TW201423511A - 觸控面板感測器、觸控面板裝置及顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

觸控面板感測器(30)，具備基材(35)，與包含檢測電極(50)及被連接於檢測電極的取出電極(45)的電極(40)。電極，於任意的厚度方向剖面包含佔有其至少一部份的金屬層(61)。於檢測電極與取出電極之連接處所，金屬層係一體地形成。檢測電極，包含導體(60)以網狀圖案配置的導電性網狀物(55)，導線的高度為0.2以上2μm以下，導線的寬幅為1μm以上5μm以下。導電性網狀物的導線，包含位於基材側的基端面(66)，與對向於基端面而配置的平坦的先端面(67)。

Description

觸控面板感測器、觸控面板裝置及顯示裝置
本發明係關於具有電極的觸控面板感測器，特別是電極為低電阻同時構成電極的導線被細線化的觸控面板感測器。此外，本發明關於包含觸控面板感測器的觸控面板裝置，以及，包含觸控面板感測器或觸控面板裝置的顯示裝置。
今日，作為輸入手段，廣泛使用觸控面板裝置。觸控面板裝置，包含觸控面板感測器，檢測往觸控面板感測器上的接觸位置之控制電路，配線及FPC(可撓印刷電路板)。觸控面板裝置，大多數的場合，是作為對液晶顯示器或電漿顯示器等被組入影像顯示機構的種種裝置(例如，票券販賣機、ATM裝置、行動電話、遊戲機)的輸入手段，與影像顯示機構一起使用的。於這樣的裝置，觸控面板感測器係被配置於影像顯示機構的顯示面上，藉此，觸控面板裝置可以進行對顯示裝置之極為直接的輸入。觸控面板感測器之中的影像顯示機構之對面於顯示區域的區域為透明，觸控面板感測器的這個區域，構成 可以檢測出接觸位置(接近位置)的主動區域(active area)。
觸控面板裝置，根據檢測出往觸控面板感測器的接觸位置(接近位置)的原理，可以區別為種種形式。最近因為光學上明亮，具有設計性，構造容易製作，機能上優異等理由，電容耦合方式的觸控面板裝置受到矚目。電容耦合方式的觸控面板裝置，藉由應檢測出位置的外部導體(典型的是手指)透過介電質接觸(接近)於觸控面板感測器，產生新的寄生電容，利用此靜電電容的變化，檢測出觸控面板感測器上之外部導體的位置。
觸控面板感測器，通常具有基材，及設於基材上的電極。電極，具有位於主動區域的檢測電極，與位在非主動區域的取出電極。例如在日本JP2008-98169A公報所揭示的，於多數的觸控面板感測器，檢測電極被配置於影像顯示機構之對面於顯示區域的位置，所以使用ITO等透明導電材料來形成。但是，透明導電材料的折射率比較大，因此觸控面板感測器之中被配置檢測電極的區域與未配置檢測電極的區域之間會有光的透過率與反射率大不相同的場合。如此在區域間之光的透過率與反射率之差很大的場合，檢測電極的輪廓會讓觸控面板感測器的使用者視覺確認到，不僅由設計性的觀點來看很不好，也會使顯示裝置的畫質顯著劣化。
此外，作為其他的觸控面板感測器，已知有使用金屬材料形成檢測電極的觸控面板感測器。在此觸控 面板感測器，檢測電極被形成為窄寬幅的導線。因此，可以使在主動區域的透過率充分地高。此外，因為金屬材料的導電率很高，所以縮窄金屬導線的寬幅，也可以使觸控面板感測器的面電阻率(單位：Ω/□)充分地小。這樣的觸控面板感測器，藉由首先在透明基材上，透過接著劑層積金屬箔，接著將此金屬箔藉由使用光蝕刻技術之蝕刻進行圖案化，形成電極而製作的。
然而在最近，伴隨著高畫質化，甚而被稱為平板電腦的攜帶型小型終端的普及，強烈被要求著電極的細線化。
然而，在電極是由金屬導線所構成的從前的觸控面板感測器，係以被圖案化的光阻為遮罩，藉由蝕刻金屬箔而製作的。工業製造的金屬箔的厚度為10μm以上。藉由蝕刻這樣的厚度的金屬箔而得以安定地製作的金屬導線的寬幅至少為10μm以上。其理由如圖21所示，由於蝕刻時必然產生的往橫方向的浸蝕(側蝕)，使得相鄰的浸蝕處所會在光阻的下方連接。浸蝕處所在光阻的下方連接的話，該光阻部分不再能安定支撐。結果，應被形成於該光阻部分的下方的金屬導線會欠缺直線性，此外在高度(厚度)上也會產生差異。
而且，如圖21所示，所得到的金屬導線的剖面形狀會成為由基材突出的三角形形狀。這樣的金屬導線，寬幅狹窄而且高度也低，所以不能呈現充份的導電率。亦即，此觸控面板感測器的面電阻率會變高，供檢測 位置之用的感測感度會降低。而且，把這樣的觸控面板感測器，以突出的金屬導線朝向觀察者側的方式組入觸控面板裝置或顯示裝置的場合，具有必要的面電阻率的金屬導線容易被視覺確認到。結果，起因於觸控面板感測器的金屬導線之濃淡的不均，或者起因於影像顯示機構的畫素排列或者與其他觸控面板感測器的金屬導線等的干涉之波紋會變得容易被視覺確認。
亦即，在先前技術，無法使構成電極的金屬導線充分細線化。本發明係考慮到這樣的問題點而完成之發明，目的在於提供電極為低電阻同時構成電極的導線被細線化之觸控面板感測器。
根據本發明之第1觸控面板感測器，具備：基材，與包含設於前述基材的電極，且係用於位置檢測的檢測電極，以及被連接於前述檢測電極的取出電極之電極；前述電極，於任意的厚度方向剖面含有占其至少一部份的金屬層；於前述檢測電極與前述取出電極之接觸處所，前述檢測電極的金屬層與前述取出電極的金屬層係一體地形成；前述檢測電極，包含以導線區劃多數開口區域的網狀圖案配置的導電性網狀物，前述導電性網狀物的前述導線高度為0.2μm以上2μm以下，前述導電性網狀物的前述導線寬幅為1μm以上5μm以下，前述導電性網狀物之前述導線，具有位於前述基材側的基端面，對向 於前述基端面而配置的平坦的先端面，以及連接前述基端面與前述先端面之間的一對側面。
根據本發明之第2觸控面板感測器，具備：基材，與包含設於前述基材的電極，且係用於位置檢測的檢測電極，以及被連接於前述檢測電極的取出電極之電極；前述電極，於任意的厚度方向剖面含有占其至少一部份的金屬層；於前述檢測電極與前述取出電極之接觸處所，前述檢測電極的金屬層與前述取出電極的金屬層係一體地形成；前述檢測電極，包含以導線區劃多數開口區域的網狀圖案配置的導電性網狀物，前述導電性網狀物的前述導線，具有位於前述基材側的基端面，對向於前述基端面而配置的平坦的先端面，以及連接前述基端面與前述先端面之間的一對側面；前述導電性網狀物的前述導線的寬幅，係以由前述先端面朝向前述基端面之側逐漸變小的方式變化。
根據本發明之第3觸控面板感測器30，具備：基材，與包含設於前述基材的電極，且係用於位置檢測的檢測電極，以及被連接於前述檢測電極的取出電極之電極；前述電極，於任意的厚度方向剖面含有占其至少一部份的金屬層；於前述檢測電極與前述取出電極之接觸處所，前述檢測電極的金屬層與前述取出電極的金屬層係一體地形成；前述檢測電極，包含以導線區劃多數開口區域的網狀圖案配置的導電性網狀物，前述導電性網狀物的前述導線，具有位於前述基材側的基端面，對向於前述基端 面而配置的平坦的先端面，以及連接前述基端面與前述先端面之間的一對側面；前述導電性網狀物的前述導線的寬幅，於前述基端面比前述先端面變得更窄。
於根據本發明之第1~第3觸控面板感測器，前述導電性網狀物之前述導線，進而包含設於前述金屬層的與前述基材相反側而形成前述先端面的黑化層亦可。
於根據本發明之第1~第3觸控面板感測器，前述導電性網狀物之前述導線，進而包含設於前述金屬層的前述基材側而形成前述基端面的黑化層亦可。
於根據本發明之第1~第3觸控面板感測器，前述導電性網狀物之前述導線的寬幅，亦可從前述先端面朝向前述基端面，在由前述先端面起至前述基端面為止之間，僅以變小的方式變化。
於根據本發明之第1~第3觸控面板感測器，前述導電性網狀物之前述導線的寬幅，亦可從前述先端面朝向前述基端面僅以變小的方式變化，其後，由前述先端面之側直到前述基端面為止僅以變大的方式變化。
於根據本發明之第1~第3觸控面板感測器，亦可為前述網狀圖案，由延伸於二個分歧點之間而區劃出前述開口區域的多數邊界線段所形成，於前述網狀圖案，由一個分歧點延伸出的邊界線段的數目平均為3.0以上而未滿4.0，且不存在前述開口區域以一定的間距排列的方向。
於根據本發明之第1~第3觸控面板感測器， 亦可為前述網狀圖案，由延伸於二個分歧點之間而區劃出前述開口區域的多數邊界線段所形成，於前述網狀圖案所含有的前述開口區域之中，藉由6條邊界線段圍住周圍的開口區域最多。
於根據本發明之第1~第3觸控面板感測器，在一個分歧點被連接的邊界線段的數目之前述平均亦可比3.0更大。
於根據本發明之第1~第3觸控面板感測器，在一個分歧點被連接的邊界線段的數目之前述平均亦可為3.0。
根據本發明之觸控面板裝置，包含前述之根據本發明的第1~第3觸控面板感測器之任一。
根據本發明之顯示裝置，包含前述之根據本發明的第1~第3觸控面板感測器之任一或前述之根據本發明的觸控面板裝置。
根據本發明的話，可以維持觸控面板感測器的電極於低電阻，同時使構成該電極的導線細線化。
10‧‧‧顯示裝置
12‧‧‧影像顯示機構
12a‧‧‧顯示面
13‧‧‧顯示控制部
14‧‧‧背光
15‧‧‧液晶顯示面板
16‧‧‧(下)偏光板
17‧‧‧液晶胞
18‧‧‧(上)偏光板
19‧‧‧機能層
20‧‧‧觸控面板裝置
20a‧‧‧層積體
21‧‧‧檢測控制部
23‧‧‧低折射率層
24‧‧‧接著層
25‧‧‧接著層
28‧‧‧外蓋層
30‧‧‧觸控面板感測器
31‧‧‧第1觸控面板感測器
32‧‧‧第2觸控面板感測器
33‧‧‧低折射率層
40‧‧‧電極
A1‧‧‧顯示區域
A2‧‧‧非顯示區域(框緣區域)
圖1係供說明根據本發明之一實施型態之圖，係與影像顯示機構一起概略顯示觸控面板裝置之圖。
圖2係與影像顯示機構一起顯示圖1的觸控面板裝置之剖面圖。又，圖2所示的剖面大致對應於沿著圖1的 II-II線的剖面。
圖3係顯示觸控面板裝置的觸控面板感測器的俯視圖。
圖4為沿著圖3之IV-IV線之剖面圖。
圖5係供說明包含於圖4的觸控面板感測器的導電性網狀物55的平面俯視之網狀圖案之一例之圖。
圖6係導電性網狀物之擴大圖，係供說明導電性網狀物之網狀圖案之圖。
圖7係顯示圖5所示的導電性網狀物之其他例之平面圖。
圖8係顯示針對圖7之導電性網狀物藉由各數目之邊界線段所包圍的開口區域的個數之圖。
圖9係供說明設計圖5所示的導電性網狀物之網狀圖案的方法之圖，顯示決定母點的方法。
圖10係供說明設計圖5所示的導電性網狀物之網狀圖案的方法之圖，顯示決定母點的方法。
圖11係供說明設計圖5所示的導電性網狀物之網狀圖案的方法之圖，顯示決定母點的方法。
圖12(a)~(d)係把決定的母點群以絕對坐標系及相對坐標系來表示之圖，係供說明母點群的分散程度之圖。
圖13係供說明設計圖5所示的導電性網狀物之網狀圖案的方法之圖，顯示由被決定的母點製作Voronoi圖決定網狀圖案的方法之圖。
圖14(a)~(e)係供說明觸控面板感測器的製造方法之一例之圖。
圖15係對應於圖2之圖，供說明觸控面板裝置之一變形例之圖。
圖16係對應於圖4之圖，供說明觸控面板感測器之一變形例之圖。
圖17係對應於圖4之圖，供說明觸控面板感測器之其他變形例之圖。
圖18係對應於圖3之圖，供說明觸控面板感測器之進而其他變形例之圖。
圖19係對應於圖3之圖，供說明觸控面板感測器之進而其他變形例之圖。
圖20係對應於圖3之圖，供說明觸控面板感測器之進而其他變形例之圖。
圖21係供說明蝕刻時的不良情形之圖。
圖22係以反射型電子顯微鏡觀察的電極的剖面照片。
以下，參照圖面說明本發明之一實施型態。又，於本說明書所附之圖式，除了圖22的照片以外，為了使圖式容易被理解以及繪製的方便上之目的，會適度地改變比例尺以及縱橫尺寸比等，改變圖式而比實物更為誇張。
圖1~圖14係供說明根據本發明之一實施型態之圖。其中圖1係與顯示機構一起概略顯示觸控面板裝置之圖，圖2係與顯示機構一起顯示圖1的觸控面板裝置之剖面圖，圖3及圖4係顯示觸控面板裝置的觸控面板感測器的俯視圖及剖面圖，圖5係供說明觸控面板感測器的導電性網狀物之網狀圖案之一例之平面圖。
圖1~圖4所示的觸控面板裝置20，被構成為投影型的靜電電容耦合方式，被構成為可以檢測出外部導體(例如人的手指)往觸控面板裝置之接觸位置。又，靜電電容耦合方式的觸控面板裝置20的檢測感度優異的場合，外部導體僅僅接近於觸控面板裝置就可以檢測出該外部導體接近觸控面板裝置的哪個區域。伴隨著這樣的現象，此處使用的「接觸位置」在概念上也包含實際上沒有接觸但可被檢測出位置的接近位置。
<<<影像顯示機構12>>>
如圖1及圖2所示，觸控面板裝置20，與影像顯示機構(例如液晶顯示裝置)12一起組合使用，構成顯示裝置10。被圖示的影像顯示機構12，作為一例被構成為平面面板顯示器，更具體而言被構成為液晶顯示裝置。影像顯示機構12，具有形成顯示面12a的液晶顯示面板15，由背面照明液晶顯示面板15的背光14，以及被連接於液晶顯示面板15的顯示控制部13。液晶顯示面板15，包含可以顯示影像的顯示區域A1，以包圍顯示區域A1的 方式被配置於顯示區域A1的外側的非顯示區域(也被稱為框緣區域)A2。顯示控制部13，處理關於應該顯示的影像的資訊，根據影像資訊驅動液晶顯示面板15。液晶顯示面板15，藉由顯示控制部13的控制訊號，把特定的影像顯示於顯示面12a。亦即，影像顯示機構12，擔任作為把文字或圖等資訊以影像的形式輸出之輸出裝置的任務。
又，如圖2所示，液晶顯示面板15，具有一對偏光板16、18，以及被配置於一對偏光板16、18間的液晶胞17。於被配置在出光側的偏光板18的出光側，設有機能層19。機能層19，係被期待發揮特定機能之層，且形成影像顯示機構12的最靠出光側面，亦即顯示面12a。機能層19，作為一例，可以是做為防反射層(AR層)發揮機能之低折射率層。此外，作為機能層19之其他例，能夠以替代防反射層或者除了防反射層以外，含有一層以上的具有防眩機能的防眩層(AG層)、具有耐擦傷性的硬塗層(HC層)、具有防帶電機能的防帶電層(AS層)等的方式構成。
偏光板16、18，具有把入射的光分解為正交的2個偏光成分，使一方方向的偏光成分透過，而吸收正交於前述一方方向的另一方方向的偏光成分的機能的偏光子。於以下，為了區別液晶顯示面板15所含有的一對偏光板，與液晶顯示面板15的配置狀態無關地，把入光側(背光側)的偏光板16稱為下偏光板，把出光側(觀察 者側)的偏光板18稱為上偏光板。
液晶胞17，具有一對支撐板，與配置於一對支撐板間的液晶。液晶胞17，於形成一個畫素的各區域，可以被施加電場。接著，被施加電場的液晶胞17的液晶配向會改變。作為一例，透過被配置於入光側的下偏光板16的特定方向(與透過軸平行的方向)之偏光成分，在通過被施加電場的液晶胞17時使其偏光方向旋轉90度，通過未被施加電場的液晶胞17時維持其偏光方向。因此，隨著有無往液晶胞17施加電場，可以控制透過下偏光板16的特定方向的偏光成分，進而透過被配置餘下偏光板16的出光側的上偏光板18，或者是在上偏光板18被吸收而遮斷。
背光14包含光源，面狀地照射光。背光14，可以使用構成為邊緣光型(側光型)或直下型之已知的面光源裝置。光源可由發光二極體(LED)、冷陰極管、白熱燈、有機EL(電致發光)等已知的光源來構成。
<<<觸控面板裝置20>>>
其次，說明觸控面板裝置20。觸控面板裝置20，具有包含觸控面板感測器30的層積體20a、及被連接於觸控面板感測器30的檢測控制部21。包含觸控面板感測器30的層積體20a，被配置於影像顯示機構12之顯示面12a的對面的位置。如前所述，觸控面板裝置20，被構成為投影型電容耦合方式的觸控面板裝置，擔任作為輸入資訊 的輸入裝置之任務。
在圖2所示之例，觸控面板裝置20的層積體20a，由觀察者側，亦即由與影像顯示機構12的相反側起，依序具有外蓋層28、接著層25、第1觸控面板感測器31、接著層24、第2觸控面板感測器32，以及低折射率層23。亦即，在圖2所示之例，觸控面板裝置20，包含2個觸控面板感測器30。
外蓋層28，係作為介電質發揮機能的具有透光性之層，例如由玻璃或樹脂膜來形成。此外蓋層28，作為往觸控面板裝置20的輸入面(觸碰面、接觸面)而發揮機能。總之，藉由使導體，例如人的手指5接觸於外蓋層28，可以由外部對觸控面板裝置20輸入資訊。此外，外蓋層28，構成顯示裝置10之最靠觀察者側之面，於顯示裝置10，也做為由外部保護觸控面板裝置20以及影像顯示機構12的外蓋而發揮機能。
外蓋層28，透過接著層25與第1觸控面板感測器31接合。
此外，第1觸控面板感測器31，透過接著層24與第2觸控面板感測器32接合。接著層24與接著層25，在第1觸控面板感測器31及第2觸控面板感測器32的電極40，與接觸於外蓋層28的導體例如人的手指5之間，作為介電質而發揮功能。作為這樣的接著層24及接著層25，可以使用具有種種的接著性之材料所構成之層。又，於本說明書，「接著(層)」也作為包含黏著(層)的概 念來使用。
第2觸控面板感測器32之設於影像顯示機構12側的低折射率層23，係被期待作為防反射層(AR層)而發揮機能之層。根據此低折射率層23，可以防止來自影像顯示機構12的形成影像的光，在觸控面板裝置20的影像顯示機構12側的表面，被反射而成為迷光。又，低折射率層23，可以置換為包含多數微小突起而構成的具有複眼構造的防反射層，此外亦可以省略。進而，觸控面板裝置20的層積體20a，可以透過接著層等被接合於影像顯示機構12的顯示面12a，在此場合，不需要低折射率層23。
又，於觸控面板裝置20的層積體20a，不限於圖示之例，亦可設置被期待發揮特定機能的其他機能層。此外，一個機能層發揮2種以上的機能亦可，例如，對觸控面板感測器30之後述的基材35，或包含於其他層積體20a的各層(各基材或接著層)賦予機能亦可。做為可以對觸控面板裝置20的層積體20a賦予的機能，作為一例，可以例示防眩(AG)機能，具有耐擦傷性的硬塗層(HC)機能，防帶電(AS)機能，電磁波遮蔽機能，防污機能等。
觸控面板裝置20的檢測控制部25，被連接於觸控面板感測器30，處理透過外蓋層28輸入的資訊。具體而言，檢測控制部25，包含在導體(典型的為人的手指)5往外蓋層28接觸時，可以特定出導體5之往外蓋 層28接觸之位置的方式構成的電路(檢測電路)。此外，檢測控制部25，與影像顯示機構12的顯示控制部13連接，也可以把以處理的輸入資訊往顯示控制部13送訊。此時，顯示控制部13，可以製作根據輸入資訊的影像資訊，把對應於輸入資訊的影像顯示於影像顯示機構12。
又，「電容耦合」方式以及「投影型」的電容結合方式等用語，具有與在觸控面板的技術領域所使用時的意義相同的意義者，於本案也使用。又，「電容耦合」方式，於觸控面板的技術領域也被稱為「靜電電容」方式或「靜電電容耦合」方式等，在本案中，這些「靜電電容」方式或「靜電電容耦合」方式等也作為同義用語來對待。典型的靜電電容耦合方式的觸控面板裝置包含電極(導電體層)，藉由外部的導體(典型的為人的手指)接觸於觸控面板，在外部的導體與觸控面板裝置的電極(導電體層)之間形成電容(靜電電容)。接著，根據伴隨著此電容的形成之電氣狀態的改變，於觸控面板上可以特定出(位置檢測出)外部導體接觸的位置的位置座標。
<<觸控面板感測器30>>
其次，詳細說明觸控面板感測器30。如圖2及圖3所示，觸控面板感測器30，具有薄片狀的基材35，與設於基材35上的電極40。於圖2所示之例，電極40，設於基材35的一方之側(觀察者側)之面上。
又，圖2所示的觸控面板裝置20，包含第1觸控面板感測器31及第2觸控面板感測器32，但第1觸控面板感測器31及第2觸控面板感測器32，僅在電極40的排列圖案上不同，其他可以相同地構成。於以下的說明，在第1觸控面板感測器31及第2觸控面板感測器32之間可被構成為相同的部分，不區別第1觸控面板感測器31及第2觸控面板感測器32而以觸控面板感測器30的構成來進行說明。
<基材35>
基材35，支撐電極40，而且於觸控面板感測器30作為介電質發揮機能。如圖1及圖3所示，基材膜32，包含對應於可以被檢測出觸碰位置的區域的主動區域Aa1，與鄰接於主動區域Aa1的非主動區域Aa2。如圖1所示，觸控面板感測器30的主動區域Aa1，佔有對面於影像顯示機構12的顯示區域A1的區域。另一方面，非主動區域Aa2，被形成為由四方周狀包圍矩形狀的主動區域Aa1的方式，換句話說，被形成為框緣狀。此非主動區域Aa2，被形成於對面於影像顯示機構12的非顯示區域A2的區域。
如稍後詳述的，電極40，具有用於位置檢測的取出電極45，與被連接於取出電極45的檢測電極50。如圖3所示，於基材35的主動區域Aa1內，設有在與外部導體5之間可形成電容耦合的檢測電極50，基材35的 非主動區域Aa2內，設有被連接於檢測電極50的取出電極45。
以可透過主動區域Aa1觀察影像顯示機構12的影像的方式，基材35為透明或者半透明。基材35，以可見光區域之透過率為80%以上為佳，84%以上更佳。又，基材35的透過率可以藉由JISK7361-1(塑膠-透明材料之全光透過率之試驗方法)來測定。
基材35，例如可由作為介電質發揮機能的玻璃或樹脂膜來構成。作為樹脂膜，可以適切地使用作為光學構件的基材來使用的種種樹脂膜。作為一例，可以把不具有複折射性的光學像同性膜，典型的是以三醋酸纖維素為代表的纖維素酯所構成的膜，作為基材35來使用。另一方面，不具有複折射性的光學向同性的膜，也可以作為基材35使用。例如，可以把廉價且安定性優異的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等聚酯膜作為基材35使用。聚酯膜，具有吸濕性低，於高溫多濕的環境下也很難產生變形等的優點。
(基材的光學向異性)
然而，把觸控面板感測器30以及觸控面板裝置20，以圖示之例那樣，與形成影像的影像光成為特定的偏光成分的影像顯示機構12組合使用的場合，把以聚酯膜等為代表的光學向異性膜作為基材35使用的話，會有發生顏色不同的色不均(以下，亦稱為「虹彩不均」)被視覺確 認到之不良情形。這對這一點，本案發明人等反覆銳意研究，確認了藉由使具有複折射性的光學向異性基材35，具有合計6000nm以上的延遲，可以有效使虹彩不均變得不醒目。以下，針對此點詳細說明。又，針對位於影像顯示機構12的位於觀察者側的外蓋層28，使用在此說明的光學向異性膜，對於虹彩不均的不可見化是有效的。
基材35的延遲，由虹彩不均的不可見化的觀點來看，以6000nm以上為佳。另一方面，基材35的延遲的上限雖沒有特定值，但以30000nm程度為佳。因為基材35的延遲超過30000nm的話，即使再提高延遲也見不到虹彩不均的改善效果，此外，基材35的厚度會有變厚的傾向。此外，由虹彩不均防止性以及薄膜化兩方的觀點來看，基材35的延遲以在10000~20000nm為更佳。
又，此處使用的延遲(Re)，由在基材35的面內折射率最大的方向(遲相軸方向)的折射率(nx)，與遲向軸正交的方向(進相軸方向)的折射率(ny)，以及基材35的厚度(d)，藉由下列之式(數式1)來表示。
延遲(Re)=(nx-ny)×d．．．(數式1)
此延遲之值，例如可以使用王子計測機器公司製造的KOBRA-WR，以測定角0度及測定波長548.2nm的條件進行測定。
前述nx-ny(以下、亦標示為△n)以0.05以上為佳。前述△n未滿0.05的話，無法得到充分的虹彩不均的抑制效果。又，為了得到前述延遲值之必要膜厚會變厚，所以不佳。前述△n之更佳的下限為0.07。
作為構成光學向異性的基材35的樹脂材料，只要是滿足前述延遲的條件者即可，沒有特別限制，例如可以適切的使用由聚酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氨基甲酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚碸(polysulfone)系樹脂、聚醚系樹脂、聚醚酮系樹脂、(甲基)丙烯腈系樹脂、及環烯烴系樹脂構成的群所選擇之一種。
作為得到光學向異性的基材35的方法，只要是可以滿足前述延遲的方法即可，沒有特別限定，例如基材35由聚酯膜構成的場合，可以舉出熔融聚酯材料，把壓出成形為薄片狀的未延伸聚酯在玻璃移轉溫度以上的溫度使用拉幅機等橫向延伸後，施以熱處理的方法。作為使以此方法製作的透明基材的延遲控制為6000nm以上的方法，可以舉出適當設定延伸倍率或延伸溫度、製作的透明基材的膜厚的方法。具體而言，例如，延伸倍率越高，延伸溫度越低，或者膜厚越厚，容易得到高的延遲，延伸倍率越低，延伸溫度越高，或者膜厚越薄，容易得到低的延遲。
作為基材35的厚度，可因應於其構成材料等而適當決定，以20~500μm之範圍內為佳。未滿20μm 的話，無法使基材35的延遲為6000nm以上，又，力學特性的向異性變得顯著，容易發生裂開或破斷等，作為工業材料之實用性會顯著降低。另一方面，超過500μm的話，基材非常剛直，高分子膜特有的柔軟性降低，終究作為工業材料的實用性降低所以不佳。前述基材的厚度之更佳的下限為30μm，更佳的上限為400μm，進而更加的上限為300μm。
進而，本案發明人反覆銳意研究，發現在與液晶顯示裝置所構成的影像顯示機構12之組合，以使觸控面板感測器30的光學向異性基材35的遲相軸，與影像顯示機構12的上偏光板18的吸收軸所構成的夾角，成為0°±30°或者90°±30°的範圍的方式，決定觸控面板感測器30與液晶顯示面板15的位置為較佳，0°±10°或者90°±10°的範圍為更佳，0°±7°或者90°±7°的範圍為又更佳，0°±3°或者90°±3°的範圍進而更佳，前述角度以成為0°或者90°的方式決定觸控面板感測器30與液晶顯示面板15的位置為佳。藉由使觸控面板感測器30的光學向異性基材35的遲相軸，與影像顯示機構12的上偏光板18的吸收軸所構成的夾角在前述範圍內，確認了可以極高地抑制虹彩不均的產生。
<電極40>
其次，說明設於基材35上的觸控面板感測器30的電極40。
如前所述，電極40，具有用於位置檢測的檢測電極50，與被連接於檢測電極50的取出電極45。
電極40由具有導電性的材料來形成，被導電連接於以檢測出外部導體5之往外蓋層28之接觸位置的方式構成的檢測部25的檢測電路。於圖3所示之例，電極40，具有被配置於基材35的主動區域Aa1的多數檢測電極50，與分別被連結於各檢測電極50被配置於基材35的非主動區域Aa2的多數取出電極45。
(檢測電極50的全體構成)
第1觸控面板感測器31的檢測電極50，係於第1觸控面板感測器31的基材35的一方之側(觀察者側)的面上以特定的圖案來配置。此外，第2觸控面板感測器32的檢測電極50，係在第2觸控面板感測器32的基材35之一方之側(觀察者側)的面上，以與第1觸控面板感測器31的檢測電極50不同的圖案來配置。更具體地說，如圖3所示，第1觸控面板感測器31的檢測電極50，巨觀地觀察的話，係被構成為沿著第1觸控面板感測器31的薄片面之一方向併排排列的線狀延伸的導線(導電體)。另一方面，第2觸控面板感測器32的檢測電極50，巨觀地觀察的話，被構成為沿著與前述一方向交叉的第2觸控面板感測器32的薄片面在其他方向併排排列的線狀延伸的導線(導電體)。在圖示之例，第1觸控面板感測器31的檢測電極50的排列方向之一方向，與第2觸控面板 感測器32的檢測電極50的排列方向之其他方向，於觸控面板裝置20的面板面上為正交。
如圖3所示，於第1觸控面板感測器31及第2觸控面板感測器32，構成電極40的檢測電極50之各個導線，在與其排列方向(前述一方向或前述其他方向)交叉的方向上線狀延伸。特別是於圖示之例，檢測電極50，沿著與其排列方向正交的直線方向延伸。
於圖3所示之例，電極40之各檢測電極50，具有使其長邊方向隔開間隔而排列的多數導電性網狀物55，以及連接相鄰的2個導電性網狀物55之間連接導線51。各檢測電極50，藉由導電性網狀物55以及連接導線51，直線狀延伸於主動區域Aa1內。如後述般，在導電性網狀物55，細導線60以區劃多數開口區域71的網狀圖案來配置。如圖3所示，各檢測電極50被配置的區域的寬幅，於設有導電性網狀物55的部分變粗。圖3所示的各檢測電極50，於導電性網狀物55，具有平面俯視約略正方形形狀的外輪廓。
如圖3所示，由往觸控面板裝置20的面板面的法線方向來觀察的場合(亦即，平面俯視)，第1觸控面板感測器31包含的各檢測電極50，與包含於第2觸控面板感測器32的多數檢測電極50交叉。接著，如圖3所示，第1觸控面板感測器31的導電性網狀物55，於檢測電極50上，被配置於與相鄰的2個第2觸控面板感測器32的檢測電極50之交叉點之間。同樣地，由往觸控面板 裝置20的面板面的法線方向來觀察的場合(亦即，平面俯視)，第2觸控面板感測器32包含的各檢測電極50，與包含於第1觸控面板感測器31的多數檢測電極50交叉。接著，第2觸控面板感測器32的導電性網狀物55，也於檢測電極50上，被配置於與相鄰的2個第1觸控面板感測器31的檢測電極50之交叉點之間。進而，於圖示之例，包含於第1觸控面板感測器31的檢測電極50的導電性網狀物55，與包含於第2觸控面板感測器32的檢測電極50的導電性網狀物55，由觸控面板裝置20的面板面之法線方向來觀察的場合(亦即，平面俯視)，係以不重疊的方式配置。總之，由觸控面板裝置20之往面板面的法線方向來觀察的場合(亦即，平面俯視)，第1觸控面板感測器31所含的檢測電極50與第2觸控面板感測器32所含的檢測電極50，僅於檢測電極50的連接導線51相交。
(導電性網狀物55)
導電性網狀物55，形成檢測電極50的擴大寬幅部分。藉此，可以感度佳地檢測出接觸於外蓋層28的具有某種程度寬度的區域內之外部導體5(例如手指)。另一方面，被設置檢測電極50的主動區域Aa1，位於影像顯示機構12的顯示區域A1上，所以必須具有某種程度的可見光透過性。在此，導電性網狀物55，藉由把使用高傳導率的金屬材料形成的細導線60，以網狀圖案配置，確 保可見光透過性。
如圖5所示，導電性網狀物55的細導線60，含有多數的分歧點72。接著，導電性網狀物55的細導線60，被構成為於兩端形成分歧點72的多數邊界線段73的集合。亦即，導電性網狀物55的細導線60，被構成為延伸於兩個分歧點72之間的多數邊界線段73的集合。接著，於分歧點72，藉由邊界線段73被連接，而區劃出開口區域71。換句話說，以邊界線段73圍繞、區劃的1個開口區域71被區劃出來。
又，如圖5所示，在此處說明之例，細導線60僅由邊界線段73構成，所以不存在延伸進入開口區域71內部的細導線60。根據這樣的態樣的話，可以有效果地實現同時對觸控面板感測器30賦予充分的位置檢測感度與高的可見光透過率。
(導電性網狀物55的網狀圖案)
然而，在與觸控面板感測器30重疊配置的影像顯示機構12的顯示區域A1，供形成影像之用的畫素被規則排列。亦即，在具有畫素配列的影像顯示機構12層積具有導電性網狀物55的觸控面板感測器30的話，會有畫素的規則(週期性)圖案與導電性網狀物55的開口區域71的配列圖案導致的帶紋狀的模樣，亦即波紋被視覺確認到的可能性。而且，也有起因於開口區域71的密度不一致之濃淡的不均被視覺確認到的可能性。作為波紋或濃淡不均 的不可見化對策，已知有種種方法，可以適當適用已知的手法於導電性網狀物55。
另一方面，本案發明人等，反覆銳意研究的結果，發現了藉由在導電性網狀物55之細導線60的排列圖案下功夫，可以極有效果地使波紋變得不醒目，同時可以極有效果地使濃淡不均變得不醒目。以下，說明導電性網狀物55之細導線60的平面俯視之排列圖案。
圖5~圖8係供說明導電性網狀物55之網狀圖案之一例之圖。在圖示的導電性網狀物55，為了防止波紋的發生，使開口區域71不存在以具有反覆規則性(週期性)的間距排列的直線方向。本案發明人，反覆銳意研究的結果，發現了不僅使導電性網狀物55的圖案不規則化，而且以導電性網狀物55的開口區域71不存在著以一定的間距排列的方向的方式區劃導電性網狀物55的圖案，對於要使具有導電性網狀物55的觸控面板感測器30與具有畫素配列的影像顯示機構12重疊時會產生的波紋，或者是重疊2枚具有導電性網狀物55的觸控面板感測器30時所會產生的波紋變得不醒目是極為有效的。
此處，圖6係供說明開口區域71不存在以一定的間距排列的方向的狀態，換句話說，是開口區域71不存在被規則排列的方向的狀態，進而換句話說，是開口區域71不存在具有規則性而排列的方向的狀態之圖。於圖6，在觸控面板感測器30的薄片面上，選擇在任意位置朝向任意的方向之一條假想的直線di。此一條直線di， 與構成細導線60的邊界線段73交叉而形成交叉點。將此交叉點，在圖式由圖面左下之側起依序圖示為交叉點C1，C2，C3，‧‧‧‧‧，C9。鄰接的交叉點，例如交叉點C1與交叉點C2的距離，為前述某一個開口區域71的直線di上的尺寸T1。其次，對具有尺寸T1的開口區域71沿著直線di鄰接的其他的開口區域71，也同樣決定在直線di上的尺寸T2。接著，針對在任意位置任意方向的直線di，由與直線di交叉的邊界線段73起，與在任意位置任意方向的直線di遭遇的多數開口區域71，該直線di上之尺寸定為T1，T2，T3，‧‧‧‧‧‧，T8。
接著，於T1，T2，T3，‧‧‧‧‧‧，T8之數值的排列，不存在週期性(規則性)。亦即，開口區域71，以沿著直線方向di不具有規則性的方式排列，滿足Tk≠Tk+1(k：任意的自然數、1：任意的自然數)‧‧‧條件式(x)。又，在圖6，此T1，T2，T3，‧‧‧‧‧‧，T8，係以容易分辨的方式於圖式下方，與直線di一起而與導電性網狀物55分離描繪。
此外，針對使此直線di由圖6所示者旋轉任意的角度而朝向其他方向的假想直線di+1求出各開口區域A的尺寸T1，T2，‧‧的話，終究與圖6所圖示的場合同樣，對於直線di+1方向，也滿足條件式(x)，於開口區 域的尺寸T1，T2，‧‧未見反覆週期性(規則性)。如此，開口區域71於任一方向均滿足條件式(x)的場合，表現為開口區域71不存在著以一定的間距排列的方向，或者是開口區域規則排列的方向並不存在，或者是開口區域71具有反覆周期的方向不存在，或者開口區域的排列不具有週期性。
一般而言，使導電性網狀物的圖案不規則化，應該是對於波紋的不可見化有效。然而，根據本案發明人等的研究，僅僅使導電性網狀物的圖案的形狀及排列間距不規則化，也無法總是使波紋變成充分地不醒目。此外，即使可以使波紋變得不醒目，於導電性網狀物還是會發生濃淡不均。
另一方面，如在此說明的導電性網狀物55的平面圖案那樣，以開口區域71(閉電路)不存在以一定的間距排列的直線方向的方式構成導電性網狀物55，而且，如下所述對於由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目平均課以限制條件的話，可以有效果地防止波紋的發生，，同時可以有效果地防止濃淡不均的發生。這樣的作用效果，由僅實施圖案的不規則化以使波紋不可見化的從前的技術水準來說，可以說是具有超過預測的範圍之顯著效果。
圖5及圖7所示的觸控面板感測器30之導電性網狀物55，由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目平均為3.0以上而未滿4.0。如此般由一個分歧點72 延伸出的邊界線段73的數目平均為3.0以上而未滿4.0的場合，可以使導電性網狀物55的排列圖案，成為大不相同於正方格子排列的圖案。此外，由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目平均為3.0以上而未滿4.0的場合，可以由蜂巢排列搞亂規則性的圖案。接著，本案發明人等反覆銳意研究時，確認了由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目平均為3.0以上而未滿4.0的場合，使開口區域71的排列不規則化，開口區域71具有反覆規則性(週期性)而排列的方向不安定存在會成為可能，結果，可以極有效果地使波紋變得不醒目。
此外，根據對由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目的平均課以限制條件，也可以防止濃淡不均變得醒目。可以防止濃淡不均的理由細節仍為不明，但應該是藉由對從一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目平均課以限制條件，使開口區域71的平面內之分散在某個程度被均勻化的緣故。
又，由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目的平均，嚴格來說，應該要針對導電性網狀物55內所含有的所有分歧點72，調查延伸出的邊界線段73的數目算出其平均值，但是，實際上，考慮藉由細導線60區劃的每一個開口區域71的大小之後，針對具有可以期待反映出由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目的全體的傾向的面積之一個區劃所含的分歧點72，算出其平均值，把算出之值作為針對該導電性網狀物之由一個分 歧點72所延伸出的邊界線段73的數目的平均值來對待亦可。例如，只要是被形成於觸控面板感測器30的主動區域Aa1的導電性網狀物55的話，開口區域71的開口面積，與直徑100μm~600μm之圓的面積為相同。在以這樣的尺寸區劃開口區域71的觸控面板感測器30的導電性網狀物55，考慮包含於30mm×30mm的區域內的分歧點72，可以做為由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目的平均值來對待。
同樣地，對於開口區域71是否存在著以一定的間距排列的方向，嚴密來說，要在對向的導電性網狀物55的全區域內調查任意方向之開口區域71的排列。但是實際上，於具有被期待可反映出開口區域71的排列的全體傾向的面積之一個區劃(例如在前述尺寸例被形成開口區域71的導電性網狀物55，為30mm×30mm之部分)，通過其中心之一點同時以被期待反映針對所有方向的週期性的傾向的程度之角度來等分的各方向(例如，在前述的尺寸例，於被形成開口區域71的導電性網狀物55係每隔15°之方向)，調查開口區域71的排列，判斷開口區域71是否存在著規則排列的方向即可。
在圖5所示的觸控面板感測器30之導電性網狀物55，由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目平均為比3.0大而未滿4.0。進而，具體而言，針對387個分歧點72確認了邊界線段73的數目，發現由3個邊界線段73延伸出的分歧點72存在373個，其他14個分歧 點72延伸出4條邊界線段73，由一個分歧點72延伸出的邊界線段數目(平均分其數目)為3.04個。接著，實際製作圖5所示的導電性網狀物55而配置於市售的液晶顯示裝置的畫素配列上的場合，不發生可以視覺確認到的程度的條紋模樣，亦即不發生波紋(干涉條紋)以及濃淡不均。
此外，本案發明人等針對種種導電性網狀物55的圖案進行調查時，發現在滿足以下的條件(A)、(B)及(C)之中的一個以上的條件的場合，可以使濃淡不均及波紋雙方更不醒目。
．條件(A)：藉由6條邊界線段73包圍周圍的開口區域71含有最多。亦即，藉由6條邊界線段73包圍住周圍的開口區域71，比起藉由其他數目的邊界線段73包圍住周圍的開口區域71更多地包含於導電性網狀物55。
．條件(B)：滿足下個條件(b1)。較佳者為滿足下個條件(b1)、與條件(b2)及(b3)之一方。更佳者為滿足下個條件(b1)、(b2)及(b3)之全部。
(b1)藉由5條邊界線段73包圍周圍的開口區域71，藉由6條邊界線段73包圍周圍的開口區域71以及藉由7條邊界線段73包圍周圍的開口區域71之中的至少2種，分別有複數包含於導電性網狀物55。
(b2)5條、6條或7條之中地藉由同一條數的邊界線段73包圍周圍的複數開口區域71的面積及形狀之至少 一方不是一定值。亦即，含有藉由5條邊界線段73包圍周圍的複數開口區域71的場合，藉由該5條邊界線段73區劃的複數開口區域71之至少2個在面積及形狀之至少一方為互異，而且含有藉由6條邊界線段73包圍周圍的複數開口區域71的場合，藉由該6條邊界線段73區劃的複數開口區域71之至少2個在面積及形狀之至少一方為互異，而且含有藉由7條邊界線段73包圍周圍的複數開口區域71的場合，藉由該7條邊界線段73區劃的複數開口區域71之至少2個在面積及形狀之至少一方為互異。
(b3)藉由6條邊界線段73包圍周圍的開口區域71包含複數個。
．條件(C)：藉由k條邊界線段73包圍周圍的開口區域71的數目為Nk，滿足k為滿足3≦k≦5的整數的場合，為Nk≦Nk+1 k為滿足6≦k的整數的場合，為Nk≧Nk+1。亦即，藉由6條邊界線段73包圍周圍的開口區域71包含最多，包圍開口區域71的邊界線段73的數目由6條構成的最多，而且包圍開口區域71的邊界線段73的數目隨著比6條還少，開口區域71的數量變少。
又，是否滿足各條件(A)~(C)，嚴格來說要針對導電性網狀物55內所包含的所有開口區域71進行調查。但是實際上，考慮到藉由細導線60區劃的每一個開口區域71的大小等，針對被包含於可被期待反映出包圍一個開口區域71的邊界線段73的數目的全體傾向的 面積之一個區劃(例如，在前述尺寸例，於被形成開口區域71的導電性網狀物55，為30mm×30mm的部分)所包含的開口區域71來調查包圍的邊界線段73的數目，判斷是否滿足各條件(A)~(C)即可。
藉由滿足前述條件(A)~(C)之一個以上的導電性網狀物55所發揮的作用效果，由僅實施圖案的不規則化以使波紋不可見化的從前的技術水準來看，可說是具有超過可預測的範圍之顯著的效果。接著，雖然藉由滿足條近(A)~(C)之一個以上的導電性網狀物55所可得到這樣的作用效果的理由細節仍然不明，但可推測以下所述為其理由。但是，本發明並不限定於以下的推測。
在滿足條件(A)~(C)之一個以上的導電性網狀物，開口區域71的排列，可以說是由規則配置相同形狀的正六角形構成的蜂巢排列，弄亂各開口區域的形狀及配置的規則性之排列，換句話說，可以是以蜂巢排列為基準而使各開口區域的形狀及配置隨機化之排列。推測藉此，可以抑制在開口區域71的排列產生明顯的疏密，使多數的開口區域71大致為均勻的密度，亦即為大致一樣地分布。結果，可以使開口區域71的排列完全不規則化，亦即，推測可以安定地得到開口區域71不存在著被規則排列的方向，與僅僅開口區域的排列不規則化的場合相比，可以有效果地使濃淡不均以及波紋雙方都變得不醒目。
作為本案發明人等進行的實驗之一例，針對 圖7所示的圖案的導電性網狀物55進行調查時，如圖8所示，於此導電性網狀物55，藉由4條、5條、6條、7條、8條、9條邊界線段73包圍的開口區域71分別包含79個、1141個、2382個、927個、94個、8個。此外，於此導電性網狀物55，未含有藉由3條邊界線段包圍的開口區域，以及藉由10條以上的邊界線段73包圍的開口區域71。亦即，圖7所示的導電性網狀物55，滿足條件(A)、(B)及(C)之全部。進而，在圖7所示的導電性網狀物55，不存在開口區域71以一定的間距排列的方向，而且由一個分歧點延伸出的邊界線段的數目的平均為3.0以上而未滿4.0。又，於以上，邊界線段73係由直線的線段所構成的場合，藉由N條邊界線段73所包圍的開口區域71的形狀為N角形。接著，實際製作圖7所示的導電性網狀物55而配置於影像顯示機構12的畫素配列上的場合，不發生可以視覺確認到的程度的條紋模樣，亦即不發生波紋(干涉條紋)以及濃淡不均。
此處，製作由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目的平均比3.0大而未滿4.0且開口區域71以一定的間距排列的直線方向並不存在的導電性網狀物的圖案的方法之一例說明如下。
以下所說明的方法，具有決定母點的步驟，由被決定的母點製作Voronoi圖的步驟，決定藉由Voronoi圖之一個Voronoi邊界而連結的2個Voronoi點之間延伸的邊界線段的路徑的步驟，以及決定被決定的路 徑的粗細而劃定各邊界線段而決定導電性網狀物55(細導線60)的網狀圖案的步驟。以下，依序說明各步驟。又，前述之圖5所示的導電性網狀物55的網狀圖案，實際上係以如下所說明的方法來決定的圖案。此外，圖7所示的導電性網狀物55的網狀圖案，也能夠以如下說明的方法來決定。
首先，說明決定母點的步驟。首先，如圖9所示，於絕對坐標系O-X-Y之任意位置配置一個母點(以下，稱為「第1母點」)BP1。其次，如圖10所示，在由第1母點BP1離開距離r的任意位置配置第2母點BP2。換句話說，以第1母點BP1為中心在位於絕對座標O-X-Y上的半徑r的圓周(以下，稱為「第1圓周」)上的任意位置，配置第2母點BP2。其次，如圖11所示，在由第1母點BP1離開僅距離r且離開第2母點BP2距離r以上的任意的位置，配置第3母點BP3。其後，在離開第1母點BP1僅距離r且離開其他母點BP2、BP3距離r以上的任意位置，配置第4母點。
如此進行，直到無法配置次一個母點為止，在離開第1母點BP1僅距離r而且離開其他母點距離r以上的任意位置逐漸配置母點。此後，以第2母點BP2為基準繼續進行此作業。亦即，在離開第2母點BP2僅距離r而且離開其他母點距離r以上的任意位置，配置下一個母點。以第2母點BP2為基準，直到無法配置次一個母點為止，在離開第2母點BP2僅距離r而且離開其他母點距離 r以上的任意位置逐漸配置母點。此後，依序改變成為基準的母點，以同樣的順序逐漸形成母點。
以如上的步驟，直到在應被形成導電性網狀物55的區域內變得無法配置母點為止，逐個配置母點。在應被形成導電性網狀物55的區域內變得無法配置母點時，結束製作母點的步驟。藉由到此為止的處理，於2次元平面(XY平面)被不規則地配置的母點群，在應被形成導電性網狀物55的區域內成為一樣地分散的狀態。
針對在這樣的步驟被分布於2次元平面(XY平面)內的母點群BP1、BP2、‧‧、BP6(參照圖12(A))，各個母點間的距離具有並非一定的分布。但是，任意的鄰接的2母點間的距離分布也不是完全隨機分布(一樣分布)，而是夾著平均值RAVG分布在上限值RMAX與下限值RMIN之間的範圍△R=RMAX-RMIN之中。又，在此處，鄰接的2母點，由母點群BP1、BP2、‧‧製作後述的Voronoi圖之後，在2個Voronoi區域XA鄰接的場合，定義該2個Voronoi區域XA的母點彼此為鄰接。
亦即，對於此處說明的母點群，係在以各母點為原點的坐標系(稱為相對坐標系o-x-y，另一方面，現實的規定2次元平面的座標系稱為絕對坐標系O-X-Y)上，針對所有母點求出描繪置於原點的母點與鄰接的所有母點之圖12(B)、圖12(C)、．．．等之圖。接著，把這些全部的相對坐標系上的鄰接母點群之圖，重疊顯示 於各相對坐標系的原點o時，得到如圖12(D)之圖。在這樣的相對坐標系上的鄰接母點群的分布圖案，並不是構成母點群的任意的鄰接2母點間的距離由0至無限大為止之一樣分布，而是意味著分布於由RAVG-△R到RAVG+△R為止的有限範圍(由半徑RMIN至RMAX為止的甜甜圈形區域)內。又，於圖12(A)，為了參考以虛線圖示由這些母點群所得到的Voronoi邊界(參照圖13)。
藉由如此設定各母點間的距離，由該母點群以如下所說明的方法得到的Voronoi區域XA，金而由此得到的開口區域71的面積分布，也不是一樣的分布(完全隨機)，而是分布於有限的範圍內。
又，於以上之決定母點的步驟，藉由改變距離r的大小，可以調節平均一個開口區域71的大小。具體而言，藉由減少距離r的大小，可以縮小平均一個開口區域71的大小，相反地藉由增大距離r的大小，可以增大平均一個開口區域71的大小。
其次，如圖13所示，以被配置的母點為基準，製作Voronoi圖。如圖13所示，所謂Voronoi圖，係於鄰接的2個母點間拉出垂直二等分線，以各該垂直二等分線彼此的交點所連接的線段構成的圖。此處，把垂直二等分線的線段稱為Voronoi邊界XB，構成Voronoi邊界XB的端部的Voronoi邊界XB彼此的交點稱為Voronoi點XP，為Voronoi邊界XB所包圍的區域稱為Voronoi區域XA。
於如圖13那樣製作的Voronoi圖，各Voronoi點XP，構成導電性網狀物55的分歧點72。接著，構成一個Voronoi邊界XB的端部的2個Voronoi點XP之間，設有一個邊界線段73。此時，邊界線段73，如圖5所示的的例子那樣以在2個Voronoi點XP之間直線狀延伸的方式決定亦可，或者是在不與其他邊界線段73接觸的範圍在2個Voronoi點XP之幾種種路徑(例如圓(弧)、橢圓(弧)、拋物線、雙曲線、正弦曲線、雙曲線正弦曲線、橢圓函數曲線、貝賽爾函數曲線等曲線狀、折線狀等的路徑)延伸亦可。又，邊界線段73，如圖5所示的例那樣以在2個Voronoi點XP之間直線帳延伸的方式決定的場合，各Voronoi邊界XB成為區劃出邊界線段73。
決定各邊界線段73的路徑之後，決定各邊界線段73的線寬幅(粗細)。邊界線段73的線寬幅，由於後述的理由以0.2μm~2μm為較佳。亦即，導電性網狀物55以呈現所要的可見光透過率及面電阻率的方式決定為較佳。如以上所述進行，可以決定導電性網狀物55的圖案。
(取出電極45)
其次，說明取出電極45。如前所述，電極40，具有被連結於這樣的檢測電極50之取出電極45。取出電極45，對於檢測電極50之各個，因應於接觸位置的檢測方 法設有一個或二個。各取出電極45，具有被連接於對應的導出電極50的連接導線51或者被連接於導電性網狀物55的細導線60之取出導線46。取出電極45，如稍後所述，於厚度方向至少一部分，係由與檢測電極50相同的材料一體形成的。取出電極45，使基材35的非主動區域Aa2內，由對應的取出電極50延伸至基材35的端緣為止。取出電極45，以其端部，透過未圖示的外部接續配線(例如，FPC)，被連接於檢測控制部25。
(電極40的剖面形狀)
其次，說明電極40的剖面形狀。圖4係於沿著厚度方向的剖面，顯示觸控面板感測器30。此處所謂的厚度方向，係指由薄片狀(膜狀、板狀、面板狀)所構成的觸控面板感測器30的沿著往薄片面(膜面、板面、面板面)的法線方向之剖面。此外，所謂薄片面(膜面、板面、面板面)，係指由整體而且由大局來看對象之薄片狀(膜狀、板狀、面板狀)構件的場合下與成為對象的薄片狀構件之平面方向一致之面。接著，於本實施型態，基材35具有具一對主表面的薄片狀的形狀。亦即，在本實施型態，所謂沿著厚度方向的剖面，與沿著往基材35的表面之法線方向的剖面一致。
圖4顯示導電性網狀物55的細導線60的剖面形狀，但檢測電極50的連接導線51也僅有寬幅不同，具有與細導線60同樣的剖面形狀。亦即，如圖4所示， 構成檢測電極50的細導線60及連接導線51，具有位於基材35側的基端面66，對向於基端面66而配置的平坦的先端面67，以及連接基端面66與先端面67之間的一對側面68。接著於圖4所示之例，基端面66與先端面67為相互平行。接著，於圖4所示之例，細導線60及連接導線51，具有位於基材35側形成基端面66的金屬層61，及設於金屬層61上形成先端面67的黑化層62。在連接導線51與導電性網狀物55的細導線60之間，金屬層61被一體地形成，且黑化層62也被一體地形成。
此處，金屬層61係使用具有高導電率的金屬材料形成之層，例如由銅、鋁、鐵、銀、及這些的合金所構成之層。然而，由金屬材料構成的金屬層61，呈現比較高的反射率。亦即，藉由構成觸控面板感測器30的檢測電極50的金屬層61來反射外光的話，會使透過觸控面板裝置20的主動區域Aa1觀察到的影像顯示機構12的影像對比降低。在此，黑化層62被配置於金屬層61的觀察者側。藉由此黑化層62，可以提高對比，改善藉由影像顯示機構12顯示的影像的視覺確認性。
作為黑化層62，可以使用種種已知之層。亦可將金屬層61部分進行黑化處理，由金屬層61的一部分形成由金屬氧化物或金屬硫化物構成的黑化層62亦可。此外，如黑色材料的塗膜，或者鎳或鉻等的鍍層等那樣，在金屬層61上設黑化層62亦可。作為一具體例，金屬層61由鐵構成的場合，使金屬層61在450~470℃程度的蒸 汽氛圍中暴露10~20分鐘，於金屬層61的表面形成1~2μm程度的氧化膜(黑化膜)亦可。作為其他方法，亦可把鐵所構成的金屬層61以濃硝酸等進行藥品處理，在金屬層61的表面形成氧化膜(黑化膜)。此外，金屬層61由銅所構成的場合，以在硫酸、硫酸銅及硫酸鈷等構成的電解液中，把金屬層61進行陰極電解處理，使陽離子性離子附著之陰極電沉積為佳。藉由設該陽離子性粒子而粗化，同時可得黑色。作為陽離子性粒子，可適用銅粒子、銅與其他金屬之合金粒子，較佳為銅-鈷合金之粒子。該陽離子性粒子的粒徑，由黑濃度的觀點來看，以平均粒徑0.1~1μm程度為佳。又，在此使用的黑化層62，不僅是被黑色化之層，也包含被粗化之層。
又，取出電極45的取出導線46，也可以具有與圖4所示的檢測電極50的細導線60或連接導線51同樣的剖面形狀。亦即，取出電極45的取出導線46，具有位於基材35側的基端面66，對向於基端面66而配置的平坦的先端面67，以及連接基端面66與先端面67之間的一對側面68。如圖4所示，取出導線46的基端面66與先端面67亦可為相互平行。此外，取出電極45的取出導線46，於厚度方向的剖面，含有金屬層61。接著，在取出電極45與檢測電極50之間，金屬層61被一體地形成。亦即，電極40，於任意的厚度方向剖面包含佔有其至少一部份的金屬層61。
另一方面，取出電極45，被配置於對面於影 像顯示機構12的非顯示區域A2的非主動區域Aa2內。亦即，取出電極45的取出導線46，沒有必要具有黑化層62。但是，為了避免黑化層62的圖案化等的繁雜，取出電極45的取出導線46，亦可與檢測電極50同樣具有黑化層62。在此場合，在取出電極45與檢測電極50之間，黑化層62被一體地形成。
又，於圖示之例，電極40係以具有金屬層61與黑化層62的方式構成的，但不限於此，除了黑化層62以外，或者替代黑化層62，而於金屬層61層積其他之層亦可。作為應被層積於金屬層61的其他層，例如可舉防銹層為例。
於這樣的構成所構成的電極40，構成圖4所示的導電性網狀物55的細導線60的寬幅(最大寬幅)W，亦即由薄片狀所構成的觸控面板感測器30的沿著薄片面之寬幅(最大寬幅)W為1μm以上5μm以下，且構成圖4所示的導電性網狀物55的導線60的高度(厚度)H，亦即，由薄片狀所構成的觸控面板感測器30之沿著往薄片面的法線方向之高度(厚度)H設為0.2μm以上2μm以下為較佳。根據這樣的尺寸的導電性網狀物55的話，細導線60被充分細線化，所以可使電極40極為有效的不可見化。同時，於剖面形狀成為平行的基端面66及先端面67之間的高度變得充分高，亦即，細導線60之剖面形狀的長寬比(H/W)變成充分大，具有高的導電性。結果，可以使導電性網狀物55之面電阻率成為50Ω/ □以下，進而更佳者為20Ω/□以下。
亦即，根據具有這樣的剖面尺寸的細導線60的話，可以使觸控面板感測器30的電極40維持低電阻，同時使構成該電極40的細導線60細線化。根據細線化的細導線60，於與被高精細化的畫素之組合，或者是與被稱為平板電腦的可攜終端的短間距配列的畫素之組合，也可以充分使檢測電極50不可見化，同時可發揮高的檢測精度。
又，由薄片狀構成的觸控面板感測器30之沿著薄片面的寬幅W，由電極40的不可見化的觀點來看，以5.0μm以下為佳，3.5μm以下進而更佳，由使面電阻率降低的觀點來看，以1μm以上為佳，2μm以上為更佳。此外，由薄片狀構成的觸控面板感測器30之沿著往薄片面的法線方向之高度(厚度)H，由使電極40的製造精度安定的觀點來看，以2.0μm以下為佳，1.5μm以下進而更佳，由降低面電阻率的觀點來看，以0.1μm以上為佳，0.5μm以上又更佳。而且由確保在此說明的作用效果的觀點來看，細導線60的剖面形狀的長寬比(H/W)以0.04以上2.00以下為佳，0.67以上7.00以下又更佳。
又，圖4所示的細導線60的剖面形狀，為錐形狀，在先端面67的寬幅W2比在基端面66的寬幅W1更窄。特別是在圖示之例，細導線60的寬幅，由基端面66之側朝向先端面67之側，換句話說是朝向觀察者側僅 僅變窄的方式變化。進而詳言之，在圖示之例，細導線60的寬幅，由基端面66之側朝向先端面67之側，換句話說是朝向觀察者側持續變窄。如圖2所示，使先端面67朝向觀察者側，觸控面板感測器30被組入顯示裝置10及觸控面板裝置20的場合，藉由在露出於側面68的金屬層61之外光反射，會有使藉由影像顯示機構12顯示的影像的對比降低的可能性。因此，在基端面66的寬幅W1與在先端面67的寬幅W2的差(W1-W2)，以1.0μm以下為佳，0.5μm以下為更佳。
作為一例如稍後所述，藉由利用光蝕刻技術之圖案化來製作細導線60的場合，根據蝕刻的浸蝕，不僅在深度方向(厚度方向)上進行也會在橫方向(面方向)進行。藉由此側蝕刻現象，可能使細導線60的剖面形成，成為圖4所示的錐狀。
另一方面，根據後述的觸控面板感測器30的製造方法，檢測電極50的連接導線51的高度及取出電極45的取出導線46的高度，成為與檢測電極50的導電性網狀物55的細導線60的高度相同。在此場合，可以使檢測電極50的連接導線的寬幅為5.0μm以上，使取出電極45的取出導線46的寬幅為5.0μm以上。
(觸控面板感測器30的製造方法)
其次，針對以上說明的觸控面板感測器30的製造方法之一例，主要參照圖14同時進行說明。
首先，如圖14(a)所示，準備基材35。如前所述，可以把玻璃或樹脂膜作為基材35使用。但是，作為基材35，在使用具有光學向異性的樹脂膜的場合，由使虹彩不均變得不醒目的觀點來看，以把該樹脂膜的延遲Re先調節為前述之值為較佳。
其次，如圖14(b)所示，以構成電極40的金屬層61的方式把金屬膜81形成於基材35上。金屬膜81，並不是由中介著接著劑層而把銅箔等金屬箔層疊於基材者來形成的，而是不中介接著劑層直接形成於基材35。亦即，不是把可入手的具有特定厚度的金屬箔層積於基材35上，而是在基材35上形成具有所要的厚度的金屬膜81。作為金屬膜81的形成方法，可以採用濺鍍、蒸鍍、電解電鍍、無電解電鍍等種種方法。
如前所述，使電極40的高度(厚度)H為0.2~2μm，因此要以0.2~2μm的厚度形成金屬膜81的話，以採用蒸鍍為較佳。根據蒸鍍，可以在比較短的時間廉價地製造0.2~2μm厚度的金屬膜81，特別是0.5μm以上厚度的金屬膜81。此外，作為其他方法，以濺鍍及其他方法，例如以包含濺鍍與電解電鍍的複數步驟，來形成金屬膜81也是有效的。根據濺鍍的話，可以形成密接性優異的下底層，而且藉由其後的電解電鍍，可以比較迅速地把金屬膜81的厚度增加到所要的厚度。
其後，如圖14(c)所示，把構成電極40的黑化層62之黑化膜82形成於金屬膜81上。如已經說明 的，把金屬膜81的表層部分黑化處理，在金屬膜81的一部分形成由金屬氧化物或金屬硫化物所構成的黑化膜82亦可。此外，如黑色材料的塗膜，或者鎳或鉻等的鍍層那樣，在金屬膜81上設黑化膜82亦可。
其次，藉由使用光蝕刻技術之圖案化，把基材35上的金屬膜81及黑化膜82以所要的圖案進行圖案化。具體而言，首先在黑化膜82上設光阻膜83，圖案曝光及顯影該光阻膜83而進行圖案化(圖14(d))。其次，把被圖案化的光阻膜83作為遮罩，蝕刻黑化膜82及金屬膜81。藉此，由黑化膜82形成黑化層62，由金屬膜81形成金屬層61。如此進行，於基材35上，包含金屬層61及黑化層62而構成的電極40，以所要的圖案形成(圖14(e))。
其後，藉由除去電及40上的光阻膜83，得到觸控面板感測器30。根據如以上所述的製造方法，可以一體地以同一個製程來製造由金屬層61及黑化層62所構成的檢測電極50，以及同樣由金屬層61及黑化層62所構成的取出電極45，在生產效率上較佳。
此外，在以上的方法，被蝕刻的金屬膜81及黑化層62的厚度，可以是與應該製作的電極40的厚度為相同厚度，例如為0.2μm以上2μm以下。接著，蝕刻此厚度的金屬膜81及黑化層62的場合，可以不引起大的側蝕刻，而製作1μm~5μm程度之細線化的電極40。亦即，對於應被形成的細導線60的線寬幅，金屬膜81及黑 化膜62的厚度不會太厚。藉此，與使用參照圖21說明的金屬箔的場合相比，根據蝕刻之浸蝕處所，不會在光阻膜的下方連接上。藉此，可以安定而且精度佳的製作細線化的電極40(細導線60)。而且，藉由對於應被形成的細導線60的線寬幅，設定為金屬膜81及黑化層62之適切的厚度，可以使形成的細導線60的厚度方向上的剖面形狀成為所要的形狀，例如可以是具有所要的長寬比的形狀。
又，此處說明的觸控面板感測器30的製造方法，僅為一例而已，可進行種種變更。例如，使黑化膜82僅形成於主動區域Aa1內亦可，或者是，亦可進而設置除去所製作的非主動區域Aa2內的黑化層62，特別是黑化層62中之與FPC等外部配線連接的部份的步驟。進而，圖案化金屬膜81形成電極40的金屬層61之後，於該金屬層61上製作黑化層62亦可。
<<<作用效果>>>
根據如上所述的本實施型態，檢測電極50包含以細導線60區劃多數的開口區域71之網狀圖案來配置的導電性網狀物55。此導電性網狀物55的細導線60的高度為0.2μm以上2μm以下，細導線60的寬幅W為1μm以上5μm以下。接著，導電性網狀物55的細導線60，具有位於基材35側的基端面66，對向於基端面66而配置的平坦的先端面67，以及連接基端面66與先端面67之 間的一對側面68。根據具有這樣的剖面尺寸及形狀的細導線60的話，可以使觸控面板感測器30的電極40維持低電阻，同時使構成該電極40的細導線60細線化。根據細線化的細導線60，於與被高精細化的畫素之組合，或者是與被稱為平板電腦的可攜終端的短間距配列的畫素之組合，也可以充分使檢測電極50不可見化，同時可發揮高的位置檢測精度。
此外，於前述之實施型態，以基材35具有面內之複折射性，而且，基材35的延遲Re為6000nm以上為較佳。在此場合，即使來自影像顯示機構12的影像光為特定的偏光成分，也可以有效果地使虹彩不均變得不醒目。
進而，於前述之實施型態，構成導電性網狀物55的細導線60，由延伸於二個分歧點72之間而區劃開口區域71的多數邊界線段73來形成，由一個分歧點72延伸出的邊界線段73的數目的平均為3.0以上未滿4.0，而且，開口區域71以一定的間距，亦即以一定的反覆間距排列之方向並不存在。此結果，可以有效果地使與規則地(週期地)排列畫素P的影像顯示機構12重疊時之波紋，或者是與其他的觸控面板感測器30重疊時之波紋變得不醒目。此外，同時也可以使導電性網狀物55內之濃淡不均也有效果地變成不醒目。
進而，於前述之實施型態，構成導電性網狀物55的細導線60，由延伸於2個分歧點72間而區劃開 口區域71的多數之邊界線段73來形成，包含於導電性網狀物55的開口區域71之中，由6條邊界線段73包圍周圍的開口區域71為最多。此結果，可以有效果地使與規則地(週期地)排列畫素P的影像顯示機構12重疊時之波紋，以及與其他的觸控面板感測器30重疊時之波紋變得不醒目。此外，同時也可以使導電性網狀物55內之濃淡不均也有效果地變成不醒目。
<<<變形例>>>
又，對於前述之實施型態可以再加上種種變更。以下，參照圖面同時說明變形之一例。在以下之說明以及以下的說明所使用的圖式，對於與前述實施型態同樣構成的部分，使用與前述實施型態之對應部分使用的符號相同之符號，省略重複的說明。
在前述之實施型態之第1觸控面板感測器31及第2觸控面板感測器32，如圖2及圖4所清楚顯示的，顯示在基材35的觀察者側之面，被形成電極40之例。然而，於第1觸控面板感測器31及第2觸控面板感測器32之一個以上，在基材35的影像顯示機構12側之面，被形成電極40亦可。
於圖15所示之例，於第1觸控面板感測器31及第2觸控面板感測器32雙方，電極40係設於基材35之影像顯示機構12側之面。在圖15所示之例，觸控面板裝置20的層積體20a，由觀察者側，亦即由與影像顯示 機構12的相反側起，依序具有外蓋層28、接著層25、第1觸控面板感測器31、接著層24、第2觸控面板感測器32、接著層26、支撐層27、以及低折射率層23。
圖16係顯示可被組入圖15的觸控面板裝置20的觸控面板感測器30之一例。圖16所示的觸控面板感測器30，具有基材35，與設於基材35上的電極40。電極40，具有位於基材35側而形成基端面66的黑化層62，與設於黑化層62上而形成先端面67的金屬層61。亦即，在圖16所示之例，也與前述實施型態同樣，把黑化層62配置於金屬層61之觀察者側。圖16所示的電極40，在往基材35上之金屬層61與黑化層62之層積順序不同這一點，與前述的實施型態的電極40有所不同，其他點與前述之實施型態之電極40為相同的構成。又，圖16所示的黑化層62及金屬層61，可根據前述之種種方法來製作。作為一例，可以由在基材35上藉由濺鍍成膜的鎳或鉻來製作黑化層62，或者可以由具有被塗布於基材35上的染料或顏料等的塗膜來製作黑化層62。
此外，於前述之實施型態，顯示了沿著電極40的厚度方向的剖面形狀，特別是構成導電性網狀物55的細導線60的沿厚度方向的剖面形狀，係由基端面66側朝向先端面67側形成為逐漸變細的錐狀之例，但是不以此為限。例如，如圖17所示，於電極40，特別是細導線60的剖面形狀，在先端面67的寬幅W2比在基端面66的寬幅W1更寬亦可。特別是在圖17所示之例，細導線60 的寬幅，由先端面67之側朝向基端面66之側，換句話說是朝向影像顯示機構12側僅僅變窄的方式變化。進而詳言之，在圖17所示之例，細導線60的寬幅，由先端面67之側朝向基端面66之側，換句話說是朝向影像顯示機構12側持續變窄。如圖17所示，使先端面67朝向觀察者側，把觸控面板感測器30組入顯示裝置10及觸控面板裝置20的場合，藉由被配置於比金屬層61更靠近觀察者側的黑化層62，可以使金屬層61更不容易被看見。藉此，可以提高對比，改善藉由影像顯示機構12顯示的影像的視覺確認性。
此外，從藉由黑化層62使金屬層61難被觀察到而提高對比的觀點來看，電極40(細導線60)的寬幅，由先端面67之側朝向基端面66之側，換句話說，朝向影像顯示機構12側，僅僅變窄的方式變化並非必要，此外，電極40(細導線60)的寬幅，由先端面67之側朝向基端面66之側，換句話說，朝向影像顯示機構12側，僅以變窄的方式持續變化也非必要。導電性網狀物55的電極40(細導線60)的寬幅，首先由先端面67朝向基端面66之側僅以變小的方式變化，其後，由先端面67之側朝向基端面66變大的方式變化的場合，亦即，僅在先端面67的附近成為逆錐形的場合，也可以藉由黑化層62而有效果地使金屬層61不容易被觀察而提高對比。此外，導電性網狀物55的電極40(細導線60)的寬幅，首先由先端面67朝向基端面66之側僅以變大的方式變化，其 後，由先端面67之側朝向基端面66變小的方式變化的場合，亦即，僅在基端面66的附近成為逆錐形的場合，也可以藉由黑化層62而有效果地使金屬層61不容易被觀察而提高對比。
又，本案發明人等反覆銳意實驗時，發現了先端面67之寬幅W2，基端面66的寬幅W1，以及由基端面66直到先端面67為止的厚度H，滿足以下數式為佳。
1≦H/((W2-W1)/2)≦2
「H/((W2-W1)/2)」未滿1的話，錐狀變得陡峭，電極40往基材35無法充分密接，隨著觸控面板30的使用狀況變化，會有電極40由基材35剝離，進而於電極40發生斷線的可能。另一方面，「H/((W2-W1)/2)」超過2的話，起因於在側面68的反射之對比降低會被認識到。
又，逆錐狀的電極40，於參照圖14而說明的前述製造方法，可以在金屬膜81上形成由金屬氧化物所構成的黑化膜82，其次，藉由透過被圖案化的光阻膜83蝕刻金屬膜81及黑化膜82，製作而得。一般而言，與金屬材料所構成的金屬膜81相比，由該金屬材料的氧化物所構成的黑化膜82，難藉由蝕刻而浸蝕。因此，根據側蝕刻之往側方向的浸蝕，比起黑化膜82，在金屬膜81會進行更快。此外，於金屬膜81內，比起黑化膜82附近的 區域，在離開黑化膜82的基材35附近的區域，根據側蝕刻之往側方向的浸蝕會變得比較容易進行。因此，藉由調節蝕刻時間，可以製作圖17所示的逆錐狀的電極40。
此處，於圖22顯示被形成為逆錐狀的電極40之一例。圖22係以反射型電子顯微鏡(SEM)觀察的電極的剖面照片。又，在圖22所示的照片，電極40的表面及基材的表面的一部分被蒸鍍金。此金蒸鍍層，係為了使用透過型顯微鏡進行剖面觀察的方便，而設於成為試料的觸控面板感測器10者，並不是構成觸控面板感測器10的構成要素。
進而，於前述實施型態，說明了使波紋及濃淡不均不可見化之極有效果的導電性網狀物55之網狀圖案之一例，但導電性網狀物55的網狀圖案並不以前述之例為限。可以替代前述之構成，適當把供波紋或濃淡不均不可見化之用的已知的手法適用於導電性網狀物55。此外，例如，亦有依存於構成導電性網狀物55的細導線60的寬幅，或是一個導電性網狀物55所占的面積，而使波紋或濃淡不均變得難以視覺確認的場合。亦即，導電性網狀物55的網狀圖案，不以上述之例為限，例如以正方格子配列或蜂巢配列來排列細導線60亦可。
進而，於前述之實施型態，顯示檢測電極50，細由連接導線51與導電性網狀物55構成之例，但不以此為限。例如，如圖18所示，各檢測電極50，由被形成於細長狀的區域之單一的導電性網狀物55所構成亦 可。在圖18所示之例，由被形成於條紋狀的區域之多數導電性網狀物55來形成檢測電極50，而且由被連接於各導電性網狀物55的取出導線46來形成取出電極45。
進而，於前述實施型態，顯示由第1觸控面板感測器31及第2觸控面板感測器32形成投影型的靜電電容式的觸控面板裝置20之例，但並不以此為限。例如，圖19所示的觸控面板感測器30那樣，被區劃於基材35上的主動區域Aa1內的二次元排列的各區域被形成導電性網狀物55亦可。
另一方面，在圖19所示之例，各導電性網狀物55，透過連接導線51被連接於對應的取出導線46。又，在圖20所示之例，被區劃於基材35上的主動區域Aa1之全區域，被形成單一的導電性網狀物55。由導電性網狀物55的四個角落被連接於取出導線46。亦即，如圖19所示的觸控面板感測器30，構成表面型的靜電電容式觸控面板。
又，於以上說明了對前述實施型態之一些變形例，當然，可以適當地組合而適用複數之變形例。
10‧‧‧顯示裝置
12‧‧‧影像顯示機構
12a‧‧‧顯示面
13‧‧‧顯示控制部
20‧‧‧觸控面板裝置
20a‧‧‧層積體
21‧‧‧檢測控制部
A1‧‧‧顯示區域
A2‧‧‧非顯示區域(框緣區域)
Aa1‧‧‧主動區域
Aa2‧‧‧非主動區域

Claims (15)

  1. 一種觸控面板感測器，其特徵為具備：基材，與設於前述基材的電極，包含用於位置檢測的檢測電極，以及被連接於前述檢測電極的取出電極；前述電極，於任意的厚度方向剖面含有占其至少一部份的金屬層；於前述檢測電極與前述取出電極之連接處所，前述檢測電極的金屬層與前述取出電極的金屬層係一體地形成；前述檢測電極，包含以導線區劃多數開口區域的網狀圖案配置的導電性網狀物，前述導電性網狀物的前述導線高度為0.2μm以上2μm以下，前述導電性網狀物的前述導線寬幅為1μm以上5μm以下，前述導電性網狀物之前述導線，具有位於前述基材側的基端面，對向於前述基端面而配置的平坦的先端面，以及連接前述基端面與前述先端面之間的一對側面。
  2. 如申請專利範圍第1項之觸控面板感測器，其中前述導電性網狀物之前述導線，還包含設於前述金屬層的與前述基材相反側而形成前述先端面的黑化層。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之觸控面板感測器，其中前述導電性網狀物之前述導線，進而包含設於前述金屬層的前述基材側而形成前述基端面的黑化層。
  4. 如申請專利範圍第1~3項之任一項之觸控面板感測器，其中前述導電性網狀物之前述導線的寬幅，從前述 先端面朝向前述基端面，在由前述先端面起至前述基端面為止之間，僅以變小的方式變化。
  5. 如申請專利範圍第1~3項之任一項之觸控面板感測器，其中前述導電性網狀物之前述導線的寬幅，從前述先端面朝向前述基端面之側僅以變小的方式變化，其後，由前述先端面之側到前述基端面為止僅以變大的方式變化。
  6. 如申請專利範圍第1項之觸控面板感測器，其中前述網狀圖案，由延伸於二個分歧點之間而區劃出前述開口區域的多數邊界線段所形成，於前述網狀圖案，由一個分歧點延伸出的邊界線段的數目平均為3.0以上而未滿4.0，且不存在前述開口區域以一定的間距排列的方向。
  7. 如申請專利範圍第6項之觸控面板感測器，其中在一個分歧點被連接的邊界線段的數目之前述平均比3.0大。
  8. 如申請專利範圍第6項之觸控面板感測器，其中在一個分歧點被連接的邊界線段的數目之前述平均為3.0。
  9. 如申請專利範圍第6項之觸控面板感測器，其中前述網狀圖案，由延伸於二個分歧點之間而區劃出前述開口區域的多數邊界線段所形成，於前述網狀圖案所含有的前述開口區域之中，藉由6條邊界線段圍住周圍的開口區域最多。
  10. 如申請專利範圍第9項之觸控面板感測器，其中在一個分歧點被連接的邊界線段的數目之前述平均比3.0更大。
  11. 如申請專利範圍第9項之觸控面板感測器，其中在一個分歧點被連接的邊界線段的數目之前述平均為3.0。
  12. 一種觸控面板裝置，其特徵為包含申請專利範圍第1項之觸控面板感測器。
  13. 一種顯示裝置，其特徵為包含申請專利範圍第1項之觸控面板感測器，或申請專利範圍第12項之觸控面板裝置。
  14. 一種觸控面板感測器，其特徵為具備：基材，與包含設於前述基材的電極，且係用於位置檢測的檢測電極，以及被連接於前述檢測電極的取出電極之電極；前述電極，於任意的厚度方向剖面含有占其至少一部份的金屬層；於前述檢測電極與前述取出電極之接觸處所，前述檢測電極的金屬層與前述取出電極的金屬層係一體地形成；前述檢測電極，包含以導線區劃多數開口區域的網狀圖案配置的導電性網狀物，前述導電性網狀物的前述導線，具有位於前述基材側的基端面，對向於前述基端面而配置的平坦的先端面，以及連接前述基端面與前述先端面之間的一對側面； 前述導電性網狀物的前述導線的寬幅，係以由前述先端面朝向前述基端面之側變小的方式變化。
  15. 一種觸控面板感測器，其特徵為具備：基材，與包含設於前述基材的電極，且係用於位置檢測的檢測電極，以及被連接於前述檢測電極的取出電極之電極；前述電極，於任意的厚度方向剖面含有占其至少一部份的金屬層；於前述檢測電極與前述取出電極之接觸處所，前述檢測電極的金屬層與前述取出電極的金屬層係一體地形成；前述檢測電極，包含以導線區劃多數開口區域的網狀圖案配置的導電性網狀物，前述導電性網狀物的前述導線，具有位於前述基材側的基端面，對向於前述基端面而配置的平坦的先端面，以及連接前述基端面與前述先端面之間的一對側面；前述導電性網狀物的前述導線的寬幅，於前述基端面比前述先端面窄。
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