CN104216554A - 触控面板及该触控面板制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种触控面板及该触控面板制作方法，该制作方法包含在基材的上方堆栈第一导电层。在该第一导电层堆栈电极。在该电极的上方与该第一导电层的上方各堆栈一第一绝缘透明层。借由曝光与显影，在该第一绝缘透明层显露该电极，以及在该电极的上方、该第一导电层的上方与该第一绝缘透明层的上方各堆栈一第二绝缘透明层。在该第二绝缘透明层的上方堆栈第二导电层。在该电极与该基材堆栈金属层以制作第一传输线，以及在至少一部分的该第二导电层与该基材堆栈该金属层以制作第二传输线。借由本发明可改善该触控面板的制程良率。
Description
技术领域
本发明关于一种触控面板，特别是一种具有高制程良率的触控面板及该触控面板制作方法。
背景技术
随着触控面板的应用日益成熟，该触控面板大致上包含电阻式触控面板、电容式触控面板、红外线式触控面板与声波式触控面板等类型。
传统上，借由曝光、显影、蚀刻与溅镀等多道制程可制作出例如包含多个导电层、介电层与金属层的该触控面板。然而，任何一道制程发生错误，都将会导致该触控面板的损坏，进而降低该触控面板的制程良率。
因此，如何能够提升该触控面板的制程良率，是一个十分重要的议题。
发明内容
本发明的第一目的是提供一种触控面板，该触控面板包含第一导电层、电极与金属层，借由在该第一导电层的上方预先地堆栈该电极，而让该第一导电层借由该电极轻易地连接该金属层。
本发明的第二目的是根据上述的触控面板，该触控面板进一步包含第一绝缘透明层、第二绝缘透明层与第二导电层。当该第一导电层、该第一绝缘透明层、该第二导电层与该第二绝缘透明层进行曝光、显影及/或蚀刻之后，借由保留一部分的该第一绝缘透明层与一部分的该第二绝缘透明层，以隔离该第一导电层与该第二导电层。
本发明的第三目的是根据上述的触控面板，借由该电极的材质是无法被显影剂所显影及/或蚀刻液所蚀刻的特性，让这些绝缘透明层与这些导电层进行该显影与蚀刻的过程中，该电极不受到显影剂与蚀刻液的影响。
本发明的第四目的是提供一种触控面板制作方法，可提升该触控面板的制程良率。
为达到上述目的及其它目的，本发明提供一种触控面板。该触控面板包含基材、第一导电层、电极、第一绝缘透明层、第二绝缘透明层、第二导电层与金属层。该第一导电层堆栈于该基材的上方。该第一导电层具有第一感测单元、第三感测单元与第一连接单元，而在该第一感测单元与该第三感测单元之间设置该第一连接单元。在该第一感测单元界定第一区域与第二区域。该电极堆栈位于该第一区域的该第一感测单元的上方。该第一绝缘透明层堆栈在该第二区域的该第一感测单元的上方、该第三感测单元的上方与一部分的该电极的上方。该第二绝缘透明层堆栈在该第一连接单元的上方与该第一绝缘透明层的上方。该第二导电层堆栈在该第二绝缘透明层的上方。该第二导电层具有第二感测单元、第四感测单元与第二连接单元，而在该第二感测单元与该第四感测单元之间设置该第二连接单元。该金属层堆栈在该电极的上方、至少一部分的该基材的上方与至少一部分的该第二感测单元的上方。在该电极的上方与该基材的上方制作第一传输线，以及在该基材与至少一部分的该第二感测单元的上方制作第二传输线。
为达到上述目的及其它目的，本发明提供一种触控面板制作方法，该制作方法包含步骤a，在基材的上方堆栈第一导电层。步骤b，在该第一导电层堆栈电极。步骤c，在该电极的上方与该第一导电层的上方各堆栈一第一绝缘透明层。步骤d，在该第一绝缘透明层的上方与该第一导电层的上方以具有第一图样群的第一光罩进行曝光，以在该第一绝缘透明层与该第一导电层形成该第一图样群。该第一图样群包含第一感测图样、第三感测图样与第一连接图样。该第一感测图样、该第三感测图样与该第一连接图样以第一轴方向进行排列。步骤e，在该第一绝缘透明层与该第一导电层进行显影与蚀刻，以在该第一绝缘透明层显露该电极，以及在该第一导电层形成第一感测单元、第三感测单元与第一连接单元。步骤f，在该电极的上方、该第一连接图样的上方与该第一绝缘透明层的上方各堆栈一第二绝缘透明层。步骤g，在该第二绝缘透明层的上方形成第二导电层。该第二导电层具有第二感测单元、第四感测单元与第二连接单元。该第二感测单元、该第四感测单元与该第二连接单元以第二轴方向进行排列。步骤h，在该电极与该基材堆栈金属层，以制作第一传输线，以及在至少一部分的该第二感测单元与该基材堆栈该金属层，以制作第二传输线。
附图说明
图1示为本发明一实施例的触控面板的俯视图。
图2示为本发明图1的触控面板的立体图。
图3a至3k示为本发明图1的触控面板一实施例的制作过程示意图。
图4示为本发明一实施例的触控面板制作方法的流程图。
主要部件附图标记：
10 触控面板
12 基材
14 第一导电层
142、142’ 第一感测单元
144、144’ 第三感测单元
146、146’ 第五感测单元
148、148’、1410、1410’ 第一连接单元
16、16’ 电极
18 第一绝缘透明层
20 第二绝缘透明层
22 第二导电层
222、222’ 第二感测单元
224、224’ 第四感测单元
226、226’ 第六感测单元
228、228’、2210、2210’ 第二连接单元
CH1 第一通道
CH2 第二通道
CH3 第三通道
CH4 第四通道
24 金属层
30 第一图样群
302 第一感测图样
304 第三感测图样
306 第一连接图样
32 第一光罩
34 第二图样群
342、342’ 第二感测图样
344、344’ 第二连接图样
36 第二光罩
具体实施方式
为充分了解本发明的目的、特征及技术效果，兹由下述具体实施例，并结合附图，对本发明做详细说明，说明如下：
参考图1，其为本发明一实施例的触控面板的俯视图。在图1中，该触控面板10包含基材12、第一导电层（包含两个第一感测单元142,142’、两个第三感测单元144,144’、两个第五感测单元146,146’与四个第一连接单元148,148’,1410,1410’）、两个电极16,16’、第一绝缘透明层18、第二绝缘透明层20、第二导电层（包含两个第二感测单元222,222’、两个第四感测单元224,224’、两个第六感测单元226,226’与四个第二连接单元228,228’,2210,2210’）与金属层24。
该基材12可选用可挠性材料或非可挠性材料，例如该基材12的材料可为二氧化硅（silicon dioxide）、聚乙烯（polyethylene）、聚丙烯（polypropylene）、聚氯乙烯（polyvinyl chloride）、聚碳酸酯（polycarbonate）与聚甲基丙烯酸酯（polymethacrylate）、聚对苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalate）与聚碳酸酯类的至少其中之一。
该第一导电层堆栈于该基材12的上方，而该第一导电层的材料为一种透明导电材料，例如该透明导电材料可为氧化铟锡（indium tin oxide）、氧化铟锌（indium zinc oxide）、氧化镉锡（cadmium tin oxide）、氧化铝锌（aluminumzinc oxide）、氧化铟锌锡（indium zinc tin oxide）、氧化锌（zinc oxide）、氧化镉（cadmium oxide）、氧化铪（hafnium oxide）、氧化铟镓锌（indium galliumzinc oxide）、氧化铟镓锌镁（indium gallium zinc magnesium oxide）、氧化铟镓（indium gallium oxide）、氧化铟镓铝（indium gallium aluminum oxide）、奈米银线（silver nanowire）、石墨烯（graphene）与金属网格（metal mesh）的至少其中之一。
该第一导电层包含第一通道CH1与第二通道CH2。该第一通道CH1包含该第一感测单元142、该第三感测单元144、该第五感测单元146与两个该第一连接单元148,1410。在该第一感测单元142与该第三感测单元144之间设置该第一连接单元148，以及该第三感测单元142与该第五感测单元146之间设置该第一连接单元1410。该第二通道CH2包含另一该第一感测单元142’、另一第三感测单元144’、另一第五感测单元146’与另两个该第一连接单元148’,1410’。
由于该第一通道CH1与该第二通道CH2具有相同的配置，故为便于说明，以下仅以该第一通道CH1进行说明。该第一通道CH1的说明适用于该第二通道CH2。
在该第一通道CH1中，三个感测单元142,144,146的形状为菱形。在其它实施例中，该形状可为三角形、矩形与圆形的至少其中之一。值得注意的是，三个感测单元142,144,146的数量可缩减成为一个、两个或增加为多个。
在该第一通道CH1中，该第一感测单元142、该第三感测单元144、该第五感测单元146与两个该第一连接单元148,1410以第一轴方向进行排列。在本实施例中，该第一轴方向为X轴方向。
在该第一感测单元142各界定第一区域与第二区域。在本实施例中，该第一感测单元142将该菱形的左半部的其中一部分界定为该第一区域，以及将该菱形的右半部界定为该第二区域。在本实施例中，该第一区域的形状以梯形，以及该第二区域的形状以三角形为例说明。在其它实施例中，该第一区域的形状与该第二区域的形状不受到该说明的限制。
该电极16堆栈位于该第一区域的该第一感测单元142的上方。
该第一绝缘透明层18堆栈在该第二区域的该第一感测单元142的上方、该第三感测单元144的上方、该第五感测单元146的上方与一部分该电极16的上方。该第一绝缘透明层18为正光阻材料与负光阻材料的至少其中之一。
该第二绝缘透明层20堆栈在该第一绝缘透明层18的上方。该第二绝缘透明层20为正光阻材料与负光阻材料的至少其中之一。
该第二导电层堆栈在该第二绝缘透明层20的上方。该第一导电层14中所提及的材料也适用于该第二导电层。
该第二导电层包含第三通道CH3与第四通道CH4。该第三通道CH3包含该第二感测单元222、该第四感测单元224、该第六感测单元226与两个该第二连接单元228,2210。在该第二感测单元222与该第四感测单元224之间设置该第二连接单元228，以及在第四感测单元224与该第六感测单元226之间设置该第二连接单元2210。该第四通道CH4包含另一第二感测单元222’、另一第四感测单元224’、另一第六感测单元226’与另两个该第二连接单元228’,2210’。
由于该第三通道CH3与该第四通道CH4具有相同的配置，故为便于说明，以下仅以该第三通道CH3进行说明。该第三通道CH3的说明也适用于该第四通道CH4。
在该第三通道CH3中，三个感测单元222,224,226的形状为菱形。在其它实施例中，该形状可为三角形、矩形与圆形的至少其中之一。在本实施例中，这些感测单元的数量以三个为例说明。
该第二感测单元222、该第四感测单元224、该第六感测单元226与两个该第二连接单元228,2210以第二轴方向进行排列。在本实施例中，该第二轴方向为Y轴方向。
该金属层24堆栈在该电极16的上方、至少一部分的该基材12的上方，以制作第一传输线。该金属层24堆栈在该基材12与至少一部分的该第二感测单元222的上方，以制作第二传输线。
参考图2，其为说明图1的触控面板的立体图。
参考图3a至3k，示为说明本发明图1的触控面板的制作过程示意图。在图3a至3j中，以图1中该触控面板10的A-A’剖面图为例说明。在图3k中，显示该触控面板10的B-B’剖面图。
在图3a中，显示在基材12的上方堆栈第一导电层14。在本实施例中，该第一导电层14以奈米银线材质为例说明。
在图3b中，显示在该第一导电层14堆栈电极16。该电极16借由例如网版印刷技术，而堆栈在该第一导电层14的上方。该电极16的材质不被显影剂所显影及/或被蚀刻液所蚀刻。
在图3c中，显示在该电极16的上方与该第一导电层14的上方堆栈第一绝缘透明层18。在本实施例中，该第一绝缘透明层18以负光阻材料为例说明。该负光阻材料的特性为，当该负光阻材料被例如紫外光线照射之后，未被该光线照射的部分，能借由显影剂进行移除。
在图3d中，显示在该第一绝缘透明层18的上方与该第一导电层14的上方以具有第一图样群30的第一光罩32进行曝光。在A-A’剖面中，第一光罩32显示第一感测图样302、第三感测图样304、第五感测图样306与两个第一连接图样308,3010。这些图样302,304,306,308,3010以该第一轴方向进行排列。将光线LB自该第一光罩32的上方入射（即曝光制程），使得在该第一绝缘透明层18与该第一导电层14形成该第一图样群30。
在图3e中，显示在该第一绝缘透明层18与该第一导电层14进行显影，以在该第一绝缘透明层18显露该电极16，以及在该第一导电层14形成该第一感测单元142、该第三感测单元144、该第五感测单元146与该第一连接单元148,148’。
在本实施例中，该第一导电层14的材料为奈米银线。该奈米银线材料借由该显影制程而被蚀刻出该第一感测单元142、该第三感测单元144、该第五感测单元146与两个该第一连接单元148,148’。值得注意的是，该第一绝缘透明层18未经显影的部分则被保留，而不进行传统的去墨（stripping）制程。
在图3f中，显示在该电极16的上方、该第一感测单元142的上方与该第一绝缘透明层18的上方各堆栈一第二绝缘透明层20。在本实施例中，该第二绝缘透明层20以负光阻材料为例说明。
在图3g中，显示在该第二绝缘透明层20的上方堆栈第二导电层22。在本实施例中，该第二导电层22为奈米银线材质。
在图3h中，在该第二导电层22的上方以具有第二图样群34的第二光罩36进行曝光。在A-A’剖面中，该第二光罩36包含第二感测图样342与另一个第二感测图样342’与两个第二连接图样344,344’。
在图3i中，显示在该第二导电层22借由该显影制程而形成两个该第二感测单元222,222’与两个该第二连接单元228,228’。
在图3j中，显示在该电极16与该基材12堆栈金属层24，以制作成为该第一传输线；以及，在至少一部分的该第二感测单元222与该基材12堆栈该金属层24，以制作成为第二传输线。
参考图4，其为说明本发明一实施例的触控面板制作方法的流程图。在图4中，该触控面板制作方法的流程图起始于步骤S41，在基材的上方堆栈第一导电层。
步骤S42，在该第一导电层堆栈电极。
步骤S43，在该电极的上方与该第一导电层的上方各堆栈一第一绝缘透明层。
步骤S44，在该第一绝缘透明层的上方与该第一导电层的上方以具有第一图样群的第一光罩进行曝光，以在该第一绝缘透明层与该第一导电层形成该第一图样群。
步骤S45，在该第一绝缘透明层与该第一导电层进行显影与蚀刻，以在该第一绝缘透明层显露该电极，以及在该第一导电层形成第一感测单元、第三感测单元与第一连接单元。值得注意的是，该第一导电层未经显影的部分则被保留，而不进行传统的去墨制程。
步骤S46，在该电极的上方、该第一感测单元的上方与该第一绝缘透明层的上方各堆栈一第二绝缘透明层。
步骤S47，在该第二绝缘透明层的上方堆栈第二导电层，该第二导电层具有第二感测单元、第四感测单元与第二连接单元。在步骤S43至S45中，该第一导电层形成该第一感测单元、该第三感测单元与该第一连接单元的方式也适用于该第二导电层。
举例而言，借由在该第二导电层的上方以具有第二图样群的第二光罩进行曝光，以在该第二导电层形成该第二图样群，该第二图样群包含第二感测图样、第四感测图样与第二连接图样。该第二感测图样、该第四感测图样与该第二连接图样以该第二轴方向进行排列。根据不同的材质的该第二绝缘透明层，该第二绝缘透明层借由两种不同的制程，在该第二导电层各形成该第二感测单元、该第四感测单元与该第二连接单元。
步骤S48，在该电极与该基材堆栈金属层，以制作成为第一传输线，以及在至少一部分的该第二感测单元与该基材堆栈该金属层，以制作成为第二传输线。
本发明在上文中已以较佳实施例揭露，然而本领域技术人员应理解的是，该实施例仅用于描绘本发明，而不应解读为限制本发明的范围。应注意的是，凡是与该实施例等效的变化与置换，均应视为涵盖于本发明的范畴内。因此，本发明的保护范围当以权利要求书所限定的内容为准。
Claims (12)
1.一种触控面板，其特征在于，包含：
基材；
第一导电层，堆栈于该基材的上方，该第一导电层具有第一感测单元、第三感测单元与第一连接单元，在该第一感测单元与该第三感测单元之间设置该第一连接单元，在该第一感测单元界定第一区域与第二区域；
电极，堆栈位于该第一区域的该第一感测单元的上方；
第一绝缘透明层，堆栈在该第二区域的该第一感测单元的上方、该第三感测单元的上方与一部分的该电极的上方；
第二绝缘透明层，堆栈在该第一连接单元的上方与该第一绝缘透明层的上方；
第二导电层，堆栈在该第二绝缘透明层的上方，该第二导电层具有第二感测单元、第四感测单元与第二连接单元，在该第二感测单元与该第四感测单元之间设置该第二连接单元；以及
金属层，堆栈在该电极的上方与至少一部分的该基材的上方，以制作成为第一传输线，以及该金属层堆栈在该基材与至少一部分的该第二感测单元的上方，以制作成为第二传输线。
2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一感测单元的形状与该电极的形状各为菱形、三角形、矩形与圆形的至少其中之一。
3.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一感测单元、该第三感测单元与该第一连接单元以第一轴方向排列，以及该第二感测单元、该第四感测单元与该第二连接单元以第二轴方向排列。
4.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一导电层与该第二导电层各为透明导电材料，该透明导电材料为氧化铟锡、氧化铟锌、氧化镉锡、氧化铝锌、氧化铟锌锡、氧化锌、氧化镉、氧化铪、氧化铟镓锌、氧化铟镓锌镁、氧化铟镓、氧化铟镓铝、奈米银线、石墨烯与金属网格的至少其中之一。
5.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该基材的材料为二氧化硅、聚乙烯、聚丙烯、聚氯乙烯、聚碳酸酯与聚甲基丙烯酸酯、聚对苯二甲酸乙二酯与聚碳酸酯类的至少其中之一。
6.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该基材为可挠性材料。
7.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，该第一绝缘透明层与该第二绝缘透明层各为正光阻材料与负光阻材料的至少其中之一。
8.一种触控面板制作方法，其特征在于，包含：
a.在基材的上方堆栈第一导电层；
b.在该第一导电层堆栈电极；
c.在该电极的上方与该第一导电层的上方各堆栈一第一绝缘透明层；
d.在该第一绝缘透明层的上方与该第一导电层的上方以具有第一图样群的第一光罩进行曝光，以在该第一绝缘透明层与该第一导电层形成该第一图样群，该第一图样群包含第一感测图样、第三感测图样与第一连接图样，其中该第一感测图样、该第三感测图样与该第一连接图样以第一轴方向进行排列；
e.在该第一绝缘透明层与该第一导电层进行显影与蚀刻，以在该第一绝缘透明层显露该电极，以及在该第一导电层形成第一感测单元、第三感测单元与第一连接单元；
f.在该电极的上方、该第一感测单元的上方与该第一绝缘透明层的上方各堆栈一第二绝缘透明层；
g.在该第二绝缘透明层的上方堆栈第二导电层，该第二导电层具有第二感测单元、第四感测单元与第二连接单元，其中该第二感测单元、该第四感测单元与该第二连接单元以第二轴方向进行排列；以及
h.在该电极与该基材堆栈金属层，以制作成为第一传输线，以及在至少一部分的该第二感测单元与该基材堆栈该金属层，以制作成为第二传输线。
9.如权利要求8所述的触控面板制作方法，其特征在于，在步骤e中，包含当该第一绝缘透明层与该第一导电层进行显影之后，在该第一导电层进行蚀刻，以在该第一导电层形成该第一感测单元、该第三感测单元与该第一连接单元。
10.如权利要求8所述的触控面板制作方法，其特征在于，在步骤g中，还包含步骤h，在该第二导电层的上方以具有第二图样群的第二光罩进行曝光，以在该第二导电层形成该第二图样群，该第二图样群包含第二感测图样、第四感测图样与第二连接图样，其中该第二感测图样、该第四感测图样与该第二连接图样以该第二轴方向进行排列。
11.如权利要求10所述的触控面板制作方法，其特征在于，在步骤h之后，还包含步骤i，在该第二绝缘透明层进行显影，以在该第二导电层形成该第二感测单元、该第四感测单元与该第二连接单元。
12.如权利要求10所述的触控面板制作方法，其特征在于，在步骤h之后，还包含步骤j，在该第二绝缘透明层进行显影与蚀刻，以在该第二导电层形成该第二感测单元、该第四感测单元与该第二连接单元。
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