TWI447756B - Coil parts - Google Patents
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Description
本發明係有關於一種包含由磁體部覆蓋螺旋狀線圈部之結構之線圈零件。
以電感器、扼流圈或變壓器等為代表之線圈零件(俗稱電感器零件)係包含由磁體部覆蓋螺旋狀線圈部之結構。覆蓋線圈部之磁體部中,一般使用Ni-Cu-Zn系鐵氧體等鐵氧體(係指以氧化鐵為主成分之陶瓷)作為其材料。
近年來,一直對這種線圈零件要求大電流化(係指額定電流之高值化),為了滿足該要求,而不斷研究將磁體部之材料由先前之鐵氧體更換為Fe-Cr-Si合金(參照專利文獻1)。
該Fe-Cr-Si合金係材料自身之飽和磁通密度高於先前之鐵氧體,但相反地材料自身之體積電阻率明顯低於先前之鐵氧體。亦即,於螺旋狀線圈部與磁體部直接接觸之類型之線圈零件、例如積層型或壓粉型等線圈零件中,必需研究使包含Fe-Cr-Si合金粒子群之磁體部自身之體積電阻率接近包含鐵氧體粒子群之磁體部自身之體積電阻率,較佳為研究使之高於該體積電阻率,以將磁體部之材料由先前之鐵氧體更換為Fe-Cr-Si合金。
總而言之,若包含Fe-Cr-Si合金粒子群之磁體部自身中無法確保高體積電阻率,則無法有效利用材料自身之飽和磁通密度使零件自身之飽和磁通密度高值化,產生電流自線圈部洩漏至磁體部磁場出現湍流之現象,由此導致零件自身之電感下降。
於先前列舉之專利文獻1中,作為積層型線圈零件中之磁體部之製作方法,揭示有如下方法,即,將由不僅包含Fe-Cr-Si合金粒子群而且包含玻璃成分之磁體膏形成之磁體層與導體圖案積層,且於氮氣環境中(=還原性環境中)進行煅燒之後,使該煅燒物含浸於熱固性樹脂中。
然而,該製作方法因磁體膏中所含之玻璃成分殘存於磁體部內,故而,因存在於該磁體部內之玻璃成分而使Fe-Cr-Si合金粒子之體積率減少,且因該減少導致零件自身之飽和磁通密度亦下降。
[專利文獻1]日本專利特開2007-027354號公報
本發明之目的在於提供一種螺旋狀線圈部與磁體部直接接觸之類型且能滿足大電流化之要求之線圈零件。
為了達成上述目的,本發明係一種由磁體部覆蓋之螺旋狀線圈部與該磁體部直接接觸之類型之線圈零件,其特徵在於:上述磁體部係將磁性合金粒子群作為其主體,且不包含玻璃成分,於上述磁性合金粒子各自之表面上存在該磁性合金粒子之氧化物膜。
根據本發明,於構成磁體部之磁性合金粒子各自之表面存在有該磁性合金粒子之氧化物膜(=絕緣膜),且該磁體部內之磁性合金粒子介隔用作絕緣膜之氧化物膜相互耦合,線圈部附近之磁性合金粒子介隔用作絕緣膜之氧化物膜而與該線圈部密接,因此,可於將磁性合金粒子群作為其主體之磁體部自身中確保較高之體積電阻率。又,磁體部係不包含玻璃成分者,因此,不會因存在於該磁體部內之玻璃成分而使磁性合金粒子之體積率減少,從而亦可避免因該減少造成之零件自身之飽和磁通密度降低。
亦即,本發明之線圈零件係線圈部與磁體部直接接觸之類型,且可有效利用磁性合金之材料自身之飽和磁通密度,使零件自身之飽和磁通密度高值化,因而,可滿足大電流化之要求,亦可防止電流自線圈部洩漏至磁體部,磁場出現湍流之現象,因此,亦可避免零件自身之電感下降。
藉由以下說明與隨附圖式,可明確獲悉本發明之上述目的與除此以外之目的、構成特徵、及作用效果。
首先,引用圖1~圖5,對本發明應用於積層型線圈零件之具體結構例進行說明。
圖1所示之線圈零件10係以長度L約3.2 mm、寬度W約1.6 mm、高度H約0.8 mm整體形成為長方體形狀。該線圈零件10係包含長方體形狀之零件主體11、與設置於該零件主體11之長度方向兩端部之1對外部端子14及15。如圖2所示,零件主體11係包含長方體形狀之磁體部12、及由該磁體部12覆蓋之螺旋狀線圈部13,且該線圈部13之一端與外部端子14連接,另一端與外部端子15連接。
如圖3所示,磁體部12係包括共計20層之磁體層ML1~ML6一體化而成之結構,且長度為約3.2 mm,寬度為約1.6 mm,高度為約0.8 mm。各磁體層ML1~ML6之長度為約3.2 mm,寬度為約1.6 mm,厚度為約40 μm。該磁體部12係將Fe-Cr-Si合金粒子群作為其主體,且不含玻璃成分。Fe-Cr-Si合金粒子之組成係Fe為88~96.5 wt%,Cr為2~8 wt%,Si為1.5~7 wt%。
如圖4所示,構成磁體部12之Fe-Cr-Si合金粒子之粒徑以體積為基準計時之d50(中值直徑)為10 μm,d10為3 μm,d90為16 μm,且d10/d50為0.3,d90/d50為1.6。又,如圖5所示,於Fe-Cr-Si合金粒子1各自之表面上存在有該Fe-Cr-Si合金粒子之氧化物膜(=絕緣膜)2,且磁體部12內之Fe-Cr-Si合金粒子1介隔用作絕緣膜之氧化物膜2相互結合,線圈部13附近之Fe-Cr-Si合金粒子1介隔用作絕緣膜之氧化物膜2而與該線圈部13密接。可確認該氧化物膜2至少包含屬於磁體之Fe3
O4
、及屬於非磁體之Fe2
O3
及Cr2
O3
。
附帶而言,圖4係表示使用利用雷射繞射散射法之粒徑‧粒度分佈測定裝置(日機裝(股份)製之Microtrac)測定之粒度分佈。又,圖5係參照利用透射型電子顯微鏡觀察磁體部12時所得之圖像,模式性地表示粒子狀態。構成磁體部12之Fe-Cr-Si合金粒子1實際上並非形成為完全之球形,但為了表現粒徑具有分佈而將所有粒子描繪成球形。此外,存在於粒子各自表面上之氧化物膜2之厚度實際上於0.05~0.2 μm之範圍內存在不均一,但為了表現氧化物膜2存在於粒子表面而均等地描繪所有該氧化物膜2之厚度。
如圖3所示,線圈部13係包含共計5個線圈段CS1~CS5、及連接該線圈段CS1~CS5之共計4個中繼段IS1~IS4呈螺旋狀一體化而成之結構,且其圈數約為3.5。該線圈部13係以Ag粒子群為其主體。Ag粒子之粒徑以體積為基準計時之d50(中值直徑)為5 μm。
4個線圈段CS1~CS4係呈現字狀,且1個線圈段CS5形成帶狀,各線圈段CS1~CS5之厚度為約20 μm,寬度為約0.2 mm。最上方之線圈段CS1係連續地包含用於與外部端子14連接之L字狀之伸出部分LS1,且最下方之線圈段CS5係連續地包含用於與外部端子15連接之L字狀之伸出部分LS2。各中繼段IS1~IS4係形成為貫通磁體層ML1~ML4之柱狀,且各自之口徑為約15 μm。
如圖1及圖2所示,各外部端子14及15係觸及零件主體11之長度方向之各端面與該端面附近之4個側面,且其厚度為約20 μm。一外部端子14係與最上方之線圈段CS1之伸出部分LS1之端緣連接,另一外部端子15係與最下方之線圈段CS5之伸出部分LS2之端緣連接。該各外部端子14及15係以Ag粒子群為其主體。Ag粒子之粒徑以體積為基準計時之d50(中值直徑)為5 μm。
[線圈零件之具體製法例]
其次,引用圖3、圖5、圖6及圖7,對上述線圈零件10之具體製法例進行說明。
於製造上述線圈零件10時,使用刮刀塗佈機或擠壓塗佈機等塗佈機(省略圖示),將預先準備之磁體膏塗敷於塑料製之基底膜(省略圖示)之表面,並使用熱風乾燥機等乾燥機(省略圖示),於約80℃、約5 min之條件下將其乾燥,分別製造與磁體層ML1~ML6(參照圖3)對應且適合獲取多個之尺寸之第1~第6片材。
此處使用之磁體膏之組成係Fe-Cr-Si合金粒子群為85 wt%,丁基卡必醇(溶劑)為13 wt%,聚乙烯丁醛(黏合劑)為2 wt%,Fe-Cr-Si合金粒子之d50(中值直徑)、d10及d90係如上所述。
繼而,使用衝壓加工機或雷射加工機等穿孔機(省略圖示),對與磁體層ML1(參照圖3)對應之第1片材進行穿孔,以特定排列形成與中繼段IS1(參照圖3)對應之貫通孔。同樣地,於與磁體層ML2~ML4(參照圖3)對應之第2~第4片材上分別以特定排列形成與中繼段IS2~IS4(參照圖3)對應之貫通孔。
繼而,使用網版印刷機或凹版印刷機等印刷機(省略圖示),將預先準備之導體膏印刷於與磁體層ML1(參照圖3)對應之第1片材之表面,並使用熱風乾燥機等乾燥機(省略圖示)於約80℃、約5 min之條件下將其乾燥,以特定排列製作與線圈段CS1(參照圖3)對應之第1印刷層。同樣地,於與磁體層ML2~ML5(參照圖3)對應之第2~第5片材各自之表面上,以特定排列製作與線圈段CS2~CS5(參照圖3)對應之第2~第5印刷層。
此處使用之導體膏之組成係Ag粒子群為85 wt%,丁基卡必醇(溶劑)為13 wt%,聚乙烯丁醛(黏合劑)為2 wt%,Ag粒子之d50(中值直徑)係如上所述。
分別形成於與磁體層ML1~ML4(參照圖3)對應之第1~第4片材之特定排列之貫通孔係存在於與特定排列之第1~第4印刷層各自之端部重疊之位置上,因而,印刷第1~第4印刷層時,將導體膏之一部分填充至各貫通孔中,形成與中繼段IS1~IS4(參照圖3)對應之第1~第4填充部。
繼而,使用吸附搬送機與壓製機(均省略圖示),以圖3所示之順序,將設置著印刷層及填充部之第1~第4片材(與磁體層ML1~ML4對應)、僅設置著印刷層之第5片材(與磁體層ML5對應)、未設置印刷層及填充部之第6片材(與磁體層ML6對應)疊合進行熱壓結合,製作積層體。
繼而,使用切割機或雷射加工機等切斷機(省略圖示)將積層體切斷成零件主體尺寸,製作加熱處理前晶片(包含加熱處理前之磁體部及線圈部)。
繼而,使用煅燒爐等加熱處理機(省略圖示),於大氣等氧化性環境中,對多個加熱處理前晶片整批進行加熱處理。該加熱處理係包含脫黏合劑製程與氧化物膜形成製程,脫黏合劑製程係於約300℃、約1 hr之條件下實施,氧化物膜形成製程係於約750℃、約2 hr之條件下實施。
對於實施脫黏合劑製程前之加熱處理前晶片而言,如圖6所示,於加熱處理前之磁體部內之Fe-Cr-Si合金粒子1之間存在多個微細間隙,且該微細間隙中充滿溶劑與黏合劑之混合物4,但該等將於脫黏合劑製程中消失,因此,脫黏合劑製程完成之後,如圖7所示,該微細間隙變為內腔3。又,於加熱處理前之線圈部內之Ag粒子之間亦存在多個微細間隙,該微細間隙中充滿溶劑與黏合劑之混合物,但該等將於脫黏合劑製程中消失。
繼脫黏合劑製程之後之氧化物膜形成製程係如圖5所示,加熱處理前之磁體部內之Fe-Cr-Si合金粒子1密集地製作磁體部12(參照圖1及圖2),同時於該Fe-Cr-Si合金粒子1各個之表面上形成該粒子1之氧化物膜2。又,將加熱處理前之線圈部內之Ag粒子群燒結,製作線圈部13(參照圖1及圖2),藉此,製作零件主體11(參照圖1及圖2)。
附帶而言,圖6及圖7係參照利用透射型電子顯微鏡觀察脫黏合劑製程實施前後之磁體部時所得之圖像,模式性地表示粒子狀態。構成加熱處理前之磁體部之Fe-Cr-Si合金粒子1實際上並非形成為完全之球形,但為了實現與圖5匹配而將所有粒子描繪成球形。
繼而,使用浸漬塗佈機或輥式塗佈機等塗佈機(省略圖示),將預先準備之導體膏塗佈於零件主體11之長度方向兩端部,使用煅燒爐等加熱處理機(省略圖示)於約600℃、約1 hr之條件下對其進行烘焙處理,藉由該烘焙處理而使溶劑及黏合劑消失且將Ag粒子群燒結,製作外部端子14及15(參照圖1及圖2)。
此處使用之導體膏之組成係Ag粒子群為85 wt%,丁基卡必醇(溶劑)為13 wt%,聚乙烯丁醛(黏合劑)為2 wt%,Ag粒子之d50(中值直徑)係如上所述。
[效果]
其次,引用表1之樣品No.4對由上述線圈零件10獲得之效果進行說明。
關於上述線圈零件10,由在於構成磁體部12之Fe-Cr-Si合金粒子各自之表面上,存在該Fe-Cr-Si合金粒子之氧化物膜(=絕緣膜),且該磁體部12內之Fe-Cr-Si合金粒子介隔用作絕緣膜之氧化物膜相互耦合,線圈部13附近之Fe-Cr-Si合金粒子介隔用作絕緣膜之氧化物膜而與該線圈部13密接,因此,能夠於以Fe-Cr-Si合金粒子群為其主體之磁體部自身中確保較高之體積電阻率。又,磁體部12並不包含玻璃成分,因此不會因存在於該磁體部12內之玻璃成分而使Fe-Cr-Si合金粒子之體積率減少,亦可避免因該減少引起零件自身之飽和磁通密度下降。
亦即,上述線圈零件10係線圈部13與磁體部12直接接觸之類型,並且可有效利用Fe-Cr-Si合金之材料自身之飽和磁通密度,使零件自身之飽和磁通密度高值化,因此,能夠滿足大電流化之要求,亦能夠防止電流自線圈部13洩漏至磁體部12出現磁場湍流之現象,因此亦可避免零件自身之電感降低。
該效果亦可由相當於上述線圈零件10之表1之樣品No.4之體積電阻率與L×Idc1來證實。表1所示之體積電阻率(Ω‧cm)係表示磁體部12自身之體積電阻率,且使用市售之LCR(Inductance Capacitance Resistance,電感、電容、電阻)測量儀而測定。另一方面,表1所示之L×Idc1(μH‧A)係表示初始電感(L)與該初始電感(L)降低20%時之直流重疊電流(Idc1)之積,且使用市售之LCR測量儀以測定週波數100 kHz來測定。
此處,對體積電阻率與L×Idc1之良否判斷基準進行說明。參照於先前之線圈零件之磁體部中,鐵氧體中亦通用Ni-Cu-Zn系鐵氧體,為了進行比較,除了「使用視作體積基準之粒徑時之d50(中值直徑)為10 μm之Ni-Cu-Zn鐵氧體粒子,代替Fe-Cr-Si合金粒子之方面」與「採用約900℃、約2 hr之條件之煅燒製程而代替氧化物膜形成製程之方面」以外,製作結構及製法與上述線圈零件10相同之線圈零件(以下稱為比較線圈零件)。
與上述方法相同地測定該比較線圈零件之磁體部之體積電阻率與L×Idc1之後,該體積電阻率為5.0×106
Ω‧cm,L×Idc1為5.2 μH‧A,但對於使用Ni-Cu-Zn鐵氧體粒子之先前之線圈零件,考慮到藉由該粒子組成操作或樹脂含浸等方法而將磁體部之體積電阻率提高至1.0×107
Ω‧cm以上之狀況,而將體積電阻率之良否判斷基準設為「1.0×107
Ω‧cm」,並將該基準值以上者判斷為「良(○)」,將低於該基準值判斷者為「不良(×)」。又,將L×Idc1之良否判斷基準設為比較線圈零件之L×Idc1之測定值、即「5.2 μH‧A」,且將高於該基準值者判斷為「良(○)」,將該基準值以下者判斷為「不良」。
由樣品No.4之體積電阻率與L×Idc1可知,相當於上述線圈零件10之樣品No.4之體積電阻率為5.2×108
Ω‧cm,高於前文所述之體積電阻率之良否判斷基準(1.0×107
Ω‧cm),又,相當於上述線圈零件10之樣品No.4之L×Idc1為8.3 μH‧A,高於上述之L×Idc1之良否判斷基準(5.2 μH‧A),因此根據該等數值可證實上述效果。
[最佳粒度分佈之驗證]
其次,引用表1對驗證構成上述線圈零件10(樣品No.4)之磁體部12之Fe-Cr-si合金粒子之最佳粒度分佈(d10/d50與d90/d50)之結果進行說明。
上述線圈零件10(樣品No.4)係作為構成磁體部12之Fe-Cr-Si合金粒子,使用視作體積基準之粒徑時之d50(中值直徑)為10 μm、d10為3 μm、d90為16 μm者,但確認即便使用粒度分佈(d10/d50與d90/d50)不同之粒子,是否亦獲得上述相同效果。
表1所示之樣品No.1~3及5~10中,除了「使用d10之值與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之Fe-Cr-Si合金粒子之方面」以外,線圈零件之結構及製法與上述線圈零件10相同。又,表1所示之樣品No.11~22中,除了「使用d90之值與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之Fe-Cr-Si合金粒子之方面」以外,線圈零件之結構及製法與上述線圈零件10相同。
由樣品No.1~10之體積電阻率與L×Idc1可知,若d10為7 μm以下,則可獲得高於前文所述之體積電阻率之良否判斷基準(1.0×107
Ω‧cm)之體積電阻率,又,若d10之值為1 μm以上,則可獲得高於前文所述之L×Idc1之良否判斷基準(5.2 μH‧A)之L×Idc1。亦即,若d10為1~7.0 μm之範圍內(d10/d50於0.1~0.7之範圍內),則可獲得優異之體積電阻率與L×Idc1。
又,由樣品N0.11~22之體積電阻率與L×Idc1可知,若d90為50 μm以下,則可獲得高於前文所述之體積電阻率之良否判斷基準(1.0×107
Ω‧cm)之體積電阻率,又,若d90之值為14 μm以上,則可獲得高於前文所述之L×Idc1之良否判斷基準(5.2 μH‧A)之L×Idc1。亦即,若d90為14~50 μm之範圍內(d90/d50為1.4~5.0之範圍內),則可獲得優異之體積電阻率與L×Idc1。
總而言之,若視作體積基準之粒徑時之d10/d50處於0.1~0.7之範圍內,且d90/d50處於1.4~5.0之範圍內,則可確認即便使用粒度分佈(d10/d50與d90/d50)不同之Fe-Cr-Si合金粒子,亦可獲得上述相同之效果。
[最佳中值直徑之驗證]
其次,引用表2,對構成上述線圈零件10(樣品No.4)之磁體部12之Fe-Cr-Si合金粒子之最佳中值直徑(d50)之驗證結果進行說明。
上述線圈零件10(樣品No.4)係作為構成磁體部12之Fe-Cr-Si合金粒子,使用視作體積基準之粒徑時之d50(中值直徑)為10 μm、d10為3 μm、d90為16 μm者,但對即便使用d50(中值直徑)不同之粒子,是否亦可獲得上述相同之效果進行確認。
表2所示之樣品No.23~31中,除了「使用d50(中值直徑)之值與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之Fe-Cr-Si合金粒子之方面」以外,線圈零件之結構及製法與上述線圈零件10相同。
由樣品No.23~31之體積電阻率與L×Idc1可知,若d50為20 μm以下,則可獲得高於前文所述之體積電阻率之良否判斷基準(1.O×107
Ω‧cm)之體積電阻率,又,若d50為3 μm以上,則可獲得高於前文所述之L×Idc1之良否判斷基準(5.2 μH‧A)之L×Idc1。亦即,若d50(中值直徑)為3~20 μm之範圍內,則可獲得優異之體積電阻率與L×Idc1。
總而言之,若視作體積基準之粒徑時之d50(中值直徑)處於3.0~20.0 μm之範圍內,則可確認即便使用d50(中值直徑)不同之Fe-Cr-Si合金粒子,亦可獲得上述相同之效果。
[對其他線圈零件之應用]
其次,進行以下說明,即,上述[最佳粒度分佈之驗證]欄與上述[最佳中值直徑之驗證]欄中描述之數值範圍(1)可否應用於具體製法與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之情況、(2)可否應用於具體結構與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之同類型之線圈零件、(3)可否應用於將與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之粒子用於磁體部12之情況、(4)可否應用於與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之類型之線圈零件。
(1) 上述[線圈零件之具體製法例]欄中,作為磁體膏之組成,表示有Fe-Cr-Si合金之粒子為85 wt%、丁基卡必醇(溶劑)為13 wt%、聚乙烯丁醛(黏合劑)為2 wt%之磁體膏,但若溶劑及黏合劑之重量百分比為在脫黏合劑製程中消失之範圍內,則可無問題地進行變更,且可製造與上述線圈零件10(樣品No.4)相同之線圈零件。導體膏之組成方面亦情況相同。
又,作為各膏之溶劑,表示有丁基卡必醇,但若為不與Fe-Cr-Si合金粒子及Ag粒子發生化學反應之溶劑,則丁基卡必醇以外之醚類自不必說,而且亦可以無問題地使用屬於醇類、酮類或酯類等之溶劑,且即便使用Pt粒子或Pd粒子來代替Ag粒子,亦可以製造與上述線圈零件10(樣品No.4)相同之線圈零件。
進而,作為各膏之黏合劑表示有聚乙烯丁醛,但若為不與Fe-Cr-Si合金粒子及Ag粒子發生化學反應之黏合劑,則聚乙烯丁醛以外之纖維素系樹脂自不必說,而且亦可無問題地使用屬於聚乙烯縮醛系樹脂或丙烯酸系樹脂等之黏合劑,且可製造與上述線圈零件10(樣品No.4)相同之線圈零件。
進而,對各膏適當添加屬於非離子系表面活性劑或陰離子系表面活性劑等者作為分散劑亦不會特別產生問題,且可製造與上述線圈零件10(樣品No.4)相同之線圈零件。
進而,作為脫黏合劑製程表示有約300℃、約1 hr之條件,但若為可使溶劑與黏合劑消失之條件,則即便設定其他條件,亦可製造與上述線圈零件10(樣品No.4)相同之線圈零件。
進而,作為氧化物膜形成製程表示有約750℃、約2 hr之條件,但若為可於Fe-Cr-Si合金粒子各自之表面上形成該粒子之氧化物膜且不會使Fe-Cr-Si合金粒子產生物性變化之條件,則即便設定其他條件,亦可以製造與上述線圈零件10(樣品No.4)相同之線圈零件。
進而,作為烘焙處理表示有約600℃、約1 hr之條件,但若為可無問題地進行導體膏之烘焙之條件,則即便設定其他條件,亦可製造與上述線圈零件10(樣品No.4)相同之線圈零件。
總而言之,上述[最佳粒度分佈之驗證]欄與上述[最佳中值直徑之驗證]欄中描述之數值範圍亦可應用於具體製法與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之情況。
(2) 上述[線圈零件之具體結構例]欄中,作為磁體部12表示有長度為約3.2 mm、寬度為約1.6 mm、高度為約0.8 mm之磁體部,但該磁體部12之尺寸基本上只與零件自身之飽和磁通密度之基準值相關,因此,即便變更磁體部12之尺寸亦可獲得與上述[效果]欄中描述之效果相同之效果。
又,作為線圈部13表示有圈數為約3.5者,但該線圈部13之圈數基本上只與零件自身之電感之基準值相關,因此即便變更線圈部13之圈數亦可獲得與上述[效果]欄中描述之效果相同之效果,且即便變更構成線圈部13之各段CS1~CS5及IS1~IS4之尺寸或形狀,亦可獲得與上述[效果]欄中描述之效果相同之效果。
總而言之,上述[最佳粒度分佈之驗證]欄與上述[最佳中值直徑之驗證]欄中描述之數值範圍亦可應用於具體結構與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之同類型之線圈零件。
(3) 上述[線圈零件之具體結構例]欄中,作為構成磁體部12之粒子表示有Fe-Cr-Si合金粒子,但若為材料自身之飽和磁通密度高於先前之鐵氧體且藉由於氧化性環境中之熱處理而於其表面形成氧化物膜(=絕緣膜)之磁性合金粒子,則即便例如替代地使用Fe-Si-Al合金粒子或Fe-Ni-Cr合金粒子,亦可獲得與上述[效果]欄描述之效果相同之效果。
總而言之,上述[最佳粒度分佈之驗證]欄與上述[最佳中值直徑之驗證]欄中描述之數值範圍亦可應用於將與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之磁性合金粒子用於磁體部12之情況。
(4) 上述[線圈零件之具體結構例]欄中,表示有積層型線圈零件10,但若為螺旋狀線圈部與磁體部直接接觸之類型之線圈零件,則即便例如壓粉型線圈零件中採用本發明,亦可獲得與上述[效果]欄中上述之效果同等之效果。此處所謂之壓粉型線圈零件係指使用壓力機將預先準備之螺旋狀線圈線嵌設於包含磁體粉之磁體部之結構者,且只要構成該磁體部之磁體粉中使用Fe-Cr-Si合金粒子,且於與上述氧化物膜形成製程相同之條件下對加壓後之磁體部進行加熱處理,則可獲得與上述[效果]欄中描述之效果同等之效果。
總而言之,上述[最佳粒度分佈之驗證]欄與上述[最佳中值直徑之驗證]欄中描述之數值範圍亦可應用於與上述線圈零件10(樣品No.4)不同之類型之線圈零件。
1...磁性合金粒子
2...氧化物膜
3...內腔
4...溶劑與黏合劑之混合物
10...線圈零件
11...零件主體
12...磁體部
13...線圈部
14、15...外部端子
CS1~CS5...線圈段
IS1~IS4...中繼段
LS1、LS2...伸出部分
ML1~ML6...磁體層
圖1係積層型線圈零件之外觀立體圖。
圖2係沿著圖1之S11-S11線之放大剖面圖。
圖3係圖1所示零件主體之分解圖。
圖4係表示構成圖2所示之磁體部之粒子之粒度分佈之圖。
圖5係參照利用透射型電子顯微鏡觀察圖2所示之磁體部時所得之圖像,表示粒子狀態之模式圖。
圖6係參照利用透射型電子顯微鏡觀察脫黏合劑製程實施前之磁體部時所得之圖像,表示粒子狀態之模式圖。
圖7係參照利用透射型電子顯微鏡觀察脫黏合劑製程實施後之磁體部時所得之圖像,表示粒子狀態之模式圖。
10...線圈零件
11...零件主體
12...磁體部
13...線圈部
14、15...外部端子
Claims (6)
- 一種線圈零件,其係由磁體部覆蓋之螺旋狀線圈部與該磁體部直接接觸之類型之線圈零件,其特徵在於:上述磁體部係將磁性合金粒子群作為其主體,且不包含玻璃成分,於上述磁性合金粒子各自之表面上存在該磁性合金粒子之氧化物膜。
- 如請求項1之線圈零件,其中上述磁性合金粒子係藉由於氧化性環境中之加熱處理而於其表面上形成氧化物膜之磁性合金粒子。
- 如請求項2之線圈零件,其中上述磁性合金粒子係為Fe-Cr-Si合金粒子。
- 如請求項1至3中任一項之線圈零件,其中上述磁性合金粒子之粒徑以體積為基準計時之d10/d50處於0.1~0.7之範圍內,且d90/d50處於1.4~5.0之範圍內。
- 如請求項1至3中任一項之線圈零件,其中上述磁性合金粒子之粒徑以體積為基準計時之d50處於3.0~20.0 μm之範圍內。
- 如請求項4之線圈零件,其中上述磁性合金粒子之粒徑以體積為基準計時之d50處於3.0~20.0 μm之範圍內。
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