CN101960610B - 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法 - Google Patents

铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101960610B
CN101960610B CN2008801240397A CN200880124039A CN101960610B CN 101960610 B CN101960610 B CN 101960610B CN 2008801240397 A CN2008801240397 A CN 2008801240397A CN 200880124039 A CN200880124039 A CN 200880124039A CN 101960610 B CN101960610 B CN 101960610B
Authority
CN
China
Prior art keywords
copper
selenium
gallium
sulphur
indium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN2008801240397A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101960610A (zh
Inventor
黄富强
王耀明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shandong Zhongke Taiyang Photoelectric Technology Co.,Ltd.
Original Assignee
Shanghai Institute of Ceramics of CAS
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Institute of Ceramics of CAS filed Critical Shanghai Institute of Ceramics of CAS
Priority to CN2008801240397A priority Critical patent/CN101960610B/zh
Publication of CN101960610A publication Critical patent/CN101960610A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101960610B publication Critical patent/CN101960610B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/032Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
    • H01L31/0322Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312 comprising only AIBIIICVI chalcopyrite compounds, e.g. Cu In Se2, Cu Ga Se2, Cu In Ga Se2
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518Deposited layers
    • H01L21/02521Materials
    • H01L21/02568Chalcogenide semiconducting materials not being oxides, e.g. ternary compounds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104Forming layers
    • H01L21/02365Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02612Formation types
    • H01L21/02617Deposition types
    • H01L21/02623Liquid deposition
    • H01L21/02628Liquid deposition using solutions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • H01L31/184Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof the active layers comprising only AIIIBV compounds, e.g. GaAs, InP
    • H01L31/1844Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof the active layers comprising only AIIIBV compounds, e.g. GaAs, InP comprising ternary or quaternary compounds, e.g. Ga Al As, In Ga As P
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/541CuInSe2 material PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/544Solar cells from Group III-V materials

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Abstract

提供一种铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法。它采用非真空液相化学方法,包括以下步骤:形成含铜、铟、镓、硫和硒的源溶液;通过非真空液相工艺将该溶液在衬底上制成前驱薄膜;以及将前驱薄膜干燥并退火,从而形成铜铟镓硫硒化合物薄膜。

Description

铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法
技术领域
本发明主要涉及铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法。属于太阳电池能源领域。
背景技术
能源和环境是人类社会可持续发展的两大战略问题,清洁可再生能源的开发和利用显得越来越重要和紧迫。太阳能是一种清洁、丰富、而且不受地域限制的可再生能源,太阳能的有效开发和利用具有十分重要的意义。太阳电池是人类有效利用太阳能的主要形式之一。铜铟镓硫硒薄膜太阳电池是新一代最有发展前途的太阳电池。它具有成本低、效率高、寿命长、弱光性能好、抗辐射能力强等多个方面的优点。但铜铟镓硫硒薄膜太阳电池至今没有产业化的主要障碍,在于其光吸收层铜铟镓硫硒薄膜的制备工艺复杂,导致电池成品率低,生产成本过高。
铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法可以分为两大类:第一类是高真空气相法,如热蒸发、磁控溅射和分子束外延等。采用这类方法所制备的小面积铜铟镓硫硒薄膜质量好,相应的电池光电转换效率高。美国可再生能源实验室(NREL)采用三步共蒸发法制备的有效面积为0.405cm2的铜铟镓硒薄膜太阳电池,其光电转换效率最高可达19.5%。但这类方法在制备大面积薄膜时难以保证薄膜的均匀性,而且制备工艺复杂,成品率低,设备投资高,原料利用率低,生产效率亦低,导致生产成本非常高,大规模生产难以实施。第二类是非真空液相法,与传统的高真空气相法相比,采用非真空液相法制备铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层可以大幅度地降低电池的生产成本,而且可以方便地制备大面积薄膜。近年来,有关非真空液相法制备铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的研究得到广泛而深入的开展,主要有以下几种:
(1)氧化物基非真空液相法
氧化物基非真空液相法的工艺流程为:①、制备含铜、铟、镓等各元素氧化物微粉的液相前驱体,②、将液相前驱体通过各种非真空工艺涂敷在衬底上得到前驱薄膜,③、将前驱薄膜经高温还原后硒化得到铜铟镓硒薄膜。Kapur等人报道的氧化物非真空液相法,其特征在于其液相前驱体中的氧化物是通过机械球磨得到的亚微米级微粉(U.S.Pat.No.6,127,202)。而Eberspacher和Pauls所报道的方法中,其中亚微米级的混合氧化物微粉是通过高温分解液滴得到的,然后将所得到的微粉超声喷射到衬底上得到前驱薄膜(U.S.Pat.No.6,268,014)。
氧化物基非真空液相法制备铜铟镓硒薄膜光吸收层虽然具有工艺成本低廉的特点,但该工艺方法的不足之处也显而易见。首先,氧化物前驱体薄膜需要在高温下用氢气(H2)还原,这需要浪费许多时间和能源。其次,由于镓的氧化物非常稳定,甚至是在非常苛刻的条件下都难以被还原完全,这将导致目标铜铟镓硒薄膜杂质含量高,镓元素掺入困难。最后,由于反应动力学的问题,经还原所得到的铜铟镓合金薄膜也难以硒化完全。
(2)喷雾热解法
喷雾热解法制备铜铟镓硫硒薄膜具有工艺成本低廉的特点,但由于该方法制备的铜铟镓硫硒薄膜杂质含量过高,薄膜平整度难以控制,大面积均匀性难以保证。
采用喷雾热解法制备的铜铟镓硒薄膜太阳电池,其光电转换效率均很低。该方法难以制备具有光伏质量的铜铟镓硒薄膜,基本不具备工业生产的潜力。
(3)电化学法
自从1983年Bhattacharya第一个采用电化学法成功沉积CuInSe2薄膜以来(J.Electrochem.Soc.130,2040,1983),有关电化学法制备铜铟镓硒薄膜的研究得到广泛而深入的开展。Bhattacharya采用二步法,即在电化学沉积一层富铜的铜铟镓硒薄膜后,又在该薄膜上蒸镀铟、镓、硒等元素,以调整薄膜的成分,使之满足太阳电池的要求。通过该工艺制备的铜铟镓硒太阳电池光电转换效率为15.4%(Thin Solid Films 361-362,396,2000),这是目前通过电化学法制备的铜铟镓硒薄膜太阳电池的最高效率。
电化学法制备铜铟镓硒薄膜具有价格低廉的,原料利用率高,沉积大面积薄膜容易等优点。但由于铜与铟、镓的沉积电位难以匹配,制备的铜铟镓硒薄膜易大量富铜,薄膜的化学计量难以控制,杂质相成分很高。为了调整铜铟镓硒薄膜中各元素的计量,往往需要后续物理气相法的辅助,这将大幅度地增加薄膜制备的工艺成本。
(4)非氧化物基非真空液相法
非氧化物基非真空液相法是Nanosolar公司开发的一种制备铜铟镓硒薄膜的新工艺(U.S.Pat.No.7,306,823)。该工艺的特点是首先制备铜或铟或镓或硒等元素的纳米粒子或量子点,再在该纳米粒子或量子点的表面包覆一层或多层含铜、铟、镓、硫、硒等元素的涂层,通过控制涂层的成分和涂层的厚度,控制包覆纳米粒子中各元素的化学计量比。将得到的包覆纳米粒子分散在一定溶剂中形成浆料,将制得的浆料经印刷、打印等非真空工艺形成前驱薄膜,然后通过快速退火形成铜铟镓硒薄膜。
该工艺具有成本低廉、原料利用率高、可使用柔性衬底、易制备大面积薄膜等特点,但由于使用的是纳米颗粒,纳米颗粒的粒径大小、粒径分布、表面形貌和化学计量等多种参数都需要严格的控制,致使该工艺控制困难,过程复杂,可重复性难以得到保证。
由以上可以看出,现有的铜铟镓硫硒薄膜的制备方法存在各种各样的缺陷,开发一种新型制备方法以克服上述方法的缺陷,对铜铟镓硫硒薄膜太阳电池的产业化无疑是一种巨大的推动,具有十分重要的意义。
发明内容
本发明目的在于提供一种新的铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法。
为此,本发明提供一种新的新的铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法,它采用非真空液相化学方法,其制备工艺流程包括以下几个步骤:
①、将铜、铟、镓的硫族化合物或卤族化合物,和硫、硒的单质或胺类盐或肼类盐溶解于含有强配位基团的溶剂中,并加入一定的溶液调节剂,形成稳定的铜、铟、镓、硫、硒的源溶液;
②、将①所得到的各种源溶液按铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层Cu1-xIn1-yGaySe2-zSz(其中0≤x≤0.3,0≤y≤1,0≤z≤2)中铜、铟、镓的化学计量比,和过量的硫和硒,配置成含铜、铟、镓、硫、硒的混合溶液;
③、将步骤②制备的混合溶液通过各种非真空液相工艺,在各种衬底上制备出前驱薄膜;
④、将步骤③制备的前驱薄膜,经干燥,并退火后,形成目标铜铟镓硫硒化合物薄膜。
附图概述
图1铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液制备工艺流程图;
图2铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液在160℃下干燥后所得到粉体的X射线衍射图;
图3在石英衬底上制备的铜铟镓硫硒薄膜的X射线衍射图;
图4在石英衬底上制备的铜铟镓硫硒薄膜的紫外-可见透射光谱图;
图5在石英衬底上制备的铜铟镓硫硒薄膜的正面和断面扫描电镜图;
图6铜铟镓硫硒薄膜的高分辨电镜图;
图7铜铟镓硫硒薄膜太阳电池结构示意图。
本发明的最佳实施方案
发明人经过大量实验和研究发现,采用新的非真空液相化学方法,可以达到以下优点:工艺简单,成本低廉,设备投资少,原料利用率高,可控性强,可重复性好,易于实现大面积、高质量薄膜的制备和大规模生产。在此基础上完成了本发明。
如本文所用,所述的“芳香基”,包括含有6个碳原子的单环芳烃,10个碳原子的双环芳烃,14个碳原子的三环芳烃,并且每个环上可以有1-4个取代基。例如,芳香基包括但不限于苯基、萘基、蒽基。
步骤①
本发明的步骤①中,将铜、铟、镓的硫族化合物或卤族化合物,和硫、硒的单质或胺类盐或肼类盐溶解于含有强配位基团的溶剂中,并加入一定的溶液调节剂,形成稳定的铜、铟、镓、硫、硒的源溶液。
其中①中所述的硫族化合物包括M2Q,其中M为铜(Cu),Q为硫(S)、硒(Se)、碲(Te)中的一种或几种的混合。如相应的硫族化合物可以是但不限于Cu2S,Cu2Se,Cu2(S,Se)等。
其中①中所述的硫族化合物还包括MQ,其中M为铜(Cu),Q为硫(S)、硒(Se)、碲(Te)中的一种或几种的混合。如相应的硫族化合物可以是但不限于CuS,CuSe,Cu(S,Se)等。
其中①中所述的硫族化合物还包括M’2Q3,M’为铟(In)、镓(Ga)中一种或两种的混合,Q为硫(S)、硒(Se)、碲(Te)中的一种或几种的混合。如相应的硫族化合物可以是但不限于In2Se3,Ga2Se3,(In,Ga)2Se3,(In,Ga)2(S,Se)3等。
其中①中所述的硫族化合物还包括MM’Q,其中M为铜(Cu),M’为铟(In)、镓(Ga)中一种或两种的混合,Q为硫(S)、硒(Se)、碲(Te)中的一种或几种的混合。如相应的硫族化合物可以是但不限于CuInS2,Cu(In,Ga)Se2,Cu(In,Ga)(S,Se)2等。
其中①中所述的卤族化合物包括MX,M为铜(Cu),X为氯(Cl)、溴(Br)、碘(I)中的一种或几种的混合。如相应的卤族化合物可以是但不限于CuI,CuBr,Cu(Br,I)等。
其中①中所述的卤族化合物还包括MX2,M为铜(Cu),X为氯(Cl)、溴(Br)、碘(I)中的一种或几种的混合。如相应的卤族化合物可以是但不限于CuI2,CuBr2,Cu(Br,I)2等。
其中①中所述的卤族化合物还包括M’X3,M’为铟(In)、镓(Ga)中一种或两种的混合,X为氯(Cl)、溴(Br)、碘(I)中的一种或几种的混合。如相应的卤族化合物可以是但不限于InI3,GaI3,(In,Ga)I3,(In,Ga)(Br,I)3等。
其中①中所述的硫族化合物还包括MM’X4,其中M为铜(Cu),M’为铟(In)、镓(Ga)中一种或两种的混合,X为氯(Cl)、溴(Br)、碘(I)中的一种或几种的混合。如相应的硫族化合物可以是但不限于CuInI4,Cu(In,Ga)I4,Cu(In,Ga)(I,Br)4等。
所述步骤①中,铜、铟、镓的硫族化合物和卤族化合物可以单独使用,也可以混合使用。
此外,应当理解,所述铜、铟、镓的源溶液可以合并配置,也可以单独配置。在单独配置时,可以先配置单独的源溶液,需要时将多种源溶液(例如根据化学计量比)进行混合。例如,制备铜和铟的源溶液、以及镓的源溶液,在需要时将二者合并获得铜铟镓硫硒薄膜的前驱物。
所述步骤①中,铜、铟、镓的硫族化合物或卤族化合物、与硫、硒的单质或胺类盐或肼类盐之间的配比根据产物的需要进行调节。也即,其配比和用量根据铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层Cu1-xIn1-yGaySe2-zSz(其中0≤x≤0.3,0≤y≤1,0≤z≤2)中铜、铟、镓的化学计量比而确定。
其中①中所述的含有强配位基团的溶剂包括:水(H2O)、液氨(NH3)、肼类化合物(R4R5N-NR6R7)、低级醇、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、环定砜、吡咯烷酮中的一种或几种的混合物。优选地是,所述含有强配位基团的溶剂包括:液氨、肼类化合物(R4R5N-NR6R7)、二乙醇胺、三乙醇胺或其组合。其中肼类化合物(R4R5N-NR6R7)中的R4、R5、R6、R7分别独立表示芳香基、氢基、甲基、乙基、3-6个碳原子的烷基。低级醇包括:甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、仲丁醇、叔丁醇、戊醇、旋光性戊醇、异戊醇、仲戊醇、叔戊醇、仲异戊醇。如本文所用,本发明所述的烷基包括直链或支链烷基。所述烷基还可以是环状烷基。
本领域技术人员可以理解,为了使得所得到的溶液更为稳定,还可以加入溶液调节剂。其中①中所述的溶液调节剂包括:(1)硫族元素,(2)过渡金属,(3)碱金属硫族化合物,(4)碱土金属硫族化合物,(5)硫族元素胺类盐,(6)碱金属,(7)碱土金属。其中的硫族元素包括:硫(S)、硒(Se)、碲(Te)中的一种或几种;过渡金属包括:镍(Ni)、钯(Pd)、铂(Pt)、铑(Rh)、铱(Ir)、钌(Ru)中的一种或几种的合金或混合物;碱金属硫族化合物包括:A2Q,其中A为锂(Li)、钠(Na)、钾(K)、铷(Rb)、铯(Cs)中的一种或几种,Q为硫(S)、硒(Se)、碲(Te)中的一种或几种;碱土金属硫族化合物包括:BQ,其中B为镁(Mg)、钙(Ca)、锶(Sr)、钡(Ba)中的一种或几种,Q为硫(S)、硒(Se)、碲(Te)中的一种或几种;硫族元素胺类盐包括硫化氢(H2S),硒化氢(H2Se)或碲化氢(H2Te)与N-R1R2R3形成的各种盐中的一种或几种的混合物,其中R1、R2、R3分别独立表示芳香基、氢基、甲基、乙基、3-6个碳原子的烷基;碱金属包括:锂(Li)、钠(Na)、钾(K)、铷(Rb)、铯(Cs)中的一种或几种的合金或混合物;碱土金属包括:镁(Mg)、钙(Ca)、锶(Sr)、钡(Ba)中的一种或几种的合金或混合物。
应当理解,如果源溶液足够稳定,则可以不需要加入溶液调节剂。所述溶液调节剂的加入量根据需要而定,只要使得溶液稳定即可。这对于本领域技术人员是已知的。
所述溶液调节剂的组分可以进行分离。例如通过过滤的方法除去上述溶液调节剂中的组分。应当理解,某些溶液调节剂的组分在源溶液中的残留不会对目标产物造成影响,因此可以不必分离。
步骤②
本发明的步骤②中将①所得到的各种源溶液按铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层Cu1-xIn1-yGaySe2-zSz(其中0≤x≤0.3,0≤y≤1,0≤z≤2)中铜、铟、镓的化学计量比,和过量的硫和硒,配置成含铜、铟、镓、硫、硒的混合溶液。
步骤②的Cu1-xIn1-yGaySe2-zSz式中优选0≤x≤0.3,0.2≤y≤0.4,0≤z≤0.2。
其中②中所述的硫、硒过量,其过量程度为0%~800%,优选为100%~400%。其过量程度根据目标铜铟镓硫硒化合物薄膜的需要而定。
步骤③
本发明的步骤③中将步骤②制备的混合溶液通过各种非真空液相工艺,在各种衬底上制备出前驱薄膜。
其中③中所述的非真空工艺包括:(1)旋涂法(Spin-coating),(2)流延法(Tape-casting),(3)喷雾沉积法(Spray-deposition),(4)提拉法(Dip-coating),(5)丝网印刷法(Screen-printing),(6)喷墨打印法(Ink-jetprinting),(7)滴注成膜法(Drop-casting),(8)滚涂法(Roller-coating),(9)模缝涂布法(Slot Die Coating),(10)平棒涂布法(Meiyerbar coating),(11)毛细管涂布法(Capillary coating),(12)Comma涂布法(Comma-coating),(13)凹版涂布法(Gravure-coating)等各种非真空工艺。
其中③中所述的衬底包括:聚酰亚胺、硅片、非晶氢化硅片、碳化硅、二氧化硅、石英、蓝宝石、玻璃、金属、类金刚石碳、氢化类金刚石碳、氮化镓、砷化镓、锗、硅锗合金、ITO、碳化硼、氮化硼、氮化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锡、钛酸锌、塑料等。
步骤④
本发明的步骤④中将步骤③制备的前驱薄膜,经干燥,并退火后,形成目标铜铟镓硫硒化合物薄膜。
其中④的干燥可以在室温~80℃进行。所述干燥也可以在其它温度范围进行,只要不对本发明的发明目的产生限制即可。
其中④中所述的前驱薄膜退火温度为50℃~850℃,优选为250℃~650℃。
其中④中所述的目标铜铟镓硫硒化合物薄膜的化学成分为Cu1-xIn1-yGaySe2-zSz,其中0≤x≤0.3,0≤y≤1,0≤z≤2。
其中④中所述的目标铜铟镓硫硒化合物薄膜的厚度可以根据需要而确定。例如为5nm~5000nm,优选为100nm~3000nm。
优点
本发明所提供的铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的非真空液相化学制备方法,与传统的高真空气相法相比,其工艺简单,成本低廉,可控性强,可重复性好,易于实现大面积、高质量薄膜的制备和大规模生产,而且设备投资少,原料利用率高,可大幅度降低铜铟镓硫硒薄膜太阳电池的生产成本,促进铜铟镓硫硒薄膜太阳电池产业化的快速发展。
而且,本发明所提供方法,与现有的非真空液相法相比,它既不存在氧化物基非真空液相法中前驱薄膜硒化不完全的问题,也不存在Nanosolar所开发的非氧化物基非真空液相法所需要的对包覆纳米粒子的复杂控制问题,也不存在电化学沉积法中薄膜的化学计量难以控制的问题,还不存在喷雾热解法中薄膜的杂质元素含量过高的问题。
本发明所提供的方法可以方便地在原子尺度的级别上实现对目标铜铟镓硫硒薄膜中各元素化学计量的精确控制和连续可调;同时,还可以通过制备多层膜和调整各层膜的化学成分,实现对目标铜铟镓硫硒化合物薄膜中各元素分布的有效控制。
本发明所提供的方法具有退火温度低,所制备的薄膜成分均匀性好,表面平整度高,结晶性好,取向度高,杂质含量少,可使用各种衬底,包括聚酰亚胺等有机柔性衬底,可方便的调整薄膜中各元素的化学计量比及其分布,易于制备大面积高质量的铜铟镓硫硒化合物薄膜,并且铜、铟、镓、硫、硒等原料的利用率几乎可高达100%。
本发明的其他方面由于本文的公开内容,对本领域的技术人员而言是显而易见的。
下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。应理解,这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。下列实施例中未注明具体条件的实验方法,通常按照常规条件,或按照制造厂商所建议的条件进行。除非另外说明,否则所有的份数为重量份,所有的百分比为重量百分比。
除非另有定义或说明,本文中所使用的所有专业与科学用语与本领域技术熟练人员所熟悉的意义相同。此外任何与所记载内容相似或均等的方法及材料皆可应用于本发明方法中。
实施例1:
1、铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
(a)含铜铟溶液的制备
取1mmol硫硒化亚铜Cu2(S,Se),0.5mmol三硒化二铟In2Se3,0.2mmol三碘化铟InI3,0~8mmol硫S和0~8mmol硒Se,加入2~16ml甲基肼,乙醇胺和二甲基亚砜的混合溶剂中,其中甲基肼,乙醇胺和二甲基亚砜的体积比为1~3∶1~6∶1~8,经搅拌得到澄清的溶液。
(b)含镓溶液的制备。
取0.6mmol三硒化二镓Ga2Se3,0.3mmol三溴化镓GaBr3,0.1mmol三碘化镓GaI3,0~8mmol硒Se和微量的钌粉,加入1~8ml甲基肼,乙醇胺和二甲基亚砜的混合溶剂中,其中甲基肼,乙醇胺和二甲基亚砜的体积比为1~3∶1~6∶1~8,充分搅拌后,经0.2μm孔径的过滤器过滤后,得到澄清的含镓溶液。
(c)铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
按铜铟镓硫硒薄膜中铜、铟、镓的化学计量比,取相应体积的上述含铜铟溶液和含镓溶液进行混合,得到铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液。
2、铜铟镓硫硒薄膜的制备
将上述得到的铜铟镓硫硒前驱溶液通过一定的非真空制膜工艺(旋涂法、流延法、印刷法、打印法等)在衬底上制备出铜铟镓硫硒前驱薄膜;将前驱薄膜在低温(室温~80℃)下干燥后,经高温(250℃~650℃)快速退火形成铜铟镓硫硒薄膜。
3、铜铟镓硫硒薄膜的表征
(a)物相表征
将铜铟镓硫硒前驱溶液在干燥的惰性气流中于120℃~200℃下干燥,得到黑色的粉体,将该粉体进行X射线衍射表征(如图3),结果表明所得到的粉体是铜铟镓硫硒相。将在石英衬底上所制备的铜铟镓硫硒薄膜进行X射线衍射表征(如图3),X射线衍射图谱表明薄膜为铜铟镓硫硒相,而且具有较强的(112)取向。
(b)电学性能表征
采用四电极法在Accent HL5500霍尔仪上测定薄膜的电学性能,测试结果(如表1)表明所制备的铜铟镓硫硒薄膜满足铜铟镓硫硒太阳电池器件的要求。
表1
Figure GPA00001022633700101
(c)光学性能表征
将在石英衬底上制备的铜铟镓硫硒薄膜进行紫外-可见透射光谱的测试,测试结果(如图4)表明,所制备的铜铟镓硫硒薄膜其禁带宽度满足铜铟镓硫硒太阳电池器件的要求。
(d)微结构表征
将所制备的铜铟镓硫硒薄膜进行微结构表征,图5左边为铜铟镓硫硒薄膜的正面扫描电镜图,右边为铜铟镓硫硒薄膜的断面扫描电镜图,由图可以看出,所制备的铜铟镓硫硒薄膜表面平整度高,成分均一性好,结晶程度高。图6为铜铟镓硫硒薄膜的高分辨透射电镜图,由图可以看出,薄膜的结晶性好,其中晶面间距为0.331nm,与铜铟镓硫硒晶体的(112)晶面间距相对应。
4、铜铟镓硫硒薄膜太阳电池器件的制备
在所制备的铜铟镓硫硒薄膜上,沉积厚度为50nm左右的缓冲层,然后制备窗口层和叉指电极,最后沉积减反膜,即得到铜铟镓硫硒薄膜太阳电池单电池器件,电池结构如图7所示。所制备的铜铟镓硫硒薄膜太阳能电池单电池,经优化后,有效面积为1.5cm2的单电池,其光电转换效率可达13%。
实施例2:
1、铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
(a)含铜溶液的制备
取1mmol碘化亚铜CuI,加入2~16ml乙二胺,经充分搅拌得到澄清的溶液。
(b)含铟溶液的制备
取1mmol碘化铟,4~8mmol硒Se,加入1~8ml甲基肼和正丁醇的混合溶剂中,其中甲基肼和正丁醇的体积比为1~3∶1~8,充分搅拌后,经0.2μm孔径的过滤器过滤后,得到澄清的含铟溶液。
(c)含镓溶液的制备
取1mmol三碘化镓GaI3,4~8mmol硒Se,加入1~8ml甲基肼和正丁醇的混合溶剂中,其中甲基肼和正丁醇的体积比为1~3∶1~8,充分搅拌后,经0.2μm孔径的过滤器过滤后,得到澄清的含镓溶液。
(d)铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
按铜铟镓硫硒薄膜中铜、铟、镓的化学计量比,取相应体积的上述含铜铟溶液和含镓溶液进行混合,得到铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液。
2、铜铟镓硫硒薄膜的制备
将上述得到的铜铟镓硫硒前驱溶液通过一定的非真空制膜工艺(旋涂法、流延法、印刷法、打印法等)在衬底上制备出铜铟镓硫硒前驱薄膜;将前驱薄膜在低温(室温~80℃)下干燥后,经高温(250℃~650℃)快速退火形成铜铟镓硫硒薄膜。
3、铜铟镓硫硒薄膜的表征
(a)物相表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(b)电学性能表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(c)光学性能表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(d)微结构表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
4、铜铟镓硫硒薄膜太阳电池器件的制备同实施例1,测试结果与实施例1类似。
实施例3:
1、铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
(a)含铜硒溶液的制备
取1mmol氯化亚铜CuCl,加入2~16ml乙二胺,十二硫醇和N,N-二甲基甲酰胺的混合溶剂中,其中乙二胺,十二硫醇和N,N-二甲基甲酰胺的体积比为1~8∶1~3∶1~6,经充分搅拌得到澄清的含铜溶液。取2~6mmol硒Se,加入4~16ml乙二胺,在80℃下充分搅拌回流得到澄清的乙二胺硒溶液。将得到的乙二胺硒溶液在搅拌下加入到上述的含铜溶液中,得到含铜硒溶液。
(b)含铟溶液的制备
取1mmol三碘化铟InI3,加入2~16ml乙醇和异丙醇的混合溶剂中,其中乙醇和异丙醇的体积比为1~3∶1~6,经充分搅拌得到澄清的含铟溶液。
(c)含镓溶液的制备
取1mmol三碘化镓GaI3,加入2~16ml乙醇和异丙醇的混合溶剂中,其中乙醇和异丙醇的体积比为1~3∶1~6,经充分搅拌得到澄清的含铟溶液。
(d)铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的配置方法同实施例1。
2、铜铟镓硫硒薄膜的制备
铜铟镓硫硒薄膜的制备方法同实施例1。
3、铜铟镓硫硒薄膜的表征
(a)物相表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(b)电学性能表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(c)光学性能表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(d)微结构表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
4、铜铟镓硫硒薄膜太阳电池器件的制备同实施例1,测试结果与实施例1类似。
实施例4:
1、铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
(a)含铜溶液的制备
取1mmol氯化亚铜CuCl,加入2~16ml乙二胺,十二硫醇和N,N-二甲基甲酰胺的混合溶剂中,其中乙二胺,十二硫醇和N,N-二甲基甲酰胺的体积比为1~8∶1~3∶1~6,经充分搅拌得到澄清的含铜溶液。取2~6mmol硒Se,加入4~16ml二甲基肼,经充分搅拌到澄清的二甲基肼硒溶液。将得到的二甲基肼硒溶液在搅拌下加入到上述的含铜溶液中,得到含铜硒溶液。
(b)含铟镓溶液的制备
取1mmol三碘化铟镓(In,Ga)I3,加入2~16ml乙醇和异丙醇的混合溶剂中,其中乙醇和异丙醇的体积比为1~3∶1~6,经充分搅拌得到澄清的含铟溶液。
(c)铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的配置方法同实施例1。
2、铜铟镓硫硒薄膜的制备
铜铟镓硫硒薄膜的制备方法同实施例1。
3、铜铟镓硫硒薄膜的表征
(a)物相表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(b)电学性能表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(c)光学性能表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(d)微结构表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
4、铜铟镓硫硒薄膜太阳电池器件的制备同实施例1,测试结果与实施例1类似。
实施例5:
1、铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
(a)含铜溶液的制备
取1mmol硫化铜CuS,2mmol硫化铵(NH4)2S,加入2~16ml三乙醇胺,水合肼和二甲基亚砜的混合溶剂中,其中三乙醇胺,水合肼和二甲基亚砜的体积比为1~8∶1~3∶1~6,经充分搅拌得到澄清的含铜溶液。取2~6mmol硒Se,加入4~16ml水合肼,在80℃下经充分搅拌回流到澄清的水合肼硒溶液。将得到的水合肼硒溶液在搅拌下加入到上述的含铜溶液中,得到含铜硒溶液。
(b)含铟镓溶液的制备
取1mmol三碘化铟镓(In,Ga)I3,加入2~16ml乙醇和异丙醇的混合溶剂中,其中乙醇和异丙醇的体积比为1~3∶1~6,经充分搅拌得到澄清的含铟镓溶液。
(c)铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的配置方法同实施例1。
2、铜铟镓硫硒薄膜的制备
铜铟镓硫硒薄膜的制备方法同实施例1。
3、铜铟镓硫硒薄膜的表征
(a)物相表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(b)电学性能表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(c)光学性能表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(d)微结构表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
4、铜铟镓硫硒薄膜太阳电池器件的制备同实施例1,测试结果与实施例1类似。
实施例6:
1、铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
(a)含铜溶液的制备
取1mmol二硒化铜铟CuInSe2,2mmol硫化铵(NH4)2S,加入2~16ml乙二胺,无水肼和二甲基亚砜的混合溶剂中,其中乙二胺,无水肼和二甲基亚砜的体积比为1~3∶1~8∶1~6,在低温下经充分搅拌,经0.2μm孔径的过滤器过滤后,得到澄清的含铜溶液。
(b)含铟镓溶液的制备
取1mmol三硒化二铟镓(In,Ga)2Se3,加入2~16ml乙二胺和无水肼的混合溶剂中,其中乙二胺和无水肼的体积比为1~3∶1~6,经充分搅拌得到澄清的含铟镓溶液。
(c)铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的制备
铜铟镓硫硒薄膜前驱溶液的配置方法同实施例1。
2、铜铟镓硫硒薄膜的制备
铜铟镓硫硒薄膜的制备方法同实施例1。
3、铜铟镓硫硒薄膜的表征
(a)物相表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(b)电学性能表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(c)光学性能表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
(d)微结构表征方法同实施例1,表征结果与实施例1类似。
4、铜铟镓硫硒薄膜太阳电池器件的制备同实施例1,测试结果与实施例1类似。

Claims (14)

1.一种铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法,其特征在于采用非真空液相化学方法制备的工艺步骤为:
①、将铜、铟、镓的硫族化合物或卤族化合物,和硫、硒的单质或胺类盐或肼类盐溶解于含有强配位基团的溶剂中,并加入一定的溶液调节剂,形成稳定的铜、铟、镓、硫、硒的源溶液;
②、将①所得到的各种源溶液按铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层Cu1-xIn1-yGaySe2-zSz式中铜、铟、镓的化学计量比,和过量的硫、硒,配置成含铜、铟、镓、硫、硒的混合溶液;所述的硫或硒过量程度为0-800%;式中0≤x≤0.3,0≤y≤1,0≤z≤2;
③、将步骤②制备的混合溶液通过各种非真空液相工艺,在各种衬底上制备出前驱薄膜;
④、将步骤③制备的前驱薄膜,经干燥,并退火后,形成目标铜铟镓硫硒化合物薄膜。
2.按权利要求1所述的制备方法,其特征在于:
步骤①中所述的铜、铟、镓的硫族化合物为MQ,其中M为铜,Q为硫、硒和碲中的一种或几种的混合;或
步骤①中所述的铜、铟、镓的硫族化合物为M2Q,其中M为铜,Q为硫、硒和碲中的一种或几种的混合;或
步骤①中所述的铜、铟、镓的硫族化合物为M’2Q3,M’为铟、镓中一种或两种的混合,Q为硫、硒和碲中的一种或几种的混合;或
步骤①中所述的硫族化合物为MM’Q2,其中M为铜,M’为铟、镓中一种或两种的混合,Q为硫、硒、碲中的一种或几种的混合。
3.按权利要求1所述的制备方法,其特征在于:
步骤①中所述的卤族化合物为MX,M为铜,X为氯、溴和碘中的一种或几种的混合;或
或步骤①中所述的铜、铟、镓的卤族化合物为MX2,M为铜,X为氯、溴和碘中的一种或几种的混合;或
步骤①中所述的铜、铟、镓的卤族化合物为M’X3,M’为铟、镓中一种或两种的混合,X为氯、溴和碘中的一种或几种的混合;或
步骤①中所述的铜、铟、镓的卤族化合物为MM’X4,其中M为铜,M’为铟、镓中一种或两种的混合,Q为硫、硒、碲中的一种或几种的混合。
4.按权利要求1所述的制备方法,其特征在于:
a)步骤①中所述的硫、硒的胺类盐为硫化氢或硒化氢与N-R1R2R3形成的各种盐,其中R1、R2、R3分别独立表示芳香基、氢基、甲基、乙基或3-6个碳原子的烷基;或
b)步骤①中所述的硫、硒的肼类盐为硫化氢或硒化氢与R4R5N-NR6R7形成的各种盐,其中R4、R5、R6、R7分别独立表示芳香基、氢基、甲基、乙基或3-6个碳原子的烷基。
5.按权利要求1所述的制备方法,其特征在于:
步骤①中所述的含有强配位基团的溶剂为:水、液氨、肼类化合物R4R5N-NR6R7、低级醇、乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、环定砜和吡咯烷酮中的一种或几种的混合物;
其中R4、R5、R6、R7分别独立表示芳香基、氢基、甲基、乙基或3-6个碳原子的烷基。
6.按权利要求5所述的制备方法,其特征在于:所述低级醇为甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、仲丁醇、叔丁醇、戊醇、旋光性戊醇、异戊醇、仲戊醇、叔戊醇、仲异戊醇或其组合。
7.按权利要求1所述的制备方法,其特征在于:
步骤①中所述的溶液调节剂为(1)硫族元素,(2)过渡金属,(3)碱金属硫族化合物,(4)碱土金属硫族化合物,(5)硫族元素胺类盐,(6)碱金属或(7)碱土金属。
8.按权利要求7所述的制备方法,其特征在于:
(a)所述的硫族元素为硫、硒和碲中的一种或几种;
(b)所述的过渡金属为镍、钯、铂、铑、铱和钌中的一种或几种的合金或混合物;
(c)所述的碱金属硫族化合物为A2Q,其中A为锂、钠、钾、铷和铯中的一种或几种,Q为硫、硒和碲中的一种或几种;
(d)所述的碱土金属硫族化合物为BQ,其中B为镁、钙、锶和钡中的一种或几种,Q为硫、硒和碲中的一种或几种;
(e)所述的硫族元素胺类盐为硫化氢,硒化氢或碲化氢与N-R1R2R3形成的各种盐中的一种或几种的混合物,其中R1、R2、R3分别独立表示芳香基、氢基、甲基、乙基、3-6个碳原子的烷基;
(f)所述的碱金属为锂、钠、钾、铷和铯中的一种或几种的合金或混合物;或
(g)所述的碱土金属为镁、钙、锶和钡中的一种或几种的合金或混合物。
9.按权利要求1所述的制备方法,其特征在于步骤②中硫或硒过量程度为100%-400%。
10.按权利要求1所述的制备方法,其特征在于步骤②的Cu1-xIn1-yGaySe2-zSz式中0≤x≤0.3,0.2≤y≤0.4,0≤z≤0.2。
11.按权利要求1所述的制备方法,其特征在于:
a)步骤③制备前驱薄膜的非真空液相工艺为旋涂法、流延法、喷雾沉积法、提拉法、丝网印刷法、喷墨打印法、滴注成膜法、滚涂法、模缝涂布法、平棒涂布法、毛细管涂布法、逗号涂布法或凹版涂布法;或
b)步骤③所述的衬底为聚酰亚胺、硅片、非晶氢化硅片、碳化硅、二氧化硅、石英、蓝宝石、玻璃、金属、类金刚石碳、氢化类金刚石碳、氮化镓、砷化镓、锗、硅锗合金、ITO、碳化硼、氮化硼、氮化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锡、钛酸锌和塑料中的任一种。
12.按权利要求1所述的制备方法,其特征在于所述的前驱薄膜的退火温度为50-850℃。
13.按权利要求12所述的制备方法,其特征在于所述的前驱薄膜的退火温度为250-650℃。
14.按权利要求1所述的制备方法,其特征在于步骤④所形成的目标铜铟镓硫硒化合物薄膜的厚度为5nm~5000nm。
CN2008801240397A 2007-12-29 2008-12-29 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法 Active CN101960610B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2008801240397A CN101960610B (zh) 2007-12-29 2008-12-29 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN200710173785.2 2007-12-29
CNA2007101737852A CN101471394A (zh) 2007-12-29 2007-12-29 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法
PCT/CN2008/073805 WO2009089754A1 (fr) 2007-12-29 2008-12-29 Procédé de préparation d'une couche d'absorption de la lumière d'une pile solaire à film de cuivre-indium-gallium-soufre-sélénium
CN2008801240397A CN101960610B (zh) 2007-12-29 2008-12-29 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101960610A CN101960610A (zh) 2011-01-26
CN101960610B true CN101960610B (zh) 2012-04-11

Family

ID=40828635

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2007101737852A Pending CN101471394A (zh) 2007-12-29 2007-12-29 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法
CN2008801240397A Active CN101960610B (zh) 2007-12-29 2008-12-29 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNA2007101737852A Pending CN101471394A (zh) 2007-12-29 2007-12-29 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US9735297B2 (zh)
EP (1) EP2234168A4 (zh)
JP (1) JP5646342B2 (zh)
KR (1) KR101633388B1 (zh)
CN (2) CN101471394A (zh)
BR (1) BRPI0821501B8 (zh)
RU (1) RU2446510C1 (zh)
WO (1) WO2009089754A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI495740B (zh) * 2012-12-14 2015-08-11 Nat Inst Chung Shan Science & Technology 軟性太陽能電池光吸收層之真空製程設備及其製造方法
TWI594952B (zh) * 2013-06-03 2017-08-11 東京應化工業股份有限公司 錯合物及其溶液之製造方法、太陽電池用光吸收層之製造方法及太陽電池之製造方法
TWI619614B (zh) * 2017-05-04 2018-04-01 施權峰 太陽能吸收層及其製作方法

Families Citing this family (75)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101471394A (zh) 2007-12-29 2009-07-01 中国科学院上海硅酸盐研究所 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法
JP5511320B2 (ja) * 2008-11-11 2014-06-04 京セラ株式会社 薄膜太陽電池の製法
CN101700873B (zh) * 2009-11-20 2013-03-27 上海交通大学 铜锌锡硒纳米粒子的制备方法
JP5464984B2 (ja) * 2009-11-26 2014-04-09 京セラ株式会社 半導体層の製造方法および光電変換装置の製造方法
US20120280362A1 (en) * 2009-12-18 2012-11-08 The Regents Of The University Of California Simple route for alkali metal incorporation in solution-processed crystalline semiconductors
CN102130202A (zh) * 2010-01-14 2011-07-20 正峰新能源股份有限公司 非真空形成铜铟镓硫硒吸收层及硫化镉缓冲层的方法及系统
JP5261581B2 (ja) * 2010-01-29 2013-08-14 京セラ株式会社 半導体層の製造方法、光電変換装置の製造方法および半導体層形成用溶液
CN101818375A (zh) * 2010-02-11 2010-09-01 昆山正富机械工业有限公司 以非真空工艺制作铜铟镓硒(硫)光吸收层的方法
CN101820029A (zh) * 2010-02-11 2010-09-01 昆山正富机械工业有限公司 非真空制作铜铟镓硒和/或硫的太阳能电池
CN101820030A (zh) * 2010-02-11 2010-09-01 昆山正富机械工业有限公司 非真空制作铜铟镓硒和/或硫光吸收层的方法
DE102011004652A1 (de) * 2010-02-26 2011-09-01 Electronics And Telecommunications Research Institute Verfahren zur Herstellung einer lichtabsorbierenden Dünnfilmschicht und ein dieses verwendendes Verfahren zur Herstellung einer Dünnfilm-Solarzelle
CN101789469B (zh) * 2010-03-05 2013-01-02 中国科学院上海硅酸盐研究所 铜铟镓硒硫薄膜太阳电池光吸收层的制备方法
CN101771106B (zh) * 2010-03-05 2011-10-05 中国科学院上海硅酸盐研究所 铜锌镉锡硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法
CN102024858B (zh) * 2010-04-19 2013-12-04 福建欧德生光电科技有限公司 油墨、薄膜太阳能电池及其制造方法
CN101885071B (zh) * 2010-05-28 2012-04-25 电子科技大学 一种铜锌锡硒纳米粉末材料的制备方法
CN101958369B (zh) * 2010-07-27 2011-12-28 上海太阳能电池研究与发展中心 一种铜铟镓硒薄膜材料的制备方法
CN101944552B (zh) * 2010-07-30 2012-02-29 合肥工业大学 一种太阳能电池光吸收层材料cigs薄膜的制备方法
US8282995B2 (en) 2010-09-30 2012-10-09 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Selenium/group 1b/group 3a ink and methods of making and using same
TWI594451B (zh) * 2010-10-01 2017-08-01 應用材料股份有限公司 形成太陽能電池元件的方法以及在基板上形成適用於薄膜電晶體之結構的方法
KR101116705B1 (ko) * 2010-10-06 2012-03-13 한국에너지기술연구원 Cigs 박막의 용액상 제조방법 및 이에 의해 제조된 cigs 박막
US20120100663A1 (en) * 2010-10-26 2012-04-26 International Business Machines Corporation Fabrication of CuZnSn(S,Se) Thin Film Solar Cell with Valve Controlled S and Se
CN102024878A (zh) * 2010-11-03 2011-04-20 上海联孚新能源科技有限公司 一种太阳能电池用铜铟镓硫薄膜的制备方法
US20130264526A1 (en) * 2010-12-03 2013-10-10 E I Du Pont De Nemours And Company Molecular precursors and processes for preparing copper indium gallium sulfide/selenide coatings and films
TWI531078B (zh) * 2010-12-29 2016-04-21 友達光電股份有限公司 太陽電池的製造方法
KR101124226B1 (ko) * 2011-02-15 2012-03-27 한국화학연구원 전구체를 이용한 cis 박막의 제조방법
US20140220728A1 (en) * 2011-02-18 2014-08-07 Hugh Hillhouse Methods of forming semiconductor films including i2-ii-iv-vi4 and i2-(ii,iv)-iv-vi4 semiconductor films and electronic devices including the semiconductor films
WO2013019299A2 (en) * 2011-05-11 2013-02-07 Qd Vision, Inc. Method for processing devices including quantum dots and devices
TW201318967A (zh) * 2011-06-10 2013-05-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 聯胺配位Cu硫屬化物錯合物及其製造方法,光吸收層形成用塗佈液,以及光吸收層形成用塗佈液之製造方法
US8268270B1 (en) * 2011-06-10 2012-09-18 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Coating solution for forming a light-absorbing layer of a chalcopyrite solar cell, method of producing a light-absorbing layer of a chalcopyrite solar cell, method of producing a chalcopyrite solar cell and method of producing a coating solution for forming a light-absorbing layer of a chalcopyrite solar cell
CN102347401A (zh) * 2011-09-02 2012-02-08 普乐新能源(蚌埠)有限公司 太阳能电池铜铟镓硒膜层的制备方法
JP5739300B2 (ja) * 2011-10-07 2015-06-24 Dowaエレクトロニクス株式会社 セレン化インジウム粒子粉末およびその製造方法
RU2492938C1 (ru) * 2012-02-15 2013-09-20 Микаил Гаджимагомедович Вердиев Способ нанесения пленок веществ на различные подложки
KR101326770B1 (ko) * 2012-02-24 2013-11-20 영남대학교 산학협력단 태양 전지 제조 방법
KR101326782B1 (ko) * 2012-02-24 2013-11-08 영남대학교 산학협력단 태양 전지 제조 장치
WO2013125818A1 (ko) * 2012-02-24 2013-08-29 영남대학교 산학협력단 태양 전지 제조 장치 및 태양 전지 제조 방법
KR101298026B1 (ko) * 2012-04-13 2013-08-26 한국화학연구원 태양전지 광활성층의 제조방법
US9082619B2 (en) 2012-07-09 2015-07-14 International Solar Electric Technology, Inc. Methods and apparatuses for forming semiconductor films
CN102790130B (zh) * 2012-08-09 2015-08-05 中国科学院长春应用化学研究所 一种吸光层薄膜的制备方法
KR101388451B1 (ko) * 2012-08-10 2014-04-24 한국에너지기술연구원 탄소층이 감소한 ci(g)s계 박막의 제조방법, 이에 의해 제조된 박막 및 이를 포함하는 태양전지
US8992874B2 (en) * 2012-09-12 2015-03-31 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Method of producing hydrazine-coordinated Cu chalcogenide complex
US20140117293A1 (en) * 2012-10-29 2014-05-01 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Coating solution for forming light-absorbing layer, and method of producing coating solution for forming light-absorbing layer
CN102983222A (zh) * 2012-12-06 2013-03-20 许昌天地和光能源有限公司 具有梯度带隙分布的吸收层制备方法
KR101450426B1 (ko) * 2013-01-09 2014-10-14 연세대학교 산학협력단 칼코겐화물 흡수층용 나트륨 도핑 용액 및 이를 이용한 박막태양전지 제조방법
ITUD20130030A1 (it) * 2013-03-01 2014-09-02 Sumeet Kumar Nanomateriali compositi ibridi
KR101590224B1 (ko) * 2013-04-11 2016-01-29 제일모직주식회사 태양전지 전극 형성용 조성물 및 이로부터 제조된 전극
US9105798B2 (en) * 2013-05-14 2015-08-11 Sun Harmonics, Ltd Preparation of CIGS absorber layers using coated semiconductor nanoparticle and nanowire networks
CN103325886B (zh) * 2013-06-09 2017-07-18 徐东 一种具有能带梯度分布的铜铟铝硒(cias)薄膜的制备方法
ES2869193T3 (es) * 2013-08-01 2021-10-25 Lg Chemical Ltd Método de fabricación de un precursor aglomerado para fabricar una capa de absorción de luz
KR102164628B1 (ko) 2013-08-05 2020-10-13 삼성전자주식회사 나노 결정 합성 방법
US8999746B2 (en) 2013-08-08 2015-04-07 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Method of forming metal chalcogenide dispersion, metal chalcogenide dispersion, method of producing light absorbing layer of solar cell, method of producing solar cell
CN103602982A (zh) * 2013-11-21 2014-02-26 中国科学院上海硅酸盐研究所 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的非真空制备方法
CN103633182B (zh) * 2013-11-27 2017-04-12 上海富际新能源科技有限公司 铜铟镓硫硒敏化半导体阳极太阳电池及其制备方法
KR101462498B1 (ko) * 2013-12-18 2014-11-19 한국생산기술연구원 Cigs 흡수층 제조방법, 이를 이용한 박막 태양전지 제조방법 및 박막 태양전지
CN103928575A (zh) * 2014-04-29 2014-07-16 中国科学院长春应用化学研究所 一种吸光层薄膜、其制备方法和铜基薄膜太阳能电池
CN104064626B (zh) * 2014-06-25 2017-11-17 青岛科技大学 一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1‑x,Sex)4纳米晶薄膜的方法
CN104037248A (zh) * 2014-07-08 2014-09-10 厦门大学 一种铜铟镓硫硒薄膜材料的制备方法
KR101532883B1 (ko) * 2014-09-02 2015-07-02 성균관대학교산학협력단 전이금속 디칼코게나이드 박막의 형성 방법
WO2016068155A1 (ja) * 2014-10-30 2016-05-06 東京応化工業株式会社 均一系塗布液及びその製造方法、太陽電池用光吸収層及びその製造方法、並びに太陽電池及びその製造方法
JP6554332B2 (ja) * 2014-10-30 2019-07-31 東京応化工業株式会社 均一系塗布液及びその製造方法、太陽電池用光吸収層及びその製造方法、並びに太陽電池及びその製造方法
TW201621068A (zh) * 2014-12-09 2016-06-16 新能光電科技股份有限公司 銅銦鎵硒之表面硫化的製程方法
KR101793640B1 (ko) 2015-09-24 2017-11-20 재단법인대구경북과학기술원 인듐을 이용한 태양전지용 czts계 흡수층 박막, 이의 제조방법 및 이를 이용한 태양전지
CN106340545B (zh) * 2016-09-14 2018-06-12 南京邮电大学 Cis及cigs薄膜太阳能电池吸光层的制备及新溶剂在其中的应用
CN107195697B (zh) * 2017-06-01 2019-05-03 中南大学 一种铜钡(锶/钙)锡硫(硒)薄膜的制备方法
RU2660408C1 (ru) * 2017-08-11 2018-07-06 Российская Федерация, от имени которой выступает Государственная корпорация по атомной энергии "Росатом" (Госкорпорация "Росатом") Способ изготовления светопоглощающих элементов оптических систем на титановых подложках
JP2019087745A (ja) * 2017-11-08 2019-06-06 東京応化工業株式会社 均一系塗布液及びその製造方法
KR102031481B1 (ko) * 2018-02-06 2019-10-11 중앙대학교 산학협력단 금속-칼코겐 박막이 구비된 전자 부재의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 금속-칼코겐 박막이 구비된 전자 부재를 포함하는 전자 소자
RU2682836C1 (ru) 2018-05-29 2019-03-21 Общество с ограниченной ответственностью "Солартек" Способ изготовления светопроницаемого тонкопленочного солнечного модуля на основе халькопирита
CN109817734A (zh) * 2018-12-26 2019-05-28 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 一种铜铟镓硒薄膜太阳能电池用吸收层的制备方法
CN110379872A (zh) * 2019-05-31 2019-10-25 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 铜铟镓硒太阳能电池吸收层的制备方法及太阳能电池
US11018275B2 (en) * 2019-10-15 2021-05-25 Applied Materials, Inc. Method of creating CIGS photodiode for image sensor applications
CN110752272B (zh) * 2019-10-18 2021-07-06 信阳师范学院 一种提高柔性铜铟镓硒薄膜太阳能电池效率的方法
CN111569856B (zh) * 2020-04-03 2023-06-09 清华-伯克利深圳学院筹备办公室 In-Ga2O3复合光催化剂及其制备方法和应用
CN112756604B (zh) * 2020-12-22 2021-11-05 吉林大学 一种类地幔条件烧结聚晶金刚石复合片及其制备方法
RU2764711C1 (ru) * 2021-06-17 2022-01-19 Автономная некоммерческая образовательная организация высшего образования "Сколковский институт науки и технологий" (Сколковский институт науки и технологий) Электрон-селективный слой на основе оксида индия, легированного алюминием, способ его изготовления и фотовольтаическое устройство на его основе
CN113571406B (zh) * 2021-07-26 2023-06-27 福建师范大学 一种液相硒化制备硒硫化锑薄膜的方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5730852A (en) * 1995-09-25 1998-03-24 Davis, Joseph & Negley Preparation of cuxinygazsen (X=0-2, Y=0-2, Z=0-2, N=0-3) precursor films by electrodeposition for fabricating high efficiency solar cells
US7091136B2 (en) * 2001-04-16 2006-08-15 Basol Bulent M Method of forming semiconductor compound film for fabrication of electronic device and film produced by same
CN101002335A (zh) * 2004-08-09 2007-07-18 昭和砚壳石油株式会社 Cis化合物半导体薄膜太阳能电池以及形成该太阳能电池的光吸收层的方法

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8715082D0 (en) * 1987-06-26 1987-08-05 Prutec Ltd Solar cells
DE3887650T2 (de) * 1987-11-27 1994-08-04 Siemens Solar Ind Lp Herstellungsverfahren einer Dünnschichtsonnenzelle.
JPH01152766A (ja) * 1987-12-10 1989-06-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd セレン化インジウム銅の製造方法
JPH02180715A (ja) * 1988-12-30 1990-07-13 Dowa Mining Co Ltd 1 3 6族化合物の製造方法
JPH0789719A (ja) * 1993-09-20 1995-04-04 Hitachi Maxell Ltd 銅インジウム硫化物またはセレン化物の製造法
JPH08316515A (ja) * 1995-05-22 1996-11-29 Yazaki Corp 薄膜太陽電池の製造方法
JP3244408B2 (ja) * 1995-09-13 2002-01-07 松下電器産業株式会社 薄膜太陽電池及びその製造方法
US6126740A (en) * 1995-09-29 2000-10-03 Midwest Research Institute Solution synthesis of mixed-metal chalcogenide nanoparticles and spray deposition of precursor films
US6268014B1 (en) 1997-10-02 2001-07-31 Chris Eberspacher Method for forming solar cell materials from particulars
US6127202A (en) 1998-07-02 2000-10-03 International Solar Electronic Technology, Inc. Oxide-based method of making compound semiconductor films and making related electronic devices
JP4982641B2 (ja) * 2000-04-12 2012-07-25 株式会社林原 半導体層、これを用いる太陽電池、及びそれらの製造方法並びに用途
RU2212080C2 (ru) * 2001-11-16 2003-09-10 Государственное научное учреждение "Институт электроники НАН Беларуси" СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ХАЛЬКОПИРИТНЫХ CuInSe2, Cu (In, Ga)Se2, CuGaSe2 ТОНКИХ ПЛЕНОК
US6992202B1 (en) * 2002-10-31 2006-01-31 Ohio Aerospace Institute Single-source precursors for ternary chalcopyrite materials, and methods of making and using the same
CN100490205C (zh) * 2003-07-10 2009-05-20 国际商业机器公司 淀积金属硫族化物膜的方法和制备场效应晶体管的方法
US6875661B2 (en) * 2003-07-10 2005-04-05 International Business Machines Corporation Solution deposition of chalcogenide films
CN1809932A (zh) * 2003-12-05 2006-07-26 松下电器产业株式会社 复合半导体膜、太阳能电池及其制备方法
US7306823B2 (en) * 2004-09-18 2007-12-11 Nanosolar, Inc. Coated nanoparticles and quantum dots for solution-based fabrication of photovoltaic cells
US20070163383A1 (en) * 2004-02-19 2007-07-19 Nanosolar, Inc. High-throughput printing of nanostructured semiconductor precursor layer
US7736940B2 (en) * 2004-03-15 2010-06-15 Solopower, Inc. Technique and apparatus for depositing layers of semiconductors for solar cell and module fabrication
US8679587B2 (en) * 2005-11-29 2014-03-25 State of Oregon acting by and through the State Board of Higher Education action on Behalf of Oregon State University Solution deposition of inorganic materials and electronic devices made comprising the inorganic materials
EP1974392B1 (en) * 2006-01-12 2011-08-10 Heliovolt Corporation Apparatus for making controlled segregated phase domain structures
JP2009528681A (ja) * 2006-02-23 2009-08-06 デューレン、イェルーン カー.イェー. ファン カルコゲンと金属間物質の使用による高処理能力の半導体層形成
US8372685B2 (en) * 2006-06-12 2013-02-12 Nanosolar, Inc. Bandgap grading in thin-film devices via solid group IIIA particles
KR101030780B1 (ko) * 2007-11-14 2011-04-27 성균관대학교산학협력단 Ⅰ-ⅲ-ⅵ2 나노입자의 제조방법 및 다결정 광흡수층박막의 제조방법
CN101471394A (zh) 2007-12-29 2009-07-01 中国科学院上海硅酸盐研究所 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5730852A (en) * 1995-09-25 1998-03-24 Davis, Joseph & Negley Preparation of cuxinygazsen (X=0-2, Y=0-2, Z=0-2, N=0-3) precursor films by electrodeposition for fabricating high efficiency solar cells
US7091136B2 (en) * 2001-04-16 2006-08-15 Basol Bulent M Method of forming semiconductor compound film for fabrication of electronic device and film produced by same
CN101002335A (zh) * 2004-08-09 2007-07-18 昭和砚壳石油株式会社 Cis化合物半导体薄膜太阳能电池以及形成该太阳能电池的光吸收层的方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI495740B (zh) * 2012-12-14 2015-08-11 Nat Inst Chung Shan Science & Technology 軟性太陽能電池光吸收層之真空製程設備及其製造方法
TWI594952B (zh) * 2013-06-03 2017-08-11 東京應化工業股份有限公司 錯合物及其溶液之製造方法、太陽電池用光吸收層之製造方法及太陽電池之製造方法
TWI619614B (zh) * 2017-05-04 2018-04-01 施權峰 太陽能吸收層及其製作方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2234168A4 (en) 2015-04-29
BRPI0821501B8 (pt) 2022-08-23
CN101471394A (zh) 2009-07-01
KR20100099753A (ko) 2010-09-13
CN101960610A (zh) 2011-01-26
WO2009089754A1 (fr) 2009-07-23
BRPI0821501A2 (pt) 2015-06-16
US20110008927A1 (en) 2011-01-13
US9735297B2 (en) 2017-08-15
JP2011508439A (ja) 2011-03-10
EP2234168A1 (en) 2010-09-29
RU2446510C1 (ru) 2012-03-27
KR101633388B1 (ko) 2016-06-24
BRPI0821501B1 (pt) 2019-02-12
RU2010131761A (ru) 2012-02-10
JP5646342B2 (ja) 2014-12-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101960610B (zh) 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法
CN1143399C (zh) 形成化合物半导体膜和制作相关电子器件的方法
US8057850B2 (en) Formation of copper-indium-selenide and/or copper-indium-gallium-selenide films from indium selenide and copper selenide precursors
TWI431073B (zh) 硒/1b族油墨及其製造及使用方法
CN103210505A (zh) 用于光电应用的沉积方法和装置
TWI432532B (zh) 硒油墨及其製造及使用方法
CN103827976A (zh) 用于光电应用的沉积方法
US8308973B2 (en) Dichalcogenide selenium ink and methods of making and using same
CN102502788B (zh) 一种铜铟硫三元半导体纳米颗粒的简单可控的制备方法
CN102598209A (zh) 形成半导体膜以及包含该膜的光伏装置的方法
TW201122065A (en) Methods for photovoltaic absorbers with controlled stoichiometry
CN102603201A (zh) 一种硒化亚铜薄膜的制备方法
CN105705596A (zh) 用于薄膜光伏装置的无机盐-纳米粒子墨水及相关方法
CN108461556A (zh) 制备高效czts太阳能电池的前驱体溶液及其电池制备与应用
Long et al. Mechanistic aspects of preheating effects of precursors on characteristics of Cu2ZnSnS4 (CZTS) thin films and solar cells
WO2012090938A1 (ja) 化合物半導体薄膜太陽電池及びその製造方法
Avellaneda et al. Synthesis of Cu2SnS3, Cu3SnS4, and Cu4SnS4 thin films by sulfurization of SnS-Cu layers at a selected temperature and/or Cu layers thickness
Deshmukh et al. Enabling fine-grain free 2-micron thick CISe/CIGSe film fabrication via a non-hydrazine based solution processing route
Sousa et al. Over 6% Efficient Cu (In, Ga) Se2 Solar Cell Screen-Printed from Oxides on Fluorine-Doped Tin Oxide
Kapur et al. Nanoparticle oxides precursor inks for thin film copper indium gallium selenide (CIGS) solar cells
TW201300322A (zh) 銅銦鎵硫硒薄膜太陽電池光吸收層的製備方法
Mazalan et al. Influence of antimony dopant on CuIn (S, Se) 2 solar thin absorber layer deposited via solution-processed route
TW201629162A (zh) 均勻系塗佈液及其製造方法、太陽能電池用光吸收層及其製造方法、及太陽能電池及其製造方法
WO2013008512A1 (ja) 化合物半導体太陽電池材料およびそれを用いた太陽電池
Zaki et al. Cu2SnSe3 phase formation from different metallic and binary chalcogenides stacks using magnetron sputtering

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20160927

Address after: 200335, Shanghai, Changning District on the way No. 33, 8, 2, room 2172

Patentee after: Shanghai fortune Amperex Technology Limited

Address before: 1295 Dingxi Road, Shanghai, No. 200050

Patentee before: Shanghai Silicates Institute, the Chinese Academy of Sciences

TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20200210

Address after: 200050 No. 1295 Dingxi Road, Shanghai, Changning District

Patentee after: SHANGHAI INSTITUTE OF CERAMICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

Address before: 200335, Shanghai, Changning District on the way No. 33, 8, 2, room 2172

Patentee before: Shanghai fortune Amperex Technology Limited

TR01 Transfer of patent right
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20210511

Address after: 272113 Shengxiang Town, intersection of Jiacheng road and Chengxiang Avenue, tuanli Town, Jining Economic Development Zone, Jining City, Shandong Province

Patentee after: Shandong Zhongke Taiyang Photoelectric Technology Co.,Ltd.

Address before: 200050 No. 1295 Dingxi Road, Shanghai, Changning District

Patentee before: SHANGHAI INSTITUTE OF CERAMICS, CHINESE ACADEMY OF SCIENCES

TR01 Transfer of patent right