JP2022518053A - 電解亜鉛ニッケル合金析出のための薄膜アノードシステム - Google Patents
電解亜鉛ニッケル合金析出のための薄膜アノードシステム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2022518053A JP2022518053A JP2021542484A JP2021542484A JP2022518053A JP 2022518053 A JP2022518053 A JP 2022518053A JP 2021542484 A JP2021542484 A JP 2021542484A JP 2021542484 A JP2021542484 A JP 2021542484A JP 2022518053 A JP2022518053 A JP 2022518053A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anode
- thin film
- anolyte
- modular unit
- front plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 190
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 title claims abstract description 33
- QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N nickel zinc Chemical compound [Ni].[Zn] QELJHCBNGDEXLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 19
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims description 51
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 18
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 claims description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 7
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 claims description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 4
- 239000003010 cation ion exchange membrane Substances 0.000 claims description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 2
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 12
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 239000011701 zinc Substances 0.000 abstract description 12
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 11
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 5
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 239000003014 ion exchange membrane Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000009419 refurbishment Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/002—Cell separation, e.g. membranes, diaphragms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/12—Process control or regulation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D21/00—Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
- C25D21/16—Regeneration of process solutions
- C25D21/18—Regeneration of process solutions of electrolytes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/22—Electroplating: Baths therefor from solutions of zinc
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
Description
-少なくとも反応槽と、
-少なくとも第1の薄膜と、
-少なくともアノードと、
-少なくともカソードと、
-少なくとも第1の陽極液区画と、
-少なくとも陰極液区画と
を含み、
少なくとも第1の薄膜はアノードとカソードとの間に配置されており、少なくとも第1の薄膜は、0.5mmから5mmまでに及ぶ、アノードまでの距離を有する、
電解亜鉛ニッケル合金析出のための薄膜アノードシステムであって、
複数の開口部を有する少なくとも第1の非金属前板と、少なくとも非金属容器とをさらに含み、前記少なくとも第1の非金属前板および前記非金属容器は、少なくとも第1の薄膜と、アノードと、第1の薄膜とアノードとの間の少なくとも第1の陽極液区画と共に、少なくとも片面薄膜アノードモジュラーユニットを形成し、
アノードは、少なくとも片面薄膜アノードモジュラーユニット全体が反応槽から除去されなければならないかまたはそれに挿入されなければならないことなく、少なくとも片面薄膜アノードモジュラーユニットから個々に除去されるかまたはそれに個々に挿入されることが可能である、
ことを特徴とする、薄膜アノードシステムに言及している。
-少なくとも反応槽と、
-少なくとも第1の薄膜と、
-少なくともアノードと、
-少なくともカソードと、
-少なくとも第1の陽極液区画と、
-少なくとも陰極液区画と
を含む少なくとも薄膜アノードシステムを使用することを特徴とする、処理される基板上での亜鉛ニッケル合金層の電解析出のための方法であって、
少なくとも第1の薄膜がアノードとカソードとの間に配置されており、少なくとも第1の薄膜は、0.5mmから5mmまでに及ぶ、アノードまでの距離を有することを特徴とする、方法、により解決される。
-少なくとも反応槽と、
-少なくとも第1の薄膜と、
-少なくともアノードと、
-少なくともカソードと、
-少なくとも第1の陽極液区画と、
-少なくとも陰極液区画と
を含む、薄膜アノードシステムの使用であって、
少なくとも第1の薄膜がアノードとカソードとの間に配置されており、少なくとも第1の薄膜が、0.5mmから5mmまでに及ぶ、アノードまでの距離を有することを特徴とし、
(好ましくは好適であると考えられている)本発明による方法により処理される基板上での亜鉛ニッケル合金層の酸性またはアルカリ性電解析出のための、
薄膜アノードシステムの使用に言及している。
Claims (15)
- -少なくとも反応槽と、
-少なくとも第1の薄膜と、
-少なくともアノードと、
-少なくともカソードと、
-少なくとも第1の陽極液区画と、
-少なくとも陰極液区画と
を含み、
前記少なくとも第1の薄膜は前記アノードと前記カソードとの間に配置されており、前記少なくとも第1の薄膜は、0.5mmから5mmまでに及ぶ、前記アノードまでの距離を有する、電解亜鉛ニッケル合金析出のための薄膜アノードシステムであって、
前記薄膜アノードシステムは、複数の開口部を有する少なくとも第1の非金属前板と、少なくとも非金属容器とをさらに含み、前記少なくとも第1の非金属前板および前記非金属容器は、前記少なくとも第1の薄膜と、前記アノードと、前記第1の薄膜と前記アノードとの間の前記少なくとも第1の陽極液区画と共に、少なくとも片面薄膜アノードモジュラーユニットを形成し、
前記アノードは、前記少なくとも片面薄膜アノードモジュラーユニット全体が前記反応槽から除去されなければならないかまたはそれに挿入されなければならないことなく、前記少なくとも片面薄膜アノードモジュラーユニットから個々に除去されるかまたはそれに個々に挿入されることが可能である、
ことを特徴とする、薄膜アノードシステム。 - 前記少なくとも第1の薄膜は、0.75mmから4mmまで、好ましくは1mmから3mmまでに及ぶ、前記アノードまでの距離を有することを特徴とする、請求項1に記載の薄膜アノードシステム。
- 前記少なくとも片面薄膜アノードモジュラーユニットは、前記少なくとも第1の非金属前板を前記非金属容器と共にカプセル化することにより、前記少なくとも第1の薄膜と、前記少なくとも第1の陽極液区画と、前記アノードとの少なくとも第1のカプセル化をもたらし、前記少なくとも片面薄膜アノードモジュラーユニットは、前記非金属容器を伴う前記少なくとも第1の非金属前板の前記少なくとも第1のカプセル化を封止する少なくとも第1の封止要素をさらに含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の薄膜アノードシステム。
- 前記薄膜アノードシステムは、複数の開口部を有する少なくとも第2の非金属前板と、少なくとも第2の薄膜と、前記少なくとも第2の薄膜と前記アノードとの間の少なくとも第2の陽極液区画とをさらに含み、前記アノードは、第1のアノード表面を含む少なくとも第1の面と、第2のアノード表面を含む少なくとも第2の面とを含み、前記アノードの前記第1の面は前記アノードの前記第2の面に対向して配置されており、前記アノードの前記第1の面上に、前記少なくとも第1の薄膜と前記少なくとも第1の非金属前板とが前記アノードの前記第1の面の前記表面に平行に配置されており、前記アノードの前記第2の面上に、前記少なくとも第2の薄膜と前記少なくとも第2の非金属前板とが前記アノードの前記第2の面の前記表面に平行に配置されており、前記少なくとも第1の薄膜および前記少なくとも第2の薄膜は、前記少なくとも第1の非金属前板および前記第2の非金属前板と、前記非金属容器と、前記少なくとも第1の陽極液区画および前記少なくとも第2の陽極液区画と、前記アノードと共に、少なくとも両面薄膜アノードモジュラーユニットを形成することを特徴とする、請求項1または2に記載の薄膜アノードシステム。
- 前記少なくとも両面薄膜アノードモジュラーユニットは、前記少なくとも第1の非金属前板を前記非金属容器と共にカプセル化することにより、前記少なくとも第1の薄膜と、前記少なくとも第1の陽極液区画と、前記アノードとの少なくとも第1のカプセル化をもたらし、前記少なくとも両面薄膜アノードモジュラーユニットは、前記非金属容器を伴う前記少なくとも第1の非金属前板の前記少なくとも第1のカプセル化を封止する少なくとも第1の封止要素をさらに含み、前記少なくとも両面薄膜アノードモジュラーユニットは、前記少なくとも第2の非金属前板を前記非金属容器と共にカプセル化することにより、前記少なくとも第2の薄膜と、前記少なくとも第2の陽極液区画と、前記アノードとの少なくとも第2のカプセル化をさらにもたらし、前記少なくとも両面薄膜アノードモジュラーユニットは、前記非金属容器を伴う前記少なくとも第2の非金属前板の前記少なくとも第2のカプセル化を封止している少なくとも第2の封止要素をさらに含むことを特徴とする、請求項4に記載の薄膜アノードシステム。
- 前記少なくとも両面薄膜アノードモジュラーユニット全体が前記反応槽から除去されなければならないかまたはそれに挿入されなければならないことなく、前記少なくとも両面薄膜アノードモジュラーユニットから前記アノードが個々に除去され得るかまたはそれに個々に挿入され得ることを特徴とする、請求項4または5に記載の薄膜アノードシステム。
- 各薄膜は各アノードと直接接触していないことを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載の薄膜アノードシステム。
- 各薄膜はカチオンイオン交換膜であること、および/または各アノードは不溶性アノード、好ましくはイリジウム被覆混合金属酸化物アノードであることを特徴とする、請求項1から7のいずれか一項に記載の薄膜アノードシステム。
- -少なくとも反応槽と、
-少なくとも第1の薄膜と、
-少なくともアノードと、
-少なくともカソードと、
-少なくとも第1の陽極液区画と、
-少なくとも陰極液区画と
を含む少なくとも薄膜アノードシステムを使用することを特徴とする、処理される基板上での亜鉛ニッケル合金層の電解析出のための方法であって、
前記少なくとも第1の薄膜が前記アノードと前記カソードとの間に配置されており、前記少なくとも第1の薄膜が、0.5mmから5mmまでに及ぶ、前記アノードまでの距離を有することを特徴とする、方法。 - 前記方法は、前記薄膜アノードシステムの前記少なくとも第1の陽極液区画へまたは前記少なくとも第1および第2の陽極液区画へ少なくとも陽極液を供給するために、少なくとも陽極液体積流を制御しかつ/または調整する少なくとも陽極液供給システムを含み、前記陽極液供給システムは、少なくとも陽極液タンクと、少なくとも投与ポンプと、少なくとも投与ノズルとを含み、前記陽極液体積流は、前記陽極液タンクから前記投与ポンプまで、さらに前記投与ノズルまで、さらに前記薄膜アノードシステムの前記少なくとも第1の陽極液区画または前記少なくとも第1および第2の陽極液区画まで流れていることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 前記陽極液供給システムは、前記陽極液体積流を制御しかつ/または調整するために流量計およびボール弁を使用していないことを特徴とする、請求項10に記載の方法。
- 前記陽極液体積流は、前記陽極液供給システムが閉循環システムであるように制御されかつ/または調整され、前記陽極液体積流は、前記薄膜アノードシステムの前記少なくとも第1の陽極液区画または前記少なくとも第1および第2の陽極液区画を再度離れた後、最初の陽極液タンクへ流れ戻ることを特徴とする、請求項10または11に記載の方法。
- 前記陽極液は水性液体、好ましくは純粋な蒸留水であることを特徴とする、請求項9から12のいずれか一項に記載の方法。
- 前記陽極液は実質的にいかなる酸も含まない、好ましくは完全に酸を含まない、詳細には鉱酸を含まない、特に硫酸を含まないことを特徴とする、請求項9から13のいずれか一項に記載の方法。
- -少なくとも反応槽と、
-少なくとも第1の薄膜と、
-少なくともアノードと、
-少なくともカソードと、
-少なくとも第1の陽極液区画と、
-少なくとも陰極液区画と
を含む薄膜アノードシステムの使用であって、
前記少なくとも第1の薄膜が前記アノードと前記カソードとの間に配置されており、前記少なくとも第1の薄膜が、0.5mmから5mmまでに及ぶ、前記アノードまでの距離を有し、
請求項9から14のいずれか一項に記載の方法により処理される基板上での亜鉛ニッケル合金層の酸性またはアルカリ性電解析出のための、薄膜アノードシステムの使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP19153419 | 2019-01-24 | ||
EP19153419.7 | 2019-01-24 | ||
PCT/EP2020/051482 WO2020152208A1 (en) | 2019-01-24 | 2020-01-22 | Membrane anode system for electrolytic zinc-nickel alloy deposition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022518053A true JP2022518053A (ja) | 2022-03-11 |
Family
ID=65228408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021542484A Pending JP2022518053A (ja) | 2019-01-24 | 2020-01-22 | 電解亜鉛ニッケル合金析出のための薄膜アノードシステム |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220119978A1 (ja) |
EP (2) | EP3914757B1 (ja) |
JP (1) | JP2022518053A (ja) |
KR (1) | KR20210118419A (ja) |
CN (1) | CN113383118A (ja) |
BR (1) | BR112021013239A2 (ja) |
CA (1) | CA3127517A1 (ja) |
ES (1) | ES2952069T3 (ja) |
MX (1) | MX2021008925A (ja) |
PL (1) | PL3914757T4 (ja) |
WO (1) | WO2020152208A1 (ja) |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5816082A (ja) * | 1981-07-21 | 1983-01-29 | Permelec Electrode Ltd | イオン交換膜を用いる電解装置及びその製造方法 |
JPS5893893A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Tokuyama Soda Co Ltd | 連続メツキ装置 |
JPH04176893A (ja) * | 1990-11-08 | 1992-06-24 | Kawasaki Steel Corp | Sn―Ni合金めっき方法 |
JPH05504169A (ja) * | 1990-02-06 | 1993-07-01 | ヘレーウス エレクトロヒェミー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 電解の目的のための電極素子およびその使用 |
JPH11343598A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Toyo Kohan Co Ltd | 不溶性陽極に付設した陽極室、それを用いためっき方法及びめっき装置 |
JP2002521572A (ja) * | 1998-07-30 | 2002-07-16 | ヴァルター ヒレブラント ゲーエムベーハー ウント コー. ガルヴァノテヒニーク | 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽 |
US20040026255A1 (en) * | 2002-08-06 | 2004-02-12 | Applied Materials, Inc | Insoluble anode loop in copper electrodeposition cell for interconnect formation |
JP2007002274A (ja) * | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | 亜鉛−ニッケル合金めっき方法 |
US20070023280A1 (en) * | 2002-11-25 | 2007-02-01 | Eckles William E | Zinc and zinc-alloy electroplating |
JP2011516730A (ja) * | 2008-04-11 | 2011-05-26 | フランソワ・カルダレッリ | 鉄リッチ硫酸塩廃棄物、採鉱残留物、および酸洗い液から金属鉄および硫酸の有価分を回収するための電気化学プロセス |
CN104073862A (zh) * | 2014-07-11 | 2014-10-01 | 张钰 | 一种用于碱性锌镍合金电镀的不溶性阳极装置 |
US20170016137A1 (en) * | 2015-07-17 | 2017-01-19 | Applied Materials, Inc. | Inert anode electroplating processor and replenisher |
US20180087177A1 (en) * | 2015-03-25 | 2018-03-29 | Coventya International Gmbh | Two-chamber electrodialysis cell with anion and cation exchange membrane for use as an anode in alkaline zinc electrolytes and zinc alloy electrolytes for the purpose of deposition of metal in electroplating systems |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5047128A (en) * | 1990-01-02 | 1991-09-10 | Shipley Company Inc. | Electrodialysis cell for removal of excess electrolytes formed during electrodeposition of photoresists coatings |
DE4015141A1 (de) * | 1990-05-11 | 1991-11-14 | Lpw Anlagen Gmbh | Verfahren zum betreiben einer galvanotechnischen anlage |
EP1292724B2 (en) * | 2000-06-15 | 2015-12-23 | Coventya, Inc. | Zinc-nickel electroplating |
DE10261493A1 (de) * | 2002-12-23 | 2004-07-08 | METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH | Anode zur Galvanisierung |
ATE429528T1 (de) * | 2005-04-26 | 2009-05-15 | Atotech Deutschland Gmbh | Alkalisches galvanikbad mit einer filtrationsmembran |
DE102010044551A1 (de) * | 2010-09-07 | 2012-03-08 | Coventya Gmbh | Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad |
DE102010055143B4 (de) | 2010-12-18 | 2022-12-01 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | Direktkontakt-Membrananode für die Verwendung in Elektrolysezellen |
WO2014147180A1 (en) * | 2013-03-21 | 2014-09-25 | Atotech Deutschland Gmbh | Apparatus and method for electrolytic deposition of metal layers on workpieces |
DE102014001799B3 (de) * | 2014-02-11 | 2015-02-05 | Eisenmann Ag | Anlage zur Beschichtung von Gegenständen |
RU2613826C1 (ru) * | 2015-07-22 | 2017-03-21 | Дипсол Кемикалз Ко., Лтд. | Способ гальваностегии цинковым сплавом |
-
2020
- 2020-01-22 KR KR1020217025670A patent/KR20210118419A/ko unknown
- 2020-01-22 US US17/422,877 patent/US20220119978A1/en active Pending
- 2020-01-22 EP EP20701062.0A patent/EP3914757B1/en active Active
- 2020-01-22 ES ES20701062T patent/ES2952069T3/es active Active
- 2020-01-22 CA CA3127517A patent/CA3127517A1/en active Pending
- 2020-01-22 EP EP23166466.5A patent/EP4219801A1/en active Pending
- 2020-01-22 BR BR112021013239-2A patent/BR112021013239A2/pt unknown
- 2020-01-22 WO PCT/EP2020/051482 patent/WO2020152208A1/en unknown
- 2020-01-22 CN CN202080010154.2A patent/CN113383118A/zh active Pending
- 2020-01-22 JP JP2021542484A patent/JP2022518053A/ja active Pending
- 2020-01-22 MX MX2021008925A patent/MX2021008925A/es unknown
- 2020-01-22 PL PL20701062.0T patent/PL3914757T4/pl unknown
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5816082A (ja) * | 1981-07-21 | 1983-01-29 | Permelec Electrode Ltd | イオン交換膜を用いる電解装置及びその製造方法 |
JPS5893893A (ja) * | 1981-11-30 | 1983-06-03 | Tokuyama Soda Co Ltd | 連続メツキ装置 |
JPH05504169A (ja) * | 1990-02-06 | 1993-07-01 | ヘレーウス エレクトロヒェミー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 電解の目的のための電極素子およびその使用 |
JPH04176893A (ja) * | 1990-11-08 | 1992-06-24 | Kawasaki Steel Corp | Sn―Ni合金めっき方法 |
JPH11343598A (ja) * | 1998-05-29 | 1999-12-14 | Toyo Kohan Co Ltd | 不溶性陽極に付設した陽極室、それを用いためっき方法及びめっき装置 |
JP2002521572A (ja) * | 1998-07-30 | 2002-07-16 | ヴァルター ヒレブラント ゲーエムベーハー ウント コー. ガルヴァノテヒニーク | 亜鉛−ニッケル浴用アルカリ性めっき浴槽 |
US20040026255A1 (en) * | 2002-08-06 | 2004-02-12 | Applied Materials, Inc | Insoluble anode loop in copper electrodeposition cell for interconnect formation |
US20070023280A1 (en) * | 2002-11-25 | 2007-02-01 | Eckles William E | Zinc and zinc-alloy electroplating |
JP2007002274A (ja) * | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | 亜鉛−ニッケル合金めっき方法 |
JP2011516730A (ja) * | 2008-04-11 | 2011-05-26 | フランソワ・カルダレッリ | 鉄リッチ硫酸塩廃棄物、採鉱残留物、および酸洗い液から金属鉄および硫酸の有価分を回収するための電気化学プロセス |
CN104073862A (zh) * | 2014-07-11 | 2014-10-01 | 张钰 | 一种用于碱性锌镍合金电镀的不溶性阳极装置 |
US20180087177A1 (en) * | 2015-03-25 | 2018-03-29 | Coventya International Gmbh | Two-chamber electrodialysis cell with anion and cation exchange membrane for use as an anode in alkaline zinc electrolytes and zinc alloy electrolytes for the purpose of deposition of metal in electroplating systems |
US20170016137A1 (en) * | 2015-07-17 | 2017-01-19 | Applied Materials, Inc. | Inert anode electroplating processor and replenisher |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202035800A (zh) | 2020-10-01 |
PL3914757T4 (pl) | 2023-08-21 |
EP3914757A1 (en) | 2021-12-01 |
BR112021013239A2 (pt) | 2021-09-14 |
WO2020152208A1 (en) | 2020-07-30 |
EP3914757B1 (en) | 2023-04-05 |
KR20210118419A (ko) | 2021-09-30 |
CA3127517A1 (en) | 2020-07-30 |
ES2952069T3 (es) | 2023-10-26 |
CN113383118A (zh) | 2021-09-10 |
MX2021008925A (es) | 2021-08-24 |
US20220119978A1 (en) | 2022-04-21 |
PL3914757T3 (pl) | 2023-08-07 |
EP4219801A1 (en) | 2023-08-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3481851A (en) | Apparatus and procedure for reconditioning metal treating solutions | |
RU2302481C2 (ru) | Электролизная ячейка для восполнения концентрации ионов металлов в способах электроосаждения | |
US5162079A (en) | Process and apparatus for control of electroplating bath composition | |
CN112714803B (zh) | 不溶性阳极酸性电镀铜的镀液生产和再生工艺及装置 | |
RU2481424C2 (ru) | Способ регенерации раствора черного хроматирования цинковых покрытий | |
US20170058414A1 (en) | Insertable electrode device that does not generate acid mist or other gases, and method | |
JP2022518053A (ja) | 電解亜鉛ニッケル合金析出のための薄膜アノードシステム | |
TWI841670B (zh) | 用於電解鋅-鎳合金沉積之膜陽極系統 | |
CN117396638A (zh) | 用铬层涂覆部件或半成品的装置和方法 | |
ITMI20001207A1 (it) | Cella di elettrolisi per il ripristino della concentrazione di ioni metallici in processi di elettrodeposizione. | |
US10961637B2 (en) | Method for electrolytically depositing a zinc nickel alloy layer on at least a substrate to be treated | |
JPH06158397A (ja) | 金属の電気メッキ方法 | |
CN205115659U (zh) | 一种电镀液分离的阳极系统 | |
CN105350063A (zh) | 一种电镀液分离的阳极系统 | |
JP3370897B2 (ja) | Zn−Ni系合金電気メッキ浴へのZnイオンの供給方法および装置 | |
JPS6152398A (ja) | 金属イオンの系外還元処理方法 | |
JPS5893899A (ja) | 電気メツキの浴管理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20210917 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20220920 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221017 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221209 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230410 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20230710 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20231010 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20240109 |