DE19834353A1 - Alkalisches Zink-Nickelbad - Google Patents
Alkalisches Zink-NickelbadInfo
- Publication number
- DE19834353A1 DE19834353A1 DE19834353A DE19834353A DE19834353A1 DE 19834353 A1 DE19834353 A1 DE 19834353A1 DE 19834353 A DE19834353 A DE 19834353A DE 19834353 A DE19834353 A DE 19834353A DE 19834353 A1 DE19834353 A1 DE 19834353A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- nickel
- anode
- electroplating bath
- zinc
- alkaline
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 12
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003010 cation ion exchange membrane Substances 0.000 claims 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 claims 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N sulfamic acid Chemical compound NS(O)(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract 1
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 abstract 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000013517 stratification Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- 229920002873 Polyethylenimine Polymers 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005341 cation exchange Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 208000029039 cyanide poisoning Diseases 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M sulfamate Chemical compound NS([O-])(=O)=O IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/02—Tanks; Installations therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Abstract
Zur Vermeidung unerwünschter Nebenreaktionen in einem alkalischen Zink-Nickel-Galvanikbad wird vorgeschlagen, die Anode von dem alkalischen Elektrolyten zu trennen.
Description
Die Erfindung betrifft ein Galvanikbad zum Auf/bringen
von Zink-Nickel-Überzügen mit einer Anode, einer Kathode
und einem alkalischen Elektrolyten.
Es ist bekannt, elektrisch leitende Werkstoffe zur Ver
besserung deren Korrosionsbeständigkeit mit Zink-Nickel-Le
gierungen zu überziehen. Dazu wird in herkömmlicher
Weise ein saures Elektrolytbad, beispielsweise mit Sul
fat-, Chlorid-, Fluoropromat- oder Sulfamat-Elektrolyten
eingesetzt. Bei diesen Verfahren ist die Erzielung einer
gleichmäßigen Dicke des Zink-Nickel-Überzuges auf dem zu
beschichtenden Werkstoff regelungstechnisch sehr aufwen
dig und in der Praxis meistens unmöglich.
Aus diesem Grund werden in jüngster Zeit die in der
deutschen Patentschrift 37 12 511 offenbarten alkali
schen Zink-Nickel-Galvanikbäder eingesetzt, die bei
spielsweise folgende Zusammensetzung aufweisen:
11,3 g/l ZnO
4,1 g/l NiSO4.6R2O
120 g/l NaOR
5,1 g/l Polyethylenimin.
11,3 g/l ZnO
4,1 g/l NiSO4.6R2O
120 g/l NaOR
5,1 g/l Polyethylenimin.
Die in dem Galvanikbad enthaltenen Amine dienen als Kom
plexbildner für die Nickelionen, welche im alkalischen
Medium ansonsten unlöslich sind. Die Zusammensetzung der
Bäder variiert je nach Hersteller.
Betrieben werden die Galvanikbäder gewöhnlich mit unlös
lichen Nickelanoden. Die Zinkkonzentration wird durch
Zugabe von Zink und die Nickelkonzentration durch Addi
tion einer Nickellösung, zum Beispiel einer
Nickelsulfat-Lösung, konstant gehalten.
Diese Bäder zeigen jedoch nach einigen Stunden Betrieb
eine Farbänderung von ursprünglich blau-violett nach
braun. Nach mehreren Tagen bzw. Wochen verstärkt sich
diese Färbung und es ist eine Trennung des Bades in zwei
Phasen feststellbar, wobei die obere Phase dunkelbraun
ist. Diese Phase bewirkt erhebliche Störungen der Be
schichtung der Werkstücke, wie beispielsweise ungleich
mäßige Schichtdicken oder Bläschenbildung. Eine kontinu
ierliche Reinigung des Bades, d. h. ein kontinuierliches
Abschöpfen dieser Schicht, ist somit unumgänglich. Diese
ist aber zeit- und kostenaufwendig.
Des weiteren kann nach einigen Wochen des Betriebs Cya
nid in den Bädern nachgewiesen werden. Die Cyanidbela
stung erfordert ein regelmäßiges Erneuern des Bades und
eine spezielle Abwasserbehandlung, die sich erheblich
auf die Betriebskosten des Bades auswirkt. Dies gilt um
so mehr, als die Abwässer eine sehr hohe Organikkonzen
tration aufweisen und mit einem CSB-Wert von ca. 15.000
bis 20.000 mg/l die Cyanidentgiftung erschweren. Das
Einhalten der vom Gesetzgeber vorgegebenen Abwasserwerte
(Nickel 0,5 ppm und Zink 2 ppm) ist dann nur noch durch
umfangreichen Zusatz von Chemikalien möglich.
Die Ausbildung der zweiten Phase ist auf eine Reaktion
der Amine zurückzuführen, die in alkalischer Lösung an
Nickelanoden zu Nitrilen (unter anderen auch zu Cyanid)
umgesetzt werden. Aufgrund der Zersetzung der Amine muß
dem Bad zudem kontinuierlich neuer Komplexbildnern zuge
geben werden, was die Kosten des Prozesses in die Höhe
treibt.
Andere Anoden als Nickel-Anoden können nicht eingesetzt
werden, weil diese sich in dem alkalischen Elektrolyten
auflösen, was ebenfalls nachteilige Auswirkungen auf die
Qualität der Beschichtung mit sich bringt.
Vor diesem Hintergrund liegt der Erfindung das Problem
zugrunde, ein alkalisches Zink-Nickel-Galvanikbad zu
schaffen, welches kostengünstig Zink-Nickel-Beschichtun
gen von hoher Qualität liefert.
Zur Lösung dieses Problems schlägt die Erfindung vor,
die Anode von dem alkalischen Elektrolyt durch eine
Ionenaustauschermembran zu trennen.
Durch diese Trennung wird die Reaktion der Amine an der
Nickelanode vermieden, was zur Folge hat, daß keine un
erwünschten Nebenreaktionen ablaufen, die Entsorgungs
probleme bereiten oder zu einer zweiten Phase auf dem
Bad absetzenden Reaktionsprodukten führen und die Quali
tät des Zink-Nickel-Überzuges nachteilig beeinflussen.
Das aufwendige Abschöpfen dieser Schicht sowie das Er
neuern des Bades wird durch die Erfindung überflüssig.
Ferner ist eine erhebliche Qualitätsverbesserung der Be
schichtung zu verzeichnen.
Als besonders vorteilhaft hat sich der Einsatz einer Ka
tionenaustauschermembran aus einem perfluorierten Poly
mer herausgestellt, da diese einen vernachlässigbaren
elektrischen Widerstand, jedoch eine hohe chemische und
mechanischer Widerstandsfähigkeit besitzen.
Des weiteren entfällt die Cyanidvergiftung des Abwas
sers, wodurch die gesamte Abwasserreinigung erheblich
vereinfacht wird. Darüber hinaus wird das Auffüllen des
Elektrolyten mit Komplexbildner überflüssig, da dieser
sich nicht mehr zersetzt und seine Konzentration im Bad
annähernd konstant bleibt. Das Verfahren wir dadurch er
heblich kostengünstiger.
Das Zink-Nickelbad fungiert bei der erfindungsgemäßen
Lösung als Katholyt. Als Anolyt können beispielsweise
Schwefel- oder Phosphorsäure eingesetzt werden. Als
Anodenmaterial kommen in der erfindungsgemäßen Galva
nikzelle übliche Anoden, wie z. B. platinierte Titan
anoden in Frage, da diese nicht mehr dem basischen
Zink-Nickelbad ausgesetzt sind.
Die vorliegende Erfindung wird anhand des in der Zeich
nung dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert.
In der Zeichnung zeigt:
Fig. 1 den schematischen Aufbau eines erfindungsgemä
ßen Galvanikbades.
In Fig. 1 ist eine Galvanikzelle 1 dargestellt, die eine
Anode 2 und eine Kathode 3, bei der es sich um das zu
beschichtende Werkstück handelt, aufweist. Der die Anode
umgebende Katholyt 4 ist alkalisch und besteht aus einem
Zink-Nickel-Galvanikbad bekannter Zusammensetzung, bei
dem als Komplexbildner für die Nickelionen Amine einge
setzt werden. Der die Anode 2 umgebende Anolyt 5 kann
beispielsweise aus Schwefel- oder Phosphorsäure beste
hen. Anolyt 5 und Katholyt 4 sind durch eine
perfluorierte Kationenaustauschermembran 6 voneinander
getrennt. Diese Membran 6 ermöglicht einen ungehinderten
Stromfluß durch das Bad, verhindert jedoch, daß der
Katholyt 4, insbesondere die darin enthaltenen Amine,
mit der Anode 2 in Kontakt kommt, wodurch die in der Be
schreibungseinleitung ausführlich dargelegten Reaktionen
einschließlich deren nachteiligen Auswirkungen vermieden
werden.
Claims (4)
1. Alkalisches Galvanikbad (1) zum Aufbringen von Zink-
Nickel-Überzügen mit einer Anode (2) und einer
Kathode (3), dadurch gekennzeichnet, daß die Anode
von dem alkalischen Elektrolyten durch eine Ionen
austauschermembran (6) getrennt ist.
2. Galvanikbad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kathode (3) durch eine perfluorierte Katio
nenaustauschermembran (6) von dem alkalischen Elek
trolyten (4) getrennt ist.
3. Galvanikbad nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet
durch Schwefelsäure, Phosphorsäure, Methansulfon
säure, Amidosulfonsäure und/oder Phosphonsäure als
Anolyt (5).
4. Galvanikbad nach einem der Ansprüche 1 bis 3, ge
kennzeichnet durch eine platinierte Titananode.
Priority Applications (33)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19834353A DE19834353C2 (de) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| DE29824094U DE29824094U1 (de) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| US09/744,706 US6602394B1 (en) | 1998-07-30 | 1999-07-24 | Alkali zinc nickel bath |
| DE59905937T DE59905937D1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches zink-nickelbad |
| DE59914011T DE59914011D1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| SK89-2001A SK285453B6 (sk) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalický zinkovo-niklový kúpeľ |
| TR2001/00232T TR200100232T2 (tr) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalik çinko-nikel banyosu. |
| MXPA01000932A MXPA01000932A (es) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Bano alcalino de zinc-niquel. |
| ES03003890T ES2277624T3 (es) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Baño de cinc-niquel alcalino. |
| CA002339144A CA2339144A1 (en) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkali zinc nickel bath |
| AT99940077T ATE242821T1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches zink-nickelbad |
| KR1020017001285A KR20010071074A (ko) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | 알칼리성 아연 니켈 배드 |
| DE29924530U DE29924530U1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| HU0103951A HUP0103951A3 (en) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkali zinc nickel bath |
| IL14108699A IL141086A0 (en) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkali zinc nickel bath |
| HR20010044A HRP20010044B1 (en) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkali zinc nickel bath |
| EP03003890A EP1344850B1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| ES99940077T ES2201759T3 (es) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Baño alcalino de zinc y niquel. |
| EEP200100059A EE200100059A (et) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Leeliseline tsink-nikkel galvaanimisvann |
| EP99940077A EP1102875B1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches zink-nickelbad |
| AT03003890T ATE346180T1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches zink-nickelbad |
| BR9912589-7A BR9912589A (pt) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Banho de zinco-nìquel alcalino |
| PCT/EP1999/005443 WO2000006807A2 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches zink-nickelbad |
| CN99809138A CN1311830A (zh) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | 碱性锌镍镀浴 |
| PL345970A PL198149B1 (pl) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Sposób nakładania powłok cynkowo-niklowych z alkalicznej kąpieli galwanicznej |
| AU54152/99A AU5415299A (en) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkali zinc nickel bath |
| CZ20010189A CZ298904B6 (cs) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalická zinko-niklová lázen |
| JP2000562585A JP4716568B2 (ja) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽 |
| BG105184A BG105184A (en) | 1998-07-30 | 2001-01-25 | Alkalizing nickel bath |
| US10/618,352 US20040104123A1 (en) | 1998-07-30 | 2003-07-11 | Alkaline zinc-nickel bath |
| US12/030,750 US7807035B2 (en) | 1998-07-30 | 2008-02-13 | Methods of plating zinc-containing coatings under alkaline conditions |
| JP2008069722A JP2008150713A (ja) | 1998-07-30 | 2008-03-18 | 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽及びめっき方法 |
| US12/896,673 US8486235B2 (en) | 1998-07-30 | 2010-10-01 | Alkaline zinc-nickel bath |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19834353A DE19834353C2 (de) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19834353A1 true DE19834353A1 (de) | 2000-02-03 |
| DE19834353C2 DE19834353C2 (de) | 2000-08-17 |
Family
ID=7875843
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19834353A Expired - Lifetime DE19834353C2 (de) | 1998-07-30 | 1998-07-30 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| DE59914011T Expired - Lifetime DE59914011D1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| DE59905937T Expired - Lifetime DE59905937D1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches zink-nickelbad |
Family Applications After (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE59914011T Expired - Lifetime DE59914011D1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| DE59905937T Expired - Lifetime DE59905937D1 (de) | 1998-07-30 | 1999-07-29 | Alkalisches zink-nickelbad |
Country Status (22)
| Country | Link |
|---|---|
| US (4) | US6602394B1 (de) |
| EP (2) | EP1344850B1 (de) |
| JP (2) | JP4716568B2 (de) |
| KR (1) | KR20010071074A (de) |
| CN (1) | CN1311830A (de) |
| AT (2) | ATE346180T1 (de) |
| AU (1) | AU5415299A (de) |
| BG (1) | BG105184A (de) |
| BR (1) | BR9912589A (de) |
| CA (1) | CA2339144A1 (de) |
| CZ (1) | CZ298904B6 (de) |
| DE (3) | DE19834353C2 (de) |
| EE (1) | EE200100059A (de) |
| ES (2) | ES2201759T3 (de) |
| HR (1) | HRP20010044B1 (de) |
| HU (1) | HUP0103951A3 (de) |
| IL (1) | IL141086A0 (de) |
| MX (1) | MXPA01000932A (de) |
| PL (1) | PL198149B1 (de) |
| SK (1) | SK285453B6 (de) |
| TR (1) | TR200100232T2 (de) |
| WO (1) | WO2000006807A2 (de) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001092605A1 (de) * | 2000-05-30 | 2001-12-06 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik | Zink-legierungsbad |
| WO2001096631A1 (en) | 2000-06-15 | 2001-12-20 | Taskem Inc. | Zinc-nickel electroplating |
| US6755960B1 (en) | 2000-06-15 | 2004-06-29 | Taskem Inc. | Zinc-nickel electroplating |
| DE102004061255A1 (de) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern |
| DE102007040005A1 (de) | 2007-08-23 | 2009-02-26 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad |
| US8377283B2 (en) | 2002-11-25 | 2013-02-19 | Coventya, Inc. | Zinc and zinc-alloy electroplating |
| US10738391B2 (en) | 2015-03-25 | 2020-08-11 | Coventya International Gmbh | Two-chamber electrodialysis cell with anion and cation exchange membrane for use as an anode in alkaline zinc electrolytes and zinc alloy electrolytes for the purpose of deposition of metal in electroplating systems |
Families Citing this family (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19834353C2 (de) * | 1998-07-30 | 2000-08-17 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| US8236159B2 (en) * | 1999-04-13 | 2012-08-07 | Applied Materials Inc. | Electrolytic process using cation permeable barrier |
| US8852417B2 (en) | 1999-04-13 | 2014-10-07 | Applied Materials, Inc. | Electrolytic process using anion permeable barrier |
| US20060157355A1 (en) * | 2000-03-21 | 2006-07-20 | Semitool, Inc. | Electrolytic process using anion permeable barrier |
| US20060189129A1 (en) * | 2000-03-21 | 2006-08-24 | Semitool, Inc. | Method for applying metal features onto barrier layers using ion permeable barriers |
| US7628898B2 (en) * | 2001-03-12 | 2009-12-08 | Semitool, Inc. | Method and system for idle state operation |
| DE10223622B4 (de) * | 2002-05-28 | 2005-12-08 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik | Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute |
| DE10261493A1 (de) * | 2002-12-23 | 2004-07-08 | METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH | Anode zur Galvanisierung |
| ES2609080T3 (es) * | 2003-06-03 | 2017-04-18 | Coventya, Inc. | Revestimiento electrolítico de cinc y aleaciones de cinc |
| US20050121332A1 (en) * | 2003-10-03 | 2005-06-09 | Kochilla John R. | Apparatus and method for treatment of metal surfaces by inorganic electrophoretic passivation |
| US20050133376A1 (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-23 | Opaskar Vincent C. | Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom |
| FR2864553B1 (fr) * | 2003-12-31 | 2006-09-01 | Coventya | Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc |
| US7442286B2 (en) * | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
| EP1712660A1 (de) * | 2005-04-12 | 2006-10-18 | Enthone Inc. | Unlösliche Anode |
| ES2574158T3 (es) * | 2005-04-26 | 2016-06-15 | Atotech Deutschland Gmbh | Baño galvánico alcalino con una membrana de filtración |
| EP1717351A1 (de) * | 2005-04-27 | 2006-11-02 | Enthone Inc. | Galvanikbad |
| JP4738910B2 (ja) * | 2005-06-21 | 2011-08-03 | 日本表面化学株式会社 | 亜鉛−ニッケル合金めっき方法 |
| US20070043474A1 (en) * | 2005-08-17 | 2007-02-22 | Semitool, Inc. | Systems and methods for predicting process characteristics of an electrochemical treatment process |
| DE102005051632B4 (de) * | 2005-10-28 | 2009-02-19 | Enthone Inc., West Haven | Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen |
| JP4819612B2 (ja) * | 2006-08-07 | 2011-11-24 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | めっき処理装置および半導体装置の製造方法 |
| DE102007060200A1 (de) | 2007-12-14 | 2009-06-18 | Coventya Gmbh | Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad |
| TWI384094B (zh) * | 2008-02-01 | 2013-02-01 | Zhen Ding Technology Co Ltd | 電鍍用陽極裝置及包括該陽極裝置之電鍍裝置 |
| EP2096193B1 (de) | 2008-02-21 | 2013-04-03 | Atotech Deutschland GmbH | Verfahren zur Herstellung von korrosionsresistentem Zink und Zink-Nickel-plattierten linearen oder komplex geformten Teilen |
| DE102008058086B4 (de) | 2008-11-18 | 2013-05-23 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen |
| KR100977068B1 (ko) * | 2010-01-25 | 2010-08-19 | 한용순 | 비정질 3가크롬합금도금층을 형성하기 위한 도금장치 및 그 3가크롬합금도금액 |
| PL2384800T3 (pl) | 2010-05-07 | 2013-07-31 | Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg | Regeneracja alkalicznych elektrolitów cynkowo-niklowych drogą usuwania jonów cynkowych |
| DE102010044551A1 (de) | 2010-09-07 | 2012-03-08 | Coventya Gmbh | Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad |
| EP2738290A1 (de) | 2011-08-30 | 2014-06-04 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Haftungsförderung von cyanidfreier weißer Bronze |
| CN103849915B (zh) * | 2012-12-06 | 2016-08-31 | 北大方正集团有限公司 | 电镀装置和pcb板导通孔镀铜的方法 |
| CN103911650B (zh) * | 2014-04-02 | 2016-07-06 | 广东达志环保科技股份有限公司 | 一种应用于碱性锌镍合金电镀的阳极 |
| US9903038B2 (en) | 2015-07-22 | 2018-02-27 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Zinc alloy plating method |
| US10156020B2 (en) | 2015-07-22 | 2018-12-18 | Dipsol Chemicals Co., Ltd. | Zinc alloy plating method |
| WO2017171113A1 (ko) * | 2016-03-29 | 2017-10-05 | (주) 테크윈 | 전해조 및 전해 방법 |
| CN106987879A (zh) * | 2016-11-23 | 2017-07-28 | 瑞尔太阳能投资有限公司 | 电沉积装置及其电沉积方法 |
| EP3358045A1 (de) * | 2017-02-07 | 2018-08-08 | Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG | Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen |
| SI3415665T1 (sl) | 2017-06-14 | 2024-06-28 | Dr. Ing. Max Schloetter Gmbh & Co. Kg | Postopek za galvansko ločitev prevlek iz zlitine cinka in niklja iz alkalne kopeli zlitine iz cinka in niklja z manjšo razgradnjo aditivov |
| US12320027B2 (en) | 2019-01-24 | 2025-06-03 | Atotech Deutschland Gmbh | Membrane anode system for electrolytic zinc-nickel alloy deposition |
| WO2020166062A1 (ja) | 2019-02-15 | 2020-08-20 | ディップソール株式会社 | 亜鉛又は亜鉛合金電気めっき方法及びシステム |
| JP6750186B1 (ja) | 2019-11-28 | 2020-09-02 | ユケン工業株式会社 | めっき液の亜鉛濃度の上昇を抑制する方法および亜鉛系めっき部材の製造方法 |
| CN114787425B (zh) | 2019-12-20 | 2025-11-07 | 德国艾托特克有限两合公司 | 用于在衬底上沉积锌-镍合金的方法及系统 |
| EP4273303A1 (de) | 2022-05-05 | 2023-11-08 | Atotech Deutschland GmbH & Co. KG | Verfahren zum abscheiden einer zink-nickel-legierung auf einem substrat, ein wässriges zink-nickel-abscheidungsbad, ein glanzmittel und verwendung davon |
| CN115821346A (zh) * | 2022-11-16 | 2023-03-21 | 广州超邦化工有限公司 | 一种中碳钢机加件镀碱性锌镍合金的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3712511A1 (de) * | 1986-04-14 | 1987-10-15 | Dipsol Chem | Elekroplattierungsbad |
Family Cites Families (41)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE925264C (de) | 1952-11-15 | 1955-03-17 | Hesse & Co Dr | Verfahren zum Vernickeln ohne Nickelanoden |
| GB1349735A (en) | 1969-11-20 | 1974-04-10 | Fulmer Res Inst Ltd | Electrodeposited metal coatings |
| US3660170A (en) * | 1970-04-08 | 1972-05-02 | Gen Electric | Dendrite-inhibiting additive for battery cell having zinc electrode |
| US3718549A (en) | 1971-06-14 | 1973-02-27 | Kewanee Oil Co | Alkaline nickel plating solutions |
| JPS5128533A (en) * | 1974-09-04 | 1976-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki |
| GB1602404A (en) | 1978-04-06 | 1981-11-11 | Ibm | Electroplating of chromium |
| US4192908A (en) * | 1979-06-15 | 1980-03-11 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Mass-transport separator for alkaline nickel-zinc cells and cell |
| JPS5893886A (ja) | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Tokuyama Soda Co Ltd | 電気メツキ方法 |
| JPS5893899A (ja) | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 電気メツキの浴管理方法 |
| US4469564A (en) * | 1982-08-11 | 1984-09-04 | At&T Bell Laboratories | Copper electroplating process |
| DE3310730A1 (de) | 1983-03-24 | 1984-03-29 | Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart | Verfahren zum entfernen ueberschuessiger metall-ionen aus sauren chloridhaltigen galvanischen baeder |
| JPS59193295A (ja) | 1983-04-15 | 1984-11-01 | Hitachi Ltd | ニツケルめつき方法及び装置 |
| US4889602B1 (en) | 1986-04-14 | 1995-11-14 | Dipsol Chem | Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating |
| US4832812A (en) * | 1987-09-08 | 1989-05-23 | Eco-Tec Limited | Apparatus for electroplating metals |
| JPH02175894A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-09 | Kosaku:Kk | スズ、スズ合金電気めっき方法及び同電気めっき装置 |
| FR2650304B1 (fr) | 1989-07-25 | 1991-10-04 | Siderurgie Fse Inst Rech | Procede de revetement electrolytique d'une surface metallique, et cellule d'electrolyse pour sa mise en oeuvre |
| JPH049493A (ja) * | 1990-04-27 | 1992-01-14 | Permelec Electrode Ltd | 鋼板の電気錫メッキ方法 |
| JP2764337B2 (ja) * | 1990-05-10 | 1998-06-11 | 新日本製鐵株式会社 | Ni又はNi―Zn合金又はNi―Zn―Co合金メッキ方法 |
| JPH0444374A (ja) | 1990-06-12 | 1992-02-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | エキシマレーザ装置 |
| US5310465A (en) * | 1990-06-14 | 1994-05-10 | Vaughan Daniel J | Electrodialytic oxydation-reduction of metals |
| JPH0452296A (ja) * | 1990-06-20 | 1992-02-20 | Permelec Electrode Ltd | 銅めっき方法 |
| JPH08375Y2 (ja) * | 1990-08-15 | 1996-01-10 | 株式会社アルメックス | メッキ装置の陽極構造 |
| EP0483937A1 (de) | 1990-10-24 | 1992-05-06 | ATOTECH Deutschland GmbH | Membranelektrolysemodul, Verfahren und dessen Verwendung |
| DE4035316C2 (de) | 1990-11-07 | 1993-11-04 | Daimler Benz Ag | Verfahren zur elektrolytischen rueckgewinnung von nickel aus chloridhaltigen elektrolytischen baedern |
| JPH04176893A (ja) | 1990-11-08 | 1992-06-24 | Kawasaki Steel Corp | Sn―Ni合金めっき方法 |
| US5162079A (en) | 1991-01-28 | 1992-11-10 | Eco-Tec Limited | Process and apparatus for control of electroplating bath composition |
| JP2997072B2 (ja) * | 1991-02-13 | 2000-01-11 | ディップソール株式会社 | 亜鉛−ニッケル合金めっき浴及び被めっき物上の黒色析出を防止する方法 |
| JPH059776A (ja) * | 1991-07-01 | 1993-01-19 | Fujitsu Ltd | プリント配線板のめつき方法 |
| JPH059799A (ja) | 1991-07-05 | 1993-01-19 | Kawasaki Steel Corp | 硫酸浴Zn−Ni電気めつきにおける金属イオンの供給方法及び装置 |
| JPH05128533A (ja) | 1991-11-05 | 1993-05-25 | Nec Eng Ltd | 光デイスク再生装置 |
| FR2686352B1 (fr) | 1992-01-16 | 1995-06-16 | Framatome Sa | Appareil et procede de revetement electrolytique de nickel. |
| US5417840A (en) * | 1993-10-21 | 1995-05-23 | Mcgean-Rohco, Inc. | Alkaline zinc-nickel alloy plating baths |
| US5405523A (en) * | 1993-12-15 | 1995-04-11 | Taskem Inc. | Zinc alloy plating with quaternary ammonium polymer |
| JP4017693B2 (ja) | 1996-10-18 | 2007-12-05 | 株式会社エース電研 | 遊技場管理装置 |
| JPH10130878A (ja) | 1996-11-01 | 1998-05-19 | Asahi Glass Co Ltd | 電解ニッケルめっき方法 |
| US5883762A (en) | 1997-03-13 | 1999-03-16 | Calhoun; Robert B. | Electroplating apparatus and process for reducing oxidation of oxidizable plating anions and cations |
| DE19834353C2 (de) * | 1998-07-30 | 2000-08-17 | Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg | Alkalisches Zink-Nickelbad |
| JP4176893B2 (ja) | 1999-01-19 | 2008-11-05 | ローランド株式会社 | 波形再生装置 |
| JP5009799B2 (ja) | 2004-09-08 | 2012-08-22 | ニコメッド ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 新規の3−オキサ−10−アザ−フェナントレン |
| JP5009776B2 (ja) | 2007-12-27 | 2012-08-22 | 株式会社小松製作所 | エンジンのシール構造、樹脂リング、およびエンジン |
| JP5128533B2 (ja) | 2009-03-30 | 2013-01-23 | シャープ株式会社 | 光源モジュールおよびそれを備えた照明装置 |
-
1998
- 1998-07-30 DE DE19834353A patent/DE19834353C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-07-24 US US09/744,706 patent/US6602394B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 DE DE59914011T patent/DE59914011D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 EE EEP200100059A patent/EE200100059A/xx unknown
- 1999-07-29 EP EP03003890A patent/EP1344850B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 BR BR9912589-7A patent/BR9912589A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-07-29 PL PL345970A patent/PL198149B1/pl unknown
- 1999-07-29 CA CA002339144A patent/CA2339144A1/en not_active Abandoned
- 1999-07-29 WO PCT/EP1999/005443 patent/WO2000006807A2/de not_active Ceased
- 1999-07-29 EP EP99940077A patent/EP1102875B1/de not_active Revoked
- 1999-07-29 ES ES99940077T patent/ES2201759T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 DE DE59905937T patent/DE59905937D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 AT AT03003890T patent/ATE346180T1/de active
- 1999-07-29 ES ES03003890T patent/ES2277624T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 CN CN99809138A patent/CN1311830A/zh active Pending
- 1999-07-29 CZ CZ20010189A patent/CZ298904B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 SK SK89-2001A patent/SK285453B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 JP JP2000562585A patent/JP4716568B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-07-29 HU HU0103951A patent/HUP0103951A3/hu unknown
- 1999-07-29 HR HR20010044A patent/HRP20010044B1/xx not_active IP Right Cessation
- 1999-07-29 AT AT99940077T patent/ATE242821T1/de active
- 1999-07-29 TR TR2001/00232T patent/TR200100232T2/xx unknown
- 1999-07-29 AU AU54152/99A patent/AU5415299A/en not_active Abandoned
- 1999-07-29 KR KR1020017001285A patent/KR20010071074A/ko not_active Withdrawn
- 1999-07-29 IL IL14108699A patent/IL141086A0/xx unknown
- 1999-07-29 MX MXPA01000932A patent/MXPA01000932A/es unknown
-
2001
- 2001-01-25 BG BG105184A patent/BG105184A/xx unknown
-
2003
- 2003-07-11 US US10/618,352 patent/US20040104123A1/en not_active Abandoned
-
2008
- 2008-02-13 US US12/030,750 patent/US7807035B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2008-03-18 JP JP2008069722A patent/JP2008150713A/ja active Pending
-
2010
- 2010-10-01 US US12/896,673 patent/US8486235B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3712511A1 (de) * | 1986-04-14 | 1987-10-15 | Dipsol Chem | Elekroplattierungsbad |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| Derwent-Abstract zu JP 58-93 886 (A) * |
| Galvanisches Verzinken, Leuze-Verlag, 1982, Kap. 3.10 * |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001092605A1 (de) * | 2000-05-30 | 2001-12-06 | Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik | Zink-legierungsbad |
| DE10026956A1 (de) * | 2000-05-30 | 2001-12-13 | Walter Hillebrand Galvanotechn | Zink-Legierungsbad |
| WO2001096631A1 (en) | 2000-06-15 | 2001-12-20 | Taskem Inc. | Zinc-nickel electroplating |
| US6755960B1 (en) | 2000-06-15 | 2004-06-29 | Taskem Inc. | Zinc-nickel electroplating |
| US8377283B2 (en) | 2002-11-25 | 2013-02-19 | Coventya, Inc. | Zinc and zinc-alloy electroplating |
| DE102004061255A1 (de) * | 2004-12-20 | 2006-06-29 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern |
| DE102004061255B4 (de) * | 2004-12-20 | 2007-10-31 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern und Vorrichtung zur Durchführung desselben |
| US8475874B2 (en) | 2004-12-20 | 2013-07-02 | Atotech Deutschland Gmbh | Method for continuously operating acid or alkaline zinc or zinc alloy baths |
| DE102007040005A1 (de) | 2007-08-23 | 2009-02-26 | Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg | Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad |
| US10738391B2 (en) | 2015-03-25 | 2020-08-11 | Coventya International Gmbh | Two-chamber electrodialysis cell with anion and cation exchange membrane for use as an anode in alkaline zinc electrolytes and zinc alloy electrolytes for the purpose of deposition of metal in electroplating systems |
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE19834353C2 (de) | Alkalisches Zink-Nickelbad | |
| EP0878561B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren von Verzinnungslösungen | |
| DE69317315T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Nickel-Elektroplattierung | |
| DE3043571A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur durchfuehrung eines elektrolytischen prozesses | |
| DE2327764A1 (de) | Verfahren zur elektrokoernung von aluminium | |
| EP1581673B1 (de) | Anode zur galvanisierung | |
| DE2050145A1 (de) | Verfahren zum elektrolytischen Nieder schlagen einer Zinn Wismut Verbindung und elektrolytisches Bad zur Durchfuhrung des Verfahrens | |
| DE4023444A1 (de) | Cyanid-freies verfahren zur herstellung eines galvanischen kupferueberzuges | |
| DE1222348B (de) | Galvanisches Gold- oder Goldlegierungsbad | |
| DE3244092C2 (de) | ||
| DE2545654A1 (de) | Verfahren zum herstellen galvanischer ueberzuege aus chrom und chromlegierungen | |
| DE3102585C2 (de) | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Chrom mittels eines dreiwertiges Chrom enthaltenden Bades | |
| EP3415665B1 (de) | Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink-nickel-legierungsüberzügen aus einem alkalischen zink-nickel-legierungsbad mit reduziertem abbau von additiven | |
| DE2818306A1 (de) | Verfahren zur in-situ-reduktion von elektroden-ueberspannung und elektrolysezelle zur durchfuehrung des verfahrens | |
| CH644154A5 (de) | Verfahren zum herstellen von zur chemischen metallabscheidung geeigneten metall-komplex-verbindungen. | |
| DE3139641C2 (de) | Galvanisches Bad zur Verwendung mit unlöslichen Anoden zur Abscheidung halbglänzender, duktiler und spannungsfreier Nickelüberzüge und Verfahren zu deren Abscheidung | |
| DE29824094U1 (de) | Alkalisches Zink-Nickelbad | |
| DE29924530U1 (de) | Alkalisches Zink-Nickelbad | |
| DE1052771B (de) | Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden von Platin | |
| DE60121337T2 (de) | Verfahren zur verbesserung einer elektrode | |
| DE3045968A1 (de) | Elektrolytisches bad, herstellung von palladiumbeschichtungen unter verwendung des elektrolytischen bades und regenerierung des elektrolytischen bades | |
| DE102021002197A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zum Beschichten eines Bauteils oder Halbzeugs mit einer Chromschicht | |
| DE102020131371A1 (de) | Rutheniumlegierungsschicht und deren Schichtkombinationen | |
| DE102020133188A1 (de) | Silber-Bismut-Elektrolyt zur Abscheidung von Hartsilberschichten | |
| DE2636552A1 (de) | Verfahren zur galvanischen abscheidung einer ferro-nickel-legierung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| 8363 | Opposition against the patent | ||
| 8365 | Fully valid after opposition proceedings | ||
| 8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: WALTER HILLEBRAND GMBH & CO. GALVANOTECHNIK, 58739 |
|
| R071 | Expiry of right |