CN110591645A - 成形磨粒及其形成方法 - Google Patents

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CN110591645A CN201910899453.5A CN201910899453A CN110591645A CN 110591645 A CN110591645 A CN 110591645A CN 201910899453 A CN201910899453 A CN 201910899453A CN 110591645 A CN110591645 A CN 110591645A
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A·史蒂文森
A·姆巴基
D·卢阿普尔
D·O·耶内尔
J·H·泽雷宾斯奇
N·纳哈斯
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Saint Gobain Ceramics and Plastics Inc
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Saint Gobain Industrial Ceramics Inc
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    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
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    • C09K3/1409Abrasive particles per se
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    • Y02P10/25Process efficiency

Abstract

本发明涉及成形磨粒及其形成方法。本发明提供了形成成形磨粒的方法,其包括具有通过添加剂制造过程形成的本体。

Description

成形磨粒及其形成方法
本申请是申请日为2014年9月30日,申请号为201480062134.4,发明名称为“成形磨粒及其形成方法”的申请的分案申请。
技术领域
如下涉及成形磨粒,且更特别涉及使用添加剂制造过程形成成形磨粒的过程。
背景技术
掺入陶瓷制品的研磨制品例如磨粒可用于各种材料去除操作,包括碾磨、精整、抛光等等。取决于研磨材料的类型,这种磨粒可用于在物品制造中成形或碾磨各种材料。迄今为止已配制具有特定几何形状的某些类型的磨粒(如三角形磨粒)以及掺入这种物体的研磨制品。参见例如美国专利No.5,201,916、No.5,366,523和No.5,984,988。
先前,已用于制备具有指定形状的磨粒的三种基本技术包括熔化、烧结和化学陶瓷。在熔化过程中,磨粒可由冷却辊(其面可为经雕刻的或未经雕刻的)、模具(熔融材料倒入其中)或散热材料(浸入氧化铝熔体中)成形。参见例如美国专利No.3,377,660。在烧结过程中,磨粒可由粒度为直径最高达10微米的耐火粉末形成。粘结剂连同润滑剂和合适的溶剂可添加至粉末中,以形成可成形为具有各种长度和直径的薄片或棒的混合物。参见例如美国专利No.3,079,242。化学陶瓷技术涉及将胶体分散体或水溶胶(有时称为溶胶)转化成凝胶或保留组分移动性的任何其他物理状态,干燥,并烧制而获得陶瓷材料。参见例如美国专利No.4,744,802和No.4,848,041。
初级模制过程已公开为可潜在用于形成有限成形磨粒,例如公开于美国专利No.5,201,916、No.5,366,523、No.5,584,896,以及美国专利公开2010/0151195、2010/0151196中的那些。形成成形磨粒的其他过程已得到公开,参见例如美国专利No.6,054,093、No.6,228,134、No.5,009,676、No.5,090,968和No.5,409,645。
工业继续需要包括成形磨粒的改良的研磨材料和研磨制品。
发明内容
根据一个方面,形成成形磨粒的方法包括具有通过添加剂制造过程形成的本体。
根据第二个方面,方法包括根据数字模型形成成形磨粒的本体。
在另外一个方面,形成固定磨料的方法包括在基材上形成多个成形磨粒,其中多个成形磨粒中的每个成形磨粒具有通过添加剂制造过程形成的本体。
根据另一个方面,成形磨粒包括具有至少一个主表面的本体,所述至少一个主表面具有自相似特征。
对于另外一个方面,成形磨粒具有本体,所述本体具有在本体的侧表面的至少一部分周围延伸的至少一个外周嵴。
在一个方面,成形磨粒具有本体,所述本体具有限定凹阶面的至少一个主表面。
对于另一个方面,成形磨粒具有本体,所述本体具有沿着至少两个表面以及在至少两个表面之间的邻接边缘延伸的至少一个横嵴。
根据一个方面,成形磨粒包括具有拐角的本体,所述拐角包括从拐角延伸的多个微突起。
对于另外一个方面,成形磨粒具有本体,所述本体包括包含圆齿状形貌的表面。
根据另一个方面,形成成形磨粒的方法包括使用低压注射成型过程。
附图说明
通过参照附图,本公开可更好地得以理解,且本公开的许多特征和优点对于本领域技术人员而言是显而易见的。实施例通过举例的方式示出并且不限制于附图。
图1A包括根据一个实施例形成成形磨粒的一部分的方法的透视图图示。
图1B包括根据一个实施例形成成形磨粒的一部分的系统和方法的图示。
图1C包括根据一个实施例的填充模式的图示。
图1D包括根据一个实施例的填充模式的图示。
图1E包括根据一个实施例的喷嘴端部的图示。
图2包括根据一个实施例包括成形磨粒的研磨制品的透视图图示。
图3包括根据一个实施例的成形磨粒和飞边百分比(percentage flashing)的侧视图。
图4包括根据一个实施例的涂覆研磨制品的一部分的横截面图示。
图5包括根据一个实施例的涂覆研磨制品的一部分的横截面图示。
图6-19包括根据一个实施例的成形磨粒的图示。
图20包括根据一个实施例的成形磨粒的透视图图示。
图21包括图20的成形磨粒的主表面的俯视图。
图22包括图20的成形磨粒的一部分的俯视图图像。
图23包括图20的成形磨粒的主表面的一部分。
图24包括根据一个实施例的成形磨粒的一部分的侧视图图像。
图25包括根据本文一个实施例的成形磨粒拐角的一部分的图像。
图26包括根据一个实施例具有圆齿状形貌的成形磨粒表面的一部分的图像。
图27包括根据一个实施例的成形磨粒的自顶而下图像。
图28包括根据一个实施例的成形磨粒的自顶而下视图。
图29包括图28的成形磨粒的侧视图图像。
图30包括根据一个实施例的成形磨粒的拐角的图像。
在不同附图中相同参考符号的使用指示相似或相同项。此外,技术人员应了解在附图中的元件为了简单和清晰而示出,并且不一定按比例绘制。例如,附图中的元件中的一些的尺寸可相对于其他元件进行放大,以帮助改善本发明的实施例的理解。
具体实施方式
如下一般涉及利用添加剂制造过程形成成形磨粒的方法。成形磨粒可用于各种工业中,包括但不限于汽车、医疗、建筑、铸造、航天、磨料等等。此类成形磨粒可用作游离磨粒或掺入固定研磨制品内,包括例如涂覆研磨制品、粘结研磨制品等等。各种其他用途可对于成形磨粒而衍生。
根据一个方面,本文实施例的成形磨粒可形成为具有通过添加剂制造过程形成的本体。如本文使用的,“添加剂制造过程”包括这样的过程,其中成形磨粒的本体可通过将多个部分以就彼此而言的特定取向汇集(compiling)在一起而形成,使得当多数汇集时,不连续部分各自可限定本体形状的至少一部分。此外,在特定情况下,添加剂制造过程可为无模板过程,其中被处理以形成不连续部分的材料和最终的本体自身无需置于模板(例如模具)内。相反,被处理的材料可沉积在不连续部分中,其中不连续部分各自具有受控的尺寸,使得当多数汇集时,本体也具有受控的尺寸。因此,与通常的模制操作不同,本文实施例的添加剂制造过程可能不一定需要掺入模板,所述模板配置为含有被处理以形成本体的材料。
在特定情况下,用于形成成形磨粒的添加剂制造过程可为原型印刷过程。在更特定的情况下,形成成形磨粒的过程可包括成形磨粒的本体的原型印刷,其中成形磨粒包括成形磨粒或前体成形磨粒。在其他情况下,添加剂制造过程可包括或视为分层物体制造过程。在分层物体制造过程中,个别层可不连续地形成且连接在一起以形成成形磨粒的本体。
根据一个实施例,形成具有通过添加剂制造过程形成的本体的成形磨粒的方法可包括第一印刷材料作为本体的第一部分在第一时间的沉积,以及第二印刷材料作为不同于第一部分的本体的第二部分在第二时间的沉积。应理解第一时间可与第二时间相同或不同。更特别地,在一些情况下,第一印刷材料可包括固体材料、粉末、溶液、混合物、液体、浆料、凝胶、粘合剂及其任意组合。在一种特定情况下,第一印刷材料可包括溶胶凝胶材料。例如,第一印刷材料可包括混合物,其中所述混合物可为由粉末材料和液体形成的凝胶,并且其中所述凝胶的特征可在于即使在未处理(即未烧结)状态下也具有基本上保持给定形状的能力的形状稳定材料。根据一个实施例,凝胶可由粉末材料形成,作为分立粒子的整体网络。在特定情况下,混合物可包括溶胶凝胶材料,其可具有形成混合物的基质的一种或多种微粒材料。微粒材料可包括本文注明的材料中的任一种,例如陶瓷材料。
第一印刷材料可具有一定含量的固体材料、液体材料和添加剂,使得其具有与本文详述过程一起使用的合适的流变学特征。即,在某些情况下,第一印刷材料可具有一定粘度,更特别地,可具有形成材料的尺寸稳定相的合适的流变学特征,所述材料的尺寸稳定相可通过如本文所述的过程形成。材料的尺寸稳定相可为如下材料,所述材料可形成为具有特定形状,并且对于形成后的加工的至少一部分基本上保持所述形状。在某些情况下,形状可在后续加工自始至终得到保留,使得形成过程中最初提供的形状存在于最终形成的物体中。
印刷材料包括本文实施例的任何印刷材料可为混合物,并且可具有无机材料的特定含量,所述无机材料可为固体粉末材料或微粒,例如陶瓷粉末材料。根据一个实施例,印刷材料可包括混合物,所述混合物可包括具有合适的流变学特征的无机材料,所述流变学特征有利于包括成形磨粒的本体的形成。例如,在一个实施例中,第一印刷材料可具有相对于混合物的总重量至少约25重量%,例如至少约35重量%、至少约36重量%或甚至至少约38重量%的固体含量。而且,在至少一个非限制性的实施例中,第一印刷材料的固体含量可不大于约75重量%,例如不大于约70重量%、不大于约65重量%、不大于约55重量%、不大于约45重量%、不大于约44重量%,或不大于约42重量%。应了解,第一印刷材料中的固体材料的含量可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之间的范围内,包括例如在至少约25重量%且不大于约70重量%、至少约35重量%且不大于约55重量%、或甚至至少约36重量%且不大于约45重量%的范围内。
根据一个实施例,陶瓷粉末材料可包括氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物及其组合。在特定情况下,陶瓷材料可包括氧化铝。更具体地,陶瓷材料可包括勃姆石材料,所述勃姆石材料可为α氧化铝的前体。术语“勃姆石”通常在本文用于表示氧化铝水合物,包括矿物勃姆石(通常为Al2O3·H2O,并具有大约15%的水含量),以及拟薄水铝石(具有高于15%的水含量,如20-38重量%)。应注意,勃姆石(包括拟薄水铝石)具有特定且可辨认的晶体结构,并因此具有独特的X射线衍射图案。像这样,勃姆石可区别于其他铝土材料,所述其他铝土材料包括其他水合氧化铝,如ATH(氢氧化铝)(用于制造勃姆石颗粒材料的本文所用的常见前体材料)。
此外,印刷材料包括本文实施例的印刷材料中的任一种可采取混合物的形式,可具有液体材料的特定含量。一些合适的液体可包括水。根据一个实施例,第一印刷材料可形成为具有小于混合物的固体含量的液体含量。在更特定的情况下,第一印刷材料可具有相对于混合物的总重量至少约25重量%的液体含量。在其他情况下,第一印刷材料内的液体量可更大,例如至少约35重量%、至少约45重量%、至少约50重量%、或甚至至少约58重量%。而且,在至少一个非限制性的实施例中,第一印刷材料的液体含量可不大于约75重量%,例如不大于约70重量%、不大于约65重量%、不大于约62重量%、或甚至不大于约60重量%。应了解,第一印刷材料中的液体含量可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之间的范围内。
此外,为了促进根据本文实施例的加工和形成成形磨粒,第一印刷材料可具有特定的储存模量。例如,第一印刷材料可具有至少约1x104Pa,例如至少约4x104Pa、或甚至至少约5x104Pa的储存模量。然而,在至少一个非限制性的实施例中,第一印刷材料可具有不大于约1x107Pa,例如不大于约2x106Pa的储存模量。应了解,第一印刷材料的储存模量可在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内。
可使用具有Peltier板温度控制系统的ARES或AR-G2旋转流变仪,经由平行板系统测量储存模量。对于测试,第一印刷材料可在两个板之间的间隙内挤出,所述两个板设定为彼此分离大约8mm。在将第一印刷材料挤出至间隙中之后,将限定间隙的两个板之间的距离降低至2mm,直至第一印刷材料完全填充板之间的间隙。在擦去过量的材料之后,间隙减小0.1mm,开始测试。测试为使用25-mm平行板且每十进位记录10个点,在6.28rad/s(1Hz)下使用0.01%至100%之间的应变范围的仪器设置进行的振动应变扫描测试。在测试完成之后1小时内,再次减小间隙0.1mm并重复测试。测试可重复至少6次。第一测试可不同于第二和第三测试。仅应该记录每个试样的来自第二和第三测试的结果。
可包括混合物的印刷材料可形成为具有特定粘度,以有利于具有本文实施例特征的成形磨粒的本体的形成。例如,混合物可具有至少约4x103Pas,例如至少约5x103Pas、至少约6x103Pas、至少约7x103Pas、至少约7.5x103Pas的粘度。在另一个非限制性的实施例中,混合物可具有不大于约20x103Pas,例如不大于约18x103Pas、不大于约15x103Pas、不大于约12x103Pas的粘度。而且,应了解,混合物可具有在包括上述最小值和最大值中的任意者的范围内的粘度,包括但不限于至少约4x103Pas且不大于约20x103Pas,例如至少约5x103Pas且不大于约18x103Pas、至少约6x103Pas且不大于约15x103Pas。粘度可以与如上所述的储存模量相同的方式进行测量。
此外,可采取混合物形式的第一印刷材料可形成为具有有机材料的特定含量,以有利于加工和形成根据本文的实施例的成形磨粒,所述有机材料包括例如可不同于液体的有机添加剂。一些合适的有机添加剂可包括稳定剂、粘结剂,如果糖、蔗糖、乳糖、葡萄糖、UV可固化树脂等。
特别地,本文的实施例可使用可不同于在常规形成操作中所用的浆料的第一印刷材料。例如,相比于混合物内的其他组分,第一印刷材料内的有机材料的含量,且特别是上述有机添加剂中的任意者的含量可为较小量。在至少一个实施例中,第一印刷材料可形成为具有相对于第一印刷材料总重量的不大于约30重量%的有机材料。在其他情况下,有机材料的量可更少,如不大于约15重量%、不大于约10重量%、或甚至不大于约5重量%。而且,在至少一个非限制性的实施例中,第一印刷材料内的有机材料的量相对于第一印刷材料的总重量可为至少约0.01重量%,如至少约0.5重量%。应了解,第一印刷材料中的有机材料的量可在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内。
此外,第一印刷材料可形成为具有不同于液体含量的酸或碱的特定含量,以有利于加工和形成根据本文的实施例的成形研磨制品。一些合适的酸或碱可包括硝酸、硫酸、柠檬酸、氯酸、酒石酸、磷酸、硝酸铵和柠檬酸铵。根据其中使用硝酸添加剂的一个特定实施例,第一印刷材料可具有小于约5的pH,且更特别地可具有在约2至约4之间的范围内的pH。
图1A包括根据一个实施例,经由添加剂制造过程形成成形磨粒的过程的透视图图示。如所示的,添加剂制造过程可利用沉积组件151,其配置为具有在至少X方向、Y方向和Z方向上的多轴移动,用于印刷材料122的控制沉积。在特定情况下,沉积组件151可具有沉积头部153,其配置为提供印刷材料对特定位置的控制递送。值得注意的是,沉积组件151可提供第一印刷材料作为本体的第一部分在第一时间的控制沉积,以及第二印刷材料作为不同于第一部分的本体第二部分在第二时间的沉积。此类过程可有利于不连续部分的控制沉积,使得不连续部分在就彼此而言的精确位置中沉积,并且可有利于具有合适形状、尺寸和性能的成形磨粒本体的形成。
在特定情况下,沉积组件151可配置为将第一印刷材料102作为成形磨粒的本体的第一部分101沉积。特别地,第一部分101可限定成形磨粒本体的总体积的一部分。在特定情况下,第一部分101可具有第一部分长度(Lfp)、第一部分宽度(Wfp)和第一部分厚度(Tfp)。根据一个实施例,Lfp可大于或等于Wfp,Lfp可大于或等于Tfp,并且Wfp可大于或等于Tfp。在特定情况下,第一部分的长度可限定第一部分101的最大尺寸,并且第一部分101的宽度可限定在一般垂直于长度(Lfp)的方向上延伸的尺寸,并且可限定第一部分101的第二最大尺寸。此外,在一些实施例中,第一部分101的厚度(Tfp)可限定第一部分101的最小尺寸,并且可限定在垂直于长度(Lfp)和宽度(Wfp)中任一或两者的方向上延伸的尺寸。然而,应了解,第一部分101可具有如本文进一步限定的各种形状。
根据一个实施例,第一部分101可具有第一纵横比(Lfp:Wfp),以有利于成形磨粒的本体的适当形成。例如,第一部分101可具有至少约1:1的第一纵横比(Lfp:Wfp)。在其他实施例中,第一部分101可具有其为约2:1,例如至少约3:1、至少约5:1、或甚至至少约10:1的第一纵横比。而且,在一个非限制性的实施例中,第一部分101可具有不大于约1000:1的第一纵横比。
此外,第一部分101可形成为具有特定第二纵横比,使得成形磨粒的本体具有所需形状。例如,第一部分101可具有至少约1:1的第二纵横比(Lfp:Tfp)。在其他实施例中,第一部分101可具有其为至少约2:1,例如至少约3:1、至少约5:1、或甚至至少约10:1的第二纵横比。而且,在一个非限制性的实施例中,第一部分101的第二纵横比可不大于约1000:1。
在另外一个实施例中,第一部分101可形成为具有特定第三纵横比(Wfp:Tfp),以有利于成形磨粒的本体的适当形成。例如,第一部分101可具有至少约1:1的第三纵横比(Wfp:Tfp)。在其他情况下,第一部分101可具有至少约2:1,例如至少约3:1、至少约5:1、或甚至至少约10:1的第三纵横比。在另外一个非限制性的实施例中,第一部分101可具有不大于约1000:1的第三纵横比。
成形磨粒的本体的第一部分101的尺寸可形成为具有特定值,以有利于具有合适形状和尺寸的本体的形成。第一部分101的前述尺寸(例如Lfp、Wfp、Tfp)中的任一种均可具有不大于约2mm的平均尺寸。在其他情况下,第一部分长度(Lfp)、第一部分宽度(Wfp)或第一部分厚度(Tfp)中的任何一种的平均尺寸可具有不大于约1mm,例如不大于约900微米、不大于约800微米、不大于约700微米、不大于约600微米、不大于约500微米、不大于约400微米、不大于约300微米、不大于约200微米、不大于约150微米、不大于约140微米、不大于约130微米、不大于约120微米、不大于约110微米、不大于约100微米、不大于约90微米、不大于约80微米、不大于约70微米、不大于约60微米、或甚至不大于约50微米的平均尺寸。而且,在另一个非限制性的实施例中,第一部分长度(Lfp)、第一部分宽度(Wfp)或第一部分厚度(Tfp)中的任何一种均可具有其为至少约0.01微米,例如至少约0.1微米、或甚至至少约1微米的平均尺寸。应了解,第一部分长度、第一部分宽度或第一部分厚度中的任何一种均可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的平均尺寸。
在另一个实施例中,第一部分101可沉积为具有特定横截面形状。具有特定横截面形状的第一部分101的沉积可有利于具有特定的所需横截面形状和三维形状的成形磨粒本体的形成。根据一个实施例,第一部分101可具有基本上任何考虑的横截面形状。更特别地,第一部分101可具有在由第一部分长度(Lfp)和第一部分宽度(Wfp)限定的平面中的横截面形状,例如三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母文字、拉丁字母字符、俄语字母字符、汉字字符、不规则形状轮廓及其任意组合。此外,第一部分101可形成为具有在由第一部分长度(Lfp)和第一部分厚度(Tfp)限定的平面中的特定横截面形状。此类横截面形状可包括选自下述的形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母文字、拉丁字母字符、俄语字母字符、汉字字符、不规则形状轮廓及其任意组合。
在至少一个实施例中,第一部分101可以层的形式沉积。在另外一个实施例中,第一部分可作为细长结构沉积(如图1A中所示),其中长度显著大于厚度或宽度。在另外一个实施例中,第一部分101可作为不连续小滴沉积。更特别地,沉积过程可这样进行,使得它包括沉积预定体积的第一印刷材料102的多个不连续小滴,以形成第一部分101。例如,第一部分101可由多个第一子部分构成,所述多个第一子部分以控制方式沉积,以限定第一部分101的尺寸。
如图1A中进一步示出的,根据添加剂制造过程形成成形磨粒的过程还可包括第二部分110的控制沉积,所述第二部分110包括第二印刷材料112。在一个实施例中,第二印刷材料112可包括固体、溶液、混合物、液体、浆料、凝胶、粘合剂及其组合。在一个特定实施例中,第二印刷材料112可与第一印刷材料相同或不同。例如,第二印刷材料112可包括如上所述的溶胶凝胶材料。沉积组件151可将第二部分110沉积在任何合适位置中,包括相对于第一部分101的特定位置。例如,如图1A中示出的,第二部分110可在邻接第一部分101的至少一部分的位置中沉积。沉积组件151的此类控制多轴移动可有利于不连续部分包括例如第一部分101和第二部分110的精确沉积,以及多个部分(和子部分)相对于彼此的控制和精确沉积,从而有利于多个部分的汇集以形成成形磨粒的本体。
如所示的,沉积组件151可配置为将第二印刷材料112作为成形磨粒的本体的第二部分110沉积。特别地,第二部分110可限定成形磨粒本体的总体积的一部分。在特定情况下,第二部分110可具有第二部分长度(Lsp)、第二部分宽度(Wsp)和第二部分厚度(Tsp)。值得注意的是,根据一个方面,Lsp可大于或等于Wsp,Lsp可大于或等于Tsp,并且Wsp可大于或等于Tsp。在特定情况下,第二部分110的长度(Lsp)可限定第二部分110的最大尺寸,并且第二部分110的宽度(Wsp)可限定在一般垂直于长度(Lsp)的方向上延伸的尺寸,并且可限定根据一个实施例的第二最大尺寸。最后,在一些实施例中,第二部分110的厚度(Tsp)一般可限定第二部分110的最小尺寸,并且可限定在垂直于长度(Lsp)和宽度(Wsp)中任一或两者的方向上延伸的尺寸。然而,应了解,第二部分110可具有如本文进一步限定的各种形状。
根据一个实施例,第二部分110可具有第一纵横比(Lsp:Wsp),其可有利于具有合适形状和尺寸的本体的形成。例如,第二部分110可具有至少约1:1的第一纵横比(Lsp:Wsp)。在其他实施例中,第二部分110可具有其为约2:1,例如至少约3:1、至少约5:1、或甚至至少约10:1的第一纵横比。而且,在一个非限制性的实施例中,第二部分110可具有不大于约1000:1的第一纵横比。
此外,第二部分110可形成为具有特定第二纵横比,使得所形成的成形磨粒的本体具有所需形状。例如,第二部分110可具有至少约1:1的第二纵横比(Lsp:Tsp)。在其他实施例中,第二部分110可具有其为至少约2:1,例如至少约3:1、至少约5:1、或甚至至少约10:1的第二纵横比。而且,在一个非限制性的实施例中,第二部分110的第二纵横比可不大于约1000:1。
在另外一个实施例中,第二部分110可形成为具有特定第三纵横比(Wsp:Tsp),其可有利于具有合适形状和尺寸的本体的形成。例如,第二部分110可具有至少约1:1的第三纵横比(Wsp:Tsp)。在其他情况下,第二部分110可具有至少约2:1,例如至少约3:1、至少约5:1、或甚至至少约10:1的第三纵横比。在另外一个非限制性的实施例中,第二部分110可具有不大于约1000:1的第三纵横比。
成形磨粒的本体的第二部分110的尺寸可形成为具有特定值。第二部分110的前述尺寸(例如Lsp、Wsp、Tsp)中的任一种均可具有不大于约2mm的平均尺寸。在其他情况下,第二部分长度(Lsp)、第二部分宽度(Wsp)或第二部分厚度(Tsp)中的任何一种的平均尺寸可具有不大于约1mm,例如不大于约900微米、不大于约800微米、不大于约700微米、不大于约600微米、不大于约500微米、不大于约400微米、不大于约300微米、不大于约200微米、不大于约150微米、不大于约140微米、不大于约130微米、不大于约120微米、不大于约110微米、不大于约100微米、不大于约90微米、不大于约80微米、不大于约70微米、不大于约60微米、或甚至不大于约50微米的平均尺寸。而且,在另一个非限制性的实施例中,第二部分长度(Lsp)、第二部分宽度(Wsp)或第二部分厚度(Tsp)中的任何一种均可具有其为至少约0.01微米,例如至少约0.1微米、或甚至至少约1微米的平均尺寸。应了解,第二部分长度、第二部分宽度或第二部分厚度中的任何一种均可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的平均尺寸。
在另一个实施例中,第二部分110可沉积为具有特定横截面形状。具有特定横截面形状的第二部分110的沉积可有利于具有特定的所需横截面形状和三维形状的成形磨粒本体的形成。根据一个实施例,第二部分110可具有基本上任何考虑的横截面形状。更特别地,第二部分110可具有在由第二部分长度(Lsp)和第二部分宽度(Wsp)限定的平面中的横截面形状(其可自顶而下查看),其中所述形状选自三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母文字、拉丁字母字符、俄语字母字符、汉字字符、复杂多边形形状、不规则形状轮廓及其任意组合。此外,第二部分110可形成为具有在由第二部分长度(Lsp)和第二部分厚度(Tsp)限定的平面中的特定横截面形状,其在侧视图中可为显而易见的。此类横截面形状可包括选自下述的形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母文字、拉丁字母字符、俄语字母字符、汉字字符、复杂多边形形状、不规则形状轮廓及其任意组合。此外,第二部分110可形成为具有在由第二部分宽度(Wsp)和第二部分厚度(Tsp)限定的平面中的特定横截面形状,其在侧视图中可为显而易见的。此类横截面形状可包括选自下述的形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母文字、拉丁字母字符、俄语字母字符、汉字字符、复杂多边形形状、不规则形状轮廓及其任意组合。
在至少一个实施例中,第二部分110可以层的形式沉积。在另外一个实施例中,第二部分可作为细长结构沉积(如图1A中所示),其中长度显著大于厚度或宽度。在另外一个实施例中,第二部分110可作为不连续小滴沉积。更特别地,沉积过程可这样进行,使得它包括沉积预定体积的第二印刷材料112的多个不连续小滴,以形成第二部分110。例如,第二部分110可由多个第二子部分构成,所述多个第二子部分以控制方式沉积,以限定第二部分110的尺寸。
如图1A中进一步示出的,第一部分101可具有与第二部分110的横截面形状基本上相同的横截面形状。然而,应了解,在其他实施例中,多个部分可这样沉积,使得部分各自可具有就彼此而言不同的横截面形状。例如,在至少一个实施例中,第一部分101可以就第一部分的本体的任何两个尺寸(例如长度、宽度和厚度)而言的第一横截面形状沉积,所述第一横截面形状可不同于就限定第二部分110的本体的任何两个尺寸(例如长度、宽度、厚度)而言的第二部分110的横截面形状。
根据一些实施例,第一印刷材料102可具有第一组合物,并且第二印刷材料112可具有第二组合物。在一些情况下,第一组合物可与第二组合物基本上相同。例如,第一组合物和第二组合物就彼此而言可为基本上相同的,使得仅以少量(例如小于约0.1%)存在的杂质材料的含量可构成第一组合物和第二组合物之间的差异。可替代地,在另一个实施例中,第一组合物和第二组合物就彼此而言可为显著不同的。
在至少一个实施例中,第一组合物可包括材料例如有机材料、无机材料及其组合。更特别地,第一组合物可包括陶瓷、玻璃、金属、聚合物或其任意组合。在至少一个实施例中,第一组合物可包括材料例如氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物、硼氧化物及其任意组合。值得注意的是,在一个实施例中,第一组合物可包括氧化铝。更特别地,第一组合物可包括基于氧化铝的材料,例如水合氧化铝材料包括例如勃姆石。
在至少一个实施例中,第二组合物可包括材料例如有机材料、无机材料及其组合。更特别地,第二组合物可包括陶瓷、玻璃、金属、聚合物或其任意组合。在至少一个实施例中,第二组合物可包括材料例如氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物、硼氧化物及其任意组合。值得注意的是,在一个实施例中,第二组合物可包括氧化铝。更特别地,第二组合物可包括基于氧化铝的材料,例如水合氧化铝材料包括例如勃姆石。
在某些情况下,沉积第一印刷材料和第二印刷材料(例如第一印刷材料110和第二印刷材料112)的过程可这样进行,使得第一印刷材料在第一时间沉积,并且第二印刷材料在第二时间沉积,并且第一时间和第二时间在不同时间间隔中是不连续的。在此类实施例中,沉积过程可为间断过程,其中沉积过程包括在不连续的时间持续时间期间形成不连续部分。在间断过程中,在第一部分的形成和第二部分的形成之间经过至少一部分时间,其中可能不存在材料的沉积。
而且,在其他情况下,应了解,沉积过程可为连续过程。在连续过程中,沉积过程可不一定包括不连续的第一部分和第二部分在不同时间间隔的沉积。相反,沉积过程可利用连续挤出过程,其中印刷材料可在沉积组件151移动的同时被挤出。此外,沉积组件151可能能够在连续沉积过程期间改变部分的尺寸,由此有利于具有可变尺寸(例如横截面和三维尺寸)的一个或多个部分的形成,以有利于具有所需的二维形状和三维形状的成形磨粒本体的形成。
根据经由添加剂制造过程形成成形磨粒的本体的另一个方面,该过程可包括优先修饰第一部分101和第二部分110之一,以连接第一部分101和第二部分110,并且形成本体的子段171。在一个特定实施例中,修饰过程可包括改变第一印刷材料102和第二印刷材料112中的至少一种的相。例如,修饰可包括加热第一部分101和第二部分110中的至少一种。更特别地,加热可包括将第一部分101的部分与第二部分110连接,例如通过将第一部分101的至少部分与第二部分110融合。加热还可利用各种技术来完成,包括例如对流、传导和辐射技术。在一个特定实施例中,加热第一部分101和第二部分110中的至少一种的过程可包括将电磁辐射撞击于第一部分101的至少一部分和/或第二部分110,以有利于第一部分101的一部分与第二部分110的连接。合适类型的电磁辐射可通过激光器的使用得到供应。而且,应了解在其他情况下,加热过程可包括将电磁辐射撞击于第二部分的至少一部分,以有利于第一部分和第二部分中的任何一种的连接。
在其他情况下,修饰本体的一部分的过程还可包括熔化、选择性激光熔化、烧结、选择性烧结、直接金属激光烧结、选择性激光烧结、粒子束修饰、电子束熔化、熔融沉积成型、固化及其任意组合。前述过程中的任一种均可用于部分的一种或多种中任一种的部分或全部,以修饰部分。
在经由添加剂制造过程形成成形磨粒的本体的另一个方面,形成成形磨粒的本体的过程可根据数字模型进行。根据数字模型形成本体的过程可包括测量本体的至少一部分,并且将其与数字模型的相应尺寸相比较。比较过程可在形成过程期间或在形成过程对于整个本体的一部分完成后进行。应了解数字模型的提供可有利于通过沉积组件151进行的沉积过程的控制。
在特定情况下,根据数字模型形成本体的过程还可包括制备数字模型的多个数字横截面。多个数字横截面的制备可有利于例如本体的一个或多个部分的控制沉积。例如,在一种情况下,该过程可包括在第一时间沉积本体的第一部分,其中所述第一部分对应于数字模型的多个横截面的第一横截面。此外,该过程可包括在不同于第一时间的第二时间,沉积不同于第一部分的本体第二部分。第二部分可对应于数字模型的多个横截面的第二横截面。相应地,应了解多个数字横截面可为用于沉积多个不连续部分的指导,其中单个数字横截面可有利于不连续的第一部分的沉积,并且第二数字横截面可有利于第二不连续部分的沉积。部分各自可进行沉积,并且在沉积组件151沉积且形成部分各自的同时,部分的尺寸可进行测量且与数字模型相比较。更特别地,基于沉积部分的尺寸与相应的数字模型部分的比较,沉积组件151可适于改变沉积过程。
还应了解添加剂制造过程可包括汇集不连续部分包括例如第一部分101和第二部分110的过程,以形成子段171。此外,该过程可包括汇集多个子段以形成成形磨粒的本体。
根据另外一个实施例,形成成形磨粒的过程可包括消减过程。值得注意的是,消减过程可在完成添加剂制造过程的至少一些后进行。更特别地,消减过程可在添加剂制造过程的完全完成后进行。在至少一个实施例中,消减过程可在形成前体成形磨粒的本体后进行。在某些情况下,消减过程可包括除去用于形成前体成形磨粒的材料的至少一部分。某些合适的消减过程可包括例如在本体的一部分内形成至少一个开口,形成延伸穿过本体的整个部分的至少一个孔口,并且加热本体以去除本体的一部分,例如通过蒸发本体的至少一部分。
已通过添加剂制造过程形成的成形磨粒的本体可包括各种合适的尺寸。在特定情况下,本体可具有本体长度(Lb)、本体宽度(Wb)和本体厚度(Tb),例如图6中所示。在一个非限制性的实施例中,本体的长度可限定成形磨粒的最大尺寸,并且本体的宽度可限定在一般垂直于长度的方向上延伸的尺寸,并且根据一个实施例,可限定第二最大尺寸。此外,在一些实施例中,本体的厚度可限定成形磨粒的最小尺寸,并且可限定在垂直于长度和宽度中任一或两者的方向上延伸的尺寸。在一些情况下,Lb可大于或等于Wb,并且Lb可大于或等于Tb。此外,在成形磨粒的其他设计中,Wb可大于或等于Tb。然而,应了解本体可具有如本文进一步限定的各种形状。
此外,本文对任何尺寸特征(例如Lb、Wb、Tb)的提及可为对批料的单个成形磨粒的尺寸、源自来自批料的成形磨粒的合适取样的分析的中值或平均值的提及。除非明确指出,否则本文对尺寸特征的提及可被认为是对中值的提及,所述中值基于源自合适数量的来自制品批料的制品的样品量(sample size)的统计显著值。值得注意的是,对于本文的某些实施例,样品量可包括至少10个从制品批料中无规选择的制品。制品批料可为从单个工艺过程中收集的一组制品。另外或可替代地,批料制品可包括一定量的适用于形成商业级研磨产品的成形磨粒,例如至少约20磅的粒子。
根据一个实施例,本体可具有至少约1:1的第一纵横比(Lb:Wb)。在其他实施例中,本体可具有其为约2:1,例如至少约3:1、至少约5:1、或甚至至少约10:1的第一纵横比。而且,在一个非限制性的实施例中,本体可具有不大于约1000:1的第一纵横比。
此外,本体可形成为具有特定第二纵横比,使得成形磨粒具有所需形状。例如,本体可具有至少约1:1的第二纵横比(Lb:Tb)。在其他实施例中,本体可具有其为至少约2:1,例如至少约3:1、至少约5:1、或甚至至少约10:1的第二纵横比。而且,在一个非限制性的实施例中,本体的第二纵横比可不大于约1000:1。
在另外一个实施例中,本体可形成为具有至少约1:1的特定第三纵横比(Wb:Tb)。在其他情况下,本体可具有至少约2:1,例如至少约3:1、至少约5:1、或甚至至少约10:1的第三纵横比。在另外一个非限制性的实施例中,本体可具有不大于约1000:1的第三纵横比。
成形磨粒的本体的尺寸可形成为具有特定值。本体的前述尺寸(例如Lb、Wb、Tb)中的任一种均可具有至少约0.1微米的平均尺寸。在其他情况下,本体长度(Lb)、本体宽度(Wb)或本体厚度(Tb)中的任何一种的平均尺寸可具有至少约1微米、至少约10微米、至少约50微米、至少约100微米、至少约150微米、至少约200微米、至少约400微米、至少约600微米、至少约800微米、至少约1mm的平均尺寸。而且,在另一个非限制性的实施例中,本体长度(Lb)、本体宽度(Wb)或本体厚度(Tb)中的任何一种均可具有不大于约20mm、不大于约18mm、不大于约16mm、不大于约14mm、不大于约12mm、不大于约10mm、不大于约8mm、不大于约6mm、或甚至不大于约4mm的平均尺寸。应了解,尺寸中的任何一种均可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的平均尺寸。
在另一个实施例中,本体可形成为具有特定所需横截面形状。例如,本体可具有在由本体长度(Lb)和本体宽度(Wb)限定的平面中的横截面形状,其中所述形状选自三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母文字、拉丁字母字符、俄语字母字符、汉字字符、复杂多边形形状、不规则形状轮廓及其任意组合。此外,本体可形成为具有在由本体长度(Lb)和本体厚度(Tb)限定的平面中的特定横截面形状。此类横截面形状还可包括选自下述的形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母文字、拉丁字母字符、俄语字母字符、汉字字符、复杂多边形形状、不规则形状轮廓及其任意组合。
本体还可形成为具有特定所需三维形状。例如,本体可具有选自下述的三维形状:多面体、棱锥、椭圆体、球体、棱柱体、圆柱体、圆锥体、四面体、立方体、长方体、菱面体、截断棱锥、截断椭圆体、截断球体、截锥、五面体、六面体、七面体、八面体、九面体、十面体、希腊字母文字、拉丁字母字符、俄文字母字符、汉字字符、复杂多边形形状、不规则形状轮廓、火山形状、单站形状(monostatic shape)及其组合。单站形状是具有单个稳定静止位置的形状。相应地,具有单站形状的成形磨粒可应用于基材,且在相同位置中一致的取向,因为它们仅具有一个稳定的静止位置。例如,当经由重力涂布将粒子应用于背衬时,具有单站形状的成形磨粒可能是合适的,所述重力涂布可用于形成涂覆研磨产品。更特别地,成形磨粒可为单-单站形状,其描述了其形状仅具有一个不稳定的平衡点的三维物体。根据一个特定实施例,成形磨粒可具有的形状。在另一个实施例中,成形磨粒是具有至少四个表面的单站多面体。
根据本文实施例的添加剂制造过程还可用于形成多个成形磨粒,其中多个成形磨粒的成形磨粒各自具有本体,所述本体具有如上所述的本体长度(Lb)、本体宽度(Wb)和本体厚度(Tb)。根据一个实施例,多个成形磨粒可具有不大于约50%的本体长度变化、不大于约50%的本体宽度变化、和不大于约50%的本体厚度变化中的至少一种。
本体长度变化可描述为关于来自多个成形磨粒的合适取样的本体长度的标准差,所述合适取样可包括多个成形磨粒。在一个实施例中,本体长度变化可不大于约40%,例如不大于约30%、不大于约20%、不大于约10%、或甚至不大于约5%。
如同本体长度变化,本体宽度变化可为关于来自多个成形磨粒的成形磨粒的合适取样的本体宽度标准差的量度。根据一个实施例,本体宽度变化可不大于约40%,例如不大于约30%、且不大于约20%、不大于约10%、或甚至不大于约5%。
此外,本体厚度变化可为关于来自多个成形磨粒的成形磨粒的合适取样的本体厚度的标准差。根据一个实施例,关于多个成形磨粒的本体厚度变化可不大于约40%,例如不大于约30%、不大于约20%、不大于约10%、或甚至不大于约5%。
根据一个实施例,添加剂制造过程可包括通过不使用生产工具使原材料成形来形成成形磨粒的本体。应了解生产工具可指具有一个或多个开口的模具或丝网,所述开口配置为含有原材料且将原材料形成为所需最终成形磨粒。根据另一个实施例,添加剂制造过程可包括通过以相对于彼此的受控的非无规方式沉积原材料的多个不连续部分来形成成形磨粒的本体。而且,在至少一个实施例中,添加剂制造过程可包括将本体的多个部分以相对于彼此的受控的非无规方式沉积到生产工具内。即,在某些情况下,添加剂制造过程可包括生产工具的使用。在至少一种方式中,添加剂制造过程不同于常规丝网印刷和模制工艺,因为生产工具可充满以受控的非无规方式置于生产工具内的多个不连续部分。
本文对成形磨粒形成的提及应理解为包括前体成形磨粒的形成。即添加剂制造过程可形成前体成形磨粒,所述前体成形磨粒可为未处理的本体或未完成的本体,其可经历进一步加工以形成最终的成形磨粒。在某些形成过程中,前体成形磨粒可具有最终成形磨粒的基本上相同的形状。
根据另一个实施例,添加剂制造过程可包括诸如下述的过程:光致光聚合、激光粉末成形、粉末床融合、选择性激光定心、微激光烧结、材料挤出、机械浇铸(robocasting)、材料喷射、片材层压及其组合。在一个特定实施例中,光致光聚合过程可包括立体光刻。立体光刻可包括这样的过程,其中含有聚合物材料的浆料的至少一层可在形成过程期间聚合,以形成成形磨粒。更特别地,立体光刻过程可包括提供混合物,例如含有粉末原材料和载体的浆料以及聚合物材料,所述聚合物材料配置为在形成成形磨粒的形成过程期间聚合。
在另一个实施例中,添加剂制造过程可包括激光粉末形成过程。激光粉末形成可包括将原材料沉积到靶例如基材上,以及在靶和原材料处例如来自激光源的碰撞辐射,以熔化原材料且将原材料形成为成形磨粒的至少一部分。值得注意的是,激光粉末形成过程可包括原材料从固态到液态的相变,使得熔体在形成成形磨粒的至少一部分之前形成。
激光粉末形成过程可利用选自诸如金属、金属合金、玻璃、陶瓷、聚合物及其组合的材料组的原材料。在至少一个特定实施例中,通过激光粉末形成过程形成的成形磨粒可包括诸如金属、金属合金、玻璃、陶瓷、陶瓷前体、聚合物及其组合的材料。在一个实施例中,通过激光粉末形成过程形成的成形磨粒可基本上由包含氧化物的玻璃材料组成。
在另一种情况下,添加剂制造过程可包括选择性激光烧结过程。选择性激光烧结可包括其中辐射导向靶的过程。辐射可由激光源供应。辐射可撞击于包括原材料的靶,并且辐射可将原材料的至少一部分变成成形磨粒的一部分。在更特定的情况下,选择性激光烧结过程可包括将来自激光源的辐射撞击于原材料床的一部分上,并且将原材料床的一部分转变为成形磨粒。例如,通过辐射碰撞的原材料床的一部分可以这样的方式转换,使得它可经历相变,而未经历辐射的原材料的其他部分可维持其原始状态。根据一个实施例,改变原材料的至少一部分可包括在原材料的晶体结构中的变化。例如,原材料床可包括勃姆石材料,其通过辐射变成替代形式的氧化铝,包括例如α氧化铝。在另外一个实施例中,改变原材料的至少一部分可包括改变原材料的相,例如将经历辐射的原材料从固相变成液相。
在选择性激光烧结操作中使用的原材料可包括金属、金属合金、玻璃、陶瓷、陶瓷前体、聚合物及其组合。在一个特定实施例中,原材料可包括氧化物材料,例如氧化铝或勃姆石。此外,通过选择性激光烧结过程形成的成形磨粒可包括金属、金属合金、玻璃、陶瓷、陶瓷前体、聚合物及其组合。在一个特定实施例中,根据选择性激光烧结过程形成的成形磨粒可包括氧化物材料,例如氧化铝或勃姆石。
并且另外一个实施例,添加剂制造过程可包括材料喷射。材料喷射过程可包括将原材料的不连续小滴沉积到靶上,并且将不连续小滴聚结为成形磨粒的本体的至少一部分。
根据一个替代过程,成形磨粒可使用低压注射成型过程来形成。与某些常规注射成型过程不同,可包括针对添加剂制造过程的本文实施例的印刷材料特性中任一种的成型材料可以控制方式注射到模具内。特别地,在过程期间,成型材料可在与湍流条件相反的层流条件下注射到模具内。层流条件允许根据填充操作将成型材料控制置于模具内,所述填充操作可包括成型材料以特定顺序选择性置于模具的部分内用于控制填充操作。注射成型过程可与本文所述的一种或多种过程组合。
根据一个特定实施例,用于形成成形磨粒的添加剂制造过程可包括机械浇铸。在某些情况下,机械浇铸可包括将原材料以不连续部分的形式沉积到靶上,所述不连续部分彼此不同。部分可通过后续加工进行随后聚结,以形成成形磨粒。原材料可以控制方式从喷嘴沉积到靶或基材上,以形成成形磨粒的本体。
根据一个实施例,经由机械浇铸形成本体的过程可包括控制选自下述的至少一种工艺参数:喷嘴尖端长度;喷嘴宽度;喷嘴纵横比、沉积压力、喷嘴宽度和沉积压力之间的关系、沉积速率、沉积体积、沉积速率和沉积位置之间的关系、沉积压力和沉积位置之间的关系、关闭距离、移动前延迟、分配间隙、印刷材料的填充模式、印刷材料的动态屈服应力(σd)、印刷材料的静态屈服应力(σs)、印刷材料的屈服应力比(σd/σs)及其组合。
在特定情况下,形成本体的过程可包括沉积或在第一时间将第一印刷材料作为本体的第一部分沉积,并且在第二时间将第二印刷材料作为不同于第一部分的本体第二部分沉积。图1B包括根据一个实施例形成成形磨粒的系统和方法的一部分的图示。如所示的,第一沉积组件151可配置为沉积第一印刷材料122,并且形成至少第一部分141或第二部分142。某些过程可利用第二沉积组件143,其配置为将来自第二沉积头部(即第二喷嘴)144的第二印刷材料147沉积到靶上,以形成第一部分141或第二部分142。根据一个实施例,沉积第一材料122可包括在第一时间形成第一部分141(例如以层的形式),并且将第二印刷材料147作为第二部分142(例如以层的形式)沉积,上覆第一部分141。
根据一个实施例,第一部分141可具有选自硬度、孔隙率、组成及其组合的第一特征。此外,在另一个实施例中,第二部分142可具有选自硬度、孔隙率、组成及其组合的第二特征。在至少一个实施例中,第一特征可不同于第二特征。
在某些情况下,第一印刷材料122可具有第一组合物,并且第二印刷材料147可具有第二组合物。第一组合物和第二组合物与彼此相比较可为显著不同的。例如,第一组合物和第二组合物可在主要组成种类方面彼此不同,所述主要组成种类不同于以其他方式无法检测的痕量种类。在特定情况下,基于在第一组合物和第二组合物中的主要组成种类之一的至少2%差异,第一组合物和第二组合物可彼此不同。
在另一个实施例中,第二组合物可具有相对于第一组合物的孔隙率不同的孔隙率。例如,在一个实施例中,第一部分141可具有不同于第二部分142的第二孔隙率的第一孔隙率。更特别地,第一部分可具有大于第二部分142的第二孔隙率的第一孔隙率。根据至少一个实施例,本体可形成为在特定部分中具有选择性孔隙率,其可能适合于促进成形磨粒的某些机械特性和研磨能力。在某些情况下,本体可形成为具有一个或多个部分(例如层),所述一个或多个部分具有选择孔隙率,以控制成形磨粒的断裂力学。
任何另一个实施例,第一印刷材料122和第二印刷材料137可沉积在本体内的不同区域中。例如,参考图1,第一部分141可包括第一印刷材料122,并且第二部分142可包括第二印刷材料147。第一印刷材料122和第二印刷材料137的控制沉积可适合于控制成形磨粒的机械特性和研磨特征。例如,第一印刷材料122和第二印刷材料137的控制沉积可适合于形成具有受控的断裂行为的成形磨粒。例如,第一印刷材料122可具有第一组合物,并且第二印刷材料147可具有第二组合物,并且形成过程可包括第一组合物和第二组合物就彼此而言在本体内的选择性沉积,以影响成形磨粒的断裂行为。例如,在一个特定实施例中,第一印刷材料122和第二印刷材料147可以就彼此而言的交替层沉积在本体的区域内,以形成可配置为控制本体的自锐行为的复合本体。
在另一个实施例中,第一部分可具有不同于与第二部分142相关的第二硬度的第一硬度。例如:一个实施例,第一部分141和第二部分142可具有相对于彼此在硬度中的差异。在某些情况下,第一部分141的第一硬度可大于第二部分142的第二硬度。在一种特定情况下,第一部分141和第二部分142可以相对于彼此的特定排列沉积,其可有利于成形磨粒的改良的断裂行为和性能。
在另外一个实施例中,第一印刷材料122和第二印刷材料147可沉积在本体的不同区域中,以形成包括相对于成形磨粒在固定研磨制品中的预期取向的区域受控排列的复合本体。例如,第一印刷材料122和第二印刷材料147可排列在本体内,使得当成形磨粒部署到固定研磨制品(例如粘结磨料、涂覆磨料、非织造磨料等)内时,第一印刷材料122和第二印刷材料147相对于固定磨料中的粒子的预期取向排列。第一印刷材料122和第二印刷材料147在成形磨粒的本体内以及相对于固定磨料中的本体的预期取向的取向的控制,可有利于成形磨粒和固定研磨制品的改良性能。
在某些情况下,形成过程可包括沉积具有第一体积的第一部分141,所述第一体积不同于与第二部分142相关的第二体积。例如,如图1B中所示,第一部分141可具有不同于第二部分142的体积的第一体积。更特别地,在某些情况下,第一部分可具有可大于第二部分142的第二体积的第一体积。根据一个特定实施例,部分的体积可随着形成过程继续而减少,使得在初始部分后形成的部分的体积相对于初始部分的体积减少。
根据一个实施例,第一部分和第二部分的控制沉积的过程可适合于控制成形磨粒的本体的某些特征的尺寸。例如,在至少一个实施例中,第一部分141可具有大于第二部分142的第二体积的第一体积。在此类情况下,第一部分141可限定本体的中心区域,并且第二部分142可限定本体的拐角的至少一部分。更特别地,第一部分141可限定本体的中心区域,并且第二部分142可限定本体的边缘。值得注意的是,应了解对于某些成形磨粒,可能期望使用更小的部分形成本体的某些部分例如边缘和拐角,使得本体的这些部分具有更小的特征且可充当尖锐边缘或尖锐拐角。相应地,形成过程可包括在本体的某些部分处的控制体积沉积,以有利于某些特征的形状和尺寸的控制,其可有利于成形磨粒的改良性能。
如图1B中进一步示出的,形成过程可包括利用第一沉积组件151、第一沉积头部153和第一印刷材料122,所述第一印刷材料122可从第一沉积组件151沉积。如本文实施例中指出的,第二沉积组件143的利用可有利于第二印刷材料147的选择性沉积,所述第二印刷材料147可以各种方式不同于与第一沉积组件151相关的第一印刷材料122。例如,在至少一个实施例中,第一部分141可通过第一沉积组件151或第二沉积组件143之一形成。如本文实施例中所述,形成本体的过程可包括将至少第一印刷材料122从第一沉积头部153(即喷嘴153)沉积到靶上,其中喷嘴的移动可受计算机程序控制。
如应了解的,在某些形成过程中,例如图1A和1B中所示的形成过程,形成过程可包括控制配置用于沉积印刷材料的喷嘴相对于靶的三维移动。在某些情况下,控制三维移动可包括在X轴、Y轴、Z轴中的喷嘴控制。此外,如图1B中所示,该过程可利用多个喷嘴,其中多个喷嘴的每个喷嘴可配置为沉积印刷材料。该过程可包括控制多个喷嘴中的喷嘴各自以及三维移动,例如在X轴、Y轴、Z轴中的喷嘴控制。
在特定情况下,形成具有本文所述特征的成形磨粒本体的过程可通过利用具有特定宽度162的喷嘴153得到促进。例如,喷嘴153可具有宽度162,其可不大于约200微米,例如不大于约150微米、不大于约120微米、不大于约100微米、不大于约90微米、不大于约85微米、不大于约80微米、不大于约75微米、不大于约70微米、不大于约65微米、不大于约60微米、不大于约55微米、不大于约50微米、不大于约45微米、不大于约40微米、不大于约35微米、不大于约30微米、不大于约25微米、不大于约20微米。而且,在至少一个非限制性的实施例中,喷嘴153可具有至少约0.1微米,例如至少约1微米、或甚至至少约10微米的宽度162。应了解,喷嘴153可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的宽度152,包括例如在至少约0.1微米至不大于约500微米之间的范围内,例如在至少约0.1微米至不大于约100微米之间的范围内、或甚至在至少约0.1微米至不大于约80微米之间的范围内。
应了解,本文对喷嘴宽度162的提及可包括对在喷嘴153内的内部开口的提及。例如,简单参考图1E,提供了根据一个实施例的喷嘴端部的图示。如所示的,喷嘴153可具有限定通道的开口155,印刷材料可流动穿过所述通道且被沉积。开口152可具有各种二维形状,包括例如多边形和椭圆形。根据如图1E中所示的一个实施例,开口152可具有圆形二维形状,并且因此直径156限定宽度。像这样,本文对喷嘴153的宽度的提及应理解为取决于开口155的二维形状,对开口155的宽度或直径的提及。
在另外一个实施例中,喷嘴153可具有限定喷嘴153的最长尺寸的尖端长度161。喷嘴153的尖端长度161的控制可有利于印刷材料的改良沉积,以及成形磨粒的本体特征的最终改良形成。根据一个实施例,喷嘴可具有不大于约10mm,例如不大于约8mm、不大于约6mm、不大于约5mm、或甚至不大于约4mm的尖端长度161。而且,以及另一个非限制性的实施例,喷嘴153可具有至少约0.1mm,例如至少约0.2mm、至少约0.5mm、或甚至至少约1mm的尖端长度161。应了解,喷嘴153的尖端长度161可在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内,包括例如至少约0.1mm且不大于约10mm,例如至少约0.1mm且不大于约5mm、或甚至至少约0.2mm且不大于约4mm的尖端长度161。
根据一个实施例,喷嘴153的喷嘴纵横比值(宽度/尖端长度)可加以控制,以有利于成形磨粒的本体的改良沉积和特征形成。例如,喷嘴153可具有不大于约0.8,例如不大于约0.6、不大于约0.5、或甚至不大于约0.4的喷嘴纵横比值(宽度/尖端长度)。而且,以及另一个非限制性的实施例,喷嘴153可具有至少约0.001,例如至少约0.005、或甚至至少约0.008的喷嘴纵横比值。应了解,喷嘴153可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的喷嘴纵横比值,包括例如至少约0.001且不大于约0.8,例如至少约0.005且不大于约0.5、或甚至至少约0.008且不大于约0.4。还应了解,与第二沉积组件143相关的第二沉积头部(即第二喷嘴144)可具有依照第一沉积组件151所述的特征中的任一种。
根据一个实施例,形成过程可包括控制沉积压力,以有利于第一印刷材料的适当沉积且有利于具有用于用作成形磨粒的合适特征的本体形成。例如,在至少一个实施例中,沉积压力可不大于约5MPa,例如不大于约4.5MPa、不大于约4MPa、不大于约3.5MPa、不大于约3MPa、不大于约2.5MPa、不大于约2MPa、不大于约1.8MPa、不大于约1.5MPa、不大于约1.3MPa、不大于约1MPa、不大于约0.9MPa、不大于约0.8MPa、或甚至不大于约0.7MPa。而且,在至少一个非限制性的实施例中,沉积压力可为至少约0.005MPa,例如至少约0.01MPa、至少约0.05MPa、至少约0.08MPa、或甚至至少约0.1MPa。应了解,沉积压力可在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内,包括例如至少约0.05Mpa且不大于约5MPa,例如至少约0.01MPa且不大于约2MPa、或甚至至少约0.05MPa且不大于约1.5MPa的沉积压力。
在某些情况下,形成本体的过程可包括控制喷嘴宽度162和沉积压力之间的关系,以限定具有下述值的第一形成因素(宽度/沉积压力):至少约0.2微米/MPa,例如至少约1微米/MPa、至少约2微米/MPa、至少约4微米/MPa、至少约6微米/MPa、至少约8微米/MPa、至少约10微米/MPa、至少约12微米/MPa、至少约14微米/MPa、或甚至至少约16微米/MPa。而且,在至少一个非限制性的实施例中,第一形成因素可具有不大于约1x105微米/MPa,例如不大于约1x104微米/MPa、不大于约8000微米/MPa、不大于约6000微米/MPa、不大于约5000微米/MPa、不大于约4000微米/MPa、不大于约3000微米/MPa、不大于约2000微米/MPa、不大于约1000微米/MPa、不大于约500微米/MPa、不大于约200微米/MPa、或甚至不大于约100微米/MPa的值。应了解,第一形成因素可在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内,包括例如至少约0.2微米/MPa且不大于约1x105微米/MPa,例如至少约1微米/MPa且不大于约6000微米/MPa、或甚至至少约2微米/MPa且不大于约1000微米/MPa。
在另外一个实施例中,形成本体的过程可包括沉积速率的控制,所述沉积速率限定喷嘴在其下移动的速率。适当控制沉积速率可有利于根据本文实施例的成形磨粒的特征的适当形成。例如,形成过程可包括以特定沉积速率移动喷嘴,所述特定沉积速率例如至少约0.01mm/s、至少约0.05mm/s、至少约0.08mm/s、至少约0.1mm/s、至少约0.3mm/s、至少约0.5mm/s、至少约0.8mm/s、至少约1mm/s、至少约1.5mm/s、至少约2mm/s、至少约2.5mm/s、至少约3mm/s。而且,在另一个非限制性的实施例中,形成过程可包括以不大于约50mm/s,例如不大于约30mm/s、或甚至不大于约20mm/s的沉积速率移动喷嘴。应了解,形成过程可包括在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的沉积速率,包括例如至少约0.01mm/s且不大于约50mm/s,例如至少约0.1mm/s且不大于约30mm/s、或甚至至少约1mm/s且不大于约20mm/s的沉积速率。
根据一个特定实施例,形成过程可包括控制一种或多种印刷材料的沉积体积,以形成成形磨粒的本体的特定部分。例如,取决于被形成的本体的部分,形成过程可包括通过改变印刷材料的沉积体积来控制沉积体积。在至少一个实施例中,形成过程可包括与在限定本体主表面的区域中沉积的材料体积相比较,将更小体积的材料沉积到限定本体拐角的区域中。此类沉积操作可特别适合于形成尖锐边缘或拐角,所述尖锐边缘或拐角可能特别适合于本文实施例的成形磨粒。
沉积控制体积的过程可包括通过控制喷嘴的沉积压力和沉积速率中的至少一种来控制沉积体积。特别地,控制沉积体积的过程可包括控制在第一时间形成的本体的部分(例如第一部分141)的宽度、长度和高度。此外,控制沉积体积还可包括控制用于形成特定部分的沉积喷嘴的宽度。例如,具有更小宽度的喷嘴可用于沉积与本体的某些部分(例如拐角或边缘)相关的印刷材料,而具有更大喷嘴宽度的喷嘴可用于沉积与其他部分,例如本体的主要面或内部部分相关的印刷材料。
在另外一种情况下,形成过程可包括控制沉积速率和沉积位置之间的关系。在一个实施例中,控制沉积速率和沉积位置之间的关系可包括取决于沉积位置来改变沉积速率。更特别地,控制沉积速率和沉积位置之间的关系可包括改变沉积速率,以改变本体中的特征的尺寸。例如,在一个实施例中,控制沉积速率和沉积位置之间的关系可包括相对于与在本体的主表面或内部部分处的沉积位置相关的沉积速率,减少在与成形磨粒本体的拐角或边缘相关的沉积位置处的沉积速率。
在另外一个实施例中,形成过程可包括控制沉积压力和沉积位置之间的关系。在至少一个实施例中,控制沉积压力和沉积位置之间的关系的过程可包括取决于沉积位置来改变沉积压力。在另一个实施例中,控制沉积压力和沉积位置之间的关系的过程可包括取决于沉积压力来改变沉积压力,以改变本体中的特征。特别地,在某些情况下,控制沉积压力和沉积位置之间的关系可包括相对于与在本体的主表面或内部部分处的沉积位置相关的沉积压力,减少在与成形磨粒本体的拐角或边缘相关的沉积位置处的沉积压力。
在另外一个实施例中,形成本体的过程可包括控制来自沉积组件的印刷材料的初始沉积和沉积组件的移动(包括例如印刷材料可由其沉积的喷嘴的移动)之间的移动前延迟。例如,移动前延迟可有利于成形磨粒的特征的适当形成,包括可利用某些沉积模式的那些,例如自外而内和自内而外填充过程。沉积过程的起始和沉积组件的移动之间的延迟可有利于确保。在至少一个实施例中,形成本体的过程可包括利用大于约0秒,例如至少约0.1秒、或甚至至少约0.5秒的移动前延迟。在另外一个实施例中,移动前延迟可不大于约10秒,例如不大于约8秒、不大于约6秒、或甚至不大于约4秒。应了解,移动前延迟可在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内,包括例如至少约0.1秒且不大于约10秒、至少约0.5秒且不大于约6秒。
对于至少一个实施例,形成本体的过程可包括控制关闭距离,所述关闭距离限定沉积组件在其下压力不再应用于印刷材料的时间至印刷材料停止从沉积组件沉积之间行进的距离。关闭距离的控制可有利于本文实施例的成形磨粒的特征的形成。关闭距离可小于分配间隙。在其他情况下,关闭距离可大于分配间隙。根据另一个实施例,关闭距离可与分配间隙基本上相同,使得分配间隙的值和关闭距离的值不会彼此改变超过5%。在某些情况下,关闭距离可不大于约2mm、不大于约1mm、不大于约0.5mm、不大于约0.2mm、或甚至不大于约0.1mm。在至少一个非限制性的实施例中,关闭距离可为至少约0.001mm。应了解,关闭距离可在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内,包括例如至少约0.001mm且不大于约1mm、至少约0.001mm且不大于约0.2mm。
形成成形磨粒的本体的过程还可包括控制分配间隙163。分配间隙163可限定喷嘴153的端部和靶125之间的距离,所述靶125可为基材的表面或其中印刷材料预期沉积于其的另一个部分的表面。已注意到分配间隙163的控制可有利于成形磨粒的适当形成。根据一个实施例,分配间隙163可具有相对于喷嘴153的宽度162的特定关系。例如,分配间隙163可不大于约10W,其中“W”代表喷嘴153的宽度162。在另一个实施例中,分配间隙163可不大于约9W,例如不大于约8W、不大于约7W、不大于约6W、不大于约5W、不大于约4W、不大于约3W、不大于约2W、或甚至不大于约1W。而且,以及在另一个实施例中,分配间隙163可为至少约0.001W,例如至少约0.005W、至少约0.01W、或甚至至少约0.1W。应了解,分配间隙163可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的值,所述范围包括例如至少约0.001W且不大于约10W、至少约0.05W且不大于约5W、或甚至至少约0.01W且不大于约2W。应了解,第二沉积组件143和喷嘴144可这样加以控制,使得与喷嘴144的使用相关的分配间隙可具有如上注明的相同特征。
根据另一个实施例,分配间隙163可具有相对于厚度“t”的特定关系,其中“t”代表使用喷嘴由印刷材料形成的本体一部分的平均厚度。例如,与喷嘴153相关的分配间隙163可相对于如通过喷嘴153形成的第二部分142的平均厚度“t”加以控制。根据一个实施例,分配间隙163可不大于约10t,例如不大于约9t、不大于约8t、不大于约7t、不大于约6t、不大于约5t、不大于约4t、不大于约3t、不大于约2t、或甚至不大于约1t。而且,以及另一个非限制性的实施例,分配间隙163可为至少约0.001t,例如至少约0.05t、或甚至至少约0.01t。应了解,分配间隙163可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的值,所述范围包括例如至少约0.001t且不大于约10t,例如至少约0.05t且不大于约5t、或甚至至少约0.01t且不大于约2t。
在至少一个实施例中,形成本体的过程可包括通过改变分配间隙163来控制分配间隙163,使得第一印刷材料122在离开喷嘴153的端部后在合适距离处接触靶。例如,第一印刷材料122可离开喷嘴153的端部,并且第一印刷材料122的末端123可接触靶125。在特定情况下,控制分配间隙163可包括控制喷嘴153的端部在靶125之上的高度,使得印刷材料可在离开喷嘴153后接触靶,而不在喷嘴153的端部和靶125之间的空间内形成游离小滴。已注意到对于某些类型的印刷材料,包括适合于形成成形磨粒的那些,应进行沉积过程,以避免游离小滴的形成,并且在沉积期间,通过第一印刷材料122维持在靶125和喷嘴153的端部之间的联系。
此外,成形磨粒的本体的适当形成可包括通过基于包括下述的参数中的至少一种改变在喷嘴153的端部和靶125之间的Z方向距离来控制分配间隙:喷嘴尖端长度161、喷嘴宽度162、沉积压力、沉积速率、沉积体积、沉积位置、印刷材料的填充模式、印刷材料的动态屈服应力、印刷材料的静态屈服应力、印刷材料的屈服应力比、印刷材料的粘度及其组合。根据一个实施例,形成本体的过程可包括通过基于沉积压力改变分配间隙来控制分配间隙163。在其他情况下,形成本体的过程可包括通过基于沉积位置改变分配间隙163来控制分配间隙163。在另外其他实施例中,形成过程可包括取决于沉积位置来改变分配间隙163,并且更特别地,基于在特定沉积位置处所需的特征的分辨率来改变分配间隙163。例如,如果材料待在代表成形磨粒本体的拐角或边缘的位置处沉积,则分配间隙163可进行调整,并且与用于形成成形磨粒本体的主表面或内部部分的分配间隙163相比较可为不同的。此外,控制分配间隙163的过程可包括改变分配间隙163,以控制在沉积位置处沉积的材料体积,其可适合于形成本体的某些特征,包括例如本体的拐角、边缘、主表面或内部部分。
根据一个实施例,使用添加剂制造过程形成成形磨粒的本体的过程可包括控制填充模式,其限定形成本体的部分的次序。填充模式和与填充模式相关的特定过程可选择为形成合适的成形磨粒,并且可有利于成形磨粒和掺入成形磨粒的固定磨料的改良性能。如本文实施例中注明的,取决于第一部分141的所需形状和成形磨粒的最终形状,第一部分141可形成为二维形状或三维形状。成形磨粒的部分中的任何一个(例如第一部分141)可以通过填充模式限定的特定次序形成。填充模式可限定沉积过程,包括但不限于自外而内填充过程、自内而外填充过程、侧面至侧面填充过程、自底而上填充过程及其组合。
例如,参考图1C,提供了用于形成根据一个实施例的成形磨粒的一部分的填充模式的自顶而下视图。如所示的,第一部分181可采取层的形式,并且可通过起始在位置182处的印刷材料沉积而形成。沉积组件和沉积印刷材料的过程可沿着方向184中的路径187从位置182行进到位置183,在该处沉积过程停止,并且第一部分181完成。此类填充模式可为自外而内填充过程。自外而内填充过程的特征可在于最初形成第一部分181的外周185的至少一部分且随后形成内部部分186的过程。
在另一个实施例中,可利用自内而外填充过程,其可包括沉积印刷材料以最初形成部分的内部区域且随后形成部分的外周区域的过程。例如,再次参考图1C,可在自外而内填充过程的相反方向上采取使用自内而外填充过程的填充模式。自内而外填充过程可起始在位置183处的沉积,并且在与方向184相反的方向上沿着路径187行进至位置182,在该处沉积过程可停止,并且第一部分181形成。在此类实施例中,第一部分181的内部部分186首先形成,并且第一部分181的外周185在内部部分186之后且在内部部分186周围形成。
参考图1D,根据一个实施例示出了侧面至侧面填充过程。在侧面至侧面填充过程中,沉积组件可起始在位置187处的印刷材料沉积,并且横向来回移动,从而沉积印刷材料且在位置188处停止,以形成第一部分。
图1D还可代表在另一个实施例中的自底而上填充过程的一个实施例。应了解对于自底而上填充过程,印刷材料可以基于一个或多个上覆层形成的模式进行沉积。例如,在自底而上填充过程中,沉积组件可起始印刷材料在位置187处的沉积,并且来回移动,从而在垂直方向上在自身上构建结构且在位置188处终止沉积过程。
形成本体的过程可包括控制填充模式,使得在第一时间形成的本体的第一部分可使用第一填充模式形成,并且在不同于第一时间的第二时间形成的本体第二部分可使用不同于第一填充模式的第二填充模式形成。例如,在一个特定实施例中,用于形成本体的填充模式可包括通过自外而内填充过程形成第一部分,并且通过自内而外填充过程形成第二部分。更特别地,再次参考图1C,以第一层形式的第一部分181可通过自外而内填充过程形成,并且随后第二部分可在第一部分181上形成。第二部分可采取上覆第一部分181的层的形式,并且第二部分可通过自内而外填充过程形成,其中沉积在直接位于位置183上方的位置处起始,并且在直接位于位置182上方的位置处结束。
根据一个特定实施例,可包括混合物的印刷材料可具有特定动态屈服应力(σd),其可有利于成形磨粒本体的适当形成。例如,印刷材料可具有至少约100Pa、至少约120Pa、至少约140Pa、至少约160Pa、至少约180Pa、至少约200Pa的动态屈服应力(σd)。而且,在另一个非限制性的实施例中,印刷材料可具有不大于约1500Pa、不大于约1300Pa、不大于约1200Pa、不大于约1100Pa、不大于约1000Pa的动态屈服应力(σd)。应了解,印刷材料可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的动态屈服应力(σd),所述范围包括例如至少约100Pa且不大于约1500Pa、至少约160Pa且不大于约1200Pa、或甚至至少约200Pa且不大于约1200Pa。
形成本体的过程可包括控制至少一种工艺参数,例如分配间隙、喷嘴尖端长度、喷嘴宽度、沉积压力、沉积速率、沉积体积、沉积位置以及基于印刷材料的动态屈服应力(σd)的印刷材料填充模式。应了解,过程可包括基于动态屈服应力控制前述工艺参数的组合。基于动态屈服应力控制一种或多种工艺参数可有利于成形磨粒的改良形成。
在另一个实施例中,可包括混合物的印刷材料可具有特定静态屈服应力(σs),其可有利于成形磨粒本体的适当形成。例如,印刷材料可具有至少约180Pa,例如至少约200Pa、至少约250Pa、至少约300Pa、至少约350Pa、至少约400Pa、至少约450Pa、至少约500Pa、至少约550Pa、至少约600Pa的静态屈服应力(σs)。在另一个非限制性的实施例中,静态屈服应力(σs)可不大于约20,000Pa,例如不大于约18,000Pa、不大于约15,000Pa、不大于约5000Pa、不大于约1000Pa。应了解,印刷材料可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的静态屈服应力(σs),所述范围包括例如至少约180Pa且不大于约20,000Pa、至少约400Pa且不大于约18,000Pa、或甚至至少约500Pa且不大于约5000Pa。
形成本体的过程可包括控制至少一种工艺参数,例如分配间隙、喷嘴尖端长度、喷嘴宽度、沉积压力、沉积速率、沉积体积、沉积位置以及基于印刷材料的静态屈服应力(σs)的印刷材料填充模式。应了解,过程可包括基于静态屈服应力控制前述工艺参数的组合。基于静态屈服应力控制一种或多种工艺参数可有利于成形磨粒的改良形成。
在某些情况下,形成成形磨粒本体的过程可包括形成具有在静态屈服应力(σs)和动态屈服应力(σd)之间的特定关系的印刷材料。在一个实施例中,印刷材料可这样形成,使得静态屈服应力不同于动态屈服应力。更特别地,印刷材料可这样形成,使得它是剪切稀化印刷材料,其配置为从喷嘴中适当地挤出,并且仍具有控制尺寸稳定性,以避免在沉积于靶上后的显著移动(例如滑塌)。
在一个实施例中,可包括混合物的印刷材料可具有大于动态屈服应力的静态屈服应力,其可有利于成形磨粒的形成。更特别地,印刷材料可这样形成,使得它具有特定屈服应力比(σd/σs),例如不大于约1、不大于约0.99、不大于约0.97、不大于约0.95、不大于约0.9、不大于约0.85、不大于约0.8、不大于约0.75、不大于约0.7、不大于约0.65、不大于约0.6、不大于约0.55、或甚至不大于约0.5。而且,在一个非限制性的实施例中,屈服应力比(σd/σs)可为至少约0.01,例如至少约0.05、至少约0.08、至少约0.1、至少约0.15、至少约0.2、至少约0.25、至少约0.3、至少约0.35、至少约0.4、或甚至至少约0.45、或甚至至少0.5。应了解,印刷材料可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的屈服应力比,所述范围包括例如不大于1且至少约0.01,例如不大于约0.97且至少约0.1、或甚至不大于约0.8且至少约0.2的屈服应力比。
形成本体的过程可包括控制至少一种工艺参数,例如分配间隙、喷嘴尖端长度、喷嘴宽度、沉积压力、沉积速率、沉积体积、沉积位置以及基于印刷材料的屈服应力比(σd/σs)的印刷材料填充模式。应了解,过程可包括基于屈服应力比(σd/σs)控制前述工艺参数的组合。基于屈服应力比(σd/σs)控制一种或多种工艺参数可有利于成形磨粒的改良形成。
在另外一个实施例中,印刷材料可形成为具有特定粘度,以有利于具有本文实施例特征的成形磨粒本体的形成。例如,印刷材料可具有至少约4x103Pa s,例如至少约5x103Pa s、至少约6x103Pa s、至少约7x103Pa s、至少约7.5x103Pa s的粘度。在另一个非限制性的实施例中,印刷材料可具有不大于约20x103Pa s,例如不大于约18x103Pa s、不大于约15x103Pa s、或甚至不大于约12x103Pa s的粘度。而且,应了解,印刷材料可具有在包括上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的粘度,包括但不限于至少约4x103Pa s且不大于约20x103Pa s,例如至少约5x103Pa s且不大于约18x103Pa s、至少约6x103Pa s且不大于约15x103Pa s。对于剪切稀化的那些印刷材料或以其他方式的非牛顿材料,上述粘度值可为表观粘度。粘度可通过将剪切率从100s-1逐步减少为2s-1进行测量,而无需使用平行板式流变仪预剪切印刷材料。
形成本体的过程可包括控制至少一种工艺参数,例如分配间隙、喷嘴尖端长度、喷嘴宽度、沉积压力、沉积速率、沉积体积、沉积位置以及基于印刷材料的粘度的印刷材料填充模式。应了解,过程可包括基于粘度控制前述工艺参数的组合。基于粘度控制一种或多种工艺参数可有利于成形磨粒的改良形成。
应了解,本文的形成过程中的任一种均可与其他过程组合,包括常规印刷、喷雾、沉积、铸造、模制等等过程。在某些情况下,添加剂制造过程可用于形成成形磨粒本体的预制件(preform)。预制件可为本体的骨架,例如首先制备的外部部分或内部部分,并且通过一种或多种其他过程进一步加工,以制备成形磨粒。例如,在至少一个实施例中,添加剂制造过程可用于形成本体的外部部分,例如本体的外周壁。在形成外部部分后,后续操作可用于形成本体的内部部分,包括例如使用与用于形成外部部分的添加剂制造过程中使用的相同材料或不同材料的分开的形成过程(例如填充过程)。形成内部部分的一种合适的形成过程可包括喷雾过程或印刷过程。形成本体的不同部分的两步过程可有利于超过仅依赖添加剂制造过程形成成形磨粒的整个本体的过程的有效加工。应了解上述例子是非限制性的,并且可使用包括添加剂制造过程的其他两步过程。设想可使用添加剂制造过程形成本体的内部部分,并且使用与添加剂制造过程不同的过程形成本体的外部部分。
通过如本文定义的添加剂制造过程形成的成形磨粒可包括各种其他合适的尺寸和特征。在一个实施例中,成形磨粒的本体包括第一主表面、第二主表面、以及在第一主表面和第二主表面之间延伸的至少一个侧表面。
成形磨粒的本体可具有可有利于改良的性能的飞边百分比。值得注意的是,当沿着一个侧面观察时,飞边限定本体的面积,其中飞边在框302和303内从本体301的侧表面延伸,如图3所示。飞边可表示接近本体301的上表面303和底表面304的锥形区域。飞边可测量为如下:沿着包含于在本体301的侧表面的最内点(例如321)与侧表面上的最外点(例如322)之间延伸的框内的侧表面的本体301的面积百分比。在一种特定情况下,本体301可具有特定含量的飞边,所述含量可为包含于框302和303内的本体301的面积相比于包含于框302、303和304内的本体301的总面积的百分比。飞边可代表接近本体的第一主表面和第二主表面的锥形区域。飞边可测量为如下:沿着包含于在本体的侧表面的最内点与侧表面上的最外点之间延伸的框内的侧表面的本体的面积百分比。
在一种特定情况下,本体可具有特定含量的飞边,所述含量可为在锥形区域内的本体的面积相比于本体的总面积的百分比。根据一个实施例,本体的飞边百分比(f)可为至少约1%。在另一个实施例中,飞边百分比可更大,例如至少约2%、至少约3%、至少约5%、至少约8%、至少约10%、至少约12%,例如至少约15%、至少约18%、或甚至至少约20%。然而,在一个非限制性的实施例中,本体301的飞边百分比可为受控的,并且可不大于约45%,例如不大于约40%、不大于约35%、不大于约30%、不大于约25%、不大于约20%、不大于约18%、不大于约15%、不大于约12%、不大于约10%、不大于约8%、不大于约6%、或甚至不大于约4%。在一个特定实施例中,本体可基本上不含飞边。应了解,本体的飞边百分比可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之间的范围内。此外,应了解如上飞边百分比可代表成形磨粒的批料的平均飞边百分比或中值飞边百分比。
本文实施例的成形磨粒可这样形成,使得本体包括结晶材料,更特别地包括多晶材料。值得注意的是,多晶材料可包括晶粒。在一个实施例中,本体可基本上不含有机材料(包括例如粘结剂)。更特别地,本体可基本上由多晶材料组成。
在一个方面,成形磨粒的本体可为聚集体,所述聚集体包括粘结至彼此以形成本体的多个粒子、砂粒和/或晶粒。合适的晶粒可包括氮化物、氧化物、碳化物、硼化物、氮氧化物、硼氧化物、金刚石及其组合。在特定情况下,晶粒可包括氧化物化合物或络合物,例如氧化铝、氧化锆、氧化钛、氧化钇、氧化铬、氧化锶、氧化硅及其组合。在一种特定情况下,形成陶瓷制品,使得形成本体的晶粒包括氧化铝,更特别地可基本上由氧化铝组成。在另一种情况下,陶瓷制品的本体可基本上由氧化铝组成。此外,在特定情况下,成形磨粒的本体可由晶种溶胶凝胶形成。
在一个实施例中,本体可包括多晶材料。包含于本体内的晶粒(例如微晶)可具有通常不大于约100微米的平均晶粒尺寸。在其他实施例中,平均晶粒尺寸可更小,例如不大于约80微米、不大于约50微米、不大于约30微米、不大于约20微米、不大于约10微米、或甚至不大于约1微米。而且,包含于本体内的晶粒的平均晶粒尺寸可为至少约0.01微米,例如至少约0.05微米,例如至少约0.08微米、至少约0.1微米、或甚至至少约0.5微米。应了解,晶粒可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的平均晶粒尺寸。
根据某些实施例,成形磨粒可为复合材料制品,所述复合材料制品在本体内包括至少两种不同类型的晶粒。应了解,不同类型的晶粒为相对于彼此具有不同组成的晶粒。例如,可形成本体,使得它包括至少两种不同类型的晶粒,其中两种不同类型的晶粒可为氮化物、氧化物、碳化物、硼化物、氮氧化物、硼氧化物、金刚石及其组合。
在一些实施例中,陶瓷制品的本体可包括各种合适的添加剂。例如,添加剂可包括氧化物。在一个特定实施例中,添加剂可包括金属元素,例如稀土元素。在另一个特定实施例中,添加剂可包括掺杂剂材料。例如,掺杂剂材料可包括选自下述的元素或化合物:碱金属元素、碱土金属元素、稀土元素、过渡金属元素及其组合。在另外一个实施例中,掺杂剂材料可包括选自下述的元素:铪、锆、铌、钽、钼、钒、锂、钠、钾、镁、钙、锶、钡、钪、钇、镧、铯、镨、铬、钴、铁、锗、锰、镍、钛、锌及其组合。
根据一个特定实施例,形成过程可形成前体成形磨粒。前体成形磨粒可经历进一步加工,以形成成形磨粒。此类进一步加工可包括但不限于干燥、加热、进化、挥发、烧结、掺杂、干燥、固化、反应、辐射、混合、搅拌、搅动、煅烧、粉碎、筛分、分选、成形及其组合。
干燥可包括去除特定含量的材料,包括挥发物例如水。根据一个实施例,干燥过程可在不大于约300℃,例如不大于约280℃、或甚至不大于约250℃的干燥温度下进行。而且,在一个非限制性的实施例中,干燥过程可在至少约50℃的干燥温度下进行。应了解,干燥温度可在上述最小温度和最大温度中的任意者之间的范围内。此外,干燥过程可进行特定持续时间。例如,干燥过程可不大于约六小时。
将前体成形磨粒形成为最终形成的成形磨粒的过程还可包括烧结过程。前体成形磨粒的烧结可用于将通常为与前体成形磨粒一样的未处理状态的粒子致密化。在一种特定情况下,烧结过程可有利于形成陶瓷材料的高温相。例如,在一个实施例中,可烧结前体成形磨粒,使得形成材料包括例如α氧化铝的高温相。根据一个特定实施例,成形磨粒可为具有相对于粒子总重量至少约90重量%的α氧化铝的成形磨粒。在一种更特定的情况下,α氧化铝的含量可更大,使得成形磨粒可基本上由α氧化铝组成。
根据另一个方面,还可实现形成固定研磨制品的方法,所述固定研磨制品包括通过添加剂制造过程形成的成形磨粒。例如,形成固定研磨制品的过程可包括在基材上形成多个成形磨粒,其中多个成形磨粒中的成形磨粒各自具有通过添加剂制造过程形成的本体。应了解,固定研磨制品可包括粘结研磨制品、涂覆研磨制品等等。还应了解基材可包括例如背衬。
在至少一个实施例中,形成过程可这样进行,使得成形磨粒直接上覆基材形成。例如,根据一个实施例,图2中提供了包括上覆基材的成形磨粒的固定研磨制品的透视图图示。如所示,固定研磨制品200可包括上覆基材204的第一成形磨粒201以及上覆基材204的第二成形磨粒211。
应了解形成作为固定研磨制品的部分的成形磨粒的过程可包括在本文其他实施例中所述的过程中的任一种。例如,如本文指出的,多个成形磨粒的成形磨粒201和211各自的本体可根据数字模型形成。如进一步示出且在本文中描述的,成形磨粒201和211各自可具有由多个部分203形成的本体,所述多个部分203彼此可为不连续的,或可经历进一步加工(例如修饰),以将部分连接在一起,以形成成形磨粒201和211的本体各自。
如本文实施例中所述,根据数字模型形成本体的添加剂制造过程可包括在第一时间将第一印刷材料沉积作为多个成形磨粒的成形磨粒各自的本体第一部分。此外,该过程可包括在不同于第一时间的第二时间,将第二印刷材料沉积作为多个成形磨粒的成形磨粒各自的本体第二部分。在一个特定实施例中,添加剂制造过程还可包括优先修饰第一部分和第二部分之一,以连接第一部分和第二部分并形成成形磨粒本体的子段。
根据一个特定实施例,形成过程可直接对粘结层231的至少一部分进行,所述粘结层231可上覆基材。粘结层231可包括诸如无机材料、玻璃材料、结晶材料、有机材料、树脂材料、金属材料、金属合金及其组合的材料。粘结层可为连续层或材料,或者可为具有通过间隙分开的不连续粘结区域的不连续材料层,在所述间隙中基本上不存在粘结材料。形成过程可包括在对应于不连续粘结区域的区域中选择性形成成形磨粒,使得每个不连续的粘结区域具有其中含有的一个或多个成形磨粒。
在形成过程的一些实施例中,基材204可平移通过形成区。在形成区中,多个成形磨粒的至少一个成形磨粒可上覆基材形成。在特定情况下,基材204的平移可包括逐步平移过程,其中基材204可平移一定距离,并且停止以允许成形磨粒的形成发生。在适当形成上覆基材204的成形磨粒后,逐步平移过程可通过将基材204在期望方向上再次平移已知距离且再次停止来继续,以有利于另一种成形磨粒在基材204上的特定位置处形成。在一个实施例中,如图2所示,基材204可平移至通过成形磨粒211的位置限定的第一位置,其中在第一时间,成形磨粒211可通过添加剂制造过程形成。在成形磨粒211的适当形成后,基材204可在方向上平移至通过上覆基材204的成形磨粒201的位置鉴定的位置。在该点处,基材204可停止,以允许成形磨粒201在图2中提供的位置处形成。
像这样,多个成形磨粒可在基材204上的预定位置处形成。值得注意的是,在某些情况下,固定研磨制品200的形成可这样进行,使得成形磨粒各自可置于背衬上,并且此类放置可与成形磨粒各自的本体形成同时进行。
此外,应了解,此类形成固定研磨制品的过程还可包括使多个成形磨粒的成形磨粒各自相对于基材定向。此类定向可有利于成形磨粒各自相对于彼此以及相对于基材204的控制取向。例如,形成成形磨粒的本体的过程可与使成形磨粒相对于基材204定向的过程同时进行。在更特别的情况下,每个成形磨粒可以这样的方式形成,使得它具有就垂直取向、旋转取向、平坦取向或侧取向而言的控制取向。在平坦取向中,成形磨粒的底表面可最接近于基材204(例如背衬)的表面,并且成形磨粒的上表面可定向远离基材204且配置为进行与工件的初始接合。本文注意到垂直取向可指如在与带垂直的平面中观察到的粒子取向,而旋转取向指如在与带平行的平面中观察到的成形磨粒取向。
简单转向图4,示出了涂覆研磨制品,其包括以相对于基材的特定取向的成形磨粒。例如,涂覆研磨制品400可包括基材401(即背衬)和上覆基材401的表面的至少一个粘接层。粘接层可包括底胶(make coat)403和/或复胶(size coat)404。涂覆磨料400可包括可包含本文实施例的成形磨粒405的研磨颗粒材料410,以及以具有无规形状的稀释剂磨粒形式的第二类型的研磨颗粒材料407,所述第二类型的研磨颗粒材料407可不一定是成形磨粒。底胶403可上覆基材401的表面,并且包围成形磨粒405和第二类型的研磨颗粒材料407的至少一部分。复胶404可上覆并粘合至成形磨粒405和第二类型的研磨颗粒材料407以及底胶403。
根据一个实施例,本文的成形磨粒405可以相对于彼此和基材401的预定取向定向。如图4所示,成形磨粒405可以相对于基材401的平坦取向定向。在平坦取向中,成形磨粒的底表面414可最接近于基材401(即背衬)的表面,并且成形磨粒405的上表面413可定向远离基材401且配置为进行与工件的初始接合。
根据另一个实施例,成形磨粒505可以预定侧取向例如图5所示的那种侧取向置于基材501上。在特定情况下,研磨制品500上的成形磨粒505总含量的成形磨粒505中的大多数可具有预定侧取向。在侧取向中,成形磨粒505的底表面414可与基材501的表面间隔开并相对于基材501的表面成角度。在特定情况下,底表面414可相对于基材501的表面形成钝角(A)。此外,上表面513与基材501的表面间隔开并相对于基材501的表面成角度,所述角度在特定情况下可限定大致锐角(B)。在侧取向中,成形磨粒的侧表面416可最接近于基材501的表面,并且更特别地,可与基材501的表面直接接触。
根据另一个实施例,一个或多个成形磨粒可以预定侧取向置于基材上。在特定情况下,研磨制品上的多个成形磨粒的成形磨粒中的大多数可具有预定侧取向。在侧取向中,成形磨粒的底表面可与基材204的表面间隔开并相对于基材204的表面成角度。在特定情况下,底表面可相对于基材204的表面形成钝角。此外,成形磨粒的上表面与基材204的表面间隔开并相对于基材204的表面成角度,所述角度在特定情况下可限定大致锐角。在侧取向中,成形磨粒的一个或多个侧表面可最接近于基材204的表面,并且更特别地,可与基材204的表面直接接触。
对于本文的某些固定研磨制品,在固定研磨制品200上的多个成形磨粒中的至少约55%可以侧取向定向。而且,该百分比可更大,例如至少约60%、至少约65%、至少约70%、至少约75%、至少约77%、至少约80%、至少约81%、或甚至至少约82%。并且对于一个非限制性的实施例,固定研磨制品200可使用本文成形磨粒形成,其中多个成形磨粒中的不大于约99%以侧取向定向。
此外,由通过本文描述的添加剂制造过程形成的成形磨粒制备的研磨制品可利用各种含量的成形磨粒。例如,固定研磨制品可为涂覆研磨制品,其包括以疏涂层(opencoat)配置或紧密涂层(closed coat)配置的单层成形磨粒。例如,多个成形磨粒可限定具有不大于约70个粒子/cm2的成形磨粒涂覆密度的疏涂层研磨产品。在其他情况下,疏涂层研磨制品每平方厘米的成形磨粒密度可不大于约65个粒子/cm2,例如不大于约60个粒子/cm2、不大于约55个粒子/cm2、或甚至不大于约50个粒子/cm2。而且,在一个非限制性的实施例中,使用本文的成形磨粒的疏涂层涂覆磨粒密度可为至少约5个粒子/cm2、或甚至至少约10个粒子/cm2。应了解,疏涂层涂覆研磨制品每平方厘米的成形磨粒密度可在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内。
在可替代实施例中,多个成形磨粒可限定具有至少约75个粒子/cm2,例如至少约80个粒子/cm2、至少约85个粒子/cm2、至少约90个粒子/cm2、至少约100个粒子/cm2的成形磨粒涂覆密度的紧密涂层研磨产品。而且,在一个非限制性的实施例中,使用本文的成形磨粒的紧密涂层涂覆磨粒密度可不大于约500个粒子/cm2。应了解,紧密涂层研磨制品每平方厘米的成形磨粒密度可在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内。
本文描述的固定研磨制品的基材可包括各种合适的材料,包括有机材料例如聚合物,无机材料例如金属、玻璃、陶瓷及其组合。在某些情况下,基材可包括织造材料。然而,基材可由非织造材料制成。在另一个实施例中,基材可包括选自下述的材料:布、纸、膜、织物、羊毛织物、硫化纤维、织造材料、非织造材料、织带、聚合物、树脂、酚醛树脂、酚醛胶乳树脂、环氧树脂、聚酯树脂、脲甲醛树脂、聚酯、聚氨酯、聚丙烯、聚酰亚胺及其组合。
在某些情况下,成形磨粒可置于第一基材上,所述第一基材有利于成形磨粒的进一步加工,例如干燥、加热和烧结。基材可为永久制品。然而,在其他情况下,基材可为牺牲制品,其可在成形磨粒的进一步加工期间被部分或完全破坏。第一基材可在成形磨粒的加工后与第二基材组合,用于以后形成研磨制品。例如,在使用永久第一基材的情况下,第一基材可与第二基材组合,以形成在最终形成的固定研磨制品中使用的复合材料基材。在其中使用牺牲基材的另外其他情况下,即使第一基材被部分或完全除去,成形磨粒在第一基材上的放置和取向也可通过形成过程基本上得到维持。最终形成的成形磨粒可与第二基材组合,同时维持其放置和取向,以有利于最终形成的研磨制品的形成。
在一些实施例中,固定研磨制品的基材还可包括合适的一种或多种添加剂。例如,基材可包括选自催化剂、偶联剂、固化剂(curant)、抗静电剂、悬浮剂、抗荷载剂、润滑剂、润湿剂、染料、填料、粘度调节剂、分散剂、消泡剂和研磨剂的添加剂。
本文描述的固定研磨制品除包括基材(例如背衬)之外,还可包括上覆基材的表面的至少一个粘接层,例如粘结层。粘接层可包括底胶。聚合物制剂可用于形成各种研磨制品层中的任一层,例如前填料(frontfill)、预复胶(pre-size)、底胶、复胶和/或超级胶料涂层(supersize coat)。当用于形成前填料时,聚合物制剂一般包括聚合物树脂、原纤化纤维(优选以浆的形式)、填料材料及其他任选的添加剂。用于一些前填料实施例的合适制剂可包括诸如下述的材料:酚醛树脂、硅灰石填料、消泡剂、表面活性剂、原纤化纤维以及余量的水。合适的聚合物树脂材料包括选自下述的可固化树脂:可热固化树脂包括酚醛树脂、脲/甲醛树脂、酚醛/乳胶树脂以及这些树脂的组合。其他合适的聚合物树脂材料还可包括可放射固化树脂,例如可使用电子束、紫外线辐射或可见光固化的那些树脂,例如环氧树脂、丙烯酸化环氧树脂的丙烯酸化寡聚物、聚酯树脂、丙烯酸化氨基甲酸酯和聚酯丙烯酸酯以及丙烯酸化单体包括单丙烯酸化、多丙烯酸化单体。该制剂还可包含不反应的热塑性树脂粘结剂,所述热塑性树脂粘结剂可通过增强可侵蚀性来增强沉积的研磨复合材料的自锐性特征。这种热塑性树脂的例子包括聚丙二醇、聚乙二醇和聚氧丙烯-聚氧乙烯(polyoxyethene)嵌段共聚物等。在基材上使用前填料可改良表面的均匀性,用于底胶的合适施加以及成形磨粒以预定取向的改良施加和取向。
研磨制品还可包括可包含本文实施例的成形磨粒的研磨颗粒材料,以及以具有无规形状的稀释剂磨粒形式的第二类型的研磨颗粒材料,所述第二类型的研磨颗粒材料可不一定是成形磨粒。在一个实施例中,底胶可上覆基材的表面,并且包围成形磨粒和第二类型的研磨颗粒材料的至少一部分。在另一个实施例中,底胶可直接粘结至基材的至少一部分。底胶可包括各种合适材料包括例如有机材料、聚合物材料或选自下述的材料:聚酯、环氧树脂、聚氨酯、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚硅氧烷、有机硅、乙酸纤维素、硝酸纤维素、天然橡胶、淀粉、虫胶及其组合。
粘接层还可包括复胶。复胶可上覆本文描述的多个成形磨粒以及任何第二类型的研磨颗粒材料和底胶的至少一部分。复胶还可直接粘结至多个成形磨粒的至少一部分。如同底胶,复胶可包括各种合适的材料,包括例如有机材料、聚合物材料或选自下述的材料:聚酯、环氧树脂、聚氨酯、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚硅氧烷、有机硅、乙酸纤维素、硝酸纤维素、天然橡胶、淀粉、虫胶及其组合。
包括成形磨粒的固定研磨制品和如本文描述的用于形成成形磨粒的添加剂制造过程代表与常规固定研磨制品的背离和超过常规固定研磨制品的改良。虽然形成成形磨粒的许多过程包括成形磨粒主要依赖模板化和/或消减过程(例如模制、丝网印刷等),但本文实施例中公开的过程包括使用添加剂制造过程用于形成成形磨粒的形成过程。此外,过程还可利用数字模型,所述数字模型可用于分析、比较且适应形成过程,其可促进利用成形磨粒的制品的改良的尺寸一致性、形状、放置和最终性能。
虽然应了解实施例的成形磨粒可具有任何合适的形状,但图6到19提供了一些示例性非限制性成形磨粒的图示,所述成形磨粒可根据本文实施例进行制备。
特别地,在图18中提供的一个实施例中,成形磨粒1800可包括本体1801,所述本体1801包括第一层1802和上覆第一层1802的第二层1803。根据一个实施例,本体1801可具有以相对于彼此的阶梯式配置排列的层1802和1803。阶梯式配置的特征可在于在第一层1802的表面1802上的至少一个平台区域1820,所述平台区域1820在第一层1802的侧表面1804和第二层1803的侧表面1805之间。平台区域1820的尺寸和形状可通过一种或多种加工参数加以控制或预定,并且可有利于磨粒改良部署为研磨制品和研磨制品的性能。
在一个实施例中,平台区域1802可具有横向距离1821,其可定义为在第一层1802的上表面1810和第一层的侧表面1804之间的边缘1807到第二层的侧表面1805之间的最大距离。横向距离1821的分析可通过例如图19所示的本体1801的俯视图得到促进。如所示的,横向距离1821可为平台区域1802的最大距离。在一个实施例中,横向距离1821可具有小于第一层(即更大层)1802的距离1810的长度。特别地,横向距离1821可不大于本体1801的第一层1802的长度1810的约90%,例如不大于约80%、不大于约70%、不大于约60%、不大于约50%、不大于约40%、不大于约30%、或甚至不大于约20%。而且,在一个非限制性的实施例中,横向距离1821可具有其为本体1801的第一层1802的长度的至少约2%、至少约5%、至少约8%、至少约10%、至少约20%、至少约25%、至少约30%、或甚至至少约50%的长度。应了解,横向距离1821可具有在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之间的范围内的长度。
第二层1803可具有特定长度1809,例如图19所示,所述特定长度1809为相对于第一层1802的长度1810的侧面最长尺寸,其可有利于成形磨粒改良部署为研磨制品和/或研磨制品的性能。例如,第二层1803的长度1809可不大于本体1801的第一层1802的长度1810的约90%,例如不大于约80%、不大于约70%、不大于约60%、不大于约50%、不大于约40%、不大于约30%、或甚至不大于约20%。而且,在一个非限制性的实施例中,第二层1803可具有长度1809,其可为本体1801的第一层1802的长度1810的至少约2%、至少约10%、至少约20%、至少约30%、至少约40%、至少约50%、至少约60%、或甚至至少约70%。应了解,相对于第一层1802的长度1810的第二层1803的长度1809可在上述最小百分比和最大百分比中的任意者之间的范围内。
图18和19的前述成形磨粒可使用根据本文实施例的添加剂制造过程来形成。此外,考虑层的组构可不同于如所示的。本体可包括以相对于彼此的任何组构的不同尺寸和/或形状的层的任何组合。
此外,涂覆研磨制品已在本文中详细描述,但应了解实施例的成形磨粒可用于粘结研磨制品中。粘结研磨制品可采取包括轮、盘、杯、段等等的各种形状,一般由复合材料组成,所述复合材料具有包含在三维粘结基质内的磨粒。另外,粘结的研磨工具可包括一定体积百分比的孔隙率。
用作粘结材料的一些合适材料可包括金属材料、聚合物材料(例如树脂)、玻璃或无定形相材料、结晶相材料及其组合。
粘结研磨制品通常由初始混合物形成,所述初始混合物包括粘结材料或粘结材料的前体、磨粒(例如成形磨粒、稀释剂颗粒、不同类型的磨粒的组合等)和填料(例如活性填料、研磨助剂、成孔剂、混合助剂、增强剂等)。混合物可使用各种技术(包括但不限于模制、冲压、挤出、沉积、铸造、浸润及其组合)形成为未处理本体(即未完成本体)。未处理本体可经历进一步加工,以帮助最终形成的粘结研磨本体的形成。加工可取决于混合物的组成,但可包括诸如干燥、固化、辐射、加热、结晶、再结晶、烧结、压制、分解、溶解及其组合的过程。
取决于预期最终用途,最终形成的粘结研磨制品可具有各种含量的组分(即磨粒、粘结材料、填料和孔隙率)。例如,在某些情况下,最终形成的粘结研磨制品可具有粘结研磨制品的总体积的至少约5体积%的孔隙率。在其他实施例中,孔隙率可更大,例如大约至少约15体积%、至少25体积%、至少约25体积%、至少约50体积%、或甚至至少约60体积%。特定实施例可利用粘结研磨制品的总体积的约5体积%至约75体积%的孔隙率范围。
此外,最终形成的粘结磨料可具有相对于粘结磨料本体的总体积至少约10体积%的粘结材料含量。在其他情况下,本体可包括相对于粘结研磨制品本体的总体积至少约30体积%,例如至少约40体积%、至少约50体积%或甚至至少约60体积%粘结材料。某些实施例可利用粘结研磨制品的总体积约10体积%至约90体积%,例如约10体积%至约80体积%、或甚至约20体积%至约70体积%的粘结材料范围。
最终形成的粘结磨料可具有相对于粘结磨料本体的总体积至少约10体积%的磨粒含量。在其他情况下,本体可包括相对于粘结研磨制品本体的总体积的至少约30体积%,例如至少约40体积%、至少约50体积%或甚至至少约60体积%磨粒。在其他例子中,研磨制品可利用粘结研磨制品总体积约10体积%至约90体积%,例如约10体积%至约80体积%、或甚至约20体积%至约70体积%的磨粒范围。
为清楚起见,本文在分开实施例的背景下描述的某些特征还可在单一实施例中组合提供。相反,为简便起见,本文在单一实施例的背景下描述的各种特征还可分开或以任何子组合提供。此外,对以范围陈述的值的提及包括在该范围内的每个和每一个值。
根据一个方面,本文实施例的成形磨粒可具有包括通过添加剂制造过程促进的各种特征的本体。例如,在一个实施例中,成形磨粒可具有包括至少一个主表面的本体,所述至少一个主表面具有自相似特征。图20包括根据一个实施例的成形磨粒的透视图图示。如所示的,成形磨粒2000可包括本体2001,所述本体2001具有上主表面2002,下主表面2004以及在主表面2002和2004之间延伸的侧表面2005、2006和2007。图21包括图20的成形磨粒2000的主表面的俯视图。
如所示的,并且根据一个实施例,成形磨粒2000的主表面2002可具有自相似特征2003。自相似特征2003可为在成形磨粒本体的表面例如本体的主表面上的特征排列。自相似特征可包括可相对于彼此排列的一个或多个特征,例如在特定分布中,例如以相对于彼此的模式排列的特征。自相似特征2003可包括设置在本体2001的主表面2002上的多种形状。在更特定的情况下,自相似特征2003可包括在主表面2002上嵌套在彼此内的多种二维形状。例如,在图20和21中所示的实施例中,自相似特征2003可包括在表面上组成图案并且以嵌套排列相对于彼此分布的多个二维三角形形状,包括多个三角形2009和2010。
在另一个实施例中,自相似特征可包括在成形磨粒本体的主表面处的二维形状的排列,其中二维形状的排列是与通过主表面外周限定的二维形状基本上相同的二维形状。例如,提及图20和21的实施例,三角形2009和2010可具有与成形磨粒2000的上主表面2002的外周2012的二维形状基本上相同的二维形状。应了解,虽然图20和21的实施例示出了具有大致三角形二维形状的成形磨粒,但其他二维形状可使用添加剂制造过程形成。例如,成形磨粒的本体可包括来自下述的二维形状:正多边形、不规则正多边形、不规则形状、三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母文字、拉丁足够字母字符(Latin enough alphabet characters)、俄语字母字符、汉字字符及其组合。
参考图22,提供了图20的成形磨粒的一部分的俯视图图像。成形磨粒2000可包括拐角2201,当自顶而下观察时,所述拐角2201可限定特定曲率半径。值得注意的是,拐角2201可具有最佳拟合圆2203可与之拟合的弧形轮廓2202。最佳拟合圆2203可具有可限定拐角2201的拐角圆度的半径2204。最佳拟合圆可使用合适形式的成像和放大拟合和评估半径,例如图22中提供的。可使用合适软件例如ImageJ。
在一个实施例中,成形磨粒的本体可具有特定拐角圆度,其可有利于在研磨操作中使用。例如,成形磨粒可具有本体,所述本体具有不大于约250微米,例如不大于约220微米、不大于约200微米、不大于约180微米、不大于约160微米、不大于约140微米、不大于约120微米、不大于约100微米、不大于约90微米、不大于约80微米、不大于约70微米、不大于约60微米、不大于约50微米、不大于约40微米、不大于约30微米、或甚至不大于约20微米的拐角圆度。在一个非限制性的实施例中,成形磨粒的本体可具有至少约0.1微米,例如至少约0.5微米的拐角圆度。应了解,本体可具有在包括上述最小值和最大值中的任意者的范围内的拐角圆度,包括例如至少约0.1微米且不大于约250微米,例如至少约0.1微米且不大于约100微米、或甚至至少约0.5μm且不大于约80微米。
根据另一个实施例,成形磨粒可具有限定凹阶面的至少一个主表面。例如,参考图23,提供了图20的成形磨粒的主表面的一部分。如提供的,主表面2002可具有凹阶面,其可通过沿着本体2001长度的至少一部分延伸的多个阶梯特征2301进行限定。在一个特定实施例中,凹阶面可限定在中点2302处的厚度,所述厚度小于本体在边缘处的厚度(t)。应了解厚度(t)可在沿着侧表面2005与本体2001的主表面2002垂直的方向上延伸。根据一个特定实施例,凹阶面可包括阶梯特征2301,其包括多个平面(flat)2304和上升部(riser)2305,其中平面与主表面2002的平面基本上平行延伸,并且上升部2305与主表面2002的平面基本上垂直延伸。此外,上升部2305与平面2304基本上垂直延伸。
根据一个实施例,凹阶面的阶梯特征2301可包括平面2304,其限定相对于本体2001的长度(l)的特定平均宽度。例如,平面2304可具有不大于约0.8(l)的平均宽度(wf),其中“l’限定沿着主表面2002的一个侧面延伸的本体2001的长度或最长尺寸(参见图21)。在另一个实施例中,平面2304可具有平均宽度(wt),其可不大于约0.5(l),例如不大于约0.4(l)、不大于约0.3(l)、不大于约0.2(l)、不大于约0.1(l)、不大于约0.09(l)、不大于约0.08(l)。在另外一个非限制性的实施例中,平面2304可具有可为至少约0.001(l),例如至少约0.005(l)、至少约0.01(l)的平均宽度(wf)。应了解,平面2304可具有在上述最小值和最大值中的任意者之间的范围内的平均宽度(wf),包括例如在包括至少约0.001(l)且不大于约0.8(l),例如至少约0.005(l)且不大于约0.4(l)、或甚至至少约0.01(l)且不大于约0.2(l)的范围内。
在另一个实施例中,上升部2305可具有在与主表面2002的平面基本上垂直的方向上延伸的平均高度(hr),其可形成为具有与成形磨粒2000的本体2001的长度(l)的特定关系。例如,上升部的平均高度(hr)可不大于约0.2(l),其中“l”限定本体2001的长度。在另一个实施例中,上升部2305可具有不大于约0.15(l),例如不大于约0.1(l)、不大于约0.05(l)、或甚至不大于约0.02(l)的平均高度(hr)。在另外一个非限制性的实施例中,上升部2305可具有至少约0.0001(l),例如至少约0.0005(l)的平均高度(hr)。应了解,上升部2305可具有在包括上述最小值和最大值中的任意者的范围内的平均高度(hr),所述范围包括例如至少约0.0001(l)且不大于约0.2(l)、或至少约0.0005(l)且不大于约0.1(l)。
另外一个实施例,包括平面2304和上升部2305的阶梯特征2301可形成为具有相对于彼此的一定关系,所述关系可有利于成形磨粒和相关研磨制品的改良性能。例如,平面2304可具有大于上升部2305的平均高度(hr)的特定平均宽度(wr)。在更特定的情况下,上升部2305的平均高度(hr)可不大于约0.95(wf)。根据另一个实施例,上升部2305的平均高度(hr)可不大于约0.9(wf),例如不大于约0.8(wf)、不大于约0.7(wf)、不大于约0.5(wf)、不大于约0.3(wf)、不大于约0.2(wf)、不大于约0.1(wf)。在一个非限制性的实施例中,上升部2305的平均高度(hr)可为至少约0.0001(wf),例如至少约0.001(wf)。应了解,上升部2305的平均高度(hr)可在包括上述最小值和最大值中的任意者的范围内,包括例如至少约0.0001(wf)且不大于约0.95(wf)、或甚至至少约0.001(wf)且不大于约0.2(wf)。
凹阶面包括阶梯特征2301的形成可通过控制用于形成本体2001的上表面2002的填充模式得到促进。应了解在其他情况下,交替填充模式可用于在本体2001的一个或多个主表面中的交替特征。例如,在一个实施例中,本体2001的至少一个主表面的上表面可具有凹阶面。凹阶面可具有在中点2302处的厚度,所述厚度大于本体在边缘处的厚度。像这样,此类凹阶面可包括阶梯式特征,其中本体的厚度从中点2302移动到边缘2303而减少。此类特征可通过利用特定填充模式包括例如自内而外填充模式形成上表面得到促进,其中在中点2302处的材料在边缘2303处的材料之前沉积。
在另一个实施例中,根据本文描述的方法形成的某些成形磨粒可包括本体,所述本体具有在本体的侧表面的至少一部分周围延伸的至少一个外周嵴。图24包括根据一个实施例的成形磨粒的一部分的侧视图图像。如提供的,成形磨粒2400可包括本体2401,所述本体2401包括第一主表面2402、与第一主表面2402相对的第二主表面2403、以及在第一主表面2402和第二主表面2403之间延伸的侧表面2404和2405。如进一步示出的,侧表面2404和2405可包括在本体2401的侧表面2404和2405的至少一部分周围延伸的至少一个外周嵴2407。在某些情况下,一个或多个外周嵴2407可在本体2401的侧表面2404和2405的大多数周围延伸。对于某些实施例,一个或多个外周嵴2407可在本体2401的侧表面2404和2405的整个外周长度周围延伸。如进一步示出的,至少一个外周嵴2407可在与本体的厚度(t)大致垂直并且与通过第一主表面2402和第二主表面2403限定的平面基本上平行的方向上延伸。
此外,在至少一个实施例中,外周嵴2407中的至少一个可在本体2401的整个侧表面周围延伸,而不与一个或多个主表面,包括例如第一主表面2402和/或第二主表面2403相交。如图24所示,外周嵴2407中的至少一个可沿着至少两个侧表面2404和2405以及在侧表面2404和2405之间延伸的邻接边缘2408延伸。
对于本文实施例的某些成形磨粒,外周嵴2407可通过突起2406分开。特别地,外周嵴2407中的每对可通过突起2406组中的至少一个突起分开。值得注意的是,突起2406可各自具有小于本体2401的总厚度(t)的厚度。
在一个实施例中,至少一个外周嵴2407可具有深度(dr),所述深度(dr)从上表面延伸到本体内,并且具有相对于本体2401的厚度(t)的特定关系。例如,至少一个外周嵴2407可具有不大于约0.8(t)的深度(dr),其中“t”是本体的厚度。而且,至少一个外周嵴2407可具有深度(dr),其不大于约0.7(t),例如不大于约0.6(t)、不大于约0.5(t)、不大于约0.4(t)、不大于约0.3(t)、不大于约0.2(t)、不大于约0.18(t)、不大于约0.16(t)、不大于约0.15(t)、不大于约0.14(t)、不大于约0.12(t)、不大于约0.1(t)、不大于约0.09(t)、不大于约0.08(t)、不大于约0.07(t)、不大于约0.06(t)、或甚至不大于约0.05(t)。在一个非限制性的实施例中,至少一个外周嵴2407可具有至少约0.001(t),例如至少约0.01(t)的深度(dr)。应了解,至少一个外周嵴2407的深度(dr)可在包括上述最小值和最大值中的任意者的范围内,包括例如至少约0.001(t)且不大于约0.8(t),例如至少约0.001(t)且不大于约0.5(t)、或甚至至少约0.001(t)且不大于约0.1(t)的深度(dr)。此外,应了解,本文对具有深度(dr)的至少一个外周嵴的提及还可指多个外周嵴2407的平均深度。此外,多个外周嵴2407的平均深度可具有相对于如上所述的本体2401的平均厚度(t)的相同关系。
至少一个实施例,本文实施例的成形磨粒可包括至少一个横嵴,所述至少一个横嵴可在至少两个表面以及在至少两个表面之间的邻接边缘上延伸。再次参考图24,至少一个外周嵴2407可采取横嵴的形式,所述横嵴在第一侧表面2404、第二侧表面2405、以及在第一侧表面2404和第二侧表面2405之间的邻接边缘2408上延伸。在更特定的情况下,横嵴可在至少三个表面上在至少三个表面之间的至少两个邻接边缘中延伸。例如,在具有如自顶而下观察的三角形二维形状的成形磨粒的情况下,横嵴可在主表面之间的侧表面周围延伸,使得横嵴在全部三个侧表面以及在至少三个表面之间的邻接边缘中的至少两个上延伸。应了解横嵴可在本体的侧表面的整个外周周围延伸,在具有如自顶而下观察的其他二维形状(例如具有四个侧表面和四个邻接边缘的矩形二维形状)的本体的情况下,所述本体可包括超过三个侧表面。
在另一个实施例中,成形磨粒的本体可包括多个横嵴2407,其中多个横嵴2407的横嵴各自在本体2401的外周的至少一部分周围彼此平行延伸。在另一个实施例中,多个横嵴的横嵴中的至少一个可具有相对于彼此不同的长度。应了解长度是横嵴的最长尺寸的量度。例如,在图24的实施例中,横嵴2407可具有与本体2401的厚度“t”垂直延伸的长度。然而,应了解横嵴2407中的一些可具有彼此不同的长度,使得横嵴2407中的至少一个具有大于或小于另一个横嵴长度的长度。根据一个特定实施例,多个横嵴的横嵴2407各自可具有相对于彼此不同的长度。
在另外一个方面,本文实施例的成形磨粒可包括具有至少一个拐角的本体,所述至少一个拐角包括从拐角延伸的多个微突起。具有含微突起的至少一个拐角的本体形成可有利于改良的研磨性能。图25包括根据本文实施例的成形磨粒的拐角一部分的图像。成形磨粒2500可包括具有拐角2502的本体2501,所述拐角2502可包括从拐角2502延伸的多个微突起2503。根据一个实施例,微突起2503可限定通过多个嵴2508分开的多个不连续的拐角突起2504、2505、2506和2507(2504-2507)。根据一个实施例,多个不连续的拐角突起2504-24 507可具有相对于彼此不同的形状。例如,不连续突起2504在相对于不连续拐角突起2505来自拐角2502的横向方向上进一步延伸。
此外,不连续拐角突起2504-2507可具有相对于彼此不同的拐角轮廓。例如,如自顶而下观察的不连续拐角突起2504可具有相对于其他不连续拐角突起2505、2506和2507的更尖锐的拐角圆度。在某些情况下,不连续拐角突起2504-2507各自可具有相对于彼此不同的拐角圆度。在另外一个实施例中,与拐角2502相关的微突起2503可限定多个不连续拐角突起2504和2507,其可具有相对于彼此不同的轮廓。在一个特定实施例中,拐角2502可具有相对于通过不连续拐角突起2504限定的在底表面2511处的拐角的平均拐角圆度,通过不连续拐角突起2507限定的在上表面2510处的不同拐角圆度值。
在另一个实施例中,微突起2503的特定特征可包括多个不连续拐角突起2504-2507,其中不连续拐角突起中的至少两个可限定具有相对于彼此的侧向位移的阶梯。例如,不连续拐角突起2504可相对于不连续拐角突起2505从本体2501进一步延伸,并且限定在不连续拐角突起2504的最外周边缘相对于不连续拐角突起2505的最外周边缘之间的横向位移2509。
根据另一个实施例,拐角2502包括微突起2503可限定根据一个实施例的锯齿状边缘。微突起2503可限定沿着边缘2513的锯齿状轮廓,所述边缘2513在第一主表面2510和第二主表面2511之间延伸。更特别地,通过嵴2508分开的不连续拐角突起2504-1507的形成可给予边缘2513锯齿状轮廓,所述锯齿状轮廓可有利于改良的研磨能力。
在另外一个方面,本文实施例的成形磨粒可包括具有圆齿状形貌的本体,所述圆齿状形貌限定具有在弯曲突起之间延伸的嵴的多个弯曲突起。在一个实施例中,图26包括具有圆齿状形貌的成形磨粒表面的一部分的图像。如所示的,本体2601可包括具有圆齿状形貌2602的部分。圆齿状形貌2602可包括多个弯曲突起2603,所述多个弯曲突起2603具有在弯曲突起2603之间延伸的嵴2604。根据一个实施例,圆齿状形貌2602可在本体2601的整个表面的大部分上延伸。在某些情况下,圆齿状形貌2602可在成形磨粒本体的一个表面(例如侧表面或主表面)的整个表面上延伸。在另外一种设计中,圆齿状形貌2602可在成形磨粒的本体2601的整个侧表面区域的大多数上延伸。而且,在至少一个实施例中,圆齿状形貌2602可在成形磨粒的本体2601的整个表面区域上延伸。
圆齿状形貌2602可包括弯曲突起2603,其限定在嵴2604之间延伸的本体外表面的弧形部分。在一个特定实施例中,弯曲突起2603可采取各自细长突起的形式,其中每个突起具有长度(l)、宽度(w)和高度(h),其中每个突起可具有在宽度和高度方向上的弧形轮廓。例如,如图26的实施例中所示,弯曲突起2603可为具有长度2606、宽度2607和高度2608的细长突起2605。如应了解的,长度2606可限定细长突起2605的最长尺寸,宽度2607可在与长度2606基本上垂直的方向上延伸,并且特别地,可延伸在细长突起2605的任一侧面上的邻近嵴之间的距离。细长突起2605还可包括高度2608,所述高度2608可限定细长突起2605在与通过长度2606和宽度2607限定的平面垂直的方向上延伸的最大距离。高度2608还可限定在细长突起2605上的最高点和最低点之间的距离,其可与细长突起2605的任一侧邻近的嵴相关。
在至少一个实施例中,细长突起2605可具有在与成形磨粒的本体2601的长度基本上相同的方向上延伸的长度2606。根据一个实施例,至少一个细长突起2605的长度可为至少约0.8(l),其中“l”是成形磨粒的本体2601的长度。在其他情况下,细长突起2605的长度可为至少0.9(l)、或甚至至少约1(l),使得细长突起2605的长度等价于本体2601的长度。应了解对细长突起2605的长度的提及可包括对多个细长突起的平均长度的提及,并且平均长度可具有相对于如上所述的本体长度的相同关系。
细长突起可形成为具有宽度2607相对于高度2608的特定关系。例如,在多个细长突起中的一个或多个上,包括例如细长突起2605可具有小于宽度2607的高度2608。应了解,本体2601可包括多个细长突起,其可限定平均宽度和平均高度,并且本文对宽度或高度的提及还可包括对多个细长突起的平均宽度或平均高度的提及。多个细长突起2603的平均高度(hep)可不大于约0.9(wep),其中“wep”代表细长突起的平均宽度,例如不大于约0.8(wep)、不大于约0.7(wep)、不大于约0.6(wep)、不大于约0.5(wep)、不大于约0.4(wep)、不大于约0.3(wep)、不大于约0.2(wep)、或甚至不大于约0.1(wep)。而且,在至少一个实施例中,多个细长突起可具有其为至少约0.001(wep)、或甚至至少约0.1(wep)的平均高度(hep)。应了解,多个细长突起的平均高度(hep)可在包括上述最小值和最大值中的任意者的范围内,包括例如至少约0.001(wep)且不大于约0.9(wep)、或至少约0.001(wep)且不大于约0.5(wep)。
根据一个实施例,多个细长突起2603的平均高度可不大于约500微米,例如不大于约400微米、不大于约300微米、不大于约250微米、不大于约200微米、不大于约150微米、不大于约100微米、不大于约90微米、不大于约30微米、或甚至不大于约50微米。而且,在一个非限制性的实施例中,多个细长突起2603的平均高度可为至少约0.01微米、至少约0.1微米、或甚至至少约1微米。应了解,多个细长突起2603的平均高度可在包括上述最小值和最大值中的任意者的范围内,包括例如至少约0.1微米且不大于约200微米,例如至少约0.1微米且不大于约100微米。
根据另一个实施例,多个细长突起2603可具有小于本体的平均长度的平均宽度。在某些情况下,多个细长突起可具有相对于成形磨粒的本体2601的长度的与平均宽度的特定关系。例如,多个细长突起的平均宽度可不大于约0.9(l),例如不大于约0.8(l)、不大于约0.7(l)、不大于约0.6(l)、不大于约0.5(l)、不大于约0.4(l)、不大于约0.3(l)、不大于约0.2(l)、或甚至不大于约0.1(l)。而且,在至少一个非限制性的实施例中,多个细长突起的平均宽度可为至少0.001(l)、或至少0.01(l)。应了解,平均宽度可在包括上述最小值和最大值中的任意者的范围内,包括例如至少约0.0 01(l)且不大于约0.9(l),例如至少约0.01(l)且不大于约0.5(l)。
在某些情况下,多个细长突起可具有不大于约500微米,例如不大于约400微米、不大于约300微米、不大于约250微米、或甚至不大于约200微米的平均宽度。而且,在至少一个非限制性的实施例中,多个细长突起的平均宽度可为至少约0.01微米、至少约0.1微米、或甚至至少约1微米。应了解,多个细长突起可具有在包括上述最小值和最大值中的任意者的范围内的平均宽度,包括例如至少约0.01微米且不大于约500微米,例如至少约0.01微米且不大于约300微米。
如图26中进一步示出的,圆齿状形貌2602可有利于具有非线性特征的成形磨粒的侧面和边缘的形成,所述非线性特征可有利地影响成形磨粒的研磨性能。例如,圆齿状形貌可有利于成形磨粒的改良的断裂力学。在至少一个特定实施例中,圆齿状形貌2602可与限定本体的至少一个拐角的边缘相交。例如,再次参考图25,在主表面2510和2511之间的侧表面2514可具有圆齿状形貌,所述圆齿状形貌与拐角2502相交且限定沿着边缘2513的长度的锯齿状轮廓。锯齿状边缘2513的形成可有利于成形磨粒的改良的研磨能力。
根据一个实施例,成形磨粒的本体可包括在共同边缘处连接在一起的至少四个主表面。在某些情况下,四个主表面可具有相对于彼此的基本上相同的表面积。更具体而言,本体可包括四面体形状。
图27包括根据一个实施例的成形磨粒的自顶而下图像。图27包括成形磨粒,所述成形磨粒包括底表面2702,三个主侧表面2703、2704和2705,所述三个主侧表面2703、2704和2705沿着由底表面2702的外周表面限定的共同边缘与底表面2702连接。如图27中进一步提供的,成形磨粒的本体2701包括上表面2706。上表面2706可包括具有大致为平面轮廓的外周表面2708。相应地,本体2701可代表截短的四面体成形磨粒,并且更具体而言,火山形状的成形磨粒。
本体2701可包括开口2709,其可采取在上表面2706处的盲孔或延伸到本体内的凹陷的形式。在一个特定实施例中,上表面2706可具有通过外周表面2708和第一阶面2711限定的凹阶面,所述第一阶面2711具有以三角形区域形式的基本上平面的区域(例如平面)。第一阶面2711可限定在开口2709中设置的阶梯。第一阶面2711可凹陷到在外周表面2708下方的开口2709内。凹阶面还可包括具有基本上平面区域的第二阶面2712,所述第二阶面2712可采取三角形区域的形式,并且凹陷到在平面外周表面2708和第一阶面2711下方的开口2709内。凹阶面还可包括在第一阶面2711和外周表面2708之间的上升部2713。凹阶面还可包括在第二阶面2712和第一阶面2713之间的上升部2714。在具有在上表面2706中的开口2709的特定实施例中,成形磨粒可限定火山形状的成形磨粒,其中开口2709的中点2710远离平面外周表面2708凹陷到本体内。
还如图27中提供的,本体2701可形成为具有多个部分,包括例如限定底表面2702的外周表面的部分2721和上覆第一部分2721的部分2722。本体还可包括在部分2721和2722上方的多个上覆部分。如所示的,部分2721和2722可采取如图27中自顶而下观察的三角形层的形式。此外,如所示的,层可有利于在主表面2703、2704和2705之间并且从上表面2707延伸到具有微突起的底表面2702的边缘2731、2732和2733的形成。微突起可限定沿着边缘2731、2732和2733的锯齿状轮廓。
此外,主表面2703、2704和2705可具有在表面外周周围延伸的多个细长突起2741。本体2701还可包括在主表面2703、2704和2705以及邻接边缘2731、2732和2733周围延伸的多个横嵴2742。如图27中提供的自顶而下察看,主表面2703、2704和2705还可具有限定通过多个横嵴2742分开的多个弧形突起241的圆齿状形貌。
图28包括根据一个实施例的成形磨粒的自顶而下视图。如提供的,成形磨粒的本体2801可包括底表面2802以及主表面2803、2804和2805,所述主表面2803、2804和2805在底表面2802的外周表面2806处与底表面2802连接。本体2801还可包括通过边缘2821、2822和2823连接的拐角2811、2812、2813和2814,使得本体形成四面体形状。与图27的成形磨粒不同,图28的成形磨粒的本体2801不是截断棱锥,而是包括四个拐角2811、2812、2813和2814。值得注意的是,拐角2811、2812和2813可由本体的第一部分2831限定,并且拐角2814可由第二部分2832限定,所述第二部分2832在第二时间形成且不同于部分2831。在至少一个实施例中,拐角2811、2812和2813可具有基本上相同的拐角圆度值,并且拐角2814可具有的拐角圆度值不同于拐角2811、2812和2813的拐角圆度值。在至少一个实施例中,拐角2814可具有的拐角圆度值大于拐角2811、2812和2813的拐角圆度值。在另一个实施例中,拐角2814可具有的拐角圆度值小于拐角2811、2812和2813的拐角圆度值。图29包括图28的成形磨粒的侧视图图像。应了解,本文实施例的成形磨粒可包括具有如本文描述的各种三维形状的本体,并且不应解释为限制于所示或所述的那些实施例。
不希望受特定理论束缚,认为本文实施例的一个或多个特征可有利于具有改良研磨性能的成形磨粒的形成。在某些情况下,已注意到成形磨粒可具有独特的断裂行为,其中在研磨操作期间,构成成形磨粒本体的部分的区域可选择性除去,这可暴露更尖锐的部分,因此显示出自锐行为。图30包括根据一个实施例的成形磨粒的拐角的图像。如提供的,成形磨粒的本体3001的部分3003的某些区域3002已在研磨操作期间除去,以暴露本体3001的另一个部分3006的未使用区域3005,所述未使用区域3005具有尖锐拐角且可有利于继续的研磨操作。
项目
项目1.一种形成成形磨粒的方法,所述成形磨粒具有通过添加剂制造过程形成的本体。
项目2.一种方法,所述方法包括根据数字模型形成成形磨粒的本体。
项目3.项目1和2中任一项的方法,其中所述添加剂制造过程包括通过不使用生产工具使原材料成形来形成成形磨粒的本体。
项目4.项目1和2中任一项的方法,其中所述添加剂制造过程包括通过以相对于彼此的受控的非无规方式沉积多个不连续部分来形成成形磨粒的本体。
项目5.项目4的方法,其中以相对于彼此的受控的非无规方式沉积本体的多个部分包括将所述多个部分沉积到生产工具内。
项目6.项目1和2中任一项的方法,其中所述方法包括选自下述的至少一个过程:层添加方法、光致光聚合、激光粉末成形、粉末床融合、选择性激光烧结、微激光烧结、材料挤出、机械浇铸、材料喷射、片材层压及其组合。
项目7.项目6的方法,其中光致光聚合包括立体光刻,其中立体光刻包括沉积含有聚合物材料的浆料的至少一层,所述聚合物材料在所述形成过程期间聚合,以形成成形磨粒。
项目8.项目6的方法,其中激光粉末形成包括将原材料沉积到靶上,并且将来自激光源的辐射碰撞到所述靶上,以熔化所述原材料且将所述原材料形成为成形磨粒。
项目9.项目8的方法,其中所述成形磨粒包括选自金属、金属合金、玻璃、陶瓷、聚合物及其组合的材料。
项目10.项目9的方法,其中所述成形磨粒基本上由包含氧化物的玻璃材料组成。
项目11.项目6的方法,其中选择性激光烧结包括将来自激光源的辐射撞击于包括原材料的靶上,并且将所述原材料的相之一的至少一部分改变为成形磨粒。
项目12.项目11的方法,其中选择性激光烧结包括将来自激光源的辐射撞击于原材料床的选择部分,并且将所述原材料床的一部分转变为成形磨粒。
项目13.项目11的方法,其中改变所述原材料相之一的至少一部分包括所述原材料的晶体结构中的变化。
项目14.项目11的方法,其中改变所述原材料相之一的至少一部分包括所述原材料从固相到液相的变化。
项目15.项目11的方法,其中改变所述原材料相之一的至少一部分包括所述原材料的烧结。
项目16.项目11的方法,其中所述成形磨粒包括选自金属、金属合金、玻璃、陶瓷、聚合物及其组合的材料。
项目17.项目6的方法,其中材料喷射包括将原材料的不连续小滴沉积到靶上,并且将所述不连续小滴聚结为本体以形成成形磨粒。
项目18.项目6的方法,其中材料喷射包括将多个不连续小滴以受控的非无规排列沉积到生产工具内,以形成成形磨粒。
项目19.项目1和2中任一项的方法,其中形成所述本体包括控制选自下述的至少一种工艺参数:喷嘴尖端长度;喷嘴宽度;喷嘴纵横比;沉积压力;喷嘴宽度和沉积压力之间的关系;沉积速率;沉积体积;沉积速率和沉积位置之间的关系;沉积压力和沉积位置之间的关系;关闭距离;移动前延迟;分配间隙;印刷材料的填充模式;印刷材料的动态屈服应力(σd);印刷材料的静态屈服应力(σs);印刷材料的屈服应力比(σd/σs);印刷材料的粘度;及其组合。
项目20.项目19的方法,所述方法还包括:在第一时间将第一印刷材料作为所述本体的第一部分沉积;并且在第二时间将第二印刷材料作为不同于第一部分的所述本体第二部分沉积。
项目21.项目20的方法,其中所述第一印刷材料具有第一组合物,并且所述第二印刷材料包含第二组合物。
项目22.项目21的方法,其中所述第一组合物和所述第二组合物与彼此相比较是显著不同的。
项目23.项目21的方法,其中所述第二组合物具有相对于所述第一组合物在孔隙率中的差异。
项目24.项目21的方法,其中所述第一印刷材料和第二印刷材料在所述本体内的不同区域处沉积,并且配置为影响所述成形磨粒的断裂行为。
项目25.项目21的方法,其中所述第一印刷材料和第二印刷材料以交替层沉积在所述本体的区域内,形成配置为控制所述本体的自锐行为的复合材料。
项目26.项目21的方法,其中所述第一印刷材料和第二印刷材料沉积在所述本体的不同区域内,形成包括相对于所述成形磨粒在固定研磨制品中的预期取向的所述区域受控排列的复合材料。
项目27.项目20的方法,其中沉积所述第一印刷材料包括在第一时间形成所述本体的第一层,并且沉积所述第二印刷材料包括形成上覆所述第一层的所述本体的第二层。
项目28.项目20的方法,其中所述第一部分可具有选自硬度、孔隙率、组成及其组合的第一特征,并且所述第二部分可具有选自硬度、孔隙率、组成及其组合的第二特征,并且其中所述第一特征可不同于所述第二特征。
项目29.项目28的方法,其中所述第一部分可具有大于所述第二部分的第二孔隙率的第一孔隙率,并且其中所述第一部分和所述第二部分以相对于彼此的排列沉积在所述本体内,形成配置为影响所述成形磨粒的断裂行为的复合材料。
项目30.项目28的方法,其中所述第一部分可具有大于所述第二部分的第二硬度的第一硬度,并且其中所述第一部分和所述第二部分以相对于彼此的排列沉积在所述本体内,形成配置为影响所述成形磨粒的断裂行为的复合材料。
项目31.项目20的方法,其中所述第一部分可具有大于所述第二部分的第二体积的第一体积。
项目32.项目31的方法,其中所述第一部分可限定所述本体的中心区域,并且所述第二部分可限定所述本体的边缘。
项目33.项目31的方法,其中所述第一部分可限定所述本体的中心区域,并且所述第二部分可限定所述本体的拐角。
项目34.项目19的方法,其中形成所述本体的所述方法还包括将印刷材料从喷嘴沉积到基材上,其中所述喷嘴的移动受计算机程序控制。
项目35.项目34的方法,其中所述喷嘴包含不大于约200微米、或不大于约100微米、或不大于约90微米、或不大于约85微米、或不大于约80微米、或不大于约75微米、或不大于约70微米、或不大于约65微米、或不大于约60微米、或不大于约55微米、或不大于约50微米、或不大于约45微米、或不大于约40微米、或不大于约35微米、或不大于约30微米、或不大于约25微米、或不大于约20微米的喷嘴宽度。
项目36.项目34的方法,其中所述喷嘴包含至少约0.1微米、或至少约1微米、或至少约10微米的宽度。
项目37.项目19的方法,其中所述喷嘴包含不大于约10mm、或不大于约8mm、或不大于约6mm、或不大于约5mm、或不大于约4mm的尖端长度。
项目38.项目19的方法,其中所述喷嘴包含至少约0.1mm、或至少约0.2mm、或至少约0.5mm、或至少约1mm的尖端长度。
项目39.项目19的方法,其中所述喷嘴包含不大于约0.8、或不大于约0.6、或不大于约0.5、或不大于约0.4的纵横比值(宽度/尖端长度)。
项目40.项目19的方法,其中所述喷嘴包含至少约0.001、或至少约0.005、或至少约0.008的纵横比值(宽度/尖端长度)。
项目41.项目19的方法,其中所述沉积压力不大于约5MPa、或不大于约4.5MPa、或不大于约4MPa、或不大于约3.5MPa、或不大于约3MPa、或不大于约2.5MPa、或不大于约2MPa、或不大于约1.8MPa、或不大于约1.5MPa、或不大于约1.3MPa、或不大于约1MPa、或不大于约0.9MPa、或不大于约0.8MPa、或不大于约0.7MPa。
项目42.项目19的方法,其中所述沉积压力为至少约0.005MPa、或至少约0.01MPa、或至少约0.05MPa、或至少约0.08MPa、或至少约0.1MPa。
项目43.项目19的方法,其中喷嘴宽度和沉积压力之间的关系(宽度/压力)限定具有下述值的第一形成因素:至少约0.2微米/MPa、或至少约1微米/MPa、或至少约2微米/MPa、或至少约4微米/MPa、或至少约6微米/MPa、或至少约8微米/MPa、或至少约10微米/MPa、或至少约12微米/MPa、或至少约14微米/MPa、或至少约16微米/MPa。
项目44.项目19的方法,其中喷嘴宽度和沉积压力之间的关系(宽度/压力)限定具有下述值的第一形成因素:不大于约1x105微米/MPa、或不大于约1x104微米/MPa、或不大于约8000微米/MPa、或不大于约6000微米/MPa、或不大于约5000微米/MPa、或不大于约4000微米/MPa、或不大于约3000微米/MPa、或不大于约2000微米/MPa、或不大于约1000微米/MPa、或不大于约500微米/MPa、或不大于约200微米/MPa、或不大于约100微米/MPa。
项目45.项目19的方法,其中形成包括以至少约0.01mm/s、或至少约0.05mm/s、或至少约0.08mm/s、或至少约0.1mm/s、或至少约0.3mm/s、或至少约0.5mm/s、或至少约0.8mm/s、或至少约1mm/s、或至少约1.5mm/s、或至少约2mm/s、或至少约2.5mm/s、或至少约3mm/s的沉积速率移动所述喷嘴。
项目46.项目19的方法,其中形成包括以不大于约50mm/s、或不大于约30mm/s、或不大于约20mm/s的沉积速率移动所述喷嘴。
项目47.项目19的方法,其中形成包括控制印刷材料的沉积体积,以限定本体的一部分。
项目48.项目47的方法,其中控制所述沉积体积包括取决于被形成的本体的部分,改变所述印刷材料的沉积体积。
项目49.项目47的方法,其中形成包括与限定所述本体的主表面的区域相比较,在限定所述本体的拐角的区域处沉积较少体积的材料。
项目50.项目47的方法,其中控制所述沉积体积包括控制所述喷嘴的沉积压力和沉积速率。
项目51.项目50的方法,其中控制所述沉积体积包括控制在第一时间形成的所述本体的第一部分的宽度、长度和高度。
项目52.项目19的方法,其中形成包括控制沉积速率和沉积位置之间的关系。
项目53.项目52的方法,其中控制沉积速率和沉积位置之间的关系包括取决于所述沉积位置来改变所述沉积速率。
项目54.项目52的方法,其中控制沉积速率和沉积位置之间的关系包括相对于与在所述本体的主表面处的沉积位置相关的沉积速率,减少在与所述成形磨粒本体的拐角相关的沉积位置处的沉积速率。
项目55.项目52的方法,其中控制沉积速率和沉积位置之间的关系包括取决于所述沉积位置来改变所述沉积速率,以改变所述本体中的特征尺寸。
项目56.项目19的方法,其中形成包括控制所述沉积压力和所述沉积位置之间的关系。
项目57.项目56的方法,其中控制所述沉积压力和所述沉积位置之间的关系包括取决于所述沉积位置来改变所述沉积压力。
项目58.项目56的方法,其中控制所述沉积压力和所述沉积位置之间的关系包括相对于与在所述本体的主表面处的沉积位置相关的沉积压力,减少在与所述成形磨粒本体的拐角相关的沉积位置处的沉积压力。
项目59.项目56的方法,其中控制所述沉积压力和所述沉积位置之间的关系包括取决于所述沉积位置来改变所述沉积压力,以改变所述本体中的特征尺寸。
项目60.项目19的方法,其中形成本体还包括控制所述印刷材料的沉积开始和用于沉积所述印刷材料的喷嘴移动之间的移动前延迟。
项目61.项目60的方法,其中所述移动前延迟大于0秒。
项目62.项目60的方法,其中所述移动前延迟不大于约10秒。
项目63.项目19的方法,其中形成本体还包括控制关闭距离,所述关闭距离限定在将对所述印刷材料的压力关闭后喷嘴移动的距离。
项目64.项目19的方法,其中所述关闭距离小于分配间隙。
项目65.项目19的方法,其中所述关闭距离大于分配间隙。
项目66.项目19的方法,其中所述关闭距离基本上等于分配间隙。
项目67.项目19的方法,其中形成包括控制限定所述喷嘴和靶之间的距离的分配间隙。
项目68.项目67的方法,其中所述分配间隙不大于约10W,其中“W”代表所述喷嘴的宽度,其中所述分配间隙不大于约9W、或不大于约8W、或不大于约7W、或不大于约6W、或不大于约5W、或不大于约4W、或不大于约3W、或不大于约2W、或不大于约1W。
项目69.项目67的方法,其中所述分配间隙为至少约0.001W,其中“W”代表所述喷嘴的宽度,其中所述分配间隙为至少约0.005W、或至少约0.01W、或至少约0.1W。
项目70.项目67的方法,其中所述分配间隙不大于约10t,其中“t”代表所述印刷材料的厚度,其中所述分配间隙不大于约9t、或不大于约8t、或不大于约7t、或不大于约6t、或不大于约5t、或不大于约4t、或不大于约3t、或不大于约2t、或不大于约1t。
项目71.项目67的方法,其中所述分配间隙为至少约0.001t,其中“t”代表所述印刷材料的厚度,其中所述分配间隙为至少约0.005t、或至少约0.01t。
项目72.项目67的方法,其中控制所述分配间隙包括改变所述分配间隙,使得所述印刷材料在离开所述喷嘴后立即接触所述靶。
项目73.项目67的方法,其中控制所述分配间隙包括控制在所述靶上方的所述喷嘴的高度,使得所述印刷材料在离开所述喷嘴后接触所述靶,而不在所述喷嘴和靶之间的空间中形成游离小滴。
项目74.项目67的方法,其中控制所述分配间隙包括基于下述中的至少一种改变所述喷嘴和所述靶之间的Z方向距离:所述喷嘴尖端长度、所述喷嘴宽度、所述沉积压力、所述沉积速率、所述沉积体积、所述沉积位置、所述印刷材料的填充模式、所述印刷材料的动态屈服应力(σd)、所述印刷材料的静态屈服应力(σs)、所述印刷材料的屈服应力比(σd/σs)、所述印刷材料的粘度及其组合。
项目75.项目67的方法,其中控制所述分配间隙包括基于所述沉积位置来改变所述分配间隙。
项目76.项目67的方法,其中控制所述分配间隙包括改变所述分配间隙,以改变在沉积位置处沉积的所述材料体积。
项目77.项目19的方法,其中形成还包括控制填充模式,所述填充模式限定在第一时间形成所述本体的第一部分和在第二时间形成所述本体的第二部分的次序。
项目78.项目77的方法,其中所述填充模式限定选自下述的沉积过程:自外而内填充过程、自内而外填充过程、侧面至侧面填充过程、自底而上填充过程及其组合。
项目79.项目77的方法,其中控制所述填充模式包括使用第一填充模式在第一时间形成所述本体的第一部分,并且使用第二填充模式在第二时间形成所述本体的第二部分,其中所述第一填充模式不同于所述第二填充模式。
项目80.项目77的方法,其中所述填充模式包括通过自外而内填充过程形成第一层,并且通过自内而外填充过程形成上覆所述第一层的第二层。
项目81.项目19的方法,其中所述印刷材料可包括混合物,所述混合物包含相对于所述混合物的总重量含量为至少约25重量%的无机材料,或者至少约35重量%、或至少约36重量%或和不大于约75重量%、或不大于约70重量%、或不大于约65重量%、或不大于约55重量%、或不大于约45重量%、或不大于约44重量%的无机材料。
项目82.项目81的方法,其中所述混合物包含溶胶凝胶。
项目83.项目81的方法,其中所述无机材料包含陶瓷。
项目84.项目81的方法,其中所述无机材料包含选自氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物、硼氧化物、基于碳的材料及其组合的材料。
项目85.项目81的方法,其中所述无机材料包含氧化铝。
项目86.项目81的方法,其中所述无机材料包含勃姆石。
项目87.项目81的方法,其中所述混合物包含硝酸。
项目88.项目81的方法,其中所述混合物包含水。
项目89.项目81的方法,其中所述混合物包含至少约100Pa、或至少约120Pa、或至少约140Pa、或至少约160Pa、或至少约180Pa、或至少约200Pa的动态屈服应力(σd)。
项目90.项目81的方法,其中所述混合物包含不大于约1500Pa、或不大于约1300Pa、或不大于约1200Pa、或不大于约1100Pa、或不大于约1000Pa的动态屈服应力(σd)。
项目91.项目81的方法,其中形成包括基于所述印刷材料的动态屈服应力(σd),控制下述中的至少一种:所述分配间隙、所述喷嘴尖端长度、所述喷嘴宽度、所述沉积压力、所述沉积速率、所述沉积体积、所述沉积位置和所述印刷材料的填充模式。
项目92.项目81的方法,其中所述混合物包含至少约180Pa、或至少约200Pa、或至少约250Pa、或至少约300Pa、或至少约350Pa、或至少约400Pa、或至少约450Pa、或至少约500Pa、或至少约550Pa、或至少约600Pa的静态屈服应力(σs)。
项目93.项目81的方法,其中所述混合物包含不大于约20000Pa、或不大于约18000Pa、或不大于约15000Pa、或不大于约5000Pa、或不大于约1000Pa的静态屈服应力(σs)。
项目94.项目81的方法,其中所述混合物包含不同于所述动态屈服应力(σd)的静态屈服应力(σs)。
项目95.项目81的方法,其中所述混合物包含大于所述动态屈服应力(σd)的静态屈服应力(σs)。
项目96.项目81的方法,其中所述混合物包含不大于约1、或不大于约0.99、或不大于约0.97、或不大于约0.95、或不大于约0.9、或不大于约0.85、或不大于约0.8、或不大于约0.75、或不大于约0.7、或不大于约0.65、或不大于约0.6、或不大于约0.55、或不大于约0.5的屈服应力比(σd/σs)。
项目97.项目81的方法,其中形成包括基于所述印刷材料的静态屈服应力(σs),控制下述中的至少一种:所述分配间隙、所述喷嘴尖端长度、所述喷嘴宽度、所述沉积压力、所述沉积速率、所述沉积体积、所述沉积位置和所述印刷材料的填充模式。
项目98.项目81的方法,其中所述混合物包含至少约0.01、或至少约0.05、或至少约0.08、或至少约0.1、或至少约0.15、或至少约0.2、或至少约0.25、或至少约0.3、或至少约0.35、或至少约0.4、或至少约0.45、或至少约0.5的屈服应力比(σd/σs)。
项目99.项目81的方法,其中形成包括基于所述印刷材料的屈服应力比(σd/σs),控制下述中的至少一种:所述分配间隙、所述喷嘴尖端长度、所述喷嘴宽度、所述沉积压力、所述沉积速率、所述沉积体积、所述沉积位置和所述印刷材料的填充模式。
项目100.项目81的方法,其中所述混合物是剪切稀化材料。
项目101.项目81的方法,其中所述混合物包含至少约4x103Pa s、或至少约5x103Pas、或至少约6x103Pa s、或至少约7x103Pa s、或至少约7.5x103Pa s的粘度。
项目102.项目81的方法,其中所述混合物包含不大于约20x103Pa s或例如不大于约18x103Pa s、或不大于约15x103Pa s、或不大于约12x103Pa s的粘度。
项目103.项目81的方法,其中形成包括基于所述印刷材料的粘度,控制下述中的至少一种:所述分配间隙、所述喷嘴尖端长度、所述喷嘴宽度、所述沉积压力、所述沉积速率、所述沉积体积、所述沉积位置和所述印刷材料的填充模式。
项目104.项目1和2中任一项的方法,其中形成还包括控制配置用于沉积印刷材料的喷嘴的三维移动,其中控制所述三维移动包括所述喷嘴在X轴、Y轴和Z轴中的控制。
项目105.项目1和2中任一项的方法,其中形成还包括多个喷嘴的控制,其中所述多个喷嘴中的每个喷嘴可配置为沉积印刷材料,并且所述多个喷嘴的控制包括每个喷嘴在X轴、Y轴和Z轴中的三维移动控制。
项目106.项目1和2中任一项的方法,所述方法还包括:在第一时间将第一印刷材料作为所述本体的第一部分沉积;并且在第二时间将第二印刷材料作为不同于第一部分的所述本体第二部分沉积。
项目107.项目106的方法,其中所述第一时间不同于所述第二时间。
项目108.项目106的方法,其中所述第一印刷材料包含选自下述的材料:固体、粉末、溶液、混合物、液体、浆料、凝胶、粘合剂及其组合。
项目109.项目106的方法,所述方法还包括优先修饰所述第一部分和第二部分之一,以连接所述第一部分和第二部分,并且形成所述本体的子段。
项目110.项目109的方法,其中修饰包括改变所述第一印刷材料和所述第二印刷材料中的至少一种的相。
项目111.项目109的方法,其中修饰包括加热所述第一部分和所述第二部分中的至少一种。
项目112.项目111的方法,其中加热包括使所述第一部分与所述第二部分融合。
项目113.项目111的方法,其中加热包括使所述第一部分与所述第二部分连接。
项目114.项目111的方法,其中加热包括使电磁辐射碰撞于所述第一部分的至少一部分。
项目115.项目111的方法,其中加热包括使电磁辐射碰撞于所述第二部分的至少一部分。
项目116.项目106的方法,其中沉积包括沉积预定体积的所述第一印刷材料的多个不连续小滴,以形成所述第一部分。
项目117.项目106的方法,其中沉积包括沉积预定体积的所述第二印刷材料的多个不连续小滴,以形成所述第二部分。
项目118.项目106的方法,其中所述第一部分包含第一部分长度(Lfp)、第一部分宽度(Wfp)和第一部分厚度(Tfp),并且其中Lfp>Wfp、Lfp>Tfp和Wfp>Tfp。
项目119.项目118的方法,其中所述第一部分包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第一纵横比(Lfp:Wfp)。
项目120.项目118的方法,其中所述第一部分包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第二纵横比(Lfp:Tfp)。
项目121.项目118的方法,其中所述第一部分包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第三纵横比(Wfp:Tfp)。
项目122.项目118的方法,其中所述第一部分长度(Lfp)、第一部分宽度(Wfp)和第一部分厚度(Tfp)中的至少一种具有不大于约2mm或例如不大于约1mm、或不大于约900微米、或不大于约800微米、或不大于约700微米、或不大于约600微米、或不大于约500微米、或不大于约400微米、或不大于约300微米、或不大于约200微米、或不大于约150微米、或不大于约140微米、或不大于约130微米、或不大于约120微米、或不大于约110微米、或不大于约100微米、或不大于约90微米、或不大于约80微米、或不大于约70微米、或不大于约60微米、或不大于约50微米且至少约0.01微米、或至少约0.1微米、或至少约1微米的平均尺寸。
项目123.项目118的方法,其中所述第一部分包含选自下述的在由所述第一部分长度(Lfp)和所述第一部分宽度(Wfp)限定的平面中的横截面形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄语字母字符及其组合。
项目124.项目118的方法,其中所述第一部分包含选自下述的在由所述第一部分长度(Lfp)和所述第一部分厚度(Tfp)限定的平面中的横截面形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄语字母字符及其组合。
项目125.项目118的方法,其中所述第一部分采取层的形式。
项目126.项目106的方法,其中所述第二部分包含第二部分长度(Lsp)、第二部分宽度(Wsp)和第二部分厚度(Tsp),并且其中Lsp>Wsp、Lsp>Tsp和Wsp>Tsp。
项目127.项目126的方法,其中所述第二部分包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第一纵横比(Lsp:Wsp)。
项目128.项目126的方法,其中所述第二部分包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第二纵横比(Lsp:Tsp)。
项目129.项目126的方法,其中所述第二部分包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第三纵横比(Wsp:Tsp)。
项目130.项目126的方法,其中所述第二部分长度(Lsp)、第二部分宽度(Wsp)和第二部分厚度(Tsp)中的至少一种具有不大于约2mm或例如不大于约1mm、或不大于约900微米、或不大于约800微米、或不大于约700微米、或不大于约600微米、或不大于约500微米、或不大于约400微米、或不大于约300微米、或不大于约200微米、或不大于约150微米、或不大于约140微米、或不大于约130微米、或不大于约120微米、或不大于约110微米、或不大于约100微米、或不大于约90微米、或不大于约80微米、或不大于约70微米、或不大于约60微米、或不大于约50微米且至少约0.01微米、或至少约0.1微米、或至少约1微米的平均尺寸。
项目131.项目126的方法,其中所述第二部分包含选自下述的在由所述第二部分长度(Lsp)和所述第二部分宽度(Wsp)限定的平面中的横截面形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄语字母字符及其组合。
项目132.项目126的方法,其中所述第二部分包含选自下述的在由所述第二部分长度(Lsp)和所述第二部分厚度(Tsp)限定的平面中的横截面形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄语字母字符及其组合。
项目133.项目126的方法,其中所述第一部分包含的横截面形状不同于所述第二部分的横截面形状。
项目134.项目126的方法,其中所述第一部分包含与所述第二部分的横截面形状基本上相同的横截面形状。
项目135.项目106的方法,其中所述第一印刷材料包含第一组合物,并且所述第二印刷材料包含第二组合物。
项目136.项目135的方法,其中所述第一组合物和所述第二组合物就彼此而言是基本上相同的。
项目137.项目135的方法,其中所述第一组合物和所述第二组合物就彼此而言是显著不同的。
项目138.项目135的方法,其中所述第一组合物包含选自有机材料、无机材料及其组合的材料。
项目139.项目135的方法,其中所述第一组合物包含选自陶瓷、玻璃、金属、聚合物及其组合的材料。
项目140.项目135的方法,其中所述第一组合物包含选自氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物、硼氧化物及其组合的材料。
项目141.项目135的方法,其中所述第一组合物包含氧化铝。
项目142.项目135的方法,其中所述第二组合物包含选自有机材料、无机材料及其组合的材料。
项目143.项目135的方法,其中所述第二组合物包含选自陶瓷、玻璃、金属、聚合物及其组合的材料。
项目144.项目135的方法,其中所述第二组合物包含选自氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、碳氧化物、氮氧化物、硼氧化物及其组合的材料。
项目145.项目135的方法,其中所述第二组合物包含氧化铝。
项目146.项目106的方法,其中所述第二印刷材料包括固体、粉末、溶液、混合物、液体、浆料、凝胶、粘合剂及其组合。
项目147.项目1的方法,所述方法还包括根据数字模型形成所述本体。
项目148.项目2和147中任一项的方法,所述方法还包括将所述本体的至少一部分与所述数字模型相比较。
项目149.项目148的方法,其中比较包括测量所述本体的至少一部分,并且将其与所述数字模型的相应尺寸相比较。
项目150.项目148的方法,其中比较在形成期间进行。
项目151.项目148的方法,其中比较在形成后进行。
项目152.项目2和147中任一项的方法,所述方法还包括制备所述数字模型的多个数字横截面。
项目153.项目152的方法,所述方法还包括:在第一时间沉积所述本体的第一部分,所述第一部分对应于所述数字模型的多个横截面的第一横截面;在不同于所述第一时间的第二时间,沉积不同于所述第一部分的所述本体第二部分,所述第二部分对应于所述数字模型的多个横截面的第二横截面。
项目154.项目152的方法,所述方法还包括使用所述多个数字横截面作为用于沉积多个不连续部分的指导。
项目155.项目1的方法,其中所述添加剂制造过程限定汇集不连续部分以形成子部分的过程。
项目156.项目155的方法,所述方法还包括汇集多个子部分,以形成所述成形磨粒的本体。
项目157.项目1和2中任一项的方法,所述方法还包括消减过程。
项目158.项目157的方法,其中所述消减过程在形成前体成形磨粒的本体后进行。
项目159.项目157的方法,其中所述消减过程包括去除用于形成前体成形磨粒的材料的至少一部分。
项目160.项目157的方法,其中所述消减过程包括在所述本体的一部分内形成至少一个开口。
项目161.项目157的方法,其中所述消减过程包括形成穿过所述本体的一部分的孔口。
项目162.项目157的方法,其中所述消减过程包括加热以去除所述本体的一部分。
项目163.项目162的方法,其中所述加热包括使所述本体的至少一部分挥发。
项目164.项目1和2中任一项的方法,所述方法还包括修饰所述本体的一部分的至少一个过程,包括熔化、选择性激光熔化、烧结、选择性烧结、直接金属激光烧结、选择性激光烧结、粒子束修饰、电子束熔化、熔融沉积成型、固化及其组合。
项目165.项目1和2中任一项的方法,其中形成包括所述成形磨粒的本体的原型印刷。
项目166.项目1和2中任一项的方法,其中形成包括分层实体制造。
项目167.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体包含包括本体长度(Lb)、本体宽度(Wb)和本体厚度(Tb)的三维形状,并且其中Lb>Wb、Lb>Tb和Wb>Tb。
项目168.项目167的方法,其中所述本体包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第一纵横比(Lb:Wb)。
项目169.项目167的方法,其中所述本体包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第二纵横比(Lb:Tb)。
项目170.项目167的方法,其中所述本体包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第三纵横比(Wb:Tb)。
项目171.项目167的方法,其中所述本体长度(Lb)、所述本体宽度(Wb)和所述本体厚度(Tb)中的至少一种具有至少约0.1微米、或至少约1微米、或至少约10微米、或至少约50微米、或至少约100微米、或至少约150微米、或至少约200微米、或至少约400微米、或至少约600微米、或至少约800微米、或至少约1mm且不大于约20mm、或不大于约18mm、或不大于约16mm、或不大于约14mm、或不大于约12mm、或不大于约10mm、或不大于约8mm、或不大于约6mm、或不大于约4mm的平均尺寸。
项目172.项目167的方法,其中所述本体包含选自下述的在由所述本体长度和所述本体宽度限定的平面中的横截面形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄语字母字符及其组合。
项目173.项目167的方法,其中所述本体包含选自下述的在由所述本体长度和所述本体厚度限定的平面中的横截面形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄语字母字符及其组合。
项目174.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体包含选自下述的三维形状:多面体、棱锥、椭圆体、球体、棱柱体、圆柱体、圆锥体、四面体、立方体、长方体、菱面体、截断棱锥、截断椭圆体、截断球体、截锥、五面体、六面体、七面体、八面体、九面体、十面体、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄文字母字符及其组合。
项目175.项目1和2中任一项的方法,所述方法还包括形成多个成形磨粒,其中所述多个成形磨粒的成形磨粒各自具有本体,所述本体具有本体长度(Lb)、本体宽度(Wb)和本体厚度(Tb)。
项目176.项目175的方法,其中所述多个成形磨粒具有下述中的至少一种:不大于约50%的本体长度变化;不大于约50%的本体宽度变化;和不大于约50%的本体厚度变化。
项目177.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体具有第一主表面、第二主表面、以及在所述第一主表面和所述第二主表面之间延伸的至少一个侧表面。
项目178.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体包含不大于约40%、或不大于约20%、或不大于约10%、或不大于约4%的飞边百分比,其中所述本体基本上不含飞边。
项目179.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体基本上不含粘合剂,其中所述本体基本上不含有机材料。
项目180.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体包含多晶材料,其中所述多晶材料包含晶粒,其中所述晶粒选自氮化物、氧化物、碳化物、硼化物、氮氧化物、金刚石及其组合的材料,其中所述晶粒包含选自下述氧化物的氧化物:氧化铝、氧化锆、氧化钛、氧化钇、氧化铬、氧化锶、氧化硅及其组合,其中所述晶粒包含氧化铝,其中所述晶粒基本上由氧化铝组成。
项目181.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体基本上由氧化铝组成。
项目182.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体由晶种溶胶凝胶形成。
项目183.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体包含具有不大于约1微米的平均晶粒尺寸的多晶材料。
项目184.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体是包含至少约2个不同类型的组合物的复合物。
项目185.项目1和2中任一项的方法,其中所述本体包含添加剂,其中所述添加剂包含氧化物,其中所述添加剂包含金属元素,其中所述添加剂包含稀土元素。
项目186.项目185的方法,其中所述添加剂包含掺杂剂材料,其中所述掺杂剂材料包括选自下述的元素:碱金属元素、碱土金属元素、稀土元素、过渡金属元素及其组合,其中所述掺杂剂材料包含选自下述的元素:铪、锆、铌、钽、钼、钒、锂、钠、钾、镁、钙、锶、钡、钪、钇、镧、铯、镨、铬、钴、铁、锗、锰、镍、钛、锌及其组合。
项目187.一种形成固定磨料的方法,所述方法包括:在基底上形成多个成形磨粒,其中所述多个成形磨粒的成形磨粒各自具有通过添加剂制造过程形成的本体。
项目188.项目187的方法,其中形成直接上覆所述基材进行。
项目189.项目187的方法,其中形成直接在上覆所述基材的粘结层的至少一部分上进行,其中所述粘结层包含选自无机材料、玻璃材料、结晶材料、有机材料、树脂材料、金属材料、金属合金及其组合的材料。
项目190.项目187的方法,其中所述基材平移通过形成区,其中在所述形成区中,所述多个成形磨粒的至少一个成形磨粒上覆所述基材形成。
项目191.项目187的方法,其中平移包括逐步平移过程。
项目192.项目187的方法,其中所述多个成形磨粒的成形磨粒各自的本体根据数字模型形成。
项目193.项目187的方法,其中所述添加剂制造过程包括:在第一时间将第一印刷材料沉积作为所述多个成形磨粒的成形磨粒各自的所述本体第一部分,并且在不同于第一时间的第二时间,将第二印刷材料沉积作为多个成形磨粒的成形磨粒各自的所述本体第二部分。
项目194.项目193的方法,所述方法还包括优先修饰所述第一部分和第二部分之一,以连接所述第一部分和第二部分,并且形成所述成形磨粒的本体的子段。
项目195.项目187的方法,其中所述多个成形磨粒在所述基材上的预定位置处形成。
项目196.项目187的方法,所述方法还包括将所述多个成形磨粒中的成形磨粒各自置于所述基材上,其中所述放置与形成所述多个成形磨粒的成形磨粒各自的本体同时进行。
项目197.项目187的方法,所述方法还包括将所述多个成形磨粒中的成形磨粒各自相对于所述基材定向。
项目198.项目197的方法,其中定向和形成同时进行。
项目199.项目187的方法,其中所述多个成形磨粒中的至少约55%以侧取向定向。
项目200.项目187的方法,其中所述多个成形磨粒限定疏涂层,其中所述第一部分的多个成形磨粒限定紧密涂层,其中所述疏涂层包含不大于约70个粒子/cm2的涂覆密度。
项目201.项目187的方法,其中所述基材包含织造材料,其中所述基材包含非织造材料,其中所述基材包含有机材料,其中所述基材包含聚合物,其中所述基材包含选自下述的材料:布、纸、膜、织物、羊毛织物、硫化纤维、织造材料、非织造材料、织带、聚合物、树脂、酚醛树脂、酚醛胶乳树脂、环氧树脂、聚酯树脂、脲甲醛树脂、聚酯、聚氨酯、聚丙烯、聚酰亚胺及其组合。
项目202.项目187的方法,其中所述基材包含选自催化剂、偶联剂、固化剂、抗静电剂、悬浮剂、抗荷载剂、润滑剂、润湿剂、染料、填料、粘度调节剂、分散剂、消泡剂和研磨剂的添加剂。
项目203.项目187的方法,所述方法还包括上覆所述基材的粘接层,其中所述粘接层包含底胶,其中所述底胶上覆所述基材,其中所述底胶直接粘结至所述基材的一部分,其中所述底胶包含有机材料,其中所述底胶包含聚合物材料,其中所述底胶包含选自下述的材料:聚酯、环氧树脂、聚氨酯、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚硅氧烷、有机硅、乙酸纤维素、硝酸纤维素、天然橡胶、淀粉、虫胶及其组合。
项目204.项目203的方法,其中所述粘接层包含复胶,其中所述复胶上覆所述多个成形磨粒的一部分,其中所述复胶上覆底胶,其中所述复胶直接粘结至所述多个成形磨粒的一部分,其中所述复胶包含有机材料,其中所述复胶包含聚合物材料,其中所述复胶包含选自下述的材料:聚酯、环氧树脂、聚氨酯、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚硅氧烷、有机硅、乙酸纤维素、硝酸纤维素、天然橡胶、淀粉、虫胶及其组合。
项目205.一种成形磨粒,所述成形磨粒包括具有至少一个主表面的本体,所述至少一个主表面具有自相似特征。
项目206.一种成形磨粒,所述成形磨粒包括本体,所述本体具有在所述本体的侧表面的至少一部分周围延伸的至少一个外周嵴。
项目207.一种成形磨粒,所述成形磨粒包括本体,所述本体具有限定凹阶面的至少一个主表面。
项目208.一种成形磨粒,所述成形磨粒包括本体,所述本体具有沿着至少两个表面以及在所述至少两个表面之间的邻接边缘延伸的至少一个横嵴。
项目209.一种成形磨粒,所述成形磨粒包括具有拐角的本体,所述拐角包括从所述拐角延伸的多个微突起。
项目210.一种成形磨粒,所述成形磨粒包括本体,所述本体包括包含圆齿状形貌的表面。
项目211.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中本体包含不大于约250微米、或不大于约220微米、或不大于约200微米、或不大于约180微米、或不大于约160微米、或不大于约140微米、或不大于约120微米、或不大于约100微米、或不大于约90微米、或不大于约80微米、或不大于约70微米、或不大于约60微米、或不大于约50微米、或不大于约40微米、或不大于约30微米、或不大于约20微米的拐角圆度。
项目212.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中本体包含至少约0.1微米、或至少约0.5微米的拐角圆度。
项目213.项目206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中本体包含包括自相似特征的主表面。
项目214.项目205和213中任一项的成形磨粒,其中所述自相似特征包含二维形状的排列,所述二维形状具有所述主表面外周的基本上相同的二维形状。
项目215.项目205和213中任一项的成形磨粒,其中所述主表面具有选自下述的二维形状:正多边形、不规则多边形、不规则形状、三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄语字母字符及其组合。
项目216.项目205和213中任一项的成形磨粒,其中所述主表面包含三角形二维形状。
项目217.项目205和213中任一项的成形磨粒,其中所述自相似特征包含嵌套在彼此内的多个三角形二维形状。
项目218.项目205、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体具有在所述本体的侧表面的至少一部分周围延伸的至少一个外周嵴。
项目219.项目206和218中任一项的成形磨粒,其中所述至少一个外周嵴在所述本体的侧表面的大部分周围延伸。
项目220.项目206和218中任一项的成形磨粒,其中所述至少一个外周嵴在所述本体的整个侧表面周围延伸。
项目221.项目206和218中任一项的成形磨粒,其中所述至少一个外周嵴在所述本体的侧表面周围延伸,而不与主表面相交。
项目222.项目206和218中任一项的成形磨粒,其中所述至少一个外周嵴与所述本体的至少两个表面和边缘相交。
项目223.项目206和218中任一项的成形磨粒,其中所述本体包含长度(l)、宽度(w)和厚度(t),其中l>w>t,并且所述至少一个外周嵴在所述本体的侧表面周围外周延伸,在主表面之间延伸。
项目224.项目206和218中任一项的成形磨粒,其中所述至少一个外周嵴包含不大于约0.8t(其中“t”是所述本体的厚度)、不大于约0.7t、或不大于约0.6t、或不大于约0.5t、或不大于约0.4t、或不大于约0.3t、或不大于约0.2t、或不大于约0.18t、或不大于约0.16t、或不大于约0.15t、或不大于约0.14t、或不大于约0.12t、或不大于约0.1t、或不大于约0.09t、或不大于约0.08t、或不大于约0.07t、或不大于约0.06t、或不大于约0.05t的深度。
项目225.项目206和218中任一项的成形磨粒,其中所述至少一个外周嵴包含至少约0.001t(其中“t”是所述本体的厚度),至少约0.01t的深度。
项目226.项目205、206、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体具有限定凹阶面的至少一个主表面。
项目227.项目207和226中任一项的成形磨粒,其中所述凹阶面限定在所述主表面的中点处的厚度,所述厚度小于所述本体在边缘处的厚度。
项目228.项目207和226中任一项的成形磨粒,其中所述凹阶面包含多个平面和上升部,其中所述平面与所述主表面的平面基本上平行延伸,并且所述上升部与所述主表面的平面基本上垂直延伸。
项目229.项目228的成形磨粒,其中所述平面具有不大于约0.8(l)(其中“l”限定所述本体的长度)、不大于约0.5(l)、或不大于约0.4(l)、或不大于约0.3(l)、或不大于约0.2(l)、或不大于约0.1(l)、或不大于约0.09(l)、或不大于约0.08(l)的平均宽度(wf)。
项目230.项目228的成形磨粒,其中所述平面具有至少约0.001(l)(其中“l”限定所述本体的长度)、至少约0.005(l)、或至少约0.01(l)的平均宽度(wf)。
项目231.项目228的成形磨粒,其中所述上升部具有不大于约0.2(l)(其中“l”限定所述本体的长度)、不大于约0.15(l)、或不大于约0.1(l)、或不大于约0.05(l)、或不大于约0.02(l)的平均高度(hr)。
项目232.项目228的成形磨粒,其中所述上升部具有至少约0.0001(l)(其中“l”限定所述本体的长度)、至少约0.0005(l)的平均高度(hr)。
项目233.项目228的成形磨粒,其中所述平面具有大于所述上升部的平均高度的平均宽度,其中所述上升部的平均高度(hr)不大于约0.95(wf)(其中“wf”限定所述平面的平均宽度)、不大于约0.9(wf)、或不大于约0.8(wf)、或不大于约0.7(wf)、或不大于约0.5(wf)、或不大于约0.3(wf)、或不大于约0.2(wf)、或不大于约0.1(wf)。
项目234.项目228的成形磨粒,其中所述上升部的平均高度为至少约0.0001(wf)(其中“wf”限定所述平面的平均宽度)、至少约0.001(wf)。
项目235.项目205、206、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体具有限定凹阶面的至少一个主表面,所述凹阶面限定在所述主表面的中点处的厚度,所述厚度大于所述本体在边缘处的厚度。
项目236.项目205、206、207、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体包括沿着至少两个表面以及在至少两个表面之间的邻接边缘延伸的至少一个横嵴。
项目237.项目208和236中任一项的成形磨粒,其中所述至少一个横嵴在至少三个表面和在所述至少三个表面之间的至少两个邻接边缘上延伸。
项目238.项目208和236中任一项的成形磨粒,其中所述本体包括多个横嵴,所述多个横嵴的横嵴各自在所述本体的外周的至少一部分周围彼此平行延伸。
项目239.项目238的成形磨粒,其中所述多个横嵴的横嵴中的至少一个具有相对于所述多个横嵴的另一个横嵴不同的长度。
项目240.项目238的成形磨粒,其中所述多个横嵴的横嵴各自具有相对于彼此不同的长度。
项目241.项目205、206、207、208和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体包括拐角,所述拐角包括从所述拐角延伸的多个微突起。
项目242.项目209和241中任一项的成形磨粒,其中所述微突起限定通过多个嵴分开的多个不连续的拐角突起。
项目243.项目242的成形磨粒,其中所述多个不连续的拐角突起具有相对于彼此不同的多个轮廓。
项目244.项目242的成形磨粒,其中至少两个不连续的拐角突起具有相对于彼此不同的拐角半径。
项目245.项目242的成形磨粒,其中至少两个不连续的拐角突起限定具有相对于彼此的横向位移的阶梯。
项目246.项目209和241中任一项的成形磨粒,其中在上表面处的所述拐角圆度不同于在底表面处的拐角圆度,并且其中所述上表面具有比所述底表面更低的表面积。
项目247.项目209和241中任一项的成形磨粒,其中所述微突起限定锯齿状边缘。
项目248.项目205、206、207、208和209中任一项的成形磨粒,其中所述本体具有包含圆齿状形貌的表面。
项目249.项目210和248中任一项的成形磨粒,其中所述圆齿状形貌在所述本体的至少一个表面的表面积的大部分上延伸。
项目250.项目210和248中任一项的成形磨粒,其中所述圆齿状形貌在所述本体的至少一个表面的整个表面积的大部分上延伸。
项目251.项目210和248中任一项的成形磨粒,其中所述圆齿状形貌限定具有在弯曲突起之间延伸的嵴的多个弯曲突起。
项目252.项目210和248中任一项的成形磨粒,其中所述圆齿状形貌包括多个细长突起,每个突起具有长度、宽度和高度,其中每个突起具有在宽度和高度的方向上延伸的弧形轮廓。
项目253.项目252的成形磨粒,其中所述每个细长突起的长度在所述本体的长度的方向上基本上延伸。
项目254.项目252的成形磨粒,其中至少一个细长突起的长度为至少约0.8(l)(其中“l”为所述本体的长度)、至少约09(l)、或至少约1(l)。
项目255.项目252的成形磨粒,其中所述多个细长突起具有小于所述平均宽度(wep)的平均高度,其中所述多个细长突起的平均高度不大于约0.9(wep)、或不大于约0.8(wep)、或不大于约0.7(wep)、或不大于约0.6(wep)、或不大于约0.5(wep)、或不大于约0.4(wep)、或不大于约0.3(wep)、或不大于约0.2(wep)、或不大于约0.1(wep)。
项目256.项目255的成形磨粒,其中所述多个细长突起的平均高度不大于约500微米、或不大于约400微米、或不大于约300微米、或不大于约250微米、或不大于约200微米、或不大于约150微米、或不大于约100微米、或不大于约90微米、或不大于约70微米、或不大于约50微米。
项目257.项目252的成形磨粒,其中所述多个细长突起包含小于所述平均长度的平均宽度。
项目258.项目252的成形磨粒,其中所述多个细长突起具有小于所述本体长度(l)的平均宽度,其中所述多个细长突起的平均宽度不大于约0.9(l)、或不大于约0.8(l)、或不大于约0.7(l)、或不大于约0.6(l)、或不大于约0.5(l)、或不大于约0.4(l)、或不大于约0.3(l)、或不大于约0.2(l)、或不大于约0.1(l)。
项目259.项目252的成形磨粒,其中所述多个细长突起的平均宽度为至少约0.001(l)、或至少约0.01(l)。
项目260.项目252的成形磨粒,其中所述多个细长突起的平均宽度不大于约500微米、或不大于约400微米、或不大于约300微米、或不大于约250微米、或不大于约200微米。
项目261.项目210和248中任一项的成形磨粒,其中所述圆齿状形貌与限定所述本体的至少一个拐角的边缘相交,并且限定沿着所述边缘的长度具有锯齿状轮廓的边缘。
项目262.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体包含在共同边缘处连接在一起的至少4个主表面。
项目263.项目262的成形磨粒,其中所述至少4个主表面具有基本上相同的表面积。
项目264.项目262的成形磨粒,其中所述本体包含四面体形状。
项目265.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体包含选自下述的三维形状:多面体、棱锥、椭圆体、球体、棱柱体、圆柱体、圆锥体、四面体、立方体、长方体、菱面体、截断棱锥、截断椭圆体、截断球体、截锥、五面体、六面体、七面体、八面体、九面体、十面体、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄文字母字符、火山形状、单站形状及其组合。
项目266.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体包含包括本体长度(Lb)、本体宽度(Wb)和本体厚度(Tb)的三维形状,并且其中Lb>Wb、Lb>Tb和Wb>Tb。
项目267.项目266的成形磨粒,其中所述本体包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第一纵横比(Lb:Wb)。
项目268.项目266的成形磨粒,其中所述本体包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第二纵横比(Lb:Tb)。
项目269.项目266的成形磨粒,其中所述本体包含至少约1:1、或至少约2:1、或至少约3:1、或至少约5:1、或至少约10:1且不大于约1000:1的第三纵横比(Wb:Tb)。
项目270.项目266的成形磨粒,其中所述本体包含选自下述的在由所述本体长度和所述本体宽度限定的平面中的横截面形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄语字母字符及其组合。
项目271.项目266的成形磨粒,其中所述本体包含选自下述的在由所述本体长度和所述本体厚度限定的平面中的横截面形状:三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄语字母字符及其组合。
项目272.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体基本上不含粘合剂,其中所述本体基本上不含有机材料。
项目273.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体包含多晶材料,其中所述多晶材料包含晶粒,其中所述晶粒选自氮化物、氧化物、碳化物、硼化物、氮氧化物、金刚石及其组合的材料,其中所述晶粒包含选自下述氧化物的氧化物:氧化铝、氧化锆、氧化钛、氧化钇、氧化铬、氧化锶、氧化硅及其组合,其中所述晶粒包含氧化铝,其中所述晶粒基本上由氧化铝组成。
项目274.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体由晶种溶胶凝胶形成。
项目275.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体包含具有不大于约1微米的平均晶粒尺寸的多晶材料。
项目276.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体是包含至少约2个不同类型的组合物的复合物。
项目277.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体包含添加剂,其中所述添加剂包含氧化物,其中所述添加剂包含金属元素,其中所述添加剂包含稀土元素。
项目278.项目277的成形磨粒,其中所述添加剂包含掺杂剂材料,其中所述掺杂剂材料包括选自下述的元素:碱金属元素、碱土金属元素、稀土元素、过渡金属元素及其组合,其中所述掺杂剂材料包含选自下述的元素:铪、锆、铌、钽、钼、钒、锂、钠、钾、镁、钙、锶、钡、钪、钇、镧、铯、镨、铬、钴、铁、锗、锰、镍、钛、锌及其组合。
项目279.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述本体作为固定磨料的一部分联接至基材,其中所述固定研磨制品选自粘结研磨制品、涂覆研磨制品及其组合。
项目280.项目279的成形磨粒,其中所述基材是背衬,其中所述背衬包含织造材料,其中所述背衬包含非织造材料,其中所述背衬包含有机材料,其中所述背衬包含聚合物,其中所述背衬包含选自下述的材料:布、纸、膜、织物、羊毛织物、硫化纤维、织造材料、非织造材料、织带、聚合物、树脂、酚醛树脂、酚醛胶乳树脂、环氧树脂、聚酯树脂、脲甲醛树脂、聚酯、聚氨酯、聚丙烯、聚酰亚胺及其组合。
项目281.项目280的成形磨粒,其中所述背衬包含选自催化剂、偶联剂、固化剂、抗静电剂、悬浮剂、抗荷载剂、润滑剂、润湿剂、染料、填料、粘度调节剂、分散剂、消泡剂和研磨剂的添加剂。
项目282.项目280的成形磨粒,所述成形磨粒还包括上覆所述背衬的粘接层,其中所述粘接层包含底胶,其中所述底胶上覆所述背衬,其中所述底胶直接粘结至所述背衬的一部分,其中所述底胶包含有机材料,其中所述底胶包含聚合物材料,其中所述底胶包含选自下述的材料:聚酯、环氧树脂、聚氨酯、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚硅氧烷、有机硅、乙酸纤维素、硝酸纤维素、天然橡胶、淀粉、虫胶及其组合。
项目283.项目282的成形磨粒,其中所述粘接层包含复胶,其中所述复胶上覆所述多个成形磨粒的一部分,其中所述复胶上覆底胶,其中所述复胶直接粘结至所述多个成形磨粒的一部分,其中所述复胶包含有机材料,其中所述复胶包含聚合物材料,其中所述复胶包含选自下述的材料:聚酯、环氧树脂、聚氨酯、聚酰胺、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚硅氧烷、有机硅、乙酸纤维素、硝酸纤维素、天然橡胶、淀粉、虫胶及其组合。
项目284.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述成形磨粒是多个第一类成形磨粒的部分,其中所述第一类成形磨粒中的大多数联接至疏涂层中的背衬,其中所述疏涂层包含不大于约70个粒子/cm2、或不大于约65个粒子/cm2、或不大于约60个粒子/cm2、或不大于约55个粒子/cm2、或不大于约50个粒子/cm2、或至少约5个粒子/cm2、或至少约10个粒子/cm2的涂覆密度。
项目285.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述成形磨粒是多个第一类成形磨粒的部分,其中所述第一类成形磨粒中的大多数联接至紧密涂层中的背衬,其中具有在背衬上的成形磨粒的掺和物的紧密涂层,其中所述紧密涂层包含至少约75个粒子/cm2、或至少约80个粒子/cm2、或至少约85个粒子/cm2、或至少约90个粒子/cm2、或至少约100个粒子/cm2的涂覆密度。
项目286.项目205、206、207、208、209和210中任一项的成形磨粒,其中所述成形磨粒是包括多个第一类成形磨粒和第三类成形磨粒的掺和物的部分,其中所述第三类成形磨粒包含成形磨粒,其中所述第三类成形磨粒包含稀释剂类型的磨粒,其中所述稀释剂类型的磨粒包含不规则形状。
项目287.项目286的成形磨粒,其中所述磨粒的掺和物包含多个成形磨粒,并且其中所述多个成形磨粒中的每个成形磨粒以相对于背衬的受控取向排列,所述受控取向包括预定旋转取向、预定横向取向和预定纵向取向中的至少一种。
项目288.一种使用低压注射成型过程形成成形磨粒的方法。
项目289.项目288的方法,其中所述低压注射成型包括使用层流条件用成型材料填充模具。
项目290.项目288的方法,其中所述层流条件基于所述成型材料的流变学、所述模具的形状、模具材料及其组合中的至少一种。
实例
实例1
通过制备包括在水中的39重量%勃姆石和α氧化铝种子的混合物来制备印刷材料。加入硝酸以将混合物的pH调整至4。印刷材料随后转移至容器,使用真空泵除去空气,并且在室温下老化最高达30天或直至流变特性足以用于印刷。印刷材料随后被装载到机械浇铸单元的沉积组件内,所述机械浇铸单元作为具有Tungsten Palm控制器和EFD 1.2软件的EFD Ultra TT 525商购可得。沉积组件包括具有100μm的喷嘴宽度、大约6.35mm或3mm的喷嘴尖端长度的喷嘴。印刷材料具有大约750Pa的静态屈服应力、大约450Pa的动态屈服应力。印刷材料为在100s-1的剪切率下具有9000Pa s的表观粘度的剪切稀化混合物。
小心地调整喷嘴高度和触觉高度传感器,使得通过打印机使用的高度测量是准确的。沉积印刷材料的初始行以逐出空气且调整沉积压力、沉积速率、沉积体积和分配间隙。基于印刷材料的流变学特征,评估且调整某些工艺参数例如沉积速率、沉积压力和分配间隙,直至打印行具有与喷嘴宽度大约相同的宽度。压力为大约0.5MPa(70psi),沉积速率为大约3mm/s,并且分配间隙为大约100μm。
将用于形成具有三角形形状的成形磨粒的程序(包括相同尺寸的6层的沉积)装载到控制器上。填充模式包括使用自外而内“escargot”过程沉积具有三角形二维形状的第一层。移动前延迟为0.1秒。随后形成上覆第一层的第二层。喷嘴在第一层的停止位置上方垂直向上移动100μm。随后形成具有三角形二维形状的第二层,并且使用基于自内而外过程的填充模式形成。移动前延迟为0.3秒。使用交替的自外而内和自内而外过程在彼此之上形成四个另外层,直至形成6个层。
本体在环境条件下干燥,并且在大约1250℃下烧结90分钟。图20的成形磨粒代表根据实例1形成的成形磨粒。
实例2
使用实例1的相同印刷材料形成四面体或棱锥成形磨粒。机械浇铸参数与实例1相同,除了喷嘴宽度为150微米,并且喷嘴长度为大约6.35mm之外。此外,填充过程与实例1基本上相同,除了对于使用自内而外填充过程形成的层,移动前延迟为0.2秒之外,并且当形成棱锥形状时,层各自在尺寸中变得相继更小。成形磨粒在环境条件下干燥且在大约1250℃下烧结90分钟。图28和29的成形磨粒代表根据实例2形成的成形磨粒。
实例3
使用实例2的相同印刷材料形成火山形状的成形磨粒,除了填充过程对于层的最终分组例如约最后3层改变之外。填充模式使用如实例2中所述的交替自外而内和自内而外填充过程,除了最后一组层沉积在形状的外周周围,但不将印刷材料完全沉积到本体的内部内,以制备开口和火山形状之外。成形磨粒在环境条件下干燥,并且在大约1250℃下烧结90分钟。图27的成形磨粒代表包括开口2709的根据实例3形成的成形磨粒。
某些参考文献已证实通过某些添加剂制造技术在厘米规模上形成各种物体。然而,这些参考文献并不涉及具有本文实施例的成形磨粒特征的成形磨粒形成,所述成形磨粒特征使得成形磨粒适合用作磨料。此外,具有本文实施例的特征和尺寸(这使得它们适合于其预期用途)的成形磨粒的形成需要并非从参考文献可容易获得的知识,所述参考文献公开了在厘米规模上的制品形成。从厘米规模技术转移到毫米或微米尺寸技术需要的知识是不平凡的,并且是显著研究的结果。益处、其他优点和问题的解决方案已在上文就具体实施例而言进行描述。然而,益处、优点、问题的解决方案以及可引起任何益处、优点或解决方案发生或变得显著的任何特征不应解释为任何或所有项目的关键、所需或基本特征。
本文实施例的成形磨粒适用于固定研磨制品中,所述固定研磨制品可用于制备各种工业中的产品,包括金属加工和制造工业、汽车工业、建筑和建筑材料等等。
本文描述的实施例的详述和例证预期提供各个实施例的结构的一般理解。详述和例证不旨在充当仪器和系统的所有元件和特征的穷举和广泛描述,所述仪器和系统使用本文描述的结构或方法。分开的实施例还可在单个实施例中组合提供,并且相反,为了简洁起见,在单个实施例的背景下描述的各个特征也可分开或以任何子组合提供。此外,提及范围内陈述的值包括该范围内的每个和每一个值。仅在阅读本说明书后,许多其他实施例对于本领域技术人员可为显而易见的。其他实施例可使用且来源于本公开内容,使得可作出结构替换、逻辑替换或另一种变化,而不背离本公开内容的范围。相应地,本公开内容应视为举例说明性的而不是限制性的。
本发明提供与附图组合的前述说明书,以帮助理解本文公开的教导。下述讨论集中于教导的具体实现和实施例。本发明提供了该焦点以帮助描述教导,并且该焦点不应解释为关于教导范围或可应用性的限制。然而,其他教导当然可用于本专利申请中。
如本文使用的,术语“包含(comprises)”、“包含(comprising)”、“包括(includes)”、“包括(including)”、“具有(has)”、“具有(having)”或其任何其他变化,预期涵盖非排他性包括。例如,包含一系列特征的方法、制品或仪器不一定仅限于这些特征,而是可包括未明确列出或者此类方法、制品或仪器固有的其他特征。另外,除非明确指出相反,否则“或”指包含性或而不是排除性或。例如,条件A或B由下述中任一种满足:A是真实的(或存在的)并且B是假的(或不存在的),A是假的(或不存在的)并且B是真实的(或存在的),并且A和B均是真实的(或存在的)。
另外,“一个”或“一种”的使用用于描述本文描述的元件和部件。这仅为了方便而进行,并且给出本发明范围的一般含义。该描述应理解为包括一个或至少一个,并且单数还包括复数,或反之亦然,除非明确指出相反。例如,当本文描述单一项时,超过一个项可用于代替单一项。类似地,当本文描述超过一个项时,单一项可替换超过一个项。
除非另有定义,否则本文使用的所有技术和科学术语均具有与本发明所属领域普通技术人员通常理解相同的含义。材料、方法和实例仅是举例说明性的,并且不预期是限制性的。至本文未描述的程度,关于具体材料和加工动作的许多细节是常规的,并且可在结构领域和相应制造领域内的参考书及其他来源中找到。

Claims (16)

1.一种成形磨粒,所述成形磨粒包括具有至少一个主表面的本体,所述至少一个主表面具有自相似特征。
2.根据权利要求1所述的成形磨粒,其中所述本体包含不大于约100微米的拐角圆度。
3.根据权利要求1所述的成形磨粒,其中所述自相似特征包括二维形状的排列,所述二维形状的排列具有与所述主表面的外周基本相同的二维形状。
4.根据权利要求1所述的成形磨粒,其中所述主表面具有选自由以下所组成的群组的二维形状:正多边形、不规则正多边形、不规则形状、三角形、四边形、矩形、梯形、五边形、六边形、七边形、八边形、椭圆形、希腊字母文字、拉丁字母字符、俄语字母字符及其组合。
5.根据权利要求1所述的成形磨粒,其中所述主表面包括三角形二维形状。
6.根据权利要求1所述的成形磨粒,其中所述自相似特征包括嵌套在彼此内的多个三角形二维形状。
7.根据权利要求1所述的成形磨粒,其中所述本体具有在所述本体的侧表面的至少一部分周围延伸的至少一个外周嵴。
8.根据权利要求7所述的成形磨粒,其中所述至少一个外周嵴在所述本体的整个侧表面周围延伸。
9.根据权利要求1所述的成形磨粒,其中所述本体包括拐角,所述拐角包括从所述拐角延伸的多个微突起。
10.一种成形磨粒,所述成形磨粒包括具有拐角的本体,所述拐角包括从所述拐角延伸的多个微突起。
11.根据权利要求10所述的成形磨粒,其中所述本体包括表面,所述表面包括圆齿状形貌。
12.根据权利要求10所述的成形磨粒,其中所述微突起限定通过多个嵴分开的多个不连续的拐角突起。
13.根据权利要求12所述的成形磨粒,其中所述多个不连续的拐角突起具有相对于彼此不同的多个轮廓。
14.根据权利要求10所述的成形磨粒,其中所述微突起限定锯齿状边缘。
15.根据权利要求10所述的成形磨粒,其中所述本体包括选自由以下所组成的群组的三维形状:多面体、棱锥、椭圆体、球体、棱柱体、圆柱体、圆锥体、四面体、立方体、长方体、菱面体、截断棱锥、截断椭圆体、截断球体、截锥、五面体、六面体、七面体、八面体、九面体、十面体、希腊字母字符、拉丁字母字符、俄文字母字符、火山形状、单站形状及其组合。
16.根据权利要求1和10中任一权利要求所述的成形磨粒,其中所述本体作为固定磨料的一部分联接至基材,其中所述固定研磨制品选自由以下所组成的群组:粘结研磨制品、涂覆研磨制品及其组合。
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