JP2002521572A - 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽 - Google Patents

亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽において不所望の副反応を阻止すること。 【解決手段】 アノードをアルカリ性のめっき浴から隔離する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、亜鉛−ニッケル皮膜電着用の、アノード、カソード及びアルカリ性
電解質（めっき浴）を有するめっき浴槽ないし電解槽（Galvanikbad）に関する
。
【０００２】
【従来の技術及びその問題点】
導電性材料をその耐食性を改善するために亜鉛−ニッケル合金で被膜すること
が知られている。これを行うために従来の方法では、酸性電解質浴、例えば硫酸
塩、塩化物、フルオロクロメート（Fluoropromat）［Fluorochromatの誤記］又
はスルファメート電解質を含むめっき浴を利用していた。この方法の場合、亜鉛
−ニッケル合金を皮膜されるべき材料に一様な厚さで皮膜するのは、制御するの
に非常に手間がかかり、実用上殆んど実行不可能である。
【０００３】 このため最近では、ドイツ特許公報37 12 511号で開示されたアルカリ性亜鉛
−ニッケルめっき浴が用いられる。このめっき浴は、例えば以下の組成を有する
。 １１.３g／ｌ ＺｎＯ ４.１g／ｌ ＮｉＳＯ4・６Ｈ2Ｏ １２０g／ｌ ＮａＯＨ ５.１g／ｌ ポリエチレンイミン
【０００４】 めっき浴（ガルヴァニック浴）に含まれるアミン類は、ニッケルイオンのため
の錯体形成物（配位子）として用いられる。というのは、ニッケルイオンは錯体
を形成しないとアルカリ溶液中では溶解しないからである。めっき浴の組成は、
製造者毎にそれぞれ異なる。
【０００５】 めっき浴（電解めっき浴）は普通非溶解性のニッケル製アノードを用いて処理
操作される。亜鉛濃度は、亜鉛を添加することにより、ニッケル濃度は、ニッケ
ル溶液（例えば硫酸ニッケル溶液）を添加することにより一定に保たれる。
【０００６】 しかし、これらのめっき浴は、数時間の処理後、本来の青紫色から褐色に変色
（退色）する。数日ないし数週間後には、この変色（退色）の度合いは深まり、
めっき浴が二相（層）に分離するのが認められ、上層の相は暗褐色になっている
。この相（上層）は、素地材料の被覆を著しく妨げ、例えば皮膜の厚さが不均一
になったり、小泡ができたりする。従って、めっき浴を絶えず浄化すること、す
なわち上記の層を絶えずすくい取ることが必要不可欠である。しかしこれには時
間及び費用がかかる。
【０００７】 そのほかに、数週間の処理後、シアン化物がめっき浴内で検出されうる。シア
ン化物で汚染されるため定期的にめっき浴を新しいものと入れ替える必要があり
、めっき浴の操作費用に著しい影響を及ぼす特別な廃液処理も必要となる。この
ことは、廃液がその有機物濃度が非常に高い場合及びそのＣＯＤ値が凡そ15,000
〜20,000mg／ｌでありシアン化物の除去が困難になる場合は、一層ひどくなる。
そのため法定の廃液値（ニッケル0.5ppm及び亜鉛2ppm）への適合は、化学品を大
量に添加することによってのみようやく可能となる。
【０００８】 第二の相（層）の形成は、アルカリ溶液中でニッケル製アノードの近傍でニト
リル（シアン化物も含む）への化学変化を受けるアミンの反応が原因である。ア
ミンの分解に基づき、めっき浴には絶えず新たに錯体形成物（配位子）を添加し
なければならず、操作費用は頂点に達する。
【０００９】 ニッケル製アノード以外のアノードは、使用することができない。なぜならそ
れらはアルカリ性電解質（めっき浴）中で溶解し、同様に皮膜の質に悪影響を及
ぼすからである。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】 上述の問題を背景として、本発明は、高品質の亜鉛−ニッケル皮膜を費用上も
有利に提供するアルカリ性亜鉛−ニッケル浴用めっき浴槽ないし電解槽を創製す
ることを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために、本発明は、アノードをイオン交換膜によりアルカ
リ性電解液（めっき浴）から隔離することを提案する。
【００１２】 この隔離により、ニッケル製アノード近傍でのアミンの反応が避けられ、その
結果、廃棄物除去問題を引き起こしあるいはめっき浴の第二の相（層）に反応生
成物を析出させ、そして亜鉛−ニッケル皮膜の質に悪影響を及ぼす不所望の副反
応を進行させない。この層の費用のかかる（反応生成物の）すくい取り並びにめ
っき浴の更新は、本発明によって不必要になる。更に、皮膜の質の著しい改善を
認めることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
とりわけ有利な実施形態として、ペルフルオロポリマ（フッ素化ポリマ）から
なる陽イオン交換膜を使用することが判明した。というのは、このポリマは、電
気抵抗は無視できるほどに小さいが、化学的及び機械的耐性（強度）は大きいか
らである。
【００１４】 さらに、シアン化物による廃液の汚染も起きず、そのため廃液の浄化作業全体
も著しく簡素化される。そのほかに、錯体形成物（配位子）を含む電解質（液）
の補充も不必要となる。というのは、錯体形成物は、もはや分解されず、めっき
浴内でのその濃度がほぼ一定に保たれるからである。従って、この構成は費用面
でも著しく有利になる。
【００１５】 亜鉛−ニッケル浴は、本発明によれば、陰極液として機能する。陽極液として
は、例えば硫酸又はリン酸を使用することができる。アノードの材料（素材）と
しては、本発明のめっき槽においては、例えば白金めっきしたチタン製アノード
のような通常のアノードが対象となる。というのは、このアノードは、アルカリ
性亜鉛−ニッケル浴にはもはや晒されていないからである。
【００１６】
【実施例】
本発明の実施例を図面を参照して詳細に説明する。
【００１７】 図１には、アノード２及び被覆されるべき素地材料に関わるカソード３を有す
るガルヴァニックめっき浴槽１が記載されている。アノード［カソードの誤記］
を取り囲む陰極液４は、アルカリ性であり、既知の組成の亜鉛−ニッケルガルヴ
ァニック浴（ニッケルイオンのための錯体形成物（配位子）としてアミンを含む
）からなる。アノード２を取り囲む陽極液５は、例えば硫酸又はリン酸からなる
。陽極液５及び陰極液４は、ペルフルオロ陽イオン交換膜６によって相互に隔離
されている。この膜６は、めっき浴を貫通する電気の流れを阻害しないが、陰極
液４、とりわけその中に含まれるアミンがアノード２と接触するのを妨げ、その
ため本明細書の冒頭で詳細に述べた反応がその不利な作用を含めて阻止される。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明のめっき浴槽の模式的構造。
【手続補正書】
【提出日】平成１３年２月２７日（２００１．２．２７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１７】 図１には、アノード２及び被覆されるべき素地材料に関わるカソード３を有す
るガルヴァニックめっき浴槽１が記載されている。カソードを取り囲む陰極液４
は、アルカリ性であり、既知の組成の亜鉛−ニッケルガルヴァニック浴（ニッケ
ルイオンのための錯体形成物（配位子）としてアミンを含む）からなる。アノー
ド２を取り囲む陽極液５は、例えば硫酸又はリン酸からなる。陽極液５及び陰極
液４は、ペルフルオロ陽イオン交換膜６によって相互に隔離されている。この膜
６は、めっき浴を貫通する電気の流れを阻害しないが、陰極液４、とりわけその
中に含まれるアミンがアノード２と接触するのを妨げ、そのため本明細書の冒頭
で詳細に述べた反応がその不利な作用を含めて阻止される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ， ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，Ｇ Ｅ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ， ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，Ｍ Ｎ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ， ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，Ｚ Ａ，ＺＷ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 亜鉛−ニッケル皮膜電着用の、アノード（２）及びカソード
    （３）を有するアルカリ性めっき浴槽（１）において、 該アノード（２）は、イオン交換膜（６）によりアルカリ性電解質（めっき浴
    ）から隔離されている、 ことを特徴とするめっき浴槽。
  2. 【請求項２】 前記カソード（３）［アノード（２）の誤記］は、ペルフル
    オロ陽イオン交換膜（６）により前記アルカリ性めっき浴（４）から隔離されて
    いる、 ことを特徴とする請求項１に記載のめっき浴槽。
  3. 【請求項３】 硫酸、リン酸、メタンスルホン酸、アミドスルホン酸及び／
    又はフォスフォン酸を陽極液（５）として含む、 ことを特徴とする請求項１又は２に記載のめっき浴槽。
  4. 【請求項４】 前記アノードは白金めっきしたチタン製アノードであること
    を特徴とする請求項１〜３の一に記載のめっき浴槽。
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