CN104064626B - 一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1‑x,Sex)4纳米晶薄膜的方法 - Google Patents

一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1‑x,Sex)4纳米晶薄膜的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104064626B
CN104064626B CN201410290542.7A CN201410290542A CN104064626B CN 104064626 B CN104064626 B CN 104064626B CN 201410290542 A CN201410290542 A CN 201410290542A CN 104064626 B CN104064626 B CN 104064626B
Authority
CN
China
Prior art keywords
precursor liquid
film
deionized water
nano
solution
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201410290542.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104064626A (zh
Inventor
董立峰
马帅
曹磊
隋静
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Qingdao University of Science and Technology
Original Assignee
Qingdao University of Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Qingdao University of Science and Technology filed Critical Qingdao University of Science and Technology
Priority to CN201410290542.7A priority Critical patent/CN104064626B/zh
Publication of CN104064626A publication Critical patent/CN104064626A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104064626B publication Critical patent/CN104064626B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/032Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
    • H01L31/0322Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312 comprising only AIBIIICVI chalcopyrite compounds, e.g. Cu In Se2, Cu Ga Se2, Cu In Ga Se2
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/541CuInSe2 material PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

本发明属于纳米晶体薄膜制备技术领域,涉及一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1‑x,Sex)4纳米晶薄膜的方法,先配制阳离子前驱液和阴离子前驱液;再分别在两个反应容器中加入与阳离子前驱液液面持平的去离子水构成循环浸渍反应体系;用氨水和盐酸分别调节阳、阴离子前驱液的pH值;然后将衬底以阳离子前驱液、去离子水、阴离子前驱液、去离子水为一周期的顺序依次交替循环浸渍后得到前驱体薄膜;最后将制得的前驱体薄膜经退火和冷却后得到Cu2ZnSn(S1‑x,Sex)4纳米晶薄膜;其制备工艺简单,使用设备简单,所需原料储量丰富,操作简便,成本低,所得产物的薄膜厚度可控性强,适合制备大面积薄膜,发展空间大。

Description

一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4纳米晶薄膜的方法
技术领域:
本发明属于纳米晶体薄膜制备技术领域,涉及一种新型Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4太阳能电池光吸收层的制备方法,特别是一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4纳米晶薄膜的方法。
背景技术:
随着环境污染问题日益严重以及不可再生资源的枯竭,寻求清洁无污染的替代能源,实现可持续发展,已经成为世界各国共同面临的问题。太阳能作为一种储量丰富并且可无限再生的清洁能源,吸引了越来越多的注意力。伴随着光伏组件的广泛使用,如何提高电池光电转换效率、降低成本是目前光伏发电的研究热点。目前,太阳能电池产业化占主导地位的是硅基太阳能电池和铜铟镓硒(Cu2InGa(S1-x,Sex)4,简称CIGSSe)薄膜太阳能电池,这两类太阳能电池的显著优势在于都具有较高的光电转换效率,但是硅基太阳能电池的生产成本过高导致其大范围推广使用受到一定的制约;而铜铟镓硒薄膜太阳能电池所应用的In和Ga元素在地球上的储存量有限,属于稀有元素,并且在其制备过程中会产生对环境的污染,这些因素无形中提高了生产成本,使得基于CIGSSe薄膜的光伏电池的发展空间非常有限。在CIGSSe薄膜的基础上,研究人员发现可以用Zn和Sn取代In和Ga元素从而制备出Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4(简称CZTSSe)薄膜,其禁带宽度约为1.5eV,与半导体太阳能电池所要求的最佳禁带宽度十分接近,并且具有较大的光吸收系数(>104cm-1)。CZTSSe材料不含有有毒成分,对环境友好,不会造成任何污染,目前已经成为了替代CIGSSe光电吸收层的最佳候选材料。据最新报道,CZTSSe薄膜太阳能电池的光电转化效率已经达到了12.6%,而其理论值高达32.2%,因此CZTSSe薄膜电池是一种非常具有应用潜力的太阳能电池。
目前,Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4薄膜的制备方法主要分为真空法和非真空法,真空法主要包括溅射法、气相沉积法和蒸镀法等,但是真空法设备昂贵,操作复杂,难以大面积成膜,并且原材料利用率低,重复性差,直接制约了其大规模生产;而非真空法主要包括电化学沉积法、溶胶-凝胶法和丝网印刷法等,相对真空法而言,非真空法无需昂贵的真空设备,因此更具发展潜力。最近有采用连续离子层吸附反应的方法制备Cu2ZnSx薄膜和ZnS薄膜叠层预制层结构或者Cu2S薄膜和ZnSnSx薄膜叠层预制层结构,然后进行退火处理得到铜锌锡硫薄膜的专利(申请号201110189391.2),但是该技术工艺复杂,材料制备的时间长。因此,寻求设计一种改进的连续离子层吸附反应的方法直接在衬底上制备前躯体薄膜,再通过在含硫/硒气氛中退火获得均匀的Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4纳米晶薄膜,其中硫和硒的比例可以通过气氛中硫和硒的比例调节来实现。
发明内容:
本发明的目的在于克服现有技术存在的缺点,寻求设计提供一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4纳米晶薄膜的方法,采用改进的连续离子层吸附反应的方法直接在衬底上制备前躯体薄膜,再通过在含硫/硒气氛中退火获得均匀的Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4纳米晶薄膜,其中硫和硒的比例可以通过气氛中硫和硒的比例调节来实现。
为了实现上述目的,本发明的具体制备工艺包括以下步骤:
(1)、将含铜化合物水溶液、含锌化合物水溶液和含锡化合物水溶液按照体积比为1:(0.5~1.5):(0.5~1.5)的比例分别量取并置入反应容器,然后按照缓冲剂与阳离子总摩尔量(10~300):1的配比加入缓冲剂,在室温下搅拌均匀即得到阳离子前驱液;其中含铜化合物水溶液中铜浓度为0.01~1mol/L,含锌化合物水溶液中锌浓度为0.005~1mol/L,含锡化合物水溶液中锡浓度为0.01~1mol/L;
(2)、按照含硫化合物水溶液与阳离子前驱液体积比为1:(0.5~1.5)的比例量取含硫化合物水溶液置入与步骤(1)相同的反应容器中,配制成阴离子前驱液;其中含硫化合物水溶液中硫浓度为 0.08~1mol/L;
(3)、将阴离子前驱液和阳离子前驱液的温度分别调控为20~80℃,选取与步骤(1)相同的两个反应容器,分别在两个反应容器中加入与阳离子前驱液液面持平的去离子水构成循环浸渍反应体系;用氨水和盐酸分别调节阳、阴离子前驱液的pH值到2.0~4.0和5.0~7.0;其中氨水的重量百分比浓度为1%~28%,盐酸的重量百分比浓度为1%~37%;
(4)、将依次经过去离子水、丙酮和乙醇清洗过的衬底以阳离子前驱液、去离子水、阴离子前驱液、去离子水为一周期的顺序依次交替循环浸渍;每次阳、阴离子的浸渍时间为5~30秒,每次去离子水的浸渍时间为10~50秒,浸渍循环次数为20~600次,浸渍完成后即得到前驱体薄膜;
(5)、将制得的前驱体薄膜在400~700℃含硫/硒气氛下退火0.5~4h,再自然冷却到室温,即得到Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4纳米晶薄膜,其中x=0-1。
本发明所述的含铜化合物为铜的卤化物、硫酸盐、硝酸盐和醋酸盐中的一种或两种以上;含锌化合物为锌的卤化物、硝酸盐、硫酸盐和醋酸盐中的一种或两种以上;含锡化合物为含锡的卤化物、硝酸盐、硫酸盐和醋酸盐中一种或两种以上;含铜化合物优选含铜的卤化物、硫酸盐;含锌化合物优选含锌的卤化物、硫酸盐;含锡化合物优选含锡的卤化物、硫酸盐。
本发明所述缓冲剂为尿素、酒石酸、柠檬酸、三乙醇胺、氟化铵和乙二胺中的一种或两种以上。
本发明所述反应容器为玻璃器皿、塑料器皿和不锈钢器皿中的一种。
本发明所述含硫化合物为硫代乙酰胺、硫代硫酸钠、硫化钠、硫化钾和硫化铵中的一种。
本发明所述衬底为洁净的玻璃、载玻片、纳米材料薄膜、高分子材料、不锈钢片、铜片、镍片、铝片、钼片和钛片中的一种。
本发明所述含硫/硒气氛为蒸发硫气氛、蒸发硒气氛、蒸发硫/硒混合气氛、Ar+蒸发硫气氛、Ar+蒸发硒气氛、N2+蒸发硫气氛、N2+蒸发硒气氛、Ar+5%H2S气氛和N2+5%H2S气氛中的一种或两种以上。
本发明与现有技术相比,具有以下优点:一是不需要昂贵的实验设备,对原材料的利用率非常高;而且铜锌锡硫硒薄膜的制备方法简单,所用前躯体材料成本低,无污染,适合批量合成;二是制备的铜锌锡硫薄膜均匀致密,具有较好的结晶;材料禁带宽度为1.5eV左右,可以作为太阳能电池器件的光吸收材料;三是有利于降低电池制作成本,减少原材料的浪费,适合制备大面积薄膜,可适用于工业化生产,具有良好的市场应用前景;其制备工艺简单,使用设备简单,所需原料储量丰富,操作简便,成本低,所得产物的薄膜厚度可控性强,适合制备大面积薄膜,发展空间大。
附图说明:
图1为本发明实施例1制备的Cu2ZnSnS4纳米晶薄膜的SEM图。
图2为本发明实施例1制备的Cu2ZnSnS4纳米晶薄膜的XRD图。
图3为本发明实施例2制备的Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4纳米晶薄膜的SEM图。
图4为本发明实施例2制备的Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4纳米晶薄膜的XRD图。
具体实施方式:
下面通过实施例并结合附图作进一步说明。
本实施例中的原料均为市购产品,纯度为分析纯。
实施例1:
本实施例制备Cu2ZnSnS4纳米晶薄膜的具体工艺过程为:
(1)、分别配制好浓度为0.02mol/L的CuSO4·5H2O溶液、0.01mol/L的ZnSO4·7H2O溶液、0.02mol/L的SnCl2·2H2O溶液和0.16mol/L Na2S·9H2O;
(2)、阳离子前驱液的配制:用量筒分别量取10ml的CuSO4·5H2O溶液、10ml的ZnSO4·7H2O溶液和10ml的SnCl2·2H2O 后混合在一起放置于50ml的烧杯中,加入5.845g的尿素,在室温下搅拌均匀后,转移到50℃的水浴锅内,用稀氨水调节其pH值为3.0,得到阳离子前驱液;
(3)、阴离子前驱液的配制:用量筒分别量取30ml的Na2S·9H2O溶液置于50ml的烧杯内,转移到50℃的水浴锅内,用稀盐酸调节其pH值为6.0,得到阴离子前驱液;
(4)、用量筒分别量取30ml的去离子水置于两个50ml的烧杯中,然后转移到50℃的水浴锅内,与步骤(2)和(3)分别制的阳离子前驱液和阴离子前驱液构成循环浸渍反应体系;
(5)、把经过去离子水、丙酮和乙醇清洗干净的导电玻璃浸入到阳离子前驱液中进行阳离子吸附,时间为15秒,再浸入到去离子水中15秒,接着浸入到阴离子前驱液中15秒,最后把导电玻璃浸入另一杯去离子水中15秒,完成一个连续离子层吸附反应循环;重复以上循环50次,在导电玻璃上得到前驱体薄膜;
(6)、将制备的前驱体薄膜在氩气和蒸发硫的混合气氛中,550℃退火1小时,在导电玻璃上得到Cu2ZnSnS4纳米晶薄膜;制得的Cu2ZnSnS4纳米晶薄膜的电镜照片如图1所示,其XRD谱图如图2所示,由图1和图2可知,薄膜致密均匀,结晶性较好,不存在杂质相。
实施例2:
本实施例的具体制备工艺过程为:
(1)、分别配制好浓度为0.03mol/L的CuCl溶液、0.015mol/L的ZnCl2溶液、0.03mol/L的SnCl4·5H2O溶液和0.24mol/L CH3CSNH2
(2)、配制阳离子前驱液,用量筒分别量取15ml的CuCl溶液、15ml的ZnCl2溶液和15ml的SnCl4·5H2O,然后混合在一起放置于100ml的烧杯中,加入9.009g的尿素,在室温下搅拌均匀后,转移到60℃的水浴锅内,用稀氨水调节其pH值为3.0,得到阳离子前驱液;
(3)、配制阴离子前驱液,用量筒分别量取45ml的CH3CSNH2溶液置于100ml的烧杯内,转移到60℃的水浴锅内,用稀盐酸调节 其pH值为6.0,得到阴离子前驱液;
(4)、用量筒分别量取45ml的去离子水置于两个100ml的烧杯中,然后转移到60℃的水浴锅内,与上述阳、阴离子前驱液构成四烧杯反应体系;
(5)、把经过去离子水、丙酮和乙醇清洗干净的载玻片浸入到阳离子前驱液中进行阳离子吸附,时间为20秒,再浸入到去离子水中15秒,接着浸入到阴离子前驱液中20秒,最后把导电玻璃浸入另一杯去离子水中20秒,完成一个连续离子层吸附反应循环;重复以上循环100次,在载玻片上得到前驱体薄膜;
(6)、将制备的前驱体薄膜在氩气和蒸发硒的混合气氛中,500℃退火30分钟,在载玻片上得到Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4纳米晶薄膜;制得的Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4纳米晶薄膜的电镜照片如图3所示,图4为制得的Cu2ZnSn(S1-x,Sex)4薄膜的XRD谱图,实验结果反应制备的薄膜致密均匀,良好的结晶性,硒化程度高。

Claims (1)

1.一种循环浸渍制备Cu2ZnSnS4纳米晶薄膜的方法,其特征在于具体制备工艺包括以下步骤:
(1)、分别配制好浓度为0.02mol/L的CuSO4·5H2O溶液、0.01mol/L的ZnSO4·7H2O溶液、0.02mol/L的SnCl2·2H2O溶液和0.16mol/L Na2S·9H2O;
(2)、阳离子前驱液的配制:用量筒分别量取10ml的CuSO4·5H2O溶液、10ml的ZnSO4·7H2O溶液和10ml的SnCl2·2H2O后混合在一起放置于50ml的烧杯中,加入5.845g的尿素,在室温下搅拌均匀后,转移到50℃的水浴锅内,用稀氨水调节其pH值为3.0,得到阳离子前驱液;
(3)、阴离子前驱液的配制:用量筒分别量取30ml的Na2S·9H2O溶液置于50ml的烧杯内,转移到50℃的水浴锅内,用稀盐酸调节其pH值为6.0,得到阴离子前驱液;
(4)、用量筒分别量取30ml的去离子水置于两个50ml的烧杯中,然后转移到50℃的水浴锅内,与步骤(2)和(3)分别配制的阳离子前驱液和阴离子前驱液构成循环浸渍反应体系;
(5)、把经过去离子水、丙酮和乙醇清洗干净的导电玻璃浸入到阳离子前驱液中进行阳离子吸附,时间为15秒,再浸入到去离子水中15秒,接着浸入到阴离子前驱液中15秒,最后把导电玻璃浸入另一杯去离子水中15秒,完成一个连续离子层吸附反应循环;重复以上循环50次,在导电玻璃上得到前驱体薄膜;
(6)、将制备的前驱体薄膜在氩气和蒸发硫的混合气氛中,550℃退火1小时,在导电玻璃上得到Cu2ZnSnS4纳米晶薄膜。
CN201410290542.7A 2014-06-25 2014-06-25 一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1‑x,Sex)4纳米晶薄膜的方法 Expired - Fee Related CN104064626B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410290542.7A CN104064626B (zh) 2014-06-25 2014-06-25 一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1‑x,Sex)4纳米晶薄膜的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410290542.7A CN104064626B (zh) 2014-06-25 2014-06-25 一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1‑x,Sex)4纳米晶薄膜的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104064626A CN104064626A (zh) 2014-09-24
CN104064626B true CN104064626B (zh) 2017-11-17

Family

ID=51552250

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410290542.7A Expired - Fee Related CN104064626B (zh) 2014-06-25 2014-06-25 一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1‑x,Sex)4纳米晶薄膜的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN104064626B (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111005028A (zh) * 2019-11-26 2020-04-14 湖北工业大学 一种铜锌锡硫包覆二氧化钛纳米阵列的制备方法
CN112794281A (zh) * 2021-02-03 2021-05-14 中企众鑫(天津)工业设计有限公司 连续离子液相制备纳米薄膜的自动沉积方法及自动化设备

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101471394A (zh) * 2007-12-29 2009-07-01 中国科学院上海硅酸盐研究所 铜铟镓硫硒薄膜太阳电池光吸收层的制备方法
CN101768729B (zh) * 2010-03-05 2012-10-31 中国科学院上海硅酸盐研究所 磁控溅射法制备铜铟镓硒薄膜太阳电池光吸收层的方法
CN102251235B (zh) * 2011-07-07 2013-03-13 中南大学 一种铜锌锡硫薄膜的制备方法
CN103194739B (zh) * 2013-04-22 2015-04-22 青岛科技大学 一种铜锌锡硫薄膜的水热合成制备方法
CN103346215A (zh) * 2013-07-09 2013-10-09 北京工业大学 一种均相溶液法制备铜锌锡硫太阳能电池吸收层薄膜的方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN104064626A (zh) 2014-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106298995B (zh) 一种银掺杂铜锌锡硫硒光吸收层薄膜材料及其在太阳能电池中的应用
CN107871795B (zh) 一种基于柔性钼衬底的镉掺杂铜锌锡硫硒薄膜的带隙梯度的调控方法
CN101312218A (zh) 连续离子层吸附反应法制备铜铟硒化合物薄膜的方法
CN102034898A (zh) 一种太阳电池用铜铟硫光电薄膜材料的制备方法
CN104120467B (zh) 一种组成可控的铜锌锡薄膜材料和铜锌锡硫基太阳能电池及其两者的制备方法
CN102254998B (zh) 无镉铜铟镓硒薄膜太阳能电池组件及其硫化锌缓冲层薄膜的制备方法
CN108461556A (zh) 制备高效czts太阳能电池的前驱体溶液及其电池制备与应用
CN104962962A (zh) 一种深共晶溶液中电化学共沉积CZTS(Se)薄膜的方法
CN113078225A (zh) 一种铜锌锡硫硒半透明太阳能电池器件及其制备方法
CN100552095C (zh) 一种液相条件下制备硫氰酸亚铜薄膜的方法
CN102268702A (zh) 铜铟镓硒薄膜的光电化学沉积制备法
CN104269460B (zh) 一种水浴叠层制备太阳能电池吸收层材料CZTS/CZTSSe的方法
CN104795456A (zh) 电沉积法制备三带隙铁掺杂铜镓硫太阳能电池材料的方法
CN103762257A (zh) 铜锌锡硫吸收层薄膜及铜锌锡硫太阳能电池的制备方法
CN101982567A (zh) 一种用于太阳能电池的铜铟硒硫薄膜的制备方法
KR20150013997A (ko) 이온성 액체 전해조와 이를 이용한 Cu2ZnSnS4-xSex (0≤x≤4) 박막의 단일 스텝 전기 증착법
CN103318851B (zh) 铜铟镓硫硒太阳能电池、薄膜吸收层及其制备方法
CN103194739A (zh) 一种铜锌锡硫薄膜的水热合成制备方法
CN104064626B (zh) 一种循环浸渍制备Cu2ZnSn(S1‑x,Sex)4纳米晶薄膜的方法
CN105047753B (zh) 制备铜锡硫或铜锡硫硒薄膜的方法
CN102593246B (zh) 一种低成本溶液方法制备太阳电池吸收层材料Cu2ZnSnS4的制备方法
CN102447009A (zh) 一种太阳电池吸收层薄膜材料的制备方法
CN105140335A (zh) 在透明导电基底上一步制备铜锌锡硫薄膜的方法
CN109830571B (zh) 一种电沉积铜后退火制备铜锡硫太阳能电池薄膜材料的方法
CN102623567B (zh) Cu2FeSnS4纳米晶薄膜的水浴制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20171117

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee