KR102320639B1 - 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법 - Google Patents

터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명의 하나 또는 다수의 실시 예에 따른 터치 스크린 패널은 기판, 상기 기판의 터치 영역에 위치하며, 터치를 감지할 수 있는 복수의 터치 전극, 그리고 상기 터치 영역에 위치하며, 상기 터치 전극과 연결되어 있고, 일단에 연결된 패드를 가지는 연결 배선을 포함하고, 상기 패드는 상기 기판 상에 위치하는 제1 도전층, 상기 제1 도전층 상에 위치하는 제2 도전층, 그리고 상기 제2 도전층 상에 위치하는 제1 보호 도전층으로 이루어지며, 상기 터치 전극은 상기 기판 상에 위치하는 제1 도전층, 그리고 상기 제1 도전층 상에 위치하는 제1 보호 도전층으로 이루어진다.
그리고 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 방법은 기판을 마련하는 단계, 상기 기판 상에 가요성 도전체인 제1 도전막을 형성하는 단계, 상기 제1 도전막 상에 제2 도전막을 형성하는 단계, 상기 제2 도전막을 식각하여 제2 도전층을 형성하는 단계, 상기 제2 도전층 및 제1 도전막 상에 제3 도전막을 형성하는 단계, 그리고 상기 제1 도전막 및 제3 도전막을 한번에 식각하여 제1 도전층 및 제1 보호 도전층을 형성하는 단계로 이루어진다.
그리고 본 발명의 다른 실시 예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 방법은 기판을 마련하는 단계, 상기 기판 위에 가요성 도전체인 제1 도전막을 형성하는 단계, 상기 제1 도전막 상에 제2 도전막을 형성하는 단계, 상기 제2 도전막 상에 도3 도전막을 형성하는 단계, 상기 제2 도전막과 제3 도전막을 한번에 식각하여 제2 도전층과 제1 보호 도전층을 형성하는 단계, 상기 제1 보호 도전층 및 제1 도전막 상에 제4 도전막을 형성하는 단계, 그리고 상기 제4 도전막과 제1 도전막을 한번에 식각하여 제1 도전층 및 제2 보호 도전층을 형성하는 단계로 이루어진다.

Description

터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법{TOUCH SCREEN PANNEL AND MANUFACTURING METHOD THEREOF}
본 발명은 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치(LCD, Liquid Crystal Display), 유기 발광 표시 장치(OLED, Organic Light Emitting Diode), 전기영동 표시 장치(EPD, Electrophoretic Display) 등의 표시 장치, 휴대용 전송 장치, 그 밖의 정보 처리 장치 등은 다양한 입력 장치를 이용하여 기능을 수행한다.
최근, 이러한 입력 장치로서 터치 감지 장치를 구비하는 입력 장치가 많이 사용되고 있다.
이러한 터치 감지 기능은 사용자가 화면 위에 손가락이나 터치 팬 등을 접근하거나 접촉하여 문자를 쓰거나 그림을 그리는 경우, 표시 장치가 화면에 가한 압력, 전하, 빛 등의 변화를 감지함으로써, 물체가 화면에 접근하거나 접촉하였는지의 여부 및 그 접촉 위치 등의 접촉 정보를 알아내는 것이다.
표시 장치는 이러한 접촉 정보에 기초하여 영상 신호를 입력 받고 영상을 표시할 수 있다.
터치 감지 기능은 터치 센서를 통해 구현될 수 있다.
터치 센서는 저항막 방식(resistive type), 정전 용량 방식(capacitive type), 전자기 공전형(electromagnetic resonance type, EMR), 광 감지 방식(optical type) 등 다양한 터치 감지 방식에 따라 분류될 수 있다.
일반적으로 저항막 방식과 정전용량 방식이 주로 사용되고 있는데, 저항막 방식의 터치 센서의 경우 서로 마주하여 이격되어 있는 두 전극이 외부 물체에 의한 압력에 의해 서로 접촉될 수 있다. 두 전극이 서로 접촉되면 그 위치에서의 저항 변화에 따른 전압 변화를 인지하여 접촉 위치 등을 알아낼 수 있다.
또한, 정전 용량 방식의 터치 센서는 감지 신호를 전달할 수 있는 감지 전극으로 이루어진 감지 축전기를 포함하고, 손가락과 같은 도전체가 센서에 접근할 때 발생하는 감지 축전기의 정전 용량(capacitance)의 변화를 감지하여 접촉 여부와 접촉 위치 등을 알아낼 수 있다. 정전 용량 방식을 사용자가 언제가 터치 스크린을 접촉하여야 터치가 감지될 수 있으며, 도전성 물체에 의한 접촉이 필요하다.
이러한 터치 스크린은 최근 개발되고 있는 플렉서블 전자 장치에 포함될 수 있다.
그러나 플렉서블 전자 장치의 플렉서블한 특성으로 인해서 터치 스크린의 전극 또는 불량이 발생되지 않도록 유연성(flexibility)을 가지는 것이 요구되고 있다.
유연성을 가지는 전극의 재료로는 예를 들어, 은 나노 와이어(AgNW) 등의 금속 나노 와이어, 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀(graphene), 메탈 메쉬(metal mesh), 도전성 폴리머 등으로, 다양하게 연구 개발되고 있다. 이러한 재료들은 전도성이 낮아 터치 스크린의 패드에 전도성을 보완하기 위해서 구리 등의 저저항 금속으로 별도의 패드를 필요로 한다.
그러나 패드는 외부 신호가 인가되는 것으로, 노출될 경우 쉽게 산화되어 부식이 발생하고, 이는 터치 스크린 전체로 확산되어 터치 스크린의 신뢰성이 저하되는 문제점이 있다.
이 배경기술 부분에 기재된 사항은 발명의 배경에 대한 이해를 증진하기 위하여 작성된 것으로서, 이 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 이미 알려진 종래기술이 아닌 사항을 포함할 수 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 저저항 금속을 사용하면서도 패드의 부식을 방지할 수 있는 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 스크린 패널은 기판, 상기 기판의 터치 영역에 위치하며, 터치를 감지할 수 있는 복수의 터치 전극, 그리고 상기 터치 영역에 위치하며, 상기 터치 전극과 연결되어 있고, 일단에 연결된 패드를 가지는 연결 배선을 포함하고, 상기 패드는 상기 기판 상에 위치하는 제1 도전층, 상기 제1 도전층 상에 위치하는 제2 도전층, 그리고 상기 제2 도전층 상에 위치하는 제1 보호 도전층으로 이루어지며, 상기 터치 전극은 상기 기판 상에 위치하는 제1 도전층, 그리고 상기 제1 도전층 상에 위치하는 제1 보호 도전층으로 이루어질 수 있다.
상기 제1 보호 도전층은 상부에 위치하는 제2 보호 도전층을 더 포함할 수 있다.
상기 제1 보호 도전층은 상기 제2 도전층과 동일한 폭으로 형성될 수 있다.
상기 제2 보호 도전층은 상기 제1 보호 도전층의 상면 및 상기 제2 도전층의 측면을 덮을 수 있다.
상기 제2 보호 도전층은 상기 제2 도전층의 경계선 밖에 위치하는 상기 제1 도전층의 상면과 접촉할 수 있다.
상기 제1 및 제2 보호 도전층은 전도성 물질로 이루어질 수 있다.
상기 제1 도전층은 금속 나노 와이어(metal nanowire)로 이루어질 수 있다.
상기 제1 도전층은 고분자 수지막을 더 포함할 수 있다.
상기 제2 도전층은 구리(Cu) 또는 티타늄(Ti) 또는 알루미늄(Al) 또는 몰리브덴(MO) 또는 TCO 중, 어느 하나로 이루어질 수 있다.
상기 기판 상에 형성된 보호막을 더 포함하고, 상기 보호막은 상기 패드를 노출하는 개구부를 가질 수 있다.
상기 보호막은 SiNx로 이루어질 수 있다.
상기 터치 전극은 상기 기판 상에 위치하며 금속 나노 와이어로 이루어지는 제1 전극, 그리고 상기 제1 전극 위에 위치하며, 투명한 도전 물질로 이루어지는 제2 전극을 포함할 수 있다.
상기 터치 전극은 행렬로 배치되고, 상기 패드와 인접할수록 상기 터치 전극의 크기가 작아질 수 있다.
그리고 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 방법은 기판을 마련하는 단계, 상기 기판 상에 가요성 도전체인 제1 도전막을 형성하는 단계, 상기 제1 도전막 상에 제2 도전막을 형성하는 단계, 상기 제2 도전막을 식각하여 제2 도전층을 형성하는 단계, 상기 제2 도전층 및 제1 도전막 상에 제3 도전막을 형성하는 단계, 그리고 상기 제1 도전막 및 제3 도전막을 한번에 식각하여 제1 도전층 및 제1 보호 도전층을 형성하는 단계로 이루어질 수 있다.
상기 제1 도전층 및 제1 보호 도전층을 형성하는 단계는 상기 제1 도전막 및 제3 도전막을 한번에 식각하여 이루어질 수 있다.
그리고 본 발명의 다른 실시 예에 따른 터치 스크린 패널의 제조 방법은 기판을 마련하는 단계, 상기 기판 위에 가요성 도전체인 제1 도전막을 형성하는 단계, 상기 제1 도전막 상에 제2 도전막을 형성하는 단계, 상기 제2 도전막 상에 도3 도전막을 형성하는 단계, 상기 제2 도전막과 제3 도전막을 한번에 식각하여 제2 도전층과 제1 보호 도전층을 형성하는 단계, 상기 제1 보호 도전층 및 제1 도전막 상에 제4 도전막을 형성하는 단계, 그리고 상기 제4 도전막과 제1 도전막을 한번에 식각하여 제1 도전층 및 제2 보호 도전층을 형성하는 단계로 이루어질 수 있다.
상기 제1 도전층 및 제2 보호 도전층을 형성하는 단계 다음에 SiNx으로 이루어지는 보호막을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 보호막을 형성하는 단계는 상기 보호막을 식각하여 개구부를 형성하는 단계를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법에 따르면, 저저항 금속을 사용하면서도 패드의 부식을 방지할 수 있는 효과가 있다.
또한, 본 발명의 실시 예에 따른 터치 스크린 패널 및 이의 제조 방법에 따르면, 터치 스크린 패널의 제조 공정에서 사용되는 마스크의 수를 줄이고 제조 공정을 단축할 수 있으며, 터치 스크린 패널의 생산 원가를 절감할 수 있다.
그 외에 본 발명의 실시 예로 인해 얻을 수 있거나 예측되는 효과에 대해서는 본 발명의 실시 예에 대한 상세한 설명에서 직접적 또는 암시적으로 개시하도록 한다. 즉 본 발명의 실시 예에 따라 예측되는 다양한 효과에 대해서는 후술될 상세한 설명 내에서 개시될 것이다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 터치 패널의 평면도이다.
도 2는 도 1에 도시한 터치 센서의 일 실시 예에 따른 배치도이다.
도 3은 도 2의 III-III′-III″ 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.
도 4 내지 도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 센서의 제조 공정에 따른 일부 단면도 및 평면도이다.
도 8은 도 1에 도시한 다른 실시 예에 따른 터치 센서의 배치도이다.
도 9는 도 8의 Ⅸ-Ⅸ′-Ⅸ″ 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.
도 10 내지 13은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 터치 센서의 제조 공정에 따른 일부 단면도 및 평면도이다.
첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되는 실시 예에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시 예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.
도면들에 있어서, 층 및 영역들의 두께는 명확성을 기하기 위하여 과장된 것이다. 또한, 층이 다른 층 또는 기판 "위"에 있다고 언급되는 경우에 그것은 다른 층 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제3의 층이 개재될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 의미한다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명의 실시 예에 따른 터치 패널의 개략적인 평면도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 터치 패널(100)은 기판(120) 위에 형성되어 있는 터치 센서 및 터치 센서와 연결된 감지 신호 제어부(800)를 포함한다.
본 발명의 실시 예에 따른 터치 센서는 외부 물체의 터치를 감지할 수 있는 터치 센서로서, 여러 방식의 터치 센서일 수 있으나, 본 발명의 실시 예에서는 정전 용량 방식의 터치 센서를 예로 들어 설명하고자 한다.
터치 센서는 표시 패널 또는 별도의 터치 패널 안에 포함되어 터치를 감지할 수 있다. 이때, 본 발명의 실시 예에서는 터치 센서가 터치 패널(100)에 포함된 예를 주로 설명한다. 여기서, 터치란 표시 패널 또는 터치 패널(100)에 외부 물체가 직접 접촉하는 경우뿐만 아니라 접근하는 경우도 포함한다.
본 발명의 실시 예에 따른 터치 센서는 액티브 영역(active area)에 위치하는 복수의 터치 전극(Sx) 및 터치 전극(Sx)과 연결된 복수의 연결 배선(RL)을 포함한다.
여기서 액티브 영역은 터치가 가해지고, 터치가 감지될 수 있는 영역으로서, 예를 들어, 표시 패널의 경우 영상이 표시되는 표시 영역과 중첩할 수 있다.
터치 패널(100)의 경우 터치 영역일 수 있으며, 표시 패널 안에 터치 패널(100)이 내장된 경우, 터치 영역을 표시 영역과 중첩할 수 있다. 이후, 액티브 영역을 터치 영역(touch area)이라고도 한다.
복수의 터치 전극(Sx)은 행렬 형태로 배열될 수 있으며, 단면 구조로 볼 때 서로 동일한 층에 형성되어 있을 수 있다.
또한, 터치 전극(Sx)은 ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide)와 같은 투명 도전 물질과, 금속 나노 와이어(metal nano wire)를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 이때, 금속 나노 와이어는 은(Ag) 나노 와이어일 수 있다.
또한, 터치 전극(Sx)의 모양은 도 1에 도시한 바와 같이 사각형일 수 있으나, 이에 한정되지 않고, 다양한 모양으로 구현될 수 있다.
이러한 터치 전극(Sx)은 터치 감도를 높이기 위해 가장자리 변에 형성된 복수의 요철(미도시)을 포함할 수 있다. 터치 전극(Sx)의 가장자리 변이 복수의 요철을 포함하는 경우 이웃한 터치 전극의 요철형 가장자리 변은 서로 맞물려 있을 수 있다.
터치 전극의 한 변의 길이는 대략 수 mm, 예를 들어 대략 10mm 이하, 더 구체적으로 대략 4mm 내지 대략 5mm일 수 있으나, 터치 감지 해상도에 따라 터치 전극(Sx)의 크기는 적절히 조절될 수 있다.
복수의 터치 전극(Sx)은 터치 영역 안에서 서로 분리되어 있고, 서로 다른 터치 전극(Sx)은 서로 다른 연결 배선(RL)을 통해 감지 신호 제어부(800)와 연결될 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 터치 전극(Sx)은 각각 연결 배선(RL)을 통해 감지 신호 제어부(800)로부터 감지 입력 신호를 입력받고, 접촉에 따른 감지 출력 신호를 생성하여 감지 신호 제어부(800)로 보낼 수 있다.
또한, 각 터치 전극(Sx)은 자가 감지 축전기(self-sensing capacitor)를 형성하여 감지 입력 신호를 입력 받은 후 소정의 전하량으로 충전될 수 있다.
이후, 터치 전극(Sx)은 손가락 등의 외부 물체의 접촉이 있으면, 자가 감지 축전기의 충전 전하량에 변화가 생겨 입력된 감지 입력 신호와 다른 감지 출력 신호가 출력될 수 있다. 터치 전극(Sx)은 이와 같이 생성된 감지 출력 신호를 통해 접촉 여부, 접촉 위치 등의 접촉정보를 알아낼 수 있다.
그리고 연결 배선(RL)은 터치 전극(Sx)과 감지 신호 제어부(800)를 연결하여 감지 입력 신호 또는 감지 출력 신호를 전달한다. 연결 배선(RL)은 터치 전극(Sx)과 동일한 층에 위치할 수 있으며, 터치 전극(Sx)과 동일한 물질로 이루어질 수 있다. 그러나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 연결 배선(RL)은 터치 전극(Sx)과 다른 층에 위치하며, 별도의 연결부를 통해 터치 전극(Sx)과 연결될 수도 있다.
도 1에 도시한 실시 예에서 감지 신호 제어부(800)에 가까워질수록 터치 전극(Sx) 열 사이에 배치된 연결 배선(RL)의 수가 많아진다. 따라서 터치 전극(Sx)의 크기는 감지 신호 제어부(800)에 가까울수록 작아진다.
한편, 연결 배선(RL)의 폭은 대략 10um 이상 100um 이하일 수 있으나, 반드시 이에 반드시 한정되는 것은 아니다.
따라서 터치 전극(Sx)과 연결 배선(RL)의 연결 부분은 폭이 급격히 커지거나, 작아지는 병목부(bottle neck portion)를 형성한다.
감지 신호 제어부(800)는 터치 패널(100)의 터치 전극(Sx)과 연결되어, 터치 전극(Sx)에 감지 입력 신호를 전달하고 감지 출력 신호를 입력받는다. 감지 신호 제어부(800)는 감지 출력 신호를 처리하여 접촉 여부 및 접촉 위치 등의 접촉 정보를 생성할 수 있다.
또한, 감지 신호 제어부(800)는 터치 패널(100)과 별도의 인쇄 회로 기판 위에 위치하여 터치 패널(100)과 연결될 수도 있고, 터치 패널(100) 상에 집적 회로 칩의 형태로 또는 TCP 형태로 부착되어 있을 수도 있으며, 터치 패널(100) 위에 집적되어 있을 수도 있다.
이하, 본 발명의 실시 예에 따른 터치 센서의 층간 구성에 대하여 좀더 구체적으로 설명하고자 한다.
도 2는 도 1에 도시한 터치 센서의 일 실시 예에 따른 배치도이고, 도 3은 도 2의 III-III′-III″ 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.
도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 실시 예에 따른 터치 패널(100)은 기판(120), 기판(120) 위에 형성되어 있으며, 행렬을 이루는 복수의 터치 전극(Sx)을 포함한다.
복수의 터치 전극(Sx)은 일 방향으로 일정한 간격을 두고 배치되어 있다. 각각의 터치 전극(Sx)은 신호 배선(RL)을 통하여 패드(300)와 연결될 수 있다.
연결 배선(RL)은 입력 신호를 터치 전극(Sx)에 입력하거나, 출력 신호를 패드(300)를 통해 감지 신호 제어부(800)로 출력할 수 있다.
연결 배선(RL)의 대부분은 터치 전극(Sx)이 형성된 터치 영역(TA) 내에 위치하며, 터치 영역(TA) 밖의 주변 영역(PA)에 위치하는 패드(300)와 각각 연결되어 있다.
즉, 연결 배선(RL)은 패드(300)와 마주하는 터치 전극(Sx)의 일측과 연결되어 있으며, 이웃하는 두 터치 전극(Sx) 사이에 위치한다.
상기와 같은 구조는 연결 배선(RL)을 터치 전극(Sx) 사이에 위치시킴으로 패드(300)가 형성되지 않는 주변 영역(PA)의 폭을 더욱 줄일 수 있다.
또한, 터치 전극(Sx)은 패드(300)와 인접할수록 터치 전극(Sx)의 면적이 작아질 수 있다. 이는 연결 배선(RL)이 터치 전극(Sx)의 일측으로부터 굽힘 없이 직선으로 패드(300)와 연결되기 때문에 연결 배선(RL)의 폭만큼 터치 전극(Sx)의 폭이 줄어드는 것이다.
따라서, 패드(300)와 가장 멀리하는 제1행(X1)의 터치 전극(Sx)의 면적이 가장 넓고, 패드(300)와 가장 가까이 위치하는 제4행(X4)의 터치 전극(Sx)이 면적이 가장 작다. 이는 제4행(X4)에 위치하는 터치 전극(Sx) 사이에 제1행(X1), 제2행(X2) 및 제3행(X3)의 터치 전극(Sx)과 연결되는 연결 배선(RL)이 모두 지나가기 때문이다. 도 1에서는 3열 4행인 것을 도시하였으나, 이제 한정되는 아니며, 필요에 따라 보다 많은 수의 행렬로 형성할 수 있다.
본 발명의 실시 예에 따른 터치 전극(Sx)은 연결 배선(RL)을 통해 감지 입력 신호를 입력 받은 후 소정 전하량으로 충전된다. 이후, 손가락 등의 외부 물체에 의해 접촉이 있으면, 자가 감지 축전기의 충전 전하량에 변화가 생겨 입력된 감지 입력 신호와 다른 감지 출력 신호가 출력될 수 있다. 이와 같은 감지 출력 신호의 변화를 통해 접촉 여부, 접촉 위치 등의 접촉 정보를 알아 낼 수 있다.
한편, 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 패널(100)은 기판(120)은 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리에테르 술폰 등의 플라스틱 또는 유리를 포함할 수 있다.
이러한 기판(120)은 접히거나(foldable, bendable) 말리거나(rollable), 적어도 한 방향으로 늘어나는(stretchable) 것과 같은 신축성(elasticity)등의 유연성을 가지는 투명한 가요성(flexible) 기판(120)일 수 있다.
기판(120) 위에는 복수의 터치 전극(Sx), 터치 전극(Sx)과 연결 배선(RL)으로 각각 연결된 복수의 패드(300)가 형성되어 있다.
터치 전극(Sx)은 순차적으로 적층된 제1 전극(Sx1) 및 제2 전극(Sx2)을 포함하고, 연결 배선(RL)은 제1 배선(RL1) 및 제2 배선(RL2)을 포함한다.
제1 전극(Sx1) 및 제1 배선(RL1)은 금속 나노 와이어로 이루어질 수 있다. 이때, 금속 나노 와이어는 은(Ag), 구리(Cu) 등의 금속 와이어를 포함할 수 있다. 금속 나노 와이어들은 그물망 형태로 서로 연결되어 도전성 전극을 이룰 수 있다.
또한, 금속 나노 와이어는 슬릿 코팅, 잉크젯 인쇄, 스프레이 등의 용액 공정으로 형성될 수 있다.
제1 전극(Sx1) 및 제1 배선(RL1)은 금속 나노 와이어를 보호하며, 금속 나노 와이어를 고정할 수 있는 고분자 수지를 더 포함할 수 있다. 여기서, 고분자 수지는 아크릴 폴리에스테르 수지 등의 아크릴 레이트 계열의 유기물을 포함할 수 있다.
또한, 고분자 수지는 금속 나노 와이어와 함께 혼합되어 도포되거나, 금속 나노 와이어 층을 형성한 후, 그 위에 도포될 수 있다.
이러한 고분자 수지는 금속 나노 와이어 사이의 공간을 채우며, 금속 나노 와이어와 기판(120) 사이의 접착성을 높일 수 있다.
제1 전극(Sx1) 및 제1 배선(RL1)은 높은 투과도를 가지고 일정 기준 이하의 면 저항 특성으로 이루어져 높은 도전성을 가질 수 있다.
또한, 제1 전극(Sx1) 및 제1 배선(RL1)은 다른 금속 박막에 비해서 더욱 유연할 수 있다.
그리고 제2 전극(Sx2) 및 제2 배선(RL2)은 후술할 패드(300)를 보호하기 위하여 패드(300)의 상부에 형성되는 층으로, 일정 기준 이상의 투과도를 가지며, 건식 식각(dry etching)이 가능한 투명 도전 물질을 포함한다. 예를 들어, 제2 전극(Sx2) 및 제2 배선(RL2)은 ITO(Indium Tin Oxide)일 수 있으며, 가시 광선 영역에 대해서 대략 85% 이상의 투과율을 가질 수 있다.
제1 및 제2 전극(Sx1, Sx2)은 동일한 평면 모양을 가지고, 제1 및 제2 배선(RL1, RL2)은 동일한 평면 모양을 가진다.
그리고 패드(300)는 순서대로 적층되어 있는 제1 도전층(31), 제2 도전층(33), 제1 보호 도전층(35)을 포함한다.
제1 도전층(31), 제2 도전층(33) 및 제1 보호 도전층(35)은 동일한 평면 모양을 가진다.
제2 도전층(33)은 제1 보호 도전층(35)과 동일하거나, 작은 폭으로 형성될 수 있으며, 제1 보호 도전층(35)의 경계선 내에 제2 도전층(33)의 경계선이 위치할 수 있다.
즉, 제1 보호 도전층(35)은 제2 도전층(33)의 전체를 덮고 있다.
제1 도전층(31)은 제1 전극(Sx1) 및 제1 배선(RL1)과 동일한 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어 금속 나노 와이어로 이루어질 수 있다.
그리고 제2 도전층(33)은 저저항 금속인 구리로 이루어질 수 있다.
또한, 제1 보호 도전층(35)은 제2 전극(Sx2), 제2 배선(RL2)과 동일한 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, ITO, IZO 등을 포함하는 전도성 물질로 이루어질 수 있다.
이하, 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 센서의 제조 공정을 설명하고자 한다.
도 4 내지 도 7은 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 센서의 제조 공정에 따른 일부 단면도 및 평면도이다.
좀더 자세하게 설명하면, 도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따른 터치 센서를 제조하는 방법을 설명하기 위한 첫 번째 단계의 단면도이고, 도 5는 도 4의 다음 단계에서의 터치 스크린 패널을 제조하는 방법을 설명하기 위한 배치도이고, 도 6은 도 5의 Ⅵ-Ⅵ′선 및 Ⅵ′-Ⅵ″선을 따라 잘라 도시한 단면도이며, 도 7은 도 6의 다음 단계에서의 단면도이다.
도 4에 도시한 바와 같이, 기판(120) 위에 제1 도전막(10) 및 제2 도전막(20)을 형성한다.
제1 도전막(10)은 은 나노 와이어를 포함할 수 있으며, 은 나노 와이어는 고분자 수지와 함께 용액 공정으로 도포될 수 있다. 또는 제1 도전막(10)은 은 나노 와이어를 포함하는 DFR(dry film resist)로 형성될 수 있다.
제2 도전막(20)은 구리를 증착하여 형성한다.
여기서 제2 도전막(20)은 구리를 예로 들어 설명하였지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 알루미늄(Al), 몰리브덴(MO), 티타늄(Ti), TCO 중, 어느 하나의 물질로 이루어질 수도 있다.
다음, 도 5 및 도 6에 도시한 바와 같이, 사진 식각 공정 등을 이용하여, 제2 도전막(20)을 식각하여 제2 도전층(31)을 형성한다.
다음, 도 7에 도시한 바와 같이, 제2 도전층(33) 및 제1 도전막(10) 상에 제3 도전막(30)을 형성한다.
이때, 제 3 도전막(30)은 전도성 물질일 수 있으며, 예를 들어 ITO일 수 있다.
이후, 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 사진 식각 공정 등으로 제3 도전막(30) 및 제1 도전막(10)을 식각하여 제2 전극(Sx2) 및 제1 전극(Sx1)으로 이루어지는 터치 전극(Sx), 제2 배선(RL2) 및 제1 배선(RL1)으로 이루어지는 연결 배선(RL)과 제1 보호 도전층(35), 제2 도전층(33) 및 제1 도전층(31)으로 이루어지는 패드(300)를 형성한다.
이때, 제1 도전막(10) 및 제3 도전막(30)은 제2 도전층(33)의 경계를 따라 식각하여 동일한 모양으로 형성할 수 있다.
이처럼, 제1 도전막(10) 및 제3 도전막(30)을 한번에 식각함으로써, 제2 전극(Sx2) 및 제1 전극(Sx1)은 동일한 평면 모양을 가지고, 제2 배선(RL2) 및 제1 배선(RL1)은 동일한 배선을 가질 수 있다.
이하, 도 8 내지 도 13을 참고하여 본 발명의 다른 실시 예에 따른 터치 센서를 설명하고자 한다.
도 8은 도 1에 도시한 다른 실시 예에 따른 터치 센서의 배치도이고, 도 9는 도 8의 Ⅸ-Ⅸ′-Ⅸ″ 선을 따라 잘라 도시한 단면도이다.
도 8 및 도 9를 참조하면, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 터치 센서의 패드는 도 2 및 도 3을 기본으로 하면서, 제 1 보호 도전층(35) 위에 제2 보호 도전층(37)을 더 포함한다.
즉, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 터치 패널의 패드는 순서대로 적층되어 있는 제1 도전층(31), 제2 도전층(33), 제1 보호 도전층(35) 및 제2 보호 도전층(37)로 이루어진다.
이때, 제1 도전층(31)은 본 발명의 일 실시 예와는 다르게 제2 도전층(33) 및 제1 보호 도전층(35)의 폭보다 크게 형성될 수 있다.
즉, 제1 도전층(31)은 제2 도전층(33)보다 큰 폭으로 형성되며, 제2 보호 도전층(37)과 동일한 평면 모양을 가진다.
제2 도전층(33)은 제1 보호 도전층(35)과 동일하거나, 작은 폭으로 형성될 수 있으며, 제1 보호 도전층(35)의 경계선 내에 제2 도전층(33)의 경계선이 위치할 수 있다.
제2 보호 도전층(37)은 제1 보호 도전층(35)의 상면 및 측면, 그리고 제2 도전층(33)의 측면과 접촉하여 형성되어 있다.
따라서, 제2 보호 도전층(37)은 제1 보호 도전층(35)의 전체를 덮고 있다.
또한, 제1 보호 도전층(35)는 제2 도전층(33)의 전체를 덮고 있다.
한편, 제1 도전층(31)은 제1 전극(Sx1) 및 제1 배선(RL1)과 동일한 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어 금속 나노 와이어로 이루어질 수 있다.
그리고 제2 도전층(33)은 저저항 금속인 구리로 이루어질 수 있다.
제1 보호 도전층(35) 및 제2 보호 도전층(37)은 제2 전극(Sx2), 제2 배선(RL2)과 동일한 물질로 이루어질 수 있으며, 예를 들어, ITO, IZO 등을 포함하는 전도성 물질로 이루어질 수 있다.
이처럼, 제1 보호 도전층(35) 및 제2 보호 도전층(37)을 이용하여 제2 도전층(33)을 덮어 보호함으로써, 제2 도전층(33)이 노출되어 부식되는 것을 방지할 수 있다.
이하, 본 발명의 다른 실시 예에 따른 터치 센서의 제조 공정을 설명하고자 한다.
도 10 내지 13은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 터치 센서의 제조 공정에 따른 일부 단면도 및 평면도이다.
좀더 자세하게 설명하면, 도 10은 본 발명의 다른 실시 예에 따른 터치 센서를 제조하는 방법을 설명하기 위한 첫 번째 단계의 단면도이고, 도 11는 도 10의 다음 단계에서의 터치 스크린 패널을 제조하는 방법을 설명하기 위한 배치도이고, 도 12는 도 11의 Ⅵ-Ⅵ′선 및 Ⅵ′-Ⅵ″선을 따라 잘라 도시한 단면도이며, 도 13은 도 12의 다음 단계에서의 단면도이다.
도 10에 도시한 바와 같이, 기판(120) 위에 제1 도전막(10), 제2 도전막(20), 및 제3 도전막(30)을 형성한다.
제1 도전막(10)은 은 나노 와이어를 포함할 수 있으며, 은 나노 와이어는 고분자 수지와 함께 용액 공정으로 도포될 수 있다. 또는 제1 도전막(10)은 은 나노 와이어를 포함하는 DFR(dry film resist)로 형성될 수 있다.
제2 도전막(20)은 구리를 증착하여 형성하고, 제3 도전막(30)은 제2 도전막(20)과 동시에 식각될 수 있는 전도성 물질을 증착하여 형성한다.
여기서 제2 도전막(20)은 구리를 예로 들어 설명하였지만, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 알루미늄(Al), 몰리브덴(MO), 티타늄(Ti) 중 어느 하나의 물질로 이루어질 수도 있다.
다음, 도 11 및 도 12에 도시한 바와 같이, 사진 식각 공정 등을 이용하여, 제2 도전막(20)과 제3 도전막(30)을 한번에 식각하여 구리로 이루어진 제2 도전층(33)과 제2 도전층(33)을 보호하는 제1 보호 도전층(35)을 각각 형성한다.
다음, 도 13에 도시한 바와 같이, 제2 도전층(33)과 제1 보호 도전층(35)을 덮도록 제4 도전막(40)을 형성한다.
제4 도전막(40)은 제3 도전막(30)과 비슷한 물질로, 예를 들어 ITO일 수도 있다.
이후, 도 9 에 도시한 바와 같이, 사진 식각 공정 등으로 제4 도전막(40) 및 제1 도전막(10)을 식각하여 제2 전극(Sx2) 및 제1 전극(Sx1)으로 이루어지는 터치 전극(Sx), 제2 배선(RL2) 및 제1 배선(RL1)으로 이루어지는 연결 배선(RL)과 제2 보호 도전층(37), 제1 보호 도전층(35), 제2 도전층(33) 및 제1 도전층(31)으로 이루어지는 패드(300)를 형성한다.
이처럼, 제4 도전막(40) 및 제1 도전막(10) 한번에 식각함으로써, 제2 전극(Sx2) 및 제1 전극(Sx1)은 동일한 평면 모양을 가지고, 제2 배선(RL2) 및 제1 배선(RL1)은 동일한 배선을 가질 수 있다.
마지막으로, 상기 기판(120) 상에 보호막(180)을 형성한다. 보호막(180)은 SiNx로 이루어질 수 있다. 이후, 보호막(180)은 패드(300)의 일부를 노출하기 위하여, 패드(300) 상의 보호막(180)을 식각해서 개구부(191)를 형성한다.
상기한 바와 같이 구성되는 본 발명의 실시 예에 따른 터치 스크린 패널은 제2 도전층(33)과 제1 보호 도전층(35)을 형성하기 위하여 제2 도전막(20)과 제3 도전막(30)을 한번에 식각하고, 제1 도전층(31)과 제2 보호 도전층(37)을 형성하기 위하여 제1 도전막(10)과 제4 도전막(40)을 한번에 식각하고, 마지막으로 패드(300)의 노출을 위해 개구부(191)를 형성 하기 위한 보호막(180)을 식각하는 과정에서 총 3개의 마스크를 사용한다. 이로 인해 본 발명의 실시 예에 따른 터치 스크린 패널은 기존 대비 마스크 수를 줄여 간단한 제조 공정으로 형성될 수 있다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시 예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
Sx 터치 전극 RL 연결 배선
10 제1 도전막 20 제2 도전막
30 제3 도전막 40 제4 도전막
31 제1 도전층 33 제2 도전층
35 제1 보호 도전층 37 제2 보호 도전층
120 기판 180 보호막
191 개구부 300 패드

Claims (18)

  1. 기판,
    상기 기판의 터치 영역에 위치하며, 터치를 감지할 수 있는 복수의 터치 전극, 그리고
    상기 터치 영역에 위치하며, 상기 터치 전극과 연결되어 있고, 일단에 연결된 패드를 가지는 연결 배선,
    을 포함하고,
    상기 패드는
    상기 기판 상에 위치하는 제1 도전층,
    상기 제1 도전층 상에 위치하는 제2 도전층, 그리고
    상기 제2 도전층 상에 위치하는 제1 보호 도전층,
    으로 이루어지며,
    상기 터치 전극은
    상기 기판 상에 위치하는 상기 제1 도전층, 그리고
    상기 제1 도전층 상에 위치하는 상기 제1 보호 도전층,
    으로 이루어지고,
    상기 패드의 제1 도전층과 상기 터치 전극의 제1 도전층은 금속 나노 와이어를 포함하고,
    상기 패드의 제1 보호 도전층과 상기 터치 전극의 제1 보조 도전층은 ITO 및 IZO 중 적어도 하나를 포함하며,
    상기 제2 도전층은 구리를 포함하는 터치 스크린 패널.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 보호 도전층 상부에 위치하는 제2 보호 도전층을 더 포함하는 터치 스크린 패널.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 보호 도전층은
    상기 제2 도전층과 동일한 폭으로 형성되는 터치 스크린 패널
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제2 보호 도전층은
    상기 제1 보호 도전층의 상면 및 상기 제2 도전층의 측면을 덮고 있는 터치 스크린 패널.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 제2 보호 도전층은
    상기 제2 도전층의 경계선 밖에 위치하는 상기 제1 도전층의 상면과 접촉하는 터치 스크린 패널
  6. 제2항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 보호 도전층은
    전도성 물질로 이루어지는 터치 스크린 패널.
  7. 삭제
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제1 도전층은
    고분자 수지막을 더 포함하는 터치 스크린 패널.
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서,
    상기 기판 상에 형성된 보호막을 더 포함하고,
    상기 보호막은 상기 패드를 노출하는 개구부를 가지는 터치 스크린 패널.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 보호막은
    SiNx로 이루어지는 터치 스크린 패널.
  12. 제1항에 있어서,
    상기 터치 전극은
    상기 기판 상에 위치하며 금속 나노 와이어로 이루어지는 제1 전극, 그리고
    상기 제1 전극 위에 위치하며, 투명한 도전 물질로 이루어지는 제2 전극,
    을 포함하는 터치 스크린 패널.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 터치 전극은
    행렬로 배치되고, 상기 패드와 인접할수록 상기 터치 전극의 크기가 작아지는 터치 스크린 패널.
  14. 기판을 마련하는 단계,
    상기 기판 상에 가요성 도전체인 제1 도전막을 형성하는 단계,
    상기 제1 도전막 상에 제2 도전막을 형성하는 단계,
    상기 제2 도전막을 식각하여 제2 도전층을 형성하는 단계,
    상기 제2 도전층 및 상기 제1 도전막 상에 제3 도전막을 형성하는 단계, 그리고
    상기 제1 도전막 및 상기 제3 도전막을 식각하여 제1 도전층 및 제1 보호 도전층을 형성하는 단계,
    로 이루어지고,
    상기 제1 도전층은 금속 나노 와이어를 포함하고,
    상기 제1 보호 도전층은 ITO 및 IZO 중 적어도 하나를 포함하며,
    상기 제2 도전층은 구리를 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제1 도전층 및 제1 보호 도전층을 형성하는 단계는
    상기 제1 도전막 및 제3 도전막을 한번에 식각하여 이루어지는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  16. 기판을 마련하는 단계,
    상기 기판 위에 가요성 도전체인 제1 도전막을 형성하는 단계,
    상기 제1 도전막 상에 제2 도전막을 형성하는 단계,
    상기 제2 도전막 상에 제3 도전막을 형성하는 단계,
    상기 제2 도전막과 상기 제3 도전막을 한번에 식각하여 제2 도전층과 제1 보호 도전층을 형성하는 단계,
    상기 제1 보호 도전층 및 상기 제1 도전막 상에 제4 도전막을 형성하는 단계, 그리고
    상기 제4 도전막과 상기 제1 도전막을 한번에 식각하여 제1 도전층 및 제2 보호 도전층을 형성하는 단계,
    로 이루어지고,
    상기 제1 도전층은 금속 나노 와이어를 포함하고,
    상기 제1 보호 도전층은 ITO 및 IZO 중 적어도 하나를 포함하며,
    상기 제2 도전층은 구리를 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 제1 도전층 및 상기 제2 보호 도전층을 형성하는 단계 다음에 SiNx으로 이루어지는 보호막을 형성하는 단계를 더 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 보호막을 형성하는 단계는
    상기 보호막을 식각하여 개구부를 형성하는 단계를 포함하는 터치 스크린 패널의 제조 방법.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102248460B1 (ko) * 2014-08-08 2021-05-07 삼성디스플레이 주식회사 터치 스크린 패널 및 그 제조 방법
KR102312314B1 (ko) * 2015-01-28 2021-10-13 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서 장치 및 그 제조 방법
CN109426386B (zh) * 2017-08-31 2021-11-30 宸鸿光电科技股份有限公司 触控面板及其制作方法
CN110069152A (zh) * 2018-01-24 2019-07-30 祥达光学（厦门）有限公司 触控面板与触控传感器卷带
CN110557887B (zh) * 2018-05-31 2021-10-12 京东方科技集团股份有限公司 电路对位组件及显示装置
CN109917955B (zh) * 2019-02-21 2022-04-22 昆山龙腾光电股份有限公司 基板、触控显示装置及触控显示装置制造方法
CN111722742A (zh) * 2019-03-21 2020-09-29 南昌欧菲光科技有限公司 透明导电膜及其制备方法
CN112051938A (zh) 2020-08-27 2020-12-08 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控显示面板及触控显示面板的制作方法
KR20220095552A (ko) * 2020-12-30 2022-07-07 엘지디스플레이 주식회사 표시패널 및 표시장치

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011052392A1 (ja) * 2009-10-30 2011-05-05 シャープ株式会社 タッチパネル付き表示装置
JP2012178149A (ja) * 2011-02-04 2012-09-13 Shin Etsu Polymer Co Ltd 静電容量式センサーシートおよびその製造方法
US20140132335A1 (en) * 2012-11-15 2014-05-15 Nokia Corporation Apparatus

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5427841A (en) * 1993-03-09 1995-06-27 U.S. Philips Corporation Laminated structure of a metal layer on a conductive polymer layer and method of manufacturing such a structure
US7663607B2 (en) * 2004-05-06 2010-02-16 Apple Inc. Multipoint touchscreen
US6727593B2 (en) * 2001-03-01 2004-04-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device with improved bonding
KR100908102B1 (ko) 2008-11-18 2009-07-16 신와전공 주식회사 터치패널 제조용 패드, 이를 이용한 터치패널 제조방법 및 이에 의해 제조되는 터치패널
US20110067933A1 (en) * 2009-09-18 2011-03-24 Delta Electronics, Inc. Touch-control apparatus
TWI412972B (zh) * 2010-08-17 2013-10-21 Au Optronics Corp 觸控面板及其周邊電路
KR101384110B1 (ko) 2010-10-29 2014-04-10 박준영 터치패널용 패드의 제조방법 및 이 제조방법에 의해 제조되는 터치패널용 패드
JP6129185B2 (ja) * 2011-09-30 2017-05-17 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー ファインピッチ相互接続を有するフレキシブル接触センサ
JP5923951B2 (ja) 2011-12-02 2016-05-25 大日本印刷株式会社 タッチパネルセンサ基板およびその基板の製造方法
KR20140011606A (ko) 2012-07-18 2014-01-29 (주)인터플렉스 터치패드의 제조방법 및 상기 방법으로 제조된 터치패드
KR101975536B1 (ko) 2012-07-30 2019-05-08 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 터치 스크린 패널
KR101968929B1 (ko) * 2012-09-11 2019-04-16 삼성디스플레이 주식회사 센서 기판, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 센싱 표시 패널
KR102028157B1 (ko) 2012-11-20 2019-10-07 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 터치 스크린 패널 이를 구비한 플렉서블 표시장치
KR102021564B1 (ko) 2012-11-23 2019-09-17 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 터치스크린패널 및 그 제조방법
JP5913063B2 (ja) * 2012-11-27 2016-04-27 日本特殊陶業株式会社 配線基板
KR102085964B1 (ko) 2012-11-30 2020-03-09 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 터치 스크린 패널 및 이의 제조방법
US20170192544A9 (en) * 2013-02-22 2017-07-06 Tpk Touch Solutions Inc. Touch panel and manufacturing method thereof
CN103943660B (zh) * 2014-04-02 2017-10-27 上海中航光电子有限公司 一种显示装置
JP2016092053A (ja) * 2014-10-30 2016-05-23 京セラサーキットソリューションズ株式会社 配線基板
CN104375709B (zh) * 2014-12-03 2018-01-09 京东方科技集团股份有限公司 触控电极及其制作方法、触摸屏、显示装置
CN104536603B (zh) * 2014-12-18 2018-01-09 深圳市华星光电技术有限公司 显示器及具有触控功能的面板
KR102312314B1 (ko) * 2015-01-28 2021-10-13 삼성디스플레이 주식회사 터치 센서 장치 및 그 제조 방법
KR102525982B1 (ko) * 2015-12-28 2023-04-27 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011052392A1 (ja) * 2009-10-30 2011-05-05 シャープ株式会社 タッチパネル付き表示装置
JP2012178149A (ja) * 2011-02-04 2012-09-13 Shin Etsu Polymer Co Ltd 静電容量式センサーシートおよびその製造方法
US20140132335A1 (en) * 2012-11-15 2014-05-15 Nokia Corporation Apparatus

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