CN111831156A - 触控面板与触控传感器卷带 - Google Patents

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Abstract

一种触控面板包含基板、周边引线、标记、触控感应电极、第一中间层与第二中间层。周边引线设置于基板的周边区，标记设置于基板的该周边区。第一中间层设置于周边引线与基板之间，第二中间层设置于标记与基板之间，其中每一第一中间层及每一第二中间层包括金属纳米线，触控感应电极电性连接周边引线。更提出一种触控传感器卷带。

Description

触控面板与触控传感器卷带
技术领域
本发明涉及触控面板与触控传感器卷带。
背景技术
近年来，透明导体可同时让光穿过并提供适当的导电性，因而常应用于许多显示或触控相关的装置中。一般而言，透明导体可以是各种金属氧化物，例如氧化铟锡(IndiumTin Oxide，ITO)、氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，IZO)、氧化镉锡(Cadmium Tin Oxide，CTO)或掺铝氧化锌(Aluminum-doped Zinc Oxide，AZO)。然而，这些金属氧化物薄膜并不能满足显示设备的可挠性需求。因此，现今发展出了多种可挠性的透明导体，例如利用纳米线等材料所制作的透明导体。
然而，所述的纳米线的工艺技术尚有许多需要解决的问题，例如利用纳米线制作触控电极，纳米线与周边区的引线在进行对位时需预留对位误差区域，所述对位误差区域造成周边区的引线尺寸无法缩减，进而导致周边区的宽度较大，尤其采用卷对卷(Roll toRoll)工艺，基材的形变量导致所述对位误差区域的尺寸更加放大(如150um)，使得周边区的宽度最小仅达到2.5mm，故无法满足显示器的窄边框需求。
发明内容
本发明的部分实施方式中，通过设计周边引线与基板之间具有至少由金属纳米线所形成的第一中间层及标记与基板之间具有至少由金属纳米线所形成的第一中间层，借以达到不需预留对位时之对位误差区域的效果，以形成宽度较小的周边引线，进而满足窄边框的需求。此外，本发明的部分实施方式中，提出了新的触控传感器卷带结构，因而产生不同于以往的触控面板结构。
根据本发明的部分实施方式，一种触控面板，其特征在于，包含：一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；多个周边引线，设置于该基板的该周边区；多个标记，设置于该基板的该周边区；多个第一中间层与多个第二中间层，该些第一中间层设置于该些周边引线与该基板之间，该些第二中间层设置于该些标记与该基板之间，其中每一该些第一中间层及每一该些第二中间层包括金属纳米线；以及一触控感应电极，设置于该基板的该显示区，该触控感应电极电性连接该些周边引线。
于本发明的部分实施方式中，更包含：一膜层，其覆盖该触控感应电极、该些周边引线以及该些标记。
于本发明的部分实施方式中，更包括分别设置在该显示区与该周边区的非导电区域。
于本发明的部分实施方式中，非导电区域中具有一与膜层相同的材料所制成的填充层。
于本发明的部分实施方式中，每一周边引线具有一侧壁及一下表面，每一第一中间层具有一侧面，侧面与周边引线的侧壁均接触填充层，每一第一中间层接触所对应的周边引线的下表面。
于本发明的部分实施方式中，每一标记具有一侧壁及一下表面，每一第二中间层具有一侧面，该侧面与标记的侧壁均接触填充层，每一第二中间层接触所对应的标记的下表面。
于本发明的部分实施方式中，每一该些第一中间层及每一该些第二中间层为该金属纳米线与一膜层所构成的复合结构。
于本发明的部分实施方式中，更包括分别设置在该显示区与该周边区的非导电区域。
于本发明的部分实施方式中，该非导电区域中至少具有一与该膜层相同的材料所制成的填充层，该填充层中不存在有所述金属纳米线。
于本发明的部分实施方式中，更包含：一保护层，其覆盖该触控感应电极、该些周边引线以及该些标记。
于本发明的部分实施方式中，每一该些周边引线具有一侧壁及一下表面，该些周边引线的该侧壁接触该保护层，该复合结构接触所对应的该周边引线的该下表面。
于本发明的部分实施方式中，每一该些标记具有一侧壁及一下表面，该些标记的该侧壁接触该保护层，该复合结构接触所对应的该标记的该下表面。
于本发明的部分实施方式中，该些标记包括对接对位标记。
于本发明的部分实施方式中，周边引线的宽度为5um-20um,相邻的该些周边引线之间的距离为5um-20um。
于本发明的部分实施方式中，周边引线与该些标记为金属材料制成；该触控感应电极包括该金属纳米线或该金属纳米线与一膜层所构成的复合结构。
根据本发明的部分实施方式，一种触控传感器卷带，其特征在于，包含：一基板，其中该基板上设置有多个触控面板，每一该些触控面板包括：多个周边引线，设置于该基板的一周边区；多个第一中间层，该些第一中间层设置于该些周边引线与该基板之间；以及一触控感应电极，设置于每一该些触控面板的一显示区，该触控感应电极电性连接该些周边引线；多个标记，设置于该基板上；以及多个第二中间层，该些第二中间层设置于该些标记与该基板之间，其中每一该些第一中间层及每一该些第二中间层包括金属纳米线。
于本发明的部分实施方式中，更包含：一膜层，其覆盖该触控感应电极、该些周边引线以及该些标记。
于本发明的部分实施方式中，更包括分别设置在该显示区与该周边区的非导电区域。
于本发明的部分实施方式中，非导电区域中具有一与该膜层相同的材料所制成的填充层。
于本发明的部分实施方式中，每一该些周边引线具有一侧壁及一下表面，每一该些第一中间层具有一侧面，该侧面与该些周边引线的该侧壁均接触该填充层，每一该些第一中间层接触所对应的该周边引线的该下表面。
于本发明的部分实施方式中，该些标记包括设置于每一该些触控面板的该周边区的对接对位标记，该对接对位标记具有一侧壁及一下表面，每一该些第二中间层具有一侧面，该侧面与该对接对位标记的该侧壁均接触该填充层，每一该些第二中间层接触所对应的该对接对位标记的该下表面。
于本发明的部分实施方式中，该些标记包括设置于相邻该些触控面板之间的切割对位标记或设置于该基板上的对位标记、方向标记、尺寸标记或数字/文字标记，每一该些标记具有一侧壁及一下表面，每一该些第二中间层具有一侧面，该侧面与每一该些标记的该侧壁均接触该膜层，每一该些第二中间层接触所对应的该标记的该下表面。
于本发明的部分实施方式中，每一该些第一中间层及每一该些第二中间层为该金属纳米线与一膜层所构成的复合结构。
于本发明的部分实施方式中，更包括分别设置在该显示区与该周边区的非导电区域。
于本发明的部分实施方式中，该非导电区域中具有一与该膜层相同的材料所制成的填充层，该填充层中不存在有所述金属纳米线。
于本发明的部分实施方式中，更包含：一保护层，其覆盖该触控感应电极、该些周边引线以及该些标记。
于本发明的部分实施方式中，每一该些周边引线具有一侧壁及一下表面，该些周边引线的该侧壁接触该保护层，该复合结构接触所对应的该周边引线的该下表面。
于本发明的部分实施方式中，该些标记包括设置于每一该些触控面板的该周边区的对接对位标记，该对接对位标记具有一侧壁及一下表面，该对接对位标记的该侧壁接触该保护层，该复合结构接触所对应的该对接对位标记的该下表面。
于本发明的部分实施方式中，该些标记包括设置于相邻该些触控面板之间的切割对位标记或设置于该基板上的对位标记、方向标记、尺寸标记或数字/文字标记，每一该些标记具有一侧壁及一下表面，该些标记的该侧壁接触该保护层，该复合结构接触所对应的该标记的该下表面。
于本发明的部分实施方式中，该些周边引线的宽度为5um-20um,相邻的该些周边引线之间的距离为5um-20um。
于本发明的部分实施方式中，周边引线与该些标记为金属材料制成；该触控感应电极包括金属纳米线或该金属纳米线与一膜层所构成的复合结构。
附图说明
图1为根据本发明的部分实施方式的触控面板的上视示意图。
图1A为沿图1的线A-A的剖面示意图。
图1B为沿图1的线B-B的剖面示意图。
图2为根据本发明的部分实施方式的触控面板与软性电路板组装后的上视示意图。
图3A为图1的线A-A的变化实施例的剖面示意图。
图3B为图1的线B-B的变化实施例的剖面示意图。
图4A为图1的线A-A的另一变化实施例的剖面示意图。
图4B为图1的线B-B的另一变化实施例的剖面示意图。
图5为根据本发明的另一实施方式的触控面板的上视示意图。
图6为根据本发明的另一实施方式的触控面板的上视示意图。
图7为根据本发明的实施方式的触控传感器卷带的示意图。
图8为根据本发明的实施方式的触控传感器卷带的剖面示意图。
附图标记说明：
100：触控面板
110：基板
120：周边引线
122：侧壁
124：上表面
140：标记
142：侧壁
144：上表面
130：膜层
136：非导电区域
140：金属纳米线
150：保护层
160：屏蔽导线
170：软性电路板
VA：显示区
PA：周边区
BA：接合区
TE1：第一触控电极
TE2：第二触控电极层
TE、TE1、TE2：触控电极
M1：第一中间层
M1L：侧面
M2：第二中间层
M2L：侧面
M3：第三中间层
D1：第一方向
D2：第二方向
具体实施方式
以下将以图式揭露本发明的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本发明。也就是说，在本发明部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些现有惯用的结构与组件在图式中将以简单示意的方式为之。
关于本文中所使用的「约」、「大约」或「大致」，一般是指数值的误差或范围于百分之二十以内，较好地是于百分之十以内，更佳地是于百分之五以内。文中若无明确说明，所提及的数值皆视为近似值，即具有如「约」、「大约」或「大致」所表示的误差或范围。
图1为根据本发明的部分实施方式的触控面板100的上视示意图。触控面板100包含基板110、周边引线120、标记140、第一中间层M1、第二中间层M2以及触控感应电极TE，上述的周边引线120、标记140、第一中间层M1、第二中间层M2以及触控感应电极TE的数量可为一或多个，而以下各具体实施例及图式中所绘制的数量仅为解说之用，并未限制本发明。参阅图1，基板110具有显示区VA与周边区PA，周边区PA设置于显示区VA的侧边，例如周边区PA则可为设置于显示区VA的四周(即涵盖右侧、左侧、上侧及下侧)的框型区域，但在其他实施例中，周边区PA可为一设置于显示区VA的左侧及下侧的L型区域。又如图1所示，本实施例共有八组周边引线120以及与周边引线120相对应的第一中间层M1，两者均设置于基板110的周边区PA；触控感应电极TE设置于基板110的显示区VA且电性连接周边引线120。本实施例更有两组标记140以及与标记140相对应的第二中间层M2设置于基板110的周边区PA，借由将第一中间层M1设置于周边引线120与基板110之间，及将第二中间层M2设置于标记140与基板110之间，使上下两层材料不须对位就成型在预定的位置，故可以达到减少或避免在工艺中设置对位误差区域的需求，借以降低周边区PA的宽度，进而达到显示器的窄边框需求。
详细而言，本发明的部分实施方式中周边引线120与标记140可为导电性较佳的金属所构成，较佳为单层金属结构，例如银层、铜层等；或为多层导电结构，例如钼/铝/钼、铜/镍、钛/铝/钛、钼/铬等，上述金属结构较佳的为不透光，例如可见光(例如波长介于400nm-700nm)的光穿透率(Transmission)小于90％；而第一中间层M1、第二中间层M2则可为至少包括金属纳米线之金属纳米线(metal nano-wires)层，例如纳米银线(silver nano-wires)层、纳米金线(gold nano-wires)层或纳米铜线(copper nano-wires)层所构成；更详细的说，本文所用的「金属纳米线(metal nano-wires)」为一集合名词，其指包含多个元素金属、金属合金或金属化合物(包括金属氧化物)的金属线的集合，其中所含金属纳米线的数量，并不影响本发明所主张的保护范围；且单一金属纳米线的至少一个截面尺寸(即截面的直径)小于约500nm，较佳小于约100nm，且更佳小于约50nm；而本发明所称的为”线(wire)”的金属纳米结构，主要具有高的纵横比，例如介于约10至100,000之间，更详细的说，金属纳米线的纵横比(长度：截面的直径)可大于约10，较佳大于约50，且更佳大于约100；金属纳米线可以为任何金属，包括(但不限于)银、金、铜、镍及镀金的银。而其他用语，诸如丝(silk)、纤维(fiber)、管(tube)等若同样具有上述的尺寸及高纵横比，亦为本发明所涵盖的范畴。
本实施例之触控感应电极TE设置于显示区VA，触控感应电极TE可电性连接周边引线120。具体而言，触控感应电极TE同样可为至少包括金属纳米线之金属纳米线(metalnano-wires)层，也就是说，金属纳米线层在显示区VA形成触控感应电极TE，而在周边区PA形成第一中间层M1，故触控感应电极TE可借由第一中间层M1与周边引线120的接触而达到与周边引线120达成电性连接进行进行讯号的传输。而金属纳米线在周边区PA也会形成第二中间层M2，其设置于标记140与该基板110之间，标记140可以广泛的被解读为不具有电性功能的图样，但不以此为限。在本发明的部分实施例中，周边引线120与标记140可为同层的金属层所制作(即两者为相同的金属材料)；触控感应电极TE、第一中间层M1与第二中间层M2可为同层的金属纳米线层所制作。
图1A及图1B分别为图1之A-A线与B-B线之剖面图。请先参阅图1A，如图1A所示，第一中间层M1为上述金属纳米线所成型且设置在周边引线120的之下表面124，且第一中间层M1位于下表面124与基板110之间；第二中间层M2为上述金属纳米线所成型且设置在标记140之下表面144，且第二中间层M2位于下表面144与基板110之间。而在本发明的部分实施方式中，金属纳米线可为纳米银线。为了方便说明，本文的周边引线120与标记140的剖面是为一四边形(例如图1A所绘制的长方形)，但周边引线120的侧壁122与上表面124、与标记140的侧壁142与上表面144的结构型态或数量皆可依实际应用而变化，并非以本文的文字与图式所限制。
在本实施例中，标记140是设置在周边区PA之接合区BA(请参照图1)，其可为对接对位标记，也就是在将一外部电路板，如在软性电路板170连接于触控面板100的步骤(即bonding步骤)用于将软性电路板170与触控面板100进行对位的记号(请配合图2)。然而，本发明并不限制标记140的置放位置或功能，例如标记140可以是任何在工艺中所需的检查记号、图样或标号，均为本发明保护之范畴。标记140可以具有任何可能的形状，如圆形、四边形、十字形、L形、T形等等。另一方面，周边引线120延伸至接合区BA的部分又可被称作连接部(bonding section)，同于前述实施例，在接合区BA中的连接部的下表面同样设有第一中间层M1。
如图1A及图1B所示，在周边区PA中，相邻周边引线120之间具有非导电区域136，以电性阻绝相邻周边引线120进而避免短路。也就是说，相邻周边引线120的侧壁122之间及相邻第一中间层M1的侧面M1L之间具有非导电区域136，而在本实施例中，非导电区域136为一间隙，以隔绝相邻周边引线120。而在设置第一中间层M1及周边引线120的步骤中，可采用蚀刻法制作上述的间隙，故周边引线120的侧壁122与第一中间层M1的侧面M1L为一共同蚀刻面，也就是说周边引线120的侧壁122与第一中间层M1的侧面M1L是在同一个蚀刻步骤中所成型；或者可先蚀刻出周边引线120的侧壁122，再蚀刻出第一中间层M1的侧面M1L；类似的，标记140的侧壁142与第二中间层M2的侧面C2L亦可参照上述方式制作。在一实施例中，周边引线120的侧壁122与标记140的侧壁142会因上述的蚀刻步骤而不会有所述的金属纳米线存在于其上，再者，周边引线120及第一中间层M1会具有相同或近似的图样与尺寸，如均为长直状等的图样，且宽度相同或近似；标记140与第二中间层M2也同样具有相同或近似的图样与尺寸，如均为半径相同或近似的圆形、边长相同或近似的四边形等，或其他相同或近似的十字形、L形、T形等的图样。另外，在图1A所示的接合区BA，相邻连接部(bondingsection)之间亦具有非导电区域136，而连接部(bonding section)的侧壁122与第一中间层M1的侧面M1L可参照上述方式制作。
如图1B所示，在显示区VA中，相邻触控感应电极TE之间具有非导电区域136，以电性阻绝相邻触控感应电极TE进而避免短路。也就是说，相邻触控感应电极TE的侧壁之间具有非导电区域136，而在本实施例中，非导电区域136为一间隙，以隔绝相邻触控感应电极TE；在一实施例中，可采用上述的蚀刻法制作相邻触控感应电极TE之间的间隙。在本实施例中，触控感应电极TE与第一中间层M1可利用同层的金属纳米线层(如纳米银线层)所制作，故金属纳米线层会在显示区VA中形成触控感应电极TE，且在周边区PA中形成第一中间层M1，触控感应电极TE与第一中间层M1在显示区VA与周边区PA的交界处形成连接结构，以利触控感应电极TE与周边引线120形成导通的电路。
本发明的部分实施方式中，触控面板100的第一中间层M1与第二中间层M2分别设置于周边引线120的下表面122与标记140的下表面144，可以达到减少或避免在工艺中设置对位误差区域的需求，借以降低周边区PA的宽度，进而达到显示器的窄边框需求。具体而言，本发明部分实施方式的触控面板100的周边引线120的宽度为5um-20um,相邻周边引线120之间的距离为5um-20um，较佳地触控面板100的周边引线120的宽度为3um-20um,相邻周边引线120之间的距离为3um-20um，而周边区PA的宽度也可以达到小于2mm的尺寸，较传统的触控面板100缩减约20％或更多的周边区PA尺寸。
图2则显示软性电路板170与触控面板100进行对位后的组装结构，其中软性电路板170的电极垫(未绘示)可通过导电胶(未绘示，例如异方性导电胶)电性连接位于基板110上的接合区BA的周边引线120。于部分实施方式中，周边引线120可利用导电胶(例如异方性导电胶)直接接触周边引线120而形成导电通路。本实施方式中，触控感应电极TE以非交错式的排列设置。举例而言，触控感应电极TE为沿第一方向D1延伸的长条型电极，彼此并不产生交错，但于其他实施方式中，触控感应电极TE可以具有适当的形状，而不应以此限制本发明的范围。本实施方式中，触控感应电极TE采用单层的配置，其中可以通过侦测各个触控感应电极TE的自身的电容值变化，而得到触控位置。
在一实施例中，触控面板100可包括膜层130，图3A及图3B分别为膜层130成型于上述实施例后，图1之A-A线与B-B线之剖面图。在一实施例中，膜层130是全面性的覆盖触控面板100，也就是说膜层130覆盖于触控感应电极TE、周边引线120以及标记140之上。如图3A及图3B所示，在周边区PA中，膜层130覆盖周边引线120以及标记140之上，膜层130并填入相邻周边引线120之间的非导电区域136，也就是说，相邻周边引线120之间的非导电区域136中具有一与膜层130相同的材料所制成的填充层，借以隔绝相邻周边引线120。另外，以单一组对应的周边引线120与第一中间层M1而言，膜层130会包围所述的单一组上下对应的周边引线120与第一中间层M1，具体而言，膜层130会覆盖并接触周边引线120的上表面、周边引线120的的侧壁122及第一中间层M1的侧面M1L；也就是说，每一周边引线120具有一侧壁122及一下表面124，每一第一中间层M1具有一侧面M1L，侧面M1L与侧壁122相互对齐且均接触填充层(或膜层130)，而第一中间层M1接触所对应的周边引线120的下表面124。类似的，以单一组对应的标记140与第二中间层M2而言，膜层130会包围所述的单一组上下对应的标记140与第二中间层M2，具体而言，膜层130会覆盖并接触标记140的上表面、标记140的的侧壁142及第二中间层M2的侧面M2L；也就是说，每一标记140具有一侧壁142及一下表面144，每一第二中间层M2具有侧面M2L，侧面M2L与侧壁142相互对齐且均接触该填充层(或膜层130)，每一第二中间层M2接触所对应的标记140的下表面144。
如图3B所示，在显示区VA中，膜层130覆盖于触控感应电极TE之上，膜层130并填入相邻触控感应电极TE之间的非导电区域136，也就是说，相邻触控感应电极TE之间的非导电区域136中具有一与膜层130相同的材料所制成的填充层，借以隔绝相邻触控感应电极TE。
在本实施方式中，显示区VA的触控感应电极TE与膜层130所形成的复合结构较佳地具有导电性与透光性，例如，所述复合结构的可见光(例如波长介于约400nm-700nm)之光穿透率(Transmission)可大于约80％，且表面电阻率(surface resistance)在约10至1000Ω/□(ohm/square)之间；较佳地，所述复合结构的可见光(例如波长介于约400nm-700nm)之光穿透率(Transmission)大于约85％，且表面电阻率(surface resistance)在约50至500Ω/□(ohm/square)之间。
而在本发明的部分实施方式中，膜层130可为聚乙烯(polyethylene；PE)、聚丙烯(Polypropylene；PP)、聚乙烯醇缩丁醛(Polyvinyl butyral；PVB)、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(Acrylonitrile butadienestyrene；ABS)、聚(3,4－伸乙二氧基噻吩)(PEDOT)、聚(苯乙烯磺酸)(PSS)或陶瓷材料等等。在本发明的一种实施方式中，膜层130可为以下聚合物，但不限于此:聚丙烯酸系树脂，诸如聚甲基丙烯酸酯(例如，聚(甲基丙烯酸甲酯))、聚丙烯酸酯及聚丙烯腈；聚乙烯醇；聚酯(例如，聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚酯萘二甲酸酯及聚碳酸酯)；具有高芳香度的聚合物，诸如酚醛树脂或甲酚-甲醛、聚苯乙烯、聚乙烯基甲苯、聚乙烯基二甲苯、聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、聚硫化物、聚砜、聚伸苯基及聚苯基醚；聚胺基甲酸酯(polyurethane；PU)；环氧树脂；聚烯烃(例如聚丙烯、聚甲基戊烯及环烯烃)；纤维素；聚硅氧及其他含硅聚合物(例如聚倍半氧硅烷及聚硅烷)；聚氯乙烯(PVC)；聚乙酸酯；聚降冰片烯；合成橡胶(例如，乙丙橡胶(ethylene-propylene rubber；EPR)、丁苯橡胶(styrene-Butadiene Rubber；SBR)、三元乙丙橡胶(ethylene-Propylene-Diene Monomer；EPDM)；及含氟聚合物(例如，聚偏氟乙烯、聚四氟乙烯(TFE)或聚六氟丙烯)；氟－烯烃与烃烯烃的共聚物等。在其他实施例中，可使用以二氧化硅、富铝红柱石、氧化铝、SiC、碳纤维、MgO-Al2O3-SiO2、Al2O3-SiO2或MgO-Al2O3-SiO2-Li2O等无机材料。
在一实施例中，触控面板100可包括膜层130及保护层150，图4A及图4B分别为膜层130及保护层150成型于上述实施例后，图1之A-A线与B-B线之剖面图。值得说明的是，膜层130及保护层150可选择性的应用于本发明，而不受以下实施例的限制，保护层150的材料可参照前文所述的膜层130的示例材料。在一实施例中，第一中间层M1及第二中间层M2为金属纳米线与膜层130所构成的复合结构，而保护层150是全面性的覆盖触控面板100，也就是说保护层150覆盖于触控感应电极TE、周边引线120以及标记140之上。
如图4A及图4B所示，在周边区PA中，第一中间层M1及第二中间层M2为金属纳米线(如纳米银线)与膜层130所构成的复合结构，膜层130并填入相邻第一中间层M1之间的非导电区域136的第一部分(如下部空间)，保护层150则覆盖周边引线120以及标记140之上，保护层150并填入相邻周边引线120之间的非导电区域136的第二部分(如上部空间)，也就是说，相邻周边引线120之间的非导电区域136中至少具有一与膜层130相同的材料所制成的填充层，且填充层中不存在有所述金属纳米线(即金属纳米线的浓度为零)，借以隔绝相邻周边引线120；在一实施例中，非导电区域136中具有与膜层130相同的材料所制成的第一填充层及与保护层150相同的材料所制成的第二填充层。另外，以单一组对应的周边引线120与第一中间层M1而言，膜层130及保护层150会包围所述的单一组上下对应的周边引线120与第一中间层M1，具体而言，膜层130及保护层150会覆盖并接触周边引线120的上表面、周边引线120的的侧壁122及第一中间层M1的侧面M1L；也就是说，每一周边引线120具有一侧壁122及一下表面124，每一第一中间层M1具有一侧面M1L，侧面M1L对齐侧壁122，侧面M1L接触膜层130(或第一填充层)，侧壁122接触保护层150(或第二填充层)，而第一中间层M1接触所对应的周边引线120的下表面124。类似的，以单一组对应的标记140与第二中间层M2而言，膜层130及保护层150会包围所述的单一组上下对应的标记140与第二中间层M2，具体而言，膜层130及保护层150会覆盖并接触标记140的上表面、标记140的侧壁142及第二中间层M2的侧面M2L；也就是说，每一标记140具有一侧壁142及一下表面144，每一第二中间层M2具有侧面M2L，侧面M2L对齐侧壁142，侧面M2L接触膜层130(或第一填充层)，侧壁142接触保护层150(或第二填充层)，每一第二中间层M2接触所对应的标记140的下表面144。在一实施例中，周边引线120的侧壁122接触保护层150(或第二填充层)，而第一中间层M1外围的第一填充层则是与上述第一中间层M1的复合结构中的膜层130共同形成；标记140的侧壁142接触保护层150(或第二填充层)，而第二中间层M2外围的第一填充层则是与上述第二中间层M2的复合结构中的膜层130共同形成。
如图4B所示，在显示区VA中，保护层150覆盖于触控感应电极TE之上，触控感应电极TE包括金属纳米线与膜层130所构成的复合结构，膜层130并填入相邻触控感应电极TE之间的非导电区域136，也就是说，相邻触控感应电极TE之间的非导电区域136中具有一与膜层130相同的材料所制成的填充层，且填充层中不存在有所述金属纳米线，借以隔绝相邻触控感应电极TE。在一实施例中，触控感应电极TE外围的填充层是与上述触控感应电极TE的复合结构中的膜层130共同形成。
此外，上述膜层130可与金属纳米线(例如第一中间层M1、第二中间层M2或触控感应电极TE)形成复合结构而具有某些特定的化学、机械及光学特性，例如提供第一中间层M1、第二中间层M2与基板110的黏着性，或是较佳的实体机械强度，故膜层130又可被称作基质(matrix)。又一方面，使用某些特定的聚合物制作膜层130，使第一中间层M1、第二中间层M2具有额外的抗刮擦及磨损的表面保护，在此情形下，膜层130又可被称作硬涂层(hardcoat)，采用诸如聚丙烯酸酯、环氧树脂、聚胺基甲酸酯、聚硅烷、聚硅氧、聚(硅-丙烯酸)等可使第一中间层M1、第二中间层M2具有较高的表面强度以提高耐刮能力。再者，膜层130中可添加有紫外光稳定剂(UV stabilizers)，以提高第一中间层M1、第二中间层M2的抗紫外线能力。然而，上述仅是说明膜层130的其他附加功能/名称的可能性，并非用于限制本发明。值得说明的是，上述用于制作膜层130的聚合物在未固化前或在预固化的状态下可以渗入金属纳米线之间而形成填充物，当聚合物固化后，金属纳米线会嵌入膜层130之中，也就是说，本发明不限定膜层130与金属纳米线层(例如第一中间层M1、第二中间层M2或触控感应电极TE)之间的界线或结构。
在一实施例中，在周边区PA与显示区VA中，非导电区域136中的填充层可嵌入有金属纳米线，但位于非导电区域136的填充层中的金属纳米线的浓度低于一渗透临限值(percolation threshold)。一般而言，膜层130与金属纳米线的复合结构的导电度主要由以下因素控制：a)单一金属纳米线的导电度、b)金属纳米线的数目、及c)该等金属纳米线之间的连通性(又称接触性)；若金属纳米线的浓度低于渗透临限值(percolationthreshold)，由于膜层130中的金属纳米线间隔太远，因此非导电区域136中的复合结构的整体导电度低或者为零，意即金属纳米线并未提供连续电流路径，而无法形成一导电网络(conductive network)，也就是说非导电区域136中的金属纳米线所形成的是电绝缘的非导电网络(non-conductive network)。值得说明的是，非导电区域136中填入低浓度的金属纳米线，可使得非导电区域136与导电区域之间具有更相近的光学特性，例如显示区VA中的非导电区域136与导电区域(如触控感应电极TE)之间的光折射率更为近似，故在使用者通过本触控面板观看显示器所显示的画面时，具有更一致性的显示表现，换言之，用户更不容易在视觉上发现非导电区域136与导电区域之间的界线，尤其是针对触控感应电极TE之间的线距较宽(即非导电区域136的宽度较宽)的产品。在一实施例中，当一区域或一结构的片电阻高于108Ω/□(ohm/square)即可被认定为电绝缘,较佳地是高于104Ω/□(ohm/square),3000Ω/□(ohm/square),1000Ω/□(ohm/square)，350Ω/□(ohm/square),或100Ω/□(ohm/square)的情况。
图5为根据本发明的部分实施方式的触控面板100的上视示意图。本实施方式与图1的实施方式相似，本实施方式与图1的实施方式的差别主要在于：本实施方式中，触控感应电极TE采用双层的配置。
为方便说明起见，以第一触控电极TE1与第二触控电极TE2来说明本实施方式采用的配置。第一触控电极TE1形成于基板110的一面(如下表面)，触控电极层TEL2则形成于基板110的另一面(如上表面)，使第一触控电极TE1、第二触控电极TEL2彼此电性绝缘；而连接于第一触控电极TE1的周边引线120与设置于周边引线120下表面的第一中间层M1、以及设置于标记140下表面的第二中间层M2则对应于第一触控电极TE1而形成于基板的下表面。同理，连接于第二触控电极TE2的周边引线120与设置于周边引线120下表面的第一中间层M1、以及设置于标记140下表面的第二中间层M2则对应于第二触控电极TE2而形成于基板的上表面。第一触控电极TE1为多个沿第一方向D1排列的长条状电极，第二触控电极TE2为多个沿第二方向D2排列的长条状电极。长条状触控感应电极TE1与长条状触控感应电极TE2的延伸方向不同，而互相交错。第一触控感应电极TE1与第二触控感应电极TE2可分别用以传送控制讯号与接收触控感应讯号。自此，可以经由侦测第一触控感应电极TE1与第二触控感应电极TE2之间的讯号变化(例如电容变化)，得到触控位置。借由此设置，使用者可于基板110上的各点进行触控感应。
本实施例之触控面板100更可以包含膜层130及/或保护层150，其是全面性的覆盖触控面板100，也就是说基板110的上下两面均设置有膜层130及/或保护层150，并覆盖于第一触控电极TE1、第二触控电极TEL2、周边引线120以及标记140之上，而第一中间层M1及第二中间层M2则分别位于周边引线120及标记140的下表面。
图6为根据本发明的部分实施方式的触控面板100的上视示意图。本实施方式与图1的实施方式相似，本实施方式与图1的实施方式的差别主要在于：本实施方式中，触控面板100更包含设置于周边区PA的屏蔽导线160，且屏蔽导线160的下表面上设置有第三中间层M3，第三中间层M3设置于屏蔽导线160与基板110之间。屏蔽导线160主要包围触控感应电极TE与周边引线120，且屏蔽导线160会延伸至接合区BA而电性连接于软性电路板170上的接地端，故屏蔽导线160可以屏蔽或消除讯号干扰或是静电放电(Electrostatic Discharge，ESD)防护，特别是人手碰到触控装置周围的连接导线而导致的微小电流变化。
屏蔽导线160可由金属材料制成，较佳地可参照周边引线120或标记140的说明；第三中间层M3则为金属纳米线所制成或金属纳米线与膜层130所构成的复合结构，较佳地可参照第一中间层M1或第二中间层M2的说明，且前述实施方式的具体说明可套用于本实施例的屏蔽导线160与第三中间层M3。在本发明的部分实施例中，屏蔽导线160、周边引线120与标记140可为同层的金属层所制作(即三者为相同的金属材料)；触控感应电极TE、第三中间层M3、第一中间层M1与第二中间层M2可为同层的金属纳米线层(如纳米银线层)所制作，或为同层的金属纳米线(如纳米银线层)与膜层130所构成的复合结构所制作。本实施例的触控面板100更可以包含膜层130及/或保护层150，其是全面性的覆盖触控面板100，也就是说膜层130及/或保护层150除了覆盖于第一触控电极TE1、第二触控电极TEL2、周边引线120以及标记140上，也覆盖于屏蔽导线160上。
在一部分实施方式中，本文所述的触控面板100可借由卷对卷(Roll to Roll)工艺来制作，卷对卷(Roll to Roll)涂覆工艺使用现有设备且可完全自动化，可显着降低制造触控面板的成本。卷对卷涂覆的具体工艺如下:首先选用具可挠性的基板110，并使卷带状的基板110安装于两滚轮之间，利用马达驱动滚轮，以使基板110可沿两滚轮之间的动作路径进行连续性的工艺。例如，利用储存槽、喷雾装置、刷涂装置及其类似物将含金属纳米线的浆料则沈积于基板110的表面上以形成金属纳米线；利用喷涂头将聚合物沈积于基板110的表面上，并将聚合物固化成为膜层130等步骤。随后，所完成的触控面板100借由产线最后端的滚轮加以卷出形成触控传感器卷带。如图7，完成上述工艺后的触控传感器卷带，其基板110的表面上即可被制作出多个触控面板100，而基板110的表面上可具有标记140；在本实施例中，标记140可为位于触控面板100之间的切割对位标记140A，其主要用于将多个触控面板100自所完成的触控传感器卷带进行裁切、切割等步骤以制成个别独立的触控面板100，请配合参照图6，可借由基板110上的切割对位标记140A所定义的切割线将左右两触控面板100分割成个别独立的触控面板100；标记140也可为对位标记140B、方向标记140C、尺寸标记140D、数字/文字标记140E，举例来说，对位标记140B可用于对位；方向标记140C可用于标记工艺方向，例如基板110的MD/TD方向；尺寸标记140D可用于标记尺规；数字/文字标记140E则可用于logo等图样。换言之，本实施例的标记140可包括位于触控传感器卷带上而形成于相邻触控面板100之间的切割对位标记140A或上述其他标记140B～140E，或者也可包括前述位于触控面板100的周边区PA的对接对位标记或其他工艺上所需的标号。同于前述实施例，本实施例的标记140A～140E为金属材料制成，且其下表面设置有第二中间层M2，具体说明可参照前文，本实施例的触控面板100的具体内容亦可参照前文，在此不予重复。
本实施例的触控传感器卷带更可以包含膜层130及/或保护层150，其是全面性的覆盖触控传感器卷上未裁切的触控面板100，也就是说膜层130及/或保护层150可覆盖于多个触控面板100上。请参照图8，本实施例的触控传感器卷带更包含膜层130及保护层150，具体而言，每一触控面板100的标记140，如设置于周边区PA的对接对位标记，其具有一侧壁142及一下表面144，对接对位标记140的侧壁142接触该保护层150(可参照图4A)，而第二中间层M2的复合结构接触所对应的对接对位标记的下表面144。另外，图8显示设置于相邻该些触控面板100之间的切割对位标记140A，切割对位标记140A同样具有侧壁及下表面，切割对位标记140A的侧壁接触保护层150，第二中间层M2的复合结构接触所对应的切割对位标记140A的下表面。
于本发明的部分实施方式中，基板110较佳为透明基板，详细而言，可以为一硬式透明基板或一可挠式透明基板，其材料可以选自玻璃、压克力(polymethylmethacrylate；PMMA)、聚氯乙烯(polyvinyl Chloride；PVC)、聚丙烯(polypropylene；PP)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(polyethylene terephthalate；PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylenenaphthalate；PEN)、聚碳酸酯(polycarbonate；PC)、聚苯乙烯(polystyrene；PS)等透明材料。为了提高基板110与金属纳米线之间的附着力，基板110上可较佳的进行前处理步骤，例如进行表面改质工艺，或是在基板110的表面上额外涂布黏着层或树脂层。
在本发明的实施例中，含金属纳米线的浆料具有分散液，其可为水、醇、酮、醚、烃或芳族溶剂(苯、甲苯、二甲苯等等)；上述分散液亦可包含添加剂、接口活性剂或黏合剂，例如羧甲基纤维素(carboxymethyl cellulose；CMC)、2-羟乙基纤维素(hydroxyethylCellulose；HEC)、羟基丙基甲基纤维素(hydroxypropyl methylcellulose；HPMC)、磺酸酯、硫酸酯、二磺酸盐、磺基琥珀酸酯、磷酸酯或含氟界面活性剂等等。于本发明的部分实施方式中，金属纳米线可以是纳米银线或纳米银纤维(silver nano-fibers)，其可以具有平均约20至100纳米的直径，平均约20至100微米的长度，较佳为平均约20至70纳米的直径，平均约20至70微米的长度(即纵横比为1000)。于部分实施方式中，金属纳米线的直径可介于70纳米至80纳米，而长度约8微米。
于本发明的部分实施方式中，膜层130由绝缘材料所形成。举例而言，膜层130的材料可以是非导电的树脂或其他有机材料。于本发明的部分实施方式中，可以借由旋涂、喷涂、印刷等方式形成膜层130。于部分实施方式中，膜层130的厚度大约为20纳米至10微米、或50纳米至200纳米、或30至100纳米，举例而言，膜层130的厚度大约可为90纳米或100纳米。
卷对卷产线可沿基板的动作路径依需求调整多个涂覆步骤的顺序或是可按需求并入任何数目的额外站台。举例而言，为了达到适当的后处理工艺，即可将压力滚轮或电浆设备安装于产线中。
于部分实施方式中，所形成的金属纳米线可进一步进行后处理以提高其导电度，此后处理可为包括如加热、电浆、电晕放电、UV臭氧、压力或上述工艺组合的过程步骤。例如，在固化形成金属纳米线层的步骤后，可利用滚轮施加压力于其上，在一实施例中，可借由一或多个滚轮向金属纳米线层施加50至3400psi的压力，较佳为可施加100至1000psi、200至800psi或300至500psi的压力；而上述施加压力的步骤较佳地实施在涂布膜层130的步骤之前。于部分实施方式中，可同时进行加热与压力之后处理；详言之，所形成的金属纳米线可经由如上文所述的一或多个滚轮施加压力，并同时加热，例如由滚轮施加的压力为10至500psi，较佳为40至100psi；同时将滚轮加热至约70℃与200℃之间，较佳至约100℃与175℃之间，其可提高金属纳米线的导电度。于部分实施方式中，金属纳米线较佳可暴露于还原剂中进行后处理，例如由纳米银线组成的金属纳米线较佳可暴露于银还原剂中进行后处理，银还原剂包括硼氢化物，如硼氢化钠；硼氮化合物，如二甲基胺基硼烷(DMAB)；或气体还原剂，诸如氢气(H2)。而所述的暴露时间约10秒至约30分钟，较佳约1分钟至约10分钟。
本实施方式的其他细节大致上如上述实施方式所述，在此不再赘言。
本发明的不同实施例的结构可相互引用，并不为上述各具体实施方式的限制。
本发明的部分实施方式中，通过设计周边引线及/或标记下表面具有由金属纳米线所形成的第一或第二中间层的覆盖，可以避免对位的过程中所预留的误差空间，故可有效降低周边区的宽度。
虽然本发明已以多种实施方式揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何熟习此技艺者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰，因此本发明的保护范围当视后附的申请专利范围所界定者为准。

Claims (15)

1.一种触控面板，其特征在于，包含：
一基板，其中该基板具有一显示区与一周边区；
多个周边引线，设置于该基板的该周边区；
多个第一中间层，该些第一中间层设置于该些周边引线与该基板之间，其中每一该些第一中间层包括金属纳米线；以及
一触控感应电极，设置于该基板的该显示区，该触控感应电极电性连接该些周边引线。
2.根据权利要求1所述的触控面板，更包含：多个标记与多个第二中间层，设置于该基板的该周边区；该些第二中间层设置于该些标记与该基板之间，其中每一该些第二中间层包括该金属纳米线。
3.根据权利要求2所述的触控面板，更包含：一膜层，其覆盖该触控感应电极、该些周边引线以及该些标记。
4.根据权利要求2所述的触控面板，更包括分别设置在该显示区与该周边区的非导电区域。
5.根据权利要求4所述的触控面板，其中该非导电区域中具有一与该膜层相同的材料所制成的填充层。
6.根据权利要求1所述的触控面板，其中每一该些周边引线具有一侧壁及一下表面，每一该些第一中间层具有一侧面，该侧面与该些周边引线的该侧壁为一共同蚀刻面，每一该些第一中间层接触所对应的该周边引线的该下表面。
7.根据权利要求2所述的触控面板，其中每一该些标记具有一侧壁及一下表面，每一该些第二中间层具有一侧面，该侧面与该些标记的该侧壁为一共同蚀刻面，每一该些第二中间层接触所对应的该标记的该下表面。
8.根据权利要求2所述的触控面板，其中每一该些第一中间层及每一该些第二中间层为该金属纳米线与一膜层所构成的复合结构。
9.根据权利要求1所述的触控面板，其中该触控感应电极位于该基板的一面。
10.根据权利要求1所述的触控面板，其中该触控感应电极包括第一触控电极与第二触控电极，该第一触控电极与该第二触控电极位于该基板的相对两面。
11.根据权利要求1所述的触控面板，其中该些标记包括对接对位标记。
12.根据权利要求1所述的触控面板，其中该些周边引线的宽度为5um-20um或3um-20um。
13.根据权利要求1所述的触控面板，其中相邻的该些周边引线之间的距离为5um-20um或3um-20um。
14.根据权利要求2所述的触控面板，其中该些周边引线与该些标记为金属材料制成；该触控感应电极包括该金属纳米线或该金属纳米线与一膜层所构成的复合结构。
15.一种显示器的窄边框，其特征在于，包含：根据权利要求1所述的触控面板。
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