CN104820510A - 触摸屏面板及其制造方法 - Google Patents

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CN104820510A CN201410612783.9A CN201410612783A CN104820510A CN 104820510 A CN104820510 A CN 104820510A CN 201410612783 A CN201410612783 A CN 201410612783A CN 104820510 A CN104820510 A CN 104820510A
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Abstract

本发明公开一种触摸屏面板及其制造方法。在一个方面中，该触摸屏面板包括：基板，具有触摸区域和围绕触摸区域的外围区域；以及多个第一触摸电极图案，形成在触摸区域中，在第一方向上延伸，并且被配置成传送第一触摸信号。该触摸屏面板还包括：多个第二触摸电极图案，形成在触摸区域中，在与第一方向交叉的第二方向上延伸，并且被配置成传送第二触摸信号；以及多个第一驱动电路布线，形成在外围区域中，并且分别电连接到第一触摸电极图案。第一驱动电路布线包括低阻布线层。

Description

触摸屏面板及其制造方法
技术领域
所描述的技术总体涉及触摸屏面板及其制造方法。
背景技术
触摸屏面板被用作用于平板显示器诸如液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)显示器等等的输入装置。取决于所采用的感测技术，触摸屏面板可被分为电阻触摸屏面板和电容触摸屏面板。在电阻触摸屏面板中，电极被形成在上板或者下板上，触摸位置基于当直流(DC)电压被施加到电极时的电阻而由电压梯度(gradient)来确定。在电容触摸屏面板中，等电位被形成在导电膜上，触摸位置在上板或者下板的电压的变化由于触摸输入操作而出现时被确定。
发明内容
一个发明方面是一种触摸屏面板及其制造方法，其能够选择性地蚀刻连接线而不损坏第一和第二触摸电极图案以及能够提高驱动电路布线的导电性。
另一方面是一种触摸屏面板，该触摸屏面板包括：基板，具有触摸区域和围绕触摸区域的外围区域；第一触摸电极图案，在第一方向上形成在触摸区域中，并且传送第一触摸信号；多个第二触摸电极图案，在与第一方向交叉的第二方向上形成在触摸区域中，并且传送第二触摸信号；以及第一驱动电路布线，形成在外围区域上，并且连接到第一触摸电极图案。第一驱动电路布线可以包括低阻布线层。
多个第二触摸电极图案可以彼此间隔开，并且可以进一步包括互连相邻的第二触摸电极图案的连接线。
可以进一步包括形成在第一触摸电极图案与连接线之间以使第一触摸电极图案与第二触摸电极图案绝缘的触摸绝缘构件。
第一驱动电路布线可以包括顺序地层叠的第一透明导电布线层、第二透明导电布线层以及低阻布线层，第一触摸电极图案和第二触摸电极图案均可以包括第一透明导电布线层和第二透明导电布线层。
第一透明导电布线层可以包含银纳米线，第二透明导电布线层和连接线可以包含透明导电氧化物。
低阻布线层可以由从铜和银选出的一种材料形成。
连接线的蚀刻速率高于第二透明导电布线层的蚀刻速率。
连接线可以具有比第二透明导电布线层高的铟含量。
绝缘层和外围绝缘构件可以顺序地层叠在第一驱动电路布线上，触摸绝缘构件和连接线可以顺序地层叠在第一触摸电极图案与连接线交叠的第一触摸交叠部分上。
连接线可以接触第二触摸电极图案的第二透明导电布线层。绝缘层可以形成在第一和第二触摸电极图案之间。
另一方面为一种制造触摸屏面板的方法，该方法包括：在具有触摸区域和围绕触摸区域的外围区域的基板上，顺序地形成第一透明导电层、第二透明导电层、低阻层以及光敏膜；在触摸区域中形成触摸光敏膜图案并且在外围区域中形成外围光敏膜图案；通过利用触摸光敏膜图案和外围光敏膜图案作为蚀刻掩模，形成第一触摸电极图案、第二触摸电极图案以及第一驱动电路布线；通过去除外围光敏膜层并且通过减小触摸光敏膜图案的厚度，暴露第一驱动电路布线；在第一驱动电路布线和触摸光敏膜图案上形成绝缘层；通过去除触摸光敏膜图案和形成在其上的绝缘层，暴露第一和第二触摸电极图案；以及去除第一触摸电极图案和第二触摸电极图案的低阻层。
在去除低阻层期间，第一和第二触摸电极图案可以通过层叠第一透明导电布线层和第二透明导电布线层而形成，第一驱动电路布线可以通过层叠第一透明导电布线层、第二透明导电布线层以及低阻布线层而形成。
在去除低阻层之后，可以还包括：在外围区域的绝缘层上形成外围绝缘构件和在第二触摸电极图案上形成触摸绝缘构件，以及在触摸绝缘构件和第一触摸电极图案上形成连接线。
绝缘层可以形成在第一和第二触摸电极图案之间。
在去除触摸光敏膜图案和形成在其上的绝缘层期间，第一触摸电极图案和第二触摸电极图案的低阻布线层可以被暴露，第一触摸电极图案和第二触摸电极图案的第一透明导电布线层的横侧面可以被绝缘层覆盖。
具有比触摸光敏膜图案小的厚度的外围光敏膜图案可以通过利用狭缝掩模而形成。
第一透明导电层可以包含银纳米线，第二透明导电层可以包含透明导电氧化物，低阻层由从铜和银选出的一种材料形成。
另一方面是一种触摸屏面板，该触摸屏面板包括：基板，具有触摸区域和围绕触摸区域的外围区域；多个第一触摸电极图案，形成在触摸区域中，在第一方向上延伸，并且配置成传送第一触摸信号；多个第二触摸电极图案，形成在触摸区域中，在与第一方向交叉的第二方向上延伸，并且配置成传送第二触摸信号；以及多个第一驱动电路布线，形成在外围区域中，并且分别电连接到第一触摸电极图案，其中，第一驱动电路布线包括低阻布线层。
第二触摸电极图案可彼此间隔开，该面板还可包括电连接在第二方向上相邻的第二触摸电极图案的多条连接线。该面板还可包括分别形成在第一触摸电极图案与连接线之间并且使第一触摸电极图案与第二触摸电极图案电绝缘的多个触摸绝缘构件。第一驱动电路布线可包括顺序地形成的第一透明导电布线层、第二透明导电布线层以及低阻布线层，第一触摸电极图案和第二触摸电极图案可均包括第一透明导电布线层和第二透明导电布线层。第一透明导电布线层可以包含银纳米线，第二透明导电布线层和连接线可包含透明导电氧化物。低阻布线层可由铜或银形成。连接线可具有比第二透明导电布线层的蚀刻速率大的蚀刻速率。连接线可具有比第二透明导电布线层高的铟含量。绝缘层和外围绝缘构件可顺序地层叠在第一驱动电路布线上。绝缘层可形成在第一触摸电极图案与第二触摸电极图案之间。触摸绝缘构件和连接线可顺序地并且分别地形成在第一触摸电极图案的第一连接部分上方。连接线可接触第二触摸电极图案的第二透明导电布线层。
另一方面是一种制造触摸屏面板的方法，该方法包括：在基板上方，顺序地形成第一透明导电层、第二透明导电层、低阻层以及光敏膜，该基板具有触摸区域和围绕触摸区域的外围区域；在触摸区域中形成触摸光敏膜图案并且在外围区域中形成外围光敏膜图案；利用触摸光敏膜图案和外围光敏膜图案作为蚀刻掩模，蚀刻第一透明导电层、第二透明导电层以及低阻层，以形成第一触摸电极图案、第二触摸电极图案以及第一驱动电路布线；执行灰化工艺，以去除外围光敏膜图案并且减小触摸光敏膜图案的厚度；在第一驱动电路布线和触摸光敏膜图案上方形成绝缘层；去除触摸光敏膜图案和形成在其上的绝缘层；以及去除第一触摸电极图案和第二触摸电极图案的低阻层。
第一触摸电极图案和第二触摸电极图案的每个可包括第一透明导电布线层和第二透明导电布线层，第一驱动电路布线可包括第一透明导电布线层、第二透明导电布线层以及低阻布线层。该方法还可包括：在去除低阻层之后，在外围区域中的绝缘层上方形成外围绝缘构件并且在第一触摸电极图案上方形成触摸绝缘构件；以及在触摸绝缘构件上方形成连接线，以电连接到第二触摸电极图案。绝缘层可形成在第一触摸电极图案和第二触摸电极图案之间。在去除触摸光敏膜图案期间，第一触摸电极图案和第二触摸电极图案的低阻布线层可被暴露，第一触摸电极图案和第二触摸电极图案的第一透明导电布线层的横侧面被该绝缘层覆盖。外围光敏膜图案的厚度可小于触摸光敏膜图案的厚度，外围光敏膜图案可通过利用狭缝掩模而形成。第一透明导电层可包含银纳米线，第二透明导电层可包含透明导电氧化物，低阻层可由铜或银形成。
另一方面是一种触摸屏面板，该触摸屏面板包括：基板，具有触摸区域和围绕触摸区域的外围区域；多个第一触摸电极图案，形成在触摸区域中，并且在第一方向上延伸；多个第二触摸电极图案，形成在触摸区域中，并且在与第一方向交叉的第二方向上延伸，其中第一触摸电极图案和第二触摸电极图案被配置成感测触摸输入；以及多个驱动电路布线，形成在外围区域中，并且分别电连接到第一触摸电极图案和第二触摸电极图案，其中第一触摸电极图案和第二触摸电极图案以及驱动电路布线包括第一透明导电布线层和第二透明导电布线层，其中驱动电路布线还包括低阻布线层。
根据至少一个实施方式，第一驱动电路布线的导电性可通过在外围区域中形成包括低阻布线层的第一驱动电路布线而提高。
此外，当触摸光敏膜图案被去除并且执行用于去除形成在其上的绝缘层的剥离工艺时，第一和第二触摸电极图案的顶表面因其被第二透明导电布线层和低阻布线层覆盖而被保护免于剥离工艺，而第一和第二触摸电极图案的第一透明导电布线层的横侧面因其被绝缘层覆盖而被保护免于剥离工艺。
另外，当互连分离的第二触摸电极图案的连接线的蚀刻速率被设定为高于第二透明导电布线层的蚀刻速率时，在连接线的图案化工艺中，可执行连接线的选择性蚀刻，而不损坏形成在第一和第二触摸电极图案上的第二透明导电布线。
附图说明
图1是根据一示例性实施方式的触摸屏面板的布局图。
图2是图1的触摸屏面板的沿线II'-II'和II″-II″截取的截面图。
图3、5、7和9是顺序地示出根据一示例性实施方式的制造触摸屏面板的方法的布局图。
图4是图3的触摸屏面板的沿线IV'-IV'和IV″-IV″截取的截面图。
图6是图5的触摸屏面板的沿线VI'-VI'和VI″-VI″截取的截面图。
图8是图7的触摸屏面板的沿线VIII'-VIII'和VIII″-VIII″截取的截面图。
图10是图9的触摸屏面板的沿线X'-X'和X″-X″截取的截面图。
图11是根据另一示例性实施方式的触摸屏面板的布局图。
图12是图11的触摸屏面板的沿线XII'-XII'和XII″-XII″截取的截面图。
图13、15、17、19、21和23是顺序地示出根据另一示例性实施方式的制造触摸屏面板的方法的布局图。
图14是图13的触摸屏面板的沿线XIV'-XIV'和XIV″-XIV″截取的截面图。
图16是图15的触摸屏面板的沿线XVI'-XVI'和XVI″-XVI″截取的截面图。
图18是图17的触摸屏面板的沿线XVIII'-XVIII'和XVIII″-XVIII″截取的截面图。
图20是图19的触摸屏面板的沿线XX'-XX'和XX″-XX″截取的截面图。
图22是图21的触摸屏面板的沿线XXII'-XXII'和XXII″-XXII″截取的截面图。
图24是图23的触摸屏面板的沿线XXIV'-XXIV'和XXIV″-XXIV″截取的截面图。
具体实施方式
典型的电容触摸屏面板包括通过连接线在竖直方向上连接的多个接收器(Rx)电极图案和通过连接线在水平方向上连接的多个发送器(Tx)电极图案。银纳米线(AgNW)，其具有高透射率和低电阻，正在被开发以用于这些Tx和Rx电极图案。在由银纳米线形成时，Tx和Rx电极图案能够通过湿法蚀刻或者干法蚀刻被图案化和形成。
然而，因为连接相邻的Tx电极图案的连接线一般由透明导电氧化物(TCO)形成，所以用于蚀刻该透明导电层的氧化剂可能还蚀刻形成Tx和Rx电极图案的银纳米线。因此，难以唯一地蚀刻连接线而不损坏Tx和Rx电极图案。
此外，在驱动电路线与Tx和Rx电极图案类似地是由银纳米线(AgNW)形成时，其中该驱动电路线将Tx和Rx电极图案连接到外部驱动电路，难以实现用于驱动电路线的足够导电性。
以下将参考附图更全面地描述本公开，在附图中显示出示例性实施方式。如同本领域的技术人员将认识到，所描述的实施方式可以以各种不同的方式修改，所有修改都不脱离本公开的精神或范围。
为了阐明本公开，不与描述相关的部分将被省略，相同的附图标记在整个说明书中表示相同的元件。此外，在图中示出的每种结构的尺寸和厚度可以被夸大以更好地理解描述和使描述容易，但是本公开不限于此。
在图中，为了清晰起见，可以夸大一些层和区域的厚度。将理解，当元件诸如层、膜、区域或基板被称为在另一元件“上”时，它能直接在所述另一元件上，或者也可以存在居间元件。在本公开中使用时，术语“实质上”能够在一些应用中并且根据本领域技术人员的理解而包括完全地、几乎完全地或者达到任何有效程度的含义。
现在将参考图1和图2详细描述根据一示例性实施方式的触摸屏面板。
图1是触摸屏面板的布局图，图2是图1的触摸屏面板的沿线II'-II'和II″-II″截取的截面图。
如图1和图2所示，触摸屏面板包括具有触摸区域TA和围绕触摸区域TA的外围区域PA的基板10。触摸屏面板还包括第一触摸电极图案21，第一触摸电极图案21形成在触摸区域TA中，在第一方向上延伸，并且传送第一触摸信号。多个第二触摸电极图案22也形成在触摸区域TA中，在与第一方向交叉的第二方向上延伸，并且传送第二触摸信号。触摸屏面板还包括第一驱动电路布线23和第二驱动电路布线24，第一驱动电路布线23形成在外围区域PA中并且电连接到第一触摸电极图案21，第二驱动电路布线24形成在外围区域PA并电连接到第二触摸电极图案22。
基板10可以是由玻璃、石英、陶瓷或者塑料形成的绝缘基板。当附接到显示装置的顶表面时，基板10可以由具有优良的透射率的材料形成。
触摸区域TA指的是感测使用者的触摸并将其转换成电信号的区域，外围区域PA指的是不包括第一和第二触摸电极图案21和22的区域。
在一些实施方式中，第一触摸电极图案21是其中菱形的电极图案在第一方向(例如竖直方向)上互连并且用于感测x轴坐标值的第一触摸信号通过其被传送的接收器(Rx)电极图案。这些第一触摸电极图案21具有互连菱形的电极图案的第一触摸重叠部分或者第一连接部分25。
在一些实施方式中，第二触摸电极图案22彼此间隔开，每个第二触摸电极图案22具有菱形的电极图案。连接线51形成为互连相邻的第二触摸电极图案22。在一些实施方式中，第二触摸电极图案22形成用于感测y轴坐标值的第二触摸信号通过其被传送的发送器(Tx)电极图案。
第一和第二触摸电极图案21和22感测使用者的触摸的坐标值并且通过第一和第二驱动电路布线23和24将坐标值分别传送到外部驱动电路，由此产生作为电信号的坐标值。
第一触摸电极图案21包括透明导电布线层21p，第二触摸电极图案22包括透明导电布线层22p，第一驱动电路布线23包括顺序地层叠的透明导电布线层23p和低阻布线层23q。透明导电布线层21P、22P和23P可以包含银纳米线(AgNW)，低阻布线层23q可以包含从铜和银选出的一种材料。
第一驱动电路布线23形成在外围区域中，并且可以由具有低透射率的低阻布线层23q诸如铜或银形成。如上所述，第一驱动电路布线23的导电性能够通过在外围区域PA中将第一驱动电路布线23形成为包括低阻布线层23q而提高。虽然未示出，但是第二驱动电路布线24可以与第一驱动电路布线23具有相同的结构，且可以由相同的材料形成。形成在外围区域PA中的第一驱动电路布线23被绝缘层30覆盖，触摸绝缘构件31形成于在触摸区域TA中形成的第一触摸电极图案21的第一触摸重叠部分25上。
触摸绝缘构件31形成在第一触摸电极图案21与连接线51之间以使第一触摸电极图案21与第二触摸电极图案22绝缘。连接线51形成在触摸绝缘构件31上并且接触第二触摸电极图案22，使得其互连分离的第二触摸电极图案22。连接线51可以包含透明导电氧化物诸如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、锌氧化物(ZnO)或者铟氧化物(In2O3)。
现在将参考附图描述根据一示例性实施方式的制造触摸屏面板的方法。
图3、5、7和9是顺序地示出根据一示例性实施方式的制造触摸屏面板的方法的布局图。图4、6、8和10是图3、5、7和9的触摸屏面板的相应截面图。
首先，如图3和图4所示，透明导电层20p、低阻层20q和光敏膜(PR1和PR2)顺序地形成在具有触摸区域TA和外围区域PA的基板10上。透明导电层20p可以包含银纳米线(AgNW)，低阻层20q可以包含从铜和银选出的一种材料。
接下来，通过图案化光敏膜(PR1和PR2)，触摸光敏膜图案PR2形成在触摸区域TA中，而外围光敏膜图案PR1形成在外围区域PA中。通过利用狭缝掩模1000，触摸光敏膜图案PR2的厚度d2形成为小于外围光敏膜图案PR1的厚度d1。为此，狭缝掩模1000的光阻挡区域1000a位于外围区域PA上方，而狭缝掩模1000的狭缝区域1000b位于触摸区域TA上方。
接下来，如图5和图6所示，第一触摸电极图案21、第二触摸电极图案22以及第一驱动电路布线23通过利用触摸光敏膜图案PR2和外围光敏膜图案PR1作为蚀刻掩模而形成。
然后，如图7和图8所示，执行灰化工艺以减小外围光敏膜图案PR1的厚度从而形成外围光敏膜图案PR1'并且去除触摸光敏膜图案PR2。
因此，外围光敏膜图案PR1'的厚度d1'小于图5和图6中的外围光敏膜图案PR1的厚度d1，形成在触摸区域TA中的第一和第二触摸电极图案21和22被暴露。接下来，第一和第二触摸电极图案21和22的低阻布线层21q和22q(其通过蚀刻工艺形成在触摸区域TA中)被去除。因为低阻布线层21q和22q具有低透射率，所以低阻布线层21q和22q被去除以提高触摸区域TA的透射率。
因为形成在外围区域PA中的第一驱动电路布线23被外围光敏膜图案PR1'覆盖，所以第一驱动电路布线23的低阻布线层23q在蚀刻工艺期间没有被去除。因而，第一和第二触摸电极图案21和22分别形成为包括透明导电布线层21p和22p的单层，第一驱动电路布线23形成为具有透明导电布线层23p和低阻布线层23q的双层。
接下来，如图9和图10所示，形成在外围区域PA中的外围光敏膜图案PR1'被去除。然后，绝缘层30形成在第一驱动电路布线23、第一触摸电极图案21以及第二触摸电极图案22上。绝缘层30能够由具有大约至大约的厚度的硅氮化物(SiNx)或者硅氧化物(SiO2)形成。
然后，通过利用光刻工艺，触摸绝缘构件31通过图案化在触摸区域TA中形成的绝缘层30而形成在第一触摸电极图案21的第一触摸重叠部分25上。
接下来，如图1和图2所示，连接线51通过利用透明导电氧化物诸如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、锌氧化物(ZnO)或者铟氧化物(In2O3)而形成在触摸绝缘构件31和第二触摸电极图案22上。连接线51接触第二触摸电极图案22，使得其互连分离的第二触摸电极图案22。
同时，在上述的示例性实施方式中，因为用于蚀刻连接线51的氧化剂通常蚀刻形成第一和第二触摸电极图案21和22的银纳米线(AgNW)，所以难以唯一地蚀刻连接线51而不损坏第一和第二触摸电极图案21p和22p。在另一示例性实施方式中，连接线51被唯一地蚀刻而不损坏第一和第二触摸电极图案。虽然未示出，但是第二驱动电路布线24可以在与第一驱动电路布线23相同的工艺期间由相同的材料形成。
图11是根据另一示例性实施方式的触摸屏面板的布局图。图12是图11的触摸屏面板的沿线XII'-XII'和XII″-XII″截取的截面图。
如图11和图12所示，触摸屏面板包括具有触摸区域TA和围绕触摸区域TA的外围区域PA的基板110。触摸屏面板还包括第一触摸电极图案121，第一触摸电极图案121形成在触摸区域TA中，在第一方向上延伸，并且传送第一触摸信号。多个第二触摸电极图案122形成在触摸区域TA中，在与第一方向交叉的第二方向上延伸，并且传送第二触摸信号。触摸屏面板还包括第一驱动电路布线123和第二驱动电路布线124，第一驱动电路布线123形成在外围区域PA中并且电连接到第一触摸电极图案121，第二驱动电路布线124形成在外围区域PA并电连接到第二触摸电极图案122。
基板110可以是由玻璃、石英、陶瓷或者塑料形成的绝缘基板。当附接到显示装置的顶表面时，基板110可以由具有优良的透射率的材料形成。
触摸区域TA指的是感测使用者的触摸并将其转换成电信号的区域，外围区域PA指的是不包括第一和第二触摸电极图案121和122的区域。
在一些实施方式中，第一触摸电极图案121是其中菱形的电极图案在第一方向(例如竖直方向)上互连并且用于感测x轴坐标值的第一触摸信号通过其被传送的接收器电极图案。这些第一触摸电极图案121具有互连菱形的电极图案的第一触摸重叠部分25。
在一些实施方式中，第二触摸电极图案122彼此间隔开，每个第二触摸电极图案122具有菱形的电极图案。连接线151形成为互连相邻的第二触摸电极图案122。在一些实施方式中，第二触摸电极图案122形成用于感测y轴坐标值的第二触摸信号通过其被传送的发送器电极图案。
第一和第二触摸电极图案121和122感测使用者的触摸的坐标值并且通过第一和第二驱动电路布线123和124将坐标值分别传送到外部驱动电路，由此产生作为电信号的坐标值。
第一触摸电极图案121包括顺序地层叠的第一透明导电布线层121p和第二透明导电布线层121q，第二触摸电极图案122包括顺序地层叠的第一透明导电布线层122p和第二透明导电布线层122q，第一驱动电路布线123包括顺序地层叠的第一透明导电布线层123p、第二透明导电布线层123q和低阻布线层123r。
第一透明导电布线层121P、122P和123P可以包含银纳米线(AgNW)，第二透明导电布线层121q、122q和123q可以包含透明导电氧化物诸如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、锌氧化物(ZnO)或者铟氧化物(In2O3)，低阻布线层121r、122r和123r可以包含从铜和银选出的一种材料。
第一驱动电路布线123形成在外围区域中，并且可以由具有低透射率的低阻布线层123r诸如铜或银形成。如上所述，第一驱动电路布线123的导电性能够通过在外围区域PA中将第一驱动电路布线123形成为包括低阻布线层123r而提高。形成在外围区域PA中的第一驱动电路布线123被绝缘层130覆盖，绝缘层130形成于在触摸区域TA中形成的第一和第二触摸电极图案121和122之间的暴露的基板110上。也就是，绝缘层130不形成在第一和第二触摸电极图案121和122上。
外围绝缘构件142形成于在外围区域PA中形成的绝缘层130上，触摸绝缘构件141形成在第一触摸电极图案121的第一触摸重叠部分25上。触摸绝缘构件141形成在第一触摸电极图案121与连接线151之间以使第一触摸电极图案121与第二触摸电极图案122绝缘。
连接线151形成在触摸绝缘构件141上并且接触第二触摸电极图案122的第二透明导电布线层122q，使得其互连分离的第二触摸电极图案122。连接线151可以包含透明导电氧化物诸如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、锌氧化物(ZnO)或者铟氧化物(In2O3)。
连接线151的蚀刻速率可以高于第二透明导电布线层121q和122q的蚀刻速率。因此，连接线151能够被唯一地蚀刻，而不损坏形成在第一和第二触摸电极图案121和122上的第二透明布线层121q和122q。
为此，在一些实施方式中，连接线151具有比第二透明导电布线层121q和122q高的铟含量。连接线151的铟含量可以为大约90％至大约95％，而第二透明导电布线层121q和122q的铟含量可以为大约1％至大约50％。
现在将参考附图详细描述根据另一示例性实施方式的制造触摸屏面板的方法。
图13、15、17、19、21和23是顺序地示出根据另一示例性实施方式的制造触摸屏面板的方法的布局图。图14、16、18、20、22和24是图13、15、17、19、21和23的触摸屏面板的相应截面图。
首先，如图13和图14所示，第一透明导电层120p、第二透明导电层120q、低阻层120r和光敏膜(PR3和PR4)顺序地形成在具有触摸区域TA和外围区域PA的基板110上。
第一透明导电层120p可以包含银纳米线(AgNW)，第二透明导电层120q可以包含透明导电氧化物诸如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、锌氧化物(ZnO)或者铟氧化物(In2O3)，低阻层120r可以包含从铜和银选出的一种材料。
接下来，通过图案化光敏膜(PR3和PR4)，触摸光敏膜图案PR3形成在触摸区域TA中，而外围光敏膜图案PR4形成在外围区域PA中。通过利用狭缝掩模1000，外围光敏膜图案PR4形成为具有比触摸光敏膜图案PR3的厚度d3小的厚度d4。为此，狭缝掩模1000的光阻挡区域1000a位于触摸区域TA中，而狭缝掩模1000的狭缝区域1000b位于外围区域TA中。
接下来，如图15和图16所示，第一触摸电极图案121、第二触摸电极图案122以及第一驱动电路布线123通过利用触摸光敏膜图案PR3和外围光敏膜图案PR4作为蚀刻掩模而形成。
然后，如图17和图18所示，执行灰化工艺以减小触摸光敏膜图案PR3的厚度从而形成触摸光敏膜图案PR3'并且去除外围光敏膜图案PR4。因此，触摸光敏膜图案PR3'的厚度d3'小于图15和图16中的触摸光敏膜图案PR3的厚度d3，形成在外围区域PA中的第一驱动电路布线123被暴露。
接下来，绝缘层130形成在被暴露的第一驱动电路布线123和触摸光敏膜图案PR3'上。因为在触摸区域TA中形成的绝缘层130在触摸光敏膜图案PR3'与基板110之间具有台阶，所以在第一和第二触摸电极图案121和122之间形成的绝缘层130与在触摸光敏膜图案PR3'上形成的绝缘层130分离。绝缘层130由硅氮化物(SiNx)或者硅氧化物(SiO2)形成为大约至大约的厚度。绝缘层130的厚度可以大于第一透明导电布线层121p和122p的厚度。
接下来，如图19和图20所示，通过去除触摸光敏膜图案PR3'，执行剥离工艺以同时去除在触摸光敏膜图案PR3'上形成的绝缘层130。然后，第一和第二触摸电极图案121和122被暴露，但是第一透明导电布线层121p和122p的顶表面因为其分别被第二透明导电布线层121q和122q以及低阻布线层121r和122r覆盖而被保护免于剥离工艺，并且第一透明导电布线层121p和122p的横侧面因为其被绝缘层130覆盖而被保护免于剥离工艺。
接下来，如图21和图22所示，低阻布线层121r和122r被从触摸区域TA中的第一和第二触摸电极图案121和122去除。因为低阻布线层121r和122r具有低透射率，所以低阻布线层121r和122r被去除以提高触摸区域TA的透射率。
因此，第一和第二触摸电极图案121和122被完成并且包括第一透明导电布线层121p和122p以及第二透明导电布线层121q和122q。类似地，第一驱动电路布线123被完成并且包括第一透明导电布线层123p、第二透明导电布线层123q以及低阻布线层123r。
接下来，如图23和图24所示，外围绝缘构件142形成在绝缘层130上，触摸绝缘构件141形成在第二触摸电极图案122上。外围和触摸绝缘构件142和141同时由相同的材料形成。外围和触摸绝缘构件142和141能够由诸如硅氮化物(SiNx)或者硅氧化物(SiO2)的材料形成。此外，绝缘层130、外围绝缘材料142以及触摸绝缘构件141能够由相同的材料形成。
接下来，如图11和图12所示，连接线151利用透明导电氧化物而形成在触摸绝缘构件141和第一触摸电极图案121上。连接线151接触第二触摸电极图案122的第二透明导电布线层122a，使得其互连分离的第二触摸电极图案122。
根据一些实施方式，连接线151的蚀刻速率可以大于第二透明导电布线层121q和122q的蚀刻速率。因此，在连接线151的图案化工艺中，连接线151能够被唯一地蚀刻，而不损坏第一和第二触摸电极图案121和122上方的第二透明布线层121q和122q。为此，连接线151可以具有比第二透明导电布线层121q和122q高的铟含量。虽然未示出，但是第二驱动电路布线124可以在与第一驱动电路布线123相同的工艺期间由相同的材料形成。
尽管已经结合目前认为是可行的示例性实施方式的那些描述了本公开，但是将理解，该公开不限于所公开的实施方式，而相反，旨在涵盖在权利要求的精神和范围之内包括的各种修改和等同布置。

Claims (20)

1.一种触摸屏面板，包括：
基板，具有触摸区域和围绕所述触摸区域的外围区域；
多个第一触摸电极图案，形成在所述触摸区域中，在第一方向上延伸，并且被配置成传送第一触摸信号；
多个第二触摸电极图案，形成在所述触摸区域中，在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸，并且被配置成传送第二触摸信号；以及
多个第一驱动电路布线，形成在所述外围区域中，并且分别电连接到所述第一触摸电极图案，
其中，所述第一驱动电路布线包括低阻布线层。
2.根据权利要求1所述的触摸屏面板，其中所述第二触摸电极图案彼此间隔开，并且其中所述触摸屏面板还包括电连接在所述第二方向上相邻的所述第二触摸电极图案的多条连接线。
3.根据权利要求2所述的触摸屏面板，还包括分别形成在所述第一触摸电极图案与所述连接线之间并且使所述第一触摸电极图案与所述第二触摸电极图案电绝缘的多个触摸绝缘构件。
4.根据权利要求3所述的触摸屏面板，其中所述第一驱动电路布线包括顺序地形成的第一透明导电布线层、第二透明导电布线层以及低阻布线层，其中所述第一触摸电极图案和所述第二触摸电极图案均包括所述第一透明导电布线层和所述第二透明导电布线层。
5.根据权利要求4所述的触摸屏面板，其中所述第一透明导电布线层包含银纳米线，其中所述第二透明导电布线层和所述连接线包含透明导电氧化物。
6.根据权利要求5所述的触摸屏面板，其中所述低阻布线层由铜或银形成。
7.根据权利要求5所述的触摸屏面板，其中所述连接线具有比所述第二透明导电布线层的蚀刻速率大的蚀刻速率。
8.根据权利要求7所述的触摸屏面板，其中所述连接线具有比所述第二透明导电布线层高的铟含量。
9.根据权利要求4所述的触摸屏面板，其中绝缘层和外围绝缘构件顺序地层叠在所述第一驱动电路布线上。
10.根据权利要求9所述的触摸屏面板，其中所述绝缘层形成在所述第一触摸电极图案与所述第二触摸电极图案之间。
11.根据权利要求4所述的触摸屏面板，其中所述触摸绝缘构件和所述连接线顺序地并且分别地形成在所述第一触摸电极图案的第一连接部分上方。
12.根据权利要求4所述的触摸屏面板，其中所述连接线接触所述第二触摸电极图案的第二透明导电布线层。
13.一种制造触摸屏面板的方法，包括：
在基板上方，顺序地形成第一透明导电层、第二透明导电层、低阻层以及光敏膜，所述基板具有触摸区域和围绕所述触摸区域的外围区域；
在所述触摸区域中形成触摸光敏膜图案并且在所述外围区域中形成外围光敏膜图案；
利用所述触摸光敏膜图案和所述外围光敏膜图案作为蚀刻掩模，蚀刻所述第一透明导电层、所述第二透明导电层以及所述低阻层，以形成第一触摸电极图案、第二触摸电极图案以及第一驱动电路布线；
执行灰化工艺，以去除所述外围光敏膜图案并且减小所述触摸光敏膜图案的厚度；
在所述第一驱动电路布线和所述触摸光敏膜图案上方形成绝缘层；
去除所述触摸光敏膜图案和形成在其上的所述绝缘层；以及
去除所述第一触摸电极图案和所述第二触摸电极图案的所述低阻层。
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述第一触摸电极图案和所述第二触摸电极图案的每个包括第一透明导电布线层和第二透明导电布线层，其中所述第一驱动电路布线包括第一透明导电布线层、第二透明导电布线层以及低阻布线层。
15.根据权利要求14所述的方法，还包括：
在去除所述低阻层之后，在所述外围区域中的所述绝缘层上方形成外围绝缘构件并且在所述第一触摸电极图案上方形成触摸绝缘构件；以及
在所述触摸绝缘构件上方形成连接线，以电连接到所述第二触摸电极图案。
16.根据权利要求15所述的方法，其中所述绝缘层形成在所述第一触摸电极图案和所述第二触摸电极图案之间。
17.根据权利要求16所述的方法，其中，在去除所述触摸光敏膜图案期间，所述第一触摸电极图案和所述第二触摸电极图案的低阻布线层被暴露，所述第一触摸电极图案和所述第二触摸电极图案的所述第一透明导电布线层的横侧面被所述绝缘层覆盖。
18.根据权利要求15所述的方法，其中所述外围光敏膜图案的厚度小于所述触摸光敏膜图案的厚度，其中所述外围光敏膜图案通过利用狭缝掩模而形成。
19.根据权利要求15所述的方法，其中所述第一透明导电层包含银纳米线，其中所述第二透明导电层包含透明导电氧化物，其中所述低阻层由铜或银形成。
20.一种触摸屏面板，包括：
基板，具有触摸区域和围绕所述触摸区域的外围区域；
多个第一触摸电极图案，形成在所述触摸区域中，并且在第一方向上延伸；
多个第二触摸电极图案，形成在所述触摸区域中，并且在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸，其中所述第一触摸电极图案和所述第二触摸电极图案被配置成感测触摸输入；以及
多个驱动电路布线，形成在所述外围区域中，并且分别电连接到所述第一触摸电极图案和所述第二触摸电极图案，
其中所述第一触摸电极图案和所述第二触摸电极图案以及所述驱动电路布线包括第一透明导电布线层和第二透明导电布线层，其中所述驱动电路布线还包括低阻布线层。
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