KR20010071074A - 알칼리성 아연 니켈 배드 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 알칼리성 아연 니켈 배드에 관한 것이다. 본 발명에 따라, 애노드는 알칼리성 아연 니켈 전기 도금조에서 원치 않는 이차 반응을 피하기 위해 알칼리성 전해질로부터 분리된다.

Description

알칼리성 아연 니켈 배드 {ALKALI ZINC NICKEL BATH}
전도성 공구가 그것의 내식성을 개선시키기 위해 아연 니켈 합금으로 코팅된다는 것이 공지되어 있다. 여기서, 공지된 방식으로 예컨대 술페이트-, 클로라이드-, 플루오로우프로메이트- 또는 술파메이트-전해질을 갖는 산성 전해질 배드가 사용된다. 이러한 방법에 있어서, 코팅될 공구에서 아연 니켈 코팅의 균일한 두께를 달성하기 위해 조절 기술적으로 매우 복잡하고 실제로는 거의 불가능하다.
이러한 이유로, 최근에는 독일 특허 공보 제 37 12 511호에 공지된 알칼리성 아연 니켈 전기 도금조가 사용되며, 상기 전기 도금조는 예컨대 하기 화합물을 갖는다. 즉,
11.3 g/l ZnO
4.1 g/l NiSO4*6H2O
120 g/l NaOH
5.1 g/l 폴리에틸렌이미트
전기 도금조에 포함된 아민은 니켈 이온을 위한 착물 형성제로서 사용되며, 상기 니켈 이온은 알칼리성 매체에서 불용해성을 띈다. 배드의 조성은 제조자에 따라 변한다.
전기 도금조는 통상적으로 불용해성 니켈 애노드에 의해 작동된다. 아연 농도는 아연의 첨가에 의해, 그리고 니켈 농도는 니켈 용액, 예컨대 니켈 술페이트 용액의 첨가에 의해 일정하게 유지된다.
그러나, 이러한 배드는 몇 시간 후 블루 바이올렛에서 갈색으로 색이 변한다. 작동된 지 며칠 또는 몇주후에 이러한 착색은 강화되어, 배드의 분리가 두 단계로 정해질 수 있다. 상부 단계는 암갈색이다. 이러한 단계는 예컨대 불균일한 층 두께 또는 기포와 같이, 공구의 코팅을 방해하는 요소로 작용한다. 따라서, 배드의 연속적인 세정, 즉 이러한 층에서 생성된 거품의 연속적인 제거는 불가피하다. 그러나, 이는 많은 시간과 비용을 요구한다.
또한 작동된 지 몇주후에 배드 내에 시안 화물이 검출될 수 있다. 시안 화물의 충전은 배드의 규칙적인 복구 및 특별한 폐수 처리를 요구하며, 상기 폐수 처리는 배드의 작동 비용에 상당한 영향을 끼친다. 그럴수록 더, 폐수가 매우 높은 유기물 농도를 가지고 대략 15.000 내지 20.000 mg/l의 CSB 값에 의해 시안 화물을 소독하는 것이 어렵게 될 수 있다. 입법 기관에 의해 정해진 폐수 값(니켈 0.5 ppm, 아연 2 ppm)을 준수하는 일은 화학 약품의 대량 첨가에 의해서만 가능한 것이 아니다.
제 2 단계의 형성은 아민의 반응에 의한 결과이며, 상기 아민은 니켈 애노드에 대한 알칼리성 용해시 니트리트(특히 시안 화물)로 반응된다. 또한 아민의 분해에 의해 배드에는 새로운 착물 형성제가 연속적으로 첨가되며, 이에 따라 프로세스의 비용은 매우 높아진다.
니켈 애노드와 다른 애노드는 사용될 수 없다. 왜냐하면, 이는 코팅의 질에 대해 불리한 영향을 미치는 알칼리성 전해질에 용해되기 때문이다.
본 발명은 애노드, 캐소드 및 알칼리성 전해질에 의한 아연 니켈 코팅을 제공하기 위한 전기 도금조에 관한 것이다.
도 1은 본 발명에 따른 전기 도금조의 개략적인 구조.
본 발명의 목적은 높은 품질의 아연 니켈 코팅을 저렴한 비용으로 공급하는 알칼리성 아연 니켈 전기 도금조를 제공하는데 있다.
상기 목적은 애노드가 이온 교환막에 의해 알칼리성 전해질로부터 분해됨으로써 달성된다.
이러한 분리에 의해 니켈 애노드에 대한 아민의 반응은 피해짐으로써, 원치 않은 이차 반응이 나타나지 않는다. 상기 이차 반응은 폐기 문제를 제공하고 배드에서 중단된 반응 생산품의 제 2 단계를 가져오고, 그리고 아연 니켈 코팅의 품질에 나쁜 영향을 미친다. 이러한 층에서 생성되는 거품의 제거 및 배드의 복구는 본 발명에서는 불필요하다. 또한 코팅의 높은 품질 개선이 왜곡될 수 있다.
퍼플루오르화된 중합체로 이루어진 양이온 교환막을 사용하는 것이 특히 바람직한 것으로 증명된다. 왜냐하면, 상기 막은 약한 전기 저항을 갖지만, 높은 화학 및 기계적 저항 능력을 갖기 때문이다.
또한 폐수의 시안 화물 중독 작용이 생략됨으로써, 전체 폐수 정화는 상당히 간소화된다. 또한 전해질을 착물 형성제로 채울 필요는 없다. 왜냐하면, 전해질은 더이상 분해되지 않고 배드에서의 전해질 농도는 거의 일정하게 유지되기 때문이다. 따라서, 상기 방법은 매우 저렴한 비용으로 이루어진다.
아연 니켈 배드는 본 발명에 따라 캐소드액으로서 작용한다. 애노드액으로서 예컨대 황산 또는 인산이 사용될 수 있다. 본 발명에 따른 전기 도금 셀에서, 애노드 재료로는 예컨대 백금화된 티탄-애노드와 같은 통상적인 애노드가 사용된다. 왜냐하면, 이러한 애노드는 더이상 염기성 아연 니켈 배드에 노출되지 않기 때문이다.
본 발명은 도면에 도시된 하기 실시예에 의해 더 자세히 설명된다.
도 1에는 코팅될 공구에 사용될 애노드(2) 및 캐소드(3)를 갖는 전기 도금셀(1)이 도시된다. 애노드를 둘러싸는 캐소드액(4)은 알칼리성이고 공지된 화합물의 아연 니켈 전기 도금조로 이루어지며, 니켈 이온을 위한 착물 형성제로는 아민이 사용된다. 상기 애노드(2)를 둘러싸는 애노드액(5)은 예컨대 황산 또는 인산으로 이루어질 수 있다. 상기 애노드액(5) 및 캐소드액(4)은 퍼플루오르화된 양이온 교환막(6)에 의해 서로 분리된다. 상기 막(6)은 배드를 통한 원활한 전류 전도를 가능하게 하지만, 캐소드액(4), 특히 상기 캐소드액(4)에 함유된 아민이 애노드(2)에 접촉되는 것을 방해한다. 따라서, 불리한 효과를 포함한, 본 명세서의 서문에 상세하게 기술된 반응은 피해진다.

Claims (4)

  1. 애노드(2) 및 캐소드(3)에 의한 아연 니켈 코팅을 제공하기 위한 알칼리성 전기 도금조(1)에 있어서,
    애노드가 이온 교환막(6)에 의해 알칼리성 전해질로부터 분리되는 것을 특징으로 하는 전기 도금조.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 캐소드(3)가 퍼플루오르화된 양이온 교환막(6)에 의해 알칼리성 전해질(4)로부터 분리되는 것을 특징으로 하는 전기 도금조.
  3. 제 1항 또는 2항에 있어서,
    애노드액(5)으로서 황산, 인산, 메탄술폰산, 아미도술폰산 및/또는 포스폰산이 제공되는 것을 특징으로 하는 전기 도금조.
  4. 제 1항 내지 3항 중 어느 한 항에 있어서,
    백금화된 티탄 애노드가 제공되는 것을 특징으로 하는 전기 도금조.
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TR (1) TR200100232T2 (ko)
WO (1) WO2000006807A2 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101301275B1 (ko) * 2005-04-26 2013-08-29 아토테크더치랜드게엠베하 여과막을 가지는 알칼리 전기도금조
WO2017171113A1 (ko) * 2016-03-29 2017-10-05 (주) 테크윈 전해조 및 전해 방법

Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19834353C2 (de) 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad
US8852417B2 (en) 1999-04-13 2014-10-07 Applied Materials, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
US8236159B2 (en) * 1999-04-13 2012-08-07 Applied Materials Inc. Electrolytic process using cation permeable barrier
US20060157355A1 (en) * 2000-03-21 2006-07-20 Semitool, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
US20060189129A1 (en) * 2000-03-21 2006-08-24 Semitool, Inc. Method for applying metal features onto barrier layers using ion permeable barriers
DE10026956A1 (de) * 2000-05-30 2001-12-13 Walter Hillebrand Galvanotechn Zink-Legierungsbad
WO2001096631A1 (en) 2000-06-15 2001-12-20 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
US6755960B1 (en) 2000-06-15 2004-06-29 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
US7628898B2 (en) * 2001-03-12 2009-12-08 Semitool, Inc. Method and system for idle state operation
DE10223622B4 (de) * 2002-05-28 2005-12-08 Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute
US8377283B2 (en) 2002-11-25 2013-02-19 Coventya, Inc. Zinc and zinc-alloy electroplating
DE10261493A1 (de) * 2002-12-23 2004-07-08 METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH Anode zur Galvanisierung
ES2609080T3 (es) * 2003-06-03 2017-04-18 Coventya, Inc. Revestimiento electrolítico de cinc y aleaciones de cinc
US20050121332A1 (en) * 2003-10-03 2005-06-09 Kochilla John R. Apparatus and method for treatment of metal surfaces by inorganic electrophoretic passivation
US20050133376A1 (en) * 2003-12-19 2005-06-23 Opaskar Vincent C. Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom
FR2864553B1 (fr) * 2003-12-31 2006-09-01 Coventya Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc
US7442286B2 (en) * 2004-02-26 2008-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
DE102004061255B4 (de) 2004-12-20 2007-10-31 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern und Vorrichtung zur Durchführung desselben
EP1712660A1 (de) * 2005-04-12 2006-10-18 Enthone Inc. Unlösliche Anode
EP1717351A1 (de) * 2005-04-27 2006-11-02 Enthone Inc. Galvanikbad
JP4738910B2 (ja) * 2005-06-21 2011-08-03 日本表面化学株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき方法
US20070043474A1 (en) * 2005-08-17 2007-02-22 Semitool, Inc. Systems and methods for predicting process characteristics of an electrochemical treatment process
DE102005051632B4 (de) * 2005-10-28 2009-02-19 Enthone Inc., West Haven Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen
JP4819612B2 (ja) * 2006-08-07 2011-11-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 めっき処理装置および半導体装置の製造方法
DE102007040005A1 (de) 2007-08-23 2009-02-26 Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad
DE102007060200A1 (de) 2007-12-14 2009-06-18 Coventya Gmbh Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad
TWI384094B (zh) * 2008-02-01 2013-02-01 Zhen Ding Technology Co Ltd 電鍍用陽極裝置及包括該陽極裝置之電鍍裝置
EP2096193B1 (en) 2008-02-21 2013-04-03 Atotech Deutschland GmbH Process for the preparation of corrosion resistant zinc and zinc-nickel plated linear or complex shaped parts
DE102008058086B4 (de) 2008-11-18 2013-05-23 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen
KR100977068B1 (ko) * 2010-01-25 2010-08-19 한용순 비정질 3가크롬합금도금층을 형성하기 위한 도금장치 및 그 3가크롬합금도금액
EP2384800B1 (de) 2010-05-07 2013-02-13 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Regeneration alkalischer Zinknickelelektrolyte durch Entfernen von Cyanidionen
DE102010044551A1 (de) 2010-09-07 2012-03-08 Coventya Gmbh Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad
EP2565297A3 (en) 2011-08-30 2013-04-24 Rohm and Haas Electronic Materials LLC Adhesion promotion of cyanide-free white bronze
CN103849915B (zh) * 2012-12-06 2016-08-31 北大方正集团有限公司 电镀装置和pcb板导通孔镀铜的方法
CN103911650B (zh) * 2014-04-02 2016-07-06 广东达志环保科技股份有限公司 一种应用于碱性锌镍合金电镀的阳极
DE202015002289U1 (de) 2015-03-25 2015-05-06 Hartmut Trenkner Zweikammer - Elektrodialysezelle mit Anionen- und Kationenaustauschermembran zur Verwendung als Anode in alkalischen Zink- und Zinklegierungselektrolyten zum Zweck der Metallabscheidung in galvanischen Anlagen
US9903038B2 (en) 2015-07-22 2018-02-27 Dipsol Chemicals Co., Ltd. Zinc alloy plating method
EP3042985B1 (en) 2015-07-22 2019-04-10 Dipsol Chemicals Co., Ltd. Zinc alloy plating method
CN106987879A (zh) * 2016-11-23 2017-07-28 瑞尔太阳能投资有限公司 电沉积装置及其电沉积方法
EP3358045A1 (de) 2017-02-07 2018-08-08 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen
PL3415665T3 (pl) 2017-06-14 2024-03-25 Dr.Ing. Max Schlötter Gmbh & Co. Kg Sposób osadzania galwanicznego powłok ze stopu cynku i niklu z alkalicznej kąpieli stopu cynku i niklu z ograniczoną degradacją dodatków
US20220119978A1 (en) 2019-01-24 2022-04-21 Atotech Deutschland Gmbh Membrane anode system for electrolytic zinc-nickel alloy deposition
CN110462107A (zh) 2019-02-15 2019-11-15 迪普索股份公司 锌或锌合金电镀方法和系统
JP6750186B1 (ja) 2019-11-28 2020-09-02 ユケン工業株式会社 めっき液の亜鉛濃度の上昇を抑制する方法および亜鉛系めっき部材の製造方法
JP2023507479A (ja) 2019-12-20 2023-02-22 アトテック ドイチュラント ゲー・エム・ベー・ハー ウント コー. カー・ゲー 亜鉛ニッケル合金を基材上に堆積するための方法およびシステム
EP4273303A1 (en) 2022-05-05 2023-11-08 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG Method for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, an aqueous zinc-nickel deposition bath, a brightening agent and use thereof

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE925264C (de) 1952-11-15 1955-03-17 Hesse & Co Dr Verfahren zum Vernickeln ohne Nickelanoden
GB1349735A (en) 1969-11-20 1974-04-10 Fulmer Res Inst Ltd Electrodeposited metal coatings
US3660170A (en) * 1970-04-08 1972-05-02 Gen Electric Dendrite-inhibiting additive for battery cell having zinc electrode
US3718549A (en) 1971-06-14 1973-02-27 Kewanee Oil Co Alkaline nickel plating solutions
JPS5128533A (en) * 1974-09-04 1976-03-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki
GB1602404A (en) 1978-04-06 1981-11-11 Ibm Electroplating of chromium
US4192908A (en) * 1979-06-15 1980-03-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Mass-transport separator for alkaline nickel-zinc cells and cell
JPS5893899A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Sumitomo Metal Ind Ltd 電気メツキの浴管理方法
JPS5893886A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Tokuyama Soda Co Ltd 電気メツキ方法
US4469564A (en) * 1982-08-11 1984-09-04 At&T Bell Laboratories Copper electroplating process
DE3310730A1 (de) 1983-03-24 1984-03-29 Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart Verfahren zum entfernen ueberschuessiger metall-ionen aus sauren chloridhaltigen galvanischen baeder
JPS59193295A (ja) 1983-04-15 1984-11-01 Hitachi Ltd ニツケルめつき方法及び装置
US4889602B1 (en) 1986-04-14 1995-11-14 Dipsol Chem Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating
DE3712511C3 (de) * 1986-04-14 1995-06-29 Dipsol Chem Alkalisches cyanidfreies Elektroplattierungsbad und Verwendung dieses Bades
US4832812A (en) * 1987-09-08 1989-05-23 Eco-Tec Limited Apparatus for electroplating metals
JPH02175894A (ja) * 1988-12-28 1990-07-09 Kosaku:Kk スズ、スズ合金電気めっき方法及び同電気めっき装置
FR2650304B1 (fr) 1989-07-25 1991-10-04 Siderurgie Fse Inst Rech Procede de revetement electrolytique d'une surface metallique, et cellule d'electrolyse pour sa mise en oeuvre
JPH049493A (ja) * 1990-04-27 1992-01-14 Permelec Electrode Ltd 鋼板の電気錫メッキ方法
JP2764337B2 (ja) * 1990-05-10 1998-06-11 新日本製鐵株式会社 Ni又はNi―Zn合金又はNi―Zn―Co合金メッキ方法
JPH0444374A (ja) 1990-06-12 1992-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd エキシマレーザ装置
US5310465A (en) * 1990-06-14 1994-05-10 Vaughan Daniel J Electrodialytic oxydation-reduction of metals
JPH0452296A (ja) * 1990-06-20 1992-02-20 Permelec Electrode Ltd 銅めっき方法
JPH08375Y2 (ja) * 1990-08-15 1996-01-10 株式会社アルメックス メッキ装置の陽極構造
EP0483937A1 (de) 1990-10-24 1992-05-06 ATOTECH Deutschland GmbH Membranelektrolysemodul, Verfahren und dessen Verwendung
DE4035316C2 (de) 1990-11-07 1993-11-04 Daimler Benz Ag Verfahren zur elektrolytischen rueckgewinnung von nickel aus chloridhaltigen elektrolytischen baedern
JPH04176893A (ja) 1990-11-08 1992-06-24 Kawasaki Steel Corp Sn―Ni合金めっき方法
US5162079A (en) 1991-01-28 1992-11-10 Eco-Tec Limited Process and apparatus for control of electroplating bath composition
JP2997072B2 (ja) * 1991-02-13 2000-01-11 ディップソール株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき浴及び被めっき物上の黒色析出を防止する方法
JPH059776A (ja) * 1991-07-01 1993-01-19 Fujitsu Ltd プリント配線板のめつき方法
JPH059799A (ja) 1991-07-05 1993-01-19 Kawasaki Steel Corp 硫酸浴Zn−Ni電気めつきにおける金属イオンの供給方法及び装置
JPH05128533A (ja) 1991-11-05 1993-05-25 Nec Eng Ltd 光デイスク再生装置
FR2686352B1 (fr) 1992-01-16 1995-06-16 Framatome Sa Appareil et procede de revetement electrolytique de nickel.
US5417840A (en) * 1993-10-21 1995-05-23 Mcgean-Rohco, Inc. Alkaline zinc-nickel alloy plating baths
US5405523A (en) * 1993-12-15 1995-04-11 Taskem Inc. Zinc alloy plating with quaternary ammonium polymer
JPH10130878A (ja) 1996-11-01 1998-05-19 Asahi Glass Co Ltd 電解ニッケルめっき方法
US5883762A (en) 1997-03-13 1999-03-16 Calhoun; Robert B. Electroplating apparatus and process for reducing oxidation of oxidizable plating anions and cations
DE19834353C2 (de) * 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101301275B1 (ko) * 2005-04-26 2013-08-29 아토테크더치랜드게엠베하 여과막을 가지는 알칼리 전기도금조
WO2017171113A1 (ko) * 2016-03-29 2017-10-05 (주) 테크윈 전해조 및 전해 방법

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Publication number Publication date
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