JP5997424B2 - 圧粉磁心の製造方法 - Google Patents
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Description
得られた圧粉磁心に熱処理を施す工程、及び
熱処理された圧粉磁心の少なくとも一部に研削砥石を用いた後加工を施す工程
を含んでおり、
前記後加工を施す工程において、圧粉磁心及び研削砥石を自転させつつ研削加工を施すことで圧粉磁心の加工面に生じる加工跡を、当該加工面に対し軸対称、同心円状および放射状を含む等方性にし、
前記後加工を施す工程において、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンの少なくとも一方を0.3〜1.5質量%含む水溶性の研削液を用い、
前記後加工を施す工程の後に、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンの少なくとも一方を含む水溶液で圧粉磁心を洗浄する工程をさらに含み、
前記圧粉磁心が、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンの少なくとも一方からなる防錆膜で被覆されていることを特徴としている。
また、前記後加工を施す工程において、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンの少なくとも一方を0.3〜1.5質量%含む水溶性の研削液を用いているので、鉄系の圧粉磁心を加工した後も、例えば油漬けなどの特別な防錆処理を施さなくとも圧粉磁心に防錆効果を付与することができる。これにより、工程の簡素化を図ることができる。
(2)前記(1)の製造方法において、前記圧粉磁心は、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンの少なくとも一方からなる防錆膜で被覆されているものとすることができる。
図1は、本発明の一実施の形態に係る製造方法のフローチャートである。以下、このフローチャートに従い本発明の圧粉磁心を製造する方法を説明する。
本発明の製造方法では、まず、ステップS1において原料の金属粉末が金型を用いて成形される。このとき、成形性を向上させる観点から、適量の潤滑剤を混合しても良い。
絶縁膜1層の厚さは、特に限定されないが、通常、10〜100nm程度である。10nmよりも薄いと絶縁膜が破れ易く、金属粒子同士が直接接触する頻度が高くなり、100nmよりも厚いと透磁率の低下を引き起こす。
図2に示される圧粉磁心1の寸法は、用途により異なるが、例えば直径が20mm、高さが12mmの形状を有している。
ステップS1において加圧成形された圧粉磁心1は、続くステップS2において熱処理が施される。この熱処理は、成形に用いた潤滑剤の脱バインダー処理や成形時の残留応力を解放すると共に、材料強度が向上する効果も期待でき、圧粉磁心1を大気中又は窒素雰囲気中で300℃以上600℃以下で少なくとも10分間焼成することで行われる。焼成温度が300℃よりも低いと、加圧成形に際し金属粉末中に混入させていた潤滑剤が圧粉磁心内に残り、圧粉磁心の強度が低下する恐れがある。一方、焼成温度が600°を超えると、金属粉末を被覆していた絶縁膜が熱分解し、絶縁が破壊されるおそれがある。焼成温度としては、400〜550°の範囲内であるのが好ましく、又、焼成時間としては20〜60分程度が好ましい。
ステップS2において熱処理された圧粉磁心1は、続くステップS3において後加工される。本実施の形態における後加工は、図5〜6に示される研削砥石10を用いて行われる。研削砥石10は、片方の面に凹所11が形成されたカップ形状であり、凹所11が形成された側の面の周縁部12に砥石部13が設けられている。この砥石部13は、砥粒と、この砥粒を結合させるボンド剤とからなっている。砥粒としては、高強度で砥石の形状崩れが生じにくいという観点から、例えばダイヤモンド粒や立方晶窒化ホウ素(cBN)粒を用いることが好ましいが、ダイヤモンド粒や立方晶窒化ホウ素(cBN)粒に加えてボンド剤の強度補強の効果を期待して微粒のダイヤモンドや微粒のcBN、及び微量のWA(アルミナ)やGC(炭化ケイ素)が添加されたものを用いることもできる。
かかるメジアン径が25μmよりも小さいと、砥石の目詰まりが生じやすく頻繁に目立て(ドレス)が必要であり、ドレスに時間を要すか加工送り速度を下げて加工に時間を要す必要が生じる為に量産においては現実的ではなく、一方、88μmよりも大きいと加工面の面粗さが粗く良好な品質を得ることができないという課題がある。
ステップS3において後加工が施された圧粉磁心1は、続くステップS4においてバリ取りが行われる。圧粉磁心の成形面には、金型要素のつなぎ目に対応するバリ(型バリ
)が発生し、また、研削加工による研削面には研削砥石との摺動に起因するバリ(加工バリ)が発生する。本実施の形態では、かかるバリを、硬質砥粒を混練させた合成樹脂で作製されたブラシを用いて除去する。硬質砥粒としては、例えばアルミナ粒や炭化ケイ素粒を用いることができる。
ステップS4においてバリ取りが行われた圧粉磁心1は、続くステップS5において脱磁処理が行われる。この脱磁処理は、常法に従い行うことができ、例えば交流磁界を与えて脱磁することができる。脱磁処理は、圧粉磁心の残留磁気が5mT以下になるように行うことが好ましい。
ステップS5において脱磁処理が行われた圧粉磁心1は、続くステップS6において洗浄処理が行われる。洗浄は、一般的に浄水を用いて行うことができるが、前記ステップS3の後加工(研削加工)において防錆成分を含む水溶性の研削液を用いる場合、この水溶性の研削液を少なくとも含有する洗浄液を用いることが好ましい。この場合、防錆成分が圧粉磁心の表面に残留するので、例えば油漬けなどの特別な防錆処理を施さなくとも圧粉磁心に防錆効果を付与することができる。洗浄は、例えば0.05〜0.40MPa、好ましくは0.1〜0.40MPa、さらに好ましくは0.20〜0.30MPaの範囲の吐出圧力で洗浄液を圧粉磁心に吹き付けることにより行うことができる。吐出圧力が0.05MPaよりも低いと加工やバリ取り工程で発生した切りくずやバリ取りくずを洗い流すことができず、一方、0.40MPaよりも高いとワークの固定が必要なため工程が煩雑となる。通常は、0.25MPa程度の吐出圧力で洗浄液が圧粉磁心に吹き付けられる。
洗浄後の圧粉磁心は、例えば室温にて30分程度の間乾燥処理が施される。
次に本発明の圧粉磁心の実施例を説明するが、本発明はもとよりかかる実施例にのみ限定されるものではない。
リン酸塩で絶縁被覆処理されたメジアン径が95μmの純鉄粉を金型に入れ、凹形状の段付き金型形状のプレスパンチを用いて面圧8ton/cm2で加圧成形をし、図2に示される形状の圧粉磁心を作製した。圧粉磁心の成形密度は、7.30g/cm3であった。
ついで、圧粉磁心の凹所が形成された側の面(図2の(a)において上側の面)に対して、図3に示される形状の研削砥石を用い、以下の条件で研削加工を行った。
研削砥石の砥粒: ダイヤモンド
研削砥粒の平均粒径: 44μm
研削砥石の外径: Φ60mm
研削砥石の周速: 1800m/min
砥石のスリット幅: 有効最外周円周の0.3%
砥石ドレッサーの砥粒: アルミナ
砥石ドレッサーの平均粒径: 44μm
圧粉磁心の自転速度: 250rpm
研削方法: 型端面平研(図7の(a)参照)
研削時間: 5秒間
研削液:1.0質量%のジエタノールアミンを含む水溶性研削液
実施例1では、3つの圧粉磁心を作製した。そのうちの1つの圧粉磁心の研削加工面の説明図を図11に示す。
リン酸塩で絶縁被覆処理されたメジアン径が85μmの純鉄粉を金型に入れ、凹形状に多段に分割されたプレスパンチを用いて面圧12ton/cm2で加圧成形をし、図2に示される形状の圧粉磁心を作製した。圧粉磁心の成形密度は、7.45g/cm3であった。
ついで、圧粉磁心の凹所が形成された側の面(図2の(a)において上側の面)に対して、図5に示される形状の研削砥石を用い、以下の条件で研削加工を行った。
研削砥石の外径: Φ305mm
研削砥石の砥粒: cBN
研削砥粒の平均粒径: 53μm
研削砥石の周速: 2000m/min
砥石のスリット幅: 有効最外周円周の0.3%
砥石ドレッサーの砥粒: アルミナ
砥石ドレッサーの平均粒径: 53μm
圧粉磁心の自転速度: 450rpm
研削方法: 型端面平研(図7の(a)参照)
研削時間: 5秒間
研削液:1.0質量%のジエタノールアミンを含む水溶性研削液
実施例2では、2つの圧粉磁心を作製した。そのうちの1つの圧粉磁心の研削加工面の説明図を図12に示す。
圧粉磁心を自転させなかった以外は実施例1と同様にして圧粉磁心を作製した。比較例1で作製した圧粉磁心の研削加工面の説明図を図13に示す。
図13に示される比較例1では、圧粉磁心が自転をせずに固定された状態で研削加工が行われているので、研削面には、ほぼ一方向に伸びる異方性の加工跡が生じている。これに対し、図11に示される実施例1及び図12に示される実施例2では、加工跡が同心円状又は放射状に伸びており、軸対象の等方性の加工跡が生じている。実施例1では、研削砥石の径が圧粉磁心に対して余り大きくないので、円弧状の加工跡が等方的に当該圧粉磁心の被研削面に刻まれており、実施例2では、研削砥石の径が圧粉磁心に対して十分に大きいので、ほぼ直線状の加工跡が等方的に当該圧粉磁心の被研削面に刻まれている。
得られた圧粉磁心について、前述したブラシを用いたバリ取り処理(ステップS4)、脱磁処理(ステップS5)及び洗浄処理(ステップS6)を施した後に、図8に示される装置を用いて、研削加工面の磁気特性の評価を行った。得られた圧粉磁心1をステータとして用い、その凹所内にコイル25(コイルターン数=36ターン)を配設し、当該コイル25を電源24に接続した。圧粉磁心1の貫通孔内に、図9に示されるアーマチャー20を、その心棒21側から挿入し、円盤22の裏面を圧粉磁心1の研削加工面に当接させた。アーマチャー20の円盤22の材質はFe−Si(磁性材)であり、その心棒21の材質はステンレス(非磁性材)である。圧粉磁心1は、押さえ板28によって上方への移動が規制されている。
なお、前記「3V」という評価のための指標は、前記実施例1と同じ条件で作製したトロイダルテストピースを評価して得られた、磁束密度・透磁率より計算した結果、3V以上の数値が出ることが望ましいとされた、ことに基づいている。
実施例1で得られた圧粉磁心について、前述したブラシを用いたバリ取り処理(ステップS4)及び脱磁処理(ステップS5)、並びに研削加工時に用いた研削液を少なくとも含有する洗浄液を用いた洗浄処理(ステップS6)を施した。
得られた圧粉磁心は、洗浄液に含まれる防錆成分が圧粉磁心の表面に残留するので、例えば油漬けなどの特別な防錆処理を施さなくとも大気中で1年間放置しても錆が生じなかった。
実施例1で得られた圧粉磁心について、前述したブラシを用いたバリ取り処理(ステップS4)及び脱磁処理(ステップS5)、並びに研削加工時に用いた研削液を含有しない一般的な浄水を用いた洗浄処理(ステップS6)を施した。
得られた圧粉磁心は、研削時に圧粉磁心の表面に付着した防錆成分が浄水により流されてしまい、大気中で放置すると2日後には、目視で十分に認識できる錆が生じた。
リン酸塩で絶縁被覆処理されたメジアン径が250μmの純鉄粉を金型に入れ、凹形状に多段に分割されたプレスパンチを用いて面圧8ton/cm2で加圧成形をし、図2に示される形状の圧粉磁心を作製した。圧粉磁心の成形密度は、7.50g/cm3であった。
ついで、圧粉磁心の凹所が形成された側の面(図2の(a)において上側の面)に対して、図5に示される形状の研削砥石を用い、以下の条件で研削加工を行った。
研削条件
研削砥石の外径: Φ305mm
研削砥石の砥粒: cBN
研削砥粒の平均粒径: 88μm
研削砥石の周速: 1500M/min
砥石ドレッサーの砥粒: 炭化ケイ素
砥石ドレッサーの平均粒径: 105μm
圧粉磁心の自転速度: 600rpm
研削方法: 型端面平研(図7の(a)参照)
研削時間: 5秒間
研削液:0.3質量%のジエタノールアミンを含む水溶性研削液
実施例4では、2つの圧粉磁心を作製した。そのうちの1つの圧粉磁心の研削加工面の説明図を図12に示す。
得られた圧粉磁心の磁気吸引力を測定した結果、3.4Vで特性を満足した。また、大気中で1年間放置しても錆は発生しなかった。
リン酸塩で絶縁被覆処理されたメジアン径が100μmの純鉄粉を金型に入れ、凹形状に3段に分割されたプレスパンチを用いて、面圧8〜9ton/cm2で1時間あたり600個のスループットで10,000個の加圧成形をし、図2に示される形状の圧粉磁心を作製した。圧粉磁心の成形密度は、7.35〜7.45g/cm3であった。
ついで、圧粉磁心の凹所が形成された側の面(図2の(a)において上側の面)に対して、図5に示される形状の研削砥石を用い、以下の条件で研削加工を行った。
研削条件
研削砥石の外径: Φ305mm
研削砥石の砥粒: cBN
研削砥粒の平均粒径: 53μm
研削砥石の周速: 2000m/min
砥石ドレッサーの砥粒: アルミナ
砥石ドレッサーの平均粒径 62μm
砥石のスリット幅: 有効最外周円周の0.5%
圧粉磁心の自転速度: 550rpm
研削方法: 型端面平研(図7の(a)参照)
研削時間: 2秒間
研削液:1質量%のジエタノールアミンを含む水溶性研削液
作製した圧粉磁心の研削加工面の説明図を図12に示す。
得られた圧粉磁心の加工精度を測定した。全長精度の平均誤差量は1.0μm,寸法バラツキは5.0μmであった。平面度は1.1μm,寸法バラツキは0.3μmであった。
得られた圧粉磁心は、残留磁化が5mT以下であり、洗浄液に含まれる防錆成分が圧粉磁心の表面に残留するので、例えば油漬けなどの特別な防錆処理を施さなくとも大気中で1年間放置しても錆が生じなかった。
また、抜き取りで30個の磁気吸引力を測定した結果、3.1V〜4.0Vと特性を満足した。
以下の表2〜3に示す条件で圧粉磁心を作製し、磁気吸引力と大気中1年間放置後の防錆効果を検証した。
2 貫通孔
3 凹所
10 研削砥石
11 凹所
12 周縁部
13 砥石部
13a 研削面
14 溝部
Claims (12)
- 絶縁被覆処理された純鉄粉又は鉄を主成分とする鉄系合金粉末を金型を用いて加圧成形して圧粉磁心を得る工程、
得られた圧粉磁心に熱処理を施す工程、及び
熱処理された圧粉磁心の少なくとも一部に研削砥石を用いた後加工を施す工程
を含んでおり、
前記後加工を施す工程において、圧粉磁心及び研削砥石を自転させつつ研削加工を施すことで圧粉磁心の加工面に生じる加工跡を、当該加工面に対し軸対称、同心円状および放射状を含む等方性にし、
前記後加工を施す工程において、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンの少なくとも一方を0.3〜1.5質量%含む水溶性の研削液を用い、
前記後加工を施す工程の後に、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンの少なくとも一方を含む水溶液で圧粉磁心を洗浄する工程をさらに含み、
前記圧粉磁心が、ジエタノールアミン及びトリエタノールアミンの少なくとも一方からなる防錆膜で被覆されていることを特徴とする、圧粉磁心の製造方法。 - 前記金型が、対向する第1金型及び第2金型からなっており、この第1金型及び第2金型の少なくとも一方が凸部及び/又は凹部を有する段付き形状あるいは段差部分で複数に分割された形状を呈しており、且つ、加圧成形により得られる圧粉磁心の密度が7.0〜7.6g/cm3の範囲内である請求項1に記載の製造方法。
- 前記圧粉磁心の自転速度が150〜1500rpmの範囲内であり、且つ、前記研削砥石を周速720m/min以上最高使用周速以下で自転させる請求項1又は請求項2に記載の製造方法。
- 前記研削砥石を構成する砥粒が、メジアン径が25〜88μmの範囲内のダイヤモンド又は立方晶窒化ホウ素である請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
- 前記研削砥石の加工に寄与する研削面に、当該研削砥石の外周縁に至る少なくとも1本の溝部が形成されており、当該溝部の幅が、研削砥石の有効最外周円周に対して0.05〜1.00%の範囲内である請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
- 前記研削砥石の目立てを行う工程を更に含んでおり、目立てに用いるドレッサーの主成分がアルミナ、炭化ケイ素、ダイヤモンド及び立方晶窒化ホウ素からなる群より選ばれた少なくとも1つであり、且つ、当該ドレッサーのメジアン径が18〜105μmの範囲内である請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
- 前記純鉄粉又は鉄を主成分とする鉄系合金粉末のメジアン径が、60〜250μmの範囲内である請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。
- 前記純鉄粉又は鉄を主成分とする鉄系合金粉末が、面圧6〜13ton/cm2の範囲内の圧力で加圧成形される請求項1〜7のいずれかに記載の製造方法。
- 前記熱処理を施す工程において、圧粉磁心が大気中若しくは窒素雰囲気中又はその混合気流中で300℃以上600℃以下で少なくとも10分間熱処理される請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法。
- 前記加圧成形時及び後加工時に圧粉磁心表面に形成されるバリを除去する工程を更に含んでおり、アルミナ又は炭化ケイ素からなる硬質砥粒を混練させた合成樹脂で作製されたブラシを用いてバリの除去を行う請求項1〜9のいずれかに記載の製造方法。
- バリを除去した後に、残留磁気が5mT以下になるように脱磁処理を行う工程を更に含む請求項10に記載の製造方法。
- 脱磁処理後に、後加工時に用いた水溶性の研削液を少なくとも含有する洗浄液を用いて、0.05〜0.40MPaの範囲の吐出圧力で圧粉磁心を洗浄する工程を更に含む請求項11に記載の製造方法。
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