JP4894418B2 - 化粧シート - Google Patents
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しかしながら、ポリ塩化ビニル系樹脂製フィルムは、焼却・廃棄に際し、塩化水素ガス等が発生する危険性があるため、簡単な焼却設備では処理することができず、さらに焼却設備の耐久性を低下させるという問題があった。そこで、近年、ポリオレフィン系樹脂製フィルムを基材として用いることにより焼却負担を軽減する方法が試みられている。
そして、木目等の絵柄は、通常グラビア印刷方法により3〜4回の重ね刷りをするのが一般的であり、同一形状のセルが規則的に配列されている定形セル凹版を用いて重ね刷りをすることが行われ、これらの印刷層同士、及びエンボス及びワイピングによって得られる層が干渉し合い、いわゆるセル目、モワレ、ロゼッタ模様が発現してしまうことがあった。このようなセル目、モワレ、ロゼッタ模様が発現すると、印刷物の意匠性が損なわれるという問題が生じる。
すなわち、本発明は、
(1)着色基材上に、少なくとも透明樹脂層を積層した化粧シートであって、該透明樹脂層がセル状に分割されたエンボス模様を有し、該エンボス模様の凹部にはワイピングによって着色材又はインキが充填されることで連続諧調の模様が施され、かつ、該エンボス模様を構成する凹部が不規則な配列である化粧シート、
(2)着色基材と透明樹脂層の間にベタインキ層及び/又は絵柄インキ層からなる着色層を有する上記(1)に記載の化粧シート、
(3)透明樹脂層の上にさらに表面保護層を有する上記(1)又は(2)に記載の化粧シート、及び
(4)凸部がセル状に分割され、該凸部が連続諧調の模様を有し、かつ該凸部が不規則な配列であるエンボスロール又はエンボスプレート
を提供するものである。
本発明の化粧シートの典型的な層構成を、図1を用いて説明する。図1は本発明の化粧シート10の断面を示す模式図である。図1に示す例では、着色基材11上に透明樹脂層12が積層された構造を有する。透明樹脂層12はセル状に分割されたエンボス模様13を有し、エンボス模様13の凹部には、ワイピングによって着色材又はインキが充填されている。着色基材11と透明樹脂層12の間にはベタインキ層15と絵柄インキ層16からなる着色層14を有する。
以下、図1を用いて各層を構成する要素について詳細に説明する。
これらの樹脂のうち、環境の点を考慮するとポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン系樹脂が好ましい。
上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸化処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線処理法などが挙げられ、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理は、基材の種類に応じて適宜選択されるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から好ましく用いられる。
また、着色基材11の厚さについては特に制限はないが、通常20〜150μm程度、好ましくは30〜100μmの範囲である。
本発明は、特に木目模様に適用した際に顕著な効果が得られる。
着色剤としては、カーボンブラック(墨)、鉄黒、チタン白、アンチモン白、黄鉛、チタン黄、弁柄、カドミウム赤、群青、コバルトブルー等の無機顔料、キナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー等の有機顔料又は染料、アルミニウム、真鍮等の鱗片状箔片からなる金属顔料、二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢(パール)顔料等が用いられる。
この着色層14の厚さとしては、1〜5μm程度である。
また、透明樹脂層12の表面は着色基材11で述べたのと同様の易接着処理を施すことが、後に詳述する表面保護層17との接着性が向上するため好ましい。
加熱加圧によるエンボス加工法は透明樹脂層12の表面を加熱軟化させ、エンボス版で加圧してエンボス版の凹凸模様を賦形して、冷却し、固定化する方法であって、公知の枚葉式又は輪転式のエンボス機を用いることができる。加熱加圧によるエンボス加工法でエンボスを形成する場合には、ラミネート加工等により透明樹脂層12を着色基材11に積層する前に、透明樹脂層12を構成する樹脂フィルムにあらかじめエンボス加工する方法と着色基材11に透明樹脂層12を積層する工程で同時にエンボス加工を行う方法(いわゆるダブリングエンボス法)がある。
また、Tダイ溶融押出し同時エンボス加工を行う場合には、溶融押出しのためのローラーと賦形ローラーを兼用させた冷却ローラーを使用して、透明樹脂層12の成膜・積層と同時にエンボス模様13を形成することができる。
また、本発明におけるエンボスは、後述する版面を腐食して形成された微小な凸状部が集合しているエンボス版によって加熱加圧状態で行われ、透明樹脂層12の面には、図1に示すように、独立した凹部が集合して形成されている。この凹部は部分的には連結していてもよい。
次いで、このような凹部が配列したエンボス化粧シート10の表面を適宜な色のインキでワイピングすると、連続階調を有する有色画像を形成することができる。本発明の化粧シート10は、着色層14とエンボス模様及びワイピングによる着色の3者が組合わさって連続階調のある繊細でデリケートな中にも迫力のある絵柄の再現あるいは新規な絵柄の創造を可能とするものである。
透明樹脂層12のエンボス模様(凹凸形状)としては、着色層14で用い得るのと同様の模様であり、木目模様、大理石模様(例えばトラバーチン大理石模様)等の岩石の表面を模した石目模様、布目や布状の模様を模した布地模様、タイル貼模様、煉瓦積模様等があり、これらを複合した寄木、パッチワーク等の模様等がある。
本発明では、木目模様の絵柄に特に適するものであり、木目の導管部と木目模様を共にエンボス模様として同調させることにより、より意匠性の高いものとなり好ましい。
また、不規則な配列を得る手法としてボロノイ分割処理が特に好適である。ボロノイ分割処理の手法については、特開2006−71877号公報に詳しい。本発明で用いるセルパターンを形成するための「ボロノイ図」とは、母点の空間的な勢力圏を何らかの形で数学的に定義することにより得られる勢力分布図であれば、どのような定義によって得られたものでも構わない。数学的には、例えば「裁口ボロノイ図」、「最遠点ボロノイ図」、「円のボロノイ図」など種々のボロノイ図を用いることができる。
本発明で用いられる不定形セル木肌調模倣エンボス版の凸部の高さとしては、通常5〜60μmの範囲で選定される。また、当該木肌調模倣エンボス版が、平行な不定形線条を有する場合、該線条に対し、垂直方向1インチ(2.54cm)当たりの線数は、通常40〜250線程度である。なお、当該木肌調摸倣エンボス版がレーザー彫刻による場合、線数は50〜200線/インチ程度であり、機械彫刻による場合、線数は40〜100線/インチ程度である。
次に、一旦入力されたこの画像を画像処理装置のディスプレイに取り出し、ディスプレイ上でエンボスシリンダーの円周に合わせたエンドレス画像になるよう画像処理を行う。若し、既存のエンドレス原版を流用するのであれば、このデータを同じく入力しておいて、修正がなければそのまま使用すればよい。
次に、エンボスシリンダー面の現像、腐食を行うと、レジスト網点によるレジスト層以外の部分が腐食されて凸状部が形成され、それらが集合したエンボス版が出来上がる。凸状部の傾斜、サイドエッチングの度合いは腐食法によって多少は変化する。
最後にこの面にクロムメッキを施してエンボス版を完成させる。本発明に使用するエンボス版の刷版は、以上述べたフィルムレスの方法以外にも、従来の網点グラビア印刷方式によって、フィルムに出力された網点画像から刷版するようにしてもよい。
本発明の化粧シートにおいて、表面保護層17は硬化性樹脂組成物の架橋硬化したもので構成されることが好ましく、硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂組成物等が挙げられ、電離放射線硬化性樹脂組成物、特に電子線硬化性樹脂組成物が好ましい。
熱硬化性樹脂組成物としては、フェノール樹脂、フェノール−ホルマリン樹脂、尿素樹脂、尿素−ホルマリン樹脂、メラミン樹脂、メラミン−ホルマリン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、汎用の2液硬化型アクリル樹脂(アクリルポリオール硬化物)などを例示することができる。
代表的には、重合性モノマーとして、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ(メタ)アクリレート系モノマーが好適であり、中でも多官能性(メタ)アクリレートが好ましい。なお、ここで「(メタ)アクリレート」とは「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。多官能性(メタ)アクリレートとしては、分子内にエチレン性不飽和結合を2個以上有する(メタ)アクリレートであればよく、特に制限はない。具体的にはエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルジ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ(メタ)アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ(メタ)アクリレート、イソシアヌレートジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの多官能性(メタ)アクリレートは1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、分子中にカチオン重合性官能基を有する重合性オリゴマー等に対しては、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等が挙げられる。
また、光増感剤としては、例えばp−ジメチル安息香酸エステル、第三級アミン類、チオール系増感剤などを用いることができる。
本発明においては、電離放射線硬化性樹脂組成物として電子線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。電子線硬化性樹脂組成物は無溶剤化が可能であって、環境や健康の観点からより好ましく、また光重合用開始剤を必要とせず、安定な硬化特性が得られるからである。
ここで、耐候性改善剤としては、紫外線吸収剤や光安定剤を用いることができる。紫外線吸収剤は、無機系、有機系のいずれでもよく、無機系紫外線吸収剤としては、平均粒径が5〜120nm程度の二酸化チタン、酸化セリウム、酸化亜鉛などを好ましく用いることができる。また、有機系紫外線吸収剤としては、例えばベンゾトリアゾール系、具体的には、2−(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、ポリエチレングリコールの3−[3−(ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオン酸エステルなどが挙げられる。一方、光安定剤としては、例えばヒンダードアミン系、具体的には2−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2’−n−ブチルマロン酸ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)セバケート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラカルボキシレートなどが挙げられる。また、紫外線吸収剤や光安定剤として、分子内に(メタ)アクリロイル基などの重合性基を有する反応性の紫外線吸収剤や光安定剤を用いることもできる。
重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、p−ベンゾキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、t−ブチルカテコールなどが、架橋剤としては、例えばポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、金属キレート化合物、アジリジン化合物、オキサゾリン化合物などが用いられる。
充填剤としては、例えば硫酸バリウム、タルク、クレー、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウムなどが用いられる。
着色剤としては、例えばキナクリドンレッド、イソインドリノンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーン、酸化チタン、カーボンブラックなどの公知の着色用顔料などが用いられる。
赤外線吸収剤としては、例えば、ジチオール系金属錯体、フタロシアニン系化合物、ジインモニウム化合物等が用いられる。
本発明においては、このようにして調製された塗工液を、基材の表面に、硬化後の厚さが3〜10μm程度になるように、グラビアコート、バーコート、ロールコート、リバースロールコート、コンマコートなどの公知の方式、好ましくはグラビアコートにより塗工し、未硬化樹脂層を形成させる。
なお、電子線の照射においては、加速電圧が高いほど透過能力が増加するため、基材として電子線により劣化する基材を使用する場合には、電子線の透過深さと樹脂層の厚みが実質的に等しくなるように、加速電圧を選定することにより、基材への余分の電子線の照射を抑制することができ、過剰電子線による基材の劣化を最小限にとどめることができる。
また、照射線量は、樹脂層の架橋密度が飽和する量が好ましく、通常5〜300kGy(0.5〜30Mrad)、好ましくは10〜50kGy(1〜5Mrad)の範囲で選定される。
さらに、電子線源としては、特に制限はなく、例えばコックロフトワルトン型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型などの各種電子線加速器を用いることができる。
電離放射線として紫外線を用いる場合には、波長190〜380nmの紫外線を含むものを放射する。紫外線源としては特に制限はなく、例えば高圧水銀燈、低圧水銀燈、メタルハライドランプ、カーボンアーク燈等が用いられる。
このようにして、形成された硬化樹脂層には、各種の添加剤を添加して各種の機能、例えば、高硬度で耐擦傷性を有する、いわゆるハードコート機能、防曇コート機能、防汚コート機能、防眩コート機能、反射防止コート機能、紫外線遮蔽コート機能、赤外線遮蔽コート機能などを付与することもできる。
以下に示す方法に従って、図4に示す木肌調摸倣版を製造した。
幅10〜30μm、長さ100〜300μmの図4に示す木材の繊維の配列を模した不定形のセルを規則性のない位置に配した連続的なボロノイ形状を有するイメージに対して、重ね刷りをする木目の濃淡に従い濃度及び配列の密度を変化させ、それぞれの濃度に対応して網点%を制御した。それぞれの網点を不定形の規則性のない位置に配したボロノイ形状を有するイメージとし、繊維の配列と木目を同調させ、木肌のイメージを得た。該イメージをディスプレイ上でエンボスシリンダーの円周に合わせたエンドレス画像になるよう画像処理を行った。次に、レジスト感光液を塗布して予め準備したエンボスシリンダー上に、レーザーストリーム製版装置を使用して、前記エンドレス画像データを出力して、網点画像を焼き付けた。次いで、エンボスシリンダー面の現像、腐食を行い、表面にクロムメッキを施してエンボス版(エンボスロール)を得た。
着色基材11として、ポリプロピレン系着色シート(三菱化学MKV(株)製、厚さ60μm)を用い、その表面にコロナ放電処理を施した。その面に、硝化綿をバインダーとし、弁柄を主成分とする着色剤を含有するインキを用いて、木目色を有する着色層(ベタインキ層)14をグラビア印刷にて形成した。
次に、マレイン酸変性ポリプロピレン樹脂及びランダム重合ポリプロピレン樹脂にフェノール系酸化防止剤0.2質量%、ヒンダードアミン系光安定剤0.3質量%、ブロッキング防止剤0.2質量%をそれぞれ添加した樹脂をオゾン照射の下で、Tダイにて220℃の加熱によって溶融し、共押出して約80μm(マレイン酸変性ポリプロピレン樹脂層の厚さ10μm、ランダム重合ポリプロピレン樹脂層の厚さ70μm)の透明樹脂層12を着色層14の上に積層した。
次いで、該透明樹脂層12の表面に、製造例1で得られたエンボスロールを用いて、約180℃で熱エンボスによるエンボス加工を行った。次に、ウレタン系着色インキ((株)昭和インク工業所「W−141」)のインキを用いて、ワイピング加工を行い、次いで、3官能アクリレートモノマーであるエチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンエチレンオキサイドトリアクリレートを60質量部と6官能アクリレートモノマーであるジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを40質量部、平均粒子径1.5μmのシリカ粒子2質量部及びシリコーンアクリレートプレポリマー1質量部からなる電子線硬化性樹脂組成物を塗工量5g/m2で塗工し、表面保護層17形成用の樹脂層を得た。
塗工後、加速電圧175kV、照射線量5Mradの電子線を照射して、電子線硬化性樹脂組成物を硬化させて、表面保護層17を形成した。次いで、70℃で24時間の養生を行い、化粧シートを得た。表面保護層17の厚さは約3μmであった。
得られた化粧シートは、木肌模様に対してモアレが発生せず、繊維柄と木目柄が同調し、自然に近い風合いをもった意匠性の高いものであった。
木目の濃淡に対して網点形成を不定形にせず、通常のAMスクリーンを用いて、定型セルとし、通常の網点エンボス形状としたこと以外は実施例1と同様にして化粧シートを得た。
得られた化粧シートは、濃度の濃い部分でモアレが発生し、自然な木調感が得られず、意匠性の低いものであった。
11.着色基材
12.透明樹脂層
13.エンボス模様
14.着色層
15.ベタインキ層
16.絵柄インキ層
17.表面保護層
Claims (7)
- 着色基材上に、少なくとも透明樹脂層を積層した化粧シートであって、該透明樹脂層がセル状に分割されたエンボス模様を有し、該エンボス模様の凹部にはワイピングによって着色材又はインキが充填されることで連続諧調の模様が施され、かつ、該エンボス模様を構成する凹部が不規則な配列であり、該エンボス模様を構成する凹部の不規則な配列が、ボロノイ分割により得た配列であり、該着色基材と該透明樹脂層との間に着色層を有し、該着色層とエンボス模様とが同調している化粧シート。
- 着色層の模様が木目模様であり、エンボス模様が木目の導管部の模様であり、かつ該木目模様と導管部の模様とが同調している請求項1に記載の化粧シート。
- 透明樹脂層の上にさらに表面保護層を有する請求項1又は2に記載の化粧シート。
- 表面保護層が、電離放射線硬化性樹脂組成物が架橋硬化したものである請求項3に記載の化粧シート。
- 着色基材に着色層を形成し、透明樹脂層を積層し、次いで該透明樹脂層にエンボス加工により該着色層と同調するエンボス模様を形成し、
該エンボス模様を構成する凹部がボロノイ分割により得た不規則な配列であり、
該エンボス模様の凹部にワイピングによって着色材又はインキを充填して連続諧調の模様を施すことを特徴とする化粧シートの製造方法。 - 透明樹脂層の上にさらに表面保護層を設ける請求項5に記載の化粧シートの製造方法。
- 電離放射線硬化性樹脂組成物を架橋硬化して表面保護層を形成する請求項6に記載の化粧シートの製造方法。
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