JP2009258668A - 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 - Google Patents
着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009258668A JP2009258668A JP2009048169A JP2009048169A JP2009258668A JP 2009258668 A JP2009258668 A JP 2009258668A JP 2009048169 A JP2009048169 A JP 2009048169A JP 2009048169 A JP2009048169 A JP 2009048169A JP 2009258668 A JP2009258668 A JP 2009258668A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pigment
- curable composition
- acid
- colored
- color filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00634—Production of filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2202/00—Materials and properties
- G02F2202/02—Materials and properties organic material
- G02F2202/022—Materials and properties organic material polymeric
- G02F2202/023—Materials and properties organic material polymeric curable
Abstract
【解決手段】(A)(A-1)数平均分子量が300〜1,500の炭素数2〜4のアルキレンイミンの重合体と、(A-2)少なくとも片末端にカルボキシル基を有する数平均分子量が1,000〜1,000,000のポリエステルとを、反応させて得られる樹脂、(B)顔料、(C)光重合開始剤、(D)エチレン性不飽和二重結合を含む化合物、および(E)溶剤、を含有することを特徴とする着色硬化性組成物。
【選択図】なし
Description
また、固体撮像素子用のカラーフィルタにおいても、高解像力化のために、色ムラの低減が必要な特性になっており、このために粒子サイズの小さな微細顔料を用いて、2次凝集体が無い状態に分散させることが重要になっている。
本発明のさらなる目的は、上記着色硬化性組成物により形成された着色パターンを有するカラーフィルタ、及び製造方法を提供することにある。
即ち、本発明の目的は下記の手段により達成されるものである。
<2> さらに、(F)アルカリ可溶性樹脂を含有する<1>に記載の着色硬化性組成物。
<4> <1>〜<3>のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物により、支持体上に形成された着色パターンを有し、固体撮像素子における色分離に用いられるカラーフィルタ。
また、上記着色硬化性組成物により形成された着色パターンを有するカラーフィルタ、及び製造方法を提供することができる。
本発明の特定樹脂は、(A-1)数平均分子量が300〜1,500の炭素数2〜4のアルキレンイミンの重合体と、(A-2)少なくとも片末端にカルボキシル基を有する数平均分子量が1,000〜1,000,000のポリエステルとを、反応させて得られる。
このような反応により得られる(A)特定樹脂は、主鎖構造が炭素数2〜4のアルキレンイミンの重合体であり、その1級又は2級アミン部に、側鎖として、(A-2)片末端にカルボキシル基を有するポリエステルから該カルボキシル基のOH基を除いた残基としてポリエステル鎖が結合する態様をとり、従って、以下のような構造を有する樹脂となる。
<(A−1)数平均分子量が300〜1,500の炭素数2〜4のアルキレンイミンの重合体:特定ポリアルキレンイミン>
(A−1)アルキレンイミンの重合体のアルキレン部の炭素数は2〜5が好ましいが、特に炭素数2のポリエチレンイミンが最も好ましい。アルキレンイミンの重合体は、公知の方法で合成して用いるか、市販のアルキレンイミン重合体を用いてもよい。
この理由については不明であるが、以下のように推測している。アルキレンイミンの重合体で構成される部位は、顔料への吸着性を有しているが、数平均分子量が300未満であると顔料への吸着力が弱く、分散性、および分散安定性が不足する。一方、数平均分子量が1500を越えると、アルキレンイミンの重合体で構成される部位の鎖長が大きくなりすぎ、顔料同士の擬似架橋を引き起こしてしまうため、分散性、および分散安定性が不足するものと考えられる。特に、微細顔料を用いるときに顕著に現れる。
一方、アルキレンイミンの重合体の数平均分子量が、300〜1500の範囲であると顔料への吸着力が強く、且つ顔料同士の擬似架橋を生じないため、微細顔料でも分散性、および分散安定性が顕著に良化したものと考えられる。
(A−2)少なくとも片末端にカルボキシル基を有するポリエステルは、(i)カルボン酸とラクトンの重縮合、(ii)ヒドロキシ基含有カルボン酸の重縮合、(iii)二価アルコールと二価カルボン酸(もしくは環状酸無水物)の重縮合、により得ることができる。
また、二価カルボン酸としては、直鎖又は分岐の二価の脂肪族カルボン酸(炭素数1〜30の二価の脂肪族カルボン酸が好ましく、例えば、コハク酸、マレイン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、グルタル酸、スベリン酸、酒石酸、シュウ酸、マロン酸等)が挙げられ、特に炭素数3〜20の二価カルボン酸が好ましい。また、これら二価カルボン酸と等価な酸無水物(例えば、無水コハク酸、無水グルタル酸等)を用いてもよい。
二価カルボン酸と二価アルコールは、モル比で1:1で仕込むことが好ましい。これにより、末端にカルボン酸を導入することが可能となる。
前記酸無水物のうち、特に炭素数4〜20の酸無水物が好ましく、炭素数4〜10の酸無水物が分散安定性及び現像性の観点からより好ましい。
本発明で使用する顔料は、従来公知の種々の無機顔料または有機顔料を用いることができ、高透過率であることが好ましい。
C.I.ピグメントイエロー11,24,31,53,83,93,99,108,109,110,138,139,147,150,151,154,155,167,180,185,199,;
C.I.ピグメントオレンジ36,38,43,71;
C.I.ピグメントレッド81,105,122,149,150,155,171,175,176,177,209,220,224,242,254,255,264,270;
C.I.ピグメントバイオレット19,23,32,39;
C.I.ピグメントブルー1,2,15,15:1,15:3,15:6,16,22,60,66,79,79のCl置換基をOHに変更したもの,80;
C.I.ピグメントグリーン7,36,37,58;
C.I.ピグメントブラウン25,28;
C.I.ピグメントブラック1,7;
等を挙げることができる。
C.I.ピグメントオレンジ36,71,
C.I.ピグメントレッド122,150,171,175,177,209,224,242,254,255,264,
C.I.ピグメントバイオレット19,23,32,
C.I.ピグメントブルー15:1,15:3,15:6,16,22,60,66,
C.I.ピグメントグリーン7,36,37,58;
C.I.ピグメントブラック1,7
顔料の一次粒子径は、電子顕微鏡等の公知の方法で測定することができる。
本発明の顔料分散液は、少なくとも一種の溶剤を有する。(E)溶剤としては、以下に示される有機溶剤から選択される液体が挙げられ、顔料分散液中に含まれる各成分の溶解性、分散性や、硬化性組成物の分散安定性、塗布性などを考慮して選択されるものである。これら所望の物性を満足すれば基本的に特には限定されないが、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。
ケトン類、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等;芳香族炭化水素類、例えば、トルエン、キシレン等;が好ましい。
顔料誘導体は、有機顔料、アントラキノン類又はアクリドン類の一部分を酸性基、塩基性基又はフタルイミドメチル基で置換した構造が好ましい。顔料誘導体を構成する有機顔料としては、ジケトピロロピロール系顔料、アゾ、ジスアゾ、ポリアゾ等のアゾ系顔料、銅フタロシアニン、ハロゲン化銅フタロシアニン、無金属フタロシアニン等のフタロシアニン系顔料、アミノアントラキノン、ジアミノジアントラキノン、アントラピリミジン、フラバントロン、アントアントロン、インダントロン、ピラントロン、ビオラントロン等のアントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、ペリノン系顔料、ペリレン系顔料、チオインジゴ系顔料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、スレン系顔料、金属錯体系顔料等が挙げられる。
顔料誘導体の使用量は特に制限がないが、顔料に対し5〜80質量%用いることが好ましく、10〜50質量%用いることがさらに好ましい。
高分子分散剤は、その構造からさらに直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
本発明の硬化性組成物は、感度及びパターン形成性向上のため、光重合開始剤を含有する。本発明における(C)光重合開始剤は、光により分解し、本発明における重合可能な成分の重合を開始、促進する化合物であり、波長300〜500nmの領域に吸収を有するものであることが好ましい。また、光重合開始剤は、単独で、又は2種以上を併用して用いることができる。
以下、これらの各化合物について詳細に述べる。
ベンゾイン化合物としてはm−ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、メチルo−ベンゾイルベンゾエートなどを挙げることができる。
クマリン化合物としては、例えば、3−メチル−5−アミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン、3−クロロ−5−ジエチルアミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン、3−ブチル−5−ジメチルアミノ−((s−トリアジン−2−イル)アミノ)−3−フェニルクマリン等を挙げることができる。
また、その他の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩の1つの置換基がクマリン、アントラキノン構造を有し、300nm以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。別の好ましいスルホニウム塩としては、トリアリールスルホニウム塩が、アリロキシ基、アリールチオ基を置換基に有する300nm以上に吸収を有するスルホニウム塩が挙げられる。
本発明の着色硬化性組成物に用いることができるエチレン性不飽和二重結合を含有する化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上を有する化合物から選ばれる。このような化合物は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をもつ。
(ただし、R10及びR11は、H又はCH3を示す。)
感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)のものを併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。硬化感度の観点から、(メタ)アクリル酸エステル構造を2個以上含有する化合物を用いることが好ましく、3個以上含有する化合物を用いることがより好ましく、4個以上含有する化合物を用いることが最も好ましい。また、硬化感度、および、未露光部の現像性の観点では、EO変性体を含有することが好ましい。また、硬化感度、および、露光部強度の観点ではウレタン結合を含有することが好ましい。
本発明において使用しうるアルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体であって、分子(好ましくは、アクリル系共重合体、スチレン系共重合体を主鎖とする分子)中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基(例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、ヒドロキシル基など)を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。
酸価としては、20〜200mgKOH/g、好ましくは30〜150mgKOH/g、更に好ましくは35〜120mgKOH/gの範囲のものが好ましい。
前記アルキル(メタ)アクリレート、及びアリール(メタ)アクリレートとしては、CH2=C(R1)(COOR3)〔ここで、R1は水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基を表し、R3は炭素数1〜8のアルキル基又は炭素数6〜12のアラルキル基を表す。〕具体的にはメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、トリル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート(アルキルは炭素数1〜8のアルキル基)、ヒドロキシグリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等を挙げることができる。
ポリエチレンオキシド鎖、およびポリプロピレンオキシド鎖の繰り返し単位は1〜20が好ましく、2〜12がより好ましい。これらの側鎖にポリアルキレンオキサイド鎖を有するアクリル系共重合体は、例えば2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレートなどおよびこれらの末端OH基をアルキル封鎖した化合物、例えばメトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリ(エチレングリコール−プロピレングリコール)モノ(メタ)アクリレートなどを共重合成分とするアクリル系共重合体である。
これら共重合可能な他の単量体は、1種単独であるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。好ましい共重合可能な他の単量体は、アルキル(メタ)アクリレート(アルキルは炭素数2から4のアルキル基)、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート及びスチレンである。
また、アクリル系樹脂の質量平均分子量Mw(GPC法で測定されたポリスチレン換算値)は、カラーレジストを塗布等の工程上使用しやすい粘度範囲を実現するために、また膜強度を確保するために、2,000〜100,000であることが好ましく、より好ましくは3,000〜50,000である。
アクリル系樹脂は、例えばそれ自体公知のラジカル重合法により製造することができる。ラジカル重合法でアクリル系樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者であれば容易に設定することができるし、条件設定が可能である。
重合性二重結合を有するアルカリ可溶性樹脂は、アルカリ現像液での現像が可能であって、さらに光硬化性と熱硬化性を備えたものである。
(1)予めイソシアネート基とOH基を反応させ、未反応のイソシアネート基を1つ残し、かつ(メタ)アクリロイル基を少なくとも1つ含む化合物とカルボキシル基を含むアクリル樹脂との反応によって得られるウレタン変性した重合性二重結合含有アクリル樹脂、
(2)カルボキシル基を含むアクリル樹脂と分子内にエポキシ基及び重合性二重結合を共に有する化合物との反応によって得られる不飽和基含有アクリル樹脂、
(3)酸ペンダント型エポキシアクリレート樹脂、
(4)OH基を含むアクリル樹脂と重合性二重結合を有する2塩基酸無水物を反応させた重合性二重結合含有アクリル樹脂。
上記のうち、特に(1)及び(2)の樹脂が好ましい。
具体例として、OH基を有する例えば2−ヒドロキシエチルアクリレートと、COOH基を含有する例えばメタクリル酸と、これらと共重合可能なアクリル系若しくはビニル系化合物等のモノマーとの共重合体に、OH基に対し反応性を有するエポキシ環と炭素間不飽和結合基を有する化合物(例えばグリシジルアクリレートなどの化合物)を反応させて得られる化合物、等を使用できる。OH基との反応ではエポキシ環のほかに酸無水物、イソシアネート基、アクリロイル基を有する化合物も使用できる。また、特開平6−102669号公報、特開平6−1938号公報に記載のエポキシ環を有する化合物にアクリル酸のような不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物に、飽和もしくは不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる反応物も使用できる。
<増感剤>
本発明の着色硬化性組成物は、重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有してもよい。本発明に用いることができる増感剤としては、前記した光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。本発明に用いることができる増感剤としては、以下に列挙する化合物類に属しており、且つ300nm〜450nmの波長領域に吸収波長を有するものが挙げられる。
例えば、多核芳香族類(例えば、フェナントレン、アントラセン、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、9,10−ジアルコキシアントラセン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、チオキサントン類(イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、クロロチオキサントン)、シアニン類(例えばチアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、フタロシアニン類、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)、アクリジンオレンジ、クマリン類(例えば、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン)、ケトクマリン、フェノチアジン類、フェナジン類、スチリルベンゼン類、アゾ化合物、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、ジスチリルベンゼン類、カルバゾール類、ポルフィリン、スピロ化合物、キナクリドン、インジゴ、スチリル、ピリリウム化合物、ピロメテン化合物、ピラゾロトリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、バルビツール酸誘導体、チオバルビツール酸誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、チオキサントン、ミヒラーズケトンなどの芳香族ケトン化合物、N−アリールオキサゾリジノンなどのヘテロ環化合物などが挙げられる。
等が挙げられ、更に欧州特許第568,993号明細書、米国特許第4,508,811号明細書、同5,227,227号明細書、特開2001−125255号公報、特開平11−271969号公報等に記載の化合物等などが挙げられる。
本発明においては、着色硬化性組成物の製造中あるいは保存中において、重合可能なエチレン性不飽和二重結合を含む化合物の不要な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。
本発明に用いうる熱重合防止剤としては、ハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。
重合禁止剤の添加量は、全組成物固形分に対して約0.01質量%〜約5質量%が好ましい。
さらに、本発明においては、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤や、可塑剤、基板密着性を向上させうる基板密着剤を加えてもよい。
可塑剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等があり、アルカリ可溶性樹脂を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を含む化合物とアルカリ可溶性樹脂との合計質量に対し、10質量%以下添加することができる。
基板密着剤としては、公知の材料を用いることができるが、特にシラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤を用いることが好ましい。
中でもγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、が好ましく、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが最も好ましい。
また、本発明の着色硬化性組成物は、微細な顔料を高濃度で含有しても、顔料分散安定性と現像性に優れ、高精細で色特性の良好な着色領域を形成しうることから、固体撮像素子用のカラーフィルタの製造、特に、膜厚が0.8μm以下、好ましくは、0.1〜0.5μmの範囲の画素を形成するような場合、特に本発明の着色硬化性組成物を用いることでその効果が著しいといえる。
次に、本発明のカラーフィルタ及びその製造方法について説明する。
本発明のカラーフィルタは、支持体上に、本発明の着色硬化性組成物を用いてなる着色パターンを有することを特徴とする。
以下、本発明のカラーフィルタについて、その製造方法(本発明のカラーフィルタの製造方法)を通じて詳述する。
以下、本発明の製造方法における各工程について説明する。
着色層形成工程では、支持体上に、本発明の着色硬化性組成物を塗布して該硬化性組成物からなる着色層を形成する。
また、これらの支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
着色硬化性組成物の塗布直後の膜厚としては、塗布膜の膜厚均一性、塗布溶剤の乾燥のしやすさの観点から、0.1〜10μmが好ましく、0.2〜5μmがより好ましく、0.2〜3μmがさらに好ましい。
また、固体撮像素子用カラーフィルタとして用いるためには、色濃度確保の観点、斜め方向の光が受光部に到達せず、又、デバイスの端と中央とで集光率の差が顕著になる等の不具合を低減する観点から、0.05μm以上1.0μm未満が好ましく、0.1μm以上0.8μm以下がより好ましく、0.2μm以上0.7μm以下が特に好ましい。
露光工程では、前記着色層形成工程において形成された着色層(硬化性組成物層)を、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光する。
本工程における露光においては、塗布膜のパターン露光は、所定のマスクパターンを介して露光し、光照射された塗布膜部分だけを硬化させることによりことにより行うことができる。露光に際して用いることができる放射線としては、特に、g線、h線、i線等の紫外線が好ましく用いられる。照射量は5〜1500mJ/cm2が好ましく10〜1000mJ/cm2がより好ましく、10〜500mJ/cm2が最も好ましい。
本発明のカラーフィルタが液晶表示装置用である場合は、上記範囲の中で5〜200mJ/cm2が好ましく、10〜150mJ/cm2がより好ましく、10〜100mJ/cm2が最も好ましい。また、本発明のカラーフィルタが固体撮像素子用である場合は、上記範囲の中で30〜1500mJ/cm2が好ましく、50〜1000mJ/cm2がより好ましく、80〜500mJ/cm2が最も好ましい。
次いでアルカリ現像処理(現像工程)を行うことにより、上記露光により光未照射部分をアルカリ水溶液に溶出させ、光硬化した部分だけが残る。現像液で現像して、各色(3色あるいは4色以上)の画素からなるパターン状皮膜を形成することにより行うことができる。現像液としては、下地の回路などにダメージを起さない、有機アルカリ現像液が望ましいが、無機アルカリ現像液も使用可能である。現像温度としては通常20℃〜30℃であり、現像時間は20〜90秒である。
このポストベーク処理は、現像後の塗布膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン(熱風循環式乾燥機)、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。
また、本発明の固体撮像素子は、前記本発明のカラーフィルタの製造方法によって製造された本発明のカラーフィルタを備えることを特徴とする。
本発明のカラーフィルタを液晶表示装置やCCD等の固体撮像素子に好適に用いることができ、特に100万画素を超えるような高解像度のCCDやCMOS等に好適である。本発明のカラーフィルタは、例えば、CCD素子を構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置されるカラーフィルタとして用いることができる。
n−オクタン酸10g、ε−カプロラクトン200g、チタン(IV)テトラブトキシド5gを混合し、160℃で8時間加熱した後、室温まで冷却し、ポリエステル(i−1)を得た。
合成例1で、カルボン酸の種類と使用量、およびラクトンの種類を表1のように変更した他は合成例1と同様にして、ポリエステル(i−2)〜(i−10)を得た。
窒素気流下、12−ヒドロキシステアリン酸100g、チタン(IV)テトラブトキシド0.1g及びキシレン300gを混合し、外温160℃で生成する水をディーンスターク管で留去しながら反応した。GPC測定における数平均分子量が8,000、重量平均分子量が12,000となったところで加熱を停止し、ポリエステル(i−11)を得た。
合成例11と同様の実験を行い、GPC測定における数平均分子量が18,000、重量平均分子量が23,000となったところで加熱を停止し、ポリエステル(i−12)を得た。
窒素気流下、アジピン酸307g、ネオペンチルグリコール110g、1,4−ブタンジオール57g及びエチレングリコール26gを外温160℃で生成する水をディーンスターク管で留去しながら反応した。GPC測定における数平均分子量が8,000、重量平均分子量が13,000となったところで反応を停止し、ポリエステル(i−13)を得た。
ポリエチレンイミン(日本触媒製SP−006、数平均分子量600)10g及びポリエステル(i−1)100gを混合し、120℃で3時間加熱した。その後、65℃まで放冷し、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをゆっくり添加して、樹脂(I−1)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(以下、PGMEAと称する)10質量%溶液を得た。
合成例14で、ポリエチレンイミンの種類と量を、表2記載のアミノ化合物の種類と量に変更し、ポリエステル(i−1)の代わりに表2記載のポリエステルに変更した以外は合成例14と同様にして、樹脂(I−2)〜(I−17)のPGMEA10質量%溶液を得た。
なお、表2で、SP−003(数平均分子量300)、SP−012(数平均分子量1、200)、SP−018(数平均分子量1,800)、SP−200(数平均分子量10,000)は日本触媒製のポリエチレンイミンであり、SP−018、およびSP−200は数平均分子量が1500以上の化合物である。
ポリエチレンイミン(日本触媒製SP−006、数平均分子量600)10g及びポリエステル(i−1)100gを混合し、120℃で3時間加熱した。その後、65℃まで放冷し、コハク酸無水物3.0gを含有するプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート50g溶液をゆっくり添加して、2時間加熱攪拌した。この溶液をPGMEAでさらに希釈し、10質量%溶液を得た。
合成例32のコハク酸無水物をグルタル酸無水物に変えた以外は合成例32と同様に合成し、樹脂(I−20)を得た。
合成例32のコハク酸無水物をジケテンに変えた以外は合成例32と同様に合成し、樹脂(I−21)を得た。
合成例32のコハク酸無水物をブタンスルトンに変えた以外は合成例32と同様に合成し、樹脂(I−22)を得た。
ここでは、液晶表示装置用のカラーフィルタ形成用として、顔料を含有する着色硬化性組成物を調整した例を挙げて説明する。
顔料としてC.I.ピグメントグリーン36を40質量部(二次粒子径60nm(動的散乱法)、55nm(SEMにより二次粒子を50個観察して算出した平均値)、樹脂(I−1)200質量部(固形分換算20質量部)からなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ0.3mm径)により3時間混合・分散して、顔料分散液を調製した。顔料分散液について、顔料の平均1次粒子径を動的光散乱法(Microtrac Nanotrac UPA−EX150(日機装社製)を用いて、顔料分散液を更に希釈することなく測定した)により測定したところ、25nmであった。
前記顔料分散液を用いて、下記組成比となるよう撹拌混合して着色硬化性組成物を調製した。
・前記顔料分散液 600部
・光重合開始剤(2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール) 30部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート 50部
・アルカリ可溶性樹脂(ベンジルメタクリレート/メタクリル酸/ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、mol比:80/10/10、Mw:10000) 5部
・溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 900部
・基板密着剤(3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン) 1部
・増感剤(下記化学式αの化合物) 15部
・共増感剤(2−メルカプトベンゾイミダゾール) 15部
上記着色硬化性組成物をレジスト溶液として、550mm×650mmのガラス基板に下記条件でスリット塗布した後、10分間そのままの状態で待機させ、真空乾燥とプリベーク(prebake)(100℃80秒)を施して、着色硬化性組成物の塗布膜(硬化性組成物層)を形成した。
・塗布ヘッド先端の開口部の間隙: 50μm
・塗布速度: 100mm/秒
・基板と塗布ヘッドとのクリヤランス: 150μm
・乾燥膜厚 1.75μm
・塗布温度: 23℃
その後、2.5kWの超高圧水銀灯を用いて、着色硬化性組成物の塗布膜を、線幅20μmのテスト用フォトマスクを用いて、日立ハイテクノロジー社製のLE4000Aでパターン状に 100mJ/cm2露光した。露光後、塗布膜の全面を無機系現像液(商品名:CDK−1、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の1%水溶液で被い、60秒間静止した。
静止後、純水をシャワー状に噴射して現像液を洗い流し、かかる露光(光硬化)処理及び現像処理を施した塗布膜を220℃のオーブンにて1時間加熱した(ポストベーク)。これにより、ガラス基板上に着色硬化性組成物のパターン(着色層)を形成したカラーフィルタを得た。
上記で調製された着色硬化性組成物の保存安定性、及び着色硬化性組成物を用いてガラス基板上に形成された硬化性組成物塗布膜(着色層)のコントラスト、現像性、さらに、パターン断面形状を下記のようにして評価した。
顔料分散液の分散直後の粘度を測定し、分散性を評価した。粘度が低いほど分散性は良い。
さらに、着色硬化性組成物室温で1ケ月保存し、経時前後の液の粘度を測定して、下記の基準に従って評価した。
−評価基準−
○:粘度上昇は5%未満であった。
△:5%以上10%未満の粘度上昇が認められた。
×:10%以上の粘度上昇が認められた。
カラーフィルタを2枚の偏光板の間に挟み、偏光板の偏光軸が平行な場合と垂直な場合の透過光の輝度を、色彩輝度計(トプコン社製色彩輝度計BM−7)を使用して測定し、コントラストを求めた。コントラストが高いほど、液晶表示装置用カラーフィルタとして良好な性能を示す。
ポストベーク後の基板表面及び断面形状を、光学顕微鏡及びSEM写真観察により確認することにより、現像性として、パターン断面形状、基板密着性を評価した。評価方法・評価基準の詳細は以下の通りである。
基板密着性の評価として、パターン欠損が発生しているか否かを観察した。これらの評価項目については、下記基準に基づいて評価を行った
−評価基準−
○:パターン欠損が、まったく観察されなかった。
△:パターン欠損が、一部分欠損が観察された。
×:パターン欠損が、著しく観察された。
形成されたパターンの断面形状を観察した。パターン断面形状は順テーパが最も好ましく、矩形が次に好ましい。逆テーパは好ましくない。
実施例1の樹脂(I−1)、および顔料(C.I.ピグメントグリーン36)を表3に記載の樹脂、および顔料に変更した以外は、実施例1と同様にして顔料分散液、着色硬化性組成物、およびカラーフィルタを作成し、評価を行った。結果を表3に示す。
実施例1の顔料分散液の調製において、0.5mm径のジルコニアビースを用い、混合・分散を1時間行った以外は実施例1と同様にして顔料分散液、着色硬化性組成物、およびカラーフィルタを作成し、評価を行った。結果を表3に示す。
実施例1のアルカリ可溶性樹脂を添加しなかった以外は実施例16と同様にして顔料分散液、着色硬化性組成物、およびカラーフィルタを作成し、評価を行った。結果を表3に示す。
PG36: C.I.ピグメントグリーン36
PR254: C.I.ピグメントレッド254
PY139: C.I.ピグメントエロー139
PY138: C.I.ピグメントエロー138
PB15:6: C.I.ピグメントブルー15:6
また実施例6、及び7は、PR254とPY139とを、混合して用いたことを示す。
以下、固体撮像素子用途のカラーフィルタ形成用として、着色硬化性組成物を調製した例を挙げて説明する。
下記組成の成分を混合して溶解し、レジスト液を調製した。
<レジスト液の組成>
・溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 19.20部
・溶剤:乳酸エチル 36.67部
・アルカリ可溶性樹脂:メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸/メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル共重合体(モル比=60/22/18、重量平均分子量15,000 数平均分子量9,000)の40%PGMEA溶液 30.51部
・エチレン性不飽和二重結合含有化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 12.20部
・重合禁止剤:p−メトキシフェノール 0.0061部
・フッ素系界面活性剤:F−475、大日本インキ化学工業(株)製 0.83部
・光重合開始剤:トリハロメチルトリアジン系の光重合開始剤 0.586部
(TAZ−107、みどり化学社製)
6inchシリコンウエハをオーブン中で200℃のもと30分加熱処理した。次いで、このシリコンウエハ上に前記レジスト液を乾燥膜厚が1.5μmになるように塗布し、更に220℃のオーブン中で1時間加熱乾燥させて下塗り層を形成し、下塗り層付シリコンウエハ基板を得た。
顔料としてC.I.ピグメントグリーン36及びC.I.ピグメントイエロー139の混合物(質量比 70:30)40質量部(二次粒子径65nm(動的散乱法)、55nm(SEMにより二次粒子を50個観察して算出した平均値)、樹脂(I−1)160質量部(固形分換算16質量部)からなる混合液を、ビーズミル(ジルコニアビーズ、直径0.3mm)により3時間混合・分散して、顔料分散液を調製した。
顔料分散液について、顔料の平均1次粒子径を動的光散乱法により、実施例1と同様に測定したところ、30nmであった。
前記顔料分散液を用いて、下記組成比となるよう撹拌混合して着色硬化性組成物を調製した。
・前記顔料分散液 600部
・光重合開始剤(オキシム系光重合開始剤)
(CGI−124、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製) 30部
・エチレン性不飽和二重結合を含む化合物 TO−1382(東亞合成(株)製) 25部
(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物と無水コハク酸との反応物)
・エチレン性不飽和二重結合を含む化合物:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 30部
・溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 900部
・基板密着剤:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン 1部
<パターン形成>
上記のように調製した着色硬化性組成物を、前記2−1.で得られた下塗り層付シリコンウエハの下塗り層上に塗布し、着色層(塗布膜)を形成した。そして、この塗布膜の乾燥膜厚が0.5μmになるように、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行なった。
その後、照射された塗布膜が形成されているシリコンウエハ基板をスピン・シャワー現像機(DW−30型、(株)ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、CD−2000(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて23℃で60秒間パドル現像を行ない、シリコンウエハ基板に着色パターンを形成した。
その後、測長SEM「S−9260A」(日立ハイテクノロジーズ(株)製)を用いて、着色パターンのサイズを測定した。パターンサイズが2μmとなる露光量を露光感度として評価した。
基板密着性の評価として、パターン欠損が発生しているか否かを観察した。これらの評価項目については、下記基準に基づいて評価を行った
−評価基準−
○:パターン欠損がまったく観察されなかった。
△:パターン欠損が、一部分欠損が観察された。
×:パターン欠損が著しく観察された。
形成されたパターンの断面形状を観察した。パターン断面形状は矩形が好ましく、逆テーパは好ましくない。
顔料分散液の分散直後の粘度を測定し、分散性を評価した。粘度が低いほど分散性は良い。
さらに、着色硬化性組成物(塗布液)を室温で1ケ月保存した後、経時前後の液の粘度を測定し、下記判定基準に従って評価した。
−評価基準−
○:粘度上昇は5%未満だった。
△:5%以上10%未満の粘度上昇が認められた。
×:10%以上の粘度上昇が認められた。
色ムラの評価は、輝度分布を下記方法で解析し、平均からのずれが±5%以内である画素が全画素数に占める割合をもとに行った。評価基準は以下の通りである。
輝度分布の測定方法について説明する。まず、硬化性組成物を、前記2−1と同様の方法で作成した下塗り層付ガラス板の下塗り層上に塗布し、着色層(塗布膜)を形成した。
この塗布膜の乾燥膜厚が0.7μmになるように、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行なった。この塗布済みガラス板の輝度分布を顕微鏡MX−50(オリンパス社製)にて撮影した画像を解析した。
−評価基準−
○:平均からのずれが±5%以内である画素が全画素数中の99%以上
△:平均からのずれが±5%以内である画素が全画素数中の95%以上99%未満
×:平均からのずれが±5%以内である画素が全画素数中の95%未満
実施例18において、樹脂(I−1)、および顔料の種類を表4に記載のものに変更する以外は実施例18と同様にして、カラーフィルタを作成し、評価を行った。結果を表4に示す。
実施例18の顔料分散液の調製において、0.5mm径のジルコニアビースを用い、混合・分散を1時間行った以外は実施例18と同様にして顔料分散液、着色硬化性組成物、およびカラーフィルタを作成し、評価を行った。結果を表4に示す。
実施例18のアルカリ可溶性樹脂を添加しなかった以外は実施例18と同様にして顔料分散液、着色硬化性組成物、およびカラーフィルタを作成し、評価を行った。結果を表4に示す。
Claims (5)
- (A)(A-1)数平均分子量が300〜1,500の炭素数2〜4のアルキレンイミンの重合体と、(A-2)少なくとも片末端にカルボキシル基を有する数平均分子量が1,000〜1,000,000のポリエステルとを、反応させて得られる樹脂、(B)顔料、(C)光重合開始剤、(D)エチレン性不飽和二重結合を含む化合物、および(E)溶剤、を含有する着色硬化性組成物。
- さらに、(F)アルカリ可溶性樹脂を含有する請求項1に記載の着色硬化性組成物。
- 前記顔料の平均1次粒子径が、50nm以下である請求項1、又は請求項2に記載の着色硬化性組成物。
- 請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物により、支持体上に形成された着色パターンを有し、固体撮像素子における色分離に用いられるカラーフィルタ。
- 請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の着色硬化性組成物を、支持体上に塗布して着色層を形成する着色層形成工程と、該着色層を、マスクを介してパターン露光する露光工程と、露光後の着色層を現像して着色パターンを形成する現像工程とを、含むことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009048169A JP5334624B2 (ja) | 2008-03-17 | 2009-03-02 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008068190 | 2008-03-17 | ||
JP2008068190 | 2008-03-17 | ||
JP2009048169A JP5334624B2 (ja) | 2008-03-17 | 2009-03-02 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009258668A true JP2009258668A (ja) | 2009-11-05 |
JP5334624B2 JP5334624B2 (ja) | 2013-11-06 |
Family
ID=41090838
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009048169A Active JP5334624B2 (ja) | 2008-03-17 | 2009-03-02 | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8426089B2 (ja) |
EP (1) | EP2270594B1 (ja) |
JP (1) | JP5334624B2 (ja) |
KR (1) | KR101327832B1 (ja) |
CN (1) | CN101971094B (ja) |
TW (1) | TWI463253B (ja) |
WO (1) | WO2009116434A1 (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011092950A1 (ja) | 2010-01-27 | 2011-08-04 | 富士フイルム株式会社 | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
EP2498130A2 (en) | 2011-03-08 | 2012-09-12 | Fujifilm Corporation | Curable composition for solid-state imaging device, and photosensitive layer, permanent pattern, wafer-level lens, solid-state imaging device and pattern forming method each using the composition |
WO2013038974A1 (en) | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Fujifilm Corporation | Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor |
WO2013141156A1 (ja) | 2012-03-19 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
WO2013140979A1 (ja) | 2012-03-21 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
JP2014066988A (ja) * | 2011-12-28 | 2014-04-17 | Fujifilm Corp | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
WO2014084288A1 (ja) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ |
WO2014084289A1 (ja) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ |
WO2014103628A1 (ja) | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
WO2015033814A1 (ja) | 2013-09-06 | 2015-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素 |
JP2015184675A (ja) * | 2014-03-21 | 2015-10-22 | 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. | 高色再現が可能な着色光硬化性樹脂組成物、カラーフィルタおよびこれを備えた液晶表示装置 |
JP2016103515A (ja) * | 2014-11-27 | 2016-06-02 | 凸版印刷株式会社 | 固体撮像装置 |
WO2021039205A1 (ja) | 2019-08-29 | 2021-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5656577B2 (ja) * | 2009-12-16 | 2015-01-21 | キヤノン株式会社 | インクジェット用インク、インクカートリッジ、及びインクジェット記録方法 |
US9575806B2 (en) * | 2012-06-29 | 2017-02-21 | Intel Corporation | Monitoring accesses of a thread to multiple memory controllers and selecting a thread processor for the thread based on the monitoring |
CN102819056A (zh) * | 2012-07-30 | 2012-12-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制作方法、液晶面板和液晶显示装置 |
CN104898372B (zh) * | 2014-03-07 | 2020-04-14 | 日铁化学材料株式会社 | 遮光膜用黑色树脂组合物、带遮光膜的基板、彩色滤光片及触控屏 |
KR102092165B1 (ko) * | 2014-09-23 | 2020-03-23 | 동우 화인켐 주식회사 | 감광성 수지 조성물 |
KR102637673B1 (ko) * | 2018-03-06 | 2024-02-15 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 착색제 분산액, 착색 경화성 수지 조성물, 컬러 필터 및 표시 장치 |
JP7376617B2 (ja) * | 2019-12-25 | 2023-11-08 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および表示装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08507960A (ja) * | 1993-03-25 | 1996-08-27 | ゼネカ・リミテッド | 分散剤 |
JPH09176511A (ja) * | 1995-12-21 | 1997-07-08 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 顔料分散体組成物およびカラーレジストインキ |
JP2001214077A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 着色組成物及びカラーフィルター |
JP2004067715A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-03-04 | Toray Ind Inc | 顔料分散液、着色剤組成物、カラーフィルター、及び液晶表示パネル |
WO2008156148A1 (ja) * | 2007-06-21 | 2008-12-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | 顔料分散液、カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ |
WO2009096452A1 (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Fujifilm Corporation | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いて製造されたカラーフィルタ及びその製造方法 |
Family Cites Families (119)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US410201A (en) | 1889-09-03 | Bent for suspension-bridges | ||
US161811A (en) | 1875-04-06 | Improvement in mechanisms for feeding heel-stiffeners or counter-blanks | ||
US339049A (en) | 1886-03-30 | Sole-edge-burnishing | ||
GB763288A (en) | 1954-06-16 | 1956-12-12 | Kodak Ltd | Improvements in photo mechanical processes and materials therefor |
US2833827A (en) | 1955-01-17 | 1958-05-06 | Bayer Ag | Tri (3, 5-di lower alkyl-4-hydroxy phenyl)-sulfonium chlorides and method of preparing same |
US2852379A (en) | 1955-05-04 | 1958-09-16 | Eastman Kodak Co | Azide resin photolithographic composition |
US2940853A (en) | 1958-08-21 | 1960-06-14 | Eastman Kodak Co | Azide sensitized resin photographic resist |
US3479185A (en) | 1965-06-03 | 1969-11-18 | Du Pont | Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers |
DK125218B (da) | 1967-11-09 | 1973-01-15 | Kalle Ag | Lysfølsomt optegnelsesmateriale og lysfølsom blanding til anvendelse ved fremstilling af materialet. |
DE2033769B2 (de) | 1969-07-11 | 1980-02-21 | Ppg Industries, Inc., Pittsburgh, Pa. (V.St.A.) | Bis-<2-acryloxyäthyl)hexahydrophthalat enthaltende Gemische und Herstellungsverfahren |
JPS4841708B1 (ja) | 1970-01-13 | 1973-12-07 | ||
DE2053683A1 (de) | 1970-11-02 | 1972-05-10 | Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich | Photopolymerisierbare Kopiermasse |
DE2064080C3 (de) | 1970-12-28 | 1983-11-03 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
DE2064079C2 (de) | 1970-12-28 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
US3987037A (en) | 1971-09-03 | 1976-10-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Chromophore-substituted vinyl-halomethyl-s-triazines |
JPS5324989B2 (ja) | 1971-12-09 | 1978-07-24 | ||
US3905815A (en) | 1971-12-17 | 1975-09-16 | Minnesota Mining & Mfg | Photopolymerizable sheet material with diazo resin layer |
JPS5230490B2 (ja) | 1972-03-21 | 1977-08-09 | ||
DE2361041C3 (de) | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
DE2363806B2 (de) | 1973-12-21 | 1979-05-17 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches Gemisch |
GB1512981A (en) | 1974-05-02 | 1978-06-01 | Gen Electric | Curable epoxide compositions |
US4069056A (en) | 1974-05-02 | 1978-01-17 | General Electric Company | Photopolymerizable composition containing group Va aromatic onium salts |
JPS5311314B2 (ja) | 1974-09-25 | 1978-04-20 | ||
ZA757984B (en) | 1974-10-04 | 1976-12-29 | Dynachem Corp | Polymers for aqueous processed photoresists |
NZ187714A (en) * | 1977-07-15 | 1980-09-12 | Ici Ltd | Dispersing agent reaction product of a polyalkylene imine and a polyester |
DE2822190A1 (de) | 1978-05-20 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
DE2822189A1 (de) | 1978-05-20 | 1980-04-17 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
JPS6053300B2 (ja) | 1978-08-29 | 1985-11-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
US4311783A (en) | 1979-08-14 | 1982-01-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5,-triphenylimidazole compounds as photoinitiators |
DE2952697A1 (de) | 1979-12-29 | 1981-07-02 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches kopiermaterial |
DE2952698A1 (de) | 1979-12-29 | 1981-07-02 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial |
DE3036694A1 (de) | 1980-09-29 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3048502A1 (de) | 1980-12-22 | 1982-07-22 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE3120052A1 (de) | 1981-05-20 | 1982-12-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial |
DE3223104A1 (de) | 1982-06-21 | 1983-12-22 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Photopolymerisierbares gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares kopiermaterial |
JPS595241A (ja) | 1982-06-21 | 1984-01-12 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 放射線重合可能な混合物 |
JPS5944615A (ja) | 1982-09-07 | 1984-03-13 | Furuno Electric Co Ltd | ジヤイロ装置 |
US4518676A (en) | 1982-09-18 | 1985-05-21 | Ciba Geigy Corporation | Photopolymerizable compositions containing diaryliodosyl salts |
JPS5953836A (ja) | 1982-09-21 | 1984-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JPS5971048A (ja) | 1982-10-18 | 1984-04-21 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合系感光性組成物 |
NL8300155A (nl) | 1983-01-17 | 1984-08-16 | Philips Nv | Registratie-element met een pyrylium- of thiopyrylium-squarylium kleurstoflaag en nieuwe pyrylium- of thiopyrylium-squarylium verbindingen. |
US4590287A (en) | 1983-02-11 | 1986-05-20 | Ciba-Geigy Corporation | Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same |
JPH0629285B2 (ja) | 1983-10-14 | 1994-04-20 | 三菱化成株式会社 | 光重合性組成物 |
JPS60239736A (ja) | 1984-05-14 | 1985-11-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
DE3421511A1 (de) | 1984-06-08 | 1985-12-12 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Polymerisierbare, perfluoralkylgruppen aufweisende verbindungen, sie enthaltende reproduktionsschichten und deren verwendung fuer den wasserlosen offsetdruck |
US4713401A (en) | 1984-12-20 | 1987-12-15 | Martin Riediker | Titanocenes and a radiation-polymerizable composition containing these titanocenes |
JPS61169837A (ja) | 1985-01-22 | 1986-07-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光可溶化組成物 |
JP2525568B2 (ja) | 1985-01-18 | 1996-08-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 光可溶化組成物 |
JPS61169835A (ja) | 1985-01-22 | 1986-07-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光可溶化組成物 |
DE3582887D1 (de) * | 1985-01-22 | 1991-06-20 | Ici Plc | Dispergiermittel enthaltende zusammensetzung. |
JPH0766185B2 (ja) | 1985-09-09 | 1995-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
US4622286A (en) | 1985-09-16 | 1986-11-11 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photoimaging composition containing admixture of leuco dye and 2,4,5-triphenylimidazolyl dimer |
US4772541A (en) | 1985-11-20 | 1988-09-20 | The Mead Corporation | Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same |
CA1284740C (en) | 1985-11-20 | 1991-06-11 | Peter Gottschalk | Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators |
DE3604580A1 (de) | 1986-02-14 | 1987-08-20 | Basf Ag | Haertbare mischungen, enthaltend n-sulfonylaminosulfoniumsalze als kationisch wirksame katalysatoren |
JPS62212401A (ja) | 1986-03-14 | 1987-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
AU599400B2 (en) | 1986-08-01 | 1990-07-19 | Ciba-Geigy Ag | Titanocenes and their use |
JPS6370243A (ja) | 1986-09-11 | 1988-03-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
US4760013A (en) | 1987-02-17 | 1988-07-26 | International Business Machines Corporation | Sulfonium salt photoinitiators |
DE3710279A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
DE3710282A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-13 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
DE3710281A1 (de) | 1987-03-28 | 1988-10-06 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
JPH0743536B2 (ja) | 1987-05-29 | 1995-05-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE3721741A1 (de) | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Basf Ag | Strahlungsempfindliches gemisch fuer lichtempfindliche beschichtungsmaterialien |
DE3721740A1 (de) | 1987-07-01 | 1989-01-12 | Basf Ag | Sulfoniumsalze mit saeurelabilen gruppierungen |
DE3738864A1 (de) | 1987-11-16 | 1989-05-24 | Hoechst Ag | Polymerisierbare verbindungen und diese enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
US5026625A (en) | 1987-12-01 | 1991-06-25 | Ciba-Geigy Corporation | Titanocenes, the use thereof, and n-substituted fluoroanilines |
JPH01152109A (ja) | 1987-12-09 | 1989-06-14 | Toray Ind Inc | 光重合性組成物 |
US4933377A (en) | 1988-02-29 | 1990-06-12 | Saeva Franklin D | Novel sulfonium salts and the use thereof as photoinitiators |
EP0334338A3 (en) | 1988-03-24 | 1990-06-20 | Dentsply International, Inc. | Titanate initiators for light cured compositions |
DE3817424A1 (de) | 1988-05-21 | 1989-11-23 | Hoechst Ag | Alkenylphosphon- und -phosphinsaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und durch strahlung polymerisierbares gemisch, das diese verbindungen enthaelt |
JP2757375B2 (ja) | 1988-06-02 | 1998-05-25 | 東洋紡績株式会社 | 光重合性組成物 |
CA2002873A1 (en) | 1988-11-21 | 1990-05-21 | Franklin Donald Saeva | Onium salts and the use thereof as photoinitiators |
JPH02150848A (ja) | 1988-12-02 | 1990-06-11 | Hitachi Ltd | 光退色性放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法 |
DE3843205A1 (de) | 1988-12-22 | 1990-06-28 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbare verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial |
US5040237A (en) | 1989-03-31 | 1991-08-13 | E. F. Johnson Company | Method and apparatus for an alternate home channel for a land mobile transmission trunked communication system |
JPH02296514A (ja) | 1989-05-12 | 1990-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 車両用サスペンション制御装置 |
CA2011515C (en) | 1990-03-05 | 1994-10-11 | Roger Boulanger | Method for producing a non-woven fabric with a thermally activated adhesive surface, resulting product and applications thereof |
JPH04365049A (ja) | 1991-06-12 | 1992-12-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物 |
JP2764769B2 (ja) | 1991-06-24 | 1998-06-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
JPH0583588A (ja) | 1991-09-24 | 1993-04-02 | Omron Corp | 画像処理装置 |
DE69320241T2 (de) | 1992-05-06 | 1999-04-29 | Kyowa Hakko Kogyo Kk | Chemisch amplifizierte Resistzusammensetzung |
JP2575572B2 (ja) | 1992-06-19 | 1997-01-29 | 新日本製鐵株式会社 | アルカリ現像型感光性カラーフィルター用インク及びそれを用いたカラーフィルター |
JP3270121B2 (ja) | 1992-06-30 | 2002-04-02 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置 |
JPH0619249A (ja) | 1992-06-30 | 1994-01-28 | Ricoh Co Ltd | 原稿給送装置 |
JP2929858B2 (ja) | 1992-08-14 | 1999-08-03 | 東洋インキ製造株式会社 | 重合性組成物および重合方法 |
JP3016532B2 (ja) | 1992-09-21 | 2000-03-06 | 互応化学工業株式会社 | カラーフィルタ用感光性樹脂組成物及びそれを用いたカラーフィルタ |
JPH06175554A (ja) | 1992-12-03 | 1994-06-24 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 体積位相型ホログラムの製造方法 |
JPH06175553A (ja) | 1992-12-03 | 1994-06-24 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法 |
JPH06175561A (ja) | 1992-12-04 | 1994-06-24 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | ホログラム記録媒体及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法 |
JPH06175564A (ja) | 1992-12-04 | 1994-06-24 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | ホログラム記録材料及びそれを用いた体積位相型ホログラムの製造方法 |
JPH06348011A (ja) | 1993-06-04 | 1994-12-22 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 光重合性組成物 |
JPH07128785A (ja) | 1993-11-02 | 1995-05-19 | Konica Corp | 画像形成材料及び画像形成方法 |
JPH07140589A (ja) | 1993-11-19 | 1995-06-02 | Konica Corp | 画像形成材料および画像形成方法 |
JP3235930B2 (ja) | 1994-01-10 | 2001-12-04 | ダイセル化学工業株式会社 | 顔料分散剤の製造方法 |
JP3321288B2 (ja) | 1994-04-25 | 2002-09-03 | 日本ペイント株式会社 | 近赤外光重合性組成物 |
JPH07306527A (ja) | 1994-05-11 | 1995-11-21 | Konica Corp | 画像形成材料及び画像形成方法 |
JPH0810601A (ja) | 1994-06-27 | 1996-01-16 | Daicel Chem Ind Ltd | 顔料分散剤およびラクトン変性アミン化合物の製造方法 |
JPH08108621A (ja) | 1994-10-06 | 1996-04-30 | Konica Corp | 画像記録媒体及びそれを用いる画像形成方法 |
JPH0917651A (ja) | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Mitsumi Electric Co Ltd | 固定コイル |
TW467933B (en) | 1995-11-24 | 2001-12-11 | Ciba Sc Holding Ag | Photopolymerizable compositions comprising borate photoinitiators from monoboranes and the use thereof |
MY132867A (en) | 1995-11-24 | 2007-10-31 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc | Acid-stable borates for photopolymerization |
AU717137B2 (en) | 1995-11-24 | 2000-03-16 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Borate coinitiators for photopolymerization |
JPH09281698A (ja) | 1996-04-11 | 1997-10-31 | Mitsubishi Chem Corp | カラーフィルター用光重合性組成物 |
JPH11271969A (ja) | 1998-01-21 | 1999-10-08 | Mitsubishi Chemical Corp | 光重合性組成物及び感光性平版印刷版 |
SG77689A1 (en) | 1998-06-26 | 2001-01-16 | Ciba Sc Holding Ag | New o-acyloxime photoinitiators |
JP3889530B2 (ja) | 1998-08-17 | 2007-03-07 | コダックポリクロームグラフィックス株式会社 | 光重合性組成物、光重合性平版印刷版及び画像形成方法 |
DK199901098A (da) | 1998-08-18 | 2000-02-19 | Ciba Sc Holding Ag | Sylfonyloximer til i-linie-fotoresists med høj følsomhed og høj resisttykkelse |
JP2000310808A (ja) | 1999-04-26 | 2000-11-07 | Canon Inc | 照明装置及びそれを用いた撮影装置 |
JP4481439B2 (ja) * | 1999-06-16 | 2010-06-16 | サカタインクス株式会社 | カラーフィルター用緑色顔料分散物 |
JP2001132318A (ja) | 1999-10-29 | 2001-05-15 | Oi Seisakusho Co Ltd | 車両用開閉体の開閉装置 |
JP2001125255A (ja) | 1999-10-27 | 2001-05-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP2001272524A (ja) | 2000-03-24 | 2001-10-05 | Jsr Corp | カラーフィルタ用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示装置 |
JP4191887B2 (ja) | 2000-09-27 | 2008-12-03 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
CN100528838C (zh) | 2001-06-11 | 2009-08-19 | 西巴特殊化学品控股有限公司 | 具有复合结构的肟酯光引发剂 |
KR101057248B1 (ko) | 2003-01-30 | 2011-08-16 | 신닛테츠가가쿠 가부시키가이샤 | 안료 분산체, 컬러필터용 조성물 및 컬러필터 |
JP4407410B2 (ja) | 2004-07-15 | 2010-02-03 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用感放射線性組成物およびその調製法 |
CN102974264B (zh) * | 2005-04-13 | 2015-09-02 | 路博润高级材料公司 | 分散剂 |
JP4820131B2 (ja) * | 2005-09-01 | 2011-11-24 | 大日精化工業株式会社 | 顔料の高分子分散剤およびカラーフィルター用着色組成物 |
-
2009
- 2009-03-02 JP JP2009048169A patent/JP5334624B2/ja active Active
- 2009-03-11 US US12/933,309 patent/US8426089B2/en active Active
- 2009-03-11 EP EP09723094.0A patent/EP2270594B1/en active Active
- 2009-03-11 WO PCT/JP2009/054601 patent/WO2009116434A1/ja active Application Filing
- 2009-03-11 KR KR1020107022781A patent/KR101327832B1/ko active IP Right Grant
- 2009-03-11 CN CN2009801089170A patent/CN101971094B/zh active Active
- 2009-03-13 TW TW098108116A patent/TWI463253B/zh active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08507960A (ja) * | 1993-03-25 | 1996-08-27 | ゼネカ・リミテッド | 分散剤 |
JPH09176511A (ja) * | 1995-12-21 | 1997-07-08 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 顔料分散体組成物およびカラーレジストインキ |
JP2001214077A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 着色組成物及びカラーフィルター |
JP2004067715A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-03-04 | Toray Ind Inc | 顔料分散液、着色剤組成物、カラーフィルター、及び液晶表示パネル |
WO2008156148A1 (ja) * | 2007-06-21 | 2008-12-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | 顔料分散液、カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機elディスプレイ |
WO2009096452A1 (ja) * | 2008-01-31 | 2009-08-06 | Fujifilm Corporation | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いて製造されたカラーフィルタ及びその製造方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011092950A1 (ja) | 2010-01-27 | 2011-08-04 | 富士フイルム株式会社 | ソルダーレジスト用重合性組成物及びソルダーレジストパターンの形成方法 |
EP2498130A2 (en) | 2011-03-08 | 2012-09-12 | Fujifilm Corporation | Curable composition for solid-state imaging device, and photosensitive layer, permanent pattern, wafer-level lens, solid-state imaging device and pattern forming method each using the composition |
WO2013038974A1 (en) | 2011-09-14 | 2013-03-21 | Fujifilm Corporation | Colored radiation-sensitive composition for color filter, pattern forming method, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor |
JP2014066988A (ja) * | 2011-12-28 | 2014-04-17 | Fujifilm Corp | 光学部材セット及びこれを用いた固体撮像素子 |
WO2013141156A1 (ja) | 2012-03-19 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、着色パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
WO2013140979A1 (ja) | 2012-03-21 | 2013-09-26 | 富士フイルム株式会社 | 着色感放射線性組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、及び画像表示装置 |
WO2014084288A1 (ja) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ |
WO2014084289A1 (ja) | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ |
WO2014103628A1 (ja) | 2012-12-27 | 2014-07-03 | 富士フイルム株式会社 | カラーフィルタ用組成物、赤外線透過フィルタ及びその製造方法、並びに赤外線センサー |
WO2015033814A1 (ja) | 2013-09-06 | 2015-03-12 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、ポリマー、キサンテン色素 |
JP2015184675A (ja) * | 2014-03-21 | 2015-10-22 | 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. | 高色再現が可能な着色光硬化性樹脂組成物、カラーフィルタおよびこれを備えた液晶表示装置 |
JP2016103515A (ja) * | 2014-11-27 | 2016-06-02 | 凸版印刷株式会社 | 固体撮像装置 |
WO2021039205A1 (ja) | 2019-08-29 | 2021-03-04 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、パターン形成方法、積層体、固体撮像素子、赤外線センサ、画像表示装置、カメラモジュール、及び、化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110014554A1 (en) | 2011-01-20 |
CN101971094A (zh) | 2011-02-09 |
EP2270594A1 (en) | 2011-01-05 |
WO2009116434A1 (ja) | 2009-09-24 |
JP5334624B2 (ja) | 2013-11-06 |
TW200941135A (en) | 2009-10-01 |
KR101327832B1 (ko) | 2013-11-11 |
EP2270594B1 (en) | 2016-01-13 |
US8426089B2 (en) | 2013-04-23 |
TWI463253B (zh) | 2014-12-01 |
KR20100133426A (ko) | 2010-12-21 |
CN101971094B (zh) | 2013-05-01 |
EP2270594A4 (en) | 2012-10-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5334624B2 (ja) | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 | |
JP5371449B2 (ja) | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法 | |
JP5213375B2 (ja) | 顔料分散液、硬化性組成物、それを用いるカラーフィルタ及び固体撮像素子 | |
JP5344790B2 (ja) | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 | |
JP5878492B2 (ja) | 固体撮像素子用着色光硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 | |
KR101414099B1 (ko) | 안료 분산 조성물, 경화성 조성물, 컬러 필터 및 그 제조방법 | |
JP4969189B2 (ja) | 固体撮像素子用途のカラーフィルタ形成用の硬化性組成物、固体撮像素子用途のカラーフィルタ及びその製造方法 | |
JP5224936B2 (ja) | 分散液、黒色硬化性組成物、製造方法、固体撮像素子用の遮光膜または反射防止膜の製造方法、および固体撮像素子 | |
JP5178081B2 (ja) | カラーフィルタ形成用硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子 | |
JP2007316445A (ja) | 硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法 | |
JP5586828B2 (ja) | 顔料分散組成物、硬化性組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法 | |
JP5523655B2 (ja) | 顔料分散組成物、硬化性組成物、並びにカラーフィルタ及びその製造方法 | |
JP5171514B2 (ja) | 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 | |
JP2010113034A (ja) | 硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法及び固体撮像素子 | |
JP5184993B2 (ja) | 黒色硬化性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、その製造方法、および固体撮像素子 | |
JP2010018643A (ja) | ポリエステルの製造方法、樹脂、顔料分散液、光硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ、およびその製造方法 | |
JP5105867B2 (ja) | 硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法 | |
JP2011118060A (ja) | 顔料分散液、着色硬化性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び固体撮像素子 | |
JP5456183B2 (ja) | 黒色硬化性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子。 | |
JP2010084021A (ja) | 樹脂、該樹脂の製造方法、顔料分散液、着色硬化性組成物、該着色硬化性組成物の調製方法、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法 | |
JP5456184B2 (ja) | 黒色硬化性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子用反射防止膜、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタの製造方法、および固体撮像素子 | |
JP5184226B2 (ja) | 黒色硬化性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ及びその製造方法、並びに固体撮像素子。 | |
JP2009075482A (ja) | 硬化性組成物、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、及び、固体撮像素子 | |
JP4837500B2 (ja) | 硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110810 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121204 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130124 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130709 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130730 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5334624 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |