SU618064A3 - Композици ,чувствительна к облучению - Google Patents

Композици ,чувствительна к облучению

Info

Publication number
SU618064A3
SU618064A3 SU721826337A SU1826337A SU618064A3 SU 618064 A3 SU618064 A3 SU 618064A3 SU 721826337 A SU721826337 A SU 721826337A SU 1826337 A SU1826337 A SU 1826337A SU 618064 A3 SU618064 A3 SU 618064A3
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
compound
photoinitiator
ethyl
bis
trade name
Prior art date
Application number
SU721826337A
Other languages
English (en)
Inventor
А.Бонхэм Джеймс
С.Питрелис Панайотис
Original Assignee
Миннесота Майнинг Энд Маньюфэкчуринг Компани (Фирма)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Миннесота Майнинг Энд Маньюфэкчуринг Компани (Фирма) filed Critical Миннесота Майнинг Энд Маньюфэкчуринг Компани (Фирма)
Application granted granted Critical
Publication of SU618064A3 publication Critical patent/SU618064A3/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295—Photolytic halogen compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00—Processes of polymerisation
    • C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/0091—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes having only one heterocyclic ring at one end of the methine chain, e.g. hemicyamines, hemioxonol
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/02—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups
    • C09B23/06—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups three >CH- groups, e.g. carbocyanines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/14—Styryl dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/14—Styryl dyes
    • C09B23/145—Styryl dyes the ethylene chain carrying an heterocyclic residue, e.g. heterocycle-CH=CH-C6H5
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/675—Compositions containing polyhalogenated compounds as photosensitive substances
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/12—Nitrogen compound containing
    • Y10S430/121—Nitrogen in heterocyclic ring

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Description

1
Изобретение относнтс  к области пс лученн  светочувствительных композиций , используемых в процессах печатани , светокопировальных процессах.
Известна композици , светочувствительна  к облучению, состо ща  из подложки с нанесенным на нее слоем, содержащим по крайней мере одно ненасыщенное этиленовое соединение, например диэтнленгликольдиакрилат, в качестве свзующего - поливиниловый спирт, ингибитор и фотоинициатор полимеризации, например триароилфосфин.
Дл  увеличени  пределов спектральной чувствительности светочувствительной композиции в качестве фотоинициатора полимеризации предложены S -триазиновые соединени , замещенные по крайней мере одной галоидметильной группой, преимущественно тригалоидметильной: группой, и хромоформной группой, св занной с триазиновым кольцом посредством ненасыщенной этиленовой св зи, причем указанное соединение при возбуждении их излучением от актиничного излуча
тел  при длине волны примерно от 330 до 700 ммк с пособны образовывать свободные радикаль.
Наиболее характерны хромофорзамеще ные винилгалоидметил - § -триазиновые соединени  нижеследуюидай формулы Т
IS
(CH CBJi-V
10
I
p. , .
где Q - атом хлора или брома,
Р - CQy -KH2.-VIHT i,- или 01, Т - фенил или низший алкил (под низшим алкилом подразумеваетс  алкильна  группа, включающа  не белее щести атомов углерода);
И - целое число равное 1-3; W - замещенное (или незамещенное) ароматическим  дром или замещенным индолилом-3, или соединение общей формулы Ц
где 21 - представл ет собери кислород и|,и
J серу;,
Т - атом водорода, группа низшего алкила или группа феннла; W« может быть замещен хлором, бромом, фенилом, низшим алкилом (алкилом, содержащим не более шести атомов углерода), ннтрогруппсЛ , фенокснльноК грушки, алкоКСШ1ОМ , ацетоксилом, апетилом, аминовой группой, алкнламиновой грушой и др.
S -Триазшкжые соединени  образ свободные радикалы при облучении от актиничнс  о излучател , при длине волг616064
ны лучей в пределах примерно ЗЗО7ОО ммк. Эти соединени  используютс  в качестве фотоиниииаторов в чувствителЬ Шдх к облучению составах и элементах. Таким образом, они могут быть введены в полимеризуемые, структурируемые и печатные составы, используемые дл  получени  рельефных печатных пластин, фотосопротивлений и фотографических элементов
Предлагаема  композипи   вл етс  продуктом реакции конденсации некоторых метилгалоидметил-: 5 -триазинов и некотсфых альдегидов или альдегидных прои юдных .
Наиболее Таенными  вл ютс  фотоинициаторы , имеющие структурную формулу, представленную в таблице 1, ;Т . л и ц а 1
СЬС-С С-СН Й
С-( VOCHj 190-192
TT .. I С1зС-СГ С СН«СН-/ 186-187
з1. ж /
ОСИз
ccij
и , ,
(%C-Qс1зС- г; с-сн сн
OCHj157-158401 Jci3
377
2,72
394
2,98
2,98 156-158 С1 147-149 , 99-201
f
/
сн. 8
СС1з
С1зС-() 180-182 If,-3
CClj Clз C-C C-CHИШ/3 -   ®
Ч.
СС1з ,
ITQ-XN
С1зС-(|, ;-сн сн-й1 с
i
сс1з.
IT
СЬС-С 6-01 01-СгГ 175
тг .-i Л В J
V
IС (
g
сС1з гГ сиз
СС1з
VOCH3 248-249340
Id Н21 Г-СЛС-СН
V
СС1з
Продолжение таблицы
1,59
468
23О
495
О,71
3,54
380
488
4,ОО
2Д2
447
3,32 гл Cl3C-f -(()K/ С1 -220 V К з Фотоинициаторы, соответствующие изобретению, имеют важное значение дл  фоточувствительных составов, испол оуемых в различных обрааукших изобра жение системах, в которых желательна повьпыенна  чувствительность к свету. Так,, например, фотоподимериаующиес  сосгавы, содержащие фотоиниииаторы, на ход т ценное применение рпй излучени  элементов, используемых в типографском печатании, в особенности дл  приготовлени  элементш, примен емых дл  получени  обратного изображени . Они примен ютс  также дл  элементов, используемых дл  получени  фотополимерных литографских пластин. Фотоинихщаторы могут присутствовать также в не содержащих серебро фоточувствительных составах, примен емых в фоторепродуиированных системах, основанных на отсутствии кислоты, например в системах; в которых образуютс ; окрашенные или отбеленные изображени . Фотополимеризующиес  составы, в которых могут успешно использоватьс  описьшаемые фотоинициаторы обычно состо т из инишшрованного свободным радикалом дополнительно вводимого полимера с разветвленной цепью с ненасыщенными этиленовыми св з ми, фотоинициатора и одн го или нескольких из следующих компоне тов: наполнитель, св зующие красители, ингибиторы полимеризации, исходный про дукт красител , кислородные очистители и так далее. S -Трназинсжые соединени  по изобретеншо присутствуют в количестве, достаточном дл  осуществлени  процесса полимеризации полимеризуемого соединени . Соответствующие отнощени  ингредиен . тов представл ют собой следующие значе ни : на каждые 1ОО частей полимеризуемого соединени  может присутствовать О,О005-1О частей фотоинициатора, О-2ОО частей наполнител , О-2ОО часте св зующего и 0-10 частей или более кра сител , ингибитора полимеризации,-исход ных продуктов красител , кислородных очистителей и так далее, которые могут быть необходимы дл  использовани  опре деленного фотополимеризуемого состава. Преимущественно на 1ОО частей полимеризующихс  соединений используетс  1-7,5 частей фотоинициатора. Соответствующие инициированные свободные радикалы, дополнительно вводимые полимеризуемые соединени  с разветвленной цепью, с этиленовыми ненасыщенными св з ми включают алкилен или полиалкиленгликолевые диакрилаты. например этиленглнкольдиакрилат, дйэтиленгликольдиакрнлат , глицериндиакрилат, гллщеринтриакрилат, этиленгликопьдиметакрилат , 1,3-пропандиэтилметакрилат, 1,3-пропавдиэтилметилкрш1ат, 1,2,4бутантриолтриметакрилат , 1,4-циклогександиолдиакрилат , пентаэритриттетраметакрилат , пентаэритриттриакрилат, сорбитогексакрилат , бис- 1- (3-акрилокси- 2гидроксиД -п-пропоксифенилдиметил метан , бис- l ,2-( 2-акрилокси)1 -п-этоксифенилдиметилметан , трисгидроксиэтилизоцианураттриметакрилат , бисакрилаты и бисметакрилаты полиэтиленгликолей с молекул рным весом 2ОО-500 и так далее; ненасыщенные амиды, например метилен бисакриламид, метиленбисметакриламид , 1,67гексаметиленбисакриламид , диэтилентриаминтрисакриламид, jb -метакриламиноэтилметакрилат, виниловые эфиры, такие как дивинилсукиинат, дивиниладипат, дивинилфталат, причем наиболее предпочтительные соединени  с ненасыщенными этиленовыми св з ми включают пентаэритритолтетракрйлат, бис-Гп- (3-акрил окси-2-гидроксипр опокси) фенил|-диметилметан и бис-Гп-(Х-акрилoкcиэтoкcи )-фeнилJ-димeтилмeтaн. Могут использоватьс  также смеси этих эфиров с алкиловьпу1и эфирами акриловой кислоты и метакриловой кислоты , включа  такие эфиры, как метилакрилат , метилметакрилат, этилакрилат, изопропилметакрилат, н-гексилакрилат, стеарилакрилат, аллилакрилат, стирол, диаллилфталат и так далее. При изготовлении фоточувствительных составов компоненты смещиваютс  в произвольном пор дке и перемешиваютс  или размалываютс , образу  раствор однородной степени дисперсности. Фоточувствительные элементы приготавливают путем нанесени  сухого покрыти  соответствующего фоточувствительного состава толщиной примерно от 0,ООО05 до 0,07 5 дюйма на соответствующую основу или подложку, и путем сушки этого покрыти . В качестве подход щей дл  данной цели основы или подложки дл  нанесени  фоторсувствительного состава используютс  металлы, например стальные и алюминиевые пластины, листы и фольга, а также пленки или пластины, состо щие из различных пленкообразующих синтетических или высокомолекул рных полимеров, содержащих допопнитель но вводимые полимеры, например полимеры и сополимеры винилиден- хлорида, винилхлорида, вииилацетата, стирола, изобутилена; линейные поли меры конденсации, например полиэтилентерефталаг , полигексамегиленадипат, полигексаметиленадипададипат. П р и м е р 1, На полиэтиленовую пленку с помощью ножа нанос т влажное покрытие (толщиной 2 мила/0,05 мм) раствора, содержащего 5,0 частейBuivo В-72А (торговое название поливинилбутираловой смолы, поставл емой фирмой Монбап о Chemical Со ), з,о части триметилолпропантриметакрилатаи 0,2 час 2,4-бис- (трихл орметил) -6- г -метоксисти рил- 6 -триазина в 10О част х дихлорида этилена. После выпаривани  растворител  липкое покрытие наслаивалось на другую полиэфирную пленку, и затем материал, имеющий слоистую структуру (типа сандвича) подвергают экспонированию в т ;ение 10 сек посредством вольфрамоиодидной лампы, причем экспонирование осуществл ют через фотограП р и м е р 2. Приготовление печат ных пластин, илшострирующйх более высокую эффективность в присутствии кислрода хромофорсодержащих фэтоинициа- торов, соответствующих насто щему изобретению , по сравнению . с обычными инициаторами, содержащими свободные радикалы.
Приведен р д покрытий на анодированных алюминиевых пластинах (промышленно доступных) rWCsletH Q ailiie Qpoirt , поставл емый фирмой WestfiKK
UHho PEale attcl suppFy cowpa)
с использованием гомогенных растворов этилендихлорида-фермвар15/95
Торговое название смолы поливинилформал , поставл емой фирмой MottSattlo ChQ wicaH ,38
V мен винилова  смола (торговое название) сополимера винилацетат (винилхлорид) малеиновый ангидрид, поставл емого фирмой Utticoit С01кЬ(с1оС(/2,46
ТриметилолпропантриметакрИ лат6,00
Триметакрилат трисгидроксиэтилизодианурата2 ,00
Циан XT -553758 (торговое название фталодианинового пигмента, поставл емого
фирмойАтетсак Cjoinaitticl) 1.22
Инициатор0,40
Эти пластины экспонируют в , течение 70 сек через фотографический ступенчатый клин в вакуумной копировальной раме с использованием 135 а источника создани  освещени  - угольного стержн  дл  создани  дуги высокой фоточувствительности 118 (торговое название угольного стержн ,, поставл емого фир-

Claims (2)

  1. мой Uiiiott (3e ), расположенного на рассто нии 1,29 м от пластины. Дл  про влени  эти пластины покрьшают раст вором , содержащим 35% н-пропилового спирта, 6О% дистиллированной воды, 1,5% сульфата аммони  и 1,5% первичного кислого фосфорнокислого аммони . Неэкспонированные участки удал ют, использу  про вл ющее средство 3MBfOlMd (торговое название), при равномерном стирании (от слабого до умеренного воздействи ). Ниже представлены з,начени  относительной эффективности различных фотоинидиаторов, используемых в р де про вл юшл;хс  ступеней. Одиннадцать фический ст1пенча1ый клин. Пленки далее удал ют и нанос т покрытие то- нирующего порощка ЗМБгалс системы А-90 (торговое название), который склеивают с липкими неэкспонированными участками, но не с фотополимеризованными участками. Получают стойкое несмываемое позитивное изображение, соопветствующае четырем открытым ступен м на клин. Материал с аналогичной структурой получают, использу  те же количества (0,2 частей) фотоинициатора, перечисленных в таблице 2, и их спектральные характеристики в каждом случае измер ют , использу  лабораторный спектрограф . Наблюдаемые данные соотнос т в пределах экспериментальной ошибки с максимумом поглощени  и Спектром этих ма- териалов. Таолица2 про вл емых ступеней на пластинах приготавливали с использованием хромо форсодержаших фотоинициаторов, соответ вующих изобретению, в то врем  как не лее семи про вл емых ступеней на пласт приготавливали с использованием фотоинициаторов , описанных ранее. Про в Фотоинициатор - соединение, мые с части пени 1.0,4 метилэфир бензоина 2.0,4 антрахинон 3.0,4 фенатрахинонО-1 4.0,4 2-этил-9,10-диметоксиантраценО-1 5.0,4 этил-9,10-диметоксиантрацена; 0,4 2,4,6-трис- (трибромометил)-6 -триазин7 7.0,4- 2-этил-9,10-диметоксиантрацен , О,4-2,4-бис- (трихлорметил)-6-метил-триазин3 8.0,4 1-(п-метоксифенил)-3- (п-дифениламинофенил)-2-пропен- 1-он; 0,4 2,4-бис-(трихлорметил)-6-метил- 6 -триазин4 9.0,4 хромофорсодержащий фотоиниииатор (соединение 4) 11 Ю. 0,4 хромофорсодержащий фотоинициатор (соединение 5) 11 П р и М е р 3. На полиэфирную пле нанос т влажное покрытие толщиной 0,075 мм фоточувствительного состава содержащего, части: Buivat B-72 (торговое название) 2,5 ц-Диметиламинофенилбис-( 2-метилиндолил )-метан1,О Соединение 4О,5 Метанол-этиленхлорид3,0 При экспонировании получают глубокое окрашивание, которое служит характеристикой окисленной формы лейко-кра сител . Аналогичным образом (лейкоосновани 2-п-диметилстирилхинолин и лейкокраси ейкокристалл фиолетовый, также дают ксии ируемые изображени , основанные на проессах получени  фотолитической кислоты и фотоокислени  в случае использовани  етилбис-( 2-метилиндол) -метана. Формула изобретени  1. Композици , чувствительна  к облуению , состо ща  по крайней мере из одного ненасыщенного этиленового соеинени  и фотсжнициатора полимеризации, отличающа с  тем, что,, с елью расширени  предела спектральной увствительности, в качестве фотоинициаора полимеризации введено соединение общей формулы Т CQ.( V YI где U - атом хлора или брома; ТР - представл ет собой СО,,, , NH, -ТУНТ, -П. или ОТ ; R - фенил или алкил (С : 6); « 1-3; . А/ - замещенное или незамещенное ароматическое  дро или замещенный индолил-3 или радикал формулы 11 -Ш-С где Z - кислород или сера; К - Н, фенил, алкил.
  2. 2. Композици , чувствительна  к облучению по.п. 1, отличающа с  тем, что соединение формулы I введено в количестве 1-7,5 вес.ч. на 100 в. ч. этилен(жого соединени .
SU721826337A 1971-09-03 1972-09-01 Композици ,чувствительна к облучению SU618064A3 (ru)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US05/177,851 US3987037A (en) 1971-09-03 1971-09-03 Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU618064A3 true SU618064A3 (ru) 1978-07-30

Family

ID=22650203

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU721826337A SU618064A3 (ru) 1971-09-03 1972-09-01 Композици ,чувствительна к облучению

Country Status (12)

Country Link
US (1) US3987037A (ru)
JP (2) JPS591281B2 (ru)
BE (1) BE788295A (ru)
BR (1) BR7206066D0 (ru)
CA (1) CA986512A (ru)
CH (1) CH576967A5 (ru)
DE (1) DE2243621A1 (ru)
FR (1) FR2152039A5 (ru)
GB (1) GB1388492A (ru)
IT (1) IT965195B (ru)
NL (1) NL172155C (ru)
SU (1) SU618064A3 (ru)

Families Citing this family (319)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2641100A1 (de) * 1976-09-13 1978-03-16 Hoechst Ag Lichtempfindliche kopierschicht
JPS5363506A (en) * 1976-11-19 1978-06-07 Toyo Electric Mfg Co Ltd Method of manufacturing vvshaped insulation of commutator
US4189323A (en) * 1977-04-25 1980-02-19 Hoechst Aktiengesellschaft Radiation-sensitive copying composition
US4212970A (en) * 1977-11-28 1980-07-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. 2-Halomethyl-5-vinyl-1,3,4-oxadiazole compounds
JPS5474728A (en) * 1977-11-28 1979-06-15 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
CA1116915A (en) * 1977-12-28 1982-01-26 Anthony Adin Inhibition of image formation utilizing cobalt(iii) complexes
JPS5495687A (en) * 1978-01-11 1979-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd Photopolymerizable composition
JPS6053300B2 (ja) * 1978-08-29 1985-11-25 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
JPS5555335A (en) * 1978-10-19 1980-04-23 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS5577742A (en) * 1978-12-08 1980-06-11 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS55126235A (en) * 1979-03-22 1980-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
JPS5651735A (en) * 1979-10-03 1981-05-09 Asahi Chem Ind Co Ltd Photoreactive composition
US4330590A (en) * 1980-02-14 1982-05-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photoactive mixture of acrylic monomers and chromophore-substituted halomethyl-2-triazine
US4391687A (en) * 1980-02-14 1983-07-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photoactive mixture of acrylic monomers and chromophore-substituted halomethyl-1-triazine
US4337303A (en) * 1980-08-11 1982-06-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Transfer, encapsulating, and fixing of toner images
US4413108A (en) * 1980-11-03 1983-11-01 Minnesota Mining & Manufacturing Company Anaerobically-curing compositions
US4500608A (en) * 1980-11-03 1985-02-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Anaerobically-curing compositions
US4447588A (en) * 1980-11-03 1984-05-08 Minnesota Mining & Manufacturing Company Anaerobically-curing compositions
JPS57200683A (en) * 1981-06-05 1982-12-08 Hitachi Ltd Self-priming pump assembly
US4404345A (en) * 1981-09-16 1983-09-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Novel adhesive compositions
JPS58190946A (ja) * 1982-04-30 1983-11-08 Sharp Corp ホトレジスト
US4459350A (en) * 1982-09-29 1984-07-10 Eastman Kodak Company Photothermographic material and processing comprising a substituted triazine
JPS5989303A (ja) * 1982-11-12 1984-05-23 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
DE3327811A1 (de) * 1983-08-02 1985-02-21 Kali-Chemie Pharma Gmbh, 3000 Hannover Neue valepotriathydrinhaltige arzneimittel
JPS59148784A (ja) * 1983-02-10 1984-08-25 Konishiroku Photo Ind Co Ltd ５―置換―２―ハロメチル―１，３，４―オキサジアゾール化合物及び該化合物を含有する光反応開始剤
GB8321813D0 (en) * 1983-08-12 1983-09-14 Vickers Plc Radiation sensitive compounds
DE3333450A1 (de) * 1983-09-16 1985-04-11 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Trihalogenmethylgruppen enthaltende carbonylmethylenheterocyclen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindungen enthaelt
DE3337024A1 (de) * 1983-10-12 1985-04-25 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliche, trichlormethylgruppen aufweisende verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
JPS60103343A (ja) * 1983-11-10 1985-06-07 Shikoku Chem Corp 光硬化性樹脂組成物
US4476215A (en) * 1983-11-25 1984-10-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company Negative-acting photoresist composition
US4559401A (en) * 1984-06-04 1985-12-17 Polychrome Corporation Process for preparing chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
US4946373A (en) * 1985-02-28 1990-08-07 Hoechst Celanese Corporation Radiation-polymerizable composition
US4851319A (en) * 1985-02-28 1989-07-25 Hoechst Celanese Corporation Radiation polymerizable composition, photographic element, and method of making element with diazonium salt, and monofunctional and polyfunctional acrylic monomers
US4737426A (en) * 1985-05-15 1988-04-12 Ciba-Geigy Corporation Cyclic acetals or ketals of beta-keto esters or amides
JPH0766186B2 (ja) * 1985-07-02 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US5120772A (en) * 1985-08-02 1992-06-09 Walls John E Radiation-polymerizable composition and element containing a photopolymerizable mixture
DE3606155A1 (de) * 1986-02-26 1987-08-27 Basf Ag Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes lichtempfindliches aufzeichnungselement sowie verfahren zur herstellung einer flachdruckform mittels dieses lichtempfindlichen aufzeichnungselements
EP0243159A3 (en) * 1986-04-22 1988-11-30 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable compositions
DE3613632A1 (de) * 1986-04-23 1987-10-29 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
JPH0642074B2 (ja) * 1986-09-10 1994-06-01 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE3716848A1 (de) * 1987-05-20 1988-12-01 Hoechst Ag Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials
DE3717933A1 (de) * 1987-05-27 1988-12-08 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch, dieses enthaltendes aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von hochwaermebestaendigen reliefstrukturen
JPH07120036B2 (ja) * 1987-07-06 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
DE3725741A1 (de) * 1987-08-04 1989-02-16 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch
DE3725949A1 (de) * 1987-08-05 1989-02-16 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung von negativen reliefkopien
JPS6442645A (en) * 1987-08-11 1989-02-14 Tomoegawa Paper Co Ltd Optical coloring composition
DE3821585A1 (de) * 1987-09-13 1989-03-23 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial fuer hochenergetische strahlung
DE3807381A1 (de) * 1988-03-07 1989-09-21 Hoechst Ag 4,6-bis-trichlormethyl-s-triazin-2-ylgruppen enthaltende heterocyclische verbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und lichtempfindliches gemisch, das diese verbindung enthaelt
US5262276A (en) * 1988-05-11 1993-11-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive compositions
JPH0820734B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物
US5187045A (en) * 1988-09-07 1993-02-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing a sensitizer moiety
US5153323A (en) * 1988-09-07 1992-10-06 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing a photoinitiator moiety
US5116977A (en) * 1988-09-07 1992-05-26 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing an amine-containing moiety
US5034526A (en) * 1988-09-07 1991-07-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing a sensitizer moiety
US4985562A (en) * 1988-09-07 1991-01-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing an amine-containing moiety
US5387682A (en) * 1988-09-07 1995-02-07 Minnesota Mining And Manufacturing Company Halomethyl-1,3,5-triazines containing a monomeric moiety
DE3912652A1 (de) * 1989-04-18 1990-10-25 Hoechst Ag Lichtempfindliche bis-trichlormethyl-s-triazine, verfahren zu ihrer herstellung und diese verbindungen enthaltendes lichtempfindliches gemisch
CA2023112C (en) * 1989-08-11 2000-09-26 Jun Yamaguchi Light- and heat-sensitive recording material
DE3930087A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-14 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3930086A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-21 Hoechst Ag Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE4006190A1 (de) * 1990-02-28 1991-08-29 Hoechst Ag Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
US5091287A (en) * 1990-04-10 1992-02-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photoreactive oligomer composition and printing plate
US5108859A (en) * 1990-04-16 1992-04-28 Eastman Kodak Company Photoelectrographic elements and imaging method
TW207009B (ru) * 1991-01-31 1993-06-01 Sumitomo Chemical Co
US5362874A (en) * 1991-03-15 1994-11-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive bistrihalomethyl-s-triazine compounds
DE4120174A1 (de) * 1991-06-19 1992-12-24 Hoechst Ag Strahlungsempfindliche sulfonsaeureester und deren verwendung
US5298361A (en) * 1991-08-30 1994-03-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Light-sensitive article containing migration-resistant halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiator
JP3070184B2 (ja) * 1991-10-18 2000-07-24 三菱化学株式会社 光重合性組成物及び感光材料
CA2085868A1 (en) * 1991-12-25 1993-06-26 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition
DE4204949A1 (de) * 1992-02-19 1993-09-09 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung eines mehrfarbenbilds und lichtempfindliches material zur durchfuehrung dieses verfahrens
US5219709A (en) * 1992-02-26 1993-06-15 Mitsubishi Kasei Corporation Photopolymerizable composition
JP2566098B2 (ja) * 1992-05-01 1996-12-25 東京応化工業株式会社 ネガ型放射線感応性レジスト組成物
AU674518B2 (en) * 1992-07-20 1997-01-02 Presstek, Inc. Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus
US5374501A (en) * 1992-08-17 1994-12-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Alkali soluble photopolymer in color proofing constructions
US6010824A (en) * 1992-11-10 2000-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same
GB2273101B (en) * 1992-11-10 1997-03-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Photosensitive resin composition
JPH06308729A (ja) * 1993-04-19 1994-11-04 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感放射線性樹脂組成物
EP0621508B1 (en) * 1993-04-20 1996-09-25 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Radiation sensitive resin composition
KR950001416A (ko) * 1993-06-04 1995-01-03 미야베 요시까즈 네가형 감광성 조성물 및 이것을 사용한 패턴의 형성방법
DE4438137A1 (de) * 1993-10-26 1995-04-27 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliche Trihalogenmethyl-s-Triazin-Verbindung und photopolymerisierbare Zusammensetzung unter Verwendung derselben
JPH07311462A (ja) 1994-05-16 1995-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物および画像形成方法
US5631307A (en) 1994-06-28 1997-05-20 Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Photopolymerization initiator composition and photopolymerizable composition
EP0700909B1 (en) * 1994-09-06 1998-12-30 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive bis(halomethyloxadiazole) compound and photosensitive transfer sheet using the same
US5460918A (en) * 1994-10-11 1995-10-24 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal transfer donor and receptor with silicated surface for lithographic printing applications
US5882843A (en) * 1994-11-15 1999-03-16 Hoechst Japan Limited Photosensitive resin composition for color filter production
DE4444669A1 (de) 1994-12-15 1996-06-20 Hoechst Ag Strahlungsempfindliches Gemisch
US6110639A (en) * 1994-12-28 2000-08-29 Hoechst Japan Limited Radiation-sensitive composition and recording medium using the same
US5885746A (en) * 1994-12-29 1999-03-23 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition, photosensitive printing plate using the same and method of manufacturing printing master plate
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US5660968A (en) * 1995-05-05 1997-08-26 Bayer Corporation Negative working, peel developeable, single sheet color proofing system with improved background color
JPH0954437A (ja) 1995-06-05 1997-02-25 Fuji Photo Film Co Ltd 化学増幅型ポジレジスト組成物
EP0771796B1 (de) 1995-11-02 2002-06-19 Agfa-Gevaert Substituierte s-Triazine und Verfahren zu ihrer Herstellung
TW466256B (en) 1995-11-24 2001-12-01 Ciba Sc Holding Ag Borate photoinitiator compounds and compositions comprising the same
US5814431A (en) 1996-01-10 1998-09-29 Mitsubishi Chemical Corporation Photosensitive composition and lithographic printing plate
US5879858A (en) * 1996-12-19 1999-03-09 Kodak Polychrome Graphics, Llc Photosensitive polymer composition containing photosensitive polyamide and negative working photosensitive element
US5821032A (en) * 1996-12-19 1998-10-13 Kodak Polychrome Graphics, Llc Photosensitive polymer composition and negative working photosensitive element containing three photocrosslinkable polymers
US5962189A (en) * 1996-12-19 1999-10-05 Kodak Polychrome Graphics Llc Photosensitive composition containing photosensitive polyamide and thiazoline photoinitiator and negative working photosensitive element
US5837586A (en) * 1997-02-14 1998-11-17 Kodak Polychrome Graphics Company, Ltd. 4-(alkoxyhydroxy)styryl triazine photinitiators and photo sensitive composition
US6010821A (en) 1997-05-23 2000-01-04 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aqueous developable color proofing elements
US5847133A (en) * 1997-05-23 1998-12-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Ionic halomethyl-1,3,5-triazine photoinitiators
US5925498A (en) * 1997-06-16 1999-07-20 Kodak Polychrome Graphics Llc Photosensitive polymer composition and element containing photosensitive polyamide and mixture of acrylates
JPH1124252A (ja) * 1997-06-26 1999-01-29 Agfa Gevaert Nv 同じ材料を用いてポジテイブ又はネガテイブカラープルーフを作製するための方法
JP4130030B2 (ja) 1999-03-09 2008-08-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物および１，３−ジヒドロ−１−オキソ−２ｈ−インデン誘導体化合物
US7118845B2 (en) * 2000-06-15 2006-10-10 3M Innovative Properties Company Multiphoton photochemical process and articles preparable thereby
US7790353B2 (en) * 2000-06-15 2010-09-07 3M Innovative Properties Company Multidirectional photoreactive absorption method
US7005229B2 (en) * 2002-10-02 2006-02-28 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization method
AU2001266905A1 (en) * 2000-06-15 2001-12-24 3M Innovative Properties Company Microfabrication of organic optical elements
US6852766B1 (en) * 2000-06-15 2005-02-08 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization system
JP4786858B2 (ja) * 2000-06-15 2011-10-05 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 封入光学素子を提供するための多光子硬化
JP4472922B2 (ja) * 2000-06-15 2010-06-02 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 多光子光化学プロセスを使用したマルチカラー画像化
ATE440308T1 (de) * 2000-06-15 2009-09-15 3M Innovative Properties Co Methode und gerät zur erzielung wiederholter multiphotonabsorption
US7265161B2 (en) * 2002-10-02 2007-09-04 3M Innovative Properties Company Multi-photon reactive compositions with inorganic particles and method for fabricating structures
US7381516B2 (en) * 2002-10-02 2008-06-03 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization system
JP2004503392A (ja) * 2000-06-15 2004-02-05 スリーエム　イノベイティブ　プロパティズ　カンパニー マイクロ流体製品を製造するためのプロセス
JP2005502074A (ja) 2001-09-04 2005-01-20 コダック ポリクロウム グラフィクス リミティド ライアビリティ カンパニー ハイブリッド校正法
US6750266B2 (en) * 2001-12-28 2004-06-15 3M Innovative Properties Company Multiphoton photosensitization system
US6808657B2 (en) 2002-02-12 2004-10-26 3M Innovative Properties Company Process for preparing a K-type polarizer
US7521168B2 (en) 2002-02-13 2009-04-21 Fujifilm Corporation Resist composition for electron beam, EUV or X-ray
US6949207B2 (en) * 2002-04-04 2005-09-27 3M Innovative Properties Company K-type polarizer and preparation thereof
US7087194B2 (en) * 2002-04-04 2006-08-08 3M Innovative Properties Company K-type polarizer and preparation thereof
JP4382364B2 (ja) 2002-04-24 2009-12-09 株式会社東芝 液体インク
KR100955454B1 (ko) 2002-05-31 2010-04-29 후지필름 가부시키가이샤 포지티브 레지스트 조성물
US7232650B2 (en) * 2002-10-02 2007-06-19 3M Innovative Properties Company Planar inorganic device
US7771915B2 (en) 2003-06-27 2010-08-10 Fujifilm Corporation Two-photon absorbing optical recording material and two-photon absorbing optical recording and reproducing method
JP4291638B2 (ja) 2003-07-29 2009-07-08 富士フイルム株式会社 アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた平版印刷版原版
EP1528087B1 (en) * 2003-10-28 2007-11-21 Toshiba Tec Kabushiki Kaisha Ink for ink jet recording
US20050153239A1 (en) 2004-01-09 2005-07-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method using the same
JP2005309359A (ja) 2004-03-25 2005-11-04 Fuji Photo Film Co Ltd ホログラム記録材料、ホログラム記録方法、光記録媒体、３次元ディスプレイホログラムおよびホログラフィック光学素子。
JP2005300908A (ja) 2004-04-12 2005-10-27 Konica Minolta Medical & Graphic Inc 感光性組成物及び感光性平版印刷版材料
US7553670B2 (en) * 2004-04-28 2009-06-30 3M Innovative Properties Company Method for monitoring a polymerization in a three-dimensional sample
US20070144384A1 (en) 2004-05-19 2007-06-28 Fuji Photo Film Co., Ltd Image recording method
EP2618215B1 (en) 2004-05-31 2017-07-05 Fujifilm Corporation Method for producing a lithographic printing plate
JP4452572B2 (ja) 2004-07-06 2010-04-21 富士フイルム株式会社 感光性組成物およびそれを用いた画像記録方法
JP2006021396A (ja) 2004-07-07 2006-01-26 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版および平版印刷方法
US7146909B2 (en) 2004-07-20 2006-12-12 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
US7425406B2 (en) 2004-07-27 2008-09-16 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
EP1621339B1 (en) 2004-07-29 2008-09-10 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate
US20060032390A1 (en) 2004-07-30 2006-02-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
WO2006013697A1 (ja) 2004-08-02 2006-02-09 Fujifilm Corporation 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP4396443B2 (ja) 2004-08-18 2010-01-13 コニカミノルタエムジー株式会社 感光性平版印刷版の製造方法及び使用方法
DE602005005403T2 (de) 2004-08-24 2009-04-23 Fujifilm Corp. Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
JP2006062188A (ja) 2004-08-26 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 色画像形成材料及び平版印刷版原版
JP2006068963A (ja) 2004-08-31 2006-03-16 Fuji Photo Film Co Ltd 重合性組成物、それを用いた親水性膜、及び、平版印刷版原版
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
WO2006061981A1 (ja) 2004-12-09 2006-06-15 Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. 光硬化性インクを用いた画像形成方法及びインクジェット記録装置、また、光硬化性インクを用いたインクセット、インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置
US20060150846A1 (en) 2004-12-13 2006-07-13 Fuji Photo Film Co. Ltd Lithographic printing method
US7199192B2 (en) 2004-12-21 2007-04-03 Callaway Golf Company Golf ball
JP2006181838A (ja) 2004-12-27 2006-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP2007055224A (ja) 2005-01-26 2007-03-08 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷方法および平版印刷版原版の梱包体
JP4439409B2 (ja) 2005-02-02 2010-03-24 富士フイルム株式会社 レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
EP1696268B1 (en) 2005-02-28 2016-11-09 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
US20060204732A1 (en) 2005-03-08 2006-09-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Ink composition, inkjet recording method, printed material, method of producing planographic printing plate, and planographic printing plate
EP1701213A3 (en) 2005-03-08 2006-11-22 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition
JP4474317B2 (ja) 2005-03-31 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
KR20080028886A (ko) * 2005-05-26 2008-04-02 앙상블 디스커버리 코포레이션 핵산-템플레이팅된 화학 반응에 의한 생검출
JP2006335826A (ja) 2005-05-31 2006-12-14 Fujifilm Holdings Corp インクジェット記録用インク組成物およびこれを用いた平版印刷版の作製方法
JP4815270B2 (ja) 2005-08-18 2011-11-16 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び作製装置
JP4759343B2 (ja) 2005-08-19 2011-08-31 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版および平版印刷方法
ATE410460T1 (de) 2005-08-23 2008-10-15 Fujifilm Corp Härtbare tinte enthaltend modifiziertes oxetan
JP4757574B2 (ja) 2005-09-07 2011-08-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び、平版印刷版
DE602006019366D1 (de) 2005-11-04 2011-02-17 Fujifilm Corp Härtbare Tintenzusammensetzung und Oxetanverbindung
KR100763744B1 (ko) * 2005-11-07 2007-10-04 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 트리아진계 광활성 화합물
ATE496766T1 (de) 2006-03-03 2011-02-15 Fujifilm Corp Härtbare zusammensetzung, tintenzusammensetzung, tintenstrahlaufzeichnungsverfahren und flachdruckplatte
JP2007241144A (ja) 2006-03-10 2007-09-20 Fujifilm Corp 感光性組成物、並びに光記録媒体及びその製造方法、光記録方法、光記録装置
JP5171005B2 (ja) 2006-03-17 2013-03-27 富士フイルム株式会社 高分子化合物およびその製造方法、並びに顔料分散剤
JP4698470B2 (ja) 2006-03-31 2011-06-08 富士フイルム株式会社 光記録媒体の処理方法及び処理装置、並びに光記録再生装置
JP5276264B2 (ja) 2006-07-03 2013-08-28 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、平版印刷版の製造方法
EP2066813A2 (en) * 2006-09-28 2009-06-10 Ensemble Discovery Corporation Compositions and methods for biodetection by nucleic acid-templated chemistry
JP4777226B2 (ja) 2006-12-07 2011-09-21 富士フイルム株式会社 画像記録材料、及び新規化合物
US8771924B2 (en) 2006-12-26 2014-07-08 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor and lithographic printing method
JP2008163081A (ja) 2006-12-27 2008-07-17 Fujifilm Corp レーザー分解性樹脂組成物およびそれを用いるパターン形成材料ならびにレーザー彫刻型フレキソ印刷版原版
EP1952998B1 (en) 2007-02-01 2011-04-06 FUJIFILM Corporation Ink-jet recording device
JP2008189776A (ja) 2007-02-02 2008-08-21 Fujifilm Corp 活性放射線硬化型重合性組成物、インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法、及び平版印刷版
US8541063B2 (en) 2007-02-06 2013-09-24 Fujifilm Corporation Undercoat solution, ink-jet recording method and ink-jet recording device
JP4881756B2 (ja) 2007-02-06 2012-02-22 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、平版印刷方法、及び新規シアニン色素
US8240808B2 (en) 2007-02-07 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink-jet head maintenance device, ink-jet recording device and ink-jet head maintenance method
JPWO2008096618A1 (ja) 2007-02-09 2010-05-20 コニカミノルタエムジー株式会社 インクジェットヘッド、インクジェットプリンタ、インクジェット記録方法
JP2008203573A (ja) * 2007-02-20 2008-09-04 Fujifilm Corp 感光性組成物および２光子吸収光記録媒体
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP2008208266A (ja) 2007-02-27 2008-09-11 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、および平版印刷版
JP5224699B2 (ja) 2007-03-01 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の製造方法、及び平版印刷版
JP2008233660A (ja) 2007-03-22 2008-10-02 Fujifilm Corp 浸漬型平版印刷版用自動現像装置およびその方法
ATE471812T1 (de) 2007-03-23 2010-07-15 Fujifilm Corp Negativ-lithografiedruckplattenvorläufer und lithografiedruckverfahren damit
JP5238292B2 (ja) 2007-03-23 2013-07-17 三菱製紙株式会社 水現像可能な感光性平版印刷版材料
JP4860525B2 (ja) 2007-03-27 2012-01-25 富士フイルム株式会社 硬化性組成物及び平版印刷版原版
EP1974914B1 (en) 2007-03-29 2014-02-26 FUJIFILM Corporation Method of preparing lithographic printing plate
JP5030638B2 (ja) 2007-03-29 2012-09-19 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ及びその製造方法
EP1975702B1 (en) 2007-03-29 2013-07-24 FUJIFILM Corporation Colored photocurable composition for solid state image pick-up device, color filter and method for production thereof, and solid state image pick-up device
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
EP1975710B1 (en) 2007-03-30 2013-10-23 FUJIFILM Corporation Plate-making method of lithographic printing plate precursor
EP1975706A3 (en) 2007-03-30 2010-03-03 FUJIFILM Corporation Lithographic printing plate precursor
JP5159141B2 (ja) 2007-03-30 2013-03-06 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版
JP5046744B2 (ja) 2007-05-18 2012-10-10 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、及びそれを用いた印刷方法
US7651830B2 (en) * 2007-06-01 2010-01-26 3M Innovative Properties Company Patterned photoacid etching and articles therefrom
EP2011643B1 (en) 2007-07-02 2010-10-13 FUJIFILM Corporation Planographic printing plate precursor and printing method using the same
JP5213375B2 (ja) 2007-07-13 2013-06-19 富士フイルム株式会社 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子
EP2048539A1 (en) 2007-09-06 2009-04-15 FUJIFILM Corporation Processed pigment, pigment-dispersed composition, colored photosensitive composition, color filter, liquid crystal display element, and solid image pickup element
JP5247093B2 (ja) 2007-09-14 2013-07-24 富士フイルム株式会社 アゾ化合物、硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP2009091555A (ja) 2007-09-18 2009-04-30 Fujifilm Corp 硬化性組成物、画像形成材料及び平版印刷版原版
US9442372B2 (en) 2007-09-26 2016-09-13 Fujifilm Corporation Pigment dispersion composition, photocurable composition and color filter
JP5111039B2 (ja) 2007-09-27 2012-12-26 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合開始剤、および染料を含有する光硬化性組成物
JP5265165B2 (ja) 2007-09-28 2013-08-14 富士フイルム株式会社 塗布装置及びこれを用いるインクジェット記録装置
JP5244518B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
EP2042928B1 (en) 2007-09-28 2010-07-28 FUJIFILM Corporation Negative-working photosensitive material and negative-working planographic printing plate precursor
JP2009098688A (ja) 2007-09-28 2009-05-07 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法および平版印刷方法
JP5055077B2 (ja) 2007-09-28 2012-10-24 富士フイルム株式会社 画像形成方法および平版印刷版原版
JP5002399B2 (ja) 2007-09-28 2012-08-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の処理方法
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP4951454B2 (ja) 2007-09-28 2012-06-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作成方法
JP4898618B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-21 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
EP2218756B1 (en) 2007-11-01 2013-07-31 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion composition, curable color composition, color filter and method for producing the same
US8361702B2 (en) 2007-11-08 2013-01-29 Fujifilm Corporation Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate
US8240838B2 (en) 2007-11-29 2012-08-14 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed material
JP2009139852A (ja) 2007-12-10 2009-06-25 Fujifilm Corp 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP5068640B2 (ja) 2007-12-28 2012-11-07 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5066452B2 (ja) 2008-01-09 2012-11-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版用現像処理方法
JP2009186997A (ja) 2008-01-11 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法及び平版印刷版方法
JP5500831B2 (ja) 2008-01-25 2014-05-21 富士フイルム株式会社 レリーフ印刷版の作製方法及びレーザー彫刻用印刷版原版
JP5241252B2 (ja) 2008-01-29 2013-07-17 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
JP5052360B2 (ja) 2008-01-31 2012-10-17 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
JP5371449B2 (ja) 2008-01-31 2013-12-18 富士フイルム株式会社 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法
JP2009184188A (ja) 2008-02-05 2009-08-20 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および印刷方法
JP5150287B2 (ja) 2008-02-06 2013-02-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
JP5147499B2 (ja) 2008-02-13 2013-02-20 富士フイルム株式会社 感光性着色組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法
US20090214797A1 (en) 2008-02-25 2009-08-27 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition, and inkjet recording method and printed material employing same
JP5137618B2 (ja) 2008-02-28 2013-02-06 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
EP2095970A1 (en) 2008-02-29 2009-09-02 Fujifilm Corporation Resin composition for laser engraving, resin printing plate precursor for laser engraving, relief printing plate and method for production of relief printing plate
JP5175582B2 (ja) 2008-03-10 2013-04-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5448352B2 (ja) 2008-03-10 2014-03-19 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及び、固体撮像素子
JP5583329B2 (ja) 2008-03-11 2014-09-03 富士フイルム株式会社 顔料組成物、インク組成物、印刷物、インクジェット記録方法、及びポリアリルアミン誘導体
JP2009214428A (ja) 2008-03-11 2009-09-24 Fujifilm Corp 平版印刷版原版および平版印刷方法
WO2009116442A1 (ja) 2008-03-17 2009-09-24 富士フイルム株式会社 顔料分散組成物、着色感光性組成物、光硬化性組成物、カラーフィルタ、液晶表示素子、及び固体撮像素子
JP5334624B2 (ja) 2008-03-17 2013-11-06 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
KR20090100262A (ko) 2008-03-18 2009-09-23 후지필름 가부시키가이샤 감광성 수지 조성물, 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP4940174B2 (ja) 2008-03-21 2012-05-30 富士フイルム株式会社 平版印刷版用自動現像装置
JP2009229771A (ja) 2008-03-21 2009-10-08 Fujifilm Corp 平版印刷版用自動現像方法
JP2009236942A (ja) 2008-03-25 2009-10-15 Fujifilm Corp 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5020871B2 (ja) 2008-03-25 2012-09-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版の製造方法
JP5422146B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法
JP5473239B2 (ja) 2008-03-25 2014-04-16 富士フイルム株式会社 金属フタロシアニン染料混合物、硬化性組成物、カラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法
JP5422134B2 (ja) 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 浸漬型平版印刷版用自動現像方法
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
EP2105298B1 (en) 2008-03-28 2014-03-19 FUJIFILM Corporation Negative-working lithographic printing plate precursor and method of lithographic printing using same
JP5322575B2 (ja) 2008-03-28 2013-10-23 富士フイルム株式会社 レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法
JP5173528B2 (ja) 2008-03-28 2013-04-03 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、遮光性カラーフィルター及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5155920B2 (ja) 2008-03-31 2013-03-06 富士フイルム株式会社 感光性透明樹脂組成物、カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルター
JP5305793B2 (ja) 2008-03-31 2013-10-02 富士フイルム株式会社 レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法
JP5528677B2 (ja) 2008-03-31 2014-06-25 富士フイルム株式会社 重合性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子および固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法
JP5137662B2 (ja) 2008-03-31 2013-02-06 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
US20090260531A1 (en) 2008-04-18 2009-10-22 Fujifilm Corporation Aluminum alloy plate for lithographic printing plate, lithographic printing plate support, presensitized plate, method of manufacturing aluminum alloy plate for lithographic printing plate and method of manufacturing lithographic printing plate support
KR101441998B1 (ko) 2008-04-25 2014-09-18 후지필름 가부시키가이샤 중합성 조성물, 차광성 컬러필터, 흑색 경화성 조성물, 고체촬상소자용 차광성 컬러필터와 그 제조 방법, 및 고체촬상소자
JP5222624B2 (ja) 2008-05-12 2013-06-26 富士フイルム株式会社 黒色感光性樹脂組成物、及びカラーフィルタ並びにその製造方法
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
US8454152B2 (en) 2008-06-23 2013-06-04 Konica Minolta Holdings, Inc. Ink jet recording device and ink jet recording method
JP5296434B2 (ja) 2008-07-16 2013-09-25 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
JP2010044273A (ja) 2008-08-14 2010-02-25 Fujifilm Corp カラーフィルタ及びその形成方法、並びに固体撮像素子
JP5274151B2 (ja) 2008-08-21 2013-08-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、固体撮像素子
JP5383133B2 (ja) 2008-09-19 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法及び印刷物成形体の製造方法
US8151705B2 (en) 2008-09-24 2012-04-10 Fujifilm Corporation Method of preparing lithographic printing plate
JP2010077228A (ja) 2008-09-25 2010-04-08 Fujifilm Corp インク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
ATE541905T1 (de) 2008-09-26 2012-02-15 Fujifilm Corp Tintenzusammensetzung und tintenaufzeichnungsverfahren
JP5079653B2 (ja) 2008-09-29 2012-11-21 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5461809B2 (ja) 2008-09-29 2014-04-02 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5171514B2 (ja) 2008-09-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP5660268B2 (ja) 2008-09-30 2015-01-28 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版、平版印刷版の製版方法及び重合性モノマー
JP5127651B2 (ja) 2008-09-30 2013-01-23 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5393092B2 (ja) 2008-09-30 2014-01-22 富士フイルム株式会社 染料含有ネガ型硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP5340102B2 (ja) 2008-10-03 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物、重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、液晶表示装置、ウェハレベルレンズ、及び撮像ユニット
US8888262B2 (en) 2008-11-07 2014-11-18 Konica Minolta Holdings, Inc. Actinic energy radiation curable inkjet ink and inkjet recording method
JP2010115791A (ja) 2008-11-11 2010-05-27 Konica Minolta Ij Technologies Inc 画像形成装置
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2010198735A (ja) 2009-02-20 2010-09-09 Fujifilm Corp 光学部材及び該光学部材を備えた有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP5340198B2 (ja) 2009-02-26 2013-11-13 富士フイルム株式会社 分散組成物
JP5349095B2 (ja) 2009-03-17 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5315267B2 (ja) 2009-03-26 2013-10-16 富士フイルム株式会社 着色硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに、キノフタロン色素
JP5383289B2 (ja) 2009-03-31 2014-01-08 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット用であるインク組成物、インクジェット記録方法、およびインクジェット法による印刷物
EP2420871B1 (en) 2009-04-16 2014-08-20 FUJIFILM Corporation Polymerizable composition for color filter, color filter, and solid imaging element
JP5572026B2 (ja) 2009-09-18 2014-08-13 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5701576B2 (ja) 2009-11-20 2015-04-15 富士フイルム株式会社 分散組成物及び感光性樹脂組成物、並びに固体撮像素子
JP5791874B2 (ja) 2010-03-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置
CN102336081A (zh) 2010-05-19 2012-02-01 富士胶片株式会社 印刷方法、套印物的制作方法、层压加工方法、发光二极管固化性涂布组合物及墨液组合物
JP5638285B2 (ja) 2010-05-31 2014-12-10 富士フイルム株式会社 重合性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子
JP5622564B2 (ja) 2010-06-30 2014-11-12 富士フイルム株式会社 感光性組成物、パターン形成材料、並びに、これを用いた感光性膜、パターン形成方法、パターン膜、低屈折率膜、光学デバイス、及び、固体撮像素子
EP2607433B1 (en) 2010-08-19 2020-11-11 Konica Minolta Holdings, Inc. Active ray-curable ink and active ray-curable inkjet recording method
JP5761202B2 (ja) 2010-12-10 2015-08-12 コニカミノルタ株式会社 インクジェット記録装置
KR101830206B1 (ko) 2010-12-28 2018-02-20 후지필름 가부시키가이샤 차광막 형성용 티타늄 블랙 분산 조성물과 그 제조방법, 흑색 감방사선성 조성물, 흑색 경화막, 고체촬상소자, 및 흑색 경화막의 제조방법
JP5417364B2 (ja) 2011-03-08 2014-02-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法
US9243007B2 (en) 2011-03-30 2016-01-26 Asahi Kasei Chemicals Corporation Organopolysiloxane, method for producing the same, and curable resin composition containing the organopolysiloxane
CN103492951A (zh) 2011-04-22 2014-01-01 3M创新有限公司 增大多光子成像分辨率的方法
EP2703173A4 (en) 2011-04-27 2014-10-01 Konica Minolta Inc INK JET PRINTING DEVICE
KR101622990B1 (ko) 2011-09-14 2016-05-20 후지필름 가부시키가이샤 컬러필터용 착색 감방사선성 조성물, 패턴 형성 방법, 컬러필터, 그 제조 방법, 및 고체 촬상 소자
JP5976523B2 (ja) 2011-12-28 2016-08-23 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5922013B2 (ja) 2011-12-28 2016-05-24 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
US9527310B2 (en) 2012-03-01 2016-12-27 Konica Minolta, Inc. Inkjet printing method
JP5934664B2 (ja) 2012-03-19 2016-06-15 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5775479B2 (ja) 2012-03-21 2015-09-09 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
EP2644664B1 (en) 2012-03-29 2015-07-29 Fujifilm Corporation Actinic radiation-curing type ink composition, inkjet recording method, decorative sheet, decorative sheet molded product, process for producing in-mold molded article, and in-mold molded article
JP6013461B2 (ja) 2012-05-01 2016-10-25 コニカミノルタ株式会社 画像形成装置
JP5934682B2 (ja) 2012-08-31 2016-06-15 富士フイルム株式会社 マイクロレンズ形成用又はカラーフィルターの下塗り膜形成用硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、固体撮像素子、及び、硬化性組成物の製造方法
JP5909468B2 (ja) 2012-08-31 2016-04-26 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、及び固体撮像素子
JP5894943B2 (ja) 2012-08-31 2016-03-30 富士フイルム株式会社 分散組成物、これを用いた硬化性組成物、透明膜、マイクロレンズ、マイクロレンズの製造方法、及び固体撮像素子
WO2014074372A1 (en) 2012-11-08 2014-05-15 3M Innovative Properties Company Uv-curable silicone release compositions
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
SG11201505047WA (en) 2012-12-28 2015-08-28 Fujifilm Corp Curable resin composition for forming infrared reflective film, infrared reflective film and manufacturing method thereof, infrared ray cutoff filter and solid-state imaging device using the same
WO2014104137A1 (ja) 2012-12-28 2014-07-03 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、赤外線カットフィルタ及びこれを用いた固体撮像素子
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
US9457569B2 (en) 2013-03-29 2016-10-04 Konica Minolta, Inc. Image formation device
CN105408435B (zh) 2013-07-16 2018-07-24 株式会社钟化 用于包覆有机/无机基材的活性能量线固化性树脂组合物
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
JP6162084B2 (ja) 2013-09-06 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素
TWI634135B (zh) 2015-12-25 2018-09-01 日商富士軟片股份有限公司 樹脂、組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法及半導體元件
KR102134138B1 (ko) 2016-03-14 2020-07-15 후지필름 가부시키가이샤 조성물, 막, 경화막, 광학 센서 및 막의 제조 방법
WO2018164076A1 (en) 2017-03-06 2018-09-13 Ricoh Company, Ltd. Film electrode, resin layer forming ink, inorganic layer forming ink, and electrode printing apparatus
TW202112837A (zh) 2019-09-26 2021-04-01 日商富士軟片股份有限公司 導熱層的製造方法、積層體的製造方法及半導體器件的製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2461943A (en) * 1949-02-15 Alpba
US3163647A (en) * 1960-11-10 1964-12-29 American Cyanamid Co Vinyl s-triazines, method of preparing the same and polymers derived therefrom
US3198633A (en) * 1961-12-01 1965-08-03 Du Pont Photopolymerizable elements and transfer processes
US3617288A (en) * 1969-09-12 1971-11-02 Minnesota Mining & Mfg Propenone sensitizers for the photolysis of organic halogen compounds

Also Published As

Publication number Publication date
DE2243621C2 (ru) 1987-08-20
JPS591281B2 (ja) 1984-01-11
BR7206066D0 (pt) 1973-07-24
JPS5685746A (en) 1981-07-13
GB1388492A (en) 1975-03-26
NL172155B (nl) 1983-02-16
NL7211076A (ru) 1973-03-06
CH576967A5 (ru) 1976-06-30
CA986512A (en) 1976-03-30
BE788295A (fr) 1973-03-01
IT965195B (it) 1974-01-31
NL172155C (nl) 1983-07-18
JPS4836281A (ru) 1973-05-28
JPS571819B2 (ru) 1982-01-13
US3987037A (en) 1976-10-19
FR2152039A5 (ru) 1973-04-20
DE2243621A1 (de) 1973-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SU618064A3 (ru) Композици ,чувствительна к облучению
JP2509288B2 (ja) 重合可能な化合物、これを含有する放射線重合可能な混合物及び放射線重合可能な記録材料
US3756827A (en) L compounds and selected sensitizerss photopolymerizable compositions containing cyclic cis-alpha-dicarbony
US5085974A (en) Photopolymerizable mixture, and a recording material produced therefrom
KR960006164B1 (ko) 광중합성 혼합물 및 이로부터 제조된 기록재료
USRE28789E (en) Photopolymerizable compositions containing cyclic cis-α-dicarbonyl compounds and selected sensitizers
US4351893A (en) Derivatives of aryl ketones as visible sensitizers of photopolymerizable compositions
US5049479A (en) Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom
US4268667A (en) Derivatives of aryl ketones based on 9,10-dihydro-9,10-ethanoanthracene and p-dialkyl-aminoaryl aldehydes as visible sensitizers for photopolymerizable compositions
US3954475A (en) Photosensitive elements containing chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
SU438204A1 (ru) Фотополимеризующа с копировальна композици
US3661588A (en) Photopolymerizable compositions containing aminophenyl ketones and adjuvants
JPH01152109A (ja) 光重合性組成物
JPH01165613A (ja) 重合可能な化合物、その放射線重合性混合物および放射線重合記録材料
JPS5928329B2 (ja) 光重合性組成物
US5066564A (en) Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom
JP2702120B2 (ja) 光重合可能な混合物、該混合物を含有する感光性記録素子および該感光性記録素子を用いて平版印刷版を製造する方法
US4987055A (en) Photopolymerizable composition comprising (meth)acrylates with photooxidizable groups, and a recording material produced therefrom
US4940647A (en) Photopolymerizable compositions a leuco dye and a leuco dye stabilizer
US5057398A (en) Photopolymerizable composition and photopolymerizable recording material containing same
JP2897375B2 (ja) 光重合性組成物
US3901705A (en) Method of using variable depth photopolymerization imaging systems
US5043249A (en) Photopolymerizable composition comprising (meth)acrylates with photooxidizable groups and a recording material produced therefrom
US4029505A (en) Method of producing positive polymer images
US4985341A (en) Photopolymerizable mixture, and a recording material produced therefrom