TW201502213A - 著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件及圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種耐熱性經提高的著色組成物、以及利用著色組成物的硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件及圖像顯示裝置。本發明的著色組成物含有(A)下述通式(I)所表示的色素以及(B)聚合性化合物。通式(I)中，Q表示(m+n)價的連結基，R表示取代基，D表示色素殘基。m表示0~6的整數，n表示2~8的整數，(m+n)表示2~8的整數。於m為2以上的情況下，多個R可彼此不同，於n為2以上的情況下，多個D可彼此不同。 通式(I) (R)m-Q-(D)n

Description

著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的 製造方法、固體攝影元件及圖像顯示裝置
本發明是有關於一種適合於製造液晶顯示元件或固體攝影元件等中使用的彩色濾光片的著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件及圖像顯示裝置。
製造液晶顯示裝置或固體攝影元件等中使用的彩色濾光片的方法之一有顏料分散法，該顏料分散法有如下方法：使用使顏料分散於多種感光性組成物中而得的著色感光性組成物，利用光微影法來製造彩色濾光片(專利文獻1~專利文獻3)。即，使用旋轉塗佈機或輥式塗佈機等，將著色感光性組成物塗佈於基板上，使其乾燥而形成塗佈膜，將該塗佈膜進行圖案曝光且顯影，藉此獲得經著色的畫素。藉由與所需色相的程度對應地重複該操作而製作彩色濾光片。
所述方法由於使用顏料，故而對光或熱穩定，並且由於利用光微影法來進行圖案化，故而充分地確保位置精度，作為適合於製造彩色顯示器用彩色濾光片等的方法而廣泛利用。
另一方面，電荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)等固體攝影元件用彩色濾光片中，近年來期望進一步的高精細化。隨著高精細化，圖案的尺寸存在微細化的傾向，自先前以來廣泛利用的顏料分散法中，認為難以使圖案的尺寸進一步微細化來進一步提高解析度。認為其原因之一為：微細的圖案中，顏料粒子凝聚而形成的粗大粒子成為產生色不均的原因。因此，近年來，迄今為止廣泛使用的顏料分散法成為未必適合於如固體攝影元件之類的要求微細圖案的用途的狀況。
先前，雖使用顏料作為著色劑來製作彩色濾光片，但研究代替顏料而使用染料。於使用染料的情況下，以下所示的方面尤其成為問題。
(1)通常與顏料相比，染料的耐光性、耐熱性差。尤其是因多用作液晶顯示器等的電極的氧化銦錫(Indium Tin Oxide，ITO)的成膜時的高溫步驟，而存在光學特性變化的問題。
(2)染料存在抑制自由基聚合反應的傾向，因此使用自由基聚合作為硬化方法的系統中，難以設計著色感光性組成物。
尤其於製作彩色濾光片時使用光微影法的情況下，以下所示的方面成為問題。
(3)通常的染料由於在鹼水溶液或者有機溶劑(以下亦簡稱為溶劑)中的溶解度低，故而難以獲得具有所需光譜的著色感光性組成物。
(4)染料常常與著色感光性組成物中的其他成分顯示出相互 作用，難以調節曝光部、未曝光部的溶解性(顯影性)。
(5)於染料的莫耳吸光係數(ε)低的情況下，必須添加大量的染料，因此必須相對地減少著色感光性組成物中的聚合性化合物、光聚合起始劑等其他成分，組成物的硬化性、硬化後的耐熱性、顯影性等下降。
由於該些問題，故而迄今為止，難以使用染料，來於高精細彩色濾光片用途中形成微細且構成為薄膜、堅牢性(fastness)亦優異的著色圖案。另外，於固體攝影元件用彩色濾光片的情況下，要求將著色層形成為1μm以下的薄膜。因此，為了獲得所需的吸收，需要於硬化性組成物中添加大量的色素，而成為產生所述問題的結果。
另外指出，包含染料的著色感光性組成物中，於成膜後實施加熱處理的情況下，於鄰接的色相不同的著色圖案間或積層而重疊的層間容易產生色移(color migration)的現象。除了色移以外，還存在以下等問題：由於感度下降而於低曝光量區域容易產生圖案剝離，或者由於有助於光微影性的感光性成分的量相對減少，故而由於過熱(heat sag)或顯影時的溶出等而無法獲得所需的形狀或色濃度。
解決所述問題的方法揭示有藉由將色素進行聚合物化來解決該些問題的方法(例如參照專利文獻4~專利文獻7)。
[現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2005-316012號公報
[專利文獻2]日本專利第3309514號公報(日本專利特開平06-208021號公報)
[專利文獻3]日本專利特開2006-258916號公報
[專利文獻4]日本專利特開2012-32754號公報
[專利文獻5]日本專利特開2007-138051號公報
[專利文獻6]日本專利第3736221號公報(日本專利特開2000-162429號公報)
[專利文獻7]日本專利特開2003-246935號公報
然而，現有技術中，獲得染料聚合物的方法是使僅具有聚合性基的色素進行聚合反應而成，所得染料的分子量或組成容易產生偏差。因此，現有技術會於過度的加熱製程中導致染料分解。
本發明是鑒於所述狀況而形成，目的在於提供一種耐熱性優異的著色組成物、硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件及圖像顯示裝置。
本發明者等人進行了詳細研究，結果發現，藉由含有色素殘基為2個~8個的色素的著色組成物而獲得耐熱性優異的著色組成物，從而完成本發明。
具體而言，藉由下述手段<1>，較佳為藉由<2>~<17>來解決所述課題。
<1>一種著色組成物，其含有(A)下述通式(I)所表示的色素以及(B)聚合性化合物；通式(I)(R)m-Q-(D)n
通式(I)中，Q表示(m+n)價的連結基，R表示取代基，D表示色素殘基，m表示0~6的整數，n表示2~8的整數，(m+n)表示2~8的整數，於m為2以上的情況下，多個R可彼此不同，於n為2以上的情況下，多個D可彼此不同。
<2>如<1>所述的著色組成物，其中通式(1)中的選自連結基Q、取代基R及色素殘基D中的至少一者含有酸基。
<3>如<1>或<2>所述的著色組成物，其中通式(I)中的色素殘基D包含陽離子部位及抗衡陰離子。
<4>如<1>或<2>所述的著色組成物，其中通式(I)中的色素殘基D於分子內具有陽離子部位及陰離子部位。
<5>如<1>~<4>中任一項所述的著色組成物，其中構成通式(I)中的色素殘基D的陽離子部位選自二吡咯亞甲基(dipyrromethene)色素、三芳基甲烷(triarylmethane)色素、氧雜蒽(xanthene)色素、花青(cyanine)色素以及方酸內鎓鹽 (squarylium)色素中。
<6>如<3>所述的著色組成物，其中構成通式(I)中的色素殘基D的抗衡陰離子選自磺酸根陰離子(sulfonic acid anion)、磺醯亞胺陰離子(sulfonylimide anion)、雙(烷基磺醯基)醯亞胺陰離子(bis(alkylsulfonyl)imide anion)、三(烷基磺醯基)甲基化物陰離子(tris(alkylsulfonyl)methide anion)、羧酸根陰離子(carboxylate anion)、四芳基硼酸鹽陰離子(tetraarylborate anion)、BF4 -、PF6 -及SbF6 -中。
<7>如<1>~<6>中任一項所述的著色組成物，其中通式(I)中的取代基R的至少1個為酸基。
<8>如<1>~<7>中任一項所述的著色組成物，其更包含(A)色素以外的(C)顏料。
<9>如<1>~<8>中任一項所述的著色組成物，其更包含(D)光聚合起始劑。
<10>如<9>所述的著色組成物，其中(D)光聚合起始劑為肟化合物。
<11>如<1>~<10>中任一項所述的著色組成物，其用於形成彩色濾光片的著色層。
<12>如<1>~<11>中任一項所述的著色組成物，其中通式(I)所表示的色素為有機溶劑溶解性染料。
<13>如<1>~<12>中任一項所述的著色組成物，其中通式(I)所表示的色素具有聚合性基。
<13-1>如<1>~<12>中任一項所述的著色組成物，其中通式(I)中的取代基R的至少1個為聚合性基。
<14>如<1>~<13>中任一項所述的著色組成物，其中通式(I)所表示的色素的分子量為2000~6000。
<15>一種硬化膜，其是將如<1>~<14>中任一項所述的著色組成物硬化而獲得。
<16>一種彩色濾光片，其是使用如<1>~<14>中任一項所述的著色組成物而成。
<17>一種彩色濾光片的製造方法，其包括：將如<1>~<14>中任一項所述的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層的步驟；將著色組成物層曝光成圖案狀的步驟；以及將未曝光部進行顯影去除而形成著色圖案的步驟。
<18>一種彩色濾光片的製造方法，其包括：將如<1>~<14>中任一項所述的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層，並進行硬化而形成著色層的步驟；於著色層上形成光阻劑層的步驟；藉由進行曝光及顯影，將光阻劑層進行圖案化而獲得抗蝕劑圖案的步驟；以及將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩，對著色層進行乾式蝕刻而形成著色圖案的步驟。
<19>一種固體攝影元件或者圖像顯示裝置，其具有如<16>所述的彩色濾光片、或者利用如<17>或<18>所述的彩色濾光片的製造方法而製造的彩色濾光片。
依據本發明，可提供耐熱性經提高的著色組成物。
另外，依據本發明，可提供利用所述著色組成物的硬化膜、彩色濾光片、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件及圖像顯示裝置。
以下，對本發明的著色組成物、硬化膜、圖案形成方法、彩色濾光片的製造方法、固體攝影元件以及圖像顯示裝置進行詳細說明。
以下記載的本發明的構成要素的說明是基於本發明的代表性實施態樣而形成，但本發明並不限定於此種實施態樣。
本說明書中的基團(原子團)的表述中，未記載經取代及未經取代的表述不僅包含不具有取代基的基團，而且亦包含具有取代基的基團。例如，所謂「烷基」，不僅包含不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，而且亦包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。
另外，本說明書中的所謂「光化射線」或者「放射線」，例如是指水銀燈的明線光譜、準分子雷射所代表的遠紫外線、極紫外線(extreme ultraviolet light，EUV光)、X射線、電子束等。另外，本發明中所謂光，是指光化射線或者放射線。本說明書中的所謂「曝光」，只要無特別說明，則不僅是指利用水銀燈、準分子雷射 所代表的遠紫外線、X射線、EUV光等進行的曝光，而且利用電子束、離子束等粒子束進行的描畫亦包含於曝光中。
本說明書中使用「~」來表示的數值範圍是指包含「~」的前後所記載的數值作為下限值以及上限值的範圍。
本說明書中，所謂總固體成分，是指自著色組成物的全部組成中去除了溶劑的成分的總質量。
另外，本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯此兩者、或者任一者，「(甲基)丙烯酸」表示丙烯酸及甲基丙烯酸此兩者、或者任一者，「(甲基)丙烯醯基」表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基此兩者、或者任一者。
另外，本說明書中，「單量體」與「單體(monomer)」含意相同。本說明書中的單量體區分為寡聚物以及聚合物，是指重量平均分子量為2,000以下的化合物。本說明書中，所謂聚合性化合物，是指具有聚合性官能基的化合物，可為單量體，亦可為聚合物。所謂聚合性官能基，是指參與聚合反應的基團。
本說明書中「步驟」的用語不僅包含獨立的步驟，即便是無法與其他步驟明確區分的情況，只要達成該步驟的所期望的作用，則亦包含於本用語中。
著色組成物
本發明的著色組成物的特徵在於：含有(A)下述通式(1)所表示的色素以及(B)聚合性化合物。
通式(I) (R)m-Q-(D)n
(通式(I)中，Q表示(m+n)價的連結基，R表示取代基，D表示色素殘基；m表示0~6的整數，n表示2~8的整數，(m+n)表示2~8的整數；於m為2以上的情況下，多個R可彼此不同，於n為2以上的情況下，多個D可彼此不同。)
藉由設為所述構成，本發明可解決以下課題。此外，可解決下述全部課題當然並非本發明的著色組成物的必需條件。
第1，能夠提供一種於過度的加熱製程中亦抑制染料的分解(耐熱性賦予)，且抑制向其他圖案的色移的著色組成物。
第2，能夠提供一種於利用光微影法來形成微細的圖案時，亦可形成圖案缺損或圖案的直線性優異的著色圖案的著色組成物。
第3，能夠提供一種於利用乾式蝕刻法來形成圖案時，亦可形成對光致抗蝕劑的顯影液以及剝離液的耐性優異的著色圖案的著色組成物。
第4，提供一種色特性優異的硬化膜以及包括硬化膜的彩色濾光片。
第5，能夠提供可形成色特性優異的著色圖案的圖案形成方法以及彩色濾光片的製造方法。
第6，能夠提供具備色特性優異的彩色濾光片的固體攝影元件以及圖像顯示裝置(液晶顯示裝置或有機電致發光 (electroluminescence，EL)顯示裝置等)。
關於可達成所述課題的作用機制尚未明確，但推定原因之一為：藉由多個色素殘基連結，耐熱性變得良好，且色素殘基的過度凝聚得到抑制，藉此硬化以及顯影液的滲透變得均勻。
另外，(A)色素與現有的色素多聚體(聚合物)的情況不同，分子量的偏差少，因此更容易解決所述課題。此種課題容易在染料中產生，但於使用顏料的情況下，尤其是於使用具有與染料接近的性能的顏料的情況下，本發明亦可較佳地採用。
本發明的著色組成物(以下，有時簡稱為「本發明的組成物」)中，(B)聚合性化合物是根據用途或製造方法來適當選擇。另外，本發明的著色組成物較佳為更包含(A)色素以外的(C)顏料、(D)光聚合起始劑。
例如，於利用光致抗蝕劑來形成著色層的情況下，本發明的著色組成物較佳為包含(A)色素、(B)聚合性化合物、(C)顏料、(D)光聚合起始劑、(F)鹼可溶性樹脂的組成物。
另外，於藉由乾式蝕刻來形成著色層的情況下，較佳為包含本發明的(A)色素、(B)聚合性化合物、(C)顏料以及(D)光聚合起始劑的組成物。進而，亦可包含界面活性劑、溶劑等成分。
該些成分分別可僅包含1種，亦可包含2種以上。以下，對本發明的著色組成物中所含的成分進行詳細說明。
<(A)通式(I)所表示的色素>
本發明的組成物含有下述通式(I)所表示的色素(以下，有 時簡稱為「色素(A)」)的至少1種。
更具體而言，色素(A)是於其分子結構中具有如下部分結構的寡聚物，所述部分結構具有最大吸收波長存在於400nm~780nm的範圍內的色素骨架，且色素(A)包含二聚物至八聚物中的任一種結構。色素(A)於本發明的著色組成物中，例如作為著色劑而發揮功能。
通式(I)(R)m-Q-(D)n
(通式(I)中，Q表示(m+n)價的連結基，R表示取代基，D表示色素殘基；m表示0~6的整數，n表示2~8的整數，(m+n)表示2~8的整數；於m為2以上的情況下，多個R可彼此不同，於n為2以上的情況下，多個D可彼此不同。)
較佳為通式(1)中的選自連結基Q、取代基R及色素殘基D中的至少一者含有酸基。
通式(I)中的Q表示(m+n)價的連結基，較佳為3價~6價的連結基。
通式(I)所表示的色素1分子中的Q所表示的部分的質量較佳為50~2000，更佳為200~1000，尤佳為250~600。
Q所表示的(m+n)價連結基較佳為以下的通式(Q-1)或通式(Q-2)所表示的連結基。
(通式(Q-1)中，R1~R4分別獨立地表示連結基或者取代基；其中，R1~R4的至少2個為連結基。)
R1~R4所表示的取代基較佳為：碳數1~10的烷基(較佳為碳數1~6的烷基，更佳為碳數1~3的烷基)、碳數6~20的芳基(較佳為碳數6~14的芳基，更佳為碳數6~10的芳基)，更佳為碳數1~10的烷基，尤佳為甲基、乙基、丙基。
R1~R4所表示的連結基更佳為：伸烷基(較佳為直鏈或者分支的伸烷基，更佳為-(CH2)n1-(n1較佳為1~3的整數))、-O-、-CO-、-SO2-或者-NRa-(其中，Ra是碳原子數為1~5的烷基或者氫原子)、以及包含該些基團中的2個以上的組合的基團，更佳為包含伸烷基、-O-、-CO-及-NRa-中的2個以上的組合的基團。
R1~R4所表示的連結基較佳為將R或D與中心的C連接的原子的數量分別為1~15，更佳為分別為1~10。例如，於連結基為-CH2-CH2-C(=O)-O-CH2-的情況下，將R或D與中心的C連接的原子的數量為5。
通式(Q-2)
(通式(Q-2)中，A1~A4分別獨立地表示碳原子或者氮原子；R11~R16分別獨立地表示氫原子、=O或者連結基；虛線表示單鍵或者雙鍵。)
通式(Q-2)中的包含A1~A4的6員環可列舉脂肪族環、雜環、苯環，較佳為雜環、苯環。
R11~R16所表示的連結基與通式(Q-1)中的R1~R4所表示的連結基含意相同，較佳範圍亦相同。
以下示出Q所表示的(m+n)價連結基的具體例。但本發明並不限定於該些顏料。
[化3]
[化5]
該些連結基中，較佳為(1)、(7)、(10)、(13)~(16)、(18)、(20)、(22)。
通式(I)中的R分別獨立地表示取代基，於m為2以上的情況下，多個R可彼此不同。
由R表示的取代基例如可列舉：鹵素原子、烷基、環烷基、烯基、環烯基、炔基、芳基、雜環基、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、矽烷氧基、雜環氧基、醯基氧基、胺甲醯基氧基、胺基(包含烷基胺基、苯胺基)、醯基胺基、胺基羰基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、胺磺醯基胺基、烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基、巰基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、胺磺醯基、磺基、烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基、醯基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、胺甲醯基、芳基或雜環偶氮基、醯亞胺基、膦基(phosphino)、氧膦基(phosphinyl)、 氧膦基氧基、氧膦基胺基、矽烷基等。以下進行詳細說明。
可列舉：鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、直鏈或分支的烷基(直鏈或分支的經取代或未經取代的烷基，較佳為碳數1~30的烷基，例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、第三丁基、正辛基、2-氯乙基、2-氰基乙基、2-乙基己基)、環烷基(較佳為碳數3~30的經取代或未經取代的環烷基，例如可列舉環己基、環戊基，多環烷基，例如雙環烷基(較佳為碳數5~30的經取代或未經取代的雙環烷基，例如雙環[1,2,2]庚烷-2-基、雙環[2,2,2]辛烷-3-基)或三環烷基等多環結構的基團；較佳為單環的環烷基、雙環烷基，特佳為單環的環烷基)、直鏈或分支的烯基(直鏈或分支的經取代或未經取代的烯基，較佳為碳數2~30的烯基，例如乙烯基、烯丙基、戊烯基、香葉草基(geranyl)、油基)、環烯基(較佳為碳數3~30的經取代或未經取代的環烯基，例如可列舉2-環戊烯-1-基、2-環己烯-1-基，多環烯基，例如雙環烯基(較佳為碳數5~30的經取代或未經取代的雙環烯基，例如雙環[2,2,1]庚-2-烯-1-基、雙環[2,2,2]辛-2-烯-4-基)或三環烯基，特佳為單環的環烯基)、炔基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的炔基，例如乙炔基、炔丙基、三甲基矽烷基乙炔基)、芳基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳基，例如苯基、對甲苯基、萘基、間氯苯基、鄰十六醯基胺基苯基)、雜環基(較佳為5員~7員的經取代或未經取代的飽和或不飽和芳 香族或非芳香族的單環或縮環的雜環基，更佳為環構成原子選自碳原子、氮原子及硫原子中，且具有至少一個氮原子、氧原子及硫原子的任一雜原子的雜環基，尤佳為碳數3~30的5員或6員的芳香族雜環基；例如2-呋喃基、2-噻吩基、2-吡啶基、4-吡啶基、2-嘧啶基、2-苯并噻唑基)、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、異丙氧基、第三丁氧基、正辛氧基、2-甲氧基乙氧基)、芳氧基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳氧基，例如苯氧基、2-甲基苯氧基、2,4-二-第三戊基苯氧基、4-第三丁基苯氧基、3-硝基苯氧基、2-十四醯基胺基苯氧基)、矽烷氧基(較佳為碳數3~20的矽烷氧基，例如三甲基矽烷氧基、第三丁基二甲基矽烷氧基)、雜環氧基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的雜環氧基，雜環部較佳為所述雜環基中所說明的雜環部，例如1-苯基四唑-5-氧基、2-四氫吡喃基氧基)、醯基氧基(較佳為甲醯基氧基、碳數2~30的經取代或未經取代的烷基羰基氧基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基羰基氧基，例如甲醯基氧基、乙醯基氧基、三甲基乙醯基氧基、硬脂醯基氧基、苯甲醯基氧基、對甲氧基苯基羰基氧基)、胺甲醯基氧基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的胺甲醯基氧基，例如N,N-二甲基胺甲醯基氧基、N,N-二乙基胺甲醯基氧基、嗎啉基羰基氧基、N,N-二-正辛基胺基羰基氧基、N-正辛基胺甲醯基氧基)、烷氧基羰基氧基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的 烷氧基羰基氧基，例如甲氧基羰基氧基、乙氧基羰基氧基、第三丁氧基羰基氧基、正辛基羰基氧基)、芳氧基羰基氧基(較佳為碳數7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰基氧基，例如苯氧基羰基氧基、對甲氧基苯氧基羰基氧基、對正十六烷氧基苯氧基羰基氧基)、胺基(較佳為胺基、碳數1~30的經取代或未經取代的烷基胺基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基胺基、碳數0~30的雜環胺基，例如胺基、甲基胺基、二甲基胺基、苯胺基、N-甲基-苯胺基、二苯基胺基、N-1,3,5-三嗪-2-基胺基)、醯基胺基(較佳為甲醯基胺基、碳數1~30的經取代或未經取代的烷基羰基胺基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基羰基胺基，例如甲醯基胺基、乙醯基胺基、三甲基乙醯基胺基、月桂醯基胺基、苯甲醯基胺基、3,4,5-三-正辛氧基苯基羰基胺基)、胺基羰基胺基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的胺基羰基胺基，例如胺甲醯基胺基、N,N-二甲基胺基羰基胺基、N,N-二乙基胺基羰基胺基、嗎啉基羰基胺基)、烷氧基羰基胺基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的烷氧基羰基胺基，例如甲氧基羰基胺基、乙氧基羰基胺基、第三丁氧基羰基胺基、正十八烷氧基羰基胺基、N-甲基-甲氧基羰基胺基)、芳氧基羰基胺基(較佳為碳數7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰基胺基，例如苯氧基羰基胺基、對氯苯氧基羰基胺基、間正辛氧基苯氧基羰基胺基)、胺磺醯基胺基(較佳為碳數0 ~30的經取代或未經取代的胺磺醯基胺基，例如胺磺醯基胺基、N,N-二甲基胺基磺醯基胺基、N-正辛基胺基磺醯基胺基)、烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷基磺醯基胺基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基磺醯基胺基，例如甲基磺醯基胺基、丁基磺醯基胺基、苯基磺醯基胺基、2,3,5-三氯苯基磺醯基胺基、對甲基苯基磺醯基胺基)、巰基、烷硫基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷硫基，例如甲硫基、乙硫基、正十六烷硫基)、芳硫基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳硫基，例如苯硫基、對氯苯硫基、間甲氧基苯硫基)、雜環硫基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的雜環硫基，雜環部較佳為所述雜環基中所說明的雜環部，例如2-苯并噻唑基硫基、1-苯基四唑-5-基硫基)、胺磺醯基(較佳為碳數0~30的經取代或未經取代的胺磺醯基，例如N-乙基胺磺醯基、N-(3-十二烷氧基丙基)胺磺醯基、N,N-二甲基胺磺醯基、N-乙醯基胺磺醯基、N-苯甲醯基胺磺醯基、N-(N'-苯基胺甲醯基)胺磺醯基)、磺基、烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷基亞磺醯基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基亞磺醯基，例如甲基亞磺醯基、乙基亞磺醯基、苯基亞磺醯基、對甲基苯基亞磺醯基)、烷基磺醯基或芳基磺醯基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷基磺醯基、碳數6~30的 經取代或未經取代的芳基磺醯基，例如甲基磺醯基、乙基磺醯基、苯基磺醯基、對甲基苯基磺醯基)、醯基(較佳為甲醯基、碳數2~30的經取代或未經取代的烷基羰基、碳數7~30的經取代或未經取代的芳基羰基，例如乙醯基、三甲基乙醯基、2-氯乙醯基、硬脂醯基、苯甲醯基、對正辛氧基苯基羰基)、芳氧基羰基(較佳為碳數7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰基，例如苯氧基羰基、鄰氯苯氧基羰基、間硝基苯氧基羰基、對第三丁基苯氧基羰基)、烷氧基羰基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的烷氧基羰基，例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、第三丁氧基羰基、正十八烷氧基羰基)、胺甲醯基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的胺甲醯基，例如胺甲醯基、N-甲基胺甲醯基、N,N-二甲基胺甲醯基、N,N-二-正辛基胺甲醯基、N-(甲基磺醯基)胺甲醯基)、芳基或雜環偶氮基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳基偶氮基、碳數3~30的經取代或未經取代的雜環偶氮基(雜環部較佳為所述雜環基中所說明的雜環部)，例如苯基偶氮、對氯苯基偶氮、5-乙硫基-1,3,4-噻二唑-2-基偶氮)、醯亞胺基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的醯亞胺基，例如N-丁二醯亞胺、N-鄰苯二甲醯亞胺)、膦基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的膦基，例如二甲基膦基、二苯基膦基、甲基苯氧基膦基)、氧膦基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的氧膦基，例如氧膦基、二辛氧基氧膦基、二乙氧基氧膦基)、 氧膦基氧基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的氧膦基氧基，例如二苯氧基氧膦基氧基、二辛氧基氧膦基氧基)、氧膦基胺基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的氧膦基胺基，例如二甲氧基氧膦基胺基、二甲基胺基氧膦基胺基)、矽烷基(較佳為碳數3~30的經取代或未經取代的矽烷基，例如三甲基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、苯基二甲基矽烷基)、膦醯基(例如PO3H2)。
所述官能基中，具有氫原子的官能基中的氫原子的部分可經所述任一種基團所取代。可作為取代基而導入的官能基的例子可列舉：烷基羰基胺基磺醯基、芳基羰基胺基磺醯基、烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基，具體而言可列舉：甲基磺醯基胺基羰基、對甲基苯基磺醯基胺基羰基、乙醯基胺基磺醯基、苯甲醯基胺基磺醯基。
另外，R分別較佳為酸基或者聚合性基。
聚合性基可使用可藉由自由基、酸、熱而進行交聯的公知聚合性基，例如可列舉：包含乙烯性不飽和鍵的基團、環狀醚基(環氧基、氧雜環丁烷基)、羥甲基等，特佳為包含乙烯性不飽和鍵的基團，尤佳為(甲基)丙烯醯基，特佳為由(甲基)丙烯酸縮水甘油酯以及(甲基)丙烯酸3,4-環氧基-環己基甲酯而來的(甲基)丙烯醯基。
本發明中，通式(I)所表示的色素中，作為聚合性基的R較佳為1個或者2個，更佳為1個。藉由將聚合性基的數量設為所述範圍，可有效地抑制褪色。尤其於分子內包含具有陽離子部位 及陰離子部位的色素殘基的情況下，所述效果得到顯著發揮。
酸基較佳為羧基、磺基、磷酸基，尤佳為羧基。
本發明中，通式(I)所表示的色素中，作為酸基的R較佳為1個~3個，更佳為1個或2個。藉由將酸基的數量設為所述範圍，則存在顯影性進一步提高的傾向。尤其於分子內包含具有陽離子部位及陰離子部位的色素殘基的情況下，所述效果得到顯著發揮。
m表示0~6的整數，較佳為1~4的整數，更佳為1~3的整數。
n表示2~8的整數，較佳為2~6的整數，更佳為2~5的整數。
m+n表示2~8的整數，較佳為2~7的整數，更佳為3~6的整數。
通式(I)中，D分別表示色素殘基。色素殘基(以下，亦稱為「色素結構」)只要是最大吸收波長存在於400nm~780nm的範圍內的基團，則並無特別限制，但色素殘基較佳為包括陽離子部位及抗衡陰離子的色素殘基、或者於分子內具有陽離子部位及陰離子部位的色素殘基。
<<由色素而來的部分結構>>
色素(A)中的色素殘基D只要是最大吸收波長存在於400nm~780nm的範圍內的基團，則並無特別限制，可應用包含公知的色素結構的多種基團。公知的色素結構例如可列舉由選自以下色素中的色素而來的色素結構：二吡咯亞甲基色素、碳鎓(carbonium) 色素(二苯基甲烷色素、三芳基甲烷色素、氧雜蒽色素、吖啶(acridine)色素等)、聚次甲基(polymethine)色素(氧雜菁(oxonol)色素、部花青(merocyanine)色素、亞芳基(arylidene)色素、苯乙烯基(styryl)色素、花青(cyanine)色素、方酸內鎓鹽(squarylium)色素、克酮酸(croconium)色素等)、亞酞菁(subphthalocyanine)色素、以及該些的金屬錯合物色素。另外，本發明中使用色素殘基可於色素殘基內具有陽離子部位及陰離子部位，亦可包括陽離子部位及抗衡陰離子。本發明中，色素殘基較佳為包括陽離子部位及抗衡陰離子。藉由色素殘基包括陽離子部位及抗衡陰離子，可進一步降低450nm下的透過率，且可進一步提高550nm下的透過率。
該些色素結構中，就色特性的觀點而言，較佳為由選自二吡咯亞甲基色素、碳鎓色素、以及聚次甲基色素中的色素而來的色素結構，更佳為由選自三芳基甲烷色素、氧雜蒽色素、花青色素、方酸內鎓鹽色素、喹啉黃(quinophthalone)色素、酞菁色素、以及亞酞菁色素中的色素而來的色素結構，尤佳為由選自二吡咯亞甲基色素、三芳基甲烷色素、氧雜蒽色素、花青色素以及方酸內鎓鹽色素中的色素而來的色素結構，最佳為由選自氧雜蒽色素中的色素而來的色素結構。
可形成色素結構的具體色素化合物記載於「新版染料便覽」(有機合成化學協會編；丸善，1970)、「染料索引(colour index)」(染色家協會(The Society of Dyers and colourists))、「色素手冊」 (大河原他編；講談社，1986)等中。
色素(A)中的通式(I)中的D中，對可形成由色素而來的部分結構的特佳色素(色素化合物)進行詳細說明。
<<<二吡咯亞甲基色素>>>
本發明的色素(A)中的通式(I)中的D的態樣之一為具有由下述所示的二吡咯亞甲基色素而來的部分結構作為色素部位的部分結構的色素。
本發明的二吡咯亞甲基色素較佳為二吡咯亞甲基化合物、以及由二吡咯亞甲基化合物及金屬或金屬化合物而獲得的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物。
此外，本發明中，將包含二吡咯亞甲基結構的化合物稱為二吡咯亞甲基化合物，將於包含二吡咯亞甲基結構的化合物中配位有金屬或金屬化合物的錯合物稱為二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物。
二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物較佳為由下述通式(M)所表示的二吡咯亞甲基化合物及金屬或金屬化合物而獲得的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物以及其互變異構物，其中，較佳態樣可列舉：下述通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物、或者下述通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物，最佳為通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物。
由通式(M)所表示的二吡咯亞甲基化合物及金屬或金屬化合物而獲得的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物、以及其互變異 構物
色素(A)中的通式(I)中的D的較佳態樣之一是包含使下述通式(M)所表示的化合物(二吡咯亞甲基化合物)或者其互變異構物配位於金屬或金屬化合物中而成的錯合物(以下適當稱為「特定錯合物」)作為色素部位的色素結構。
通式(M)中，R4~R10分別獨立地表示氫原子或者一價取代基。其中，R4與R9不會相互鍵結而形成環。
於將通式(M)所表示的化合物導入至通式(I)中的Q中的情況下的導入部位並無特別限制，就合成適合性的方面而言，較佳為導入至R4~R9的任一部位，更佳為導入至R4、R6、R7及R9的任一者中，尤佳為導入至R4及R9的任一者中。
於通式(M)中的R4~R9表示一價取代基的情況下的一價取代基可列舉後述取代基組群A的項中所列舉的取代基。
於通式(M)中的R4~R9所表示的一價取代基為可進一步取代的基團的情況下，可進而具有R4~R9中所說明的取代基，於具有2個以上取代基的情況下，該些取代基可相同亦可不同。
通式(M)中的R4與R5、R5與R6、R7與R8、以及R8與R9可分別獨立地相互鍵結而形成5員、6員或7員的飽和環或不飽和環。其中，R4與R9不會相互鍵結而形成環。於所形成的5員、6員及7員的環為可進一步取代的基團的情況下，可經R4~R9中所說明的取代基來取代，於經2個以上取代基所取代的情況下，該些取代基可相同亦可不同。
於通式(M)中的R4與R5、R5與R6、R7與R8、以及R8與R9分別獨立地相互鍵結而形成不具有取代基的5員、6員或7員的飽和環或不飽和環的情況下，不具有取代基的5員、6員或7員的飽和環或不飽和環例如可列舉：吡咯環、呋喃環、噻吩環、吡唑環、咪唑環、三唑環、噁唑環、噻唑環、吡咯啶環、哌啶環、環戊烯環、環己烯環、苯環、吡啶環、吡嗪環、以及噠嗪環，較佳為可列舉苯環或者吡啶環。
通式(M)中的R10較佳為表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基。鹵素原子、烷基、芳基、以及雜環基與後述取代基組群A的項中所說明的鹵素原子、烷基、芳基、以及雜環基分別為相同含意，其較佳範圍亦相同。
於R10表示烷基、芳基或雜環基時的烷基、芳基及雜環基為可進一步取代的基團的情況下，可經後述取代基組群A的項中所說明的取代基來取代，於經2個以上取代基所取代的情況下，該些取代基可相同亦可不同。
金屬或金屬化合物
本發明的特定錯合物是已述的通式(M)所表示的二吡咯亞甲基化合物或者其互變異構物配位於金屬或金屬化合物中而成的錯合物。
此處，金屬或金屬化合物只要是可形成錯合物的金屬或金屬化合物，則可為任一種，包含二價金屬原子、二價金屬氧化物、二價金屬氫氧化物、或者二價金屬氯化物。作為金屬或金屬化合物，例如除了Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等金屬以外，亦包含AlCl、InCl、FeCl、TiCl2、SnCl2、SiCl2、GeCl2等金屬氯化物，TiO、VO等金屬氧化物，Si(OH)2等金屬氫氧化物。
該些物質中，就錯合物的穩定性、分光特性、耐熱、耐光性、以及製造適應性等觀點而言，較佳為Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO或VO，尤佳為Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co或VO，特佳為Zn。
接著，對通式(M)所表示的化合物即本發明的特定錯合物的尤佳範圍進行說明。
本發明的特定錯合物的較佳範圍為如下範圍：通式(M)中，R4及R9分別獨立地為氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、矽烷基、羥基、氰基、烷氧基、芳氧基、雜環氧基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、胺基、苯胺基、雜環胺基、碳醯胺(carbonamide)基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、磺醯胺基、偶氮基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、烷基磺醯基、芳基 磺醯基、或者亞膦醯基胺基；R5及R8分別獨立地為氫原子、鹵素原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、羥基、氰基、硝基、烷氧基、芳氧基、雜環氧基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、磺醯胺基、偶氮基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、或者胺磺醯基；R6及R7分別獨立地為氫原子、鹵素原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、矽烷基、羥基、氰基、烷氧基、芳氧基、雜環氧基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、苯胺基、碳醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、磺醯胺基、偶氮基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、胺磺醯基、或者亞膦醯基胺基；R10為氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基；金屬或金屬化合物為Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO或V=O。
本發明的特定錯合物的更佳範圍為如下範圍：通式(M)中，R4及R9分別獨立地為氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、氰基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、胺基、雜環胺基、碳醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、磺醯胺基、偶氮基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、或者亞膦醯基胺基；R5及R8分別獨立地為烷基、烯基、芳基、雜環基、氰基、硝基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、醯亞胺基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、或者胺磺醯基；R6及R7分別獨立地為氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、氰基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、碳醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、磺醯胺基、 烷硫基、芳硫基、雜環硫基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、或者胺磺醯基；R10為氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基；金屬或金屬化合物為Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co或V=O。
本發明的特定錯合物的特佳範圍為如下範圍：通式(M)中，R4及R9分別獨立地為氫原子、烷基、芳基、雜環基、胺基、雜環胺基、碳醯胺基、脲基、醯亞胺基、烷氧基羰基胺基、磺醯胺基、偶氮基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、或者亞膦醯基胺基；R5及R8分別獨立地為烷基、芳基、雜環基、氰基、醯基、烷氧基羰基、胺甲醯基、烷基磺醯基、或者芳基磺醯基；R6及R7分別獨立地為氫原子、烷基、芳基或雜環基；R10為氫原子、烷基、芳基或雜環基；金屬或金屬化合物為Zn、Cu、Co或V=O。
進而，以下所詳細說明的通式(7)或通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物亦為二吡咯亞甲基色素的特佳態樣。
通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物
色素(A)中的通式(I)中的D的較佳態樣之一為由下述通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物而來的色素結構。
[化7]
通式(7)中，R4~R9分別獨立地表示氫原子或一價取代基，R10表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基。Ma表示金屬原子、或金屬化合物。X1表示可與Ma鍵結的基團，X2表示將Ma的電荷中和的基團，X1與X2可相互鍵結而與Ma一起形成5員、6員或7員的環。其中，R4與R9不會相互鍵結而形成環。
此外，通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物包含互變異構物。
於將通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物導入至通式(I)中的Q中的情況下的導入部位並無特別限制，就合成適合性的方面而言，較佳為導入至R4~R9的任一部位，更佳為導入至R4、R6、R7及R9的任一者中，尤佳為導入至R4及R9的任一者中。
於色素(A)具有鹼可溶性基的情況下，導入鹼可溶性基的方法可使用如下方法：使通式(7)中的R4~R10、X1及X2的任一個或2個以上的取代基中具有鹼可溶性基。該些取代基中，較佳為R4~R9及X1的任一者，更佳為R4、R6、R7及R9的任一者，尤佳為R4及R9的任一者。
只要不損及本發明的效果，通式(7)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物可具有鹼可溶性基以外的官能基。
通式(7)中的R4~R9與通式(M)中的R4~R9含意相同，較佳態樣亦相同。
通式(7)中，Ma表示金屬原子或金屬化合物。金屬原子或金屬化合物只要是可形成錯合物的金屬原子或金屬化合物，則可為任一種，包含二價金屬原子、二價金屬氧化物、二價金屬氫氧化物、或者二價金屬氯化物。
例如包含：Zn、Mg、Si、Sn、Rh、Pt、Pd、Mo、Mn、Pb、Cu、Ni、Co、Fe等，以及AlCl、InCl、FeCl、TiCl2、SnCl2、SiCl2、GeCl2等金屬氯化物，TiO、V=O等金屬氧化物，Si(OH)2等金屬氫氧化物。
該些物質中，就錯合物的穩定性、分光特性、耐熱、耐光性、以及製造適應性等觀點而言，金屬原子或金屬化合物較佳為Fe、Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Mo、Mn、Cu、Ni、Co、TiO及V=O，尤佳為Zn、Mg、Si、Pt、Pd、Cu、Ni、Co及V=O，特佳為Zn、Co、V=O及Cu，最佳為Zn。
另外，通式(7)中，R10表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基，較佳為氫原子。
通式(7)中，X1只要是可與Ma鍵結的基團，則可為任一種，具體而言可列舉水、醇類(例如甲醇、乙醇、丙醇)等，進而可列舉「金屬螯合物」([1]阪口武一、上野景平著(1995年， 南江堂)、[2](1996年)、[3](1997年)等)中記載的化合物。其中，就製造的方面而言，較佳為水、羧酸化合物、醇類，更佳為水、羧酸化合物。
通式(7)中，X2所表示的「將Ma的電荷中和的基團」例如可列舉鹵素原子、羥基、羧酸基、磷酸基、磺酸基等，其中，就製造的方面而言，較佳為鹵素原子、羥基、羧酸基、磺酸基，更佳為羥基、羧酸基。
通式(7)中，X1與X2可相互鍵結而與Ma一起形成5員、6員或7員的環。所形成的5員、6員及7員的環可為飽和環，亦可為不飽和環。另外，5員、6員及7員的環可僅由碳原子構成，亦可形成具有選自氮原子、氧原子或/及硫原子中的至少1個原子的雜環。
作為通式(7)所表示的化合物的較佳態樣，R4~R9分別獨立地為R4~R9的說明中所記載的較佳態樣，R10為R10的說明中所記載的較佳態樣，Ma為Zn、Cu、Co或V=O，X1為水、或者羧酸化合物，X2為羥基、或者羧酸基，X1與X2可相互鍵結而形成5員或6員環。
色素(A)中的通式(I)中的D的較佳態樣之一為由下述通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物而來的色素結構。
[化8]
通式(8)中，R11及R16分別獨立地表示烷基、烯基、芳基、雜環基、烷氧基、芳氧基、烷基胺基、芳基胺基、或者雜環胺基。R12~R15分別獨立地表示氫原子或取代基。R17表示氫原子、鹵素原子、烷基、芳基或雜環基。Ma表示金屬原子、或金屬化合物。X2及X3分別獨立地表示NR(R表示氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、醯基、烷基磺醯基、或者芳基磺醯基)、氮原子、氧原子或硫原子。Y1及Y2分別獨立地表示NRc(Rc表示氫原子、烷基、烯基、芳基、雜環基、醯基、烷基磺醯基、或者芳基磺醯基)、氮原子或者碳原子。R11與Y1可相互鍵結而形成5員、6員或7員的環，R16與Y2可相互鍵結而形成5員、6員或7員的環。X1表示可與Ma鍵結的基團，a表示0、1或2。
此外，通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物包含互變異構物。
只要不損及本發明的效果，則將通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物導入至通式(I)中的Q中的部位並無特別限定，較佳為R11~R17、X1，Y1~Y2的任一者。該些部位中，就合成適合性的方面而言，較佳為導入至R11~R16及X1的任一者 中，更佳為插入至R11、R13、R14及R16的任一者中的態樣，尤佳為插入至R11及R16的任一者中的態樣。
於色素(A)具有鹼可溶性基的情況下，導入鹼可溶性基的方法可使用如下方法：於使用具有鹼可溶性基的色素單量體或者結構單元的情況下，使通式(8)中的R11~R17、X1、Y1~Y2的任一者或者2個以上的取代基中具有鹼可溶性基。該些取代基中，較佳為R11~R16及X1的任一者，更佳為R11、R13、R14及R16的任一者，尤佳為R11及R16的任一者。
只要不損及本發明的效果，則通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物亦可具有鹼可溶性基以外的官能基。
通式(8)中，R12~R15與通式(M)中的R5~R8含意相同，較佳態樣亦相同。R17與通式(M)中的R10含意相同，較佳態樣亦相同。Ma與通式(7)中的Ma含意相同，較佳範圍亦相同。
更詳細而言，通式(8)中的R12~R15中，R12及R15較佳為：烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、腈基、醯亞胺基、或者胺甲醯基磺醯基，更佳為：烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、烷基磺醯基、腈基、醯亞胺基、胺甲醯基磺醯基，尤佳為：烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基、腈基、醯亞胺基、胺甲醯基磺醯基，特佳為烷氧基羰基、芳氧基羰基、胺甲醯基。
R13及R14較佳為經取代或未經取代的烷基、經取代或未經取代的芳基、經取代或未經取代的雜環基，尤佳為經取代或未經取 代的烷基、經取代或未經取代的芳基。此處，更佳的烷基、芳基、以及雜環基的具體例可同樣地列舉通式(M)的R6及R7中列出的具體例。
通式(8)中，R11及R16表示：烷基(較佳為碳數1~36、更佳為碳數1~12的直鏈、分支鏈或環狀的烷基，例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、環丙基、環戊基、環己基、1-金剛烷基)、烯基(較佳為碳數2~24、更佳為碳數2~12的烯基，例如乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(較佳為碳數6~36、更佳為碳數6~18的芳基，例如苯基、萘基)、雜環基(較佳為碳數1~24、更佳為碳數1~12的雜環基，例如2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、2-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑-1-基)、烷氧基(較佳為碳數1~36、更佳為碳數1~18的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、丙基氧基、丁氧基、己氧基、2-乙基己氧基、十二烷氧基、環己氧基)、芳氧基(較佳為碳數6~24、更佳為碳數1~18的芳氧基，例如苯氧基、萘氧基)、烷基胺基(較佳為碳數1~36、更佳為碳數1~18的烷基胺基，例如甲基胺基、乙基胺基、丙基胺基、丁基胺基、己基胺基、2-乙基己基胺基、異丙基胺基、第三丁基胺基、第三辛基胺基、環己基胺基、N,N-二乙基胺基、N,N-二丙基胺基、N,N-二丁基胺基、N-甲基-N-乙基胺基)、芳基胺基(較佳為碳數6~36、更佳為碳數6~18的芳基胺基，例如苯基胺基、萘基胺基、N,N-二苯基胺基、N-乙基-N-苯基胺基)、或 者雜環胺基(較佳為碳數1~24、更佳為碳數1~12的雜環胺基，例如2-胺基吡咯基、3-胺基吡唑基、2-胺基吡啶基、3-胺基吡啶基)。
所述基團中，R11及R16較佳為烷基、烯基、芳基、雜環基、烷基胺基、芳基胺基、雜環胺基，更佳為烷基、烯基、芳基、雜環基，尤佳為烷基、烯基、芳基，特佳為烷基。
通式(8)中，於R11及R16所表示的烷基、烯基、芳基、雜環基、烷氧基、芳氧基、烷基胺基、芳基胺基、或者雜環胺基為可進一步取代的基團的情況下，可經後述取代基組群A的項中所說明的取代基來取代，於經2個以上取代基所取代的情況下，該些取代基可相同亦可不同。
通式(8)中，X2及X3分別獨立地表示NR、氮原子、氧原子或硫原子。此處，R表示：氫原子、烷基(較佳為碳數1~36、更佳為碳數1~12的直鏈、分支鏈或環狀的烷基，例如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、己基、2-乙基己基、十二烷基、環丙基、環戊基、環己基、1-金剛烷基)、烯基(較佳為碳數2~24、更佳為碳數2~12的烯基，例如乙烯基、烯丙基、3-丁烯-1-基)、芳基(較佳為碳數6~36、更佳為碳數6~18的芳基，例如苯基、萘基)、雜環基(較佳為碳數1~24、更佳為碳數1~12的雜環基，例如2-噻吩基、4-吡啶基、2-呋喃基、2-嘧啶基、1-吡啶基、2-苯并噻唑基、1-咪唑基、1-吡唑基、苯并三唑-1-基)、醯基(較佳為碳數1~24、更佳為碳數2~18的醯基，例如乙醯基、 三甲基乙醯基、2-乙基己基、苯甲醯基、環己醯基)、烷基磺醯基(較佳為碳數1~24、更佳為碳數1~18的烷基磺醯基，例如甲基磺醯基、乙基磺醯基、異丙基磺醯基、環己基磺醯基)、芳基磺醯基(較佳為碳數6~24、更佳為碳數6~18的芳基磺醯基，例如苯基磺醯基、萘基磺醯基)。
通式(8)中，Y1及Y2分別獨立地表示NRC、氮原子或碳原子，RC與X2及X3的R含意相同，較佳態樣亦相同。
通式(8)中，R11與Y1可相互鍵結而與碳原子一起形成5員環(例如環戊烷環、吡咯啶環、四氫呋喃環、二氧雜環戊烷環、四氫噻吩環、吡咯環、呋喃環、噻吩環、吲哚環、苯并呋喃環、苯并噻吩環)、6員環(例如環己烷環、哌啶環、哌嗪環、嗎啉環、四氫吡喃環、二噁烷環、五亞甲基硫醚環、二噻烷環、苯環、噠嗪環、喹啉環、喹唑啉環)、或者7員環(例如環庚烷環、六亞甲基亞胺環)。
通式(8)中，R16與Y2可相互鍵結而與碳原子一起形成5員環(例如環戊烷環、吡咯啶環、四氫呋喃環、二氧雜環戊烷環、四氫噻吩環、吡咯環、呋喃環、噻吩環、吲哚環、苯并呋喃環、苯并噻吩環)、6員環(例如環己烷環、哌啶環、哌嗪環、嗎啉環、四氫吡喃環、二噁烷環、五亞甲基硫醚環、二噻烷環、苯環、噠嗪環、喹啉環、喹唑啉環)、或者7員環(例如環庚烷環、六亞甲基亞胺環)。
通式(8)中，於R11與Y1、以及R16與Y2鍵結而形成的 5員、6員及7員的環為可取代的環的情況下，可經後述取代基組群A的項中所說明的取代基來取代，於經2個以上取代基所取代的情況下，該些取代基可相同亦可不同。
通式(8)中，R11及R16分別獨立地較佳為立體參數-Es'值為1.5以上的一價取代基，更佳為2.0以上，尤佳為3.5以上，特佳為5.0以上。
此處，立體參數-Es'值是表示取代基的立體體積(steric bulkiness)的參數，使用文獻(J.A.邁克菲(J.A.Macphee)等人的「四面體(Tetrahedron)」第34卷第3553頁~第3562頁；藤田稔夫編的「化學增刊107構效關係及藥物設計(structure-activity relationship and drug design)」，1986年2月20日發行(化學同人))中所示的-Es'值。
通式(8)中，X1表示可與Ma鍵結的基團，具體而言可列舉與通式(7)中的X1相同的基團，較佳態樣亦相同。a表示0、1或2。
作為通式(8)所表示的化合物的較佳態樣，R12~R15分別獨立地為通式(M)中的R5~R8的說明中所記載的較佳態樣，R17為通式(M)中的R10的說明中所記載的較佳態樣，Ma為Zn、Cu、Co或V=O，X2為NR(R為氫原子、烷基)、氮原子或氧原子，X3為NR(R為氫原子、烷基)、或者氧原子，Y1為NRC(RC為氫原子、烷基)、氮原子或碳原子，Y2為氮原子或碳原子，R11及R16分別獨立地為烷基、芳基、雜環基、烷氧基、或者烷基胺基， X1為經由氧原子而鍵結的基團，a為0或I。R11與Y1可相互鍵結而形成5員或6員環，或者R16與Y2可相互鍵結而形成5員、6員環。
作為通式(8)所表示的化合物的尤佳態樣，R12~R15分別獨立地為通式(M)所表示的化合物中的R5~R8的說明中所記載的較佳態樣，R17為通式(M)中的R10的說明中所記載的較佳態樣，Ma為Zn，X2及X3為氧原子，Y1為NH，Y2為氮原子，R11及R16分別獨立地為烷基、芳基、雜環基、烷氧基、或者烷基胺基，X1為經由氧原子而鍵結的基團，a為0或1。R11與Y1可相互鍵結而形成5員或6員環，或者R16與Y2可相互鍵結而形成5員、6員環。
就著色力的觀點而言，通式(7)及通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物的莫耳吸光係數較佳為儘可能高。另外，就色純度提高的觀點而言，最大吸收波長λmax較佳為520nm~580nm，尤佳為530nm~570nm。藉由在該區域內，可使用本發明的著色組成物來製作色再現性良好的彩色濾光片。
進而，具有由二吡咯亞甲基色素而來的色素結構的色素(A)相對於450nm下的吸光度，最大吸收波長(λmax)的吸光度較佳為1,000倍以上，更佳為10,000倍以上，尤佳為100,000倍以上。藉由該比率在該範圍內，則於使用本發明的著色組成物，特別是製作藍色彩色濾光片的情況下，可形成透過率更高的彩色濾光片。此外，最大吸收波長、以及莫耳吸光係數是利用分光光 度計cary5(瓦里安(Varian)公司製造)來測定。
就溶解性的觀點而言，通式(7)及通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物的熔點不宜過高。
通式(7)及通式(8)所表示的二吡咯亞甲基金屬錯合物化合物可利用美國專利第4,774,339號說明書、美國專利第5,433,896號說明書、日本專利特開2001-240761號公報、日本專利特開2002-155052號公報、日本專利第3614586號公報、澳大利亞化學雜誌(Australian Journal of Chemistry，Aust.J.Chem)1965年第11卷第1835頁~第1845頁、J.H.博格(J.H.Boger)等人的雜原子化學(Heteroatom Chemistry)第1卷第5期第389頁(1990)等中記載的方法來合成。具體而言，可應用日本專利特開2008-292970號公報的段落0131~段落0157中記載的方法。
以下示出二吡咯亞甲基色素的具體例，但本發明並不限定於此。另外，亦較佳為使用形成後述實施例中所採用的結構的二吡咯亞甲基化合物。下述中，X選自從後述抗衡陰離子X組群中去除了電荷而得的基團中。
[化9]
所述具體例中，就色特性及耐熱性的觀點而言，特佳為(PM-8)及(PM-10)。
<<<三芳基甲烷色素>>>
本發明的色素中的通式(I)中的D的態樣之一為具有由三芳 基甲烷色素(三芳基甲烷化合物)而來的部分結構的色素。色素(A)包含具有由下述通式(TP)所表示的化合物(三芳基甲烷化合物)而來的部分結構作為色素部位的部分結構的色素。本發明中所謂三芳基甲烷化合物是於分子內具有包含三芳基甲烷骨架的色素部位的化合物的總稱。
通式(TP)中，Rtp1~Rtp4分別獨立地表示氫原子、烷基或芳基。Rtp5表示氫原子、烷基、芳基或者NRtp9Rtp10(Rtp9及Rtp10表示氫原子、烷基或芳基)。Rtp6、Rtp7及Rtp8表示取代基。a、b及c表示0~4的整數。於a、b及c為2以上的情況下，Rtp6、Rtp7及Rtp8可分別連結而形成環。X-表示陰離子。於X-不存在的情況下，Rtp1~Rtp7的至少1個包含陰離子。
Rtp1~Rtp6較佳為氫原子、碳數1~5的直鏈或分支的烷 基及苯基。Rtp5較佳為氫原子或者NRtp9Rtp10，特佳為NRtp9Rtp10。Rtp9及Rtp10較佳為氫原子、碳數1~5的直鏈或分支的烷基或苯基。Rtp6、Rtp7及Rtp8所表示的取代基可使用後述取代基組群A的項中所列舉的取代基，特佳為碳數1~5的直鏈或分支的烷基、碳數1~5的烯基、碳數6~15的芳基、羧基或者磺基，尤佳為碳數1~5的直鏈或分支的烷基、碳數1~5的烯基、苯基或羧基。尤其是Rtp6、Rtp8較佳為碳數1~5的烷基，Rtp7較佳為烯基(特佳為鄰接的2個烯基連結而成的苯基)、苯基或羧基。
a、b或c分別獨立地表示0~4的整數。尤其是a及b較佳為0~1，c較佳為0~2。
X-較佳為選自後述抗衡陰離子X組群中。
下述示出通式(TP)所表示的化合物的具體例，但本發明並不限定於此。X-較佳為選自後述抗衡陰離子X組群中。
[化11]
[化12]
所述具體例中，就色特性以及耐熱性的觀點而言，特佳為(tp-4)、(tp-5)、(tp-6)及(tp-8)。
<<<氧雜蒽色素>>>
本發明的色素中的通式(I)中的D的較佳態樣具有由氧雜蒽色素(氧雜蒽化合物)而來的部分結構。色素(A)包含具有由下述通式(J)所表示的氧雜蒽化合物而來的部分結構作為色素部位的部分結構的色素。
[化13]
通式(J)中，R81、R82、R83及R84分別獨立地表示氫原子或者一價取代基，R85分別獨立地表示一價取代基，m表示0~5的整數。X-表示抗衡陰離子。於X-不存在的情況下，R81~R85的至少1個包含陰離子。
通式(J)中的R81~R84及R85可採取的取代基與後述取代基組群A的項中所列舉的取代基相同。
通式(J)中的R81與R82、R83與R84、以及m為2以上的情況下的R85彼此可分別獨立地相互鍵結而形成5員、6員或7員的飽和環，或者5員、6員或7員的不飽和環。於所形成的5員、6員或7員的環為可進一步取代的基團的情況下，可經R81~R85中所說明的取代基來取代，於經2個以上取代基所取代的情況下，該些取代基可相同亦可不同。
於所述通式(J)中的R81與R82、R83與R84、以及m為2以上的情況下的R85彼此分別獨立地相互鍵結而形成不具有取代基的5員、6員及7員的飽和環或者5員、6員及7員的不飽和環的情況下，不具有取代基的5員、6員及7員的飽和環或者5員、6 員及7員的不飽和環例如可列舉：吡咯環、呋喃環、噻吩環、吡唑環、咪唑環、三唑環、噁唑環、噻唑環、吡咯啶環、哌啶環、環戊烯環、環己烯環、苯環、吡啶環、吡嗪環、噠嗪環，較佳為可列舉苯環、吡啶環。
特佳為R82及R83為氫原子或者經取代或未經取代的烷基，R81及R84為經取代或未經取代的烷基或苯基。另外，R85較佳為鹵素原子、碳數1~5的直鏈或分支的烷基、磺基、磺醯胺基、羧基、醯胺基，尤佳為磺基、磺醯胺基、羧基、醯胺基。R85較佳為鍵結於與氧雜蒽環連結的碳的鄰接部。R81及R84的苯基所具有的取代基最佳為氫原子、鹵素原子、碳數1~5的直鏈或分支的烷基、磺基、磺醯胺基、羧基。
X-較佳為選自後述抗衡陰離子X組群中。
通式(J)所表示的具有氧雜蒽骨架的化合物可利用文獻記載的方法來合成。具體而言，可應用四面體快報(Tetrahedron Letters)2003年第44卷第23期第4355頁~第4360頁、四面體2005年第61卷第12期第3097頁~第3106頁等中記載的方法。
以下示出氧雜蒽化合物的具體例，但本發明並不限定於此。另外，亦較佳地使用後述實施例中所使用的形成氧雜蒽結構的化合物。X-較佳為選自後述抗衡陰離子X組群中。
[表1]
[化15]
[化17]
<<<花青色素>>>
本發明的色素中的通式(I)中的D的態樣之一為具有由花青色素(花青化合物)而來的部分結構的色素。色素(A)包含具有由下述通式(PM)所表示的化合物(花青化合物)而來的部分結構作為色素部位的部分結構的色素。本發明中所謂花青化合物，是於分子內具有包含花青骨架的色素部位的化合物的總稱。
通式(PM)中，環Z1及環Z2分別獨立地表示可具有取代基的雜環。1表示0以上、3以下的整數。X-表示陰離子。
環Z1及環Z2分別獨立地可列舉：噁唑、苯并噁唑、噁唑啉、噻唑、噻唑啉(thiazoline)、苯并噻唑、假吲哚(indolenine)、苯并假吲哚、1,3-噻二嗪(1,3-thiadiazine)等。
環Z1及環Z2可採取的取代基與後述取代基組群A的項中所列舉的取代基相同。X-表示抗衡陰離子。X-較佳為選自後述抗衡陰離子X組群中。
通式(PM)所表示的化合物較佳為下述通式(PM-2)所表示的化合物。
通式(PM-2)中，環Z5及環Z6分別獨立地表示可具有取代基的苯環或者可具有取代基的萘環。X-表示抗衡陰離子。
n表示0以上、3以下的整數。
A1及A2分別獨立地表示氧原子、硫原子、硒原子、碳原子或者氮原子。
R1及R2分別獨立地表示可具有取代基的一價的碳數1~20的脂肪族烴基。
R3及R4分別獨立地表示氫原子或者一價的碳數1~6的脂肪 族烴基，或表示1個R3與1個R4一起形成的二價的碳數2~6的脂肪族烴基。
a及b分別獨立地表示0以上、2以下的整數。
以下，示出花青化合物的具體例，但本發明並不限定於此。X-較佳為選自後述抗衡陰離子X組群中。
所述具體例中，較佳為(pm-1)~(pm-6)、(pm-9)及(pm-10)所表示的結構，其中，就色特性以及耐熱性的觀點而言，特佳為(pm-1)、(pm-2)及(pm-10)所表示的色素結構。
<<<亞酞菁色素>>>
本發明的色素中的通式(I)中的D的態樣之一具有由亞酞菁色素(酞菁化合物)而來的部分結構。色素(A)包含具有由下述通式(SP)所表示的化合物(亞酞菁化合物)而來的部分結構作為色素部位的部分結構的色素。本發明中所謂亞酞菁色素是指分子內具有包含亞酞菁骨架的色素部位的化合物的總稱。本發明中，下述化合物形成陽離子部位，例如，通式(SP)的硼原子可形成陽離子部位。
通式(SP)中，Z1~Z12分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基、羥基、巰基、胺基、烷氧基、芳氧基、硫醚基；X-表示陰離子。 於X-不存在的情況下，Z1~Z12的至少1個包含陰離子。
對通式(SP)進行詳細說明。
通式(SP)中的Z1~Z12可具有的烷基表示直鏈或分支的經取代或未經取代的烷基。Z1~Z12特佳為碳數1~20，尤佳為碳數1~10。Z1~Z12可具有的取代基可列舉後述取代基組群A的項中所列舉的取代基，特佳為氟原子、羥基及巰基。
X-較佳為選自後述抗衡陰離子X組群中。
以下示出亞酞菁色素的具體例，但本發明並不限定於此。X-較佳為選自後述抗衡陰離子X組群中。此外，雖然在形式上獨立地表述X-，但亦可於形成亞酞菁的硼原子上配位有X。
[化22]
所述具體例中，就色特性以及耐熱性的觀點而言，特佳為(SP-2)、(SP-3)、(SP-4)、(SP-5)、(SP-6)及(SP-7)。
本發明的色素(A)中的通式(I)中的D的色素結構中的氫原子可經選自下述取代基組群A中的取代基所取代。
<<方酸內鎓鹽色素>>
本發明中使用的方酸內鎓鹽色素較佳為下述通式(K)所表示的色素。
通式(K)中，A及B分別獨立地表示芳基或者雜環基。芳基較佳為碳數6~48、更佳為6~24的芳基，例如可列舉苯基、萘基等。雜環基較佳為五員環或者六員環的雜環基，例如可列舉：吡咯基、咪唑基、吡唑基、噻吩基、吡啶基、嘧啶基、噠嗪基、三唑-1-基、呋喃基、噻二唑基等。
通式(K)所表示的化合物特佳為下述通式(K-1)、通式(K-2)、通式(K-3)或者通式(K-4)所表示的化合物。
通式(K-1)中，R91、R92、R94、R95、R96及R98分別獨立地表示：氫原子、鹵素原子、直鏈或分支的烷基、環烷基、直鏈或分支的烯基、環烯基、炔基、芳基、雜環基、氰基、羥基、 硝基、羧基、烷氧基、芳基氧基、矽烷氧基、雜環氧基、醯基氧基、胺甲醯基氧基、胺基(包含烷基胺基、苯胺基)、醯基胺基、胺基羰基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、胺磺醯基胺基、烷基磺醯基胺基或者芳基磺醯基胺基、巰基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、胺磺醯基、磺基、烷基亞磺醯基或者芳基亞磺醯基、烷基磺醯基或者芳基磺醯基、醯基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、胺甲醯基、芳基或者雜環偶氮基、醯亞胺基、膦基、氧膦基、氧膦基氧基、氧膦基胺基、或者矽烷基。
R93及R97分別獨立地表示氫原子、直鏈或分支的烷基、環烷基、環烯基、炔基、芳基或者雜環基。
R91與R92、以及R95與R96分別可彼此連結而形成環。
通式(K-1)中的R91、R92、R94、R95、R96、R98可採取的取代基與取代基組群A的項中列舉的取代基相同。
R91~R98較佳為分別獨立地為氫原子、烷基、羥基、胺基、芳基或者雜環基，尤佳為R93、R94、R97及R98為烷基，且R91與R92以及R95與R96彼此連結而形成芳基環，最佳為R93、R94、R97及R98為碳數1~20的烷基，且R91與R92以及R95與R96彼此連結而形成苯環。
通式(K-2)
通式(K-2)中，R101、R103、R104、R105、R107及R108與通式(K-1)中的R91、R93、R94、R95、R97及R98分別為相同含意。R103及R107與通式(K-1)中的R93及R97含意相同。
通式(K-2)中，R101、R103、R104、R105、R107及R108較佳為氫原子、烷基、羥基、胺基、芳基、或者雜環基，尤佳為R101、R103、R105及R107為烷基或者芳基，且R104及R108為羥基或者胺基，尤佳為R101、R103、R105及R107為碳數1~20的烷基，且R104及R108為羥基。R103及R107較佳為氫原子、直鏈或者分支的烷基、以及芳基，尤佳為碳數1~5的烷基以及苯基。
通式(K-3)中，R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115、R118及R119與通式(K-3)中的R91、R93、R94、R95、R97及R98含意相同。R116及R117與通式(K-1)中的R93及R97含意相同。
通式(k-3)中，R109、R110、R111、R112、R113、R114、R115、R118及R119較佳為氫原子、鹵素原子、直鏈或分支的烷基、羥基、 烷氧基。尤其最佳為R109、R113、R115、R118及R119為氫原子，R110、R111及R112為氫原子或者烷氧基，且R114為氫原子、鹵素原子、羥基、碳數1~5的烷基、或者碳數1~5的烷氧基。
所述通式(K-4)中，R120及R121分別獨立地表示鹵素原子、烷基、烷氧基、或者烯基。m1及m2分別獨立地表示1~4的整數。n1及n2分別獨立地表示0~4的整數。
R120及R121特佳為碳數1~5的烷基或者碳數1~5的烷氧基。m1及m2較佳為1~3，m1及m2最佳為3。n1及n2較佳為0~3，較佳為0或1。
就色相的觀點而言，本發明中的可形成色素結構的色素化合物較佳為通式(K-1)所表示的方酸內鎓鹽化合物。
通式(K-1)~通式(K-4)所表示的方酸內鎓鹽化合物可應用「英國化學會志：柏爾金匯刊第一輯(Journal of the Chemical Society Perkin Transactions 1，J.Chem.Soc.,Perkin Trans.1」2000年第599頁中記載的方法來合成。
下述示出通式(K-1)~通式(K-4)所表示的方酸內鎓鹽化合物的具體例，但本發明並不限定於此。
所述具體例中，就色特性以及耐熱性的觀點而言，較佳為(sq-1)、(sq-2)、(sq-3)、(sq-7)、(sq-8)、(sq-9)、(s9-9)、(sq-10)、 (sq-11)及(sq-12)。
<取代基組群A>
色素可具有的取代基可列舉：鹵素原子、烷基、環烷基、烯基、環烯基、炔基、芳基、雜環基、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、矽烷氧基、雜環氧基、醯基氧基、胺甲醯基氧基、胺基(包含烷基胺基、苯胺基)、醯基胺基、胺基羰基胺基、烷氧基羰基胺基、芳氧基羰基胺基、胺磺醯基胺基、烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基、巰基、烷硫基、芳硫基、雜環硫基、胺磺醯基、磺基、烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基、烷基磺醯基或芳基磺醯基、醯基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、胺甲醯基、芳基或雜環偶氮基、醯亞胺基、膦基(phosphino)、氧膦基(phosphinyl)、氧膦基氧基、氧膦基胺基、矽烷基等。以下進行詳細說明。
可列舉：鹵素原子(例如氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、直鏈或分支的烷基(直鏈或分支的經取代或未經取代的烷基，較佳為碳數1~30的烷基，例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、第三丁基、正辛基、2-氯乙基、2-氰基乙基、2-乙基己基)、環烷基(較佳為碳數3~30的經取代或未經取代的環烷基，例如可列舉環己基、環戊基，多環烷基，例如雙環烷基(較佳為碳數5~30的經取代或未經取代的雙環烷基，例如雙環[1,2,2]庚烷-2-基、雙環[2,2,2]辛烷-3-基)或三環烷基等多環結構的基團；較佳為單環的環烷基、雙環烷基，特佳為單環的環烷基)、直鏈或分支的烯基(直鏈或分支的經取代或未經取代的 烯基，較佳為碳數2~30的烯基，例如乙烯基、烯丙基、戊烯基、香葉草基(geranyl)、油基)、環烯基(較佳為碳數3~30的經取代或未經取代的環烯基，例如可列舉2-環戊烯-1-基、2-環己烯-1-基，多環烯基，例如雙環烯基(較佳為碳數5~30的經取代或未經取代的雙環烯基，例如雙環[2,2,1]庚-2-烯-1-基、雙環[2,2,2]辛-2-烯-4-基)或三環烯基，特佳為單環的環烯基)、炔基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的炔基，例如乙炔基、炔丙基、三甲基矽烷基乙炔基)、芳基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳基，例如苯基、對甲苯基、萘基、間氯苯基、鄰十六醯基胺基苯基)、雜環基(較佳為5員~7員的經取代或未經取代的飽和或不飽和芳香族或非芳香族的單環或縮環的雜環基，更佳為環構成原子選自碳原子、氮原子及硫原子中，且具有至少一個氮原子、氧原子及硫原子的任一雜原子的雜環基，尤佳為碳數3~30的5員或6員的芳香族的雜環基；例如2-呋喃基、2-噻吩基、2-吡啶基、4-吡啶基、2-嘧啶基、2-苯并噻唑基)、氰基、羥基、硝基、羧基、烷氧基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、異丙氧基、第三丁氧基、正辛氧基、2-甲氧基乙氧基)、芳氧基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳氧基，例如苯氧基、2-甲基苯氧基、2,4-二-第三戊基苯氧基、4-第三丁基苯氧基、3-硝基苯氧基、2-十四醯基胺基苯氧基)、矽烷氧基(較佳為碳數3~20的矽烷氧基，例如三甲基矽烷氧基、 第三丁基二甲基矽烷氧基)、雜環氧基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的雜環氧基，雜環部較佳為所述雜環基中所說明的雜環部，例如1-苯基四唑-5-氧基、2-四氫吡喃基氧基)、醯基氧基(較佳為甲醯基氧基、碳數2~30的經取代或未經取代的烷基羰基氧基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基羰基氧基，例如甲醯基氧基、乙醯基氧基、三甲基乙醯基氧基、硬脂醯基氧基、苯甲醯基氧基、對甲氧基苯基羰基氧基)、胺甲醯基氧基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的胺甲醯基氧基，例如N,N-二甲基胺甲醯基氧基、N,N-二乙基胺甲醯基氧基、嗎啉基羰基氧基、N,N-二-正辛基胺基羰基氧基、N-正辛基胺甲醯基氧基)、烷氧基羰基氧基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的烷氧基羰基氧基，例如甲氧基羰基氧基、乙氧基羰基氧基、第三丁氧基羰基氧基、正辛基羰基氧基)、芳氧基羰基氧基(較佳為碳數7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰基氧基，例如苯氧基羰基氧基、對甲氧基苯氧基羰基氧基、對正十六烷氧基苯氧基羰基氧基)、胺基(較佳為胺基、碳數1~30的經取代或未經取代的烷基胺基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基胺基、碳數0~30的雜環胺基，例如胺基、甲基胺基、二甲基胺基、苯胺基、N-甲基-苯胺基、二苯基胺基、N-1,3,5-三嗪-2-基胺基)、醯基胺基(較佳為甲醯基胺基、碳數1~30的經取代或未經取代的烷基羰基胺基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基羰基胺基，例如 甲醯基胺基、乙醯基胺基、三甲基乙醯基胺基、月桂醯基胺基、苯甲醯基胺基、3,4,5-三-正辛氧基苯基羰基胺基)、胺基羰基胺基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的胺基羰基胺基，例如胺甲醯基胺基、N,N-二甲基胺基羰基胺基、N,N-二乙基胺基羰基胺基、嗎啉基羰基胺基)、烷氧基羰基胺基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的烷氧基羰基胺基，例如甲氧基羰基胺基、乙氧基羰基胺基、第三丁氧基羰基胺基、正十八烷氧基羰基胺基、N-甲基-甲氧基羰基胺基)、芳氧基羰基胺基(較佳為碳數7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰基胺基，例如苯氧基羰基胺基、對氯苯氧基羰基胺基、間正辛氧基苯氧基羰基胺基)、胺磺醯基胺基(較佳為碳數0~30的經取代或未經取代的胺磺醯基胺基，例如胺磺醯基胺基、N,N-二甲基胺基磺醯基胺基、N-正辛基胺基磺醯基胺基)、烷基磺醯基胺基或芳基磺醯基胺基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷基磺醯基胺基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基磺醯基胺基，例如甲基磺醯基胺基、丁基磺醯基胺基、苯基磺醯基胺基、2,3,5-三氯苯基磺醯基胺基、對甲基苯基磺醯基胺基)、巰基、烷硫基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷硫基，例如甲硫基、乙硫基、正十六烷硫基)、芳硫基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳硫基，例如苯硫基、對氯苯硫基、間甲氧基苯硫基)、雜環硫基(較佳為碳數2~30的經取代或未經 取代的雜環硫基，雜環部較佳為所述雜環基中所說明的雜環部，例如2-苯并噻唑基硫基、1-苯基四唑-5-基硫基)、胺磺醯基(較佳為碳數0~30的經取代或未經取代的胺磺醯基，例如N-乙基胺磺醯基、N-(3-十二烷氧基丙基)胺磺醯基、N,N-二甲基胺磺醯基、N-乙醯基胺磺醯基、N-苯甲醯基胺磺醯基、N-(N'-苯基胺甲醯基)胺磺醯基)、磺基、烷基亞磺醯基或芳基亞磺醯基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷基亞磺醯基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基亞磺醯基，例如甲基亞磺醯基、乙基亞磺醯基、苯基亞磺醯基、對甲基苯基亞磺醯基)、烷基磺醯基或芳基磺醯基(較佳為碳數1~30的經取代或未經取代的烷基磺醯基、碳數6~30的經取代或未經取代的芳基磺醯基，例如甲基磺醯基、乙基磺醯基、苯基磺醯基、對甲基苯基磺醯基)、醯基(較佳為甲醯基、碳數2~30的經取代或未經取代的烷基羰基、碳數7~30的經取代或未經取代的芳基羰基，例如乙醯基、三甲基乙醯基、2-氯乙醯基、硬脂醯基、苯甲醯基、對正辛氧基苯基羰基)、芳氧基羰基(較佳為碳數7~30的經取代或未經取代的芳氧基羰基，例如苯氧基羰基、鄰氯苯氧基羰基、間硝基苯氧基羰基、對第三丁基苯氧基羰基)、烷氧基羰基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的烷氧基羰基，例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、第三丁氧基羰基、正十八烷氧基羰基)、胺甲醯基(較佳為碳數1~30的經取代或未 經取代的胺甲醯基，例如胺甲醯基、N-甲基胺甲醯基、N,N-二甲基胺甲醯基、N,N-二-正辛基胺甲醯基、N-(甲基磺醯基)胺甲醯基)、芳基或雜環偶氮基(較佳為碳數6~30的經取代或未經取代的芳基偶氮基、碳數3~30的經取代或未經取代的雜環偶氮基(雜環部較佳為所述雜環基中所說明的雜環部)，例如苯基偶氮、對氯苯基偶氮、5-乙硫基-1,3,4-噻二唑-2-基偶氮)、醯亞胺基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的醯亞胺基，例如N-丁二醯亞胺、N-鄰苯二甲醯亞胺)、膦基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的膦基，例如二甲基膦基、二苯基膦基、甲基苯氧基膦基)、氧膦基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的氧膦基，例如氧膦基、二辛氧基氧膦基、二乙氧基氧膦基)、氧膦基氧基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的氧膦基氧基，例如二苯氧基氧膦基氧基、二辛氧基氧膦基氧基)、氧膦基胺基(較佳為碳數2~30的經取代或未經取代的氧膦基胺基，例如二甲氧基氧膦基胺基、二甲基胺基氧膦基胺基)、矽烷基(較佳為碳數3~30的經取代或未經取代的矽烷基，例如三甲基矽烷基、第三丁基二甲基矽烷基、苯基二甲基矽烷基)。
所述官能基中，具有氫原子的官能基中的氫原子的部分可經所述任一基團所取代。可作為取代基而導入的官能基的例子可列舉：烷基羰基胺基磺醯基、芳基羰基胺基磺醯基、烷基磺醯基胺基羰基、芳基磺醯基胺基羰基，具體而言可列舉：甲基磺醯基胺基羰基、對甲基苯基磺醯基胺基羰基、乙醯基胺基磺醯基、 苯甲醯基胺基磺醯基。
<<抗衡陰離子>>
通式(I)中的色素殘基D中較佳包含的抗衡陰離子只要是抗衡陰離子，則並無特別限制，就耐熱性的觀點而言，較佳為非親核性的陰離子。非親核性的抗衡陰離子較佳為日本專利特開2007-310315號公報[0075]等中記載的公知的非親核性陰離子，更佳為以下的抗衡陰離子組群X；磺酸根陰離子、羧酸根陰離子、磺醯亞胺陰離子、雙(烷基磺醯基)醯亞胺陰離子、三(烷基磺醯基)甲基化物陰離子、羧酸根陰離子、四芳基硼酸鹽陰離子、-CON-CO-、-CON-SO2-、BF4 -、PF6 -、SbF6 -、B-(CN)3OMe。
抗衡陰離子組群X尤佳為磺酸根陰離子、磺醯亞胺陰離子、雙(烷基磺醯基)醯亞胺陰離子、三(烷基磺醯基)甲基化物陰離子、羧酸根陰離子、四芳基硼酸鹽陰離子、BF4 -、PF6 -、以及SbF6 -。
該些陰離子中，抗衡陰離子組群X更佳為具有下述(AN-1)~(AN-5)所表示的結構的非親核性陰離子。
(式(AN-1)中，X1及X2分別獨立地表示氟原子或者碳數1~10的具有氟原子的烷基；X1及X2可分別鍵結而形成環。)
X1及X2較佳為分別獨立地為碳數1~10的全氟烷基，尤佳為碳數1~4的全氟烷基。
(式(AN-2)中，X3、X4及X5分別獨立地表示氟原子或者碳數1~10的具有氟原子的烷基。)
X3、X4及X5較佳為碳數1~10的全氟烷基，尤佳為碳數1~4的全氟烷基。
[化31]X6-SO3 -(AN-3)
(式(AN-3)中，X6表示碳數1~10的具有氟原子的伸烷基。)
X6較佳為碳數1~10的全氟烷基，尤佳為碳數1~4的全氟烷基。
(式(AN-4)中，X7表示碳數1~10的具有氟原子的伸烷基。)
X7較佳為碳數1~10的全氟伸烷基，尤佳為碳數1~4的全氟伸烷基。
(式(AN-5)中，Ar1、Ar2、Ar3及Ar4表示芳基。)
Ar1、Ar2、Ar3及Ar4所表示的芳基可具有取代基。取代基可列舉：鹵素原子、烷基、芳基、烷氧基、羰基、羰基氧基、胺甲醯基、磺基、磺醯胺基、硝基等，特佳為氟原子、烷基，尤佳為氟原子、碳數1~4的全氟烷基。
Ar1、Ar2、Ar3及Ar4較佳為苯基、五氟苯基、3,5-三氟苯基，最佳為五氟苯基。
本發明中使用的非親核性抗衡陰離子的每1分子的質量 較佳為100~1000，更佳為200~800。
本發明的色素可僅包含1種非親核性抗衡陰離子，亦可包含2種以上。
以下，示出本發明中使用的抗衡陰離子的具體例，但本發明並不限定於此。
[化34]
<<<聚合性基>>>
色素殘基D可具有聚合性基。
聚合性基可使用可藉由自由基、酸、熱而進行交聯的公知聚合性基，例如可列舉：包含乙烯性不飽和鍵的基團、環狀醚基(環氧基、氧雜環丁烷基)、羥甲基等，特佳為包含乙烯性不飽和鍵的 基團，尤佳為(甲基)丙烯醯基，特佳為由(甲基)丙烯酸縮水甘油酯以及(甲基)丙烯酸3,4-環氧基-環己基甲酯而來的(甲基)丙烯醯基。
相對於1個色素殘基，色素殘基D中的聚合性基較佳為1個。
<<色素(A)的諸性質>>
本發明的色素(A)的玻璃轉移溫度(glass transition temperature，Tg)較佳為50℃以上，更佳為100℃以上。另外，以熱重量分析(熱重量分析儀(thermogravimetric analyzer，TGA)測定)而得的5%重量減少溫度較佳為120℃以上，更佳為150℃以上，尤佳為200℃以上。藉由在該區域內，則當將本發明的著色組成物應用於製作彩色濾光片等時，可減少由加熱製程引起的濃度變化。
另外，本發明的色素的每單位重量的吸光係數(以後記作ε'；ε'=ε/平均分子量，單位：L/g．cm)較佳為30以上，更佳為60以上，尤佳為100以上。藉由在該範圍內，則於應用本發明的著色組成物來製作彩色濾光片的情況下，可製作色再現性良好的彩色濾光片。
就著色力的觀點而言，本發明的著色組成物中使用的色素(A)的莫耳吸光係數較佳為儘可能高。
色素(A)的分子量較佳為500~10000，更佳為1000~8000，尤佳為2000~6000。本發明的著色組成物中的色素(A)為混合物的情況下的分子量分散度較佳為1.00~2.00，更佳為1.00~1.50，尤佳為1.00~1.20。藉由分子量分布設為所述範圍內，則 分子量的偏差減少，圖案性提高。分子量分佈例如可利用凝膠滲透層析法(Gel Permeation Chromatography，GPC)等來測定。
色素(A)較佳為如上所述，通式(1)的R為酸基或者聚合性基，於R以外的寡聚物分子內部分(例如Q或D)包含酸基或聚合性基的情況下，亦發揮與R中包含酸基或聚合性基的情況相同的效果。
本發明中，較佳為通式(1)的選自連結基Q、取代基R以及色素殘基D中的至少一個包含酸基。酸基較佳為羧基、磺基、磷酸基，尤佳為羧基。
本發明中，色素(A)整體中所含的聚合性基的數量較佳為1個~2個，更佳為1個。另外，色素(A)整體中所含的酸基的數量較佳為1個~4個，更佳為1個~3個，尤佳為1個~2個。
色素(A)的酸值並無特別限定，較佳為0.1mmol/g~1.0mmol/g，更佳為0.2mmol/g~1.0mmol/g，尤佳為0.2mmol/g~0.7mmol/g。若酸值為0.1mmol/g以上，則可使顯影性更良好。另外，若酸值為1.0mmol以下，則可利用顯影液或剝離液等，來形成難以褪色(color missing)的硬化膜。
色素(A)的C=C值較佳為0.1mmol/g以上，更佳為0.2mmol/g以上，尤佳為0.3mmol/g以上。若C=C值為0.1mmol/g以上，則可利用顯影液或剝離液等，來形成難以褪色的硬化膜。C=C值的上限並無特別限定，例如，較佳為1.0mmol/g，更佳為0.70mmol/g。C=C值可藉由將導入至色素(A)中的聚合性基數 除以色素(A)的分子量而算出。另外，亦可利用1H-核磁共振(nuclear magnetic resonance，1H-NMR)等分析方法來實際測量。
本發明的色素(A)較佳為染料。所謂染料，是指於水或者有機溶劑中具有實質上的溶解度的色素，特佳為溶解於以下有機溶劑中的有機溶劑溶解性染料。
有機溶劑可列舉：酯類(例如3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乳酸乙酯、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯等)、醚類(例如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯等)、酮類(甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等)、芳香族烴類(例如甲苯、二甲苯等)，相對於該些溶劑，較佳為溶解1質量%以上、50質量%以下，更佳為5質量%以上、40質量%以下，尤佳為10質量%以上、30質量%以下。藉由在該區域內，則當將本發明的著色組成物應用於製作彩色濾光片等時，可形成適當的塗佈表面性狀、或減少由塗佈其他顏色後的溶出所引起的濃度下降。
本發明的著色組成物中，可將色素(A)單獨使用1種，亦可併用2種以上。
本發明的著色組成物中的色素(A)的含量是考慮到與後述(C)顏料的含有比率來設定。
色素相對於顏料的質量比(色素(A)/顏料)較佳為0.1~5，更佳為0.2~2，尤佳為0.3~1。
相對於著色組成物中的總固體成分，本發明的著色組成 物中的色素的含量較佳為1.0質量%~50質量%，尤佳為5.0質量%~30質量%，特佳為10質量%~25質量%。
本發明的著色組成物中使用的色素的具體例可例示後述實施例中所示出的化合物。當然，本發明並不限定於該些化合物。
本發明的著色組成物可包含(A)通式(I)所表示的色素以外的公知染料。例如可使用以下公報中所揭示的色素：日本專利特開昭64-90403號公報、日本專利特開昭64-91102號公報、日本專利特開平1-94301號公報、日本專利特開平6-11614號公報、日本專利特登2592207號、美國專利4808501號說明書、美國專利5667920號說明書、美國專利505950號說明書、美國專利5667920號說明書、日本專利特開平5-333207號公報、日本專利特開平6-35183號公報、日本專利特開平6-51115號公報、日本專利特開平6-194828號公報等。作為化學結構，可使用：吡唑偶氮系、吡咯亞甲基系、苯胺基偶氮系、三苯基甲烷系、蒽醌(anthraquinone)系、亞苄基系、氧雜菁系、吡唑并三唑偶氮(pyrazolotriazole azo)系、吡啶酮偶氮(pyridone azo)系、花青系、啡噻嗪(phenothiazine)系，吡咯并吡唑偶氮次甲基(pyrrolopyrazole azomethine)系等的染料。
<(B)聚合性化合物>
本發明的著色組成物含有聚合性化合物。聚合性化合物可使用可藉由自由基、酸、熱而進行交聯的公知的聚合性化合物。例如可列舉：包含乙烯性不飽和鍵、環狀醚(環氧、氧雜環丁烷)、 羥甲基等的聚合性化合物。就感度的觀點而言，聚合性化合物是自具有至少1個、較佳為2個以上的末端乙烯性不飽和鍵的化合物中適當選擇。其中，較佳為4官能以上的多官能聚合性化合物，尤佳為5官能以上的多官能聚合性化合物。另外，亦可將後述具有聚合性基的鹼可溶性樹脂用作聚合性化合物。
如上所述的化合物組群是在該產業領域中廣為人知的化合物，本發明中可無特別限定地使用該些化合物。該些化合物例如可為單體、預聚物，即二聚物、三聚物及寡聚物或者它們的混合物以及它們的寡聚物等化學形態的任一種。本發明中，聚合性化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
更具體而言，單體及其預聚物的例子可列舉：不飽和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、異丁烯酸、順丁烯二酸等)或其酯類、醯胺類、以及它們的多聚體，較佳為不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯、以及不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的醯胺類、以及它們的多聚體。另外，亦適宜使用具有羥基或胺基、巰基等親核性取代基的不飽和羧酸酯或者醯胺類與單官能或多官能異氰酸酯類或者環氧類的加成反應物，或與單官能或多官能的羧酸的脫水縮合反應物等。另外，具有異氰酸酯基或環氧基等親電子性取代基的不飽和羧酸酯或者醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的加成反應物，進而，具有鹵素基或甲苯磺醯基氧基等脫離性取代基的不飽和羧酸酯或者醯胺類與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的取代反應物亦適 合。另外，其他例子亦可使用將所述不飽和羧酸取代為不飽和膦酸、苯乙烯等乙烯基苯衍生物、乙烯基醚、烯丙醚等而成的化合物組群。
作為該些具體化合物，亦可將日本專利特開2009-288705號公報的段落編號[0095]~段落編號[0108]中記載的化合物適當用於本發明中。
另外，聚合性化合物亦較佳為具有至少1個可加成聚合的伸乙基、於常壓下具有100℃以上的沸點且具有乙烯性不飽和基的化合物。其例可列舉：聚乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等單官能的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(丙烯醯基氧基丙基)醚、異三聚氰酸三(丙烯醯氧基乙基)酯、使甘油或三羥甲基乙烷等多官能醇中加成環氧乙烷或環氧丙烷後進行(甲基)丙烯酸酯化而成者，如日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特公昭50-6034號公報、日本專利特開昭51-37193號公報中記載的胺基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯類，日本專利特開昭48-64183號公報、日本專利特公昭49-43191號公報、日本專利特公昭52-30490號公報中記載的聚酯丙烯酸酯類、作為環氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應產物的環氧丙烯酸酯類等多官能的丙 烯酸酯或甲基丙烯酸酯以及它們的混合物。
亦可列舉使多官能羧酸與(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有環狀醚基及乙烯性不飽和基的化合物進行反應而獲得的多官能(甲基)丙烯酸酯等。
另外，其他的較佳聚合性化合物亦可使用日本專利特開2010-160418號公報、日本專利特開2010-129825號公報、日本專利第4364216號說明書等中記載的具有茀環且具有2官能以上的乙烯性不飽和基的化合物、卡多樹脂(cardo resin)。
另外，於常壓下具有100℃以上的沸點且具有至少1個可加成聚合的乙烯性不飽和基的化合物亦較佳為日本專利特開2008-292970號公報的段落編號[0254]~段落編號[0257]中記載的化合物。
除所述以外，亦適宜使用下述通式(MO-1)~通式(MO-5)所表示的自由基聚合性單體。此外，式中，於T為氧伸烷基的情況下，碳原子側的末端與R鍵結。
[化35]
通式中，n為0~14，m為1~8。於一分子內存在多個的R、T彼此可相同，亦可不同。
通式(MO-1)~通式(MO-5)所表示的各種聚合性化合物中，存在多個的R的至少1個表示-OC(=O)CH=CH2、或者-OC(=O)C(CH3)=CH2所表示的基團。
作為通式(MO-1)~通式(MO-5)所表示的聚合性化合物的具體例，亦可將日本專利特開2007-269779號公報的段落編號0248~段落編號0251中記載的化合物適當用於本發明中。
另外，日本專利特開平10-62986號公報中作為通式(1)及通式(2)而與其具體例一起記載的使所述多官能醇中加成環氧乙烷或環氧丙烷後進行(甲基)丙烯酸酯化而成的化合物亦可用作聚合性化合物。
其中，聚合性化合物較佳為：二季戊四醇三丙烯酸酯(市售品為卡亞拉德(KAYARAD)D-330；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為卡亞拉德(KAYARAD)D-320；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉德(KAYARAD)D-310；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉德(KAYARAD)DPHA；日本化藥股份有限公司製造)、以及該些化合物的(甲基)丙烯醯基介隔著乙二醇、丙二醇殘基的結構。亦可使用該些化合物的寡聚物類型。以下示出較佳的聚合性化合物的態樣。
聚合性化合物為多官能單體，可具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。只要於如上所述為混合物的情況下，乙烯性化合物為具有未反應的羧基的化合物，則可將其直接利用，但視需要亦可使所述乙烯性化合物的羥基與非芳香族羧酸酐進行反應而導入酸基。該情況下，所使用的非芳香族羧酸酐的具體例可列舉：四氫鄰苯二甲酸酐、烷基化四氫鄰苯二甲酸酐、六氫鄰苯二甲酸酐、烷基化六氫鄰苯二甲酸酐、丁二酸酐、順丁烯二酸酐。
本發明中，具有酸基的單體為脂肪族聚羥基化合物與不飽和羧酸的酯，較佳為使脂肪族聚羥基化合物的未反應的羥基與非芳香族羧酸酐進行反應而具有酸基的多官能單體，特佳為於該酯中，脂肪族聚羥基化合物為季戊四醇及/或二季戊四醇。市售品例如可列舉東亞合成股份有限公司製造的多元酸改質丙烯酸寡聚物M-510、M-520等。
該些單體可單獨使用1種，但在製造上難以使用單一的化合物，因此可將2種以上混合使用。另外，視需要亦可將不具有酸基的多官能單體及具有酸基的多官能單體併用來作為單體。
具有酸基的多官能單體的較佳酸值為0.1mgKOH/g~40mgKOH/g，特佳為5mgKOH/g~30mgKOH/g。若多官能單體的酸值過低，則顯影溶解特性較差，若過高，則製造或操作變得困難，光聚合性能較差，畫素的表面平滑性等硬化性差。因此，於將酸基不同的多官能單體併用2種以上的情況下，或者於將不具有酸基的多官能單體併用的情況下，較佳為以作為整體的多官能單體 的酸值進入所述範圍內的方式進行調整。
另外，含有具有己內酯結構的多官能性單量體作為聚合性單體亦為較佳態樣。
具有己內酯結構的多官能性單量體只要於其分子內具有己內酯結構，則並無特別限定，例如可列舉：藉由將三羥甲基乙烷、二-三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、二甘油、三羥甲基三聚氰胺等多元醇與(甲基)丙烯酸以及ε-己內酯進行酯化而獲得的ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯。其中較佳為下述通式(Z-1)所表示的具有己內酯結構的多官能性單量體。
通式(Z-1)中，6個R全部為下述通式(Z-2)所表示的基團，或者6個R中的1個~5個為下述通式(Z-2)所表示的基團，其餘為下述通式(Z-3)所表示的基團。
[化38]
通式(Z-2)中，R1表示氫原子或者甲基，m表示1或2之數，「*」表示結合鍵。
通式(Z-3)中，R1表示氫原子或者甲基，「*」表示結合鍵。
如上所述的具有己內酯結構的多官能性單量體例如由日本化藥(股)以卡亞拉德(KAYARAD)DPCA系列來銷售，可列舉：DPCA-20(所述式(1)~式(3)中，m=1，式(2)所表示的基團的數量=2，且R1全部為氫原子的化合物)、DPCA-30(式(1)~式(3)中，m=1，式(2)所表示的基團的數量=3，且R1全部為氫原子的化合物)、DPCA-60(式(1)~式(3)中，m=1，式(2)所表示的基團的數量=6，且R1全部為氫原子的化合物)、DPCA-120(式(1)~式(3)中，m=2，式(2)所表示的基團的數量=6，且R1全部為氫原子的化合物)等。
本發明中，具有己內酯結構的多官能性單量體可單獨使用或 者將2種以上混合使用。
另外，本發明的特定單體亦較佳為選自下述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物的組群中的至少1種。
通式(Z-4)及通式(Z-5)中，E分別獨立地表示-((CH2)yCH2O)-、或者-((CH2)yCH(CH3)O)-，y分別獨立地表示0~10的整數，X分別獨立地表示丙烯醯基、甲基丙烯醯基、氫原子或羧基。
通式(Z-4)中，丙烯醯基及甲基丙烯醯基的合計為3個或4個，m分別獨立地表示0~10的整數，各m的合計為0~40的整數。其中，於各m的合計為0的情況下，X中任一個為羧基。
通式(ii)中，丙烯醯基及甲基丙烯醯基的合計為5個或6個，n分別獨立地表示0~10的整數，各n的合計為0~60的整數。其中，於各n的合計為0的情況下，X中任一個為羧基。
通式(Z-4)中，m較佳為0~6的整數，更佳為0~4的 整數。
另外，各m的合計較佳為2~40的整數，更佳為2~16的整數，特佳為4~8的整數。
通式(Z-5)中，n較佳為0~6的整數，更佳為0~4的整數。
另外，各n的合計較佳為3~60的整數，更佳為3~24的整數，特佳為6~12的整數。
另外，通式(Z-4)或通式(Z-5)中的-((CH2)yCH2O)-或者-((CH2)yCH(CH3)O)-較佳為氧原子側的末端與X鍵結的形態。
通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。特佳為通式(ii)中，6個X全部為丙烯醯基的形態。
另外，通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物於聚合性化合物中的總含量較佳為20質量%以上，更佳為50質量%以上。
通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物可藉由以下現有公知的步驟來合成：於季戊四醇或者二季戊四醇中，藉由將環氧乙烷或者環氧丙烷進行開環加成反應來鍵結開環骨架的步驟；使開環骨架的末端羥基與例如(甲基)丙烯醯氯進行反應來導入(甲基)丙烯醯基的步驟。各步驟為已熟知的步驟，本領域技術人員能夠容易地合成通式(i)或通式(ii)所表示的化合物。
通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物中，更佳為季戊四醇衍生物及/或二季戊四醇衍生物。
具體而言，可列舉下述式(a)~式(f)所表示的化合物(以 下亦稱為「例示化合物(a)~例示化合物(f)」)，其中，較佳為例示化合物(a)、例示化合物(b)、例示化合物(e)、例示化合物(f)。
[化42]
通式(Z-4)、通式(Z-5)所表示的聚合性化合物的市售品例如可列舉：沙多瑪(Sartomer)公司製造的具有4個伸乙基氧基鏈的4官能丙烯酸酯即SR-494、日本化藥股份有限公司製造的具有6個伸戊基氧基鏈的6官能丙烯酸酯即DPCA-60、具有3個異伸丁基氧基鏈的3官能丙烯酸酯即TPA-330等。
另外，聚合性化合物亦較佳為：如日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中記載的胺基甲酸酯丙烯酸酯類，或日本專利特公昭58-49860號公報、日本專利特公昭56-17654號公報、日本專利特公昭62-39417號公報、 日本專利特公昭62-39418號公報記載的具有環氧乙烷系骨架的胺基甲酸酯化合物類。進而，聚合性化合物可藉由使用日本專利特開昭63-277653號公報、日本專利特開昭63-260909號公報、日本專利特開平1-105238號公報中記載的分子內具有胺基結構或硫醚結構的加成聚合性化合物類，而獲得感光速度非常優異的硬化性組成物。
聚合性化合物的市售品可列舉：胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140(山陽國策紙漿(Sanyo-Kokusaku Pulp)公司製造)，UA-7200(新中村化學公司製造)，DPHA-40H(日本化藥公司製造)，UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮社製造)等。
作為環狀醚(環氧、氧雜環丁烷)，例如作為具有環氧基者，雙酚A型環氧樹脂可列舉：JER-827、JER-828、JER-834、JER-1001、JER-1002、JER-1003、JER-1055、JER-1007、JER-1009、JER-1010(以上由日本環氧樹脂(Japan Epoxy Resins)(股)製造)，埃皮科龍(EPICLON)860、埃皮科龍(EPICLON)1050、埃皮科龍(EPICLON)1051、埃皮科龍(EPICLON)1055(以上由迪愛生(DIC)(股)製造)等；雙酚F型環氧樹脂可列舉：JER-806、JER-807、JER-4004、JER-4005、JER-4007、JER-4010(以上由日本環氧樹脂(股)製造)，埃皮科龍(EPICLON)830、埃皮科龍(EPICLON)835(以上由迪愛生(股)製造)，LCE-21、RE-602S(以上由日本化藥(股)製造)等；苯酚酚醛清漆型環氧樹脂可 列舉：JER-152、JER-154、JER-157S70、JER-157S65(以上由日本環氧樹脂(股)製造)，埃皮科龍(EPICLON)N-740、埃皮科龍(EPICLON)N-770、埃皮科龍(EPICLON)N-775(以上由迪愛生(股)製造)等；甲酚酚醛清漆型環氧樹脂可列舉：埃皮科龍(EPICLON)N-660、埃皮科龍(EPICLON)N-665、埃皮科龍(EPICLON)N-670、埃皮科龍(EPICLON)N-673、埃皮科龍(EPICLON)N-680、埃皮科龍(EPICLON)N-690、埃皮科龍(EPICLON)N-695(以上由迪愛生(股)製造)，EOCN-1020(以上由日本化藥(股)製造)；脂肪族環氧樹脂可列舉：艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4080S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4085S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4088S(以上由艾迪科(ADEKA)(股)製造)，賽羅西德(Celloxide)2021P、賽羅西德(Celloxide)2081、賽羅西德(Celloxide)2083、賽羅西德(Celloxide)2085、EHPE-3150(2,2-雙(羥基甲基)-1-丁醇的1,2-環氧基-4-(2-氧雜環丙烷基)環己烷加成物)、艾波利得(EPOLEAD)PB 3600、艾波利得(EPOLEAD)PB 4700(以上由大賽璐化學工業(Daicel Chemical industries)(股)製造)，丹納考爾(Denacol)EX-211L、丹納考爾(Denacol)EX-212L、丹納考爾(Denacol)EX-214L、丹納考爾(Denacol)EX-216L、丹納考爾(Denacol)EX-321L、丹納考爾(Denacol)EX-850L(以上由長瀨化成(Nagase ChemteX)(股)製造)，艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4000S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4003S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4010S、艾迪科樹脂(ADEKA RESIN)EP-4011S(以上由艾迪科(股)製造)，NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上由艾迪科(股)製造)，JER-1031S(日本環氧樹脂(股)製造)等。此種聚合性化合物適合於以乾式蝕刻法來形成圖案的情況。
關於該些聚合性化合物，其結構、單獨使用或併用、添加量等使用方法的詳情可根據著色組成物的最終性能設計來任意設定。例如，就感度的觀點而言，較佳為每1分子的不飽和基含量多的結構，於多數情況下較佳為2官能以上。另外，就提高由著色組成物形成的硬化膜的強度的觀點而言，宜為3官能以上的化合物，進而，藉由將不同官能基數．不同聚合性基(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、苯乙烯系化合物、乙烯基醚系化合物)的化合物併用來調節感度與強度此兩者的方法亦有效。進而，就可調節著色組成物的顯影性，獲得優異的圖案形成能力的方面而言，較佳為併用3官能以上且環氧乙烷鏈長不同的聚合性化合物。
另外，對於與著色組成物中所含有的其他成分(例如光聚合起始劑、被分散體、鹼可溶性樹脂等)的相容性、分散性而言，聚合性化合物的選擇．使用法亦為重要因素，例如，有時可藉由低純度化合物的使用或2種以上的併用來提高相容性。另外，就提高與支持體等的硬質表面的密接性的觀點而言，亦可選擇特定的結構。
另外，本發明中如後所述。
相對於著色組成物中的總固體成分，本發明的著色組成物中的聚合性化合物的含量較佳為0.1質量%~90質量%，尤佳為1.0質量%~50質量%，特佳為2.0質量%~30質量%。
<多官能硫醇化合物>
出於促進聚合性化合物的反應等的目的，本發明的著色組成物可包含分子內具有2個以上巰基的多官能硫醇化合物。多官能硫醇化合物較佳為2級的烷烴硫醇類，特佳為具有下述通式(T1)所表示的結構的化合物。
(通式(T1)中，n表示2~4的整數，L表示2價~4價連結基。)
所述通式(T1)中，連結基L較佳為碳數2~12的脂肪族基，特佳為n為2且L為碳數2~12的伸烷基。多官能硫醇化合物的具體例可列舉下述結構式(T2)~結構式(T4)所表示的化合物，特佳為結構式(T2)所表示的化合物。該些多官能硫醇可使用1種或者將多種組合使用。
[化44]
相對於溶劑除外的總固體成分，本發明的著色組成物中的多官能硫醇的調配量較佳為0.3質量%~8.9質量%，更佳為以0.8質量%~6.4質量%的範圍來添加。另外，多官能硫醇亦可出於改良穩定性、臭氣、解析性、顯影性、密接性等的目的而添加。
<(C)顏料>
本發明的著色組成物較佳為含有(C)顏料。
顏料可使用現有公知的多種無機顏料或者有機顏料。顏料較佳為高透過率。
無機顏料可列舉金屬氧化物、金屬錯鹽等所表示的金屬化合物，具體而言可列舉：碳黑、鈦黑等黑色顏料，鐵、鈷、鋁、 鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、鋅、銻等的金屬氧化物，以及金屬的複合氧化物。
有機顏料例如可列舉：C.I.顏料黃11、24、31、53、83、93、99、108、109、110、138、139、147、150、151、154、155、167、180、185、199；C.I.顏料橙36、38、43、71；C.I.顏料紅81、105、122、149、150、155、171、175、176、177、209、220、224、242、254、255、264、270；C.I.顏料紫19、23、32、39；C.I.顏料藍1、2、15、15：1、15：3、15：6、16、22、60、66；C.I.顏料綠7、36、37、58；C.I.顏料棕25、28；C.I.顏料黑1等。
本發明中可較佳使用的顏料可列舉以下顏料。但本發明並不限定於該些顏料。
C.I.顏料黃11、24、108、109、110、138、139、150、151、154、167、180、185；C.I.顏料橙36、71；C.I.顏料紅122、150、171、175、177、209、224、242、254、255、264；C.I.顏料紫19、23、32； C.I.顏料藍15：1、15：3、15：6、16、22、60、66；C.I.顏料綠7、36、37、58；C.I.顏料黑1
該些有機顏料可單獨使用，或者為了調整分光或提高色純度而組合多種來使用。以下示出所述組合的具體例。例如，紅色顏料可將蒽醌系顏料、苝(perylene)系顏料、二酮吡咯并吡咯(diketopyrrolopyrrole)系顏料單獨使用，或者使用該些顏料的至少一種與雙偶氮(disazo)系黃色顏料、異吲哚啉(isoindoline)系黃色顏料、喹啉黃系黃色顏料或者苝系紅色顏料的混合等。例如，蒽醌系顏料可列舉C.I.顏料紅177，苝系顏料可列舉C.I.顏料紅155、C.I.顏料紅224，二酮吡咯并吡咯系顏料可列舉C.I.顏料紅254，就色分解性的方面而言，較佳為與C.I.顏料黃139的混合。另外，紅色顏料與黃色顏料的質量比較佳為100：5~100：50。若為100：4以下，則難以抑制400nm至500nm的光透過率，另外，若為100：51以上，則主波長偏向短波長，存在無法提高色分解能力的情況。尤其，所述質量比最佳為100：10~100：30的範圍。此外，於紅色顏料彼此的組合的情況下，可根據所要求的分光來調整。
另外，綠色顏料可將鹵化酞菁系顏料單獨使用，或者使用其與雙偶氮系黃色顏料、喹啉黃系黃色顏料、偶氮次甲基系黃色顏料或者異吲哚啉系黃色顏料的混合。例如，所述例子較佳為：C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠37與C.I.顏料黃83、C.I. 顏料黃138、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃150、C.I.顏料黃180或者C.I.顏料黃185的混合。綠顏料與黃色顏料的質量比較佳為100：5~100：150。所述質量比特佳為100：30~100：120的範圍。
藍色顏料可將酞菁系顏料單獨使用，或者使用其與二噁嗪系紫色顏料的混合。例如較佳為C.I.顏料藍15：6與C.I.顏料紫23的混合。藍色顏料與紫色顏料的質量比較佳為100：0~100：100，更佳為100：10以下。
另外，黑色矩陣用的顏料是將碳、鈦黑、氧化鐵、氧化鈦單獨使用或者混合使用，較佳為碳與鈦黑的組合。另外，碳與鈦黑的質量比較佳為100：0~100：60的範圍。
於用作彩色濾光片的情況下，就色不均或對比度的觀點而言，顏料的一次粒子尺寸較佳為100nm以下，另外，就分散穩定性的觀點而言，顏料的一次粒子尺寸較佳為5nm以上。顏料的一次粒子尺寸更佳為5nm~75nm，尤佳為5nm~55nm，特佳為5nm~35nm。本發明的特定分散樹脂可在與具有5nm~35nm範圍的一次粒子尺寸的顏料的組合中，發揮特別良好的效果。
顏料的一次粒子尺寸可利用電子顯微鏡等公知的方法來測定。
其中，顏料較佳為選自蒽醌顏料、二酮吡咯并吡咯顏料、酞菁顏料、喹啉黃顏料、異吲哚啉顏料、偶氮次甲基顏料、以及二噁嗪顏料中的顏料。尤其最佳為C.I.顏料紅177(蒽醌顏料)， C.I.顏料紅254(二酮吡咯并吡咯顏料)、C.I.顏料綠7、C.I.顏料綠36、C.I.顏料綠58、C.I.顏料藍15：6(酞菁顏料)、C.I.顏料黃138(喹啉黃顏料)、C.I.顏料黃139、C.I.顏料黃185(異吲哚啉顏料)、C.I.顏料黃150(偶氮次甲基顏料)、C.I.顏料紫23(二噁嗪顏料)。
於在本發明的著色組成物中調配顏料的情況下，相對於著色組成物中所含有的溶劑除外的全部成分，顏料的含量較佳為10質量%~70質量%，更佳為20質量%~60質量%，尤佳為30質量%~60質量%。
-顏料分散劑-
於本發明的著色組成物包含顏料的情況下，可視需要而併用顏料分散劑。
顏料分散劑可列舉：高分子分散劑[例如聚醯胺胺及其鹽、多羧酸及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚胺基甲酸酯、改質聚酯、改質聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸福爾馬林縮合物]、以及聚氧乙烯烷基磷酸酯、聚氧乙烯烷基胺、烷醇胺等界面活性劑及顏料衍生物等。
高分子分散劑可根據其結構而進一步分類為直鏈狀高分子、末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。
具有對顏料表面的錨固部位的末端改質型高分子例如可列舉：日本專利特開平3-112992號公報、日本專利特表2003-533455號公報等中記載的於末端具有磷酸基的高分子，日本專利特開2002-273191號公報等中記載的於末端具有磺酸基的高 分子，日本專利特開平9-77994號公報等中記載的具有有機色素的部分骨架或雜環的高分子等。另外，日本專利特開2007-277514號公報中記載的於高分子末端導入有2個以上的對顏料表面的錨固部位(酸基、鹼性基、有機色素的部分骨架或雜環等)的高分子亦由於分散穩定性優異而較佳。
具有對顏料表面的錨固部位的接枝型高分子例如可列舉聚酯系分散劑等，具體而言可列舉：日本專利特開昭54-37082號公報、日本專利特表平8-507960號公報、日本專利特開2009-258668號公報等中記載的聚(低級伸烷基亞胺)與聚酯的反應產物，日本專利特開平9-169821號公報等中記載的聚烯丙基胺與聚酯的反應產物，日本專利特開平10-339949號公報、日本專利特開2004-37986號公報、國際公開小冊子WO2010/110491等中記載的巨單體與氮原子單體的共聚物，日本專利特開2003-238837號公報、日本專利特開2008-9426號公報、日本專利特開2008-81732號公報等中記載的具有有機色素的部分骨架或雜環的接枝型高分子，日本專利特開2010-106268號公報等中記載的巨單體與含酸基單體的共聚物等。尤其就顏料分散物的分散性、分散穩定性、以及使用顏料分散物的著色組成物所顯示的顯影性的觀點而言，特佳為日本專利特開2009-203462號公報中記載的具有鹼性基及酸性基的兩性分散樹脂。
以自由基聚合來製造具有對顏料表面的錨固部位的接枝型高分子時所使用的巨單體可使用公知的巨單體，可列舉：東亞 合成(股)製造的巨單體AA-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚甲基丙烯酸甲酯)、AS-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚苯乙烯)、AN-6S(末端基為甲基丙烯醯基的苯乙烯與丙烯腈的共聚物)、AB-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚丙烯酸丁酯)，大賽璐化學工業(股)製造的Placcel FM5(甲基丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯5莫耳當量加成品)、FA10L(丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯10莫耳當量加成品)，以及日本專利特開平2-272009號公報中記載的聚酯系巨單體等。該些巨單體中，尤其就顏料分散物的分散性、分散穩定性、以及使用顏料分散物的著色組成物所顯示的顯影性的觀點而言，特佳為柔軟性且親溶劑性優異的聚酯系巨單體，進而最佳為日本專利特開平2-272009號公報中記載的聚酯系巨單體所表示的聚酯系巨單體。
具有對顏料表面的錨固部位的嵌段型高分子較佳為日本專利特開2003-49110號公報、日本專利特開2009-52010號公報等中記載的嵌段型高分子。
本發明中可使用的其他的顏料分散劑亦可作為市售品而獲取，此種具體例可列舉：楠本化成股份有限公司製造的「DA-7301」；畢克化學(BYK Chemie)公司製造的「Disperbyk-101(聚醯胺胺磷酸鹽)、107(羧酸酯)、110(包含酸基的共聚物)、130(聚醯胺)、161、162、163、164、165、166、170(高分子共聚物)」、「BYK-P104、P105(高分子量不飽和多羧酸)」；埃夫卡(EFKA)公司製造的「埃夫卡(EFKA)4047、4050~4010~4165 (聚胺基甲酸酯系)、埃夫卡(EFKA)4330~4340(嵌段共聚物)、4400~4402(改質聚丙烯酸酯)、5010(聚酯醯胺)、5765(高分子量多羧酸鹽)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750(偶氮顏料衍生物)」；味之素精細化學公司(Ajinomoto Fine-Techno.Co.Inc.)製造的「Ajisper PB821、PB822、PB880、PB881」；共榮社化學公司製造的「Flowlen TG-710(胺基甲酸酯寡聚物)」、「Polyflow No.50E、No.300(丙烯酸系共聚物)」；楠本化成公司製造的「Disparlon KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多元羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725」；花王公司製造的「Demol RN、N(萘磺酸福爾馬林縮聚物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸福爾馬林縮聚物)」；「Homogenol L-18(高分子多羧酸)」、「Emulgen 920、930、935、985(聚氧乙烯壬基苯基醚)」、「Acetamin 86(硬脂基胺乙酸酯)」；日本路博潤(Lubrizol)(股)製造的「Solsperse 5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮顏料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、17000、27000(於末端部具有功能部的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝型高分子)」；日光化學(Nikko Chemical)公司製造的「Nikkol T106(聚氧乙烯脫水山梨醇單油酸酯)、MYS-IEX(聚氧乙烯單硬脂酸酯)」；川研精細化學(Kawaken Fine Chemicals)(股)製造的Hinoact T-8000E等；信越化學工業(股)製造的有機矽氧烷聚合物KP341；裕商(股)製造的「W001：陽離子系界面活性劑」，聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、 聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨醇脂肪酸酯等非離子系界面活性劑，「W004、W005、W017」等陰離子系界面活性劑；森下產業(股)製造的「埃夫卡(EFKA)-46、埃夫卡(EFKA)-47、埃夫卡(EFKA)-47EA、埃夫卡聚合物(EFKA Polymer)100、埃夫卡聚合物(EFKA Polymer)400、埃夫卡聚合物(EFKA Polymer)401、埃夫卡聚合物(EFKA Polymer)450」；聖諾普科(San Nopco)(股)製造的「Disperse Aid 6、Disperse Aid 8、Disperse Aid 15、Disperse Aid 9100」等高分子分散劑；艾迪科(股)製造的「Adeka Pluronic L31、F38、L42、L44、L61、L64、F68、L72、P95、F77、P84、F87、P94、L101、P103、F108、L121、P-123」；以及三洋化成(股)製造的「Eonet(商品名)S-20」等。
該些顏料分散劑可單獨使用，亦可將2種以上組合使用。本發明中，特佳為將顏料衍生物與高分子分散劑組合使用。另外，顏料分散劑可與具有對顏料表面的錨固部位的末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子一起，與鹼可溶性樹脂併用。鹼可溶性樹脂可列舉：(甲基)丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、丁烯酸共聚物、順丁烯二酸共聚物、部分酯化順丁烯二酸共聚物等、以及於側鏈上具有羧酸的酸性纖維素衍生物，特佳為(甲基)丙烯酸共聚物。另外，日本專利特開平10-300922號公報中記載的N位取代順丁烯二醯亞胺單體共聚物、日本專利特開2004-300204號公報中記載的醚二聚物共聚物、日本專利特開平7-319161號公報 中記載的含有聚合性基的鹼可溶性樹脂亦較佳。
相對於顏料100質量份，著色組成物中顏料分散劑的總含量較佳為1質量份~80質量份，更佳為5質量份~70質量份，尤佳為10質量份~60質量份。
具體而言，若為使用高分子分散劑的情況，則相對於顏料100質量份，所述高分子分散劑的使用量較佳為5質量份~100質量份，更佳為10質量份~80質量份。
另外，於併用顏料衍生物的情況下，相對於顏料100質量份，顏料衍生物的使用量較佳為1質量份~30質量份，更佳為3質量份~20質量份，特佳為5質量份~15質量份。
著色組成物中，就硬化感度、色濃度的觀點而言，相對於著色組成物的總固體成分，著色劑成分以及顏料分散劑的含量的總和較佳為50質量%~90質量%，更佳為55質量%~85質量%，尤佳為60質量%~80質量%。
<(D)光聚合起始劑>
就進一步提高感度的觀點而言，本發明的著色組成物較佳為含有光聚合起始劑。
光聚合起始劑只要具有引發聚合性化合物的聚合的能力，則並無特別限制，可自公知的光聚合起始劑中適當選擇。例如，較佳為對紫外線區域至可見光線具有感光性的光聚合起始劑。另外，可為與經光激發的增感劑產生某種作用而生成活性自由基的活性劑，亦可為根據單體的種類來引發陽離子聚合的起始劑。
另外，光聚合起始劑較佳為含有至少1種在約300nm~800nm(更佳為330nm~500nm)的範圍內具有至少約50的分子吸光係數的化合物。
光聚合起始劑例如可列舉：鹵化烴衍生物(例如具有三嗪骨架的化合物、具有噁二唑骨架的化合物等)、醯基氧化膦等醯基膦化合物、六芳基聯咪唑、肟衍生物等肟化合物、有機過氧化物、硫化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、酮肟醚、胺基苯乙酮化合物、羥基苯乙酮等。
另外，就曝光感度的觀點而言，較佳為選自由以下化合物所組成的組群中的化合物：三鹵代甲基三嗪化合物、苄基二甲基縮酮(benzyl dimethyl ketal)化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬(metallocene)化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、鹵代甲基噁二唑化合物、經3-芳基取代的香豆素化合物。
尤佳為三鹵代甲基三嗪化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚物、鎓化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物，特佳為選自由三鹵代甲基三嗪化合物、α-胺基酮化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑二聚物、二苯甲酮化合物所組成的組群中的至少一種化合物。另外，三芳基咪唑化合物亦可為與苯并咪唑的混合物。
具體而言，三鹵代甲基三嗪化合物可例示以下的化合物。此外，Ph為苯基。
三芳基咪唑化合物、苯并咪唑化合物可例示以下的化合物。
三鹵代甲基三嗪化合物亦可使用市售品，例如可使用TAZ-107(綠化學公司製造)。
尤其於將本發明的著色組成物用於製作固體攝影元件用的彩色濾光片的情況下，需要以尖銳的形狀來形成微細圖案，因此不僅硬化性重要，而且重要的是於未曝光部無殘渣的情況下進行顯影。就此種觀點而言，光聚合起始劑特佳為肟化合物。尤其於在固體攝影元件中形成微細圖案的情況下，雖於硬化用曝光中使用 步進機曝光，但該曝光機存在由鹵素損傷的情況，光聚合起始劑的添加量亦需要抑制為低值，因此若考慮到該些方面，則於如固體攝影元件般形成微細圖案時，(D)光聚合起始劑最佳為使用肟化合物。
具有三嗪骨架的鹵化烴化合物例如可列舉：若林等人著的「日本化學會通報(Bulletin of the Chemical Society of Japan，Bull.Chem.Soc.Japan)」第42卷第2924頁(1969)記載的化合物、英國專利第1388492號說明書記載的化合物、日本專利特開昭53-133428號公報記載的化合物、德國專利第3337024號說明書記載的化合物、F.C.謝弗(F.C.Schaefer)等人的「有機化學期刊(Journal of Organic Chemistry，J.Org.Chem.)」第29卷第1527頁(1964)記載的化合物、日本專利特開昭62-58241號公報記載的化合物、日本專利特開平5-281728號公報記載的化合物、日本專利特開平5-34920號公報記載的化合物、美國專利第4212976號說明書中記載的化合物等。
美國專利第4212976號說明書中記載的化合物例如可列舉：具有噁二唑骨架的化合物(例如：2-三氯甲基-5-苯基-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(1-萘基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(2-萘基)-1,3,4-噁二唑、2-三溴甲基-5-苯基-1,3,4-噁二唑、2-三溴甲基-5-(2-萘基)-1,3,4-噁二唑；2-三氯甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-氯苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,4-噁二 唑、2-三氯甲基-5-(1-萘基)-1,3,4-噁二唑、2-三氯甲基-5-(4-正丁氧基苯乙烯基)-1,3,4-噁二唑、2-三溴甲基-5-苯乙烯基-1,3,4-噁二唑等)等。
另外，所述以外的光聚合起始劑可列舉：吖啶衍生物(例如：9-苯基吖啶、1,7-雙(9,9'-吖啶基)庚烷等)、N-苯基甘胺酸等、多鹵素化合物(例如：四溴化碳、苯基三溴甲基碸、苯基三氯甲基酮等)、香豆素類(例如：3-(2-苯并呋喃甲醯基)-7-二乙基胺基香豆素、3-(2-苯并呋喃甲醯基)-7-(1-吡咯啶基)香豆素、3-苯甲醯基-7-二乙基胺基香豆素、3-(2-甲氧基苯甲醯基)-7-二乙基胺基香豆素、3-(4-二甲基胺基苯甲醯基)-7-二乙基胺基香豆素、3,3'-羰基雙(5,7-二-正丙氧基香豆素)、3,3'-羰基雙(7-二乙基胺基香豆素)、3-苯甲醯基-7-甲氧基香豆素、3-(2-呋喃甲醯基)-7-二乙基胺基香豆素、3-(4-二乙基胺基肉桂醯基)-7-二乙基胺基香豆素、7-甲氧基-3-(3-吡啶基羰基)香豆素、3-苯甲醯基-5,7-二丙氧基香豆素、7-苯并三唑-2-基香豆素，另外，日本專利特開平5-19475號公報、日本專利特開平7-271028號公報、日本專利特開2002-363206號公報、日本專利特開2002-363207號公報、日本專利特開2002-363208號公報、日本專利特開2002-363209號公報等中記載的香豆素化合物等)、醯基氧化膦類(例如：雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基-戊基苯基氧化膦、LucirinTPO等)、茂金屬類(例如：雙(η5-2,4-環戊二烯-1-基)-雙(2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基)鈦、η5-環戊二烯基-η6-枯烯基 -鐵(1+)-六氟磷酸鹽(1-)等)，日本專利特開昭53-133428號公報、日本專利特公昭57-1819號公報、日本專利特公昭57-6096號公報、以及美國專利第3615455號說明書中記載的化合物等。
酮化合物例如可列舉：二苯甲酮、2-甲基二苯甲酮、3-甲基二苯甲酮、4-甲基二苯甲酮、4-甲氧基二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、4-氯二苯甲酮、4-溴二苯甲酮、2-羧基二苯甲酮、2-乙氧基羰基二苯甲酮、二苯甲酮四羧酸或者其四甲酯、4,4'-雙(二烷基胺基)二苯甲酮類(例如：4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4'-雙(二環己基胺基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、4,4'-雙(二羥基乙基胺基)二苯甲酮、4-甲氧基-4'-二甲基胺基二苯甲酮、4,4'-二甲氧基二苯甲酮、4-二甲基胺基二苯甲酮、4-二甲基胺基苯乙酮、苯偶醯、蒽醌、2-第三丁基蒽醌、2-甲基蒽醌、菲醌(phenanthraquinone)、氧雜蒽酮、硫雜蒽酮、2-氯-硫雜蒽酮、2,4-二乙基硫雜蒽酮、茀酮、2-苄基-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-1-丁酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基-1-丙酮、2-羥基-2-甲基-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙醇寡聚物、安息香、安息香醚類(例如：安息香甲醚、安息香乙醚、安息香丙醚、安息香異丙醚、安息香苯醚、苄基二甲基縮酮)、吖啶酮、氯吖啶酮、N-甲基吖啶酮、N-丁基吖啶酮、N-丁基-氯吖啶酮等。
光聚合起始劑亦可適宜使用羥基苯乙酮化合物、胺基苯乙酮化合物、以及醯基膦化合物。更具體而言，例如亦可使用日本專利特開平10-291969號公報中記載的胺基苯乙酮系起始劑、 日本專利第4225898號公報中記載的醯基氧化膦系起始劑。
羥基苯乙酮系起始劑可使用：豔佳固(IRGACURE)-184、德牢固(DAROCUR)-1173、豔佳固(IRGACURE)-500、豔佳固(IRGACURE)-2959、豔佳固(IRGACURE)-127(商品名；均由巴斯夫(BASF)公司製造)。胺基苯乙酮系起始劑可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-907、豔佳固(IRGACURE)-369、以及豔佳固(IRGACURE)-379、豔佳固(IRGACURE)-OXE379(商品名；均由巴斯夫公司製造)。胺基苯乙酮系起始劑可使用吸收波長與365nm或405nm等的長波光源匹配的且於日本專利特開2009-191179公報中記載的化合物。另外，醯基膦系起始劑可使用作為市售品的豔佳固(IRGACURE)-819或德牢固(DAROCUR)-TPO(商品名；均由巴斯夫公司製造)。
光聚合起始劑更佳為可列舉肟化合物。肟化合物的具體例可使用：日本專利特開2001-233842號公報記載的化合物、日本專利特開2000-80068號公報記載的化合物、日本專利特開2006-342166號公報記載的化合物。
適合用作本發明光聚合起始劑的肟衍生物等肟化合物例如可列舉：3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯基氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺醯基氧基)亞胺基丁烷-2-酮、以及2-乙氧基羰基氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。
肟化合物可列舉：「英國化學會志：柏爾金匯刊第二輯(Journal of the Chemical Society Perkin Transactions II，J.C.S.Perkin II)」(1979年)第1653頁至第1660頁、「英國化學會志：柏爾金匯刊第二輯」(1979年)第156頁至第162頁、「光聚合物科學與技術雜誌(Journal of Photopolymer Science and Technology)」(1995年)第202頁至第232頁、日本專利特開2000-66385號公報記載的化合物、日本專利特開2000-80068號公報、日本專利特表2004-534797號公報、日本專利特開2006-342166號公報的各公報中記載的化合物等。
市售品中，亦適合使用豔佳固(IRGACURE)-OXE01(巴斯夫公司製造)、豔佳固(IRGACURE)-OXE02(巴斯夫公司製造)、TR-PBG-304(常州強力電子新材料有限公司製造)、ADEKA ARKLS NCI-831、ADEKA ARKLS NCI-930(艾迪科公司製造)。
另外，所述記載以外的肟化合物亦可使用：於咔唑N位連結有肟的日本專利特表2009-519904號公報中記載的化合物、於二苯甲酮部位導入有雜取代基的美國專利第7626957號公報中記載的化合物、於色素部位導入有硝基的日本專利特開2010-15025號公報以及美國專利公開2009-292039號記載的化合物、國際公開專利2009-131189號公報中記載的酮肟化合物、於同一分子內含有三嗪骨架及肟骨架的美國專利7556910號公報中記載的化合物、於405nm下具有吸收極大且對g射線光源具有良好感度的日本專利特開2009-221114號公報記載的化合物等。
較佳為進而對於日本專利特開2007-231000號公報、以及日本專利特開2007-322744號公報中記載的環狀肟化合物亦可適宜使用。環狀肟化合物中，就具有高的光吸收性且高感度化的觀點而言，特佳為日本專利特開2010-32985號公報、日本專利特開2010-185072號公報中記載的對咔唑色素縮環而成的環狀肟化合物。
另外，於肟化合物的特定部位具有不飽和鍵的日本專利特開2009-242469號公報中記載的化合物亦可藉由自聚合惰性自由基再生出活性自由基而達成高感度化，可適宜使用。
最佳為可列舉：日本專利特開2007-269779號公報中所示的具有特定取代基的肟化合物、或日本專利特開2009-191061號公報中所示的具有硫代芳基的肟化合物。
具體而言，作為光聚合起始劑的肟化合物較佳為下述通式(OX-1)所表示的化合物。此外，肟的N-O鍵可為(E)體的肟化合物，亦可為(Z)體的肟化合物，亦可為(E)體與(Z)體的混合物。
通式(OX-1)中，R及B分別獨立地表示一價取代基， A表示二價有機基，Ar表示芳基。
通式(OX-1)中，R所表示的一價取代基較佳為一價的非金屬原子團。
一價的非金屬原子團可列舉：烷基、芳基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環基、烷硫基羰基、芳硫基羰基等。另外，該些基團可具有1個以上的取代基。另外，所述取代基可進而經其他取代基所取代。
取代基可列舉：鹵素原子、芳氧基、烷氧基羰基或者芳氧基羰基、醯基氧基、醯基、烷基、芳基等。
烷基較佳為碳數1~30的烷基，具體而言可例示：甲基、乙基、丙基、丁基、己基、辛基、癸基、十二烷基、十八烷基、異丙基、異丁基、第二丁基、第三丁基、1-乙基戊基、環戊基、環己基、三氟甲基、2-乙基己基、苯甲醯甲基、1-萘甲醯基甲基、2-萘甲醯基甲基、4-甲基硫烷基苯甲醯甲基、4-苯基硫烷基苯甲醯甲基、4-二甲基胺基苯甲醯甲基、4-氰基苯甲醯甲基、4-甲基苯甲醯甲基、2-甲基苯甲醯甲基、3-氟苯甲醯甲基、3-三氟甲基苯甲醯甲基、以及3-硝基苯甲醯甲基。
芳基較佳為碳數6~30的芳基，具體而言可例示：苯基、聯苯基、1-萘基、2-萘基、9-蒽基(9-anthryl)、9-菲基(9-phenanthryl)、1-芘基(1-pyrenyl)、5-稠四苯基(5-naphthacenyl)、1-茚基(1-indenyl)、2-薁基(2-azulenyl)、9-茀基(9-fluorenyl)、聯三苯基(terphenyl)、聯四苯基 (quarterphenyl)、鄰甲苯基、間甲苯基、對甲苯基、二甲苯基、鄰異丙苯基(o-cumenyl)、間異丙苯基以及對異丙苯基、2,4,6-三甲苯基(mesityl)、並環戊二烯基(pentalenyl)、聯萘基(binaphthalenyl)、聯三萘基(ternaphthalenyl)、聯四萘基(quarternaphthalenyl)、並環庚三烯基(heptalenyl)、伸聯苯基、二環戊二烯並苯基(indacenyl)、丙二烯合茀基(fluoranthenyl)、苊基(acenaphthylenyl)、乙烯合蒽基(aceanthrylenyl)、丙烯合萘基(phenalenyl)、茀基、蒽基(anthryl)、聯蒽基(bianthracenyl)、聯三蒽基(teranthracenyl)、聯四蒽基(quarteranthracenyl)、蒽醌基(anthraquinolyl)、菲基、苯并[9,10]菲基(triphenylenyl)、芘基、屈基(chrysenyl)、稠四苯基、七曜烯基(pleiadenyl)、苉基(picenyl)、苝基(perylenyl)、五苯基、稠五苯基(pentacenyl)、聯四苯基(tetraphenylenyl)、六苯基、稠六苯基(hexacenyl)、茹基(rubicenyl)、蔻基(coronenyl)、聯伸三萘基(trinaphthylenyl)、七苯基、稠七苯基(heptacenyl)、芘蒽基(pyranthrenyl)、及莪基(ovalenyl)。
醯基較佳為碳數2~20的醯基，具體而言可例示：乙醯基、丙醯基、丁醯基、三氟乙醯基、戊醯基、苯甲醯基、1-萘甲醯基、2-萘甲醯基、4-甲基硫烷基苯甲醯基、4-苯基硫烷基苯甲醯基、4-二甲基胺基苯甲醯基、4-二乙基胺基苯甲醯基、2-氯苯甲醯基、2-甲基苯甲醯基、2-甲氧基苯甲醯基、2-丁氧基苯甲醯基、3-氯苯甲醯基、3-三氟甲基苯甲醯基、3-氰基苯甲醯基、3-硝基苯甲 醯基、4-氟苯甲醯基、4-氰基苯甲醯基、以及4-甲氧基苯甲醯基。
烷氧基羰基較佳為碳數2~20的烷氧基羰基，具體而言可例示：甲氧基羰基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、丁氧基羰基、己氧基羰基、辛氧基羰基、癸氧基羰基、十八烷氧基羰基、以及三氟甲氧基羰基。
芳氧基羰基具體而言可例示：苯氧基羰基、1-萘氧基羰基、2-萘氧基羰基、4-甲基硫烷基苯氧基羰基、4-苯基硫烷基苯氧基羰基、4-二甲基胺基苯氧基羰基、4-二乙基胺基苯氧基羰基、2-氯苯氧基羰基、2-甲基苯氧基羰基、2-甲氧基苯氧基羰基、2-丁氧基苯氧基羰基、3-氯苯氧基羰基、3-三氟甲基苯氧基羰基、3-氰基苯氧基羰基、3-硝基苯氧基羰基、4-氟苯氧基羰基、4-氰基苯氧基羰基、以及4-甲氧基苯氧基羰基。
雜環基較佳為包含氮原子、氧原子、硫原子或磷原子的芳香族或者脂肪族的雜環。
具體而言可例示：噻吩基、苯并[b]噻吩基、萘并[2,3-b]噻吩基、噻噁基(thianthrenyl)、呋喃基、吡喃基、異苯并呋喃基、烯基(chromenyl)、基(xanthenyl)、吩噁噻基(phenoxathiinyl)、2H-吡咯基(2H-pyrrolyl)、吡咯基、咪唑基、吡唑基、吡啶基、吡嗪基、嘧啶基、噠嗪基(pyridazinyl)、吲嗪基(indolizinyl)、異吲哚基(isoindolyl)、3H-吲哚基、吲哚基、1H-吲唑基(1H-indazolyl)、嘌呤基(purinyl)、4H-喹嗪基(4H-quinolizinyl)、異喹啉基(isoquinolyl)、喹啉基、呔基(phthalazinyl)、啶基 (naphthyridinyl)、喹噁啉基(quinoxalinyl)、喹唑啉基(quinazolinyl)、啉基(cinnolinyl)、喋啶基(pteridinyl)、4aH-咔唑基(4aH-carbazolyl)、咔唑基、β-咔啉基(β-carbolinyl)、啡啶基(phenanthridinyl)、吖啶基(acridinyl)、呸啶基(perimidinyl)、啡啉基(phenanthrolinyl)、吩嗪基(phenazinyl)、啡呻基(phenarsazinyl)、異噻唑基(isothiazolyl)、酚噻嗪基(phenothiazinyl)、異噁唑基(isoxazolyl)、呋呫基(furazanyl)、吩噁嗪基(phenoxazinyl)、異苯并二氫哌喃基(isochromanyl)、苯并二氫哌喃基、吡咯啶基(pyrrolidinyl)、吡咯啉基(pyrrolinyl)、咪唑啶基(imidazolidinyl)、咪唑啉基(imidazolinyl)、吡唑啶基(pyrazolidinyl)、吡唑啉基(pyrazolinyl)、哌啶基(piperidyl)、哌嗪基(piperazinyl)、吲哚啉基(indolinyl)、異吲哚啉基、奎寧環基(quinuclidinyl)、嗎啉基(morpholinyl)、以及硫雜蒽酮基(thioxanthonyl)。
烷硫基羰基具體而言可例示：甲硫基羰基、丙硫基羰基、丁硫基羰基、己硫基羰基、辛硫基羰基、癸硫基羰基、十八烷硫基羰基、以及三氟甲硫基羰基。
芳硫基羰基具體而言可列舉：1-萘硫基羰基、2-萘硫基羰基、4-甲基硫烷基苯硫基羰基、4-苯基硫烷基苯硫基羰基、4-二甲基胺基苯硫基羰基、4-二乙基胺基苯硫基羰基、2-氯苯硫基羰基、2-甲基苯硫基羰基、2-甲氧基苯硫基羰基、2-丁氧基苯硫基羰基、3-氯苯硫基羰基、3-三氟甲基苯硫基羰基、3-氰基苯硫基羰基、3- 硝基苯硫基羰基、4-氟苯硫基羰基、4-氰基苯硫基羰基、以及4-甲氧基苯硫基羰基。
通式(OX-1)中，B所表示的一價取代基表示芳基、雜環基、芳基羰基、或者雜環羰基。另外，該些基團可具有1個以上的取代基。取代基可例示所述取代基。另外，所述取代基可進而經其他取代基所取代。
其中，特佳為以下所示的結構。
下述結構中，Y、X及n分別與後述通式(OX-2)中的Y、X及n含意相同，較佳例亦相同。
式(OX-1)中，A所表示的二價有機基可列舉碳數1~12的伸烷基、伸環烷基、伸炔基。另外，該些基團可具有1個以上的取代基。取代基可例示所述取代基。另外，所述取代基可進而經其他取代基所取代。
其中，就提高感度、抑制隨著加熱而引起的著色的方面而言，式(OX-1)中的A較佳為：未經取代的伸烷基、經烷基(例如甲基、乙基、第三丁基、十二烷基)所取代的伸烷基、經烯基(例 如乙烯基、烯丙基)所取代的伸烷基、經芳基(例如苯基、對甲苯基、二甲苯基、異丙苯基、萘基、蒽基、菲基、苯乙烯基)所取代的伸烷基。
式(OX-1)中，Ar所表示的芳基較佳為碳數6~30的芳基，另外亦可具有取代基。取代基可列舉與導入至經取代芳基中的取代基相同的基團，所述經取代芳基已於前文作為可具有取代基的芳基的具體例而列舉。
其中，就提高感度、抑制隨著加熱而引起的著色的方面而言，較佳為經取代或未經取代的苯基。
式(OX-1)中，就感度的方面而言，式(OX-1)中的包含Ar及與該Ar鄰接的S的「SAr」的結構較佳為以下所示的結構。此外，Me表示甲基，Et表示乙基。
[化49]
肟化合物較佳為下述通式(OX-2)所表示的化合物。
通式(OX-2)中，R及X分別獨立地表示一價取代基，A及Y分別獨立地表示二價有機基，Ar表示芳基，n為0~5的整數。通式(OX-2)中的R、A、及Ar與通式(OX-1)中的R、A、 及Ar含意相同，較佳例亦相同。
通式(OX-2)中，X所表示的一價取代基可列舉：烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、醯基氧基、醯基、烷氧基羰基、胺基、雜環基、鹵素原子。另外，該些基團可具有1個以上的取代基。取代基可例示所述取代基。另外，所述取代基可進而經其他取代基所取代。
該些基團中，就溶劑溶解性及長波長區域的吸收效率提高的方面而言，通式(OX-2)中的X較佳為烷基。
另外，式(2)中的n表示0~5的整數，較佳為0~2的整數。
通式(OX-2)中，Y所表示的二價有機基可列舉以下所示的結構。此外，以下所示的基團中，「*」表示式(OX-2)中Y與鄰接的碳原子的鍵結位置。
[化51]
其中，就高感度化的觀點而言，較佳為下述所示的結構。
進而，肟化合物較佳為下述通式(OX-3)或通式(OX-4)所表示的化合物。
[化53]
通式(OX-3)或通式(OX-4)中，R及X分別獨立地表示一價取代基，A表示二價有機基，Ar表示芳基，n為0~5的整數。
通式(OX-3)或通式(OX-4)中的R、X、A、Ar及n與通式(OX-2)中的R、X、A、Ar及n分別含意相同，較佳例亦相同。
以下示出適宜使用的肟化合物的具體例(C-4)~具體例(C-13)，但本發明並不限定於該些具體例。
[化54]
肟化合物是於350nm~500nm的波長區域具有極大吸收波長的化合物，較佳為於360nm~480nm的波長區域具有吸收波長的化合物，特佳為365nm及455nm的吸光度高的化合物。
就感度的觀點而言，肟化合物的365nm或405nm下的莫耳吸光係數較佳為1,000~300,000，更佳為2,000~300,000，特佳為5,000~200,000。
化合物的莫耳吸光係數可使用公知的方法來測定，具體而言，例如較佳為利用紫外可見分光光度計(瓦里安公司製造的Cary-5 spetrophotometer)，使用乙酸乙酯溶劑，以0.01g/L的濃度來測定。
本發明中使用的光聚合起始劑可視需要而將2種以上組合使用。
於本發明的著色組成物含有(D)光聚合起始劑的情況下，相對於著色組成物的總固體成分，(D)光聚合起始劑的含量較佳為0.1質量%~50質量%，更佳為0.5質量%~30質量%，尤佳為1質量%~20質量%。在該範圍內獲得更良好的感度及圖案形成性。
<(F)鹼可溶性樹脂>
本發明的著色組成物較佳為更含有鹼可溶性樹脂。此外，此處所謂的鹼可溶性樹脂中不包含作為顏料分散劑而含有於本發明著色組成物中的成分。
鹼可溶性樹脂可自如下的鹼可溶性樹脂中適當選擇：為線狀有機高分子聚合物且於分子(較佳為以丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物作為主鏈的分子)中具有至少1個促進鹼可溶性的基團的鹼可溶性樹脂。就耐熱性的觀點而言，較佳為聚羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂，就控制顯影性的觀點而言，較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。
促進鹼可溶性的基團(以下亦稱為酸基)例如可列舉羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等，但較佳為可溶於有機溶劑中且可藉由弱鹼水溶液來進行顯影的基團，特佳為可列舉(甲基)丙烯酸。該些酸基可僅為1種，亦可為2種以上。
可於聚合後賦予酸基的單體例如可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯等具有羥基的單體、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有環氧基的單體、(甲基)丙烯酸2-異氰酸基乙酯等具有異氰酸酯基的單體等。用以導入該些酸基的單量體可僅為1種，亦可為2種以上。為了於鹼可溶性樹脂中導入酸基，例如只要將具有酸基的單體及/或可於聚合後賦予酸基的單體(以下有時亦稱為「用以導入酸基的單量體」)作為單量體成分來進行聚合即可。
此外，於將可於聚合後賦予酸基的單體作為單量體成分來導入酸基的情況下，聚合後需要例如後述的用以賦予酸基的處理。
鹼可溶性樹脂的製造中，例如可應用利用公知的自由基聚合法的方法。以自由基聚合法來製造鹼可溶性樹脂時的溫度、壓力、自由基起始劑的種類及其量、溶劑的種類等聚合條件可由本領域技術人員容易地設定，亦可實驗性地決定條件。
用作鹼可溶性樹脂的線狀有機高分子聚合物較佳為於側鏈上具有羧酸的聚合物，可列舉：甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、丁烯酸共聚物、順丁烯二酸共聚物、部分酯化順丁烯二酸共聚物、酚醛清漆型樹脂等鹼可溶性酚樹脂等，以及於側鏈上具有羧酸的酸性纖維素衍生物、於具有羥基的聚合 物中加成酸酐而成的聚合物。尤其是(甲基)丙烯酸與可與其進行共聚合的其他單量體的共聚物適合作為鹼可溶性樹脂。可與(甲基)丙烯酸共聚合的其他單量體可列舉：(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、乙烯基化合物等。(甲基)丙烯酸烷基酯以及(甲基)丙烯酸芳基酯可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯基酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、(甲基)丙烯酸甲苯基酯、(甲基)丙烯酸萘基酯、(甲基)丙烯酸環己酯等；乙烯基化合物可列舉：苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基丙烯酸四氫糠基酯、聚苯乙烯巨單體、聚甲基丙烯酸甲酯巨單體等；日本專利特開平10-300922號公報中記載的N位取代順丁烯二醯亞胺單體可列舉：N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺等。此外，該些可與(甲基)丙烯酸共聚合的其他單體可僅為1種，亦可為2種以上。
鹼可溶性樹脂亦較佳為包含聚合物(a)，所述聚合物(a)將以下述通式(ED)所表示的化合物(以下有時亦稱為「醚二聚物」)作為必需成分的單量體成分進行聚合而成。
[化55]
通式(ED)中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或者可具有取代基的碳數1~25的烴基。
藉此，本發明的著色組成物可形成不僅耐熱性，而且透明性亦極其優異的硬化塗膜。表示醚二聚物的通式(ED)中，R1及R2所表示的可具有取代基的碳數1~25的烴基並無特別限制，例如可列舉：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、第三戊基、硬脂基、月桂基、2-乙基己基等直鏈狀或分支狀的烷基；苯基等芳基；環己基、第三丁基環己基、二環戊二烯基、三環癸基、異冰片基、金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基等脂環式基；1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基等經烷氧基所取代的烷基；苄基等經芳基所取代的烷基等。該些烴基中，就耐熱性的方面而言，特佳為如甲基、乙基、環己基、苄基等之類的難以藉由酸或熱而脫離的1級或2級碳的取代基。
作為醚二聚物的具體例，例如可列舉：二甲基-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二乙基-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丙基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丙基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(正丁基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異丁基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸 酯、二(第三丁基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三戊基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(硬脂基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(月桂基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(2-乙基己基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-甲氧基乙基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(1-乙氧基乙基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苄基-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苯基-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(第三丁基環己基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(二環戊二烯基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(三環癸基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(異冰片基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二金剛烷基-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二(2-甲基-2-金剛烷基)-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯等。該些醚二聚物中，特佳為二甲基-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二乙基-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二環己基-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯、二苄基-2,2'-[氧雙(亞甲基)]雙-2-丙烯酸酯。該些醚二聚物可僅為1種，亦可為2種以上。由通式(ED)所表示的化合物而來的結構體亦可使其他單量體進行共聚合。
另外，為了提高本發明的著色組成物的交聯效率，亦可使用具有聚合性基的鹼可溶性樹脂。具有聚合性基的鹼可溶性樹脂可使用於側鏈上含有烯丙基、(甲基)丙烯酸基、烯丙基氧基烷基等的鹼可溶性樹脂等。
具有聚合性基的鹼可溶性樹脂的例子可列舉：Dianal NR系列(三菱麗陽(Mitsubishi Rayon)股份有限公司製造)、Photomer 6173(含COOH的聚胺基甲酸酯丙烯酸寡聚物(polyurethane acrylic oligomer)，鑽石三葉草有限公司(Diamond Shamrock Co.Ltd.,)製造)、Viscoat R-264、KS抗蝕劑106(均由大阪有機化學工業股份有限公司製造)、Cyclomer P系列、Placcel CF200系列(均由大賽璐化學工業股份有限公司製造)、Ebecryl 3800(大賽璐UCB股份有限公司製造)等。具有聚合性基的鹼可溶性樹脂較佳為：藉由如下化合物與包含羧基的丙烯酸樹脂進行反應而獲得的經胺基甲酸酯改質的含聚合性雙鍵的丙烯酸樹脂，所述化合物預先使異氰酸酯基與OH基進行反應而殘留1個未反應的異氰酸酯基，且包含(甲基)丙烯醯基；藉由包含羧基的丙烯酸樹脂與分子內同時具有環氧基及聚合性雙鍵的化合物進行反應而獲得的含不飽和基的丙烯酸樹脂；使酸側位(acid pendant)型環氧丙烯酸酯樹脂、包含OH基的丙烯酸樹脂與具有聚合性雙鍵的二元酸酐進行反應而成的含聚合性雙鍵的丙烯酸樹脂；使包含OH基的丙烯酸樹脂、異氰酸酯與具有聚合性基的化合物進行反應而成的樹脂；藉由對日本專利特開2002-229207號公報以及日本專利特開2003-335814號公報中記載的且於側鏈上具有酯基的樹脂進行鹼性處理而獲得的樹脂等，所述酯基於α位或β位具有鹵素原子或磺酸酯基等脫離基。
鹼可溶性樹脂特佳為包含(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙 烯酸共聚物或(甲基)丙烯酸苄基酯/(甲基)丙烯酸/其他單體的多元共聚物。除此以外，可列舉：將甲基丙烯酸2-羥基乙酯進行共聚合而成的共聚物、日本專利特開平7-140654號公報中記載的(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯巨單體/甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯巨單體/甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸共聚物等，特佳為可列舉甲基丙烯酸苄基酯/甲基丙烯酸的共聚物等。
鹼可溶性樹脂可參考日本專利特開2012-208494號公報段落0558~段落0571(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0685]~[0700])以後的記載，該些內容併入本申請案說明書中。
進而，較佳為使用：日本專利特開2012-32767號公報中記載的段落編號0029~段落編號0063中記載的共聚物(B)以及實施例中使用的鹼可溶性樹脂、日本專利特開2012-208474號公報的段落編號0088~段落編號0098中記載的黏合劑樹脂以及實施例中使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2012-137531號公報的段落編號0022~段落編號0032中記載的黏合劑樹脂以及實施例中使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2013-024934號公報的段落編號0132~段落編號0143中記載的黏合劑樹脂以及實施例中使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2011-242752號公報的段落編號0092~ 段落編號0098以及實施例中使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2012-032770號公報的段落編號0030~段落編號0072的記載的黏合劑樹脂。該些內容併入本申請案說明書中。更具體而言，較佳為下述樹脂。
[化56]
鹼可溶性樹脂的酸值較佳為30mgKOH/g~200mgKOH/g，更佳為50mgKOH/g~150mgKOH/g，最佳為70mgKOH/g~120mgKOH/g。
另外，鹼可溶性樹脂的重量平均分子量(Mw)較佳為2,000~50,000，尤佳為5,000~30,000，最佳為7,000~20,000。本發明中使用的化合物的分子量的測定方法可利用凝膠滲透層析法(GPC)來測定，被定義為由GPC的測定而得的聚苯乙烯換算值。例如，可藉由使用HLC-8220(東曹(股)製造)，使用TSKgel Super AWM-H(東曹(股)製造，6.0mmID×15.0cm)作為管柱，且使用10mmol/L的溴化鋰N-甲基吡咯啶酮(N-methylpyrrolidone，NMP)溶液作為溶析液來求出。
於著色組成物中含有鹼可溶性樹脂的情況下，相對於著色組成物的總固體成分，鹼可溶性樹脂於著色組成物中的含量較佳為1質量%~15質量%，更佳為2質量%~12質量%，特佳為3質量%~10質量%。
本發明的組成物可僅包含1種鹼可溶性樹脂，亦可包含2種以上的鹼可溶性樹脂。於包含2種以上的情況下，較佳為其合計量成為所述範圍。
<其他成分>
除了所述各成分以外，本發明的著色組成物可於不損及本發明效果的範圍內，更包含有機溶劑、交聯劑等其他成分。
<<有機溶劑>>
本發明的著色組成物可包含有機溶劑。
有機溶劑只要滿足各成分的溶解性或著色組成物的塗佈性，則基本上並無特別限制，特佳為考慮到紫外線吸收劑、鹼可溶性樹脂或分散劑等的溶解性、塗佈性、安全性來選擇。另外，製備本發明的著色組成物時，較佳為包含至少2種有機溶劑。
作為有機溶劑，酯類例如適宜列舉：乙酸乙酯、乙酸-正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、乙酸異丁酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧乙酸烷基酯(例：氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸丁酯(例如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-氧基丙酸烷基酯類(例：3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等(例如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-氧基丙酸烷基酯類(例：2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等(例如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等；以及醚類，例如適宜列舉：二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙 醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等；以及酮類，例如適宜列舉：甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等；以及芳香族烴類，例如適宜列舉甲苯、二甲苯等。
就紫外線吸收劑及鹼可溶性樹脂的溶解性、塗佈表面性狀的改良等觀點而言，該些有機溶劑亦較佳為將2種以上混合。該情況下，特佳為包含選自所述3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚、以及丙二醇甲醚乙酸酯中的2種以上的混合溶液。
就塗佈性的觀點而言，有機溶劑於著色組成物中的含量較佳為設為組成物的總固體成分濃度成為5質量%~80質量%的量，尤佳為5質量%~60質量%，特佳為10質量%~50質量%。
<<交聯劑>>
亦可於本發明的著色組成物中補充性地使用交聯劑，進一步提高使著色組成物硬化而成的硬化膜的硬度。
交聯劑只要可藉由交聯反應來進行膜硬化，則無特別限定，例如可列舉：(a)環氧樹脂；(b)經選自羥甲基、烷氧基甲基、及醯氧基甲基中的至少1個取代基所取代的三聚氰胺(melamine)化合物、胍胺(guanamine)化合物、甘脲(glycoluril)化合物或者脲(urea)化合物；(c)經選自羥甲基、烷氧基甲基、以及醯氧 基甲基中的至少1個取代基所取代的苯酚化合物、萘酚化合物或者羥基蒽化合物。其中，較佳為多官能環氧樹脂。
交聯劑的具體例等詳情可參照日本專利特開2004-295116號公報的段落0134~段落0147的記載。
於本發明的著色組成物中含有交聯劑的情況下，交聯劑的調配量並無特別限定，但較佳為組成物的總固體成分的2質量%~30質量%，更佳為3質量%~20質量%。
本發明的著色組成物可僅包含1種交聯劑，亦可包含2種以上的交聯劑。於包含2種以上的情況下，較佳為其合計量成為所述範圍。
<<聚合抑制劑>>
本發明的著色組成物中，為了於著色組成物的製造中或保存中，阻止聚合性化合物的不需要的熱聚合，較理想為添加少量的聚合抑制劑。
本發明中可使用的聚合抑制劑可列舉：對苯二酚(hydroquinone)、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、鄰苯三酚(pyrogallol)、第三丁基鄰苯二酚(tert-butylcatechol)、苯醌(benzoquinone)、4,4'-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥基胺亞鈰鹽等。
於本發明的著色組成物中含有聚合抑制劑的情況下，相對於全部組成物的質量，聚合抑制劑的添加量較佳為約0.01質量%~約5質量%。
本發明的組成物可僅包含1種聚合抑制劑，亦可包含2種以上的聚合抑制劑。於包含2種以上的情況下，較佳為其合計量成為所述範圍。
<<界面活性劑>>
本發明的著色組成物中，就進一步提高塗佈性的觀點而言，亦可添加各種界面活性劑。界面活性劑可使用：氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。
尤其，本發明的著色組成物藉由含有氟系界面活性劑，則製備成塗佈液時的液特性(特別是流動性)進一步提高，因此可進一步改善塗佈厚度的均勻性或省液性。
即，於使用應用含有氟系界面活性劑的著色組成物的塗佈液來形成膜的情況下，藉由使被塗佈面與塗佈液的界面張力下降，而改善對被塗佈面的潤濕性，對被塗佈面的塗佈性提高。因此在如下方面有效：即便是以少量的液量來形成數μm程度的薄膜的情況，亦可更適宜地進行厚度不均小的均勻厚度的膜形成。
氟系界面活性劑中的氟含有率較佳為3質量%~40質量%，更佳為5質量%~30質量%，特佳為7質量%~25質量%。氟含有率在該範圍內的氟系界面活性劑在塗佈膜的厚度的均勻性或省液性的方面有效，於著色組成物中的溶解性亦良好。
氟系界面活性劑例如可列舉：美佳法(Megafac)F171、美佳法(Megafac)F172、美佳法(Megafac)F173、美佳法(Megafac) F176、美佳法(Megafac)F177、美佳法(Megafac)F141、美佳法(Megafac)F142、美佳法(Megafac)F143、美佳法(Megafac)F144、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)F437、美佳法(Megafac)F475、美佳法(Megafac)F479、美佳法(Megafac)F482、美佳法(Megafac)F554、美佳法(Megafac)F780、美佳法(Megafac)F781(以上由迪愛生(股)製造)，弗拉德(Fluorad)FC430、弗拉德(Fluorad)FC431、弗拉德(Fluorad)FC171(以上由住友3M(股)製造)，沙福隆(Surflon)S-382、沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon)SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC1068、沙福隆(Surflon)SC-381、沙福隆(Surflon)SC-383、沙福隆(Surflon)S393、沙福隆(Surflon)KH-40(以上由旭硝子(股)製造)等。
非離子系界面活性劑具體而言可列舉：甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷以及它們的乙氧基化物及丙氧基化物(例如甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨醇脂肪酸酯(巴斯夫公司製造的Pluronic L10、Pluronic L31、Pluronic L61、Pluronic L62、Pluronic 10R5、Pluronic 17R2、Pluronic 25R2，Tetronic 304、Tetronic 701、Tetronic 704、Tetronic 901、Tetronic 904、Tetronic 150R1)、Solsperse 20000(日本路博潤(股))等。
陽離子系界面活性劑具體而言可列舉：酞菁衍生物(商品名：埃夫卡(EFKA)-745，森下產業(股)製造)，有機矽氧烷聚合物KP341(信越化學工業(股)製造)，(甲基)丙烯酸系(共)聚合物Polyflow No.75、Polyflow No.90、Polyflow No.95(共榮社化學(股)製造)，W001(裕商(股)製造)等。
陰離子系界面活性劑具體而言可列舉W004、W005、W017(裕商(股)公司製造)等。
矽酮系界面活性劑例如可列舉：東麗道康寧(Toray Dow Corning)(股)製造的「Toray Silicone DC3PA」、「Toray Silicone SH7PA」、「Toray Silicone DC11PA」，「Toray Silicone SH21PA」、「Toray Silicone SH28PA」、「Toray Silicone SH29PA」、「Toray Silicone SH30PA」、「Toray Silicone SH8400」，邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造的「TSF-4440」、「TSF-4300」、「TSF-4445」、「TSF-4460」、「TSF-4452」，信越矽利光股份有限公司製造的「KP341」、「KF6001」、「KF6002」，畢克化學公司製造的「BYK307」、「BYK323」、「BYK330」等。
界面活性劑可僅使用1種，亦可組合2種以上。
於本發明的著色組成物中含有界面活性劑的情況下，相對於著色組成物的總固體成分，界面活性劑的添加量較佳為0.001質量%~2.0質量%，更佳為0.005質量%~1.0質量%。
本發明的組成物可僅包含1種界面活性劑，亦可包含2種以上的界面活性劑。於包含2種以上的情況下，較佳為其合計量成 為所述範圍。
<<其他的添加物>>
著色組成物中可視需要而調配各種添加物，例如填充劑、密接促進劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、凝聚防止劑等。該些添加物可列舉日本專利特開2004-295116號公報的段落0155~段落0156中記載的添加物。
本發明的著色組成物中，可含有日本專利特開2004-295116號公報的段落0078中記載的增感劑或光穩定劑、日本專利特開2004-295116號公報的段落0081中記載的熱聚合防止劑。
<<<有機羧酸、有機羧酸酐>>>
本發明的著色組成物可含有分子量為1000以下的有機羧酸、及/或有機羧酸酐。
有機羧酸化合物具體而言可列舉脂肪族羧酸或者芳香族羧酸。脂肪族羧酸例如可列舉：甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、三甲基乙酸、己酸、乙醇酸、丙烯酸、甲基丙烯酸等單羧酸，乙二酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、環己烷二羧酸、環己烯二羧酸、衣康酸、檸康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸等二羧酸，1,2,3-丙三甲酸(tricarballylic acid)、烏頭酸(aconitic acid)等三羧酸等。另外，芳香族羧酸例如可列舉：苯甲酸、鄰苯二甲酸等在苯基上直接鍵結有羧基的羧酸，以及自苯基上經由碳鍵而鍵結有羧基的羧酸類。該些羧酸中，特佳為分子量為600以下者，最佳為分子量為50~500者，具體而言，例如較佳為順丁 烯二酸、丙二酸、丁二酸、衣康酸。
有機羧酸酐例如可列舉脂肪族羧酸酐、芳香族羧酸酐，具體而言，例如可列舉：乙酸酐、三氯乙酸酐、三氟乙酸酐、四氫鄰苯二甲酸酐、丁二酸酐、順丁烯二酸酐、檸康酸酐、衣康酸酐、戊二酸酐、1,2-環己烯二羧酸酐、正十八烷基丁二酸酐、5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐等脂肪族羧酸酐。芳香族羧酸酐例如可列舉：鄰苯二甲酸酐、偏苯三甲酸酐、均苯四甲酸酐、萘二甲酸酐等。該些羧酸酐中，特佳為分子量為600以下者，最佳為分子量為50~500者，具體而言，例如較佳為順丁烯二酸酐、丁二酸酐、檸康酸酐、衣康酸酐。
於本發明的著色組成物中含有有機羧酸、有機羧酸酐的情況下，該些有機羧酸及/或有機羧酸酐的添加量通常為總固體成分中的0.01質量%~10質量%，較佳為0.03質量%~5質量%，更佳為0.05質量%~3質量%的範圍。
藉由添加該些分子量為1000以下的有機羧酸、及/或有機羧酸酐，不僅可保持高的圖案密接性，而且可進一步減少著色組成物的未溶解物的殘存。
<著色組成物的製備方法>
本發明的著色組成物是藉由將所述成分進行混合來製備。
此外，製備著色組成物時，可總括調配構成著色組成物的各成分，亦可將各成分溶解．分散於溶劑中後逐次調配。另外，調配時的投入順序或作業條件未受特別制約。例如，可將全部成分同 時溶解．分散於溶劑中來製備組成物，視需要亦可將各成分適當製成2種以上的溶液．分散液，於使用時(塗佈時)將該些溶液混合而製備成組成物。
以所述方式製備的著色組成物可使用較佳孔徑為0.01μm~3.0μm、更佳孔徑為0.05μm~0.5μm左右的過濾器等來進行過濾分離後，再供於使用。
本發明的著色組成物可形成耐熱性及色特性優異的硬化膜，因此適合用於形成彩色濾光片的著色圖案(著色層)。另外，本發明的著色組成物可適合用作固體攝影元件(例如CCD、互補金屬氧化物半導體(Complementary Metal-Oxide Semiconductor，CMOS)等)、液晶顯示裝置(Liquid Crystal Display，LCD)等圖像顯示裝置中所使用的彩色濾光片等的著色圖案的形成用途。進而，亦可適合用作印刷墨水、噴墨墨水及塗料等的製作用途。其中，可適合採用CCD及CMOS等固體攝影元件用的彩色濾光片作為製作用途。
<硬化膜、圖案形成方法、彩色濾光片及彩色濾光片的製造方法>
接著，對本發明的硬化膜、圖案形成方法及彩色濾光片，藉由其製造方法來進行詳細說明。
本發明的圖案形成方法的第一態樣的特徵在於包括：將本發明的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層的步驟；將著色組成物層曝光成圖案式樣的步驟；以及將未曝光部進 行顯影去除而形成著色圖案的步驟。
另外，本發明的圖案形成方法的第二態樣的特徵在於包括：將本發明的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層，進行硬化而形成著色層的步驟；於著色層上形成光阻劑層的步驟；藉由曝光及顯影，將光阻劑層進行圖案化而獲得抗蝕劑圖案的步驟；以及將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩，對著色層進行乾式蝕刻而形成著色圖案的步驟。
即，本發明中，既可利用光微影法來形成圖案，另外，亦可利用乾式蝕刻法來形成圖案。
本發明的圖案形成方法可適合應用於形成彩色濾光片所具有的著色圖案(畫素)。
作為利用本發明的圖案形成方法來形成圖案的支持體，除了基板等板狀物以外，只要是可應用於圖案形成的支持體，則並無特別限定。
以下，藉由固體攝影元件用彩色濾光片的製造方法，對本發明的圖案形成方法中的各步驟進行詳細說明，但本發明並不限定於該方法。
本發明的彩色濾光片的製造方法應用本發明的圖案形成方法，包括使用本發明的圖案形成方法而於支持體上形成著色圖案的步驟。即，本發明的彩色濾光片的製造方法應用本發明的圖案形成方法。
本發明的彩色濾光片的製造方法的第一態樣的特徵在於包 括：將本發明的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層的步驟；將著色組成物層曝光成圖案式樣的步驟；以及將未曝光部進行顯影去除而形成著色圖案的步驟。進而，亦可視需要來設置：對著色組成物層進行烘烤的步驟(預烘烤步驟)、以及對經顯影的著色圖案進行烘烤的步驟(後烘烤步驟)。以下，有時將該些步驟一併稱為圖案形成步驟。
另外，本發明的彩色濾光片的製造方法的第二態樣的特徵在於包括：將本發明的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層，進行硬化而形成著色層的步驟；於著色層上形成光阻劑層的步驟；藉由曝光及顯影，將光阻劑層進行圖案化而獲得抗蝕劑圖案的步驟；以及將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩，對著色層進行乾式蝕刻而形成著色圖案的步驟。
本發明的彩色濾光片可利用所述製造方法來適當獲得。
以下，有時將固體攝影元件用彩色濾光片簡稱為「彩色濾光片」。
以下藉由本發明的彩色濾光片的製造方法，對本發明的圖案形成方法中的各步驟進行詳細說明。
本發明的彩色濾光片的製造方法應用本發明的圖案形成方法，包括使用本發明的圖案形成方法而於基板上形成著色圖案的步驟。
<形成著色組成物層的步驟>
形成著色組成物層的步驟中，於支持體上應用本發明的著色 組成物而形成著色組成物層。
本步驟中可使用的支持體例如可使用於基板(例如矽基板)上設置有電荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)或互補金屬氧化物半導體(Complementary Metal-Oxide Semiconductor，CMOS)等攝影元件(受光元件)的固體攝影元件用基板。
本發明的著色圖案可形成於固體攝影元件用基板的攝影元件形成面側(表面)，亦可形成於攝影元件非形成面側(背面)。
於固體攝影元件的著色圖案之間、或固體攝影元件用基板的背面可設置有遮光膜。
另外，於支持體上，為了改良與上部的層的密接、防止物質的擴散或者基板表面的平坦化，亦可視需要設置底塗層。
本發明的著色組成物於支持體上的賦予方法可應用狹縫塗佈、噴墨法、旋轉塗佈、流延塗佈、輥式塗佈、網版印刷法等各種塗佈方法。
塗佈於支持體上的著色組成物層的乾燥(預烘烤)可利用加熱板、烘箱等，於50℃~140℃的溫度下進行10秒~300秒。
<<以光微影法來進行圖案形成的情況>>
<<<曝光步驟>>>
曝光步驟中，使用例如步進機等曝光裝置，隔著具有規定的遮罩圖案的遮罩，對著色組成物層形成步驟中所形成的著色組成物層進行圖案曝光。藉此獲得硬化膜。
曝光時可使用的放射線(光)特佳為使用g射線、i射線等紫外線(特佳為i射線)。照射量(曝光量)較佳為30mJ/cm2~1500mJ/cm2，更佳為50mJ/cm2~1000mJ/cm2，最佳為80mJ/cm2~500mJ/cm2。
硬化膜的膜厚較佳為1.0μm以下，更佳為0.1μm~0.9μm，尤佳為0.2μm~0.8μm。
藉由將膜厚設為1.0μm以下，則獲得高解析性、高密接性，因此較佳。
另外，本步驟中，亦可適宜形成具有0.7μm以下的薄膜厚的硬化膜，利用後述的圖案形成步驟對所得的硬化膜進行顯影處理，藉此可獲得雖為薄膜，但顯影性、表面粗糙得以抑制、以及圖案形狀優異的著色圖案。
<<<圖案形成步驟>>>
繼而，藉由進行鹼顯影處理，曝光步驟中的光未照射部分的著色組成物層溶出至鹼水溶液中，僅經光硬化的部分殘留。
顯影液較理想為不會對基底的攝影元件或電路等產生損傷的有機鹼顯影液。顯影溫度通常為20℃~30℃，顯影時間先前為20秒~90秒。為了進一步去除殘渣，近年來亦有實施120秒~180秒的情況。進而，為了進一步提高殘渣去除性，亦有將如下步驟重複多次的情況：每隔60秒甩去顯影液，進而重新供給顯影液。
顯影液中使用的鹼劑例如可列舉：氨水、乙基胺、二乙基胺、二甲基乙醇胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙 基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、苄基三甲基氫氧化銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環-[5.4.0]-7-十一烯等有機鹼性化合物，較佳為使用如下鹼性水溶液作為顯影液：利用純水將該些鹼劑以濃度成為0.001質量%~10質量%、較佳為0.01質量%~1質量%的方式進行稀釋而得的鹼性水溶液。
此外，顯影液中亦可使用無機鹼，無機鹼較佳為例如：氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等。
此外，於使用包含如上所述的鹼性水溶液的顯影液的情況下，通常於顯影後以純水進行清洗(淋洗)。
繼而，較佳為於實施乾燥後進行加熱處理(後烘烤)。若形成多色的著色圖案，則可對每種顏色，將步驟依次重複來製造硬化皮膜。藉此獲得彩色濾光片。
後烘烤是用以使硬化完全進行的顯影後的加熱處理，通常進行100℃~240℃、較佳為200℃~240℃的熱硬化處理。
該後烘烤處理可對顯影後的塗佈膜，以成為所述條件的方式使用加熱板或對流烘箱(熱風循環式乾燥機)、高頻加熱機等加熱裝置，以連續式或者分批式來進行。
<<以乾式蝕刻法來進行圖案形成的情況>>
可將經圖案化的光阻劑層作為遮罩，使用蝕刻氣體來對著色層進行乾式蝕刻。具體而言，藉由在著色層上塗佈正型或負型感放射線性組成物，使其乾燥而形成光阻劑層。於光阻劑層的形成中較佳為進而實施預烘烤處理。光致抗蝕劑的形成製程特佳為實 施曝光後的加熱處理(曝光後烘烤(Post Exposure Bake，PEB))、顯影後的加熱處理(後烘烤處理)的形態。
光致抗蝕劑例如可使用正型感放射線性組成物。該正型感放射線性組成物可使用適用於正型光致抗蝕劑的正型抗蝕劑組成物，其對紫外線(g射線、h射線、i射線)、包含準分子雷射等的遠紫外線、電子束、離子束及X射線等放射線產生感應。放射線中，較佳為g射線、h射線、i射線，其中較佳為i射線。
具體而言，正型感放射線性組成物較佳為含有醌二疊氮化合物以及鹼可溶性樹脂的組成物。含有醌二疊氮化合物以及鹼可溶性樹脂的正型感放射線性組成物利用如下方面：藉由500nm以下的波長的光照射，醌二疊氮基分解而產生羧基，結果自鹼不溶狀態成為鹼可溶性。該正型光致抗蝕劑由於解析力顯著優異，故而用於製作積體電路(Integrated Circuit，IC)或大規模積體電路(Large Scale Integration，LSI)等積體電路。醌二疊氮化合物可列舉萘醌二疊氮化合物。市售品例如可列舉「FHi622BC」(富士軟片電子材料公司製造)等。
光阻劑層的厚度較佳為0.1μm~3μm，更佳為0.2μm~2.5μm，尤佳為0.3~2μm。此外，可使用已述的著色層中的塗佈方法來適當進行光阻劑層的塗佈。
繼而，藉由對光阻劑層進行曝光、顯影，而形成設置有抗蝕劑貫通孔組群的抗蝕劑圖案(經圖案化的光阻劑層)。抗蝕劑圖案的形成並無特別限制，可使現有公知的光微影的技術適當最 佳化來進行。藉由曝光、顯影而於光阻劑層上設置抗蝕劑貫通孔組群，由此，將作為接下來的蝕刻中所使用的蝕刻遮罩的抗蝕劑圖案設置於著色層上。
光阻劑層的曝光可藉由隔著規定的遮罩圖案，以g射線、h射線、i射線等，較佳為i射線，對正型或者負型感放射線性組成物實施曝光來進行。曝光後，藉由以顯影液進行顯影處理，而根據欲形成著色圖案的區域而去除光致抗蝕劑。
顯影液只要是不會對包含著色劑的著色層造成影響，且使正抗蝕劑的曝光部以及負抗蝕劑的未硬化部溶解的溶液，則可使用任一種。例如可使用多種有機溶劑的組合或鹼性的水溶液。鹼性的水溶液較佳為以濃度成為0.001質量%~10質量%、較佳為0.01質量%~5質量%的方式將鹼性化合物溶解而製備的鹼性水溶液。鹼性化合物例如可列舉：氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉，矽酸鈉、偏矽酸鈉、氨水、乙基胺、二乙基胺、二甲基乙醇胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯等。此外，於使用鹼性水溶液作為顯影液的情況下，通常於顯影後以水實施清洗處理。
接著，將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩，以於著色層上形成貫通孔組群的方式，藉由乾式蝕刻而圖案化。藉此，形成著色圖案。貫通孔組群於著色層上設置為方格狀。因此，於著色層上設置貫通孔組群而成的第1著色圖案以方格狀具有多個四角形狀的第1著色畫素。
就將圖案剖面形成為更接近矩形的形狀的觀點或進一步減少對支持體的損傷的觀點而言，較佳為於以下形態下進行乾式蝕刻。
較佳為包括以下蝕刻的形態：第1階段的蝕刻，使用氟系氣體與氧氣(O2)的混合氣體進行蝕刻，直至支持體不露出的區域(深度)為止；第2階段的蝕刻，於所述第1階段的蝕刻後，使用氮氣(N2)與氧氣(O2)的混合氣體，較佳為進行蝕刻直至支持體露出的區域(深度)附近為止；以及過度蝕刻(over etching)，於支持體露出後進行。以下，對乾式蝕刻的具體方法、以及第1階段的蝕刻、第2階段的蝕刻及過度蝕刻進行說明。
利用下述方法，事先求出蝕刻條件來進行乾式蝕刻。
(1)分別算出第1階段的蝕刻中的蝕刻速度(nm/min)、及第2階段的蝕刻中的蝕刻速度(nm/min)。
(2)分別算出第1階段的蝕刻中蝕刻至所需厚度的時間、及第2階段的蝕刻中蝕刻至所需厚度的時間。
(3)依據所述(2)中算出的蝕刻時間來實施第1階段的蝕刻。
(4)依據所述(2)中算出的蝕刻時間來實施第2階段的蝕刻。或者亦可藉由終點(end point)檢測來決定蝕刻時間，依據所決定的蝕刻時間來實施第2階段的蝕刻。
(5)相對於所述(3)、(4)的合計時間而算出過度蝕刻時間，實施過度蝕刻。
就將作為被蝕刻膜的有機材料加工成矩形的觀點而言，第1階段的蝕刻步驟中使用的混合氣體較佳為包含氟系氣體及氧氣(O2)。另外，第1階段的蝕刻步驟可藉由蝕刻至支持體不露出的區域為止的形態，來避免支持體的損傷。另外，於第1階段的蝕刻步驟中利用氟系氣體及氧氣的混合氣體來實施蝕刻，直至支持體不露出的區域為止後，就避免支持體的損傷的觀點而言，第2階段的蝕刻步驟以及過度蝕刻步驟較佳為使用氮氣及氧氣的混合氣體來進行蝕刻處理。
重要的是，第1階段的蝕刻步驟中的蝕刻量、與第2階段的蝕刻步驟中的蝕刻量的比率是以不會損及由第1階段的蝕刻步驟中的蝕刻處理所形成的矩形性的方式來決定。此外，總蝕刻量(第1階段的蝕刻步驟中的蝕刻量與第2階段的蝕刻步驟中的蝕刻量的總和)中，後者的比率較佳為大於0%且50%以下的範圍，更佳為10%~20%。所謂蝕刻量，是指根據被蝕刻膜所殘存的膜厚與蝕刻前的膜厚之差來算出的量。
另外，蝕刻較佳為包括過度蝕刻處理。過度蝕刻處理較佳為設定過度蝕刻比率來進行。另外，過度蝕刻比率較佳為根據第一次進行的蝕刻處理時間來算出。過度蝕刻比率可任意設定，就光致抗蝕劑的耐蝕刻性及被蝕刻圖案的矩形性維持的方面而言，較佳為蝕刻步驟中的蝕刻處理時間的30%以下，更佳為5%~25%，特佳為10%~15%。
繼而，將蝕刻後殘存的抗蝕劑圖案(即蝕刻遮罩)去除。 抗蝕劑圖案的去除較佳為包括：於抗蝕劑圖案上賦予剝離液或者溶劑而形成可去除抗蝕劑圖案的狀態的步驟；以及使用清洗水將抗蝕劑圖案去除的步驟。
於抗蝕劑圖案上賦予剝離液或者溶劑而形成可去除抗蝕劑圖案的狀態的步驟例如可列舉：將剝離液或者溶劑至少賦予至抗蝕劑圖案上，停留規定的時間來進行覆液顯影的步驟。使剝離液或者溶劑停留的時間並無特別限制，較佳為數十秒至數分鐘。
另外，使用清洗水將抗蝕劑圖案去除的步驟例如可列舉：自噴霧式或者噴淋式的噴射噴嘴對抗蝕劑圖案噴射清洗水而去除抗蝕劑圖案的步驟。清洗水可較佳地使用純水。另外，噴射噴嘴可列舉：於其噴射範圍內包含支持體整體的噴射噴嘴、或可動式的噴射噴嘴且其可動範圍包含支持體整體的噴射噴嘴。於噴射噴嘴為可動式的情況下，於去除抗蝕劑圖案的步驟中自支持體中心部至支持體端部移動2次以上來噴射清洗水，藉此可更有效地去除抗蝕劑圖案。
剝離液通常含有有機溶劑，亦可更含有無機溶劑。有機溶劑例如可列舉：1)烴系化合物、2)鹵化烴系化合物、3)醇系化合物、4)醚或縮醛系化合物、5)酮或醛系化合物、6)酯系化合物、7)多元醇系化合物、8)羧酸或其酸酐系化合物、9)酚系化合物、10)含氮化合物、11)含硫化合物、12)含氟化合物。剝離液較佳為含有含氮化合物，更佳為包含非環狀含氮化合物及環狀含氮化合物。
非環狀含氮化合物較佳為具有羥基的非環狀含氮化合物。具體而言，例如可列舉：單異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺、N-乙基乙醇胺、N,N-二丁基乙醇胺、N-丁基乙醇胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等，較佳為單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺，更佳為單乙醇胺(H2NCH2CH2OH)。另外，環狀含氮化合物可列舉：異喹啉、咪唑、N-乙基嗎啉、ε-己內醯胺、喹啉、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮、α-甲基吡啶、β-甲基吡啶、γ-甲基吡啶、2-甲哌啶(2-pipecoline)、3-甲哌啶、4-甲哌啶、哌嗪、哌啶、吡嗪、吡啶、吡咯啶、N-甲基-2-吡咯啶酮、N-苯基嗎啉、2,4-二甲吡啶(2,4-lutidine)、2,6-二甲吡啶等，較佳為N-甲基-2-吡咯啶酮、N-乙基嗎啉，更佳為N-甲基-2-吡咯啶酮(N-methyl-2-pyrrolidone，NMP)。
剝離液較佳為包含非環狀含氮化合物及環狀含氮化合物，其中，更佳為包含選自單乙醇胺、二乙醇胺、以及三乙醇胺中的至少1種作為非環狀含氮化合物，以及包含選自N-甲基-2-吡咯啶酮及N-乙基嗎啉中的至少1種作為環狀含氮化合物，尤佳為包含單乙醇胺及N-甲基-2-吡咯啶酮。
當以剝離液來去除時，只要將形成於著色圖案上的抗蝕劑圖案去除即可，即便是於著色圖案的側壁上附著有作為蝕刻產物的沈積物的情況，該沈積物亦可不完全去除。所謂沈積物，是指蝕刻產物附著堆積於著色層的側壁上而成者。
剝離液較理想為非環狀含氮化合物的含量相對於剝離液 100質量份而為9質量份以上、11質量份以下，且環狀含氮化合物的含量相對於剝離液100質量份而為65質量份以上、70質量份以下的溶液。另外，剝離液較佳為將非環狀含氮化合物與環狀含氮化合物的混合物以純水稀釋而成的溶液。
此外，本發明的彩色濾光片的製造方法視需要，亦可包括作為固體攝影元件用彩色濾光片的製造方法而公知的步驟來作為所述以外的步驟。例如，於進行所述著色組成物層形成步驟、曝光步驟以及圖案形成步驟後，視需要亦可包括藉由加熱及/或曝光，對所形成的著色圖案進行硬化的硬化步驟。
另外，為了效率良好地對塗佈裝置噴出部的噴嘴或配管部的堵塞、由著色組成物或顏料於塗佈機內的附著．沈降．乾燥所引起的污染等進行清洗，較佳為使用與本發明的著色組成物相關的溶劑作為清洗液。另外，日本專利特開平7-128867號公報、日本專利特開平7-146562號公報、日本專利特開平8-278637號公報、日本專利特開2000-273370號公報、日本專利特開2006-85140號公報、日本專利特開2006-291191號公報、日本專利特開2007-2101號公報、日本專利特開2007-2102號公報、日本專利特開2007-281523號公報等中記載的清洗液亦可適用於本發明的著色組成物的清洗去除。
所述中，較佳為烷二醇單烷基醚羧酸酯以及烷二醇單烷基醚。
該些溶劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用。於將2種以上混合的情況下，較佳為將具有羥基的溶劑與不具有羥基的溶 劑進行混合。具有羥基的溶劑與不具有羥基的溶劑的質量比為1/99~99/1，較佳為10/90~90/10，尤佳為20/80~80/20。於丙二醇單甲醚乙酸酯(Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate，PGMEA)與丙二醇單甲醚(Propylene Glycol Monomethyl Ether，PGME)的混合溶劑中，所述比率特佳為60/40。此外，為了提高清洗液對污染物的滲透性，亦可於清洗液中添加所述與本組成物有關的界面活性劑。
本發明的彩色濾光片由於使用本發明的著色組成物，故而不僅可進行曝光餘裕(exposure margin)優異的曝光，而且所形成的著色圖案(著色畫素)的圖案形狀優異、圖案表面的粗糙或顯影部中的殘渣得到抑制，因此色特性優異。
本發明的彩色濾光片可適用於CCD、CMOS等固體攝影元件，特佳為超過100萬畫素的高解析度的CCD或CMOS等。本發明的固體攝影元件用彩色濾光片例如可用作配置於構成CCD或CMOS的各畫素的受光部、與用以聚光的微透鏡之間的彩色濾光片。
此外，本發明的彩色濾光片中的著色圖案(著色畫素)的膜厚較佳為2.0μm以下，更佳為1.0μm以下，尤佳為0.7μm以下。
另外，著色圖案(著色畫素)的尺寸(圖案寬度)較佳為2.5μm以下，更佳為2.0μm以下，特佳為1.7μm以下。
[固體攝影元件]
本發明的固體攝影元件包括本發明的彩色濾光片。關於本發明的固體攝影元件的構成，只要為包括本發明的彩色濾光片的構成，且為發揮固體攝影元件的功能的構成，則無特別限定，例如可列舉如以下所述的構成。
即，為如下構成：於支持體上具有構成固體攝影元件(CCD圖像感測器、CMOS圖像感測器等)的受光區域的多個光二極體以及包含多晶矽等的轉移電極，於光二極體以及轉移電極上具有僅光二極體的受光部開口且包含鎢等的遮光膜，於遮光膜上具有以覆蓋遮光膜全面以及光二極體受光部的方式形成且包含氮化矽等的元件保護膜，且於元件保護膜上具有本發明的固體攝影元件用彩色濾光片。
進而，亦可為於元件保護膜上且彩色濾光片之下(與支持體接近之側)具有聚光裝置(例如微透鏡等；以下相同)的構成、或於彩色濾光片上具有聚光裝置的構成等。
[圖像顯示裝置]
本發明的彩色濾光片不僅可用於所述固體攝影元件，而且可用於液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置，特別適合於液晶顯示裝置的用途。具備本發明的彩色濾光片的液晶顯示裝置可對顯示圖像的色調良好且顯示特性優異的高畫質圖像進行顯示。
關於顯示裝置的定義或各顯示裝置的詳情，例如記載於「電子顯示器元件(佐佐木昭夫著，工業調查會(股)，1990年發 行)」、「顯示器元件(伊吹順章著，產業圖書(股)，1989年發行)」等中。另外，關於液晶顯示裝置，例如記載於「下一代液晶顯示器技術(內田龍男編輯，工業調查會(股)，1994年發行)」中。本發明可應用的液晶顯示裝置並無特別限制，例如可應用於所述「下一代液晶顯示器技術」中記載的多種方式的液晶顯示裝置。
本發明的彩色濾光片可用於彩色薄膜電晶體(Thin Film Transistor，TFT)方式的液晶顯示裝置。關於彩色TFT方式的液晶顯示裝置，例如記載於「彩色TFT液晶顯示器(共立出版(股)，1996年發行)」中。進而，本發明亦可應用於共面切換(In-Plane Switching，IPS)等橫向電場驅動方式、多域垂直配向(Multi-domain Vertical Alignment，MVA)等畫素分割方式等視角擴大的液晶顯示裝置，或超扭轉向列(Super Twisted Nematic，STN)、扭轉向列(Twisted Nematic，TN)、垂直配向(Vertical Alignment，VA)、光學補償傾斜(Optically Compensated Splay，OCS)、邊緣場切換(Fringe Field Switching，FFS)、及反射光學補償彎曲(Reflective Optically Compensated Bend，R-OCB)等。
另外，本發明的彩色濾光片亦可提供給明亮且高精細的彩色濾光片陣列(Color-filter On Array，COA)方式。COA方式的液晶顯示裝置中，對彩色濾光片層的要求特性除了如上所述的通常的要求特性以外，還需要對層間絕緣膜的要求特性、即低介電常數以及耐剝離液性。本發明的彩色濾光片中，由於使用色相優異的染料多聚體，故而色純度、光透過性等良好且著色圖案(畫素) 的色調優異，因此可提供解析度高且長期耐久性優異的COA方式的液晶顯示裝置。此外，為了滿足低介電常數的要求特性，亦可於彩色濾光片層上設置樹脂被膜。
關於該些圖像顯示方式，例如記載於「EL、電漿顯示面板(Plasma Display Panel，PDP)、LCD顯示器-技術及市場的最新動向-(東麗研究中心(Toray Research Center)調查研究部門，2001年發行)」的第43頁等中。
具備本發明的彩色濾光片的液晶顯示裝置除了本發明的彩色濾光片以外，還包括電極基板、偏光膜、相位差膜、背光、間隔件、視角保障膜等各種構件。本發明的彩色濾光片可應用於包括該些公知構件的液晶顯示裝置。關於該些構件，例如記載於「'94液晶顯示器周邊材料．化學品的市場(島健太郎，CMC(股)，1994年發行)」、「2003液晶相關市場的現狀及將來展望(下卷)(表良吉，富士凱美萊總研(Fuji Chimera Research Institute)(股)，2003年發行)」中。
關於背光，記載於「二次成像傳播會議文摘(Secondary Imagery Dissemination meeting Digest，SID meeting Digest)」第1380頁(2005)(A.今野(A.Konno)等人)，或「顯示器月刊」2005年12月號的第18頁~第24頁(島康裕)、「顯示器月刊」2005年12月號的第25頁~第30頁(八木隆明)等中。
若將本發明的彩色濾光片用於液晶顯示裝置，則與現有公知的冷陰極管的三波長管加以組合時可實現高對比度，進而， 藉由將紅、綠、藍的LED光源(RGB-LED)作為背光，可提供亮度高，並且色純度高的色再現性良好的液晶顯示裝置。
[實施例]
以下，利用實施例來對本發明進一步進行具體說明，但只要不超出本發明的主旨，則本發明並不限定於以下的實施例。此外，只要無特別說明，則「%」及「份」為質量基準。
(合成例1)
<色素(S-37)的合成>
色素(S-37)的合成是依據下述流程來進行。
將利用國際公開WO2011/022221A號小冊子的實施例(EXAMPLE)6的方法來合成的β-羰甲氧基丙醯氯45g、與季戊四醇14g於吡啶100ml中進行混合，利用矽膠管柱層析法將所得的反應混合物進行純化，獲得中間體(B-1)5g。
將市售的玫瑰紅B(10g)溶解於氯仿40ml中，添加氯化磷醯5g，進行2小時加熱回流後，添加所述中間體(B-1)1.7g。進而進行2小時加熱回流後，將溶液進行水洗，以硫酸鈉進行乾燥後將溶劑蒸餾去除。利用異丙醇100ml將紅色殘渣進行再結晶，獲得中間體(C-1)5g。將該中間體(C-1)添加於1當量的氫氧化鉀水溶液20ml中，攪拌1小時後，添加雙(三氟甲基磺醯基)醯亞胺的鋰鹽的水溶液。濾取所產生的沈澱，藉此獲得(S-37)4.5g。
(合成例2)
<色素(S-40)的合成>
於合成例1中，除了代替雙(三氟甲基磺醯基)醯亞胺的鋰鹽而使用三(三氟甲基磺醯基)甲基化物的鋰鹽以外，以與合成例1相同的方式合成色素(S-40)。
(合成例3)
<色素(S-26)的合成>
色素(S-26)的合成是依據下述流程來進行。
[化58]
將(A-1)10g溶解於氯仿40ml中，添加氯化磷醯5g，進行2小時加熱回流後，添加利用常法而由二季戊四醇衍生所得的中間體(B-2)0.7g。進而進行2小時加熱回流後，將溶液進行水洗，以硫酸鈉進行乾燥後，將溶劑蒸餾去除。利用異丙醇100ml將紅色殘渣進行再結晶，獲得中間體(C-1)5g。將該中間體(C-1)添加於1當量的氫氧化鉀水溶液20ml中，攪拌1小時後，添加雙(三氟甲基磺醯基)醯亞胺的鋰鹽的水溶液，濾取所產生的沈澱，藉此獲得(S-26)4.5g。
(合成例4)
<色素(S-46)的合成>
於合成例3中，除了代替(A-1)而使用玫瑰紅B，且代替雙(三氟甲基磺醯基)醯亞胺的鋰鹽而使用四(五氟苯基)硼酸鹽的鋰鹽以外，以與合成例3相同的方式合成色素(S-46)。
以與合成例1~合成例4相同的方式合成其他的色素。
下述中，Q、R、m、D、n分別與通式(I)相對應。
(S-51)的分子量為3622，(S-52)的分子量為4146。
以下示出色素殘基D。*為與Q的鍵結部位。
[化61]
[化62]
(合成例5)
<色素(48)、色素(52)的合成>
<<色素(D4')的合成>>
色素(D4')的合成是依據下述流程來進行。
[化64]
使五氟苯磺醯氯150g溶解於四氫呋喃(tetrahydrofuran，THF)3000mL中，於氮氣流下、-10℃下添加28%氨水68.4g。於0℃下攪拌1h後，將反應溶液進行過濾，藉此去除氯化銨。藉由將濾液進行減壓濃縮而去除THF，然後藉由於0℃下添加水1000mL而進行再結晶，進而進行過濾，藉此獲得化合物(A-1)117.1g。
於所得的化合物(A-1)150g中添加甲醇985mL、2-巰基乙醇49.0g，於氮氣流下、室溫下添加三乙基胺64.5g。於室溫下攪拌1h後，將反應用液進行減壓濃縮，藉此去除甲醇。於濃縮的化合物中添加乙酸乙酯900mL、飽和食鹽水800mL、飽和碳酸氫鈉水100mL來進行分液操作，進而將有機層以水清洗3次。將所得的有機層以硫酸鎂進行脫水後，將有機層進行減壓濃縮，藉此去除乙酸乙酯，獲得化合物(A-2)169.7g。
於所得的化合物(A-2)48.8g中添加二甲基乙醯胺(DMAc)95mL、(丙烯酸2-異氰酸基乙酯)(AOI)24.8g、二丁基羥基甲苯(BHT)0.190g後，於氮氣流下、室溫下添加0.100g的Neostann U-600。於85℃下攪拌1h後，冷卻至室溫，然後添加乙酸乙酯500mL、飽和食鹽水500mL來進行分液操作，進而將有機層以水清洗3次。將所得的有機層以硫酸鎂進行脫水後，將有機層進行減壓濃縮，藉此去除乙酸乙酯。於濃縮的化合物中，於0℃下添加氯仿170mL來進行再結晶，進而進行過濾，藉此獲得化合物(A-3)59.7g。
於所得的化合物(A-3)50.0g中添加二氯甲烷500mL、三乙基胺34.0g，於氮氣流下、室溫下添加醯氯(A-4)108.0g。於室溫下攪拌2h後，添加氯仿200mL、水500mL、飽和食鹽水200mL來進行分液操作。將所得的有機層以硫酸鎂進行脫水，並減壓濃縮，藉此去除乙酸乙酯，然後利用矽膠管柱層析法(展開溶劑 氯仿：乙酸乙酯=10：1→5：5)進行純化。將目標物溶液進行減壓濃縮，於所得的固體中添加乙腈400mL，攪拌1h後，進行過濾，藉此獲得色素(D4')108.0g。
<<色素(48)的合成>>
色素(48)的合成是依據下述流程來進行。
[化65]
使二季戊四醇六(3-巰基丙酸酯)[DPMP；堺化學工業(股)製造]1.0g、以及所述的具有吸附部位且具有碳-碳雙鍵的化合物(B-1)0.16g，溶解於N-乙基-2-吡咯啶酮(NEP)3.9g中，於氮氣流下加熱至70℃。於其中添加2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)[V-65，和光純藥工業(股)製造]7.66mg，加熱3小時。進而，添加7.66mg的V-65，於氮氣流下、70℃下進行3小時反應。冷卻至室溫，藉此獲得包含30質量%化合物(B-2)的NEP溶液。
繼而，對包含30質量%化合物(B-2)的NEP溶液4.0g添加9.6g的NEP、三乙基胺0.57g、色素(D4')4.40g，於室溫下進行1天反應。然後，將反應溶液滴加於己烷：乙酸乙酯(1：5)溶液300mL中來進行再沈澱，進而進行過濾，藉此獲得寡聚物(B-3)4.6g。
進而，於寡聚物(B-3)3.0g中添加24mL的DMAc、0.22g 的(甲基丙烯酸2-異氰酸基乙酯)(MOI)、0.10g的BHT，於室溫下進行3小時反應。然後，將反應溶液滴加於己烷：乙酸乙酯(1：5)溶液300mL中來進行再沈澱，進而進行過濾，藉此獲得色素(48)1.9g。
<<色素(52)的合成>>
色素(52)的合成是依據下述流程來進行。
使二季戊四醇六(3-巰基丙酸酯)[DPMP；堺化學工業(股)製造]1.0g、以及所述的具有吸附部位且具有碳-碳雙鍵的化合物(A-1)0.33g溶解於4.3g的NEP中，於氮氣流下加熱至70℃。於其中添加2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)[V-65，和光純藥工業(股) 製造]7.66mg，加熱3小時。繼而，添加7.66mg的V-65，於氮氣流下、70℃下進行3小時反應。冷卻至室溫，藉此獲得包含30質量%化合物(C-1)的NEP溶液。
繼而，對包含30質量%化合物(C-1)的NEP溶液4.0g添加9.6g的NEP、三乙基胺0.51g、色素(D4')5.13g，攪拌1天。然後，將反應溶液滴加於己烷：乙酸乙酯(1：5)溶液300mL中來進行再沈澱，進而進行過濾，藉此獲得色素(52)4.8g。
以與合成例4相同的方式合成其他的色素。
下述中，Q、R、m、D、n分別與通式(I)相對應。
以下示出Q、R、D。波形線為鍵結部位。
[化67]
[化68]
[化69]
1.抗蝕劑液的製備
將下述組成的成分進行混合溶解來製備底塗層用抗蝕劑液。
<底塗層用抗蝕劑液的組成>
2.帶有底塗層的矽晶圓基板的製作
將6吋的矽晶圓於烘箱中以200℃進行30分鐘加熱處理。繼而，於該矽晶圓上，以乾燥膜厚成為1.5μm的方式塗佈抗蝕劑液，進而於220℃的烘箱中進行1小時加熱乾燥而形成底塗層，獲得帶有底塗層的矽晶圓基板。
3.著色組成物的製備
3-1.藍色顏料分散液的製備
以如下方式製備藍色顏料分散液1。
將包含13.0份C.I.顏料藍15：6(藍色顏料，平均粒子尺寸為55nm)、以及5.0份作為顏料分散劑的Disperbyk111、82.0份PGMEA的混合液，利用珠磨機(beads mill)(氧化鋯珠，0.3mm直徑)進行3小時混合．分散，來製備顏料分散液。然後進而使用帶有減壓裝置的高壓分散機NANO-3000-10(日本BEE(股)製造)，於2000kg/cm3的壓力下將流量設為500g/min來進行分散處 理。將該分散處理重複10次，獲得實施例或者比較例的著色組成物中使用的藍色用顏料分散液1(C.I.顏料藍15：6分散液，顏料濃度為13%)。
對於所得的藍色顏料分散液，利用動態光散射法(Microtrac Nanotrac UPA-EX150(日機裝公司(Nikkiso Co.,Ltd.)製造))來測定顏料的粒子尺寸，結果為24nm。
3-2.著色組成物的製備
將下述各成分混合且進行分散、溶解而獲得實施例1~實施例58、比較例1~比較例2的各著色組成物。
[化72]
PB15：6 C.I.顏料藍15：6
PB15：3 C.I.顏料藍15：3
PR254： C.I.顏料紅254
4.由著色組成物形成的彩色濾光片的製作
<應用光微影法的圖案形成的例1>
將以所述方式製備的實施例以及比較例的著色組成物分別塗佈於所述2.中所得的帶有底塗層的矽晶圓基板的底塗層上，形成著色組成物層(塗佈膜)。接著，以該塗佈膜的乾燥膜厚成為0.6μm的方式，使用100℃的加熱板來進行120秒加熱處理(預烘烤)。
繼而，使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+(佳能 (Canon)(股)製造)，以365nm的波長，經由圖案為1.0μm見方的島(Island)圖案遮罩，以50mJ/cm2~1200mJ/cm2的多種曝光量來進行曝光。
然後，將形成有經照射的塗佈膜的矽晶圓基板載置於旋轉．噴淋顯影機(DW-30型，化學電子(Chemitronics)(股)製造)的水平旋轉台上，使用CD-2000(富士軟片電子材料(股)製造)，於23℃下進行60秒覆液顯影，於矽晶圓基板上形成著色圖案。
將形成有著色圖案的矽晶圓以真空吸盤(vacuum chuck)方式固定於水平旋轉台上，利用旋轉裝置，使矽晶圓基板以轉速50r.p.m.進行旋轉，並且自其旋轉中心的上方從噴出噴嘴中噴淋狀地供給純水來進行淋洗處理，然後進行噴霧乾燥。
以所述方式，製作由實施例或者比較例的著色組成物形成的具有著色圖案的彩色濾光片。
然後，使用測長掃描式電子顯微鏡(scanning electron microscope，SEM)「S-9260A」(日立高新技術(Hitachi Hi-technologies)(股)製造)，測定著色圖案的尺寸。將圖案尺寸達到1.0μm的曝光量作為最佳曝光量。
5.性能評價
5-1.圖案缺損
觀察100個著色圖案，數出缺損的圖案的個數。個數越多，表示圖案缺損越差。將結果示於下述表中。
5-2.圖案直線性
以測長SEM來觀察100個圖案，判定圖案直線性。
A：形狀為矩形，圖案的邊為直線
B：形狀為矩形，圖案的邊為稍稍歪斜的直線，但為實用上無問題的級別
C：形狀帶有圓形，圖案的邊粗，為實用上存在問題的級別
5-3.色移評價
利用MCPD-3000(大塚電子(股)製造)來測定各彩色濾光片中的著色圖案的吸光度(吸光度A)。
於彩色濾光片的著色圖案形成面，以乾燥膜厚成為1μm的方式塗佈CT-2000L溶液(富士軟片電子材料(股)製造，透明基底劑)，使其乾燥，形成透明膜後，於280℃下進行5分鐘加熱處理。
加熱結束後，利用MCPD-3000(大塚電子(股)製造)來測定的與著色圖案鄰接的透明膜的吸光度(吸光度B)。
算出所得透明膜的吸光度B的值相對於加熱前測定的著色圖案的吸光度A的值的比例[%][下述(式A)]。將所述比例作為評價向鄰接像素(pixel)的色移的指標。
(式A)色移(%)=吸光度B/吸光度A×100
5-4.耐熱性
將塗佈有所述獲得的著色組成物的玻璃基板以在基板面接觸的方式載置於200℃的加熱板上，加熱1小時後，利用色度計 MCPD-1000(大塚電子(股)製造)，測定加熱前後的色差(△E*ab值)來作為評價熱堅牢性的指標，依據下述判定基準進行評價。△E*ab值小，表示耐熱性良好。此外，△E*ab值是根據國際照明委員會(International Commission on Illumination，CIE)1976(L*,a*,b*)空間色彩系統的以下色差公式來求出的值(日本色彩學會編，「新編色彩科學手冊」(1985年)第266頁)。
△E*ab={(△L*)2+(△a*)2+(△b*)2}1/2
於使用實施例1~實施例58的著色組成物，利用光致抗蝕劑來製作彩色濾光片的情況下，可知耐顯影液性以及耐剝離液性優異，另一方面，比較例1~比較例2的組成物的該些耐顯影液性以及耐剝離液性差。
6.應用乾式蝕刻法的圖案形成的例
6-1.著色組成物的製備
將下述各成分混合且進行分散、溶解而獲得實施例59~實施例89、比較例3~比較例4的各著色組成物。
．環己酮 1.133份
7.性能評價
7-1.耐鹼顯影液性(耐顯影液性)
於玻璃基板上，以膜厚成為0.6μm的方式，使用旋轉塗佈機來塗佈著色組成物，使用100℃的加熱板進行120秒加熱處理(預烘烤)。繼而，使用220℃的加熱板進行300秒加熱處理(後烘烤)，製成硬化膜。
對以所述方式獲得的彩色濾光片，利用紫外可見近紅外分光光度計UV3600(島津製作所製造)的分光光度計(參考(reference)：玻璃基板)，以300nm~800nm的波長域來測定透過率。另外，使用奧林巴斯(OLYMPUS)製造的光學顯微鏡BX60，藉由反射觀測(倍率為50倍)來觀察微分干涉像。
繼而，於鹼顯影液FHD-5(富士軟片電子材料(股)製造)中浸漬5分鐘，乾燥後再次實施分光測定，由下述式(1)來求出 鹼顯影液浸漬前後的透過率變動，根據以下的基準進行評價。
鹼顯影液浸漬前後的透過率變動=| T0-T1 |...(1)
T0：於鹼顯影液中浸漬前的彩色濾光片的透過率
T1：於鹼顯影液中浸漬後的彩色濾光片的透過率
AA：良好；於300nm~800nm的整個區域中，鹼顯影液浸漬前後的透過率變動小於2%
A：稍良好；於300nm~800nm的整個區域中，鹼顯影液浸漬前後的透過率變動為2%以上且小於5%
B：充分；於300nm~800nm的整個區域中，鹼顯影液浸漬前後的透過率變動為5%以上且小於10%
C：不充分；於300nm~800nm的整個區域中，鹼顯影液浸漬前後的透過率變動為10%以上
7-2.耐剝離液性
於7-1中製成的著色膜上塗佈正型光致抗蝕劑「FHi622BC」(富士軟片電子材料公司製造)，實施預烘烤，形成膜厚為0.8μm的光阻劑層。繼而，使用i射線步進機(佳能(股)製造)，以350mJ/cm2的曝光量對光阻劑層進行圖案曝光，於光阻劑層的溫度或者氣體環境溫度成為90℃的溫度下進行1分鐘加熱處理。然後，使用光致抗蝕劑剝離液「MS230C」(富士軟片電子材料公司製造)來實施120秒剝離處理，去除抗蝕劑圖案，進而實施利用純水的 清洗、旋轉乾燥。然後，於100℃下進行2分鐘的脫水烘烤處理。
對所得的著色膜進行分光測定，由下述式(2)來求出光致抗蝕劑剝離液浸漬前後的透過率變動，根據以下的基準進行評價。
光致抗蝕劑剝離液浸漬前後的透過率變動=| T0-T2 |...(2)
T0：於光致抗蝕劑剝離液中浸漬前的彩色濾光片的透過率
T2：於光致抗蝕劑剝離液中浸漬後的彩色濾光片的透過率
AA：良好；於300nm~800nm的整個區域中，光致抗蝕劑剝離液浸漬前後的透過率變動小於2%
A：稍良好；於300nm~800nm的整個區域中，光致抗蝕劑剝離液浸漬前後的透過率變動為2%以上且小於5%
B：充分；於300nm~800nm的整個區域中，光致抗蝕劑剝離液浸漬前後的透過率變動為5%以上且小於10%
C：不充分；於300nm~800nm的整個區域中，光致抗蝕劑剝離液浸漬前後的透過率變動為10%以上
於使用實施例59~實施例89的著色組成物，利用蝕刻阻 劑來製作彩色濾光片的情況下，可知耐顯影液性以及耐剝離液性優異。另一方面，比較例3~比較例4的組成物的該些耐顯影液性以及耐剝離液性差。
8.應用光微影法的圖案形成的例2
8-1.著色組成物的製備
將下述各成分混合且進行分散、溶解而獲得實施例90~實施例192的著色組成物。
液)：2.50份
8-2.彩色濾光片的製作
將以所述方式製備的著色組成物分別塗佈於所述2.中獲得的帶有底塗層的矽晶圓基板的底塗層上，形成著色組成物層(塗佈膜)。接著，以該塗佈膜的乾燥膜厚成為1μm的方式，使用100℃的加熱板來進行120秒加熱處理(預烘烤)。
繼而，使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，以365nm的波長，經由圖案為1.0μm見方的島(Island)圖案遮罩，以50mJ/cm2~1200mJ/cm2的多種曝光量來進行曝光。
然後，將形成有經照射的塗佈膜的矽晶圓基板載置於旋轉．噴淋顯影機((DW-30型，化學電子(Chemitronics)(股)製造)的水平旋轉台上，使用CD-2000(富士軟片電子材料(股)製造)，於23℃下進行60秒覆液顯影，於帶有底塗層的矽晶圓的底塗層上形成著色圖案。
將形成有著色圖案的矽晶圓基板以真空吸盤(vacuum chuck)方式固定於水平旋轉台上，利用旋轉裝置，使矽晶圓基板以轉速50r.p.m.進行旋轉，自其旋轉中心的上方從噴出噴嘴中噴淋狀地供給純水來進行淋洗處理，然後進行噴霧乾燥。繼而，利用加熱板，於200℃下進行300秒後烘烤，獲得矽晶圓基板上的膜厚為1μm的著色圖案(硬化膜)。
藉由以上所述，製作由實施例90~實施例192的著色組成物 形成的具有著色圖案的彩色濾光片。
然後，使用測長掃描式電子顯微鏡(scanning electron microscope，SEM)「S-9260A」(日立高新技術(Hitachi Hi-technologies)(股)製造)，測定著色圖案的尺寸。
使用圖案尺寸成為1.0μm的曝光量的著色圖案，進行透過率、顯影性、褪色的評價。
8-3. C=C值的算出
藉由將導入至色素中的聚合性基數除以色素的分子量來算出色素的C=C值。
8-4. 450nm以及550nm下的透過率
對以所述方式獲得的彩色濾光片，利用紫外可見近紅外分光光度計UV3600(島津製作所製造)的分光光度計(參考(reference)：玻璃基板)，以300nm~800nm的波長域來測定透過率。然後，算出450nm以及550nm下的透過率，依據下述基準，來評價450nm以及550nm下的透過率。
A：450nm下的透過率為85%以上，且550nm下的透過率為5%以下
B：450nm下的透過率為80%以上且小於85%，且550nm下的透過率為5%以上且小於10%
C：450nm下的透過率為80%以下，且550nm下的透過率為10%以上
D：不符合A~C的任一者
8-5.顯影性
藉由玻璃切割來切割所製成的彩色濾光片，使用掃描式電子顯微鏡(S-4800，日立股份有限公司製造)，以倍率15,000倍來觀察其剖面，依據下述評價基準進行評價。
A：無問題地形成圖案
B：圖案稍有變形，但為實用上無問題的級別
C：圖案變形或者未形成，為實用上有問題的級別
8-6.褪色
於玻璃基板上，以膜厚成為0.6μm的方式，使用旋轉塗佈機來塗佈實施例90~實施例192的著色組成物，使用100℃的加熱板進行120秒加熱處理(預烘烤)。繼而，使用220℃的加熱板進行300秒加熱處理(後烘烤)，製成硬化膜。
對所得的彩色濾光片，利用紫外可見近紅外分光光度計UV3600(島津製作所製造)的分光光度計(參考(reference)：玻璃基板)，以300nm~800nm的波長域來測定透過率。另外，使用奧林巴斯(OLYMPUS)製造的光學顯微鏡BX60，藉由反射觀測(倍率為50倍)來觀察微分干涉像。
繼而，於鹼顯影液FHD-5(富士軟片電子材料(股)製造)中浸漬5分鐘，乾燥後再次實施分光測定，由下述式(1)來求出鹼顯影液浸漬前後的透過率變動，根據以下基準進行評價。
鹼顯影液浸漬前後的透過率變動=| T0-T1 |...(1)
T0：於鹼顯影液中浸漬前的彩色濾光片的透過率
T1：於鹼顯影液中浸漬後的彩色濾光片的透過率
AA：良好；於300nm~800nm的整個區域中，鹼顯影液浸漬前後的透過率變動為2%以上且小於5%
B：充分；於300nm~800nm的整個區域中，鹼顯影液浸漬前後的透過率變動為5%以上且小於10%
C：不充分；於300nm~800nm的整個區域中，鹼顯影液浸漬前後的透過率變動為10%以上
使用實施例90~實施例192的著色組成物，由光致抗蝕劑來製作彩色濾光片時，可知顯影性以及褪色性優異。
進而可知，450nm下的透過率低，且550nm下的透過率高。藍色用彩色濾光片中較理想為450nm下的透過率低，且550nm下的透過率高，因此可知，實施例90~實施例192的彩色濾光片具有作為藍色用彩色濾光片而特佳的分光特性。

Claims (20)

  1. 一種著色組成物，其含有(A)下述通式(I)所表示的色素以及(B)聚合性化合物；通式(I)(R)m-Q-(D)n通式(I)中，Q表示(m+n)價的連結基，R表示取代基，D表示色素殘基，m表示0~6的整數，n表示2~8的整數，(m+n)表示2~8的整數，於m為2以上的情況下，多個R可彼此不同，於n為2以上的情況下，多個D可彼此不同。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的著色組成物，其中通式(1)中的選自連結基Q、取代基R及色素殘基D中的至少一者含有酸基。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其中通式(I)中的色素殘基D包含陽離子部位及抗衡陰離子。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其中通式(I)中的色素殘基D於分子內具有陽離子部位及陰離子部位。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其中構成通式(I)中的色素殘基D的陽離子部位選自二吡咯亞甲基色素、三芳基甲烷色素、氧雜蒽色素、花青色素以及方酸內鎓鹽色素中。
  6. 如申請專利範圍第3項所述的著色組成物，其中構成通式(I)中的色素殘基D的抗衡陰離子選自磺酸根陰離子、磺醯亞胺陰離子、雙(烷基磺醯基)醯亞胺陰離子、三(烷基磺醯基)甲基化物陰離子、羧酸根陰離子、四芳基硼酸鹽陰離子、BF4 -、PF6 -及SbF6 -中。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其中通式(I)中的取代基R的至少1個為酸基。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其更包含(A)色素以外的(C)顏料。
  9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其更包含(D)光聚合起始劑。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的著色組成物，其中(D)光聚合起始劑為肟化合物。
  11. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其用於形成彩色濾光片的著色層。
  12. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其中通式(I)所表示的色素為有機溶劑溶解性染料。
  13. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其中通式(I)所表示的色素具有聚合性基。
  14. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色組成物，其中通式(I)所表示的色素的分子量為2000~6000。
  15. 一種硬化膜，其是將如申請專利範圍第1項至第14項中 任一項所述的著色組成物硬化而獲得。
  16. 一種彩色濾光片，其是使用如申請專利範圍第1項至第14項中任一項所述的著色組成物而成。
  17. 一種彩色濾光片的製造方法，其包括：將如申請專利範圍第1項至第14項中任一項所述的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層的步驟；將所述著色組成物層曝光成圖案狀的步驟；以及將未曝光部進行顯影去除而形成著色圖案的步驟。
  18. 一種彩色濾光片的製造方法，其包括：將如申請專利範圍第1項至第14項中任一項所述的著色組成物應用於支持體上而形成著色組成物層，並進行硬化而形成著色層的步驟；於所述著色層上形成光阻劑層的步驟；藉由進行曝光及顯影而將所述光阻劑層進行圖案化來獲得抗蝕劑圖案的步驟；以及將所述抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩，對所述著色層進行乾式蝕刻而形成著色圖案的步驟。
  19. 一種固體攝影元件，其具有如申請專利範圍第16項所述的彩色濾光片、或者利用如申請專利範圍第17項或第18項所述的彩色濾光片的製造方法來製造的彩色濾光片。
  20. 一種圖像顯示裝置，其具有如申請專利範圍第16項所述的彩色濾光片、或者利用如申請專利範圍第17項或第18項所述 的彩色濾光片的製造方法來製造的彩色濾光片。
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