DE19834353A1 - Alkalisches Zink-Nickelbad - Google Patents

Alkalisches Zink-Nickelbad

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Abstract

Zur Vermeidung unerwünschter Nebenreaktionen in einem alkalischen Zink-Nickel-Galvanikbad wird vorgeschlagen, die Anode von dem alkalischen Elektrolyten zu trennen.

Description

Die Erfindung betrifft ein Galvanikbad zum Auf/bringen von Zink-Nickel-Überzügen mit einer Anode, einer Kathode und einem alkalischen Elektrolyten.
Es ist bekannt, elektrisch leitende Werkstoffe zur Ver­ besserung deren Korrosionsbeständigkeit mit Zink-Nickel-Le­ gierungen zu überziehen. Dazu wird in herkömmlicher Weise ein saures Elektrolytbad, beispielsweise mit Sul­ fat-, Chlorid-, Fluoropromat- oder Sulfamat-Elektrolyten eingesetzt. Bei diesen Verfahren ist die Erzielung einer gleichmäßigen Dicke des Zink-Nickel-Überzuges auf dem zu beschichtenden Werkstoff regelungstechnisch sehr aufwen­ dig und in der Praxis meistens unmöglich.
Aus diesem Grund werden in jüngster Zeit die in der deutschen Patentschrift 37 12 511 offenbarten alkali­ schen Zink-Nickel-Galvanikbäder eingesetzt, die bei­ spielsweise folgende Zusammensetzung aufweisen:
11,3 g/l ZnO
4,1 g/l NiSO4.6R2O
120 g/l NaOR
5,1 g/l Polyethylenimin.
Die in dem Galvanikbad enthaltenen Amine dienen als Kom­ plexbildner für die Nickelionen, welche im alkalischen Medium ansonsten unlöslich sind. Die Zusammensetzung der Bäder variiert je nach Hersteller.
Betrieben werden die Galvanikbäder gewöhnlich mit unlös­ lichen Nickelanoden. Die Zinkkonzentration wird durch Zugabe von Zink und die Nickelkonzentration durch Addi­ tion einer Nickellösung, zum Beispiel einer Nickelsulfat-Lösung, konstant gehalten.
Diese Bäder zeigen jedoch nach einigen Stunden Betrieb eine Farbänderung von ursprünglich blau-violett nach braun. Nach mehreren Tagen bzw. Wochen verstärkt sich diese Färbung und es ist eine Trennung des Bades in zwei Phasen feststellbar, wobei die obere Phase dunkelbraun ist. Diese Phase bewirkt erhebliche Störungen der Be­ schichtung der Werkstücke, wie beispielsweise ungleich­ mäßige Schichtdicken oder Bläschenbildung. Eine kontinu­ ierliche Reinigung des Bades, d. h. ein kontinuierliches Abschöpfen dieser Schicht, ist somit unumgänglich. Diese ist aber zeit- und kostenaufwendig.
Des weiteren kann nach einigen Wochen des Betriebs Cya­ nid in den Bädern nachgewiesen werden. Die Cyanidbela­ stung erfordert ein regelmäßiges Erneuern des Bades und eine spezielle Abwasserbehandlung, die sich erheblich auf die Betriebskosten des Bades auswirkt. Dies gilt um so mehr, als die Abwässer eine sehr hohe Organikkonzen­ tration aufweisen und mit einem CSB-Wert von ca. 15.000 bis 20.000 mg/l die Cyanidentgiftung erschweren. Das Einhalten der vom Gesetzgeber vorgegebenen Abwasserwerte (Nickel 0,5 ppm und Zink 2 ppm) ist dann nur noch durch umfangreichen Zusatz von Chemikalien möglich.
Die Ausbildung der zweiten Phase ist auf eine Reaktion der Amine zurückzuführen, die in alkalischer Lösung an Nickelanoden zu Nitrilen (unter anderen auch zu Cyanid) umgesetzt werden. Aufgrund der Zersetzung der Amine muß dem Bad zudem kontinuierlich neuer Komplexbildnern zuge­ geben werden, was die Kosten des Prozesses in die Höhe treibt.
Andere Anoden als Nickel-Anoden können nicht eingesetzt werden, weil diese sich in dem alkalischen Elektrolyten auflösen, was ebenfalls nachteilige Auswirkungen auf die Qualität der Beschichtung mit sich bringt.
Vor diesem Hintergrund liegt der Erfindung das Problem zugrunde, ein alkalisches Zink-Nickel-Galvanikbad zu schaffen, welches kostengünstig Zink-Nickel-Beschichtun­ gen von hoher Qualität liefert.
Zur Lösung dieses Problems schlägt die Erfindung vor, die Anode von dem alkalischen Elektrolyt durch eine Ionenaustauschermembran zu trennen.
Durch diese Trennung wird die Reaktion der Amine an der Nickelanode vermieden, was zur Folge hat, daß keine un­ erwünschten Nebenreaktionen ablaufen, die Entsorgungs­ probleme bereiten oder zu einer zweiten Phase auf dem Bad absetzenden Reaktionsprodukten führen und die Quali­ tät des Zink-Nickel-Überzuges nachteilig beeinflussen. Das aufwendige Abschöpfen dieser Schicht sowie das Er­ neuern des Bades wird durch die Erfindung überflüssig. Ferner ist eine erhebliche Qualitätsverbesserung der Be­ schichtung zu verzeichnen.
Als besonders vorteilhaft hat sich der Einsatz einer Ka­ tionenaustauschermembran aus einem perfluorierten Poly­ mer herausgestellt, da diese einen vernachlässigbaren elektrischen Widerstand, jedoch eine hohe chemische und mechanischer Widerstandsfähigkeit besitzen.
Des weiteren entfällt die Cyanidvergiftung des Abwas­ sers, wodurch die gesamte Abwasserreinigung erheblich vereinfacht wird. Darüber hinaus wird das Auffüllen des Elektrolyten mit Komplexbildner überflüssig, da dieser sich nicht mehr zersetzt und seine Konzentration im Bad annähernd konstant bleibt. Das Verfahren wir dadurch er­ heblich kostengünstiger.
Das Zink-Nickelbad fungiert bei der erfindungsgemäßen Lösung als Katholyt. Als Anolyt können beispielsweise Schwefel- oder Phosphorsäure eingesetzt werden. Als Anodenmaterial kommen in der erfindungsgemäßen Galva­ nikzelle übliche Anoden, wie z. B. platinierte Titan­ anoden in Frage, da diese nicht mehr dem basischen Zink-Nickelbad ausgesetzt sind.
Die vorliegende Erfindung wird anhand des in der Zeich­ nung dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert.
In der Zeichnung zeigt:
Fig. 1 den schematischen Aufbau eines erfindungsgemä­ ßen Galvanikbades.
In Fig. 1 ist eine Galvanikzelle 1 dargestellt, die eine Anode 2 und eine Kathode 3, bei der es sich um das zu beschichtende Werkstück handelt, aufweist. Der die Anode umgebende Katholyt 4 ist alkalisch und besteht aus einem Zink-Nickel-Galvanikbad bekannter Zusammensetzung, bei dem als Komplexbildner für die Nickelionen Amine einge­ setzt werden. Der die Anode 2 umgebende Anolyt 5 kann beispielsweise aus Schwefel- oder Phosphorsäure beste­ hen. Anolyt 5 und Katholyt 4 sind durch eine perfluorierte Kationenaustauschermembran 6 voneinander getrennt. Diese Membran 6 ermöglicht einen ungehinderten Stromfluß durch das Bad, verhindert jedoch, daß der Katholyt 4, insbesondere die darin enthaltenen Amine, mit der Anode 2 in Kontakt kommt, wodurch die in der Be­ schreibungseinleitung ausführlich dargelegten Reaktionen einschließlich deren nachteiligen Auswirkungen vermieden werden.

Claims (4)

1. Alkalisches Galvanikbad (1) zum Aufbringen von Zink- Nickel-Überzügen mit einer Anode (2) und einer Kathode (3), dadurch gekennzeichnet, daß die Anode von dem alkalischen Elektrolyten durch eine Ionen­ austauschermembran (6) getrennt ist.
2. Galvanikbad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode (3) durch eine perfluorierte Katio­ nenaustauschermembran (6) von dem alkalischen Elek­ trolyten (4) getrennt ist.
3. Galvanikbad nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch Schwefelsäure, Phosphorsäure, Methansulfon­ säure, Amidosulfonsäure und/oder Phosphonsäure als Anolyt (5).
4. Galvanikbad nach einem der Ansprüche 1 bis 3, ge­ kennzeichnet durch eine platinierte Titananode.
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DE29824094U DE29824094U1 (de) 1998-07-30 1998-07-30 Alkalisches Zink-Nickelbad
US09/744,706 US6602394B1 (en) 1998-07-30 1999-07-24 Alkali zinc nickel bath
DE59914011T DE59914011D1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches Zink-Nickelbad
TR2001/00232T TR200100232T2 (tr) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalik çinko-nikel banyosu.
AT99940077T ATE242821T1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad
BR9912589-7A BR9912589A (pt) 1998-07-30 1999-07-29 Banho de zinco-nìquel alcalino
CA002339144A CA2339144A1 (en) 1998-07-30 1999-07-29 Alkali zinc nickel bath
AU54152/99A AU5415299A (en) 1998-07-30 1999-07-29 Alkali zinc nickel bath
PCT/EP1999/005443 WO2000006807A2 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad
CZ20010189A CZ298904B6 (cs) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalická zinko-niklová lázen
AT03003890T ATE346180T1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad
DE29924530U DE29924530U1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches Zink-Nickelbad
CN99809138A CN1311830A (zh) 1998-07-30 1999-07-29 碱性锌镍镀浴
KR1020017001285A KR20010071074A (ko) 1998-07-30 1999-07-29 알칼리성 아연 니켈 배드
HU0103951A HUP0103951A3 (en) 1998-07-30 1999-07-29 Alkali zinc nickel bath
PL345970A PL198149B1 (pl) 1998-07-30 1999-07-29 Sposób nakładania powłok cynkowo-niklowych z alkalicznej kąpieli galwanicznej
SK89-2001A SK285453B6 (sk) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalický zinkovo-niklový kúpeľ
EP03003890A EP1344850B1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches Zink-Nickelbad
DE59905937T DE59905937D1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad
ES03003890T ES2277624T3 (es) 1998-07-30 1999-07-29 Baño de cinc-niquel alcalino.
MXPA01000932A MXPA01000932A (es) 1998-07-30 1999-07-29 Bano alcalino de zinc-niquel.
EEP200100059A EE200100059A (et) 1998-07-30 1999-07-29 Leeliseline tsink-nikkel galvaanimisvann
ES99940077T ES2201759T3 (es) 1998-07-30 1999-07-29 Baño alcalino de zinc y niquel.
IL14108699A IL141086A0 (en) 1998-07-30 1999-07-29 Alkali zinc nickel bath
EP99940077A EP1102875B1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad
JP2000562585A JP4716568B2 (ja) 1998-07-30 1999-07-29 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽
HR20010044A HRP20010044B1 (en) 1998-07-30 2001-01-16 Alkali zinc nickel bath
BG105184A BG105184A (en) 1998-07-30 2001-01-25 Alkalizing nickel bath
US10/618,352 US20040104123A1 (en) 1998-07-30 2003-07-11 Alkaline zinc-nickel bath
US12/030,750 US7807035B2 (en) 1998-07-30 2008-02-13 Methods of plating zinc-containing coatings under alkaline conditions
JP2008069722A JP2008150713A (ja) 1998-07-30 2008-03-18 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽及びめっき方法
US12/896,673 US8486235B2 (en) 1998-07-30 2010-10-01 Alkaline zinc-nickel bath

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TR (1) TR200100232T2 (de)
WO (1) WO2000006807A2 (de)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001092605A1 (de) * 2000-05-30 2001-12-06 Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik Zink-legierungsbad
WO2001096631A1 (en) 2000-06-15 2001-12-20 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
US6755960B1 (en) 2000-06-15 2004-06-29 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
DE102004061255A1 (de) * 2004-12-20 2006-06-29 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern
DE102007040005A1 (de) 2007-08-23 2009-02-26 Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad
US8377283B2 (en) 2002-11-25 2013-02-19 Coventya, Inc. Zinc and zinc-alloy electroplating
US10738391B2 (en) 2015-03-25 2020-08-11 Coventya International Gmbh Two-chamber electrodialysis cell with anion and cation exchange membrane for use as an anode in alkaline zinc electrolytes and zinc alloy electrolytes for the purpose of deposition of metal in electroplating systems

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19834353C2 (de) 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad
US8852417B2 (en) 1999-04-13 2014-10-07 Applied Materials, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
US20060157355A1 (en) * 2000-03-21 2006-07-20 Semitool, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
US8236159B2 (en) 1999-04-13 2012-08-07 Applied Materials Inc. Electrolytic process using cation permeable barrier
US20060189129A1 (en) * 2000-03-21 2006-08-24 Semitool, Inc. Method for applying metal features onto barrier layers using ion permeable barriers
US7628898B2 (en) * 2001-03-12 2009-12-08 Semitool, Inc. Method and system for idle state operation
DE10223622B4 (de) * 2002-05-28 2005-12-08 Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute
DE10261493A1 (de) * 2002-12-23 2004-07-08 METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH Anode zur Galvanisierung
AU2003239929A1 (en) * 2003-06-03 2005-01-04 Coventya Sas Zinc and zinc-alloy electroplating
US20050121332A1 (en) * 2003-10-03 2005-06-09 Kochilla John R. Apparatus and method for treatment of metal surfaces by inorganic electrophoretic passivation
US20050133376A1 (en) * 2003-12-19 2005-06-23 Opaskar Vincent C. Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom
FR2864553B1 (fr) * 2003-12-31 2006-09-01 Coventya Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc
US7442286B2 (en) * 2004-02-26 2008-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
EP1712660A1 (de) * 2005-04-12 2006-10-18 Enthone Inc. Unlösliche Anode
ES2574158T3 (es) * 2005-04-26 2016-06-15 Atotech Deutschland Gmbh Baño galvánico alcalino con una membrana de filtración
EP1717351A1 (de) * 2005-04-27 2006-11-02 Enthone Inc. Galvanikbad
JP4738910B2 (ja) * 2005-06-21 2011-08-03 日本表面化学株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき方法
US20070043474A1 (en) * 2005-08-17 2007-02-22 Semitool, Inc. Systems and methods for predicting process characteristics of an electrochemical treatment process
DE102005051632B4 (de) * 2005-10-28 2009-02-19 Enthone Inc., West Haven Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen
JP4819612B2 (ja) * 2006-08-07 2011-11-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 めっき処理装置および半導体装置の製造方法
DE102007060200A1 (de) 2007-12-14 2009-06-18 Coventya Gmbh Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad
TWI384094B (zh) * 2008-02-01 2013-02-01 Zhen Ding Technology Co Ltd 電鍍用陽極裝置及包括該陽極裝置之電鍍裝置
EP2096193B1 (de) 2008-02-21 2013-04-03 Atotech Deutschland GmbH Verfahren zur Herstellung von korrosionsresistentem Zink und Zink-Nickel-plattierten linearen oder komplex geformten Teilen
DE102008058086B4 (de) 2008-11-18 2013-05-23 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen
KR100977068B1 (ko) * 2010-01-25 2010-08-19 한용순 비정질 3가크롬합금도금층을 형성하기 위한 도금장치 및 그 3가크롬합금도금액
PL2384800T3 (pl) 2010-05-07 2013-07-31 Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg Regeneracja alkalicznych elektrolitów cynkowo-niklowych drogą usuwania jonów cynkowych
DE102010044551A1 (de) 2010-09-07 2012-03-08 Coventya Gmbh Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad
EP2738290A1 (de) 2011-08-30 2014-06-04 Rohm and Haas Electronic Materials LLC Haftungsförderung von cyanidfreier weißer Bronze
CN103849915B (zh) * 2012-12-06 2016-08-31 北大方正集团有限公司 电镀装置和pcb板导通孔镀铜的方法
CN103911650B (zh) * 2014-04-02 2016-07-06 广东达志环保科技股份有限公司 一种应用于碱性锌镍合金电镀的阳极
KR101622528B1 (ko) 2015-07-22 2016-05-18 딥솔 가부시키가이샤 아연 합금 도금 방법
MX368366B (es) 2015-07-22 2019-09-30 Dipsol Chem Metodo de electrodeposicion de aleacion de zinc.
WO2017171113A1 (ko) * 2016-03-29 2017-10-05 (주) 테크윈 전해조 및 전해 방법
CN106987879A (zh) * 2016-11-23 2017-07-28 瑞尔太阳能投资有限公司 电沉积装置及其电沉积方法
EP3358045A1 (de) 2017-02-07 2018-08-08 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen
HUE065554T2 (hu) 2017-06-14 2024-06-28 Dr Ing Max Schloetter Gmbh & Co Kg Eljárás cink-nikkel ötvözet rétegek elektrolitikus lecsapására egy alkálikus cink-nikkel ötvözet fürdõbõl adalékok korlátozott lebomlása mellett
MX2021008925A (es) * 2019-01-24 2021-08-24 Atotech Deutschland Gmbh Sistema de anodo de membrana para deposito electrolitico de aleacion de cinc-niquel.
EP3715506A4 (de) 2019-02-15 2021-04-14 Dipsol Chemicals Co., Ltd. Zink- oder zinklegierungen elektropliermethode und -system
JP6750186B1 (ja) 2019-11-28 2020-09-02 ユケン工業株式会社 めっき液の亜鉛濃度の上昇を抑制する方法および亜鉛系めっき部材の製造方法
US11946152B2 (en) 2019-12-20 2024-04-02 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG Method and system for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate
EP4273303A1 (de) 2022-05-05 2023-11-08 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG Verfahren zum abscheiden einer zink-nickel-legierung auf einem substrat, ein wässriges zink-nickel-abscheidungsbad, ein glanzmittel und verwendung davon
CN115821346A (zh) * 2022-11-16 2023-03-21 广州超邦化工有限公司 一种中碳钢机加件镀碱性锌镍合金的方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3712511A1 (de) * 1986-04-14 1987-10-15 Dipsol Chem Elekroplattierungsbad

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE925264C (de) 1952-11-15 1955-03-17 Hesse & Co Dr Verfahren zum Vernickeln ohne Nickelanoden
GB1349735A (en) 1969-11-20 1974-04-10 Fulmer Res Inst Ltd Electrodeposited metal coatings
US3660170A (en) * 1970-04-08 1972-05-02 Gen Electric Dendrite-inhibiting additive for battery cell having zinc electrode
US3718549A (en) 1971-06-14 1973-02-27 Kewanee Oil Co Alkaline nickel plating solutions
JPS5128533A (en) * 1974-09-04 1976-03-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki
GB1602404A (en) 1978-04-06 1981-11-11 Ibm Electroplating of chromium
US4192908A (en) * 1979-06-15 1980-03-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Mass-transport separator for alkaline nickel-zinc cells and cell
JPS5893886A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Tokuyama Soda Co Ltd 電気メツキ方法
JPS5893899A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Sumitomo Metal Ind Ltd 電気メツキの浴管理方法
US4469564A (en) * 1982-08-11 1984-09-04 At&T Bell Laboratories Copper electroplating process
DE3310730A1 (de) 1983-03-24 1984-03-29 Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart Verfahren zum entfernen ueberschuessiger metall-ionen aus sauren chloridhaltigen galvanischen baeder
JPS59193295A (ja) 1983-04-15 1984-11-01 Hitachi Ltd ニツケルめつき方法及び装置
US4889602B1 (en) 1986-04-14 1995-11-14 Dipsol Chem Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating
US4832812A (en) * 1987-09-08 1989-05-23 Eco-Tec Limited Apparatus for electroplating metals
JPH02175894A (ja) * 1988-12-28 1990-07-09 Kosaku:Kk スズ、スズ合金電気めっき方法及び同電気めっき装置
FR2650304B1 (fr) 1989-07-25 1991-10-04 Siderurgie Fse Inst Rech Procede de revetement electrolytique d'une surface metallique, et cellule d'electrolyse pour sa mise en oeuvre
JPH049493A (ja) * 1990-04-27 1992-01-14 Permelec Electrode Ltd 鋼板の電気錫メッキ方法
JP2764337B2 (ja) * 1990-05-10 1998-06-11 新日本製鐵株式会社 Ni又はNi―Zn合金又はNi―Zn―Co合金メッキ方法
JPH0444374A (ja) 1990-06-12 1992-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd エキシマレーザ装置
US5310465A (en) * 1990-06-14 1994-05-10 Vaughan Daniel J Electrodialytic oxydation-reduction of metals
JPH0452296A (ja) * 1990-06-20 1992-02-20 Permelec Electrode Ltd 銅めっき方法
JPH08375Y2 (ja) * 1990-08-15 1996-01-10 株式会社アルメックス メッキ装置の陽極構造
EP0483937A1 (de) 1990-10-24 1992-05-06 ATOTECH Deutschland GmbH Membranelektrolysemodul, Verfahren und dessen Verwendung
DE4035316C2 (de) 1990-11-07 1993-11-04 Daimler Benz Ag Verfahren zur elektrolytischen rueckgewinnung von nickel aus chloridhaltigen elektrolytischen baedern
JPH04176893A (ja) 1990-11-08 1992-06-24 Kawasaki Steel Corp Sn―Ni合金めっき方法
US5162079A (en) 1991-01-28 1992-11-10 Eco-Tec Limited Process and apparatus for control of electroplating bath composition
JP2997072B2 (ja) * 1991-02-13 2000-01-11 ディップソール株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき浴及び被めっき物上の黒色析出を防止する方法
JPH059776A (ja) * 1991-07-01 1993-01-19 Fujitsu Ltd プリント配線板のめつき方法
JPH059799A (ja) 1991-07-05 1993-01-19 Kawasaki Steel Corp 硫酸浴Zn−Ni電気めつきにおける金属イオンの供給方法及び装置
JPH05128533A (ja) 1991-11-05 1993-05-25 Nec Eng Ltd 光デイスク再生装置
FR2686352B1 (fr) 1992-01-16 1995-06-16 Framatome Sa Appareil et procede de revetement electrolytique de nickel.
US5417840A (en) * 1993-10-21 1995-05-23 Mcgean-Rohco, Inc. Alkaline zinc-nickel alloy plating baths
US5405523A (en) * 1993-12-15 1995-04-11 Taskem Inc. Zinc alloy plating with quaternary ammonium polymer
JPH10130878A (ja) 1996-11-01 1998-05-19 Asahi Glass Co Ltd 電解ニッケルめっき方法
US5883762A (en) 1997-03-13 1999-03-16 Calhoun; Robert B. Electroplating apparatus and process for reducing oxidation of oxidizable plating anions and cations
DE19834353C2 (de) * 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3712511A1 (de) * 1986-04-14 1987-10-15 Dipsol Chem Elekroplattierungsbad

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Derwent-Abstract zu JP 58-93 886 (A) *
Galvanisches Verzinken, Leuze-Verlag, 1982, Kap. 3.10 *

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001092605A1 (de) * 2000-05-30 2001-12-06 Walter Hillebrand Gmbh & Co. Galvanotechnik Zink-legierungsbad
DE10026956A1 (de) * 2000-05-30 2001-12-13 Walter Hillebrand Galvanotechn Zink-Legierungsbad
WO2001096631A1 (en) 2000-06-15 2001-12-20 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
US6755960B1 (en) 2000-06-15 2004-06-29 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
US8377283B2 (en) 2002-11-25 2013-02-19 Coventya, Inc. Zinc and zinc-alloy electroplating
DE102004061255A1 (de) * 2004-12-20 2006-06-29 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern
DE102004061255B4 (de) * 2004-12-20 2007-10-31 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern und Vorrichtung zur Durchführung desselben
US8475874B2 (en) 2004-12-20 2013-07-02 Atotech Deutschland Gmbh Method for continuously operating acid or alkaline zinc or zinc alloy baths
DE102007040005A1 (de) 2007-08-23 2009-02-26 Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad
US10738391B2 (en) 2015-03-25 2020-08-11 Coventya International Gmbh Two-chamber electrodialysis cell with anion and cation exchange membrane for use as an anode in alkaline zinc electrolytes and zinc alloy electrolytes for the purpose of deposition of metal in electroplating systems

Also Published As

Publication number Publication date
MXPA01000932A (es) 2002-06-04
US7807035B2 (en) 2010-10-05
HRP20010044A2 (en) 2001-12-31
IL141086A0 (en) 2002-02-10
WO2000006807A3 (de) 2000-05-04
CZ298904B6 (cs) 2008-03-05
JP2008150713A (ja) 2008-07-03
WO2000006807A2 (de) 2000-02-10
HUP0103951A2 (hu) 2002-02-28
CZ2001189A3 (cs) 2001-08-15
JP2002521572A (ja) 2002-07-16
DE59905937D1 (de) 2003-07-17
US20110031127A1 (en) 2011-02-10
AU5415299A (en) 2000-02-21
BG105184A (en) 2001-10-31
US20080164150A1 (en) 2008-07-10
BR9912589A (pt) 2001-05-02
CA2339144A1 (en) 2000-02-10
TR200100232T2 (tr) 2001-06-21
ATE242821T1 (de) 2003-06-15
DE19834353C2 (de) 2000-08-17
SK285453B6 (sk) 2007-01-04
EP1344850B1 (de) 2006-11-22
US20040104123A1 (en) 2004-06-03
ES2201759T3 (es) 2004-03-16
EP1102875A2 (de) 2001-05-30
CN1311830A (zh) 2001-09-05
HRP20010044B1 (en) 2005-06-30
US8486235B2 (en) 2013-07-16
SK892001A3 (en) 2001-10-08
EE200100059A (et) 2002-10-15
PL345970A1 (en) 2002-01-14
KR20010071074A (ko) 2001-07-28
EP1102875B1 (de) 2003-06-11
ATE346180T1 (de) 2006-12-15
EP1344850A1 (de) 2003-09-17
HUP0103951A3 (en) 2003-05-28
PL198149B1 (pl) 2008-05-30
ES2277624T3 (es) 2007-07-16
JP4716568B2 (ja) 2011-07-06
DE59914011D1 (de) 2007-01-04
US6602394B1 (en) 2003-08-05

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