den Fig. 4-A bis 4-F dargestellten Ausführungsformen
umfaßt einen Träger, eine polymerisierbare Schicht, eine
lichtempfindliche Schicht, enthaltend Silberhalogenid und
eine Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung in dieser
Reihenfolge.
Fig. 4-A zeigt ein lichtempfindliches Material, welches au
ßer dem Reduktionsmittel keine die Bilderzeugung beschleuni
gende Komponenten (d. h. eine Base, einen Basenvorläufer und
einen Beschleuniger für die Hitzeentwicklung) enthält. Wie
in Fig. 4-A dargestellt, sollte das Reduktionsmittel ∆ in
der Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung enthalten
sein.
Die Fig. 4-B bis 4-F zeigen verschiedene Ausführungsformen
eines lichtempfindlichen Materials, welches ein Reduktions
mittel und einen Basenvorläufer enthält.
In der in Fig. 4-B dargestellten Ausführungsform sind das
Reduktionsmittel ∆ und der Basenvorläufer ∇ in der Be
schleunigungsschicht für die Bilderzeugung enthalten.
In der in Fig. 4-C dargestellten Ausführungsform enthält die
Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung das Reduktions
mittel ∆ und die lichtempfindliche Schicht enthält den Ba
senvorläufer ∇.
In der in Fig. 4-D dargestellten Ausführungsform enthält die
Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung das Reduktions
mittel ∆ und die polymerisierbare Schicht enthält den Basen
vorläufer ∇.
In der in Fig. 4-E dargestellten Ausführungsform enthält die
Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung den Basenvor
läufer ∇ und die lichtempfindliche Schicht enthält das Re
duktionsmittel ∆.
In der in Fig. 4-F dargestellten Ausführungsform enthält die
Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung den Basenvor
läufer ∇ und die polymerisierbare Schicht enthält das Re
duktionsmittel ∆.
Der Basenvorläufer ∇ ist vorzugsweise in der Beschleuni
gungsschicht für die Bilderzeugung enthalten. Folglich sind
die in den Fig. 4-B, 4-E und 4-F dargestellten Ausführungs
formen besonders vorteilhaft.
Die Fig. 5-A bis 5-F zeigen schematische Schnittbildansich
ten der bevorzugten Verteilung des Beschleunigers für die
Hitzeentwicklung. Die Reihenfolge der Schichten und die Ver
teilung des Reduktionsmittels und des Basenvorläufers, wel
che in den Fig. 5-A bis 5-F dargestellt ist, ist diejenige
der bevorzugten Ausführungsform (dargestellt in Fig. 4-E).
Jede der in den Fig. 5-A bis 5-F gezeigten Ausführungsformen
umfaßt einen Träger, eine polymerisierbare Schicht, eine
lichtempfindliche Schicht, enthaltend Silberhalogenid und
ein Reduktionsmittel ∆ und eine Beschleunigungsschicht für
die Bilderzeugung, welche einen Basenvorläufer ∇ enthält,
in dieser Reihenfolge.
In der in Fig. 5-A dargestellten Ausführungsform enthält die
Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung den Beschleuni
ger für die Hitzeentwicklung ○.
In der in Fig. 5-B dargestellten Ausführungsform enthält die
lichtempfindliche Schicht den Beschleuniger für die Hit
zeentwicklung ○.
In der in Fig. 5-C dargestellten Ausführungsform enthält die
polymerisierbare Schicht den Beschleuniger für die Hitzeent
wicklung ○.
In der in Fig. 5-D dargestellten Ausführungsform ist der Be
schleuniger für die Hitzeentwicklung ○ in der Beschleuni
gungsschicht für die Bilderzeugung und in der lichtempfind
lichen Schicht enthalten.
In der in Fig. 5-E dargestellten Ausführungsform ist der Be
schleuniger für die Hitzeentwicklung ○ in der Beschleuni
gungsschicht für die Bildentwicklung und in der polymeri
sierbaren Schicht enthalten.
In der in Fig. 5-F dargestellten Ausführungsform ist der Be
schleuniger für die Hitzeentwicklung ○ in der lichtempfind
lichen Schicht und in der polymerisierbaren Schicht enthal
ten.
Der Beschleuniger für die Hitzeentwicklung ○ ist vorzugswei
se in der Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung oder
in der lichtempfindlichen Schicht enthalten. Folglich sind
die in den Fig. 5-A, 5-B und 5-D dargestellten Ausführungs
formen besonders vorteilhaft. Die in Fig. 5-D dargestellte
Ausführungsform entspricht dem lichtempfindlichen Material,
welches in Fig. 1 dargestellt ist.
Fig. 6 zeigt eine schematische Schnittansicht des Schritts
der bildweisen Belichtung des lichtempfindlichen Materials.
Fig. 6-A ist ein Diagramm, welches die Reaktion bei dem in
Fig. 6 gezeigten Schritt darstellt.
Wie in Fig. 6 und Fig. 6-A dargestellt, wird das latente
Bild des Silberhalogenids innerhalb der belichteten Flä
che 72 erzeugt. Das Silberhalogenid innerhalb der unbe
lichteten Flächen 71 bleibt andererseits unverändert.
Fig. 7 zeigt eine schematische Schnittansicht, welche den
Schritt des Erhitzens des lichtempfindlichen Materials illu
striert. Fig. 7-A zeigt ein Diagramm der Reaktion (Entwick
lungsreaktion) des in Fig. 7 dargestellten Schritts.
Wie in den Fig. 7 und 7-A dargestellt, laufen die folgenden
drei Reaktionen (a), (b) und (c) gleichzeitig ab, wenn das
lichtempfindliche Material erhitzt wird.
- (a) Wenn der Basenvorläufer ∇ erhitzt wird, setzt der Vorläufer in der Beschleunigungsschicht für die Bilderzeu gung 81 eine Base frei. Durch die Hitze und durch die Funktion des Beschleunigers für die Hitzeentwicklung ○ wird die gebildete Base von der Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung 81 in die lichtempfindliche Schicht 82 und 83 diffundiert (übertragen). Folglich ändert sich der innere Zustand der lichtempfindlichen Schicht in einen alkalischen Zustand.
- (b) Das Reduktionsmittel ∆ entwickelt das latente Bild des Silberhalogenids in der belichteten Fläche der licht empfindlichen Schicht 83. So wird das Silberbild und ein Radikal des oxidierten Reduktionsmittels ▲ gebildet. Durch die Hitze und durch die Funktion des Beschleunigers für die Hitzeentwicklung ○ wird das Radikal des oxidierten Reduk tionsmittels ▲ in die belichtete Fläche der polymerisierba ren Schicht 85 diffundiert (übertragen).
- (c) Das Radikal leitet das Härten der polymerisierbaren Verbindung in der belichteten Fläche der polymerisierbaren Schicht 85 ein. Andererseits wird die polymerisierbare Ver bindung in der unbelichteten Fläche der polymerisierbaren Schicht 84 nicht gehärtet.
Wie oben beschrieben, wird in der belichteten Fläche der po
lymerisierbaren Schicht 85 ein Polymerbild mit einer hohen
mechanischen Festigkeit erzeugt. Das gebildete Polymer kann
bei verschiedenen Verfahren eingesetzt werden. Ein Beispiel
ist in Fig. 8 dargestellt.
Fig. 8 zeigt eine schematische Schnittansicht des Schritts
des Spülens des lichtempfindlichen Materials mit einer Ätz
lösung.
Wie in Fig. 8 dargestellt, wird die gesamte Beschleunigungs
schicht für die Bilderzeugung, die gesamte lichtempfindliche
Schicht und die nichtbelichtete (ungehärtete) Fläche der po
lymerisierbaren Schicht durch die Ätzlösung entfernt. Das
Polymerbild in der belichteten Fläche der polymerisierbaren
Schicht bleibt so erhalten. Dieses Polymerbild kann vorteil
haft als Druckplatte verwendet werden.
Der Träger und die Schichten des lichtempfindlichen Materi
als werden im folgenden detaillierter beschrieben.
Beispiele für brauchbare Trägermaterialien gemäß der Erfin
dung umfassen gewöhnliche Papiere, synthetische Papiere,
synthetische, harzbeschichtete Papiere (beispielsweise poly
ethylen-, polypropylen- oder polystyrolbeschichtetes Pa
pier), Kunststoffolien (beispielsweise Folien aus Polyethy
lenterephthalat, Polycarbonat, Polyimid, Nylon und Cellulo
setriacetat), metallische Folien (beispielsweise Folien aus
Aluminium, Aluminiumlegierungen, Zink, Eisen und Kupfer) und
Papiere oder Kunststoffolien, auf welchen diese Metalle ge
schichtet oder abgelagert sind.
Falls das lichtempfindliche Material als eine vorsensibili
sierte lithographische Druckplatte Verwendung findet, sind
das Aluminiumblatt, die Polyethylenterephthalatfolie, die
Polycarbonatfolie, die gewöhnlichen Papiere und die synthe
tischen Papiere vorzugsweise Anwendung findende Trägermate
rialien. Vorteilhaft ist auch ein komplexes Blatt, bei dem
ein Aluminiumblatt auf eine Polyethylenfolie aufgebracht
wird, wie in der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 48
(1973)-18 327 beschrieben wird. Ein Papierträger wird in den
vorläufigen japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 61
(1986)-3 797 und Nr. 61(1986)-1 12 150 beschrieben.
Ein Aluminiumblatt ist besonders vorteilhaft. Das Aluminium
wird im folgenden detaillierter beschrieben.
Falls notwendig, wird der Träger einer Oberflächenbehand
lung, wie einer Oberflächenaufrauhungsbehandlung oder einer
Behandlung, welche die Oberfläche hydrophil macht, unterzo
gen.
Beispiele für Verfahren für die Oberflächenbehandlung (Kör
nungsbehandlung) umfassen ein elektrochemisches Körnungsver
fahren, wobei das Aluminiumblatt in einer Elektrolytlösung
mit Salzsäure oder Salpetersäure durch Anwendung eines elek
trischen Stroms gekörnt wird; und mechanische Körnungsver
fahren, wie ein Drahtbürstenkörnungsverfahren (wire brush
grain method), bei dem die Oberfläche eines Aluminiumblatts
mit einem metallischen Draht gekörnt wird, ein Kugelkör
nungsverfahren, wobei die Oberfläche eines Aluminiumblatts
mit einer scheuernden Kugel und einem Schleifmittel gekörnt
wird, und ein Bürstenkörnungsverfahren (brush grain method),
wobei die Oberfläche eines Aluminiumblatts mittels einer Ny
lonbürste und eines Schleifmittels gekörnt wird. Diese Me
thoden können für sich oder in Kombination gebraucht werden.
Das gekörnte Aluminiumblatt wird dann chemisch mit einer
Säure oder einer Lauge geätzt. Industriell ist das Ätzen mit
einer Lauge von Vorteil. Beispiele der hierfür verwendeten
alkalischen Mittel umfassen Natriumcarbonat, Natriumalumi
nat, Natriummetasilikat, Natriumphosphat, Natriumhydroxid,
Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid. Das Ätzen mit den alka
lischen Mitteln erfolgt vorzugsweise unter solchen Bedingun
gen, daß die Konzentration des alkalischen Mittels in der
Alkalilösung im Bereich von 1 bis 50 Gew.-%, die Temperatur
der alkalischen Lösung im Bereich von 20 bis 100°C und die
Menge des zu zersetzenden Aluminiumblatts im Bereich von 5
bis 20 g/m2 liegt.
Nachdem die Laugenätzung abgeschlossen ist, wird im allge
meinen eine Beizung zur Entfernung von Schmutz, welcher auf
der Oberfläche des Aluminiumblatts zurückgelassen wurde,
durchgeführt. Beispiele für bei der Beizung vorteilhaft ein
setzbare Säuren umfassen Salpetersäure, Schwefelsäure, Phos
phorsäure, Chromsäure, Fluorwasserstoffsäure und Borfluor
wasserstoffsäure.
Nach der elektrochemischen Oberflächenaufrauhung wird im
allgemeinen eine Behandlung zur Schmutzentfernung durchge
führt. Diese schmutzentfernende Behandlung kann durch ein
Verfahren bewerkstelligt werden, bei dem das Aluminiumblatt
mit einer 15 bis 65 Gew.-% Schwefelsäurelösung bei 50 bis
60°C in Berührung gebracht wird, wie in der japanischen Pa
tentveröffentlichung Nr. 53(1978)-12 739 beschrieben wird,
oder mit einem Verfahren, welches in der japanischen Patent
veröffentlichung Nr. 48(1973) -28 123 beschrieben wird.
Der Aluminiumträger, der wie oben beschrieben aufgerauht
worden ist, kann dann, falls gewünscht, einer Eloxierbehand
lung oder einer chemischen Behandlung unterzogen werden.
Die Eloxierbehandlung kann ein beliebiges konventionelles
Verfahren sein. Beispielsweise wird ein Gleichstrom oder ein
Wechselstrom an den Aluminiumträger in einer Lösung von
Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, Amido
schwefelsäure oder Benzolsulfonsäure, einzeln oder in Kombi
nation, angelegt, so daß sich eine eloxierte Schicht auf der
Oberfläche des Aluminiumträgers bildet. Die Bedingungen für
die Eloxierbehandlung variieren in Abhängigkeit der verwen
deten Elektrolytlösung, im allgemeinen ist es jedoch von
Vorteil, daß die Konzentration der Elektrolytlösung im Be
reich von 1 bis 80 Gew.-%, deren Temperatur im Bereich von 5
bis 70°C, die Stromdichte im Bereich von 0,5 bis 60 A/dm2,
die Spannung im Bereich von 1 bis 100 V und die Dauer für
die Behandlung im Bereich von 10 bis 100 s liegt.
Für die Eloxierung besonders geeignete Verfahren sind ein
Verfahren für die Eloxierung des Aluminiumblatts in einer
Schwefelsäure bei einer hohen Stromdichte, wie im GB-Patent
Nr. 14 12 768 beschrieben, und ein Verfahren zur Eloxierung
des Aluminiumblatts, bei dem Phosphorsäure als Elektrolytbad
verwendet wird, wie beschrieben in US-Patent Nr. 35 11 661.
Das eloxierte Aluminiumblatt kann weiterhin einer Alkalisi
likatbehandlung (beispielsweise einem Verfahren, bei dem das
Aluminiumblatt in eine wäßrige Lösung von Natriumsilikat
eingetaucht wird) unterzogen werden, wie beschrieben in den
US-Patenten Nr. 27 14 066 und Nr. 31 81 461. Alternativ dazu
kann das Aluminiumblatt mit einer Unterschicht versehen wer
den, welche aus hydrophiler Cellulose (beispielsweise Carbo
xymethylcellulose), die ein wasserlösliches metallisches
Salz (beispielsweise Zinkacetat) enthält, versehen werden,
wie beschrieben in US-Patent Nr. 38 60 426.
Eine Unterschicht kann zwischen dem Träger und den Schichten
liegen. Die Funktion der Unterschicht besteht im Verbessern
der Druckeigenschaften und der Haftfähigkeit der Schichten,
wie der polymerisierbaren Schicht auf dem Träger (Aluminium
blatt).
Beispiele für die Komponenten der Unterschicht umfassen Ca
sein, Polyvinylalkohol, Ethylcellulose, Phenolharz, Styrol-
Maleinanhydridharz, Polyacrylsäure, Monoethanolamin, Dietha
nolamin, Triethanolamin, Tripropanolamin, deren Chloride,
deren Oxalate, deren Phosphate, eine Monoaminomonocarbonsäu
re, wie Aminoessigsäure und Alanin, eine Hydroxyaminosäure,
wie Serin, Threonin und Dihydroxyethylglycin, eine schwefel
haltige Aminosäure, wie Cystein und Cystin, eine Monoamino
dicarbonsäure, wie Asparaginsäure und Glutaminsäure, eine
Diaminomonocarbonsäure, wie Lysin, eine aromatische Amino
säure, wie p-Hydroxyphenylglycin, Phenylalanin und Anthra
nilsäure, eine heterocyclische Aminosäure, wie Tryptophan
und Prolin, eine aliphatische Aminosulfonsäure, wie Sulfa
midsäure und Cyclohexylsulfamidsäure, eine (Poly)Aminopo
lyessigsäure, wie Ethylendiamintetraessigsäure, Nitrilo
triessigsäure, Iminodiessigsäure, Hydroxyethylethylendiamin
triessigsäure, Ethylendiamindiessigsäure, Cyclohexandiamin
tetraessigsäure, Diethylentriaminpentaessigsäure und Glyko
letherdiamintetraessigsäure, und deren teilweise oder ganze
Natrium-, Kalium- oder Ammoniumsalze. Diese Komponenten kön
nen einzeln oder in Kombination verwendet werden.
Die polymerisierbare Schicht kann durch ein Radikal oder
durch einen anderen Initiator gehärtet werden. Beispiele der
Härtungsreaktion umfassen:
- 1) eine Polymerisationsreaktion der polymerisierbaren Verbindung;
- 2) eine Vernetzungs-(Additions-)Reaktion, wobei ein in termediäres Radikal, welches im Stadium der Polymerisations reaktion der polymerisierbaren Verbindung gebildet wird, zu einer funktionalen Gruppe (beispielsweise die ethylenisch ungesättigte Gruppe) des Polymers beigefügt wird;
- 3) eine Pfropfreaktion, wobei ein Polymerradikal, wel ches durch die Entfernung eines Atoms (beispielsweise Was serstoff und ein Halogenatom) von einem Polymer durch ein intermediäres Radikal oder ein Polymerisationsinitiatorradi kal gebildet wird, oder indem ein Radikal zu einer funktio nellen Gruppe des Polymers beigefügt wird, zu der polymeri sierbaren Verbindung beigefügt wird, um die Polymerisation zu verursachen; und
- 4) eine Vernetzungsreaktion des Polymerradikals.
Die polymerisierbare Schicht kann durch ein Verfahren herge
stellt werden, welches die Schritte umfaßt: Lösung oder Dis
pergieren einer polymerisierbaren Verbindung, eines Bindepo
lymers mit oder ohne saure Gruppe (und eines weiteren Binde
polymers, welches eine optionelle Komponente ist) und einer
färbenden Substanz in einer geeigneten organischen Lösung
zum Herstellen einer Beschichtungslösung (oder Dispersion)
zur Bildung einer polymerisierbaren Schicht, Auftragen der
Lösung (oder Dispersion) auf den vorstehend genannten Träger
und Trocknen der aufgetragenen Schicht.
Die Komponenten der polymerisierbaren Schicht werden unten
beschrieben.
Die Dicke der polymerisierbaren Schicht liegt vorzugsweise
im Bereich von 0,3 bis 7 µm, insbesondere 0,5 bis 3 µm. Ist
ihre Dicke geringer als 0,3 µm, ist der Verschleiß der sich
ergebenden Druckplatte herabgesetzt, weil die Schicht für
die Erzeugung der Polymerbilds zu dünn ist. Beträgt ihre
Dicke mehr als 7 µm, wird die polymerisierbare Schicht nicht
gänzlich bis zur Bodenoberfläche gehärtet. Die Menge der po
lymerisierbaren Verbindung oder des Bindepolymers, welche in
der polymerisierbaren Schicht enthalten sein soll, kann mit
tels des oben angegebenen Verhältnisses und der Dicke der
polymerisierbaren Schicht berechnet werden. Die Menge der
polymerisierbaren Verbindung liegt vorzugsweise im Bereich
von 0,03 bis 2 g/m2, insbesondere 0,1 bis 0,7 g/m2. Die ge
samte Menge des Bindepolymers liegt vorzugsweise im Bereich
von 0,1 bis 7 g/m2, insbesondere 0,3 bis 3 g/m2.
Die lichtempfindliche Schicht kann hergestellt werden, indem
Komponenten, wie Silberhalogenid und andere wahlweise Kompo
nenten in Wasser zur Herstellung einer Bedeckungslösung
(oder -dispersion) dispergiert oder gelöst werden und die
Lösung (oder die Dispersion) aufgebracht und getrocknet
wird. Einige der Komponenten werden zuerst in einer geeigne
ten Lösung aufgelöst und die so gewonnene Lösung dem Wasser
beigefügt.
Das lichtempfindliche Material kann auch erstellt werden,
indem eine polymerisierbare Schicht auf einem Träger, eine
lichtempfindliche Schicht auf einem anderen Träger gebildet
wird, die lichtempfindliche Schicht auf die polymerisierbare
Schicht aufgelagert und einer der beiden Träger entfernt
wird.
Die Komponenten der lichtempfindlichen Schicht werden unten
beschrieben.
Die Dicke der lichtempfindlichen Schicht liegt vorzugsweise
im Bereich von 0,5 bis 20 µm, insbesondere 1 bis 5 µm.
Die Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung kann auch
erstellt werden, indem die Komponenten dispergiert oder ge
löst werden, die Lösung (oder die Dispersion) aufgeschichtet
und die aufgebrachte Schicht getrocknet wird.
Die Komponenten der Beschleunigungsschicht für die Bilder
zeugung werden unten beschrieben.
Die Dicke der Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung
liegt vorzugsweise im Bereich von 0,3 bis 20 µm, insbesonde
re 1 bis 10 µm.
Eine Schutzschicht kann als oberste Schicht vorgesehen sein.
Die Schutzschicht wirkt als sauerstoffabschirmende Schicht.
Weiterhin ist es vorteilhaft, wenn die Schutzschicht vor
zugsweise aus hydrophilen Substanzen für einen Ätzprozeß zu
sammengesetzt ist. Folglich enthält die Schutzschicht vor
zugsweise ein wasserlösliches Bindepolymer (beispielsweise
Polyvinylalkohol) .
Ein vorteilhaftes wasserlösliches Bindemittel ist Polyvinyl
alkohol mit einem hohen Verseifungsgrad von nicht weniger
als 70%, vorzugsweise nicht weniger als 80%, insbesondere
von nicht weniger als 95%. Das wasserlösliche Bindemittel
wird unten detaillierter beschrieben.
Die Dicke der Schutzschicht liegt vorzugsweise im Bereich
von 1 bis 10 µm. Die Menge der in der Schutzschicht enthal
tenen Komponenten liegt vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis
10 g/m2, insbesondere im Bereich von 1,0 bis 5 g/m2.
Die Schutzschicht kann auch aus einem wasserunlöslichen Po
lymer bestehen. Das wasserunlösliche Polymer ist verfügbar
in Form einer Lösung in einem organischen Lösungsmittel oder
eines Latex. Falls das wasserunlösliche Polymer Verwendung
findet, sollte die Schutzschicht von dem lichtempfindlichen
Material vor dem Ätzprozeß durch Abschälen (pealing apart)
oder durch Lösen der Schicht in einem Lösungsmittel entfernt
werden.
Ein Mattiermittel kann in der obersten Schicht, wie bei
spielsweise der Schutzschicht, enthalten sein. Die Funktion
des Mattiermittels besteht darin, daß die Haftfähigkeit der
obersten Schicht herabgesetzt wird. Das Mattiermittel be
steht vorzugsweise aus einem Pulver eines Polymers. Das Po
lymer ist entweder ein natürliches Polymer, wie Stärke, oder
ein synthetisches Polymer, wie Polyethylen. Die Partikelgrö
ße des Pulvers liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 50
µm.
Zwischen den oben angeführten Schichten kann eine Zwischen
schicht liegen.
Die Zwischenschicht kann als eine Schicht zur Verhinderung
der Lichthofbildung, welche eine Farbsubstanz enthält, fun
gieren. Eine weitere Funktion der Zwischenschicht kann die
Verhinderung der Diffusion von Komponenten zu anderen
Schichten vor Gebrauch des lichtempfindlichen Materials
sein. Es gibt hinsichtlich der Komponenten der Zwischen
schicht keine bestimmten Einschränkungen. Die Dicke der Zwi
schenschicht beträgt vorzugsweise nicht mehr als 10 µm.
Die Komponenten, deren Funktion die Erzeugung eines Bildes,
enthalten in der lichtempfindlichen Schicht, der polymeri
sierbaren Schicht und der Beschleunigungsschicht für die
Bilderzeugung ist, werden unten beschrieben. Die Verteilung
dieser Komponenten wurde bei der Erläuterung der Zeichnungen
beschrieben.
Die in der polymerisierbaren Schicht enthaltene polymeri
sierbare Verbindung besitzt eine ethylenisch ungesättigte
Gruppe.
Beispiele für die Verbindungen mit einer ethylenisch unge
sättigten Gruppe umfassen Acrylsäuren, Salze von Acrylsäu
ren, Acrylester, Acrylamide, Methacrylsäuren, Salze von
Methacrylsäuren, Methacrylester, Methacrylamide, Maleinanhy
drid, Maleinester, Itaconester, Styrole, Vinylether, Vinyle
ster, N-vinylheterocyclische Verbindungen, Allylether, Al
lylester, und deren Derivate.
Bevorzugt als Verbindung mit einer ethylenisch ungesättigten
Gruppe sind Acrylester oder Methacrylester.
Konkrete Beispiele von Acrylestern umfassen n-Butylacrylat,
Cyclohexylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Benzylacrylat, Fur
furylacrylat, Ethoxyethoxyethylacrylat, Tricyclodecanyloxy
acrylat, Nonylphenyloxyethylacrylat, 1,3-Dioxolanacrylat,
Hexandioldiacrylat, Butandioldiacrylat, Neopentylglykoldi
acrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Tricyclodecandime
thyloldiacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythrit
pentaacrylat, Dipentaerythrithexacrylat, Diacrylat von poly
oxyethyleniertem Bisphenol-A, 2-(2-Hydroxy-1,1-dimethyl
ethyl) -5-hydroxymethyl-5-ethyl-1,3-dioxandiacrylat, 2-(2-Hy
droxy-1,1-dimethylethyl)-5,5-dihydroxymethyl-1,3-dioxantri
acrylat, Triacrylat des Propylenoxid-Additionsprodukts von
Trimethylolpropan, Polyacrylat von Hydroxypolyether, Poly
esteracrylat und Polyurethanacrylat.
Konkrete Beispiele der Methacrylsäureester umfassen Methyl
methacrylat, Butylmethacrylat, Ethylenglykoldimethacrylat,
Butandioldimethacrylat, Neopentylglykoldimethacrylat, Trime
thylolpropantrimethacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat,
Pentaerythrittetramethacrylat und Dimethacrylat von polyoxy
alkyleniertem Bisphenol-A.
Die polymerisierbare Verbindung kann aus kommerziell verfüg
baren Verbindungen ausgewählt werden, wie Aronix M-309,
M-310, M-315, M-400, M-6100, M-8030, M-8100 (Handelsbezeich
nungen, alle erhältlich bei Toa Gosei Kagaku Kogyo Co.,
Ltd.) und Kayarad HX-220, HX-620, R-551, TMPTA, D-330, DPHA,
DPCA-60, R604, R684 (Handelsbezeichnungen, alle erhältlich
bei Nippon Kayaku Co., Ltd.).
Die polymerisierbaren Verbindungen können einzeln oder als
Kombination von zwei oder mehreren Verbindungen eingesetzt
werden. Weiterhin findet auch eine Verbindung, welche durch
Bindung einer polymerisierbaren funktionellen Gruppe, wie
einer Vinylgruppe oder einer Vinylidengruppe an eine chemi
sche Struktur eines Reduktionsmittels oder einer gefärbten
Substanz erzeugt wird, als polymerisierbare Verbindung Ver
wendung. Ein lichtempfindliches Material, bei dem eine Ver
bindung, welche zugleich als Reduktionsmittel und als poly
merisierbare Verbindung oder zugleich als Farbsubstanz und
als polymerisierbare Verbindung dient, verwendet wird, kann
auch bei den Ausführungsformen des lichtempfindlichen Mate
rials enthalten sein.
Die Menge der polymerisierbaren Verbindung, die in der poly
merisierbaren Schicht enthalten ist, liegt vorzugsweise im
Bereich von 3 bis 90 Gew.-%, insbesondere im Bereich von 15
bis 60 Gew.-%, bezogen auf die gesamte Menge der polymeri
sierbaren Schicht.
Das vernetzbare Polymer, welches gemäß der Erfindung Ge
brauch findet, ist (A) ein Polymer mit einer Doppelbindung
in seiner Seitenkette oder Hauptkette oder (B) ein Polymer,
welches ein Polymerradikal bildet, indem es mit einem ande
ren Radikal reagiert.
Zu der Doppelbindung des Polymers (A) kann ein intermediäres
Radikal, welches im Stadium der Polymerisationsreaktion der
polymerisierbaren Verbindung gebildet wird, oder ein Polyme
risationsinitiatorradikal zugefügt werden. Beispiele für das
Polymer (A) umfassen ein Polymer mit einer Doppelbindung in
dessen Seitenkette, wie ein Polymer (einschließlich Copoly
mer) von Allyl(meth)acrylat, 1,2-Polybutadien und 1,2-Poly
isopren; und ein Polymer, dessen Hauptkette eine Doppelbin
dung aufweist, wie Poly-1,4-butadien, Poly-1,4-isopren (ein
schließlich Copolymer) sowie natürlichen oder synthetischen
Kautschuk.
Das Polymerradikal wird gebildet, indem ein Atom (beispiels
weise Wasserstoff und ein Halogenatom, wie Chlor) von dem
Polymer (B) durch ein intermediäres Radikal oder ein Polyme
risationsinitiatorradikal entfernt wird. Beispiele für das
Polymer (B) umfassen ein Polymer mit aktivem Wasserstoff,
wie Polymere (einschließlich Copolymere) von Vinylchlorid,
Vinylidenchlorid, Vinylacetat, Acrylnitril, Styrol und
(Meth)acrylat, chloriertes Polyethylen, Polyvinylformal, Po
lyvinylbutyral, Methylcellulose, Ethylcellulose und Butyl
cellulose.
Das vernetzbare Polymer ist auf den Seiten 147 bis 192 in
"Polymer Reaction" (Hrg. Polymer Society in Japan, Kyoritsu
Shuppan, 1978) beschrieben.
Zwei oder mehr Arten von Polymeren können als Bindemittelpo
lymer, welches in der polymerisierbaren Schicht enthalten
sein sollte, verwendet werden, vorzugsweise weist jedoch zu
mindest eines dieser Polymere eine saure Gruppe im Molekül
auf. Die anderen Bindemittelpolymere können diese saure
Gruppe enthalten oder nicht. Das Bindemittelpolymer mit der
sauren Gruppe ist vorzugsweise ein Homopolymer eines Vinyl
monomers mit einer sauren Gruppe oder ein Copolymer des Ho
mopolymers und ein Vinylmonomer ohne saure Gruppe. Beispiele
für die Vinylmonomere mit saurer Gruppe umfassen Acrylsäure,
Methacrylsäure, Styrolsulfonsäure und Maleinanhydrid. Die
Monomere, welche mit den eine saure Gruppe enthaltenden Mo
nomeren copolymerisiert werden, können von copolymerisierba
ren Vinylmonomeren ausgewählt werden. Beispiele für Monomere
umfassen (Meth)acrylat, wie Methyl(meth)acrylat, Ethyl
(meth)acrylat, Butyl(meth)-acrylat, Hydroxyethyl(meth)acry
lat, Benzyl(meth)acrylat, Polyethylenglykolmono(meth)acry
lat, Allyl(meth)acrylat und Vinyl(meth)acrylat; Vinylacetat;
Styrol; (Meth)acrylonitril; Vinylchlorid; und Vinylidenchlo
rid. Insbesondere sind Monomere mit einer Vinylgruppe und
einer ethylenisch ungesättigten Doppelbindung, wie Al
lyl(meth)acrylat, bevorzugt.
Der molare Gehalt des Monomers mit einer sauren Gruppen im
Copolymer liegt im allgemeinen im Bereich von 1% bis 50%
und insbesondere im Bereich von 5% bis 30%.
Das Bindemittelpolymer mit saurer Gruppe kann ein Homopoly
mer oder ein Copolymer sein, synthetisiert von einem Monomer
ohne saure Gruppe, in das eine saure Gruppe, wie eine Carbo
xylgruppe oder eine Sulfongruppe, eingebaut wird.
Als Bindemittelpolymer für die polymerisierbare Schicht kann
auch eine Kombination des oben angeführten Polymers mit sau
rer Gruppe und eines anderen Polymers ohne saure Gruppe ge
braucht werden. Das Bindemittelpolymer ohne saure Gruppe,
welches in Kombination mit dem Polymer mit saurer Gruppe
eingesetzt wird, kann von verschiedenartigen Polymeren ge
wählt werden. Konkret können angeführt werden Poly
(meth)acrylat, Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, Polyvinyl
pyrrolidon, Polyvinylacetat, Vinylacetat-Ethylen-Copolymer,
Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Vinylchlorid-Vinyli
denchlorid-Copolymer, Vinylidenchlorid-Acrylonitril-Copoly
mer, chloriertes Polyethylen, chloriertes Polypropylen, Po
lycarbonat, Diacetylcellulose, Celluloseacetatbutyrat, Tria
cetylcellulose, Ethylcellulose, Polyvinylpyridin und Polyvi
nylimidazol. Besonders vorteilhaft von diesen Polymeren ist
ein Polymer oder ein Copolymer von Monomeren, das eine Vi
nylgruppe und weiterhin eine ethylenisch ungesättigte Dop
pelbindung aufweist, wie Allyl(meth)acrylat. Die Ursache
hierfür liegt vermutlich darin, daß die polymerisierbare
Verbindung mit der Doppelbindung des Bindemittelpolymers
während der Polymerisation reagiert und so rapide aushärtet,
so daß sich ein Polymerbild von hoher Festigkeit ergibt.
Das Molekulargewicht des Bindemittelpolymers liegt vorzugs
weise im Bereich von etwa 3000 bis 500 000.
Die Menge des Bindemittelpolymers mit saurer Gruppe liegt
vorzugsweise im Bereich von 10 bis 100 Gew.-%, insbesondere
50 bis 100 Gew.-%, bezogen auf die gesamte Menge des Binde
mittelpolymers (der Bindemittelpolymere), welche in der po
lymerisierbaren Schicht enthalten ist. Wird ein Bindemittel
polymer verwendet, das zugleich eine ethylenisch ungesättig
te Doppelbindung in der Seitenkette und auch eine saure
Gruppe enthält, liegt die Menge des Bindemittelpolymers vor
zugsweise im Bereich von 10 bis 100 Gew.-%, insbesondere 50
bis 100 Gew.-%, bezogen auf die gesamte Menge des Bindemit
telpolymers (der Bindemittelpolymere), welche in der polyme
risierbaren Schicht enthalten ist. Wird ein Bindepolymer
verwendet, das eine ethylenisch ungesättigte Doppelbindung
in der Seitenkette und keine saure Gruppe in Kombination da
zu enthält, liegt die Menge des Bindepolymers vorzugsweise
im Bereich von 10 bis 95 Gew.-%, insbesondere 50 bis 90
Gew.-%, bezogen auf die gesamte Menge des Bindepolymers (der
Bindepolymere), welche in der polymerisierbaren Schicht ent
halten ist.
Falls der Polymerbinder eine ethylenisch ungesättigte Gruppe
in der Seitenkette enthält, kann das Polymerbild ohne Ge
brauch der polymerisierbaren Verbindung erstellt werden. An
dererseits kann ein Polymerbild erzeugt werden, wenn nur die
polymerisierbare Verbindung Gebrauch findet. Es ist jedoch
vorteilhaft, sowohl das Bindepolymer als auch die polymeri
sierbare Verbindung zur Herstellung eines harten Polymerbil
des zu verwenden.
Die Schichten des lichtempfindlichen Materials, wie bei
spielsweise die polymerisierbare Schicht, können mittels ei
ner Farbsubstanz gefärbt werden.
Hinsichtlich der Farbsubstanz (d. h. Farbstoff) bestehen
keine bestimmten Einschränkungen und jeglichen bekannten
Pigmente und Farbstoffe können verwendet werden. Der Farb
stoff dient auch als Mittel zur Verhinderung der Lichthof
bildung, so daß er vorzugsweise in der polymerisierbaren
Schicht enthalten ist. Der Farbstoff kann auch in der licht
empfindlichen Schicht enthalten sein zum Zwecke der Antiir
radation.
Die gemäß der Erfindung verwendbaren Pigmente können von
kommerziell verfügbaren und denen in verschiedenen Veröf
fentlichungen, wie "Handbook of Color Index", "New Handbook
of Pigments" (Nippon Ganryo Gÿutsu Kyokai (Hrsg.) (1977),
"New Applied Technique of Pigments" (CMC Publishing, 1986)
und "Technique of Printing Ink" (CMC Publishing, 1984) be
schriebenen, ausgewählt werden.
Beispiele von Pigmenten umfassen schwarze Pigmente, gelbe
Pigmente, orangefarbene Pigmente, braune Pigmente, rote Pig
mente, violette Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente,
fluoreszierende Pigmente, Metallpulverpigmente und Polymer
pigmente. Konkrete Beispiele von Pigmenten umfassen unlösli
che Azopigmente, Azolackpigmente, Kondensationsazopigmente,
Chelatazopigmente, Phthalocyaninpigmente, Anthrachinonpig
mente, Perylenpigmente, Perynonpigmente, Thioindigopigmente,
Chinacridonpigmente, Dioxazinpigmente, Isoindolinonpigmente,
Chinophthalonpigmente, Lackpigmente vom Farbstoff-Typ, Azin
pigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmen
te, fluoreszierende Pigmente und anorganische Pigmente.
Das gemäß der Erfindung verwendbare Pigment kann per se oder
nachfolgend einer Oberflächenbehandlung eingesetzt werden.
Als Oberflächenbehandlung kann angewandt werden ein Verfah
ren, bei dem ein Harz oder Wachs auf die Oberfläche des Pig
ments geschichtet wird, ein Verfahren, bei dem ein oberflä
chenaktives Mittel daraufgeschichtet wird, ein Verfahren,
bei dem eine reaktive Substanz (beispielsweise ein silanbin
dendes Mittel, eine Epoxyverbindung und ein Polyisocyanat)
an die Oberfläche des Pigments gebunden wird. Diese Verfah
ren sind beispielsweise in "Nature and Application of Metal
Soap" (Saiwai Shobo), "Technique of Printing Ink" (CMC Pu
blishing, 1984) und "New Applied Technique of Pigments" (CMC
Publishing, 1986) beschrieben.
Der Teilchendurchmesser des Pigments liegt vorzugsweise im
Bereich von 0,01 bis 10 µm, insbesondere 0,05 bis 1 µm.
Das Pigment kann in die polymerisierbare Schicht eingebracht
werden, indem es der Bedeckungslösung für die Bildung der
polymerisierbaren Schicht zugefügt oder in dieser disper
giert wird. Zur Dispersion des Pigments in der Bedeckungslö
sung können verschiedenartige Dispersionstechniken, welche
konventionell für die Herstellung von Tinte oder Toner ge
braucht werden, verwendet werden. Als Dispersionsapparat
kann gebraucht werden eine Sandmühle, ein Attritor, eine
Perlmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, ein Impeller,
ein Dispergierer, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dy
natron, eine Mühle mit drei Rollen und ein Preßkneter. De
tails dieser Apparate sind in "New Applied Technique of Pig
ments" (CMC Publishing, 1986) beschrieben.
Farbstoffe können als Farbsubstanzen verwendet werden. Als
Farbstoff können die kommerziell verfügbaren und die in ver
schiedenen Publikationen (beispielsweise "Handbook of Dyes",
Yuki Kagaku Kyokai (Hrsg.) (1970)) beschriebenen verwendet
werden. Konkrete Beispiele der Farbstoffe umfassen Azofarb
stoffe, Metallkomplexsalzazofarbstoffe, Pyrazolonazofarb
stoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Chinoniminfarbstoffe und Me
thinfarbstoffe.
Die Menge des Farbstoffs, die in der polymerisierbaren
Schicht enthalten sein sollte, variiert stark in Abhängig
keit von der dekadischen Extinktion des gebrauchten Farb
stoffs, sie liegt jedoch vorzugsweise im Bereich von etwa
0,1 bis 30 Gew.-%, bezogen auf die gesamte Menge der polyme
risierbaren Schicht.
Falls ein Pigment als Farbstoff in der polymerisierbaren
Schicht Verwendung findet, wird vorzugsweise in Kombination
Ethylcellulose als Bindepolymer verwendet. Der Gebrauch von
Ethylcellulose ermöglicht es, das Pigment fein in der poly
merisierbaren Schicht zu verteilen, und somit kann eine
gleichmäßig gefärbte Schicht gewonnen werden. In diesem Fal
le liegt das Molekulargewicht der Ethylcellulose vorzugswei
se im Bereich von etwa 10 000 bis 1 000 000, insbesondere
50 000 bis 500 000. Die Menge der Ethylcellulose liegt vor
zugsweise im Bereich von 5 bis 200 Gew.-%, insbesondere 20
bis 100 Gew.-%, bezogen auf die Menge des Pigments.
Beispiele für das Silberhalogenid, welche für das lichtemp
findliche Material verwendbar sind, umfassen Silberchlorid,
Silberbromid, Silberiodid, Silberchlorbromid, Silberchlorjo
did, Silberjodbromid und Silberchlorjodbromid in Form von
Körnern.
Die Silberhalogenidkörner können von verschiedenartigen Kri
stallformen sein, beispielsweise einer regelmäßigen Kri
stallform, wie Hexaeder, Octaeder oder Tetradecaeder, von
unregelmäßiger Form, wie sphärischer Form oder röhrenförmi
ger Form, von einer Form, welche kristalline Defekte, wie
eine Zwillingsebene aufweist, und daraus zusammengesetzte
Formen sein.
Die Silberhalogenidkörner können außergewöhnlich kleine Kör
ner mit einem Korndurchmesser von nicht mehr als etwa 0,01
µm oder relativ große Körner mit einem Korndurchmesser der
Projektionsfläche von bis zu etwa 10 µm sein. Die Silberha
logenidemulsion kann eine polydispergierte Emulsion oder ei
ne monodispergierte Emulsion sein, wie beschrieben in den
US-Patenten Nr. 35 74 628 und Nr. 36 55 394 sowie dem GB-Pa
tent Nr. 14 13 748.
Ein röhrenförmiges Korn mit einem Längenverhältnis von nicht
weniger als etwa 5 µm kann auch verwendet werden. Das röh
renförmige Silberhalogenidkorn kann mühelos mit den in Gut
off "Photographic Science and Engineering", Vol. 14 (1970),
Seiten 248 bis 258, US-Patenten Nr. 44 34 226, Nr. 44 14 310,
Nr. 44 33 048 und Nr. 44 39 520 sowie dem GB-Patent Nr.
21 12 157 beschriebenen Verfahren hergestellt werden.
Bezüglich der Kristallstruktur der Silberhalogenidkörner
können die einzelnen Körner bestehen aus einer homogenen Ha
logenzusammensetzung oder einer heterogenen Halogenzusammen
setzung, bei der die Zusammensetzung des äußeren oberfläch
lichen Teils sich von derjenigen des inneren Teils unter
scheidet, oder aus einer vielschichtigen Struktur. Im übri
gen können die Silberhalogenidkörner mit anderen Silberhalo
genidkörnern, welche eine verschiedene Halogenzusammensetzung
aufweisen, durch epitaktische Bindung verbunden sein, oder
sie können mit anderen Verbindungen als Silberhalogenid, wie
Silberrhodanit und Bleioxid, verbunden sein.
Verschiedenartige Substanzen in Form von Salzen können dem
Silberhalogenid gemäß eines herkömmlichen Verfahrens während
der Kornbildung oder nach der Kornbildung zugefügt werden.
Beispiele dieser Substanzen umfassen Kupfer, Thallium, Blei,
Cadmium, Zink, ein Chalcogen, wie Schwefel, Selen und Tel
lur, Gold, ein Edelmetall der Gruppe III, wie Rhodium, Iri
dium, Eisen, Platin und Palladium. Das herkömmliche Verfah
ren ist beschrieben in den US-Patenten Nr. 11 95 432, 11 91 933,
24 48 060, 26 28 167, 29 50 972, 34 88 709, 37 37 313,
37 72 031, 42 69 927 und "Research Disclosure" (RD), Nr.
13 452 (Juni 1975).
Falls das lichtempfindliche Material nur kurzzeitig und bei
hohen Beleuchtungsstärken belichtet wird, wird dem Silberha
logenid vorzugsweise ionisches Iridium zugegeben in einer
Menge von 10-8 bis 10-3 Mol, insbesondere in einer Menge von
10-7 bis 10-5 Mol, bezogen auf 1 Mol des Silberhalogenids.
Zwei oder mehr Arten von Silberhalogenidkörnern, welche sich
in Halogenzusammensetzung, Kristallgestalt, Korngröße und/
oder anderen Merkmalen voneinander unterscheiden, können in
Kombination verwendet werden.
Bevorzugte Verwendungsform des Silberhalogenids ist eine
Emulsion.
Die Silberhalogenidemulsion, welche beim lichtempfindlichen
Material gemäß der Erfindung verwendbar ist, kann mittels
Verfahren, welche beispielsweise in "Research Disclosure"
(RD), Nr. 17 643, Seiten 22-23 (Dezember 1978) (Emulsions
präparation und -typen); und "Research Disclosure", Nr.
18 716, Seite 648 (November 1979) beschriebenen Verfahren
hergestellt werden.
Die Silberhalogenidemulsion wird im allgemeinen benutzt,
nachdem sie einer physikalischen Reifung, einer chemischen
Reifung und einer spektralen Sensibilisierung unterworfen
wurde. Verschiedenartige, bei diesen Stufen verwendbare Zu
satzstoffe werden beschrieben in "Research Disclosure") Nr.
17 643 und Nr. 18 716. Das chemische sensibilisierende Mit
tel wird beschrieben in Nr. 17 643 (Seite 23) und Nr. 18 716
(Seite 648, rechte Seite). Das spektrale sensibilisierende
Mittel wird beschrieben in Nr. 17 643 (Seiten 23-24) und Nr.
18 716 (Seite 648, rechte Seite). Das supersensibilisierende
Mittel wird beschrieben in Nr. 18 716 (Seite 649, rechte
Seite). Andere als die oben angeführten Zusatzstoffe werden
auch in "Research Disclosure" beschrieben. Beispielsweise
wird ein die Sensibilität erhöhendes Mittel beschrieben in
Nr. 18 716 (Seite 648, rechte Seite) und ein Antischleier
mittel und ein Stabilisator werden beschrieben in Nr. 17 643
(Seiten 24-25) bzw. Nr. 18 716 (Seite 649, rechte Seite).
Vorzugsweise werden Silberhalogenidkörner mit einem relativ
niedrigen Schleierwert (fogging value) eingesetzt.
Die Silberhalogenidemulsion kann vom Negativ-Typ sein. Es
kann auch eine Umkehrsilberhalogenidemulsion, welche direkt
ein Positivbild ergibt, verwendet werden.
Die Menge des Silberhalogenids liegt vorzugsweise im Bereich
von 0,5 mg/m2 bis 5 g/m2, insbesondere 3 mg/m2 bis 0,5 g/m2,
ausgedrückt als Silber.
Ein organisches metallisches Salz kann gemäß der Erfindung
als Oxidationsmittel in Kombination mit dem lichtempfindli
chen Silberhalogenid in der lichtempfindlichen Schicht ein
gesetzt werden. Ein organisches Silbersalz ist dabei beson
ders geeignet.
Als für die Bildung des organischen Silbersalzes geeignete
organische Verbindungen können angeführt werden die in US-
Patent Nr. 45 00 626 (Seiten 52-53) beschriebenen Benzotria
zole, aliphatische Säuren und andere Verbindungen. Verwend
bar sind auch Silbersalze von Carbonsäuren mit einer Alki
nylgruppe, wie Silberphenylpropiolat, beschrieben in der
vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 60(1985)-
1 13 235 und Acetylensilber, beschrieben in den vorläufigen
japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 61(1986)-2 49 044 und
Nr. 64(1989)-57 256. Das organische Silbersalz kann in Kombi
nation von zwei oder mehr Verbindungen verwendet werden.
Das organische Silbersalz wird im allgemeinen in einer Menge
von 0 bis 10 Mol, vorzugsweise 0 bis 1 Mol, bezogen auf 1
Mol des Silberhalogenids, eingesetzt. Die gesamte Menge des
lichtempfindlichen Silberhalogenids und des organischen Sil
bersalzes, welche in der lichtempfindlichen Schicht enthal
ten ist, liegt vorzugsweise im Bereich von 0,5 mg/m2 bis 5
g/m2, ausgedrückt als Silber.
Beispiele für den Basenvorläufer umfassen anorganische oder
organische Basen und deren Basenvorläufer (beispielsweise
Decarboxylationstyp, thermischer Zersetzungstyp, Reaktions
typ und Typ, der ein komplexes Salz bildet) .
Als anorganische Basen sind diejenigen verwendbar, die in
der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 62
(1987)-2 09 448 beschrieben werden. Als organische Base sind
verwendbar tertiäre Aminverbindungen, wie in der vorläufigen
japanischen Patentveröffentlichung Nr. 62(1987)-1 70 954 be
schrieben; Bisamidinverbindungen, Trisamidinverbindungen
oder Tetraamidinverbindungen, beschrieben in der vorläufigen
japanischen Patentveröffentlichung Nr. 63(1988) -3 16 760; Bis
guanidinverbindungen, Trisguanidinverbindungen oder Tetra
guanidinverbindungen, beschrieben in der vorläufigen japani
schen Patentveröffentlichung Nr. 64(1989)-68 746. Gemäß der
Erfindung ist eine Base mit einem pKa-Wert von nicht weniger
als 7 bevorzugt.
Unter dem Gesichtspunkt der Lagerungsbeständigkeit des
lichtempfindlichen Materials gemäß der Erfindung wird vor
zugsweise ein Basenvorläufer verwendet.
Bevorzugte Beispiele für die Basenvorläufer umfassen Salze
von organischen Säuren, welche unter Hitzeeinwirkung decar
boxylieren, wie beschrieben in den vorläufigen japanischen
Patentveröffentlichungen Nr. 63(1988)-3 16 760, Nr. 64(1989)-
68 746, Nr. 59(1984)-1 80 537 und Nr. 61(1986) -3 13 431; und
Harnstoffverbindungen, welche unter Hitzeeinwirkung Basen
freigeben, wie beschrieben in der vorläufigen japanischen
Patentveröffentlichung Nr. 63(1988)-96 159. Beispiele für
Verfahren, welche bewirken, daß der Basenvorläufer eine Base
durch eine bestimmte Reaktion freigibt, umfassen ein Verfah
ren, bei dem eine Reaktion zwischen dem Basenvorläufer und
einem Salz, enthaltend ein Anion mit einer höheren Kompati
bilität gegenüber einem Übergangmetallacetylid oder Über
gangsmetallion als das Acetylidanion verwendet wird, wie be
schrieben in der vorläufigen japanischen Patentveröffentli
chung Nr. 63(1988)-25 208; und ein Verfahren, bei dem in Was
ser eingeführt wird sowohl eine basische metallische Verbin
dung, welche sich kaum in Wasser lösen läßt, als auch eine
Verbindung, welche in der Lage ist, mit dem Metallion der
basischen metallischen Verbindung in einem Wassermedium un
ter Bildung eines Komplexsalzes zu reagieren, so daß eine
Base durch eine Reaktion zwischen diesen beiden Verbindungen
in der Gegenwart von Wasser freigesetzt wird, wie beschrie
ben in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung
Nr. 1(1989)-3 282.
Der für die Erfindung anwendbare Basenvorläufer setzt die
Base vorzugsweise bei einer Temperatur im Bereich von 50 bis
200°C, insbesondere in einem Bereich von 80 bis 180°C, frei.
Das lichtempfindliche Material mit einer Base oder einem Ba
senvorläufer wird in der vorläufigen japanischen Patentver
öffentlichung Nr. 62(1987)-2 64 041 beschrieben. Ein lichtemp
findliches Material mit einem tertiären Amin als Base ist in
der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 62
(1987)-1 70 954 beschrieben. Ein lichtempfindliches Material
mit dispergierten Körnern einer hydrophoben organischen Ba
senverbindung mit einem Schmelzpunkt von 80 bis 180°C wird
in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr.
62(1987)-2 09 523 beschrieben. Ein lichtempfindliches Material
mit einem Guanidinderivat mit einer Löslichkeit von nicht
mehr als 0,1% wird in der vorläufigen japanischen Patent
veröffentlichung Nr. 63(1988)-70 845 beschrieben. Ein licht
empfindliches Material mit Hydroxiden oder Salzen von Alka
limetallen oder Erdalkalimetallen wird in der vorläufigen
japanischen Patentveröffentlichung Nr. 62(1987)-2 09 448 be
schrieben.
Ein lichtempfindliches Material mit Acetylidverbindungen als
Basenvorläufer wird in der vorläufigen japanischen Patent
veröffentlichung Nr. 63 (1988)-24 242 beschrieben. Ein licht
empfindliches Material mit Salzen der Propiolsäure als Ba
senvorläufer, das weiterhin Silber, Kupfer, eine Silberver
bindung und eine Kupferverbindung als Katalysator für die
Erzeugungsreaktion der Base enthält, wird in der vorläufigen
japanischen Patentveröffentlichung Nr. 63(1988)-46 446 be
schrieben. Ein lichtempfindliches Material enthaltend Salze
der Propiolsäure, die getrennt vom Silber, Kupfer, der Sil
berverbindung oder der Kupferverbindung vorliegen, ist in
der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 63
(1988)-81 338 beschrieben. Ein lichtempfindliches Material,
enthaltend freie Liganden, zusätzlich zu den Salzen der Pro
piolsäure und des Silbers, des Kupfers, der Silberverbindung
oder der Kupferverbindung ist in der vorläufigen japanischen
Patentveröffentlichung Nr. 63(1988)-97 942 beschrieben. Ein
lichtempfindliches Material mit Salzen der Propiolsäure als
Basenvorläufer, das weiterhin wärmeschmelzbare Verbindungen
als Beschleuniger für die Erzeugungsreaktion der Base ent
hält, ist in der vorläufigen japanischen Patentveröffentli
chung Nr. 63(1988)-46 447 beschrieben. Ein lichtempfindliches
Material mit einem Salz von Sulfonylacetat als Basenvorläu
fer, das weiterhin eine wärmeschmelzbare Verbindung als Be
schleuniger für die Erzeugungsreaktion der Base enthält, ist
in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr.
63(1988)-48 453 beschrieben. Ein lichtempfindliches Material
mit Verbindungen, bei denen Isocyanat oder Isothiocyanat an
eine organische Base gebunden ist, ist in der vorläufigen
japanischen Patentveröffentlichung Nr. 63(1988)-96 652 be
schrieben. Ein lichtempfindliches Material, enthaltend ein
Keimbildungsmittel als Zersetzungsbeschleuniger der vorste
hend genannten Verbindungen ist in der vorläufigen japani
schen Patentveröffentlichung Nr. 63(1988)-1 73 039 beschrie
ben.
Ein lichtempfindliches Material, enthaltend als Basenvorläu
fer ein Bisamidin oder Trisamidinsalz einer zur Decarboxy
lierung fähigen Carbonsäure ist in der vorläufigen japani
schen Patentveröffentlichung Nr. 64(1989)-9 441 beschrieben.
Ein lichtempfindliches Material, enthaltend als Basenvorläu
fer ein Bisguanidin oder Trisguanidinsalz einer zur Decarbo
xylierung fähigen Carbonsäure, ist in der vorläufigen japa
nischen Patentveröffentlichung Nr. 64(1989)-68 749 beschrie
ben.
Die Base oder der Basenvorläufer ist in einer Menge von vor
zugsweise 0,5 bis 50 Mol, insbesondere 1 bis 20 Mol, pro Mol
Silberhalogenid, einsetzbar.
Der Beschleuniger für die Hitzeentwicklung ist als thermi
sches Lösungsmittel bekannt, das zur Beschleunigung der
thermischen Zersetzung des Basenvorläufers dient oder zur
Beschleunigung der Entwicklung des Silberhalogenids durch
Auflösen der Base oder des Reduktionsmittels in der Hitzebe
handlung dient. Beispiele für vorzugsweise in der Erfindung
eingesetzte Beschleuniger für die Hitzeentwicklung umfassen
Polyethylenglykole, Derivate von Ölsäureestern des Polyethy
lenoxids, Bienenwachs, Monostearinsäure sowie dielektrische
Verbindungen mit einer -SO2- und/oder -CO-Gruppe, wie dies
im US-Patent Nr. 33 47 675 beschrieben ist; polare Substan
zen, wie dies im US-Patent Nr. 36 67 959 beschrieben ist;
und 1,10-Decandiol, Methylanisat und Biphenylsuberat, wie in
"Research Disclosure", 39854 00070 552 001000280000000200012000285913974300040 0002004125699 00004 39735 Seiten 26-28 (Dezember 1976) be
schrieben ist, ein Sulfonamidderivat, wie dies in der vor
läufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 62(1987)-
1 51 841 beschrieben ist, ein Polyethylenglykolderivat, wie
dies in der vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung
Nr. 62(1987)-1 51 743 beschrieben ist, ein cyclisches Amid,
wie dies in der vorläufigen japanischen Patentveröffentli
chung Nr. 62(1987)-1 83 450 beschrieben ist, eine hochschmel
zende Verbindung, wie dies in den vorläufigen japanischen
Patentveröffentlichungen Nr. 63(1988)-2 43 835 und Nr. 63
(1988)-2 53 934 beschrieben ist.
Der Beschleuniger für die Hitzeentwicklung hat auch die
Funktion, die Plastizität eines Polymers zu erhöhen (das als
Polymerbindemittel wirkt und das in der polymerisierbaren
Schicht, der lichtempfindlichen Schicht oder in anderen
Schichten enthalten ist), und zwar bei Raumtemperatur oder
bei einem Verfahren zur Hitzeentwicklung. Der Beschleuniger
für die Hitzeentwicklung ist als Plastifizierungsmittel be
kannt. Bekannte Plastifizierungsmittel sind in "Plastic Ad
ditives" (in japanischer Sprache), Seiten 21-63 (Taisei
sha); Plastic Additives, 2. Aufl., Hanser Publishers, Kapi
tel 5, Seiten 251-296; Thermoplastic Additives, Marcel Dek
ker Inc., Kapitel 9, Seiten 345-379; Plastic Additives, An
Industrial Guide, Noyes Publications, Teil 14, Seiten 333-485:
The Technology of Solvents and Plasticizers, John Wiley
& Sons Inc., Kapitel 15, Seiten 903-1027; Industrial Plasti
cizers, Pergamom Press; Plasticizer Technology, Band 1,
Reinhold Publishing Corp.; und Plasticization and Plastici
zer Process, American Chemistry beschrieben.
Beispiele für den Beschleuniger für die Hitzeentwicklung um
fassen Harnstoffe, wie Harnstoff, Ethylenharnstoff, Methyl
harnstoff, Dimethylharnstoff, Ethylharnstoff und Propylen
harnstoff; Amide, wie Acetamid und Propionamid, Sulfamide,
Sulfonamide; einen mehrwertigen Alkohol, wie Sorbit, Trime
thylolethan, Trimethylolpropan, Pentaerythrit, Glycerin,
Ethylenglykol, Propylenglykol, Butandiol und Hexandiol; ein
Harnstoffharz; ein Phenolharz. Zwei oder mehr Beschleuniger
für die Hitzeentwicklung können in Kombination verwendet
werden.
Ein hydrophiles Bindepolymer kann in der lichtempfindlichen
Schicht, der Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung
oder in der Schutzschicht enthalten sein. Das Molekül des
hydrophilen Bindepolymers weist eine hydrophile Gruppe oder
eine hydrophile Bindung auf. Beispiele für die hydrophile
Gruppe umfassen eine Carboxyl-, Hydroxyl- (einschließlich
Alkohol und Phenol), Sulfo-, Sulfonamido-, Sulfonimido- und
eine Amidogruppe. Beispiele für die hydrophile Bindung um
fassen eine Urethanbindung, Etherbindung und eine Amidobin
dung.
Vorzugsweise ist das hydrophile Polymer wasserlöslich oder
es schwillt in Wasser an. Das Polymer, welches in Wasser an
schwillt, ist eine Affinität gegenüber Wasser auf, es ist
jedoch nicht wasserlöslich aufgrund der vernetzbaren Struk
tur des Polymers.
Als hydrophiles Polymer finden natürliche oder synthetische
Polymere Verwendung. Beispiele für das natürliche hydrophile
Polymer umfassen Polysaccharide, wie Stärkederivate, Cellu
losederivate, Alginsäure, Pectinsäure, Gummi arabicum und
Pullulan, und Protein, wie Casein und Gelatine. Auch die de
naturierten Polymere können verwendet werden. Bei der Her
stellung des lichtempfindlichen Materials (im Stadium des
Beschichtens oder Trocknens) können diese natürlichen Poly
mere denaturiert oder vernetzt werden. Das synthetische hy
drophile Polymer ist ein Polyer oder Copolymer aus wasser
löslichen Monomeren. Das wasserlösliche Monomer weist eine
hydrophile Gruppe, wie eine Carboxyl-, Säureanhydrid-, Hy
droxyl-, Sulfo- (einschließlich deren Salze), Amido-, Amino-
und eine Ethergruppe auf. Beispiele für das Monomer sind be
schrieben in "Application and Market of Water-soluble Po
lyer" (CMC, Seiten 16-18). Ein Copolymer, welches von den
oben angeführten Monomeren durch Polymerisation oder Vernet
zung (vgl. die im US-Patent Nr. 49 13 998 beschriebenen Co
polymere) gebildet wird, ist auch benutzbar.
Die anderen Beispiele für das hydrophile Polymerbindemittel
umfassen Polyvinylalkohol, Polyvinylether, Polyvinylpyrroli
don und deren Derivate. Insbesondere geeignet ist Polyvinyl
alkohol.
Der Polyvinylalkohol kann durch Copolymerisation mit einem
anderen Monomer denaturiert werden. Ein Copolymer aus Vinyl
acetat und einem anderen Monomer wird verseift, um den dena
turierten Polyvinylalkohol zu bilden. Beispiele für das mit
dem Vinylacetat copolymerisierte Monomer umfassen Ethylen,
ein höheres Vinylcarboxyalt, einen höheren Alkylvinylether,
Methylmethacrylat und Acrylamid. Der Polyvinylalkohol kann
nach der Verseifung auch denaturiert werden. Die Hydroxyl
gruppe des Polyvinylalkohols kann durch Veretherung, Ver
esterung oder Acetalierung modifiziert werden. Ein vernetz
ter Polyvinylalkohol ist auch brauchbar. Beispiele für das
vernetzende Mittel umfassen Aldehyde, Methylolverbindungen,
Diisocyanat, Divinylverbindungen, Dicarbonsäuren, Borate,
Titan und Kupfer. Eine Beschreibung des denaturierten oder
vernetzten Polyvinylalkohols findet sich in "Poval", 3.
Aufl., Kobunshi Kanko-Kai, Seiten 281-285 und 256-260.
Das Molekulargewicht des Polymers liegt vorzugsweise im Be
reich von 3000 bis 500 000. Der hydrophile Polymerbinder
wird vorzugsweise in einer Menge im Bereich von 0,05 g bis
20 g/m2, insbesondere im Bereich von 0,1 bis 10 g/m2, am be
vorzugtesten im Bereich von 0,3 bis 3 g/m2, verwendet.
Vorzugsweise verhindert die oberste Schicht effektiv die
Diffusion von Sauerstoff aus der Luft zu der polymerisierba
ren Schicht beim Hitzeentwicklungsprozeß. Der Sauerstoff
wirkt als Polymerisationsinhibitor. Deshalb weist der hydro
phile Polymerbinder vorzugsweise einen niedrigen Transmis
sionskoeffizienten für Sauerstoff von nicht mehr als 1,0×
10-11cm3·cm/cm2·sec·cmHg auf.
Beispiele für den hydrophilen Polymerbinder mit niedrigem
Transmissionskoeffizienten für Sauerstoff umfassen Polyvi
nylalkohol und dessen Derivate, Gelatine und das Copolymer
von Vinylidenchlorid. Die Derivate des Polyvinylalkohols
schließen den oben angeführten denaturierten Polyvinylalko
hol (gebildet durch Verseifung eines Blockcopolymers aus Po
lyvinylacetat und eines anderen Monomers) ein. Das Moleku
largewicht des Polymerbinders liegt vorzugsweise im Bereich
von 3000 bis 500 000.
Der Polyvinylalkohol hat vorzugsweise einen hohen Versei
fungsgrad von nicht weniger als 70%, insbesondere von nicht
weniger als 80%, am bevorzugtesten von nicht weniger als 95%.
Der hydrophile Polymerbinder wird vorzugsweise in einer
Menge im Bereich von 0,5 g bis 10 g/m2, insbesondere im Be
reich von 1,0 g bis 5 g/m2, verwendet. Das Molekulargewicht
liegt vorzugsweise im Bereich von 3000 bis 500 000.
Das lichtempfindliche Material kann verschiedenartige Anti
schleiermittel und Stabilisatoren enthalten. Beispiele für
die Antischleiermittel und die Stabilisatoren umfassen Azole
und Azaindene, beschrieben in "Research Disclosure", Seiten
24-25 (1978); Carbonsäuren, enthaltend Stickstoff und Phos
phorsäuren mit Stickstoff, beschrieben in der vorläufigen
japanischen Patentveröffentlichung Nr. 59(1984)-1 68 442; Mer
captoverbindungen und deren Metallsalze, beschrieben in der
vorläufigen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 59(1984)-
1 11 636; und Acetylenverbindungen, beschrieben in der vorläu
figen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 62(1987)-87 957.
Das Antischleiermittel kann in der polymerisierbaren Schicht
enthalten sein, vorzugsweise ist es jedoch in der lichtemp
findlichen Schicht enthalten. Die Menge des verwendeten An
tischleiermittels beträgt im allgemeinen 10-7 bis 1 Mol, be
zogen auf 1 Mol des Silberhalogenids.
Die Wirkung des Reduktionsmittels besteht in der Reduktion
des Silberhalogenids und/oder der Beschleunigung (oder der
Zurückhaltung) der Polymerisation der polymerisierbaren Ver
bindung. Verschiedenartige Reduktionsmittel mit den oben an
geführten Wirkungen sind bekannt. Beispiele dieser Reduk
tionsmittel umfassen Hydrochinone, Catechine, p-Aminopheno
le, p-Phenylendiamine, 3-Pyrazolidone, 3-Aminopyrazole, 4-
Amino-5-pyrazolone, 5-Aminouracile, 4,5-Dihydroxy-6-aminopy
rimidine, Reduktone, Aminoreduktone, o- oder p-Sulfonamido
phenole, o- oder p-Sulfonamidonaphthole, 2,4-disulfonamid
phenole, 2,4-Disulfonamidnaphthole, o- oder p-Acylaminophe
nole, 2-Sulfonamidoindanone, 4-Sulfonamido-5-pyrazolone, 3-
Sulfonamidoindole, Sulfonamidopyrazolobenzimidazole, Sulfo
namidopyrazolotriazole, α-Sulfamidoketone und Hydrazine.
Durch Anpassung von Art oder Menge des oben angeführten Re
duktionsmittels, kann die polymerisierbare Verbindung in
nerhalb der Fläche, in der ein latentes Bild des Silberhalo
genids erzeugt wurde oder innerhalb der Fläche, in der ein
latentes Bild des Silberhalogenids nicht erzeugt wurde, po
lymerisiert werden.
Verschiedenartige Reduktionsmittel mit den oben angeführten
Wirkungen (einschließlich der Verbindungen, auf die als Ent
wicklungsmittel oder Hydrazinderivat Bezug genommen wird)
werden beschrieben in den vorläufigen japanischen Patentve
röffentlichungen Nr. 61(1986)-1 83 640, Nr. 61(1986)-1 83 535,
Nr. 61(1986)-2 28 441, Nr. 62(1987)-70 836, Nr. 61(1987)-86 354,
Nr. 62(1987)-86 355, Nr. 62(1987)-2 06 540, Nr. 62(1987)-
2 64 041, Nr. 62(1987)-1 09 437 und Nr. 63(1988)-2 54 442; und in
den japanischen Patentanmeldungen Nr. 63(1988)-97 379, Nr. 63
(1988)-2 96 774, Nr. 63(1988)-2 96 775, Nr. 1(1989)-27 175, Nr. 1
(1989)-54 101 und Nr. 1(1989)-91 162. Diese Reduktionsmittel
werden auch beschrieben in T. James, "The Theory of the Pho
tographic Process", 4. Aufl., Seiten 291-334 (1977), "Rese
arch Disclosure", Band 170, Nr. 17 029, Seiten 9-15 (Juni
1978) und "Research Disclosure", Band 176, Nr. 17 643, Seiten
22-31 (Dezember 1978). Weiterhin kann auch ein Vorläufer für
ein Reduktionsmittel, welcher in der Lage ist, ein Reduk
tionsmittel unter Hitzeeinwirkung oder beim Kontakt mit ei
ner Base freizugeben, verwendet werden. Beim lichtempfindli
chen Material gemäß der Erfindung können auch verschiedenar
tige Reduktionsmittel und Reduktionsmittelvorläufer, welche
in den obigen Veröffentlichungen, Anmeldungen und Literatur
stellen beschrieben werden, wirkungsvoll eingesetzt werden.
Folglich schließt "das (die) Reduktionsmittel" in der vor
liegenden Bezeichnungsweise die Gesamtheit aller Reduktions
mittel und Reduktionsmittelvorläufer, welche in den oben an
geführten Veröffentlichungen beschrieben wird, ein.
Ist das Reduktionsmittel basisch, d. h. daß es ein Salz mit
einer Säure bildet, kann das Reduktionsmittel in Form eines
Salzes einer geeigneten Säure verwendet werden. Diese Reduk
tionsmittel können einzeln oder in Kombination verwendet
werden. Werden zwei oder mehr Reduktionsmittel in Kombina
tion verwendet, können bestimmte Wechselwirkungen zwischen
diesen Reduktionsmitteln erwartet werden. Eine dieser Wech
selwirkungen ist eine Beschleunigung der Reduktion des Sil
berhalogenids (und/oder eines organischen Silbersalzes)
durch sogenannte Superadditivität. Eine andere Wechselwir
kung ist eine Kettenreaktion, bei der ein Oxidans des einen
Reduktionsmittels, welches durch eine Reaktion mit Silberha
logenid (und/oder eines organischen Silbersalzes) gebildet
wird, die Polymerisation der polymerisierbaren Verbindung
via Oxidoreduktionsreaktion mit dem anderen Reduktionsmittel
induziert oder inhibiert. Beide Wechselwirkungen können
gleichzeitig auftreten. Es ist folglich schwierig, festzu
stellen, welche der Wechselwirkungen im praktischen Gebrauch
aufgetreten ist.
Das Reduktionsmittel wird in einer Menge von 0,1 bis 10 Mol,
vorzugsweise 0,5 bis 10 Mol, bevorzugt 0,5 bis 5 Mol, insbe
sondere 1 bis 5 Mol, bezogen auf 1 Mol des Silberhalogenids,
verwendet.
Konkrete Beispiele des Reduktionsmittels werden unten be
schrieben.
Werden Hydrazine für sich oder in Kombination mit einem an
deren Reduktionsmittel verwendet, wird die polymerisierbare
Verbindung innerhalb der Fläche, in der das latente Bild des
Silberhalogenids gebildet wurde, polymerisiert. Werden 1-
Phenyl-3-pyrazolidone, Hydrochinone und Sulfonamidophenole
als Reduktionsmittel eingesetzt, ohne Hydrazine in Kombina
tion zu verwenden, wird die polymerisierbare Verbindung in
nerhalb der Fläche, in welcher das latente Bild des Silber
halogenids nicht gebildet wurde, polymerisiert. In diesem
Falle ist es jedoch notwendig, in die lichtempfindliche
Schicht oder in die polymerisierbare Schicht einen Polymeri
sationsinitiator, welcher sich unter Hitzeeinwirkung oder
Lichtirradation unter Bildung von Radikalen zersetzt, einzu
bringen.
Eine Beschreibung eines thermischen Polymerisationsinitia
tors findet sich in "Addition Polymerization and Ring Ope
ning Polymerization", Seiten 6-18, hrsg. von Editorial Com
mittee of High Polymer Experimental Study of the High Poly
mer Institute, verlegt bei Kyoritsu Shuppan (1983). Beispie
le des thermischen Polymerisationsinitiators umfassen Azo
verbindungen, wie Azobisisobutyronitril, 1,1′-Azobis(1-cy
clohexancarbonitril), Dimethyl-2,2′-azobisisobutyrat, 2,2′-
Azobis(2-methylbutyronitril) und Azobisdimethylbaleronitril;
organische Peroxide, wie Benzoylperoxid, Di-tert.-butylper
oxid, Dicumylperoxid, tert.-Butylhydroperoxid und Cumolhy
droperoxid; anorganische Peroxide, wie Hydrogenperoxid, Ka
liumpersulfat und Ammoniumpersulfat; und Natrium-p-toluol
sulfinsäure.
Der Photopolymerisationsinitiator wird beschrieben in Oster
et al., Chemical Review, Band 68, Seiten 125-151 (1968) und
Kosar, Light-Sensitive System, Seiten 158-193, John Wiley &
Sons (1965). Beispiele für den Photopolymerisationsinitiator
umfassen Carbonylverbindungen (beispielsweise α-Alkoxyphe
nylketone, polycyclische Chinone, Benzophenonderivate, Xan
thone, Thioxanthone und Benzoine), halogenhaltige Verbindun
gen (beispielsweise Chlorsulfonyl- oder Chlormethyl-mehrker
nige aromatische Verbindungen, Chlorsulfonyl- oder Chlorme
thyl-heterocyclische Verbindungen, Chlorsulfonyl- oder
Chlormethylbenzophenone und Fluorenone), Halogenalkane, α-
Halogen-α-phenylacetophenone, Redoxpaare aus photoreduziblem
Farbstoff und Reduktionsmittel, organische Schwefelverbin
dungen, Peroxide, Photohalbleiter (beispielsweise Titandio
xid und Zinkoxid), Metallverbindungen (beispielsweise Ferro
salz, Metallsalz einer Carbonylverbindung, Metallkomplex und
Uranylsalz), Silberhalogenid, Azoverbindungen und Diazover
bindungen.
Konkrete Beispiele des Photopolymerisationsinitiators umfas
sen 2-Dimethoxy-2-phenylacetophenon, 2-Methyl-[4-(methyl
thio)phenyl]-2-morpholino-1-propanon, Benzoinbutylether,
Benzoinisopropylether, Benzophenon, Michler′sches Keton,
4,4-Diethylaminobenzophenon, Chlormethylbenzophenon, Chlor
sulfonylbenzophenon, 9,10-Anthrachinon, 2-Methyl-9,10-an
thrachinon, Chlorsulfonylanthrachinon, Chlormethylanthrachi
non, 9,10-Phenanthrenchinon, Xanthon, Chlorxanthon, Thioxan
thon, Chlorthioxanthon, 2,4-Diethylthioxanthon, Chlorsulfo
nylthioxanthon, Chlormethylbenzothiazol, Chlorsulfonylbenzo
xazol, Chlormethylchinolin, Fluoren und Tetracarbontetrabro
mid. Beispiele der photoreduzierbaren Farbstoffe umfassen
Methylenblau, Thionin, Bengalrot, Erythrocin-β, Eosin, Rho
damin, Phloxin-β, Safranin, Acrylflavin, Riboflavin, Fluore
scein, Uranin, Benzoflavin, Acryzinorange, Acryzingelb und
Benzanthron.
Beispiele des Reduktionsmittels (wasserstoffgebende Verbin
dungen), welche mit diesen Farbstoffen verwendbar sind, um
fassen p-Diketone (beispielsweise Dimedon und Acetylaceton),
Amine (beispielsweise Triethanolamin, Diethanolamin, Mono
ethanolamin, Diethylamin und Trimethylamin), Sulfinsäuren
(beispielsweise p-Toluolsulfinsäure und Benzolsulfinsäure),
Salze dieser Sulfinsäuren, N-Phenylglycin, L-Ascorbinsäure
und deren Salze, Thioharnstoff und Allylthioharnstoff.
Das molare Verhältnis zwischen photoreduziblem Farbstoff und
Reduktionsmittel liegt vorzugsweise im Bereich von 1 : 0,1 bis
1 : 10.
Als Photopolymerisationsinitiator vorzugsweise verwendbar
sind auch kommerziell erhältliche, wie Irgacure-651TM und
Irgacure-907TM (hergestellt von Ciba Geigy).
Der Photopolymerisationsinitiator wird vorzugsweise in einer
Menge von 0,001 bis 0,5 g, insbesondere 0,01 bis 0,2 g, be
zogen auf 1 g der polymerisierbaren Verbindung, verwendet.
Das bilderzeugende System, welches einen Polymerisationsini
tiator einsetzt, ist beschrieben in den vorläufigen japani
schen Patentveröffentlichungen Nr. 61(1986)-75 342, Nr. 61
(1986)-2 43 449, Nr. 62(1987)-70 836 und Nr. 62(1987)-81 635,
dem US-Patent Nr. 46 49 098 und dem europäischen Patent Nr.
02 02 490.
Zum Zwecke der unveränderlichen Gewinnung einheitlicher Bil
der, ungeachtet der Temperatur und Zeitdauer des Entwick
lungsverfahrens, kann eine Vielzahl von Entwicklungsstoppern
verwendet werden. Die hierbei verwendeten Entwicklungsstop
per sind Verbindungen zur Neutralisation einer Base oder zur
Reaktion mit einer Base zur Verminderung der Basenkonzentra
tion in der Schicht, um dadurch die Entwicklung abzubrechen,
oder Verbindungen, die wechselseitig mit Silber oder einem
Silbersalz zur Unterdrückung der Entwicklung reagieren, nach
der geeigneten Entwicklung. Beispiele für die Entwicklungs
stopper umfassen insbesondere Säurevorläufer, welche in der
Lage sind, Säuren unter Hitzeeinwirkung freizugeben, elek
trophile Verbindungen, welche imstande sind, eine Substitu
tionsreaktion mit einer koexistierenden Base unter Hitzeein
wirkung einzugehen, stickstoffhaltige heterocyclische Ver
bindungen, Mercaptoverbindungen und deren Vorläufer. Detail
lierte Beschreibungen der Stopper finden sich in der vorläu
figen japanischen Patentveröffentlichung Nr. 62(1987)-2 53 159
(Seiten 31-32) und in den japanischen Patentanmeldungen Nr.
1(1989)-72 479 und Nr. 1(1989)-3 471. Der Entwicklungsstopper
kann in jeder beliebigen der Schichten enthalten sein.
Ein oberflächenaktives Mittel kann in jeglicher der Schich
ten enthalten sein. Beispiele für das oberflächenaktive Mit
tel umfassen nichtionische, anionische und kationische Mit
tel (offenbart in der vorläufigen japanischen Patentveröf
fentlichung Nr. 2-1 95 356). Vorzugsweise geeignet sind Sorbi
tan, Polyoxyethylen und eine fluorhaltige Verbindung.
Ein bilderzeugendes Verfahren, bei dem das lichtempfindliche
Material gemäß der Erfindung (nämlich ein Verfahren zur Her
stellung einer lithographischen Druckplatte) wird unten be
schrieben.
Ein Verfahren zur Erstellung einer lithographischen Druck
platte umfaßt einen Schritt des bildweisen Belichtens des
lichtempfindlichen Materials, einen Schritt der Belichtung
des lichtempfindlichen Materials gleichzeitig mit oder nach
folgend der bildweisen Belichtung, einen Schritt der weite
ren Erhitzung oder Bestrahlung des lichtempfindlichen Mate
rials mit Licht im Falle der Polymerisation der polymeri
sierbaren Verbindung innerhalb der Fläche, in der das laten
te Bild des Silberhalogenids nicht gebildet wurde, und einem
Schritt der Lösung und Entferung des ungehärteten Teils
(Nichtbildteils) mit einer alkalischen wäßrigen Lösung oder
einem geeigneten Lösungsmittel.
Die Belichtung des lichtempfindlichen Materials kann mit ei
ner Lichtquelle, welche imstande ist, Licht entsprechend der
spektralen Empfindlichkeit (des sensibilisierenden Farb
stoffs) des Silberhalogenids zu emittieren, erfolgen. Bei
spiele für solche Lichtquellen umfassen verschiedenartige
Lampen (beispielsweise eine Wolframlampe, eine Halogenlampe,
eine Xenonlampe, eine Quecksilberlampe und eine Kohlenstoff
bogenlampe), verschiedenartige Laser (beispielsweise einen
Halbleiterlaser, einen Heliumneonlaser, einen Argonlaser und
einen Helium-Cadmium-Laser), Lichtemissionsdioden und CRT-
Röhren. Die Strahlung für die Belichtung liegt vorzugsweise
im sichtbaren Bereich, im nahen Ultraviolettbereich oder im
nahen Infrarotbereich. Die Belichtung wird im allgemeinen
durch die Empfindlichkeit der Silberhalogenidemulsion be
stimmt und folglich liegt die Menge (Strahldichte) vorzugs
weise im Bereich von 0,01 bis 10 000 ergs/cm2, insbesondere
von 0,1 bis 1000 ergs/cm2.
Falls der Träger transparent ist, kann die Belichtung des
lichtempfindlichen Materials auf der Seite des transparenten
Trägers erfolgen.
Die bildweise Belichtung des lichtempfindlichen Materials
mit den oben angeführten Lichtquellen dient der Erzeugung
eines latenten Bildes des Silberhalogenids im belichteten
Bereich.
Gleichzeitig mit oder nach der oben beschriebenen bildweisen
Belichtung wird das lichtempfindliche Material einem Ent
wicklungsverfahren unterzogen.
Das lichtempfindliche Material gemäß der Erfindung kann mit
tels eines Naßentwicklungsverfahrens, bei dem eine Entwick
lungslösung verwendet wird, entwickelt werden. Dem Naßent
wicklungsverfahren ist jedoch ein Hitze-(Trocken-)Entwick
lungsverfahren vorzuziehen.
Die Hitzeentwicklung kann durchgeführt werden, indem das
lichtempfindliche Material mit einem erhitzten Material
(beispielsweise erhitzte Platte oder Walze) in Kontakt ge
bracht wird, das lichtempfindliche Material durch Strah
lungshitze einer Infrarotstrahlungslampe erhitzt wird oder
indem das lichtempfindliche Material in ein erhitztes Medi
um, wie erhitztes Öl, eingetaucht wird. Zur Abwendung der
Polymerisationsinhibition, welche durch aus der Luft ein
dringenden Sauerstoff während des Erhitzungsstadiums verur
sacht wird, wird das lichtempfindliche Material vorzugsweise
unter solchen Bedingungen erhitzt, bei denen die Oberfläche
des lichtempfindlichen Materials mit einem Material bedeckt
ist, welches Sauerstoff kaum durchläßt. Beispielsweise wird
die lichtempfindliche Oberfläche des lichtempfindlichen Ma
terials in engen Kontakt mit einem erhitzten Material ge
bracht. Die Heiztemperatur liegt vorzugsweise im Bereich von
60 bis 200°C, insbesondere von 100 bis 150°C. Die Zeitdauer
des Heizens liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 180 Se
kunden, insbesondere von 5 bis 60 Sekunden. Mittels des oben
beschriebenen Hitzeentwicklungsverfahrens wird die polymeri
sierbare Verbindung innerhalb der Fläche, in der ein laten
tes Bild des Silberhalogenids gebildet wurde oder innerhalb
der Fläche, in der ein latentes Bild des Silberhalogenids
nicht erzeugt wurde, zur Erzeugung eines Polymerbilds in der
polymerisierbaren Schicht polymerisiert und gehärtet. Eine
weitere Erhitzung zur Polymerisation der polymerisierbaren
Verbindung innerhalb der Fläche, in der ein latentes Bild
des Silberhalogenids nicht erzeugt wurde, ist nicht notwen
dig, d. h., die Erhitzung nur während des Entwicklungsver
fahrens durchzuführen, ist ausreichend. Die Lichtbestrahlung
zur Entwicklung des lichtempfindlichen Materials kann in
gleicher Art und Weise wie für die oben erwähnte bildweise
Belichtung durchgeführt werden, in diesem Fall wird jedoch
eine Strahlung verwendet, die sich bezüglich Wellenlänge und
Lichtmenge von derjenigen der Belichtung unterscheidet.
Nach dem Entwicklungsverfahren wird der ungehärtete Teil
(Nichtbildteil) mit einer alkalischen wäßrigen Lösung (bei
spielsweise wäßrige Lösung aus Triethanolamin) zur Auflösung
und Entfernung (d. h. Ätzung) dieses Teils ausgewaschen.
Durch diese Waschprozedur wird die lichtempfindliche Schicht
und der ungehärtete Teil der polymerisierbaren Schicht zur
Erzeugung eines Reliefbilds, welches aus dem gehärteten Teil
der polymerisierbaren Schicht auf dem Träger besteht, ent
fernt.
Die Ätzlösung enthält vorzugsweise eine alkalische Verbin
dung. Beispiele für diese alkalische Verbindung umfassen Na
triumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumsili
kat, Kaliumsilikat, Natriummetasilikat, Kaliummetasilikat,
Natriumphosphat, Ammoniak, Monoethanolamin, Diethanolamin
und Triethanolamin.
Das Lösungsmittel der Ätzlösung ist Wasser oder ein organi
sches Lösungsmittel. Gegenüber dem organischen Lösungsmittel
wird Wasser vorgezogen. Weiterhin können Wasser und organi
sches Lösungsmittel in Kombination eingesetzt werden. Bei
spiele für das organische Lösungsmittel umfassen Methanol,
Ethanol, Propanol, Butanol, Benzylalkohol, Phenethylalkohol,
Ethylenglykol, Diethylenglykol, Triethylenglykol, Polyethy
lenglykol, Cellosolve, Monoethanolamin, Diethanolamin und
Triethanolamin. Ein oberflächenaktives Mittel, Antischaum
mittel oder andere Zusatzstoffe können der Ätzlösung beige
fügt werden. Die Ätzlösung ist kommerziell als Entwicklerlö
sung für Druckplatten erhältlich.
Wird das lichtempfindliche Material in die Ätzlösung einge
taucht, werden in der Lösung die gesamte lichtempfindliche
Schicht und Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung und
der ungehärtete Teil der polymerisierbaren Schicht aufge
löst. Die lichtempfindliche Schicht und die Beschleunigungs
schicht für die Bilderzeugung können durch Wasser oder Ab
schälen vor dem Eintauchen in die Ätzlösung zur Entfernung
der ungehärteten polymerisierbaren Schicht entfernt werden.
Zur Erzeugung eines sichtbaren Polymerbilds gibt es neben
den oben erwähnten Verfahren, bei denen die Ätzlösung einge
setzt wird, noch verschiedenartige andere Verfahren. Bei
spielsweise kann die ungehärtete polymerisierbare Schicht,
nachdem die lichtempfindliche Schicht (und die Schutz
schicht) entfernt wurden, auf ein anderes bildempfangendes
Blatt zur Erzeugung eines Bildes auf dem Blatt übertragen
werden. Weiterhin kann eine gefärbte Substanz (Toner) der
ungehärteten polymerisierbaren Schicht beigefügt werden.
Weiterhin kann die gehärtete oder ungehärtete polymerisier
bare Schicht selektiv gefärbt werden.
Das erstellte Bild kann als Druckplatte, Farbprobeabzug (co
lor proof), Hard-Kopie oder als Relief verwendet werden. Am
geeignetsten ist die Verwendung als Druckplatte, weil das
lichtempfindliche Material gemäß der Erfindung eine hohe
Empfindlichkeit aufweist und das Verfahren gemäß der Erfin
dung Polymerbilder mit hoher mechanischer Festigkeit er
zeugt.
Die Erfindung wird anhand der nun folgenden Beispiele weiter
beschrieben, ohne diese einzuschränken.
Die Oberfläche eines Aluminiumblatts mit einer Dicke von
0,30 mm wird mittels einer Nylonbürste und einer wäßrigen
Bimssteinlösung von 400-in mesh gekörnt und dann hinreichend
mit Wasser gespült. Zum Ätzen wird das Aluminiumblatt sodann
in eine 10%ige wäßrige Natriumhydroxidlösung bei 70°C für
60 Sekunden eingetaucht. Nachfolgend wird das Blatt mit
fließendem Wasser gespült, dann mit 20%iger wäßriger Sal
petersäurelösung neutralisiert und mit Wasser ausgespült.
Das Aluminiumblatt wird einer elektrolytischen Oberflächen
aufrauhungsbehandlung in 1%iger wäßriger Salpetersäurelö
sung mit einem anodischen elektrischen Betrag von 160 Cou
lomb/dm2 unter Verwendung eines sinuswellenförmigen Wechsel
stroms, wobei eine anodische Spannung von 12,7 V und ein
Verhältnis des kathodischen elektrischen Betrags zum anodi
schen elektrischen Betrag von 0,8 vorherrscht, unterzogen.
Die Durchschnittshöhe der Mittellinie (center line average
height) (Ra) des Aluminiumblatts beträgt 0,6 µm. Nachfolgend
wird das Aluminiumblatt zur Entfernung von Schmutz bei einer
Temperatur von 55°C für 2 Minuten in 30%ige wäßrige Schwe
felsäurelösung eingetaucht und dann in 20%iger wäßriger
Schwefelsäurelösung bei einer Stromdichte von 2 A/dm2 zur
Bildung einer Eloxalschicht mit einer Dicke von 2,7 g/dm2
eloxiert.
Die folgende Bedeckungslösung wird auf den Aluminiumträger
aufgetragen und die aufgetragene Schicht der Lösung wird zur
Bildung einer polymerisierbaren Schicht mit einer Trocken
dicke von etwa 1,3 µm auf dem Träger getrocknet.
(Bedeckungslösung) | |
Dipentaerythrithexaacrylat | 2,5 g |
20 Gew.-% Allylmethyacrylat/Methacrylsäure- Copolymer Propylenglykolmonomethyletherlösung (Copolymerisationsverhältnis = 83/17) | 37,6 g |
Pigmentdispersion, wie unten beschrieben | 13,0 g |
Methylethylketon | 74,0 g |
(Pigmentdispersion) | |
Chromphthalrot A2B | 18,0 g |
Benzylmethacrylat/Methacrylsäure-Copolymer (Copolymerisationsverhältnis = 80/20) | 12,0 g |
Cyclohexanon | 30,0 g |
Propylenglykolmonomethylether | 40,0g |
In 1500 ml Wasser werden 16 g Gelatine und 0,5 g Natrium
chlorid gelöst und die sich ergebende Gelatinelösung wird
auf einen pH von 3,2 eingestellt mit 1n Schwefelsäure und
auf einer Temperatur von 50°C gehalten. Zu der Gelatinelö
sung werden gleichzeitig bei der gleichen Zulaufrate über 50
Minuten 300 ml einer wäßrigen Lösung, welche 71 g Kaliumbro
mid enthält und 300 ml einer wäßrigen Lösung, welche 0,59
Mol Silbernitrat enthält, gegeben, während die Gelatinelö
sung gerührt wird. Nach 1 Minute werden zu der sich ergeben
den Mischung weiterhin 200 ml einer wäßrigen Lösung, welche
4,3 g Kaliumiodid enthält, bei einer festen Zugaberate über
einen Zeitraum von 5 Minuten gegeben. Der erhaltenen Emul
sion werden dann 1,2 g Polyisobutylen/Mononatriummaleat-Co
polymer zugefügt.
Nachdem die Emulsion mit Wasser zum Entsalzen gespült wird,
werden ihr 24 g Gelatine zugegeben. Weiterhin werden der
sich ergebenden Emulsion 5 mg Natriumthiosulfat und 0,47 g
des folgenden sensibilisierenden Farbstoffs zugegeben, um
die Emulsion bei 60°C für 15 Minuten chemisch zu sensibili
sieren. So wird eine Silberhalogenidemulsion gewonnen (Aus
beute: 1000 g).
(Sensibilisierender Farbstoff)
(Sensibilisierender Farbstoff)
In 90 g 3 Gew.-% wäßriger Polyvinylalkohollösung (PVA-205,
Handelsbezeichnung von Kuraray Co., Ltd.) werden 10 g Pulver
des folgenden Reduktionsmittels unter Gebrauch eines Dyno
mill-Dispersionsapparats dispergiert. Die Teilchengröße des
Reduktionsmittels beträgt nicht mehr als etwa 0,5 µm.
(Reduktionsmittel)
(Reduktionsmittel)
Die folgende Überzugslösung wird auf die oben erstellte po
lymerisierbare Schicht aufgebracht und die Überzugsschicht
der Lösung wird getrocknet, so daß sich eine lichtempfindli
che Schicht mit einer Trockendicke von etwa 1,2 µm ergibt.
Selbst wenn die Lösung für einen Tag bei Raumtemperatur be
lassen wird, wird kein Niederschlag in der Bedeckungslösung
für die lichtempfindliche Schicht beobachtet.
(Bedeckungslösung) | |
10 Gew.-% wäßrige Polyvinylalkohollösung (PVA-405, Handelsbezeichnung von Kuraray Co., Ltd., Verseifungsgrad: 81,5%) | 42,0 g |
Reduktionsmitteldispersion, wie oben erstellt | 9,0 g |
Ethylenharnstoff (Beschleuniger für die Hitzeentwicklung) | 2,0 g |
0,13 Gew.-% Methanollösung des folgenden Additiv-1 | 5,4 g |
0,22 Gew.-% Methanollösung des folgenden Additiv-2 | 5,4 g |
Silberhalogenidemulsion, wie oben erstellt | 3,7 g |
5 Gew.-% wäßrige Lösung des folgenden oberflächenaktiven Mittels | 9,0 g |
Wasser | 106,0 g |
(Additiv-1)
(Additiv-2)
(Oberflächenaktives Mittel)
In 750 g 3 gew.-%iger wäßriger Polyvinylalkohollösung wer
den mittels eines Dynomill-Dispersionsapparats 250 g des
folgenden Basenvorläufers dispergiert. Die Teilchengröße des
Basenvorläufers beträgt nicht mehr als etwa 0,5 µm.
(Basenvorläufer)
(Basenvorläufer)
Folgende Bedeckungslösung wird auf die oben erstellte lichtempfindliche
Schicht aufgetragen und die aufgetragene
Schicht der Lösung wird zur Erstellung einer Beschleunigungsschicht
für die Bilderzeugung mit einer Trockendicke
von etwa 3,3 µm getrocknet. So wird ein lichtempfindliches
Material gemäß der Erfindung (vorsensibilisierte Druckplatte)
erstellt.
(Bedeckungslösung) | |
10 Gew.-% wäßrige Polyvinylalkohollösung (PVA-110, Handelsbezeichnung der Kuraray Co., Ltd., Verseifungsgrad: 98,5%) | 200,0 g |
Basenvorläuferdispersion, wie oben erstellt | 12,5 g |
Ethylenharnstoff (Beschleuniger für die Hitzeentwicklung) | 2,0 g |
5 Gew.-% wäßrige Lösung des oberflächenaktiven Mittels, welches bei der Herstellung der lichtempfindlichen Schicht gebraucht wurde | 4,0 g |
Das lichtempfindliche Material wird mit einem Originalbild
film in engen Kontakt gebracht, und das Material wird dem
Licht einer Wolframlampe von 500 W und 50 Lux für 1 Sekunde
ausgesetzt. Dann wird die rückseitige Oberfläche des licht
empfindlichen Materials (d. h., freie Oberflächenseite des
Aluminiumträgers) in engen Kontakt mit einer auf 130°C er
hitzten heißen Platte gebracht, wobei die seitliche Oberflä
che (side surface) der Beschleunigungsschicht für die Bild
erzeugung belüftet wird, um das Material thermisch für 30
Sekunden zu entwickeln. Somit befindet sich auf dem belich
teten Teil ein Silberbild. Auf der Oberfläche der lichtemp
findlichen Schicht werden keine Blasen beobachtet.
Danach wird das lichtempfindliche Material in Fuji PS Ent
wicklerlösung DN-3C (erhältlich bei Fuji Photo Film Co.,
Ltd.) bei Raumtemperatur für 1 Minute eingetaucht und dann
hinreichend mit Wasser ausgespült, um die gesamte Beschleu
nigungsschicht für die Bilderzeugung und lichtempfindliche
Schicht und den unbelichteten Teil der polymerisierbaren
Schicht zu entfernen. Somit bildet sich ein Reliefpolymer
bild roter Farbe auf dem belichteten Teil. Dann wird die er
stellte Druckplatte auf eine Heidelberg KOR-D-Typ Druckma
schine montiert, um einen Drucklauf (printing operation)
durchzuführen. Dies ergibt einen vorzüglichen Druck.
Weiterhin wird das lichtempfindliche Material bei 50°C für
eine Woche aufbewahrt, und dann wird ein Bild mit dem aufbe
wahrten lichtempfindlichen Material erstellt. Es ergibt sich
auch ein vorzügliches Bild.
Ein lichtempfindliches Material wird in der gleichen Art und
Weise wie in Beispiel 1 erstellt, mit der Ausnahme, daß Sor
bitol anstatt Ethylenharnstoff als Beschleuniger für die
Hitzeentwicklung (gleiche Menge), welcher in der lichtemp
findlichen Schicht und in der Beschleunigungsschicht für die
Bilderzeugung enthalten ist, verwendet wird. Das lichtemp
findliche Material wird in derselben Art und Weise wie in
Beispiel 1 ausgewertet. Es ergeben sich klare Bilder und
Drucke.
Ein lichtempfindliches Material wird in derselben Art und
Weise wie in Beispiel 1 erstellt, mit der Ausnahme, daß 9,0
g der Reduktionsmitteldispersion zu der Beschleunigungs
schicht für die Bilderzeugung anstatt zu der lichtempfindli
chen Schicht gegeben werden. Das lichtempfindliche Material
wird in derselben Art und Weise wie in Beispiel 1 ausgewer
tet. Es ergeben sich klare Bilder und Drucke.
Eine polymerisierbare Schicht wird auf einem Träger in der
gleichen Art und Weise wie in Beispiel 1 gebildet.
Auf die polymerisierbare Schicht wird folgende Überzugslö
sung aufgetragen und die Überzugsschicht der Lösung wird ge
trocknet, so daß sich eine lichtempfindliche Schicht mit ei
ner Trockendicke von etwa 1,2 µm ergibt. In der Bedeckungs
lösung der lichtempfindlichen Schicht wird eine Ausfällung
des Basenvorläufers beobachtet, falls die Lösung für einen
Tag bei Raumtemperatur belassen wird. Folglich sollte die
Bedeckungslösung sofort gebraucht werden (innerhalb 1 Stun
de).
(Bedeckungslösung) | |
10 Gew.-% wäßrige Polyvinylalkohollösung (PVA-405, Handelsbezeichnung von Kuraray Co., Ltd., Verseifungsgrad: 81,5%) | 42,0 g |
Basenvorläuferdispersion wie in Beispiel 1 | 12,5 g |
Reduktionsmitteldispersion wie in Beispiel 1 | 9,0 g |
Ethylenharnstoff (Beschleuniger für die Hitzeentwicklung) | 4,0 g |
0,13 Gew.-% Methanollösung des Additiv-1 wie in Beispiel 1 gebraucht | 5,4 g |
0,22 Gew.-% Methanollösung des Additiv-2 wie in Beispiel 1 gebraucht | 5,4 g |
Silberhalogenidemulsion, wie in Beispiel 1 gebraucht | 3,7 g |
5 Gew.-% wäßrige Lösung des oberflächenaktiven Mittels, wie in Beispiel 1 gebraucht | 9,0 g |
Wasser | 93,0 g |
Die folgende Bedeckungslösung wird dann auf die oben er
stellte lichtempfindliche Schicht aufgebracht und die Über
zugsschicht der Lösung wird zur Bildung einer Überzugs
schicht mit einer Trockendicke von etwa 3,0 µm getrocknet.
Somit wird ein vergleichbares lichtempfindliches Material
(vorsensibilisierte Druckplatte) erstellt.
(Bedeckungslösung) | |
10 Gew.-% wäßrige Polyvinylalkohollösung (PVA-110, Handelsbezeichnung der Kuraray Co., Ltd., Verseifungsgrad: 98,5%) | 200,0 g |
5 Gew.-% wäßrige Lösung des oberflächenaktiven Mittels, wie in Beispiel 1 | 4,0 g |
Das erstellte lichtempfindliche Material wird in der glei
chen Art und Weise wie in Beispiel 1 ausgewertet. In der
Überzugsschicht oder in der lichtempfindlichen Schicht wer
den Bläschen beobachtet, wenn das lichtempfindliche Material
hitzeentwickelt wird. Ein ziemlich klares Bild wird gewon
nen. Im Bild treten jedoch einige Verzerrungen auf, welche
den Bläschen entsprechen.
Weiterhin wird das lichtempfindliche Material für eine Woche
bei 50°C gelagert, und dann wird ein Bild mittels des gela
gerten lichtempfindlichen Materials erzeugt. Es findet sich
eine erniedrigte Sensibilität des lichtempfindlichen Materi
als.
Ein lichtempfindliches Material wird in der gleichen Art und
Weise wie in Beispiel 1 erstellt, mit der Ausnahme, daß 2,0
g des Reduktionsmittels zu der Bedeckungslösung der polyme
risierbaren Schicht gegeben werden und die Reduktionsdisper
sion nicht zu der lichtempfindlichen Schicht zugegeben wird.
Das lichtempfindliche Material wird in der gleichen Art und
Weise wie in Beispiel 1 ausgewertet. Es ergeben sich klare
Bilder und Drucke.
Claims (20)
1. Lichtempfindliches Material, enthaltend Silberhaloge
nid, ein Reduktionsmittel und eine ethylenisch ungesättigte
polymerisierbare Verbindung und/oder ein vernetzbares Poly
mer,
wobei das lichtempfindliche Material umfaßt einen Träger und
wenigstens drei funktionelle Schichten für die Bilderzeu
gung, enthaltend eine lichtempfindliche Schicht, eine poly
merisierbare Schicht und eine die Bilderzeugung beschleuni
gende Schicht (Beschleunigungsschicht für die Bilderzeu
gung), wobei die lichtempfindliche Schicht ein Silberhaloge
nid, die polymerisierbare Schicht eine ethylenisch ungesät
tigte polymerisierbare Verbindung und/oder das vernetzbare
Polymer enthält, und die Beschleunigungsschicht für die
Bilderzeugung eine Komponente enthält, deren Funktion die
Beschleunigung der Bilderzeugung ist, ausgewählt aus einem
Reduktionsmittel, einer Base, einem Basenvorläufer und einem
Beschleuniger für die Hitzeentwicklung.
2. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die polymerisierbare Schicht zwischen
dem Träger und der lichtempfindlichen Schicht angeordnet
ist.
3. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche Material den Trä
ger, die polymerisierbare Schicht, die lichtempfindliche
Schicht und die Beschleunigungsschicht für die Bilderzeugung
in dieser Reihenfolge umfaßt.
4. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Beschleunigungsschicht für die Bild
erzeugung den Basenvorläufer enthält.
5. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die oberste Schicht die Beschleunigungs
schicht für die Bilderzeugung ist, welche weiterhin einen
Polyvinylalkohol mit einem Verseifungsgrad von nicht weniger
als 70% enthält.
6. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß als oberste Schicht eine Schutzschicht
aufgebracht ist und die Schutzschicht einen Polyvinylalkohol
mit einem Verseifungsgrad von nicht weniger als 70% ent
hält.
7. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß der Träger ein Aluminiumblatt ist.
8. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das Silberhalogenid in der lichtempfind
lichen Schicht in einer Bedeckungsmenge von 1 mg bis g/m2
Silber enthalten ist.
9. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das Reduktionsmittel in einer Menge von
0,1 bis 10 Mol, bezogen auf 1 Mol des Silberhalogenids, ent
halten ist.
10. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die polymerisierbare Verbindung in der
polymerisierbaren Schicht in einer Menge von 3 bis 90 Gew.-%,
bezogen auf die polymerisierbare Schicht, enthalten ist.
11. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das vernetzbare Polymer in der polymeri
sierbaren Schicht in einer Menge von 0,1 bis 7 g/m2 enthal
ten ist.
12. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Base und/oder der Basenvorläufer in
einer Menge von 0,5 bis 50 Mol, bezogen auf 1 Mol des Sil
berhalogenids, enthalten ist.
13. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die polymerisierbare Schicht eine Dicke
im Bereich von 0,3 bis 7 µm aufweist.
14. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht eine Dicke
im Bereich von 0,5 bis 20 µm aufweist.
15. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Beschleunigungsschicht für die Bild
erzeugung eine Dicke im Bereich von 0,3 bis 20 µm aufweist.
16. Verfahren zur Bilderzeugung, umfassend die Schritte:
- - bildweises Belichten eines lichtempfindlichen Materials, welches Silberhalogenid, ein Reduktionsmittel, eine ethyle nisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und/oder ein vernetzbares Polymer und eine Base und/oder einen Basenvor läufer enthält,
- - wobei das lichtempfindliche Material umfaßt: einen Träger und wenigstens drei funktionelle Schichten für die Bilder zeugung, enthaltend eine lichtempfindliche Schicht, eine po lymerisierbare Schicht und eine die Bilderzeugung beschleu nigende Schicht (Beschleunigerschicht für die Bilderzeu gung), wobei die lichtempfindliche Schicht Silberhalogenid, die polymerisierbare Schicht eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und/oder das vernetzbare Polymer enthält, und die Beschleunigerschicht für die Bilderzeugung eine Komponente enthält, deren Funktion die Beschleunigung der Bilderzeugung ist, ausgewählt aus einem Reduktionsmit tel, einer Base, einem Basenvorläufer und einem Beschleuni ger für die Hitzeentwicklung,
- - gleichzeitiges oder nachfolgendes Erhitzen des lichtemp findlichen Materials auf eine Temperatur im Bereich von 60 bis 200°C unter Bedingungen, bei denen weitgehend kein Was ser für die Entwicklung des Silberhalogenids vorhanden ist und bildweise Härtung der polymerisierbaren Verbindung zur Erzeugung eines Polymerbilds.
17. Verfahren zur Bilderzeugung nach Anspruch 16, dadurch
gekennzeichnet, daß ein Oxidationsprodukt des Reduktionsmit
tels durch die Entwicklung des Silberhalogenids gebildet
wird, das Oxidationsprodukt oder ein von diesem Produkt ge
bildetes Radikal von der lichtempfindlichen Schicht zu der
polymerisierbaren Schicht übertragen wird, und die polymeri
sierbare Verbindung bildweise durch die Wirkung des Oxida
tionsprodukts oder des Radikals gehärtet wird.
18. Verfahren zur Bilderzeugung nach Anspruch 16, dadurch
gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche Material erhitzt
wird, während die Oberfläche des lichtempfindlichen Materi
als der Luft zugänglich ist.
19. Verfahren zur Bilderzeugung nach Anspruch 16, dadurch
gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche Material erhitzt
wird, während die Oberfläche des lichtempfindlichen Materi
als von der Luft abgeschirmt ist.
20. Verfahren zur Bilderzeugung nach Anspruch 16, dadurch
gekennzeichnet, daß nach Erstellung des Polymerbilds das
lichtempfindliche Material mit einer wäßrigen Lösung ausge
spült wird, um die Schichten, welche von der polymerisier
baren Schicht und der ungehärteten polymerisierbaren Schicht
verschieden sind, zu entfernen.
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Date | Code | Title | Description |
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8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8130 | Withdrawal |