SK285453B6 - Alkalický zinkovo-niklový kúpeľ - Google Patents

Alkalický zinkovo-niklový kúpeľ Download PDF

Info

Publication number
SK285453B6
SK285453B6 SK89-2001A SK892001A SK285453B6 SK 285453 B6 SK285453 B6 SK 285453B6 SK 892001 A SK892001 A SK 892001A SK 285453 B6 SK285453 B6 SK 285453B6
Authority
SK
Slovakia
Prior art keywords
anode
nickel
bath
zinc
alkaline
Prior art date
Application number
SK89-2001A
Other languages
English (en)
Other versions
SK892001A3 (en
Inventor
Ernst-Walter Hillebrand
Original Assignee
Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=7875843&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=SK285453(B6) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg filed Critical Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg
Publication of SK892001A3 publication Critical patent/SK892001A3/sk
Publication of SK285453B6 publication Critical patent/SK285453B6/sk

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/02Tanks; Installations therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/565Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)

Abstract

Na zamedzenie vzniku nežiaducich vedľajších reakcií v alkalickom zinkovo-niklovom galvanickom kúpeli je navrhnuté oddelenie anódy od alkalického elektrolytu.

Description

Oblasť techniky
Vynález sa týka galvanického kúpeľa na nanášanie zinkovo-niklových povlakov s anódou, katódou a alkalickým elektrolytom.
Doterajší stav techniky
Je známa možnosť pokrývania elektricky vodivých materiálov zliatinami zinku a niklu na účely zlepšenia ich odolnosti proti korózii. Na to sa obvykle používa kyslý elektrolytový kúpeľ, napríklad sulfátový, chloridový, flouropromátový alebo sulfamátový elektrolyt. Pri týchto postupoch je dosiahnutie rovnomernej hrúbky zinkovo-niklového povlaku na príslušnom materiáli technicky veľmi náročné a v praxi obvykle nemožné.
Z toho dôvodu sa v poslednej dobe používajú alkalické zinkovo-niklové galvanické kúpele, ktoré sú uvedené v nemeckom patente 37 12 511, a ktoré majú napríklad nasledujúce zloženie:
11,3 g/1 ZnO,
4.1 g/1 NiSO4 * 6 H2O g/1 NaOH,
5.1 g/1 polyetylénimín.
Amíny obsiahnuté v alkalickom kúpeli slúžia ako komplexotvomá látka pre ióny niklu, ktoré sú inak v alkalickom médiu nerozpustné. Zloženie kúpeľa sa odlišuje podľa výrobcu.
Tieto galvanické kúpele sú obvykle napájané nerozpustnými niklovými anódami. Koncentrácia zinku sa udržuje konštantná pridávaním zinku a koncentrácia niklu sa udržuje konštantná pridávaním roztoku niklu, napríklad niklosulfátového roztoku.
Tieto kúpele však po niekoľkých hodinách prevádzky majú zmenu farby z pôvodnej modrofialovej na hnedú. Po niekoľkých dňoch, prípadne týždňoch, sa toto sfarbenie zosilňuje a možno zistiť rozdelenie kúpeľa na dve fázy, pričom horná fáza je tmavohnedá. Táto fáza spôsobuje značné narušenie povlaku produktov, napríklad nerovnomernú hrúbku alebo tvorbu pľuzgierikov. Kontinuálne čistenie kúpeľa, teda kontinuálne odoberanie tejto vrstvy je preto nevyhnutné. Toje však nákladné a časovo náročné.
Ďalej možno po niekoľkých týždňoch prevádzky preukázať v kúpeli kyanid. V dôsledku znečistenia kyanidom je treba pravidelné obnovovanie kúpeľa a špeciálne spracovávanie odpadových vôd, ktoré značne ovplyvňujú prevádzkové náklady kúpeľa. A to tým viac, že odpadové vody majú vysokú organickú koncentráciu a sťažujú detoxikáciu kyanidu hodnotou CSB 15 000 až 20 000 mg/1. Dodržiavanie hodnôt stanovených zákonodarcom pre odpadové vody (nikel 0,5 ppm a zinok 2 ppm) je potom možno iba za značného pridávania chemikálií.
Vytvorenie druhej fázy vyplýva z reakcie amínov, ktoré sa v alkalickom roztoku menia na niklových anódach na nitrily (medzi inými tiež kyanid). Na základe rozkladu aminov sa musia do kúpeľa navyše kontinuálne pridávať nové komplexotvomé látky, čo zvyšuje náklady na proces.
Iné než niklové anódy nemôžu byť použité, pretože sa v alkalickom roztoku rozpúšťajú, čo má rovnako nepriaznivý vplyv na kvalitu povlaku.
S ohľadom na uvedený doterajší stav techniky je úlohou vynálezu vytvoriť zinkovo-niklový galvanický kúpeľ, ktorý umožní cenovo výhodné vytváranie zinkovo-niklových povlakov s vysokou kvalitou.
Podstata vynálezu
Táto úloha je vyriešená podľa vynálezu tak, že je anóda oddelená od alkalického elektrolytu ionexovou membránou.
Týmto oddelením sa zabráni reakcii amínov na niklovej anóde a v dôsledku toho neprebiehajú žiadne nežiaduce vedľajšie reakcie, ktoré by spôsobovali problémy s odpadovými vodami alebo viedli k reakčným produktom usadzujúcim sa do druhej fázy a nevýhodne ovplyvňovali kvalitu zinkovo-niklového povlaku. Nákladné odstraňovanie tejto vrstvy a obnovovanie kúpeľa je vďaka tomuto vynálezu zbytočné. Ďalej možno zaznamenať značné zlepšenie kvality povlaku.
Ako obzvlášť výhodné sa ukázalo použitie katexovej membrány z perfluorovaného polyméru, pretože má zanedbateľný elektrický odpor, ale vysokú chemickú a mechanickú odolnosť.
Ďalej odpadá znečistenie odpadových vôd kyanidom, čím je značne zjednodušené čistenie odpadových vôd. Navyše je zbytočné dopĺňanie komplexotvomej látky do elektrolytu, pretože sa už nerozkladá a jej koncentrácia v kúpeli zostáva takmer konštantná. Tento postup je teda omnoho menej nákladný.
Zinkovo-niklový kúpeľ funguje v riešení podľa vynálezu ako katolyt. Ako anolyt môžu byť napríklad použité kyselina sírová, metánsulfónová, amidosulfónová a/alebo fosforečná. Ako materiál anódy pripadajú do úvahy do galvanického článku podľa vynálezu obvyklé anódy, napríklad platinované titánové anódy, pretože už nie sú vystavené pôsobeniu zásaditého zinkovo-niklového kúpeľa.
Prehľad obrázkov na výkresoch
Vynález je podrobnejšie opísaný pomocou príkladného vyhotovenia znázorneného na obrázku, kde je schematicky zobrazená konštrukcia galvanického kúpeľa.
Príklady uskutočnenia vynálezu
Na obrázku je znázornený galvanický článok 1, ktorý je vybavený anódou 2 a katódou 3, pri ktorej ide o poťahovaný predmet. Katolyt obklopujúci katódu 3 jc alkalický katolyt 4 a pozostáva zo zinkovo-niklového galvanického kúpeľa so známym zložením, v ktorom sa ako komplexotvorná látka pre ióny niklu používajú amíny. Anolyt 5 obklopujúci anódu 2 môže byť napríklad tvorený kyselinou sírovou, fosforečnou, kyselinou metansulfónovou, kyselinou amidosulfónovou alebo kyselinou fosfónovou.
Anolyt 5 a alkalický katolyt 4 sú od seba oddelené ionexovou membránou 6, ktorá je tvorená perfluorovanou katexovou membránou. Táto ionexová membrána 6 umožňuje bezbariérový prechod elektrického prúdu kúpeľom, ale bráni tomu, aby alkalický katolyt 4, zvlášť v ňom obsiahnuté amíny, prišli do styku s anódou 2, čím sú vylúčené reakcie, ktoré boli podrobne uvedené v opise, vrátane ich nežiaducich dôsledkov.

Claims (4)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY
    1. Alkalický galvanický kúpeľ na nanášanie zinkovo-niklových povlakov s anódou a katódou, vyznačujúci sa t ý m , že anolyt (5) obklopujúci anódu (2) a alkalycký katolyt (4) obklopujúci katódu (3) sú od seba oddelené ionexovou membránou (6).
  2. 2. Galvanický kúpeľ podľa nároku 1, v y z n a č u j ú c i sa tým, že anóda (2) je od alkalického katolytu (4) oddelená ionexovou membránou (6), ktorú tvorí perfluorovaná katexová membrána.
  3. 3. Galvanický kúpeľ podľa nároku 1 alebo 2, v y značujúci sa tým, že ako anolyt (5) je použitá kyselina sírová, kyselina fosforečná, kyselina metansulfónová, kyselina amidosulfónová a/alebo kyselina fosfónová.
  4. 4. Galvanický kúpeľ podľa jedného z nárokov 1 až 3, vyznačujúci sa tým, že anóda (2) je platinovaná titánová anóda.
SK89-2001A 1998-07-30 1999-07-29 Alkalický zinkovo-niklový kúpeľ SK285453B6 (sk)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19834353A DE19834353C2 (de) 1998-07-30 1998-07-30 Alkalisches Zink-Nickelbad
PCT/EP1999/005443 WO2000006807A2 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad

Publications (2)

Publication Number Publication Date
SK892001A3 SK892001A3 (en) 2001-10-08
SK285453B6 true SK285453B6 (sk) 2007-01-04

Family

ID=7875843

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SK89-2001A SK285453B6 (sk) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalický zinkovo-niklový kúpeľ

Country Status (22)

Country Link
US (4) US6602394B1 (sk)
EP (2) EP1102875B1 (sk)
JP (2) JP4716568B2 (sk)
KR (1) KR20010071074A (sk)
CN (1) CN1311830A (sk)
AT (2) ATE242821T1 (sk)
AU (1) AU5415299A (sk)
BG (1) BG105184A (sk)
BR (1) BR9912589A (sk)
CA (1) CA2339144A1 (sk)
CZ (1) CZ298904B6 (sk)
DE (3) DE19834353C2 (sk)
EE (1) EE200100059A (sk)
ES (2) ES2277624T3 (sk)
HR (1) HRP20010044B1 (sk)
HU (1) HUP0103951A3 (sk)
IL (1) IL141086A0 (sk)
MX (1) MXPA01000932A (sk)
PL (1) PL198149B1 (sk)
SK (1) SK285453B6 (sk)
TR (1) TR200100232T2 (sk)
WO (1) WO2000006807A2 (sk)

Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19834353C2 (de) * 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad
US8236159B2 (en) * 1999-04-13 2012-08-07 Applied Materials Inc. Electrolytic process using cation permeable barrier
US20060157355A1 (en) * 2000-03-21 2006-07-20 Semitool, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
US8852417B2 (en) 1999-04-13 2014-10-07 Applied Materials, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
US20060189129A1 (en) * 2000-03-21 2006-08-24 Semitool, Inc. Method for applying metal features onto barrier layers using ion permeable barriers
DE10026956A1 (de) * 2000-05-30 2001-12-13 Walter Hillebrand Galvanotechn Zink-Legierungsbad
ATE306572T1 (de) 2000-06-15 2005-10-15 Taskem Inc Zink-nickel-elektroplattierung
US6755960B1 (en) 2000-06-15 2004-06-29 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
US7628898B2 (en) * 2001-03-12 2009-12-08 Semitool, Inc. Method and system for idle state operation
DE10223622B4 (de) * 2002-05-28 2005-12-08 Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute
US8377283B2 (en) 2002-11-25 2013-02-19 Coventya, Inc. Zinc and zinc-alloy electroplating
DE10261493A1 (de) * 2002-12-23 2004-07-08 METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH Anode zur Galvanisierung
ES2609080T3 (es) * 2003-06-03 2017-04-18 Coventya, Inc. Revestimiento electrolítico de cinc y aleaciones de cinc
US20050121332A1 (en) * 2003-10-03 2005-06-09 Kochilla John R. Apparatus and method for treatment of metal surfaces by inorganic electrophoretic passivation
US20050133376A1 (en) * 2003-12-19 2005-06-23 Opaskar Vincent C. Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom
FR2864553B1 (fr) * 2003-12-31 2006-09-01 Coventya Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc
US7442286B2 (en) * 2004-02-26 2008-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
DE102004061255B4 (de) 2004-12-20 2007-10-31 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern und Vorrichtung zur Durchführung desselben
EP1712660A1 (de) 2005-04-12 2006-10-18 Enthone Inc. Unlösliche Anode
EP1717353B1 (de) * 2005-04-26 2009-04-22 ATOTECH Deutschland GmbH Alkalisches Galvanikbad mit einer Filtrationsmembran
EP1717351A1 (de) * 2005-04-27 2006-11-02 Enthone Inc. Galvanikbad
JP4738910B2 (ja) * 2005-06-21 2011-08-03 日本表面化学株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき方法
US20070043474A1 (en) * 2005-08-17 2007-02-22 Semitool, Inc. Systems and methods for predicting process characteristics of an electrochemical treatment process
DE102005051632B4 (de) * 2005-10-28 2009-02-19 Enthone Inc., West Haven Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen
JP4819612B2 (ja) * 2006-08-07 2011-11-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 めっき処理装置および半導体装置の製造方法
DE102007040005A1 (de) 2007-08-23 2009-02-26 Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad
DE102007060200A1 (de) 2007-12-14 2009-06-18 Coventya Gmbh Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad
TWI384094B (zh) * 2008-02-01 2013-02-01 Zhen Ding Technology Co Ltd 電鍍用陽極裝置及包括該陽極裝置之電鍍裝置
EP2096193B1 (en) 2008-02-21 2013-04-03 Atotech Deutschland GmbH Process for the preparation of corrosion resistant zinc and zinc-nickel plated linear or complex shaped parts
DE102008058086B4 (de) 2008-11-18 2013-05-23 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen
KR100977068B1 (ko) * 2010-01-25 2010-08-19 한용순 비정질 3가크롬합금도금층을 형성하기 위한 도금장치 및 그 3가크롬합금도금액
EP2384800B1 (de) 2010-05-07 2013-02-13 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Regeneration alkalischer Zinknickelelektrolyte durch Entfernen von Cyanidionen
DE102010044551A1 (de) 2010-09-07 2012-03-08 Coventya Gmbh Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad
EP2738290A1 (en) 2011-08-30 2014-06-04 Rohm and Haas Electronic Materials LLC Adhesion promotion of cyanide-free white bronze
CN103849915B (zh) * 2012-12-06 2016-08-31 北大方正集团有限公司 电镀装置和pcb板导通孔镀铜的方法
CN103911650B (zh) * 2014-04-02 2016-07-06 广东达志环保科技股份有限公司 一种应用于碱性锌镍合金电镀的阳极
DE202015002289U1 (de) 2015-03-25 2015-05-06 Hartmut Trenkner Zweikammer - Elektrodialysezelle mit Anionen- und Kationenaustauschermembran zur Verwendung als Anode in alkalischen Zink- und Zinklegierungselektrolyten zum Zweck der Metallabscheidung in galvanischen Anlagen
BR112015028629A2 (pt) 2015-07-22 2017-07-25 Dipsol Chem método de eletrogalvanização de liga de zinco
EP3042985B1 (en) 2015-07-22 2019-04-10 Dipsol Chemicals Co., Ltd. Zinc alloy plating method
WO2017171113A1 (ko) * 2016-03-29 2017-10-05 (주) 테크윈 전해조 및 전해 방법
CN106987879A (zh) * 2016-11-23 2017-07-28 瑞尔太阳能投资有限公司 电沉积装置及其电沉积方法
EP3358045A1 (de) 2017-02-07 2018-08-08 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen
HUE065554T2 (hu) 2017-06-14 2024-06-28 Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg Eljárás cink-nikkel ötvözet rétegek elektrolitikus lecsapására egy alkálikus cink-nikkel ötvözet fürdõbõl adalékok korlátozott lebomlása mellett
TWI841670B (zh) * 2019-01-24 2024-05-11 德商德國艾托特克公司 用於電解鋅-鎳合金沉積之膜陽極系統
JP6582353B1 (ja) 2019-02-15 2019-10-02 ディップソール株式会社 亜鉛又は亜鉛合金電気めっき方法及びシステム
JP6750186B1 (ja) 2019-11-28 2020-09-02 ユケン工業株式会社 めっき液の亜鉛濃度の上昇を抑制する方法および亜鉛系めっき部材の製造方法
WO2021123129A1 (en) 2019-12-20 2021-06-24 Atotech Deutschland Gmbh Method and system for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate
EP4273303A1 (en) 2022-05-05 2023-11-08 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG Method for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, an aqueous zinc-nickel deposition bath, a brightening agent and use thereof
CN115821346A (zh) * 2022-11-16 2023-03-21 广州超邦化工有限公司 一种中碳钢机加件镀碱性锌镍合金的方法

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE925264C (de) 1952-11-15 1955-03-17 Hesse & Co Dr Verfahren zum Vernickeln ohne Nickelanoden
GB1349735A (en) 1969-11-20 1974-04-10 Fulmer Res Inst Ltd Electrodeposited metal coatings
US3660170A (en) * 1970-04-08 1972-05-02 Gen Electric Dendrite-inhibiting additive for battery cell having zinc electrode
US3718549A (en) 1971-06-14 1973-02-27 Kewanee Oil Co Alkaline nickel plating solutions
JPS5128533A (en) * 1974-09-04 1976-03-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki
GB1602404A (en) 1978-04-06 1981-11-11 Ibm Electroplating of chromium
US4192908A (en) * 1979-06-15 1980-03-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Mass-transport separator for alkaline nickel-zinc cells and cell
JPS5893886A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Tokuyama Soda Co Ltd 電気メツキ方法
JPS5893899A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Sumitomo Metal Ind Ltd 電気メツキの浴管理方法
US4469564A (en) * 1982-08-11 1984-09-04 At&T Bell Laboratories Copper electroplating process
DE3310730A1 (de) 1983-03-24 1984-03-29 Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart Verfahren zum entfernen ueberschuessiger metall-ionen aus sauren chloridhaltigen galvanischen baeder
JPS59193295A (ja) 1983-04-15 1984-11-01 Hitachi Ltd ニツケルめつき方法及び装置
DE3712511C3 (de) * 1986-04-14 1995-06-29 Dipsol Chem Alkalisches cyanidfreies Elektroplattierungsbad und Verwendung dieses Bades
US4889602B1 (en) 1986-04-14 1995-11-14 Dipsol Chem Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating
US4832812A (en) * 1987-09-08 1989-05-23 Eco-Tec Limited Apparatus for electroplating metals
JPH02175894A (ja) * 1988-12-28 1990-07-09 Kosaku:Kk スズ、スズ合金電気めっき方法及び同電気めっき装置
FR2650304B1 (fr) 1989-07-25 1991-10-04 Siderurgie Fse Inst Rech Procede de revetement electrolytique d'une surface metallique, et cellule d'electrolyse pour sa mise en oeuvre
JPH049493A (ja) * 1990-04-27 1992-01-14 Permelec Electrode Ltd 鋼板の電気錫メッキ方法
JP2764337B2 (ja) * 1990-05-10 1998-06-11 新日本製鐵株式会社 Ni又はNi―Zn合金又はNi―Zn―Co合金メッキ方法
JPH0444374A (ja) 1990-06-12 1992-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd エキシマレーザ装置
US5310465A (en) * 1990-06-14 1994-05-10 Vaughan Daniel J Electrodialytic oxydation-reduction of metals
JPH0452296A (ja) * 1990-06-20 1992-02-20 Permelec Electrode Ltd 銅めっき方法
JPH08375Y2 (ja) * 1990-08-15 1996-01-10 株式会社アルメックス メッキ装置の陽極構造
EP0483937A1 (de) 1990-10-24 1992-05-06 ATOTECH Deutschland GmbH Membranelektrolysemodul, Verfahren und dessen Verwendung
DE4035316C2 (de) 1990-11-07 1993-11-04 Daimler Benz Ag Verfahren zur elektrolytischen rueckgewinnung von nickel aus chloridhaltigen elektrolytischen baedern
JPH04176893A (ja) 1990-11-08 1992-06-24 Kawasaki Steel Corp Sn―Ni合金めっき方法
US5162079A (en) 1991-01-28 1992-11-10 Eco-Tec Limited Process and apparatus for control of electroplating bath composition
JP2997072B2 (ja) * 1991-02-13 2000-01-11 ディップソール株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき浴及び被めっき物上の黒色析出を防止する方法
JPH059776A (ja) * 1991-07-01 1993-01-19 Fujitsu Ltd プリント配線板のめつき方法
JPH059799A (ja) 1991-07-05 1993-01-19 Kawasaki Steel Corp 硫酸浴Zn−Ni電気めつきにおける金属イオンの供給方法及び装置
JPH05128533A (ja) 1991-11-05 1993-05-25 Nec Eng Ltd 光デイスク再生装置
FR2686352B1 (fr) 1992-01-16 1995-06-16 Framatome Sa Appareil et procede de revetement electrolytique de nickel.
US5417840A (en) * 1993-10-21 1995-05-23 Mcgean-Rohco, Inc. Alkaline zinc-nickel alloy plating baths
US5405523A (en) * 1993-12-15 1995-04-11 Taskem Inc. Zinc alloy plating with quaternary ammonium polymer
JPH10130878A (ja) 1996-11-01 1998-05-19 Asahi Glass Co Ltd 電解ニッケルめっき方法
US5883762A (en) 1997-03-13 1999-03-16 Calhoun; Robert B. Electroplating apparatus and process for reducing oxidation of oxidizable plating anions and cations
DE19834353C2 (de) 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad

Also Published As

Publication number Publication date
WO2000006807A3 (de) 2000-05-04
HUP0103951A3 (en) 2003-05-28
US20110031127A1 (en) 2011-02-10
BR9912589A (pt) 2001-05-02
US20080164150A1 (en) 2008-07-10
EP1102875A2 (de) 2001-05-30
US20040104123A1 (en) 2004-06-03
AU5415299A (en) 2000-02-21
US8486235B2 (en) 2013-07-16
CN1311830A (zh) 2001-09-05
HRP20010044B1 (en) 2005-06-30
EE200100059A (et) 2002-10-15
HUP0103951A2 (hu) 2002-02-28
SK892001A3 (en) 2001-10-08
IL141086A0 (en) 2002-02-10
TR200100232T2 (tr) 2001-06-21
JP4716568B2 (ja) 2011-07-06
EP1344850A1 (de) 2003-09-17
DE19834353A1 (de) 2000-02-03
CZ2001189A3 (cs) 2001-08-15
PL345970A1 (en) 2002-01-14
HRP20010044A2 (en) 2001-12-31
EP1344850B1 (de) 2006-11-22
WO2000006807A2 (de) 2000-02-10
DE59914011D1 (de) 2007-01-04
EP1102875B1 (de) 2003-06-11
DE59905937D1 (de) 2003-07-17
KR20010071074A (ko) 2001-07-28
ES2277624T3 (es) 2007-07-16
US7807035B2 (en) 2010-10-05
JP2008150713A (ja) 2008-07-03
PL198149B1 (pl) 2008-05-30
US6602394B1 (en) 2003-08-05
BG105184A (en) 2001-10-31
DE19834353C2 (de) 2000-08-17
ATE346180T1 (de) 2006-12-15
CA2339144A1 (en) 2000-02-10
JP2002521572A (ja) 2002-07-16
MXPA01000932A (es) 2002-06-04
CZ298904B6 (cs) 2008-03-05
ATE242821T1 (de) 2003-06-15
ES2201759T3 (es) 2004-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SK285453B6 (sk) Alkalický zinkovo-niklový kúpeľ
US4778572A (en) Process for electroplating metals
KR100741198B1 (ko) 전기 도금 배스
US20160024683A1 (en) Apparatus and method for electrolytic deposition of metal layers on workpieces
RU2004102511A (ru) Электролизная ячейка для восполнения концентрации ионов металлов в способах электроосаждения
JP4346551B2 (ja) 電気めっき用陽極
US5194141A (en) Method for electrolytic tin plating of steel plate
US2384300A (en) Electrolytic deposition of zinc
US6187169B1 (en) Generation of organosulfonic acid from its salts
US4832812A (en) Apparatus for electroplating metals
US4652351A (en) Electrochemical restoration of cyanide solutions
US4208255A (en) Process and device for the production of metal-complex compounds suitable for electroless metal deposition
RU2789159C1 (ru) Способ регенерации электролита хромирования
RU2712325C1 (ru) Способ извлечения кадмия из промывных вод, содержащих цианиды
JPH05311483A (ja) 錫またははんだめっき浴
US2384301A (en) Electrolytic deposition of tungsten
KR810001966B1 (ko) 알카리 할로겐 화합물 전해조의 음극 관표면에 닉켈-아연 합금도막을 전착하는 방법
US4230541A (en) Pretreatment of cathodes in electrohydrodimerization of acrylonitrile
KR20110037581A (ko) 도금 석출물 제거 장치 및 이를 이용한 도금 석출물 제거 방법
RU2080415C1 (ru) Способ извлечения цинка из ванн улавливания хлораммиакатных электролитов
US20140097094A1 (en) Recovery method of nickel from spent electroless nickel plating solutions by electrolysis
CA2053342A1 (en) Nickel electroplating process with reduced nickel ion build up

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Patent expired

Expiry date: 20190729