CN102334091B - 触摸屏传感器和具有低可见度的覆盖微图案的图案化基材 - Google Patents

触摸屏传感器和具有低可见度的覆盖微图案的图案化基材 Download PDF

Info

Publication number
CN102334091B
CN102334091B CN201080009602.3A CN201080009602A CN102334091B CN 102334091 B CN102334091 B CN 102334091B CN 201080009602 A CN201080009602 A CN 201080009602A CN 102334091 B CN102334091 B CN 102334091B
Authority
CN
China
Prior art keywords
micro
pattern
conduction
touch panel
unit size
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201080009602.3A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102334091A (zh
Inventor
克里斯汀·E·莫兰
马修·H·弗雷
布赖恩·L·林兹
比利·L·韦弗
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Innovative Properties Co
Original Assignee
3M Innovative Properties Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from PCT/US2009/035250 external-priority patent/WO2009154812A2/en
Application filed by 3M Innovative Properties Co filed Critical 3M Innovative Properties Co
Publication of CN102334091A publication Critical patent/CN102334091A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102334091B publication Critical patent/CN102334091B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/045—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means using resistive elements, e.g. a single continuous surface or two parallel surfaces put in contact
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02—Local etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10—Etching compositions
    • C23F1/14—Aqueous compositions
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073—Shielding materials
    • H05K9/0094—Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04113—Peripheral electrode pattern in resistive digitisers, i.e. electrodes at the periphery of the resistive sheet are shaped in patterns enhancing linearity of induced field
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0448—Details of the electrode shape, e.g. for enhancing the detection of touches, for generating specific electric field shapes, for enhancing display quality
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802—Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]

Abstract

本文描述了诸如天线、EMI屏蔽罩和触摸屏传感器之类的制品以及具有低可见度的覆盖微图案的图案化基材。还描述了确定图案化基材的可见度的方法。在一个实施例中，描述了一种图案化基材，所述图案化基材包括对可见光透明的基材；以及至少两个重叠的导电网格微图案，其中每个网格具有重复的单元几何形状，并且覆盖微图案的组合在30000单位的距离下具有大于-35分贝的空间对比阈。

Description

触摸屏传感器和具有低可见度的覆盖微图案的图案化基材
背景技术
触摸屏传感器检测施加到触摸屏显示器表面的物体(如手指或触笔)的位置或设置在触摸屏显示器表面附近的物体的位置。这些传感器沿着显示器表面(即在平坦的矩形显示器的平面内)检测物体的位置。触摸屏传感器的例子包括电容式传感器、电阻式传感器和投射电容式传感器。这种传感器包括覆盖显示器的透明导电元件。导电元件与电子元件结合使用，电子元件使用电信号探测导电元件，以便确定靠近或接触显示器的物体的位置。
其他可以覆盖显示器并包括透明导电元件的元件包括电磁干扰(EMI)屏蔽罩和天线。
发明内容
已经发现的是，尽管透明基材(如，塑料薄膜)上的单个导电微图案(如，网)可能实际上不为正常(20/20)视力的人类肉眼察觉，但覆盖第一微图案的第二导电微图案(如，网)的设置可以得到高度可见的微图案的组合(即，复合图案)。
在一些实施例中，描述了制品，例如天线、EMI屏蔽罩，特别是触摸屏传感器。制品包括对可见光透明的基材；
第一导电微图案，其包括线性迹线，该线性迹线限定布置在对可见光透明的基材之上或之中的具有重复单元几何形状(repeatingcellgeometry)的第一开口网格；以及
第二导电微图案，其包括线性迹线(trace)，该线性迹线限定与第一导电微图案成电隔离的具有重复单元几何形状的第二开口网格。第一导电微图案和第二导电微图案重叠。
在另外其他实施例中，描述了确定图案化基材的可见度的方法。所述方法包括提供微图案化基材的数字图像；以及通过使用视网膜中央窝检测数学模型由数字图像计算空间对比阈。这种方法可用于在不制造实体样品的情况下评估并设计微图案和具有特定(如，低)可见度的微图案化基材。
在又另一个实施例中，描述了一种图案化基材，所述图案化基材包括对可见光透明的基材；以及至少两个覆盖导电网微图案，其中各个网具有重复单元几何形状，并且覆盖微图案的组合在30000单位的距离下具有大于-35分贝的空间对比阈。
在这些具体化的制品和图案化基材的每一个中，覆盖微图案可以借助第一和第二微图案相对于彼此的设计和布置呈现低可见度。
在一个实施例中，第二导电微图案覆盖第一导电微图案，使得第二导电微图案的线性迹线的至少一部分与第一导电微图案的线性迹线不平行。在另一个实施例中，第二导电微图案的至少一部分具有与第一导电微图案的单元几何形状不同的单元几何形状。在另一个实施例中，第二导电微图案的至少一部分具有与第一导电微图案的单元尺寸不同的单元尺寸。另外，第一和第二微图案的设计和布置可以得到具有这些属性中的两种或更多种的覆盖微图案。
在一些优选的实施例中，第一和第二导电微图案具有相同的几何形状，例如(如，规则的)六边形单元几何形状。第二微图案可以相对于第一微图案以约15度至约40度之间的偏置角来取向。第一和第二导电微图案可以在单元尺寸方面相差高达1∶6的比例。线性迹线优选具有小于10微米并且更优选地小于5微米的线宽。第一和第二微图案的单元尺寸优选不大于500微米。
附图说明
结合附图，由对本发明的各种实施例所做的以下详细说明可以更全面地理解本发明，其中：
图1示出了触摸屏传感器100的示意图；
图2示出了位于触摸屏感测区域内的对可见光透明的导电区域的透视图；
图3A是规则六边形网(有时称为“六边”网)导电微图案的几何形状的扫描电子显微照片；
图3B是方形网导电微图案的几何形状的扫描电子显微照片；
图4A和图4B是示出具有方形单元和八边形单元的组合的重复单元几何形状的开口网格；
图5a-5i示出相同规则六边形网的两层，它们重叠使得第二微图案相对于第一微图案以递增的角度取向，角度以图5a的5度开始并以5度递增分别从图5a增加到图5i；
图6是光学显微照片(反射照明)，其示出具有200微米的单元直径的六边形金属网和在两个方向(方形的长度和宽度)上均具有80微米的单元间距的方形网的两个重叠层，导电迹线大约2微米宽；
图7是样品5的光学显微照片(透射照明)，其示出规则的六边形金属网的两个重叠层，其中一个微图案具有200微米的单元直径，另一微图案具有300微米的单元直径，并且六边形网相对于彼此旋转27度的角(即，偏置角等于27度)；
图8示出了层合在一起形成触摸屏传感器的一个实施例(X-Y网格型投射电容式触摸屏传感器)的各层的布置方式；
图9示出了根据图8的触摸屏传感器的一个实施例的X层或Y层的导体微图案的一部分；
图10示出了图9所示导体微图案的一部分，该部分包括两个各自接触着接触垫形式的较大形貌(feature)的对可见光透明的导电网格条，以及接触的网格条区域之间的空间中的电隔离的导电沉积物。
图11、图11a和图11b示出了第一图案化基材的各部分；
图12、图12a和图12b示出了第二图案化基材的各部分；
图13示出了由重叠图11和图12的第一图案化基材和第二图案化基材构造而成的投射电容式触摸屏透明传感器元件。
图14-36示出了覆盖微图案样品的大约1.5mm×2.5mm区域的放大示图。这种重叠图案部分小于用于确定对比阈的样品尺寸。除了图6和图7的光学显微照片，图片未必按比例绘制。在附图中使用的相同的标号表示相同的部件。然而，应当理解，在给定附图中使用标号指示部件并非意图限制另一个附图中用相同标号标记的部件。
具体实施方式
现在描述的是触摸屏传感器和微图案化基材，其包括对可见光透明的基材和至少两个布置在对可见光透明的基材之上或之内的导电微图案。在一些实施例中，每个导电微图案布置在分开的对可见光透明的基材之上或之内。在其他实施例中，所述至少两个导电微图案布置在单个对可见光透明的基材之上或之内，使得导电图案电隔离。微图案重叠，并可以借助第一和第二图案相对于彼此的设计和布置呈现低可见度。
本文所用的“微图案”是指具有不超过1mm维度(如，线宽)的点、线、填充形状或它们的组合的布置。在优选实施例中，具有至少0.5微米且通常不超过20微米维度(如，线宽)的点、线、填充形状或它们的组合。微图案形貌的维度可以根据微图案的选择而变。在一些优选的实施例中，微图案形貌维度(如，线宽)小于10、9、8、7、6或5微米(如，1-3微米)。
本文所用的“可见光透明”是指未图案化的基材或具有微图案化基材的制品的透射水平为对可见光的至少一种偏振态至少60％透射，其中百分透射率归一化为入射(任选偏振)光的强度。在“可见光透明”含义范围之内的是，透射至少60％入射光的制品包括局部阻止光线至透射率低于80％(如0％)的微观形貌(如点、正方形或线条，该微观形貌的最小维度(如宽度)在0.5微米至10微米之间，或在1微米至5微米之间)；然而，在这种情况下，对于包括微观形貌并且宽度为微观形貌最小维度1000倍的大致各向等大的区域，平均透射率为大于60％。与“可见光透明”有关的术语“可见”修饰术语“光”，以规定基材或微图案化制品对其是透明的光的波长范围。
常见可见光透明的基材包括玻璃和聚合物膜。聚合物“膜”基材是柔韧性和强度足以以卷对卷(roll-to-roll)方式进行处理的平片形式的聚合物材料。所谓卷对卷，是指将材料卷绕到支承体上或从支承体上退绕，以及用某种方式进行进一步处理的过程。进一步处理的实例包括涂覆、裁切(slitting)、落料(blanking)以及暴露于辐射等。可将聚合物膜制成多种厚度，通常在约5μm至1000μm的范围内。在多个实施例中，聚合物膜的厚度在约25μm至约500μm、或约50μm至约250μm或约75μm至约200μm的范围内。卷对卷聚合物膜可以具有至少12英寸、24英寸、36英寸或48英寸的宽度。
现在描述的是重叠的导电微图案，其可以与显示器的材料或元件直接整合。例如，一个或多个重叠导电微图案可以沉积到液晶显示器的彩色滤光片玻璃层上。作为另一实例，一个或多个重叠导电微图案可以沉积到液晶显示器(LCD)的出口偏振膜或补偿膜上。作为另一实例，一个或多个重叠导电微图案可以沉积到与反射式电泳(EP)显示器中的电泳介质接触的基材上。作为另一实例，一个或多个重叠导电微图案可以沉积到支持有机发光二极管(OLED)显示器的材料层的玻璃或塑料基材上。导电微图案的这类实施方式中的一些可以描述为“单元上(on-cell)”。
本发明还涉及用于将信息或指令触摸输入电子装置(如计算机、移动电话等)中的接触传感器或近程传感器。这些传感器对可见光透明，并且可以与显示器直接组合使用，覆盖显示元件，并且与显示器驱动装置接口(作为“触摸屏”传感器)。传感器元件具有片状形式，并包括至少一个支持导电材料(如，金属)的电绝缘的对可见光透明的基材层，所述导电材料以网状几何形状被图案化到基材的表面上，以产生位于传感器触摸传感区域内的透明导电区域。然而，第一和第二导电微图案可以具有其他布置，前提条件是第二导电微图案(如，与第一微图案正交)与第一导电微图案是电隔离的。例如，如本领域所知，可以在第一和第二导电微图案之间相交处提供绝缘元件。在电隔离的两个导电微图案的范围内的是，为了将微图案用作系统的一部分，这两个微图案均连接到相同信号处理、逻辑、存储器或其他电路，(如，为了电容检测信息显示器触摸事件的存在或位置，通过电信号驱动导电微图案)。为了电隔离，微图案仅需要在重叠或覆盖区域借助它们之间的绝缘空间(如，空气、电介质材料)而没有电接触。
在具有导电微图案的触摸传感器的情况中，金属微图案的至少一部分与电子受照显示器的电路邻近并电连接。
信息显示器的触摸传感器的感测区域，是传感器的旨在覆盖或覆盖着信息显示器可观看部分的区域，该区域对可见光透明，使得可以观看信息显示器。信息显示器的可观看部分是指信息显示器的具有可变信息内容的部分，例如显示器“屏幕”的被像素(如液晶显示器的像素)占据的部分。
触摸屏传感器可以是例如电阻型、电容型和投射电容型。对可见光透明的导体微图案尤其可用于与电子显示器一体化的投射电容式触摸屏传感器。作为(例如投射电容式)触摸屏传感器的元件，对可见光透明的导电微图案可用于实现高触摸灵敏度、多触点检测和触笔输入。
对本发明的多个方面的认识将通过下面所供实例的讨论来获得，但本发明并不受此限制。
图1示出了触摸屏传感器100的示意图。触摸屏传感器100包括具有触摸感测区域105的触摸屏面板110。触摸感测区域105电连接到触摸传感器驱动装置120。触摸屏面板110结合到显示装置中。
图2示出了对可见光透明的导电区域101的透视图，该区域会位于触摸屏面板的触摸感测区域(例如图1的触摸感测区域105)内。对可见光透明的导电区域101包括对可见光透明的基材130和设置在对可见光透明的基材130之上或之内的导电微图案140。对可见光透明的基材130包括主表面132，并且是电绝缘的。对可见光透明的基材130可由任何可用的电绝缘材料(例如玻璃或聚合物)形成。光透明基材130的可用聚合物的例子包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚碳酸酯共聚物和聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)。导电微图案140可由多个线形金属形貌形成。
图2也示出了坐标系，用来描述会位于触摸屏面板的触摸感测区域内的对可见光透明的导电区域101。一般来讲，对于显示装置，x轴和y轴对应于显示器的宽度和长度，z轴通常沿着显示器的厚度(即高度)方向。除非另外指出，否则本文将始终使用此规则。在图2的坐标系中，x轴和y轴被定义为平行于对可见光透明的基材130的主表面132，并且可以对应于方形或矩形表面的宽度方向和长度方向。z轴垂直于该主表面，并且通常沿着对可见光透明的基材130的厚度方向。形成导电微图案140的多个线形金属形貌的宽度对应于沿y轴线形延伸的平行线形金属形貌的x方向距离，正交线形金属形貌的y方向距离对应于正交线形金属形貌的宽度。线性金属形貌的厚度或高度对应于z方向距离。
在所示实施例中，位于触摸屏面板的触摸感测区域内的对可见光透明的导电区域101包括两层或更多层各具有导电微图案140的对可见光透明的基材130。
导电微图案140沉积在主表面132上。由于传感器将与显示器连接以形成触摸屏显示器或触摸面板显示器，基材130对可见光透明，并且基本上平坦。基材和传感器可以基本上为平坦和柔性的。所谓对可见光透明是指可通过触摸传感器查看显示器提供的信息(如文本、图像或数字)。对于包括沉积金属(甚至是其沉积厚度大得足以阻挡光线的金属，如果将金属沉积成适当的微图案的话)形式的导体的触摸传感器，可实现可见性和透明性。
导电微图案140包括至少一个对可见光透明的导电区域，该区域覆盖显示器的提供信息的可见部分。所谓“对可见光透明的导电”是指可透过导电微图案区域观看显示器的该部分，并且该微图案区域在图案的平面内导电，或换句话说，沿着导电微图案沉积到其上或与其相邻的基材的主表面导电。
在一些实施例中，本文所述的制品包括具有线性迹线的第一导电微图案，所述线性迹线限定布置在对可见光透明的基材之上或之内的具有重复单元几何形状的第一开口网格；以及具有线性迹线的第二导电微图案，所述线性迹线限定与第一导电微图案电隔离的具有重复单元几何形状的第二开口网格。第二导电微图案可以布置在与第一导电微图案相同的基材上，或者其可以布置在另一基材上。第二导电微图案以特定的布置方式覆盖第一导电微图案，这将会描述到。
在一些实施例中，两个导电微图案形成触摸屏的至少一部分，例如，刚才所述的触摸屏传感器。
或者，在另一实施例中，导电微图案之一形成触摸传感器的至少一部分，例如触摸屏传感器，并且另一导电微图案可以充当无线通信的天线。
在又另一实施例中，导电微图案之一形成触摸传感器的至少一部分，例如触摸屏传感器，并且另一导电微图案可以充当电磁干扰(EMI)屏蔽罩。
在又另一实施例中，导电微图案之一形成无线通信天线的至少一部分，并且另一导电微图案可以充当电磁干扰(EMI)屏蔽罩。
优选的导电微图案包括具有二维网(或简单地说，网)的区域，其中多个线性微图案形貌(常称为导体迹线或金属迹线)(如微图案化的线)限定出网内的封闭开口区域。由(例如金属)微图案限定的开口区域可以描述为单元，例如方形几何形状单元(如图3B所示)和(即，规则的)六边形几何形状单元(如图3A所示)。
第一和第二导电微图案通常包括限定重复单元几何形状的开口网格的线性迹线。所谓重复单元几何形状是指微图案具有平移对称性。尽管图3A和图3B示出了具有单元阵列的单元设计，其中单元具有相同的维度和相同的单元几何形状，但导电微图案也可以具有包括两种或多种不同单元几何形状的重复单元几何形状。例如，图4A和图4B示出重复单元几何形状的开口网格，其中重复区段包括方形单元和八边形单元的组合。通常，微图案在相对较短距离上重复。在一些实施例中，重复区段包括不超过2或3个单元。尽管所示开口网格包括具有直线边界的多边形单元几何形状的不同布置方式，但单元也可以由波浪形或不规则线性迹线限定，前提条件是单元形成具有重复图案的微图案。从而，重复单元几何形状包括多个具有不同几何形状和/或不同尺寸的单元，这在本发明的范围内，前提条件是存在着可以在至少一个方向平移整个网格或导电微图案的至少一部分的重复区段(或基元)。
本文所用的“单元的几何形状”是指其外形，并与其维度相区别。单元几何形状包括方形、非方形矩形、六边形、八边形、其他多边形或其他自由形式的形状。规则六边形具有与不规则六边形不同的形状，其中不规则六边形至少一条边具有与另一边不同的长度或至少一个夹角不等于120度。当两个单元具有相同形状和相同维度时，单元可以彼此叠加。
在一些实施例中，第一或第二微图案包括具有规则单元几何形状的单元的(如，重复)图案在一些实施例中，第一和第二微图案都包括具有规则单元几何形状的单元的(如，重复)图案。在一些实施例中，第一和第二微图案都包括具有相同规则单元几何形状的单元。所谓规则单元几何形状是指微图案的单元具有规则多边形的形状。规则多边形所有的边长均相等，所有的夹角大小均相等。
在一些实施例中，限定导电微图案的导电迹线被设计成在大于五个相邻单元、优选地四个相邻单元、更优选地三个相邻单元、甚至更优选地两个相邻单元的组合边缘长度的距离内不包括大致直的区段。最优选地，限定微图案的迹线被设计成在大于单个单元的边缘长度的距离内不包括直的区段。因此，在一些实施例中，限定微图案的迹线在长距离(如10厘米、1厘米或甚至1毫米)内不是直的。具有如上所述最短长度的直线区段的图案尤其可用于触摸屏传感器，其优点是最大限度减少对显示器可见度的干扰。
在一些实施例中，第一和第二微图案各自包括方形网。在其他实施例中，微图案之一包括方形网，并且另一微图案包括(如，规则的)六边形网。优选的重叠导电微图案包括具有二维邻接(如，金属)网的第一和第二微图案区域，其中形成该网的线性迹线的至少一部分是非平行的，例如某些多边形网络，如(例如，规则的)三角形、五边形和(例如，规则的)六边形网络。更优选地，第一和第二微图案各自包括(例如，规则的)六边形网。
在考虑到导体材料的光学性质和电学特性的情况下，可设计导电微图案的二维几何形状(即图案的在平面内的或沿着基材主表面的几何形状)，以实现可用于触摸屏传感器的特殊透明导电性质。
用于实现传感器的透明度以及显示器的通过传感器的可见度的合适导体微图案具有某些属性。首先，在透过其中观看显示器的导电微图案区域中，被导体遮挡的传感器面积比率应小于50％、或小于25％、或小于20％、或小于10％、或小于5％、或小于4％、或小于3％、或小于2％、或小于1％、或在0.25％至0.75％的范围内、或小于0.5％。
导电微图案或导电微图案区域的开放区域比率(或开放区域或“开放区域百分比”)是指未被导体遮挡的微图案面积或微图案区域面积的比例。开放区域等于1减去被导体遮挡的面积比率，并且可以便利且互换地表达为小数或百分比。被导体遮挡的面积比率可与微图案化导体的线条密度互换使用。微图案化导体可与导电微图案互换使用。因此，对于上一段给定的被导体遮挡的比率值，开放区域值大于50％、大于75％、大于80％、大于90％、大于95％、大于96％、大于97％、大于98％、大于99％、99.25％至99.75％、99.8％、99.85％、99.9％、甚至99.95％。在一些实施例中，导体微图案区域的开放区域(如对可见光透明的导电区域)在80％和99.5％之间，在其他实施例中在90％和99.5％之间，在其他实施例中在95％和99％之间，在其他实施例中在96％和99.5％之间，在其他实施例中在97％和98％之间，在其他实施例中高达99.95％。对于使用实用的制造方法可重复地实现有用的光学性质(如导电图案元件的高透射率和不可见性)和电学特性，开放区域的优选值在90％和99.5％之间，更优选地在95％和99.5％之间，并且在一些实施例中，最优选地在95％和99.95％之间。
为了将干扰(例如对一些显示器的像素图案的干扰)减至最小并避免使用者或观看者裸眼看到图案元件(如导线)，导电图案元件的最小维度(如导线或导电迹线的宽度)应小于或等于约50微米、或小于或等于约25微米、或小于或等于约10微米、或小于或等于约5微米、或小于或等于约4微米、或小于或等于约3微米、或小于或等于约2微米、或小于或等于约1微米、或小于或等于约0.5微米。在一个或多个重叠导电微图案的设计中，设计人员可以引入本领域已知的用于使干扰减至最低的构思，所述干扰例如一个或多个重叠导电微图案和显示器像素之间的莫尔效应。
在一些实施例中，导电图案元件的最小维度在0.5微米和50微米之间，在其他实施例中在0.5微米和25微米之间，在其他实施例中在1微米和10微米之间，在其他实施例中在1微米和5微米之间，在其他实施例中在1微米和4微米之间，在其他实施例中在1微米和3微米之间，在其他实施例中在0.5微米和3微米之间，在其他实施例中在0.5微米和2微米之间。对于可再现地实现有用的光学性质(如高透射率和肉眼对导电图案元件的不可见性)和电学特性，并且考虑到使用实用制造方法的约束条件，导电图案元件的最小维度的优选值在0.5微米和5微米之间，更优选地在1微米和4微米之间，最优选地在1微米和3微米之间。
已经发现覆盖微图案的某些布置方式会导致微图案组合的低可见度。而其他布置方式会导致微图案组合的高可见度。
图5a-图5c是示出两层重叠的相同规则六边形网的图示。第二微图案以递增的角度相对于第一微图案旋转，角度以图5a的5度开始，并且以5度递增分别从图5a增加到图5c。在图5a中，存在明显的复合图案，其中各个复合图案的中心具有至少约4个单元的直径。从而，明显的复合图案的空间维度大于任一微图案的导电形貌或导电形貌之间间距的维度。另外，明显的复合图案的空间维度通常大于重复几何形状的重复区段。在图5b-图5c中，明显的复合图案的尺寸较小，其中心部分在直径上分别横跨约3个和2个单元。为了举例说明的目的，图5a-图5i的网的各个线性迹线是明显并可识别的。六边形单元也是明显并可识别的。然而，当图案是微图案时，各个线性迹线是不可识别的，各个单元也不可识别。然而，由微图案的重叠产生的复合图案是高度可见的(即，明显的)，但不一定是可识别的。
当与周期性像素化显示器结合，特别是当使用某些设计时，重叠导电网微图案的特定设计和布置方式(例如，具有重复单元几何形状)可以具有低的可见度。据猜测可见度甚至可以低于一些具有随机或伪随机单元几何形状的导电网微图案。重要的是，当两个导电微图案重叠时，设计和布置方式与减少的可见度有关。
在一个获得低可见度的实施例中，第二导电微图案覆盖第一导电微图案，使得第二导电微图案的线性迹线的至少一部分与第一导电微图案的线性迹线不平行。
第一和第二导电微图案被有意地以特定相对取向进行布置，这在本公开的范围内。以特定相对取向进行布置的两个导电微图案可以相对于彼此具有限定的角度(或限定的偏置角)。当两个微图案包括具有相同单元几何形状的重复区段时，一个导电微图案相对于第二导电微图案的角度是相当明显的。下面包括用于限定某些实施例的偏置角的程序。当两个微图案包括具有相同单元几何形状的重复区段时，可以基于微图案共有的单一微图案几何形状的旋转对称为两个微图案限定相同的等效方向集合。例如，对于六边形网而言，可以选择与网几何形状的六重旋转对称相关的六个等效方向。又如，对于方形网而言，可以选择与网几何形状的四重旋转对称相关的四个等效方向。有这种以相同方式为两种网限定的等效方向，就有了用于限定或测量两个导电微图案之间角度(即，偏置角或相对取向)的基础。两个导电微图案之间的角度是将第一导电微图案的等效方向与第二导电微图案的等效方向分离的最小角度。仍就两个导电微图案是具有相同重复区段单元几何形状的网微图案而言，微图案的组合的视觉外观将相对于变化的偏置角具有周期性。以递增的偏置角改变视觉外观的角度周期将等于360度除以旋转对称水平(例如，1表示无旋转对称，2表示二重旋转对称，3表示三重旋转对称，4表示四重旋转对称，6表示六重旋转对称)。术语重复角度在本文用来描述角度周期。从而，两个具有相同单元几何形状的导电微图案的组合的独特(就视觉外观而言)组合几何形状将仅在从0度至[360/旋转对称水平]角度的角度范围内存在。尽管覆盖微图案的组合几何形状相对于偏置角具有周期性(具有如刚才所述的重复角度)，但相对于组合微图案的整体外观，有时相对于重复角度的一半限定偏置角同样有用。这是因为对于小于重复角度的一半的x而言，整体视觉外观对于x的偏置角和对于[重复角度减去x]的偏置角来说可以是相同的。从而，组合微图案的视觉外观的全范围可以限定在零度至重复角度的一半的偏置角范围内。在一些情况下，将具有相同网几何形状的导电微图案之间的偏置角限定为重复角度的一部分是有用的。在一些实施例中，偏置角度在0.1至0.9倍重复角度之间。在优选的实施例中，偏置角在0.1与0.4或在0.6与0.9倍重复角度之间。在其他优选的实施例中，偏置角度在0.2与0.3或在0.7与0.8倍重复角度之间。
参照图5a-图5i，在一个实施例中，通过相对于第一微图案旋转第二微图案，第二导电微图案具有相对于第一导电微图案的线性迹线不平行的线性迹线。第一导电微图案的几何形状与第二导电微图案的几何形状相同。两个微图案的几何形状是六重旋转对称的六边形网。重复角度是60度。当第一和第二微图案具有相同单元(如，规则的)几何形状和相同单元尺寸时，相对偏置角的使用是特别有用的。当两个微图案具有不同维度的单元时，将一个具有规则单元几何形状的导电微图案相对于具有相同的规则单元几何形状的第二导电微图案进行旋转也是非常有用的。随着旋转的角度(偏置角)从约5度(0.083倍重复角度)(如图5a所示)增加到约15度(0.25倍重复角度)(如图5c所示)，可见度会减小。尽管旋转的角度可以根据特定单元几何形状和单元尺寸变化，但旋转的角度优选为至少10度(如图5i所示)并小于45度(如图5i所示)。
在另一实施例中，第二导电微图案具有与第一导电微图案的线性迹线不平行的线性迹线，这是由于第二导电微图案具有与第一导电微图案的单元几何形状不相同的单元几何形状。例如，参照图6，第一导电微图案可以具有方形单元几何形状，且第二导电微图案具有六边形单元几何形状，或反之亦然。尽管方形单元的线性迹线的一部分可以与六边形单元的线性迹线平行，但线性迹线的一部分是不平行的。
在获得低可见度的另一实施例中，第二导电微图案具有与第一导电微图案的单元尺寸不同的单元尺寸。术语单元尺寸通常是指网导电微图案的单元的尺寸。对于具有规则多边形形状的单元而言，将单元尺寸限定(为了比较两个导电微图案的单元尺寸)为单元的宽度(例如方形单元的边长，或再如六边形单元的平行面之间的间距(本文也称为六边形的直径或间距))是方便的。
在一些实施例中，由导电迹线形成的规则单元的平均宽度或间距通常不超过500微米、450微米或400微米。在一些优选的实施例中，两个微图案都具有不超过350微米、300微米、250微米、200微米、150微米、100微米或50微米的平均单元宽度。
对于不规则单元形状(或甚至对于规则单元形状)，为了比较具有重复单元几何形状的两个网导电微图案的单元尺寸，单元尺寸可以限定为穿过单元形状的矩心并在各个方向延伸到单元形状的边界的所有线区段(即，所有取向)的平均长度。
具有相同重复单元几何形状的两个网导电微图案可以具有不同的单元尺寸。同样，具有不同重复单元几何形状的两个网导电微图案可以具有不同的单元尺寸。在一些实施例中，第一导电微图案的单元尺寸等于第二导电微图案的单元尺寸的1.1至6倍之间(即，分别为1∶1.1至1∶6的比例)。第一导电微图案的单元尺寸优选等于第二导电微图案的单元尺寸的1.2至3倍之间，更优选在1.2至2倍之间。
在一些优选的实施例中，第一导电微图案和第二导电微图案具有相同的重复单元几何形状，其中第一导电微图案的单元尺寸在第二导电微图案的单元尺寸的1.1与6倍之间，并且图案之间具有在0.1至0.9倍重复角度之间的偏置角。在一些实施例中，图案之间的偏置角度在重复角度的0.1至0.4倍或0.6至0.9倍之间。在这些实施例的一些中，重复单元几何形状包括规则的多边形。在这些实施例的一些中，重复单元几何形状由单一规则多边形组成。在这些实施例的一些中，重复单元几何形状由规则六边形组成。
在一些优选的实施例中，第一导电微图案和第二导电微图案具有相同的重复单元几何形状，其中第一导电微图案的单元尺寸在第二导电微图案的单元尺寸的1.2至3倍之间，并且在图案之间存在0.1至0.4倍或0.6至0.9倍重复角度的偏置角度。在这些实施例的一些中，重复单元几何形状包括规则的多边形。在这些实施例的一些中，重复单元几何形状由单一规则多边形组成。在这些实施例的一些中，重复单元几何形状由规则六边形组成。
在一些优选的实施例中，第一导电微图案和第二导电微图案具有相同的重复单元几何形状，其中第一导电微图案的单元尺寸在第二导电微图案的单元尺寸的1.1至6倍之间，并且在图案之间存在约10度至约45度之间的偏置角。在一些实施例中，第一导电微图案的单元尺寸在第二导电微图案的单元尺寸的1.2至3倍之间。在这些实施例的一些中，重复单元几何形状包括规则的多边形。在这些实施例的一些中，重复单元几何形状由单一规则多边形组成。在这些实施例的一些中，重复单元几何形状由规则六边形组成。
覆盖微图案的可见度可以通过使用各种方法来确定。在一些实施例中，通过使用(即，人)试验小组评估可见度(根据实例中所述的方法)来确定覆盖微图案的可见度。
尽管例如“空间对比的视网膜中央窝检测的标准模型(AStandardModelforFovealDetectionofSpatialContrast)”(JournalofVision，20055，717-740)中所述的数学模型已被用于评估具有足够维度的图像的可见度，所述足够维度使得图像是对正常(即20/20)视力的人类肉裸眼是明显的(即，容易看到的，可见的)并可识别的(即，确定决定性的特征)，但这类数学模型不被认为已适用于确定非明显微图案或覆盖微图案的可见度。
因此，在其他实施例中，描述了确定图案化基材的可见度的方法，该方法包括提供微图案化的基材(如覆盖微图案)的数字图像并用视网膜中央窝检测模型(即，标准空间观看者模型)计算数字图像的空间对比阈。
由于各种原因，数学模型可以相对于(即，人)试验小组而言是优选的。试验小组通常是更主观的，并通常需要多个参与者来获得统计学上有意义的结果。另外，试验小组的使用通常要求实际样品由每个微图案制成，以便可以评估可见度。
数学模型的输入也可以通过如下方式来生成：提供具有(如，光透明)基材和非透明微图案的样品；模拟样品在使用中被观看时样品的照明条件；以数字化方式对样品进行成像。然而，数学模型还可以采用以数字化方式设计的微图案的数字图像。从而，在此实施例中，在未实际制造实物样品的情况下，可以评估微图案或覆盖微图案的可见度。这适于在未实际将其制造的情况下更有效地评估多个微图案的可见度。
不论使用(即，人)试验小组还是使用数学模型，微图案化基材的数字图像或其数字设计通常被修剪成仅包括微图案。任何由于修剪产生的实际上不存在于重叠图案中的边缘或边界应当在计算对比阈之前略去。尽管在透射期间，(即，当用透过基材的背光观看微图案时)，金属微图案对着透明背景看起来很暗，但为了模拟当用反射光观看时微图案的外观，优选的是以数字方式改变(例如通过在计算机屏幕上反转图像的极性)，以便透明基材是暗的，而微图案是亮的。在没有以数字方式改变微图案图像的情况下，通过该模型计算不同的对比阈值。
已发现本文所述的计算对比阈(如实例中所述进行)与由(即，人)试验小组确定的可见度一致。当微图案或覆盖微图案具有小于-35分贝的对比阈时，微图案是最为可见的。从而，对比阈优选大于-35分贝。当对比阈大于-30分贝或-25分贝时，微图案(如，覆盖微图案的跳动图案)仍是明显且可识别的。然而，当微图案或覆盖微图案具有大于-24、-23、-22、-21或-20分贝的预测对比阈时，微图案或覆盖微图案变得显著较为不明显。在优选的实施例中，对比阈大于-15分贝、-10分贝或-5分贝。当微图案或覆盖微图案具有0或更大的预测对比阈时，微图案或覆盖微图案是不可见的。随着对比阈增加，样品外观的均匀度增加。1分贝的对比阈值的差值对普通人类观看者是“恰可察觉的差值”。
用于计算对比阈值的距离可以变化，但将其选择为与所关注的观看距离(即，通常为在一般使用期间微图案化基材的平均观看距离)相关联。例如，如果制品是移动电话的触摸传感器显示器，则正常的观看距离通常约为280mm至300mm。这对应于约30000的模型的距离单位(即，3000视网膜中央窝检测模型距离单位)。在一些实施例中，优选的(如，重叠的)微图案具有如上所述的至少小于30000距离单位(例如，25000或20000或15000)的对比阈。
在计算中使用的样品尺寸通常为足够的尺寸，足以代表实体样品和/或设计样品。如果重叠图案(网图案)大于样品尺寸，但位于在所需观看距离会被中央窝观看所覆盖的观看区域内(即，2.13度的视角)，则应当获得会对向着中央窝的样品。
通常，沉积的导电材料会降低触摸传感器的透光率。基本上，只要有导电材料沉积的地方，就使用者的可见度而言，显示器被遮挡。导电材料所造成的衰减度与导体微图案内被导体覆盖的传感器或传感器区域的面积比率成比例。
通常，期望透明的触摸屏传感器呈现较低的雾度值。雾度是指与光通过介质时的散射有关的性质，如用Haze-Gard仪器(Haze-Gardplus，BYKGardner(Columbia，Maryland))测量。在一些实施例中，触摸屏传感器呈现小于10％、在一些实施例中小于5％、在一些实施例中小于4％、在一些实施例中小于3％、在一些实施例中小于2％的雾度。
本发明公开了能实现包括导体微图案的区域的高透射(也称为可见光透射比)、低雾度和低导体迹线可见度的理想组合的实施例。因此，当用作触摸屏传感器感测范围或区域的一部分时，例如当微图案覆盖显示器的可见区域时，导体微图案尤其可用。
在一些实施例中，为了在即使薄层电阻不均匀分布的情况下(如衍生自导电材料的不均匀网)，也可以产生在整个可见显示区上具有均匀透光率的对可见光透明的显示传感器，传感器包括添加到导体微图案的隔离的导体沉积物，该沉积物起到在整个图案上保持透光率的均匀度的作用。这种隔离的导体沉积物没有连接到传感器的驱动装置(如电路或计算机)，因而不起电气作用。
可在相邻透明导电区域之间的空间区域(例如包括二维网格或网络形式的微图案化导体的相邻透明导电区域)中添加类似的隔离的(如，金属)形貌，以在整个传感器(包括透明导电区域和它们之间的空间区域)上保持均匀的透光率。除了隔离的导体正方形之外，其他用于定制光学均匀度的有用的隔离导体沉积物还包括圆形和线条。电隔离的沉积物的最小维度(如正方形形貌的长度、圆形形貌的直径或线形形貌的宽度)小于10微米、小于5微米、小于2微米或甚至小于1微米。
对于使用实际的制造方法可再现地实现有用的光学性质(如高透射率和导电图案元件的不可见性)，电隔离沉积物的最小维度优选地在0.5微米和10微米之间，更优选地在0.5微米和5微米之间，甚至更优选地在0.5微米和4微米之间，甚至更优选地在1微米和4微米之间，最优选地在1微米和3微米之间。在一些实施例中，电隔离的导体沉积物的布置被设计成缺乏周期性。就限制与下面的显示器的周期性像素图案的不利的可见相互作用而言，缺乏周期性是优选的。对于具有沉积物并且缺乏连接到解码或信号发生和/或处理电子器件的微图案元件的整个区域而言，要使电隔离的导体沉积物整体缺乏周期性，只需要所述沉积物的至少一部分的本来周期性的布置出现个别中断。这种电隔离的导体沉积物可说成具有非周期性布置方式，或者可说成电隔离的导体沉积物的非周期性布置。在一些实施例中，电隔离的导体沉积物被设计成缺乏间距小于10微米的直的平行边缘，所述直的平行边缘如边缘长度为5微米的正方形沉积物的相对表面所存在的。更优选地，绝缘的导体沉积物被设计成缺乏间距小于5微米的直的平行边缘，更优选地小于4微米，甚至更优选地小于3微米，甚至更优选地小于2微米。缺乏直的平行边缘的电隔离的导体沉积物的实例有椭圆形、圆形、五边形、七边形和三角形。在电隔离的导体沉积物的设计当中缺乏直的平行边缘起到使光衍射伪像最小化的作用，这种伪像会破坏集成了传感器的显示器的可观看性。
导电微图案对光学均匀度的影响可以量化。如果将传感器从而导体微图案的覆盖显示器可见区域的总面积分段成1毫米×1毫米区域的阵列，则优选的传感器包括这样的导体微图案，在该导体微图案当中，没有一个所述区域其被遮挡的面积比率与所有区域的平均值相差大于75％。更优选地，没有一个所述区域其被遮挡的面积比率与所有区域的平均值相差大于50％。更优选地，没有一个所述区域其被遮挡的面积比率与所有区域的平均值相差大于25％。甚至更优选地，没有一个所述区域其被遮挡的面积比率与所有区域的平均值相差大于10％。如果将传感器从而导体微图案的覆盖显示器可见区域的总面积分段成5毫米×5毫米区域的阵列，则优选的传感器包括这样的导体微图案，在该导体微图案当中，没有一个所述区域其被遮挡的面积比率与所有区域的平均值相差大于50％。优选地，没有一个所述区域其被遮挡的面积比率相差大于50％。更优选地，没有一个所述区域其被遮挡的面积比率相差大于25％。甚至更优选地，没有一个所述区域其被遮挡的面积比率相差大于10％。
本发明允许使用金属作为透明导电传感器中的导电材料，而不是透明导电氧化物(TCO)(例如ITO)。
可用于形成导电微图案的金属的实例包括金、银、钯、铂、铝、铜、镍、锡、合金以及它们的组合。
任选地，导体还可以是复合材料，例如金属填充的聚合物。导体可以是反射性的，如薄膜金属的情况，例如银、铝等。或者，导体可以是吸收性的并看起来暗或黑，如碳填充的复合导体的情况，例如，衍生自可印刷碳基导电墨水。此外，导体可以包括多个层，例如，导体可以包括金属层和被设计来减少金属反射率或防止金属腐蚀的覆盖层，这是本领域知道的。在构成导体的材料的选择或设计上本发明不受限制。然而，已发现当需要或者说优选反射性导体图案时，本文所说明的构思特别有用。
在一些实施例中，(如，金属)微图案是相对较薄的，厚度范围从约5纳米至约50纳米。在其他实施例中，(如，金属)微图案具有至少60nm、70nm、80nm、90nm或100nm的厚度。在一些实施例中，(如，金属)微图案的厚度至少为250nm。在一些实施例中，微图案是银微图案，其具有至少300nm、400nm、500nm、600nm、700nm、800nm、900nm和甚至1000nm或更大的厚度。其他实施例中，微图案是金微图案，其具有至少300nm、350nm、400nm或更大的厚度。增加厚度的金属微图案可以如2009年6月25日提交的61/220,407(其以引用方式并入本文)中所述进行制备。
在优选的实施例中，(如，金属)导电微图案化的基材适于在电子显示器中使用。电子显示器包括反射性显示器和具有内部光源的显示器。具有内部光源的电子显示器包括受照显示器。所谓“受照”是指“被光或发射光照亮”。受照显示器可以是液晶显示器，其具有可在核心液晶显示面板外部但在整体显示器装置内部的背光或边光光源。或者受照显示器可以是发射显示器，例如等离子显示板(PDP)或有机发光二极管(OLED)显示器。反射式显示器包括电泳显示器、电润湿显示器、电致变色显示器和反射式胆甾型液晶显示器。本发明的微图案化基材特别可用作受照电子显示器的一部分。
根据本发明的导体微图案可通过任何适当的图案化方法生成，所述方法例如包括照相平版印刷与蚀刻或照相平版印刷与电镀的方法(参见如美国专利No.5,126,007、美国专利No.5,492,611、美国专利No.6,775,907)。另外，导体图案可以利用若干其他示例性方法之一来产生，所述方法包括激光固化掩模、喷墨印刷、凹版印刷和微复制；其各自是本领域已知的，在美国公开No.US2009/0219257(其以引用方式并入本文)中有更详细的描述。在一些实施例中，导电(如，金属)微图案经由微接触印刷(例如2009年6月25日提交的61/220,407中所述，其以引用方式并入本文)来制备。
二维导电微图案可以设计来在传感器的导电区域(如，可见光透明的导电区域)中实现各向异性或各向同性薄层电阻，例如在美国公开No.US2009/0219257(其以引用方式并入本文)中所述。所谓“各向异性薄层电阻”是指，当沿着两个正交方向测量或建模时，导电微图案的薄层电阻的大小不同。所谓“各向同性薄层电阻”是指当沿着平面内任意两个正交方向测量或建模时，导电微图案的薄层电阻的大小相同，如在由两个方向的宽度恒定的迹线所形成的方形网格的情况中。
在一些实施例中，通过在本来为连续而均匀的网格内的导电迹线中包括选择性中断，可以生成在至少一个方向具有不同薄层电阻的透明导电区域。这个选择性设置中断的方法尤其可用于产生这样的制品，该制品包括在整个制品上的透光率为均匀的对可见光透明的导电区域的图案。初始网格可为各向同性或各向异性的。
在其他的在本来连续而均匀的网格内包括选择性中断的实施例中，可设置中断，以在给定方向生成大致连续变化的薄层电阻。在一些实施例中，通过在两个区域中的每一个内包括具有其特有设计的相邻网格，并且每一个网格不必包括选择性设置的中断，可在至少一个方向生成两个具有不同薄层电阻的透明导电区域。两个具有会导致对于在单个方向(如图2的x方向)流过的电流而言不同薄层电阻值的设计的网格，其实例包括两个这样的网格，这两个网格具有相同厚度(图2的z方向维度)的相同导电材料的沉积物，但在y方向具有不同的单位宽度载流横截面积(图2的y-z平面)。这样一对网格区域的一个实例是两个正方形网格区域，这两个区域各包括宽度2微米但间距不同(如100微米和200微米)的导电迹线。这样一对网格区域的另一个实例是两个矩形网格区域(非正方形，一个方向间距为100微米，与之正交方向间距为200微米)，这两个区域各包括宽度2微米但取向不同(如第一区域内的矩形单元的长轴相对于第二区域内的矩形单元呈90度取向)的导电迹线。
在一些实施例中，传感器包括用来承载导体图案的对可见光透明的绝缘基材层，该图案包括对可见光透明的微图案区域和具有不透明的较大形貌的区域，其中对可见光透明的微图案区域和较大形貌区域包括相同导体(如金属)的大约相同厚度的图案化沉积物。较大形貌可以采取(例如)与对可见光透明的导电微图案区域接触的宽导电迹线的形式，或采取用于接触电子解码、信号发生或信号处理装置的垫的形式。在相同绝缘层上与对可见光透明的导电微图案区域组合的有用较大形貌的宽度在(例如)25微米至3毫米之间、25微米至1毫米之间、25微米至500微米之间、25微米至250微米之间或50微米至100微米之间。
实例
下文描述示例性的触摸屏传感器设计。这些传感器可使用已知的照相平版印刷法制造，如美国专利No.5,126,007或美国专利No.5,492,611中所述。导体可采用物理气相沉积法(如溅射或蒸镀)沉积，如本领域所已知的。除非另外指明，否则以下实例包括通过微接触印刷技术进行图案化的导体(参见上文以及另外共同待审的美国专利申请US2009/0218310中的技术说明)。如本领域所已知的(如美国专利No.4,087,625、美国专利No.5,386,219、美国专利No.6,297,811、WO2005/121940A2)，当连接到解码电路时，本文举例说明的每一种导体图案都可作为透明触摸屏传感器使用。
用标准空间观看者模型预测的覆盖微图案化基材的可见度
使用“空间对比的视网膜中央窝检测的标准模型(AStandardModelforFovealDetectionofSpatialContrast)”(JournalofVision，20055，717-740)中所述的数学模型“标准A”的版本来计算比较实例A、实例B和实例1-25(除非另外指明)的覆盖微图案化基材的对比阈。在Hewlett-Packardxw8400工作站上使用Matlab版本7.7.0.471(R2008b)，用以下参数来执行标准A模型。
参数 拟合值
A-增益 373.08
α 0.8493
P .7786
f0 4.1726(周波/度)
f1 1.3625(周波/度)
β 2.4081
σ 0.6273
以上参数的定义在“空间对比的视网膜中央窝检测的标准模型(AStandardModelforFovealDetectionofSpatialContrast)”(JournalofVision，20055，717-740)的736-737页的附录C和D中有描述。
假设方形像素尺寸为.265mm，进行分析，并对每个经分析的中央窝块评估图像中的标称平均灰阶值。
如下实现微图案分析：
1.首先使用计算机辅助绘图或设计(CAD)软件包(如，L-Edit，TannerEDA市售，TannerEDA是TannerResearchInc.，Monrovia，California的部门)产生所需图案，该所需图案覆盖至少几厘米扩展区域以便后续进行图像修剪，并以.gds格式储存文件。
2.然后将.gds文件转换为PDF(便携文件格式)格式并储存。
3.接着在AdobeIllustrator(AdobeSystems，Inc.；CS2，12.0.0)中打开PDF文件，并修剪成仅包括微图案化区域。
4.随后反转数字图像的极性，以便背景是黑色的，而微图案是白色的。
5.文件再次以PDF格式储存。
6.将新的PDF文件在AdobePhotoshop(AdobeSystems，Inc.；Version5.5)中以每英寸9999像素的最大图像分辨率打开。抗锯齿选项未选择，使得图像保持全黑或全白(没有中间的灰度)。
7.此数字图像随后储存为TIFF(标记图像文件格式)，然后在Matlab中修剪为3,000×3,000像素的尺寸。
随后根据相当于约28-30cm的模型计算出30000距离单位的观看距离的对比阈。
比较例A
图8示出了触摸屏传感器的透明传感器元件400。传感器元件400包括两个图案化的导体层410、414(如X轴层和Y轴层)、两个光学透明的粘合剂层412、416以及底板418，这些元件层合在一起，为了清楚起见在图8中将它们描绘为分开的。层410和414包括透明导电网格条，其中一层在x轴方向取向，另一层在y轴方向取向，参考图2。底板418为面积6厘米×6厘米、厚度1毫米的玻璃片。合适的光学透明粘合剂为得自3M公司(St.Paul，Minnesota)的光学透明层合粘合剂8141(OpticallyClearLaminatingAdhesive8141)。对于X层和Y层中的每一个，都使用具有金属微图案的透明聚合物薄膜。将根据下文所述的薄膜金微图案沉积到PET薄片上。合适的PET基材包括得自DuPont(Wilmington，Delaware)的厚度为大约125微米的ST504PET。
微图案440如图9和图10所示。金的厚度为约100纳米。微图案具有呈一系列平行网格条442的形式的透明导电区域。除了端接有用来连接到电子器件(用于电容性检测手指对底板的触摸)的正方形垫460(面积为大约2毫米×2毫米，具有厚度为大约100纳米的金薄膜形式的连续导体)的网格条之外，还存在与该电子器件电隔离的网格条441。隔离的网格条441起到保持整个传感器的光学均匀度的作用。每一个网格条都由网格构成，该网格由窄的金属迹线443组成，迹线443的宽度为大约5微米。每一个网格条的宽度为大约2毫米，长度为66毫米。每一个网格条内都有宽度为大约0.667毫米、长度为12毫米的矩形单元。这个网格设计起到在每一个网格条内的长轴迹线之间提供连接线的作用，以在长轴迹线中存在任何断路缺陷的情况下保持沿网格条的电气连续性。然而，与采用具有此类连接线的间距为0.667毫米的正方形网格相反，图9和图10的矩形网格以沿网格条的薄层电阻为代价提供了更为理想的透光率。更具体地讲，图9和图10所示网格条和具有0.667毫米间距的正方形网格的2毫米宽网格条沿网格条长轴方向均具有基本相同的薄层电阻(每平方大约50Ω)。然而，正方形网格会遮挡1.5％的透明导电区域面积，而图9和图10所示网格只遮挡0.8％的透明导电区域面积。
覆盖微图案示于图36。比较例A的30000单位距离的对比阈(0.265的像素尺寸)确定为-41.4。
实例B
使用如2008年2月28日提交的共同转让的美国临时申请61/032,273所述的微接触印刷和蚀刻法制备透明传感器元件并与大致如图11、图12和图13所示的触摸传感器驱动装置组合在一起。然后将该装置与连接到显示器的计算机处理单元集成，以测试该装置。该装置能够检测多个单一和/或同时发生的手指触摸的位置，这在显示器上以图形方式证实。本实例使用微接触印刷和蚀刻技术(另外参见2008年2月28日提交的共同待审的美国专利申请No.61/032,273)以形成触摸传感器中使用的微导体图案。
透明传感器元件的形成
第一图案化基材
使用热蒸镀机在由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)制成的厚度125微米(μm)的第一对可见光透明的基材上蒸镀100nm银薄膜，以生成第一银金属化薄膜。PET可以产品号ST504从E.I.duPontdeNemours(Wilmington，DE)商购获得。银可以99.99％纯的3mm银丸形式从CeracInc.(Milwaukee，WI)商购获得。
对着之前已用标准照相平版印刷技术进行图案化的直径10cm的硅片(业内有时称之为“母模”)，模制出厚度为3mm的第一聚(二甲基硅氧烷)压模，该材料称为PDMS，可以产品号Sylgard184从DowChemicalCo.(Midland，MI)商购获得。在65℃下，将PDMS在硅片上固化2小时。然后从硅片上剥离PDMS，以生成具有两种不同低密度区域的第一压模，这两种不同的低密度区域具有凸起形貌的图案：第一连续六边形网格图案和第二不连续六边形网格图案。也就是说，凸起形貌限定了共享边缘的六边形的边缘。不连续六边形是在线段中包含选择性中断的六边形。选择性中断的长度小于10μm。中断被设计和估算为大约5μm。据发现，为了降低中断的可见度，中断应优选小于10μm，更优选为5μm或更小，如介于1μm至5μm之间。每一个凸起的六边形轮廓图案的高度均为2μm，面积覆盖率均为1％至3％(对应于97％至99％的开放区域)，并且线段的宽度为2μm至3μm。第一压模还包括限定500μm宽的迹线的凸起形貌。第一压模具有第一结构化的侧面和相对的第二基本平坦的侧面，第一侧面具有六边形网格图案区域和迹线。
将压模放入包含直径为2mm的玻璃小珠的玻璃培养皿中，使其结构化侧面向上。这样，第二基本平坦侧面就直接接触玻璃小珠。玻璃小珠起到将压模托离培养皿底部的作用，从而让随后的油墨溶液基本上与压模的整个平坦侧面接触。将溶于乙醇的10毫摩尔的1-十八碳硫醇(产品号C18H3CS，97％，可从TCIAmerica(PortlandOR)商购获得)油墨溶液用吸管移入压模下面的培养皿中。油墨溶液与压模的第二基本平坦的侧面直接接触。经过充分的着墨时间(如3小时)使油墨扩散到压模中之后，从培养皿中取出第一压模。将着墨的压模放到工作面上，使其结构化侧面向上。使用手持辊将第一银金属化薄膜施加到压模此时已着墨的结构化表面上，使得银薄膜直接接触结构化表面。金属化薄膜在着墨的压模上停留15秒。然后从着墨的压模移除第一金属化薄膜。将移除的薄膜放入银蚀刻剂溶液中三分钟，该溶液包含(i)0.030摩尔硫脲(产品号T8656，Sigma-Aldrich(St.Louis，MO))和(ii)0.020摩尔硝酸铁(产品号216828，Sigma-Aldrich)的去离子水溶液。蚀刻步骤后，将所得第一基材用去离子水漂洗并用氮气干燥，以生成第一图案化表面。在着墨的压模与第一金属化基材的银接触的地方，蚀刻后仍然保留有银。因此，着墨的压模和银薄膜直接未接触的地方的银被移除。
图11、图11a和图11b示出了第一图案化基材700，在该基材的第一面上具有多个第一连续区域702和与之交替的多个第一不连续区域704，该第一面是含有此时已蚀刻和图案化的银金属化薄膜的哪一面。该基材相对的第二面为基本上裸露的PET薄膜。每一个第一区域702都具有对应的设置在一端的500μm宽导电迹线706。图11a示出了第一区域702的分解图，其具有形成六边形网格结构的多条连续线条。图11b示出了第一不连续区域704的分解图，其具有形成不连续的六边形网格结构的多条不连续线条(在每一个六边形中示为选择性中断)。区域702和704的每一个网格结构都具有97％至99％的开放区域。每一个线段均为2至3μm。
第二图案化基材
使用第二对可见光透明的基材如第一图案化基材一样制备第二图案化基材，以制备第二银金属化薄膜。产生第二压模，该压模具有介于第二不连续六边形网格图案之间的第二连续六边形网格图案。
图12、图12a和图12b示出了第二图案化基材720，在该第二基材的第一面上具有多个第二连续区域722和与之交替的多个第二不连续区域724。每一个第二连续区域722都具有对应的设置在一端的500μm宽第二导电迹线726。图12a示出了一个第二区域722的分解图，其具有形成六边形网格结构的多条连续线条。图12b示出了一个第二不连续区域724的分解图，其具有形成不连续的六边形网格结构的多条不连续线条(在每一个六边形中示为选择性中断)。选择性中断的长度小于10μm。中断被设计和估算为大约5μm。据发现，为了降低中断的可见度，优选地中断应小于10μm，更优选为5μm或更小，如介于1μm至5μm之间。区域722和724的每一个网格结构都具有97％至99％的开放区域。每一条线段均为2μm至3μm。
另外就第一和第二图案化基材的网格设计的几何形状、取向和单元尺寸而言，第一图案化基材包括300微米直径的六边形单元，而第二团基材包括200微米直径的六边形单元。导体微图案之一所具有的单元尺寸为第二导体微图案的单元尺寸的1.5倍。在下面所述的部分地由两个图案化基材的组合所形成的传感器元件中，六边形网格之间的相对取向或偏置角为30度。对于六边形网格，两个导体微图案之间的偏置角为60度重复角度的0.5倍。
投射电容式触摸屏传感器元件的形成
利用以上制备的第一和第二图案化基材如下产生双层投射电容式触摸屏透明传感器元件。
使用得自3M公司(St.Paul，MN)的OpticallyClearLaminatingAdhesive8141(光学透明层合粘合剂8141)将第一和第二图案化基材粘着在一起，以产生多层构造。用手持辊使两个图案化基材层合，但第一导电迹线区域706和第二导电迹线区域726没有粘合剂。使用OpticallyClearLaminatingAdhesive8141(光学透明层合粘合剂8141)将该多层构造层合至0.7mm厚的浮法玻璃，使得第一基材的第一面靠近浮法玻璃。无粘合剂的第一导电迹线区域706和第二导电迹线区域726使得可以与第一图案化基材700和第二图案化基材720进行电气连接。
图13示出了多层触摸屏传感器元件740的俯视平面图，其中第一和第二图案化基材已经层合。区域730表示第一和第二连续区域的重叠部分。区域732表示第一连续区域和第二不连续区域的重叠部分。区域734表示第二连续区域和第一不连续区域的重叠部分。区域736表示第一和第二不连续区域的重叠部分。虽然存在多个这些重叠区域，但为了便于说明，在图中每一种只示出一个区域。
用于对透明传感器元件进行互电容测量的集成电路是PIC18F87J10(MicrochipTechnology(Chandler，Arizona))、AD7142(AnalogDevices(Norwood，Massachusetts))和MM74HC154WM(FairchildSemiconductor(SouthPortland，Maine))。PIC18F87J10是该系统的微控制器。它控制对MM74HC154WM所驱动的感应条的选择。它还配置AD7142以进行适当的测量。如本领域所知的，该系统的用途包括设置多个校正值。这些校正值可因触摸屏而异。该系统可驱动16个不同的感应条，AD7142可测量12个不同的感应条。AD7142的配置包括选择要转换的信道的数量、测量的精度或速度、是否应施加电容补偿，以及模数转换器的连接。AD7142的测量值为16位值，它表示透明传感器元件矩阵内的导电条之间的交叉点的电容。
AD7142完成测量后会通过中断信号指示微控制器收集数据。微控制器然后通过SPI端口收集数据。收到数据后，微控制器将MM74HC154WM递增到下一驱动行，并清除AD7142中的中断信号，从而指示其收集下一组数据。在上述采样过程不断进行的同时，微控制器还通过串行接口向具有监视器的计算机发送数据。如本领域的技术人员所知的，该串行接口允许简单的计算机程序诠释来自AD7142的原始数据，从而了解在触摸和无触摸之间数值如何变化。根据16位值的数值，该计算机程序在整个显示器上呈现不同的颜色。当16位值低于某个值时，基于校正，显示区域呈现白色。当高于该阈值时，基于校正，显示区域呈现绿色。该数据以4字节标头(0xAAAAAAAA)、1字节信道(0x00-0x0F)、24字节数据(代表电容测量值)和回车(0x0D)的格式异步发送。
系统的测试结果
将透明传感器元件连接到触摸传感器驱动装置。当手指触摸玻璃表面时，计算机监视器将触摸感测区域内发生的触摸的位置以监视器的对应位置中的颜色变化(白到绿)的形式呈现。当两根手指同时触摸玻璃表面时，计算机监视器将触摸感测区域内发生的触摸的位置以监视器的对应位置中的颜色变化(白到绿)的形式呈现。当三根手指同时触摸玻璃表面时，计算机监视器将触摸感测区域内发生的触摸的位置以监视器的对应位置中的颜色变化(白到绿)的形式呈现。
另外的两层网格的制备
微接触印刷网格的样品如2009年6月30日提交的美国临时申请No.61/221,888所述制备。
如下制备两层网格样品：使用3MOpticallyClearAdhesive8271(3M公司，Maplewood，MN)将大约1.7cm×1.7cm的微图案化网格单层彼此层合，一层相对于另一层旋转指定的角度数，并且任一层的中心位于另一层之上(每种覆盖布置的细节在下面的表格中进一步描述)。随后使用相同的光学透明粘合剂将这两层构造层合到2英寸×3英寸×1mm玻璃显微镜载片的中央。各层的银图案化一面朝向玻璃载片。为可见度研究制备了七份两层网格样品，并且两份“空白”样品用与网格样品相同的方法来构造，不过将未图案化的5密耳PET(ST504，E.I.DuPontdeNemoursandCompany，Wilmington，Delaware)用于两层中的每一层。下面示出了为可见度测试制备的样品组。
通过试验小组确定的覆盖微图案化基材的可见度
构造出观看装置，其中参与者(“观看者”)坐在观看口前面。在观看口后面并容纳在外壳内的是光源和样品夹持器。将单个样品安装在定位在光源(30瓦灯泡)下方大约25cm的黑色样品夹持器中，并以大约7度角向观看者倾斜。样品夹持器遮盖了显微镜载片，但1.4cm×1.4cm方形孔除外，观看者可通过该方形孔看到两层样品。从而，试验小组所观看的样品尺寸被覆盖的表面积大于用来确定对比阈的样品尺寸。将样品夹持器插入腔室内的开孔平台。样品和观看者眼睛之间的观看距离为280nm至320nm。腔室在开孔的另一侧变暗，使得观看者可以看透网格图案的各层、安装玻璃并看入在更远处的变暗的观看箱内—以便模拟当背光照明关闭、环境光线反射离开显示器的表面时观看显示器的表面。光源连接到Powerstat可变自耦变压器(3PN116C型，120V进，0-140V出，TheSuperiorElectricCompany，Bristol，Connecticut)，其允许观看者调节照明样品的光量。
采用调节方法范例(Psychophysics：Thefundamentals，Gescheider，G.A.，LawrenceErlbaumAssociates，Inc.Mahwah，NJ.(1997))，如下测量样品的可见度：关闭室内灯。将样品放置在样品夹持器的开孔中，并插入观看装置中。观看者将其头部放在观看口中，以便其可以看到样品，但灯泡的直接反射是不可见的。指示观看者从光源黑暗开始(可变自耦变压器刻度盘设在0)，通过转动刻度盘来增加光量，直到样品的图案刚好能够看到(测试方法A)。告诉一些观看者从光源最大亮度开始(可变自耦变压器刻度盘设在140)，减少光量，直到样品刚好能够看到(测试方法B)。测试方法A用于由各个观看者进行的测量的总数的一半，测试方法B用于由各个观看者进行的测量的总数的另一半。各个样品都使用测试方法A由每个观看者测量两次，并使用测试方法B由每个观看者测量两次。随后计算每个观看者的平均值。对于一半的观看者，方法A首先用于各个样品，接着是方法B；而对于另一半的观看者，方法B首先使用，然后使用方法A。样品顺序是随机化的。指示观看者其可能不能够看到一个或若干个样品上的图案，或者可能能够看到所有样品中的图案。对应于观看者刚好能够看到样品图案时的可变自耦变压器刻度盘位置的数字，是为了对明显可见度排等级的目的而记录的值。对于每个样品，随后基于观看者的所有平均值来计算平均值。忽略统计的离群值(即，超过3个标准偏差)。
将两层样品的可见度的等级次序与由模型计算的预测等级次序相比较。下面示出了等级次序的比较。
表1
*六边形面对面的距离
**据发现实例5的覆盖微图案(图7)具有27度的偏置角。
表2
在CAD生成的覆盖微图案和在制造中会生产出的那些覆盖微图案而言，微图案可以精确地重叠，从而得到规则的网图案。然而，当微图案使用手工重叠时，会发生微小程度的定位误差(1-2度)。当图案以某个角度重叠时，例如在实例5的情况中，这种定位误差不会显著影响计算的对比阈。然而，当图案用手工以0的偏置角重叠时，这种微小的定位误差会导致不规则的图案。由于仅在图案的一部分上计算对比阈，所以其不能代表试验小组所观看的整个图案。这被认为是样品4所涉及的由模型确定的样品顺序和由试验小组确定的样品顺序之间不一致的原因。
以数字方式设计出重叠微图案样品10-25。
表3a-第一导电微图案
*六边形面对面的距离或方形边长
表3b-第二导电微图案

Claims (30)

1.一种触摸屏传感器，包括：
对可见光透明的基材；
第一导电微图案，包括线性迹线，所述线性迹线限定布置在所述对可见光透明的基材之上或之内的具有重复单元几何形状的第一开口网格；以及
第二导电微图案，包括线性迹线，所述线性迹线限定与所述第一导电微图案电隔离的具有重复单元几何形状的第二开口网格，所述第二导电微图案布置在所述对可见光透明的基材或者第二对可见光透明的基材上；
其中所述第二导电微图案覆盖所述第一导电微图案，使得
i)所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案的单元几何形状不同的单元几何形状；或
ii)所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案的单元尺寸不同的单元尺寸；
或它们的组合。
2.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述第二导电微图案的线性迹线的至少一部分与第一导电微图案的线性迹线不平行。
3.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案的单元几何形状不同的单元几何形状。
4.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案的单元尺寸不同的单元尺寸。
5.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述第二导电微图案的线性迹线的至少一部分与第一导电微图案的线性迹线不平行，并且所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案的单元几何形状不同的单元几何形状。
6.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述第二导电微图案的线性迹线的至少一部分与第一导电微图案的线性迹线不平行，并且所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案的单元尺寸不同的单元尺寸。
7.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案的单元几何形状不同的单元几何形状，并且所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案的单元尺寸不同的单元尺寸。
8.根据权利要求1-3或5中任一项所述的触摸屏传感器，其中所述第一和第二导电微图案具有相同的单元尺寸。
9.根据权利要求1-4或6中任一项所述的触摸屏传感器，其中所述第一和第二导电微图案具有相同的单元几何形状。
10.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述第一和第二导电微图案各自具有规则的单元几何形状。
11.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述第一和第二导电微图案具有六边形的单元几何形状。
12.根据权利要求9所述的触摸屏传感器，其中所述第二微图案相对于所述第一微图案以约15度至约40度范围内的偏置角取向。
13.根据权利要求3、5或7中任一项所述的触摸屏传感器，其中所述第一或第二导电微图案具有六边形的单元几何形状，并且所述不同的单元几何形状是矩形或方形。
14.根据权利要求4、5或7中任一项所述的触摸屏传感器，其中所述第一和第二导电微图案在单元尺寸方面相差最高达1:6的比例。
15.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述线性迹线具有小于10微米的线宽。
16.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述线性迹线具有小于5微米的线宽。
17.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述第一和第二微图案的单元几何形状具有不超过500微米的平均单元宽度。
18.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述第一微图案具有规则的六边形单元几何形状，并且所述第二微图案具有规则的六边形单元几何形状；
所述第一微图案的单元尺寸与所述第二微图案的单元尺寸的比例在1.2至3之间；并且
所述第一微图案与所述第二微图案之间的偏置角在10至45度之间。
19.根据权利要求9所述的触摸屏传感器，其中所述第二导电微图案的线性迹线的至少一部分与第一导电微图案的线性迹线不平行，并且所述第一导电微图案和所述第二导电微图案之间的偏置角为重复角度的约0.1至约0.9倍。
20.根据权利要求9所述的触摸屏传感器，其中所述第一导电微图案和第二导电微图案之间的偏置角为重复角度的约0.1至约0.4倍或为重复角度的约0.6至约0.9倍。
21.根据权利要求9所述的触摸屏传感器，其中所述第一导电微图案的单元尺寸为所述第二导电微图案的单元尺寸的1.1至6倍，并且所述图案之间的偏置角为重复角度的0.1至0.9倍。
22.根据权利要求9所述的触摸屏传感器，其中所述第一导电微图案的单元尺寸为所述第二导电微图案的单元尺寸的1.2至3倍，并且所述图案之间的偏置角为重复角度的0.1至0.4倍或0.6至0.9倍。
23.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中所述触摸传感器具有至少75％的可见光透射率。
24.根据权利要求1所述的触摸屏传感器，其中覆盖的微图案呈现低可见度。
25.一种导电制品，包括：
对可见光透明的基材；
第一导电微图案，包括线性迹线，所述线性迹线限定布置在所述对可见光透明的基材之上或之内的具有重复单元几何形状的第一开口网格；以及
第二导电微图案，包括线性迹线，所述线性迹线限定与所述第一导电微图案电隔离的具有重复单元几何形状的第二开口网格，所述第二导电微图案布置在所述对可见光透明的基材或者第二对可见光透明的基材上；
其中所述第二导电微图案覆盖所述第一导电微图案，使得
i)所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案不同的单元几何形状；
ii)所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案不同的单元尺寸；
或它们的组合。
26.根据权利要求25所述的制品，其中所述第一或第二微图案用作天线或EMI屏蔽。
27.根据权利要求25所述的导电制品，其中导电微图案的组合在30000单位的距离下具有大于–35分贝的对比阈。
28.根据权利要求27所述的导电制品，其中所述微图案具有小于20％的图案密度。
29.根据权利要求27所述的导电制品，其中所述第一和第二微图案的单元几何形状具有不超过500微米的平均单元宽度。
30.根据权利要求27所述的导电制品，其中所述第一和第二导电微图案包括线性迹线，所述线性迹线限定具有重复单元几何形状的开口网格，并且所述第二导电微图案覆盖所述第一导电微图案，使得
i)所述第二导电微图案的线性迹线的至少一部分与第一导电微图案的线性迹线不平行；
ii)所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案的单元几何形状不同的单元几何形状；和
iii)所述第二导电微图案的至少一部分具有与所述第一导电微图案的单元尺寸不同的单元尺寸；
或它们的组合。
CN201080009602.3A 2009-02-26 2010-02-24 触摸屏传感器和具有低可见度的覆盖微图案的图案化基材 Expired - Fee Related CN102334091B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
USPCT/US2009/035250 2009-02-26
PCT/US2009/035250 WO2009154812A2 (en) 2008-02-28 2009-02-26 Touch screen sensor
US23767309P 2009-08-27 2009-08-27
US61/237,673 2009-08-27
PCT/US2010/025127 WO2010099132A2 (en) 2009-02-26 2010-02-24 Touch screen sensor and patterned substrate having overlaid micropatterns with low visibility

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102334091A CN102334091A (zh) 2012-01-25
CN102334091B true CN102334091B (zh) 2016-01-06

Family

ID=42666180

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201080009602.3A Expired - Fee Related CN102334091B (zh) 2009-02-26 2010-02-24 触摸屏传感器和具有低可见度的覆盖微图案的图案化基材

Country Status (6)

Country Link
US (2) US8970515B2 (zh)
EP (2) EP3056978A1 (zh)
JP (1) JP5643774B2 (zh)
KR (1) KR101786119B1 (zh)
CN (1) CN102334091B (zh)
WO (1) WO2010099132A2 (zh)

Families Citing this family (158)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5747027B2 (ja) 2009-06-30 2015-07-08 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 図形を有する電子ディスプレイ及び金属微小パターン化基材
EP2519091B1 (en) * 2009-12-25 2016-10-26 Seiji Kagawa Composite electromagnetic wave absorption film
EP2519868A1 (en) 2009-12-29 2012-11-07 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Illumination device with metalized light-turning features
TWI471790B (zh) 2010-02-03 2015-02-01 Wintek Corp 電容式觸控感應器及其製造方法及電容式觸控面板
KR101100987B1 (ko) 2010-03-23 2011-12-30 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널
CN102822829B (zh) * 2010-03-31 2015-10-21 富士胶片株式会社 导电性膜的制造方法与制造装置及导电性膜
KR101101088B1 (ko) * 2010-05-03 2011-12-30 삼성모바일디스플레이주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조방법
CN102243553B (zh) * 2010-05-16 2015-06-10 宸鸿科技(厦门)有限公司 电容式触控面板及降低其金属导体可见度的方法
CN102314271B (zh) * 2010-07-07 2014-11-05 宸鸿科技(厦门)有限公司 一种电容式触控图形结构及其制法、触控面板及触控显示装置
US10306758B2 (en) * 2010-07-16 2019-05-28 Atmel Corporation Enhanced conductors
JP5667938B2 (ja) * 2010-09-30 2015-02-12 富士フイルム株式会社 静電容量方式タッチパネル
US10620754B2 (en) * 2010-11-22 2020-04-14 3M Innovative Properties Company Touch-sensitive device with electrodes having location pattern included therein
WO2012082300A1 (en) * 2010-12-16 2012-06-21 3M Innovative Properties Company Transparent micropatterned rfid antenna and articles incorporating same
TWI404996B (zh) * 2010-12-31 2013-08-11 Au Optronics Corp 觸控面板的製造方法以及觸控面板
KR101860604B1 (ko) * 2011-01-18 2018-05-23 후지필름 가부시키가이샤 투명 전극 시트들, 투명 전극 시트들의 제조 방법, 및 투명 전극 시트들을 사용한 정전 용량 방식의 터치 패널
CN103329642B (zh) * 2011-01-18 2018-01-02 富士胶片株式会社 导电膜和设置有该导电膜的显示装置
WO2012106417A2 (en) 2011-02-02 2012-08-09 3M Innovative Properties Company Patterned substrates with darkened conductor traces
US8933906B2 (en) 2011-02-02 2015-01-13 3M Innovative Properties Company Patterned substrates with non-linear conductor traces
KR20140051117A (ko) 2011-02-07 2014-04-30 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 투명 도전성 소자, 입력 장치, 전자 기기 및 투명 도전성 소자 제작용 원반
US20120242606A1 (en) * 2011-03-23 2012-09-27 Synaptics Incorporated Trace design for reduced visibility in touch screen devices
JP2012221120A (ja) * 2011-04-06 2012-11-12 Fujitsu Component Ltd タッチパネル
US8797285B2 (en) * 2011-04-18 2014-08-05 Atmel Corporation Panel
WO2013048135A2 (ko) 2011-09-27 2013-04-04 주식회사 엘지화학 투명 전도성 기판 및 이의 제조방법
US9262019B2 (en) 2011-11-22 2016-02-16 Atmel Corporation Touch sensor with conductive lines having different widths
US20130127784A1 (en) * 2011-11-22 2013-05-23 Qualcomm Mems Technologies, Inc. Methods and apparatuses for hiding optical contrast features
KR101310585B1 (ko) * 2011-11-25 2013-09-23 삼성전기주식회사 터치패널
US9360971B2 (en) 2012-02-10 2016-06-07 3M Innovative Properties Company Mesh patterns for touch sensor electrodes
US9046974B2 (en) * 2012-02-28 2015-06-02 Eastman Kodak Company Transparent touch-screen capacitor with micro-wire electrode
KR101301480B1 (ko) * 2012-02-29 2013-08-29 미래나노텍(주) 터치스크린 센서, 이를 구비하는 영상 표시 장치 및 그 제조 방법
US9154127B2 (en) 2012-03-06 2015-10-06 Atmel Corporation Touch sensor with conductive lines having portions with different widths
JP5795746B2 (ja) * 2012-03-30 2015-10-14 富士フイルム株式会社 導電性フイルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法
JP5779535B2 (ja) * 2012-03-30 2015-09-16 富士フイルム株式会社 導電性フイルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムのパターンの決定方法
KR101375072B1 (ko) * 2012-04-03 2014-03-17 (주)메타실리콘 전자 디바이스의 원격 조정을 위한 터치 센싱 장치
JP2013225195A (ja) * 2012-04-20 2013-10-31 Toppan Printing Co Ltd フィルム状の静電容量型タッチパネル及びその使用方法
KR20130119045A (ko) * 2012-04-23 2013-10-31 삼성전자주식회사 터치 패널 및 그의 제조 방법
TWI647988B (zh) * 2012-05-04 2019-01-11 柯達公司 使用有機金屬油墨和帶狀的傳墨輥製造觸控感測器、rf天線及高解析傳導圖案的方法
CN104487920B (zh) * 2012-05-04 2017-04-19 伊斯曼柯达公司 使用有机金属墨和带状网纹辊制造高分辨率导电图案
JP5829647B2 (ja) * 2012-05-08 2015-12-09 富士フイルム株式会社 導電性フイルム
JP5224203B1 (ja) 2012-07-11 2013-07-03 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ、タッチパネル装置および表示装置
JP6324656B2 (ja) * 2012-07-12 2018-05-16 大日本印刷株式会社 タッチパネル基板、及び表示装置
CN104508610A (zh) * 2012-08-02 2015-04-08 夏普株式会社 触摸面板基板和显示装置
US9167688B2 (en) * 2012-08-10 2015-10-20 Eastman Kodak Company Micro-wire pattern for electrode connection
US20140354899A1 (en) * 2012-08-16 2014-12-04 Ronald Steven Cok Display apparatus with pixel-obscuring micro-wires
US20140354898A1 (en) * 2012-08-16 2014-12-04 Ronald Steven Cok Display with pixel-obscuring micro-wires
CN102902856B (zh) * 2012-09-27 2015-03-04 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 金属网导电薄膜的随机网格设计方法、导电膜及其制作方法
US20140104185A1 (en) * 2012-10-15 2014-04-17 Htc Corporation Touch display device and handheld electronic device
CN102930922B (zh) * 2012-10-25 2015-07-08 南昌欧菲光科技有限公司 一种具有各向异性导电的透明导电膜
US9411474B2 (en) 2012-11-15 2016-08-09 Nokia Technologies Oy Shield electrode overlying portions of capacitive sensor electrodes
US9164607B2 (en) 2012-11-30 2015-10-20 3M Innovative Properties Company Complementary touch panel electrodes
US9250753B2 (en) 2013-01-07 2016-02-02 Microsoft Technology Licensing, Llc Capacitive touch surface in close proximity to display
JP5930076B2 (ja) * 2013-01-24 2016-06-08 凸版印刷株式会社 タッチパネル、および、表示装置
WO2014119230A1 (ja) * 2013-01-29 2014-08-07 シャープ株式会社 入力装置及びその製造方法、並びに電子情報機器
US9110528B2 (en) * 2013-02-03 2015-08-18 J Touch Corporation Touch-sensitive display apparatus
CN103426500B (zh) * 2013-02-04 2016-03-09 南昌欧菲光科技有限公司 双层透明导电膜及其制备方法
CN103426502B (zh) * 2013-02-05 2016-08-03 南昌欧菲光科技有限公司 图形化透明导电膜
CN103187119B (zh) * 2013-02-06 2014-08-06 南昌欧菲光科技有限公司 导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏
US9268446B2 (en) 2013-02-06 2016-02-23 Nanchang O-Film Tech. Co., Ltd. Monitor, touchscreen sensing module thereof, and method for manufacturing the touchscreen sensing module
CN103106953B (zh) * 2013-02-06 2014-11-26 南昌欧菲光科技有限公司 导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏
CN103105970B (zh) * 2013-02-06 2014-09-17 南昌欧菲光科技有限公司 触摸屏感应模组及包含该触摸屏感应模组的显示器
KR20140101200A (ko) * 2013-02-08 2014-08-19 삼성전자주식회사 디스플레이 표시장치
US9052766B2 (en) * 2013-02-14 2015-06-09 Synaptics Incorporated Mesh sensor design for reduced visibility in touch screen devices
JP6053571B2 (ja) * 2013-02-28 2016-12-27 三菱電機株式会社 タッチスクリーン、タッチパネル及びそれを備える表示装置
KR102044900B1 (ko) * 2013-03-07 2019-11-15 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널
WO2014141867A1 (ja) * 2013-03-11 2014-09-18 富士フイルム株式会社 導電性フィルム、これを備える表示装置及び配線の視認性の評価方法
CN103164100B (zh) * 2013-03-28 2014-08-06 南昌欧菲光科技有限公司 电容式触摸屏
CN103247366B (zh) * 2013-03-28 2015-04-08 南昌欧菲光科技有限公司 电容式透明导电膜及其制造方法
CN104102333B (zh) * 2013-04-10 2017-04-12 宏碁股份有限公司 操作系统及其操作方法
KR101482401B1 (ko) * 2013-04-30 2015-01-13 삼성전기주식회사 터치패널을 포함하는 디스플레이장치 및 그 터치패널의 전극패턴 시인성 평가방법
KR20140129805A (ko) * 2013-04-30 2014-11-07 삼성전기주식회사 터치센서
JP2014219986A (ja) * 2013-05-10 2014-11-20 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド． タッチセンサおよびそれを含む電子機器
US9448666B2 (en) 2013-06-08 2016-09-20 Microsoft Technology Licensing, Llc Dark film lamination for a touch sensor
US20150289421A1 (en) * 2013-06-20 2015-10-08 Joel Ho Apparatus for an emp shield for computing devices
US9715314B2 (en) 2013-06-24 2017-07-25 Microsoft Technology Licensing, Llc Capacitive touch sensor having pseudo jumpers
US9377646B2 (en) * 2013-06-24 2016-06-28 Microsoft Technology Licensing, Llc Capacitive touch sensor having oblique electrode matrix
KR102108846B1 (ko) * 2013-07-16 2020-05-11 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우
JP6145510B2 (ja) 2013-08-30 2017-06-14 富士フイルム株式会社 導電性フィルム、それを備えるタッチパネル及び表示装置、並びに導電性フィルムの評価方法
KR20150036903A (ko) * 2013-09-30 2015-04-08 엘지이노텍 주식회사 터치 윈도우 및 이를 포함하는 디스플레이 장치
JP2015097039A (ja) * 2013-11-15 2015-05-21 富士フイルム株式会社 導電性フィルム、これを備えるタッチパネル及び表示装置、並びに配線の視認性の評価方法
JP6010012B2 (ja) * 2013-12-03 2016-10-19 富士フイルム株式会社 導電シート、静電容量式タッチパネル及び表示装置
JP6068322B2 (ja) * 2013-12-03 2017-01-25 富士フイルム株式会社 導電シート、静電容量式タッチパネル及び表示装置
KR101512568B1 (ko) 2013-12-24 2015-04-15 삼성전기주식회사 터치 패널 및 이를 포함하는 터치스크린 장치
WO2015099475A1 (ko) 2013-12-27 2015-07-02 주식회사 엘지화학 전도성 필름 및 그 제조방법
JP6384058B2 (ja) * 2014-02-12 2018-09-05 三菱電機株式会社 タッチスクリーン、タッチパネル、タッチパネル付き表示装置および電子機器
KR101584423B1 (ko) * 2014-02-21 2016-01-11 하이디스 테크놀로지 주식회사 모아레 감소를 위한 오버코트층을 구비한 터치 패널, 터치 패널을 구비한 액정표시장치 및 터치 패널 형성 방법
JP6225793B2 (ja) * 2014-03-28 2017-11-08 凸版印刷株式会社 タッチセンサ用電極、タッチパネル、および、表示装置
JP6231432B2 (ja) * 2014-05-02 2017-11-15 富士フイルム株式会社 導電性フイルム、それを備える表示装置及び導電性フイルムの評価方法
US9479153B2 (en) 2014-06-04 2016-10-25 Displax S.A. Large projected capacitive touch sensor
JP2015232819A (ja) * 2014-06-10 2015-12-24 株式会社ジャパンディスプレイ センサ付き表示装置
CN104123037A (zh) * 2014-07-04 2014-10-29 业成光电（深圳）有限公司 触控面板及其制作方法
CN107155341B (zh) * 2014-07-31 2020-01-10 惠普发展公司，有限责任合伙企业 三维扫描系统和框架
US9927939B2 (en) 2014-08-13 2018-03-27 Samsung Display Co., Ltd. Touch panel and display apparatus including the same
JP6504456B2 (ja) * 2014-08-21 2019-04-24 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサおよびタッチ位置検出機能付き表示装置
MX2017002874A (es) * 2014-09-03 2018-02-19 Continental Access Corp Escudo contra fr para dispositivos moviles.
TWI534677B (zh) * 2014-10-03 2016-05-21 群創光電股份有限公司 觸控面板
JP6202443B2 (ja) * 2014-10-31 2017-09-27 日本電信電話株式会社 タッチスクリーン用シールド、電子装置
CN104360766B (zh) * 2014-11-11 2017-12-15 深圳市华星光电技术有限公司 触摸屏及电子设备
CN104375710B (zh) * 2014-12-04 2018-01-09 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种金属网格、触摸屏和显示装置
KR102269919B1 (ko) * 2014-12-12 2021-06-28 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서를 포함하는 표시 장치
CN105988613B (zh) * 2015-02-05 2019-06-18 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 触控感应电极层及显示装置
KR102283002B1 (ko) 2015-02-16 2021-07-30 삼성디스플레이 주식회사 표시장치
CN104658942A (zh) * 2015-03-13 2015-05-27 合肥京东方光电科技有限公司 关键尺寸测量设备的光源亮度调整系统和方法
KR101980472B1 (ko) * 2015-03-26 2019-05-20 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 광 투과성 도전 재료
US20180098422A1 (en) * 2015-04-06 2018-04-05 Kaneka Corporation Transparent conductive film and display device
KR102329810B1 (ko) * 2015-04-14 2021-11-22 삼성디스플레이 주식회사 메시 형태의 전극 패턴 및 전극 패턴의 형성 방법, 그리고 전극 패턴을 포함하는 터치 패널
KR102316401B1 (ko) 2015-04-16 2021-10-25 삼성디스플레이 주식회사 표시장치
JP6421077B2 (ja) * 2015-05-19 2018-11-07 富士フイルム株式会社 アンテナの製造方法およびタッチセンサ
JP6556510B2 (ja) * 2015-06-16 2019-08-07 株式会社Ｖｔｓタッチセンサー タッチセンサ用電極、タッチパネル、および、表示装置
CN105094424B (zh) * 2015-07-07 2018-10-09 业成光电（深圳）有限公司 触控显示面板结构与触控显示面板
KR102456050B1 (ko) 2015-09-16 2022-10-20 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널
KR102402256B1 (ko) 2015-11-04 2022-05-27 삼성디스플레이 주식회사 표시장치
EP3171258A1 (en) * 2015-11-17 2017-05-24 JTOUCH Corporation Metal mesh touch module with transparent antenna and touch display apparatus using same
US20170139520A1 (en) * 2015-11-17 2017-05-18 Jtouch Corporation Metal mesh touch module with transparent antenna and touch display apparatus using same
KR102472641B1 (ko) * 2015-11-30 2022-11-30 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널
US9958996B2 (en) 2016-01-29 2018-05-01 Displax S.A. Capacitive touch sensor
JP6639296B2 (ja) 2016-03-23 2020-02-05 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
EP3454402A4 (en) * 2016-05-09 2019-04-03 LG Chem, Ltd. METHOD FOR PRODUCING A POROUS FUEL CELL ESPARATOR AND POROUS FUEL CELL ESPARATOR
KR102533076B1 (ko) 2016-05-26 2023-05-18 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서
KR102561328B1 (ko) 2016-05-30 2023-08-01 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린
KR102557140B1 (ko) 2016-06-16 2023-07-20 삼성디스플레이 주식회사 표시장치
US20190235670A1 (en) * 2016-07-08 2019-08-01 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Electrically conductive film, electronic paper, touch panel, and flat panel display
US10101860B2 (en) 2016-07-20 2018-10-16 Displax S.A. Borderless projected capacitive multitouch sensor
KR20180015322A (ko) 2016-08-02 2018-02-13 삼성디스플레이 주식회사 터치 패널 및 이를 포함하는 표시 장치
KR102581950B1 (ko) 2016-08-29 2023-09-22 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법
RU2731338C1 (ru) * 2016-09-21 2020-09-01 Конинклейке Филипс Н.В. Устройство зеркала с емкостным сенсорным экраном и способ изготовления
KR20180058338A (ko) 2016-11-24 2018-06-01 서울과학기술대학교 산학협력단 정방형 메탈 메쉬 구조를 통한 투명 전자부품 형성방법 및 이를 통해 형성된 투명 rf 수동소자
JP6913297B2 (ja) * 2016-11-29 2021-08-04 大日本印刷株式会社 発熱用導電体、発熱板および乗り物
JP7103718B2 (ja) 2016-12-20 2022-07-20 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー メッシュ電極
KR101882130B1 (ko) * 2017-01-23 2018-07-25 한국과학기술원 터치가 가능한 투명 전자파 차폐 필름 및 그를 포함하는 전자기기
CN108541205B (zh) * 2017-03-01 2020-05-22 庆鼎精密电子（淮安）有限公司 电磁屏蔽罩及其制作方法
JP2017126387A (ja) * 2017-04-26 2017-07-20 大日本印刷株式会社 タッチパネル基板、及び表示装置
KR102305971B1 (ko) * 2017-04-28 2021-09-29 엘지디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널 및 그를 구비한 표시장치
KR102367724B1 (ko) 2017-06-21 2022-03-02 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 및 이를 구비한 표시 장치
KR102322834B1 (ko) 2017-06-28 2021-11-09 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서 및 이를 구비하는 표시 장치
KR102364418B1 (ko) 2017-07-11 2022-02-18 삼성디스플레이 주식회사 지문 센서 일체형 터치 표시 장치
KR102369337B1 (ko) 2017-07-11 2022-03-04 삼성디스플레이 주식회사 입력 감지 유닛 및 이를 구비한 표시 장치
KR102421678B1 (ko) 2017-07-20 2022-07-19 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서 및 이를 구비한 표시 장치
US10305163B2 (en) * 2017-08-14 2019-05-28 GM Global Technology Operations LLC Method and apparatus for semitransparent antenna and transmission lines
US10402026B2 (en) 2017-08-18 2019-09-03 Int Tech Co., Ltd. Conductive mesh and touch sensor
KR102508964B1 (ko) 2018-01-31 2023-03-14 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102578168B1 (ko) 2018-10-01 2023-09-14 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102566269B1 (ko) 2018-10-05 2023-08-14 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102601689B1 (ko) 2018-10-12 2023-11-15 삼성디스플레이 주식회사 전자 장치
KR102639185B1 (ko) 2018-11-07 2024-02-23 삼성디스플레이 주식회사 입력 감지 유닛을 포함하는 표시 장치
US10854648B2 (en) * 2018-12-14 2020-12-01 Novatek Microelectronics Corp. Image sensor of fingerprint
KR20200093111A (ko) 2019-01-25 2020-08-05 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서를 구비한 표시 장치
US10963084B2 (en) 2019-04-02 2021-03-30 Samsung Display Co., Ltd. Touch sensor
EP3966897A4 (en) * 2019-05-06 2023-11-01 3M Innovative Properties Company PATTERNED ARTICLE INCLUDING ELECTRICALLY CONDUCTIVE ELEMENTS
KR20210008269A (ko) * 2019-07-12 2021-01-21 삼성디스플레이 주식회사 입력 감지 유닛 및 이를 포함하는 표시모듈
CN110572998B (zh) * 2019-09-27 2021-04-16 南京理工大学 基于镂空正六边形网格结构的小型化透明电磁屏蔽体
KR20210052804A (ko) * 2019-10-31 2021-05-11 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
KR102413194B1 (ko) 2020-02-14 2022-06-23 동우 화인켐 주식회사 안테나 삽입 전극 구조체 및 이를 포함하는 화상 표시 장치
KR20210125649A (ko) 2020-04-08 2021-10-19 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서 및 그의 구동 방법
KR20210138848A (ko) 2020-05-12 2021-11-22 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서 및 이를 구비하는 표시 장치
JP7012120B2 (ja) * 2020-05-22 2022-01-27 Ｎｉｓｓｈａ株式会社 導電シート、タッチセンサ及びタッチセンサの製造方法
KR20220058696A (ko) 2020-10-29 2022-05-10 삼성디스플레이 주식회사 전자 장치
KR102518437B1 (ko) * 2020-11-19 2023-04-05 주식회사 볼트크리에이션 Metal의 Micro-patterning을 이용한 패러데이 케이지
TWI786022B (zh) * 2021-04-01 2022-12-01 友達光電股份有限公司 顯示裝置
KR102572146B1 (ko) * 2021-08-03 2023-08-30 주식회사 볼트크리에이션 전자파 차폐 시트 및 그 제조방법

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6674492B1 (en) * 1999-04-13 2004-01-06 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Filter and image device with filter
CN101305338A (zh) * 2006-03-08 2008-11-12 夏普株式会社 显示装置

Family Cites Families (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3227308A (en) 1962-11-06 1966-01-04 Continental Can Co Food container for use in space ships
US4087625A (en) 1976-12-29 1978-05-02 International Business Machines Corporation Capacitive two dimensional tablet with single conductive layer
US5126007A (en) 1990-11-16 1992-06-30 At&T Bell Laboratories Method for etching a pattern in layer of gold
US5492611A (en) 1991-03-20 1996-02-20 Fujitsu Limited Miniaturized oxygen electrode
JPH0769767B2 (ja) 1991-10-16 1995-07-31 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション フィンガ・タッチまたはスタイラスの位置を検出するためのタッチ・オーバーレイ、および検出システム
CA2161634C (en) * 1993-04-28 2004-04-27 Kenichirou Ikura Transparent touch panel
JP3442893B2 (ja) * 1995-01-27 2003-09-02 富士通株式会社 入力装置
JPH10312715A (ja) 1997-05-13 1998-11-24 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 透明導電膜およびその製造方法
JPH11110115A (ja) * 1997-09-30 1999-04-23 Fujitsu General Ltd デジタイザ装置
JP3490304B2 (ja) 1997-10-17 2004-01-26 シャープ株式会社 無線通信装置
JPH11330772A (ja) 1998-03-17 1999-11-30 Gunze Ltd 高電磁波シールド性透明シート
JPH11266095A (ja) 1998-03-17 1999-09-28 Dainippon Printing Co Ltd 電磁波遮蔽板
JP4268235B2 (ja) 1998-04-17 2009-05-27 大日本印刷株式会社 電磁波遮蔽板
JPH11330774A (ja) 1998-05-14 1999-11-30 Mitsubishi Chemical Corp 電磁波遮蔽体
EP0969517B1 (en) 1998-07-04 2005-10-12 International Business Machines Corporation Electrode for use in electro-optical devices
JP2000066614A (ja) 1998-08-18 2000-03-03 Tomoegawa Paper Co Ltd ディスプレイ用フィルタおよびその使用方法
JP2000223036A (ja) 1999-01-28 2000-08-11 Sumitomo Chem Co Ltd 電磁波遮蔽透明板及びプラズマディスプレイ装置
JP2001022283A (ja) * 1999-04-13 2001-01-26 Mitsubishi Rayon Co Ltd フィルタ及びフィルタ付き画像装置
US6297811B1 (en) 1999-06-02 2001-10-02 Elo Touchsystems, Inc. Projective capacitive touchscreen
US6212769B1 (en) 1999-06-29 2001-04-10 International Business Machines Corporation Process for manufacturing a printed wiring board
US20020050783A1 (en) 2000-06-01 2002-05-02 Tadahiko Kubota Electromagnetic-wave-shielding film, production method thereof and image display device using the same
US6798464B2 (en) 2001-05-11 2004-09-28 International Business Machines Corporation Liquid crystal display
JP2004192093A (ja) * 2002-12-09 2004-07-08 Micro Gijutsu Kenkyusho:Kk 透明タッチパネル及びその製造方法
JP4124444B2 (ja) * 2003-01-30 2008-07-23 富士通コンポーネント株式会社 タッチパネル、それを有する入力装置及び電子機器
US7129935B2 (en) * 2003-06-02 2006-10-31 Synaptics Incorporated Sensor patterns for a capacitive sensing apparatus
US7382139B2 (en) 2004-06-03 2008-06-03 Synaptics Incorporated One layer capacitive sensing apparatus having varying width sensing elements
JP4044129B2 (ja) 2005-01-26 2008-02-06 富士通株式会社 Ｒａｉｄ装置に用いられるディスク選択方法、ディスク選択プログラム、ｒａｉｄ制御装置、ｒａｉｄシステム及びそのディスク装置
TWI403761B (zh) 2005-02-15 2013-08-01 Fujifilm Corp 透光性導電性膜之製法
KR101025054B1 (ko) * 2005-04-01 2011-03-25 니폰샤신인사츠가부시키가이샤 디스플레이용 투명 안테나 및 안테나 부착 디스플레이용투광성 부재 및 안테나 부착 하우징용 부품
JP4610416B2 (ja) * 2005-06-10 2011-01-12 日本写真印刷株式会社 静電容量型タッチパネル
EP1746488A2 (en) * 2005-07-21 2007-01-24 TPO Displays Corp. Electromagnetic digitizer sensor array structure
JP2007156371A (ja) * 2005-12-01 2007-06-21 Sp Solution:Kk Ｅｍｉフィルターおよびその製造方法
JP2007227906A (ja) 2006-01-25 2007-09-06 Toray Ind Inc 導電性基板およびその製造方法
US7395717B2 (en) * 2006-02-10 2008-07-08 Milliken & Company Flexible capacitive sensor
US8264466B2 (en) * 2006-03-31 2012-09-11 3M Innovative Properties Company Touch screen having reduced visibility transparent conductor pattern
JP2007310091A (ja) 2006-05-17 2007-11-29 Fujifilm Corp プラズマディスプレイパネル
JP2008034501A (ja) 2006-07-27 2008-02-14 Toray Ind Inc ディスプレイ用フィルター
DE102006045514B4 (de) * 2006-08-16 2012-04-05 Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg Transparente Flächenelektrode
JP4894418B2 (ja) 2006-08-30 2012-03-14 大日本印刷株式会社 化粧シート
US8120584B2 (en) * 2006-12-21 2012-02-21 Cypress Semiconductor Corporation Feedback mechanism for user detection of reference location on a sensing device
US7920129B2 (en) * 2007-01-03 2011-04-05 Apple Inc. Double-sided touch-sensitive panel with shield and drive combined layer
JP2008187039A (ja) 2007-01-30 2008-08-14 Bridgestone Corp 電磁波遮断用フィルタ
KR100891648B1 (ko) * 2007-04-04 2009-04-02 삼성정밀화학 주식회사 고해상도 시트, 이를 구비하는 필터, 및 상기 시트 또는필터를 구비하는 표시소자
US20100136288A1 (en) 2007-05-09 2010-06-03 Toray Industries, Inc. Conductive substrate, electromagnetic wave shielding substrate for plasma display and method for manufacturing conductive substrate
JP2008305036A (ja) 2007-06-06 2008-12-18 Hitachi Displays Ltd タッチパネル付表示装置
US7666568B2 (en) * 2007-10-23 2010-02-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Composition and method for providing a patterned metal layer having high conductivity
EP2863295B1 (en) 2008-02-28 2019-10-16 3M Innovative Properties Company Touch screen sensor having varying sheet resistance
US8425792B2 (en) 2008-02-28 2013-04-23 3M Innovative Properties Company Methods of patterning a conductor on a substrate
US8284332B2 (en) 2008-08-01 2012-10-09 3M Innovative Properties Company Touch screen sensor with low visibility conductors
EP4300190A3 (en) 2008-02-28 2024-03-20 3M Innovative Properties Co. Touch screen sensor
US8726497B2 (en) 2008-08-01 2014-05-20 3M Innovative Properties Company Methods of making composite electrodes
US8159467B2 (en) * 2008-08-21 2012-04-17 Wacom Co. Ltd. Meshed touchscreen pattern
US9244568B2 (en) * 2008-11-15 2016-01-26 Atmel Corporation Touch screen sensor
EP2370269B1 (en) 2008-12-11 2015-08-05 3M Innovative Properties Company Patterning process
JP5230533B2 (ja) * 2009-05-29 2013-07-10 三菱電機株式会社 タッチパネルおよびそれを備えた表示装置
US9075484B2 (en) * 2009-06-02 2015-07-07 Pixart Imaging Inc. Sensor patterns for mutual capacitance touchscreens
TWI398799B (zh) * 2009-06-18 2013-06-11 Ritfast Corp 觸控面板
WO2010151471A1 (en) 2009-06-25 2010-12-29 3M Innovative Properties Company Methods of wet etching a self-assembled monolayer patterned substrate and metal patterned articles
JP5747027B2 (ja) 2009-06-30 2015-07-08 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 図形を有する電子ディスプレイ及び金属微小パターン化基材
JP4989749B2 (ja) 2010-05-28 2012-08-01 パナソニック株式会社 タッチパネル装置
US8933906B2 (en) * 2011-02-02 2015-01-13 3M Innovative Properties Company Patterned substrates with non-linear conductor traces

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6674492B1 (en) * 1999-04-13 2004-01-06 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Filter and image device with filter
CN101305338A (zh) * 2006-03-08 2008-11-12 夏普株式会社 显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP3056978A1 (en) 2016-08-17
US8970515B2 (en) 2015-03-03
EP2401669B1 (en) 2016-04-06
US20150138151A1 (en) 2015-05-21
CN102334091A (zh) 2012-01-25
WO2010099132A3 (en) 2011-04-28
EP2401669A2 (en) 2012-01-04
KR20110127236A (ko) 2011-11-24
WO2010099132A2 (en) 2010-09-02
JP5643774B2 (ja) 2014-12-17
JP2012519329A (ja) 2012-08-23
KR101786119B1 (ko) 2017-10-17
US20110310037A1 (en) 2011-12-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102334091B (zh) 触摸屏传感器和具有低可见度的覆盖微图案的图案化基材
TWI447615B (zh) 具有低能見度導體之觸控螢幕感測器
CN103329643B (zh) 具有变暗的多层导体迹线的图案化基底
CN103340027B (zh) 具有非直线导体迹线的图案化基底
TWI435255B (zh) 具有變動薄片電阻之觸控螢幕感測器
TWI446229B (zh) 觸控螢幕感測器
CN104106024B (zh) 用于触摸传感器电极的网格图案
JP5809117B2 (ja) 導電シート、タッチパネル、表示装置
US9307635B2 (en) Electrode pattern and touchscreen using the same
WO2015146277A1 (ja) タッチパネル、表示装置、並びに、タッチパネルの製造方法
CN104823142A (zh) 互补触摸面板电极
CN104798022A (zh) 用于触摸传感器电极的网格图案
KR20120018059A (ko) 터치 스크린 패널용 기판, 터치 스크린 패널 및 이들의 제조방법
TW201319888A (zh) 隨機化一觸控感測器之一或多個微特徵
TWI598892B (zh) Transparent conductive material
JP2015184966A (ja) タッチパネル用位置検知電極部材、タッチパネル、及び画像表示装置、並びにタッチパネル用位置検知電極部材の多面付け中間体
TW201630723A (zh) 透光性導電材料
JP5806559B2 (ja) 導電シート、タッチパネル及び表示装置
TWI602094B (zh) Transparent conductive material
JP6477164B2 (ja) タッチパネルセンサ用中間部材、及び、タッチパネルセンサ用中間部材の電気的検査方法
JP2016192228A (ja) 導電シート、タッチパネル、表示装置
JP6504445B2 (ja) タッチパネルセンサ用中間部材、及び、タッチパネルセンサの製造方法
US20150136450A1 (en) Touch panel and method of manufacturing the same
JP2016130913A (ja) 導電性パターンシートの製造方法、導電性パターンシート、導電性パターンシートを備えたタッチパネルセンサおよびフォトマスク
CN113961091A (zh) 用以设计低可见度金属网格触摸传感器的方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20160106