TWI463253B - 著色硬化性組成物、彩色濾光片、及彩色濾光片之製法 - Google Patents

著色硬化性組成物、彩色濾光片、及彩色濾光片之製法 Download PDF

Info

Publication number
TWI463253B
TWI463253B TW098108116A TW98108116A TWI463253B TW I463253 B TWI463253 B TW I463253B TW 098108116 A TW098108116 A TW 098108116A TW 98108116 A TW98108116 A TW 98108116A TW I463253 B TWI463253 B TW I463253B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
pigment
compound
group
acid
colored
Prior art date
Application number
TW098108116A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200941135A (en
Inventor
Yushi Kaneko
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of TW200941135A publication Critical patent/TW200941135A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI463253B publication Critical patent/TWI463253B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29DPRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00634Production of filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502Antiglare, refractive index matching layers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • G02F1/133516Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00Materials and properties
    • G02F2202/02Materials and properties organic material
    • G02F2202/022Materials and properties organic material polymeric
    • G02F2202/023Materials and properties organic material polymeric curable

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Description

著色硬化性組成物、彩色濾光片、及彩色濾光片之製法
本發明係有關於一種適合用以製造液晶顯示裝置(LCD)或固體攝像元件(CCD、CMOS等)所使用的彩色濾光片之著色硬化性組成物,及具有以該著色硬化性組成物所形成的著色區域之彩色濾光片、及其製法。
彩色濾光片係在液晶顯示器或固體攝像元件不可缺少的構成組件。彩色濾光片通常係藉由使用含有著色劑(顏料或染料)的硬化性組成物之光微影法來製造。著色劑為顏料時,為了確保顏料的分散性、分散安定性,必須使用分散劑。特別地,已開發高分子分散劑作為分散性、分散安定性優良的分散劑。例如在特開平7-207012號公報、特表平8-507960號公報、特開平8-10601號公報及特開2001-272524號公報揭示在主鏈部具有聚伸烷基亞胺之樹脂係具有分散功能者,但是使用於塗料或印刷印墨者,未被考慮於彩色濾光片用途之藉由必要的光微影法來形成圖案。
且說,近年來,液晶顯示器與先前的TV用途、監控器用途者比較,係被要求具有更高度的畫質,要求提升對比及色純度。關於彩色濾光片製造用途之硬化性組成物,有嘗試藉由使用更微小的粒子尺寸之顏料來提升對比(例如,參照特開2001-272524號公報)。
又,即便在固體攝像元件用的彩色濾光片,必須降低顏色不均,用以高解像力化,為此使粒子尺寸較小的微細顏料以無2次凝集體的狀態分散係變為重要。
但是將顏料的粒子尺寸微細化時,顏料的比表面積變大,分散狀態的安定性變差,而難以兼顧對比或顏色不均與分散安定性。為了提升分散安定性而大量地使用分散劑時,會產生無法藉由光微影法來形成圖案、或產生硬化性不足、或基板黏附性變差等之問題。
為了克服該等問題,有提案揭示各式各樣的分散劑,但是仍然不充分。例如,在特開2006-30541號公報揭示一種具有胺基甲酸酯鍵之陽離子系、陰離子系、兩性或非離子系等的分散劑,又,在特開平9-176511號公報揭示一種將由有機顏料的酸性衍生物、及在主幹聚合物的一部分具有陽離子性官能基之陽離子性梳子形接枝聚合物所構成的分散劑,使用於彩色濾光片形成用之彩色光阻劑。
近年來,特別是液晶顯示裝置用的彩色濾光片被要求提升色純度,因此必須增加顏料的填充量。又,在固體攝像元件用的彩色濾光片,必須降低因散射所引起的漫射光作為提升解像力的手段之一,因此,強烈地要求將著色層薄層化,即便在製造固體攝像元件用的彩色濾光片,亦必須增加顏料的填充量。為了增加顏料的填充量必須提高硬化性組成物中的顏料濃度。但是,因為提高顏料濃度時,必然地,硬化性組成物中的分散樹脂、硬化性成分(單體、聚合引發劑等)的含量會降低,故保存安定性、基板黏附性變差,會產生圖案形成性不良之問題。
本發明的目的係提供一種對比及顏色不均等的顏色特性良好且分散安定性、基板黏附性優良之著色硬化性組成物。
本發明的另外目的係提供一種具有使用上述的著色硬化性組成物所形成的著色圖案之彩色濾光片及其製法。
鑒於前述實情,本發明者等進行專心硏究的結果,發現一種具有本發明的特定結構之樹脂,以及含有其之顏料分散液、著色硬化性組成物之分散性、分散安定性係預料外地提升。而且,藉由使用含有本發明樹脂的著色硬化性組成物所製成之彩色濾光片,而完成了本發明。
亦即,本發明的目的能夠依照以下手段來達成。
<1>一種著色硬化性組成物,其係含有(A)樹脂、(B)顏料、(C)光聚合引發劑、(D)含乙烯性不飽和雙鍵的化合物及(E)溶劑,其中該(A)樹脂能夠藉由使(A-1)數量平均分子量為300~1,500之碳數為2~4的伸烷基亞胺之聚合物,與(A-2)至少在一末端具有羧基之數量平均分子量為1,000~1,000,000的聚酯反應而得到。
<2>如<1>之著色硬化性組成物,其中更含有(F)鹼可溶性樹脂。
<3>如<1>或<2>之著色硬化性組成物,其中前述顏料的平均1次粒徑為50奈米以下。
<4>一種彩色濾光片,其係具有使用如<1>至<3>中任一項之著色硬化性組成物在支撐體上形成而成的著色圖案,能夠使用於固體攝像元件之色分離。
<5>一種彩色濾光片之製法,其係包含將如<1>至<3>中任一項之著色硬化性組成物塗布在支撐體上而形成著色層;透過光罩將該著色層圖案曝光;及將曝光後的著色層顯像而形成著色圖案。
依照本發明,藉由使用具有特定結構的樹脂來分散顏料,能夠提供一種對比及顏色不均等的顏色特性良好且分散安定性、基板黏附性優良之著色硬化性組成物。
又,能夠提供一種具有使用上述著色硬化性組成物所形成的著色圖案之彩色濾光片、及其製法。
以下,更詳細地說明用實施本發明之最佳形態。又,在本發明之著色區域係包含在彩色濾光片之著色像素(著色圖案)區域及遮光膜形成區域。又,在本說明書之基(原子團)之標記,未記載取代或未取代之標記,亦意味著包含未具有取代基同時亦包含具有取代基者。例如「烷基」之標記,係不只是未具有取代基之烷基(無取代烷基),亦包含具有取代基之烷基(取代烷基)。
本發明的著色硬化性組成物其係含有(A)樹脂(以下,有稱為(A)特定樹脂之情形)、(B)顏料、(C)光聚合引發劑、(D)含乙烯性不飽和雙鍵的化合物及(E)溶劑,其中該(A)樹脂能夠藉由使(A-1)數量平均分子量為300~1,500之碳數為2~4的伸烷基亞胺的聚合物與(A-2)至少在一末端具有羧基之數量平均分子量為1,000~1,000,000的聚酯反應而得到。
(A)特定樹脂
本發明的特定樹脂能夠使(A-1)數量平均分子量為300~1,500之碳數為2~4的伸烷基亞胺的聚合物與(A-2)至少在一末端具有羧基之數量平均分子量為1,000~1,000,000的聚酯反應而得到。
此種藉由反應而得到的(A)特定樹脂,係主鏈結構為碳數2~4的伸烷基亞胺之聚合物,且在其1級或2級胺部,側鏈係具有從(A-2)在一末端具有羧基之聚酯除去該羧基的OH基後之殘基與聚酯鏈鍵結之態樣,因此,成為具有以下結構之樹脂。
以下藉由樹脂所具有的重複單位的具體結構及其組合來顯示本發明的特定樹脂之具體態樣[(A-1)~(A-18)],但是本發明未限定於此。下述中,k為1或2,1、m及n係各自表示重複單位聚合莫耳比,l為10~90,m為0~80,n為0~70,且l+m+n=100。p及q係表示聚酯鏈的連結數,各自獨立地表示5~100,000。Y係表示氫原子或烷基羰基(聚酯基)。
說明此種用以生成(A)特定樹脂之原料樹脂。
<(A-1)數量平均分子量為300~1,500之碳數2~4的伸烷基亞胺的聚合物:特定聚伸烷基亞胺>
(A-1)伸烷基亞胺的聚合物的伸烷基部的碳數以2~4為佳,特別是以碳數2的伸乙亞胺的聚合物(聚伸乙亞胺)為最佳。伸烷基亞胺的聚合物能夠藉由眾所周知的方法來合成,亦可使用市售的伸烷基亞胺聚合物。
伸烷基亞胺的聚合物之數量平均分子量能夠使用沸點上升法來求取。伸烷基亞胺的聚合物之數量平均分子量以300~1,200為更佳,以500~1,200為最佳。藉由在該範圍,能夠更提升微小尺寸的顏料之分散性。
雖然該理由不清楚,但可以如以下推測。由伸烷基亞胺的聚合物所構成的部位係對顏料具有吸附性,但是數量平均分子量小於300時,對顏料的吸附力較弱,致使分散性及分散安定性不足。另一方面,可以認為數量平均分子量大於1500時,由於由伸烷基亞胺的聚合物所構成的部位之鏈長度變為太長,顏料之間會產生擬似交聯,致使分散性及分散安定性不足。此種情形,特別是使用微細顏料時會顯著地顯現。
另一方面,認為伸烷基亞胺的聚合物之數量平均分子量在300~1500的範圍時,由於對顏料的吸附力強且顏料之間不會產生擬似交聯,即便微細顏料,其分散性及分散安定性亦顯著變為良好。
而且,烷基亞胺的聚合物之數量平均分子量在300~1500的範圍時,預料外地基板黏附性亦提升。雖然該原因不清楚,但可以如以下推測。推測由伸烷基亞胺的聚合物所構成的部位係亦對基板黏附產生作用,由伸烷基亞胺的聚合物所構成的部位之數量平均分子量小於300時,由於未強固地結合於基板,致使基板黏附性不足。由伸烷基亞胺的聚合物所構成的部位之數量平均分子量大於1500時,可以認為因為由伸烷基亞胺的聚合物所構成的部位對顏料的吸附比對基板的吸附優先,致使基板黏附性變為不充分。
<(A-2)至少在一末端具有羧基之數量平均分子量為1,000~1,000,000的聚酯:特定樹脂>
(A-2)至少在一末端具有羧基之聚酯能夠藉由(i)羧酸與內酯之縮聚,(ii)含羥基的羧酸之縮聚,(iii)二元醇與二元羧酸(或環狀酸酐)之縮聚來得到。
在(i)所使用的羧酸,以脂肪族羧酸(碳數1~30之直鏈或分枝的羧酸為佳,可舉出例如甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、正己酸、正辛酸、正癸酸、正十二烷酸、棕櫚酸、2-乙基己酸、環己酸等)、含羥基的羧酸(以碳數1~30的直鏈或分枝的含羥基的羧酸為佳,例如乙醇酸、乳酸、3-羥基丙酸、4-羥基十二烷酸、5-羥基十二烷酸、蓖麻醇酸、12-羥基十二烷酸、12-羥基硬脂酸、2,2-雙(羥甲基)丁酸等),以碳數6~20的直鏈脂肪族羧酸或碳數1~20的含羥基羧酸為特佳。該等羧酸亦可混合而使用。
內酯能夠使用眾所周知的內酯。可舉出例如β-丙內酯、β-丁內酯、γ-丁內酯、γ-己內酯、γ-辛內酯、δ-戊內酯、δ-己內酯、δ-辛內酯、ε-己內酯、δ-十二烷內酯、α-甲基-γ-丁內酯等,從反應性、取得的容易性之觀點,以ε-己內酯為特佳。羧酸與內酯反應時之添加比率,依照目標聚酯鏈的分子量而無法一義地決定,以羧酸:內酯=1:1~1:1,000為佳,以1:3:1:500為最佳。
在(ii)之含羥基的羧酸係與在前述(i)之含羥基的羧酸同樣,較佳範圍亦同樣。
在(iii)之二元醇,可舉出直鏈或分枝的脂肪族二元醇(以碳數2~30的二元醇為佳,例如乙二醇、二甘醇、三甘醇、二丙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,8-辛二醇等),以碳數2~20的脂肪族二醇為特佳。
又,二元羧酸可舉直鏈或分枝的二元脂肪族羧酸(以碳數1~30的二元脂肪族羧酸為佳,例如琥珀酸、順丁烯二酸、己二酸、癸二酸、十二烷二酸、戊二酸、辛二酸、酒石酸、草酸、丙二酸等),以碳數3~20的二元羧酸為特佳。又,亦可使用與該等二元羧酸等價的酸酐(例如,琥珀酸酐、戊二酸酐等)。
二元羧酸與二元醇係莫耳比以1:1添加為佳。藉此,能夠在末端導入羧酸。
聚酯製造時之縮聚係以添加觸媒來進行為佳。觸媒係以作為路易斯酸的功能之觸媒為佳,可舉出例如Ti化合物(例如Ti(OBu)4 、Ti(O-i-Pr)4 等)、Sn化合物(例如,辛酸錫、氧化二丁基錫、月桂酸二丁基錫、氧化一丁基錫羥基丁基、氯化錫等)、質子酸(例,如硫酸、對甲苯磺酸等)等。觸媒量係相對於總單體的莫耳數,以0.01~10莫耳%為佳,以0.1~5莫耳%為最佳。反應溫度以80~250℃為佳,以100~180℃為最佳。反應時間係因反應條件而異,大致為1~24小時。
聚酯的數量平均分子量係能夠依照GPC法換算成聚苯乙烯來測定。在本發明能夠使用的(A-2)聚酯之數量平均分子量為1,000~1,000,000,以2,000~100,000為佳,以3,000~50,000為最佳。分子量在該範圍,能夠兼具分散性、顯像性。
在本發明所使用的(A-2)聚酯,因為製造容易,以藉由(i)及(ii)所得到的聚酯為特佳。
本發明的(A)特定樹脂能夠藉由使(A-1)伸烷基亞胺的聚合物與(A-2)至少在一末端含有羧基之聚酯反應而得到。聚(低級伸烷基亞胺)與在一末端含有羧基之聚酯係以質量比為1:50~1:2使其反應為佳。藉由在該範圍,分散性變為良好。反應溫度以50~250℃為佳,以70~150℃為最佳。反應時間以0.5~24小時為佳。
反應亦可在溶劑存在下進行。溶劑可舉出亞碸化合物(例如,二甲基亞碸等)、酮化合物(例如,丙酮、甲基乙基酮、環己酮)、酯化合物(例如,乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酸乙酯、丙二醇一甲基醚乙酸酯等)、醚化合物(例如,二乙醚、二丁醚、四氫呋喃等)、脂肪族烴化合物(例如,戊烷、己烷等)、芳香族烴化合物(例如,甲苯、二甲苯、栗等)、腈化合物(例如,乙腈、丙腈等)、醯胺化合物(例如,N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等)、羧酸化合物(例如,乙酸、丙酸等)、醇化合物(例如,甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、3-甲基丁醇、1-甲氧基-2-丙醇等)、鹵素系溶劑(例如氯仿、1,2-二氯乙烷等)。使用溶劑時,相對於基質以使用0.1~100質量倍為佳,以0.5~10質量倍為最佳。
關於本發明的(A)特定樹脂,以使(A-1)數量平均分子量為300~1,500之碳數為2~4的伸烷基亞胺的聚合物與(A-2)至少在一末端具有羧基之數量平均分子量為1,000~1,000,000的聚酯反應而得到之樹脂,進而使其與酸酐、倍羰烯或磺內酯反應而導入鹼可溶性基為更佳。藉此,能夠更提升分散安定性及顯像性。
前述的酸酐能夠使用眾所周知的酸酐,酸酐可舉出例如琥珀酸酐、戊二酸酐、伊康酸酐、順丁烯二酸酐、烯丙基琥珀酸酐、丁基琥珀酸酐、正辛基琥珀酸酐、正癸基琥珀酸酐、正十二烷基琥珀酸酐、正十四烷基琥珀酸酐、正二十二烯基琥珀酸酐、(2-己烯-1-基)琥珀酸酐、(2-甲基丙烷-1-基)琥珀酸酐、(2-十二烯-1-基)琥珀酸酐、正辛烯琥珀酸酐、(2,7-辛二烯-1-基)琥珀酸酐、乙醯基蘋果酸酐、二乙醯基酒石酸酐、氯橋酸酐、環己烷-1,2-二羧酸酐、3或4-甲基環己烷-1,2-二羧酸酐、四氟琥珀酸酐、3或4-環己烯-1,2-二羧酸酐、4-甲基-4-環己烯-1,2-二羧酸酐、酞酸酐、四氯酞酸酐、萘二甲酸酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、焦蜜石酸二酐、內消旋(meso)-丁烷-1,2,3,4-四羧酸二酐、1,2,3,4環戊烷羧酸二酐等)等。
磺內酯能夠使用眾所周知的磺內酯,可舉出例如丁烷磺內酯及丙烷磺內酯。
前述酸酐之中,特別是以碳數4~20的酸酐為佳,從分散安定性及顯像性的觀點,以碳數4~10的酸酐為更佳。
本發明的(A)特定樹脂係相對於(B)顏料以5~80質量%為佳,以10~70質量%為最佳。藉由在該範圍,分散性及色濃度變為良好,且使用於著色硬化性組成物時之圖案形成性亦變為良好。
(B)顏料
本發明所使用的顏料能夠使用先前眾所周知的各種無機顏料或有機顏料,以高透射率者為佳。
無機顏料可舉出金屬氧化、金屬錯合物等所示之金屬化合物。具體上可舉出鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、鋅、銻等金屬氧化物及前述金屬的複合氧化物。
有機顏料可舉出例如C.I.顏料黃11、24、31、53、83、93、99、108、109、110、138、139、147、150、151、154、155、167、180、185、199;C.I.顏料橙36、38、43、71;C.I.顏料紅81、105、122、149、150、155、171、175、176、177、209、220、224、242、254、255、264、270;C.I.顏料紫19、23、32、39;C.I.顏料藍1、2、15、15:1、15:3、15:6、16、22、60、66、79、將79的Cl取代基變更為OH者、80;C.I.顏料綠7、36、37、58;C.I.顏料棕25、28;C.I.顏料黑1、7;等。
在本發明,以使用在顏料的結構式中具有鹼性的N原子者為特佳。具有此時鹼性的N原子之顏料在本發明的組成物中顯示良好的分散性。其原因雖未充分地明瞭,可推定係感光性聚合成分與顏料的親和性良好之影響。
在本發明之能夠使用的較佳顏料,能夠舉出以下者。但是本發明未限定此等。
C.I.顏料黃11、24、108、109、110、138、139、150、151、154、167、180、185;C.I.顏料橙36、71;C.I.顏料紅122、150、171、175、177、209、224、242、254、255、264;C.I.顏料紫19、23、32;C.I.顏料藍15:1、15:3、15:6、16、22、60、66;C.I.顏料綠7、36、37、58;C.I.顏料黑1、7;
此等有機顏料可單獨或是組合各種使用來提高色純度。上述組合的具體例如以下所示。例如,例如紅顏料可舉出蒽醌系顏料、苝系顏料、二酮吡咯并吡咯系顏料單獨或其等之中至少一種與二重氮系黃色顏料、異吲哚滿系黃色顏料、喹啉黃系黃色顏料或苝系紅色顏料的混合等。例如蒽醌系顏料可舉出C.I.顏料紅177,苝系顏料可舉出C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅224,二酮吡咯并吡咯系顏料可舉出C.I.顏料紅254,從色分解性而言,以與C.I.顏料黃139混合為佳。又,紅色顏料及黃色顏料的質量比以100:5~100:50為佳。100:4以下時會有因抑制從400奈米至500奈米的光透射率困難,而難以提高色純度的情形。又,100:51以上時,因主波長變為偏靠短波長,會有無法提升色分解性能的情形。特別是上述質量比以100:10~100:30的範圍為最佳。又,組合紅色顏料之間時,能夠配合所要求的分光來調整。
又,綠色顏料能夠單獨使用鹵化酞菁系顏料或是混合使用其與二重氮系黃色顏料、喹啉黃系黃色顏料、甲亞胺系黃色顏料或異吲哚滿系黃色顏料。例如,此種例子以混合C.I.顏料綠7、36、37、58與C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃180、或C.I.顏料黃185為佳。綠顏料與黃色顏料的質量比以100:5~100:150為佳。上述質量比以100:30~100:120的範圍為特佳。
藍色顏料能夠單獨使用酞菁系顏料、或是混合使用其與二 系紫色顏料。例如以混合C.I.顏料藍15:6與C.I.顏料紫23為佳。藍色顏料與紫色顏料的質量比以100:0~100:100為佳,以100:10以下為更佳。
又,黑色矩陣用顏料能夠單獨或混合使用碳、鈦黑、氧化鐵、氧化鈦,以碳與鈦黑之組合為佳。又,碳與鈦黑之質量比以100:0~100:60的範圍為佳。
使用作為彩色濾光片用時,從顏色不均或對比之觀點,顏料的一次粒徑以100奈米以下為佳。又,從分散安定性之觀點,以5奈米以上為佳。顏料的一次粒徑以5~50奈米為較佳,以5~40奈米為更佳,以5~35奈米為特佳。本發明的特定樹脂在5~35奈米時,特別地能夠發揮效果。
顏料的一次粒徑能夠藉由電子顯微鏡等眾所周知的方法來測定。
其中,顏料以選自蒽醌系、次甲基偶氮系、亞苄基系、花青苷系、二酮吡咯并吡咯系、酞菁系之顏料為佳。
本發明之較佳形態係藉由使用(A)特定樹脂、(B)顏料、及按照必要之(E)溶劑,預先使其分散來調製顏料分散液,並對其添加(C)光聚合引發劑、(D)含乙烯性不飽和雙鍵的化合物而成為著色硬化性組成物。藉由預先調製顏料分散液,能夠提升顏料的分散性,又,著色硬化性組成物的製造能夠合理地實施。
在顏料分散液的顏料之含有量,係相對於顏料分散液的總固體成分以30~70質量%為佳,以35質量%以上為更佳,以40質量%以上為最佳。本發明的特定樹脂為40質量%以上時,特別地能夠發揮效果。
(E)溶劑
本發明的顏料分散液係含有至少一種溶劑。(E)溶劑可舉出選自以下所示的有機溶劑,能夠考慮在顏料分散液中所含有各成分之溶解性、或硬化性組成物的分散安定性、塗布性等而選擇。若能夠滿足該等需要的物性時,沒有特別限定,以考慮安定性而選擇為佳。
溶劑的具體例,酯類較佳是例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基乙酸丁酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-側氧基丙酸甲酯、2-側氧基丙酸乙酯等;醚類較佳是例如二甘醇二甲基醚、四氫呋喃、乙二醇一甲基醚、乙二醇單乙基醚、甲基賽路蘇乙酸酯(乙二醇一甲基醚乙酸酯)、乙基賽路蘇乙酸酯(乙二醇一乙基醚乙酸酯)、二甘醇一甲基醚、二甘醇一乙基醚、二甘醇一丁基醚、二甘醇一乙基醚乙酸酯、二甘醇一丁基醚乙酸酯、丙二醇甲基醚、丙二醇甲基醚乙酸酯、丙二醇乙基醚乙酸酯、丙二醇丙基醚乙酸酯等。
酮類較佳是例如甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮及3-庚酮等;芳香族烴類較佳是例如甲苯、二甲苯等。
此等之中,以3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基賽路蘇乙酸酯、乳酸乙酯、二甘醇二甲基醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、二甘醇一乙基醚乙酸酯、二甘醇丁基醚乙酸酯、丙二醇甲基醚、丙二醇一甲基醚乙酸(PGMEA)等為更佳。
在本發明所使用的顏料分散液之(E)溶劑的含量,以50~90質量%為佳,以60~95質量%為更佳,以70~90質量%為最佳。藉由溶劑的含量在上述範圍內,就抑制異物的產生而言係有利的。
本發明的顏料分散液以更含有顏料衍生物為佳。特別是藉由含有具有酸性基之顏料衍生物,分散性、分散安定性係飛躍性地提升。
顏料衍生物以酸性基、鹼性基或酞醯亞胺甲基取代有機顏料、蒽醌類或吖啶酮類的一部分而成之結構為佳。構成顏料衍生物之有機顏料可舉出二酮吡咯并吡咯系顏料、偶氮、雙偶氮、多偶氮等的偶氮系顏料、銅酞菁、鹵化銅酞菁、無金屬酞菁等的酞菁系顏料、胺基蒽醌、二胺基二蒽醌、蒽嘧啶、黃蒽酮、蒽酮垛蒽酮、標準還原藍、吡蒽二酮(pyranthron)、蒽酮紫等的蒽醌系顏料、喹吖酮系顏料、二 系顏料、紫環酮(perinone)系顏料、苝(perylene)、硫靛藍(thioindigo)系顏料、異吲哚滿系顏料、異吲哚滿酮系顏料、喹啉黃系顏料、士林(threne)系顏料、金屬錯合物系顏料等。
顏料衍生物所具有的酸性基,以磺酸、羧酸及其4級銨鹽為佳。又,顏料衍生物所具有的酸性基以胺基為佳。顏料衍生物的使用量沒有特別限制,相對於顏料以使用5~80質為佳,以使用10~50質量%為更佳。
在本發明的顏料分散液,亦可更添加高分子分散劑[例如聚醯胺胺及其鹽、聚羧酸及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改性聚胺基甲酸酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸福馬林縮合物]、及聚氧化乙烯烷基磷酸酯、聚氧化乙烯烷基胺、烷醇胺等的分散劑作為分散助劑。
高分子分散劑依其結構亦可進而分類為直鏈狀高分子、末端改性高分子、接枝型高分子及嵌段型高分子。
高分子分散劑的作用係吸附在顏料的表面,用以防止再凝聚。因此,可舉出較佳結構有對顏料表面具有錨固(anchor)部位之末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。
本發明能夠使用之眾所周知的顏料分散劑的具體例,可舉出BYK Chemie公司製的Disperbyk-101(聚醯胺胺磷酸鹽)、107(羧酸酯)、110(含酸基之共聚物)、130(聚醯胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚物)、「BYK-P104、P105(高分子量不飽和聚羧酸)」、EFKA公司製「EFKA4047、4050、4010、4165(聚胺基甲酸酯系)、EFKA4330、4340(嵌段共聚物)、4400、4402(改性聚丙烯酸酯)、5010(聚酯型醯胺)、5765(高分子量聚羧酸鹽)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750(偶氮衍生物)」、AJINOMOTO FINETECHNO公司製「AJISPER PB821、PB822」、共榮社製「FLOWLEN TG-710(胺基甲酸酯低聚物)」、「POLYFLOW No.50E、No.300(丙烯酸系共聚物)」、楠本化成公司製「DISPARLON KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多元羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725」、花王公司「DEMOL RN、N(萘磺酸福馬林縮聚物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸福馬林縮聚物)」、「HOMOGENOL L-18(高分子聚羧酸)」、「EMULGEN920、930、935、985(聚氧乙烯壬基苯基醚)」、ACETAMIN 86(硬脂醯胺乙酸酯)、LUBRIZOL公司製「SOLPERSE 5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮顏料衍生物)、13240(聚酯型胺)、3000、17000、27000(在末端具有功能部之高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)」、日光CHEMICAL公司製「NIKKOL T106(聚氧乙烯山梨糖醇酐一油酸酯)、MYS-IEX(聚氧乙烯一硬脂酸酯)」等。
該等分散助劑可單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。使用分散助劑時,在本發明之分散助劑的含量,相對於本發明的特定樹脂,以1質量%~100質量%為佳,以3質量%~80質量%為較佳,以5質量%~50質量%為更佳。
本發明的著色硬化性組成物係含有(C)光聚合引發劑,及(D)含乙烯性不飽和雙鍵的化合物者,藉此,能夠提供一種圖案解像性、顏色特性、塗布性、顯像性優良之著色硬化性組成物。
(C)光聚合引發劑
為了提敏感度及圖案成形性,本發明的硬化性組成物以含有光聚合引發劑為佳。本發明之(C)光聚合引發劑係能夠藉由光而分解,來引發、促進在本發明之能夠聚合的成分產生聚合之化合物,以在波長300~500奈米的區域具有吸收者為佳。又,光聚合引發劑可單獨或並用2種以上。
光聚合引發劑可舉出例如有機鹵素化合物、二唑化合物、羰基化合物、縮酮化合物、苯偶姻化合物、吖啶化合物、有機過氧化化合物、偶氮化合物、香豆素化合物、疊氮化合物、金屬茂化合物、六芳基二咪唑化合物、有機硼酸化合物、二磺酸化合物、肟酯化合物、鎓鹽化合物、醯基膦(氧化物)化合物、烷胺基化合物等。
以下,詳述該等化合物。
有機鹵素化合物具體上可舉出在若林等「Bull Chem. Soc Japan」42、2924(1969年)、美國專利第3,905,815號說明書、特公昭46-4605號、特開昭48-36281號、特開昭55-32070號、特開昭60-239736號、特開昭61-169835號、特開昭61-169837號、特開昭62-58241號、特開昭62-212401號、特開昭63-70243號、特開昭63-298339號、M. P. Hutt“雜環化學期刊(Journal of Heterocyclic Chemistry”1(第3期),(1970年)」之文章所記載之化合物,特別是可舉出三鹵甲基取代之二唑化合物及s-三化合物。
s-三化合物更佳是至少1個單、雙、或三鹵素取代甲基鍵結於s-三環而成之s-三衍生物,具體上可舉出例如2,4,6-參(一氯甲基)-s-三、2,4,6-參(二氯甲基)-s-三、2,4,6-參(三氯甲基)-s-三、2-甲基-4,6-雙(三氯)-s-三、2-正丙基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(α,α,β-三氯乙基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(3,4-環氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(對氯苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-[1-(對甲氧基苯基)-2,4-丁二烯]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-苯乙烯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(對甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(對異丙氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(4-萘氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-苯硫基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-苄硫基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2,4,6-參(二溴甲基)-s-三、2,4,6-參(三溴甲基)-s-三、2-甲基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三及2-甲氧基-4,6-雙(三溴甲基)-s-三等。
二唑化合物可舉出2-三氯甲基-5-苯乙烯-1,3,4-二唑、2-三氯甲基-5-(氰基苯乙烯)-1,3,4-二唑、2-三氯甲基-5-(萘并-1-基)-1,3,4-二唑、2-三氯甲基-5-(4-苯乙烯)苯乙烯-1,3,4-二唑等。
羰基化合物可舉出二苯基酮、米其勒酮、2-甲基二苯基酮、3-甲基二苯基酮、4-甲基二苯基酮、2-氯二苯基酮、4-溴二苯基酮、2-羧基二苯基酮等二苯基酮衍生物、2,2-二甲氧基-2-苯基乙醯苯、2,2-二乙氧基乙醯苯、1-羥基環己基苯基酮、α-羥基-2-甲基苯基丙酮、1-羥基-1-甲基乙基-(對異丙基苯基)酮、1-羥基-1-(對十二烷基苯基)酮、2-甲基-(4’-(甲硫基)苯基)-2-啉-1-丙酮、1,1,1-三氯甲基-(對了基苯基)酮、2-苄基-2-二甲胺-4-啉丁醯苯等乙醯苯衍生物、噻噸酮(thioxanthone)、2-乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、2,4-二甲基噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2,4-二異丙基噻噸酮等噻噸酮衍生物、對二甲胺苯甲酸酯、對二乙胺苯甲酸酯等苯甲酸酯衍生物等。
縮酮化合物可舉出苄基甲基縮酮、苄基-β-甲氧基乙基縮醛等。
苯偶姻化合物可舉出間苯偶姻異丙基醚、苯偶姻異丁基醚、苯偶姻甲基醚、甲基鄰苯甲醯基苯甲酸酯等。
吖啶化合物可舉出9-苯基吖啶、1,7-二(9-吖啶基)庚烷等。
有機過氧化化合物可舉出例如過氧化三甲基環己酮、過氧化乙醯基丙酮、1,1-雙(第三丁基過氧)-3,3,5-三甲基環己烷、1,1-雙(第三丁基過氧)環己烷、2,2-雙(第三丁基過氧)丁烷、第三丁基過氧化氫、氫過氧化異丙苯、二異丙基苯過氧化氫、2,5-二甲基己烷-2,5-二過氧化氫、1,1,3,3-四甲基丁基過氧化氫、過氧化第三丁基異丙苯、過氧化二異丙苯、2,5-二甲基-2,5-二(第三丁基過氧)己烷、2,5-過氧化烷醯、過氧化琥珀酸、過氧化苯甲醯、過氧化2,4-二氯苯甲醯、二異丙基過氧化二碳酸酯、二-2-乙基己基過氧化二碳酸酯、二-2-乙氧基乙基過氧化二碳酸酯、二甲氧基異丙基過氧化二碳酸酯、二(3-甲基-3-甲氧基丁基)過氧化二碳酸酯、第三丁基過氧化乙酸酯、第三丁基過氧化異丁酸酯、第三丁基過氧化新癸酸酯、第三丁基過氧化辛酸酯、第三丁基過氧化月桂酸酯、第三碳酸酯、3,3’,4,4’-四-(第三丁基過氧化羰基)二苯基酮、3,3’,4,4’-四-(第三己基過氧化羰基)二苯基酮、3,3’,4,4’-四-(對異丙基異丙苯基過氧化羰基)二苯基酮、羰基二(第三丁基過氧化二氫二酞酸酯)、羰基二(第三己基過氧化二氫二酞酸酯)等。
偶氮化合物可舉出例如特開平8-108621號公報所記載之偶氮化合物等。
香豆素化合物可舉出例如3-甲基-5-胺基-((s-三-2-基)胺基)-3-苯基香豆素、3-氯-5-二乙胺基-((s-三-2-基)胺基)-3-苯基香豆素、3-丁基-5-二乙胺基-((s-三-2-基)胺基)-3-苯基香豆素等。
疊氮化合物可舉出例如美國專利第2848328號說明書、美國專利第2852379號說明書及美國專利第2940853號說明書所記載之有機疊氮化合物、2,6-雙(4-疊氮亞苄基)-4-乙基環己酮(BAC-E)等。
金屬茂化合物可舉出特開昭59-152396號公報、特開昭61-151197號公報、特開昭63-41484號公報、特開平2-249號公報、特開平2-4705號公報、特開平5-83588號公報所記載之各種二茂鈦(titanocene)化合物、例如二環戊二烯-Ti-聯苯、二環戊二烯-Ti-雙-2,6-二氟苯-1-基、二環戊二烯-Ti-雙-2,4-二氟苯-1-基、二-環戊二烯-Ti-雙-2,4,6-三氟苯-1-基、二-環戊二烯-Ti-雙-2,3,5,6-四氟苯-1-基、二-環戊二烯-Ti-雙-2,3,4,5,6-五氟苯-1-基、二-甲基環戊二烯-Ti-雙-2,6-二氟苯-1-基、二-甲基環戊二烯-Ti-雙-2,4,6-三氟苯-1-基、二-甲基環戊二烯-Ti-雙-2,3,5,6-四氟苯-1-基、二-甲基環戊二烯-Ti-雙-2,3,4,5,6-五氟苯-1-基、特開平1-304453號公報及特開平1-152109號公報所記載之鐵-芳烴(arene)錯合物等。
六芳基二咪唑化合物可舉出例如特公平6-29285號公報、美國專利第3,479,185號、同第4,311,783號、同第4,622,286號等各說明書所記載之各種化合物,具體上可舉出2,2’-雙(鄰氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰溴苯基))4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰,對溴二氯苯基))4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰氯苯基))4,4’,5,5’-肆(間甲氧基苯基)二咪唑、2,2’-雙(鄰,鄰二氯苯基))4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰硝基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰甲基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-雙(鄰三氟苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑等。
有機硼酸鹽化合物可舉出的具體例,例如特開昭62-143044號、特開昭62-150242號、特開平9-188685號、特開平9-188686號、特開9-188710號、特開2000-131837號、特開2002-107916號、特許第2764769號、特願2000-310808號等各公報及Kunz,Martin“Rad Tech’98. Proceeding April 19-22,1998年,Chicago”等所記載之有機硼酸鹽、特開平6-157623號公報、特開平6-175564號公報、特開平6-175561號公報所記載之有機硼鋶錯合物或有機硼氧鋶(boron oxosulfonium)錯合物、特開平6-175554號公報、特開平6-175553號公報所記載之有機硼碘鎓(boron iodonium)錯合物、特開平9-188710號公報所記載之有機硼鋶(boron phosphonium)錯合物、特開平6-348011號公報、特開平7-128785號公報、特開平7-140589號公報、特開平7-306527號公報、特開平7-292014號公報等之有機硼過渡金屬配位錯合物等。
二碸化合物可舉出例如特開昭61-166544號公報、特開2001-132318說明書等所記載之化合物等。
肟酯(oxime ester)化合物可舉出例如J.C.S. Perkin II(1979)1653-1660)、J.C.S. Perkin II(1979)156-162、光聚合物科學及技術期刊(Journal of Photopolymer Science and Technology)(1995年)202-232、特開2000-66385號公報、特開2000-80068號公報、特表2004-534797號公報所記載之化合物。
鎓鹽化合物可舉出例如S. I. Schlesinger,Potogr. Sci. Eng.,18,387(1974年)、T. S. Bal等人,Polymer,21,423(1980年)所記載之二唑鎓(diazonium)鹽、美國專利第4,069,055號說明書、特開平4-365049號等所記載之銨鹽、美國專利第4,069,055號、同4,069,056號的各說明書所記載之鎓鹽、歐洲專利第104、143號、美國專利第339,049號、同第410,201號之各說明書、特開平2-150848號公報、特開平2-296514號公報之各公報所記載之碘鎓鹽等。
發明適合使用的碘鎓鹽係二芳基碘鎓鹽,從安定性的觀點,以被2個以上烷基、烷氧基、芳氧(aryloxy)基等電子給予性基取代為佳。又,其他較佳的鋶鹽之形態,以三芳基鋶鹽的一個取代基係具有香豆素、蒽醌結構,且在300奈以上具有吸收之碘鎓鹽等為佳。
本發明適合使用之鋶鹽可舉出歐洲專利第370,693號、同390,214號、同233,567號、同297,443號、同297,442號、美國專利第4,933,377號、同161,811號、同410,201號、同339,049號、同4,760,013號、同4,734,444號、同2833,827號、德國專利第2,904,626號、同3,604,580號、同3,604,581號之各說明書所記載之鎓鹽,從安定性和敏感度而言,以被拉電子基取代為佳。拉電子基之哈曼特值以比0大為佳。較佳之拉電子基可舉出鹵素原子及羧酸等。
又,其他較佳鋶鹽可舉出三芳基鋶鹽之一個取代基具有香豆素、蒽醌結構且在300奈米以上具有吸收之鋶鹽。另外之較佳鋶鹽可舉出三芳基鋶鹽具有烯丙氧基(allyloxy)、芳硫基作為取代基且在300奈米以上具有吸收之鋶鹽。
又,鎓鹽化合物可舉出J. V. Crivello等人,大分子(Macromolecules),10(6),1307(1977年)、J. V. Crivello等人,J. Polymer Sci.,Polymer Chem Ed.,17,1047(1979年)所記載之硒鎓(selenonium)鹽、C. S. Wen等人,Teh,Proc. Conf. Rad. Curing ASIA,第478頁Tokyo,10月(1988年)所記載之砷鎓鹽(arsonium)等鎓鹽。
醯基膦(氧化物)化合物可舉出CIBA SPECIALTY CHEMICAL公司製之IRGACURE819、DAROCURE 4265、DAROCURE TPO等。
烷胺基化合物可舉出例如特開平9-281698號公報的段落號碼[0047]、特開平6-19240號、特開平6-19249號所記載之具有二烷胺基苯基之化合物或烷胺化合物。具體上,具有二烷胺基苯基之化合物可舉出對二甲胺基苯甲酸乙酯等的化合物、或對二乙胺基苯醛、9-喹啉基醛等的二烷胺基苯基醛,烷基胺化合物可舉出三乙醇胺、二乙醇胺、三乙胺。
從曝光敏感度化的觀點,(C)光聚合引發劑以選自由三系化合物、烷胺基化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦系化合物、氧化膦系化合物、金屬茂化合物、肟系化合物、二咪唑系化合物、鎓系化合物、苯并噻唑化合物、二苯基酮系化合物、乙醯苯化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、鹵甲氧基二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物所組成群組之化合物為佳。
以三系化合物、烷基胺化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦系化合物、肟系化合物、二咪唑系化合物、鎓系化合物、二苯基酮系化合物及乙醯苯化合物為較佳;以選自由三系化合物、烷基胺化合物、肟系化合物、二咪唑系化合物所組成群組之至少一種化合物為更佳。
特別是將本發明的著色硬化性組成物,使用於形成固體攝像元件的彩色濾光片之著色像素時,因為在處方上,著色硬化性組成物中的顏料濃度變高,引發劑的添加量變少,敏感度會降低。又,使用步進機進行曝光時,使用如三系化合物等在曝光時會產生含鹵素的化合物之引發劑時,由於機器腐蝕的原因而不容易使用。考慮該等時,滿足敏感度及各種性能之光聚合引發劑,以肟系化合物為佳,特別是以在365奈米有吸收之肟系化合物為最佳。
(C)光聚合引發劑的含量係相對於著色硬化性組成物的總固體成分以0.1~50質量%為佳,以0.5~30質量%為更佳,以1~20質量%為特佳。在此範圍能夠得到良好的敏感度及圖案形成性。
(D)含乙烯性不飽和雙鍵的化合物
能夠使用於本發明的著色硬化性組成物之含有至少一個乙烯性不飽和雙鍵之化合物具有至少一個乙烯性不飽和雙鍵之加成聚合性化合物,能夠選自具有至少1個、較佳是具有2以上末端乙烯性不飽和鍵之化合物。此種化合物群在該產業領域係廣被知悉者,在本發明,此等沒有特別限定而可以使用。此等具有例如單體、預聚物、亦即二聚物、三聚物及低聚物、或此等的混合物及此等的共聚物等化學形態。
單體及其共聚物的例子能夠舉出不飽羧酸(例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、伊康酸、巴豆酸、異巴豆酸、順丁烯二酸等)、其酯類、醯胺類,較佳是使用不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物之酯、不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物之醯胺類。又,具有羥基或胺基、氫硫基等親核性取代基之不飽羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能異氰酸酯類或環氧類加成反應物,及與單官能或多官能羧酸之脫水縮合反應物等亦適合使用。又,具有異酸酯基或環氧基等親電子性取代基之不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類之加成反應物,而且具有鹵素基、或對甲苯磺醯氧基等脫離性取代基之不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能醇類、胺類、硫醇類之取代反應物亦適合。又,其他例子亦能夠使用不飽和磺酸、苯乙烯、乙烯醚等取代上述不飽和羧酸而成的化合物群。
脂肪族多元醇化合物與不飽和羧酸之酯之單體的具體例,丙烯酸酯有:乙二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、伸丁二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羥甲基三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、1,4-環己二醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、新戊四醇二丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯、二新戊四醇二丙烯酸酯、二新戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、參(丙烯醯氧基乙基)三聚異氰酸酯、聚酯型丙烯酸酯低聚物、三聚異氰酸EO改性三丙烯酸酯等。
甲基丙烯酸酯有:四甘醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1,3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、新戊四醇二甲基丙烯酸酯、新戊四醇三甲基丙烯酸酯、新戊四醇四甲基丙烯酸酯、二新戊四醇二甲基丙烯酸酯、二新戊四醇六甲基丙烯酸酯、山梨糖醇三甲基丙烯酸酯、山梨糖醇四甲基丙烯酸酯、雙[對-(3-甲基丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)苯]甲基甲烷及雙-[對(甲基丙烯醯氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷等。
伊康酸酯有:乙二醇二伊康酸酯、丙二醇二伊康酸酯、1,3-丁二醇二伊康酸酯、1,4-丁二醇二伊康酸酯、四甘醇二伊康酸酯、新戊四醇二伊康酸酯、山梨糖醇四伊康酸酯等。巴豆酸酯有:乙二醇二巴豆酸酯、四甘醇二巴豆酸酯、新戊四醇二巴豆酸酯、山梨糖醇四巴豆酸酯等。異巴豆酸酯有:乙二醇二異巴豆酸酯、新戊四醇二異巴豆酸酯、山梨糖醇四異巴豆酸酯等。順丁烯二酸酯有:乙二醇二順丁烯二酸酯、三甘醇二順丁烯二酸酯、新戊四醇二順丁烯二酸酯及山梨糖醇四順丁烯二酸酯等。
其他的酯之例子,例如有特公昭51-47334、特開昭57-196231所記載之脂肪族醇系酯類、或特開昭59-5240、特開昭59-5241、特開平2-226149所記載之具有芳香族系骨架者、特開平1-165613所記載之含有胺基者等。而且,前述酯單體亦能夠以混合物的形式使用。
而且,亦能夠使用含酸基之單體,可舉出例如(甲基)丙烯酸、新戊四醇三丙烯酸琥珀酸單酯、二新戊四醇五丙烯酸琥珀酸單酯、新戊四醇三丙烯酸順丁烯二酸單酯、二新戊四醇五丙烯酸順丁烯二酸單酯、新戊四醇三丙烯酸酞酸單酯、二新戊四醇五丙烯酸酞酸單酯、新戊四醇三丙烯酸四氫酞酸單酯、二新戊四醇五丙烯酸四氫酞酸單酯等。該等之中,可舉出新戊四醇三丙烯酸琥珀酸單酯等。
又,脂肪族多元胺化合物與不飽和羧酸之醯胺的單體之具體例有亞甲基雙丙烯醯胺、亞甲基雙甲基丙烯醯胺、1,6-六亞甲基雙丙烯醯胺、1,6-六亞甲基雙甲基丙烯醯胺、二伸乙三胺三丙烯醯胺、苯二甲基雙丙烯醯胺、苯二甲基雙甲基丙烯醯胺等。其他的較佳醯胺系單體可舉出例如特公昭54-21726號公報所記載之具有環己烯結構者。
又,使用異氰酸酯與羥基的加成反應而製成的胺基甲酸酯系加成聚合性化合物亦佳,此種具體例可舉出例如特公昭48-41708號公報中所記載之對在1分子具有2個以上異氰酸酯基之聚異氰酸酯化合物,加添下述通式所示化合物之含有羥基之乙烯單體而成之在1分子中具有2個以上聚合性乙烯基之乙烯基胺基甲酸酯化合物等。
通式CH2 =C(R10 )COOCH2 CH(R11 )OH
(其中,R10 及R11 係表示H或CH3 )
又,如特開昭51-37193號、特公平2-32293號及特公平2-16765號所記載之丙烯酸胺基甲酸酯類、特公昭58-49860號、特公昭56-17654號、特公昭62-39417號及特公昭62-39418號所記載之具有環氧乙烷系骨架之胺基甲酸酯化合物類亦佳。而且藉由使用特開昭63-277653號、特開昭63-260909號及特開平1-105238號所記載之在分子內具有胺基結構或硫醚結構之加成聚合性化合物,能夠得到感光速度非常優良之著色硬化性組成物。
其他的例子,可舉出例如特開昭48-64183號、特公昭49-43191號及特公昭52-30490號各公報所記載之聚酯型丙烯酸酯類、環氧樹脂與(甲基)丙烯酸反應而成之環氧丙烯酸酯類等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。又,亦可舉出例如特公昭46-43946號、特公平1-40337號及特公平1-40336號各公報所記載之特定不飽和化合物、或特開平2-25493號所記載之乙烯基磺酸系化合物。又,某種情況下,特開昭61-22048號所記載之含有全氟烷基結構係適合使用的。而且,亦可使用日本黏著協會刊物第20卷、第7期、第300~308頁(1984年)介紹作為光硬化性單體及低聚物者。
此等加成聚合性化合物之結構、單獨使用或併用、添加量使用方法之詳細情況係能夠配合著色硬化性組成物最後性能設計而任意設定。例如,能夠從以下觀點選擇。
從敏感度而言,以每1分子之不飽和基含量多的結構為佳,多半情況係以2官能基以上為佳。又,為了提高畫像部也就是硬化膜的強度,以3官能以上者為更佳,而且,藉由併用不同官能數、不同聚合性基(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯醚系化合物),來調節敏感度及強度雙方的方法亦是有效的。從硬化感度的觀點,以使用含有2個以上的(甲基)丙烯酸酯結構之化合物為,以使用含有3個以上之化合物為較佳,以使用含有4個以上之化合物為最佳。又,硬化感度及未曝光部的顯像性之觀點時,以含有EO改性體為佳。又,硬化感度及曝光部強度的觀點時,以具有胺基甲酸酯鍵為佳。
又,即使對於著色硬化性組成物中所含有的其他成分(例如,樹脂、光聚合引發劑、顏料)之相溶性、分散性,加成聚合化合物的選擇、使用方法係重要因素,例如藉由使用低純度化合物或並用2種以上,能夠提升相溶性。又,為了提高與基板等的黏附性之目的,亦能夠選擇特定構造。
從以上的觀點,可舉出較佳者有雙酚A二丙烯酸酯、雙酚A二丙烯酸酯EO改性體、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三羥甲基乙烷三丙烯酸酯、四乙二醇二丙烯酸酯、新戊四醇二丙烯酸酯、新戊四醇三丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯、二新戊四醇四丙烯酸酯、二新戊四醇五丙烯酸酯、二新戊四醇六丙烯酸酯、山梨糖醇三丙烯酸酯、山梨糖醇四丙烯酸酯、山梨糖醇五丙烯酸酯、山梨糖醇六丙烯酸酯、三(丙烯醯氧基乙基)三聚異氰酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯EO改性體及二新戊四醇六丙烯酸酯EO改性體為佳。又,市售品以胺基甲酸酯低聚物UAS-10、UAB-140(山陽國策PULP公司製)、DPHA-40H(日本化藥公司製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮社製)、UA-7200(新中村化學公司製)為佳。
其中,以雙酚A二丙烯酸酯EO改性體、新戊四醇三丙烯酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯、二新戊四醇五丙烯酸酯、二新戊四醇六丙烯酸酯、三(丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸酯、新戊四醇四丙烯酸酯EO改性體及二新戊四醇六丙烯酸酯EO改性體等為更佳,市售品係以DPHA-40H(日本化藥公司製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮社製)為更佳。
本發明中之(D)含乙烯性不飽和雙鍵的化合物之含量在著色硬化性組成物的固體成分中,以1質量%~90質量%為佳,5質量%~80質量%為較佳,以10質量%~70質量%為更佳。
特別是將本發明的著色硬化性組成物用於形成彩色濾光片的著色圖案時,(D)含乙烯性不飽和雙鍵的化合物之含量以在上述範圍之5質量%~50質量%為佳,以7質量%~40質量%為較佳,以10~35質量%為更佳。較佳為在該等範圍時顯像性優良且圖案形狀變為良好。
本發明的著色硬化性組成物以更含有(F)鹼可溶性樹脂為佳。藉由含有鹼可溶性樹脂,能夠提升顯像性、圖案成形性。
(F)鹼可溶性樹脂
在本發明能夠使用的鹼可溶性樹脂係線狀有機高分子聚合物,能夠從在分子(較佳是以丙烯酸系共聚物、苯乙烯性共聚物為主鏈之分子)中含有至少一個能夠促進鹼可溶性之基(例如羧基、磷酸基、磺酸基、羥基等)之鹼可溶性樹脂中適當地選擇。
上述作為鹼可溶性樹脂之較佳物,可舉出在側鏈具有羧酸基之聚合體,例如特開昭59-44615號、特公昭54-34327號、特公昭58-12577號、特公昭54-25957號、特開昭59-53836號、特開昭59-71048號所記載之甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、伊康酸共聚物、巴豆酸共聚物、順丁烯二酸共聚物、部分酯化之順丁烯二酸共聚物等,及在側鏈具有羧酸之酸性纖維素衍生物、具有羥基之聚合物中加添酸酐而成者等的丙烯酸系共聚物。
酸價為20~200mgKOH/g,以30~150mgKOH/g為佳,以35~120mgKOH/g的範圍為更佳。
鹼可溶性樹脂之具體的構成單位係以(甲基)丙烯酸與能夠與其共聚合的其他單體之共聚物為特佳。前述能夠能夠與(甲基)丙烯酸共聚合的其他單體可舉出(甲基)丙烯酸烷酯、(甲基)丙烯酸芳酯及乙烯系化合物等。在此烷基及芳基的氫原子亦可被取代基取代。
前述(甲基)丙烯酸烷酯及(甲基)丙烯酸芳酯係CH2 =C(R1 )(COOR3 )[在此,R1 係表示氫原子或碳數1~5的烷基,R3 係表示碳數1~8的烷基或碳數6~12的芳烷基]。具體例可舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸羥基烷酯(烷基係碳數1~8的烷基)、甲基丙烯酸羥基環氧丙酯及甲基丙烯酸四氫糠酯等。
又,在分子側鏈具有聚環氧烷鏈之樹脂亦佳。前述聚環氧烷鏈係聚環氧乙烷鏈、聚環氧丙烷鏈及聚伸丁二醇鏈或者亦可並用該等,末端係氫原子或是直鏈或分枝的烷基。
聚環氧乙烷鏈及聚環氧丙烷鏈的重複單位以1~20為佳,以2~12為更佳。在該等的側鏈具有聚環氧烷鏈之丙烯酸系共聚物係例如(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇-丙二醇)一(甲基)丙烯酸酯等及將該等末端OH基以烷基加以封鎖而成之化合物,例如甲氧基聚乙二醇一(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚(乙二醇-丙二醇)一(甲基)丙烯酸酯等作為共聚合成分之丙烯酸共聚物。
前述乙烯系化合物係CH2 =CR2 R4 [在此R2 係表示碳數6~10的芳香族烴環,R4 係表示氫原子或碳數1~5的烷基],具體上,可舉出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、聚苯乙烯大分子單體及聚甲基丙烯酸大分子等。
該等能夠共聚合之其他單體可單獨使用1種,亦可組合使用2種以上。較佳之能夠共聚合之其他單體有(甲基)丙烯酸烷酯(烷基係碳數2至4的烷基)、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯及苯乙烯。
此等之中,以(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物或(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物/其他單體所構成的多元共聚物為特佳。
該等丙烯酸系樹脂係如前所述,以具有20~200mgKOH/g的範圍之酸價為佳。酸價為大於200時,丙烯酸系樹脂對鹼之溶解性會變為太大,致使顯像適當範圍(顯像寬容度(latitude)變窄。另一方面,小於20時,因為對鹼之溶解性變小,致使顯像所需要的時間太長,乃是不佳。
又,為了實現使感光性著色組成物在塗布等製程上容易使用的黏度範圍,且為了確保膜強度,丙烯酸系樹脂的重量平均分子量Mw(依照GPC法(Gel Permeation Chromatography;凝膠滲透色譜法)所測定之聚苯乙烯換算值),以2,000~100,000為佳,以3,000~50,000為更佳。
在上述,使丙烯酸系樹脂在特定的範圍,係為了適當地調整各單體的共聚比率能容易地進行。又,使質量平均分子量的範圍在上述範圍,係藉由在單體的共聚合時,按照聚合方法而使用適當量的鏈轉移劑,能夠容易地進行。
丙烯酸樹脂能夠使用例如其本身為眾所周知的自由基聚合法來製造。使用自由基聚合法製造丙烯酸樹脂時之溫度、壓力、自由基引發劑的種類及其量、溶劑的種類等等聚合條件係該業者能夠容易地設定且條件設定係可能的。
在本發明的著色硬化性組成物添加鹼可溶性樹脂時之添加量,係組成物的總固體成分之5~90質量%為佳,以10~60質量%為更佳。鹼可溶性樹脂在該範圍時,因為膜厚度適當地提升,且顯像時之溶解度的控制變為容易,乃是較佳。又,就能夠容易地得到需要的厚度而言,乃是較佳。特別是對於適合於塗布寬幅且大面積的基板狹縫塗布,能夠得到產率高且良好的塗膜。
又,為了提升在本發明之感光性著色組成物的交聯效率,能夠單獨使用在鹼可溶性樹脂具有聚合性基之樹脂或併用未具有聚合性基的鹼可溶性樹脂,在側鏈含有芳基、(甲基)丙烯基、或芳氧基烷基等之聚合物等係有用的。
具有聚合性雙鍵之鹼可溶性樹脂係能夠在鹼性顯像液顯像,而且具光硬化性及熱硬化性者。
含有該等聚合性基之聚合物的例子係如以下所示,若在1分子中,含有COOH基、OH基等的鹼可溶性基與碳-碳間不飽和鍵者時,沒有特別限定。
(1)藉由使含有預先使異氰酸酯與OH基反應而殘留1個未反應的異氰酸酯基及至少1個(甲基)丙烯醯基之化合物、與含有羧基丙烯酸樹脂反應而得到之胺基甲酸酯改性而成之含聚合性雙鍵的丙烯酸樹脂,
(2)藉由含羧基之丙烯酸樹脂與在分子內同時具有環氧基及聚合性雙鍵之化合物反應而得到之含不飽和基的丙烯酸樹脂,
(3)酸側接型環氧丙烯酸樹脂,
(4)使含有OH基之丙烯酸樹脂與具有聚合性雙鍵之二元酸酐反應而成之含有聚合性雙鍵之丙烯酸樹脂。
上述之中以(1)及(2)的樹脂為佳。
在本發明具有聚合性雙鍵之鹼可溶性樹脂的酸價以30~150mgKOH/g為佳,以35~120mgKOH/g的範圍為更佳,又,質量平均分子量Mw以2,000~50,000為佳,以3,000~30,000為較佳。
具體例能夠使用在具有OH基之例如丙烯酸2-羥基乙酯、含有COOH基之例如甲基丙烯酸及能夠與此等共聚合之丙烯酸系或乙烯系化合物等的單體之共聚物,使含有具有對OH基具有反應性之環氧環及碳間不飽和鍵基之化合物(例如丙烯酸環氧丙酯等的化合物)反應而得到的化合物等。與OH基反應時除了環氧環以外,亦可使用具有酸酐、異氰酸酯基、丙烯醯基之化合物。又,亦能夠使用在特開平6-102669號公報、特開平6-1938號公報所記載之具有環氧環之化合物使如丙烯酸之不飽和羧酸反應而得到的化合物,使飽和或不飽和多元酸酐對其反應而得到的反應物。
同時具有如COOH基之鹼可溶化基及碳間不飽和基之化合物可舉出例如DIANAL NR系列(三菱RAYON(股)製);Photomer 6173(含COOH基之聚胺基甲酸酯丙烯酸低聚物(Polyurethane acrylic oligomer)、Diamond Shamrock公司製);VISCOTE R-264、KS RESIST 106(都是大阪有機化學工業製);CYLCOMER P系列、PLACCEL系列(都是DAICEL化學工業(股);Ebecryl 3800(DAICEL-CYTEC(股)製)等。
本發明的著色硬化性組成物亦可按照必要更含有以下詳述之成分。
<敏化劑>
為了提升聚合引發劑的自由基產生效率、感光波長的長波長化之目的,本發明的著色硬化性組成物亦可含有敏化劑。對前述光聚合引發劑而言,作為能夠使用於本發明之敏化劑係以能夠藉由電子轉移機構或能量轉移機構能使自由基引發劑敏化者為佳。在本發明能夠使用之敏化劑可舉出屬於以下所列舉的化合物、且在300奈米~450奈米的波長範圍具有吸收波長者。
較佳之敏化劑的例子,能夠舉出屬於以下化合物類、且在330奈米~450奈米的波長範圍具有吸收波長者。
可舉出例如多環芳香族類(例如,菲、蒽、芘、苝、聯三伸苯、9,10-二烷氧基蒽)、 類(例如,螢光素、曙紅、紅黴素、若丹明B、玫瑰紅)、噻噸酮類(異丙基噻噸酮、二乙基噻噸酮、氯噻噸酮)、花青類(例如噻碳花青、氧雜碳花青)、部花青素類(如部花青素、碳部花青素)、酞青類、噻類(例如噻嚀、亞甲藍、甲苯胺藍)、吖啶類(例如吖啶橙、氯黃素、吖啶黃)、蒽醌類(例如蒽醌)、角鯊鎓類(例如角鯊鎓)、吖啶橙、香豆素類(例如,7-二乙胺基-4-甲基香豆素)、氧代香豆素、啡噻類、啡類、苯乙烯基苯類、偶氮化合物、二苯基甲烷、三苯基甲烷、二苯乙烯苯類、咔唑類、紫菜鹼、螺化合物、喹吖酮、靛藍、苯乙烯、吡啶鎓化合物、亞甲吡咯化合物、吡唑三唑化合物、苯并噻唑化合物、巴比士酸衍生物、硫代巴比士酸衍生物、乙醯苯、二苯基酮、噻噸酮、米其勒酮等芳香族酮化合物及N-芳基唑烷酮等雜環化合物等。
而且,可舉出歐洲專利第568,993號說明書、美國專利第4,508,811號說明書、同5,227,227號說明書、特開2001-125255號公報、特開平11-271969號公報所記載之化合物等。
<聚合抑制劑>
在本發明中為了防止在著色硬化性組成物的製造中或是保存中,具有能夠聚合的乙烯性不飽和雙鍵之化合物產生不必要的熱聚合,以添加少量的熱聚合抑制劑為佳。
在本發明,能夠使用的熱聚合抑制劑可舉出氫醌、對甲氧基苯酚、二-第三丁基對甲酚、五倍子酚、第三丁基兒苯酚、苯醌、4,4’-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2’-亞甲雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)及N-亞硝基苯基羥胺亞鈰鹽等。
相對於全組成物固體成分,熱聚合抑制劑的添加量以0.01質量%~5質量%為佳。
又,按照必要為了防止氧阻礙聚合,亦可添加如蘿酸或蘿醯胺之高級脂肪酸衍生物,並使其在塗布後的乾燥過程時偏在感光層之表面。高級脂肪酸衍生物的添加量,以佔全組成物固體成分的約0.5質量%~約10質量%為佳。
<其他添加劑>
而且,在本發明,亦可添加用以改良硬化皮膜的物性之無機填料、或可塑劑、用以提高基板黏附性之基板黏附劑。
可塑劑有例如酞酸二辛酯、酞酸二-十二烷酯、三甘醇二辛酸酯、二甲基乙二醇酞酸酯、磷酸三甲苯酯、己二酸二辛酯、癸二酸二丁酯及三乙醯甘油等,使用鹼可溶性樹脂時,相對於具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物及鹼可溶性樹脂時的合計質量,可添加10質量%以下。
將本發明的著色硬化性組成物應用於硬質材料表面時,亦可添加用以提升與該硬質材料表面的黏附性之添加劑(以下,稱為「基板黏附劑」)。
雖然基板黏附劑能夠使用眾所周知的材料,但以使用矽烷系偶合劑、鈦酸酯系偶合劑、鋁系偶合劑為特佳。
矽烷系偶合劑可舉出例如γ-(2-胺基乙基)胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-(2-胺基乙基)胺基丙基二甲氧基矽烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、γ-丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、N-β-(N-乙烯苄基胺基乙基)-γ-胺基丙基三氧基矽烷-鹽酸鹽、γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、胺基矽烷、γ-氫硫基丙基三甲氧基矽烷、γ-氫硫基丙基三乙氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、γ-氯丙基三甲氧基矽烷、六甲基二矽氮烷、γ-苯胺基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(β-甲氧基乙氧基)矽烷、氯化十八基二甲基[3-(三甲氧基矽烷基)丙基]銨、γ-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-氫硫基丙基甲基二甲氧基矽烷、甲基三氯矽烷、二甲基二氯矽烷、三甲基氯矽烷、2-(3,4-乙氧基氯己基)乙基三甲氧基矽烷、雙烯丙基三甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、雙(三甲氧基矽烷基)己烷、苯基三甲氧基矽烷、N-(3-丙烯醯氧基-2-羥基丙基)-3-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-(3-甲基丙烯醯氧基-2-羥基丙基)-3-胺基丙基三乙氧基矽烷、(甲基丙烯醯氧基甲基)甲基二乙氧基矽烷及(丙烯醯氧基甲基)甲基二甲氧基矽烷等。
其中,以γ-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、γ-丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷、γ-丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、γ-氫硫基丙基三甲氧基矽烷、γ-胺基丙基三乙氧基矽烷及苯基三甲氧基矽為佳,以γ-甲基丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷為最佳。
鈦酸酯系偶合劑可舉出例如異丙基三異硬脂醯基鈦酸酯、異丙基十三癸基苯磺醯基鈦酸酯、異丙基參(二辛基焦磷酸)鈦酸酯、四異丙基雙(二辛基亞磷酸)鈦酸酯、四辛基雙(二-十三烷基亞磷酸)鈦酸酯、四(2,2-二烯丙氧甲基)雙(二-十三烷基)亞磷酸鈦酸酯、雙(二辛基焦磷酸)氧乙酸鈦酸酯、雙(二辛基焦磷酸)伸乙基鈦酸酯、異丙基三辛醯基鈦酸酯、異丙基二甲基丙烯醯基異硬脂醯基鈦酸酯、異丙基異硬脂醯基二丙烯醯基鈦酸酯、三異丙基三(二辛基磷酸)鈦酸酯、異丙基三異丙苯基苯基鈦酸酯、異丙基三(N-醯胺乙基-胺乙基)鈦酸酯、二異丙苯基苯氧基乙酸鈦酸酯、二異硬脂醯基伸乙基鈦酸酯等。
鋁系偶合劑可舉出例如二異丙酸乙醯烷氧基鋁等。
從不會在著色硬化性組成物的未曝光部殘留殘渣的觀點來看,相對於本發明的著色硬化性組成物之總固體成分,基板黏附劑的添加量以0.1質量%以上、30質量%以下為佳,以0.5質量%以上、20質量%以下為更佳,以1質量%以上、10質量%以下為特佳。
本發明的著色硬化性組成物能夠以高敏感度硬化,且保存安定性亦良好。又,對應用硬化性組成物之基板等的硬質材料表面亦顯示高黏附性。因此,本發明的著色硬化性組成物能夠適合使用於三維光造形或全息攝影、彩色濾光片之畫像形成材料或印墨、塗料、黏合劑、被覆劑等的領域。
又,因為本發明的著色硬化性組成物即便以高濃度含有微細的顏料,亦能夠形成顏料分散安定性及顯像性優良、高精細且顏色特性良好的著色區域,所以製造固體攝像元件用的彩色濾光片、特別是形成膜厚為0.8微米以下、較佳是0.1~0.5微米的範圍的像素時,藉由使用本發明的著色硬化性組成物,其效果係顯著的。
[彩色濾光片及其製法]
接著,說明本發明的彩色濾光片及其製法。
本發明的彩色濾光片係在支撐體上,具有使用本發明的著色硬化性組成物而構成的著色圖案。
以下,透過其製造方法(本發明的彩色濾光片之製法)來詳細本發明的彩色濾光片。
本發明的彩色濾光片之製法係包含:著色層形成製程,其係在支撐體上,塗布本發明的著色硬化性組成物來形成由該硬化性組成物所構成的著色層;曝光製程,其係透過光罩將前述著色層曝光;及顯像製程,其係將曝光後的著色層顯像來形成著色圖案。
以下,說明本發明的製法之各製程。
<著色層形成製程>
著色層形成製程係在支撐體塗布本發明的著色硬化性組成物來形成由該硬化性組成物所構成的著色層。
在本製程能夠使用的支撐體,可舉出例如液晶顯示裝置等所使用的無鹼玻璃、鈉鈣玻璃、派勒斯(PYREX)(註冊商標)玻璃、石英玻璃及在該等黏附透明導電膜而成者,或固體攝像元件等所使用的光電轉換元件基板、例如矽基板等或互補金氧半導體(CMOS)等。該等會亦有形成有用以隔離各像素的黑色矩陣之情形。
又,在該等支撐體上,亦可按需要設置底塗層,用以改良與上部的層之黏附、防止物質擴散或為了基板表面的平坦化之目的。
在支撐體上塗布本發明的著色硬化性組成物之方法,能夠應用狹縫塗布、噴墨法、旋轉塗布、流延塗布、輥塗布、網版印刷法等各種賦予方法。
從塗布膜的膜厚度均勻性、塗布溶劑之乾燥容易性之觀點,著色硬化性組成物之塗布後的膜厚度以0.1~10微米為佳,以0.2~5微米為較佳,以0.2~3微米為更佳。
在基板上所塗布的著色層(硬化性組成物層)之乾燥(預烘烤)能夠藉由使用熱板、烘箱等在50℃~140℃的溫度進行10~300秒。
著色硬化性組成物的乾燥後之塗布膜厚度(以下,簡稱「乾燥膜厚」),使用作為LCD用彩色濾光片之目的時,從能夠對應LCD薄型化、確保色濃度之觀點來看,以0.8微米以上、小於2.8微米為佳,以0.8微米以上、2.4微米以下為更佳,以1.0微米以上、2.2微米以下為特佳。
又,使用作為固體攝像元件用彩色濾光片之目的時,從確保色濃度、減少斜向光線無法受光部及元件的端部與中央聚光率的差異變為顯著等的不良之觀點來看,以0.05微米以上、小於1.0微米為佳,以0.1微米以上、0.8微米以下為更佳,以0.2微米以上、0.7微米以下為特佳。
<曝光製程>
曝光製程係將在前述著色層形成製程所形成的的著色層(硬化性組成物層),透過具有規定的光罩圖案的光罩來進行曝光。
在本製程之曝光,塗布膜的圖案曝光能夠藉由透過規定的光罩圖案而曝光,只有使被光照射的塗布膜部分硬化來進行。在曝光時能夠使用的放射線,以使用g射線、h射線、i射線等的紫外線為特佳。照射量以5~1500mJ/cm2 為佳,以10~1000mJ/cm2 為更佳,以10~500mJ/cm2 為最佳。
本發明的彩色濾光片係液晶顯示裝置用時,上述範圍中以5~200mJ/cm2 為佳,以10~150mJ/cm2 為更佳,以10~100mJ/cm2 為最佳。又,本發明的彩色濾光片係固體攝像元件用時,上述範圍中以30~1500mJ/cm2 為佳,以50~1000mJ/cm2 為更佳,以80~500mJ/cm2 為最佳。
<顯像製程>
接著,藉由進行鹼性顯像處理(顯像製程),使在上述曝上述曝光之光未照射部分溶出至鹼性水溶液,而只有殘留經光硬化的部分。使用顯像液顯像,能夠形成由各色(3色或4色以上)的像素所構成的圖案狀皮膜。顯像液係以不會對下層的電路等產生損傷之有機鹼顯像液為佳,但是亦可以使用無機鹼性顯像液。顯像溫度係通常為20℃~30℃,顯像時間為20~90秒。
顯像液所使用的鹼劑可舉出例如氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲銨、氫氧化四乙銨、膽鹼(choline)、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜二環-[5.4.0]-7-十一烯等的有機火鹼性化合物,以將該等鹼劑以濃度為0.001~10質量%、較佳是0.01~1質量%的方式以純水稀釋而成之鹼性水溶液作為顯像液為佳。又,使用由此種鹼性水溶液所構成的顯像液時,通常係在顯像後使用純水洗淨(rinse)。接著進行乾燥。
又,在本發明的製法,在進行上述的著色層形成製程、曝光製程及顯像製程後,亦可按照必要含有硬化製程,用以藉由將所形成的著色圖案加熱(後烘烤)及/或曝光來進而硬化。
後烘烤係用以使硬化完全之顯像後的加熱處理,通常係進行100℃~240℃的熱硬化處理。基板係玻璃基板或矽基板時,上述溫度範圍中以200℃~240℃為佳。
該後烘烤處理能夠藉由將顯像後的塗膜,以上述條件的方式使用熱板或熱風循環式乾燥機(convection oven)、高頻加熱機等的加熱手段且以連續式或分批式來進行。
藉由依照需要的色相數重複進行以上說明的著色層形成製程、曝光製程及顯像製程(進而,按照需要之硬化製程),能夠製造由需要的色相所構成的彩色濾光片。
本發明的著色硬化性組成物之用途,雖然主要是以在彩色濾光片的像素之用途作為主體進行了前述說明,但是當然不必說,亦能夠應用在設計於彩色濾光片的像素間之黑色矩陣。黑色矩陣係除了使用在本發明的著色硬化性組成物添加碳黑、鈦黑等的黑色顏料作為著色性顏料而成者以外,與上述像素的製造方法同樣地進行圖案曝光、鹼顯像,而且隨後,進行後烘烤而促進膜的硬化來形成。
因為本發明的彩色濾光片係使用本發明的著色硬化性組成物來製造,在曝光部之硬化的組成物與基板的黏附性及顯像性優良,所形成的著色圖案與支撐體基板之黏附性高且藉由賦予需要的剖面形狀之圖案,能夠得到高解像度的固體攝像元件。
又,本發明的固體攝像元件係具備依照前述本發明的彩色濾光片製法所製成之本發明的彩色濾光片。
本發明的彩色濾光片能夠適合使用於液晶顯示裝置或CCD等的固體攝像元件,以大於100萬像素之高解像度的CCD或CMOS等為特佳。本發明的彩色濾光片係例如能夠使用作為在構成CCD元件與各像素的受光部與用以聚光的微透鏡之間所配置之彩色濾光片。
[實施例]
以下,藉由實施例來更詳細地說明本發明,但是本發明未限定於該等。又,若未預先告知,則「份」係質量基準。
(合成例1)聚酯(i-1)的合成
混合10克正辛酸、200克ε-己內酯、5克(IV)四丁氧基鈦,並在160℃加熱8小時後,冷卻至室溫,來得到聚酯(i-1)。
(合成例2~10)
在合成例1,除了將羧酸的種類及使用量及內酯的種類如表1變更以外,其他與合成例1同樣地進行,得到聚酯(i-2)~(i-10)。
(合成例11)聚酯(i-11)的合成
在氮氣流下,混合100克12-羥基硬脂酸、0.1克(IV)四丁氧基鈦及300克二甲苯,邊使用迪恩-史塔克(Dean and Stark)管餾去在外溫160℃所生成的水邊使其反應。在GPC測定之數量平均分子量為8,000,重量平均分子量為12,000時,停止加熱而得到聚酯(i-11)。
(合成例12)聚酯(i-12)的合成
進行與合成例11同樣的實驗,在GPC測定之數量平均分子量為18,000,重量平均分子量為23,000時,停止加熱而得到聚酯(i-12)。
(合成例13)聚酯(i-12)的合成
在氮氣流下,混合307克己二酸、110克新戊二醇、57克1,4-丁二醇及26克乙二醇,邊使用迪恩-史塔克(Dean and Stark)管餾去在外溫160℃所生成的水邊使其反應。在GPC測定之數量平均分子量為8,000,重量平均分子量為13,000時,停止加熱而得到聚酯(i-13)。
(合成例14)樹脂(I-1)的合成
在氮氣流下,混合10克伸乙亞胺(日本觸媒SP-006、數量平均分子量600)及100克聚酯(i-1),並在120℃加熱3小時。隨後,放冷至65℃,且慢慢地添加丙二醇一甲基醚乙酸酯,而得到樹脂(I-1)的丙二醇一甲基醚乙酸酯(以下,稱為PGMEA)10質量%溶液。
(合成例15~1)
在合成例14,除了將聚伸乙亞胺的種類及量變更為如表2所記載之胺化合物種類及量以外,且將聚酯(i-1)變更為表2所記載之聚酯以外,與合成例14同樣地進行,而得到樹脂(I-2)~(I-18)的PGMEA 10質量%溶液。
又,在表2,SP-003(數量平均分子量300)、SP-012(數量平均分子量1,200)、SP-018(數量平均分子量1,800)、SP-200(數量平均分子量10,000)係日本觸媒製的聚伸乙亞胺,SP-018及SP-200係數量平均分子量大於1500之化合物。
(合成例32)樹脂(I-19)的合成
混合10克聚伸乙亞胺(日本觸媒SP-006、數量平均分子量600)及100克聚酯(i-1),並在120℃加熱3小時。隨後,放冷至65℃並慢慢地添加50克含有3.0克琥珀酸酐之丙二醇一甲基醚乙酸酯溶液,並攪拌2小時。進而以PGMEA稀釋該溶液,來得到10質量%溶液。
(合成例33)樹脂(I-20)的合成
除了將合成例32的琥珀酸酐變更為戊二酸以外,與合成例32同樣地合成,來得到樹脂(I-20)。
(合成例34)樹脂(I-21)的合成
除了將合成例32的琥珀酸酐變更為倍羰烯以外,與合成例32同樣地合成,來得到樹脂(I-21)。
(合成例35)樹脂(I-22)的合成
除了將合成例32的琥珀酸酐變更為丁烷磺內酯以外,與合成例32同樣地合成,來得到樹脂(I-22)。
[實施例1]
在此,舉出調整含有顏料的著色硬化性組成物而成的例子作為液晶顯示裝置用的彩色濾光片形成用係來說明。
1-1.顏料分散液的調製
將40質量份C.I.顏料綠36(二次粒徑為60奈米(動態散射法),55奈米(使用SEM觀察50個二次粒子所算出的平均值))作為顏料、200質量份(換算成固體成分為20質量份)樹脂(I-1)所構成的混合液,使用珠磨機(氧化鋯珠0.3毫米直徑)混合、分散3小時,來調製顏料分散液。對顏料分散液藉由使用動態光散射法(使用Microtrac Nanotrac UPA-EX150(日機裝社製)且未將顏料進一步稀釋而測定)測定顏料的平均一次粒徑時,為25奈米。
1-2.著色硬化性組成物(塗布液)的調製
使用前述顏料分散液,以成為以下組成比的方式攪拌混合,來調製著色硬化性組成物。
‧前述顏料分散液 600份
‧光聚合引發劑(2,2-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑) 30份
‧鹼可溶性樹脂(甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸羥基乙酯共聚物、莫耳比:80/10/10、Mw:10000) 5份
‧溶劑:(丙二醇一甲基醚乙酸酯) 900份
‧基板黏附劑(3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷)1份
‧敏化劑(下述化學式α的化合物) 15份
‧共敏化劑(2-氫硫基苯并咪唑) 15份化學式α
1-3.著色硬化性組成物層的形成
將上述著色硬化性組成物作為光阻溶液,以下述條件狹縫塗布於550毫米×650毫米的玻璃基板後,在該狀態下待機10分鐘,並實施真空乾燥及預烘烤(prebake)(100℃、80秒),來形成著色硬化性組成物的塗布膜(硬化性組成物層)。
(狹縫塗布條件)
‧塗布頭前端的開口部之間隙:50微米
‧塗布速度100毫米/秒
‧基板與塗布頭之間隙:150微米
‧乾燥膜厚1.75微米
‧塗布溫度:23℃
1-4.曝光、顯像
隨後,使用2.5Kw的超高壓水銀燈,將著色硬化性組成物的塗布膜使用線寬20微米的試驗用光罩,並藉由日立HIGH-Technologies公司製的LE4000A以100mJ/cm2 曝光成圖案狀。曝光後,使用無機系顯像液(商品名:CDK-1、富士FILM ELECTRONICS MATERIALS(股)製)的1%水溶液進行被覆,並靜止60秒。
1-5.加熱處理
靜止後,將純水噴淋狀地噴射來將顯像液洗掉,且將施行此種曝光(光硬化)處理及顯像處理後的塗光膜,在220℃的烘箱加熱1小時(後烘烤),藉此,得到在玻璃基板上形成有著色硬化性組成物的圖案(著色層)之彩色濾光片。
1-6.性能評價
如上述進行評價使用上述所調製的著色硬化性組成物的保存安定性、及用著色硬化性組成物在玻璃基板上所形成的硬化性組成物塗布膜(著色層)的對比、顯像性,進而如下述評價圖案剖面形狀。
<顏料:分散液的分散性及著色硬化性組成物的保存安定性>
測定顏料分散液剛分散後的黏度,來評價分散性。黏度越低分散性越良好。
而且,將著色硬化性組成物在室溫保存1個月,來測定經時前後的液體黏度,且依照下述基準進行評價。
-評價基準-
○:黏度上升小於5%。
△:認定5%以上、小於10%的黏度上升
×:黏度上升大於10%。
<著色硬化性組成物塗布膜(著色層)的對比>
將彩色濾光片來在2片偏光板之間,使用色彩亮度計(TOPCON公司製色彩亮度計BM-7)測定偏光板的偏光軸為平行時及垂直時的透射光之亮度,來求取對比。對比越高時,表示作為液晶顯示裝置用彩色濾光片具有良好的性能。
<顯像性(圖案剖面形狀、基板黏附性>
藉由光學顯微鏡及SEM照像觀察,確認後烘烤後的基板表面及剖面形狀,來評價作為顯像性之圖案剖面形狀、基板黏附性。詳細的評價方法、評價基準係如以下。
<基板黏附性>
基板黏附性之評價係觀察是否產生圖案缺損。該對評係基於下述基準來評價。
-評價基準-
○:完全未觀察到圖案缺損。
△:部分地觀察到圖案缺損。
×:觀察到圖案缺損顯著。
<圖案的剖面形狀>
觀察所形成的圖案之剖面形狀。圖案剖面形狀係以順錐為最佳,以矩形為佳。以逆錐為不佳。
(實施例2~15、實施例35~38、比較例1~3)
將實施例1的樹脂(I-1)、及顏料(C.I.顏料綠36)如表3所記載的樹脂及顏料變更以外,與實施例1同樣地進行製造顏料分散液及彩色濾光片並進行評價。結果如表3所示。
實施例16
在調製實施例1的顏料分散液,除了使用0.5毫米直徑的氧化鋯珠進行混合、分散1小時以外,與實施例1同樣地進行製造顏料分散液、著色硬化性組成物及彩色濾光片並進行評價。結果如表3所示
實施例17
除了未添加實施例1的鹼可溶性樹脂以外,與實施例16同樣地進行製造顏料分散液、著色硬化性組成物及彩色濾光片並進行評價。結果如表3所示
又,在表3及後述的表4所使用的顏料係如以下。
PG36:C.I.顏料綠36
PR254:C.I.顏料紅254
PY139:C.I.顏料黃139
PB138:C.I.顏料黃138
PB15:6:C.I.顏料藍15:6
又,實施例6及7係表示混合PR254及PY139而使用。
從表3的結果,在本發明之含有樹脂的實施例1~17及實施例35~38的顏料分散液的分散性良好。又,得知使用該等顏料分散液的著色組成物係保存安定性優良。又,相對於未使用本發明的樹脂之各比較例而言,使用本發明的著色硬化性組成物在支撐體上形成著色圖案時能夠得到對比高、且基板黏附性優良,同時圖案剖面形狀亦優良的彩色濾光片。
[實施例18]
以下,舉出調製著色硬化性組成物的例子作為固體攝像元件用途的彩色濾光片形成用來進行說明。
2-1.光阻液的調製
混合下述組成的成分並溶解,來調製光阻液。
<光阻液的組成>
‧溶劑:丙二醇一甲基醚乙酸酯 19.20份
‧溶劑:乳酸乙酯 36.67份
‧鹼可溶性樹脂:甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸-2-羥基乙酯共聚物(莫耳比=60/22/18、重量平均分子量15,000數量平均分子量9,000)之40%PGMEA溶液 30.51份
‧含乙烯性不飽和雙鍵的化合物:二新戊四醇六丙烯酸酯 12.20份
‧聚合抑制劑:對甲氧基苯酚 0.0061份
‧氟系界面活性劑:F-475、大日本油墨化學工業(股)製 0.83份
‧光聚合引發劑:三氯甲基三 0.586份
(TAZ-107、MIDORI化學公司製)
2-2.附帶底塗層的矽基板之製造
將6英吋的矽晶圓在烘箱中在200℃下加熱處理30分鐘。接著,將前述光阻液以乾燥膜厚度為1.5微米的方式塗布在該矽晶圓上,而且在220℃的烘箱中,加熱乾燥1小時來形成底塗層,來得到附帶底塗層的矽基板。
2-3.顏料分散液的調製
將40質量份C.I.顏料綠36及C.I.顏料黃139的混合物(質量比70:30)(二次粒徑為65奈米(動態散射法),55奈米(使用SEM觀察50個二次粒子所算出的平均值))作為顏料、160質量份(換算成固體成分為16質量份)樹脂(I-1)所構成的混合液,使用珠磨機(氧化鋯珠0.3毫米直徑)混合、分散3小時,來調製顏料分散液。
對顏料分散液藉由使用動態光散射法測定顏料的平均一次粒徑時,為30奈米。
2-4.著色硬化性組成物(塗布液)的調製
使用前述顏料分散液,以成為以下組成比的方式攪拌混合,來調製著色硬化性組成物。
‧前述顏料分散液 600份
‧光聚合引發劑(肟系光聚合引發劑)(CGI-124、CIBA SPECIALTY CHEMICALS公司製) 30份
‧含乙烯性不飽和雙鍵之化合物TO-1382(東亞合成(股)製) 25份(二新戊四醇六丙烯酸酯及二新戊四醇五丙烯酸酯的混合物與琥珀酸酐之反應物)
‧含乙烯性不飽和雙鍵之化合物:二新戊四醇六丙烯酸酯 30份
‧溶劑:丙二醇一甲基醚乙酸酯 900份
‧基板黏附性:3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷 1份
2-5.使用著色硬化性組成物之彩色濾光片的製造及評價 <圖案形成>
將如上述調製的著色硬化性組成物,塗布在前述2-1所得到附帶底塗層的矽基板的底塗層上,來形成著色層(塗布膜)。而且,以該塗布膜的乾燥膜厚度為0.5微米的方式使用100℃的熱板進行加熱處理120秒(預烘烤)。
接著,使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+(Canon(股)製),並以365奈米的波長透過2微米四方的島圖案光罩且以50~1200mJ/cm2 的各種曝光量來曝光。
隨後,將形成有經照射過的塗布膜之矽基板,載置在旋轉、噴淋顯像機(DW-30型、Chemitronics(股)製)的水平旋轉工作台上,並使用CD-2000(富士FILM ELECTRONICS MATERIALS(股)製,於23℃進行浸置(puddle)式顯像60秒,在矽基板形成著色圖案。
將形成有著色圖案之矽晶圓以真空夾頭的方式固定在前述水平旋轉工作台,藉由旋轉裝置邊以轉數50rpm旋轉該矽晶圓基板,邊從噴出噴嘴自該旋轉中心的上方噴淋狀地供給純水,來進行沖洗處理,隨後進行噴霧乾燥。
隨後,使用測長度SEM「S-9260A」(日立HIGH-TECHNOLOGIES(股)製),來測定著色圖案的尺寸。將圖案尺寸為2微米時之曝光量評價作為曝光敏感度。
<基板黏附性>
基板黏附性之評價係觀察是否產生圖案缺損。該對評係基於下述基準來評價。
-評價基準-
○:完全未觀察到圖案缺損。
△:部分地觀察到圖案缺損。
×:觀察到圖案缺損顯著。
<圖案形成性>
觀察所形成圖案的剖面形狀。圖案的剖面形狀以矩形為佳。以逆錐為不佳。
<顏料分散液的分散性及著色硬化性組成物的保存安定性>
測定顏料分散液剛分散後的黏度,來評價分散性。黏度越低分散性越良好。
而且,將著色硬化性組成物(塗布液)在室溫保存1個月,來測定經時前後的液體黏度,且依照下述基準進行評價。
-評價基準-
○:黏度上升小於5%。
△:認定5%以上、小於10%的黏度上升
×:認定黏度上升大於10%。
<顏色不均>
顏色不均的評價係使用下述方法解析亮度分布,並基於從平均偏移±5%以內的像素佔總像素數目的比率來進行。評價基準係如下。
說明亮度分布的測定方法。首先將硬化性組成物塗布在使用與前述2-2同樣的方法所製成之附帶底塗層的玻璃板的底塗層上,來形成著色層(塗布膜)。
以該塗布膜的乾燥膜厚度為0.7微米的方式,使用100℃的熱板進行加熱處理120秒(預烘烤)。解析使用顯微鏡MX-50(Olympus公司製)拍攝該經塗布過的玻璃板之亮度分布所得到的影像。
-評價基準-
○:從平均偏移±5%以內的像素為總像素數目中的99%以上
△:從平均偏移±5%以內的像素為總像素數目中的95%以
上、小於99%
×:從平均偏移±5%以內的像素為總像素數目中的小於95%實施例19~32、實施例39~42及比較例4~6
在實施例18,除了將樹脂(1-1)及顏料的種類變更為表4所記載者以外,與實施例18同樣地進行,來製造彩色濾光片並進行評價。結果如表4所示。
實施例33
在實施例18的調製顏料分散液,除了使用0.5毫米直徑的氧化鋯珠進行混合、分散1小時以外,與實施例18同樣地進行,來製造顏料分散液、著色硬化性組成物及彩色濾光片並進行評價。結果如表4所示。
實施例34
除了未添加實施例18的鹼可溶性樹脂外,與實施例18同樣地進行,來製造顏料分散液、著色硬化性組成物及彩色濾光片並進行評價。結果如表4所示。
從表4的結果,得知作為固體攝像元件用途的彩色濾光片形成用所使用之本發明的實施例之著色硬化性組成物,係保存安定性優良。又,得知使用該著色硬化性組成物在支撐體上形成著色圖案時,能夠得到相對於比較例,顯像性優良之同時,圖案形成、顏色不均之任一者都優良之彩色濾光片。
從該等結果,得知實施例的著色組成物即便製造固體攝像元件用的彩色濾光片時,亦與製造液晶顯示裝置用途的彩色濾光片時同樣地能夠實現優良的圖案形成性。

Claims (10)

  1. 一種著色硬化性組成物,其係含有(A)樹脂、(B)顏料、(C)包含肟系化合物之光聚合引發劑、(D)含乙烯性不飽和雙鍵的化合物及(E)溶劑,其中該(A)樹脂能夠藉由使(A-1)數量平均分子量為300~1,500之碳數為2~4的伸烷基亞胺的聚合物與(A-2)至少在一末端具有羧基之數量平均分子量為1,000~1,000,000的聚酯反應而得到。
  2. 如申請專利範圍第1項之著色硬化性組成物,其中更含有(F)鹼可溶性樹脂。
  3. 如申請專利範圍第1項之著色硬化性組成物,其中該顏料的平均1次粒徑為50奈米以下。
  4. 如申請專利範圍第1項之著色硬化性組成物,其中該聚合物之數量平均分子量為500~1,200。
  5. 如申請專利範圍第1項之著色硬化性組成物,其中該(A-2)聚酯係藉由下述縮聚而得到:(i)羧酸與選自由β-丙內酯、γ-丁內酯、δ-戊內酯及ε-己內酯所組成之群組的至少1種內酯之縮聚;(ii)碳數1~30的直鏈之含羥基的羧酸之縮聚;或(iii)直鏈的脂肪族二元醇與直鏈的二元脂肪族羧酸或其環狀酸酐之縮聚。
  6. 如申請專利範圍第5項之著色硬化性組成物,其中該(A-2)聚酯係藉由(i)羧酸與選自由β-丙內酯、γ-丁內酯、δ-戊內酯及ε-己內酯所組成之群組的至少1種內酯之縮聚而得到。
  7. 如申請專利範圍第1項之著色硬化性組成物,其中該(A) 樹脂進一步為使碳數4~10的酸酐反應之樹脂。
  8. 如申請專利範圍第1項之著色硬化性組成物,其中該顏料(B)係選自由碳、鈦黑、蒽醌系、次甲基偶氮系、亞苄基系、花青苷系、二酮吡咯并吡咯系及酞菁系所組成之群組。
  9. 一種彩色濾光片,其係具有使用如申請專利範圍第1項之著色硬化性組成物在支撐體上形成而成的著色圖案,能夠使用於固體攝像元件之色分離。
  10. 一種彩色濾光片之製法,其特徵在於包含:將如申請專利範圍第1項之著色硬化性組成物塗布在支撐體上而形成著色層之著色層形成步驟;透過光罩將該著色層圖案曝光之曝光步驟;及將曝光後的著色層顯像而形成著色圖案之顯像步驟。
TW098108116A 2008-03-17 2009-03-13 著色硬化性組成物、彩色濾光片、及彩色濾光片之製法 TWI463253B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008068190 2008-03-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200941135A TW200941135A (en) 2009-10-01
TWI463253B true TWI463253B (zh) 2014-12-01

Family

ID=41090838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW098108116A TWI463253B (zh) 2008-03-17 2009-03-13 著色硬化性組成物、彩色濾光片、及彩色濾光片之製法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8426089B2 (zh)
EP (1) EP2270594B1 (zh)
JP (1) JP5334624B2 (zh)
KR (1) KR101327832B1 (zh)
CN (1) CN101971094B (zh)
TW (1) TWI463253B (zh)
WO (1) WO2009116434A1 (zh)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5656577B2 (ja) * 2009-12-16 2015-01-21 キヤノン株式会社 インクジェット用インク、インクカートリッジ、及びインクジェット記録方法
JP2012003225A (ja) 2010-01-27 2012-01-05 Fujifilm Corp ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法
JP5417364B2 (ja) 2011-03-08 2014-02-12 富士フイルム株式会社 固体撮像素子用硬化性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法
EP2715416B1 (en) 2011-09-14 2019-10-30 FUJIFILM Corporation Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor
JP5976523B2 (ja) * 2011-12-28 2016-08-23 富士フイルム株式会社 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子
JP5934664B2 (ja) 2012-03-19 2016-06-15 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
JP5775479B2 (ja) 2012-03-21 2015-09-09 富士フイルム株式会社 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置
US9575806B2 (en) * 2012-06-29 2017-02-21 Intel Corporation Monitoring accesses of a thread to multiple memory controllers and selecting a thread processor for the thread based on the monitoring
CN102819056A (zh) * 2012-07-30 2012-12-12 京东方科技集团股份有限公司 一种彩色滤光片及其制作方法、液晶面板和液晶显示装置
JP6302650B2 (ja) 2012-11-30 2018-03-28 富士フイルム株式会社 硬化性樹脂組成物、これを用いた、色素含有層の形成方法、イメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ
SG11201504182RA (en) 2012-11-30 2015-06-29 Fujifilm Corp Curable resin composition, production method of image sensor chip using the same, and image sensor chip
JP6170673B2 (ja) 2012-12-27 2017-07-26 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー
JP6162084B2 (ja) 2013-09-06 2017-07-12 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素
TWI659265B (zh) * 2014-03-07 2019-05-11 日商日鐵化學材料股份有限公司 遮光膜用黑色樹脂組成物、帶遮光膜的基板、彩色濾光片及觸控面板
KR101917406B1 (ko) * 2014-03-21 2018-11-09 동우 화인켐 주식회사 고색재현이 가능한 착색 광경화성 수지조성물, 컬러필터 및 이를 구비한 액정표시장치
KR102092165B1 (ko) * 2014-09-23 2020-03-23 동우 화인켐 주식회사 감광성 수지 조성물
JP6413700B2 (ja) * 2014-11-27 2018-10-31 凸版印刷株式会社 固体撮像装置
KR102637673B1 (ko) * 2018-03-06 2024-02-15 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 착색제 분산액, 착색 경화성 수지 조성물, 컬러 필터 및 표시 장치
CN114269556A (zh) 2019-08-29 2022-04-01 富士胶片株式会社 组合物、膜、近红外线截止滤波器、图案形成方法、层叠体、固体摄像元件、红外线传感器、图像显示装置、相机模块及化合物
JP7376617B2 (ja) * 2019-12-25 2023-11-08 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および表示装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200702045A (en) * 2005-04-13 2007-01-16 Noveon Inc Dispersants
JP2007063472A (ja) * 2005-09-01 2007-03-15 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 顔料の高分子分散剤およびカラーフィルター用着色組成物

Family Cites Families (123)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US339049A (en) 1886-03-30 Sole-edge-burnishing
US410201A (en) 1889-09-03 Bent for suspension-bridges
US161811A (en) 1875-04-06 Improvement in mechanisms for feeding heel-stiffeners or counter-blanks
GB763288A (en) 1954-06-16 1956-12-12 Kodak Ltd Improvements in photo mechanical processes and materials therefor
US2833827A (en) 1955-01-17 1958-05-06 Bayer Ag Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same
US2852379A (en) 1955-05-04 1958-09-16 Eastman Kodak Co Azide resin photolithographic composition
US2940853A (en) 1958-08-21 1960-06-14 Eastman Kodak Co Azide sensitized resin photographic resist
US3479185A (en) 1965-06-03 1969-11-18 Du Pont Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
DK125218B (da) 1967-11-09 1973-01-15 Kalle Ag Lysfølsomt optegnelsesmateriale og lysfølsom blanding til anvendelse ved fremstilling af materialet.
DE2033769B2 (de) 1969-07-11 1980-02-21 Ppg Industries, Inc., Pittsburgh, Pa. (V.St.A.) Bis-<2-acryloxyäthyl)hexahydrophthalat enthaltende Gemische und Herstellungsverfahren
JPS4841708B1 (zh) 1970-01-13 1973-12-07
DE2053683A1 (de) 1970-11-02 1972-05-10 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Photopolymerisierbare Kopiermasse
DE2064079C2 (de) 1970-12-28 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2064080C3 (de) 1970-12-28 1983-11-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US3987037A (en) 1971-09-03 1976-10-19 Minnesota Mining And Manufacturing Company Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines
JPS5324989B2 (zh) 1971-12-09 1978-07-24
US3905815A (en) 1971-12-17 1975-09-16 Minnesota Mining & Mfg Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer
JPS5230490B2 (zh) 1972-03-21 1977-08-09
DE2361041C3 (de) 1973-12-07 1980-08-14 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Photopolymerisierbares Gemisch
DE2363806B2 (de) 1973-12-21 1979-05-17 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
US4069056A (en) 1974-05-02 1978-01-17 General Electric Company Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts
GB1512982A (en) 1974-05-02 1978-06-01 Gen Electric Salts
JPS5311314B2 (zh) 1974-09-25 1978-04-20
ZA757984B (en) 1974-10-04 1976-12-29 Dynachem Corp Polymers for aqueous processed photoresists
NZ187714A (en) * 1977-07-15 1980-09-12 Ici Ltd Dispersing agent reaction product of a polyalkylene imine and a polyester
DE2822190A1 (de) 1978-05-20 1979-11-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
DE2822189A1 (de) 1978-05-20 1980-04-17 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch
JPS6053300B2 (ja) 1978-08-29 1985-11-25 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物
US4311783A (en) 1979-08-14 1982-01-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5,-triphenylimidazole compounds as photoinitiators
DE2952697A1 (de) 1979-12-29 1981-07-02 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches kopiermaterial
DE2952698A1 (de) 1979-12-29 1981-07-02 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
DE3036694A1 (de) 1980-09-29 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3048502A1 (de) 1980-12-22 1982-07-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3120052A1 (de) 1981-05-20 1982-12-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
JPS595241A (ja) 1982-06-21 1984-01-12 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 放射線重合可能な混合物
DE3223104A1 (de) 1982-06-21 1983-12-22 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial
JPS5944615A (ja) 1982-09-07 1984-03-13 Furuno Electric Co Ltd ジヤイロ装置
US4518676A (en) 1982-09-18 1985-05-21 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts
JPS5953836A (ja) 1982-09-21 1984-03-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPS5971048A (ja) 1982-10-18 1984-04-21 Mitsubishi Chem Ind Ltd 光重合系感光性組成物
NL8300155A (nl) 1983-01-17 1984-08-16 Philips Nv Registratie-element met een pyrylium- of thiopyrylium-squarylium kleurstoflaag en nieuwe pyrylium- of thiopyrylium-squarylium verbindingen.
US4590287A (en) 1983-02-11 1986-05-20 Ciba-Geigy Corporation Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same
JPH0629285B2 (ja) 1983-10-14 1994-04-20 三菱化成株式会社 光重合性組成物
JPS60239736A (ja) 1984-05-14 1985-11-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
DE3421511A1 (de) 1984-06-08 1985-12-12 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Polymerisierbare, perfluoralkylgruppen aufweisende verbindungen, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck
US4713401A (en) 1984-12-20 1987-12-15 Martin Riediker Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes
JP2525568B2 (ja) 1985-01-18 1996-08-21 富士写真フイルム株式会社 光可溶化組成物
JPS61169837A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
JPS61169835A (ja) 1985-01-22 1986-07-31 Fuji Photo Film Co Ltd 光可溶化組成物
DE3582887D1 (de) * 1985-01-22 1991-06-20 Ici Plc Dispergiermittel enthaltende zusammensetzung.
JPH0766185B2 (ja) 1985-09-09 1995-07-19 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
US4622286A (en) 1985-09-16 1986-11-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer
US4772541A (en) 1985-11-20 1988-09-20 The Mead Corporation Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same
CA1284740C (en) 1985-11-20 1991-06-11 Peter Gottschalk Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators
DE3604580A1 (de) 1986-02-14 1987-08-20 Basf Ag Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren
JPS62212401A (ja) 1986-03-14 1987-09-18 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
US4857654A (en) 1986-08-01 1989-08-15 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes and their use
JPS6370243A (ja) 1986-09-11 1988-03-30 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
US4760013A (en) 1987-02-17 1988-07-26 International Business Machines Corporation Sulfonium salt photoinitiators
DE3710282A1 (de) 1987-03-28 1988-10-13 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3710279A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
DE3710281A1 (de) 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
JPH0743536B2 (ja) 1987-05-29 1995-05-15 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
DE3721740A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen
DE3721741A1 (de) 1987-07-01 1989-01-12 Basf Ag Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien
DE3738864A1 (de) 1987-11-16 1989-05-24 Hoechst Ag Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch
US5026625A (en) 1987-12-01 1991-06-25 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes, the use thereof, and n-substituted fluoroanilines
JPH01152109A (ja) 1987-12-09 1989-06-14 Toray Ind Inc 光重合性組成物
US4933377A (en) 1988-02-29 1990-06-12 Saeva Franklin D Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators
EP0334338A3 (en) 1988-03-24 1990-06-20 Dentsply International, Inc. Titanate initiators for light cured compositions
DE3817424A1 (de) 1988-05-21 1989-11-23 Hoechst Ag Alkenylphosphon- und -phosphinsaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und durch strahlung polymerisierbares gemisch, das diese verbindungen enthaelt
JP2757375B2 (ja) 1988-06-02 1998-05-25 東洋紡績株式会社 光重合性組成物
CA2002873A1 (en) 1988-11-21 1990-05-21 Franklin Donald Saeva Onium salts and the use thereof as photoinitiators
JPH02150848A (ja) 1988-12-02 1990-06-11 Hitachi Ltd 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法
DE3843205A1 (de) 1988-12-22 1990-06-28 Hoechst Ag Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
US5040237A (en) 1989-03-31 1991-08-13 E. F. Johnson Company Method and apparatus for an alternate home channel for a land mobile transmission trunked communication system
JPH02296514A (ja) 1989-05-12 1990-12-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 車両用サスペンション制御装置
CA2011515C (en) 1990-03-05 1994-10-11 Roger Boulanger Method for producing a non-woven fabric with a thermally activated adhesive surface, resulting product and applications thereof
JPH04365049A (ja) 1991-06-12 1992-12-17 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物
JP2764769B2 (ja) 1991-06-24 1998-06-11 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
JPH0583588A (ja) 1991-09-24 1993-04-02 Omron Corp 画像処理装置
EP0568993B1 (en) 1992-05-06 1998-08-12 Kyowa Hakko Kogyo Co., Ltd. Chemical amplification resist composition
JP2575572B2 (ja) 1992-06-19 1997-01-29 新日本製鐵株式会社 アルカリ現像型感光性カラーフィルター用インク及びそれを用いたカラーフィルター
JPH0619249A (ja) 1992-06-30 1994-01-28 Ricoh Co Ltd 原稿給送装置
JP3270121B2 (ja) 1992-06-30 2002-04-02 キヤノン株式会社 画像形成装置
JP2929858B2 (ja) 1992-08-14 1999-08-03 東洋インキ製造株式会社 重合性組成物および重合方法
JP3016532B2 (ja) 1992-09-21 2000-03-06 互応化学工業株式会社 カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルタ
JPH06175553A (ja) 1992-12-03 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175554A (ja) 1992-12-03 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd 体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175561A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
JPH06175564A (ja) 1992-12-04 1994-06-24 Toyo Ink Mfg Co Ltd ホログラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法
GB9306222D0 (en) 1993-03-25 1993-05-19 Zeneca Ltd Dispersants
JPH06348011A (ja) 1993-06-04 1994-12-22 Toyo Ink Mfg Co Ltd 光重合性組成物
JPH07128785A (ja) 1993-11-02 1995-05-19 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH07140589A (ja) 1993-11-19 1995-06-02 Konica Corp 画像形成材料および画像形成方法
JP3235930B2 (ja) 1994-01-10 2001-12-04 ダイセル化学工業株式会社 顔料分散剤の製造方法
JP3321288B2 (ja) 1994-04-25 2002-09-03 日本ペイント株式会社 近赤外光重合性組成物
JPH07306527A (ja) 1994-05-11 1995-11-21 Konica Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH0810601A (ja) 1994-06-27 1996-01-16 Daicel Chem Ind Ltd 顔料分散剤およびラクトン変性アミン化合物の製造方法
JPH08108621A (ja) 1994-10-06 1996-04-30 Konica Corp 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法
JPH0917651A (ja) 1995-06-30 1997-01-17 Mitsumi Electric Co Ltd 固定コイル
TW467933B (en) 1995-11-24 2001-12-11 Ciba Sc Holding Ag Photopolymerizable compositions comprising borate photoinitiators from monoboranes and the use thereof
AU717137B2 (en) 1995-11-24 2000-03-16 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Borate coinitiators for photopolymerization
MY132867A (en) 1995-11-24 2007-10-31 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc Acid-stable borates for photopolymerization
JP3789965B2 (ja) * 1995-12-21 2006-06-28 新日鐵化学株式会社 カラーフィルター用カラーレジストインキ
JPH09281698A (ja) 1996-04-11 1997-10-31 Mitsubishi Chem Corp カラーフィルター用光重合性組成物
JPH11271969A (ja) 1998-01-21 1999-10-08 Mitsubishi Chemical Corp 光重合性組成物及び感光性平版印刷版
SG77689A1 (en) 1998-06-26 2001-01-16 Ciba Sc Holding Ag New o-acyloxime photoinitiators
JP3889530B2 (ja) 1998-08-17 2007-03-07 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 光重合性組成物、光重合性平版印刷版及び画像形成方法
DK199901098A (da) 1998-08-18 2000-02-19 Ciba Sc Holding Ag Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse
JP2000310808A (ja) 1999-04-26 2000-11-07 Canon Inc 照明装置及びそれを用いた撮影装置
JP4481439B2 (ja) * 1999-06-16 2010-06-16 サカタインクス株式会社 カラーフィルター用緑色顔料分散物
JP2001132318A (ja) 1999-10-29 2001-05-15 Oi Seisakusho Co Ltd 車両用開閉体の開閉装置
JP2001125255A (ja) 1999-10-27 2001-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP2001214077A (ja) * 2000-01-31 2001-08-07 Fuji Photo Film Co Ltd 着色組成物及びカラーフィルター
JP2001272524A (ja) 2000-03-24 2001-10-05 Jsr Corp カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示装置
JP4191887B2 (ja) 2000-09-27 2008-12-03 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
ATE446322T1 (de) 2001-06-11 2009-11-15 Basf Se Oxim ester photoinitiatoren mit kombinierter struktur
JP2004067715A (ja) * 2002-08-01 2004-03-04 Toray Ind Inc 顔料分散液、着色剤組成物、カラーフィルター、及び液晶表示パネル
KR101057248B1 (ko) * 2003-01-30 2011-08-16 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 안료 분산체, 컬러필터용 조성물 및 컬러필터
JP4407410B2 (ja) 2004-07-15 2010-02-03 Jsr株式会社 カラーフィルタ用感放射線性組成物およびその調製法
WO2008156148A1 (ja) * 2007-06-21 2008-12-24 Mitsubishi Chemical Corporation 顔料分散液、カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ
JP5371449B2 (ja) * 2008-01-31 2013-12-18 富士フイルム株式会社 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200702045A (en) * 2005-04-13 2007-01-16 Noveon Inc Dispersants
JP2007063472A (ja) * 2005-09-01 2007-03-15 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 顔料の高分子分散剤およびカラーフィルター用着色組成物

Also Published As

Publication number Publication date
KR20100133426A (ko) 2010-12-21
TW200941135A (en) 2009-10-01
US20110014554A1 (en) 2011-01-20
EP2270594B1 (en) 2016-01-13
US8426089B2 (en) 2013-04-23
CN101971094A (zh) 2011-02-09
JP5334624B2 (ja) 2013-11-06
CN101971094B (zh) 2013-05-01
KR101327832B1 (ko) 2013-11-11
EP2270594A4 (en) 2012-10-24
JP2009258668A (ja) 2009-11-05
WO2009116434A1 (ja) 2009-09-24
EP2270594A1 (en) 2011-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI463253B (zh) 著色硬化性組成物、彩色濾光片、及彩色濾光片之製法
TWI460208B (zh) 樹脂、顏料分散液、著色硬化性組成物、使用它製造之彩色濾光片及其製法
TWI438568B (zh) 硬化性組成物、彩色濾光片及其製法
TWI459130B (zh) 用於固態影像擷取裝置之光硬化性組成物、彩色濾光片及其製造方法、以及固態影像擷取裝置
TWI470036B (zh) 顏料分散劑、彩色硬化性組成物、彩色濾光片及其製造方法
TWI632204B (zh) 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置
KR101414099B1 (ko) 안료 분산 조성물, 경화성 조성물, 컬러 필터 및 그 제조방법
TWI577750B (zh) 著色組成物、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件的製造方法及圖像顯示裝置的製造方法
TWI558753B (zh) 聚合性組成物、固態攝影元件用遮光性彩色濾光片及其製造方法、及固態攝影元件
TWI406090B (zh) 著色硬化性組合物、彩色濾光片及其製造方法、與固體攝像元件
TWI437280B (zh) 化合物、感光性組成物、硬化性組成物、彩色濾光片用硬化性組成物、彩色濾光片及其製法
TW200903153A (en) Curable composition, color filter using the same and manufacturing method therefor, and solid image pickup element
TW201506535A (zh) 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置
JP5171514B2 (ja) 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP2013045088A (ja) カラーフィルタ用着色組成物及びその製造方法、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子
JP2010215732A (ja) 顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法
TW200918963A (en) Color filter, method of producing the same, and LCD device
TWI427335B (zh) 彩色濾光片及其製法
JP2010018643A (ja) ポリエステルの製造方法、樹脂、顔料分散液、光硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ、およびその製造方法
JP6225254B2 (ja) 着色組成物、着色組成物の製造方法、カラーフィルタ、有機エレクトロルミネッセンス表示素子
JP2011118060A (ja) 顔料分散液、着色硬化性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子
JP2010084021A (ja) 樹脂、該樹脂の製造方法、顔料分散液、着色硬化性組成物、該着色硬化性組成物の調製方法、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP2009075482A (ja) 硬化性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び、固体撮像素子