TW201506535A - 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種即便長時間放置亦可維持著色圖案的線寬均勻性的著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置。本發明的著色組成物含有(A)色素多聚物及(B)溶劑，並且(A)色素多聚物具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構及陰離子部位，著色組成物中的甲苯濃度為0.001ppm~10ppm。

Description

著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的 製造方法、固體攝像元件及圖像顯示裝置
本發明是有關於一種著色組成物及使用其的硬化膜。另外，本發明是有關於一種具有硬化膜的彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、具有彩色濾光片的固體攝像元件及圖像顯示裝置。
關於製造液晶顯示裝置或固體攝像元件等中所用的彩色濾光片的方法之一，有顏料分散法，該顏料分散法為以下方法：使用使顏料分散於各種感光性組成物中而成的著色感光性組成物，藉由光微影法來製造彩色濾光片。即，使用旋塗機或輥塗機等將著色組成物塗佈於基板上，加以乾燥而形成塗佈膜，對塗佈膜進行圖案曝光並進行顯影，藉此獲得經著色的畫素。僅依所需的色相程度來反覆進行所述操作，由此製作彩色濾光片。
所述方法因使用顏料，故對光或熱穩定，並且因藉由光微影法來進行圖案化，故可充分確保位置精度，被廣泛地用作適於製造彩色顯示器(color display)用彩色濾光片等的方法。
於專利文獻1中揭示，於製作彩色濾光片時使用含有染料或顏料的著色感光性組成物。於專利文獻2中揭示，使用含有氧雜蒽(xanthene)骨架作為色素部位的部分結構的色素多聚物，由此改良顯影性。另外，於專利文獻2中亦揭示了色素多聚物中的陽離子部位與陰離子部位的組合。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2008-268242號公報
[專利文獻2]日本專利特開2012-32754號公報
此處得知，於使用含有以下色素多聚物的組成物來形成著色圖案的情形時，若長時間放置，則有著色圖案的線寬均勻性差的傾向，其中所述色素多聚物具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構、及陰離子部位。
本發明的目的在於解決所述課題，且提供一種即便長時間放置亦可維持著色圖案的線寬均勻性的著色組成物。
本發明者等人發現，藉由在含有以下色素多聚物的組成物中調配少量的甲苯，可解決所述課題，其中所述色素多聚物具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構及陰離子部位。
具體而言，藉由以下的手段<1>、較佳為手段<2>~手段<13>解決了所述課題。
<1>一種著色組成物，含有(A)色素多聚物及(B)溶劑，並且(A)色素多聚物具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構及陰離子部位，著色組成物中的甲苯濃度為0.001ppm~10ppm。
<2>如<1>所記載的著色組成物，其中著色組成物中的含水率為0.005ppm~3ppm。
<3>如<1>或<2>所記載的著色組成物，其中著色組成物中的鈉離子濃度及鉀離子濃度的至少一者為0.01ppm~20ppm。
<4>如<1>至<3>中任一項所記載的著色組成物，其中所述陰離子部位為低親核性的陰離子部位。
<5>如<1>至<4>中任一項所記載的著色組成物，更含有酞菁顏料。
<6>如<1>至<5>中任一項所記載的著色組成物，更含有光聚合起始劑。
<7>如<1>至<6>中任一項所記載的著色組成物，更含有硬化性化合物。
<8>如<1>至<7>中任一項所記載的著色組成物，其為彩色濾光片的著色層形成用。
<9>一種硬化膜，其是使如<1>至<8>中任一項所記載的著色組成物硬化而成。
<10>一種彩色濾光片的製造方法，包括以下步驟：將如<1>至<8>中任一項所記載的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層的步驟；將著色組成物層以圖案狀進行曝光的步驟；以及將未曝光部顯影去除而形成著色圖案的步驟。
<11>一種彩色濾光片的製造方法，包括以下步驟：將如<1>至<8>中任一項所記載的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層，並使其硬化而形成著色層的步驟；於著色層上形成光阻層的步驟；藉由進行曝光及顯影而將光阻層圖案化，獲得抗蝕劑圖案的步驟；以及將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩而對著色層進行乾式蝕刻的步驟。
<12>一種彩色濾光片，其為具有如<9>所記載的硬化膜的彩色濾光片、或者藉由如<10>或<11>所記載的彩色濾光片的製造方法所製造的彩色濾光片。
<13>一種固體攝像元件或圖像顯示裝置，具有如<12>所記載的彩色濾光片。
根據本發明，可提供一種即便長時間放置亦可維持著色圖案的線寬均勻性的著色組成物。
以下記載的本發明的構成要素的說明有時是根據本發明的具代表性的實施態樣來進行，但本發明不限定於此種實施態樣。
於本說明書中的基團(原子團)的表述中，未記載經取代及未經取代的表述包含不具有取代基的基團，並且亦包含具有取代基的基團。例如所謂「烷基」，不僅包含不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，並且亦包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。
另外，本說明書中所謂「放射線」，例如是指水銀燈的明線光譜、準分子雷射所代表的遠紫外線、極紫外線((Extreme Uitraviolet，EUV)光)、X射線、電子束等。另外，本發明中所謂光，是指光化射線或放射線。本說明書中所謂「曝光」，只要無特別說明，則不僅是指利用水銀燈、準分子雷射所代表的遠紫外線、X射線、EUV光等的曝光，利用電子束、離子束等粒子束的描畫亦包括在曝光中。
本說明書中使用「~」表示的數值範圍是指包含「~」的前後所記載的數值作為下限值及上限值的範圍。
本說明書中，所謂總固體成分，是指自組成物的總組成中去掉溶劑所得的成分的總質量。
另外，於本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯兩者或任一者，「(甲基)丙烯酸」表示丙烯酸及甲基丙烯酸兩者或任一者，「(甲基)丙烯醯基」表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基兩者或任一者。
另外，於本說明書中，「單體」與「單體(monomer)」為相同含意。本說明書中的單體是指與寡聚物及聚合物相區分、重量平均分子量為2,000以下的化合物。於本說明書中，所謂聚合性化合物，是指具有聚合性官能基的化合物，可為單體亦可為聚合物。所謂聚合性官能基，是指參與聚合反應的基團。
於本說明書中，化學式中的Me表示甲基，Et表示乙基，Pr表示丙基，Bu表示丁基，Ph表示苯基。
本說明書中，「步驟」一詞不僅是指獨立的步驟，即便於無法與其他步驟明確區分的情形時，只要可達成該步驟的預期作用，則包括在該用語中。
<著色組成物>
本發明的著色組成物(以下亦稱為本發明的組成物)含有(A)色素多聚物及(B)溶劑，並且所述著色組成物的特徵在於：(A)色素多聚物具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構(以下有時稱為「色素結構」)及陰離子部位，且本發明的組成物中的甲苯濃度為0.001ppm~10ppm。
根據本發明，即便長時間放置，亦可維持著色圖案的線寬均勻。所謂長時間放置，是指自使用著色組成物形成膜後起將膜長 時間放置直至進行i射線曝光為止。
本發明中，藉由調配少量的甲苯來解決由所述長時間放置所引起的問題。其機制雖為推測，但藉由調配少量的甲苯，可使色素結構中的陽離子部位、與組成物中的疏水性成分的相容性良好，即便長時間放置亦不會引起相分離，可維持圖案的線寬均勻。另一方面，若甲苯濃度高，則甲苯使組成物中的疏水性成分(例如硬化性化合物等)以必要以上的程度凝聚。本發明中，藉由將甲苯濃度設定為所述範圍來適當解決所述問題。
本發明中，例如即便於將放置時間設定為2天以上、且使用0.3質量%的氫氧化四甲基銨作為曝光後的顯影液的情形時，亦可維持圖案的線寬均勻。
本發明中，較佳為組成物中的甲苯濃度為0.005ppm~10ppm，較佳為0.01ppm~3ppm，更佳為0.1ppm~3ppm，進而佳為0.5ppm~2ppm。
另外，本發明的組成物較佳為組成物中的含水率為0.005質量%~3質量%，更佳為0.01質量%~1質量%，進而佳為0.05質量%~0.15質量%。
藉由將含水率設定為3質量%以下，可更有效地抑制色素多聚物中的陽離子部位與陰離子部位發生分離的情況。對於以陽離子部位與陰離子部位不易分離的狀態形成的膜而言，於低氧濃度下，經光激發的色素自由基不易被氧捕捉(trap)，色素更不易分解。
另外，藉由將含水率設定為0.005質量%以上，色素多聚物中的陽離子部位與陰離子部位的距離不會過近，故不易引起光激發時的能量遷移或電子遷移，由此色素更不易分解。結果，即便於低氧濃度下長期放置亦可維持良好的耐光性。
尤其於在低氧濃度下以10000勒克斯(lux)的照度照射1週以上的情形時，亦可維持良好的耐光性。
本發明的組成物較佳為組成物中的鈉離子濃度及鉀離子濃度的至少一者滿足0.01ppm~20ppm，更佳為0.01ppm~10ppm，進而佳為0.1ppm~5ppm，尤佳為0.5ppm~2ppm。尤佳為鈉離子濃度及鉀離子濃度兩者分別滿足所述範圍。
藉由將鈉離子濃度及鉀離子濃度設定為20ppm以下，可抑制色素多聚物中的陽離子與組成物中的鈉離子及鉀離子的至少一者的離子交換反應，進一步提高色素結構與組成物中的其他成分(例如樹脂、單體、溶劑等)的相容性，可有效地抑制組成物中的相分離。結果，即便對放置於低溫度環境下(例如冷藏保存狀態)的組成物進行製膜，亦可不易產生異物。另外，藉由將鈉離子濃度及鉀離子濃度設定為0.01ppm以上，可有效地抑制因色素結構與其他成分的相容性變得過高所致的異物的產生。
就長期耐濕性的性能的觀點而言，本發明的組成物較佳為固體成分的電壓保持率為10%~80%，更佳為30%~60%。
另外，於本發明中，藉由設定為如上所述的構成，可獲得經過長期後黏度的變化率小的著色組成物。例如即便於低溫 (5℃以下)下經過3個月以上後，亦可減小黏度的變化率。
另外，本發明中，於長時間放置於各種溫度(例如-30℃~150℃)及/或高濕度(例如相對濕度為80%以上)環境下的情形時，可獲得異物的產生率小的著色組成物。例如即便於在低溫(5℃以下)的環境下放置1個月以上的情形、或於在85℃85%RH的環境下放置2週以上的情形時，亦可減小異物的產生率。
本發明的組成物可較佳地用於彩色濾光片的著色層的形成用。本發明的著色組成物較佳為含有硬化性化合物及顏料。硬化性化合物可例示聚合性化合物或鹼可溶性樹脂(包括含有聚合性基的鹼可溶性樹脂)，可根據用途或製造方法而適當選擇。進而，本發明的著色組成物較佳為含有光聚合起始劑。
例如於藉由光阻來形成著色層的情形時，本發明的著色組成物較佳為含有色素多聚物、溶劑、作為硬化性化合物的鹼可溶性樹脂、顏料及光聚合起始劑。進而亦可含有界面活性劑等成分。
另外，於藉由乾式蝕刻來形成著色層的情形時，較佳為含有色素多聚物、溶劑、作為硬化性化合物的聚合性化合物、顏料及光聚合起始劑。進而亦可含有界面活性劑等成分。
<<(A)色素多聚物>>
色素多聚物包含二聚物、三聚物及聚合物等結構。色素多聚物於本發明的著色組成物中例如作為著色劑發揮功能。
色素多聚物具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構及陰離子部位。色素多聚物的較佳形態可列舉以下形 態。
(A1)含有以下重複單元且具有抗衡陰離子部位的色素多聚物，所述重複單元具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構。
(A2)含有以下重複單元且所述色素結構具有陰離子部位的色素多聚物，所述重複單元具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構。
(A3)含有以下單體及具有抗衡陰離子部位的重複單元的色素多聚物，所述單體具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構。
(A4)於所述色素多聚物中，更具有其他陽離子及陰離子部位的色素多聚物。
以下，對各形態加以詳細說明。
<<<(A1)的形態>>>
<<<<抗衡陰離子部位>>>>
色素多聚物(A)所具有的抗衡陰離子部位較佳為非親核性。所謂非親核性，是指不因加熱而對色素進行親核攻擊的性質。
抗衡陰離子可為有機陰離子，亦可為無機陰離子，較佳為有機陰離子。陰離子的例子可列舉日本專利特開2007-310315號公報的段落編號0075中記載者，將其內容併入至本申請案說明書中。
較佳可列舉：雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子、四芳基硼酸鹽陰離子、B-(CN)n1(ORa)4-n1(Ra表示碳數1 ~10的烷基或碳數6~10的芳基，n1表示1~4)及PFn2RP (6-n2) -(RP表示碳數1~10的氟化烷基，n2表示1~6的整數)，更佳為選自雙(磺醯基)醯亞胺陰離子、三(磺醯基)甲基化物陰離子及四芳基硼酸鹽陰離子中，進而佳為雙(磺醯基)醯亞胺陰離子。藉由使用此種抗衡陰離子，有更有效地發揮本發明的效果的傾向。
雙(磺醯基)醯亞胺陰離子較佳為下述通式(AN-1)所表示的結構。
(式(AN-1)中，X1及X2分別獨立地表示氟原子或含氟原子的碳數1~10的烷基。X1及X2亦可相互鍵結而形成環)
X1及X2分別獨立地表示氟原子或含氟原子的碳數1~10的烷基，較佳為氟原子或含氟原子的碳數1~10的烷基，更佳為碳數1~10的全氟烷基，進而佳為碳數1~4的全氟烷基，尤佳為三氟甲基。
三(磺醯基)甲基化物陰離子較佳為下述通式(AN-2)的結構。
[化2]
(式(AN-2)中，X3、X4及X5分別獨立地表示氟原子或碳數1~10的含氟原子的烷基)
X3、X4及X5分別獨立地與X1及X2為相同含意，較佳範圍亦為相同含意。
四芳基硼酸鹽陰離子較佳為下述通式(AN-5)所表示的化合物。
(式(AN-5)中，Ar1、Ar2、Ar3及Ar4分別獨立地表示芳基)
Ar1、Ar2、Ar3及Ar4分別獨立地較佳為碳數6~20的芳基，更佳為碳數6~14的芳基，進而佳為碳數6~10的芳基。
Ar1、Ar2、Ar3及Ar4所表示的芳基亦可具有取代基。於具有取代基的情形時，可列舉：鹵素原子、烷基、芳基、烷氧基、羰基、羰氧基、胺甲醯基、磺基、磺醯胺基、硝基等，較佳為鹵素 原子及烷基，更佳為氟原子、烷基，進而佳為氟原子、碳數1~4的全氟烷基。
Ar1、Ar2、Ar3及Ar4分別獨立地更佳為具有鹵素原子及/或含鹵素原子的烷基的苯基，進而佳為具有氟原子及/或含氟的烷基的苯基。
抗衡陰離子部位另較佳為-B(CN)n1(ORa)4-n1(Ra表示碳數1~10的烷基或碳數6~10的芳基，n1表示1~4的整數)。作為碳數1~10的烷基的Ra較佳為碳數1~6的烷基，更佳為碳數1~4的烷基。作為碳數6~10的芳基的Ra較佳為苯基、萘基。
n1較佳為1~3，更佳為1~2。
進而，抗衡陰離子部位另較佳為-PF6RP (6-n2) -(RP表示碳數1~10的氟化烷基，n2表示1~6的整數)。RP較佳為碳數1~6的含氟原子的烷基，更佳為碳數1~4的含氟的烷基，進而佳為碳數1~3的全氟烷基。
n2較佳為1~4的整數，更佳為1或2。
抗衡陰離子部位的每一分子的質量較佳為100~1,000，更佳為200~500。
色素多聚物可僅含有一種抗衡陰離子部位，亦可含有兩種以上。
以下示出抗衡陰離子部位的具體例，但本發明不限定於此。
[化4]
[化6]
[化7]
<<<<色素結構>>>>
本發明所謂色素結構，為來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構，且是指自可形成色素結構的具體色素(以下亦稱為色素化合物)中去掉氫原子所得的可與色素多聚物連結部(聚 合物鏈或樹枝狀聚合物(dendrimer)的核心(core)等)連結的結構。以下，對該等的詳細情況加以說明。
色素結構只要為來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的結構，則並無特別限制，可應用包含公知者的各種結構。
色素多聚物(A)包括具有來源於下述通式(J)所表示的氧雜蒽化合物的部分結構作為色素部位的部分結構者。
(通式(J)中，R81、R82、R83及R84分別獨立地表示氫原子或一價取代基，R85分別獨立地表示一價取代基，m表示0~5的整數。X-表示抗衡陰離子部位)
通式(J)中的R81~R84及R85可取的取代基與後述取代基組群A的項中列舉的取代基相同。
通式(J)中的R81與R82、R83與R84、及m為2以上的情形的R85彼此亦可分別獨立地相互鍵結而形成5員、6員或7員的飽和環或者5員、6員或7員的不飽和環。於所形成的5員、6 員或7員的環為可進一步經取代的基團的情形時，可經所述R81~R85中說明的取代基所取代，於經2個以上的取代基取代的情形時，該些取代基可相同亦可不同。
於通式(J)中的R81與R82、R83與R84、及m為2以上的情形的R85彼此分別獨立地相互鍵結而形成不具有取代基的5員、6員及7員的飽和環或者5員、6員及7員的不飽和環的情形時，不具有取代基的5員、6員及7員的飽和環或者5員、6員及7員的不飽和環例如可列舉：吡咯環、呋喃環、噻吩環、吡唑環、咪唑環、三唑環(triazole ring)、噁唑環、噻唑環、吡咯啶環、哌啶環、環戊烯環、環己烯環、苯環、吡啶環、吡嗪環、噠嗪環(pyridazine)，較佳可列舉苯環、吡啶環。
尤佳為R82及R83為氫原子或者經取代或未經取代的烷基，R81及R84為經取代或未經取代的烷基或苯基。另外，R85較佳為鹵素原子、碳數1~5的直鏈或分支的烷基、磺基、磺醯胺基、羧基、醯胺基，更佳為磺基、磺醯胺基、羧基、醯胺基。R85較佳為鍵結於與氧雜蒽環連結的碳的鄰接部。R81及R84的苯基所具有的取代基尤佳為氫原子、鹵素原子、碳數1~5的直鏈或分支的烷基、磺基、磺醯胺基、羧基。
通式(J)所表示的具有氧雜蒽骨架的化合物可藉由文獻記載的方法來合成。具體可應用「四面體通訊(Tetrahedron Letters)」(2003年、vol.44、No.23、4355頁~4360頁)、「四面體」(2005年、vol.61、No.12、3097頁~3106頁)等中記載的方法。
以下示出氧雜蒽化合物的具體例，但本發明不限定於此。
[表2]
[化10]
關於色素多聚物，只要不偏離本發明的主旨，則色素結構中的氫原子亦可經選自下述取代基組群A中的取代基所取代。
取代基組群A：色素多聚物可具有的取代基可列舉：鹵素原子、烷基、環烷基、烯基、環烯基、炔基、芳基、雜環基、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、矽烷氧基、雜環氧基、醯氧基、胺甲醯氧基、胺基(包含烷基胺基、苯胺基)、醯基胺基、胺基羰基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、胺磺醯基胺基、烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基、巰基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、胺磺醯基、磺基、烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基、醯基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、胺甲醯基、芳基偶氮基或雜環偶氮基、醯亞胺基、膦基(phosphino)、氧膦基(phosphinyl)、氧膦基氧基、氧膦基胺基、矽烷基等。以下記載詳細情況。
可列舉：鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、直鏈或分支的烷基(直鏈或分支的經取代或未經取代的烷基，較佳為碳數1~30的烷基，例如甲基、乙基、正丙基、異丙 基、第三丁基、正辛基、2-氯乙基、2-氰基乙基、2-乙基己基)、環烷基(較佳可列舉碳數3~30的經取代或未經取代的環烷基、例如環己基、環戊基，且可列舉多環烷基、例如雙環烷基(較佳為碳數5~30的經取代或未經取代的雙環烷基，例如雙環[1.2.2]庚烷-2-基、雙環[2.2.2]辛烷-3-基)或三環烷基等多環結構的基團。較佳為單環的環烷基、雙環烷基，尤佳為單環的環烷基)、直鏈或分支的烯基(直鏈或分支的經取代或未經取代的烯基，較佳為碳數2~30的烯基，例如乙烯基、烯丙基、異戊二烯基、香葉基、油烯基)、環烯基(較佳為碳數3~30的經取代或未經取代的環烯基，例如可列舉2-環戊烯-1-基、2-環己烯-1-基，多環烯基、例如雙環烯基(較佳為碳數5~30的經取代或未經取代的雙環烯基，例如雙環[2.2.1]庚-2-烯-1-基、雙環[2.2.2]辛-2-烯-4-基)或三環烯基，尤佳為單環的環烯基)、炔基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的炔基，例如乙炔基、炔丙基、三甲基矽烷基乙炔基)、芳基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳基，例如苯基、對甲苯基、萘基、間氯苯基、鄰十六烷醯基胺基苯基)、雜環基(較佳為5員~7員的經取代或未經取代、飽和或不飽和、芳香族或非芳香族、單環或縮環的雜環基，更佳為成環原子是選自碳原子、氮原子及硫原子中且具有氮原子、氧原子及硫原子中的至少任一個雜原子的雜環基，進而佳為碳數3~30的5員或6員的芳香族的雜環基。例如2-呋喃基、2-噻吩基、2-吡啶基、4- 吡啶基、2-嘧啶基、2-苯并噻唑基(benzothiazolyl))、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、異丙氧基、第三丁氧基、正辛氧基、2-甲氧基乙氧基)、芳氧基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳氧基，例如苯氧基、2-甲基苯氧基、2,4-二-第三戊基苯氧基、4-第三丁基苯氧基、3-硝基苯氧基、2-十四烷醯基胺基苯氧基)、矽烷氧基(較佳為碳數3~20的矽烷氧基，例如三甲基矽烷氧基、第三丁基二甲基矽烷氧基)、雜環氧基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的雜環氧基，雜環部較佳為上文所述的雜環基中說明的雜環部，例如1-苯基四唑-5-氧基、2-四氫吡喃氧基)、醯氧基(較佳為甲醯氧基、碳數2~30的經取代或未經取代的烷基羰氧基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基羰氧基，例如甲醯氧基、乙醯氧基、三甲基乙醯氧基、硬脂醯氧基、苯甲醯氧基、對甲氧基苯基羰氧基)、胺甲醯氧基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的胺甲醯氧基，例如N,N-二甲基胺甲醯氧基、N,N-二乙基胺甲醯氧基、嗎啉基羰氧基(morpholinyl carbonyloxy)、N,N-二-正辛基胺基羰氧基、N-正辛基胺甲醯氧基)、烷氧基羰氧基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代烷氧基羰氧基，例如甲氧基羰氧基、乙氧基羰氧基、第三丁氧基羰氧基、正辛基羰氧基)、芳氧基羰氧基(較佳為碳數7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰氧基，例如苯氧基羰氧基、對甲氧基苯氧 基羰氧基、對正十六烷氧基苯氧基羰氧基)、胺基(較佳為胺基、碳數1~30的經取代或未經取代的烷基胺基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基胺基、碳數0~30的雜環胺基，例如胺基、甲基胺基、二甲基胺基、苯胺基、N-甲基-苯胺基、二苯基胺基、N-1,3,5-三嗪-2-基胺基)、醯基胺基(較佳為甲醯基胺基、碳數1~30的經取代或未經取代的烷基羰基胺基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基羰基胺基，例如甲醯基胺基、乙醯基胺基、三甲基乙醯基胺基、月桂醯基胺基、苯甲醯基胺基、3,4,5-三-正辛氧基苯基羰基胺基)、胺基羰基胺基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的胺基羰基胺基，例如胺甲醯基胺基、N,N-二甲基胺基羰基胺基、N,N-二乙基胺基羰基胺基、嗎啉基羰基胺基)、烷氧基羰基胺基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代烷氧基羰基胺基，例如甲氧基羰基胺基、乙氧基羰基胺基、第三丁氧基羰基胺基、正十八烷氧基羰基胺基、N-甲基-甲氧基羰基胺基)、芳氧基羰基胺基(較佳為碳數7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰基胺基，例如苯氧基羰基胺基、對氯苯氧基羰基胺基、間正辛氧基苯氧基羰基胺基)、胺磺醯基胺基(較佳為碳數0~30的經取代或未經取代的胺磺醯基胺基，例如胺磺醯基胺基、N,N-二甲基胺基磺醯基胺基、N-正辛基胺基磺醯基胺基)、烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷基磺醯基胺基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基 磺醯基胺基，例如甲基磺醯基胺基、丁基磺醯基胺基、苯基磺醯基胺基、2,3,5-三氯苯基磺醯基胺基、對甲基苯基磺醯基胺基)、巰基、烷硫基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷硫基，例如甲硫基、乙硫基、正十六烷硫基)、芳硫基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳硫基，例如苯硫基、對氯苯硫基、間甲氧基苯硫基)、雜環硫基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的雜環硫基，雜環部較佳為上文所述的雜環基中說明的雜環部，例如2-苯并噻唑硫基、1-苯基四唑-5-硫基)、胺磺醯基(較佳為碳數0~30的經取代或未經取代的胺磺醯基，例如N-乙基胺磺醯基、N-(3-十二烷氧基丙基)胺磺醯基、N,N-二甲基胺磺醯基、N-乙醯基胺磺醯基、N-苯甲醯基胺磺醯基、N-(N'-苯基胺甲醯基)胺磺醯基)、磺基、烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷基亞磺醯基、6~30的經取代或未經取代的芳基亞磺醯基，例如甲基亞磺醯基、乙基亞磺醯基、苯基亞磺醯基、對甲基苯基亞磺醯基)、烷基磺醯基或芳基磺醯基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷基磺醯基、6~30的經取代或未經取代的芳基磺醯基，例如甲基磺醯基、乙基磺醯基、苯基磺醯基、對甲基苯基磺醯基)、醯基(較佳為甲醯基、碳數2~30的經取代或未經取代的烷基羰基、碳數7~30的經取代或未經取代的芳基羰基，例如乙醯基、三甲基乙醯基、2-氯乙醯基、硬脂醯基、苯 甲醯基、對正辛氧基苯基羰基)、芳氧基羰基(較佳為碳數7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰基，例如苯氧基羰基、鄰氯苯氧基羰基、間硝基苯氧基羰基、對第三丁基苯氧基羰基)、烷氧基羰基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代烷氧基羰基，例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、第三丁氧基羰基、正十八烷氧基羰基)、胺甲醯基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的胺甲醯基，例如胺甲醯基、N-甲基胺甲醯基、N,N-二甲基胺甲醯基、N,N-二-正辛基胺甲醯基、N-(甲基磺醯基)胺甲醯基)、芳基偶氮基或雜環偶氮基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳基偶氮基、碳數3~30的經取代或未經取代的雜環偶氮基(雜環部較佳為上文所述的雜環基中說明的雜環部)，例如苯基偶氮基、p-氯苯基偶氮基、5-乙硫基-1,3,4-噻二唑-2-基偶氮基)、醯亞胺基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的醯亞胺基，例如N-琥珀醯亞胺、N-鄰苯二甲醯亞胺)、膦基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的膦基，例如二甲基膦基、二苯基膦基、甲基苯氧基膦基)、氧膦基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的氧膦基，例如氧膦基、二辛氧基氧膦基、二乙氧基氧膦基)、氧膦基氧基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的氧膦基氧基，例如二苯氧基氧膦基氧基、二辛氧基氧膦基氧基)、氧膦基胺基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的氧膦基胺基，例如二甲氧基氧膦基胺基、二甲基胺基氧膦基胺基)、矽烷基(較佳為碳數3~30的經取代或未經取代的矽烷基，例如三甲基 矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、苯基二甲基矽烷基)。
所述官能基中，具有氫原子的官能基中的氫原子的部分亦可經所述任一基團所取代。可作為取代基而導入的官能基的例子可列舉烷基羰基胺基磺醯基、芳基羰基胺基磺醯基、烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基，具體可列舉甲基磺醯基胺基羰基、對甲基苯基磺醯基胺基羰基、乙醯基胺基磺醯基、苯甲醯基胺基磺醯基。
<色素多聚物的結構>
本發明的著色組成物中所用的色素多聚物(A)並無特別限定，較佳為含有下述通式(a1-1)及通式(a1-2)所表示的重複單元的至少一個的色素多聚物、或通式(a1-3)所表示的色素多聚物。通式(a1-1)所表示的重複單元於一種色素多聚物中可僅含有一種，亦可含有兩種以上。進而，如後述，亦可含有其他重複單元。
本發明中，較佳為含有通式(a1-1)所表示的色素多聚物。對該等依序進行說明。
<<通式(a1-1)所表示的重複單元>>
(通式(a1-1)中，X1表示形成主鏈的基團，L1表示單鍵或二價連結基。DyeI表示具有陽離子部位的色素結構)
以下，對通式(a1-1)加以詳細說明。
通式(a1-1)中，X1表示形成主鏈的基團。即，是指形成相當於聚合反應中形成的主鏈的重複單元的部分。X1只要為由公知的可聚合的單體所形成的連結基，則並無特別限制，尤佳為下述(XX-1)~(X-24)所表示的連結基，更佳為選自(XX-1)及(XX-2)所表示的(甲基)丙烯酸系連結鏈、(XX-10)~(XX-17)所表示的苯乙烯系連結鏈、及(XX-24)所表示的乙烯基系連結鏈中，進而佳為(XX-1)及(XX-2)所表示的(甲基)丙烯酸系連結鏈及(XX-11)所表示的苯乙烯系連結鏈。
(XX-1)~(XX-24)中，表示於*所表示的部位上與L1連結。
Me表示甲基。另外，(XX-18)及(XX-19)中的R表示氫原子、碳數1~5的烷基或苯基。
[化12]
通式(a1-1)中，L1表示單鍵或二價連結基。於L1表示二價連結基的情形時，所述二價連結基表示碳數1~30的經取代 或未經取代的伸烷基(例如亞甲基、伸乙基、三亞甲基、伸丙基、伸丁基等)、碳數6~30的經取代或未經取代的伸芳基(例如伸苯基、伸萘基等)、經取代或未經取代的雜環連結基、-CH=CH-、-O-、-S-、-C(=O)-、-CO2-、-NR-、-CONR-、-O2C-、-SO-、-SO2-及將該等的2個以上連結而形成的連結基。L1更佳為單鍵或伸烷基，進而佳為單鍵或-(CH2)n-(n為1~5的整數)。此處，R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基或雜環基。
L1所表示的二價連結基亦可為可與DyeI形成離子鍵或配位鍵的基團。於該情形時，陰離子性基或陽離子性基均可。
陰離子性基可列舉-COO-、-PO3H-、-SO3 -、-SO3NH-、-SO3N-CO-等，較佳為-COO-、-PO3H-、-SO3 -。
陽離子性基可列舉經取代或未經取代的鎓陽離子(例如銨、吡啶鎓、咪唑鎓及鏻等)，尤佳為銨陽離子。
於L1具有可與DyeI形成離子鍵或配位鍵的基團的情形時，L1可與DyeI所具有的陰離子部(-COO-、-SO3 -、-O-等)或陽離子部(所述鎓陽離子或金屬陽離子等)鍵結。
通式(a1-1)中，DyeI表示來源於所述色素化合物的色素結構。
含有通式(a1-1)所表示的重複單元的色素多聚物可藉由以下方法合成：(1)藉由加成聚合對具有色素殘基的單體進行合成的方法；(2)使具有異氰酸酯基、酸酐基或環氧基等高反應性官能基的聚合物，與具有可與高反應性基反應的官能基(羥基、 一級或二級胺基、羧基等)的色素反應的方法。
加成聚合時可應用公知的加成聚合(自由基聚合、陰離子聚合、陽離子聚合)，其中，尤其於藉由自由基聚合來進行合成的情況下，可使反應條件平穩，且不會使色素結構分解，故較佳。自由基聚合時，可應用公知的反應條件。
其中，就耐熱性的觀點而言，含有通式(a1-1)所表示的重複單元的色素多聚物較佳為使用具有乙烯性不飽和鍵的色素單體進行自由基聚合所得的自由基聚合物。
以下示出通式(a1-1)所表示的重複單元的具體例，但本發明不限定於此。
[化13]
[化14]
<<通式(a1-2)所表示的重複單元>>
繼而，對通式(a1-2)所表示的色素多聚物加以詳細說明。
(通式(a1-2)中，L3表示單鍵或二價連結基。DyeIII表示具有陽離子部位的色素結構。m表示0或1)
通式(a1-2)中，L3表示單鍵或二價連結基。L3所表示的二價連結基可較佳地列舉：碳數1~30的經取代或未經取代的直鏈、分支或環狀伸烷基(例如亞甲基、伸乙基、三亞甲基、伸丙基、伸丁基等)、碳數6~30的經取代或未經取代的伸芳基(例如伸苯基、伸萘基等)、經取代或未經取代的雜環連結基、-CH=CH-、-O-、-S-、-NR-(R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基或雜環基)、-C(=O)-、-SO-、-SO2-及將該等的2個以上連結而形成的連結基。
m表示0或1，較佳為1。
以下記載可較佳地用作通式(a1-2)中的L3所表示的二價連結基的具體例，但本發明的L3不限定於該些具體例。再者，*所表示的部位表示與DyeIII等的連結部位。
[化17]
含有通式(a1-2)所表示的重複單元的色素多聚物是藉由逐次聚合而合成。所謂逐次聚合，可列舉複加成(polyaddition)(例如二異氰酸酯化合物與二醇的反應、二環氧化合物與二羧酸的反應、四羧酸二酐與二醇的反應等)及縮聚(例如二羧酸與二醇的反應、二羧酸與二胺的反應等)。其中，尤其於藉由複加成反應來進行合成的情況下，可使反應條件平穩，且不會使色素結構分解，故較佳。逐次聚合時可應用公知的反應條件。
以下示出通式(a1-2)所表示的重複單元的具體例，但本發明不限定於此。
<<通式(a1-3)所表示的色素多聚物>>
繼而，對通式(a1-3)所表示的色素多聚物加以詳細說明。
(通式(a1-3)中，L4表示n價連結基。n表示2~20的整數。DyeIV表示具有陽離子部位的色素結構)
通式(a1-3)中，n較佳為3~15，尤佳為3~6。
通式(a1-3)中，於n為2的情形時，L4所表示的二價連結基可較佳地列舉：碳數1~30的經取代或未經取代的伸烷基(例如亞甲基、伸乙基、三亞甲基、伸丙基、伸丁基等)、碳數6~30的經取代或未經取代的伸芳基(例如伸苯基、伸萘基等)、經取代或未經取代的雜環連結基、-CH=CH-、-O-、-S-、-NR-(R分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基或雜環基)、-C(=O)-、-SO-、-SO2-及將該等的2個以上連結而形成的連結基。
n為3以上的n價連結基可列舉：經取代或未經取代的伸芳基(1,3,5-伸苯基、1,2,4-伸苯基、1,4,5,8-伸萘基等)、雜環連結基(例如1,3,5-三嗪基等)、以伸烷基連結基等作為中心母核且所述二價連結基進行取代而形成的連結基。
以下示出通式(a1-3)中的L4的具體例，但本發明不限 定於此。再者，*所表示的部位表示與DyeIV的連結部位。
以下示出通式(a1-3)中的DyeIV的具體例，但本發明不限定於此。
[化22]
含有通式(a1-1)及通式(a1-2)所表示的重複單元的至少一種的色素多聚物以及通式(a1-3)所表示的色素多聚物中，含有通式(a1-1)所表示的重複單元的色素多聚物、含有通式(a1-2)所表示的重複單元的色素多聚物及通式(a1-3)所表示的色素多聚物因來源於色素的部分結構於分子結構中是以共價鍵而連結，故含有所述色素多聚物的著色組成物的耐熱性優異。因此，於將著色組成物應用於具有高溫製程的圖案形成的情形時，於抑制向鄰接的其他著色圖案的色移的方面有效，故較佳。另外，尤其通式(a1-1)所表示的化合物容易控制色素多聚物的分子量而較佳。
<<其他官能基及重複單元>>
色素多聚物亦可除了所述色素多聚物的色素結構部分以外具有其他官能基。其他官能基可例示聚合性基、酸基及鹼可溶性基等。
另外，色素多聚物亦可除了所述含有色素結構的重複單元以 外含有其他重複單元。其他重複單元亦可具有官能基。
另外，其他重複單元可例示含有聚合性基、酸基及鹼可溶性基的至少一種的重複單元。
即，色素多聚物亦可除了通式(a1-1)~通式(a1-3)所表示的重複單元以外含有其他重複單元。其他重複單元於一色素多聚物中可僅含有一種，亦可含有兩種以上。
另外，關於色素多聚物，亦可於通式(a1-1)~通式(a1-3)所表示的色素多聚物中具有其他官能基。以下，對該等的詳細情況加以說明。
<<<色素多聚物(A)所具有的聚合性基>>>
色素多聚物較佳為含有聚合性基。聚合性基可僅含有一種，亦可含有兩種以上。
關於聚合性基，可使色素結構含有聚合性基，亦可使其他部分含有聚合性基。本發明中，較佳為色素結構含有聚合性基。藉由設定為此種構成，有耐熱性提高的傾向。
另外，本發明中，色素結構以外的其他部分含有聚合性基的態樣亦較佳。
聚合性基可使用藉由自由基、酸、熱而可進行交聯的公知的聚合性基，例如可列舉：含有乙烯性不飽和鍵的基團、環狀醚基(環氧基、氧雜環丁烷基)、羥甲基等，尤佳為含有乙烯性不飽和鍵的基團，進而佳為(甲基)丙烯醯基，進而更佳為來源於(甲基)丙烯酸縮水甘油酯及(甲基)丙烯酸-3,4-環氧-環己基甲酯的(甲基)丙 烯醯基。
聚合性基較佳為以具有聚合性基的重複單元的形式而含有於色素多聚物中，更佳為以具有乙烯性不飽和鍵的重複單元的形式而含有。即，色素多聚物的較佳實施形態的一例為色素多聚物含有含色素單體的重複單元及含聚合性基的重複單元的態樣，更佳為含有含色素單體的重複單元及含乙烯性不飽和鍵的重複單元。
聚合性基的導入方法有以下方法：(1)利用含聚合性基的化合物對色素多聚物進行改質而導入聚合性基的方法、(2)使色素單體與含聚合性基的化合物進行共聚合而導入聚合性基的方法等。以下對詳細情況加以描述。
(1)利用含聚合性基的化合物對色素多聚物進行改質而導入聚合性基的方法：利用含聚合性基的化合物對色素多聚物進行改質而導入聚合性基的方法可無特別限制地使用公知的方法。例如就製造上的觀點而言，較佳為以下方法：(a)使色素多聚物所具有的羧酸與含不飽和鍵的環氧化合物反應的方法、(b)使色素多聚物所具有的羥基或胺基與含不飽和鍵的異氰酸酯化合物反應的方法、(c)使色素多聚物所具有的環氧化合物與含不飽和鍵的羧酸化合物反應的方法。
(a)使色素多聚物所具有的羧酸與含不飽和鍵的環氧化合物反應的方法中的含不飽和鍵的環氧化合物可列舉：甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸縮水甘油酯、烯丙基縮水甘油醚、丙烯 酸-3,4-環氧-環己基甲酯、甲基丙烯酸-3,4-環氧-環己基甲酯等，尤其甲基丙烯酸縮水甘油酯及甲基丙烯酸-3,4-環氧-環己基甲酯的交聯性及保存穩定性優異而較佳。反應條件可使用公知的條件。
(b)使色素多聚物所具有的羥基或胺基與含不飽和鍵的異氰酸酯化合物反應的方法中的含不飽和鍵的異氰酸酯化合物可列舉：甲基丙烯酸-2-異氰酸基乙基酯、丙烯酸2-異氰酸基乙基酯、1,1-雙(丙烯醯氧基甲基)乙基異氰酸酯等，甲基丙烯酸-2-異氰酸基乙酯的交聯性及保存穩定性優異而較佳。反應條件可使用公知的條件。
(c)使色素多聚物所具有的環氧化合物與含不飽和鍵的羧酸化合物反應的方法中的含不飽和鍵的羧酸化合物只要為公知的具有(甲基)丙烯醯氧基的羧酸化合物，則可無特別限制地使用，較佳為甲基丙烯酸及丙烯酸，尤其甲基丙烯酸的交聯性及保存穩定性優異而較佳。反應條件可使用公知的條件。
(2)使色素單體與含聚合性基的化合物進行共聚合而導入聚合性基的方法：(2)使色素單體與含聚合性基的化合物進行共聚合而導入聚合性基的方法可無特別限制地使用公知的方法，較佳為(d)使可進行自由基聚合的色素單體與可進行自由基聚合的含聚合性基的化合物進行共聚合的方法、(e)使可進行複加成的色素單體與可進行複加成的含聚合性基的化合物進行共聚合的方法。
(d)使可進行自由基聚合的色素單體與可進行自由基 聚合的含聚合性基的化合物進行共聚合的方法中的可進行自由基聚合的含聚合性基的化合物尤其可列舉：含烯丙基的化合物(例如(甲基)丙烯酸烯丙酯等)、含環氧基的化合物(例如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸-3,4-環氧-環己基甲酯等)、含氧雜環丁烷基的化合物(例如(甲基)丙烯酸-3-甲基-3-氧雜環丁基甲酯等)、含羥甲基的化合物(例如N-(羥基甲基)丙烯醯胺等)，尤佳為環氧化合物、氧雜環丁烷化合物。反應條件可使用公知的條件。
(e)使可進行複加成的色素單體與可進行複加成的含聚合性基的化合物進行共聚合的方法中的可進行複加成的含聚合性基的化合物可列舉含不飽和鍵的二醇化合物(例如(甲基)丙烯酸-2,3-二羥基丙酯等)。反應條件可使用公知的條件。
聚合性基的導入方法尤佳為使色素多聚物所具有的羧酸與含不飽和鍵的環氧化合物反應的方法。
相對於色素多聚物(A)1g，色素多聚物所具有的聚合性基量較佳為0.1mmol~2.0mmol，更佳為0.2mmol~1.5mmol，尤佳為0.3mmol~1.0mmol。
另外，相對於所有重複單元100莫耳，色素多聚物含有具有聚合性基的重複單元的重複單元的比例例如較佳為5莫耳~50莫耳，更佳為10莫耳~20莫耳。
聚合性基的導入方法尤佳為使色素多聚物所具有的羧酸與含不飽和鍵的環氧化合物反應的方法。
具有聚合性基的重複單元可列舉如下具體例。其中，本 發明不限定於該些具體例。
[化24]
所述具體例中，就基板密接性及表面粗糙度的觀點而言，較佳為具有乙烯性不飽和鍵的色素單體，其中較佳為甲基丙烯醯基、丙烯醯基、苯乙烯基或乙烯氧基，更佳為甲基丙烯醯基、丙烯醯基，進而佳為甲基丙烯醯基。
<<<色素多聚物(A)所具有的酸基及鹼可溶性基>>>
色素多聚物可具有的酸基可例示羧酸基、磺酸基、磷酸基。另外，鹼可溶性基可例示酚性羥基、羧酸基。
本發明中，較佳為酸基及/或鹼可溶性基以如下情況為宜：以具有酸基及/或鹼可溶性基的重複單元的形式而含有於色素多聚物中。
具有酸基的重複單元的酸值較佳為15mgKOH/g~110mgKOH/g，更佳為20mgKOH/g~90mgKOH/g，進而佳為30mgKOH/g~60mgKOH/g。
色素多聚物的酸值例如可根據色素多聚物中的酸基的平均含量而算出。另外，可藉由使構成色素多聚物的含有酸基的單體單元的含量變化而獲得具有所需酸值的樹脂。
於色素多聚物中導入鹼可溶性基的導入方法可列舉：預先於色素單體中導入鹼可溶性基的方法、及使具有鹼可溶性基的色素單體以外的單體((甲基)丙烯酸、丙烯酸的己內酯改質物、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯的琥珀酸酐改質物、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯的鄰苯二甲酸酐改質物、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯的1,2-環己烷二羧酸酐改質物、苯乙烯羧酸、衣康酸、馬來酸、降冰片烯羧酸等含羧酸的單體，酸式磷醯氧基乙基甲基丙烯酸酯、乙烯基膦酸等含磷酸的單體，乙烯基磺酸、2-丙烯醯胺-2-甲基磺酸等含磺酸的單體)進行共聚合的方法，進而佳為使用此兩種方法。
相對於色素多聚物1g，色素多聚物所具有的鹼可溶性基量較佳為0.3mmol~2.0mmol，更佳為0.4mmol~1.5mmol，尤佳為0.5mmol~1.0mmol。
另外，於色素多聚物含有含色素單體的重複單元及含酸基的重複單元的情形時，相對於含色素單體的重複單元100莫耳，含酸基的重複單元的比例例如較佳為5莫耳~70莫耳，更佳為10莫耳~50莫耳。
色素多聚物所具有的其他官能基可列舉：內酯、酸酐、醯胺、-COCH2CO-、氰基等顯影促進基、長鏈及環狀烷基、芳烷基、芳基、聚環氧烷基、羥基、馬來醯亞胺基、胺基等親疏水性 調整基等，可適當導入。
導入方法可列舉：預先導入至色素單體中的方法、及使具有所述官能基的單體進行共聚合的方法。
示出色素多聚物所含有的具有其他官能基的重複單元的具體例，但本發明不限定於此。
[化25]
[化26]
[化28]
<<<(A2)的形態>>>
色素多聚物(A2)的形態為含有具有色素結構的重複單元、且色素結構具有陰離子部位的色素多聚物。
例如，色素多聚物較佳為含有通式(a2)所表示的重複單元。
通式(a2)[化30]
(通式(a2)中，X1表示形成主鏈的基團，L1表示單鍵或二價連結基。DyeIA表示具有陽離子部位及陰離子部位的色素結構)
通式(a2)中，X1及L1與所述通式(a1-1)為相同含意，較佳範圍亦相同。
通式(a2)中，DyeIA為所述通式(a1-1)中的DyeI更具有陰離子部位者。陰離子部位可列舉-SO3-、-CO2 2-等。
色素多聚物(A2)的形態的具體例可參考日本專利特開2012-032754號公報的段落0069中記載的A-1、A-3~A-6，將其內容併入至本說明書中。
<<<(A3)的形態>>>
色素多聚物(A3)的形態為含有具有色素結構的單體、及具有抗衡陰離子部位的重複單元的色素多聚物。
具有色素結構的單體與所述含有來源於通式(J)所表示的氧雜蒽化合物的部分結構的單體為相同含意。
具有抗衡陰離子部位的重複單元較佳為含有下述通式(a3)所表示的重複單元。
通式(a3)[化31]
(通式(a3)中，X1表示形成主鏈的基團，L2表示單鍵或二價連結基，Z表示具有抗衡陰離子部位的結構)
通式(a3)中，X1與所述通式(a1-1)為相同含意，較佳範圍亦相同。
通式(a3)中，於L2表示二價連結基的情形時，可列舉：碳數1~20(較佳為1~10)的伸烷基、碳數6~20(較佳為6~10)的伸芳基、碳數4~20(較佳為5~10)的雜環基、碳數1~20(較佳為1~10)的烷基磺醯基、碳數6~20(較佳為6~10)的芳基磺醯基、碳數1~20(較佳為1~10)的烷基羰基、碳數6~20(較佳為6~11)的芳基羰基、碳數1~20(較佳為1~10)的烷基胺基、碳數6~20(較佳為6~10)的芳基胺基、碳數1~20(較佳為1~10)的烷基羰氧基、碳數6~20(較佳為6~11)的芳基羰氧基等。該些二價連結基較佳為經吸電子性基所取代，吸電子性基可列舉鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、硝基、氰基、鹵化烷基(例如三氟甲基)、鹵化芳基。
於後述通式(1)中的Z為所述通式(2-1)所表示的低親核性陰離子結構的情形時，L2較佳為碳數1~10的經氟原子取代的伸烷基(氟化伸烷基)。
通式(a3)中，Z較佳為表示通式(2-1)所表示的基團、氟化烷基磺醯亞胺基或氟化烷基磺甲基化物基、通式(2-3)所表示的基團。
通式(2-1)*-Y1-A1
(通式(2-1)中，*表示與通式(a3)中的L2的鍵結部位，Y1表示氟化伸烷基，A1表示SO3 -)
(通式(2-3)中，*表示與通式(a3)中的L2的鍵結部位，R分別表示氰基或氟化烷基，較佳為氰基)
以下，示出本發明中所用的通式(a3)所表示的重複單元的具體例，但本發明不限定於此。再者，具體例表示陰離子部位並未解離的狀態，但陰離子部位解離的狀態亦當然在本發明的範圍內。
[化33]
<<<(A4)的形態>>>
色素多聚物(A4)的形態為更具有其他陽離子及陰離子部位的色素多聚物。例如為具有色素結構的單體及含有具有陽離子部位的重複單元、且含色素結構的單體含有對應的陰離子部位的色素多聚物。
具有陽離子部位的重複單元可參考日本專利特開 2011-242752號公報的段落0018~段落0061的記載，將其內容併入至本說明書中。
含色素結構的單體含有對應的陰離子部位者可例示顏色索引(Color Index，C.I.)酸性紅289。
色素多聚物(A4)的具體例可參考日本專利特開2011-242752號公報的段落0165的記載，將其內容併入至本說明書中。
色素多聚物較佳為最大吸收波長為420nm~700nm，更佳為450nm~650nm。
色素多聚物的酸值較佳為5mgKOH/g~100mgKOH/g，更佳為15mgKOH/g~60mgKOH/g。
於本發明中，於將重複單元的合計值設定為100mol%(莫耳百分比)時，含有來源於色素的結構的重複單元於色素多聚物中較佳為10mol%~100mol%，更佳為50mol%~100mol%，尤佳為60mol%~100mol%。
色素多聚物的重量平均分子量較佳為2,000~20,000，更佳為3,000~15,000，尤佳為4,000~10,000。
重量平均分子量及數量平均分子量可藉由凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography，GPC)來求出。
另外，色素多聚物的重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)之比[(Mw)/(Mn)]較佳為1.0~3.0，更佳為1.6~2.5，尤佳為1.6~2.0。
色素多聚物的玻璃轉移溫度(Tg)較佳為50℃以上， 更佳為100℃以上。另外，由熱重量分析(Thermogravimetric Analysis，TGA測定)所得的5%重量減少溫度較佳為120℃以上，更佳為150℃以上，進而佳為200℃以上。
另外，色素多聚物的每單位重量的吸光係數(以下記作ε'。ε'=ε/平均分子量，單位：L/g．cm)較佳為30以上，更佳為60以上，進而佳為100以上。藉由處於該範圍內，於應用本發明的著色組成物來製作彩色濾光片的情形時，可製作色彩再現性良好的彩色濾光片。
就著色力的觀點而言，色素多聚物的莫耳吸光係數較佳為儘可能高。
就色移的觀點而言，色素多聚物的還原黏度較佳為4.0~10.0，更佳為5.0~9.0，進而佳為6.0~7.0。還原黏度例如可使用烏氏黏度計(Ubbelohde viscometer)來進行測定。
色素多聚物較佳為溶解於以下溶劑中的化合物。
溶劑可列舉：酯類(例如3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯等)、醚類(例如甲基溶纖劑乙酸酯(methyl cellosolve acetate)、乙基溶纖劑乙酸酯、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯等)、酮類(甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等)、芳香族烴類(例如甲苯、二甲苯等)，以如下情況為宜：相對於該些溶劑，較佳為溶解1質量%以上、50質量%以下，更佳為5質量%以上、40質量%以下，進而佳為10質量%以上、30質量%以下。藉由處於該範圍內，於將本發明的著 色組成物用於製作彩色濾光片等時，可實現較佳的塗佈面狀，或減少由塗佈其他顏色後的溶出所致的濃度降低。
本發明的著色組成物可單獨使用一種色素多聚物，亦可併用兩種以上。於使用兩種以上的情形時，較佳為其合計量相當於後述含量。
本發明的著色組成物中的色素多聚物(A)的含量較佳為考慮與後述顏料之含有比率後設定。
色素多聚物相對於顏料之質量比(色素多聚物(A)/顏料)較佳為0.1~5，更佳為0.2~2，進而佳為0.3~1。
本發明的著色組成物亦可含有所述色素多聚物以外的公知的染料。
例如可參考：日本專利特開昭64-90403號公報、日本專利特開昭64-91102號公報、日本專利特開平1-94301號公報、日本專利特開平6-11614號公報、日本專利登記2592207號、美國專利4808501號說明書、美國專利5667920號說明書、美國專利505950號說明書、美國專利5667920號說明書、日本專利特開平5-333207號公報、日本專利特開平6-35183號公報、日本專利特開平6-51115號公報、日本專利特開平6-194828號公報、日本專利特開2010-250291號公報、日本專利特開2011-95732號公報、日本專利特開2012-13945號公報、日本專利特開2012-46708號公報、日本專利特開2012-46712號公報、日本專利特開2012-181502號公報、日本專利特開2012-208494號公報、日本專利特開2013-28764 號公報、日本專利特開2013-29760號公報，將該些內容併入至本申請案說明書中。化學結構可使用：吡唑偶氮系、吡咯亞甲基系、苯胺基偶氮系、三苯基甲烷系、蒽醌系、亞苄基系、氧喏系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑甲亞胺系等的染料。
<<(B)溶劑>>
本發明的著色組成物含有溶劑。
溶劑只要滿足各成分的溶解性或著色組成物的塗佈性，則基本上無特別限制，尤佳為考慮紫外線吸收劑、鹼可溶性樹脂或分散劑等的溶解性、塗佈性、安全性而選擇。
溶劑可較佳地列舉：作為酯類的例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸異丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸烷基酯(例如氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯(例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-氧基丙酸烷基酯類(例如3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等(例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-氧基丙酸烷基酯類(例如2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如2-甲氧基-2- 甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等；以及作為醚類的例如二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等；以及作為酮類的例如甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮、環戊酮等；以及作為芳香族烴類的例如甲苯、二甲苯等。
該些溶劑中，就塗佈後的乾燥的觀點而言，較佳為分子量在80~135的範圍內或沸點在120℃~160℃的範圍內的溶劑。相當於該些溶劑的溶劑可列舉乙酸正丁酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚、環己酮、環戊酮。
除了所述觀點以外，該些有機溶劑藉由在溶劑中含有10%以上的氧雜蒽染料的溶解性優異的溶劑、例如環己酮、環戊酮、丙二醇單甲醚，可進一步提高放置穩定性。作為具體例，藉由將丙二醇單甲醚乙酸酯作為主溶劑且含有10%以上的選自環己酮、環戊酮、丙二醇單甲醚中的一種以上的溶劑，可同時提高塗佈性與放置穩定性。
就塗佈性的觀點而言，溶劑於著色組成物中的含量較佳為設定為組成物的總固體成分濃度成為5質量%~80質量%的量，更佳為5質量%~60質量%，尤佳為10質量%~50質量%。
本發明的組成物可僅含有一種溶劑，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
<硬化性化合物>
本發明的著色組成物較佳為含有硬化性化合物。
硬化性化合物可使用藉由自由基、酸、熱而可進行交聯的公知的聚合性化合物，例如可列舉含有乙烯性不飽和鍵、環狀醚(環氧、氧雜環丁烷)、羥甲基等的聚合性化合物。就感度的觀點而言，聚合性化合物是較佳地選自具有至少1個、較佳為2個以上的末端乙烯性不飽和鍵的化合物中。
其中，較佳為多官能的聚合性化合物，更佳為4官能以上的多官能聚合性化合物，進而佳為5官能以上，尤佳為6官能以上。
尤佳為多官能單體(較佳為4官能以上、更佳為6官能以上)且經環氧烷改質者。
此種化合物組群於本發明的產業領域中廣為人知，本發明中可無特別限定地使用該些化合物。該些化合物例如可為以下化學形態的任一種：單體，預聚物即二聚物、三聚物及寡聚物或該等的混合物以及該等的多聚物等。本發明的聚合性化合物可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。
更具體而言，單體及其預聚物的例子可列舉：不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、異丁烯酸、馬來酸等)或其酯類、醯胺類、以及該等的多聚物，較佳為不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯、及不飽和羧酸與脂肪族多元胺 化合物的醯胺類、以及該等的多聚物。另外，亦可較佳地使用以下反應物：具有羥基或胺基、巰基等親核性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能異氰酸酯類或環氧類的加成反應物，或者與單官能或多官能的羧酸的脫水縮合反應物等。另外，以下反應物亦較佳：具有異氰酸酯基或環氧基等親電子性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的加成反應物，進而具有鹵素基或甲苯磺醯氧基等脫離性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的取代反應物。另外，作為其他例，亦可使用代替所述不飽和羧酸而替換成不飽和膦酸、苯乙烯等乙烯基苯衍生物、乙烯醚、烯丙醚等而成的化合物組群。
作為該等的具體化合物，亦可將日本專利特開2009-288705號公報的段落0095~段落0108中記載的化合物較佳地用於本發明中。
另外，聚合性化合物亦較佳為具有至少一個可進行加成聚合的乙烯基、且於常壓下具有100℃以上的沸點的具有乙烯性不飽和基的化合物。其例子可列舉：聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等單官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸 酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、異三聚氰酸三(丙烯醯氧基乙基)酯、於甘油或三羥甲基乙烷等多官能醇上加成環氧乙烷或環氧丙烷後加以(甲基)丙烯酸酯化而成者，日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特公昭50-6034號公報、日本專利特開昭51-37193號公報中記載般的(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯類，日本專利特開昭48-64183號公報、日本專利特公昭49-43191號公報、日本專利特公昭52-30490號公報中記載的聚酯丙烯酸酯類，作為環氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應產物的環氧丙烯酸酯類等多官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯以及該等的混合物。
亦可列舉多官能(甲基)丙烯酸酯等，所述多官能(甲基)丙烯酸酯是使(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有環狀醚基及乙烯性不飽和基的化合物與多官能羧酸反應所得。
另外，其他較佳的聚合性化合物亦可使用：日本專利特開2010-160418號公報、日本專利特開2010-129825號公報、日本專利第4364216號說明書等中記載的具有茀環且具有2官能以上的乙烯性不飽和基的化合物，卡多樹脂(Cardo resin)。
另外，於常壓下具有100℃以上的沸點、且具有至少一個可進行加成聚合的乙烯性不飽和基的化合物亦較佳為日本專利特開2008-292970號公報的段落編號[0254]~段落編號[0257]中記載的化合物。
除了所述以外，亦可較佳地使用下述通式(MO-1)~通式(MO-5)所表示的自由基聚合性單體。再者，式中，於T為 氧伸烷基的情形時，碳原子側的末端鍵結於R。
[化35]
所述通式中，n為0~14，m為1~8。於一分子內存在多個的R、T可分別相同亦可不同。
於所述通式(MO-1)~通式(MO-5)所表示的各聚合性化合物中，存在多個的R的至少一個表示-OC(=O)CH=CH2或-OC(=O)C(CH3)=CH2所表示的基團。
作為所述通式(MO-1)~通式(MO-5)所表示的聚合性化合物的具體例，亦可將日本專利特開2007-269779號公報的段落編號0248~段落編號0251中記載的化合物較佳地用於本發明中。
另外，以下化合物亦可用作聚合性化合物：於日本專利特開平10-62986號公報中作為通式(1)及通式(2)而與其具體例一併記載的所述於多官能醇上加成環氧乙烷或環氧丙烷後加以(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物。
其中，聚合性化合物較佳為二季戊四醇三丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-330；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD) D-320；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-310；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)DPHA；日本化藥股份有限公司製造)、及該等的(甲基)丙烯醯基介隔乙二醇殘基、丙二醇殘基的結構。亦可使用該等的寡聚物類型。
聚合性化合物亦可為多官能單體，且亦可具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。乙烯性化合物只要如上文所述為混合物的情形般具有未反應的羧基，則可直接利用，視需要亦可使非芳香族羧酸酐與所述乙烯性化合物的羥基反應而導入酸基。於該情形時，所使用的非芳香族羧酸酐的具體例可列舉：四氫鄰苯二甲酸酐、烷基化四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、烷基化六氫鄰苯二甲酸酐、琥珀酸酐、馬來酸酐。
於本發明中，具有酸基的單體為脂肪族多羥基化合物與不飽和羧酸的酯，較佳為使非芳香族羧酸酐與脂肪族多羥基化合物的未反應的羥基反應而具有酸基的多官能單體，尤佳為於其酯中脂肪族多羥基化合物為季戊四醇及/或二季戊四醇者。市售品例如可列舉東亞合成股份有限公司製造的作為多元酸改質丙烯酸寡聚物的M-510、M-520等。
該些單體可單獨使用一種，但於製造方面而言，難以使用單一的化合物，故亦可混合使用兩種以上。另外，視需要亦可併用不具有酸基的多官能單體與具有酸基的多官能單體作為單 體。
具有酸基的多官能單體的較佳酸值為0.1mgKOH/g~40mgKOH/g，尤佳為5mgKOH/g~30mgKOH/g。若多官能單體的酸值過低則顯影溶解特性降低，若多官能單體的酸值過高則製造或操作變困難而光聚合性能降低，畫素的表面平滑性等硬化性變差。因此，於併用兩種以上的酸基不同的多官能單體的情形時、或併用不具有酸基的多官能單體的情形時，較佳為以總體的多官能單體的酸基在所述範圍內的方式調整。
另外，含有具有己內酯結構的多官能性單體作為聚合性化合物亦為較佳態樣。
具有己內酯結構的多官能性單體只要於其分子內具有己內酯結構，則並無特別限定，例如可列舉ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯，該ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯是藉由將三羥甲基乙烷、二-三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、二甘油、三羥甲基三聚氰胺等多元醇與(甲基)丙烯酸及ε-己內酯進行酯化而獲得。其中，較佳為下述通式(Z-1)所表示的具有己內酯結構的多官能性單體。
[化36]
通式(Z-1)中，6個R全部為下述通式(Z-2)所表示的基團，或者6個R中的1個~5個為下述通式(Z-2)所表示的基團，且其餘為下述通式(Z-3)所表示的基團。
通式(Z-2)中，R1表示氫原子或甲基，m表示1或2的數，「*」表示結合鍵。
通式(Z-3)中，R1表示氫原子或甲基，「*」表示結合鍵。
此種具有己內酯結構的多官能性單體例如是由日本化藥(股)作為卡亞拉得(KAYARAD)DPCA系列而市售，可列舉： DPCA-20(所述式(1)~式(3)中m=1、式(2)所表示的基團的個數=2、R1全部為氫原子的化合物)、DPCA-30(所述式(1)~式(3)中m=1、式(2)所表示的基團的個數=3、R1全部為氫原子的化合物)、DPCA-60(所述式(1)~式(3)中m=1、式(2)所表示的基團的個數=6、R1全部為氫原子的化合物)、DPCA-120(所述式(1)~式(3)中m=2、式(2)所表示的基團的個數=6、R1全部為氫原子的化合物)等。
於本發明中，具有己內酯結構的多官能性單體可單獨使用或混合使用兩種以上。
另外，本發明的特定單體亦較佳為選自下述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物的組群中的至少一種。
所述通式(Z-4)及通式(Z-5)中，E分別獨立地表示-((CH2)yCH2O)-或-((CH2)yCH(CH3)O)-，y分別獨立地表示0~10的整數，X分別獨立地表示丙烯醯基、甲基丙烯醯基、氫原子或 羧基。
所述通式(Z-4)中，丙烯醯基及甲基丙烯醯基的合計值為3個或4個，m分別獨立地表示0~10的整數，各m的合計值為0~40的整數。其中，於各m的合計值為0的情形時，X中的任一個為羧基。
所述通式(ii)中，丙烯醯基及甲基丙烯醯基的合計值為5個或6個，n分別獨立地表示0~10的整數，各n的合計值為0~60的整數。其中，於各n的合計值為0的情形時，X中的任一個為羧基。
所述通式(Z-4)中，m較佳為0~6的整數，更佳為0~4的整數。另外，各m的合計值較佳為2~40的整數，更佳為2~16的整數，尤佳為4~8的整數。
所述通式(Z-5)中，n較佳為0~6的整數，更佳為0~4的整數。
另外，各n的合計值較佳為3~60的整數，更佳為3~24的整數，尤佳為6~12的整數。
另外，通式(Z-4)或通式(Z-5)中的-((CH2)yCH2O)-或-((CH2)yCH(CH3)O)-較佳為氧原子側的末端鍵結於X的形態。
所述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。尤佳為通式(ii)中6個X全部為丙烯醯基的形態。
另外，通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物於聚 合性化合物中的總含量較佳為20質量%以上，更佳為50質量%以上。
所述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物可由作為以前公知的步驟的以下步驟來合成：藉由開環加成反應使環氧乙烷或環氧丙烷的開環骨架鍵結於季戊四醇或二季戊四醇的步驟；使例如(甲基)丙烯醯氯與開環骨架的末端羥基反應而導入(甲基)丙烯醯基的步驟。各步驟為廣為人知的步驟，本領域技術人員可容易地合成通式(i)或通式(ii)所表示的化合物。
所述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物中，更佳為季戊四醇衍生物及/或二季戊四醇衍生物。
具體可列舉下述式(a)~式(f)所表示的化合物(以下亦稱為「例示化合物(a)~例示化合物(f)」)，其中，較佳為例示化合物(a)、例示化合物(b)、例示化合物(e)、例示化合物(f)。
[化40]
[化41]
通式(Z-4)、通式(Z-5)所表示的聚合性化合物的市售品例如可列舉：沙多瑪(Sartomer)公司製造的具有4個伸乙氧基鏈的四官能丙烯酸酯SR-494，日本化藥股份有限公司製造的具有6個伸戊氧基鏈的六官能丙烯酸酯DPCA-60、具有3個伸異丁氧基鏈的三官能丙烯酸酯TPA-330等。
另外，聚合性化合物亦較佳為日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中記載般的丙烯酸胺基甲酸酯類，或日本專利特公昭58-49860號公報、日本專利特公昭56-17654號公報、日本專利特公昭62-39417號公報、日本 專利特公昭62-39418號公報記載的具有環氧乙烷系骨架的胺基甲酸酯化合物類。進而，藉由使用日本專利特開昭63-277653號公報、日本專利特開昭63-260909號公報、日本專利特開平1-105238號公報中記載的於分子內具有胺基結構或硫醚結構的加成聚合性化合物類作為聚合性化合物，可獲得感光速度非常優異的硬化性組成物。
聚合性化合物的市售品可列舉：胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、胺基甲酸酯寡聚物UAB-140(山陽國策紙漿公司製造)，「UA-7200」(新中村化學公司製造)，DPHA-40H(日本化藥公司製造)，UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮社製造)等。
關於環狀醚(環氧、氧雜環丁烷)，例如作為具有環氧基者，雙酚A型環氧樹脂為JER-827、JER-828、JER-834、JER-1001、JER-1002、JER-1003、JER-1055、JER-1007、JER-1009、JER-1010(以上為日本環氧樹脂(股)製造)、艾比克隆(EPICLON)860、艾比克隆(EPICLON)1050、艾比克隆(EPICLON)1051、艾比克隆(EPICLON)1055(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)等，雙酚F型環氧樹脂為JER-806、JER-807、JER-4004、JER-4005、JER-4007、JER-4010(以上為日本環氧樹脂(股)製造)、艾比克隆(EPICLON)830、艾比克隆(EPICLON)835(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)、LCE-21、RE-602S(以上為日本化藥(股)製造)等，苯酚酚醛清漆型環氧樹脂為JER-152、JER-154、 JER-157S70、JER-157S65(以上為日本環氧樹脂(股)製造)、艾比克隆(EPICLON)N-740、艾比克隆(EPICLON)N-770、艾比克隆(EPICLON)N-775(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)等，甲酚酚醛清漆型環氧樹脂可列舉艾比克隆(EPICLON)N-660、艾比克隆(EPICLON)N-665、艾比克隆(EPICLON)N-670、艾比克隆(EPICLON)N-673、艾比克隆(EPICLON)N-680、艾比克隆(EPICLON)N-690、艾比克隆(EPICLON)N-695(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)、EOCN-1020(以上為日本化藥(股)製造)，脂肪族環氧樹脂可列舉艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4080S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4085S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4088S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)、賽羅西德(Celloxide)2021P、賽羅西德(Celloxide)2081、賽羅西德(Celloxide)2083、賽羅西德(Celloxide)2085、EHPE-3150(2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧-4-(2-氧雜環丙基)環己烷加成物)、艾波利得(EPOLEAD)PB 3600、艾波利得(EPOLEAD)PB 4700(以上為大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造)、代那考爾(Denacol)EX-211L、代那考爾(Denacol)EX-212L、代那考爾(Denacol)EX-214L、代那考爾(Denacol)EX-216L、代那考爾(Denacol)EX-321L、代那考爾(Denacol)EX-850L(以上為長瀨化成(Nagase Chemtex)(股)製造)、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4000S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4003S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4010S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4011S(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上為艾迪科(ADEKA)(股)製造)、JER-1031S(日本環氧樹脂(股)製造)等。此種聚合性化合物適於利用乾式蝕刻法來形成圖案的情形。
關於該些聚合性化合物，其結構、單獨使用或併用、添加量等使用方法的詳細情況可根據著色組成物的最終的性能設計來任意設定。例如就感度的觀點而言，較佳為每一分子的不飽和基含量多的結構，多的情況下較佳為二官能以上。另外，就提高由著色組成物所形成的硬化膜的強度的觀點而言，以三官能以上者為宜，進而，藉由併用官能基數不同、聚合性基不同者(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯醚系化合物)來調節感度與強度兩者的方法亦有效。進而，併用三官能以上者且環氧乙烷鏈長不同的聚合性化合物就以下方面而言較佳：可調節著色組成物的顯影性，可獲得優異的圖案形成能力。
另外，對於與著色組成物所含有的其他成分(例如光聚合起始劑、被分散體、鹼可溶性樹脂等)的相容性、分散性而言，聚合性化合物的選擇、使用法亦為重要的原因，例如有時可藉由使用低純度化合物或併用兩種以上來提高相容性。另外，就提高與支持體等的硬質表面的密接性的觀點而言，有時亦可選擇特定的結構。
相對於組成物中的總固體成分，本發明的組成物中的硬 化性化合物的含量較佳為0.1質量%~90質量%，更佳為1.0質量%~60質量%，尤佳為2.0質量%~40質量%。
本發明的組成物可僅含有一種硬化性化合物，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
<顏料>
本發明的著色組成物較佳為更含有(C)顏料。
本發明中使用的顏料可使用以前公知的各種無機顏料或有機顏料，較佳為使用有機顏料。所述顏料較佳為高透射率。
無機顏料可列舉金屬氧化物、金屬錯鹽等所表示的金屬化合物，具體可列舉：鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、鋅、銻等的金屬氧化物，所述金屬的複合氧化物，碳黑、鈦黑等黑色顏料。
有機顏料例如可列舉：C.I.顏料黃11、C.I.顏料黃24、C.I.顏料黃31、C.I.顏料黃53、C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃93、C.I.顏料黃99、C.I.顏料黃108、C.I.顏料黃109、C.I.顏料黃110、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃147、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃151、C.I.顏料黃154、C.I.顏料黃155、C.I.顏料黃167、C.I.顏料黃180、C.I.顏料黃185、C.I.顏料黃199；C.I.顏料橙36、C.I.顏料橙38、C.I.顏料橙43、C.I.顏料橙71；C.I.顏料紅81、C.I.顏料紅105、C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅149、C.I.顏料紅150、C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅171、C.I.顏料 紅175、C.I.顏料紅176、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅209、C.I.顏料紅220、C.I.顏料紅224、C.I.顏料紅242、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C.I.顏料紅264、C.I.顏料紅270；C.I.顏料紫19、C.I.顏料紫23、C.I.顏料紫32、C.I.顏料紫39；C.I.顏料藍1、C.I.顏料藍2、C.I.顏料藍15、C.I.顏料藍15：1、C.I.顏料藍15：3、C.I.顏料藍15：6、C.I.顏料藍16、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍66；C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37、C.I.顏料綠58；C.I.顏料棕25、C.I.顏料棕28，C.I.顏料黑1等。
本發明中可較佳地使用的顏料可列舉以下顏料。然而，本發明不限定於該些顏料。
C.I.顏料黃11、C.I.顏料黃24、C.I.顏料黃108、C.I.顏料黃109、C.I.顏料黃110、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃151、C.I.顏料黃154、C.I.顏料黃167、C.I.顏料黃180、C.I.顏料黃185，C.I.顏料橙36、C.I.顏料橙71，C.I.顏料紅122、C.I.顏料紅150、C.I.顏料紅171、C.I.顏料紅175、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅209、C.I.顏料紅224、C.I.顏料紅242、C.I.顏料紅254、C.I.顏料紅255、C.I.顏料紅264，C.I.顏料紫19、C.I.顏料紫23、C.I.顏料紫32，C.I.顏料藍15：1、C.I.顏料藍15：3、C.I.顏料藍15：6、C.I.顏料 藍16、C.I.顏料藍22、C.I.顏料藍60、C.I.顏料藍66，C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37、C.I.顏料綠58；C.I.顏料黑1
該些有機顏料可單獨使用或為了調整分光或提高顏色純度而組合使用。以下示出所述組合的具體例。例如，紅色顏料可單獨使用蒽醌系顏料、苝系顏料、二酮吡咯并吡咯系顏料，或者使用該些顏料的至少一種與雙偶氮系黃色顏料、異吲哚啉系黃色顏料、喹酞酮系黃色顏料或苝系紅色顏料的混合等。例如，蒽醌系顏料可列舉C.I.顏料紅177，苝系顏料可列舉C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅224，二酮吡咯并吡咯系顏料可列舉C.I.顏料紅254，就顏色分解性的方面而言，較佳為與C.I.顏料黃139的混合。另外，紅色顏料與黃色顏料之質量比較佳為100：5~100：50。若為100：4以下則難以抑制400nm~500nm的光透射率，另外若為100：51以上則有時主波長向短波長偏移，無法提高顏色分解能力。尤其所述質量比最合適的是100：10~100：30的範圍。另外，紅色顏料彼此的組合的情形下，可根據所需求的分光來進行調整。
另外，綠色顏料可單獨使用鹵化酞菁系顏料，或使用其與雙偶氮系黃色顏料、喹酞酮系黃色顏料、甲亞胺系黃色顏料或異吲哚啉系黃色顏料的混合。例如，此種例子較佳為C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37與C.I.顏料黃83、C.I.顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃180或C.I.顏料黃185的混合。綠色顏料與黃色顏料之質量比較佳為100：5~100：150。 所述質量比尤佳為100：30~100：120的範圍。
藍色顏料可單獨使用酞菁系顏料，或使用其與二噁嗪系紫色顏料的混合。例如較佳為C.I.顏料藍15：6與C.I.顏料紫23的混合。藍色顏料與紫色顏料之質量比較佳為100：0~100：100，更佳為100：10以下。
另外，黑色矩陣用的顏料可單獨或混合使用碳、鈦黑、氧化鐵、氧化鈦，較佳為碳與鈦黑的組合。另外，碳與鈦黑之質量比較佳為100：0~100：60的範圍。
本發明的著色組成物較佳為調配黑色以外的顏料，適於藍色顏料。
關於顏料的一次粒子尺寸，於用作彩色濾光片用的情形時，就色彩不均或對比度的觀點而言，較佳為100nm以下，另外，就分散穩定性的觀點而言，較佳為5nm以上。顏料的一次粒子尺寸較佳為5nm~75nm，更佳為5nm~55nm，尤佳為5nm~35nm。
顏料的一次粒子尺寸可利用電子顯微鏡等公知的方法來測定。
其中，顏料較佳為選自蒽醌顏料、二酮吡咯并吡咯顏料、酞菁顏料、喹酞酮顏料、異吲哚啉顏料、甲亞胺顏料及二噁嗪顏料中的顏料。尤其特佳為C.I.顏料紅177(蒽醌顏料)，C.I.顏料紅254(二酮吡咯并吡咯顏料)、C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠58、C.I.顏料藍15：6(酞菁顏料)、C.I.顏料黃138(喹酞酮顏料)、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃185(異吲哚啉顏料)、C.I. 顏料黃150(甲亞胺顏料)、C.I.顏料紫23(二噁嗪顏料)。
尤其顏料較佳為酞菁顏料。
於使用酞菁顏料作為顏料的情形時，酞菁顏料與所述色素多聚物之質量比較佳為酞菁顏料：色素多聚物=100：10~100：100，更佳為100：20~100：80。
相對於著色組成物所含有的將溶劑除外的所有成分，顏料的含量較佳為10質量%~70質量%，更佳為20質量%~60質量%，進而佳為25質量%~50質量%。
關於使用酞菁顏料作為顏料的情形的含量，相對於著色組成物所含有的將溶劑除外的所有成分，所述含量較佳為10質量%~70質量%，更佳為20質量%~60質量%，進而佳為25質量%~50質量%。
本發明的組成物可僅含有一種顏料，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
<光聚合起始劑>
本發明的著色組成物就進一步提高感度的觀點而言，較佳為含有光聚合起始劑。
光聚合起始劑只要具有引發所述聚合性化合物的聚合的能力，則並無特別限制，可自公知的光聚合起始劑中適當選擇。例如較佳為對紫外線範圍至可見光線具有感光性者。另外，亦可為與經光激發的增感劑發生某些作用而生成活性自由基的活性劑，亦可為根據單體的種類而引發陽離子聚合般的起始劑。
另外，光聚合起始劑較佳為含有至少一種於約300nm~800nm(更佳為330nm~500nm)的範圍內具有至少約50的分子吸光係數的化合物。
光聚合起始劑例如可列舉：鹵化烴衍生物(例如具有三嗪骨架者、具有噁二唑骨架者等)、醯基膦氧化物等醯基膦化合物、六芳基聯咪唑、肟衍生物等肟化合物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、酮肟醚、胺基苯乙酮化合物、羥基苯乙酮等，較佳為肟化合物。
另外，就曝光感度的觀點而言，較佳為選自由三鹵代甲基三嗪化合物、苯偶醯二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、膦氧化物化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、鹵代甲基噁二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物所組成的組群中的化合物。
進而佳為三鹵代甲基三嗪化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、膦氧化物化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚物、三芳基咪唑化合物、苯并咪唑化合物、鎓化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物，尤佳為選自由三鹵代甲基三嗪化合物、α-胺基酮化合物、肟化合物、三芳基咪唑化合物、二苯甲酮化合物、三芳基咪唑化合物、苯并咪唑化合物所組成的組群中的至少一種化合物。另外，三芳基咪唑化合物亦可為與苯并咪唑的混合物。
具體而言，三鹵代甲基三嗪化合物可例示以下化合物。再者，Ph為苯基。
三芳基咪唑化合物、苯并咪唑化合物可例示以下化合物。
三鹵代甲基三嗪化合物亦可使用市售品，例如可使用TAZ-107(碧化學公司製造)。
尤其於將本發明的著色組成物用於製作固體攝像元件所具備的彩色濾光片的情形時，必須以尖銳(sharp)的形狀形成微細的圖案，因此重要的是硬化性並且於未曝光部中無殘渣地進行顯影。就此種觀點而言，聚合起始劑尤佳為使用肟化合物。尤其於 固體攝像元件中形成微細圖案的情形時，於硬化用曝光時使用步進式曝光，但有時該曝光機因鹵素而受到損傷，亦必須將聚合起始劑的添加量抑制得低，故若考慮到該些方面，則尤佳為於形成如固體攝像元件般的微細圖案時，使用肟化合物作為(D)光聚合起始劑。
所述具有三嗪骨架的鹵化烴化合物例如可列舉：若林等人著的「日本化學會公報(Bull.Chem.Soc.Japan)」(42、2924(1969))記載的化合物、英國專利第1388492號說明書記載的化合物、日本專利特開昭53-133428號公報記載的化合物、德國專利第3337024號說明書記載的化合物、F.C.謝弗(F.C.Schaefer)等人的「有機化學期刊(J.Org.Chem.)」(29、1527(1964))記載的化合物、日本專利特開昭62-58241號公報記載的化合物、日本專利特開平5-281728號公報記載的化合物、日本專利特開平5-34920號公報記載的化合物、美國專利第4212976號說明書中記載的化合物、特別是日本專利特開2013-077009號公報的段落編號0075中記載的化合物等。
另外，所述以外的光聚合起始劑可例示吖啶衍生物。具體可列舉日本專利特開2013-077009號公報的段落編號0076中記載的化合物等，將該些內容併入至本申請案說明書中。
所述酮化合物例如可列舉日本專利特開2013-077009號公報的段落編號0077中記載的化合物等，將該些內容併入至本申請案說明書中。
光聚合起始劑亦可較佳地使用羥基苯乙酮化合物、胺基苯乙酮化合物及醯基膦化合物。更具體而言，例如亦可使用日本專利特開平10-291969號公報中記載的胺基苯乙酮系起始劑、日本專利第4225898號公報中記載的醯基膦氧化物系起始劑。
羥基苯乙酮系起始劑可使用：豔佳固(IRGACURE)-184、達羅卡(DAROCUR)-1173、豔佳固(IRGACURE)-500、豔佳固(IRGACURE)-2959，豔佳固(IRGACURE)-127(商品名：均為巴斯夫(BASF)公司製造)。胺基苯乙酮系起始劑可使用：作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-907、豔佳固(IRGACURE)-369及豔佳固(IRGACURE)-379(商品名：均為巴斯夫(BASF)公司製造)。胺基苯乙酮系起始劑亦可使用吸收波長與365nm或405nm等長波光源匹配(matching)的日本專利特開2009-191179號公報中記載的化合物。另外，醯基膦系起始劑亦可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-819或達羅卡(DAROCUR)-TPO(商品名：均為巴斯夫(BASF)公司製造)。
光聚合起始劑更佳可列舉肟化合物。肟化合物的具體例可使用日本專利特開2001-233842號公報記載的化合物、日本專利特開2000-80068號公報記載的化合物、日本專利特開2006-342166號公報記載的化合物。
可較佳地用作本發明的光聚合起始劑的肟衍生物等肟化合物例如可列舉：3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺 基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺醯氧基)亞胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。
肟化合物可列舉：「英國化學會志(Journal of the Chemical Society，J.C.S.)普爾金會刊(Perkin)II」(1979年)pp.1653-1660、「英國化學會志(Journal of the Chemical Society，J.C.S.)普爾金會刊(Perkin)II」(1979年)pp.156-162、「光聚合物科學與技術期刊(Journal of Photopolymer Science and Technology)」(1995年)pp.202-232、日本專利特開2000-66385號公報記載的化合物，日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特表2004-534797號公報、日本專利特開2006-342166號公報的各公報中記載的化合物等。
市售品中亦可較佳地使用豔佳固(IRGACURE)-OXE01(巴斯夫(BASF)公司製造)、豔佳固(IRGACURE)-OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造)。
另外，亦可使用以下化合物作為所述記載以外的肟化合物：肟連結於咔唑N位上的日本專利特表2009-519904號公報中記載的化合物、於二苯甲酮部位上導入有雜取代基的美國專利第7626957號公報中記載的化合物、於色素部位上導入有硝基的日本專利特開2010-15025號公報及美國專利公開2009-292039號記載的化合物、國際公開專利2009-131189號公報中記載的酮肟化合物、於同一分子內含有三嗪骨架與肟骨架的美國專利7556910號 公報中記載的化合物、於405nm處具有最大吸收且對g射線光源具有良好的感度的日本專利特開2009-221114號公報記載的化合物等。
較佳為進而亦可較佳地使用日本專利特開2007-231000號公報及日本專利特開2007-322744號公報中記載的環狀肟化合物。環狀肟化合物中，尤其就具有高的光吸收性而高感度化的觀點而言，較佳為日本專利特開2010-32985號公報、日本專利特開2010-185072號公報中記載的縮環於咔唑色素上的環狀肟化合物。
另外，於肟化合物的特定部位上具有不飽和鍵的日本專利特開2009-242469號公報中記載的化合物亦由聚合非活性自由基來再生活性自由基，由此可達成高感度化而可較佳地使用。
尤佳可列舉：日本專利特開2007-269779號公報中揭示的具有特定取代基的肟化合物、或日本專利特開2009-191061號公報中揭示的具有硫代芳基的肟化合物。
具體而言，作為光聚合起始劑的肟化合物較佳為下述通式(OX-1)所表示的化合物。再者，可為肟的N-O鍵為(E)體的肟化合物，亦可為(Z)體的肟化合物，亦可為(E)體與(Z)體的混合物。
[化44]
通式(OX-1)中，R及B分別獨立地表示一價取代基，A表示二價有機基，Ar表示芳基。
通式(OX-1)中，R所表示的一價取代基較佳為一價的非金屬原子團。
所述一價的非金屬原子團可列舉：烷基、芳基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環基、烷硫基羰基、芳硫基羰基等。另外，該些基團亦可具有一個以上的取代基。另外，所述取代基亦可進一步經其他取代基所取代。
取代基可列舉鹵素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基、醯氧基、醯基、烷基、芳基等。
烷基較佳為碳數1~30的烷基，具體可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0025，將其內容併入至本說明書中。
芳基較佳為碳數6~30的芳基，具體可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0026，將其內容併入至本說明書中。
醯基較佳為碳數2~20的醯基，具體可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0033，將其內容併入至本說明書中。
烷氧基羰基較佳為碳數2~20的烷氧基羰基，具體可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0034，將其內容併入 至本說明書中。
芳氧基羰基具體而言較佳為碳數6~30的芳氧基羰基，可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0035，將其內容併入至本說明書中。
雜環基較佳為含有氮原子、氧原子、硫原子或磷原子的芳香族或脂肪族的雜環基。
具體可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0037，將其內容併入至本說明書中。
烷硫基羰基具體而言較佳為碳數1~20的烷硫基羰基，可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0038，將其內容併入至本說明書中。
芳硫基羰基具體而言較佳為碳數6~30的芳硫基羰基，可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0039，將其內容併入至本說明書中。
通式(OX-1)中，B所表示的一價取代基表示芳基、雜環基、芳基羰基或雜環羰基。另外，該些基團亦可具有一個以上的取代基。取代基可例示上文所述的取代基。另外，上文所述的取代基亦可進一步經其他取代基所取代。
其中，尤佳可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0044，將其內容併入至本說明書中。
所述式(OX-1)中，A所表示的二價有機基可列舉碳數1~12的伸烷基、伸環烷基、伸炔基。另外，該些基團亦可具有一 個以上的取代基。取代基可例示上文所述的取代基。另外，上文所述的取代基亦可進一步經其他取代基所取代。
其中，就提高感度、抑制由加熱經時所致的著色的方面而言，式(OX-1)中的A較佳為未經取代的伸烷基、經烷基(例如甲基、乙基、第三丁基、十二烷基)取代的伸烷基、經烯基(例如乙烯基、烯丙基)取代的伸烷基、經芳基(例如苯基、對甲苯基、二甲苯基、枯烯基(cumenyl)、萘基、蒽基、菲基、苯乙烯基)取代的伸烷基。
所述式(OX-1)中，Ar所表示的芳基較佳為碳數6~30的芳基，另外，亦可具有取代基。取代基可例示：與上文中作為可具有取代基的芳基的具體例而列舉的導入至經取代的芳基中的取代基相同的基團。
其中，就提高感度、抑制由加熱經時所致的著色的方面而言，較佳為經取代或未經取代的苯基。
式(OX-1)中，由所述式(OX-1)中的Ar及與之鄰接的S所形成的「SAr」的較佳結構可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0049的記載，將其內容併入至本說明書中。
肟化合物可參考日本專利特開2009-191061號公報的段落0050~段落0106的記載，將其內容併入至本說明書中。
肟化合物於350nm~500nm的波長範圍內具有最大吸收波長，較佳為於360nm~480nm的波長範圍內具有吸收波長，尤佳為365nm及455nm的吸光度高。
就感度的觀點而言，肟化合物於365nm或405nm下的莫耳吸光係數較佳為1,000~300,000，更佳為2,000~300,000，尤佳為5,000~200,000。
化合物的莫耳吸光係數可使用公知的方法，具體而言，例如較佳為利用紫外可見分光光度計(瓦里安(Varian)公司製造的卡里-5(Carry-5)分光光度計(spectrophotometer))，使用乙酸乙酯溶劑以0.01g/L的濃度進行測定。
於本發明的著色組成物中含有光聚合起始劑的情形時，相對於著色組成物的總固體成分，光聚合起始劑的含量較佳為0.1質量%~50質量%，更佳為0.5質量%~30質量%，進而佳為1質量%~20質量%。於該範圍內可獲得更良好的感度及圖案形成性。
本發明的組成物可僅含有一種光聚合起始劑，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
<顏料分散劑>
於本發明的著色組成物含有顏料的情形時，可視需要而併用顏料分散劑。
本發明中可使用的顏料分散劑可列舉：高分子分散劑[例如聚醯胺-胺及其鹽、聚羧酸及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸福馬林縮合物]、及聚氧伸乙基烷基磷酸酯、聚氧伸乙基烷基胺、烷醇胺等界面活性劑及顏料衍生物等。
高分子分散劑可根據其結構而進一步分類為直鏈狀高分子、末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。
具有對顏料表面的固定(anchor)部位的末端改質型高分子例如可列舉：日本專利特開平3-112992號公報、日本專利特表2003-533455號公報等中記載的於末端具有磷酸基的高分子，日本專利特開2002-273191號公報等中記載的於末端具有磺酸基的高分子，日本專利特開平9-77994號公報等中記載的具有有機色素的部分骨架或雜環的高分子等。另外，日本專利特開2007-277514號公報中記載的於高分子末端導入2個以上的對顏料表面的固定部位(酸基、鹼性基、有機色素的部分骨架或雜環等)的高分子亦分散穩定性優異而較佳。
具有對顏料表面的固定部位的接枝型高分子例如可列舉聚酯系分散劑等，具體可列舉：日本專利特開昭54-37082號公報、日本專利特表平8-507960號公報、日本專利特開2009-258668號公報等中記載的聚(低級伸烷基亞胺)與聚酯的反應產物，日本專利特開平9-169821號公報等中記載的聚烯丙胺與聚酯的反應產物，日本專利特開平10-339949號公報、日本專利特開2004-37986號公報、國際公開手冊WO2010/110491等中記載的巨單體與氮原子單體的共聚物，日本專利特開2003-238837號公報、日本專利特開2008-9426號公報、日本專利特開2008-81732號公報等中記載的具有有機色素的部分骨架或雜環的接枝型高分子，日本專利特開2010-106268號公報等中記載的巨單體與含酸基的單體的共 聚物等。尤其就顏料分散物的分散性、分散穩定性及使用顏料分散物的著色組成物所顯示出的顯影性的觀點而言，尤佳為日本專利特開2009-203462號公報中記載的具有鹼性基及酸性基的兩性分散樹脂。
藉由自由基聚合來製造具有對顏料表面的固定部位的接枝型高分子時所用的巨單體可使用公知的巨單體，可列舉：東亞合成(股)製造的巨單體AA-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚甲基丙烯酸甲酯)、AS-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚苯乙烯)、AN-6S(末端基為甲基丙烯醯基的苯乙烯與丙烯腈的共聚物)、AB-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚丙烯酸丁酯)、大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造的普拉克塞爾(Placcel)FM5(甲基丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯5莫耳當量加成品)、FA10L(丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯10莫耳當量加成品)、及日本專利特開平2-272009號公報中記載的聚酯系巨單體等。該些巨單體中，尤其就顏料分散物的分散性、分散穩定性及使用顏料分散物的著色組成物所顯示出的顯影性的觀點而言，尤佳為柔軟性且親溶劑性優異的聚酯系巨單體，進而尤佳為日本專利特開平2-272009號公報中記載的聚酯系巨單體所表示的聚酯系巨單體。
具有對顏料表面的固定部位的嵌段型高分子較佳為日本專利特開2003-49110號公報、日本專利特開2009-52010號公報等中記載的嵌段型高分子。
本發明中可使用的顏料分散劑亦可作為市售品而獲 取，此種具體例可列舉：楠木化成股份有限公司製造的「DA-7301」，畢克化學(BYK Chemie)公司製造「迪斯帕畢克(Disperbyk)-101(聚醯胺-胺磷酸鹽)、迪斯帕畢克(Disperbyk)-107(羧酸酯)、迪斯帕畢克(Disperbyk)-110、迪斯帕畢克(Disperbyk)-111(含酸基的共聚物)、迪斯帕畢克(Disperbyk)-130(聚醯胺)、迪斯帕畢克(Disperbyk)-161、迪斯帕畢克(Disperbyk)-162、迪斯帕畢克(Disperbyk)-163、迪斯帕畢克(Disperbyk)-164、迪斯帕畢克(Disperbyk)-165、迪斯帕畢克(Disperbyk)-166、迪斯帕畢克(Disperbyk)-170(高分子共聚物)」、「畢克(BYK)-P104、畢克(BYK)-P105(高分子量不飽和多羧酸)」、埃夫卡(EFKA)公司製造的「埃夫卡(EFKA)4047、埃夫卡(EFKA)4050、埃夫卡(EFKA)4010、埃夫卡(EFKA)4165(聚胺基甲酸酯系)、埃夫卡(EFKA)4330~埃夫卡(EFKA)4340(嵌段共聚物)、埃夫卡(EFKA)4400~埃夫卡(EFKA)4402(改質聚丙烯酸酯)、埃夫卡(EFKA)5010(聚酯醯胺)、埃夫卡(EFKA)5765(高分子量多羧酸鹽)、埃夫卡(EFKA)6220(脂肪酸聚酯)、埃夫卡(EFKA)6745(酞菁衍生物)、埃夫卡(EFKA)6750(偶氮顏料衍生物)」、味之素精密技術(Ajinomoto Fine-Techno)公司製造的「阿吉斯帕(Ajisper)PB821、阿吉斯帕(Ajisper)PB822、阿吉斯帕(Ajisper)PB880、阿吉斯帕(Ajisper)PB881」，共榮社化學公司製造的「弗洛蘭(Flowlen)TG-710(胺基甲酸酯寡聚物)」、「波利弗洛(Polyflow)No.50E、波利弗洛 (Polyflow)No.300(丙烯酸系共聚物)」，楠本化成公司製造的「迪斯帕隆(Disperlon)KS-860、迪斯帕隆(Disperlon)873SN、迪斯帕隆(Disperlon)874、迪斯帕隆(Disperlon)#2150(脂肪族多元羧酸)、迪斯帕隆(Disperlon)#7004(聚醚酯)、迪斯帕隆(Disperlon)DA-703-50、迪斯帕隆(Disperlon)DA-705、迪斯帕隆(Disperlon)DA-725」、花王公司製造的「德莫耳(Demol)RN、德莫耳(Demol)N(萘磺酸福馬林縮聚物)、德莫耳(Demol)MS、德莫耳(Demol)C、德莫耳(Demol)SN-B(芳香族磺酸福馬林縮聚物)」、「火莫格諾(Homogenol)L-18(高分子多羧酸)」、「愛慕根(Emulgen)920、愛慕根(Emulgen)930、愛慕根(Emulgen)935、愛慕根(Emulgen)985(聚氧伸乙基壬基苯基醚)」、「阿塞他命(Acetamin)86(硬脂基胺乙酸酯)」，日本路博潤(Lubrizol)(股)製造的「索努帕斯(Solsperse)5000(酞菁衍生物)、索努帕斯(Solsperse)22000(偶氮顏料衍生物)、索努帕斯(Solsperse)13240(聚酯胺)、索努帕斯(Solsperse)3000、索努帕斯(Solsperse)17000、索努帕斯(Solsperse)27000(於末端部具有功能部的高分子)、索努帕斯(Solsperse)24000、索努帕斯(Solsperse)28000、索努帕斯(Solsperse)32000、索努帕斯(Solsperse)38500(接枝型高分子)」，日光化學公司製造的「尼克爾(Nikkol)T106(聚氧伸乙基山梨醇酐單油酸酯)、尼克爾(Nikkol)MYS-IEX(聚氧伸乙基單硬脂酸酯)」，川研精化(股)製造的海諾埃克特(Hinoact)T-8000E等，信越化學工業(股)製造的有機矽氧烷聚合物KP341， 裕商(股)製造的「W001：陽離子系界面活性劑」，聚氧伸乙基月桂基醚、聚氧伸乙基硬脂基醚、聚氧伸乙基油烯基醚、聚氧伸乙基辛基苯基醚、聚氧伸乙基壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、山梨醇酐脂肪酸酯等非離子系界面活性劑，「W004、W005、W017」等陰離子系界面活性劑，森下產業(股)製造的「埃夫卡(EFKA)-46、埃夫卡(EFKA)-47、埃夫卡(EFKA)-47EA、埃夫卡(EFKA)聚合物100、埃夫卡(EFKA)聚合物400、埃夫卡(EFKA)聚合物401、埃夫卡(EFKA)聚合物450」，聖諾普科(Sannopco)(股)製造的「迪斯帕斯艾德(Disperse-aid)6、迪斯帕斯艾德(Disperse-aid)8、迪斯帕斯艾德(Disperse-aid)15、迪斯帕斯艾德(Disperse-aid)9100」等高分子分散劑，艾迪科(ADEKA)(股)製造的「艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L31、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)F38、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L42、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L44、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L61、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L64、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)F68、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L72、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)P95、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)F77、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)P84、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)F87、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)P94、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L101、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)P103、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)F108、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)L121、艾迪科普羅尼克(Adeka Pluronic)P-123」，及三洋化成(股)製造的「伊奧奈特(Eonet)(商品名)S-20」等。
該些顏料分散劑可單獨使用，亦可組合使用兩種以上。於本發明中，尤其較佳為將顏料衍生物與高分子分散劑組合使用。另外，關於顏料分散劑，亦可與具有對所述顏料表面的固定部位的末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子一起而併用鹼可溶性樹脂。鹼可溶性樹脂可列舉：(甲基)丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、丁烯酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物等，以及於側鏈上具有羧酸的酸性纖維素衍生物，尤佳為(甲基)丙烯酸共聚物。另外，日本專利特開平10-300922號公報中記載的N位取代馬來醯亞胺單體共聚物、日本專利特開2004-300204號公報中記載的醚二聚物共聚物、日本專利特開平7-319161號公報中記載的含有聚合性基的鹼可溶性樹脂亦較佳。具體可例示鹼可溶性樹脂：甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸/甲基丙烯酸-2-羥基乙酯共聚物。
於著色組成物中含有顏料分散劑的情形時，相對於顏料100質量份，顏料分散劑的總含量較佳為1質量份~80質量份，更佳為5質量份~70質量份，進而佳為20質量份~40質量份。
本發明的組成物可分別僅含有一種顏料分散劑，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
具體而言，若為使用高分子分散劑的情形，則相對於顏 料100質量份，其使用量以質量換算計而較佳為5質量份~100質量份的範圍，更佳為10質量份~80質量份的範圍。
另外，於併用顏料衍生物的情形時，相對於顏料100質量份，顏料衍生物的使用量以質量換算計而較佳為在1質量份~30質量份的範圍內，更佳為在3質量份~20質量份的範圍內，尤佳為在5質量份~15質量份的範圍內。
於著色組成物中，就硬化感度、顏色濃度的觀點而言，相對於構成著色組成物的總固體成分，著色劑及分散劑成分的含量的總和較佳為50質量%以上、90質量%以下，更佳為55質量%以上、85質量%以下，進而佳為60質量%以上、80質量%以下。
<鹼可溶性樹脂>
本發明的著色組成物較佳為更含有鹼可溶性樹脂。
鹼可溶性樹脂的分子量並無特別限定，Mw較佳為5000~100,000。另外，Mn較佳為1000~20,000。
本發明中所用的化合物的重量平均分子量是以由GPC測定所得的聚苯乙烯換算值來定義。重量平均分子量及數量平均分子量例如可藉由以下方式求出：使用HLC-8220(東曹(股)製造)，使用TSKgel Super AWM-H(東曹(股)製造，6.0mm ID×15.0cm)作為管柱，且使用10mmol/L的溴化鋰N-甲基吡咯啶酮(N-methyl Pyrrolidinone，NMP)溶液作為溶離液。
鹼可溶性樹脂可自以下鹼可溶性樹脂中適當選擇，所述鹼可溶性樹脂為線性有機高分子聚合物，且於分子(較佳為以丙 烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物作為主鏈的分子)中具有至少一個促進鹼可溶性的基團。就耐熱性的觀點而言，較佳為多羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂，就控制顯影性的觀點而言，較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。
促進鹼可溶性的基團(以下亦稱為酸基)例如可列舉羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等，較佳為可溶於有機溶劑中且可藉由弱鹼性水溶液進行顯影的基團，可列舉(甲基)丙烯酸基作為尤佳者。該些酸基可僅為一種，亦可為兩種以上。
所述可於聚合後賦予酸基的單體例如可列舉：(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯等具有羥基的單體、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有環氧基的單體、(甲基)丙烯酸-2-異氰酸酯乙酯等具有異氰酸基的單體等。該些用以導入酸基的單體可僅為一種，亦可為兩種以上。為了於鹼可溶性樹脂中導入酸基，例如只要將具有酸基的單體及/或可於聚合後賦予酸基的單體(以下有時亦稱為「用以導入酸基的單體」)作為單體成分來進行聚合即可。
再者，於將可於聚合後賦予酸基的單體作為單體成分來導入酸基的情形時，必須於聚合後進行例如後述般的用以賦予酸基的處理。
製造鹼可溶性樹脂時，例如可應用公知的利用自由基聚合法的方法。藉由自由基聚合法來製造鹼可溶性樹脂時的溫度、壓力、自由基起始劑的種類及其量、溶劑的種類等聚合條件可由 本領域技術人員容易地設定，亦能以實驗方式來決定條件。
用作鹼可溶性樹脂的線性有機高分子聚合物較佳為於側鏈上具有羧酸的聚合物，可列舉：甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、丁烯酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物、酚醛清漆型樹脂等鹼可溶性酚樹脂等，以及於側鏈上具有羧酸的酸性纖維素衍生物、對具有羥基的聚合物加成酸酐而成者。尤其(甲基)丙烯酸與可與其共聚合的其他單體的共聚物適合作為鹼可溶性樹脂。可與(甲基)丙烯酸共聚合的其他單體可列舉：(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、乙烯系化合物等。(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸芳基酯可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸環己酯等，乙烯系化合物可列舉：苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基丙烯酸四氫糠酯、聚苯乙烯巨單體、聚甲基丙烯酸甲酯巨單體等，日本專利特開平10-300922號公報中記載的作為N位取代馬來醯亞胺單體的N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺等。再者，該些可與(甲基)丙烯酸共聚合的其他單體可僅為一種，亦可為兩種以上。
鹼可溶性樹脂亦較佳為含有聚合物(a)，該聚合物(a) 是使必需下述通式(ED)所表示的化合物(以下有時亦稱為「醚二聚物」)的單體成分進行聚合而成。
通式(ED)中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或可具有取代基的碳數1~25的烴基。
藉此，本發明的著色組成物可形成耐熱性與透明性均極為優異的硬化塗膜。表示所述醚二聚物的所述通式(1)中，R1及R2所表示的可具有取代基的碳數1~25的烴基並無特別限制，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、第三戊基、硬脂基、月桂基、2-乙基己基等直鏈狀或分支狀的烷基；苯基等芳基；環己基、第三丁基環己基、二環戊二烯基、三環癸基、異冰片基、金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基等脂環式基；1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基等經烷氧基取代的烷基；苄基等經芳基取代的烷基等。該些基團中，尤其就耐熱性的方面而言，較佳為甲基、乙基、環己基、苄基等般的不易因酸或熱而脫離的一級或二級碳的取代基。
所述醚二聚物的具體例例如可列舉：二甲基-2,2'-[氧基 雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯(dimethyl-2,2'-[oxybis(methylene)]bis-2-propenoate)、二乙基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丙基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丙基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丁基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丁基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三丁基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三戊基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(硬脂基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(月桂基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(2-乙基己基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-甲氧基乙基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-乙氧基乙基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苄基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苯基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三丁基環己基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(二環戊二烯基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(三環癸基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異冰片基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二金剛烷基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(2-甲基-2-金剛烷基)-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯等。該些具體例中，尤佳為二甲基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二乙基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2'-[氧基雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苄基-2,2'-[氧基雙(亞甲 基)]雙-2-丙烯酸酯。該些醚二聚物可僅為一種，亦可為兩種以上。來源於所述通式(ED)所表示的化合物的結構體亦可使其他單體進行共聚合。
另外，為了提高本發明的著色組成物的交聯效率，較佳為使用具有聚合性基的鹼可溶性樹脂。具有聚合性基的鹼可溶性樹脂有用的是於側鏈上含有烯丙基、(甲基)丙烯酸基、烯丙氧基烷基等的鹼可溶性樹脂等。
含有聚合性基的聚合物的例子可列舉：蒂阿諾(Dianal)NR系列(三菱麗陽股份有限公司製造)、Photomer 6173(含COOH的丙烯酸聚胺基甲酸酯寡聚物(polyurethane acrylic oligomer)，鑽石三葉草股份有限公司(Diamond Shamrock Co.Ltd.,)製造)、比斯克(Biscoat)R-264、KS抗蝕劑(KS Resist)106(均為大阪有機化學工業股份有限公司製造)，賽克羅馬(Cyclomer)P系列、普拉克塞爾(Placcel)CF200系列(均為大賽璐(Daicel)化學工業股份有限公司製造)、艾白克力(Ebecryl)3800(大賽璐UCB(Daicel UCB)股份有限公司製造)等。該些含有聚合性基的鹼可溶性樹脂較佳為以下樹脂：經胺基甲酸酯改質的含聚合性雙鍵的丙烯酸系樹脂，其是藉由預先使異氰酸酯基與OH基反應而殘留一個未反應的異氰酸酯基且含有(甲基)丙烯醯基的化合物、與含有羧基的丙烯酸系樹脂的反應而獲得；含不飽和基的丙烯酸系樹脂，其是藉由含有羧基的丙烯酸系樹脂與分子內一併具有環氧基及聚合性雙鍵的化合物的反應而獲得；酸側位型環氧丙烯酸酯樹 脂；使含有OH基的丙烯酸系樹脂與具有聚合性雙鍵的二元酸酐反應而成的含聚合性雙鍵的丙烯酸系樹脂；使含有OH基的丙烯酸系樹脂、異氰酸酯及具有聚合性基的化合物反應而成的樹脂；日本專利特開2002-229207號公報及日本專利特開2003-335814號公報中記載的藉由對以下樹脂進行鹼性處理所得的樹脂等，所述樹脂於側鏈上具有在α位或β位上具有鹵素原子或磺酸酯基等脫離基的酯基。
鹼可溶性樹脂尤佳為(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物或包含(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/其他單體的多元共聚物。除此以外，可列舉：使甲基丙烯酸-2-羥基乙酯進行共聚合而成的(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯共聚物、日本專利特開平7-140654號公報中記載的(甲基)丙烯酸-2-羥基丙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸-2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸-2-羥基乙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等，尤佳可列舉甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸的共聚物等。
鹼可溶性樹脂可參考日本專利特開2012-208494號公報的段落0558~段落0571(對應的美國專利申請案公開第2012/0235099號說明書的[0685]~[0700])以後的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。
進而較佳為使用以下樹脂：日本專利特開2012-32767號公報中記載的段落編號0029~段落編號0063所記載的共聚物(B)及實施例中所用的鹼可溶性樹脂、日本專利特開2012-208474號公報的段落編號0088~段落編號0098中記載的黏合劑樹脂及實施例中所用的黏合劑樹脂、日本專利特開2012-137531號公報的段落編號0022~段落編號0032中記載的黏合劑樹脂及實施例中所用的黏合劑樹脂、日本專利特開2013-024934號公報的段落編號0132~段落編號0143中記載的黏合劑樹脂及實施例中所用的黏合劑樹脂、日本專利特開2011-242752號公報的段落編號0092~段落編號0098及實施例中所用的黏合劑樹脂、日本專利特開2012-032770號公報的段落編號0030~段落編號0072的記載的黏合劑樹脂。將該些內容併入至本申請案說明書中。更具體而言，較佳為下述樹脂。
[化46]
鹼可溶性樹脂的酸值較佳為30mgKOH/g~200mgKOH/g，更佳為以50mgKOH/g~150mgKOH/g為宜，尤佳為70mgKOH/g~120mgKOH/g。
另外，鹼可溶性樹脂的重量平均分子量(Mw)較佳為2,000~50,000，更佳為5,000~30,000，尤佳為7,000~20,000。
於著色組成物中含有鹼可溶性樹脂的情形時，相對於著色組成物的總固體成分，鹼可溶性樹脂的含量較佳為1質量%~15質量%，更佳為2質量%~12質量%，尤佳為3質量%~10質量%。
本發明的組成物可僅含有一種鹼可溶性樹脂，亦可含有兩種以上，較佳為含有兩種以上，更佳為至少一種具有聚合性基。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
<其他成分>
本發明的著色組成物除了含有所述各成分以外，亦可於不損及本發明的效果的範圍內，更含有界面活性劑、交聯劑、聚合抑制劑、有機羧酸、有機羧酸酐等其他成分。
<<界面活性劑>>
本發明的著色組成物中，就進一步提高塗佈性的觀點而言，亦可添加各種界面活性劑。界面活性劑可使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。
尤其本發明的著色組成物藉由含有氟系界面活性劑，於製備成塗佈液時的溶液特性(特別是流動性)進一步提高，故可 進一步改善塗佈厚度的均勻性或省液性。
即，於使用應用含有氟系界面活性劑的著色組成物的塗佈液來進行膜形成的情形時，藉由使被塗佈面與塗佈液的界面張力減小，對被塗佈面的濡濕性得到改善，對被塗佈面的塗佈性提高。因此，即便於以少量的液量形成幾微米(μm)左右的薄膜的情形時，亦可更佳地進行厚度不均小的均勻厚度的膜形成，就此方面而言有效。
氟系界面活性劑中的氟含有率較佳為3質量%~40質量%，更佳為5質量%~30質量%，尤佳為7質量%~25質量%。氟含有率為該範圍內的氟系界面活性劑於塗佈膜的厚度的均勻性或省液性的方面有效，於著色組成物中的溶解性亦良好。
氟系界面活性劑例如可列舉：美佳法(Megafac)F171、美佳法(Megafac)F172、美佳法(Megafac)F173、美佳法(Megafac)F176、美佳法(Megafac)F177、美佳法(Megafac)F141、美佳法(Megafac)F142、美佳法(Megafac)F143、美佳法(Megafac)F144、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)F437、美佳法(Megafac)F475、美佳法(Megafac)F479、美佳法(Megafac)F482、美佳法(Megafac)F554、美佳法(Megafac)F780、美佳法(Megafac)F781(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)，弗拉德(Fluorad)FC430、弗拉德(Fluorad)FC431、弗拉德(Fluorad)FC171(以上為住友3M(股)製造)，沙福隆(Surflon)S-382、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon) SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC1068、沙福隆(Surflon)SC-381、沙福隆(Surflon)SC-383、沙福隆(Surflon)S393、沙福隆(Surflon)KH-40(以上為旭硝子(股)製造)等。
非離子系界面活性劑具體可列舉：甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷以及該等的乙氧基化物及丙氧基化物(例如丙氧基化甘油、乙氧基化甘油等)、聚氧伸乙基月桂基醚、聚氧伸乙基硬脂基醚、聚氧伸乙基油烯基醚、聚氧伸乙基辛基苯基醚、聚氧伸乙基壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、山梨醇酐脂肪酸酯(巴斯夫(BASF)公司製造的普羅尼克(Pluronic)L10、普羅尼克(Pluronic)L31、普羅尼克(Pluronic)L61、普羅尼克(Pluronic)L62、普羅尼克(Pluronic)10R5、普羅尼克(Pluronic)17R2、普羅尼克(Pluronic)25R2、特羅尼克(Tetronic)304、特羅尼克(Tetronic)701、特羅尼克(Tetronic)704、特羅尼克(Tetronic)901、特羅尼克(Tetronic)904、特羅尼克(Tetronic)150R1)、索努帕斯(Solsperse)20000(日本路博潤(Lubrizol)(股))等。
陽離子系界面活性劑具體可列舉：酞菁衍生物(商品名：埃夫卡(EFKA)-745，森下產業(股)製造)，有機矽氧烷聚合物KP341(信越化學工業(股)製造)，(甲基)丙烯酸系(共)聚合物波利弗洛(Polyflow)No.75、波利弗洛(Polyflow)No.90、波利弗洛(Polyflow)No.95(共榮社化學(股)製造)，W001(裕商(股)製造)等。
陰離子系界面活性劑具體可列舉：W004、W005、W017(裕商(股)公司製造)等。
矽酮系界面活性劑例如可列舉：東麗道康寧(Toray-Dow corning)(股)製造的「東麗矽酮(Toray Silicone)DC3PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH7PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)DC11PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH21PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH28PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH29PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH30PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH8400」，邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造的「TSF-4440」、「TSF-4300」、「TSF-4445」、「TSF-4460」、「TSF-4452」，信越矽酮股份有限公司製造的「KP341」、「KF6001」、「KF6002」，畢克化學(BYKChemie)公司製造的「畢克(BYK)307」、「畢克(BYK)323」、「畢克(BYK)330」等。
於本發明的著色組成物中含有界面活性劑的情形時，相對於著色組成物的總質量，界面活性劑的添加量較佳為0.001質量%~2.0質量%，更佳為0.05質量%~1.0質量%。
本發明的組成物可僅含有一種界面活性劑，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
<<交聯劑>>
亦可於本發明的著色組成物中補充使用交聯劑，進一步提高使著色組成物硬化而成的硬化膜的硬度。
交聯劑只要藉由交聯反應可進行膜硬化，則並無特別限定， 例如可列舉：(a)環氧樹脂；(b)經選自羥甲基、烷氧基甲基及醯氧基甲基中的至少一個取代基取代的三聚氰胺化合物、胍胺化合物、甘脲化合物(glycoluryl compound)或脲化合物；(c)經選自羥甲基、烷氧基甲基及醯氧基甲基中的至少一個取代基取代的苯酚化合物、萘酚化合物或羥基蒽化合物。其中，較佳為多官能環氧樹脂。
關於交聯劑的具體例等詳細情況，可參照日本專利特開2004-295116號公報的段落0134~段落0147的記載。
於本發明的著色組成物中含有交聯劑的情形時，交聯劑的調配量並無特別限定，較佳為組成物的總固體成分的2質量%~30質量%，更佳為3質量%~20質量%。
本發明的組成物可僅含有一種交聯劑，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
<<聚合抑制劑>>
於本發明的著色組成物中，為了於著色組成物的製造中或保存中阻止聚合性化合物的不需要的熱聚合，理想的是添加少量的聚合抑制劑。
本發明中可使用的聚合抑制劑可列舉：對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-第三丁基對甲酚、鄰苯三酚、第三丁基鄰苯二酚、苯醌、4,4'-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥基胺亞鈰鹽等。
於本發明的著色組成物中含有聚合抑制劑的情形時，相對於 所有組成物的質量，聚合抑制劑的添加量較佳為0.01質量%~5質量%。
本發明的組成物可僅含有一種聚合抑制劑，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
<<有機羧酸、有機羧酸酐>>
本發明的著色組成物亦可含有分子量為1000以下的有機羧酸及/或有機羧酸酐。
有機羧酸化合物具體可列舉脂肪族羧酸或芳香族羧酸。脂肪族羧酸例如可列舉：甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、三甲基乙酸、己酸、甘醇酸、丙烯酸、甲基丙烯酸等單羧酸，草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、環己烷二羧酸、環己烯二羧酸、衣康酸、檸康酸、馬來酸、富馬酸等二羧酸，1,2,3-丙三甲酸、烏頭酸等三羧酸等。另外，芳香族羧酸例如可列舉：苯甲酸、鄰苯二甲酸等羧基直接鍵結於苯基的羧酸，及自苯基經由碳鍵而鍵結羧基的羧酸類。該等中，尤佳為分子量600以下、特別是分子量50~500者，具體而言，例如較佳為馬來酸、丙二酸、琥珀酸、衣康酸。
有機羧酸酐例如可列舉脂肪族羧酸酐、芳香族羧酸酐，具體而言，例如可列舉：乙酸酐、三氯乙酸酐、三氟乙酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、琥珀酸酐、馬來酸酐、檸康酸酐、衣康酸酐、戊二酸酐、1,2-環己烯二羧酸酐、正十八烷基琥珀酸酐、5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐等脂肪族羧酸酐。芳香族羧酸酐例如可列舉：鄰 苯二甲酸酐、偏苯三甲酸酐、均苯四甲酸酐、萘二甲酸酐等。該等中，尤佳為分子量600以下、特別是分子量50~500者，具體而言，例如較佳為馬來酸酐、琥珀酸酐、檸康酸酐、衣康酸酐。
於本發明的著色組成物中含有有機羧酸、有機羧酸酐的情形時，有機羧酸及/或有機羧酸酐的添加量通常於總固體成分中為0.01重量%~10重量%、較佳為0.03重量%~5重量%、更佳為0.05重量%~3重量%的範圍。
本發明的組成物可分別僅含有一種有機羧酸及/或有機羧酸酐，亦可含有兩種以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
藉由添加該些分子量為1000以下的有機羧酸及/或有機羧酸酐，可保持高的圖案密接性，並且進一步減少著色組成物的未溶解物的殘存。
除了所述添加劑以外，著色組成物中視需要可調配各種添加物、例如填充劑、密接促進劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗凝聚劑等。該些添加物可列舉日本專利特開2004-295116號公報的段落0155~段落0156中記載者，將該些內容併入至本申請案說明書中。
於本發明的著色組成物中，可含有日本專利特開2004-295116號公報的段落0078中記載的增感劑或光穩定劑、該公報的段落0081中記載的防熱聚合劑。
本發明的組成物可分別僅含有一種所述成分，亦可含有兩種 以上。於含有兩種以上的情形時，較佳為其合計量成為所述範圍。
<著色組成物的製備方法>
本發明的著色組成物是藉由將上文所述的成分混合而製備。
再者，於製備著色組成物時，可將構成著色組成物的各成分一次性調配，亦可將各成分溶解、分散於溶劑中後逐次調配。另外，調配時的投入順序或作業條件不受特別限制。例如可將所有成分同時溶解、分散於溶劑中而製備組成物，視需要亦可預先將各成分適當製成兩種以上的溶液、分散液，並於使用時(塗佈時)將該等混合而製備成組成物。
如上所述般製備的著色組成物可使用較佳為孔徑0.01μm~3.0μm、更佳為孔徑0.05μm~0.5μm左右的過濾器等進行過濾分離後供使用。
另外，於在本發明的組成物中調配顏料的情形時，較佳為使用經清洗的顏料。藉由使用經清洗的顏料，可進一步減少組成物中的異物。清洗顏料的方法可參考日本專利特開2010-83997號公報的段落0011~段落0099，將其內容併入至本說明書中。
本發明的著色組成物可較佳地用於彩色濾光片的著色層形成用。更具體而言，本發明的著色組成物由於可形成耐熱性及顏色特性優異的硬化膜，故可較佳地用於形成彩色濾光片的著色圖案(著色層)。另外，本發明的著色組成物可較佳地用於固體攝像元件(例如電荷耦合元件(Charge-coupled Device，CCD)、互補式金屬氧化物半導體(Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS)等)或液晶顯示裝置(LCD)等圖像顯示裝置中所用的彩色濾光片等著色圖案形成用。進而，亦可較佳地用於印刷油墨、噴墨油墨及塗料等的製作用途。其中，可較佳地使用CCD及CMOS等固體攝像元件用的彩色濾光片作為製作用途。
<硬化膜、圖案形成方法、彩色濾光片及彩色濾光片的製造方法>
繼而，對本發明的硬化膜、圖案形成方法及彩色濾光片藉由其製造方法加以詳述。
本發明的硬化膜是使本發明的著色組成物硬化而成。該硬化膜可較佳地用於彩色濾光片。
本發明的圖案形成方法將本發明的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層，將不需要的部分去除而形成著色圖案。
本發明的圖案形成方法可較佳地用於形成彩色濾光片所具有的著色圖案(畫素)。
本發明的組成物可利用所謂光微影法藉由圖案形成來製造彩色濾光片，亦可藉由乾式蝕刻法來形成圖案。
即，本發明的彩色濾光片的第一製造方法可例示包括以下步驟的彩色濾光片的製造方法：將著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層的步驟；將所述著色組成物層以圖案狀進行曝光的步驟；以及將未曝光部顯影去除而形成著色圖案的步驟。
另外，本發明的彩色濾光片的第二製造方法可例示包括以下步驟的彩色濾光片的製造方法：將著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層，並使其硬化而形成著色層的步驟；於所述著色層上形成光阻層的步驟；藉由曝光及顯影將所述光阻層圖案化而獲得抗蝕劑圖案的步驟；以及將所述抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩來對所述著色層進行乾式蝕刻的步驟。
於本發明中，更佳為利用光微影法來製造。
以下對該些方法加以詳細描述。
以下，對本發明的圖案形成方法的各步驟藉由固體攝像元件用彩色濾光片的製造方法來加以詳細說明，但本發明不限定於該方法。以下，有時將固體攝像元件用彩色濾光片簡稱為「彩色濾光片」。
<<形成著色組成物層的步驟>>
於形成著色組成物層的步驟中，於支持體上應用本發明的著色組成物而形成著色組成物層。
該步驟中可使用的支持體例如可使用：於基板(例如矽基板)上設有電荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)或互補式金屬氧化物半導體(Complementary Metal-Oxide Semiconductor，CMOS)等攝像元件(受光元件)的固體攝像元件用基板。
本發明的著色圖案可形成於固體攝像元件用基板的攝像元件形成面側(表面)，亦可形成於未形成攝像元件的面側(背面)。
亦可於固體攝像元件的著色圖案之間、或固體攝像元件用基板的背面上設有遮光膜。
另外，於支持體上，視需要亦可設置底塗層以改良與上部的層的密接、防止物質的擴散或實現基板表面的平坦化。底塗層中可調配溶劑、鹼可溶性樹脂、聚合性化合物、聚合抑制劑、界面活性劑、光聚合起始劑等，該些各成分較佳為自調配至所述本發明的組成物中的成分中適當選擇。
於支持體上賦予本發明的著色組成物的賦予方法可應用狹縫塗佈、噴墨法、旋轉塗佈、流延塗佈、輥塗佈、網版印刷法等各種塗佈方法。
塗佈於支持體上的著色組成物層的乾燥(預烘烤)可利用熱板、烘箱等在50℃~140℃的溫度下進行10秒鐘~300秒鐘。
<利用光微影法來進行圖案形成的步驟>
<<進行曝光的步驟>>
於曝光步驟中，對著色組成物層形成步驟中形成的著色組成物層使用例如步進機等曝光裝置，介隔具有既定的遮罩圖案的遮罩來進行圖案曝光。藉此可獲得硬化膜。
曝光時可使用的放射線(光)尤其可較佳地使用g射線、i射線等紫外線(尤佳為i射線)。照射量(曝光量)較佳為30mJ/cm2~1500mJ/cm2，更佳為50mJ/cm2~1000mJ/cm2，尤佳為80mJ/cm2~500mJ/cm2。
硬化膜(著色膜)的膜厚較佳為1.0μm以下，更佳為 0.1μm~0.9μm，進而佳為0.2μm~0.8μm。
藉由將膜厚設定為1.0μm以下，可獲得高解析性、高密接性，故較佳。
另外，於該步驟中，亦可較佳地形成具有0.7μm以下的薄的膜厚的硬化膜，藉由利用後述圖案形成步驟對所得的硬化膜進行顯影處理，可獲得即便為薄膜，顯影性、表面粗糙抑制及圖案形狀亦優異的著色圖案。
<<顯影步驟>>
繼而進行鹼顯影處理，藉此曝光步驟中的未經光照射的部分的著色組成物層溶出至鹼性水溶液中，僅經光硬化的部分殘留。
顯影液理想的是不對底層的攝像元件或電路等造成損傷(damage)的有機鹼顯影液。顯影溫度通常為20℃~30℃，顯影時間以前為20秒~90秒。為了進一步去除殘渣，近年來有時亦有實施120秒~180秒的情況。進而，為了進一步提高殘渣去除性，有時亦重複以下步驟幾次：每隔60秒甩去顯影液，進一步重新供給顯影液。
顯影液中所用的鹼劑例如可列舉：氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、氫氧化三甲基苄基銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環-[5.4.0]-7-十一烯等有機鹼性化合物，可較佳地使用利用純水將該些鹼劑以濃度成為0.001質量%~10質量%、較佳為0.01質量%~1質量%的方式稀釋而成的鹼性水溶液作為顯 影液。
再者，顯影液中亦可使用無機鹼，無機鹼例如較佳為氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等。
再者，於使用包含此種鹼性水溶液的顯影液的情形時，通常於顯影後利用純水進行清洗(淋洗)。
繼而，較佳為於實施了乾燥後進行加熱處理(後烘烤)。若形成多種顏色的著色圖案，則可每種顏色逐一依序重複所述步驟來製造硬化皮膜。藉此可獲得彩色濾光片。
後烘烤為用以使硬化完全進行的顯影後的加熱處理，通常於100℃~240℃、較佳為200℃~240℃下進行熱硬化處理。
可使用熱板或對流式烘箱(熱風循環式乾燥機)、高頻加熱機等加熱機構，以成為所述條件的方式以連續式或批次式對顯影後的塗佈膜進行所述後烘烤處理。
<利用乾式蝕刻法來進行圖案形成的情形>
乾式蝕刻可對著色層使用經圖案化的光阻層作為遮罩使用蝕刻氣體來進行。具體而言，於著色層上塗佈正型或負型的感放射線性組成物並使其乾燥，藉此形成光阻層。於光阻層的形成時，較佳為進一步實施預烘烤處理。光阻的形成製程尤其理想的是實施曝光後的加熱處理(曝光後烘烤(Post-Exposure Bake，PEB))、顯影後的加熱處理(後烘烤處理)的形態。
光阻例如可使用正型的感放射線性組成物。該正型的感放射線性組成物可使用感應紫外線(g射線、h射線、i射線)、包 含準分子雷射等的遠紫外線、電子束、離子束及X射線等放射線的適於正型光阻用的正型抗蝕劑組成物。放射線中，較佳為g射線、h射線、i射線，其中較佳為i射線。
具體而言，正型的感放射線性組成物較佳為含有醌二疊氮化合物及鹼可溶性樹脂的組成物。含有醌二疊氮化合物及鹼可溶性樹脂的正型的感放射線性組成物利用以下情況：藉由500nm以下的波長的光照射而醌二疊氮基發生分解產生羧基，結果由鹼不溶狀態變為鹼可溶性。該正型光阻的解析力明顯優異，故可用於製作積體電路(Integrated Circuit，IC)或大規模積體電路(Large Scale Integration，LSI)等積體電路。醌二疊氮化合物可列舉萘醌二疊氮化合物。市售品例如可列舉「FHi622BC」(富士膠片電子材料(Fujifilm Electronic Materials)公司製造)等。
光阻層的厚度較佳為0.1μm~3μm，較佳為0.2μm~2.5μm，進而佳為0.3μm~2μm。再者，光阻層的塗佈可使用上文已述的著色層的塗佈方法來較佳地進行。
繼而，對光阻層進行曝光、顯影，藉此形成設有抗蝕劑貫通孔組群的抗蝕劑圖案(經圖案化的光阻層)。抗蝕劑圖案的形成並無特別限制，可將以前公知的光微影技術適當地最適化來進行。藉由曝光、顯影而於光阻層中設置抗蝕劑貫通孔組群，藉此將作為後續的蝕刻中所用的蝕刻遮罩的抗蝕劑圖案設置於著色層上。
光阻層的曝光可藉由以下方式來進行：介隔既定的遮罩 圖案，對正型或負型的感放射線性組成物利用g射線、h射線、i射線等、較佳為i射線實施曝光。曝光後，藉由利用顯影液進行顯影處理，而與欲形成著色圖案的區域相對應地將光阻去除。
所述顯影液只要對含有著色劑的著色層不造成影響，且將正型抗蝕劑的曝光部及負型抗蝕劑的未硬化部溶解，則均可使用，例如可使用各種有機溶劑的組合或鹼性水溶液。鹼性水溶液較佳為將鹼性化合物以濃度成為0.001質量%~10質量%、較佳為0.01質量%~5質量%的方式溶解而製備的鹼性水溶液。鹼性化合物例如可列舉：氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉，矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯等。另外，於使用鹼性水溶液作為顯影液的情形時，通常於顯影後利用水實施清洗處理。
繼而，將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩，以於著色層中形成貫通孔組群的方式藉由乾式蝕刻進行圖案化。藉此形成著色圖案。貫通孔組群是以棋盤格狀設置於著色層中。因此，於著色層中設有貫通孔組群而成的第1著色圖案以棋盤格狀而具有多個四角形狀的第1著色畫素。
具體而言，乾式蝕刻時，將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩來對著色層進行乾式蝕刻。乾式蝕刻的代表例有日本專利特開昭59-126506號、日本專利特開昭59-46628號、日本專利特開昭58-9108號、日本專利特開昭58-2809號、日本專利特開昭 57-148706號、日本專利特開昭61-41102號等各公報中記載的方法。
就使圖案剖面形成得更接近矩形的觀點或進一步減少對支持體的損傷的觀點而言，乾式蝕刻較佳為按以下形態來進行。
較佳為包括第1階段的蝕刻、第2階段的蝕刻及過蝕刻的形態，所述第1階段的蝕刻使用氟系氣體與氧氣(O2)的混合氣體，進行蝕刻直至支持體不露出的區域(深度)為止，所述第2階段的蝕刻於所述第1階段的蝕刻後，使用氮氣(N2)與氧氣(O2)的混合氣體，進行蝕刻直至較佳為支持體露出的區域(深度)附近為止，所述過蝕刻是於支持體露出後進行。以下，對乾式蝕刻的具體方法以及第1階段的蝕刻、第2階段的蝕刻及過蝕刻加以說明。
乾式蝕刻是藉由下述方法預先求出蝕刻條件來進行。
(1)分別算出第1階段的蝕刻的蝕刻速率(nm/min)、及第2階段的蝕刻的蝕刻速率(nm/min)。(2)分別算出於第1階段的蝕刻中蝕刻所需厚度的時間、及於第2階段的蝕刻中蝕刻所需厚度的時間。(3)依照所述(2)中算出的蝕刻時間來實施第1階段的蝕刻。(4)依照所述(2)中算出的蝕刻時間來實施第2階段的蝕刻。或者，藉由終點(end point)檢測來決定蝕刻時間，根據所決定的蝕刻時間來實施第2階段的蝕刻。(5)針對所述(3)、(4)的合計時間算出過蝕刻時間，實施過蝕刻。
就將作為被蝕刻膜的有機材料加工成矩形的觀點而 言，所述第1階段的蝕刻步驟中所用的混合氣體較佳為含有氟系氣體及氧氣(O2)。另外，第1階段的蝕刻步驟藉由設定為進行蝕刻直至支持體不露出的區域為止的形態，可避免支持體的損傷。另外，就避免支持體的損傷的觀點而言，所述第2階段的蝕刻步驟及所述過蝕刻步驟較佳為於第1階段的蝕刻步驟中藉由氟系氣體及氧氣的混合氣體實施蝕刻直至支持體不露出的區域為止後，使用氮氣及氧氣的混合氣體來進行蝕刻處理。
第1階段的蝕刻步驟中的蝕刻量、與第2階段的蝕刻步驟中的蝕刻量之比率重要的是以不損及由第1階段的蝕刻步驟中的蝕刻處理所得的矩形性的方式來決定。再者，總蝕刻量(第1階段的蝕刻步驟中的蝕刻量與第2階段的蝕刻步驟中的蝕刻量的總和)中的後者的比率較佳為大於0%且為50%以下的範圍，更佳為10%~20%。所謂蝕刻量，是指根據被蝕刻膜的殘存的膜厚與蝕刻前的膜厚之差所算出的量。
另外，蝕刻較佳為包括過蝕刻處理。過蝕刻處理較佳為設定過蝕刻比率來進行。另外，過蝕刻比率較佳為根據最初進行的蝕刻處理時間來算出。過蝕刻比率可任意設定，就維持光阻的耐蝕刻性及被蝕刻圖案的矩形性的方面而言，較佳為蝕刻步驟中的蝕刻處理時間的30%以下，更佳為5%~25%，尤佳為10%~15%。
繼而，將蝕刻後殘存的抗蝕劑圖案(即蝕刻遮罩)去除。抗蝕劑圖案的去除較佳為包括以下步驟：於抗蝕劑圖案上賦予剝離液或溶劑而將抗蝕劑圖案調整為可去除的狀態的步驟；以及使 用清洗水將抗蝕劑圖案去除的步驟。
於抗蝕劑圖案上賦予剝離液或溶劑而將抗蝕劑圖案調整為可去除的狀態的步驟例如可列舉：至少於抗蝕劑圖案上賦予剝離液或溶劑，使之停滯既定的時間而進行浸置顯影的步驟。使剝離液或溶劑停滯的時間並無特別限制，較佳為幾十秒鐘至幾分鐘。
另外，使用清洗水將抗蝕劑圖案去除的步驟例如可列舉：自噴射式或噴淋式的噴射噴嘴對抗蝕劑圖案噴射清洗水，將抗蝕劑圖案去除的步驟。清洗水可較佳地使用純水。另外，噴射噴嘴可列舉：於其噴射範圍內包含整個支持體的噴射噴嘴、或為可動式的噴射噴嘴且其可動範圍包含整個支持體的噴射噴嘴。於噴射噴嘴為可動式的情形時，可於去除抗蝕劑圖案的步驟中自支持體中心部至支持體端部為止移動2次以上來噴射清洗水，藉此更有效地去除抗蝕劑圖案。
剝離液通常含有有機溶劑，亦可更含有無機溶劑。有機溶劑例如可列舉：1)烴系化合物、2)鹵化烴系化合物、3)醇系化合物、4)醚或縮醛系化合物、5)酮或醛系化合物、6)酯系化合物、7)多元醇系化合物、8)羧酸或其酸酐系化合物、9)酚系化合物、10)含氮化合物、11)含硫化合物、12)含氟化合物。剝離液較佳為含有含氮化合物，更佳為含有非環狀含氮化合物及環狀含氮化合物。
非環狀含氮化合物較佳為具有羥基的非環狀含氮化合 物。具體而言，例如可列舉：單異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺、N-乙基乙醇胺、N,N-二丁基乙醇胺、N-丁基乙醇胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等，較佳為單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺，更佳為單乙醇胺(H2NCH2CH2OH)。另外，環狀含氮化合物可列舉：異喹啉、咪唑、N-乙基嗎啉、ε-己內醯胺、喹啉、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮、α-甲基吡啶、β-甲基吡啶、γ-甲基吡啶、2-甲基哌啶、3-甲基哌啶、4-甲基哌啶、哌嗪、哌啶、吡嗪、吡啶、吡咯啶、N-甲基-2-吡咯啶酮、N-苯基嗎啉、2,4-二甲基吡啶、2,6-二甲基吡啶等，較佳為N-甲基-2-吡咯啶酮、N-乙基嗎啉，更佳為N-甲基-2-吡咯啶酮(NMP)。
剝離液較佳為含有非環狀含氮化合物及環狀含氮化合物，其中，更佳為含有作為非環狀含氮化合物的選自單乙醇胺、二乙醇胺及三乙醇胺中的至少一種與作為環狀含氮化合物的選自N-甲基-2-吡咯啶酮及N-乙基嗎啉中的至少一種，進而佳為含有單乙醇胺與N-甲基-2-吡咯啶酮。
於利用剝離液來進行去除時，只要將形成於第1著色圖案12上的抗蝕劑圖案52去除即可，即便於在第1著色圖案12的側壁上附著有作為蝕刻產物的堆積物的情形時，所述堆積物亦可未完全被去除。所謂堆積物，是指蝕刻產物附著堆積於著色層的側壁上而成者。
剝離液理想的是相對於剝離液100質量份而非環狀含氮化合物的含量為9質量份以上、11質量份以下，且相對於剝離液 100質量份而環狀含氮化合物的含量為65質量份以上、70質量份以下。另外，剝離液較佳為利用純水將非環狀含氮化合物與環狀含氮化合物的混合物稀釋而成者。
再者，本發明的製造方法視需要亦可包括作為固體攝像元件用彩色濾光片的製造方法而公知的步驟來作為所述以外的步驟。例如於進行所述著色組成物層形成步驟、曝光步驟及圖案形成步驟後，視需要亦可包括藉由加熱及/或曝光使所形成的著色圖案硬化的硬化步驟。
另外，於使用本發明的著色組成物的情形時，例如有時產生塗佈裝置噴出部的噴嘴或配管部的堵塞或者因著色組成物或顏料於塗佈機內的附著、沈降、乾燥所致的污染等。因此，為了高效地清洗由本發明的著色組成物所致的污染，較佳為將與上文所述的本組成物有關的溶劑用作清洗液。另外，日本專利特開平7-128867號公報、日本專利特開平7-146562號公報、日本專利特開平8-278637號公報、日本專利特開2000-273370號公報、日本專利特開2006-85140號公報、日本專利特開2006-291191號公報、日本專利特開2007-2101號公報、日本專利特開2007-2102號公報、日本專利特開2007-281523號公報等中記載的清洗液亦可較佳地用於本發明的著色組成物的清洗去除。
所述中，較佳為伸烷基二醇單烷基醚羧酸酯及伸烷基二醇單烷基醚。
該些溶劑可單獨使用亦可混合使用兩種以上。於混合兩種以 上的情形時，較佳為將具有羥基的溶劑與不具有羥基的溶劑混合。具有羥基的溶劑與不具有羥基的溶劑之質量比為1/99~99/1，較佳為10/90~90/10，更佳為20/80~80/20。尤佳為丙二醇單甲醚乙酸酯(Propyleneglycol monomethylether acetate，PGMEA)與丙二醇單甲醚(Propyleneglycol monomethylether，PGME)的混合溶劑且其比率為60/40。再者，為了提高清洗液對污染物的滲透性，亦可於清洗液中添加與上文所述的本組成物有關的界面活性劑。
本發明的彩色濾光片因使用本發明的著色組成物，故可進行曝光容限(margin)優異的曝光，且所形成的著色圖案(著色畫素)的圖案形狀優異，圖案表面的粗糙或顯影部的殘渣得到抑制，故顏色特性變優異。
本發明的彩色濾光片可較佳地用於CCD、CMOS等固體攝像元件，特別適於超過100萬畫素般的高解析度的CCD或CMOS等。本發明的固體攝像元件用彩色濾光片例如可用作配置於構成CCD或CMOS的各畫素的受光部、與用以進行聚光的微透鏡(microlens)之間的彩色濾光片。
再者，本發明的彩色濾光片的著色圖案(著色畫素)的膜厚較佳為2.0μm以下，更佳為1.0μm以下，進而佳為0.7μm以下。
另外，著色圖案(著色畫素)的尺寸(圖案寬度)較佳為2.5μm以下，更佳為2.0μm以下，尤佳為1.7μm以下。
<固體攝像元件>
本發明的固體攝像元件具備上文已述的本發明的彩色濾光片。本發明的固體攝像元件的構成為具備本發明的彩色濾光片的構成，只要為作為固體攝像元件而發揮功能的構成，則並無特別限定，例如可列舉如下構成。
所述固體攝像元件為以下構成：於支持體上具有構成固體攝像元件(CCD影像感測器、CMOS影像感測器等)的受光區域的多個光二極體(photodiode)及包含多晶矽等的傳輸電極，於所述光二極體及所述傳輸電極上具有僅光二極體的受光部開口的包含鎢等的遮光膜，於遮光膜上具有以覆蓋遮光膜整個面及光二極體受光部的方式形成的包含氮化矽等的元件保護膜，於所述元件保護膜上具有本發明的固體攝像元件用彩色濾光片。
進而，亦可為於所述元件保護層上且彩色濾光片之下(靠近支持體之側)具有聚光機構(例如微透鏡等。以下相同)的構成、或於彩色濾光片上具有聚光機構的構成等。
<圖像顯示裝置>
本發明的彩色濾光片不僅可用於所述固體攝像元件，而且可用於液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置，特別適於液晶顯示裝置的用途。具備本發明的彩色濾光片的液晶顯示裝置可顯示以下圖像：顯示圖像的色調良好且顯示特性優異的高畫質圖像。
關於顯示裝置的定義或各顯示裝置的詳細情況，例如是記載於「電子顯示器元件(佐佐木昭夫著，工業調查會(股)，1990 年發行)」、「顯示器元件(伊吹順章著，產業圖書(股)，平成元年發行)」等中。另外，關於液晶顯示裝置，例如是記載於「下一代液晶顯示技術(內田龍男編輯，工業調查會(股)，1994年發行)」中。本發明可應用的液晶顯示裝置並無特別限制，例如可應用於所述「下一代液晶顯示技術」中記載的各種方式的液晶顯示裝置。
本發明的彩色濾光片亦可用於彩色薄膜電晶體(Thin Film Transistor，TFT)方式的液晶顯示裝置。關於彩色TFT方式的液晶顯示裝置，例如是記載於「彩色TFT液晶顯示器(共立出版(股)，1996年發行)」中。進而，本發明亦可應用於共面切換(In-Plane Switching，IPS)等橫向電場驅動方式、多象限垂直配向(Multi-domain Vertical Alignment，MVA)等畫素分割方式等視角經擴大的液晶顯示裝置或超扭轉向列(Super Twisted Nematic，STN)、扭轉向列(Twisted Nematic，TN)、垂直配向(Vertical Alignment，VA)、光學補償傾斜(Optically Compensated Splay，OCS)、邊緣場切換(Fringe Field Switching，FFS)及反射光學補償彎曲(Reflective-Optically Compensated Bend，R-OCB)等中。
另外，本發明的彩色濾光片亦可用於明亮且高精細的彩色濾光片陣列(Color-filter On Array，COA)方式。於COA方式的液晶顯示裝置中，對彩色濾光片層的要求特性除了上文所述般的通常的要求特性以外，有時還需要對層間絕緣膜的要求特性、即低介電常數及耐剝離液性。於本發明的彩色濾光片中，因使用色相優異的色素多聚物，故顏色純度、光透射性等良好且著色圖案(畫 素)的色調優異，故可提供一種解析度高且長期耐久性優異的COA方式的液晶顯示裝置。再者，為了滿足低介電常數的要求特性，亦可於彩色濾光片層上設置樹脂被膜。
關於該些圖像顯示方式，例如是記載於「電致發光(Electroluminescence，EL)、電漿顯示面板(Plasma Display Panel，PDP)、液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)顯示器-技術與市場的最新動向-(東麗研究中心(Toray Research Center)調查研究部門，2001年發行)」的43頁等中。
具備本發明的彩色濾光片的液晶顯示裝置除了本發明的彩色濾光片以外，是由電極基板、偏光膜、相位差膜、背光、間隔件(spacer)、視角保障膜等各種構件所構成。本發明的彩色濾光片可應用於由該些公知的構件所構成的液晶顯示裝置中。關於該些構件，例如是記載於「'94液晶顯示器周邊材料-化學品的市場(島健太郎，CMC(股)，1994年發行)」、「2003液晶相關市場的現狀與將來展望(下卷)(表良吉，富士凱美萊總研(股)，2003年發行)」中。
關於背光，是記載於「國際信息顯示學會會議記錄(SID meeting Digest)」(1380(2005))(A.今野(A.Konno)等人)或月刊顯示器的2005年12月號的18頁~24頁(島康裕)及該文獻25頁~30頁(八木隆明)等中。
若將本發明的彩色濾光片用於液晶顯示裝置，則於與以前公知的冷陰極管的三波長管組合時可實現高的對比度，進而藉 由將紅色、綠色、藍色的LED光源(RGB-LED)設定為背光，可提供亮度高、另外顏色純度高的色彩再現性良好的液晶顯示裝置。
[實施例]
以下列舉實施例對本發明加以更具體說明。以下的實施例所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不偏離本發明的主旨，則可適當變更。因此，本發明的範圍不限定於以下所示的具體例。
再者，只要無特別說明，則「%」及「份」為質量基準。
色素多聚物的合成例
下述氧雜蒽1~氧雜蒽4包括在所述色素多聚物的較佳形態(A1)中。下述氧雜蒽5包括在所述色素多聚物的較佳形態(A2)中。下述氧雜蒽6包括在所述色素多聚物的較佳形態(A3)中。下述氧雜蒽7、氧雜蒽8包括在所述色素多聚物的較佳形態(A4)中。
<氧雜蒽1的合成>
使玫瑰紅(Rhodamine)B 20.0g(41.8mmol)溶解於氯仿125g中後，一面利用冰浴進行冷卻一面滴加氧氯化磷9.6g(62.6mmol)。其後，於外溫65℃下加熱3小時間。冷卻至20℃為止後，一面利用冰浴進行冷卻一面添加甲基丙烯酸2-羥基乙酯9.8g(75.2mmol)，添加三乙胺30.8g(304mmol)。將內溫調整為20℃並攪拌3小時後添加氯仿100g，利用水進行分液後，將氯仿層濃縮。將所得的濃縮物添加至甲醇100mL中，添加三氟甲基磺酸四丁基銨鹽16.4g(41.8mmol)。利用乙酸乙酯200mL、水100mL進行分液，將乙酸乙酯層濃縮，由此獲得18.0g的單體X。
於三口燒瓶中添加單體X(8.2g)、甲基丙烯酸(0.46g)、十二烷基硫醇(0.255g)、丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯(以下亦稱為「PGMEA」)(23.3g)，於氮氣環境下加熱至80℃。於該溶液中用5小時滴加單體X(8.2g)、甲基丙烯酸(1.075g)、十二烷基硫醇(0.255g)、2,2'-偶氮雙(異丁酸)二甲酯[商品名：V601，和光純藥工業(股)製造](0.58g)、PGMEA(23.3g)的混合溶液。其後攪拌10小時後，升溫至80℃，加熱攪拌3小時後，放置冷卻而獲得中間體(MD-1)的PGMEA溶液。冷卻後，滴加至甲醇/離子交換水=100mL/10mL的混合溶劑中進行再沈澱。於40℃下進行2天送風乾燥後，獲得色素多聚物(氧雜蒽1)7.5g。
藉由GPC測定所確認的色素多聚物(氧雜蒽1)的重量平均分子量(Mw)為10,700。另外，根據使用0.1N氫氧化鈉水溶液的滴定，酸值為37mgKOH/g。
<氧雜蒽2~氧雜蒽4的合成>
如下述表所記載般變更合成例1中的單體X的抗衡陰離子，除此以外進行相同的操作，合成色素多聚物(氧雜蒽2~氧雜蒽4)。
<氧雜蒽5的合成>
將以下單體(氧雜蒽單體67mol%與甲基丙烯酸33mol%)共聚合而合成氧雜蒽5。
使C.I.酸性紅28927.4g(41.8mmol)溶解於氯仿125g中後，一面利用冰浴進行冷卻一面滴加氧氯化磷9.6g(62.6mmol)。其後，於外溫65℃下攪拌3小時。冷卻至20℃為止後，一面利用冰浴進行冷卻一面添加4-胺基苯乙烯9.0g(75.2mmol)，添加三乙胺30.8g(304mmol)。將內溫調整為20℃並攪 拌3小時後添加氯仿100g，利用水進行分液後，將氯仿層濃縮，由此獲得15.0g的單體Z。再者，此時自水層獲得10.0g的單體Z2。
於三口燒瓶中添加單體Z(8.2g)、甲基丙烯酸(0.46g)、十二烷基硫醇(0.255g)、PGMEA(23.3g)，於氮氣環境下加熱至80℃。於該溶液中用4小時滴加單體Z(8.2g)、甲基丙烯酸(1.075g)、十二烷基硫醇(0.255g)、2,2'-偶氮雙(異丁酸)二甲酯[商品名：V601，和光純藥工業(股)製造](0.58g)、PGMEA(23.3g)的混合溶液。其後攪拌4小時後，升溫至93℃，加熱攪拌2小時後，放置冷卻而獲得中間體(MD-1)的PGMEA溶液。冷卻後，滴加至甲醇/離子交換水=100mL/10mL的混合溶劑中進行再沈澱。於40℃下進行2天送風乾燥後，獲得色素多聚物(氧雜蒽5)7.4g。
藉由GPC測定所確認的色素多聚物(氧雜蒽5)的重量平均分子量(Mw)為10,000。另外，根據使用0.1N氫氧化鈉水溶液的滴定，酸值為38mgKOH/g。
<氧雜蒽6的合成>
氧雜蒽單體Y 60mol%與甲基丙烯酸40mol%
[化50]
將玫瑰紅B 20.0g(41.8mmol)與下述聚合性陰離子的鉀鹽24.3g(41.8mmol)於甲醇200ml中進行鹽交換，添加水1L並利用氯仿500ml進行萃取，加以濃縮，獲得25g的單體Y。
於三口燒瓶中添加單體Y(8.2g)、甲基丙烯酸(0.46g)、十二烷基硫醇(0.255g)、PGMEA(23.3g)，於氮氣環境下加熱至80℃。於該溶液中用5小時滴加單體Y(8.2g)、甲基丙烯酸(1.075g)、十二烷基硫醇(0.255g)、2,2'-偶氮雙(異丁酸)二甲酯[商品名：V601，和光純藥工業(股)製造](0.58g)、PGMEA(23.3g)的混合溶液。其後攪拌5小時後，升溫至93℃，加熱攪拌2小時後，放置冷卻而獲得中間體(MD-1)的PGMEA溶液。冷卻後，滴加至甲醇/離子交換水=100mL/10mL的混合溶劑中進行再沈澱。於40℃下進行2天送風乾燥後，獲得色素多聚物(氧雜蒽6)4.8g。
藉由GPC測定所確認的色素多聚物(氧雜蒽6)的重量平均分子量(Mw)為10,000。
<氧雜蒽7的合成>
將以下單體(氧雜蒽單體Z2(64mol%)與甲基丙烯酸(36mol%))共聚合而合成氧雜蒽7。
於三口燒瓶中添加氧雜蒽5的合成中所得的單體Z2(8.2 g)、甲基丙烯酸(0.46g)、十二烷基硫醇(0.255g)、丙二醇1-單甲醚2-乙酸酯(以下亦稱為「PGMEA」)(23.3g)，於氮氣環境下加熱至80℃。於該溶液中用3小時滴加單體Z2(8.2g)、甲基丙烯酸(1.075g)、十二烷基硫醇(0.255g)、2,2'-偶氮雙(異丁酸)二甲酯[商品名：V601，和光純藥工業(股)製造](0.58g)、PGMEA(23.3g)的混合溶液。其後攪拌4小時後，升溫至90℃，加熱攪拌2小時後，放置冷卻而獲得中間體(MD-1)的PGMEA溶液。冷卻後，滴加至甲醇/離子交換水=100mL/10mL的混合溶劑中進行再沈澱。於40℃下進行2天送風乾燥後，獲得色素多聚物(氧雜蒽7)7.8g。
藉由GPC測定所確認的色素多聚物(氧雜蒽7)的重量平均分子量(Mw)為11,000。另外，根據使用0.1N氫氧化鈉水溶液的滴定，酸值為38mgKOH/g。
<氧雜蒽8的合成>
(以下單體的共聚物)
依照日本專利特開2011-242752號公報的段落0165中記載的造鹽化合物(A-1)的製造方法，獲得色素多聚物(氧雜蒽8)。藉由GPC測定所確認的色素多聚物(氧雜蒽7)的重量平均分子量(Mw)為10,500。
[化53]
著色組成物的製備
藍色顏料分散液的製備
如以下般製備藍色顏料分散液1。
藉由珠磨機(氧化鋯珠，直徑為0.3mm)將包含9.6份的C.I.顏料藍(Pigment Blue)15：6(藍色顏料，平均粒子尺寸為55nm)、及3.2份的作為顏料分散劑的迪斯帕畢克(Disperbyk)111、69.8份的PGMEA及17.4份的環己酮的混合液混合、分散3小時，製備顏料分散液。其後，進而使用帶有減壓機構的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造)於2000kg/cm3的壓力下將流量設定為500g/min來進行分散處理。將該分散處理反覆10次，獲得實施例或比較例的著色組成物中所用的藍色用顏料分散液1(C.I.顏料藍15：6分散液，顏料濃度為12.8質量%)。
實施例0的製備
將下述各成分混合並加以分散、溶解，獲得實施例0的著色組成物。
再者，於製備實施例0之前，進行使用溶劑的蒸餾及使用乾燥劑將系中的甲苯、水分去除，對染料、顏料利用蒸餾水反覆進 行清洗、乾燥，將系中的Na離子、K離子去除。關於其他單體等原材料，於使用前進行純化而去除雜質(甲苯、Na離子、K離子等)後，進行製備。
示出對實施例0的組成物中的以下成分的濃度進行測定所得的結果。含水率是藉由卡爾-費歇爾(Karl Fisher)法依據公知的方法進行測定。具體而言，使用卡爾-費歇爾水分計(三菱化學控股(Mitsubishi Chemical Holdings)公司製造的KF-06)對測定資料的水分量進行測定，以水分量/測定資料的質量×100的形式測定含水率。
含水率：0.005質量%以下
甲苯濃度：0.001ppm以下
Na離子濃度：0.001ppm以下
K離子濃度：0.001ppm以下
於實施例0的組成物中追加水、甲苯、Na離子源(具體而言為NaCl)、K離子源(具體而言為KCl)來製作實施例1~實施例6的樣品。
另外，除了如下述表般變更色素多聚物、硬化性化合物(單體)、光聚合起始劑以外，與實施例0同樣地製作實施例7~實施例95及比較例1~比較例16的組成物。
硬化性化合物(單體(m-2))
硬化性化合物(單體(m-3))
硬化性化合物(單體(m-4))
光聚合起始劑(I-2，巴斯夫(BASF)製造的OXE-02)
光聚合起始劑(I-3，巴斯夫(BASF)製造的豔佳固(Irgacure)907)
<長期經時穩定性(黏度)的評價>
對實施例及比較例中所得的組成物的初期的黏度(Vi)進行測定，於密閉容器中於5℃下經時100天。另外，測定經時後的黏度(Vd)。計算| Vi-Vd |/Vi×100%的值，根據該值進行評價。將結果示於下述表中。
6：黏度變化率為0.5%以下(特別良好)
5：黏度變化率高於0.5%且為3%以下(良好)
4：黏度變化率高於3%且為7%以下(稍良好)
3：黏度變化率高於7%且為8%以下(容許範圍內)
2：黏度變化率高於8%且為12%以下(容許範圍外)
1：黏度變化率高於12%(容許範圍外)
利用著色組成物的彩色濾光片的製作
<圖案形成>
將如上文所述般製備的實施例及比較例的著色組成物分別塗佈於玻璃基板上，形成著色組成物層(塗佈膜)。繼而，以該塗佈膜的乾燥膜厚成為0.6μm的方式，利用90℃的熱板進行120秒鐘的加熱處理(預烘烤)。
<低氧濃度下的長時間耐光性>
於實施例及比較例中所得的成膜品(圖案)上被覆蓋玻片(glass cover)，(成為供氧被阻斷的低氧狀態)使用作為氙氣燈光源的耐光性試驗器的須賀(suga)試驗機(股)製造的SX75F，以10000勒克斯(lux)的照度照射200小時進行耐光性試驗。
藉由大塚電子(股)製造的MCPD-2000來測定照射前後的色 差(△E*ab)，進行評價。將結果示於下述表中。
6：0.5%以下(特別良好)
5：高於0.5%且為1%以下(良好)
4：高於1%且為2%以下(稍良好)
3：高於2%且為3%以下(容許範圍內)
2：高於3%且為5%以下(容許範圍外)
1：高於5%(容許範圍外)
<長期經時後的缺陷評價(異物增加率評價)>
將所述獲得的各感放射線性組成物以塗佈後的膜厚成為0.6μm的方式塗佈於矽晶圓上，其後於熱板上於100℃下加熱2分鐘而獲得著色組成物層。
對形成有著色組成物層的基板使用缺陷評價裝置ComPLUS(應用材料(Applied Materials)公司製造)，對大小為1.0μm以上的異物進行計數。
於著色組成物的剛製備後、及於5℃下冷藏經時1個月後分別實施所述評價，按照下述判定基準來評價異物增加率。
再者，異物增加率是以(於5℃下冷藏1個月後的異物數/剛製備後的異物數)來算出。實用上理想的是判定基準3以上。將結果示於表中。
(判定基準)
6：小於1.1
5：1.1以上且小於1.3
4：1.3以上且小於1.5
3：1.5以上且小於2.0
2：2.0以上且小於3.0
1：3.0以上
<長時間放置評價>
(帶有底塗層的矽晶圓的製作)
使用旋塗機將抗蝕劑CT-4000L溶液(富士膠片電子材料(Fujifilm Electronic Materials)(股)製造；基底透明劑)以膜厚成為0.1μm的方式塗佈於矽晶圓上，於220℃下加熱乾燥1小時而形成底塗層，獲得帶有底塗層的矽晶圓。
(著色圖案的製作)
利用旋塗法將實施例及比較例的著色組成物以塗佈後的膜厚成為0.6μm的方式塗佈於帶有底塗層的矽晶圓上，其後於熱板上於90℃下加熱2分鐘，獲得著色組成物層。
繼而，對所得的著色組成物層使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，介隔遮罩以300mj/cm2來曝光3.0μm的島狀圖案。繼而，對曝光後的著色組成物層使用氫氧化四甲基銨(TMAH)0.3%水溶液，於23℃下進行60秒鐘浸置顯影。其後，藉由旋轉噴淋(spin shower)來進行淋洗，進而以純水進行水洗，獲得著色圖案。
使用測長掃描式電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope，SEM)(商品名：S-7800H，日立製作所(股)製造)對所得的著 色圖案的線寬進行觀察。對放置時間為72小時的情形的一畫素內的線寬的最大值與最小值之差於晶圓內測定任意10點並求出平均值。再者，於放置時間為0小時的情形時，於實施例、比較例中平均值均為<0.02μm。
(判定基準)
6：小於0.02μm(最良好)
5：0.02μm以上且小於0.04μm(良好)
4：0.04μm以上且小於0.06μm(稍良好)
3：0.06μm以上且小於0.10μm(容許範圍內)
2：0.10μm以上且小於0.20μm(容許範圍外)
1：0.20μm以上(容許範圍外(最差))
<長時間耐濕試驗後的缺陷評價(異物增加率評價)>
將實施例及比較例的組成物以塗佈後的膜厚成為0.6μm的方式塗佈於矽晶圓上，於熱板上於100℃下進行2分鐘加熱而獲得著色組成物層。其後，以1000mJ/cm2的曝光量進行全面i射線曝光，於熱板上進行200℃、10分鐘的追加加熱而製成初期樣品。
將對初期樣品於85℃ 85%RH的條件下進行408小時的耐濕所得的樣品作為耐濕試驗後的樣品。
對各樣品使用缺陷評價裝置ComPLUS(應用材料(Applied Materials)公司製造)，對大小為1.0μm以上的異物進行計數。按照下述判定基準來評價異物增加率。
再者，異物增加率是以(耐濕試驗後的樣品的異物數/初期樣 品的異物數)來算出。實用上理想的是判定基準3以上。將結果示於表中。
(判定基準)
6：小於1.1
5：1.1以上且小於1.3
4：1.3以上且小於1.5
3：1.5以上且小於2.0
2：2.0以上且小於3.0
1：3.0以上
<熱循環試驗>
對將實施例及比較例的組成物於以下的溫度條件下保管後的塗佈異物的增加率進行評價。
溫度條件(1)：45℃/24H
溫度條件(2)：23℃/24H
溫度條件(3)：-18℃/24H
以溫度條件(1)、溫度條件(2)及溫度條件(3)的順序反覆3次後對塗佈異物進行評價。
<塗佈異物評價>
將著色組成物以塗佈後的膜厚成為0.6μm的方式塗佈於矽晶圓上，其後於熱板上於90℃下加熱2分鐘而獲得著色組成物層。
對形成有著色組成物層的基板使用缺陷評價裝置ComPLUS(應用材料(Applied Materials)公司製造)，對大小為2.0μm以 上的異物進行計數。
再者，異物增加率是以(熱循環試驗後的異物數/剛製備後的異物數)來算出，並按照以下分類進行評價。
(判定基準)
6：小於1.1(最良好)
5：1.1以上且小於1.3(良好)
4：1.3以上且小於1.5(稍良好)
3：1.5以上且小於2.0(容許範圍內)
2：2.0以上且小於4.0(容許範圍外)
1：4.0以上(容許範圍外)
根據所述表所示的結果得知，藉由著色組成物中的甲苯濃度為0.001ppm~10ppm，即便長時間放置，亦可良好地維持著色圖案的線寬均勻性。
另外得知，藉由著色組成物中的鈉離子濃度及鉀離子濃度的至少一者為0.01ppm~20ppm，於長期放置於低溫度環境下的情形時，不易產生異物。
另外得知，藉由著色組成物中的含水率為0.005ppm~3ppm，即便長期放置於低氧濃度下亦可維持良好的耐光性。
另外得知，於實施例79~實施例86中，長期經時穩定性的評價以外的任一評價結果均良好。

Claims (14)

  1. 一種著色組成物，含有(A)色素多聚物及(B)溶劑，並且(A)色素多聚物具有來源於具有陽離子部位的氧雜蒽色素的部分結構及陰離子部位，著色組成物中的甲苯濃度為0.001ppm~10ppm。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的著色組成物，其中著色組成物中的含水率為0.005ppm~3ppm。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其中著色組成物中的鈉離子濃度及鉀離子濃度的至少一者為0.01ppm~20ppm。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其中所述陰離子部位為低親核性的陰離子部位。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，更含有酞菁顏料。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，更含有光聚合起始劑。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，更含有硬化性化合物。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其為彩色濾光片的著色層形成用。
  9. 一種硬化膜，其是使如申請專利範圍第1項至第8項中任 一項所述的著色組成物硬化而成。
  10. 一種彩色濾光片的製造方法，包括以下步驟：將如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層的步驟；將著色組成物層以圖案狀進行曝光的步驟；以及將未曝光部顯影去除而形成著色圖案的步驟。
  11. 一種彩色濾光片的製造方法，包括以下步驟：將如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層，並使其硬化而形成著色層的步驟；於著色層上形成光阻層的步驟；藉由進行曝光及顯影而將光阻層圖案化，獲得抗蝕劑圖案的步驟；以及將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩來對著色層進行乾式蝕刻的步驟。
  12. 一種彩色濾光片，其為具有如申請專利範圍第9項所述的硬化膜的彩色濾光片、或者藉由如申請專利範圍第10項或第11項所述的彩色濾光片的製造方法所製造的彩色濾光片。
  13. 一種固體攝像元件，具有如申請專利範圍第12項所述的彩色濾光片。
  14. 一種圖像顯示裝置，具有如申請專利範圍第12項所述的彩色濾光片。
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