WO2014010620A1

WO2014010620A1 - タッチパネルセンサ、タッチパネル装置および表示装置

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Publication number: WO2014010620A1
Application number: PCT/JP2013/068836
Authority: WO
Inventors: 康英彦石井; 祐一宮崎; 洋一郎大橋
Original assignee: 大日本印刷株式会社
Priority date: 2012-07-11
Filing date: 2013-07-10
Publication date: 2014-01-16
Also published as: KR102008047B1; US20150177876A1; JP2014016944A; KR20170057466A; US20170177121A1; US9983754B2; US10416826B2; US20190346947A1; CN104428738A; US20200110489A1; US9639219B2; CN104428738B; JP5224203B1; US20180246600A1; TWI584163B; KR20150017380A; US10521063B2; TW201423511A; US10901563B2; KR102006089B1

Abstract

　タッチパネルセンサ（３０）は、基材（３５）と、検出電極（５０）および検出電極に接続された取出電極（４５）を含む電極（４０）と、を備える。電極は、任意の厚さ方向断面においてその少なくとも一部分を占める金属層（６１）を含む。検出電極と取出電極との接続箇所において、金属層は一体的に形成されている。検出電極は、導線（６０）がメッシュパターンにて配置された導電体メッシュ（５５）を含み、導線の高さは０．２μｍ以上２μｍ以下であり、導線の幅は１μｍ以上５μｍ以下である。導電性メッシュの導線は、基材側に位置する基端面（６６）と、基端面に対向して配置された平坦な先端面（６７）と、を含む。

Description

タッチパネルセンサ、タッチパネル装置および表示装置

　本発明は、電極を有したタッチパネルセンサに係り、とりわけ、電極が低抵抗であるとともに電極をなす導線が細線化されたタッチパネルセンサに関する。また、本発明は、タッチパネルセンサを含むタッチパネル装置、並びに、タッチパネルセンサまたはタッチパネル装置を含む表示装置に関する。

　今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の画像表示機構が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、画像表示機構とともに用いられている。このような装置において、タッチパネルセンサは画像表示機構の表示面上に配置され、これにより、タッチパネル装置は表示装置に対する極めて直接的な入力を可能にする。タッチパネルセンサのうちの画像表示機構の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。

　タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置（接近位置）を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別され得る。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、容量結合方式のタッチパネル装置が注目されている。容量結合方式のタッチパネル装置においては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触（接近）することにより、新たに奇生容量が発生し、この静電容量の変化を利用して、タッチパネルセンサ上における外部導体の位置を検出するようになっている。

　タッチパネルセンサは、通常、基材と、基材上に設けられた電極と、を有している。電極は、アクティブエリアに位置する検出電極と、非アクティブエリアに位置する取出電極と、を有している。例えばＪＰ２００８－９８１６９Ａに開示されているように、多くのタッチパネルセンサにおいて、検出電極は、画像表示機構の表示領域に対面する位置に配置されることから、ＩＴＯ等の透明導電材料を用いて形成されている。ただし、透明導電材料の屈折率は比較的に大きく、このため、タッチパネルセンサのうち検出電極が配置されている領域と検出電極が配置されていない領域との間における光の透過率および反射率が大きく異なる場合がある。このように領域間における光の透過率および反射率の差が大きい場合、検出電極の輪郭がタッチパネルセンサの使用者から視認されることになり、意匠上の観点から好ましくないだけでなく、表示装置の画質を著しく劣化させてしまう。

　また、別のタッチパネルセンサとして、検出電極が金属材料を用いて形成されたタッチパネルセンサも知られている。このタッチパネルセンサでは、検出電極が幅狭の導線として形成されている。このため、アクティブエリアでの透過率を十分高くすることができる。また、金属材料の導電率は高いことから、金属導線の幅を狭くしても、タッチパネルセンサの面抵抗率（単位：Ω／□）を十分小さくすることができる。このようなタッチパネルセンサは、まず、透明基材上に、接着剤を介して金属箔を積層し、次に、この金属箔を、フォトリソグラフィー技術を用いたエッチングによりパターンニングして、電極を形成することによって、作製されている。

　ところで昨今においては、高画質化、さらには、タブレットと呼ばれる携帯用小型端末の普及にともなって、電極の細線化が強く要望されている。

しかしながら、電極が金属導線からなる従来のタッチパネルセンサでは、パターニングされたレジストをマスクとして、金属箔をエッチングすることにより作製されている。工業的に製造されている金属箔の厚みは１０μｍ以上である。このような厚みの金属箔をエッチングすることによって安定して作製され得る、金属導線の幅は少なくとも１０μｍ以上となる。その理由は、図２１に示すように、エッチング時に必然的に生じてしまう横方向への浸食（サイドエッチング）により、隣り合う浸食箇所がレジストの下方で繋がってしまうことにある。レジストの下方で浸食箇所が繋がってしまうと、当該レジスト部分はもはや安定して支持され得ない。結果として、当該レジスト部分の下方に形成されるべき金属導線は直線性に欠け、また、高さ（厚み）にばらつきが生じる。

　加えて、図２１に示すように、得られた金属導線の断面形状は、基材から突出する三角形形状となる。このような金属導線は、幅が狭い上に高さも低いため、十分な導電率を呈することはない。したがって、このタッチパネルセンサの面抵抗率は高くなってしまい、位置検出のためのセンシング感度が低下する。加えて、このようなタッチパネルセンサを、突出した金属導線が観察者側を向くようにしてタッチパネル装置や表示装置に組み込んだ場合、必要な面抵抗率を有する金属導線が視認されやすくなる。この結果、タッチパネルセンサの金属導線に起因した濃淡のムラや、画像表示機構の画素配列や他のタッチパネルセンサの金属導線等との干渉に起因したモアレが、視認されやすくなる。

　すなわち、従来の技術では、電極をなす金属導線を十分に細線化することができていなかった。本発明は、このような点を考慮してなされたものであって、電極が低抵抗であるとともに電極をなす導線が細線化されたタッチパネルセンサを提供することを目的とする。

　本発明による第１のタッチパネルセンサは、
　基材と、
　前記基材に設けられた電極であって、位置検出に用いられる検出電極と、前記検出電極に接続された取出電極と、を含む電極と、を備え、
　前記電極は、任意の厚さ方向断面においてその少なくとも一部分を占める金属層を含み、
　前記検出電極と前記取出電極との接続箇所において、前記検出電極の金属層および前記取出電極の金属層は、一体的に形成されており、
　前記検出電極は、導線が多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて配置されている導電体メッシュを含み、前記導電体メッシュの前記導線の高さは０．２μｍ以上２μｍ以下であり、前記導電体メッシュの前記導線の幅は１μｍ以上５μｍ以下であり、
　前記導電性メッシュの前記導線は、前記基材側に位置する基端面と、前記基端面に対向して配置された平坦な先端面と、前記基端面と前記先端面との間を接続する一対の側面と、を有する。

　本発明による第２のタッチパネルセンサは、
　基材と、
　前記基材に設けられた電極であって、位置検出に用いられる検出電極と、前記検出電極に接続された取出電極と、を含む電極と、を備え、
　前記電極は、任意の厚さ方向断面においてその少なくとも一部分を占める金属層を含み、
　前記検出電極と前記取出電極との接続箇所において、前記検出電極の金属層および前記取出電極の金属層は、一体的に形成されており、
　前記検出電極は、導線が多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて配置されている導電体メッシュを含み、
　前記導電性メッシュの前記導線は、前記基材側に位置する基端面と、前記基端面に対向して配置された平坦な先端面と、前記基端面と前記先端面との間を接続する一対の側面と、を有し、
　前記導電体メッシュの前記導線の幅は、前記先端面から前記基端面の側に向けて小さくなるように変化する。

　本発明による第３のタッチパネルセンサ３０は、
　基材と、
　前記基材に設けられた電極であって、位置検出に用いられる検出電極と、前記検出電極に接続された取出電極と、を含む電極と、を備え、
　前記電極は、任意の厚さ方向断面においてその少なくとも一部分を占める金属層を含み、
　前記検出電極と前記取出電極との接続箇所において、前記検出電極の金属層および前記取出電極の金属層は、一体的に形成されており、
　前記検出電極は、導線が多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて配置されている導電体メッシュを含み、
　前記導電性メッシュの前記導線は、前記基材側に位置する基端面と、前記基端面に対向して配置された平坦な先端面と、前記基端面と前記先端面との間を接続する一対の側面と、を有し、
　前記導電体メッシュの前記導線の幅は、前記先端面よりも前記基端面において狭くなっている。

　本発明による第１～第３のタッチパネルセンサにおいて、前記導電性メッシュの前記導線は、前記金属層の前記基材とは反対側に設けられて前記先端面を形成する黒化層を、さらに含むようにしてもよい。

　本発明による第１～第３のタッチパネルセンサにおいて、前記導電性メッシュの前記導線は、前記金属層の前記基材側に設けられて前記基端面を形成する黒化層を、さらに含むようにしてもよい。

　本発明による第１～第３のタッチパネルセンサにおいて、前記導電体メッシュの前記導線の幅は、前記先端面から前記基端面に向け、前記先端面から前記基端面までの間において、小さくなるようにのみ変化してもよい。

　本発明による第１～第３のタッチパネルセンサにおいて、前記導電体メッシュの前記導線の幅は、前記先端面から前記基端面の側に向けて小さくなるようにのみ変化し、その後、前記先端面の側から前記基端面まで大きくなるようにのみ変化してもよい。

　本発明による第１～第３のタッチパネルセンサにおいて、前記メッシュパターンは、二つの分岐点の間を延びて前記開口領域を画成する多数の境界線分から形成され、前記メッシュパターンにおいて、一つの分岐点から延び出す境界線分の数の平均が、３．０以上４．０未満であり、且つ、前記開口領域が一定のピッチで並べられている方向が存在しないようにしてもよい。

　本発明による第１～第３のタッチパネルセンサにおいて、前記メッシュパターンは、二つの分岐点の間を延びて前記開口領域を画成する多数の境界線分から形成され、前記メッシュパターンに含まれた前記開口領域のうち、６本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域が、最も多くてもよい。

　本発明による第１～第３のタッチパネルセンサにおいて、一つの分岐点で接続される境界線分の数の前記平均が３．０より大きくてもよい。

　本発明による第１～第３のタッチパネルセンサにおいて、一つの分岐点で接続される境界線分の数の前記平均が３．０であってもよい。

　本発明によるタッチパネル装置は、上述した本発明による第１～第３のタッチパネルセンサのいずれかを含む。

　本発明による表示装置は、上述した本発明による第１～第３のタッチパネルセンサのいずれか、或いは、上述した本発明によるタッチパネル装置のいずれかを含む。

　本発明によれば、タッチパネルセンサの電極を低抵抗に維持しながら、当該電極をなす導線を細線化することができる。

図１は、本発明による一実施の形態を説明するための図であって、タッチパネル装置を画像表示機構とともに概略的に示す図である。図２は、図１のタッチパネル装置を画像表示機構とともに示す断面図である。なお、図２に示された断面は、図１のＩＩ－ＩＩ線に沿った断面に概ね対応している。図３は、タッチパネル装置のタッチパネルセンサを示す上面図である。図４は、図３のＩＶ－ＩＶ線に沿った断面図である。図５は、図４のタッチパネルセンサに含まれる導電性メッシュ５５の平面視におけるメッシュパターンの一例を説明するための図である。図６は、導電性メッシュの拡大図であって、導電性メッシュのメッシュパターンを説明するための図である。図７は、図５に示された導電性メッシュの他の例を示す平面図である。図８は、図７の導電性メッシュについて各本数の境界線分によって取り囲まれた開口領域の個数を示すグラフである。図９は、図５に示された導電性メッシュのメッシュパターンを設計する方法を説明するための図であって、母点を決定する方法を示す図である。図１０は、図５に示された導電性メッシュのメッシュパターンを設計する方法を説明するための図であって、母点を決定する方法を示す図である。図１１は、図５に示された導電性メッシュのメッシュパターンを設計する方法を説明するための図であって、母点を決定する方法を示す図である。図１２（ａ）～（ｄ）は、決定された母点群を絶対座標系および相対座標系において示す図であり、母点群の分散の程度を説明するための図である。図１３は、図５に示された導電性メッシュのメッシュパターンを設計する方法を説明するための図であって、決定された母点からボロノイ図を作成してメッシュパターンを決定する方法を示す図である。図１４（ａ）～（ｅ）は、タッチパネルセンサの製造方法の一例を説明するための図である。図１５は、図２に対応する図であって、タッチパネル装置の一変形例を説明するための図である。図１６は、図４に対応する図であって、タッチパネルセンサの一変形例を説明するための図である。図１７は、図４に対応する図であって、タッチパネルセンサの他の変形例を説明するための図である。図１８は、図３に対応する図であって、タッチパネルセンサのさらに他の変形例を説明するための図である。図１９は、図３に対応する図であって、タッチパネルセンサのさらに他の変形例を説明するための図である。図２０は、図３に対応する図であって、タッチパネルセンサのさらに他の変形例を説明するための図である。図２１は、エッチング時の不具合を説明するための図である。図２２は、反射型電子顕微鏡で観察された電極の断面写真である。

　以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図２２の写真を除き、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

　図１～図１４は本発明による一実施の形態を説明するための図である。このうち図１はタッチパネル装置を表示装置とともに概略的に示す図であり、図２は図１のタッチパネル装置を表示装置とともに示す断面図であり、図３および図４はタッチパネル装置のタッチパネルセンサを示す上面図および断面図であり、図５はタッチパネルセンサの導電性メッシュにおけるメッシュパターンの一例を説明するための平面図である。

　図１～図４に示されたタッチパネル装置２０は、投影型の静電容量結合方式として構成され、タッチパネル装置への外部導体（例えば、人間の指）の接触位置を検出可能に構成されている。なお、静電容量結合方式のタッチパネル装置２０の検出感度が優れている場合には、外部導体がタッチパネル装置に接近しただけで当該外部導体がタッチパネル装置のどの領域に接近しているかを検出することができる。このような現象にともなって、ここで用いる「接触位置」とは、実際には接触していないが位置を検出され得る接近位置を含む概念とする。

　＜＜＜画像表示機構１２＞＞＞
　図１および図２に示すように、タッチパネル装置２０は、画像表示機構（例えば液晶表示装置）１２とともに組み合わせられて用いられ、表示装置１０を構成している。図示された画像表示機構１２は、一例としてフラットパネルディスプレイ、より具体的には液晶表示装置として構成されている。画像表示機構１２は、表示面１２ａを形成する液晶表示パネル１５と、液晶表示パネル１５を背面から照明するバックライト１４と、液晶表示パネル１５に接続された表示制御部１３と、を有している。液晶表示パネル１５は、映像を表示することができる表示領域Ａ１と、表示領域Ａ１を取り囲むようにして表示領域Ａ１の外側に配置された非表示領域（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部１３は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて液晶表示パネル１５を駆動する。液晶表示パネル１５は、表示制御部１３の制御信号により、所定の映像を表示面１２ａに表示するようになる。すなわち、画像表示機構１２は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置として役割を担っている。

　なお、図２に示されているように、液晶表示パネル１５は、一対の偏光板１６，１８と、一対の偏光板１６，１８間に配置された液晶セル１７と、を有している。出光側に配置された偏光板１８の出光側には、機能層１９が設けられている。機能層１９は、特定の機能を発揮することを期待された層であって、画像表示機構１２の最出光側面、すなわち表示面１２ａを形成している。機能層１９は、一例として、反射防止層（ＡＲ層）としての機能する低屈折率層とすることができる。また機能層１９の他の例として、反射防止層に代えて或いは反射防止層に加えて、防眩機能を有した防眩層（ＡＧ層）、耐擦傷性を有したハードコート層（ＨＣ層）、帯電防止機能を有した帯電防止層（ＡＳ層）等の一以上を含むように構成され得る。

　偏光板１６，１８は、入射した光を直交する二つの偏光成分に分解し、一方の方向の偏光成分を透過させ、前記一方の方向に直交する他方の方向の偏光成分を吸収する機能を有した偏光子を有している。以下においては、液晶表示パネル１５に含まれる一対の偏光板を区別するため、液晶表示パネル１５の配置状態に関係なく、入光側（バックライト側）の偏光板１６を下偏光板と呼び、出光側（観察者側）の偏光板１８を上偏光板と呼ぶ。

　液晶セル１７は、一対の支持板と、一対の支持板間に配置された液晶と、を有している。液晶セル１７は、一つの画素を形成する領域毎に、電界印加がなされ得るようになっている。そして、電界印加された液晶セル１７の液晶の配向は変化するようになる。入光側に配置された下偏光板１６を透過した特定方向（透過軸と平行な方向）の偏光成分は、一例として、電界印加されている液晶セル１７を通過する際にその偏光方向を９０°回転させ、電界印加されていない液晶セル１７を通過する際にその偏光方向を維持する。このため、液晶セル１７への電界印加の有無によって、下偏光板１６を透過した特定方向の偏光成分が、下偏光板１６の出光側に配置された上偏光板１８をさらに透過するか、あるいは、上偏光板１８で吸収されて遮断されるか、を制御することができる。

　バックライト１４は、光源を含んでおり、面状に光を照射する。バックライト１４は、エッジライト型（サイドライト型）や直下型として構成された既知の面光源装置を用いることができる。光源は、発光ダイオード（ＬＥＤ）、冷陰極管、白熱灯、有機ＥＬ等の既知の光源から構成され得る。

　＜＜＜タッチパネル装置２０＞＞＞
　次に、タッチパネル装置２０について説明する。タッチパネル装置２０は、タッチパネルセンサ３０を含む積層体２０ａと、タッチパネルセンサ３０に接続された検出制御部２１と、を有している。タッチパネルセンサ３０を含む積層体２０ａは、画像表示機構１２の表示面１２ａの対面する位置に配置されている。上述したように、タッチパネル装置２０は、投影型容量結合方式のタッチパネル装置として構成されており、情報を入力する入力装置としての役割を担っている。

　図２に示された例では、タッチパネル装置２０の積層体２０ａは、観察者側、すなわち、画像表示機構１２とは反対の側から順に、カバー層２８、接着層２５、第１タッチパネルセンサ３１、接着層２４、第２タッチパネルセンサ３２、および、低屈折率層２３を有している。すなわち、図２に示された例では、タッチパネル装置２０は、二つのタッチパネルセンサ３０を含んでいる。

　カバー層２８は、誘電体として機能する透光性を有した層であり、例えばガラスや樹脂フィルムから形成される。このカバー層２８は、タッチパネル装置２０への入力面（タッチ面、接触面）として機能するようになる。つまり、カバー層２８に導体、例えば人間の指５を接触させることにより、タッチパネル装置２０に対して外部から情報を入力することができるようになっている。また、カバー層２８は、表示装置１０の最観察者側面をなしており、表示装置１０において、タッチパネル装置２０および画像表示機構１２を外部から保護するカバーとしても機能する。

　カバー層２８は、接着層２５を介して第１タッチパネルセンサ３１と接合されている。
また、第１タッチパネルセンサ３１は、接着層２４を介して第２タッチパネルセンサ３２と接合されている。接着層２４および接着層２５は、第１タッチパネルセンサ３１及び第２タッチパネルセンサ３２の電極４０と、カバー層２８に接触する導体、例えば人間の指５と、の間で誘電体として機能する。このような接着層２４および接着層２５としては、種々の接着性を有した材料からなる層を用いることができる。なお、本明細書において、「接着（層）」は粘着（層）をも含む概念として用いる。

　第２タッチパネルセンサ３２の画像表示機構１２側に設けられた低屈折率層２３は、反射防止層（ＡＲ層）として機能することを期待された層である。この低屈折率層２３によれば、画像表示機構１２からの画像を形成する光が、タッチパネル装置２０の画像表示機構１２側の表面にて、反射されて迷光となってしまうことを防止することができる。なお、低屈折率層２３は、多数の微小突起を含んでなるモスアイ構造を有した反射防止層に置き換えることも可能であり、また、省略することも可能である。さらに、タッチパネル装置２０の積層体２０ａが、画像表示機構１２の表示面１２ａに接着層等を介して接合されることも可能であり、この場合、低屈折率層２３は不要となる。

　なお、タッチパネル装置２０の積層体２０ａには、図示された例に限られず、特定の機能を発揮することを期待されたその他の機能層が設けられても良い。また、一つの機能層が二以上の機能を発揮するようにしてもよいし、例えば、タッチパネルセンサ３０の後述する基材３５や、その他積層体２０ａに含まれる各層（各基材や、接着層）に機能を付与するようにしてもよい。タッチパネル装置２０の積層体２０ａに付与され得る機能としては、一例として、防眩（ＡＧ）機能、耐擦傷性を有したハードコート（ＨＣ）機能、帯電防止（ＡＳ）機能、電磁波遮蔽機能、防汚機能等を例示することができる。

　タッチパネル装置２０の検出制御部２５は、タッチパネルセンサ３０に接続され、カバー層２８を介して入力された情報を処理する。具体的には、検出制御部２５は、カバー層２８へ導体（典型的には、人間の指）５が接触している際に、カバー層２８への導体５の接触位置を特定し得るように構成された回路（検出回路）を含んでいる。また、検出制御部２５は、画像表示機構１２の表示制御部１３と接続され、処理した入力情報を表示制御部１３へ送信することもできる。この際、表示制御部１３は、入力情報に基づいた映像情報を作成し、入力情報に対応した映像を画像表示機構１２に表示させることができる。

　なお、「容量結合」方式および「投影型」の容量結合方式との用語は、タッチパネルの技術分野で用いられる際の意味と同様の意味を有するものとして、本件においても用いている。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネル装置は電極（導電体層）を含んでおり、外部の導体（典型的には人間の指）がタッチパネルに接触することにより、外部の導体とタッチパネル装置の電極（導電体層）との間でコンデンサ（静電容量）が形成されるようになる。そして、このコンデンサの形成にともなった電気的な状態の変化に基づき、タッチパネル上において外部導体が接触している位置の位置座標が特定（位置検出）されるようになる。

　＜＜タッチパネルセンサ３０＞＞
　次に、タッチパネルセンサ３０について、詳述する。図２および図３に示すように、タッチパネルセンサ３０は、シート状の基材３５と、基材３５上に設けられた電極４０と、を有している。図２に示された例において、電極４０は、基材３５の一方の側（観察者側）の面上に設けられている。

　なお、図２に示されたタッチパネル装置２０は、第１タッチパネルセンサ３１および第２タッチパネルセンサ３２を含んでいるが、第１タッチパネルセンサ３１および第２タッチパネルセンサ３２は、電極４０の配列パターンが異なるだけであって、他は同一に構成され得る。以下の説明においては、第１タッチパネルセンサ３１および第２タッチパネルセンサ３２の間で同一に構成され得る部分についは、第１タッチパネルセンサ３１および第２タッチパネルセンサ３２を区別することなくタッチパネルセンサ３０の構成として説明する。

　＜基材３５＞
　基材３５は、電極４０を支持し、且つ、タッチパネルセンサ３０において誘電体として機能する。図１および図３に示すように、基材フィルム３２は、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１に隣接する非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。図１に示すように、タッチパネルセンサ３０のアクティブエリアＡａ１は、画像表示機構１２の表示領域Ａ１に対面する領域を占めている。一方、非アクティブエリアＡａ２は、矩形状のアクティブエリアＡａ１を四方から周状に取り囲むように、言い換えると、額縁状に形成されている。この非アクティブエリアＡａ２は、画像表示機構１２の非表示領域Ａ２に対面する領域に形成されている。

　詳しくは後述するように、電極４０は、位置検出に用いられる取出電極４５と、取出電極４５に接続された検出電極５０と、を有している。図３に示すように、基材３５のアクティブエリアＡａ１内に、外部導体５との間で容量結合を形成し得る検出電極５０が設けられ、基材３５の非アクティブエリアＡａ２内に、検出電極５０に接続された取出電極４５が設けられている。

　アクティブエリアＡａ１を介して画像表示機構１２の画像を観察することができるよう、基材３５は、透明または半透明となっている。基材３５は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であることがより好ましい。なお、基材３５の透過率は、ＪＩＳ　Ｋ７３６１－１（プラスチック－透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。

　基材３５は、例えば、誘電体として機能し得るガラスや樹脂フィルムから構成され得る。樹脂フィルムとしては、光学部材の基材として使用されている種々の樹脂フィルムを好適に用いることができる。一例として、複屈折性を有さない光学等方性のフィルム、典型的には、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムを、基材３５として用いることができる。その一方で、複屈折性を有さない光学等方性のフィルムも、基材３５として用いることができる。例えば、安価で安定性に優れたポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステルフィルムを、基材３５として用いることができる。ポリエステルフィルムは、吸湿性が低く、高温多湿の環境化においても変形等が生じ難いといった利点を、有している。

　（基材の光学異方性）
　ところで、タッチパネルセンサ３０およびタッチパネル装置２０を、図示された例のように、画像を形成する画像光が特定の偏光成分となっている画像表示機構１２と組み合わせて使用する場合、ポリエステルフィルム等に代表される光学異方性フィルムを基材３５として用いると、色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」とも呼ぶ）が視認されるといった不具合が生じてしまうことがある。この点について本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、複屈折性を有する光学異方性基材３５が、合計６０００ｎｍ以上のリタデーションを有することにより、ニジムラを効果的に目立たなくすることが確認された。以下、この点について詳細に説明する。なお、画像表示機構１２の観察者側の位置するカバー層２８についても、ここで説明する光学異方性フィルムを用いることが、ニジムラの不可視化に有効である。

　基材３５のリタデーションは、ニジムラの不可視化の点から６０００ｎｍ以上であることが好ましい。一方、基材３５のリタデーションの上限は、特に限定されるものではないが、３００００ｎｍ程度であることが好ましい。基材３５のリタデーションが３００００ｎｍを超えると、もはやリタデーションを上昇させても、ニジムラ改善効果の向上が見られなくなり、又、基材３５の厚さが厚くなる傾向が生じるためである。また、ニジムラ防止性及び薄膜化の両方の観点からは、基材３５のリタデーションが、１００００～２００００ｎｍであることがより好ましい。

　尚、ここで用いるリタデーション（Ｒｅ）とは、基材３５の面内において最も屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎ_ｘ）と、遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎ_ｙ）と、基材３５の厚み（ｄ）とにより、下記の式（数１）によって表わされるものである。
　　　リタデーション（Ｒｅ）＝（ｎ_ｘ－ｎ_ｙ）×ｄ　・・・（数１）
このリタデーションの値は、例えば、王子計測機器製ＫＯＢＲＡ－ＷＲを用いて、測定角０°および測定波長５４８．２ｎｍの条件にて、測定することができる。

　上記ｎ_ｘ－ｎ_ｙ（以下、Δｎとも表記する）は、０．０５以上であることが好ましい。上記Δｎが０．０５未満であると、充分なニジムラの抑制効果が得られないことがあるためである。又、上述したリタデーション値を得るために必要な膜厚が厚くなるため、好ましくない。上記Δｎのより好ましい下限は０．０７である。

　光学異方性の基材３５を構成する樹脂材料としては、上述したリタデーションの条件を充足するものであれば特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリエーテルケトン系樹脂、（メタ）アクロニトリル系樹脂、及び、シクロオレフィン系樹脂からなる群より選択される一種が好適に用いられる。

　光学異方性の基材３５を得る方法としては、上述したリタデーションを充足する方法であれば特に限定されないが、例えば、基材３５がポリエステルフィルムからなる場合、材料のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。この方法で作製した透明基材のリタデーションを６０００ｎｍ以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、作製する透明基材の膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、又、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得やすくなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、又、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。

　基材３５の厚みとしては、その構成材料等に応じて適宜決定されるが、２０～５００μｍの範囲内であることが好ましい。２０μｍ未満であると、基材３５のリタデーションを６０００ｎｍ以上にできないことがあり、又、力学特性の異方性が顕著となり、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、５００μｍを超えると、基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記基材の厚さのより好ましい下限は３０μｍ、より好ましい上限は４００μｍであり、更により好ましい上限は３００μｍである。

　さらに、本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、液晶表示装置からなる画像表示機構１２との組み合わせでは、タッチパネルセンサ３０の光学異方性基材３５の遅相軸と、画像表示機構１２の上偏光板１８の吸収軸とによってなされる角度が、０°±３０°又は９０°±３０°の範囲となるように、タッチパネルセンサ３０と液晶表示パネル１５とが位置決めされていることが好ましく、０°±１０°又は９０°±１０°の範囲にあることがより好ましく、０°±７°又は９０°±７°の範囲にあることがより好ましく、０°±３°又は９０°±３°の範囲にあることが更に好ましく、上記角度が０°又は９０°となるようにタッチパネルセンサ３０と液晶表示パネル１５とが位置決めされていることが好ましい。タッチパネルセンサ３０の光学異方性基材３５の遅相軸と、画像表示機構１２の上偏光板１８の吸収軸とによってなされる角度が上記範囲内にあることで、ニジムラが生じることを極めて高度に抑制することが可能となることが確認された。

　＜電極４０＞
　次に、基材３５上に設けられたタッチパネルセンサ３０の電極４０について説明する。
上述したように、電極４０は、位置検出に用いられる検出電極５０と、検出電極５０に接続された取出電極４５と、を有している。

　電極４０は、導電性を有した材料から形成され、外部導体５のカバー層２８への接触位置を検出するように構成された検出制御部２５の検出回路に電気的に接続されている。図３に示された例において、電極４０は、基材３５のアクティブエリアＡａ１に配置された多数の検出電極５０と、各検出電極５０にそれぞれ連結され基材３５の非アクティブエリアＡａ２に配置された多数の取出電極４５と、を有している。

　（検出電極５０の全体構成）
　第１タッチパネルセンサ３１の検出電極５０は、第１タッチパネルセンサ３１の基材３５の一方の側（観察者側）の面上に所定のパターンで配置されている。また、第２タッチパネルセンサ３２の検出電極５０は、第２タッチパネルセンサ３２の基材３５の一方の側（観察者側）の面上に、第１タッチパネルセンサ３１の検出電極５０とは異なるパターンで配置されている。より具体的には、図３に示すように、第１タッチパネルセンサ３１の検出電極５０は、マクロ的に観察すると、第１タッチパネルセンサ３１のシート面に沿った一方向に並べて配列された線状に延びる導線（導電体）として構成されている。一方、第２タッチパネルセンサ３２の検出電極５０は、マクロ的に観察すると、前記一方向と交差する第２タッチパネルセンサ３２のシート面に沿った他方向に並べて配列された線状に延びる導線（導電体）として構成されている。図示された例では、第１タッチパネルセンサ３１の検出電極５０の配列方向である一方向と、第２タッチパネルセンサ３２の検出電極５０の配列方向である他方向とは、タッチパネル装置２０のパネル面上において直交している。

　図３に示すように、第１タッチパネルセンサ３１および第２タッチパネルセンサ３２において、電極４０の検出電極５０をなす導線の各々は、その配列方向（前記一方向または前記他方向）と交差する方向に線状に延びている。とりわけ図示する例において、検出電極５０は、その配列方向と直交する直線方向に沿って延びている。

　図３に示された例において、電極４０の各検出電極５０は、その長手方向に間隔を明けて配列された多数の導電性メッシュ５５と、隣り合う二つの導電性５５の間を接続する接続導線５１と、を有している。各検出電極５０は、導電性メッシュ５５および接続導線５１により、アクティブエリアＡａ１内を直線状に延びている。後述するように、導電性メッシュ５５では、細導線６０が多数の開口領域７１を画成するメッシュパターンにて配置されている。図３に示すように、各検出電極５０が配置されている領域の幅は、導電性メッシュ５５が設けられている部分において太くなっている。図３に示された各検出電極５０は、導電性メッシュ５５において、平面視略正方形形状の外輪郭を有するようになっている。

　図３に示すように、タッチパネル装置２０のパネル面への法線方向から観察した場合（すなわち、平面視において）、第１タッチパネルセンサ３１に含まれる各検出電極５０は、第２タッチパネルセンサ３２に含まれる多数の検出電極５０と交差している。そして、図３に示すように、第１タッチパネルセンサ３１の導電性メッシュ５５は、検出電極５０上において、隣り合う二つの第２タッチパネルセンサ３２の検出電極５０との交差点の間に配置されている。同様に、タッチパネル装置２０のパネル面への法線方向から観察した場合（すなわち、平面視において）、第２タッチパネルセンサ３２に含まれる各検出電極５０は、第１タッチパネルセンサ３１に含まれる多数の検出電極５０と交差している。そして、第２タッチパネルセンサ３２の導電性メッシュ５５も、検出電極５０上において、隣り合う二つの第１タッチパネルセンサ３１の検出電極５０との交差点の間に配置されている。さらに、図示された例において、第１タッチパネルセンサ３１に含まれる検出電極５０の導電性メッシュ５５と、第２タッチパネルセンサ３２に含まれる検出電極５０の導電性メッシュ５５とは、タッチパネル装置２０のパネル面への法線方向から観察した場合（すなわち、平面視において）、重ならないように配置されている。つまり、タッチパネル装置２０のパネル面への法線方向から観察した場合（すなわち、平面視において）、第１タッチパネルセンサ３１に含まれる検出電極５０と第２タッチパネルセンサ３２に含まれる検出電極５０とは、検出電極５０の接続導線５１のみにおいて交わっている。

　（導電性メッシュ５５）
　導電性メッシュ５５は、検出電極５０の拡幅された部分を形成している。これにより、カバー層２８の或る程度の広さを持った領域内に接触する外部導体５（例えば、指）を、感度よく検出することが可能となる。その一方で、検出電極５０が設けられるアクティブエリアＡａ１は、画像表示機構１２の表示領域Ａ１上に位置するので、有る程度の可視光透過性を有している必要がある。そこで、導電性メッシュ５５は、高導伝率の金属材料を用いて形成された細導線６０を、メッシュパターンにて配置することにより、可視光透過性を確保している。

　図５に示すように、導電性メッシュ５５の細導線６０は、多数の分岐点７２を含んでいる。そして、導電性メッシュ５５の細導線６０は、両端において分岐点７２を形成する多数の境界線分７３の集まりとして構成されている。すなわち、導電性メッシュ５５の細導線６０は、二つの分岐点７２の間を延びる多数の境界線分７３の集まりとして構成されている。そして、分岐点７２において、境界線分７３が接続されていくことにより、開口領域７１が画成されている。言葉を換えて言うと、境界線分７３で囲繞、区劃されて１つの開口領域７１が画成されている。

　なお、図５に示すように、ここで説明する例では、細導線６０が境界線分７３のみから構成されているため、開口領域７１の内部に延び入る細導線６０は存在しない。このような態様によれば、タッチパネルセンサ３０に十分な位置検出感度と高い可視光透過率とを同時に付与することを効果的に実現することできる。

　（導電性メッシュ５５のメッシュパターン）
　ところで、タッチパネルセンサ３０と重ねて配置される画像表示機構１２の表示領域Ａ１には、画像を形成するための画素が規則的に配列されている。したがって、画素配列を有する画像表示機構１２に導電性メッシュ５５を有したタッチパネルセンサ３０が積層されると、画素の規則的（周期的）パターンと導電性メッシュ５５の開口領域７１の配列パターンとに起因した縞状の模様、すなわちモアレが視認される可能性がある。加えて、開口領域７１の密度バラツキに起因した濃淡のムラが視認される可能性もある。モアレや濃淡ムラの不可視化対策として、種々の方法が知られており、既知の手法を導電性メッシュ５５に適宜適用することができる。

　一方、本件発明者らは、鋭意研究を重ねた結果として、導電性メッシュ５５における細導線６０の配列パターンを工夫することによって、モアレを極めて効果的に目立たなくさせること可能となること、同時に、濃淡ムラを極めて効果的に目立たなくさせること可能となることを知見した。以下、導電性メッシュ５５における細導線６０の平面視における配列パターンを説明する。

　図５～図８は、導電性メッシュ５５におけるメッシュパターンの一例を説明するための図である。図示された導電性メッシュ５５では、モアレの発生を防止するため、開口領域７１が繰返し規則性（周期的）を持ったピッチで並べられた直線方向が存在しないようになっている。本件発明者らは、鋭意研究を重ねた結果として、単に導電性メッシュ５５のパターンを不規則化するのではなく、導電性メッシュ５５の開口領域７１が一定のピッチで並べられた方向が存在しないように導電性メッシュ５５のパターンを画成することが、導電性メッシュ５５を有したタッチパネルセンサ３０と画素配列を有した画像表示機構１２とを重ねた際に生じ得るモアレ、或いは、導電性メッシュ５５を有したタッチパネルセンサ３０を二枚重ねた際に生じ得るモアレを目立たなくさせることに極めて有効であることを知見した。

　ここで、図６は、開口領域７１が一定のピッチで並べられた方向が存在しない状態、言い換えると、開口領域７１が規則的に配列された方向が存在しない状態、さらに言い換えると、開口領域７１が規則性を持って並べられた方向が存在しない状態を説明するための平面図である。図６においては、タッチパネルセンサ３０のシート面上において、任意の位置で任意の方向を向く一本の仮想的な直線ｄ_ｉが選ばれている。この一本の直線ｄ_ｉは、細導線６０をなす境界線分７３と交差し交差点を形成している。この交差点を、図面では図面左下の側から順に、交差点Ｃ_１，Ｃ_２，Ｃ_３，・・・・・，Ｃ_９として図示してある。隣接する交差点、例えば、交差点Ｃ_１と交差点Ｃ_２との距離が、前記或る一つの開口領域７１の直線ｄ_ｉ上での寸法Ｔ_１である。次に、寸法Ｔ_１を持つ開口領域７１に対して直線ｄ_ｉに沿って隣接する別の開口領域７１についても、同様に、直線ｄ_ｉ上での寸法Ｔ_２が定まる。そして、任意位置で任意方向の直線ｄ_ｉについて、直線ｄ_ｉと交差する境界線分７３とから、任意位置で任意方向の直線ｄ_ｉと遭遇する多数の開口領域７１について、該直線ｄ_ｉ上における寸法として、Ｔ_１，Ｔ_２，Ｔ_３，・・・・・・，Ｔ_８が定まる。
そして、Ｔ_１，Ｔ_２，Ｔ_３，・・・・・・，Ｔ_８の数値の並びには、周期性（規則性）が存在しない。すなわち、開口領域７１は、直線方向ｄ_ｉに沿って規則性を持たないように並べられ、
　　　Ｔ_ｋ≠Ｔ_ｋ＋ｌ（ｋ：任意の自然数、ｌ：任意の自然数）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・条件式（ｘ）
を満たすようになっている。なお、図６では、このＴ_１，Ｔ_２，Ｔ_３，・・・・・・，Ｔ_８は、判り易い様に図面下方に、直線ｄ_ｉと共に導電性メッシュ５５とは分離して描いてある。

　また、この直線ｄ_ｉを図６で図示のものから任意の角度だけ回転させて別の方向を向く仮想的な直線ｄ_ｉ＋１について各開口領域Ａの寸法Ｔ_１，Ｔ_２，・・を求めると、やはり図６で図示された場合と同様に、直線ｄ_ｉ＋１方向に対しても、条件式（ｘ）が満たされ、開口領域の寸法Ｔ_１，Ｔ_２，・・に繰返し周期性（規則性）は見られない。このように、開口領域７１がいずれの方向においても条件式（ｘ）を満たす場合、開口領域７１が一定のピッチで並べられた方向が存在しない、あるいは、開口領域が規則的に配列された方向が存在しない、あるいは、開口領域７１が繰返周期を持つ方向が存在しない、あるいは、開口領域の配列が規則性を持たない、と表現する。

　一般的に、導電性メッシュのパターンを不規則化することが、モアレの不可視化に有効であると考えられる。しかしながら、本件発明者らの研究によれば、単に導電性メッシュのパターンの形状及び配列ピッチを不規則化したとしても、常に、モアレを十分に目立たなくさせることはできなかった。また、モアレを目立たなくさせることができたとしても、導電性メッシュに濃淡のムラが発生することもあった。

　一方、ここで説明する導電性メッシュ５５の平面パターンのように、開口領域７１（閉回路）が一定のピッチで並べられた直線方向が存在しないように導電性メッシュ５５を構成し、且つ、次のように一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均に制約条件を課すことによれば、モアレの発生を効果的に防止することが可能になるとともに、濃淡ムラの発生を効果的に防止することも可能となった。このような作用効果は、モアレの不可視化として単にパターンの不規則化を実施してきた従来の技術水準からして、予測される範囲を超えた顕著な効果であると言える。

　図５および図７に示された３０の導電性メッシュ５５では、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均が３．０以上４．０未満となっている。このように一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均が３．０以上４．０未満となっている場合、導電性メッシュ５５の配列パターンを、正方格子配列から大きく異なるパターンとすることができる。また、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均が３．０より大きく４．０未満となっている場合には、ハニカム配列から規則性を崩したパターンとすることができる。そして、本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均を３．０以上４．０未満とした場合、開口領域７１の配列を不規則化して、開口領域７１が繰返規則性（周期性）を持って並べられた方向が安定して存在しないようにすることが可能となり、結果として、モアレを極めて効果的に目立たなくさせることが可能となることが、確認された。

　また、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均に制約条件を課すことによれば、濃淡のムラが目立ってしまうことも防止することができた。濃淡のムラを防止し得る理由の詳細は不明であるが、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均に制約条件を課すことによって、開口領域７１の平面内における分散がある程度均一化されるためのであると推測される。

　なお、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均は、厳密には、導電性メッシュ５５内に含まれる全ての分岐点７２について、延び出す境界線分７３の数を調べてその平均値を算出することになる、ただし、実際的には、細導線６０によって画成された一つあたりの開口領域７１の大きさ等を考慮した上で、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の全体的な傾向を反映し得ると期待される面積を持つ一区画に含まれる分岐点７２について延び出す境界線分７３の数を調べてその平均値を算出し、算出された値を当該導電性メッシュについての一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均値として取り扱うようにしてもよい。例えば、タッチパネルセンサ３０のアクティブエリアＡａ１に形成される導電性メッシュ５５であれば、開口領域７１の開口面積は、直径が１００μｍ～６００μｍである円の面積と同様となる。このような寸法で開口領域７１が画成されるタッチパネルセンサ３０の導電性メッシュ５５では、３０ｍｍ×３０ｍｍの領域内に含まれる分岐点７２を考慮して、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均値として取り扱うことができる。

　同様に、開口領域７１が一定のピッチで並べられている方向が存在するか否かについても、厳密には、対象となる導電性メッシュ５５の全領域内において任意の方向における開口領域７１の配列を調査することなる。ただし、実際的には、開口領域７１の配列の全体的な傾向を反映し得ると期待される面積を持つ一区画（例えば、上述した寸法例で開口領域７１が形成されている導電性メッシュ５５においては、３０ｍｍ×３０ｍｍの部分）において、その中心の一点を通過すると共に全方向についての周期性の傾向を反映するものと期待される程度の角度にて等分した各方向（例えば、上述した寸法例で開口領域７１が形成されている導電性メッシュ５５においては、１５°おきの方向）について、開口領域７１の配列を調査して、開口領域７１が規則的に配列された方向か存在するか否かを判断すればよい。

　図５に示されたタッチパネルセンサ３０の導電性メッシュ５５では、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均が３．０より大きく４．０未満となっている。さらに具体的には、３８７個の分岐点７２について境界線分７３の数を確認したところ、３つの境界線分７３が延び出している分岐点７２が３７３個存在し、その他の１４個の分岐点７２からは４つの境界線分７３が延び出し、一つの分岐点７２から延び出す境界線分数（平均分岐数）は３．０４個であった。そして、図５に示された導電性メッシュ５５を実際に作製して市販されている液晶表示装置の画素配列上に配置した場合、視認され得る程度の縞状の模様、すなわちモアレ（干渉縞）および濃淡ムラは発生しなかった。

　また、本件発明者らが種々の導電性メッシュ５５のパターンについて調査を行ったところ、次の条件（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のうちの一以上の条件を満たす場合に、濃淡ムラおよびモアレの両方をより目立たなくさせることができた。

・条件（Ａ）：６本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた開口領域７１が、最も多く含まれている。すなわち、６本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた開口領域７１が、他の本数の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた開口領域７１と比較して、より多く導電性メッシュ５５に含まれている。

・条件（Ｂ）：次の条件（ｂ１）を満たす。好ましくは、次の条件（ｂ１）と、条件（ｂ２）および（ｂ３）の一方と、を満たす。より好ましくは、次の条件（ｂ１）、（ｂ２）および（ｂ３）のすべてを満たす。
（ｂ１）５本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた開口領域７１、６本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた開口領域７１および７本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた開口領域７１の少なくとも二種類が、それぞれ複数、導電性メッシュ５５に含まれている。
（ｂ２）５本、６本または７本のうちの同一本数の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域７１の面積および形状の少なくとも一方が一定ではない。すなわち、５本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域７１が含まれている場合に、当該５本の境界線分７３によって画成されている複数の開口領域７１の少なくとも二つが面積および形状の少なくとも一方において互いに異なり、且つ、６本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域７１が含まれている場合に、当該６本の境界線分７３によって画成されている複数の開口領域７１の少なくとも二つが面積および形状の少なくとも一方において互いに異なり、且つ、７本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた複数の開口領域７１が含まれている場合に、当該７本の境界線分７３によって画成されている複数の開口領域７１の少なくとも二つが面積および形状の少なくとも一方において互いに異なる。
（ｂ３）６本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた開口領域７１が、複数含まれている。

・条件（Ｃ）：ｋ本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた開口領域７１の数をＮ_ｋとして、
　　　ｋが３≦ｋ≦５を満たす整数の場合に、Ｎ_ｋ≦Ｎ_ｋ＋１
　　　ｋが６≦ｋを満たす整数の場合に、Ｎ_ｋ≧Ｎ_ｋ＋１
となっている。すなわち、６本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた開口領域７１が最も多く含まれ、開口領域７１を取り囲む境界線分７３の本数が６本から多くなっていくにつれて、且つ、開口領域７１を取り囲む境界線分７３の本数が６本から少なくなっていくにつれて、開口領域７１の数量が少なくなっていく。

　なお、各条件（Ａ）～（Ｃ）を満たすか否かは、厳密には、導電性メッシュ５５内に含まれる全ての開口領域７１について調査することになる。ただし、実際的には、細導線６０によって画成された一つあたりの開口領域７１の大きさ等を考慮した上で、一つの開口領域７１を取り囲む境界線分７３の本数の全体的な傾向を反映し得ると期待される面積を持つ一区画（例えば、上述した寸法例で開口領域７１が形成されている導電性メッシュ５５においては、３０ｍｍ×３０ｍｍの部分）に含まれる開口領域７１について取り囲む境界線分７３の数を調査して、各条件（Ａ）～（Ｃ）が満たされるか否かを判断すればよい。

　上述した条件（Ａ）～（Ｃ）の一以上を満たす導電性メッシュ５５によって奏される作用効果は、モアレの不可視化として単にパターンの不規則化を実施してきた従来の技術水準に照らして、予測され得る範囲を超えた顕著な効果であると言える。そして、条件（Ａ）～（Ｃ）の一以上を満たす導電性メッシュ５５によってこのような作用効果が得られるようになる理由の詳細は不明であるが、次のことがその理由になっているものと推定される。ただし、本願発明は、以下の推定に限定されるものではない。

　条件（Ａ）～（Ｃ）の一以上を満たす遮導電性メッシュでは、開口領域７１の配列が、同一形状の正六角形を規則的に配置してなるハニカム配列から、各開口領域の形状および配置の規則性を崩した配列、言い換えると、ハニカム配列を基準として各開口領域の形状および配置をランダム化した配列とすることができる。これにより、開口領域７１の配列に明らかな粗密が生じてしまうことを抑制することができ、多数の開口領域７１を概ね均一な密度で、すなわち概ね一様に分布させることができるものと推測される。この結果として、開口領域７１の配列を完全に不規則化し得ること、すなわち、開口領域７１が規則的に配列された方向が存在しないようにし得ることが、安定して可能となり、開口領域の配列を単に不規則化する場合と比較して、濃淡ムラおよびモアレの両方を効果的に目立たなくさせることができるものと推測される。

　本件発明者らが行った実験の一例として、図７に示されたパターンの導電性メッシュ５５について調査したところ、図８に示すように、この導電性メッシュ５５には、４本、５本、６本、７本、８本、９本の境界線分７３によって取り囲まれた開口領域７１が、それぞれ、７９個、１１４１個、２３８２個、９２７個、９４個、８個含まれていた。また、この導電性メッシュ５５には、３本の境界線分によって取り囲まれた開口領域、および、１０本以上の境界線分７３によって取り囲まれた開口領域７１が含まれていなかった。すなわち、図７に示された導電性メッシュ５５は、条件（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）のすべてを満たしていた。さらに、図７に示された導電性メッシュ５５では、開口領域７１が一定のピッチで並べられている方向が存在せず、且つ、一つの分岐点から延び出す境界線分の数の平均が、３．０以上４．０未満となっていた。尚、以上に於いて、境界線分７３が直線の線分からなる場合は、Ｎ本の境界線分７３によって取り囲まれた開口領域７１の形状はＮ角形となる。そして、図７に示された導電性メッシュ５５を実際に作製して画像表示機構１２の画素配列上に配置した場合、視認され得る程度の縞状の模様、すなわちモアレ（干渉縞）および濃淡ムラは発生しなかった。

　ここで、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均が３．０より大きく４．０未満であり且つ開口領域７１が一定のピッチで並べられた直線方向が存在しない導電性メッシュのパターンを作製する方法の一例を以下に説明する。

　以下に説明する方法は、母点を決定する工程と、決定された母点からボロノイ図を作成する工程と、ボロノイ図における一つのボロノイ境界によって結ばれる二つのボロノイ点の間を延びる境界線分の経路を決定する工程と、決定された経路の太さを決定して各境界線分を画定して導電性メッシュ５５（細導線６０）のメッシュパターンを決定する工程と、を有している。以下、各工程について順に説明していく。なお、上述した図５に示された導電性メッシュ５５のメッシュパターンは、実際に以下に説明する方法で決定されたパターンである。また、図７に示された導電性メッシュ５５のメッシュパターンも、以下に説明する方法で決定され得る。

　まず、母点を決定する工程について説明する。最初に、図９に示すように、絶対座標系Ｏ－Ｘ－Ｙの任意の位置に一つめの母点（以下、「第１の母点」と呼ぶ）ＢＰ１を配置する。次に、図１０に示すように、第１の母点ＢＰ１から距離ｒだけ離れた任意の位置に第２の母点ＢＰ２を配置する。言い換えると、第１の母点ＢＰ１を中心として絶対座標系Ｏ－Ｘ―Ｙ上に位置する半径ｒの円周（以下、「第１の円周」と呼ぶ）上の任意の位置に、第２の母点ＢＰ２を配置する。次に、図１１に示すように、第１の母点ＢＰ１から距離ｒだけ離れ且つ第２の母点ＢＰ２から距離ｒ以上離れた任意の位置に、第３の母点ＢＰ３を配置する。その後、第１の母点ＢＰ１から距離ｒだけ離れ且つその他の母点ＢＰ２，ＢＰ３から距離ｒ以上離れた任意の位置に、第４の母点を配置する。

　このようにして、次の母点を配置することができなくなるまで、第１の母点ＢＰ１から距離ｒだけ離れ且つその他の母点から距離ｒ以上離れた任意の位置に母点を配置していく。その後、第２の母点ＢＰ２を基準にしてこの作業を続けていく。すなわち、第２の母点ＢＰ２から距離ｒだけ離れ且つその他の母点から距離ｒ以上離れた任意の位置に、次の母点を配置する。第２の母点ＢＰ２を基準にして、次の母点を配置することができなくなるまで、第２の母点ＢＰ２から距離ｒだけ離れ且つその他の母点から距離ｒ以上離れた任意の位置に母点を配置していく。その後、基準となる母点を順に変更して、同様の手順で母点を形成していく。

　以上の手順で、導電性メッシュ５５が形成されるべき領域内に母点を配置することができなくなるまで、母点を配置していく。導電性メッシュ５５が形成されるべき領域内に母点を配置することができなくなった際に、母点を作製する工程が終了する。ここまでの処理により、２次元平面（ＸＹ平面）に於いて不規則的に配置された母点群が、導電性メッシュ５５が形成されるべき領域内に一様に分散した状態となる。

　此のような工程で２次元平面（ＸＹ平面）内に分布された母点群ＢＰ１、ＢＰ２、・・、ＢＰ６（図１２（Ａ）参照）について、個々の母点間の距離は一定では無く分布を有する。但し、任意の隣接する２母点間の距離の分布は完全なランダム分布（一様分布）でも無く、平均値Ｒ_ＡＶＧを挟んで上限値Ｒ_ＭＡＸと下限値Ｒ_ＭＩＮとの間の範囲ΔＲ＝Ｒ_ＭＡＸ－Ｒ_ＭＩＮの中で分布している。尚、此処で、隣接する２母点であるが、母点群ＢＰ１、ＢＰ２、・・から後述するボロノイ図を作成した後、２つのボロノイ領域ＸＡが隣接していた場合に、その２つのボロノイ領域ＸＡの母点同士が隣接していると定義する。

　即ち、ここで説明した母点群について、各母点を原点とする座標系（相対座標系ｏ－ｘ－ｙと呼称し、一方、現実の２次元平面を規定する座標系を絶対座標系Ｏ－Ｘ－Ｙと呼称する）上に、原点に置いた母点と隣接する全母点をプロットした図１２（Ｂ）、図１２（Ｃ）、・・等のグラフを全母点について求める。そして、これら全部の相対座標系上の隣接母点群のグラフを、各相対座標系の原点ｏを重ね合わせて表示すると、図１２（Ｄ）の如きグラフが得られる。斯かる相対座標系上での隣接母点群の分布パターンは、母点群を構成する任意の隣接する２母点間の距離が０から無限大迄の一様分布では無く、Ｒ_ＡＶＧ―ΔＲからＲ_ＡＶＧ＋ΔＲ迄の有限の範囲（半径Ｒ_ＭＩＮからＲ_ＭＡＸ迄のドーナツ形領域）内に分布していることを意味する。なお図１２（Ａ）において、これら母点群から得られるボロノイ境界（図１３参照）を参考までに破線で図示してある。

　斯くの如く各母点間の距離を設定することによって、該母点群から以下に説明する方法で得られるボロノイ領域ＸＡ、更には、これから得られる開口領域７１の面積の分布についても、一様分布（完全ランダム）では無く、有限の範囲内に分布したものとなる。

　なお、以上の母点を決定する工程において、距離ｒの大きさを変化させることにより、一つあたりの開口領域７１の大きさを調節することができる。具体的には、距離ｒの大きさを小さくすることにより、一つあたりの開口領域７１の大きさを小さくすることができ、逆に距離ｒの大きさを大きくすることにより、一つあたりの開口領域７１の大きさを大きくすることができる。

　次に、図１３に示すように、配置された母点を基準にして、ボロノイ図を作成する。図１３に示すように、ボロノイ図とは、隣接する２つの母点間に垂直二等分線を引き、その各垂直二等分線同士の交点で結ばれた線分で構成される図である。ここで、垂直二等分線の線分をボロノイ境界ＸＢと呼び、ボロノイ境界ＸＢの端部をなすボロノイ境界ＸＢ同士の交点をボロノイ点ＸＰと呼び、ボロノイ境界ＸＢに囲まれた領域をボロノイ領域ＸＡと呼ぶ。

　図１３のように作成されたボロノイ図において、各ボロノイ点ＸＰが、導電性メッシュ５５の分岐点７２をなすようにする。そして、一つのボロノイ境界ＸＢの端部をなす二つのボロノイ点ＸＰの間に、一つの境界線分７３を設ける。この際、境界線分７３は、図５に示された例のように二つのボロノイ点ＸＰの間を直線状に延びるように決定してもよいし、あるいは、他の境界線分７３と接触しない範囲で二つのボロノイ点ＸＰの間を種々の経路（例えば、円（弧）、楕円（弧）、抛物線、双曲線、正弦曲線、双曲線正弦曲線、楕円函数曲線、ベッセル関数曲線等の曲線状、折れ線状等の経路）で延びるようにしてもよい。なお、境界線分７３は、図５に示された例のように二つのボロノイ点ＸＰの間を直線状に延びるように決定した場合、各ボロノイ境界ＸＢが、境界線分７３を画成するようになる。

　各境界線分７３の経路を決定した後、各境界線分７３の線幅（太さ）を決定する。境界線分７３の線幅は、後述する理由から、０．２μｍ～２μｍとすることが好ましい。すなわち、導電性メッシュ５５が所望の可視光透過率および面抵抗率を発現するように、決定されることが好ましい。以上のようにして、導電性メッシュ５５のパターンを決定することができる。

　（取出電極４５）
　次に、取出電極４５について説明する。上述したように、電極４０は、このような検出電極５０に連結された取出電極４５を有している。取出電極４５は、検出電極５０の各々に対し、接触位置の検出方法に応じて一つまたは二つ設けられている。各取出電極４５は、対応する検出電極５０の接続導線５１または導電性メッシュ５５の細導線６０に接続された取出導線４６を有している。取出電極４５は、後述するように、厚さ方向に少なくとも一部分において、検出電極５０と同一の材料から一体的に形成されている。取出電極４５は、基材３５の非アクティブエリアＡａ２内を、対応する取出電極５０から基材３５の端縁まで延びている。取出電極４５は、その端部にて、図示しない外部接続配線（例えば、ＦＰＣ）を介し、検出制御部２５に接続される。

　（電極４０の断面形状）
　次に、電極４０の断面形状について説明する。図４は、厚さ方向に沿った断面において、タッチパネルセンサ３０が示されている。ここで厚さ方向とは、シート状（フィルム状、板状、パネル状）からなるタッチパネルセンサ３０のシート面（フィルム面、板面、パネル面）への法線方向に沿った断面のことを指す。また、シート面（フィルム面、板面、パネル面）とは、対象となるシート状（フィルム状、板状、パネル状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるシート状部材の平面方向と一致する面のことを指す。そして、本実施の形態においては、基材３５が一対の主表面を有するシート状の形状を有している。したがって、本実施の形態では、厚さ方向に沿った断面とは、基材３５の表面への法線方向に沿った断面と一致する。

　図４は、導電性メッシュ５５の細導線６０の断面形状を示しているが、検出電極５０の接続導線５１も、幅が異なるだけで、細導線６０と同様の断面形状を有している。すなわち、図４に示すように、検出電極５０をなす細導線６０および接続導線５１は、基材３５側に位置する基端面６６と、基端面６６に対向して配置された平坦な先端面６７と、基端面６６と先端面６７との間を接続する一対の側面６８と、を有している。そして図４に示された例において、基端面６６と先端面６７は互いに平行となっている。そして、図４に示す例において、細導線６０および接続導線５１は、基材３５側に位置して基端面６６を形成する金属層６１と、金属層６１上に設けられ先端面６７を形成する黒化層６２と、有している。接続導線５１と導電性メッシュ５５の細導線６０との間で、金属層６１は一体的に形成されており、且つ、黒化層６２も一体的に形成されている。

　ここで金属層６１は、高導電率を有した金属材料を用いて形成された層であり、例えば、銅、アルミニウム、鉄、銀、および、これらの合金からなる層である。ところで、金属材料からなる金属層６１は、比較的に高い反射率を呈する。したがって、タッチパネルセンサ３０の検出電極５０をなす金属層６１によって外光が反射されると、タッチパネル装置２０のアクティブエリアＡａ１を介して観察される画像表示機構１２の画像コントラストが低下してしまう。そこで、黒化層６２が、金属層６１の観察者側に配置されている。この黒化層６２によって、コントラストを向上させ、画像表示機構１２によって表示される画像の視認性を改善することができる。

　黒化層６２としては、種々の既知の層を用いることができる。金属層６１を部分的に黒化処理して、金属酸化物や金属硫化物からなる黒化層６２を金属層６１の一部分から形成してもよい。また、黒色材料の塗膜や、ニッケルやクロム等のめっき層等のように、金属層６１上に黒化層６２を設けるようにしてもよい。一具体例として、金属層６１が鉄からなる場合には、４５０～４７０℃程度のスチーム雰囲気中に金属層６１を１０～２０分間さらして、金属層６１の表面に１～２μｍ程度の酸化膜（黒化膜）を形成するようにしてもよい。別の方法として、鉄からなる金属層６１を濃硝酸などで薬品処理して、金属層６１の表面に酸化膜（黒化膜）を形成するようにしてもよい。また、金属層６１が銅からなる場合には、硫酸、硫酸銅及び硫酸コバルトなどからなる電解液中にて、金属層６１を陰極電解処理して、カチオン性粒子を付着させるカソーディック電着が好ましい。該カチオン性粒子を設けることでより粗化し、同時に黒色が得られる。カチオン性粒子としては、銅粒子、銅と他の金属との合金粒子が適用できるが、好ましくは銅－コバルト合金の粒子である。該カチオン性粒子の粒径は、黒濃度の点から、平均粒径０．１～１μｍ程度が好ましい。なお、ここで用いる黒化層６２とは、黒色化された層のみでなく、粗化された層も含む。

　なお、取出電極４５の取出導線４６も、図４に示された検出電極５０の細導線６０や接続導線５１と同様の断面形状を有することができる。したがって、取出電極４５の取出導線４６は、基材３５側に位置する基端面６６と、基端面６６に対向して配置された平坦な先端面６７と、基端面６６と先端面６７との間を接続する一対の側面６８と、を有している。図４に示されているように、取出導線４６の基端面６６と先端面６７が互いに平行となっていてもよい。また、取出電極４５の取出導線４６は、厚さ方向の断面において、金属層６１を含んでいる。そして、取出電極４５と検出電極５０との間で、金属層６１は一体的に形成されている。すなわち、電極４０は、任意の厚さ方向断面においてその少なくとも一部分を占める金属層６１を含んでいる。

　一方、取出電極４５は、画像表示機構１２の非表示領域Ａ２に対面する非アクティブエリアＡａ２内に配置されている。したがって、取出電極４５の取出導線４６は、黒化層６２を有している必要はない。ただし、黒化層６２のパターニング等の煩雑さを回避するため、取出電極４５の取出導線４６が、検出電極５０と同様に黒化層６２を有するようにしてもよい。この場合、取出電極４５と検出電極５０との間で、黒化層６２が一体的に形成されていてもよい。

　なお図示された例において、電極４０は金属層６１と黒化層６２とを有するように構成されているが、これに限られず、黒化層６２に加えて或いは黒化層６２に代えて、金属層６１に他の層が積層されていてもよい。金属層６１に積層されるべき他の層として、例えば、防錆層が例示される。

　このような構成からなる電極４０において、図４に示された導電性メッシュ５５をなす細導線６０の幅（最大幅）Ｗ、すなわち、シート状からなるタッチパネルセンサ３０のシート面に沿った幅（最大幅）Ｗを１μｍ以上５μｍ以下とし、且つ、図４に示された導電性メッシュ５５をなす細導線６０の高さ（厚さ）Ｈ、すなわち、シート状からなるタッチパネルセンサ３０のシート面への法線方向に沿った高さ（厚さ）Ｈを０．２μｍ以上２μｍ以下とすることが好ましい。このような寸法の導電性メッシュ５５によれば、細導線６０が十分に細線化されているので、電極４０を極めて効果的に不可視化することができる。同時に、断面形状において平行となる基端面６６および先端面６７の間の高さが十分な高さとなり、すなわち、細導線６０の断面形状のアスペクト比（Ｈ／Ｗ）が十分に大きくなり、高い導電性を有するようになる。結果として、導電性メッシュ５５における面抵抗率を５０Ω／□以下、さらに好ましくは２０Ω／□以下にすることも可能となる。

　すなわち、このような断面寸法を有した細導線６０によれば、タッチパネルセンサ３０の電極４０を低抵抗に維持しながら、当該電極４０をなす細導線６０を細線化することができる。細線化した細導線６０によれば、高精細化された画素との組み合わせにおいて、或いは、タブレットと呼ばれる携帯端末の短ピッチ配列された画素との組み合わせにおいても、十分に検出電極５０を不可視化しながら、高い検出精度を発揮することができる。

　なお、シート状からなるタッチパネルセンサ３０のシート面に沿った幅Ｗは、電極４０の不可視化の観点から、５．０μｍ以下であることが好ましく、３．５μｍ以下であることがさらに好ましく、面抵抗率を低下させる観点から、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることがさらに好ましい。また、シート状からなるタッチパネルセンサ３０のシート面への法線方向に沿った高さ（厚さ）Ｈは、電極４０の製造精度を安定させる観点から、２．０μｍ以下であることが好ましく、１．５μｍ以下であることがさらに好ましく、面抵抗率を低下させる観点から、０．１μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがさらに好ましい。加えてここで説明した作用効果を確保する観点から、細導線６０の断面形状のアスペクト比（Ｈ／Ｗ）は、０．０４以上２．００以下であることが好ましく、０．６７以上７．００以下であることがより好ましい。

　なお、図４に示された細導線６０の断面形状は、テーパ状となっており、先端面６７での幅Ｗ_２が基端面６６での幅Ｗ_１よりも狭くなっている。とりわけ、図示された例では、細導線６０の幅は、基端面６６の側から先端面６７の側へ向けて、言い換えると観察者側へ向けて、狭くなるようにのみ変化している。さらに詳しくは、図示された例において、細導線６０の幅は、基端面６６の側から先端面６７の側へ向けて、言い換えると観察者側へ向けて、狭くなり続けている。図２に示されているように、先端面６７が観察者側を向くようにして、タッチパネルセンサ３０が表示装置１０およびタッチパネル装置２０に組み込まれる場合には、側面６８に露出した金属層６１での外光反射により、画像表示機構１２によって表示される画像のコントラスが低下してしまう可能性がある。このため、基端面６６での幅Ｗ_１と先端面６７での幅Ｗ_２との差（Ｗ_１－Ｗ_２）は、１．０μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることがより好ましい。

　一例として後述するように、フォトリソグラフィー技術を利用したパターニングによって細導線６０を作製する場合、エッチングによる浸食が、深さ方向（厚さ方向）だけでなく横方向（面方向）にも進む。このサイドエッチング現象によって、細導線６０の断面形状を、図４に示されているテーパ状とすることが可能となる。

　一方、後述するタッチパネルセンサ３０の製造方法によれば、検出電極５０の接続導線５１の高さおよび取出電極４５の取出導線４６の高さは、検出電極５０の導電性メッシュ５５をなす細導線６０の高さと同一となる。この場合、検出電極５０の接続導線５１の幅を５．０μｍ以上とすることができ、取出電極４５の取出導線４６の幅を５．０μｍ以上とすることができる。

　（タッチパネルセンサ３０の製造方法）
　次に、以上に説明してきたタッチパネルセンサ３０の製造方法の一例について、図１４を主に参照しながら、説明する。

　まず、図１４（ａ）に示すように、基材３５を準備する。上述したように、ガラスや樹脂フィルムを基材３５として用いることができる。ただし、基材３５として、光学異方性を有する樹脂フィルムを用いる場合には、ニジムラを目立たなくさせる観点から、当該樹脂フィルムのリタデーションＲｅを上述した値に調節しておくことが好ましい。

　次に、図１４（ｂ）に示すように、電極４０の金属層６１を構成するようになる金属膜８１を基材３５上に形成する。金属膜８１は、銅箔等の金属箔を接着剤層を介して基材にラミネートしたものから形成するのではなく、接着剤層を介さずに基材３５上に直接的に形成する。すなわち、入手可能な特定の厚みを有した金属箔を基材３５上に積層するのではなく、基材３５上に所望の厚みを有した金属膜８１を成膜する。金属膜８１の成膜方法としては、スパッタリング、蒸着、電界めっき、無電界めっき等の種々の方法を採用することができる。

　上述したように、電極４０の高さ（厚さ）Ｈを０．２～２μｍとするため、０．２～２μｍの厚みで金属膜８１を成膜しようとすると、蒸着を採用することが好ましい。蒸着によれば、０．２～２μｍの厚みの金属膜８１、とりわけ０．５μｍ以上の厚みの金属膜８１を比較的に短時間で安価に製造することができる。また、別の方法として、スパッタリングと他の方法、例えばスパッタリングと電界めっきとを含む複数工程にて、金属膜８１を成膜することも有効である。スパッタリングによれば、密着性に優れた下地層を形成することができ、且つ、その後の電界メッキによって、金属膜８１の厚みを比較的迅速に所望の厚みまで増加させることができる。

　その後、図１４（ｃ）に示すように、電極４０の黒化層６２を構成するようになる黒化膜８２を、金属膜８１上に形成する。既に説明したように、金属膜８１の表層部分を黒化処理して、金属膜８１の一部分に金属酸化物や金属硫化物からなる黒化膜８２を形成してもよい。また、黒色材料の塗膜や、ニッケルやクロム等のめっき層のように、金属膜８１上に黒化膜８２を設けるようにしてもよい。

　次に、フォトリソグラフィー技術を用いたパターニングにより、基材３５上の金属膜８１および黒化膜８２を所望のパターンにて、パターニングする。具体的には、まず、黒化膜８２上にレジスト膜８３を設け、当該レジスト膜８３をパターン露光および現像してパターニングする（図１４（ｄ））。次に、パターニングされたレジスト膜８３をマスクとして、黒化膜８２および金属膜８１をエッチングする。これにより、黒化膜８２から黒化層６２が形成され、金属膜８１から金属層６１が形成される。このようにして、基材３５上に、金属層６１および黒化層６２を含んでなる電極４０が、所望のパターンで形成される（図１４（ｅ））。

　その後、電極４０上のレジスト膜８３を除去することによって、タッチパネルセンサ３０が得られる。以上のような製造方法によれば、金属層６１および黒化層６２からなる検出電極５０と、同じく金属層６１および黒化層６２からなる取出電極４５とを、一体的に同一のプロセスで製造することができ、生産効率上好ましい。

　また、以上の方法では、エッチングされる金属膜８１および黒化層６２の厚みは、作製されるべき電極４０の厚さと同一の厚さ、例えば０．２μｍ以上２μｍ以下とすることができる。そして、この厚みの金属膜８１および黒化層６２をエッチングする場合、大きなサイドエッチングを引き起こすことなく、１μｍ～５μｍ程度の細線化された電極４０を作製することができる。すなわち、形成されるべき細導線６０の線幅に対して、金属膜８１および黒化層６２の厚みが厚過ぎない。これにより、図２１を参照して説明した金属箔を用いた場合と比較して、エッチングによる浸食箇所が、レジスト膜の下方で繋がってしまうことはない。これにより、安定して精度よく細線化された電極４０（細導線６０）を作製することができる。加えて、形成されるべき細導線６０の線幅に対して、金属膜８１および黒化層６２の適切な厚みに設定しておくことにより、形成された細導線６０の厚さ方向での断面形状を所望の形状、例えば所望のアスペクト比を有した形状とすることができる。

　なお、ここで説明したタッチパネルセンサ３０の製造方法は、単なる一例に過ぎず、種々の変更が可能である。例えば、黒化膜８２をアクティブエリアＡａ１内だけに形成するようにしてもよいし、或いは、作製された非アクティブエリアＡａ２内の黒化層６２、とりわけ黒化層６２のうちのＦＰＣ等の外部配線と接続箇所となる部分を除去する工程をさらに設けても良い。さらに、金属膜８１をパターニングして電極４０の金属層６１を形成した後に、当該金属層６１上に黒化層６２を作製するようにしてもよい。

　＜＜＜作用効果＞＞＞
　以上のような本実施の形態によれば、検出電極５０は、細導線６０が多数の開口領域７１を画成するメッシュパターンにて配置されている導電体メッシュ５５を含んでいる。この導電体メッシュ５５の細導線６０の高さは０．２μｍ以上２μｍ以下であり、細導線６０の幅Ｗは１μｍ以上５μｍ以下である。そして、導電性メッシュ５５の細導線６０は、基材３５側に位置する基端面６６と、基端面６６に対向して配置された平坦な先端面６７と、基端面６６と先端面６７との間を接続する一対の側面６８と、を有している。このような断面寸法および形状を有した細導線６０によれば、タッチパネルセンサ３０の電極４０を低抵抗に維持しながら、当該電極４０をなす細導線６０を細線化することができる。細線化した細導線６０によれば、高精細化された画素との組み合わせにおいて、或いは、タブレットと呼ばれる携帯端末の短ピッチ配列された画素との組み合わせにおいても、検出電極５０を十分に不可視化しながら、高い位置検出精度を発揮することができる。

　また、上述した実施の形態において、基材３５が面内の複屈折成を有し、且つ、基材３５のリタデーションＲｅが６０００ｎｍ以上となっていることが好ましい。この場合、画像表示機構１２からの画像光が特定の偏光成分であったとしても、ニジムラを効果的に目立たなくさせることができる。

　さらに、上述した実施の形態において、導電性メッシュ５５をなす細導線６０が、二つの分岐点７２の間を延びて開口領域７１を画成する多数の境界線分７３から形成されており、一つの分岐点７２から延び出す境界線分７３の数の平均が３．０以上４．０未満となっており、且つ、開口領域７１が一定のピッチ、即ち一定の繰返ピッチで並べられた方向が存在しないようになっている。この結果、規則的（周期的）に画素Ｐが配列された画像表示機構１２と重ね合わせた際のモアレ、或いは、他のタッチパネルセンサ３０と重ね合わせた際のモアレを効果的に目立たなくさせることができる。また同時に、導電性メッシュ５５内における濃淡のムラも効果的に目立たなくさせることができる。

　さらに、上述した実施の形態において、導電性メッシュ５５をなす細導線６０が、二つの分岐点７２の間を延びて開口領域７１を画成する多数の境界線分７３から形成されており、導電性メッシュ５５に含まれた開口領域７１のうち、６本の境界線分７３によって周囲を取り囲まれた開口領域７１が、最も多くなっている。この結果、規則的（周期的）に画素Ｐが配列された画像表示機構１２と重ね合わせた際のモアレ、並びに、他のタッチパネルセンサ３０と重ね合わせた際のモアレを効果的に目立たなくさせることができる。また同時に、導電性メッシュ５５内における濃淡のムラも効果的に目立たなくさせることができる。

　＜＜＜変形例＞＞＞
　なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を参照しながら、変形の一例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。

　上述した実施の形態の第１タッチパネルセンサ３１および第２タッチパネルセンサ３２では、図２および図４によく示されているように、基材３５の観察者側の面に、電極４０が形成されている例を示した。しかしながら。第１タッチパネルセンサ３１および第２タッチパネルセンサ３２の一以上において、基材３５の画像表示機構１２側の面に、電極４０が形成されていてもよい。

　図１５に示された例において、第１タッチパネルセンサ３１および第２タッチパネルセンサ３２の両方において、電極４０は、基材３５の画像表示機構１２側の面に設けられている。図１５に示された例では、タッチパネル装置２０の積層体２０ａは、観察者側、すなわち、画像表示機構１２とは反対の側から順に、カバー層２８、接着層２５、第１タッチパネルセンサ３１、接着層２４、第２タッチパネルセンサ３２、接着層２６、支持層２７、および、低屈折率層２３を有している。

　図１６は、図１５のタッチパネル装置２０に組み込まれ得るタッチパネルセンサ３０の一例を示している。図１６に示されたタッチパネルセンサ３０は、基材３５と、基材３５上に設けられた電極４０と、を有している。電極４０は、基材３５側に位置して基端面６６を形成する黒化層６２と、黒化層６２上に設けられ先端面６７を形成する金属層６１と、有している。すなわち、図１６に示された例でも、上述した実施の形態と同様に、黒化層６２が金属層６１の観察者側に配置されている。図１６に示された電極４０は、基材３５上への金属層６１と黒化層６２との積層順が異なる点において、上述した実施の形態の電極４０と異なっており、他の点において上述した実施の形態の電極４０と同一に構成され得る。なお、図１６に示された黒化層６２および金属層６１は、上述した種々の方法によって作製され得る。一例として、基材３５上にスパッタリングによって成膜されたニッケルまたはクロムから黒化層６２を作製することができ、或いは、基材３５上に塗布された染料や顔料等を有する塗膜から黒化層６２を作製することができる。

　また、上述した実施の形態において、電極４０の厚み方向に沿った断面形状、とりわけ、導電性メッシュ５５をなす細導線６０の厚み方向に沿った断面形状が、基端面６６側から先端面６７側へ向けて先細りしていくテーパ状に形成されている例を示したが、これに限られない。例えば、図１７に示すように、電極４０、とりわけ細導線６０の断面形状において、先端面６７での幅Ｗ_２が基端面６６での幅Ｗ_１よりも広くなるようにしてもよい。とりわけ、図１７に示された例では、細導線６０の幅は、先端面６７の側から基端面６６の側へ向けて、言い換えると画像表示機構１２側へ向けて、狭くなるようにのみ変化している。さらに詳しくは、図１７に示された例において、細導線６０の幅は、先端面６７の側から基端面６６の側へ向けて、言い換えると画像表示機構１２側へ向けて、狭くなり続けている。図１７に示されているように、先端面６７が観察者側を向くようにして、タッチパネルセンサ３０が表示装置１０およびタッチパネル装置２０に組み込まれる場合、金属層６１よりも観察者側に配置された黒化層６２によって、金属層６１をより見え難くすることができる。これにより、コントラストを向上させ、画像表示機構１２によって表示される画像の視認性を改善することができる。

　また、黒化層６２によって金属層６１を観察され難くしてコントラストを向上させるといった観点からは、電極４０（細導線６０）の幅が、先端面６７の側から基端面６６の側へ向けて、言い換えると画像表示機構１２側へ向けて、狭くなるようにのみ変化している必要はなく、また、電極４０（細導線６０）の幅が、先端面６７の側から基端面６６の側へ向けて、言い換えると画像表示機構１２側へ向けて、狭くなるようにのみ変化し続けていく必要もない。導電体メッシュ５５の電極４０（細導線６０）の幅が、まず先端面６７から基端面６６の側に向けて小さくなるようにのみ変化し、その後、先端面６７の側から基端面６６に向けて大きくなるように変化する場合でも、すなわち、先端面６７の近傍でのみ逆テーパ状となっている場合でも、黒化層６２によって金属層６１を効果的に観察され難くしてコントラストを向上させることが可能である。また、導電体メッシュ５５の電極４０（細導線６０）の幅が、まず先端面６７から基端面６６の側に向けて大きくなるようにのみ変化し、その後、先端面６７の側から基端面６６に向けて小さくなるように変化する場合でも、すなわち、基端面６６の近傍でのみ逆テーパ状となっている場合でも、黒化層６２によって金属層６１を効果的に観察され難くしてコントラストを向上させることが可能である。

　なお、本件発明者らが鋭意実験を重ねたところ、先端面６７での幅Ｗ_２、基端面６６での幅Ｗ_１、並びに、基端面６６から先端面６７までの厚さＨが、次の式が満たされることが好ましいことが知見された。
　　　１≦Ｈ／（（Ｗ_２－Ｗ_１）／２）≦２
「Ｈ／（（Ｗ_２－Ｗ_１）／２）」が１未満となると、テーパがきつくなり、電極４０が基材３５へ十分に密着しなくなり、タッチパネルセンサ３０の使用状況如何によっては、電極４０が基材３５から剥がれ、さらには、電極４０に断線が生じてしまう可能性がある。一方、「Ｈ／（（Ｗ_２－Ｗ_１）／２）」が２を超えると、側面６８での反射に起因したコントラストの低下が認識されるようになった。

　なお、逆テーパ状の電極４０は、図１４を参照しながら説明した上述の製造方法において、金属膜８１上に金属酸化物からなる黒化膜８２を形成し、次に、パターンニングされたレジスト膜８３を介して金属膜８１および黒化膜８２をエッチングすることにより、作製され得る。一般的に、金属材料からなる金属膜８１と比較して、当該金属材料の酸化物からなる黒化膜８２は、エッチングによって浸食され難くなる。このため、サイドエッチングによる側方への浸食は、黒化膜８２よりも金属膜８１においてより進行する。また、金属膜８１内においても、黒化膜８２の近傍の領域よりも、黒化膜８２から離間した基材３５近傍の領域にて、サイドエッチングによる側方への浸食が進みやすくなる。このため、エッチング時間を調節することにより、図１７に示された逆テーパ状の電極４０を作製することができる。

　ここで、図２２に、逆テーパ状に形成された電極４０の一例を示す。図２２は、反射型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察された電極の断面写真を示している。なお、図２２に示された写真では、電極４０の表面および基材の表面の一部が金蒸着されている。この金蒸着層は、透過型顕微鏡を用いた断面観察の便宜上、サンプルとなるタッチパネルセンサ１０に設けられたものであり、タッチパネルセンサ１０の構成要素をなすものではない。

　さらに、上述した実施の形態において、モアレおよび濃淡ムラを不可視化する上で極めて効果的な導電性メッシュ５５のメッシュパターンの一例を説明したが、導電性メッシュ５５のメッシュパターンは、上述した例に限定されるものではない。上述した構成に代えて、モアレや濃淡ムラの不可視化するための既知の手法を導電性メッシュ５５に適宜適用することができる。また、例えば、導電性メッシュ５５をなす細導線６０の幅や、一つの導電性メッシュ５５が占める面積に依存して、モアレや濃淡ムラが視認され辛くなる場合もある。したがって、導電性メッシュ５５のメッシュパターンは、上述した例に限られず、例えば、正方格子配列やハニカム配列で細導線６０が配列されていてもよい。

　さらに、上述した実施の形態において、検出電極５０が、接続導線５１と導電性メッシュ５５とからなる例を示したがこれに限られない。例えば、図１８に示すように、各検出電極５０が、細長状の領域に形成された単一の導電性メッシュ５５からなるようにしてもよい。図１８に示された例では、ストライプ状の領域に形成された多数の導電性メッシュ５５から検出電極５０が形成され、且つ、各導電性メッシュ５５に接続された取出導線４６から取出電極４５が形成されている。

　さらに、上述した実施の形態において、第１タッチパネルセンサ３１および第２タッチパネルセンサ３２から投影型の静電容量式のタッチパネル装置２０が形成されている例を示したが、これに限られない。例えば、図１９に示されたタッチパネルセンサ３０のように、基材３５上に画成されたアクティブエリアＡａ１内に二次元配列された各領域に導電性メッシュ５５が形成されるようにしてもよい。

　一方、図１９に示された例では、各導電性メッシュ５５は、接続導線５１を介して対応する取出導線４６に接続されている。また、図２０に示された例では、基材３５上に画成されたアクティブエリアＡａ１の全域に、単一の導電性メッシュ５５が形成されている。導電性メッシュ５５の四隅から取出導線４６に接続されている。すなわち、図１９に示されたタッチパネルセンサ３０は、表面型の静電容量式タッチパネルを構成する。

　なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。

Claims

　基材と、
　前記基材に設けられた電極であって、位置検出に用いられる検出電極と、前記検出電極に接続された取出電極と、を含む電極と、を備え、
　前記電極は、任意の厚さ方向断面においてその少なくとも一部分を占める金属層を含み、
　前記検出電極と前記取出電極との接続箇所において、前記検出電極の金属層および前記取出電極の金属層は、一体的に形成されており、
　前記検出電極は、導線が多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて配置されている導電体メッシュを含み、前記導電体メッシュの前記導線の高さは０．２μｍ以上２μｍ以下であり、前記導電体メッシュの前記導線の幅は１μｍ以上５μｍ以下であり、
　前記導電性メッシュの前記導線は、前記基材側に位置する基端面と、前記基端面に対向して配置された平坦な先端面と、前記基端面と前記先端面との間を接続する一対の側面と、を有する、タッチパネルセンサ。
　前記導電性メッシュの前記導線は、前記金属層の前記基材とは反対側に設けられて前記先端面を形成する黒化層を、さらに含む、請求項１に記載のタッチパネルセンサ。
　前記導電性メッシュの前記導線は、前記金属層の前記基材側に設けられて前記基端面を形成する黒化層を、さらに含む、請求項１または２に記載のタッチパネルセンサ。
　前記導電体メッシュの前記導線の幅は、前記先端面から前記基端面に向け、前記先端面から前記基端面までの間において、小さくなるようにのみ変化する、請求項１～３のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
　前記導電体メッシュの前記導線の幅は、前記先端面から前記基端面の側に向けて小さくなるようにのみ変化し、その後、前記先端面の側から前記基端面まで大きくなるようにのみ変化する、請求項１～３のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。
　前記メッシュパターンは、二つの分岐点の間を延びて前記開口領域を画成する多数の境界線分から形成され、
　前記メッシュパターンにおいて、一つの分岐点から延び出す境界線分の数の平均が、３．０以上４．０未満であり、且つ、前記開口領域が一定のピッチで並べられている方向が存在しない、請求項１に記載のタッチパネルセンサ。
　一つの分岐点で接続される境界線分の数の前記平均が３．０より大きい、請求項６に記載のタッチパネルセンサ。
　一つの分岐点で接続される境界線分の数の前記平均が３．０である、請求項６に記載のタッチパネルセンサ。
　前記メッシュパターンは、二つの分岐点の間を延びて前記開口領域を画成する多数の境界線分から形成され、
　前記メッシュパターンに含まれた前記開口領域のうち、６本の境界線分によって周囲を取り囲まれた開口領域が、最も多い、請求項１に記載のタッチパネルセンサ。
　一つの分岐点で接続される境界線分の数の前記平均が３．０より大きい、請求項９に記載のタッチパネルセンサ。
　一つの分岐点で接続される境界線分の数の前記平均が３．０である、請求項９に記載のタッチパネルセンサ。
　請求項１に記載のタッチパネルセンサを含むタッチパネル装置。
　請求項１に記載のタッチパネルセンサ、或いは、請求項１２に記載のタッチパネル装置を含む、表示装置。
　基材と、
　前記基材に設けられた電極であって、位置検出に用いられる検出電極と、前記検出電極に接続された取出電極と、を含む電極と、を備え、
　前記電極は、任意の厚さ方向断面においてその少なくとも一部分を占める金属層を含み、
　前記検出電極と前記取出電極との接続箇所において、前記検出電極の金属層および前記取出電極の金属層は、一体的に形成されており、
　前記検出電極は、導線が多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて配置されている導電体メッシュを含み、
　前記導電性メッシュの前記導線は、前記基材側に位置する基端面と、前記基端面に対向して配置された平坦な先端面と、前記基端面と前記先端面との間を接続する一対の側面と、を有し、
　前記導電体メッシュの前記導線の幅は、前記先端面から前記基端面の側に向けて小さくなるように変化する、タッチパネルセンサ。
　基材と、
　前記基材に設けられた電極であって、位置検出に用いられる検出電極と、前記検出電極に接続された取出電極と、を含む電極と、を備え、
　前記電極は、任意の厚さ方向断面においてその少なくとも一部分を占める金属層を含み、
　前記検出電極と前記取出電極との接続箇所において、前記検出電極の金属層および前記取出電極の金属層は、一体的に形成されており、
　前記検出電極は、導線が多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて配置されている導電体メッシュを含み、
　前記導電性メッシュの前記導線は、前記基材側に位置する基端面と、前記基端面に対向して配置された平坦な先端面と、前記基端面と前記先端面との間を接続する一対の側面と、を有し、
　前記導電体メッシュの前記導線の幅は、前記先端面よりも前記基端面において狭くなっている、タッチパネルセンサ。