JP2806474B2 - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
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    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は感光性組成物に関するものであり、更に詳し
くは、ポジ型感光性平版印刷版に適した感光性組成物に
関するものである。 (従来の技術) ポジ型平版印刷版は親水性支持体上にインキ受容性の
感光層を設け、この感光層に画像露光を行い、ついで現
像することにより、画像部を残して、非画像部を除去し
画像を形成させる。実際に印刷する場合には画像部の親
油性と非画像部の親水性が利用されている。 ポジ型平版印刷版に実用化されている感光性組成物と
しては、o−キノンジアジド化合物と、皮膜強度とアル
カリ溶解性とを高めるための成分としてノボラック樹脂
やビニル系重合体樹脂のようなアルカリ可溶性樹脂が含
有されているものが挙げられる。 (発明が解決しようとする問題点) このような組成物を使用した感光性平刷印刷版に複数
のフィルム原稿を位置を変えて次々と焼き付けをする所
謂多面焼き付けを行う際、焼き付け時間の短縮、つまり
感度上昇が作業上の点で望まれていた。感度を上げる手
段として、例えば特公昭56−19619号公報にはヒダント
イン類およびオルト安息香酸スルフィドの添加、特開昭
55−73045号公報にヒドロキシベンゾフェノンとホルム
アルデヒドとの縮合生成物の添加、あるいは特開昭52−
80022号公報には無水フタル酸、無水マレイン酸等の5
員環状酸無水物を添加すること等が提案されているが、
いずれも充分な感度が得られなかったり、感度上昇を図
れても上記化合物の添加により非画線部に色素が残存し
てしまうという現象(以下「色素残り」と称す)が起こ
る。また白色螢光燈下で扱うと光カブリを被り、次に現
像処理されると、画線部の感光層が侵食されて耐刷力が
低下する現象が起こる。このため白色螢光燈による光カ
ブリに対する抵抗性(以下「セーフライト性」と称す)
を有し、色素残りの改善された感光性平版印刷版が望ま
れていた。 また、従来の感光性平版印刷版はインク着肉性が悪い
ため、汚れ防止の目的で版上に塗布されている保護ガム
がインキ盛り時にもとれず、印刷開始時にインキが版か
ら紙にうまく転移しない損紙が多くなるという問題点を
有している。 なお、特開昭59−121044号公報には、感度や現像許容
性を改良するために両性界面活性剤および有機硼素系界
面活性剤を添加するとの記載があるが上述のような問題
の改善には効果がない。 従って、セーフライト性を損うことなく、感度が高
く、階調性に優れ、色素残りの起こらないと共に、イン
ク着肉性の良好な感光性平版印刷版に適した感光性組成
物が望まれていた。 (問題点を解決するための手段) 本発明者等は、上記した如き従来技術の問題点に鑑み
種々検討した結果、特定の化合物を併用することによっ
て、前記問題点の解決された優れた感光性組成物が得ら
れることを知得して本発明に到達した。すなわち、本発
明の要旨は、 a)o−ナフトキノンジアジド化合物、 b)アルカリ可溶性樹脂、 c)2以上のpKa値を有する有機酸、 d)非イオン性界面活性剤、および e)下記一般式〔I〕により表わされる置換フェノール
類とアルデヒド類との縮合物からなる樹脂および/また
は該樹脂のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル化合物を含有し、かつ2以上のpKa値を有する有機酸の感光性
組成物中の割合が0.05〜15重量%であることを特徴とす
る感光性組成物に存する。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明の感光性組成物は、o−ナフトキノンジアジド
化合物とアルカリ可溶性樹脂を含む。 本発明におけるo−ナフトキノンジアジド化合物は、
o−ナフトキノンジアジドの構造を含み、本発明の趣旨
の満たす化合物であれば特に限定されないが例えば、o
−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、メチル基で置換
されていてもよいフェノール類とアルデヒド又はケトン
の重縮合樹脂とのエステル化合物が挙げられる。 フェノール類としては、例えば、フェノール、o−ク
レゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3,5−キ
シレノール、カルバクロール、チモール等の一価フェノ
ール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の二価
フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の三価フ
ェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしてはホル
ムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、
クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられる。こ
れらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及びベンズ
アルデヒドである。また、前記ケトンとしてはアセト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。 前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデ
ヒド樹脂、m−,p−混合クレゾール・ホルムアルデヒド
樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロー
ル・アセトン樹脂等が挙げられる。重縮合樹脂の重量平
均分子量Mwは好ましくは5.0×102〜5.0×103の範囲であ
り、さらに好ましくは8.0×102〜3.0×103の範囲であ
る。 前記o−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類
のOH基に対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸の
縮合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%が好ま
しく、より好ましくは20〜45%である。 更に本発明に用いられるo−ナフトキノンジアジド化
合物としては樹脂のみならず、特開昭58−4345号公報に
記載のある以下の化合物も使用できる。すなわち例えば
1,2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、1,2−
ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1,
2−ナフトキノンジアジド化合物、さらに具体的にはジ
ェイ・コサール(J.Kosar)著「ライト・センシティブ
システム」(“Light−Sensitive Systems")第339〜35
2頁、(1965年)、ジョン・ウィリー アンド サンズ
(John Wiley&Sons)社(ニューヨーク)やダブリュー
・エス・ディー・フォレスト(W.S.De Forest)著「フ
ォトレジスト」(“Photoresist")第50巻,(1975
年)、マ グローヒル(Mc Graw−Hill)社、(ニュー
ヨーク)に記載されている1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2
−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジ
メチルピラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド−5−
スルホン酸−4″−ヒドロキシジフェニル−4″−アゾ
−β−ナフトールエステル、N,N−ジ−(1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、2′−
(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルオキ
シ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1,2−ナフト
キノンジアジド−5−スルホン酸−2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−スルホン酸−2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェ
ノンエステル、1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸クロリド2モルと4,4′−ジアミノベゾフェノン
1モルの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−ス
ルホン酸クロリド2モルと4,4′−ジヒドロキシ−1,1′
−ジフェニルスルホン1モルの縮合物、1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸クロリド1モルとプルプ
ロガリン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド
−5−(N−ジヒドロアピエチル)−スルホンアミドな
どの1,2−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また特公昭37−1953号、同37−3627号、同37−1310
9号、同40−26126号、同40−3801号、同45−5604号、同
45−27345号、同51−13013号、特開昭48−96575号、同4
8−63802号、同48−63803号各公報に記載された1,2−ナ
フトキノンジアジド化合物をも挙げることができる。 本発明のo−ナフトキノンジアジド化合物としては上
記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以上組み合
わせて用いてもよい。 本発明に用いられるo−ナフトキノンジアジド化合物
の感光性組成物中に占める割合は、5〜60重量%が好ま
しく、特に好ましくは、10〜50重量%である。 また本発明におけるアルカリ可溶性樹脂は、主にバイ
ンダーとして使用できる樹脂はいずれでもよいが、ノボ
ラック樹脂や、ビニル系重合体樹脂およびその組合せ等
が好ましい例として挙げられる。 ノボラック樹脂としては、例えばフェノール・ホルム
アルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、
特開昭55−57841号公報に記載されているようなフェノ
ール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合体樹脂、
特開昭55−127553号公報に記載されているような、p−
置換フェノールとフェノールもしくは、クレゾールとホ
ルムアルデヒドとの共重縮合体樹脂等が挙げられる。 前記ノボラック樹脂の分子量は、好ましくは数平均分
子量(以下、「Mn」と略す)が3.00×102〜7.50×103
重量平均分子量(以下、「Mw」と略す)が1.00×103
3.00×104、より好ましくはMnが5.00×102〜4.00×1
03、Mwが3.00×103〜2.00×104である。なお、本発明の
分子量の測定は、Mn、Mw共に後記実施例中の合成例1に
記載した方法により行なった。 上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよいし、2種以
上組合わせて用いてもよい。 前記ビニル系重合体樹脂としては、フェノール性水酸
基を有する単位を分子構造中に有する重合体が好まし
く、より好ましくは下記一般式〔A〕〜〔D〕の少なく
とも1つの構造単位を含む重合体が挙げられる。 式中、R4およびR5はそれぞれ水素原子、アルキル基ま
たはカルボキシル基を表わし、好ましくは水素原子であ
る。R6は水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表
わし、好ましくは水素原子またはメチル基、エチル基等
のアルキル基である。R7は水素原子、アルキル基、アリ
ール基またはアラルキル基を表わし、好ましくはアリー
ル基である。Aは窒素原子または酸素原子と芳香族炭素
原子とを連結する、置換基を有してもよいアルキレン基
を表わし、mは0〜10の整数を表わし、Bは置換基を有
してもよいフェニレン基または置換基を有してもよいナ
フチレン基を表わす。 本発明の重合体としては共重合体型の構造を有するも
のが好ましく、前記一般式〔A〕〜〔D〕でそれぞれ示
される構造単位と組み合わせて用いることができる単量
体単位としては、エチレン、プロピレン、イソブチレ
ン、ブタジエン、イソプレン等のエチレン系不飽和オレ
フィン類;スチレン、α−メチルスチレン、p−メチル
スチレン、p−クロロスチレン等のスチレン類;アクリ
ル酸、メタクリル酸等のアクリル酸類;イタコン酸、マ
レイン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン
酸類;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸n−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ドデ
シル、アクリル酸2−クロロエチル、アクリル酸フェニ
ル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、エタクリル酸エチル等のα−
メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類;アクリロ
ニトリル、メタアクリロニトリル等のニトリル類;アク
リルアミド等のアミド類;アクリルアニリド、p−クロ
ロアクリルアニリド、m−ニトロアクリルアニリド、m
−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類;酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、ベンゾエ酸ビニル、酪酸ビニ
ル等のビニルエステル類;メチルビニルエーテル、エチ
ルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、β−ク
ロロエチルビニルエーテル等のビニルエーテル類;塩化
ビニル;ビニリデンクロライド;ビニリデンシアナイ
ド;1−メチル−1−メトキシエチレン、1,1−ジメトキ
シエチレン、1,2−ジメトキシエチレン、1,1−ジメトキ
シカルボニルエチレン、1−メチル−1−ニトロエチレ
ン等のエチレン誘導体類;N−ビニルピロール、N−ビニ
ルカルバゾール、N−ビニルインドール、N−ビニルピ
ロリデン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル化合
物;その他のビニル系単量体が挙げられる。これらのビ
ニル系単量体は不飽和二重結合が開裂した構造で高分子
化合物中に存在する。 上記の単量体のうち、脂肪族モノカルボン酸のエステ
ル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れた性能を
示し、好ましい。 これらの単量体は本発明の重合体中にブロック又はラ
ンダムのいずれの状態で結合していてもよい。 以下に本発明のビニル系重合体の代表的な具体例をあ
げる。なお、下記に表示の化合物においてs、k、l、
mおよびnは、それぞれ構造単位のモル%を表す。 例示化合物 本発明に用いられるビニル系重合体は上記重合体を単
独で用いてもよいし、また2種以上組合わせて用いても
よい。また、他の高分子化合物等と組合わせて用いるこ
ともできる。 本発明に用いられるノボラック樹脂およびビニル系重
合体は単独で用いてもよいし、併用してもよい。アルカ
リ可溶性樹脂の感光性組成物中に占める割合は5〜95重
量%が適当であり、好ましくは20〜90重量%である。 本発明の感光性組成物は、特に以下に述べる特定のpK
a値を有する有機酸、非イオン性界面活性剤および特定
の置換フェノール類とアルデヒド類との縮合物誘導体を
含むことを特徴とする。 有機酸としては、pKa値が2以上、好ましくはpKa値が
3以上のものが使用される。pKa値が2未満の有機酸の
場合色素残りおよび耐薬品性が低下する傾向にある。な
お、本発明のpKa値は25℃における値である。 このような有機酸としてはpKa値が上記条件を満たす
ものであれば特に限定されないが、モノカルボン酸およ
びジカルボン酸などが挙げられる。モノカルボン酸とし
ては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ペ
ンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸等の脂肪族モノカル
ボン酸、シクロヘキサンカルボン酸等の脂環式モノカル
ボン酸、安息香酸、o−,m−,p−アミノ安息香酸、o
−,m−,p−,ヒドロキシ安息香酸、o−,m−,p−,メト
キシ安息香酸、o−,m−,p−,メチル安息香酸、3,5−
ジヒドロキシ安息香酸、フロログリシンカルボン酸、没
食子酸、3,5−ジメチル安息香酸等の芳香族モノカルボ
ン酸が挙げられる。 またジカルボン酸としては、マロン酸、メチルマロン
酸、ジメチルマロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピ
ン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシ
ン酸、イタコン酸、リンゴ酸等の飽和または不飽和脂肪
族ジカルボン酸、テトラヒドロフタル酸、1,1−シクロ
ブタンジカルボン酸、1,1−シクロペンタンジカルボン
酸、1,3−シクロペンタンジカルボン酸、1,1−シクロヘ
キサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン
酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカ
ルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の
芳香族ジカルボン酸等を挙げることができる。 上記有機酸の感光性組成物中に占める割合は、0.05〜
15重量%であり、好ましくは0.1〜8重量%である。 本発明における非イオン性界面活性剤としては、公知
の種々のものが使用できるが、特に下記構造単位〔II〕
および〔III〕の少なくとも一方を有する界面活性剤が
好適に使用できる。 構造単位〔II〕 CH2CH2O 構造単位〔III〕 (各式中、nは2〜5000の整数を表わす。) 特に構造単位〔II〕および〔III〕のそれぞれにおい
てnが2〜5000の範囲内の整数であって沸点が240℃以
上である化合物が好ましく、更に好ましくはnが2〜50
0の範囲内の整数であり、かつ沸点が280℃以上である化
合物であり、最も好ましいのはnが3〜100の範囲内の
整数である化合物である。 このような化合物としては、例えば、 ・ポリエチレングリコール (HOCH2CH2OnH) ・ポリオキシエチレンアルキルエーテル (RO(CH2CH2O)nH ・ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ・ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレングリコー
・ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンアルキル
エーテル ・アルキルフェノールホルマリン縮合物の酸化エチレン
誘導体 ・ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エステ
ル 例えば ・ポリオキシエチレン脂肪酸エステル (例えば RCOO(CH2CH2O)nH) ・ポリオキシエチレンアルキルアミン 等があげられる。 上記のような化合物として具体的には例えば以下のよ
うなものが挙げられる。すなわち、ポリオキシエチレン
ラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキ
シエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレン高級
アルコールエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェ
ニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエー
テル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、
ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリ
オキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキ
シエチレンソルビタントリステアレート、ポリオキシエ
チレンソルビタンモノオレエート、ポリオキシエチレン
ソルビタントリオレエート、テトラオレイン酸ポリオキ
シエチレンソルビット、ポリエチレングリコールモノラ
ウレート、ポリエチレングリコールモノステアレート、
ポリエチレングリコールモノオレエート、ポリエチレン
グリコールジステアレート、ポリオキシエチレンノニル
フェニルエーテルホルムアルデヒド縮合物、オキシエチ
レンオキシプロピレンブロックコポリマー、テトラエチ
レングリコール、ポリエチレングリコール等である。 上記非イオン性界面活性剤の感光性組成物中に占める
割合は、全組成物に対して0.05〜10重量%が好ましく、
より好ましくは0.1〜5重量%の範囲から選ばれる。 また、本発明では、上記化合物を単独で用いてもよい
し2種以上組合わせて使用してもよい。 本発明においては、下記一般式〔I〕により表わされ
る置換フェノール類とアルデヒド類との縮合物からなる
樹脂および/または該樹脂のo−ナフトキノンジアジド
スルホン酸エステル化合物 を、主に画像の印刷インクとの着肉性を高める機能を有
する感脂化剤として使用する。 前記一般式〔I〕において、R1およびR2は各々水素原
子、アルキル基(1ないし3の炭素数を含むものを包含
する。炭素数1ないし2のアルキル基は特に有用であ
る。)またはハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素および
ヨウ素の内特に塩素および臭素が好ましい。)を示し、
R3は炭素数2以上のアルキル基(好ましくは炭素数15以
下であり、炭素数3ないし8のアルキル基は特に有用で
ある。)またはシクロアルキル基(3ないし15の炭素数
を含むものを包含する。炭素数3ないし8のシクロアル
キル基は特に有用である。)を表す。 上記置換フェノール類の例としては、イソプロピルフ
ェノール、tert−ブチルフェノール、tert−アミルフェ
ノール、ヘキシルフェノール、tert−オクチルフェノー
ル、シクロヘキシルフェノール、3−メチル−4−クロ
ロ−5−tert−ブチルフェノール、イソプロピルクレゾ
ール、tert−ブチルクレゾール、tert−アミルクレゾー
ル、ヘキシルクレゾール、tert−オクチルクレゾール、
シクロヘキシルクレゾール等であり、そのうち特に好ま
しくはtert−オクチルフェノールおよびtert−ブチルフ
ェノールである。 また、上記アルデヒド類は置換フェノールと縮合して
樹脂を生成し得るものであり、例えばホルムアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、アクロレイ
ン、クロトンアルデヒド、フルフラール等の脂肪族およ
び芳香族アルデヒドであり、炭素数1ないし6のものを
包含する。そのうち好ましくはホルムアルデヒドおよび
ベンズアルデヒドである。 本発明における該置換フェノール類とアルデヒド類と
を縮合物からなる樹脂は、通常一般式〔I〕により表さ
れる置換フェノールと、アルデヒド類とを酸性触媒の存
在下で重縮合して合成される。使用される酸性触媒とし
ては、塩酸、しゅう酸、硫酸、リン酸、等の無機酸や有
機酸が用いられ、置換フェノール類とアルデヒド類との
配合比は、置換フェノール類1モルに対しアルデヒド類
が0.7〜1.0モル用いられる。反応溶媒は、アルコール
類、アセトン、水、テトラヒドロフラン等が用いられ、
所定温度(−5〜120℃)、所定時間(3〜48時間)反
応後、減圧下加熱し、水洗して脱水させて得るか、又は
水結析させて反応物として縮合樹脂を得る。 本発明ではこの縮合樹脂をそのまま使用するかまたは
樹脂のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化
合物として使用する。 該エステル化合物は、前記縮合樹脂を適当な溶媒、例
えば、ジオキサン等に溶解させて、これにo−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸クロライドを投入し、加熱撹拌
しながら、炭酸アルカリ等のアルカリを当量点まで滴下
することによりエステル化させて得られる。 前記エステル化物において、フェノール類の水酸基に
対するo−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロライド
の縮合率(水酸基1個に対する反応率%)は、5〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜70%、更に好ましくは
30〜60%である。該縮合率は、元素分析によりスルホニ
ル基の硫黄原子の含有量を求めた値である。 本発明の感光性組成物中に占める前記一般式〔I〕で
表される置換フェノール類とアルデヒド類とを縮合させ
た樹脂および/または該樹脂のo−ナフトキノンジアジ
ドスルホン酸エステル化合物(以下、これらを「本発明
の感脂化剤」という)の量は0.05〜15重量%が好まし
く、特に好ましくは1〜10重量%である。 本発明の感脂化剤は、Mwが好ましくは、5.0×102〜5.
0×103の範囲であり、更に好ましくは7.0×102〜3.0×1
03の範囲である。そのMnは3.0×102〜2.5×103の範囲で
あることが好ましく、更に好ましくは4.0×102〜2.0×1
03の範囲である。 以上の成分から本発明の感光性組成物が得られるが、
例えば、該組成物をポジ型感光性平版印刷版へ供給する
に当っては、そのほか、露光可視画付与剤および色素が
一般的に添加される。露光可視画付与剤としては、露光
により酸を発生する化合物、色素としてはこの酸と塩を
形成する化合物を用いるのが一般的である。 露光により酸を発生する化合物としては、下記一般式
IV又はVで示されるトリハロアルキル化合物またはジア
ゾニウム塩化合物が好ましく用いられる。 (Xaは炭素原子数1〜3個のトリハロアルキル基、Wは
N、S、SeまたはP、ZはO、N、S、SeまたはP、Y
は発色団基を有し、かつWとZを環化させるに必要な非
金属原子群よりなる基を示す) (Arはアリール基、Xは無機化合物の対イオンを示す) 具体的には、例えば式IVのトリハロアルキル化合物と
しては、下記一般式VI、VII、VIIIで表される化合物が
含まれる。 (式中、Xaは炭素原子1〜3個を有するトリハロアルキ
ル基、Bは水素またはメチル基、Aは置換若しくは非置
換アリール基または複素環式基を表し、nは0、1また
は2である) 具体的例示化合物としては、一般式VIとして 等のベンゾフラン環を有するオキサジアゾール化合物、
特開昭54−74728号公報に記載されている2−トリクロ
ロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オ
キサジアゾール化合物等が挙げられる。 また、一般式VII、VIIIの化合物としては、特開昭53
−36223号公報に記載されている4−(2,4−ジメトキシ
−4−スチリル)−6−トリクロロメチル−2−ピロン
化合物、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メ
トキシスチリル−S−トリアジン化合物、2,4−ビス
(トリクロロメチル)−6−p−ジメチルアミノスチリ
ル−S−トリアジン化合物等が挙げられる。 前記ジアゾニウム塩化合物としては、露光によって強
力なルイス酸を発生するジアゾニウム塩が好ましく、対
イオン部分としては無機化合物の対イオンが推奨され
る。具体例としては、ジアゾニウム塩のアニオン部分が
フッ化リンイオン、フッ化ヒ素イオン、フッ化アンチモ
ンイオン、塩化アンチモンイオン、塩化スズイオン、塩
化ビスマスイオン及び塩化亜鉛イオンの少なくとも1種
である芳香族ジアゾニウム塩であり、好ましくはパラジ
アゾフェニルアミン塩である。 上記露光可視画付与剤の全感光性組成物中に含まれる
量は好ましくは0.01〜20重量%、更に好ましくは0.1〜2
0重量%、特には0.2〜10重量%である。 一方前記色素としては一般に公知の酸により塩を形成
する化合物であればいずれでも使用可能であり、例えば
トリフェニルメタン系染料、シアニン染料、ジアゾ染
料、スチリル染料等が挙げられる。具体的にはビクトリ
アピュアブルー80、エチルバイオレット、クリスタルバ
イオレット、ブリリアントグリーン、ベイシックフクシ
ン、エオシン、フェノールフタレイン、キシレノールブ
ルー、コンゴーレッド、マラカイトグリーン、オイルブ
ルー#603、オイルピンク#312、クレゾールレッド、オ
ーラミン、4−p−ジエチルアミノフェニルイミノナフ
トキノン、ロイコマラカイトグリーン、ロイコクリスタ
ルバイオレット等が挙げられる。この色素の添加量は全
感光性組成物中で約0.01〜10重量%が好ましく、より好
ましくは0.05〜8重量%である。 上記感光性組成物は、各種溶媒、例えばメチル(エチ
ル)セロソルブ、メチル(エチル)セロソルブアセテー
ト等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサ
ン、トリクロロエチレン等の塗布溶媒に溶解させた塗料
を後述の如く砂目立てされ、陽極酸化されたアルルニウ
ム板の支持体上に塗布乾燥させることにより形成され
る。 かくして得られたポジ型感光性平版印刷版の使用に際
しては、公知の方法が適用され、ポジ型フィルムを密着
させ、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等で露光
し、メタケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、リン酸ソー
ダ、水酸化ナトリウム等のアルカリ水溶液にて現像さ
れ、印刷版として供給される。また必要に応じてバーニ
ング処理を施される。このようにして作製された平版印
刷版は枚葉、オフ輪用印刷機に使用される。 本発明において、上述の感光性組成物を用いた感光層
を設ける支持体はアルミニウム板である。支持体として
アルミニウム板を使用する場合、砂目立て処理、陽極酸
化処理及び必要に応じて封孔処理等の表面処理が施され
る。これらの処理には公知の方法を適用することができ
る。 砂目立て処理の方法としては、例えば、機械的方法、
電解によりエッチングする方法が挙げられる。機械的方
法としては、例えば、ボール研磨法、ブラシ研磨法、液
体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げられ
る。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方法を
単独あるいは組合せて用いることができる。好ましくは
電解エッチングする方法である。 電解エッチングは、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無
機の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行われる。砂
目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の水
溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗する。 陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、クロム酸、シ
ュウ酸、リン酸、マロン酸等を1種又は2種以上含む溶
液を用い、アルミニウム板を陽極として電解して行われ
る。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50mg/dm2が適当で
あり、好ましくは10〜40mg/dm2である。陽極酸化皮膜量
は、例えば、アルミニウム板をリン酸クロム酸溶液(リ
ン酸85%液:35ml、酸化クロム(VI):20gを1の水に
溶解して作製)に浸漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜
溶解前後の重量変化測定等から求められる。 封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ
処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げら
れる。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性
高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液
による下引き処理を施すこともできる。 (実施例) 以下、実施例により本発明の感光性組成物および感光
性平版印刷版について詳しく述べるが本発明は、これら
に制限されるものではない。 〔感光体の合成〕 合成例1 (QD−2の合成) ピロガロール50g、アセトン350gをウォーターバス中
にセットした3頭コルベン中に投入し窒素ガスを吹込
み、窒素置換を行った後、オキシ塩化リン5gを投入し重
縮合反応を行った。反応温度は20℃に保ち一昼夜反応さ
せた後、水15中に強力に撹拌しながら徐々に投入し生
成した重縮合物を沈殿させた。 析出した樹脂を濾取し水にてpHがほぼ7の中性になる
まで洗浄を行い、濾取物は40℃以下にて乾燥を行った。
このようにして淡褐色状の樹脂50gを得た。 この樹脂の分子量をゲルパーミネーションクロマトグ
ラフィー〔日立635型、カラム ショデックス(Shode
x)A804、A803、A302の直列〕にてポリスチレンを標準
として測定を行った。Mn、Mwの算出は柘殖等、日本化学
会誌、1972年(4月号)第800頁に記載の方法により、
オリゴマー領域のピークをならす(ピークの山と谷の中
心を結ぶ)方法にて行った。その結果、Mnは2.00×1
03、Mwは3.40×103であった。 次にこの樹脂60gをジオキサン720mlに溶解させ、1,2
−ナフトキノンジアジド−5−スルホニルクロライド70
gを投入し、溶解後、炭酸カリ水溶液(13重量%)60gを
滴下し、40〜50℃で約1時間縮合反応を行わせた後、反
応液を大量の希塩酸水中(濃塩酸13ml、水3)に投入
し、沈殿した樹脂を濾取し、乾燥した。ビロガロール・
アセトン樹脂の1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホン酸エステル56gの黄色粉末樹脂が得られた。分析の
結果、OH基の縮合率は20%であった。ポリヒドロキシ樹
脂と同様にエステル体の分子量を測定したところ、Mnは
2.30×103、Mwは3.03×103であった。 〔バインダーの合成〕 合成例2 (前記(c)に相当) p−ヒドロキシアニリン400g、ハイドロキノンモノメ
チルエーテル4g、アセトン4およびピリジン360gを混
合し、寒剤を用いて外部より冷却し、内温が−10℃まで
下った時点でメタアクリル酸クロライド420gを撹拌下に
滴下した。反応温度が0℃以下になるよう滴下温度を調
節し、滴下終了後0〜3℃で約2時間撹拌し、次いで、
25℃で2時間撹拌後反応液を1/3位になるまで濃縮し、
これを希塩酸(pH約1.0)10中に注入し、生じた沈殿
を吸引濾過して白色の固体を得た。この白色の固体をメ
タノール2に加温溶解し、さらに5%炭酸ナトリウム
水溶液2を加えて40℃で30分間撹拌した。次いで暗赤
色のこの溶液を5%塩酸水溶液8中に注入して多量の
沈殿を生成させ、これを吸引濾過し乾燥して淡桃色の固
体を得た。これをエタノールと水との混合溶媒より再結
晶して融点155〜156℃のp−ヒドロキシメタアクリルア
ニリドの無色針状晶450gを得た。 得られたp−ヒドロキシメタアクリルアニリド(HyPM
A)53.2g、アクリルニトリル(AN)15.9g、メタアクリ
ル酸メチル(MMA)40.0gおよびα・α′−アゾビスイソ
ブチロニトリル0.829gをアセトン:エタノール(1:2)
の混合溶媒190ml中に溶解し、窒素ガス置換した後、65
℃で加熱すると、重合体溶液が得られた。この重合体溶
液を3の5%HCl水溶液中に注ぎ、生じた白色の沈殿
物を濾過し乾燥して白色重合体70gを得た。分子量を測
定すると、Mnが3.2×103、Mwが2.2×104であった。 合成例3 (前記(f)に相当) ハイドロキノン350gをアセトン2.5、ピリジン500g
に溶解し、寒剤を用いて外部より冷却し、内温が0℃ま
で下がった時点でメタアクリル酸クロライド313.5gを撹
拌下に滴下した。反応温度が0〜5℃になるように滴下
速度を調節し、滴下終了後同温度で3時間撹拌し、次い
で室温にて更に1時間撹拌後反応液よりアセトンを減圧
下留去した。この残渣に水を加えた後塩酸酸性(pH約
4)とし、エーテルにて抽出、エーテル層を分取した後
これを5%炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄後水洗
し、無水硫酸ナトリウムにて一昼夜乾燥後エーテルを留
去すると白色の固体が得られた。これを水にて再結晶し
て融点120.5〜121.5℃のハイドロキノンモノメタアクリ
レートの無色針状結晶423gを得た。 このハイドロキノンモノメタアクリレート36gおよび
アクリロニトリル11g、メタクリル酸メチル60g、α・
α′−アゾビスイソブチロニトリル1.64gをアセトン・
メタノール(1:1)の混合溶媒600ml中に溶解し、窒素ガ
ス置換した後65℃で30時間加熱すると重合体溶液が得ら
れた。これを水5中に注ぎ、生じた白色の沈殿物を濾
過し、乾燥し、重合体50gを得た。この重合体のMwは約4
0000であった。 合成例4 (前記(l)に相当) p−ヒドロキシスチレン40.0g、アクリロニトリル20.
0g、スチレン40gおよび1gのα・α′−アゾビスイソブ
チロニトリルをアセトン:エタノール(1:1)の混合溶
媒600mlに溶解し、窒素ガス置換した後、68℃で10時間
加熱すると、重合体溶液が得られた。これを水5に注
ぎ生じた白色の沈殿物を濾温し乾燥し重合体70gを得
た。この重合体のMwは、47000であった。 合成例5 (前記(j)に相当) ポリビニルアルコール(日本合成化学社製NL−05:粘
度4.6〜6cps、ケン化度98.5%)22gを氷酢酸300mlに分
散し、バニリン38gとp−メチルベンズアルデヒド38gを
添加した後、20%H2SO4 25mlを加えて50℃で3時間反応
させた。冷却した後、水中に滴下し、40gのポリマーが
得られた。 合成例6 m−クレゾール90g、p−クレゾール56g、フェノール
54g、37%ホルムアルデヒド水溶液105g、および蓚酸2.5
gを、オイルバスにセットした3頭コルベン中に投入し
撹拌しながら昇温した。90℃付近で激しく発泡し一時的
に冷却した後再び昇温し、内温を105℃にした。 約3時間反応後、更に175℃まで昇温し、水を留去し
た。 2時間後200℃に昇温し、100mmHgまで減圧し残留モノ
マーを留去した。10分後反応を止め、反応物をテフロン
・バットへ流し出し固化させた。この樹脂の分子量を測
定した結果Mnは1350、Mwは6750であった。 合成例7 合成例6のm−クレゾールを2,3−キシレノール(100
g)に変えた他は同様に合成した。その結果Mnは1400、M
wは5400であった。 〔感脂化剤の合成〕 合成例8 p−tert−ブチルフェノールとベンズアルデヒドとの
重縮合物であるノボラック樹脂(Mw=1300)20gをジオ
キサン240mlに溶解し、o−ナフトキノンジアジド−5
−スルホニルクロライド11.3gを投入し、溶解後、水23m
l中に3.5g溶解させた炭酸カリウム水溶液を滴下し、40
〜50℃で40分間縮合反応を行った。反応後、反応液を希
塩酸(水500ml、濃塩酸1.1ml)中に注入し、沈殿した樹
脂を濾取し乾燥した。 このようにして、p−tert−ブチルフェノール・ベン
ズアルデヒド樹脂のo−ナフトキノンジアジドスルホン
酸エステル化合物28gが得られた。分析の結果、OH基の
縮合率は50%であった。 前記エステル化合物を「感脂化剤〔I〕」と呼ぶ。 合成例9 p−tert−オクチルフェノールとホルムアルデヒドと
の重縮合物であるノボラック樹脂(Mw=1500)20gをジ
オキサン240mlに溶解し、o−ナフトキノンジアジド−
5−スルホニルクロライド12.4gを投入し、溶解後、水2
5ml中に3.84g溶解させた炭酸カリウム水溶液を滴下し、
40〜50℃で40分間縮合反応を行った。反応後、反応液を
希塩酸(水500ml、濃塩酸1.2ml)中に投入し、沈殿した
樹脂を濾取し乾燥した。 このようにして、p−tert−オクチルフェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂のo−ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸エステル化合物29gが得られた。分析の結果、OH基
の縮合率は50%であった。前記エステル化合物を「感脂
化剤〔II〕」と呼ぶ。 実施例1 厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調質H16)
を5%水酸化ナトリウム水溶液中で60℃で1分間脱脂処
理を行った後、0.5モル1の塩酸水溶液中で温度;25
℃、電流密度;60A/dm2、処理時間;30秒間の条件で電解
エッチング処理を行った。次いで、5%水酸化ナトリウ
ム水溶液中で60℃、10秒間のデスマット処理を施した
後、20%硫酸溶液中で温度;20℃、電流密度;3A/dm2、処
理時間;1分間の条件で陽極酸化処理を行った。更に又、
90℃の熱水で20秒間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版
材料用支持体のアルミニウム板を作製した。 感光性平版印刷版試料1の作製 上記のように作製したアルミニウム板に下記組成の感
光性組成物塗布液(1)を回転塗布機を用いて塗布し、
90℃で4分間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷版試料1を
得た。 〔感光性組成物塗布液(1)組成〕 ノボラック樹脂(合成例6のポリマー) 2.5g ビニル系重合体樹脂(合成例2のポリマー) 5.0g 1.2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3,4
−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル(QD−1)2.
5g 有機酸 (安息香酸) 各 部 界面活性剤(エマルゲン906) 0.1g 感脂化剤(感脂化剤〔I〕) 0.1g 露光可視画付与剤 0.1g (2−トリクロロメチル−5−〔β−(2−ベンゾフ
リル)ビニル〕1,3,4−オキサジアゾール) 色 素(ビクトリアピュアブルーBOH(保土ケ谷化学
(株)製)) 0.1g メチルセロソルブ 100g 感光性平版印刷版試料2〜17の作製 上記感光性平版印刷版試料の作製における感光性組成
物塗布液(1)組成のノボラック樹脂、ビニル系重合体
樹脂、o−キノンジアジド化合物、有機酸、界面活性剤
及び感脂化剤を第1表のように変える以外は、上記試料
1の作製と同様にして感光性平版印刷版試料2〜17を得
た。 このように得られた感光性平版印刷版試料No.1〜17に
ついて、セーフライト性を評価する為に、この試料を明
室に10分、15分及び20分間放置し曝光させSDR−1(小
西六写真工業(株)社製)を水で6部希釈した現状液
(標準現像液)で25℃にて40秒間現像し、画像部の侵食
度を明室に放置しなかったものと比較し、評価した。 次にインキ着肉性を評価する為にハイデル印刷機を用
いて印刷テストを行った。 試料は前記露光済みの版を明室に10分放置したものと
放置しなかったもの2種を前記現像液で60秒間現像した
後、SGW−3(小西六写真工業(株)製)でガム引きを
行うことにより作成した。インキ着肉性は印刷後インキ
が紙に完全に転写するまでの印刷枚数で評価した。 さらに得られた感光性平版印刷版試料No.1〜17上に感
度測定用ステップタブレット(イーストマン・コダック
社製No.2、濃度差0.15づつで21段階のグレースケール)
を真空密着させ、2KWメタルハライドランプを光源とし
て、8.0mW/cm2の条件で露光し、SDR−1(小西六写真工
業(株)社製)を水で6倍に希釈した現像液で25℃にて
20秒間現像し、水洗、乾燥した後の版上に焼き付けられ
たグレースケールのクリアステップ段数が4段であると
きの露光量を調べた。さらに、このときのクリアステッ
プ段数とベタステップ段数との差(階調性)についても
調べた。更にこのときの非画線部の色素残りについても
調べた。 上記の結果を第2表に示した。 第2表より明らかなように本発明の感光性平版印刷版
は、セーフライト性を保ちながら、感度、階調性が優
れ、インク着肉性が良好であることがわかる。 (発明の効果) 以上詳細に説明したように本発明により、セーフライ
ト性を損うことなく感度階調性に優れ、かつインク着肉
性が良好なきわめて性能上バランスのとれた感光性平版
印刷版を得ることができるので、本発明の感光性組成物
は工業的に有利なものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 富安 寛 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三菱化成工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 後藤 聖 東京都日野市さくら町1番地 小西六写 真工業株式会社内 (72)発明者 中井 英之 東京都日野市さくら町1番地 小西六写 真工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−105137(JP,A) 特開 昭51−145313(JP,A) 特開 昭62−102243(JP,A) 特開 昭52−40125(JP,A) 特開 昭62−251740(JP,A) 特公 昭56−54621(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03C 1/72 G03F 7/022

Claims (1)

  1. (57)【特許請求の範囲】 1.(a)o−ナフトキノンジアジド化合物、 (b)アルカリ可溶性樹脂、 (c)2以上のpKa値を有する有機酸、 (d)非イオン性界面活性剤、および (e)下記一般式〔I〕により表わされる置換フェノー
    ル類とアルデヒド類との縮合物からなる樹脂および/ま
    たは該樹脂のo−ナフトキノンジアジドスルホン酸エス
    テル化合物を含有し、かつ2以上のpKa値を有する有機酸の感光性
    組成物中の割合が0.05〜15重量%であることを特徴とす
    る感光性組成物。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6435437A (en) * 1987-07-30 1989-02-06 Mitsubishi Chem Ind Photosensitive composition
JPH01250945A (ja) * 1988-03-30 1989-10-05 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型レジスト組成物
US5262276A (en) * 1988-05-11 1993-11-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive compositions
JP2624555B2 (ja) * 1990-01-16 1997-06-25 東京応化工業株式会社 ポジ型レジストパターン形成方法
JP2646289B2 (ja) * 1990-06-01 1997-08-27 富士写真フイルム株式会社 レジスト組成物
JPH0643631A (ja) * 1992-04-01 1994-02-18 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 非イオン性ポリグリコールを含有するフォトレジスト
US5712022A (en) * 1992-09-14 1998-01-27 Yoshino Kogyosho Co., Ltd. Printed thermoplastic resin products and method for printing such products
KR20030079542A (ko) * 2002-04-04 2003-10-10 동우 화인켐 주식회사 포토레지스트 조성물

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1085212A (en) * 1975-05-27 1980-09-09 Ronald H. Engebrecht Use of volatile carboxylic acids in improved photoresists containing quinone diazides
US4009033A (en) * 1975-09-22 1977-02-22 International Business Machines Corporation High speed positive photoresist composition
JPS5654621A (en) * 1979-10-05 1981-05-14 Nec Corp Thin-film magnetic head
EP0226741B1 (de) * 1985-10-25 1989-08-02 Hoechst Celanese Corporation Verfahren zur Herstellung eines positiv arbeitenden Photoresists
EP0220645B1 (de) * 1985-10-28 1990-09-12 Hoechst Celanese Corporation Strahlungsempfindliches, positiv-arbeitendes Gemisch und hieraus hergestelltes Photoresistmaterial
JPH0743501B2 (ja) * 1986-04-24 1995-05-15 富士写真フイルム株式会社 ポジ型感光性平版印刷版

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