DE19522643A1

DE19522643A1 - Lichtempfindliches Material umfassend eine Aushärteschicht und eine lichtempfindliche Schicht auf einem Kunststoffträger

Info

Publication number: DE19522643A1
Application number: DE1995122643
Authority: DE
Inventors: Takagi Yoshihiro
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1994-06-22
Filing date: 1995-06-22
Publication date: 1996-01-04
Also published as: JPH086255A

Description

Erfindungsgebiet

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein lichtempfindli ches Material umfassend einen Kunststoffträger, eine Aushärt schicht und eine lichtempfindliche Schicht in dieser Reihen folge.

Hintergrund der Erfindung

Die jüngste Entwicklung der Computertechnologie hat zu einer technischen Innovation auf dem Gebiet des Druckens geführt. Das Gebiet des Farbdruckens wird nun digitalisiert, wobei ein Computersystem verwendet wird, welches den Namen CEPS (Color Electronic Prepress System) trägt. Das CEPS digitalisiert die Druckdaten eines Farbbilds und die Daten des gesamten Vor druckverfahrens. Weiterhin gibt das neueste System die digita lisierten Druckdaten direkt an eine vorsensibilisierte litho graphische Platte mit hoher Empfindlichkeit, um eine lithogra phische Platte ohne Verwendung eines herkömmlichen lithogra phischen Films herzustellen. Die lithographische Platte für das System wird als DDPP (Digital Direct Printing Plate) be zeichnet.

Eine vorsensibilisierte DDPP wird entsprechend den digitali sierten Daten belichtet. Bei der Belichtung der DDPP wird vor teilhafterweise ein Laserstrahl als Licht verwendet. Ein Laserstrahl im sichtbaren Bereich oder Infrarotbereich (z. B. He-Ne-Laser, Argonlaser, Laserdiode) ist besonders bevorzugt. Deshalb muß die vorsensibilisierte Platte eine hohe Empfind lichkeit für einen Laserstrahl haben. Als Photosensor der vor sensibilisierten Platte wird vorzugsweise Silberhalogenid ver wendet, da Silberhalogenid der beste Photosensor insbesondere für den Laserstrahl im sichtbaren Bereich oder Infrarotbereich ist.

Der Laserstrahl ist in handelsüblichen Druckmaschinen wie ei nem Bildsetzgerät oder einem Scanner (z. B. SG757 und SG608 von Dai Nippon Printing Co., Ltd.; Select Set™ und Accuset™ von Agfa; Lino™ 300 von Lino; und Magna™ 646 von Crossfield) ver wendet worden. In dem Bildsetzgerät oder Scanner ist ein fle xibler Träger (z. B. Kunststoff oder Papier) einer Platte ge genüber einem harten Träger (z. B. Aluminium) bevorzugt.

Wie vorstehend beschrieben ist, werden Silberhalogenid und ein Kunststoff- oder Papierträger vorzugsweise in der DDPP verwen det. Die japanischen Patente Nr. 49(1974)-55402, Nr. 55(1980)- 100554, Nr. 61(1986)-13249, Nr. 61(1986)-23547, Nr. 2(1990)- 27661 und Nr. 3(1991)-42466 offenbaren ein Silberkomplexsalz- Diffusionstransferverfahren, welches Silberhalogenid und einen Kunststoff- oder Papierträger verwendet. Das Verfahren ist nachstehend unter Bezugnahme auf die Fig. 1 bis 3 beschrieben.

Fig. 1 ist eine Schnittansicht, welche eine vorsensibilisierte lithographische Platte des Silberkomplexsalz-Diffusionstrans ferverfahrens schematisch veranschaulicht.

Wie in Fig. 1 gezeigt ist, umfaßt die Platte einen Kunststoff oder Papierträger (1), eine Grundierungsschicht (2), eine Sil berhalogenidemulsionsschicht (3) und eine physikalische Ent wicklungskeimbildungsschicht (4) in dieser Reihenfolge. Die Grundierungsschicht (2) enthält Feststoffteilchen (5). Die Emulsionsschicht (3) enthält Silberhalogenid (6). Die Keimbil dungsschicht (4) enthält einen Keimbildner (7). Die Keimbil dungsschicht ist aus einem hydrophilen Bindemittel gemacht.

Fig. 2 ist eine Schnittansicht, die einen Belichtungsschritt des Silberkomplexsalz-Diffusionstransferverfahrens schematisch veranschaulicht.

Wie in Fig. 2 gezeigt ist, wird ein latentes Bild aus Silber halogenid (8) in dem belichteten Bereich (9) gebildet, wenn die Platte mit Licht (10) bildmäßig belichtet wird. Anderer seits wird das Silberhalogenid (6) in dem nichtbelichteten Bereich (11) nicht wesentlich verändert.

Fig. 3 ist eine Schnittansicht, die einen Entwicklungsschritt des Silberkomplexsalz-Diffusionstransferverfahrens schematisch veranschaulicht.

Wie in Fig. 3 gezeigt ist, wird die Platte in eine Entwick lungslösung (12) eingetaucht. Silberhalogenid mit einem laten ten Bild (8) in dem belichteten Bereich (9) wird entwickelt unter Bildung von Silber (13) in der Emulsionsschicht (3). Die physikalische Entwicklungskeimbildungsschicht (4) wird inner halb des belichteten Bereichs (9) nicht wesentlich verändert. Dementsprechend ist die Keimbildungsschicht in dem belichteten Bereich hydrophil, d. h. sie ist gegenüber einer Druckfarbe (welche hydrophob ist) abstoßend.

Andererseits wird Silberhalogenid in dem nichtbelichteten Bereich (11) in der Entwicklungslösung gelöst (dissoziiert) und dann diffundiert das Silberion und geht in die physi kalische Entwicklungskeimbildungsschicht (4) über. Das Silberion wird dann mit dem Keimbildner (7) entwickelt (reduziert), so daß sich Silber (14) in der physikalischen Entwicklungskeimbildungsschicht bildet. Das metallische Silber (14) ist stärker hydrophob als die Keimbildungsschicht selbst. Dementsprechend ist die Keimbildungsschicht in dem nicht belichteten Bereich hydrophob, d. h. sie hat eine Affinität zu einer Druckfarbe.

Eine vorsensibilisierte Platte des Silberkomplexsalz-Diffu sionstransferverfahrens war im Handel erhältlich (z. B. Silver Digiplate™ von Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.; und Set Print™ von Agfa). Es bestehen jedoch bei dem Silberkomplex salz-Diffusionstransferverfahren einige Probleme. Erstens ist der Kontrast zwischen dem belichteten Bereich und dem nichtbe lichteten Bereich niedrig, da die Affinität des entwickelten Silbers zu der Druckfarbe sehr gering ist. Dementsprechend ist es schwierig, eine Verfärbung des Hintergrunds des Bildes zu beseitigen. Ferner ist die Stabilität der entwickelten Platte gering. Deshalb ist die Wiederverwendung der Platte schwierig. Außerdem ist auch die Stabilität der Entwicklungslösung ge ring, da eine erhebliche Menge an Silber in der Entwicklungs lösung gelöst wird. Deshalb ist es erforderlich, die Entwick lungslösung zurückzugewinnen und zu ergänzen.

Nebenbei bemerkt offenbart das US-Patent 4,629,676 (Hayakawa et al.) ein Bilderzeugungsverfahren umfassend die Schritte des bildmäßigen Belichtens eines lichtempfindlichen Materials und des Erwärmens des lichtempfindlichen Materials. Das lichtemp findliche Material umfaßt einen Träger und eine lichtempfind liche Aushärtschicht, welche Silberhalogenid, ein Reduktions mittel und eine polymerisierbare Verbindung enthält. Das lichtempfindliche Material wird erwärmt, um das Silberhaloge nid zu entwickeln und die polymerisierbare Verbindung zu här ten.

Die US-Patente 4,879,201 (Hasegawa et al.), 4,916,041 (Hasegawa et al.), 4,985,339 (Koizumi et al.), 5,122,443 (Takeda), 5,290,659 (Takeda) und 5,393,651 (Hoshi) offenbaren Ausführungsformen des obenerwähnten lichtempfindlichen Materi als, welche vorteilhafterweise zur Herstellung einer lithogra phischen Platte verwendet werden. In den lichtempfindlichen Materialien für die lithographische Platte kann ein vernetzba res Polymer anstelle von oder zusätzlich zu der polymerisier baren Verbindung verwendet werden. Weiterhin umfaßt die licht empfindliche Aushärtschicht eine Aushärtschicht, welche die polymerisierbare Verbindung oder das vernetzbare Polymer ent hält und eine lichtempfindliche Schicht, welche Silberhaloge nid enthält. Eine Überzugsschicht, welche einen Basenvorläufer enthält, kann auf der lichtempfindlichen Schicht angebracht werden.

In den vorstehend erwähnten lichtempfindlichen Materialien zur Herstellung einer lithographischen Platte ist überwiegend eine Aluminiumplatte als Träger verwendet worden.

Zusammenfassung der Erfindung

Der Erfinder der vorliegenden Erfindung hat das Silberhaloge nidpolymerisationsverfahren untersucht. Der Erfinder stellt fest, daß das Silberhalogenidpolymerisationsverfahren die Pro bleme des Silberkomplexsalz-Diffusionstransferverfahrens nicht aufweist.

Der hydrophobe Bereich des Silberhalogenidpolymerisationsver fahrens wird durch ein Polymer gebildet, welches sehr viel stärker hydrophob ist als das entwickelte Silber des Silber komplexsalz-Diffusionstransferverfahrens. Ferner kann die Platte wiederverwendet werden, da das gebildete Polymer fest und stabil ist. Außerdem wird das Silberhalogenid durch Wärme ohne Verwendung einer Entwicklungslösung entwickelt. Dement sprechend weist das Silberhalogenidpolymerisationsverfahren die Probleme der Entwicklungslösung nicht auf.

Der Erfinder findet jedoch, daß die Verwendung eines Kunst stoffträgers in dem Silberhalogenidpolymerisationsverfahren ein Problem darstellt. Bei dem Silberpolymerisationssystem wird der nichtgehärtete (nichtbelichtete) Bereich auf dem Trä ger entfernt. Dementsprechend sollte eine hydrophile Oberflä che (oder eine Schicht) auf dem Träger gebildet werden, um eine druckfarbenabstoßende Oberfläche (oder eine Schicht) zu bilden. Es ist schwierig, eine hydrophile Oberfläche auf dem Kunststoffträger zu bilden, wogegen es ziemlich einfach ist, eine hydrophile Oberfläche auf dem Aluminiumträger zu bilden.

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, ein lichtempfind liches Material unter Verwendung von Silberhalogenid und einem Kunststoffträger bereitzustellen, welches die Probleme des Silberkomplexsalz-Diffusionstransferverfahrens nicht aufweist.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung ist, ein lichtempfindliches Material bereitzustellen, welches die Probleme bei der Verwen dung eines Kunststoffträgers in dem Silberhalogenidpolymerisa tionsverfahren nicht aufweist.

Die vorliegende Erfindung stellt ein lichtempfindliches Mate rial bereit, welches einen Kunststoffträger, eine Aushärt schicht und eine lichtempfindliche Schicht in dieser Reihen folge umfaßt, wobei die Aushärtschicht eine ethylenisch unge sättigte polymerisierbare Verbindung oder ein vernetzbares Polymer enthält, die lichtempfindliche Schicht Silberhalogenid enthält, und die Aushärtschicht oder die lichtempfindliche Schicht weiterhin ein Reduktionsmittel enthält, dadurch ge kennzeichnet, daß eine hydrophile Grundierungsschicht zwischen dem Kunststoffträger und der Aushärtschicht angebracht ist, wobei die hydrophile Grundierungsschicht Feststoffteilchen in einem hydrophilen Bindemittel dispergiert umfaßt, und die Feststoffteilchen eine durchschnittliche Teilchengröße im Be reich von 0,1 bis 10 µm haben.

Die Erfindung stellt auch ein Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Platte bereit, umfassend die Schritte:
bildmäßiges Belichten eines lichtempfindlichen Materials, wel ches einen Kunststoffträger, eine Aushärtschicht und eine lichtempfindliche Schicht in dieser Reihenfolge umfaßt, wobei die Aushärtschicht eine ethylenisch ungesättigte polymerisier bare Verbindung oder ein vernetzbares Polymer enthält, die lichtempfindliche Schicht Silberhalogenid enthält, und die Aushärtschicht oder die lichtempfindliche Schicht weiterhin ein Reduktionsmittel enthält, dadurch gekennzeichnet, daß eine hydrophile Grundierungsschicht zwischen dem Kunststoffträger und der Aushärtschicht angebracht ist, wobei die hydrophile Grundierungschicht Feststoffteilchen in einem hydrophilen Bindemittel dispergiert umfaßt, und die Feststoffteilchen eine durchschnittliche Teilchengröße im Bereich von 0,1 bis 10 µm haben;
Erwärmen des lichtempfindlichen Materials; und dann
Entfernen der lichtempfindlichen Schicht und des nichtgehärte ten Bereichs der Aushärtschicht.

Das lichtempfindliche Material der vorliegenden Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß die hydrophile Grundierungsschicht Feststoffteilchen in einem hydrophilen Bindemittel dispergiert enthält. Die Feststoffteilchen bilden eine rauhe Oberfläche der hydrophilen Grundierungsschicht. Die rauhe Oberfläche kann Befeuchtungswasser enthalten, wenn die Platte beim Drucken verwendet wird. Dementsprechend wird der Kontrast zwischen dem hydrophilen Bereich (der durch das Befeuchtungswasser gebildet ist) und dem hydrophoben Bereich (der durch das gehärtete Polymer gebildet ist) durch die vorliegende Erfindung stark verbessert. Deshalb löst die vorliegende Erfindung nicht nur die Probleme des Silberkomplexsalz-Diffusionstransferverfah rens, sondern auch die Probleme bei der Verwendung eines Kunststoffträgers in dem Silberhalogenidpolymerisationsverfah ren.

Das lichtempfindliche Material der vorliegenden Erfindung kann vorteilhafterweise in dem vorstehend erwähnten Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Platte verwendet werden.

Kurze Beschreibung der Abbildungen

Fig. 1 ist eine Schnittansicht, welche eine vorsensibili sierte lithographische Platte des Silberkomplexsalz- Diffusionstransferverfahrens schematisch veranschau licht.

Fig. 2 ist eine Schnittansicht, die einen Belichtungs schritt des Silberkomplexsalz -Diffusionstransfer verfahrens schematisch veranschaulicht.

Fig. 3 ist eine Schnittansicht, die einen Entwicklungs schritt des Silberkomplexsalz-Diffusionstransfer verfahrens schematisch veranschaulicht.

Fig. 4 ist eine Schnittansicht, die eine bevorzugte Ausfüh rungsform des lichtempfindlichen Materials der vor liegenden Erfindung schematisch veranschaulicht.

Fig. 5 ist eine Schnittansicht, die einen Belichtungs schritt des Silberhalogenidpolymerisationsverfahrens der Erfindung schematisch veranschaulicht.

Fig. 6 ist eine Schnittansicht, die einen Entwicklungs schritt des Silberhalogenidpolymerisationsverfahrens der Erfindung schematisch veranschaulicht.

Fig. 7 ist eine Schnittansicht, die eine hergestellte lithographische Platte nach dem Entfernungsschritt des Silberhalogenidpolymerisationsverfahrens der Er findung schematisch veranschaulicht.

Ausführliche Beschreibung der Erfindung

Das lichtempfindliche Material der vorliegenden Erfindung und das Silberhalogenidpolymerisationsverfahren sind nachstehend unter Bezugnahme auf die Fig. 4 bis 7 beschrieben.

Fig. 4 ist eine Schnittansicht, die eine bevorzugte Ausfüh rungsform des lichtempfindlichen Materials der vorliegenden Erfindung schematisch veranschaulicht.

Wie in Fig. 4 gezeigt ist, umfaßt das lichtempfindliche Mate rial einen Kunststoffträger (41), eine Grundierungsschicht (42), eine Aushärtschicht (43), eine lichtempfindliche Schicht (44) und eine Überzugsschicht (45) in dieser Reihenfolge. Die Grundierungsschicht (42) enthält Feststoffteilchen (46) und ein hydrophiles Bindemittel. Die Aushärtschicht (43) enthält eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung und ein vernetzbares Polymer. Die lichtempfindliche Schicht (44) enthält Silberhalogenid (47) und ein Reduktionsmittel (48). Die Überzugsschicht (45) enthält einen Basenvorläufer (49).

Fig. 5 ist eine Schnittansicht, die einen Belichtungsschritt des Silberhalogenidpolymerisationsverfahrens der Erfindung schematisch veranschaulicht.

Wie in Fig. 5 gezeigt ist, wird ein latentes Bild aus Silber halogenid (50) in dem belichteten Bereich (51) gebildet, wenn das lichtempfindliche Material mit Licht (52) bildmäßig be lichtet wird. Andererseits wird Silberhalogenid (47) in dem nichtbelichteten Bereich (53) nicht wesentlich verändert.

Fig. 6 ist eine Schnittansicht, die einen Entwicklungsschritt des Silberhalogenidpolymerisationsverfahrens der Erfindung schematisch veranschaulicht.

Wie in Fig. 6 gezeigt ist, laufen die folgenden drei Reaktio nen ab, wenn das lichtempfindliche Material erwärmt wird (54).

Zuerst wird der Basenvorläufer in der Überzugsschicht in der Wärme zersetzt, so daß eine Base (55) freigesetzt wird, welche durch Wärme in die lichtempfindliche Schicht (44) überführt wird. Folglich bestehen in der lichtempfindlichen Schicht ba sische Bedingungen.

Zweitens wird das belichtete Silberhalogenid mit dem Reduk tionsmittel unter den basischen Bedingungen in der Wärme ent wickelt, so daß Silber (56) gebildet wird. Nach der Entwick lung wird das Reduktionsmittel in ein Oxidationsprodukt oder ein Radikal (57) umgewandelt, welches durch Wärme in die Aus härtschicht (43) überführt wird.

Drittens wird die polymerisierbare Verbindung und das vernetz bare Polymer in dem belichteten Bereich (51) durch das Oxida tionsprodukt oder das Radikal (57) mit Wärme gehärtet (58).

Fig. 7 ist eine Schnittansicht, die eine hergestellte litho graphische Platte nach dem Entfernungsschritt des Silberhalo genidpolymerisationsverfahrens der Erfindung schematisch ver anschaulicht.

Wie in Fig. 7 gezeigt ist, werden die Überzugsschicht, die lichtempfindliche Schicht und der nichtgehärtete Bereich der Aushärtschicht von dem lichtempfindlichen Material entfernt. Nach dem Entfernungsschritt wird die rauhe Oberfläche der hydrophilen Grundierungsschicht freigelegt (59). Die rauhe und hydrophile Oberfläche kann eine ausreichende Menge an Befeuch tungswasser enthalten. Andererseits wird der verbleibende ge härtete Bereich (58) durch die gehärtete polymerisierbare Ver bindung und das Polymer gebildet, welches ausreichend hydro phob ist.

Feststoffteilchen

Die Feststoffteilchen haben eine durchschnittliche Teilchen größe im Bereich von 0,1 bis 10 µm. Die durchschnittliche Teilchengröße ist vorzugsweise größer als die Dicke der Grun dierungsschicht.

Zwei oder mehr Arten von Teilchen mit verschiedenen durch schnittlichen Teilchengrößen können in Kombination verwendet werden. Weiterhin können sehr kleine Teilchen mit einer durch schnittlichen Teilchengröße von weniger als 0,1 µm (z. B. kol loidale Siliciumdioxidteilchen) in Kombination mit den Teil chen der vorliegenden Erfindung verwendet werden.

Die Feststoffteilchen liegen vorzugsweise in Form von Kristal len einer anorganischen Substanz vor. Zu Beispielen für die anorganischen Substanzen gehören SiO₂, TiO₂ und ZrO₂. SiO₂ ist besonders bevorzugt.

Die Feststoffteilchen sind in der hydrophilen Grundierungs schicht vorzugsweise in einer solchen Menge enthalten, daß das Gewichtsverhältnis der Feststoffteilchen zu dem hydrophilen Bindemittel (nachstehend beschrieben) im Bereich von 0,1 bis 10 liegt.

Hydrophiles Bindemittel

Zu Beispielen für hydrophile Bindemittel gehören Gelatine und ihre Derivate, Stärke und ihre Derivate (z. B. Dialdehyd stärke), Cellulosederivate (z. B. Carboxymethylcellulose, Hydroxyethylcellulose), Gummiarabikum, Natriumalginat, Poly styrolsulfonsäure, Acrylamid-Copolymere (z. B. Vinylimidazol/ Acrylamid-Copolymer) und Polyvinylalkohol. Gelatine ist besonders bevorzugt.

Das hydrophile Bindemittel hat vorzugsweise eine vernetzte Struktur. Die vernetzte Struktur wird vorzugsweise durch eine Reaktion des Bindemittels mit einem Härtungsmittel gebildet. Zu Beispielen für die Härtungsmittel gehören anorganische Sub stanzen (z. B. Chromalaun), Aldehyde (z. B. Formaldehyd, Glyoxal, Maleinaldehyd, Glutaraldehyd, Mucochlorsäure), N-Methylolverbindungen (z. B. Harnstoff, Ethylenharnstoff), cyclische Etherverbindungen (z. B. 2,3-Dihydroxy-1,4-dioxan), aktive Halogenverbindungen (z. B. 2,4-Dichlor-6-hydroxy-S- triazinsalz, 2,4-Dihydroxy-6-chlortriazinsalz), aktive Vinyl verbindungen (z. B. Divinylsulfon, Divinylketon), Verbindungen mit zwei oder mehr aktiven dreigliedrigen Ringen (wie z. B. ein Ethyleniminoring und Epoxyring) und Polymere (z. B. Dialdehyd stärke). Zwei oder mehr Härtungsmittel können in Kombination verwendet werden.

Grundierungsschicht

Die hydrophile Grundierungsschicht ist zwischen dem Kunst stoffträger und der Aushärtschicht angebracht.

Die Grundierungsschicht kann Pigmentteilchen (z. B. Ruß), feste Dispersionen von Farbstoffen und wasserlösliche Farbstoffe zu sätzlich zu den Feststoffteilchen und dem hydrophilen Binde mittel enthalten. Die Grundierungsschicht, welche Pigmente oder Farbstoffe enthält, kann als Lichthofschutzschicht wir ken.

Die Grundierungsschicht hat vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,1 bis 5 µm und mehr bevorzugt im Bereich von 0,2 bis 4 µm.

Zwischenschicht

Das lichtempfindliche Material kann weiterhin eine Zwischen schicht umfassen, die zwischen der hydrophilen Grundierungs schicht und der Aushärtschicht angebracht ist. Die Zwischen schicht enthält ein hydrophiles Bindemittel. Beispiele für die hydrophilen Bindemittel sind die gleichen wie die für die Bin demittel, die in der Grundierungsschicht verwendet werden.

Die Zwischenschicht kann auch Feststoffteilchen enthalten. Beispiele für die Feststoffteilchen sind die gleichen wie die für die Teilchen, die in der Grundierungsschicht enthalten sind. Die Teilchen haben vorzugsweise eine durchschnittliche Teilchengröße im Bereich von 0,1 bis 5 µm. Die durchschnitt liche Teilchengröße ist vorzugsweise kleiner als die Größe der Teilchen, die in der Grundierungsschicht enthalten sind.

Das Gewichtsverhältnis der Feststoffteilchen zu dem hydrophi len Bindemittel in der Zwischenschicht liegt vorzugsweise im Bereich von 1/10 bis 10/1. Das Verhältnis der Teilchen zu dem Bindemittel in der Zwischenschicht ist vorzugsweise größer als das Verhältnis in der Grundierungsschicht.

Schichtstruktur des lichtempfindlichen Materials

Das lichtempfindliche Material der vorliegenden Erfindung um faßt den Kunststoffträger, die Grundierungsschicht, die Aus härtschicht und die lichtempfindliche Schicht in dieser Rei henfolge. Das lichtempfindliche Material kann ggf. weitere Schichten wie eine Haftschicht und eine abziehbare Schicht ha ben.

Kunststoffträger

Der Kunststoffträger ist aus einem Kunststoffpolymer gemacht. Zu Beispielen für die Kunststoffpolymere gehören Cellulose ester (z. B. Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulose propionat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat), Polyester (z. B. Polyethylenterephthalat, Polybutylenterephthalat, Poly ethylennaphthalat), Polyethylen, Polystyrol (welches vorzugs weise eine syndiotaktische Struktur hat), Polypropylen, Poly carbonat, Polyvinylacetat, Polyimid, Polybenzimidazol, Poly etherketon, Polyphenylensulfid, Polyamid (z. B. Aramid), Poly sulfon, Polyallylat und Polyethersulfon.

Der Kunststoffträger hat vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 75 bis 350 µm und mehr bevorzugt eine Dicke im Bereich von 95 bis 300 µm.

Lichtempfindliche Schicht

Die lichtempfindliche Schicht enthält Silberhalogenid, welches nach einem Belichtungsschritt und einem Entwicklungsschritt ein Radikal bildet. Das gebildete Radikal wird in eine Aus härtschicht überführt, um eine Härtungsreaktion zu veranlas sen.

Die lichtempfindliche Schicht hat vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,1 bis 20 µm und mehr bevorzugt im Bereich von 0,5 bis 10 µm.

Aushärtschicht

Die Aushärtschicht enthält eine ethylenisch ungesättigte poly merisierbare Verbindung oder ein vernetzbares Polymer. Die Aushärtschicht wird durch eine Polymerisationsreaktion oder eine Vernetzungsreaktion gehärtet.

Die Aushärtschicht hat vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,1 bis 20 µm und mehr bevorzugt im Bereich von 0,3 bis 7 µm.

Überzugsschicht und Bilderzeugungsbeschleunigungsschicht

Eine Überzugsschicht hat die Funktion, Sauerstoff in der Luft daran zu hindern, in die Aushärtschicht einzudringen. Sauer stoff wirkt als Polymerisationsinhibitor. Dementsprechend kann die Härte der Aushärtschicht durch Bereitstellen der Überzugs schicht verbessert werden. Die Überzugsschicht kann auch als Schutzschicht wirken. Die Überzugsschicht kann einen Basenvor läufer oder einen Wärmeentwicklungsbeschleuniger enthalten, so daß sie als Bilderzeugungsbeschleunigungsschicht wirkt.

Die Überzugsschicht kann weiterhin ein Mattierungsmittel ent halten, welches die Funktion hat, die Anhaftung an die Ober fläche des lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterials zu ver ringern, um die Anhaftung beim Stapeln der Materialien zu ver hindern.

Die Überzugsschicht oder die Bilderzeugungsbeschleunigungs schicht ist gewöhnlich aus einem hydrophilen Polymer gemacht. Die Schicht hat vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,3 bis 20 µm und mehr bevorzugt im Bereich von 0,5 bis 10 µm.

Haftschicht

Eine Haftschicht kann in dem lichtempfindlichen Material be reitgestellt werden, um ein Tonerbild zu erzeugen. Die Haft schicht enthält ein Polymer, an das Tonerteilchen anhaften.

Das Haftpolymer ist vorzugsweise ein natürlicher oder synthe tischer Kautschuk. Zu Beispielen für die synthetischen Kaut schuke gehören Polyisobutylen, Nitrylkautschuk, Butylkaut schuk, chlorierter Kautschuk, Polyvinylisobutylkautschuk, Siliconelastomer, Neopren und ein Copolymerkautschuk (z. B. Styrol-Butadien-Copolymer, Styrol-Isobutylen-Copolymer). Das Copolymer kann ein statistisches Copolymer, ein Blockcopolymer oder ein Pfropfcopolymer sein.

Die Haftschicht hat vorzugsweise eine Dicke im Bereich von 0,01 bis 10 µm und mehr bevorzugt im Bereich von 0,05 bis 5 µm.

Abziehbare Schicht

Eine abziehbare Schicht kann in dem lichtempfindlichen Mate rial bereitgestellt werden, um ein übertragenes Bild zu erzeu gen.

Die abziehbare Schicht ist bei Raumtemperatur nichthaftend, so daß sie leicht von dem Träger abgezogen wird. Die Schicht ist üblicherweise bei erhöhter Temperatur haftend. Die abziehbare Schicht enthält üblicherweise ein organisches Polymer (z. B. Polyvinylacetalharz, Polyamidharz) als Matrix. Das Matrixpoly mer hat vorzugsweise einen Fließerweichungspunkt, der höher ist als eine Temperatur, die zum Entwickeln von Silberhaloge nid erforderlich ist.

Die abziehbare Schicht enthält vorzugsweise eine Fluorverbin dung in einer Menge von nicht weniger als 1 Gew. -%. Ein fluor haltiges oberflächenaktives Mittel wird vorzugsweise als sol che Fluorverbindung verwendet. Die abziehbare Schicht hat vor zugsweise eine Dicke von nicht weniger als 1,0 µm und mehr be vorzugt von nicht weniger als 1,4 µm.

Zwischenschicht (intermediäre Schicht)

Zwischen den vorstehend erwähnten Schichten kann eine Zwi schenschicht bereitgestellt werden.

Die Zwischenschicht kann als Lichthofschutzschicht oder Sperr schicht wirken. Die Sperrschicht verhindert, daß sich Bestand teile zwischen den Schichten hin- und herbewegen, wenn das lichtempfindliche Material gelagert wird. Die Zusammensetzung der Zwischenschicht hängt von ihrer Funktion ab. Die Zwischen schicht kann aus einem hydrophilen Polymer gemacht sein, das in der lichtempfindlichen Schicht oder der Überzugsschicht verwendet wird.

Die Zwischenschicht hat vorzugsweise eine Dicke von nicht mehr als 10 µm.

Silberhalogenid

Silberhalogenid ist Silberchlorid, Silberbromid, Silberiodid, Silberchlorbromid, Silberchloriodid, Silberiodbromid oder Silberchloriodbromid in Form von Körnern.

Die Kristallformen der Silberhalogenidkörner sind vorzugsweise kubisch oder tetradekaedrisch. Zusätzlich zu diesen regelmäßi gen Kristallen stehen unregelmäßige Formen und Mischformen zur Verfügung. Zu Beispielen für die unregelmäßigen Formen gehören eine kartoffelähnliche Form, eine kugelförmige Form und eine tafelförmige Form. Die tafelförmige Form hat üblicherweise ein Aspektverhältnis (Durchmesser zu Dicke) von 5 oder mehr.

Die Silberhalogenidkörner können extrem kleine Körner mit ei nem Korndurchmesser (Durchmesser der projizierten Fläche) von weniger als 0,01 µm sein. Die Körner können auch relativ große Körner mit einem Durchmesser von mehr als 10 µm sein. Die Silberhalogenidemulsion kann eine polydispergierte Emulsion oder monodispergierte Emulsion sein. Die monodispergierte Emulsion ist in den US-Patenten 3,574,628 und 3,655,394 und dem britischen Patent 1,413,748 beschrieben.

Im Hinblick auf die Kristallstruktur der Silberhalogenidkörner können die einzelnen Körner eine homogene Halogenzusammenset zung oder eine heterogene Halogenzusammensetzung haben. In der heterogenen Zusammensetzung ist die Zusammensetzung des an der äußeren Oberfläche gelegenen Teils verschieden von dem Teil im Inneren. Die Körner können eine Mehrschichtenstruktur haben. Ferner können die Silberhalogenidkörner mit anderen Silber halogenidkörnern, welche eine unterschiedliche Halogenzusam mensetzung haben, durch epitaxiale Bindung verbunden sein. Die Körner können mit anderen Verbindungen als Silberhalogenid, wie etwa Silberrhodanid und Bleioxid, verbunden sein.

Zu dem Silberhalogenid können verschiedene Substanzen in Form eines Salzes zugegeben werden. Zu Beispielen für die Substan zen gehören Kupfer, Thallium, Blei, Cadmium, Zink, Chalkogene (z. B. Schwefel, Selen, Tellur), Gold und Edelmetalle der Gruppe VIII (z. B. Rhodium, Iridium, Eisen, Platin, Palladium). Die Salze werden der Emulsion bei der Bildung des Korns oder nach der Bildung des Korns gemäß einem herkömmlichen Verfahren zugegeben. Das herkömmliche Verfahren ist beschrieben in den US-Patenten 1,195,432, 1,191,933, 2,448,060, 2,628,167, 2,950,972, 3,488,709, 3,737,313, 3,772,031, 4,269,927 und Research Disclosure (RD), Nr. 13,452 (Juni 1975).

Die Silberhalogenidkörner können durch Zugabe einer wäßrigen Lösung einer Iridiumverbindung zu einer Silberhalogenidemul sion mit Iridiumionen dotiert werden. Zu Beispielen für was serlösliche Iridiumverbindungen gehören Hexachloriridium(III)- salze und Hexachloriridium(IV)-salze. Die Silberhalogenidkör ner können auch durch Zugabe einer wäßrigen Lösung einer Rhodiumverbindung zu einer Silberhalogenidemulsion mit Rhodiumionen dotiert werden. Zu Beispielen für wasserlösliche Rhodiumverbindungen gehören Rhodiumammoniumchlorid, Rhodium trichlorid und Rhodiumchlorid.

Die Iridiumverbindung oder die Rhodiumverbindung kann in einer Halogenidlösung zum Bilden von Silberhalogenidkörnern aufge löst werden. Die wäßrige Lösung der Iridiumverbindung oder der Rhodiumverbindung kann vor oder nach der Kornbildung verwendet werden. Ferner kann die Lösung zu der Emulsion zwischen der Kornbildung und einer chemischen Sensibilisierung zugegeben werden. Die Lösung wird vorzugsweise bei der Stufe der Korn bildung zugegeben. Das Iridium- oder Rhodiumion wird vorzugs weise in einer Menge von 10^-8 bis 10^-3 Mol und mehr bevorzugt in einer Menge von 10^-7 bis 10^-5 Mol bezogen auf 1 Mol Silber halogenid, verwendet. Wenn eine Iridiumverbindung und die Rhodiumverbindung in Kombination verwendet werden, wird die Rhodiumverbindung vorzugsweise der Emulsion vor der Zugabe der Iridiumverbindung zugegeben.

Zwei oder mehrere Arten von Silberhalogenidkörnern, die sich durch die Halogenzusammensetzung, den Kristallhabitus, die Korngröße oder andere Merkmale voneinander unterscheiden, kön nen in Kombination verwendet werden.

Das Silberhalogenid wird vorzugsweise in Form einer Emulsion verwendet. Die Silberhalogenidemulsion kann durch bekannte Verfahren hergestellt werden, die in Research Disclosure (RD) Nr. 17,643, Seiten 22 bis 23 (Dezember 1978), (Emulsions herstellung und Emulsionsarten); und Research Disclosure, Nr. 18,716, Seite 648, (November 1979) beschrieben sind.

Die Silberhalogenidemulsion wird im allgemeinen nach einer physikalischen Reifung und einer chemischen Sensibilisierung verwendet.

In den Reifungs- oder Sensibilisierungsschritten können ver schiedene Zusätze verwendet werden. Die Zusätze sind in Research Disclosure, Nr. 17,643 und Nr. 18,716 beschrieben. Der chemische Sensibilisator ist in Nr. 17,643 (Seite 23) und Nr. 18,716 (Seite 648, rechte Spalte) beschrieben. Andere Zusätze sind ebenfalls in Research Disclosure beschrieben. Zum Beispiel ist ein empfindlichkeitserhöhendes Mittel in Nr. 18,716 (Seite 648, rechte Spalte) beschrieben. Ein Antischlei ermittel und ein Stabilisator sind in Nr. 17,643 (Seiten 24 bis 25) und Nr. 18,716 (Seite 649, rechte Spalte) beschrieben.

Die Silberhalogenidemulsion wird gewöhnlich einer spektralen Sensibilisierung unterzogen. Verschiedene Spektralsensibili sierungsfarbstoffe sind in der herkömmlichen Silberhaloge nidphotographie bekannt. Zu Beispielen für die Sensibilisie rungsfarbstoffe gehören Cyaninfarbstoffe, Merocyaninfarb stoffe, Komplexmerocyaninfarbstoffe, holopolare Cyaninfarb stoffe, Hemicyaninfarbstoffe, Styrylfarbstoffe und Hemioxonol farbstoffe.

Ein Supersensibilisator kann der Emulsion zusätzlich zu dem Sensibilisierungsfarbstoff zugegeben werden. Der Supersensibi lisator selbst hat weder eine spektral sensibilisierende Wir kung noch eine Absorption von sichtbarem Licht, besitzt aber eine supersensibilisierende Wirkung auf den Sensibilisierungs farbstoff.

Organisches Metallsalz

Ein organisches Metallsalz kann der lichtempfindlichen Schicht, welche Silberhalogenid enthält, zugegeben werden. Ein organisches Silbersalz ist besonders bevorzugt.

Zu Beispielen für organische Bestandteile der Salze gehören Triazole, Tetrazole, Imidazole, Indazole, Thiazole, Thiadiazole und Azaindene. Eine aliphatische, aromatische oder heterocyclische Verbindung mit einer Mercaptogruppe steht ebenfalls als organischer Bestandteil zur Verfügung. Ferner sind Silbercarboxylate und Acetylensilber als organisches Silbersalz verfügbar. Zwei oder mehr organische Metallsalze können in Kombination verwendet werden.

Das organische Silbersalz wird im allgemeinen in einer Menge von 10^-5 bis 10 Mol und vorzugsweise 10^-4 bis 1 Mol, bezogen auf 1 Mol Silberhalogenid, verwendet. Eine ähnliche Wirkung kann erhalten werden durch Zugabe des organischen Bestandteils des organischen Metallsalzes anstelle des Salzes selbst zu der lichtempfindlichen Schicht, welche Silberhalogenid enthält. Der organische Bestandteil kann teilweise mit dem Silberhalo genid unter Bildung des organischen Metallsalzes reagieren.

Reduktionsmittel

Das Reduktionsmittel hat die Funktion, das Silberhalogenid zu reduzieren, oder die Funktion, eine Härtungsreaktion der poly merisierbaren Verbindung oder des vernetzbaren Polymers zu be schleunigen (oder zu hemmen). Es sind verschiedene Reduk tionsmittel mit diesen Funktionen bekannt. Zu Beispielen für die Reduktionsmittel gehören Hydrochinone, Catechine, p-Amino phenole, p-Phenylendiamine, 3-Pyrazolidone, 3-Aminopyrazole, 4-Amino-5-pyrazolone, 5-Aminouracile, 4,5-Dihydroxy-6-amino pyrimidine, Reduktone, Aminoreduktone, o- oder p-Sulfonamido phenole, o- oder p-Sulfonamidonaphthole, 2, 4-Disulfonamid phenole, 2,4-Disulfonamidnaphthole, o- oder p-Acylamino phenole, 2-Sulfonamidoindanone, 4-Sulfonamido-5-pyrazolone, 3-Sulfonamidoindole, Sulfonamidopyrazolobenzimidazole, Sulfonamidopyrazolotriazole, α-Sulfonamidoketone und Hydra zine.

Die Reduktionsmittel (wozu Verbindungen gehören, die als Ent wicklungsmittel oder Hydrazinderivat bezeichnet werden) sind in den japanischen Patenten 61(1986) -183640, Nr. 61(1986)- 183535, Nr. 61(1986) -228441, Nr. 62(1987)-70836, Nr. 61(1987)- 86354, Nr. 62(1987)-86355, Nr. 62(1987) -206540, Nr. 62(1987)- 264041, Nr. 62(1987)-109437 und Nr. 63(1988)-254442 und den japanischen Patentanmeldungen Nr. 63 (1988)-97379, Nr. 63(1988)-296774, Nr. 63(1988)-296775, Nr. 1(1989)-27175, Nr. 1(1989)-54101 und Nr. 1(1989)-91162 beschrieben. Die Reduk tionsmittel sind auch in T. James, The Theory of the Photogra phic Process, 4. Ausgabe, Seiten 291 bis 334 (1977), Research Disclosure, Band 170, Nr. 17029, Seiten 9 bis 15 (Juni 1978) und Research Disclosure, Band 176, Nr. 17643, Seiten 22 bis 31 (Dezember 1978) beschrieben. Ferner steht auch ein Reduktions mittelvorläufer zur Verfügung. Der Vorläufer kann ein Reduk tionsmittel bei Erwärmen oder in Kontakt mit einer Base frei setzen.

Wenn das Reduktionsmittel basisch ist, d. h. ein Salz mit einer Säure bildet, kann das Reduktionsmittel in Form eines Salzes mit einer Säure verwendet werden. Die Reduktionsmittel können einzeln oder in Kombination verwendet werden. Bestimmte Wech selwirkungen zwischen diesen Reduktionsmitteln sind zu erwar ten, wenn zwei oder mehr Reduktionsmittel in Kombination ver wendet werden. Eine der Wechselwirkungen ist eine Beschleuni gung der Reduktion von Silberhalogenid (oder von einem organi schen Silbersalz) durch sogenannte Superadditivität. Die an dere Wechselwirkung betrifft eine Kettenreaktion zwischen ei ner oxidierten Form (oder einem Oxidationsprodukt) des einen Reduktionsmittels, das durch Reduktion von Silberhalogenid (oder von einem organischen Silbersalz) durch eine Oxidations- Reduktions-Reaktion gebildet ist, und einem anderen Reduk tionsmittel. Die Kettenreaktion induziert oder hemmt die Poly merisation der polymerisierbaren Verbindung. Beide Wechselwir kungen können gleichzeitig auftreten. Folglich ist es schwie rig zu bestimmen, welche der Wechselwirkungen beim Einsatz in der Praxis aufgetreten ist.

Das Reduktionsmittel wird in einer Menge von 0,1 bis 10 Mol und mehr bevorzugt 0,25 bis 2,5 Mol, bezogen auf 1 Mol Silber halogenid, verwendet.

Durch Einstellen der Art oder Menge des vorstehenden Reduk tionsmittels kann die polymerisierbare Verbindung oder das vernetzbare Polymer in dem Bereich gehärtet werden, wo ein latentes Bild aus dem Silberhalogenid gebildet worden ist.

Das Reduktionsmittel selbst kann oxidiert werden, um ein Oxidationsprodukt zu bilden, wenn das Reduktionsmittel Silber halogenid entwickelt. In dem Fall, daß das Oxidationsprodukt in der Schicht unter Bildung eines Radikals zersetzt wird, läuft eine Polymerisationsreaktion in dem Bereich ab, wo das latente Bild aus Silberhalogenid gebildet worden ist. In die sem System werden vorzugsweise Hydrazine als Reduktionsmittel verwendet.

Andererseits kann das Reduktionsmittel selbst oder das Oxidationsprodukt eine die Polymerisation hemmende Wirkung haben. In diesem Fall bildet das Oxidationsprodukt im wesent lichen kein Radikal. Eine Polymerisation wird durch einen Polymerisationsinitiator in dem Bereich hervorgerufen, wo das latente Bild aus Silberhalogenid nicht gebildet worden ist (in dem Fall, daß die hemmende Wirkung des Oxidationsprodukts stärker ist als die der Reduktionsmittel) oder wo das latente Bild aus Silberhalogenid gebildet worden ist (in dem Fall, daß die hemmende Wirkung des Reduktionsmittels stärker ist als die der Oxidationsprodukte). In diesen Systemen werden 1-Phenyl-3- pyrazolidone und Hydrochinone vorzugsweise als Reduktionsmit tel verwendet. Weiterhin sollte der folgende Polymerisations initiator in dem lichtempfindlichen Material dieser Systeme enthalten sein.

Polymerisationsinitiator

Ein thermischer Polymerisationsinitiator bildet ein freies Radikal durch Wärme. Das Radikal wird an die polymerisierbare Verbindung oder der vernetzbare Polymer addiert.

Der thermische Polymerisationsinitiator ist beschrieben in Addition Polymerization and Ring Opening Polymerization, Seiten 6 bis 18, herausgegeben von the Editorial Committee of High Polymer Experimental Study of the High Polymer Institute, veröffentlicht von Kyoritsu Shuppan (1983). Zu Beispielen für die thermischen Polymerisationsinitiatoren gehören Azoverbin dungen (z. B. Azobisisobutyronitril, 1,1′-Azobis(1-cyclohexan carbonitril)) und Peroxide.

Ein Photopolymerisationsinitiator bildet ein freies Radikal durch Licht. Das Radikal wird an die polymerisierbare Verbin dung oder das vernetzbare Polymer addiert.

Der Photopolymerisationsinitiator ist beschrieben in Oster et al., Chemical Review, Band 68, Seiten 125 bis 151 (1968), Kosar, Light-Sensitive System, Seiten 158 bis 193, John Wiley & Sons (1965), japanische Patente Nr. 61(1986)-75342 und Nr. 2(1990) -207254. Zu Beispielen für den Photopolymerisations initiator gehören Carbonylverbindungen, halogenhaltige Verbin dungen, Redoxpaare aus einem photoreduzierbaren Farbstoff und einem Reduktionsmittel, organische Schwefelverbindungen, Per oxide, Photohalbleiter und Metallverbindungen.

Der Polymerisationsinitiator wird in einer Menge von vorzugs weise 0,001 bis 0,5 g und mehr bevorzugt 0,01 bis 0,2 g, bezo gen auf 1 g der Gesamtmenge der polymerisierbaren Verbindung und des vernetzbaren Polymers, verwendet.

Polymerisierbare Verbindung

Die in der vorliegenden Erfindung verwendete polymerisierbare Verbindung hat eine ethylenisch ungesättigte Gruppe.

Zu Beispielen für die ethylenisch ungesättigten polymerisier baren Verbindungen gehören Acrylsäuren, Salze von Acrylsäuren, Acrylester, Acrylamide, Methacrylsäuren, Salze von Methacryl säuren, Methacrylester, Methacrylamide, Maleinsäureanhydrid, Maleinsäureester, Itaconsäureester, Styrole, Vinylether, Vinylester, heterocyclische N-Vinyl-Verbindungen, Allylether, Allylester und Derivate davon. Acrylester und Methacrylester sind bevorzugt.

Zu Beispielen für die Acrylester gehören Pentaerythrit-tetra acrylat, Trimethylolpropan-triacrylat, Dipentaerythrit hexaacrylat, Polyesteracrylat und Polyurethanacrylat.

Die polymerisierbare Verbindung ist vorzugsweise in der Aus härtschicht in einer Menge von 3 bis 90 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Aushärtschicht, enthalten. Die Menge liegt mehr bevorzugt im Bereich von 15 bis 60 Gew. -%. Zwei oder mehr polymerisierbare Verbindungen können in Kombination verwendet werden.

In der Aushärtschicht enthaltenes Polymer

Die Aushärtschicht kann ein vernetzbares Polymer enthalten. Das vernetzbare Polymer kann in Kombination mit einem weiteren (nichtvernetzbaren) Polymer verwendet werden.

Das vernetzbare Polymer hat vorzugsweise eine ethylenisch ungesättigte Bindung in seiner Hauptkette oder Seitenkette. Das Polymer kann ein Copolymer mit einem weiteren Monomer sein.

Zu Beispielen für das Polymer mit einer ethylenisch ungesät tigten Bindung in seiner Hauptkette gehören Poly-1,4-butadien, Poly-1,4-isopren und natürliche oder synthetische Kautschuke.

Zu Beispielen für das Polymer mit einer ethylenisch ungesät tigten Bindung in seiner Seitenkette gehören Poly-1,2-butadien und Poly-1,2-isopren.

Ferner ist auch ein Polymer aus Acryl- oder Methacrylester oder -Amid mit einem spezifischen Rest als vernetzbares Poly mer verfügbar. Der spezifische Rest bedeutet R von -COOR (Ester) oder -CONHR (Amid). Zu Beispielen für die spezifischen Reste gehören -(CH₂)_n-CR¹=CR²R³, -(CH₂O)_n-CH₂CR¹=CR²R³, -(CH₂CH₂O)_n-CH₂CR¹=CR²R³, -(CH₂)_n-NH-CO-O-CH₂CR¹=CR²R³, -(CH₂)_n-O- CO-CR¹=CR²R³ und (CH₂CH₂O)_n-X. In den Formeln ist R¹, R² und R³ jeweils unabhängig Wasserstoff, ein Halogenatom, eine Alkyl gruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe und eine Aryloxy gruppe. Die Anzahl der in R¹, R² oder R³ enthaltenen Kohlen stoffatome beträgt nicht mehr als 20. R¹ und R² oder R³ können miteinander verbunden sein, um einen Ring zu bilden. In den Formeln ist n eine ganze Zahl von 1 bis 10. X ist Dicyclo pentadienyl. Zu Beispielen für die Esterreste gehören -CH₂CH₂O-CH₂CH=CH₂, -CH₂C(CH₃)=CH₂, -CH₂CH=CH-C₆H₅, -CH₂CH₂OCOCH=CH-C₆H₅, -CH₂CH₂-NHCOO-CH₂CH=CH₂ und -CH₂CH₂O-X (worin X Dicyclopentadienyl ist). Zu Beispielen für die Amidreste gehören -CH₂CH=CH₂, -CH₂CH₂-1-Y (worin Y Cyclohexen ist) und -CH₂CH₂-OCO-CH=CH₂.

Das vernetzbare Polymer wird durch Addieren eines freien Radi kals an die ungesättigte Bindung (oder Gruppe) gehärtet. Das freie Radikal wirkt als Polymerisationsinitiator oder Ketten verlängerer. Die Polymere werden miteinander direkt oder durch eine Kettenreaktion einer polymerisierbaren Verbindung ver netzt. Das Polymer kann auch durch eine Reaktion von Polymer radikalen vernetzt werden, welche durch Abspalten eines Atoms der Polymere (z. B. eines Wasserstoffs, der an einen der unge sättigten Bindung benachbarten Kohlenstoff gebunden ist) durch ein freies Radikal gebildet werden.

Zu Beispielen für die nichtvernetzbaren Polymere gehören Polyacrylester, Polymethacrylester, Polyvinylacetat, Poly vinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Polyacrylnitril, Poly methacrylnitril, Polyethylen, Polyvinylpyridin, Polyvinyl imidazol, Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, Polyvinyl pyrrolidon, chloriertes Polyethylen, chloriertes Polypropylen, Polyester, Polyamide, Polyurethane, Polycarbonate, Ethyl cellulose, Triacetylcellulose, Diacetylcellulose und Cellu loseacetatbutyrat. Ein Copolymer steht ebenfalls zur Verfü gung. Zwei oder mehr wiederkehrende Einheiten der obenerwähn ten Polymere können verwendet werden, um das Copolymer zu bil den.

Es stehen synthetische Homopolymere und Copolymere, die durch eine Additionsreaktion gebildet werden, (einschließlich ver schiedener Vinylpolymere) zur Verfügung. Synthetische Homo polymere und Copolymere, die durch eine Kondensationsreaktion gebildet sind (einschließlich Polyester, Polyamide, Poly urethane und gemischte Polymere davon) sind ebenfalls verfüg bar.

In dem Fall, daß eine alkalische Lösung verwendet wird, um den nichtgehärteten Bereich zu entfernen, enthält das in der Aus härtschicht verwendete Polymer vorzugsweise eine saure funk tionelle Gruppe in seinem Molekül. Zu Beispielen für die sau ren funktionellen Gruppen gehören Carboxyl, eine Säurean hydridgruppe, phenolisches Hydroxyl, Sulfo, Sulfonamido und Sulfonimido. Zu Beispielen für die sauren Monomere gehören Acrylsäure, Methacrylsäure, Styrolsulfonsäure und Maleinsäu reanhydrid. Die Menge des Monomers mit der sauren funktionel len Gruppe liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 60 Mol% und mehr bevorzugt im Bereich von 5 bis 40 Mol%.

Das Polymer der Aushärtschicht ist am meisten bevorzugt ein Copolymer, das aus einem Monomer mit einer vernetzbaren Gruppe und einem Monomer mit einer sauren Gruppe besteht.

Das Molekulargewicht des Polymers liegt vorzugsweise im Be reich von 1000 bis 500 000. Zwei oder mehr Polymere können in Kombination verwendet werden. Der Gehalt des Polymers in der Aushärtschicht liegt vorzugsweise im Bereich von 10 bis 90 Gew.-% und mehr bevorzugt im Bereich von 30 bis 80 Gew.-%.

Hydrophiles Polymer

Ein hydrophiles Polymer wird vorzugsweise als Bindemittel zu einer hydrophilen Schicht wie einer lichtempfindlichen Schicht oder einer Überzugsschicht zugegeben.

Das hydrophile Bindemittel hat eine hydrophile Gruppe oder eine hydrophile Bindung in seinem Molekül. Zu Beispielen für die hydrophile Gruppe gehören Carboxyl, Hydroxyl (ein schließlich Alkohol und Phenol), Sulfo, Sulfonamido, Sulfonimido und Amido. Zu Beispielen für die hydrophile Bindung gehören die Urethanbindung, Etherbindung und Amido bindung.

Das hydrophile Bindemittel ist vorzugsweise in Wasser löslich oder quillt in Wasser. Das Polymer, das in Wasser quillt, hat eine Affinität zu Wasser, ist aber wegen der vernetzten Struk tur des Polymers nicht in Wasser löslich.

Die natürlichen oder synthetischen Polymere können als hydro philes Bindemittel verwendet werden. Die hydrophilen Polymere sind in dem japanischen Patent Nr. 5(1993)-249667 beschrieben.

Als hydrophiles Polymer wird vorzugsweise Polyvinylalkohol verwendet. Polyvinylalkohol hat vorzugsweise einen hohen Ver seifungsgrad von nicht weniger als 50%, mehr bevorzugt von nicht weniger als 80%, um den Sauerstoffdurchlässigkeits koeffizienten herabzusetzen.

Ein copolymerisierter Vinylalkohol ist verfügbar. Ein Copoly mer aus Vinylacetat und einem weiteren Monomer wird verseift, um den denaturierten Polyvinylalkohol zu bilden. Zu Beispielen für das Monomer, das mit dem Vinylacetat copolymerisiert wird, gehören Ethylen, ein höheres Vinylcarboxylat, ein höherer Alkyivinylether, Methylmethacrylat und Acrylamid.

Polyvinylalkohol kann auch nach der Verseifung denaturiert werden. Hydroxylgruppen in Polyvinylalkohol können durch Veretherung, Veresterung oder Acetylierung modifiziert werden.

Ein vernetzter Polyvinylalkohol ist ebenfalls verfügbar. Zu Beispielen für die Vernetzungsmittel gehören Aldehyd, Methyl olverbindungen, Diisocyanat, Divinylverbindungen, Dicarbon säuren und anorganische Mittel (z. B. Borate, Titan und Kupfer).

Das Molekulargewicht des hydrophilen Polymers liegt vorzugs weise im Bereich von 3000 bis 500 000. Das hydrophile Polymer bindemittel wird vorzugsweise in einer Menge im Bereich von 0,05 g bis 20 g/m² und mehr bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 10 g/m² verwendet.

Gelatine kann in Kombination mit einem weiteren hydrophilen Polymer in einer lichtempfindlichen Schicht, welche Silber halogenid enthält, verwendet werden. In diesem Fall ist der Unterschied zwischen dem pH-Wert der Schicht und dem isoelek trischen Punkt der Gelatine vorzugsweise größer als 1,2.

Basenvorläufer

Das lichtempfindliche Material enthält vorzugsweise einen Basenvorläufer.

Zu bevorzugten Beispielen für die Basenvorläufer gehören Salze von organischen Säuren mit Basen, welche beim Erwärmen decarboxyliert werden, und Harnstoffverbindungen, welche beim Erwärmen Basen freisetzen. Zu Beispielen für die Reaktions mechanismen des Basenvorläufers gehören eine Reaktion zwischen dem Basenvorläufer und einem Salz, welches ein Anion enthält, das eine höhere Verträglichkeit mit Übergangsmetallacetylid oder Übergangsmetallionen hat als ein Acetylidanion, und eine Reaktion, bei der sowohl eine basische Metallverbindung, die in Wasser kaum aufgelöst werden kann, als auch eine Verbin dung, die mit dem Metallion der basischen Metallverbindung in einem wäßrigen Medium reagieren kann, um ein Komplexsalz zu bilden, in Wasser eingebracht werden, so daß eine Base durch eine Reaktion zwischen diesen zwei Verbindungen in Gegenwart von Wasser freigesetzt wird.

Der Basenvorläufer setzt vorzugsweise eine Base bei einer Temperatur im Bereich von 50 bis 200°C und mehr bevorzugt im Bereich von 80 bis 160°C frei. Der Basenvorläufer liegt vor zugsweise in Form eines wasserunlöslichen Salzes vor.

Der Basenvorläufer kann in einer Menge von vorzugsweise 0,1 bis 20 Mol und mehr bevorzugt 0,2 bis 10 Mol, bezogen auf 1 Mol Silberhalogenid, verwendet werden.

Wärmeentwicklungsbeschleuniger

Das lichtempfindliche Material kann einen Wärmeentwicklungsbe schleuniger enthalten. Der Wärmeentwicklungsbeschleuniger kann in jeder Schicht des lichtempfindlichen Materials enthalten sein. Der Wärmeentwicklungsbeschleuniger hat die Wirkung, die Verformbarkeit eines Polymers (welches in der Aushärtschicht oder der lichtempfindlichen Schicht enthalten ist) zu erhöhen. Der Beschleuniger hat die weitere Wirkung, die Dispersion der Bestandteile in den Schichten zu beschleunigen, wenn er durch die Wärme des Entwicklungsverfahrens gelöst wird.

Der Wärmeentwicklungsbeschleuniger ist als Weichmacher be kannt. Die bekannten Weichmacher sind beschrieben in Plastic Additives (in japanischer Sprache geschrieben), Seiten 21 bis 63 (Taisei-sha); Plastics Additives, zweite Auflage; Hanser Publishers, Kapitel 5, Seiten 251 bis 296; Thermoplastic Additives, Marcel Dekker Inc., Kapitel 9, Seiten 345 bis 379; Plastic Additives, An Industrial Guide, Noyes Publications, Abschnitt 14, Seiten 333 bis 485: Technology of Solvents and Plasticizers, John Wiley & Sons, Inc., Kapitel 15, Seiten 903 bis 1027; Industrial Plasticizers, Pergamon Press; Plasticizer Technology, Band 1, Reinhold Publishing corp.; und Plasticization and Plasticizer Process, American Chemistry.

Zu Beispielen für den Wärmeentwicklungsbeschleuniger gehören Glycole (z. B. Diethylenglycol, Dipropylenglycol), mehrwertige Alkohole (z. B. Glycerin, Butandiol, Hexandiol), Saccharide, Formiate, Harnstoffe (z. B. Harnstoff, Diethylharnstoff, Ethylenharnstoff, Propylenharnstoff), ein Harnstoffharz, ein Phenolharz, Amide (z. B. Acetamid, Propionamid) und Sulfon amide. Zwei oder mehr Wärmeentwicklungsbeschleuniger können in Kombination verwendet werden. Die Wärmeentwicklungsbeschleuni ger können zu zwei oder mehr Schichten des lichtempfindlichen Materials zugegeben werden.

Die Menge des Wärmeentwicklungsbeschleunigers liegt vorzugs weise im Bereich von 0,05 bis 2 g/m² und mehr bevorzugt im Be reich von 0,1 bis 1 g/m².

Färbemittel

Das lichtempfindliche Material kann ein Färbemittel enthalten. Das Färbemittel kann als Lichthofschutz- oder Antibestrah lungsfarbstoffwirken. Weiterhin kann ein gehärtetes Bild durch das Färbemittel gefärbt werden. Verschiedene bekannte Farbstoffe und Pigmente sind als Färbemittel verfügbar, vor ausgesetzt, daß das Färbemittel nicht die Empfindlichkeit und die Entwicklungsreaktion von Silberhalogenid beeinträchtigt. Das Färbemittel kann in der Aushärtschicht enthalten sein, wenn das Färbemittel verwendet wird, um als Lichthofschutz farbstoff zu wirken oder um ein gehärtetes Bild zu färben. Das Färbemittel kann auch in der lichtempfindlichen Schicht ent halten sein, wenn das Färbemittel verwendet wird, um als Anti bestrahlungsfarbstoff zu wirken. Der Ton des Lichthofschutz- oder Antibestrahlungsfarbstoffs wird vorzugsweise so einge stellt; daß er in dem empfindlichen Lichtbereich von Silber halogenid liegt.

Die Pigmente sind in verschiedenen Veröffentlichungen wie z. B. dem japanischen Patent Nr. 5(1993)-249667, Handbook of Color Index und New Handbook of Pigments, Nippon Ganryo Gÿutsu Kyokai (1977) beschrieben.

Die Antibestrahlungsfarbstoffe sind in den japanischen Paten ten Nr. 41(1966) -20389, Nr. 43(1968)-3504, Nr. 43(1968)-13168, Nr. 2(1990)-39042, den US-Patenten Nr. 2,865,752, Nr. 3,423,207, Nr. 3,697,037 und den britischen Patenten Nr. 1,030,392, Nr. 1,100,546 beschrieben.

Die Menge des Färbemittels liegt üblicherweise im Bereich von 0,01 bis 2 g/m² und vorzugsweise im Bereich von 0,05 bis 1 g/m².

Die weiteren Zusätze

Das lichtempfindliche Material kann weitere Zusätze wie ein Antischleiermittel, einen Silberentwicklungsbeschleuniger und einen Stabilisator enthalten. Zu Beispielen für diese Verbin dungen gehören Azole, Azaindene, stickstoffhaltige Carbon säuren, Phosphorsäuren, Acetylenverbindungen und Sulfonamide. Die Azole und die Azaindene sind beschrieben in Research Disclosure Seiten 24 bis 25 (1978). Die stickstoffhaltigen Carbonsäuren und die Phosphorsäuren sind beschrieben in dem japanischen Patent Nr. 59(1984)-168442. Die Acetylenverbindun gen sind beschrieben in dem japanischen Patent Nr. 62(1987)- 87957. Die Sulfonamide sind beschrieben in dem japanischen Patent Nr. 61(1987)-178232.

Eine aromatische Mercaptoverbindung (mit einem Kohlenstoffring oder heterocyclischen Ring) kann ebenfalls als Antischleier mittel oder Entwicklungsbeschleuniger verwendet werden. Eine aromatische heterocyclische Mercaptoverbindung, insbesondere ein Mercaptotriazolderivat, ist bevorzugt. Die Mercaptoverbin dung kann in Form eines Mercaptosilbers (Silbersalz) verwendet werden.

Diese Verbindungen werden im allgemeinen in einer Menge von 10^-7 bis 1 Mol, bezogen auf 1 Mol des Silberhalogenids, ver wendet.

Entwicklungsunterbrechermittel

Das Entwicklungsunterbrechermittel kann in dem lichtempfindli chen Material verwendet werden, um gleichbleibend ein klares Bild zu erhalten, ungeachtet der Temperatur und Dauer des Ent wicklungsverfahrens. Das Entwicklungsunterbrechermittel kann eine Verbindung sein, welche die Wirkung hat, eine Base zu neutralisieren oder mit einer Base zu reagieren, um die Basen konzentration in der Schicht herabzusetzen, um die Entwicklung anzuhalten. Das Mittel kann auch eine Verbindung sein, welche die Wirkung hat, wechselseitig mit Silber oder einem Silber salz zu reagieren, um, nach einer entsprechenden Entwicklung, die Entwicklung zu unterdrücken. Zu Beispielen für die Ent wicklungsunterbrechermittel gehören Säurevorläufer, welche Säuren beim Erwärmen freisetzen können, elektrophile Verbin dungen, die eine Substitutionsreaktion mit einer gleichzeitig vorhandenen Base beim Erwärmen eingehen können, stickstoffhal tige heterocyclische Verbindungen, Mercaptoverbindungen und Vorläufer davon. Das Entwicklungsunterbrechermittel ist in den japanischen Patenten Nr. 62(1987)-253159, Nr. 2(1990) -42447 und Nr. 2(1990)-262661 beschrieben.

Oberflächenaktives Mittel

Ein oberflächenaktives Mittel kann in einer Schicht des licht empfindlichen Materials enthalten sein. Es stehen verschiedene nichtionische, anionische, kationische oder fluorhaltige ober flächenaktive Mittel zur Verfügung. Das oberflächenaktive Mit tel ist in dem japanischen Patent Nr. 2(1990)-195356 beschrie ben. Sorbitan, Polyoxyethylen und eine fluorhaltige Verbindung sind bevorzugt.

Mattierungsmittel

Ein Mattierungsmittel kann einer Rückschicht, einer Überzugs schicht oder einer bilderzeugungsbeschleunigenden Schicht zu gegeben werden, um die Anhaftung zwischen zwei lichtempfindli chen Materialien zu verhindern, wenn die Materialien überein ander zu liegen kommen.

Als das Mattierungsmittel stehen anorganische oder organische Feststoffteilchen zur Verfügung. Die Teilchen sind in der Silberhalogenidphotographie gut bekannt.

Zu Beispielen für die Mattierungsmittel gehören Oxide (z. B. Siliciumdioxid), Erdalkalimetallsalze, natürliche Polymere (z. B. Stärke, Cellulose) und synthetische Polymere.

Die durchschnittliche Teilchengröße des Mattierungsmittels liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 50 µm. Die Menge des Mattierungsmittels liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 1 g/m², und mehr bevorzugt im Bereich von 0,1 bis 0,7 g/m².

Polymerisationsinhibitor

Ein Polymerisationsinhibitor kann der Aushärtschicht zugegeben werden, um die Dunkelreaktion zu verhindern. Es stehen ver schiedene bekannte Polymerisationsinhibitoren zur Verfügung. Zu Beispielen für die Polymerisationsinhibitoren gehören Nitrosamine, Harnstoffe, Thioharnstoffe, Thioamide, Phenol derivate und Amine.

Belichtungsschritt

Die Wellenlänge des Lichts entspricht der spektralen Empfind lichkeit von Silberhalogenid. Zu Beispielen für die Lichtquel len gehören eine Wolframlampe, eine Halogenlampe, eine Xenon lampe, eine Xenonblitzlampe, eine Quecksilberlampe, eine Kohlebogenlampe, verschiedene Lasermittel (z. B. Halbleiter laser, Helium-Neon-Laser, Argonionenlaser, Helium-Cadmium- Laser), Leuchtdioden und eine Kathodenstrahlröhre. Die Wellen länge liegt üblicherweise im sichtbaren Bereich, nahen Ultra violettbereich und nahen Infrarotbereich. Ein Röntgenstrahl und ein Elektronenstrahl stehen ebenfalls zur Verfügung.

Die Belichtungsmenge liegt üblicherweise im Bereich von 0,01 bis 10 000 Erg/cm² und vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 1000 Erg/cm². Das lichtempfindliche Material kann durch einen transparenten Träger hindurch belichtet werden.

Die Belichtung von Silberhalogenid, nämlich die Bildung eines latenten Bildes wird durch die Temperatur und Feuchtigkeit beim Belichtungsschritt beeinflußt. Dementsprechend hängt die Empfindlichkeit von der Temperatur und Feuchtigkeit ab. Des halb werden die Temperatur und die Feuchtigkeit in der Umge bung der Lichtquelle und des lichtempfindlichen Materials vor zugsweise auf konstante Werte eingestellt. Eine bildaufzeich nende Vorrichtung mit einer Regeleinrichtung ist in den japa nischen Patenten Nr. 3(1991)-63143 und Nr. 3(1991)-63637 offenbart.

Genauer gesagt wird die Temperatur vorzugsweise innerhalb ei nes Bereichs einer konstanten Temperatur ± 5°C eingestellt, welcher vorzugsweise in dem Bereich von 5 bis 40°C und mehr bevorzugt im Bereich von 10 bis 35°C liegt. Die Feuchtigkeit in einer Vorrichtung, welche das lichtempfindliche Material und ein optisches System enthält, wird ebenfalls vorzugsweise in der gleichen Weise eingestellt. Die Feuchtigkeit liegt vor zugsweise im Bereich von 10 bis 80% RH (relative Feuchtig keit), mehr bevorzugt im Bereich von 15 bis 75% RH, und am meisten bevorzugt im Bereich von 25 bis 70% RH.

Entwicklungsschritt

Das lichtempfindliche Material wird gleichzeitig mit oder nach dem Belichtungsschritt entwickelt. Das lichtempfindliche Mate rial wird vorzugsweise erwärmt, um das Silberhalogenid zu ent wickeln. Es ist jedoch auch eine Naßentwicklung unter Verwen dung einer Entwicklungslösung verfügbar.

Die Wärmeentwicklung kann ausgeführt werden, indem das licht empfindliche Material auf ein erwärmtes Material (z. B. eine Metallplatte, einen Block oder eine Walze) gegeben wird. Das lichtempfindliche Material kann in eine erwärmte Flüssigkeit zur Entwicklung eingetaucht werden. Ferner kann das lichtemp findliche Material mit Infrarotstrahlen bestrahlt werden. Die Oberfläche des lichtempfindlichen Materials kann für die Luft frei zugänglich sein, während das Material von der Seite des Trägers her erwärmt wird. Die Oberfläche des lichtempfindli chen Materials kann mit dem Mittel zum Erwärmen bedeckt sein, um zu verhindern, daß die Luft in die Schichten eindringt. In dem Fall, daß die Oberfläche für die Luft frei zugänglich ist, enthält eine Schicht des lichtempfindlichen Materials vorzugs weise ein Polymer, welches bewirkt, daß die Luft daran gehin dert wird, in die Schichten einzudringen.

Die Erwärmungstemperatur liegt vorzugsweise im Bereich von 60 bis 150°C und mehr bevorzugt im Bereich von 100 bis 135°C. Die Dauer der Erwärmung liegt vorzugsweise im Bereich von 1 bis 180 Sekunden und mehr bevorzugt im Bereich von 5 bis 60 Sekun den.

Eine Vorwärmbehandlung oder Nachwärmbehandlung kann vor oder nach der Wärmeentwicklung durchgeführt werden. Die Temperatur der Vorwärmung ist niedriger als die Wärmeentwicklungstempera tur, und die Zeitdauer ist kürzer als die Dauer der Entwick lung. Die Nachwärmbehandlung kann durchgeführt werden, nachdem das Bild erzeugt worden ist, z. B. nach der Entfernung der un gehärteten Aushärtschicht.

In dem System, in welchen der nichtbelichtete Bereich gehärtet wird, ist vorzugsweise ein thermischer Polymerisationsinitia tor oder Photopolymerisationsinitiator in dem lichtempfindli chen Material enthalten. Wenn ein thermischer Polymerisa tionsinitiator verwendet wird, kann der Initiator bei der Wärmeentwicklung die gleichmäßige Bildung eines Initiator radikals bewirken. Wenn der Photopolymerisationsinitiator verwendet wird, wird das lichtempfindliche Material nach dem Entwicklungsschritt gleichmäßig belichtet. Die Lichtquelle wird auf der Basis der empfindlichen Wellenlänge des Photo polymerisationsinitiators bestimmt. Beispiele für die Licht quellen sind beim Belichtungsschritt beschrieben. Die Belich tungsmenge liegt gewöhnlich im Bereich von 10³ bis 10⁷ Erg/cm².

Entfernungsschritt

Der nichtgehärtete Bereich kann auf der Grundlage eines Unter schieds der Löslichkeit zwischen dem gehärteten Bereich und dem nichtgehärteten Bereich selektiv entfernt werden, um ein Polymerbild zu erzeugen.

Nach der Wärmeentwicklung wird das lichtempfindliche Material in ein Lösungsmittel (eine Ätzlösung) eingetaucht, um den Ent fernungsschritt auszuführen. Ein organisches Lösungsmittel, eine wäßrige alkalische Lösung und ein Gemisch davon stehen als das Lösungsmittel zur Verfügung. Das Lösungsmittel sollte die Wirkung haben, den nichtgehärteten Bereich aufzulösen oder zu quellen. Zu Beispielen für die alkalische Verbindung gehö ren Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumcarbonat, Natrium silicat, Kaliumsilicat, Natriummetasilicat, Kaliummetasilicat, Natriumphosphat, Kaliumsilicat, Ammoniak und Aminoalkohole (z. B. Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin). Vor zugsweise wird ein organisches Lösungsmittel einer wäßrigen Ätzlösung zugegeben. Die organische Flüssigkeit ist vorzugs weise ein Alkohol oder ein Ether. Zu Beispielen für die Alko hole gehören niedere Alkohole (z. B. Methanol, Ethanol, Pro panol, Butanol), Alkohole mit einer aromatischen Gruppe (z. B. Benzylalkohol, Phenethylalkohol), mehrwertige Alkohole (z. B. Ethylenglycol, Diethylenglycol, Triethylenglycol, Polyethy- lenglycol) und Aminoalkohole, die vorstehend als alkalische Verbindungen beschrieben wurden. Beispiele für die Ether sind Cellosolven. Das Lösungsmittel kann weiterhin die anderen Zusätze wie etwa ein oberflächenaktives Mittel und ein Ent schäumungsmittel enthalten. Im Handel erhältliche Entwick lungslösungen stehen ebenfalls zur Verfügung. Vor dem Entfer nungsschritt können eine lichtempfindliche Schicht oder andere hydrophile Schichten durch Waschen des lichtempfindlichen Materials mit Wasser oder Abziehen der hydrophilen Schichten entfernt werden.

Der Entfernungsschritt kann auch durch eine Folie ausgeführt werden, was auf einer unterschiedlichen Anhaftung des gehärte ten Bereichs und des nichtgehärteten Bereichs an die Folie beruht. Der gehärtete Bereich oder der nichtgehärtete Bereich verbindet sich selektiv mit der Entfernungsfolie. Ein Bild kann auf dem auf dem lichtempfindlichen Material verbleibenden Bereich gebildet werden. Die Entfernungsfolie kann vor dem Belichtungsschritt oder dem Entwicklungsschritt auf das licht empfindliche Material laminiert werden.

Übertragungsschritt

Das erhaltene Bild kann auf ein Bildempfangsmaterial übertra gen werden, wobei dies auf einer unterschiedlichen Anhaftung des gehärteten Bereichs und des nichtgehärteten Bereichs an das Bildempfangsmaterial beruht. Das Bildempfangsmaterial kann vor dem Belichtungsschritt oder dem Entwicklungsschritt auf das lichtempfindliche Material laminiert werden.

Tonschritt

Eine gefärbte Substanz (Toner) kann mit dem gehärteten Bereich oder dem nichtgehärteten Bereich verbunden werden. Der Toner kann selektiv mit dem nichtgehärteten Bereich verbunden wer den, wobei dies auf einer unterschiedlichen Anhaftung des ge härteten Bereichs und des nichtgehärteten Bereichs an den Toner beruht. Nachdem der gehärtete Bereich oder der nichtge härtete Bereich entfernt worden ist, kann der Toner mit dem verbleibenden Bereich verbunden werden. Weiterhin kann der Toner mit einer Haftschicht verbunden werden, nachdem der ge härtete Bereich oder nichtgehärtete Bereich auf der Haft schicht selektiv entfernt worden ist. Außerdem kann der Toner mit einem Bildempfangsmaterial verbunden werden, nachdem der gehärtete Bereich oder nichtgehärtete Bereich selektiv auf das Bildempfangsmaterial überführt worden ist.

Trocknungsschritt

Der gehärtete Bereich oder der nichtgehärtete Bereich kann selektiv gefärbt werden, um ein sichtbares Bild zu erzeugen. Der Färbeschritt kann auch an einem Bildempfangsmaterial aus geführt werden, nachdem der gehärtete Bereich oder nichtgehär tete Bereich selektiv auf das Bildempfangsmaterial übertragen worden ist.

Das erhaltene Bild kann als vorsensibilisierte Platte, als Farbprobeabzug, als Hardcopy oder als Reliefbild vorliegen.

Beispiel 1 Herstellung eines Kunststoffträgers

Eine Mattierungsschicht wurde auf einer Rückseite eines Poly ethylenterephthalatfilms mit einer Dicke von 200 µm ange bracht. Die Mattierungsschicht enthält Siliciumdioxidteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 5 µm.

Bildung einer hydrophilen Grundierungsschicht

Eine hydrophile Grundierungsschicht wurde auf der anderen Oberfläche (auf welcher die Mattierungsschicht nicht ange bracht wurde) des Kunststoffträgers angebracht. Die hydrophile Grundierungsschicht enthält Siliciumdioxidteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße von 7 µm in Gelatine (Bindemittel) dispergiert. Die Menge der Teilchen beträgt 15 Gew. -% der Menge der Gelatine. Die Dicke der Schicht betrug 4,0 µm.

Bildung der Aushärtschicht

Die folgende Überzugslösung wurde auf der Grundierungsschicht aufgetragen und getrocknet, um eine Aushärtschicht mit einer Trockendicke von 1,0 µm (Überzugsmenge: 1,3 g/m²) zu bilden.

Überzugslösung der Aushärtschicht
Dipentaerythrit-Hexaacrylat\|2,5 g
20 Gew.-% Propylenglycolmonomethylether-Lösung von Allylmethacrylat-Methacrylsäure-Copolymer (Copolymerisationsverhältnis = 83/17)	37,5 g
Die nachstehende Pigmentdispersion	13,0 g
Methylethylketon	74,0 g

Pigmentdispersion
Pigment (Chromofutal Red A2B, Ciba-Geigy)\|18 g
Benzylmethacrylat-Methacrylsäure-Copolymer (Copolymerisationsverhältnis = 80/20)	12 g
Cyclohexanon	30 g
Propylenglycolmonomethylether	40 g

Herstellung der Silberhalogenidemulsion

Gelatine, Kaliumbromid und Wasser wurden in ein Gefäß gegeben und auf 55°C gehalten. Eine entsprechende Menge Ammoniak wurde dem Gefäß zugegeben. Weiterhin wurde eine wäßrige Lösung von Silbernitrat und eine wäßrige Lösung von Kaliumbromid, welche Hexachloriridat(III)-salz enthielt (das Molverhältnis von Iri dium zu Silber beträgt 10^-7 Mol) mittels eines Doppelstrahl verfahrens in das Gefäß gegeben, wobei der pAg in dem Reak tionsgefäß auf 7,60 gehalten wurde. Weiterhin wurde eine Kaliumbromidlösung zu der Emulsion gegeben, um eine mono dispergierte Silberiodbromidemulsion (Silberiodidgehalt: 2 Mol%) zu erhalten. In der Emulsion haben 98% der Körner eine Größe innerhalb des Bereichs der durchschnittlichen Korngröße ± 40%.

Nach der Entsalzung der Emulsion wurde die Emulsion auf einen pH 6,2 und pAg 8,6 eingestellt. Die Emulsion wurde einer Gold- Schwefel-Sensibilisierung unter Verwendung von Natriumthio sulfat und Chlorgoldsäure unterzogen. Eine Methanollösung des folgenden Sensibilisierungsfarbstoffs (2 Mol pro Liter) wurde der Emulsion zugegeben. Die Menge der Methanollösung betrug 200 cm³ pro 1 kg der Emulsion. Die Emulsion wurde 15 min lang bei 60°C gerührt.

(Sensibilisierungsfarbstoff)

Herstellung der Dispersion des Reduktionsmittels

In 90 g einer 10 Gew.-%igen wäßrigen Polyvinylalkohollösung (PVA-205, Kuraray Co., Ltd.) wurde ein Pulver des nachstehen den Reduktionsmittels durch eine Dynomill-Dispergiervorrich tung dispergiert. Die durchschnittliche Teilchengröße des Reduktionsmittels betrug nicht mehr als 0,5 µm.

(Reduktionsmittel)

Herstellung einer Emulsion einer polymerisierbaren Verbindung

Zu 25 g einer 6 Gew.-%igen wäßrigen Polyvinylalkohollösung (PVA-420, Kuraray Co., Ltd.) wurden 0,4 g einer 5 Gew.-%igen wäßrigen Lösung des folgenden oberflächenaktiven Mittels zuge geben. In dem Gemisch wurden 3,0 g Dipentaerythrit-Hexaacrylat emulgiert, wobei ein Homogenisator verwendet wurde.

(Oberflächenaktives Mittel)

Bildung einer lichtempfindlichen Schicht

Die folgende Beschichtungslösung wurde auf die Aushärtschicht aufgetragen und getrocknet, um eine lichtempfindliche Schicht mit einer Trockendicke von 1,0 µm (Überzugsmenge: 1,2 g/m²) zu bilden.

Beschichtungslösung der lichtempfindlichen Schicht
Polyvinylalkohol (PVA-420, Verseifungsgrad: 79,5%, Kuraray Co., Ltd.)\|8,4 g
Die Emulsion der polymerisierbaren Verbindung	2,4 g
Die Dispersion des Reduktionsmittels	1,2 g
0,1 Gew.-%ige Methanollösung des folgenden Zusatzes	0,8 g
Die Silberhalogenidemulsion	0,5 g
Das oberflächenaktive Mittel	0,4 g
Wasser	6,3 g

(Zusatz)

Herstellung einer Dispersion eines Basenvorläufers

In 750 g einer 3 Gew. -%igen wäßrigen Lösung von Polyvinyl alkohol (PVA-205, Kuraray Co., Ltd.) wurden 250 g eines Pulvers des folgenden Basenvorläufers unter Verwendung einer Dynomill-Dispergiervorrichtung dispergiert.

(Basenvorläufer)

Bildung einer Überzugsschicht

Die folgende Beschichtungslösung wurde auf die lichtempfind liche Schicht aufgetragen und getrocknet, um eine Überzugs schicht mit einer Trockendicke von 4,0 µm (Beschichtungsmenge: 3,3 g/m²) zu bilden.

Beschichtungslösung der Überzugsschicht
Polyvinylalkohol (PVA-110, Verseifungsgrad: 98,5%, Kuraray Co., Ltd.)\|20,0 g
Dispersion des Basenvorläufers	1,25 g
5 Gew.-%ige wäßrige Lösung des oberflächenaktiven Mittels	4,0 g

Erzeugung eines Bildes und seine Bewertung

Das lichtempfindliche Material (vorsensibilisierte lithogra phische Platte) wurde 1 Sekunde lang unter Verwendung einer Wolframlampe mit 500 W durch einen 500 nm-Bandpaßfilter be lichtet. Der Kunststoffträger des lichtempfindlichen Materials wurde auf eine auf 140°C erwärmte Heizplatte gegeben (wobei die Oberfläche der Überzugsschicht für die Luft frei zugäng lich ist). Das lichtempfindliche Material wurde mit Wasser ge waschen, um die lichtempfindliche Schicht und die Überzugs schicht zu entfernen. Die Aushärtschicht wurde in eine wäßrige alkalische Lösung (Fuji Developing Solution DN-3C, Fuji Photo Film Co., Ltd.) 1 Minute lang eingetaucht, um die Aushärt schicht zu ätzen. Das lichtempfindliche Material wurde mit Wasser gewaschen, um ein rotes Polymer-Reliefbild in dem be lichteten Bereich der Aushärtschicht zu erzeugen.

Das erhaltene Reliefbild wurde als Druckplatte in einer Druck maschine (Drucker 611 XLA-II von Hamada Co., Ltd.) verwendet. Das Ergebnis war, daß ein klarer Ausdruck erhalten wurde. Eine Verfärbung des Hintergrunds des gedruckten Bildes trat kaum in Erscheinung.

Beispiel 2

Ein lichtempfindliches Material wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 hergestellt, mit der Ausnahme, daß eine Zwischenschicht zwischen der hydrophilen Grundierungsschicht und der Aushärtschicht angebracht wurde. Die Zwischenschicht bestand aus Gelatine. Die Dicke der Schicht betrug 0,5 µm.

Das lichtempfindliche Material wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 bewertet. Das Ergebnis war, daß ein klarer Aus druck erhalten wurde. Eine Verfärbung des Hintergrunds des ge druckten Bildes trat kaum in Erscheinung.

Beispiel 3

Ein lichtempfindliches Material wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 hergestellt, mit der Ausnahme, daß Silicium dioxidteilchen (durchschnittliche Teilchengröße: 0,1 µm) der Zwischenschicht zugegeben wurden.

Beispiel 4

Ein lichtempfindliches Material wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 2 hergestellt, mit der Ausnahme, daß Titan dioxidteilchen (durchschnittliche Teilchengröße: 0,2 µm) der hydrophilen Grundierungsschicht zugegeben wurden. Die Menge des Titandioxids betrug 5% der Menge des Siliciumdioxids.

Beispiel 5

Das lichtempfindliche Material, das in Beispiel 1 hergestellt wurde, wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 belichtet und entwickelt. Die lichtempfindliche Schicht und die Über zugsschicht wurden von dem lichtempfindlichen Material abgezo gen. Das lichtempfindliche Material wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 geätzt und bewertet. Das Ergebnis war, daß ein klarer Ausdruck erhalten wurde. Eine Verfärbung des Hintergrunds des gedruckten Bildes trat kaum in Erscheinung.

Claims

1. Lichtempfindliches Material, welches einen Kunststoff träger, eine Aushärtschicht und eine lichtempfindliche Schicht in dieser Reihenfolge umfaßt, wobei die Aushärt schicht eine ethylenisch ungesättigte polymerisierbare Verbindung oder ein vernetzbares Polymer enthält, die lichtempfindliche Schicht Silberhalogenid enthält und die Aushärtschicht oder die lichtempfindliche Schicht weiter hin ein Reduktionsmittel enthält, dadurch gekennzeichnet, daß eine hydrophile Grundierungsschicht zwischen dem Kunststoffträger und der Aushärtschicht angebracht ist, wobei die hydrophile Grundierungsschicht Feststoff teilchen in einem hydrophilen Bindemittel dispergiert umfaßt und die Feststoffteilchen eine durchschnittliche Teilchengröße im Bereich von 0,1 bis 10 µm haben.

2. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Feststoffteilchen in Form von Kristallen einer anorganischen Substanz vorliegen.

3. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Feststoffteilchen aus SiO₂, TiO₂ oder ZrO₂ sind.

4. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Feststoffteilchen aus SiO₂ sind.

5. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Feststoffteilchen in der hydro philen Grundierungsschicht in einer solchen Menge enthal ten sind, daß das Gewichtsverhältnis der Feststoffteil chen zu dem hydrophilen Bindemittel im Bereich von 0,1 bis 10 liegt.

6. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophile Bindemittel Gelatine ist.

7. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das hydrophile Bindemittel eine vernetzte Struktur hat.

8. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die vernetzte Struktur durch eine Reaktion des Bindemittels mit einem Härtungsmittel gebildet ist.

9. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Grundierungsschicht eine Dicke im Bereich von 0,1 bis 5 µm hat.

10. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche Material weiterhin eine zwischen der hydrophilen Grundierungs schicht und der Aushärtschicht angebrachte Zwischen schicht umfaßt, wobei diese Zwischenschicht ein hydro philes Bindemittel enthält.

11. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Zwischenschicht weiterhin Fest stoffteilchen mit einer durchschnittlichen Teilchengröße im Bereich von 0,1 bis 5 µm enthält.

12. Lichtempfindliches Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtempfindliche Material wei terhin eine auf einer lichtempfindlichen Schicht ange brachte Überzugsschicht umfaßt, wobei diese Überzugs schicht einen Basenvorläufer enthält.

13. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Platte umfassend die Schritte:
bildmäßiges Belichten eines lichtempfindlichen Materials, welches einen Kunststoffträger, eine Aushärtschicht und eine lichtempfindliche Schicht in dieser Reihenfolge um faßt, wobei die Aushärtschicht eine ethylenisch ungesät tigte polymerisierbare Verbindung oder ein vernetzbares Polymer enthält, die lichtempfindliche Schicht Silber halogenid enthält, und die Aushärtschicht oder die licht empfindliche Schicht weiterhin ein Reduktionsmittel ent hält, dadurch gekennzeichnet, daß eine hydrophile Grun dierungsschicht zwischen dem Kunststoffträger und der Aushärtschicht angebracht ist, wobei die hydrophile Grun dierungsschicht Feststoffteilchen in einem hydrophilen Bindemittel dispergiert umfaßt und die Feststoffteilchen eine durchschnittliche Teilchengröße im Bereich von 0,1 bis 10 µm haben;
Erwärmen des lichtempfindlichen Materials; und dann
Entfernen der lichtempfindlichen Schicht und des nicht gehärteten Bereichs der Aushärtschicht.