CN111338503B - 一种单层设计触控显示面板及其制造方法 - Google Patents

Abstract

一种单层设计触控显示面板及其制造方法，其利用改变现行制作流程，达到使用贴附式透明导电薄膜以避免金属纳米导线接触到蚀刻药液外，更可提高在整个制程中金属层的搭接成功率。本创作将以往单层设计触控显示面板之堆栈结构会因为金属层搭接时需要进行两层的透明导电层之高度，转化成只需搭接一层透明导电层之高度，以提高搭接良率。

Description

一种单层设计触控显示面板及其制造方法

技术领域

本创作系有关一种触控显示面板结构，尤其是可提高金属层搭接成功率的单层设计触控显示面板及其制造方法。

背景技术

请参阅图1，在习知技术中，使用贴附式透明导电薄膜制程避免纳米导线接触蚀刻药液。

其制程是在基板100上进行第一透明导电光阻层101贴合后，再进行第二透明导电光阻层102贴合，然后再进行透明绝缘层103堆栈，最后是金属层104的搭接。对于金属层104进行搭接时，需要进行两层透明导电层的高度堆栈搭接，其高度在6微米(um)至10微米(um)间。

此外，在实际上，金属层的搭接会因为当透明绝缘层103的厚度较大，且透明绝缘层103的外边缘相对基板100表面的坡度较大时，透明绝缘层103上的电极与非触控区的金属引线搭接时，容易造成断线等搭接不良，造成成功率低，进而影响触控面板之运作。

因此，为了能够降低上述缺失，以使相关之产品具有高市场价值，实有必要在结构上做进一步的改良、提出相关之解决办法。

发明内容

有鉴于上述习知之问题，本创作之一目的就是在提供一种单层设计触控显示面板之堆栈结构及其制造方法，以解决金属与纳米导线在蚀刻药液选择上遇到之困境以及提高金属层进行搭接时成功率的问题。

一种单层设计触控显示面板，其包括有一基板、一第一透明导电光阻层、一透明绝缘层、多条第一走线、多条第二走线以及一第二透明导电光阻层。

该基板，具有一周边区与被该周边区围绕之一可视区。

该第一透明导电光阻层，其位于该基板上，该第一透明导电光阻层包含一第一导电层，具有多个第一电极。

该第二透明导电光阻层，其邻靠该第一透明导电光阻层，该第二透明导电光阻层包含一第二导电层，具有多个第二电极。

该透明绝缘层，夹设于该第一透明导电光阻层上与该第二透明导电光阻层之间，且该透明绝缘层于该周边区分别裸露出部分该第一电极及部分该第二电极。

多条该第一走线，位于该基板上且与裸露出部分该第一电极电性连接；多条该第二走线，位于该基板上且与裸露出部分该第二电极电性连接。

进一步地，该第一透明导电光阻层与该第二透明导电光阻层分别为透明光阻材料所制成。

进一步地，裸露出部分该第一电极外缘周围沿一第一方向与该可视区外缘周围相距一第一距离，该第一透明导电光阻层外缘周围沿该第一方向与该可视区外缘周围相距一第二距离，该第一距离不小于该第二距离；裸露出部分该第二电极外缘周围沿一第二方向与该可视区外缘周围相距一第三距离，该第二透明导电光阻层外缘周围沿该第二方向与该可视区外缘周围相距一第四距离，该第三距离不小于该第四距离。

进一步地，该第一透明导电光阻层更包含一第一透明感光树脂层，该第一透明感光树脂层设置于该第一导电层下，该第二透明导电光阻层更包含一第二透明感光树脂层，该第二透明感光树脂层设置于该第二导电层上。

更进一步地，该第一方向与该第二方向为垂直。

更进一步地，该第一透明导电光阻层具有一第一厚度，该第二透明导电光阻层具有一第二厚度，该第一厚度与该第二厚度分别为1.5微米(um)至20微米(um)之间。

更进一步地，裸露出部分该第一电极及部分该第二电极为金属或金属合金所制成，分别具有一第三厚度及一第四厚度，该第三厚度及该第四厚度为20纳米(nm)至10微米(um)之间。

更进一步地，该第一导电层具有一第一深度，该第二导电层具有一第二深度，该第一深度与该第二深度分别为20纳米(nm)至500纳米(nm)之间。

更进一步地，该透明绝缘层具有一第五厚度，该第五厚度为3微米(um)至10微米(um)之间。

此外，本创作一种单层设计触控显示面板之制作方法，其包括有下列步骤：

步骤S1：提供一基板，该基板具有一周边区与被该周边区围绕之一可视区。

步骤S2：该基板上贴合一第一透明导电光阻层，该第一透明导电光阻层外缘位于该周边区中。

步骤S3：于该第一透明导电光阻层形成一第一导电层，该第一导电层沿一第二方向排列的多个第一电极列，且每一第一电极列沿一第一方向排列有多个第一电极。

步骤S4：该第一透明导电光阻层上形成一透明绝缘层。

步骤S5：形成一金属层于该基板上；

步骤S6：将该金属层形成多个第一走线以及多个第二走线，多个该第一走线沿该第二方向排列，且分别与多个第一电极相对应，每一该第一走线贴靠该第一透明导电光阻层侧面及该透明绝缘层侧面；多个第二走线沿该第一方向排列，且分别与多个第二电极相对应，每一该第二走线贴靠该透明绝缘层侧面。

步骤S7：该透明绝缘层上贴合一第二透明导电光阻层；

步骤S8：于该第二透明导电光阻层形成一第二导电层，该第二导电层沿一第一方向排列的多个第二电极行，每一第二电极行沿该第二方向排列有多个第二电极；且每一该第二电极行一端与该第二走线相连接。

进一步地，该透明绝缘层以涂布方式或贴合方式分别与该第一透明导电光阻层及该第二透明导电光阻层相连接。

进一步地，该第一导电层以热压制程方式制作于该第一透明导电光阻层。

进一步地，该第二导电层以热压制程方式制作于该第二透明导电光阻层。

本创作藉由制程改变以及将该第二透明导电光阻层反贴，使得两层透明导电光阻层为相对方向制作，并将该第一走线与第一透明导电光阻层直接搭接，以及第二透明导电光阻层与该第二走现进行搭接，达到避免该第一导电层以及该第二导电层接触蚀刻药液以及改善金属层进行堆栈搭接成功率的问题。

附图说明

图1为习知透明导电薄膜制程堆栈结构之简易示意图。

图2为本创作单层设计触控显示面板之部分俯视示意图。

图3为沿图2剖面线A-A之剖面示意图。

图4为沿图2剖面线B-B之剖面示意图。

图5为本创作单层设计触控显示面板之制作方法的步骤图。

附图标记

1 单层设计触控显示面板

100、2 基板

21 周边区

22 可视区

101、3 第一透明导电光阻层

31 第一导电层

311 第一电极

32 第一透明感光树脂层

102、4 第二透明导电光阻层

41 第二导电层

411 第二电极

42 第二透明感光树脂层

103、5 透明绝缘层

104 金属层

6 第一走线

7 第二走线

91 第一方向

92 第二方向

h1 第一厚度

h2 第二厚度

h3 第三厚度

h4 第四厚度

h5 第五厚度

h6 第六厚度

h7 第七厚度

D1 第一距离

D2 第二距离

D3 第三距离

D4 第四距离

具体实施方式

请同时参阅图2至图4所示，为本创作单层设计触控显示面板之部分俯视示意图、沿图2剖面线A-A之剖面示意图以及沿图2剖面线B-B之剖面示意图。本创作提供一种单层设计触控显示面板1，其包括有一基板2、一第一透明导电光阻层3、一第二透明导电光阻层4、一透明绝缘层5、多条第一走线6以及多条第二走线7。

该基板2具有一周边区21与被该周边区21围绕之一可视区22。

该第一透明导电光阻层3位于该基板2上，该第一透明导电光阻层3包含一第一导电层31，具有多个第一电极311。该第一透明导电光阻层3具有一第一厚度h1，该第一厚度h1为1.5微米(um)至20微米(um)之间。该第一导电层31具有一第三厚度h3，该第三厚度h3为20纳米(nm)至500纳米(nm)之间。

该第二透明导电光阻层4邻靠该第一透明导电光阻层3，该第二透明导电光阻层4包含一第二导电层41，具有多个第二电极411。该第二透明导电光阻层4具有一第二厚度h2，该第二厚度h2为1.5微米(um)至20微米(um)之间。该第二导电层41具有一第四厚度h4，该第四厚度h4为20纳米(nm)至500纳米(nm)之间。

上述中，该第一电极311以及该第二电极411可由纳米金属丝、导电高分子或金属网格制成。该第一导电层31以及该第二导电层41的材质可为纳米金属丝、导电高分子、纳米碳管、石墨烯或金属网格。

该透明绝缘层5夹设于该第一透明导电光阻层3上与该第二透明导电光阻层4之间，且该透明绝缘层5于该周边区21分别裸露出部分该第一电极311及部分该第二电极411。该透明绝缘层5具有一第七厚度h7，该第七厚度h5为3微米(um)至10微米(um)之间。

本创作中，裸露出部分该第一电极311外缘周围沿一第一方向91与该可视区22外缘周围相距一第一距离D1，该第一透明导电光阻层3外缘周围沿该第一方向91与该可视区22外缘周围相距一第二距离D2，该第一距离D1不小于该第二距离D2。

另外，裸露出部分该第二电极411外缘周围沿一第二方向92与该可视区22外缘周围相距一第三距离D3，该第二透明导电光阻层4外缘周围沿该第二方向92与该可视区22外缘周围相距一第四距离D4，该第三距离D3不小于该第四距离D4。

上述中，该第一方向91与该第二方向92为垂直。

另外，裸露出部分该第一电极311及部分该第二电极411为金属或金属合金所制成，分别具有一第五厚度h5及一第六厚度h6，该第五厚度h5及该第六厚度h6为20纳米(nm)至10微米(um)之间。

多条该第一走线6位于该基板2上且与裸露出部分该第一电极311电性连接，以及多条该第二走线7位于该基板2上且与裸露出部分该第二电极411电性连接。

此外，该第一透明导电光阻层3更包含一第一透明感光树脂层32，该第一透明感光树脂层32设置于该第一导电层31下，该第二透明导电光阻层4更包含一第二透明感光树脂层42，该第二透明感光树脂层42设置于该第二导电层41上。

经由上述，于本创作中，该第一透明导电光阻层3以及该第二透明导电光阻层4在结构上为相对方向制作。

请参阅图5，为本创作单层设计触控显示面板制作方法之步骤图。本创作之制作流程为该基板2上贴合一第一透明导电光阻层3，经过处理加工后，于该第一透明导电光阻层3上形成一透明绝缘层5，完成后，再搭接金属层加工形成多个第一走线6以及多个第二走线7于该基板2上，最后于该透明绝缘层5上贴合一第二透明导电光阻层4。

其步骤如下：

步骤S1：提供一基板，该基板具有一周边区与被该周边区围绕之一可视区。

步骤S2：该基板上贴合一第一透明导电光阻层，该第一透明导电光阻层外缘位于该周边区中。

步骤S3：于该第一透明导电光阻层形成一第一导电层，该第一导电层沿一第二方向排列的多个第一电极列，且每一第一电极列沿一第一方向排列有多个第一电极。

步骤S4：该第一透明导电光阻层上形成一透明绝缘层；

步骤S5：形成一金属层于该基板上；

步骤S6：将该金属层形成多个第一走线以及多个第二走线，多个该第一走线沿该第二方向排列，且分别与多个第一电极相对应，每一该第一走线贴靠该第一透明导电光阻层侧面及该透明绝缘层侧面；多个第二走线沿该第一方向排列，且分别与多个第二电极相对应，每一该第二走线贴靠该透明绝缘层侧面。

步骤S7：该透明绝缘层上贴合一第二透明导电光阻层。

步骤S8：于该第二透明导电光阻层形成一第二导电层，该第二导电层沿一第一方向排列的多个第二电极行，每一第二电极行沿该第二方向排列有多个第二电极；且每一该第二电极行一端与该第二走线相连接。

上述之步骤中，该透明绝缘层5以涂布方式或贴合方式分别与该第一透明导电光阻层3及该第二透明导电光阻层4相连接。

前述之该第一导电层31以热压制程方式制作于该第一透明导电光阻层3。以及该第二导电层41以热压制程方式制作于该第二透明导电光阻层4。

综上所述，本创作之优势为：

1.将该第一透明导电光阻层以及该第二透明导电光阻层为相对方向制作，使得第一导电层以及第二导电层皆与该透明绝缘层相连，达到避免接触蚀刻药液。

2.藉由将该第一走线与该第一透明导电光阻层进行搭接，以及该第二走线与该第二透明导电光阻层进行搭接，这样两者皆只需各搭接一层透明导电光阻层之厚度，达到解决习知进行金属层搭接时需要堆栈两层透明导电光阻层之高度，并排除搭接时容易造成断线等搭接不良，成功率低的问题，而提升搭接成功率。

上述仅为本创作的较佳实施例而已，并非用来限定本创作实施的范围，在不背离本创作精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本创作作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本创作所附的权利要求的保护范围。

Claims (11)

1.一种单层设计触控显示面板，其特征在于，其包括有：

一基板，具有一周边区与被该周边区围绕之一可视区；

一第一透明导电光阻层，其位于该基板上，该第一透明导电光阻层包含一第一导电层，具有多个第一电极；

一第二透明导电光阻层，其邻靠该第一透明导电光阻层，该第二透明导电光阻层包含一第二导电层，具有多个第二电极；

一透明绝缘层，夹设于该第一透明导电光阻层与该第二透明导电光阻层之间，且该透明绝缘层于该周边区分别裸露出部分该第一电极及部分该第二电极；

多条第一走线，位于该基板上且与裸露出部分该第一电极电性连接；

多条第二走线，位于该基板上且与裸露出部分该第二电极电性连接；

一第一透明感光树脂层，该第一透明感光树脂层设置于该第一导电层下；以及

一第二透明感光树脂层，该第二透明感光树脂层设置于该第二导电层上。

2.如权利要求1所述之单层设计触控显示面板，其中，裸露出部分该第一电极外缘周围沿一第一方向与该可视区外缘周围相距一第一距离，该第一透明导电光阻层外缘周围沿该第一方向与该可视区外缘周围相距一第二距离，该第一距离不小于该第二距离；裸露出部分该第二电极外缘周围沿一第二方向与该可视区外缘周围相距一第三距离，该第二透明导电光阻层外缘周围沿该第二方向与该可视区外缘周围相距一第四距离，该第三距离不小于该第四距离。

3.如权利要求2所述之单层设计触控显示面板，其中，该第一方向与该第二方向为垂直。

4.如权利要求1所述之单层设计触控显示面板，其中，该第一透明导电光阻层具有一第一厚度，该第二透明导电光阻层具有一第二厚度，该第一厚度与该第二厚度分别为1.5微米至20微米之间。

5.如权利要求1所述之单层设计触控显示面板，其中，该第一导电层具有一第三厚度，该第二导电层具有一第四厚度，该第三厚度与该第四厚度分别为20纳米至500纳米之间。

6.如权利要求1所述之单层设计触控显示面板，其中，裸露出部分该第一电极及部分该第二电极为金属或金属合金所制成，分别具有一第五厚度及一第六厚度，该第五厚度及该第六厚度为20纳米至10微米之间。

7.如权利要求1所述之单层设计触控显示面板，其中，该透明绝缘层具有一第七厚度，该第七厚度为3微米至10微米之间。

8.一种单层设计触控显示面板的制作方法，其特征在于，包括有下列步骤：

步骤S1：提供一基板，该基板具有一周边区与被该周边区围绕之一可视区；

步骤S2：该基板上贴合一第一透明导电光阻层，该第一透明导电光阻层外缘位于该周边区中；

步骤S3：于该第一透明导电光阻层形成一第一导电层，该第一导电层沿一第二方向排列的多个第一电极列，且每一第一电极列沿一第一方向排列有多个第一电极；

步骤S4：该第一透明导电光阻层上形成一透明绝缘层；

步骤S5：形成一金属层于该基板上；

步骤S6：将该金属层形成多个第一走线以及多个第二走线，多个该第一走线沿该第二方向排列，且分别与多个第一电极相对应，每一该第一走线贴靠该第一透明导电光阻层侧面及该透明绝缘层侧面；多个第二走线沿该第一方向排列，且分别与多个第二电极相对应，每一该第二走线贴靠该透明绝缘层侧面；

步骤S7：该透明绝缘层上贴合一第二透明导电光阻层；

步骤S8：于该第二透明导电光阻层形成一第二导电层，该第二导电层沿一第一方向排列的多个第二电极行，每一第二电极行沿该第二方向排列有多个第二电极；且每一该第二电极行一端与该第二走线相连接。

9.如权利要求8所述之单层设计触控显示面板的制作方法，其中，该透明绝缘层以涂布方式或贴合方式分别与该第一透明导电光阻层及该第二透明导电光阻层相连接。

10.如权利要求8所述之单层设计触控显示面板的制作方法，其中，该第一导电层以热压制程方式制作于该第一透明导电光阻层。

11.如权利要求8所述之单层设计触控显示面板的制作方法，其中，该第二导电层以热压制程方式制作于该第二透明导电光阻层。

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