TW201819395A - 有機電致發光材料及裝置 - Google Patents

Abstract

本發明揭示一種化合物，其具有金屬配位錯合物結構，該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體；其中該化合物在該等配位體之一者的外圍具有第一取代基R¹；其中第一距離定義為該金屬與R¹中之原子之一者之間的距離，其中該原子在R¹中之該等原子之中距該金屬最遠；其中該第一距離亦長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何其他原子至金屬距離；且其中當界定具有半徑 r 之球體，其中心在該金屬且該半徑 r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑 r 長至少2.9 Å。

Description

有機電致發光材料及裝置

本發明係關於用作磷光發射體之化合物；及包括其之裝置，諸如有機發光二極體。更特定言之，本發明係關於在一個方向上具有較大縱橫比之有機金屬錯合物及其在OLED中用以增強效率之用途。

出於若干原因，利用有機材料之光學電子裝置變得愈來愈受歡迎。用以製造該等裝置之材料中的許多材料相對便宜，因此有機光學電子裝置具有獲得相對於無機裝置之成本優勢的潛力。另外，有機材料之固有性質(諸如其可撓性)可使其非常適合具體應用，諸如在可撓性基板上之製造。有機光學電子裝置之實例包括有機發光二極體/裝置(OLED)、有機光電晶體、有機光伏打電池及有機光偵測器。對於OLED，有機材料可具有相對於習知材料之效能優點。舉例而言，有機發射層發射光之波長通常可容易地用適當的摻雜劑來調整。 OLED利用有機薄膜，其在電壓施加於裝置上時發射光。OLED正變為用於諸如平板顯示器、照明及背光應用中之愈來愈引人注目的技術。美國專利第5,844,363號、第6,303,238號及第5,707,745號中描述若干OLED材料及組態，該等專利以全文引用的方式併入本文中。 磷光性發射分子之一個應用係全色顯示器。用於此顯示器之行業標準需要適於發射具體色彩(稱為「飽和」色彩)之像素。特定言之，此等標準需要飽和的紅色、綠色及藍色像素。或者，OLED可經設計以發射白光。在習知液晶顯示器中，使用吸收濾光器濾過來自白色背光之發射以產生紅色、綠色及藍色發射。相同技術亦可用於OLED。白色OLED可為單EML裝置或堆疊結構。可使用此項技術中所熟知的CIE座標來量測色彩。 綠色發射分子之一個實例係參(2-苯基吡啶)銥、表示為Ir(ppy)₃ ，其具有以下結構：在此圖及本文後面的圖中，將自氮至金屬(此處，Ir)之配價鍵描繪為直線。 如本文所用，術語「有機」包括聚合材料以及小分子有機材料，其可用以製造有機光學電子裝置。「小分子」係指不為聚合物之任何有機材料，且「小分子」可能實際上相當大。在一些情況下，小分子可包括重複單元。舉例而言，使用長鏈烷基作為取代基不會將分子自「小分子」類別中移除。小分子亦可併入至聚合物中，例如作為聚合物主鏈上之側基或作為主鏈之一部分。小分子亦可充當樹枝狀聚合物之核心部分，該樹枝狀聚合物由建立在核心部分上之一系列化學殼層組成。樹枝狀聚合物之核心部分可為螢光或磷光小分子發射體。樹枝狀聚合物可為「小分子」，且據信當前在OLED領域中使用之所有樹枝狀聚合物均為小分子。 如本文所用，「頂部」意指離基板最遠，而「底部」意指離基板最近。在將第一層描述為「安置」在第二層「上」之情況下，第一層安置為距基板較遠。除非規定第一層「與」第二層「接觸」，否則第一與第二層之間可存在其他層。舉例而言，即使陰極及陽極之間存在各種有機層，仍可將陰極描述為「安置在」陽極「上」。 如本文所用，「溶液可處理」意指能夠以溶液或懸浮液之形式在液體介質中溶解、分散或輸送及/或自液體介質沈積。 當據信配位體直接促成發射材料之光敏性質時，配位體可稱為「光敏性的」。當據信配位體並不促成發射材料之光敏性質時，配位體可稱為「輔助性的」，但輔助性的配位體可改變光敏性的配位體之性質。 如本文所用，且如熟習此項技術者一般將理解，若第一能級較接近真空能級，則第一「最高佔用分子軌域」(HOMO)或「最低未佔用分子軌域」(LUMO)能級「大於」或「高於」第二HOMO或LUMO能級。由於將電離電位(IP)量測為相對於真空能級之負能量，因此較高HOMO能級對應於具有較小絕對值之IP(負得較少之IP)。類似地，較高LUMO能級對應於具有較小絕對值之電子親和性(EA)(負得較少之EA)。在習知能級圖上，真空能級在頂部，材料之LUMO能級高於同一材料之HOMO能級。「較高」HOMO或LUMO能級表現為比「較低」HOMO或LUMO能級靠近此圖之頂部。 如本文所用，且如熟習此項技術者一般將理解，若第一功函數具有較高絕對值，則第一功函數「大於」或「高於」第二功函數。因為通常將功函數量測為相對於真空能級之負數，因此此意指「較高」功函數負得較多。在習知能級圖上，真空能級在頂部，將「較高」功函數說明為在向下方向上距真空能級較遠。因此，HOMO及LUMO能級之定義遵循與功函數不同的慣例。 可在以全文引用的方式併入本文中之美國專利第7,279,704號中找到關於OLED及上文所述之定義的更多細節。

根據本發明之一態樣，揭示一種化合物，其具有金屬配位錯合物結構，該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體；其中該化合物在該等配位體之一的外圍具有第一取代基R¹ ；其中第一距離定義為該金屬與R¹ 中的原子之一之間的距離，其中該原子在R¹ 中之該等原子之中距該金屬最遠；其中該第一距離亦長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何其他原子至金屬距離；且其中當界定具有半徑 r 之球體，其中心在該金屬且該半徑 r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑 r 長至少2.9 Å。 根據另一態樣，揭示一種OLED，其包含：陽極；陰極；及安置在該陽極與該陰極之間的有機層，其包含具有金屬配位錯合物結構之化合物；其中該化合物在室溫下能夠充當有機發光裝置中之發射體；其中該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體；其中該化合物在該等配位體之一的外圍具有第一取代基R¹ ；其中第一距離係該金屬與R¹ 中距該金屬最遠之原子之間的距離；其中該第一距離長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何距離；且其中當界定具有半徑 r 之球體，其中心係該金屬且該半徑 r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑 r 長至少2.9 Å。 根據另一態樣，揭示一種OLED，其包含：陽極；陰極；及安置在該陽極與該陰極之間的發射層，其包含磷光發射化合物；其中該磷光發射化合物具有半高全寬(FWHM)值為不大於40 nm之固有發射光譜；其中當在該裝置上施加電壓時，該OLED在室溫下在0.1 mA/cm² 下量測之EQE係至少25%。 根據另一態樣，揭示一種消費型產品，其包含OLED，其中該OLED包含：陽極；陰極；及安置在該陽極與該陰極之間的有機層，其包含具有金屬配位錯合物結構之化合物；其中該化合物在室溫下能夠充當有機發光裝置中之發射體；其中該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體；其中該化合物在該等配位體之一的外圍具有第一取代基R¹ ；其中第一距離係該金屬與R¹ 中距該金屬最遠之原子之間的距離；其中該第一距離長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何距離；且其中當界定具有半徑 r 之球體，其中心係該金屬且該半徑 r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑 r 長至少2.9 Å。 根據另一態樣，揭示一種消費型產品，其包含OLED，其中該OLED包含：陽極；陰極；及安置在該陽極與該陰極之間的發射層，其包含磷光發射化合物；其中該磷光發射化合物具有FWHM值為不大於40 nm之固有發射光譜，且當在該裝置上施加電壓時，在室溫下在0.1 mA/cm² 下量測之EQE係至少25%。

相關申請案之交叉引用 本申請案根據35 U.S.C. §119(e)(1)主張2016年6月20日申請之美國臨時申請案第62/352,119號、2017年6月7日申請之美國臨時申請案第62/516,329號、2016年6月20日申請之美國臨時申請案第62/352,139號、2017年1月26日申請之美國臨時申請案第62/450,848號、2017年3月31日申請之美國臨時申請案第62/479,795號及2017年4月3日申請之美國臨時申請案第62/480,746號的優先權，該等美國臨時申請案之全部內容以引用的方式併入本文中。 一般而言，OLED包含安置在陽極與陰極之間且電連接至陽極及陰極的至少一個有機層。當施加電流時，陽極注入電洞且陰極注入電子至有機層中。所注入之電洞及電子各自朝帶相反電荷之電極遷移。當電子及電洞侷限於同一分子上時，形成「激子」，其為具有激發能量狀態之局部化電子-電洞對。當激子經由光電發射機制弛豫時，發射光。在一些情況下，激子可侷限於激元或激態複合物上。非輻射機制(諸如熱弛豫)亦可能發生，但通常視為不合需要的。 最初的OLED使用自單態發射光(「螢光」)之發射分子，如例如美國專利第4,769,292號中所揭示，該專利以全文引用的方式併入。螢光發射通常在小於10奈秒之時間範圍中發生。 最近，已論證具有自三重態發射光(「磷光」)之發射材料的OLED。Baldo等人,「Highly Efficient Phosphorescent Emission from Organic Electroluminescent Devices」, Nature, 第395卷, 第151-154頁, 1998 (「Baldo-I」)；及Baldo等人, 「Very high-efficiency green organic light-emitting devices based on electrophosphorescence」, Appl. Phys. Lett., 第75卷, 第3期, 第4-6頁(1999) (「Baldo-II」)以全文引用的方式併入。以引用的方式併入之美國專利第7,279,704號第5-6行中更詳細地描述磷光。 圖1展示有機發光裝置100。圖不一定按比例繪製。裝置100可包括基板110、陽極115、電洞注入層120、電洞輸送層125、電子阻擋層130、發射層135、電洞阻擋層140、電子輸送層145、電子注入層150、保護層155、陰極160及障壁層170。陰極160係具有第一導電層162及第二導電層164之複合陰極。裝置100可藉由依序沈積所描述之層來製造。在以引用的方式併入之US 7,279,704之第6-10行中更詳細地描述此等各種層以及實例材料之性質及功能。 此等層中之每一者有更多實例。舉例而言，以全文引用的方式併入之美國專利第5,844,363號中揭示可撓性且透明的基板-陽極組合。經p摻雜之電洞輸送層的實例係以50:1之莫耳比率摻雜有F₄ -TCNQ的m-MTDATA，如以全文引用的方式併入之美國專利申請公開案第2003/0230980號中所揭示。以全文引用的方式併入之頒予Thompson等人之美國專利第6,303,238號中揭示發射材料及主體材料之實例。經n摻雜之電子輸送層的實例係以1:1之莫耳比率摻雜有Li的BPhen，如以全文引用的方式併入之美國專利申請公開案第2003/0230980號中所揭示。以全文引用的方式併入之美國專利第5,703,436號及第5,707,745號揭示陰極之實例，其包括具有諸如Mg:Ag之金屬薄層與上覆的透明、導電、經濺鍍沈積之ITO層的複合陰極。以全文引用的方式併入之美國專利第6,097,147號及美國專利申請公開案第2003/0230980號中更詳細地描述阻擋層之原理及使用。以全文引用的方式併入之美國專利申請公開案第2004/0174116號中提供注入層之實例。可在以全文引用的方式併入之美國專利申請公開案第2004/0174116號中找到保護層之描述。 圖2展示倒轉的OLED 200。該裝置包括基板210、陰極215、發射層220、電洞輸送層225及陽極230。裝置200可藉由依序沈積所描述之層來製造。因為最常見OLED組態具有安置在陽極上之陰極，且裝置200具有安置在陽極230下之陰極215，所以裝置200可稱為「倒轉」OLED。在裝置200之對應層中，可使用與關於裝置100所描述之材料類似的材料。圖2提供可如何自裝置100之結構省略一些層的一個實例。 圖1及2中所說明之簡單分層結構係作為非限制實例而提供，且應理解，可結合各種各樣的其他結構使用本發明之實施例。所描述之具體材料及結構本質上係例示性的，且可使用其他材料及結構。可基於設計、效能及成本因素，藉由以不同方式組合所描述之各個層來實現功能性OLED，或可完全省略若干層。亦可包括未具體描述之其他層。可使用不同於具體描述之材料的材料。儘管本文所提供之實例中的許多實例將各種層描述為包含單一材料，但應理解，可使用材料之組合(例如主體與摻雜劑之混合物)或更一般而言，混合物。此外，該等層可具有各種子層。本文中給予各個層之名稱不意欲具有嚴格限制性。舉例而言，在裝置200中，電洞輸送層225輸送電洞且將電洞注入至發射層220中，且可描述為電洞輸送層或電洞注入層。在一個實施例中，可將OLED描述為具有安置在陰極與陽極之間的「有機層」。此有機層可包含單個層，或可進一步包含如例如關於圖1及2所描述之不同有機材料的多個層。 亦可使用未具體描述之結構及材料，諸如包含聚合材料之OLED (PLED)，諸如以全文引用的方式併入之頒予Friend等人之美國專利第5,247,190號中所揭示。作為另一實例，可使用具有單個有機層之OLED。OLED可堆疊，例如如以全文引用的方式併入之頒予Forrest等人之第5,707,745號中所描述。OLED結構可脫離圖1及2中所說明之簡單分層結構。舉例而言，基板可包括有角度的反射表面以改良出耦(out-coupling)，諸如如頒予Forrest等人之美國專利第6,091,195號中所述的台式結構，及/或如頒予Bulovic等人之美國專利第5,834,893號中所述的凹點結構，該等專利以全文引用的方式併入。 除非另外規定，否則可藉由任何適合方法來沈積各種實施例之層中的任一者。對於有機層，較佳方法包括熱蒸發、噴墨(諸如以全文引用的方式併入之美國專利第6,013,982號及第6,087,196號中所述)、有機氣相沈積(OVPD)(例如以全文引用的方式併入之頒予Forrest等人之美國專利第6,337,102號中所述)及藉由有機蒸氣噴射印刷(OVJP)之沈積(諸如以全文引用的方式併入之美國專利第7,431,968號中所述)。其他適合沈積方法包括旋塗及其他基於溶液之製程。基於溶液之製程較佳在氮氣或惰性氛圍中進行。對於其他層，較佳方法包括熱蒸發。較佳之圖案化方法包括通過遮罩之沈積、冷焊(諸如以全文引用的方式併入之美國專利第6,294,398號及第6,468,819號中所述)及與諸如噴墨及OVJP之沈積方法中的一些方法相關聯之圖案化。亦可使用其他方法。可修改待沈積之材料，以使其與具體沈積方法相容。舉例而言，可在小分子中使用具支鏈或無支鏈且較佳含有至少3個碳的諸如烷基及芳基之取代基，來增強其經受溶液處理之能力。可使用具有20個或多於20個碳之取代基，且3至20個碳係較佳範圍。具有不對稱結構之材料可比具有對稱結構之材料具有更好的溶液可處理性，因為不對稱材料可具有更低的再結晶傾向性。可使用樹枝狀聚合物取代基來增強小分子經受溶液處理之能力。 根據本發明實施例製造之裝置可進一步視情況包含障壁層。障壁層之一個用途係保護電極及有機層免於因暴露於環境中之有害物質(包括水分、蒸氣及/或氣體等)而受損。障壁層可沈積在基板、電極上，沈積在基板、電極下或沈積在基板、電極旁，或沈積在裝置之任何其他部分(包括邊緣)上。障壁層可包含單個層或多個層。障壁層可藉由各種已知化學氣相沈積技術形成，且可包括具有單一相之組合物以及具有多個相之組合物。任何適合材料或材料組合均可用於障壁層。障壁層可併入有無機化合物或有機化合物或兩者。較佳之障壁層包含聚合材料與非聚合材料之混合物，如以全文引用的方式併入本文中之美國專利第7,968,146號、PCT專利申請案第PCT/US2007/023098號及第PCT/US2009/042829號中所述。為視為「混合物」，構成障壁層之前述聚合材料及非聚合材料應在相同反應條件下及/或在同時沈積。聚合材料對非聚合材料之重量比率可在95:5至5:95之範圍內。聚合材料及非聚合材料可由同一前體材料產生。在一個實例中，聚合材料與非聚合材料之混合物基本上由聚合矽及無機矽組成。 根據本發明之實施例而製造之裝置可併入至各種各樣的電子組件模組(或單元)中，該等電子組件模組可併入至多種電子產品或中間組件中。該等電子產品或中間組件之實例包括可為終端使用者產品製造商所利用之顯示螢幕、照明裝置(諸如離散光源裝置或照明面板)等。該等電子組件模組可視情況包括驅動電子裝置及/或電源。根據本發明之實施例而製造之裝置可併入至各種各樣的消費型產品中，該等消費型產品具有一或多種電子組件模組(或單元)併入於其中。該等消費型產品將包括含一或多個光源及/或某種類型之視覺顯示器中的一或多者之任何種類的產品。該等消費型產品之一些實例包括平板顯示器、電腦監視器、醫療監視器、電視機、告示牌、用於內部或外部照明及/或發信號之燈、抬頭顯示器、全透明或部分透明之顯示器、可撓性顯示器、雷射印刷機、電話、蜂巢式電話、平板電腦、平板手機、個人數位助理(PDA)、可佩戴裝置、膝上型電腦、數位相機、攝錄影機、取景器、微型顯示器(對角線小於2吋之顯示器)、3-D顯示器、虛擬現實或增強現實顯示器、交通工具、包含多個平鋪在一起之顯示器的視訊牆、劇院或體育館螢幕，及指示牌。可使用各種控制機制來控制根據本發明而製造之裝置，包括被動式矩陣及主動式矩陣。意欲將該等裝置中之許多裝置用於對人類而言舒適之溫度範圍中，諸如18攝氏度至30攝氏度，且更佳在室溫下(20-25攝氏度)，但可在此溫度範圍外(例如-40攝氏度至+80攝氏度)使用。 本文所述之材料及結構可應用於不同於OLED之裝置中。舉例而言，諸如有機太陽能電池及有機光偵測器之其他光電子裝置可使用該等材料及結構。更一般而言，諸如有機電晶體之有機裝置可使用該等材料及結構。 如本文所用，術語「鹵基」、「鹵素」或「鹵化物」包括氟、氯、溴及碘。 如本文所用，術語「烷基」涵蓋直鏈及分支鏈烷基。較佳之烷基係含有一至十五個碳原子之烷基，且包括甲基、乙基、丙基、1-甲基乙基、丁基、1-甲基丙基、2-甲基丙基、戊基、1-甲基丁基、2-甲基丁基、3-甲基丁基、1,1-二甲基丙基、1,2-二甲基丙基、2,2-二甲基丙基及其類似基團。另外，烷基可為視情況經取代的。 如本文所用，術語「環烷基」涵蓋環狀烷基。較佳之環烷基係含有3至10個環碳原子之環烷基，且包括環丙基、環戊基、環己基、金剛烷基及其類似基團。另外，環烷基可為視情況經取代的。 如本文所用，術語「烯基」涵蓋直鏈及分支鏈烯基。較佳之烯基係含有二至十五個碳原子之烯基。另外，烯基可為視情況經取代的。 如本文所用，術語「炔基」涵蓋直鏈及分支鏈炔基。較佳之炔基係含有二至十五個碳原子之炔基。另外，炔基可為視情況經取代的。 如本文所用，術語「芳烷基」或「芳基烷基」可互換地使用且涵蓋具有芳族基團作為取代基之烷基。另外，芳烷基可為視情況經取代的。 如本文所用，術語「雜環基」涵蓋芳族及非芳族環狀自由基。雜芳族環狀自由基亦意指雜芳基。較佳之雜非芳族環基係含有包括至少一個雜原子之3至7個環原子的雜環基，且包括環胺，諸如嗎啉基、哌啶基、吡咯啶基及其類似基團，及環醚，諸如四氫呋喃、四氫哌喃及其類似基團。另外，雜環基可為視情況經取代的。 如本文所用，術語「芳基」或「芳族基團」涵蓋單環基團及多環系統。多環可具有其中兩個碳為兩個鄰接環(該等環係「稠合的」)共用之兩個或多於兩個環，其中該等環中之至少一者係芳族的，例如其他環可為環烷基、環烯基、芳基、雜環及/或雜芳基。較佳之芳基係含有六至三十個碳原子、較佳六至二十個碳原子、更佳六至十二個碳原子之芳基。尤其較佳的為具有六個碳、十個碳或十二個碳之芳基。適合的芳基包括苯基、聯苯、聯三苯、聯伸三苯、聯伸四苯、萘、蒽、萉、菲、茀、芘、䓛、苝及薁，較佳苯基、聯苯、聯三苯、聯伸三苯、茀及萘。另外，芳基可為視情況經取代的。 如本文所用，術語「雜芳基」涵蓋可包括一至五個雜原子之單環雜芳族基團。術語雜芳基亦包括具有其中兩個原子為兩個鄰接環(該等環係「稠合的」)共用之兩個或多於兩個環的多環雜芳族系統，其中該等環中之至少一者係雜芳基，例如其他環可為環烷基、環烯基、芳基、雜環及/或雜芳基。較佳之雜芳基係含有三至三十個碳原子、較佳三至二十個碳原子、更佳三至十二個碳原子之雜芳基。適合的雜芳基包括二苯并噻吩、二苯并呋喃、二苯并硒吩、呋喃、噻吩、苯并呋喃、苯并噻吩、苯并硒吩、咔唑、吲哚并咔唑、吡啶基吲哚、吡咯并二吡啶、吡唑、咪唑、三唑、噁唑、噻唑、噁二唑、噁三唑、二噁唑、噻二唑、吡啶、噠嗪、嘧啶、吡嗪、三嗪、噁嗪、噁噻嗪、噁二嗪、吲哚、苯并咪唑、吲唑、吲哚嗪、苯并噁唑、苯并異噁唑、苯并噻唑、喹啉、異喹啉、㖕啉、喹唑啉、喹喏啉、㖠啶、酞嗪、喋啶、二苯并哌喃、吖啶、吩嗪、吩噻嗪、吩噁嗪、苯并呋喃并吡啶、呋喃并二吡啶、苯并噻吩并吡啶、噻吩并二吡啶、苯并硒吩并吡啶及硒酚并二吡啶，較佳二苯并噻吩、二苯并呋喃、二苯并硒吩、咔唑、吲哚并咔唑、咪唑、吡啶、三嗪、苯并咪唑、1,2-氮雜硼烷、1,3-氮雜硼烷、1,4-氮雜硼烷、硼氮炔及其氮雜類似物。另外，雜芳基可為視情況經取代的。 烷基、環烷基、烯基、炔基、芳烷基、雜環基、芳基及雜芳基可未經取代或可經一或多個選自由以下組成之群的取代基取代：氘、鹵素、烷基、環烷基、雜烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、胺基、環胺基、矽烷基、烯基、環烯基、雜烯基、炔基、芳基、雜芳基、醯基、羰基、羧酸基、醚基、酯基、腈基、異腈基、氫硫基、亞磺醯基、磺醯基、膦基及其組合。 如本文所用，「經取代的」表示，不為H之取代基鍵結至相關位置，諸如碳。因此，舉例而言，在R¹ 經單取代時，則一個R¹ 必須不為H。類似地，在R¹ 經二取代時，則兩個R¹ 必須不為H。類似地，在R¹ 未經取代時，R¹ 對於所有可用位置而言均為氫。 本文所述之片段(亦即氮雜-二苯并呋喃、氮雜-二苯并噻吩等)中之「氮雜」名稱意指各別片段中之一或多個C-H基團可經氮原子置換，例如且無任何限制性地，氮雜聯伸三苯涵蓋二苯并[f,h ]喹喏啉及二苯并[f,h ]喹啉。一般熟習此項技術者可容易地預想上文所述之氮雜-衍生物之其他氮類似物，且所有此等類似物均旨在由如本文中闡述之術語涵蓋。 應理解，當將分子片段描述為取代基或另外連接至另一部分時，其名稱可如同其為片段(例如苯基、伸苯基、萘基、二苯并呋喃基)一般或如同其為整個分子(例如苯、萘、二苯并呋喃)一般書寫。如本文所用，此等不同的命名取代基或連接之片段的方式視為等效的。 在本發明中，吾人描述一種實現發射體躍遷偶極對準以便改良OLED裝置效能之方法。增加個別發射體內負責光子發射之躍遷偶極矩向量的水平對準導致出耦增加且因此效率增加。藉由增加線性或平面性而增加發射體之分子縱橫比引起OLED EML中之發射體的非各向同性定向。躍遷偶極矩與此線性長軸或平面之相關性使得發射體定向可轉變為躍遷偶極定向且改良光出耦。此等變化相較於隨機定向之發射體可改良光出耦及裝置效率多達50%。發射躍遷偶極矩之對準 ： 本文所描述之方法藉由經由分子對準使光出耦達至最大而改良OLED效能。儘管藉由磷光OLED材料實現極高的激子轉化效率及發射量子產率，但裝置效率最終受光提取效率限制。自OLED堆疊之發射層(EML)發射的光子之提取極大地視光子發射之方向而定。垂直於裝置基板傳播之光子具有高提取概率，而相對於基板之正交方向成大角度傳播的彼等光子之損失機率大得多且歸因於內部反射、波導模式及耦合至表面電漿子模式而不經提取。 在個別發射體化合物中，光發射垂直於三重態至基態躍遷偶極矩(TDM)進行。因此，增加TDM向量相對於OLED之基板水平對準的發射體化合物分子之數目導致光提取效率更高且因此裝置效率(外部量子效率-EQE)更高。此水平定向因子在發射體分子集合中可藉由TDM向量之水平分量 TDM_║ 與垂直分量 TDM _┴ 及水平分量之總和的比率 θ 以統計方式描述。換言之： θ = TDM_║ /(TDM _┴ + TDM_║ ) 。比率 θ 在下文將稱為水平偶極比率(「HDR」)。 水平偶極比率 θ 可藉由角度依賴性光致發光量測來量測。藉由將光激發之薄膜樣品的量測發射模式作為偏振之函數與計算模型化模式比較，可確定既定樣品之TDM向量的定向。水平偶極比率 θ 對所得裝置效率具有極顯著效果。在不具有微腔或其他光學增強且材料折射率≈ 1.5-2.0之典型底部發射裝置結構(如圖10中所示)中，假定定量發射及電荷復合效率(可在＜1 mA/cm² 之極低電流密度下實現)，隨機定向之發射體( θ = 0.67)可實現約28%之最大裝置EQE。在 θ = 1之完美水平的發射體之情況下，可在PLQY為100%且電荷復合效率為100%之OLED裝置中實現超過40%之EQE。 一般而言，增加之發射出耦視兩種主要因素而定：(1)發射體化合物分子內之三重態至基態TDM向量對準；及(2)EML結構內之發射體的分子對準。因此，有必要一致地控制兩種因素以有效地實現TDM向量對準以增強OLED效能。此外，兩種因素均可能不離散，而為對準的分佈。近簡併發射光躍遷可產生差異定向之TDM向量的分佈，該分佈藉由玻爾茲曼統計(Boltzmann statistics)描述。結構上，非晶形EML介質中發射體之分子對準產生可能在整個EML層中變化之發射體對準的分佈。因此，裝置效能之增強可藉由來自單一光躍遷之優先發射及裝置EML內此躍遷之強對準兩者來實現。單一 TDM 向量分子對準 ： 為在裝置內實現對準之TDM向量，優先發射體對準必須加入至主體及發射體材料中。此主要經由高縱橫比發射體分子實現。據發現，高縱橫比棒狀或盤狀結構在藉由諸如熱氣相沈積、旋塗、噴墨印刷及有機蒸氣噴射印刷之方法製備的標稱非晶形膜中可優先定向。 在具有單一優先發射躍遷之發射體中，棒狀結構可經選擇以優化與TDM向量之對準同時仍使分子量達最小。在結構類似於參(2-苯基吡啶)銥(Ir(ppy)₃ ，圖3)之發射體中，此經由產生延伸至銥金屬中心之長分子軸實現。長分子軸之定向性可視TDM向量之定向而定，如下文所論述。 參考圖4，在TDM向量大致與銥-氮鍵(以虛線箭頭描繪)對準之發射體的情況下，分子長軸可經由吡啶4-位(圖4中之R¹ )處之適當取代產生。舉例而言，芳基、雜芳基、烷基或環烷基取代基可引入此位置以促進形成高縱橫比棒狀結構，其中分子長軸大致通過銥-氮鍵且通過此取代基。吾人旨在使TDM向量軸與此高縱橫比分子長軸以較佳小於30°、更佳小於10°之此等兩個軸之間的角度對準。取代基R¹ 之較佳長度在3至15 Å、更佳4至9 Å範圍內。吾人預測在審慎選擇取代基下應用此分子設計可產生高達0.85之HDR及所得大EQE增加。 類似地，棒狀結構可用於含有大致二等分雙齒發射配位體之單一優先TDM向量(參見圖5，以虛線描繪)的發射體中。在此情況下，藉由在吡啶3-位及4-位處之芳基、雜芳基、烷基或環烷基取代結合在苯基5-位及6-位處之取代的延長可用以生成大致二等分雙齒發射配位體之分子長軸。舉例而言，吡啶4-位處之烷基取代以及苯基5-位及6-位處之稠合雜芳基取代在TDM向量方向上導致淨延長。類似地，苯基6-位處之扭轉芳基取代在此TDM向量軸上導致更大棒狀之延長。吾人旨在使TDM向量軸與此高縱橫比分子長軸以較佳小於30°、更佳小於10°之此等兩個軸之間的角度對準。取代基R¹ /R² 及R³ /R⁴ 之較佳長度在3至15 Å、更佳4至9 Å範圍內。因為此取代模式可引入更大平面系統以與EML表面對準，所以吾人預測高達0.9之進一步增加的HDR。配位體能隙： 對於所有三個雙齒配位體均相同之均配銥發射體，三個光躍遷之簡併導致躍遷偶極定向之隨機化。如與均配發射體之情況一樣，雜配發射體亦可使發射分佈在簡併或近簡併躍遷之間。此等躍遷可集中在不同配位體上且因此具有基本上正交之TDM向量。此導致可得自分子對準之任何發射對準的整體混雜。 吾人注意到，幾乎相同的基於苯基吡啶之配位體之間的極小能隙即使在強定向之棒狀結構中亦在Ir(ppy)₃ 型發射體中導致基本上各向同性之發射。在此等情況下，玻爾茲曼統計基本上描述來自近簡併躍遷之發射的概率。因此，吾人發現，發射躍遷之定位對各種所討論躍遷之間的能隙高度敏感。為強定位發射及改良TDM對準，集中在發射配位體相較於輔助性配位體上之發射之間的較佳能隙高於0.05 eV且更佳0.10 eV。 此外，由沿著不主要負責發射躍遷之配位體之一定位的長軸誘導之任何優先對準可能產生低水平偶極比率， θ 。要避免前述對準方式之一應用於發射體輔助性配位體之一的此情況，因為此可能產生低於0.67之HDR值(各向同性定向)。TDM 向量 之對稱性及幾何形狀： 在大能隙無法藉由對發射及輔助性配位體結構進行能量調節而得到之情況下，如與多種高能量藍色及綠色發射體之情況一樣，對稱性及分子幾何形狀可用以由多個配位體產生高度對準之發射。吾人注意到Ir(ppy)₃ 之簡併TDM向量的基本上正交性質及具有對稱發射配位體之二酮連接紅色發射體中之TDM向量的完美平行性質。在簡併發射之情況下，此等垂直及平行關係歸因於EML中之分子對準分別引起任何對準之發射的拒絕及增強。 在此等二酮連接銥發射體中，銥-氮鍵之優先反式定向在結構中產生C₂ 對稱軸。參見圖6。吾人提議使用此C₂ 軸增強藉由延長TDM向量軸而誘導之對準。參見圖7。若非酮配位體經設計以具有(1)TDM向量及(2)與Ir-N鍵對準之空間長軸兩者，則C₂ 對稱性由於兩個發射配位體上之平行TDM向量而增強對準。此提供超過0.85之極高HDR值。 關於發射有相等或接近相等的概率集中在三個配位體中之每一者上之三取代化合物，較佳使(1)TDM向量及(2)長軸兩者與含有化合物三倍旋轉對稱性之平面對準。在此等均配面式化合物中，此C₃ 平面大致二等分各雙齒配位體之兩個金屬配位體鍵之間的角度。參見圖8。因此，此等錯合物之TDM向量應大致二等分此角度，較佳地使C₃ 平面與TDM向量之間的角度小於20°且更佳小於10°。 若縱橫比之變化誘導此平面之優先水平對準，則三個TDM向量之所得平面或幾乎平面佈置隨後可促成效率增加。沿著此C₃ 平面延長各配位體產生具有高縱橫比之極平面的結構。一種該結構展示於圖9中，其中R係烷基、環烷基、芳基或雜芳基。相同R亦可在吡啶環上之類似位置。分子縱橫比藉由金屬中心與R基團之末端之間的此半徑規定，其較佳長於4 Å且更佳長於8 Å。此外，較佳使金屬中心與C₃ 平面中之R基團末端之間的此向量的在向量與平面之間的角度小於20°且更佳小於10°。 含有兩個相同發射配位體或更一般而言兩個主要負責發射之配位體的發射體可經開發以使得其長軸與TDM向量係非正交的。獨立地相對於各配位體，長軸及TDM向量可共線，如上文所描述。當一個配位體之此長軸相對於第二發射配位體之長軸成大角度(φ)時，可觀測到裝置效率之增強。在此情況下，因為發射體分子對準可藉由非晶形EML中之定向的分佈描述，所以90°＜φ＜180°之彎曲形狀憑藉兩個TDM向量均大致與兩個配位體之間形成的長軸對準而導致裝置效率增強。此在TDM向量較佳二等分雙齒配位體且亦自配位體平面稍微出來時實現。吾人提議使用具有TDM向量之此偽-對稱定向的兩個簡併或近簡併發射配位體來誘導超過0.7且更佳0.8之HDR值。主體誘導之摻雜劑對準 ： 因為EML內發射體之對準源自發射體與EML材料及沈積介質(真空、空氣、惰性氣體、溶劑等)之差異相互作用，所以預期主體與發射體材料之間的相互作用對發射體TDM向量之所得定向具有一定效果。就如同靜電相互作用驅動高縱橫比發射體分子在EML結構中保持平直，其他強主體-發射體相互作用可用以驅動對準。此等相互作用可包括π-堆疊、氫鍵結、使用具有強相互作用之官能基(包括可在主體/摻雜劑之間相互作用或驅動插層或偏析效應之極性、非極性、氟化或烷基)、藉由富電子與貧電子芳族部分之間的相互作用驅動之供體-受體π-相互作用。 最優化發射體-主體相互作用以誘導摻雜劑對準亦可能強烈視摻雜劑及/或主體分子之平面性而定。尤其在強π-堆疊相互作用導致對準之情況下，預期此等分子之增加的平面性可導致更強的相互作用且因此更高的對準程度。在此情況下，優先經由合理地引入π-平面之二面角扭轉增加摻雜劑之整體平面性來增加分子中共對準芳族環之數目。亦可能需要藉由類似策略以及增加共軛長度來增加主體分子之平面性，增加主體中之電荷轉移特徵以及分子內及分子間氫鍵結。主體誘導之發射體對準方面的此等差異可經由光致發光技術在發射體:主體樣品中相對於發射體:mCP (其中mCP係1,3-雙(N-咔唑基)苯，一種無序且非定向主體)直接量測。 就裝置堆疊之下伏層影響靠近界面之主體或摻雜劑材料的對準而言，亦可較佳將此等對準或模板化模式引入至電子阻擋層(EBL)或其他下伏層。 根據本發明之一態樣，揭示一種化合物，其具有金屬配位錯合物結構，且該化合物在室溫下能夠充當OLED中之發射體。出於本說明書之目的，室溫係指20-25℃之溫度範圍。該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體；其中該化合物在該等配位體之一者的外圍具有第一取代基R¹ ；其中第一距離定義為該金屬與R¹ 中之原子之一者之間的距離，其中該原子在R¹ 中之該等原子之中距該金屬最遠；其中該第一距離亦長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何其他原子至金屬距離；且其中當界定具有半徑 r 之球體，其中心在該金屬且該半徑 r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑 r 長至少2.9 Å。2.9 Å表示苯環之直徑。應注意，如上文所定義之球體不會將R¹ 中之任一原子自封圍於球體中排除。如本文所用，封圍於球體中意謂原子位於距金屬小於或等於半徑 r 之距離處。 在化合物之一些實施例中，第一距離比半徑 r 長至少4.3 Å。在化合物之一些實施例中，第一距離比半徑 r 長至少7.3 Å。 在化合物之一些實施例中，該化合物進一步在該等配位體之一者的外圍具有第二取代基R² ；其中第二距離定義為該金屬與R² 中之原子之一者之間的距離，其中該原子在R² 中之該等原子之中距該金屬最遠；且其中當該半徑 r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 或R² 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第二距離比 r 長至少1.5 Å。 在具有第二取代基R² 之化合物的一些實施例中，R¹ 及R² 在不同配位體上。在化合物之一些實施例中，第二距離比 r 長至少2.9 Å。在一些實施例中，第二距離比 r 長至少4.3 Å。在一些實施例中，第二距離比 r 長至少7.3 Å。在一些實施例中，該第一及該第二距離均比 r 長至少4.3 Å。在一些實施例中，該第一及該第二距離均比 r 長至少7.3 Å。 在具有第二取代基R² 之化合物的一些實施例中，R¹ 連接至具有第一配位原子之芳族環，R² 連接至具有第二配位原子之芳族環；且其中相對於該金屬，該第一配位原子與該第二配位原子呈反式組態。 在化合物之一些實施例中，該化合物進一步在該等配位體之一的外圍具有第三取代基R³ ；其中第三距離定義為該金屬與R³ 中的原子之一之間的距離，其中該原子在R³ 中之該等原子之中距該金屬最遠；且其中當該半徑 r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 、R² 或R³ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第三距離比 r 長至少1.5 Å。 在具有第三取代基R³ 之化合物的一些實施例中，取代基R¹ 、R² 及R³ 在不同配位體上。在化合物之一些實施例中，第三距離比 r 長至少2.9 Å。在一些實施例中，第三距離比 r 長至少4.3 Å。在一些實施例中，第三距離比 r 長至少7.3 Å。 下表1列舉各個取代基沿著其長軸所界定之最大線性長度。此最大線性長度定義為沿著特定取代基長軸相距最遠之兩個原子之間的距離。所列出之值可用以估算配位錯合物中配位體之一的外圍處之既定取代基將延伸超出封圍配位錯合物中不為該特定取代基之一部分的所有原子之球體之半徑 r 至何種程度。舉例而言，在僅具有第一取代基R¹ 之配位錯合物的一實施例中，第一距離與半徑 r 之間的差異可使用表1視參與第一取代基R¹ 之特定化學基團而估算。若配位錯合物之一實施例在錯合物中一或多個配位體之外圍具有其他取代基(諸如第二及第三取代基R² 及R³ )，則表1可用以藉由考慮參與取代基R² 或R³ 之特定取代基而估算第二或第三距離與半徑 r 之間的差異。下表1可用以計算兩個取代基之間的差異。舉例而言，若第一取代基係苯基，第二取代基係甲苯基，則第二取代基比第一取代基長一個C-C鍵，其係1.5 Å。在另一實例中，若第二取代基係聯苯，則第二取代基比第一取代基長C-C₆ H₅ ，其係4.3 Å。以下片段中之任兩者或多於兩者可連接在一起，且其距離可藉由簡單地將此等數值與用以連接其之單一C-C鍵距離的總長度相加來計算。 表1. 在具有第三取代基R³ 之化合物的一些實施例中，第一、第二及第三距離均比 r 長至少4.3 Å。在一些實施例中，第一、第二及第三距離均比 r 長至少7.3 Å。在一些實施例中，第一、第二及第三距離各自獨立地比 r 長表1中列出之至少一個距離。在一些其他實施例中，第一、第二及第三距離均比 r 長表1中列出之至少一個距離。 在具有第三取代基R³ 之化合物的一些實施例中，該化合物具有具備三個雙齒配位體之八面體配位幾何形狀，其中該等三個雙齒配位體中之每一者具有兩個配位原子及在該等兩個配位原子之間界定的中點；其中該等三個中點界定第一平面；且其中R¹ 、R² 及R³ 中之各原子相對於該第一平面之點至平面距離小於5 Å。「點至平面」距離係指平面與不處於平面中之點之間的最短距離。 在具有R³ 之化合物的一些實施例中，R¹ 、R² 及R³ 中之任何原子相對於第一平面之點至平面距離小於4 Å。在一些實施例中，R¹ 、R² 及R³ 中之任何原子相對於該第一平面之點至平面距離小於 r 。 在化合物之一些實施例中，該化合物具有躍遷偶極矩軸；且其中該躍遷偶極矩軸與沿著R¹ 之該第一距離之軸之間的角度小於40°。「躍遷偶極矩軸」係沿著躍遷偶極矩之軸。在一些實施例中，躍遷偶極矩軸與沿著第一距離之軸之間的角度小於30°。在一些實施例中，躍遷偶極矩軸與沿著第一距離之軸之間的角度小於20°。在一些實施例中，躍遷偶極矩軸與沿著第一距離之軸之間的角度小於15°。在一些實施例中，躍遷偶極矩軸與沿著第一距離之軸之間的角度小於10°。在一些實施例中，躍遷偶極矩軸與沿著第一距離之軸之間的角度小於35°。在一些實施例中，躍遷偶極矩軸與沿著第一距離之軸之間的角度小於25°。在一些實施例中，躍遷偶極矩軸與沿著第一距離之軸之間的角度小於5°。 在R¹ 之第一距離顯著長於R² 之第二距離及R³ 之第三距離或不存在R² 或R³ 之化合物的一些實施例中，考慮集中在三個不同配位體上之發射之間的自由能差異。為比較具有R¹ 之配位體的自由能，由與具有R¹ 之配位體相同的配位體形成之第一均配金屬錯合物之三重態能量將比由為化合物中之任一其他配位體的配位體形成之第二均配金屬錯合物之三重態能量低至少0.02 eV。在其他實施例中，第一均配金屬錯合物之三重態能量比第二均配金屬錯合物之三重態能量低至少0.05 eV。在其他實施例中，第一均配金屬錯合物之三重態能量比第二均配金屬錯合物之三重態能量低至少0.1 eV。在其他實施例中，第一均配金屬錯合物之三重態能量比第二均配金屬錯合物之三重態能量低至少0.15 eV。 在化合物之一些實施例中，取代基R¹ 、R² 及R³ 各自獨立地選自由以下組成之群： 在化合物之一些實施例中，該化合物在室溫下能夠充當有機發光裝置中之磷光發射體、螢光發射體或延遲螢光發射體。 在化合物之一些實施例中，該化合物在室溫下能夠自三重激發態至單基態發射光。 在化合物之一些實施例中，該化合物具有金屬-碳鍵。 在化合物之一些實施例中，該金屬選自由以下組成之群：Ir、Rh、Re、Ru、Os、Pt、Pd、Au、Ag及Cu。在一些實施例中，該金屬係Ir。在一些實施例中，該金屬係Pt。 在化合物之一些實施例中，該化合物具有中性電荷。 在化合物之一些實施例中，該化合物中之各配位體彼此不同。 在化合物之一些實施例中，該化合物具有藉由三個雙齒配位體、兩個三齒配位體、一個四齒及一個雙齒配位體、或一個六齒配位體形成之八面體配位幾何形狀。 在化合物之一些實施例中，該化合物具有藉由兩個雙齒配位體或一個四齒配位體形成之四面體配位幾何形狀。 在化合物之一些實施例中，該化合物包含配位至該金屬之第一苯環；且其中該第一苯環由第二芳族環稠合。在一些實施例中，第二芳族環由第三芳族環稠合。在一些實施例中，第三芳族環由第四芳族環稠合。 在化合物之一些實施例中，其中該化合物具有式M(L¹ )_x (L² )_y (L³ )_z ； 其中L¹ 、L² 及L³ 可相同或不同； 其中x係1、2或3； 其中y係0、1或2； 其中z係0、1或2； 其中x+y+z係該金屬M之氧化態； 其中L¹ 、L² 及L³ 各自獨立地選自由以下組成之群： ； 其中各X¹ 至X¹⁷ 獨立地選自由碳及氮組成之群； 其中Z¹ 、Z² 及Z³ 各自獨立地為碳或氮； 其中X選自由以下組成之群：BR'、NR'、PR'、O、S、Se、C=O、S=O、SO₂ 、CR'R''、SiR'R''及GeR'R''； 其中R'及R''視情況稠合或接合以形成環； 其中各R_a 、R_b 、R_c 及R_d 可表示單取代基至可能最大數目之取代基或無取代基； 其中R'、R''、R_a 、R_b 、R_c 、R_d 、R_e 各自獨立地選自由以下組成之群：氫、氘、鹵基、烷基、環烷基、雜烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、胺基、矽烷基、烯基、環烯基、雜烯基、炔基、芳基、雜芳基、醯基、羰基、羧酸基、酯基、腈基、異腈基、氫硫基、亞磺醯基、磺醯基、膦基及其組合；且 其中任兩個R_a 、R_b 、R_c 及R_d 視情況稠合或接合以形成環或形成多齒配位體；且 其中該等R_a 、R_b 、R_c 及R_d 中之至少一者包括R¹ 。 在具有式M(L¹ )_x (L² )_y (L³ )_z 之化合物的一些實施例中，同一環內之至少一對取代基R_a 、R_b 、R_c 及R_d 接合及稠合成環。 在具有式M(L¹ )_x (L² )_y (L³ )_z 之化合物的一些實施例中，兩個鄰近環之間的至少一對取代基R_a 、R_b 、R_c 及R_d 接合及稠合成環。 在具有式M(L¹ )_x (L² )_y (L³ )_z 之化合物的一些實施例中，該化合物具有式Ir(L¹ )₂ (L² )。 在具有式Ir(L¹ )₂ (L² )之化合物的一些實施例中，L¹ 具有選自由以下組成之群的式：；且 其中L² 具有式：。 在一些實施例中，L² 具有式：； 其中R_e 、R_f 、R_h 及R_i 獨立地選自由以下組成之群：烷基、環烷基、芳基及雜芳基； 其中R_e 、R_f 、R_h 及R_i 中之至少一者具有至少兩個碳原子；且 其中R_g 選自由以下組成之群：氫、氘、鹵素、烷基、環烷基、雜烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、胺基、矽烷基、烯基、環烯基、雜烯基、炔基、芳基、雜芳基、醯基、羰基、羧酸基、酯基、腈基、異腈基、氫硫基、亞磺醯基、磺醯基、膦基及其組合。 在具有式M(L¹ )_x (L² )_y (L³ )_z 之化合物的一些實施例中，該化合物具有選自由以下組成之群的式：Ir(L¹ )(L² )(L³ )、Ir(L¹ )₂ (L² )及Ir(L¹ )₃ ； 其中L¹ 、L² 及L³ 不同且各自獨立地選自由以下組成之群： 。 在具有式M(L¹ )_x (L² )_y (L³ )_z 之化合物的一些實施例中，該化合物具有式Pt(L¹ )₂ 或Pt(L¹ )(L² )。在一些實施例中，L¹ 連接至其他L¹ 或L² 以形成四齒配位體。 在具有式M(L¹ )_x (L² )_y (L³ )_z 之化合物的一些實施例中，該化合物具有式M(L¹ )₂ 或M(L¹ )(L² )；其中M係Ir、Rh、Re、Ru或Os；且 其中L¹ 及L² 各自為不同三齒配位體。 在化合物之一些實施例中，該化合物選自由以下組成之群： 根據本發明之另一態樣，揭示一種OLED。該OLED包含：陽極；陰極；及 安置在該陽極與該陰極之間的有機層，其包含具有金屬配位錯合物結構之化合物； 其中該化合物在室溫下能夠充當有機發光裝置中之發射體； 其中該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體； 其中該化合物在該等配位體之一的外圍具有第一取代基R¹ ； 其中第一距離係該金屬與R¹ 中距該金屬最遠之原子之間的距離； 其中該第一距離長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何距離；且 其中當界定具有半徑 r 之球體，其中心係該金屬且該半徑 r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑 r 長至少2.9 Å。 在OLED之一些實施例中，有機層係發射層，且具有金屬配位錯合物結構之化合物係發射摻雜劑或非發射摻雜劑。 在有機層進一步包含主體之OLED的一些實施例中，主體包含含有苯并稠合噻吩或苯并稠合呋喃之聯伸三苯； 其中主體中之任何取代基係獨立地選自由以下組成之群的非稠合取代基：C_n H_2n+1 、OC_n H_2n+1 、OAr₁ 、N(C_n H_2n+1 )₂ 、N(Ar₁ )(Ar₂ )、CH=CH-C_n H_2n+1 、C≡CC_n H_2n+1 、Ar₁ 、Ar₁ -Ar₂ 及C_n H_2n -Ar₁ ，或主體不具有取代基； 其中n係1至10；且 其中Ar₁ 及Ar₂ 獨立地選自由以下組成之群：苯、聯苯、萘、聯伸三苯、咔唑及其雜芳族類似物。 在有機層進一步包含主體之OLED的一些實施例中，主體包含至少一個選自由以下組成之群的化學基團：聯伸三苯、咔唑、二苯并噻吩、二苯并呋喃、二苯并硒吩、氮雜聯伸三苯、氮雜咔唑、氮雜-二苯并噻吩、氮雜-二苯并呋喃及氮雜-二苯并硒吩。 在有機層進一步包含主體之OLED的一些實施例中，主體選自由以下組成之群： 及其組合。 在有機層進一步包含主體之OLED的一些實施例中，主體包含金屬錯合物。 在OLED之一些實施例中，具有金屬配位錯合物結構之化合物的HDR係至少0.7。在OLED之一些實施例中，具有金屬配位錯合物結構之化合物的HDR係至少0.75。在OLED之一些實施例中，具有金屬配位錯合物結構之化合物的HDR係至少0.8。在OLED之一些實施例中，具有金屬配位錯合物結構之化合物的HDR係至少0.85。在OLED之一些實施例中，具有金屬配位錯合物結構之化合物的HDR係至少0.9。在OLED之一些實施例中，具有金屬配位錯合物結構之化合物的HDR係至少0.95。 在OLED之一些實施例中，有機層進一步包含主體；且化合物之HDR當與具有mCP (1,3-雙(N-咔唑基)苯)作為主體之確切相同裝置相比較時高至少5%。在OLED之一些實施例中，化合物之HDR相較於具有mCP作為主體之確切相同裝置高至少10%。在OLED之一些實施例中，化合物之HDR當與具有mCP作為主體之確切相同裝置相比較時高至少20%。在OLED之一些實施例中，化合物之HDR當與具有mCP作為主體之確切相同裝置相比較時高至少30%。在OLED之一些實施例中，化合物之HDR當與具有mCP作為主體之確切相同裝置相比較時高至少40%。 根據本發明之另一態樣，揭示一種OLED，其包含：陽極；陰極；及安置在該陽極與該陰極之間的發射層，其包含磷光發射化合物；其中該磷光發射化合物具有FWHM值為不大於45 nm之固有發射光譜，且當在該裝置上施加電壓時，該OLED在室溫下在0.1 mA/cm² 下之EQE係至少25%。在一些實施例中，磷光發射化合物之固有發射光譜的FWHM值不大於43 nm。在一些實施例中，磷光發射化合物之固有發射光譜的FWHM值不大於41 nm。在一些實施例中，磷光發射化合物之固有發射光譜的FWHM值不大於39 nm。在一些實施例中，磷光發射化合物之固有發射光譜的FWHM值不大於37 nm。在一些實施例中，磷光發射化合物之固有發射光譜的FWHM值不大於35 nm。在一些實施例中，磷光發射化合物之固有發射光譜的FWHM值不大於33 nm。在一些實施例中，磷光發射化合物之固有發射光譜的FWHM值不大於31 nm。在一些實施例中，磷光發射化合物之固有發射光譜的FWHM值不大於29 nm。在一些實施例中，磷光發射化合物之固有發射光譜的FWHM值不大於27 nm。在一些實施例中，OLED之EQE係至少27%。在一些實施例中，OLED之EQE係至少29%。在一些實施例中，OLED之EQE係至少31%。在一些實施例中，至95%亮度之裝置壽命如在20 mA/cm² 下所量測對於400 nm ≤ λ_max ＜ 500 nm發射體係8小時，如在80 mA/cm² 下所量測對於500 nm ≤ λ_max ＜ 590 nm發射體係30小時，且如在80 mA/cm² 下所量測對於590 nm ≤ λ_max ＜ 750 nm發射體係150小時。在一些實施例中，至95%亮度之裝置壽命如在20 mA/cm² 下所量測對於400 nm ≤ λ_max ＜ 500 nm發射體係12小時，如在80 mA/cm² 下所量測對於500 nm ≤ λ_max ＜ 590 nm發射體係45小時，且如在80 mA/cm² 下所量測對於590 nm ≤ λ_max ＜ 750 nm發射體係225小時。在一些實施例中，至95%亮度之裝置壽命如在20 mA/cm² 下所量測對於400 nm ≤ λ_max ＜ 500 nm發射體係16小時，如在80 mA/cm² 下所量測對於500 nm ≤ λ_max ＜ 590 nm發射體係60小時，且如在80 mA/cm² 下所量測對於590 nm ≤ λ_max ＜ 750 nm發射體係300小時。在一些實施例中，至95%亮度之裝置壽命如在20 mA/cm² 下所量測對於400 nm ≤ λ_max ＜ 500 nm發射體係20小時，如在80 mA/cm² 下所量測對於500 nm ≤ λ_max ＜ 590 nm發射體係75小時，且如在80 mA/cm² 下所量測對於590 nm ≤ λ_max ＜ 750 nm發射體係375小時。 磷光發射化合物之固有發射光譜定義為OLED堆疊中所用之相同主體材料中的發射體之熱蒸發之＜1-10%摻雜薄膜的光致發光光譜。如一般熟習此項技術者將認識到，摻雜百分比應限於使凝集淬滅及變寬達最小之方案。值得注意地，此發射光譜可在OLED中歸因於光學及化學因素而展現輕微變寬或變窄。 據發現，發射體之光致發光半高全寬(FWHM)歸因於配位體之現有環上的苯并成環而顯著降低。發射體之光致發光光譜變窄將改良裝置效能，諸如EQE。舉例而言，當以下化合物A (在溶液中FWHM：65 nm)與額外苯環稠合時，苯并成環之化合物B的FWHM係19 nm，其顯著窄於化合物A。同樣在固態PMMA薄膜中，化合物B之FWHM係21 nm，其比5%摻雜PMMA固體膜中之化合物A (FWHM：68 nm)窄47 nm。相較於在OLED之一些實施例中，磷光發射化合物係金屬配位錯合物，其中該金屬選自由以下組成之群：Ir、Rh、Re、Ru、Os、Pt、Pd、Au、Ag及Cu。在一些實施例中，該金屬係Ir。在一些實施例中，該金屬係Pt。 在磷光發射化合物為金屬配位錯合物之OLED的一些實施例中，磷光發射化合物係配位至金屬之苯環；其中苯環由第二芳族環稠合。在一些實施例中，第二芳族環由第三芳族環稠合。在一些實施例中，第三芳族環由第四芳族環稠合。 在OLED中之磷光發射化合物具有FWHM值為不大於45 nm之固有發射光譜且當在裝置上施加電壓時在室溫下在0.1 mA/cm² 下量測之EQE為至少25%之OLED的一些實施例中，磷光發射化合物之HDR係至少0.7。在OLED之一些實施例中，磷光發射化合物之HDR係至少0.75。在OLED之一些實施例中，磷光發射化合物之HDR係至少0.8。在OLED之一些實施例中，磷光發射化合物之HDR係至少0.85。在OLED之一些實施例中，磷光發射化合物之HDR係至少0.9。在OLED之一些實施例中，磷光發射化合物之HDR係至少0.95。 在OLED中之磷光發射化合物具有FWHM值為不大於45 nm之固有發射光譜且當在裝置上施加電壓時在室溫下之EQE為至少25%之OLED的一些實施例中，發射層進一步包含主體；且化合物之水平偶極比率當與具有mCP (1,3-雙(N-咔唑基)苯)作為主體之確切相同裝置相比較時增加至少5%。在一些實施例中，化合物之水平偶極比率當與具有mCP (1,3-雙(N-咔唑基)苯)作為主體之確切相同裝置相比較時增加至少10%。 在OLED中之磷光發射化合物具有FWHM值為不大於45 nm之固有發射光譜且當在裝置上施加電壓時在室溫下之EQE為至少25%之OLED的一些實施例中，磷光發射化合物係具有金屬配位錯合物結構之化合物；其中該化合物在室溫下能夠充當有機發光裝置中之發射體；其中該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體；其中該化合物在該等配位體之一者的外圍具有第一取代基R¹ ；其中第一距離係該金屬與R¹ 中距該金屬最遠之原子之間的距離；其中該第一距離長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何距離；且其中當界定具有半徑 r 之球體，其中心係該金屬且該半徑 r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑 r 長至少2.9 Å。 根據本發明之另一態樣，揭示一種包含OLED之消費型產品，其中該OLED包含：陽極；陰極；及安置在該陽極與該陰極之間的有機層，其包含具有金屬配位錯合物結構之化合物；其中該化合物在室溫下能夠充當有機發光裝置中之發射體；其中該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體；其中該化合物在該等配位體之一者的外圍具有第一取代基R¹ ；其中第一距離係該金屬與R¹ 中距該金屬最遠之原子之間的距離；其中該第一距離長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何距離；且其中當界定具有半徑 r 之球體，其中心係該金屬且該半徑 r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑 r 長至少2.9 Å。 根據本發明之另一態樣，揭示一種包含OLED之消費型產品，其中該OLED包含：陽極；陰極；及安置在該陽極與該陰極之間的發射層，其包含磷光發射化合物；其中該磷光發射化合物具有FWHM不大於45 nm之固有發射光譜，且當在該裝置上施加電壓時，在室溫下在0.1 mA/cm² 下量測之EQE係至少25%。 在一些實施例中，上文所提及之消費型產品選自由以下組成之群：平板顯示器、電腦監視器、醫療監視器、電視機、告示牌、用於內部或外部照明及/或發信號之燈、抬頭顯示器、全透明或部分透明之顯示器、可撓性顯示器、雷射印刷機、電話、蜂巢式電話、平板電腦、平板手機、個人數位助理(PDA)、可佩戴裝置、膝上型電腦、數位相機、攝錄影機、取景器、微型顯示器、3-D顯示器、虛擬現實或增強現實顯示器、交通工具、大面積牆壁、劇院或體育館螢幕，及指示牌。 實驗： 如先前所指示，既定代表性EML結構之平均躍遷偶極矩(TDM)對準可藉由角度依賴性光致發光量測來測定。p偏振發射之角度依賴性對HDR高度敏感。因此，如圖11中所示，既定發射體摻雜之EML樣品300 的HDR可藉由將量測之p偏振發射 e 作為偵測角度ɸ之函數與基於樣品之光學性質及兩種平面內及一種平面外躍遷偶極模式之貢獻模擬的角度依賴性比較而測定。 化合物152之光致發光量測證實在上文所述之取代模式下TDM水平對準增加。如圖12中所示，與參(2-苯基吡啶)銥(HDR = 0.67)之隨機定向性質相對，化合物152之取代模式產生HDR = 0.73之優先水平對準的EML。 合成化合物152 步驟1將CC-2 (2.3 g，2.71 mmol)溶解於無水二氯甲烷(400 ml)中。將混合物用N₂ 脫氣且冷卻至0℃。將1-溴吡咯啶-2,5-二酮(0.81 g，2.71 mmol)溶解於DCM (300 mL)中且逐滴添加。添加之後，使溫度逐漸上升至室溫且攪拌12小時。添加飽和NaHCO₃ (20 mL)溶液。分離且收集有機相。移除溶劑，且將殘餘物塗佈於矽藻土上且在用甲苯/庚烷70/30 (v/v)溶離之矽膠管柱上純化，得到產物CC-2-Br (0.6 g，24%)。 步驟2將CC-2-Br (0.72 g，0.775 mmol)溶解於甲苯(40 ml)及水(4 ml)之混合物中。將混合物用N₂ 吹掃10分鐘。添加K₃ PO₄ (0.411 g，1.937 mmol)、SPhos (0.095 g，0.232 mmol)、Pd₂ dba₃ (0.043 g，0.046 mmol)及苯基酸(0.189 g，1.55 mmol)。將混合物在110℃下在N₂ 下加熱12小時。隨後將反應物冷卻至室溫，用DCM萃取產物。分離且收集有機相。移除溶劑，且將殘餘物塗佈於矽藻土上且在用甲苯/庚烷70/30 (v/v)溶離之矽膠管柱上純化。藉由由甲苯/MeOH再結晶進一步純化產物，得到化合物152 (0.7 g)。 合成化合物153將CC-2-Br-2 (0.6 g，0.646 mmol)溶解於甲苯(100 ml)及水(10 ml)之混合物中。將混合物用N₂ 吹掃10分鐘。添加K₃ PO₄ (0.343 g，1.61 mmol)、SPhos (0.080 g，0.19 mmol)、Pd₂ dba₃ (0.035 g，0.039 mmol)及[1,1-聯苯]4-基酸(0.256 g，1.29 mmol)。將混合物在110℃下在N₂ 下加熱12小時。隨後將反應物冷卻至室溫，用DCM萃取產物且分離有機相。移除溶劑，且將殘餘物塗佈於矽藻土上且在用甲苯/庚烷70/30 (v/v)溶離之矽膠管柱上純化。藉由由甲苯/MeOH再結晶進一步純化產物，得到化合物153 (0.64 g)。 合成化合物154 步驟1將CC-1 (2.04 g，2.500 mmol)溶解於無水二氯甲烷(400 ml)中。將混合物用N₂ 脫氣且冷卻至0℃。將1-溴吡咯啶-2,5-二酮(0.445 g，2.500 mmol)溶解於DCM (200 mL)中且逐滴添加。添加之後，使溫度逐漸上升至室溫且攪拌16小時。添加飽和NaHCO₃ 溶液(20 mL)。分離且收集有機相。移除溶劑，且將殘餘物塗佈於矽藻土上且在藉由使用70/30甲苯/庚烷溶離之矽膠管柱上純化，得到產物CC-Br (0.6 g)。 步驟2將CC-Br (1.16 g，1.296 mmol)溶解於甲苯(120 ml)及水(12.00 ml)之混合物中。將混合物用N₂ 吹掃10分鐘。添加K₃ PO₄ (0.688 g，3.24 mmol)、SPhos (0.160 g，0.389 mmol)、Pd₂ dba₃ (0.071 g，0.078 mmol)及苯基酸(0.316 g，2.59 mmol)。將混合物在110℃下在N₂ 下加熱16小時。在將反應物冷卻至室溫之後，用DCM萃取產物。分離且收集有機相。移除溶劑，且將殘餘物塗佈於矽藻土上且在藉由使用70/30甲苯/庚烷溶離之矽膠管柱上純化。藉由於甲苯/MeOH中再結晶進一步純化產物，得到化合物154 (1.0 g)。 合成化合物155 步驟1在氮氣下將2-氯-5-甲基吡啶(10.03 g，79 mmol)、(3-氯-4-甲基苯基)酸(13.4 g，79 mmol)及碳酸鉀(21.74 g，157 mmol)溶解於DME (150 ml)及水(20 ml)之混合物中，得到無色懸浮液。添加Pd(PPh₃ )₄ (0.909 g，0.786 mmol)至反應混合物中，隨後將反應混合物脫氣且加熱至95℃維持12小時。隨後將其冷卻至室溫，分離有機相且蒸發。使殘餘物在用庚烷/THF 9/1 (v/v)溶離之矽膠管柱上進行管柱層析，在由庚烷結晶之後，得到10 g (58%產率)白色固體。 步驟2在氮氣下將2-(3-氯-4-甲基苯基)-5-甲基吡啶(10 g，45.9 mmol)、((甲基-d3)磺醯基)甲烷-d₃ (92 g，919 mmol)及2-甲基丙-2-酸鈉(2.65 g，27.6 mmol)溶解在一起，得到深色溶液。將反應混合物在氮氣下加熱至80℃維持12小時，冷卻，用乙酸乙酯稀釋，用水洗滌，經硫酸鈉乾燥，過濾且蒸發。藉由在用庚烷/THF 9/1 (v/v)溶離之矽膠上管柱層析而純化，得到白色固體，隨後由庚烷結晶，得到無色結晶物質(9.1 g，81%產率)。 步驟3在氮氣下將2-(3-氯-4-(甲基-d₃ )苯基)-5-(甲基-d₃ )吡啶(7.45 g，33.3 mmol)、苯基酸(6.09 g，49.9 mmol)、磷酸鉀(15.34 g，66.6 mmol)、Pd₂ (dba)₃ (0.305 g，0.333 mmol)及二環己基(2',6'-二甲氧基-[1,1'-聯苯]-2-基)膦(SPhos，0.273 g，0.666 mmol)溶解於DME (150 ml)及水(25 ml)之混合物中，得到紅色懸浮液。將反應混合物脫氣且在氮氣下加熱至回流。隔夜加熱之後，達至約80%轉化率。添加更多Ph酸及催化劑並不提高轉化率。藉由在用庚烷/THF 9/1溶離之矽膠上管柱層析純化，隨後由庚烷再結晶，得到白色固體(6.2 g，70%產率)。 步驟4在氮氣氛圍下，在氮氣下將4,5-雙(甲基-d₃ )-2-苯基吡啶(1.427 g，7.54 mmol)、5-(甲基-d₃ )-2-(6-(甲基-d3)-[1,1'-聯苯]-3-基)吡啶(2 g，7.54 mmol)及[IrCl(COD)]2 (2.53 g，3.77 mmol)溶解於乙氧基乙醇(50 ml)中，得到紅色溶液。將反應混合物加熱至回流維持1小時，隨後有沈澱形成。再添加30 mL乙氧基乙醇且繼續回流48小時，隨後將反應混合物冷卻至室溫。粗物質不經另外純化即用於下一步驟。 步驟5在氮氣氛圍下將懸浮於乙氧基乙醇中之銥二聚體與戊烷-2,4-二酮(2.59 g，25.9 mmol)及碳酸鈉(3.43 g，32.3 mmol)在50 ml甲醇中混合，在55℃下在氮氣下攪拌24小時且蒸發。使黃色殘餘物在用梯度混合物庚烷/甲苯溶離之矽膠管柱上進行管柱層析，得到5 g (36%產率)標靶錯合物。 步驟6將acac錯合物(5 g，6.72 mmol)溶解於DCM (20 mL)中，隨後以一份方式添加含HCl之乙醚(16.80 ml，33.6 mmol)，攪拌10分鐘，蒸發。在甲醇中濕磨殘餘物。將固體過濾且用甲醇及庚烷洗滌，得到黃色固體(4.55 g，100%產率)。 步驟7將Ir二聚體(4.55 g，3.34 mmol)及(((三氟甲基)磺醯基)氧基)銀(2.062 g，8.03 mmol)懸浮於50 ml DCM/甲醇1/1 (v/v)混合物中，且在室溫下攪拌72小時，經由矽藻土過濾且蒸發，得到黃色固體(4.75 g，83%產率)。 步驟8將三氟甲磺酸鹽(3 g，3.5 mmol)及8-(4-(2,2-二甲基丙基-1,1-d2)吡啶-2-基)-2-(甲基-d₃ )苯并呋喃并[2,3-b]吡啶(2.56 g，7.7 mmol)於30 mL甲醇中之混合物在氮氣下在65℃下攪拌5天。隨後將物質冷卻，且蒸發甲醇。使殘餘物在用含2%乙酸乙酯之甲苯溶離之矽膠管柱上進行管柱層析，得到產物之兩種異構體(1.7 g具有高R_f 及0.7 g具有低R_f 之錯合物)。具有低R_f 之錯合物係標靶化合物155。 裝置實例 所有實例裝置均藉由高真空(＜10^-7 托)熱蒸發製造。陽極電極係750 Å之氧化銦錫(ITO)。陰極由10 Å之Liq (8-羥基喹啉鋰)接著為1,000 Å之Al組成。在製造之後，將所有裝置立即用經環氧樹脂密封之玻璃蓋包封於氮氣手套箱(＜1 ppm之H₂ O及O₂ )中，將吸濕氣劑併入至包裝內部。裝置實例之有機堆疊自ITO表面開始依序由以下組成：100 Å之HAT-CN作為電洞注入層(HIL)；450 Å之HTM作為電洞輸送層(HTL)；厚度400 Å之發射層(EML)。發射層含有6:4比率之H-主體(H1) : E-主體(H2)以及12重量%之綠色發射體。350 Å之摻雜有40% ETM的Liq (8-羥基喹啉鋰)作為ETL。裝置結構展示於下表2中。表2展示示意性裝置結構。裝置材料之化學結構展示如下。、製造後，在DC 80 mA/cm² 下量測裝置之所測試EL、JVL及壽命。裝置效能展示於表3中，電壓、LE、EQE、PE及LT97%全部相對於比較化合物標準化。 表2：示意性裝置結構 表3：裝置效能 將化合物152及153與比較實例比較；化合物152及153兩者之效率均高於比較實例。推測起來，相比於比較實例，化合物152及化合物153具有更高水平發射偶極定向。靜電位高之細長且平面取代基放大Ir錯合物與主體分子之間的相互作用表面區域；使得Ir錯合物平行於膜表面堆疊且提高出耦效率。此外，化合物152及化合物153兩者在80 mA/cm² 下之LT_97% 均大於比較實例，表明細長取代基不僅提高效率，而且增加錯合物在裝置中之穩定性。 下表4中提供對於裝置實例在9000尼特下記錄之裝置資料的概述，EQE值針對裝置C-2進行標準化。 表4 表4中之資料顯示，與比較實例相比，使用本發明化合物作為發射體之裝置實現相同色彩，但效率更高。應注意，本發明化合物(化合物154)與比較化合物(CC-1)之間的唯一差異在於，本發明化合物之苯基部分置換比較化合物中之一個質子，從而增加在一個方向上跨越Ir金屬中心之末端原子之間的距離。裝置結果顯示，發射體分子之較大縱橫比似乎為實現較高裝置效率之關鍵。與其他材料之組合 本文描述為可用於有機發光裝置中之具體層的材料可與存在於該裝置中之多種其他材料組合使用。舉例而言，本文所揭示之發射摻雜劑可與多種主體、輸送層、阻擋層、注入層、電極及其他可能存在的層結合使用。下文描述或提及之材料係可與本文所揭示之化合物組合使用的材料之非限制性實例，且熟習此項技術者可容易地查閱文獻以鑑別可組合使用之其他材料。導電性摻雜劑： 電荷輸送層可摻雜有導電性摻雜劑以實質上改變其電荷載流子密度，此轉而將改變其導電性。導電性藉由在基質材料中生成電荷載流子而增加，且視摻雜劑之類型而定，亦可實現半導體之費米能級(Fermi level)的變化。電洞輸送層可摻雜有p型導電性摻雜劑，且n型導電性摻雜劑用於電子輸送層中。 可與本文中所揭示之材料組合用於OLED的導電性摻雜劑之非限制性實例與揭示彼等材料之參考文獻一起例示如下：EP01617493、EP01968131、EP2020694、EP2684932、US20050139810、US20070160905、US20090167167、US2010288362、WO06081780、WO2009003455、WO2009008277、WO2009011327、WO2014009310、US2007252140、US2015060804及US2012146012。。HIL/HTL ： 本發明中所用之電洞注入/輸送材料不受特別限制，且可使用任何化合物，只要化合物典型地用作電洞注入/輸送材料即可。該材料之實例包括(但不限於)：酞菁或卟啉衍生物；芳族胺衍生物；吲哚并咔唑衍生物；含有氟烴之聚合物；具有導電性摻雜劑之聚合物；導電聚合物，諸如PEDOT/PSS；衍生自諸如膦酸及矽烷衍生物之化合物的自組裝單體；金屬氧化物衍生物，諸如MoO_x ；p型半導體有機化合物，諸如1,4,5,8,9,12-六氮雜聯伸三苯六甲腈；金屬錯合物，及可交聯化合物。 HIL或HTL中所用之芳族胺衍生物的實例包括(但不限於)以下通式結構：。 Ar¹ 至Ar⁹ 中之每一者選自由芳族烴環化合物組成之群，該等化合物諸如為苯、聯苯、聯三苯、聯伸三苯、萘、蒽、萉、菲、茀、芘、䓛、苝及薁；由芳族雜環化合物組成之群，該等化合物諸如為二苯并噻吩、二苯并呋喃、二苯并硒吩、呋喃、噻吩、苯并呋喃、苯并噻吩、苯并硒吩、咔唑、吲哚并咔唑、吡啶基吲哚、吡咯并二吡啶、吡唑、咪唑、三唑、噁唑、噻唑、噁二唑、噁三唑、二噁唑、噻二唑、吡啶、噠嗪、嘧啶、吡嗪、三嗪、噁嗪、噁噻嗪、噁二嗪、吲哚、苯并咪唑、吲唑、吲哚并噁嗪、苯并噁唑、苯并異噁唑、苯并噻唑、喹啉、異喹啉、㖕啉、喹唑啉、喹喏啉、㖠啶、酞嗪、喋啶、二苯并哌喃、吖啶、吩嗪、吩噻嗪、吩噁嗪、苯并呋喃并吡啶、呋喃并二吡啶、苯并噻吩并吡啶、噻吩并二吡啶、苯并硒吩并吡啶及硒吩并二吡啶；及由2至10個環狀結構單元組成之群，該等結構單元為選自芳族烴環基及芳族雜環基之相同類型或不同類型的基團，且直接或經由氧原子、氮原子、硫原子、矽原子、磷原子、硼原子、鏈結構單元及脂族環基中之至少一者彼此鍵結。各Ar可未經取代或可經選自由以下組成之群的取代基取代：氘、鹵基、烷基、環烷基、雜烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、胺基、矽烷基、烯基、環烯基、雜烯基、炔基、芳基、雜芳基、醯基、羰基、羧酸基、酯基、腈基、異腈基、氫硫基、亞磺醯基、磺醯基、膦基及其組合。 在一個態樣中，Ar¹ 至Ar⁹ 獨立地選自由以下組成之群：， 其中k係1至20之整數；X¹⁰¹ 至X¹⁰⁸ 係C (包括CH)或N；Z¹⁰¹ 係NAr¹ 、O或S；Ar¹ 具有以上定義之相同基團。 HIL或HTL中所用之金屬錯合物的實例包括(但不限於)以下通式：其中Met係金屬，其可具有大於40之原子量；(Y¹⁰¹ -Y¹⁰² )係雙齒配位體，Y¹⁰¹ 及Y¹⁰² 獨立地選自C、N、O、P及S；L¹⁰¹ 係輔助性配位體；k'係1至可與金屬連接之最大配位體數之整數值；且k'+k"係可與金屬連接之最大配位體數。 在一個態樣中，(Y¹⁰¹ -Y¹⁰² )係2-苯基吡啶衍生物。在另一態樣中，(Y¹⁰¹ -Y¹⁰² )係碳烯配位體。在另一態樣中，Met選自Ir、Pt、Os及Zn。在另一態樣中，金屬錯合物具有小於約0.6 V之相對於Fc⁺ /Fc對的溶液態最小氧化電位。 可與本文中所揭示之材料組合用於OLED的HIL及HTL材料之非限制性實例與揭示彼等材料之參考文獻一起例示如下：CN102702075、DE102012005215、EP01624500、EP01698613、EP01806334、EP01930964、EP01972613、EP01997799、EP02011790、EP02055700、EP02055701、EP1725079、EP2085382、EP2660300、EP650955、JP07-073529、JP2005112765、JP2007091719、JP2008021687、JP2014-009196、KR20110088898、KR20130077473、TW201139402、US06517957、US20020158242、US20030162053、US20050123751、US20060182993、US20060240279、US20070145888、US20070181874、US20070278938、US20080014464、US20080091025、US20080106190、US20080124572、US20080145707、US20080220265、US20080233434、US20080303417、US2008107919、US20090115320、US20090167161、US2009066235、US2011007385、US20110163302、US2011240968、US2011278551、US2012205642、US2013241401、US20140117329、US2014183517、US5061569、US5639914、WO05075451、WO07125714、WO08023550、WO08023759、WO2009145016、WO2010061824、WO2011075644、WO2012177006、WO2013018530、WO2013039073、WO2013087142、WO2013118812、WO2013120577、WO2013157367、WO2013175747、WO2014002873、WO2014015935、WO2014015937、WO2014030872、WO2014030921、WO2014034791、WO2014104514、WO2014157018。 。EBL ： 電子阻擋層(EBL)可用以減少離開發射層之電子及/或激子的數目。與缺乏阻擋層之類似裝置相比，此阻擋層在裝置中之存在可產生實質上較高的效率及或較長的壽命。此外，阻擋層可用以將發射限制於OLED之所要區域。在一些實施例中，與最接近EBL界面之發射體相比，EBL材料具有較高LUMO(較接近真空能級)及/或較高三重態能量。在一些實施例中，與最接近EBL界面之主體中的一或多者相比，EBL材料具有較高LUMO(較接近真空能級)及或較高三重態能量。在一個態樣中，EBL中所使用之化合物含有與下文描述之主體之一所使用相同的分子或相同的官能基。主體： 本發明之有機EL裝置的發光層較佳地至少含有金屬錯合物作為發光材料，且可含有使用金屬錯合物作為摻雜劑材料之主體材料。主體材料之實例不受特別限制，且可使用任何金屬錯合物或有機化合物，只要主體之三重態能量大於摻雜劑之三重態能量即可。可與任何摻雜劑一起使用任何主體材料，只要三重態準則滿足即可。 用作主體之金屬錯合物的實例較佳具有以下通式：其中Met係金屬；(Y¹⁰³ -Y¹⁰⁴ )係雙齒配位體，Y¹⁰³ 及Y¹⁰⁴ 獨立地選自C、N、O、P及S；L¹⁰¹ 係另一配位體；k'係1至可與金屬連接之最大配位體數之整數值；且k'+k"係可與金屬連接之最大配位體數。 在一個態樣中，金屬錯合物係：其中(O-N)係具有與O及N原子配位之金屬的雙齒配位體。 在另一態樣中，Met選自Ir及Pt。在另一態樣中，(Y¹⁰³ -Y¹⁰⁴ )係碳烯配位體。 用作主體之其他有機化合物的實例選自由芳族烴環化合物組成之群，該等化合物諸如為苯、聯苯、聯三苯、聯伸三苯、聯伸四苯、萘、蒽、萉、菲、茀、芘、䓛、苝及薁；由芳族雜環化合物組成之群，該等化合物諸如為二苯并噻吩、二苯并呋喃、二苯并硒吩、呋喃、噻吩、苯并呋喃、苯并噻吩、苯并硒吩、咔唑、吲哚并咔唑、吡啶基吲哚、吡咯并二吡啶、吡唑、咪唑、三唑、噁唑、噻唑、噁二唑、噁三唑、二噁唑、噻二唑、吡啶、噠嗪、嘧啶、吡嗪、三嗪、噁嗪、噁噻嗪、噁二嗪、吲哚、苯并咪唑、吲唑、吲哚并噁嗪、苯并噁唑、苯并異噁唑、苯并噻唑、喹啉、異喹啉、㖕啉、喹唑啉、喹喏啉、㖠啶、酞嗪、喋啶、二苯并哌喃、吖啶、吩嗪、吩噻嗪、吩噁嗪、苯并呋喃并吡啶、呋喃并二吡啶、苯并噻吩并吡啶、噻吩并二吡啶、苯并硒吩并吡啶及硒吩并二吡啶；及由2至10個環狀結構單元組成的群組，該等結構單元為選自芳族烴環基及芳族雜環基之相同類型或不同類型的基團，且直接或經由氧原子、氮原子、硫原子、矽原子、磷原子、硼原子、鏈結構單元及脂族環基中之至少一者彼此鍵結。各基團內之各選擇可未經取代或可經選自由以下組成之群的取代基取代：氘、鹵基、烷基、環烷基、雜烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、胺基、矽烷基、烯基、環烯基、雜烯基、炔基、芳基、雜芳基、醯基、羰基、羧酸基、酯基、腈基、異腈基、氫硫基、亞磺醯基、磺醯基、膦基及其組合。 在一個態樣中，主體化合物在分子中含有以下基團中之至少一者：， 其中R¹⁰¹ 至R¹⁰⁷ 中之每一者獨立地選自由以下組成之群：氫、氘、鹵基、烷基、環烷基、雜烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、胺基、矽烷基、烯基、環烯基、雜烯基、炔基、芳基、雜芳基、醯基、羰基、羧酸基、酯基、腈基、異腈基、氫硫基、亞磺醯基、磺醯基、膦基及其組合，且當其係芳基或雜芳基時，其具有與上述Ar類似之定義。k係0至20或1至20之整數；k'"係0至20之整數。X¹⁰¹ 至X¹⁰⁸ 選自C (包括CH)或N。 Z¹⁰¹ 及Z¹⁰² 選自NR¹⁰¹ 、O或S。 可與本文中所揭示之材料組合用於OLED的主體材料之非限制性實例與揭示彼等材料之參考文獻一起例示如下：EP2034538、EP2034538A、EP2757608、JP2007254297、KR20100079458、KR20120088644、KR20120129733、KR20130115564、TW201329200、US20030175553、US20050238919、US20060280965、US20090017330、US20090030202、US20090167162、US20090302743、US20090309488、US20100012931、US20100084966、US20100187984、US2010187984、US2012075273、US2012126221、US2013009543、US2013105787、US2013175519、US2014001446、US20140183503、US20140225088、US2014034914、US7154114、WO2001039234、WO2004093207、WO2005014551、WO2005089025、WO2006072002、WO2006114966、WO2007063754、WO2008056746、WO2009003898、WO2009021126、WO2009063833、WO2009066778、WO2009066779、WO2009086028、WO2010056066、WO2010107244、WO2011081423、WO2011081431、WO2011086863、WO2012128298、WO2012133644、WO2012133649、WO2013024872、WO2013035275、WO2013081315、WO2013191404、WO2014142472。 。其他發射體： 一或多種其他發射體摻雜劑可與本發明化合物結合使用。其他發射體摻雜劑之實例不受特別限制，且可使用任何化合物，只要化合物典型地用作發射體材料即可。適合發射體材料之實例包括(但不限於)可經由磷光、螢光、熱激活延遲螢光(即TADF，亦稱為E型延遲螢光)、三重態-三重態消滅或此等製程之組合產生發射的化合物。 可與本文中所揭示之材料組合用於OLED的發射體材料之非限制性實例與揭示彼等材料之參考文獻一起例示如下：CN103694277、CN1696137、EB01238981、EP01239526、EP01961743、EP1239526、EP1244155、EP1642951、EP1647554、EP1841834、EP1841834B、EP2062907、EP2730583、JP2012074444、JP2013110263、JP4478555、KR1020090133652、KR20120032054、KR20130043460、TW201332980、US06699599、US06916554、US20010019782、US20020034656、US20030068526、US20030072964、US20030138657、US20050123788、US20050244673、US2005123791、US2005260449、US20060008670、US20060065890、US20060127696、US20060134459、US20060134462、US20060202194、US20060251923、US20070034863、US20070087321、US20070103060、US20070111026、US20070190359、US20070231600、US2007034863、US2007104979、US2007104980、US2007138437、US2007224450、US2007278936、US20080020237、US20080233410、US20080261076、US20080297033、US200805851、US2008161567、US2008210930、US20090039776、US20090108737、US20090115322、US20090179555、US2009085476、US2009104472、US20100090591、US20100148663、US20100244004、US20100295032、US2010102716、US2010105902、US2010244004、US2010270916、US20110057559、US20110108822、US20110204333、US2011215710、US2011227049、US2011285275、US2012292601、US20130146848、US2013033172、US2013165653、US2013181190、US2013334521、US20140246656、US2014103305、US6303238、US6413656、US6653654、US6670645、US6687266、US6835469、US6921915、US7279704、US7332232、US7378162、US7534505、US7675228、US7728137、US7740957、US7759489、US7951947、US8067099、US8592586、US8871361、WO06081973、WO06121811、WO07018067、WO07108362、WO07115970、WO07115981、WO08035571、WO2002015645、WO2003040257、WO2005019373、WO2006056418、WO2008054584、WO2008078800、WO2008096609、WO2008101842、WO2009000673、WO2009050281、WO2009100991、WO2010028151、WO2010054731、WO2010086089、WO2010118029、WO2011044988、WO2011051404、WO2011107491、WO2012020327、WO2012163471、WO2013094620、WO2013107487、WO2013174471、WO2014007565、WO2014008982、WO2014023377、WO2014024131、WO2014031977、WO2014038456、WO2014112450。 。HBL ： 電洞阻擋層(HBL)可用以減少離開發射層之電洞及/或激子的數目。與缺乏阻擋層之類似裝置相比，此阻擋層在裝置中之存在可產生實質上較高的效率及/或較長的壽命。此外，阻擋層可用以將發射限於OLED之所要區域。在一些實施例中，與最接近HBL界面之發射體相比，HBL材料具有較低HOMO(距真空能級較遠)及或較高三重態能量。在一些實施例中，與最接近HBL界面之主體中的一或多者相比，HBL材料具有較低HOMO(距真空能級較遠)及或較高三重態能量。 在一個態樣中，HBL中所用之化合物含有用作上述主體之相同分子或相同官能基。 在另一態樣中，HBL中所用之化合物在分子中含有以下基團中之至少一者：其中k係1至20之整數；L¹⁰¹ 係另一配位體，k'係1至3之整數。ETL ： 電子輸送層(ETL)可包括能夠輸送電子之材料。電子輸送層可為本質的(未摻雜)或經摻雜的。摻雜可用以增強導電性。ETL材料之實例不受特別限制，且可使用任何金屬錯合物或有機化合物，只要其典型地用以輸送電子即可。 在一個態樣中，ETL中所用之化合物在分子中含有以下基團中之至少一者：其中R¹⁰¹ 選自由以下組成之群：氫、氘、鹵基、烷基、環烷基、雜烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、胺基、矽烷基、烯基、環烯基、雜烯基、炔基、芳基、雜芳基、醯基、羰基、羧酸基、酯基、腈基、異腈基、氫硫基、亞磺醯基、磺醯基、膦基及其組合，當其係芳基或雜芳基時，其具有與上述Ar類似之定義。Ar¹ 至Ar³ 具有與上述Ar類似之定義。k係1至20之整數。X¹⁰¹ 至X¹⁰⁸ 選自C (包括CH)或N。 在另一態樣中，ETL中所用之金屬錯合物含有(但不限於)以下通式：其中(O-N)或(N-N)係具有與原子O、N或N、N配位之金屬的雙齒配位體；L¹⁰¹ 係另一配位體；k'係1至可與金屬連接之最大配位體數之整數值。 可與本文中所揭示之材料組合用於OLED的ETL材料之非限制性實例與揭示彼等材料之參考文獻一起例示如下：CN103508940、EP01602648、EP01734038、EP01956007、JP2004-022334、JP2005149918、JP2005-268199、KR0117693、KR20130108183、US20040036077、US20070104977、US2007018155、US20090101870、US20090115316、US20090140637、US20090179554、US2009218940、US2010108990、US2011156017、US2011210320、US2012193612、US2012214993、US2014014925、US2014014927、US20140284580、US6656612、US8415031、WO2003060956、WO2007111263、WO2009148269、WO2010067894、WO2010072300、WO2011074770、WO2011105373、WO2013079217、WO2013145667、WO2013180376、WO2014104499、WO2014104535。 。電荷產生層 (CGL) 在串聯或堆疊OLED中，CGL對效能起基本作用，其由分別用於注入電子及電洞的經n摻雜之層及經p摻雜之層組成。電子及電洞由CGL及電極供應。CGL中消耗之電子及電洞由分別自陰極及陽極注入之電子及電洞再填充；隨後，雙極電流逐漸達至穩定狀態。典型CGL材料包括輸送層中使用之n及p導電性摻雜劑。 在OLED裝置之各層中所用之任何上述化合物中，氫原子可部分或完全氘化。因此，任何具體列出之取代基(諸如(但不限於)甲基、苯基、吡啶基等)可為其非氘化、部分氘化及完全氘化形式。類似地，取代基類別(諸如(但不限於)烷基、芳基、環烷基、雜芳基等)亦可為其非氘化、部分氘化及完全氘化形式。 應理解，本文所述之各種實施例僅作為實例，且無意限制本發明之範疇。舉例而言，本文所述之材料及結構中的許多可用其他材料及結構來取代，而不脫離本發明之精神。如所主張之本發明因此可包括本文所述之具體實例及較佳實施例之變化，如熟習此項技術者將明白。應理解，關於本發明為何起作用之各種理論無意為限制性的。

100‧‧‧有機發光裝置

110‧‧‧基板

115‧‧‧陽極

120‧‧‧電洞注入層

125‧‧‧電洞輸送層

130‧‧‧電子阻擋層

135‧‧‧發射層

140‧‧‧電洞阻擋層

145‧‧‧電子輸送層

150‧‧‧電子注入層

155‧‧‧保護層

160‧‧‧陰極

162‧‧‧第一導電層

164‧‧‧第二導電層

170‧‧‧障壁層

200‧‧‧倒轉的OLED

210‧‧‧基板

215‧‧‧陰極

220‧‧‧發射層

225‧‧‧電洞輸送層

230‧‧‧陽極

300‧‧‧既定發射體摻雜之EML樣品

e ‧‧‧量測之p偏振發射

ɸ‧‧‧偵測角度

圖1展示有機發光裝置。 圖2展示不具有單獨電子輸送層之倒轉的有機發光裝置。 圖3展示基於2-苯基吡啶之銥磷光發射體的一實例。 圖4展示4-取代吡啶結構之一實例，其中躍遷偶極矩向量(虛線)係沿著分子長軸。 圖5展示基於苯基吡啶之配位體的一實例，其中R¹ 、R² 、R³ 及R⁴ 處之取代使得可以虛線TDM向量長軸對準。 圖6展示二酮連接結構，其中反-氮連接C-N配位體引入C₂ 旋轉對稱性。 圖7展示反-氮軸以及長軸及TDM向量與此軸之較佳對準的示意圖。 圖8展示C₃ 或偽-C₃ 對稱結構、以及R¹ 、R² 及R³ 分子長軸以及TDM向量與此C₃ 旋轉平面之較佳對準的示意圖。 圖9展示實現分子長軸及TDM與面式參-雙齒有機金屬發射體之C₃ 旋轉平面的對準之可能配位體取代模式之一。 圖10展示用於在不存在光學增強下測定EQE之一實例底部發射OLED裝置堆疊。 圖11展示用於用以量測發射體對準之角度依賴性光致發光實驗的實驗設定。 圖12展示比較水平定向之發射體化合物152與隨機(各向同性)定向之發射體參(2-苯基吡啶)銥的實驗資料。

Claims (20)

1. 一種化合物，其具有金屬配位錯合物結構； 其中該化合物在室溫下能夠充當有機發光裝置中之發射體； 其中該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體； 其中該化合物中之各配位體彼此不同； 其中該化合物在該等配位體之一者的外圍具有第一取代基R¹ ； 其中第一距離係該金屬與R¹ 中距該金屬最遠之原子之間的距離； 其中該第一距離長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何距離；且 其中當界定具有半徑r 之球體，其中心係該金屬且該半徑r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑r 長至少2.9 Å。
2. 如請求項1之化合物，其中該化合物在該等配位體之一者的外圍具有第二取代基R² ； 其中第二距離係該金屬與R² 中距該金屬最遠之原子之間的距離；且 其中當該半徑r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 或R² 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第二距離比r 長至少1.5 Å。
3. 如請求項2之化合物，其中R¹ 及R² 在不同配位體上。
4. 如請求項2之化合物，其中該第一及該第二距離均比r 長至少4.3 Å。
5. 如請求項2之化合物，其中R¹ 連接至具有第一配位原子之芳族環，R² 連接至具有第二配位原子之芳族環；且 其中相對於該金屬，該第一配位原子與該第二配位原子呈反式組態。
6. 如請求項2之化合物，其中該化合物在該等配位體之一者的外圍具有第三取代基R³ ； 其中第三距離係該金屬與R³ 中距該金屬最遠之原子之間的距離；且 其中當該半徑r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 、R² 或R³ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第三距離比r 長至少1.5 Å。
7. 如請求項6之化合物，其中R¹ 、R² 及R³ 在不同配位體上； 其中該化合物具有具備三個雙齒配位體之八面體配位幾何形狀，其中該等三個雙齒配位體中之每一者具有兩個配位原子及在該等兩個配位原子之間界定的中點； 其中該等三個中點界定第一平面；且 其中R¹ 、R² 及R³ 中之各原子相對於該第一平面之點至平面距離小於5 Å。
8. 如請求項1之化合物，其中R¹ 、R² 及R³ 中之任何原子相對於該第一平面之點至平面距離小於r 。
9. 如請求項1之化合物，其中該化合物具有躍遷偶極矩軸；且 其中該躍遷偶極矩軸與沿著該第一距離之軸之間的角度小於40°。
10. 如請求項1之化合物，其中配位體為該具有R¹ 之配位體的第一均配金屬錯合物之三重態能量比配位體為該化合物中之其他配位體中之任一者的第二均配金屬錯合物之三重態能量低至少0.05 eV。
11. 如請求項1之化合物，其中該化合物在室溫下能夠充當有機發光裝置中之磷光發射體、螢光發射體或延遲螢光發射體。
12. 如請求項1之化合物，其中該化合物包含配位至該金屬之第一苯環；且其中該第一苯環由第二芳族環稠合。
13. 如請求項1之化合物，其中該化合物具有式M(L¹ )_x (L² )_y (L³ )_z ； 其中L¹ 、L² 及L³ 可相同或不同； 其中x係1、2或3； 其中y係0、1或2； 其中z係0、1或2； 其中x+y+z係該金屬M之氧化態； 其中L¹ 、L² 及L³ 各自獨立地選自由以下組成之群： ； 其中各X¹ 至X¹⁷ 獨立地選自由碳及氮組成之群； 其中Z¹ 、Z² 及Z³ 獨立地選自由碳及氮組成之群； 其中X選自由以下組成之群：BR'、NR'、PR'、O、S、Se、C=O、S=O、SO₂ 、CR'R''、SiR'R''及GeR'R''； 其中R'及R''視情況稠合或接合以形成環； 其中各R_a 、R_b 、R_c 及R_d 可表示單取代基至可能最大數目之取代基或無取代基； 其中R'、R''、R_a 、R_b 、R_c 、R_d 、R_e 各自獨立地選自由以下組成之群：氫、氘、鹵基、烷基、環烷基、雜烷基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、胺基、矽烷基、烯基、環烯基、雜烯基、炔基、芳基、雜芳基、醯基、羰基、羧酸基、酯基、腈基、異腈基、氫硫基、亞磺醯基、磺醯基、膦基及其組合；且 其中任兩個R_a 、R_b 、R_c 及R_d 視情況稠合或接合以形成環或形成多齒配位體；且 其中該等R_a 、R_b 、R_c 及R_d 中之至少一者包括R¹ 。
14. 如請求項13之化合物，其中同一環內之至少一對取代基R_a 、R_b 、R_c 及R_d 接合及稠合成環。
15. 如請求項13之化合物，其中兩個鄰近環之間的至少一對取代基R_a 、R_b 、R_c 及R_d 接合及稠合成環。
16. 如請求項1之化合物，其中R¹ 選自由以下組成之群：
17. 如請求項1之化合物，其中該化合物選自由以下組成之群：
18. 一種有機發光裝置(OLED)，其包含： 陽極； 陰極；及 安置在該陽極與該陰極之間的有機層，其包含具有金屬配位錯合物結構之化合物； 其中該化合物在室溫下能夠充當有機發光裝置中之發射體； 其中該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體； 其中該化合物在該等配位體之一者的外圍具有第一取代基R¹ ； 其中第一距離係該金屬與R¹ 中距該金屬最遠之原子之間的距離； 其中該第一距離長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何距離；且 其中當界定具有半徑r 之球體，其中心係該金屬且該半徑r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑r 長至少2.9 Å。
19. 一種有機發光裝置(OLED)，其包含： 陽極； 陰極；及 安置在該陽極與該陰極之間的發射層，其包含磷光發射化合物； 其中該磷光發射化合物具有FWHM值為不大於45 nm之固有發射光譜； 其中當在該裝置上施加電壓時，該OLED在室溫下在0.1 mA/cm² 下量測之EQE係至少25%。
20. 一種消費型產品，其包含有機發光裝置(OLED)，該有機發光裝置包含： 陽極； 陰極；及 安置在該陽極與該陰極之間的有機層，其包含具有金屬配位錯合物結構之化合物； 其中該化合物在室溫下能夠充當有機發光裝置中之發射體； 其中該化合物具有至少兩個配位至該金屬之配位體； 其中該化合物在該等配位體之一者的外圍具有第一取代基R¹ ； 其中第一距離係該金屬與R¹ 中距該金屬最遠之原子之間的距離； 其中該第一距離長於該金屬與該化合物中之任何其他原子之間的任何距離；且 其中當界定具有半徑r 之球體，其中心係該金屬且該半徑r 係使得該球體可封圍該化合物中不為R¹ 之一部分之所有原子的最小半徑時，該第一距離比該半徑r 長至少2.9 Å。