CN113821125A - 触控基板及其制备方法、触控模组和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请涉及触控技术领域,提供了一种触控基板及其制备方法、触控模组和显示装置,该触控基板包括:衬底、导电功能层和第二保护层;导电功能层置于衬底的一侧;导电功能层包括图案化的纳米导电结构、第一保护层和边框引线结构;通过设置两层保护层结构对导电功能层进行保护,其中的第一保护层固定纳米导电层的结构位置并保护导电功能层的部分结构,第二保护层至少完全覆盖位于导电功能区的纳米导电层,可有效防止水汽、灰尘等进入纳米导电层电,提升触摸屏的灵敏度和使用年限;同时该触控基板通过直接将边框引线层设置在纳米导电层的周边区域,使得边框引线直接与纳米导电层接触实现电性连接,节省了制备工艺步骤和成本。
Description
技术领域
本申请涉及触控技术领域,尤其是涉及一种触控基板及其制备方法、触控模组和显示装置。
背景技术
触摸面板目前被广泛应用于手机、车载设备、家电等电子设备当中。触控面板的核心部件是两个方向连续且独立的传感器电极层,通过计算人体与屏幕接触时的耦合电流分别在两个相互垂直的方向接收端产生的强度来确定触碰位置。因此,对于触控电极层材料与结构的保护,成为决定触摸面板使用寿命以及灵敏度的重要因素。
现有一种触控面板,在触控电极层远离衬底的一侧设置一层保护层,考虑到后续制备边框引线时需要去除部分区域的保护层,因此该保护层的厚度不易过大,从而对触控电极层的保护作用有限,水汽、灰层等容易进入触控电极层。同时,这种触控面板的边框引线与触控电极连接时需要通过刻蚀工艺去除该区域的保护层,从而增加了工艺步骤和成本。
发明内容
本申请的目的在于提供一种触控基板及其制备方法、触控模组和显示装置,以解决现有触控面板无法对电极层进行有效保护且制备工艺复杂的问题。
第一个方面,本申请实施例提供了一种触控基板,包括:衬底、导电功能层和第二保护层;所述衬底包括导电功能区和边框引线区;所述导电功能层置于所述衬底的一侧;所述导电功能层包括图案化的纳米导电结构、第一保护层和边框引线结构;所述第一保护层与所述纳米导电结构同层设置,所述纳米导电结构部分嵌入所述第一保护层;所述边框引线结构设置在所述纳米导电结构对应于所述边框引线区的区域,并与所述纳米导电结构直接电接触;所述导电功能层对应于所述导电功能区的区域包括第一图案化区域;所述第二保护层至少覆盖位于所述导电功能区的所述纳米导电结构且填充所述第一图案化区域。
可选地,所述导电功能层对应于所述边框引线区的区域包括第二图案化区域;所述第二保护层覆盖所述边框引线结构,并填充所述第二图案化区域。
可选地,所述纳米导电层包括纳米导电材料,所述纳米导电材料的一部分嵌入所述第一保护层。
可选地,所述纳米导电材料包括:纳米银线、纳米级金属网格或者纳米级透明电极颗粒。
可选地,所述纳米导电层沿着垂直与所述衬底方向的尺寸大于所述第一保护层沿着垂直与所述衬底方向的尺寸,且所述纳米导电层远离所述衬底一侧所在的平面与所述第一保护层远离所述衬底一侧所在的平面具有预设间距,所述预设间距为10纳米~300纳米。
可选地,所述第一保护层和第二保护层均包括中性或酸含量低、且透明的耐水性材料。
可选地,所述第一保护层和/或第二保护层的材料包括丙烯酸酯或二氧化硅。
可选地,所述边框引线层的材料包括纳米银浆、铜或者石墨烯;和/或,所述边框引线层沿着垂直于所述衬底方向的尺寸为0.1微米~2微米。
第二个方面,本申请实施例还提供了一种触控模组,所述触控模组包括:盖板和一个如第一个方面所述的触控基板,所述盖板设置在所述触控基板包括的第二保护层远离衬底的一侧,所述盖板通过第一透明光学胶层与所述触控基板对位安装;
或者,所述触控模组包括:盖板和两个如第一个方面所述的触控基板,两个所述触控基板层叠设置,所述盖板设置在靠近外层的所述触控基板的第二保护层远离所述触控基板的衬底一侧;所述盖板通过第二透明光学胶层与靠近外层的所述触控基板对位安装,靠近外层的所述触控基板包括的衬底通过第三透明光学胶层与靠近内层的所述触控基板对位安装。
第三个方面,本申请实施例还提供了一种显示装置,包括:显示模组和如第二个方面所述的触控模组,所述触控模组与所述显示模组对位设置。
第四个方面,本申请实施例还提供了一种触控基板的制备方法,包括:
提供一衬底;所述衬底被定义出导电功能区和边框引线区;
在所述衬底的一侧制备纳米导电层;
在所述纳米导电层远离所述衬底的一侧涂覆第一保护涂层,所述第一保护涂层渗透至所述纳米导电层内部,固化后形成第一保护层;
在所述纳米导电层远离所述衬底的一侧且对应与所述边框引线区的区域制备边框引线层;
对所述纳米导电层、第一保护层以及边框引线层进行图案化处理,形成包括图案化的纳米导电结构、第一保护层和边框引线结构的导电功能层,所述导电功能层对应于所述导电功能区的区域包括第一图案化区域;
在所述导电功能层远离所述衬底的一侧制备第二保护层,所述第二保护层至少覆盖位于所述导电功能区的所述纳米导电结构且填充所述第一图案化区域。
可选地,所述在所述衬底的一侧制备纳米导电层,包括:
在所述衬底的一侧形成一层纳米材料溶液涂层,所述纳米材料溶液涂层包括纳米导电材料和基质溶剂;
对所述纳米材料溶液涂层进行固化,从而形成所述纳米导电层。
本申请实施例至少具有以下技术效果:
本实施例提供的触控基板,通过设置两层保护层结构对导电功能层进行保护,其中的第一保护层固定纳米导电层的结构位置并保护导电功能层的部分结构,第二保护层至少完全覆盖位于导电功能区的纳米导电层,可有效防止水汽、灰尘等进入纳米导电层电,提升触摸屏的灵敏度和使用年限;同时该触控基板通过直接将边框引线层设置在纳米导电层的周边区域,使得边框引线直接与纳米导电层接触实现电性连接,节省了制备工艺步骤和成本。
附图说明
为了更清楚地说明本申请具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本申请的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种触控基板的内部结构示意图;
图2为本申请实施例提供的一种触控基板的纳米导电结构的结构示意图;
图3为本申请实施例提供的另一种触控基板的纳米导电结构的结构示意图;
图4为本申请实施例提供的又一种触控基板的纳米导电结构的结构示意图;
图5为本申请实施例提供的一种触控基板的纳米导电结构与第一保护层的结构示意图;
图6为本申请实施例提供的一种触控模组的内部结构示意图;
图7为本申请实施例提供的另一种触控模组的内部结构示意图;
图8为本申请实施例提供的一种触控基板的制备方法的流程图;
图9为本申请实施例提供的一种触控基板的制备方法中步骤S200对应的工艺结构图;
图10为本申请实施例提供的一种触控基板的制备方法中步骤S300对应的工艺结构图;
图11为本申请实施例提供的一种触控基板的制备方法中步骤S400对应的工艺结构图;
图12为本申请实施例提供的一种触控基板的制备方法中步骤S500对应的工艺结构图;
图13为本申请实施例提供的一种触控基板的制备方法中步骤S500对应的工艺结构图的俯视图;
图14为本申请实施例提供的一种触控基板的制备方法中步骤S200的具体流程图。
图标:
1-触控基板;1a-第一图案化区域;1b-第二图案化区域;
100-衬底;
200-纳米导电层;200a-纳米导电材料;200b-基质层;201-纳米导电结构;
300-第一保护层;
400-边框引线层;401-边框引线结构;
500-第二保护层;
600-第一透明光学胶层;610-第二透明光学胶层;620-第三透明光学胶层;
700-盖板。
具体实施方式
下面将结合实施例对本申请的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
本技术领域技术人员可以理解,除非另外定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语),具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是,诸如通用字典中定义的那些术语,应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义,并且除非像这里一样被特定定义,否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
本技术领域技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式 “一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件,但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。
如图1所示,本申请实施例提供的触控基板1,包括:衬底100、导电功能层(图中未示出)和第二保护层500,导电功能层设置在衬底100的一侧,第二保护层500覆盖导电功能层。其中,衬底100按照不同的区域划分为导电功能区和边框引线区,边框引线区一般位于导电功能区的周边。衬底100的材料可选用柔性衬底,如:PET、CPI等,也可选用刚性衬底,如:玻璃、塑料等;衬底100的厚度一般在0.1毫米~1毫米之间。
具体地,导电功能层包括图案化的纳米导电结构201、第一保护层300和边框引线层400。纳米导电结构201为触控基板1图案化之后的金属导电结构,第一保护层300与纳米导电结构201同层设置,纳米导电结构201部分嵌入第一保护层300,即纳米导电结构201并没有完全被第一保护层300覆盖,而是有一部分延伸出第一保护层300之外,由于纳米导电结构201内部存在间隙,使得第一保护层300完全渗透至纳米导电结构201的内部,从而对纳米导电结构201内的纳米导电材料200a起到固定和保护的作用。
可以理解的是,由于触控基板1一般与显示模组配合使用,因而为了不影响显示效果,纳米导电结构201为采用透明的纳米级材料制备而成的图案化透明电极结构,即纳米导电结构201由透明的纳米导电层经图案化工艺制备得到。此外,本申请各实施例中的纳米导电层和第一保护层300均可看作近似平面膜层结构。
进一步地,边框引线结构401设置在纳米导电结构201的周边区域,由于第一保护层300渗透至纳米导电结构201的结构内部,使得边框引线结构401直接与纳米导电结构201外露于第一保护层300的部分实现电接触,从而可以节省工艺步骤和成本。其中,边框引线结构401的一部分嵌入纳米导电结构201。
在一些可选的实施例中,边框引线结构401也可以与第一保护层300接触。
本实施例中的导电功能层为了形成需要的电极图案(参照图14所示),可通过激光或者图形化工艺去除部分区域的纳米导电层200和边框引线层400,从而形成图案化开口,同时形成图案化的纳米导电结构201和边框引线结构401。该图案化开口使得导电功能层形成具有图案的触控电极结构。本实施例中导电功能层包括对应于导电功能区的第一图案化区域1a、以及对应与边框引线区的第二图案化区域1b,图案化开口分布在第一图案化区域1a和第二图案化区域1b。
需要说明的是,根据图案化开口的深度不同,第一保护层300可以为完整的膜层结构,也可以为图案化的第一保护结构,本实施例中不作具体限定,仅以完整的第一保护层300进行示例性说明。
本实施例中为了提升对纳米导电结构201的保护,在形成第一保护层300的基础上,第二保护层500至少覆盖导电功能层的导电功能区域。具体地,第二保护层500除了覆盖纳米导电结构201之外,还填充第一图案化区域1a,从而加强对纳米导电结构201的保护。
本实施例提供的触控基板1,通过设置两层保护层结构对导电功能层进行保护,其中的第一保护层300固定纳米导电结构201的结构位置并保护导电功能层的部分结构,第二保护层500完全覆盖对应与导电功能区的纳米导电结构201,可有效防止水汽、灰尘等进入纳米导电结构201,提升触摸屏的灵敏度和使用年限;同时该触控基板1通过直接将边框引线结构401设置在纳米导电结构201的周边区域,使得边框引线直接与纳米导电结构201接触实现电性连接,节省了制备工艺步骤和成本。
在一个可选的实施例中,继续参阅图1,本实施例中的导电功能层对应于边框引线区的区域包括第二图案化区域1b,第二图案化区域1b对应边框引线区的图案化开口。
为了进一步对触控电极进行保护,第二保护层除了覆盖位于导电功能区的纳米导电结构之外,还覆盖位于边框引线区的边框引线结构,同时填充第二图案化区域1b,进一步提升了第二保护层对导电功能层的保护效果。
在一个可选的实施例中,参阅图2和图3(图2和图3中示意的纳米导电结构201未显示图案化开口),本实施例提供的纳米导电结构201包括若干纳米导电材料200a,若干纳米导电材料200a根据制备材料和工艺的呈现不同的分布状态。本实施例中纳米导电溶液的基质材料在固化后可以看作全部挥发(例如:乙醇或者异丙醇),剩余的若干纳米导电材料200a相互搭接或者间隔设置在衬底100上,由第一保护层300对纳米导电材料200a靠近衬底100的部分进行固定和保护。
具体地,纳米导电材料200a为用于制备纳米导电结构201的导电材料,纳米导电材料200a的一部分嵌入第一保护层300,通过第一保护层300固定纳米导电材料200a的位置,同时在一定程度上也能起到对纳米导电材料200a的保护;纳米导电材料200a的另一部分延伸至第一保护层300之外(具体位于第一保护层300远离衬底100的一侧),这一部分纳米导电材料200a可与边框引线结构401直接接触,从而实现纳米导电结构201与边框引线结构401的电性连接。
示例性的,图2中示意的纳米导电材料200a为纳米银线,图3中示意的纳米导电材料200a为纳米级透明电极颗粒。
在另一个可选的实施例中,如图4所示(图4中示意的纳米导电结构201未显示图案化开口),纳米导电结构201包括:纳米导电材料200a和图案化的基质层200b,即用于制备纳米导电结构201的纳米导电层中还保留了部分的基质层材料(具体由基质层200b的材料决定),基质层200b的图案化由制备图案化开口之后得到。
具体地,基质层200b是由固化后的纳米导电膜层设置在衬底100的一侧,第一保护层300位于基质层200b远离衬底100的一侧,纳米导电材料200a的一部分同时嵌入第一保护层300和基质层200b,基质层200b相对于第一保护层300更靠近衬底100,基质层200b一般在第一保护层300之前形成。
需要说明的是,用于制备纳米导电结构201的纳米导电层由纳米材料溶液涂层固化得到,纳米材料溶液涂层包括纳米导电材料200a和基质溶剂,基质溶剂固化后未完全挥发的部分形成基质层200b。
在一些实施例中,本申请实施例中的纳米导电材料200a包括:纳米银线、纳米级金属网格或者纳米级透明电极(ITO)颗粒,上述纳米导电材料200a组成的纳米导电结构201具有一定的间隙,保证用于形成第一保护层300的涂层能够渗透至用于制备纳米导电结构201的纳米导电层的内部即可。
可选地,纳米导电材料200a采用纳米银线,用于制备纳米导电结构201的纳米银线墨水固含量为0.1%~2%,纳米银线的直径15纳米~35纳米,纳米银线的长度为15微米~25微米,粘度为5cps~20cps(cps表示粘度单位厘帕・秒)。
在一些实施例中,如图5所示(图5中示意的纳米导电结构201未显示图案化开口),为了提升第一保护层300对纳米导电结构201的固定和保护效果,本实施例中对第一保护层300与纳米导电结构201的厚度差值进行限定。
具体地,纳米导电结构201沿垂直与衬底100方向的尺寸(相当于纳米导电结构201的厚度)的厚度大于第一保护层300沿垂直与衬底100方向的尺寸(相当于第一保护层300)的厚度,且纳米导电结构201远离衬底100一侧所在的平面与第一保护层300远离衬底100一侧所在的平面具有预设间距d。
可选地,本实施例中纳米导电结构201的厚度为30纳米~500纳米,第一保护层300的厚度为20纳米~200纳米,在不考虑基质层200b厚度的情况下,使得预设间距d(即纳米导电层200外露于第一保护层300的厚度)为10纳米~300纳米。其中,本实施例中的厚度均指沿垂直于衬底100平面方向上的尺寸。
需要说明的是,为了便于理解,本实施例中将纳米导电结构201和第一保护层300均看作是理想的膜层结构,即纳米导电结构201和第一保护层300的厚度都是均匀的,相当于纳米导电结构201和第一保护层300远离衬底100的一侧均可看作是平面结构。
本实施例通过控制纳米导电结构201远离衬底100一侧所在的平面与第一保护层300远离衬底100一侧所在的平面之间的预设间距,可以提升第一保护层300对纳米导电材料200a的固定和保护,同时也能保证纳米导电材料200a与边框引线结构401的连接稳定性。
在一些实施例中,为了加强纳米导电材料200a的保护作用,第一保护层300和第二保护层500均选用包括中性或者酸含量低、透明且耐水性比较好的材料。其中,中性或者酸含量低的材料主要是为了防止对纳米导电材料200a的腐蚀,透明的材料是为了保证触控基板1与显示模组配合后的显示效果,耐水性好的材料是为了起到防止水汽进入纳米导电层200,提升对触控电极的保护效果。
可选地,第一保护层300的材料包括丙烯酸酯或二氧化硅,第二保护层500的材料也包括丙烯酸酯或二氧化硅。
可选地,边框引线结构401的材料包括纳米银浆、铜或者石墨烯,这些材料可以通过喷墨打印的方式实现印刷,方便快捷。
可选地,边框引线结构401的厚度(沿着垂直于衬底100方向的尺寸)为0.1微米~2微米,保证一定的电性连接强度的前提下,尽量控制工艺成本。
基于同一发明构思,如图6所示,本申请实施例还提供了一种单层的触控模组,该触控模组包括:盖板700和前述实施例中的一个触控基板1,盖板700设置在该触控基板1的第二保护层500远离触控基板1的衬底100的一侧。
具体地,盖板700通过第一透明光学胶层600实现与第二保护层500的对位安装,盖板700的材料包括玻璃、塑料或者陶瓷,在不影响显示效果的情况下,可以防止外力冲击对触控基板1的损坏,而且在一定程度上保护作用。
在一个可选的实施例中,如图7所示,本申请实施例还提供一种双层的触控模组,该触控模组包括:盖板700和两个前述实施例中的触控基板1,两个触控基板1的结构相同且层叠设置,靠近外层的触控基板1的衬底100通过第三透明光学胶层620实现与靠近内层的触控基板1的第二保护层500的粘接。此外,两个触控基板1包括的边框引线层400通过外部线路实现电性连接,使得两个触控基板1的纳米导电层200之间形成电容模型结构。
进一步地,盖板700设置在靠近外层的触控基板1的第二保护层500远离触控基板1的衬底100一侧,盖板700的设置方式与单层触控模组的设置方式一致,本实施例中的盖板700通过二透明光学胶层610与靠近外层的触控基板1对位安装。
本实施例提供的触控模组,包括了前述实施例中的触控基板1,该触控基板1通过设置两层保护层结构对导电功能层进行保护,其中的第一保护层300固定纳米导电层200的结构位置并保护导电功能层的部分结构,第二保护层500完全覆盖纳米导电层200,可有效防止水汽、灰尘等进入纳米导电层200电,提升触摸屏的灵敏度和使用年限;同时该触控基板1通过直接将边框引线层400设置在纳米导电层200的周边区域,使得边框引线直接与纳米导电层200接触实现电性连接,节省了制备工艺步骤和成本。
基于同一发明构思,本申请实施例还提供了一种显示装置,包括:显示模组和前述实施例中的触控模组,该触控模组与显示模组对位设置,从而形成一个完整的具有触控功能显示装置。
具体地,对于双层触控模组而言,触控模组中位于底层的触控基板1的衬底100与显示模组的封装层或者盖板700对位安装;对于单层触控模组,触控基板1的衬底100与显示模组的封装层或者盖板700对位安装。
可选地,本实施例提供的显示装置可以是智能手机或者平板电脑等触控显示设备。
本实施理中的显示装置,包括了前述实施例中的触控模组,该触控模组包括的触控基板1通过设置两层保护层结构实现对导电功能层的保护,其中的第一保护层300用于固定纳米导电结构201的结构位置,同时还可以起到保护导电功能层的部分结构的作用,第二保护层500完全导电功能区的覆盖纳米导电结构201,可有效防止水汽、灰尘等进入纳米导电层200电,提升触摸屏的灵敏度和使用年限;同时该触控基板1通过直接将边框引线层400设置在纳米导电层200的周边区域,使得边框引线直接与纳米导电层200接触实现电性连接,节省了制备工艺步骤和成本。
基于同一发明构思,如图8所示,本申请实施例还提供了一种触控基板1的制备方法,包括以下步骤:
S100,提供一衬底100;衬底100包括导电功能区和边框引线区。
可选地,衬底100按照不同的区域定义出导电功能区和边框引线区,导电功能区用于制备触控基板的触控电极结构,边框引线区位于导电功能区的周边区域。
S200,参阅图9,在衬底100的一侧制备纳米导电层200。
S300,参阅图10,在纳米导电层200远离衬底100的一侧涂覆第一保护涂层,第一保护涂层渗透至纳米导电层200内部,固化后形成第一保护层300。
S400,参阅图11,在纳米导电层200远离衬底100一侧且对应于边框引线区的区域制备边框引线层400。
S500,参阅图12和图13,对纳米导电层200、第一保护层300以及边框引线层400进行图案化处理,形成包括图案化的纳米导电结构201、第一保护层300和边框引线结构401的导电功能层,导电功能层对应于导电功能区的区域包括第一图案化区域1a。
可选地,导电功能层对应与边框引线区的区域包括第二图案化区域1b。
S600,继续参阅图1,在导电功能层远离衬底100的一侧制备第二保护层500,第二保护层500至少覆盖位于导电功能区的纳米导电结构201且填充第一图案化区域1a。
本实施例提供的触控基板1的制备方法,利用纳米导电层200的间隙将第一保护层300形成于其内部,用于固定纳米导电层200的结构位置,同时也能对纳米导电层200的部分结构进行保护;通过形成第二保护层500完全覆盖纳米导电层200,可有效防止水汽、灰尘等进入纳米导电层200电,提升触摸屏的灵敏度和使用年限;该触控基板1通过将边框引线层400设置在纳米导电层200的周边区域,使得边框引线结构401直接与纳米导电层200接触实现电性连接,节省了制备工艺步骤和成本。
可选地,如图14所示,上述步骤S200:在衬底100的一侧制备纳米导电层200,包括:
S210,在衬底100的一侧形成一层纳米材料溶液涂层,纳米材料溶液涂层包括若干纳米导电材料200a和基质溶剂。
可选地,纳米材料溶液涂层的材料为基质溶剂与若干纳米导电材料200a的混合物。以纳米导电材料200a为纳米银线为例,基质溶剂可以包括乙醇或者异丙醇,纳米银线涂层的固含量0.1%~2%,粘度为5cps-20cps。
S220,对纳米材料溶液涂层进行固化,从而形成纳米导电层200。
具体地,根据基质溶剂的成分不同,在纳米材料溶液涂层固化的过程中挥发的程度也不相同。例如:当基质溶剂仅包括乙醇或者异丙醇时,固化后得到的纳米导电层200中基本上不存在基质溶剂,仅剩下纳米导电材料200a;当基质溶液除了包括乙醇或者异丙醇之外,还包括用于增加纳米材料溶液涂层综合性能的表面活性剂、分散剂、稳定剂或粘合剂时,随着纳米材料溶液涂层的固化,乙醇或者异丙醇会挥发,表面活性剂、分散剂、稳定剂或粘合剂会保留在衬底100上形成基质层200b,后续制备的第一保护层300覆盖在该基质层200b上。
需要说明的是,本申请实施例中各膜层的涂布方式包括但不限于狭缝涂布、丝网印刷或者喷墨打印。
本技术领域技术人员可以理解,本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案可以被交替、更改、组合或删除。进一步地,具有本申请中已经讨论过的各种操作、方法、流程中的其他步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。进一步地,现有技术中的具有与本申请中公开的各种操作、方法、流程中的步骤、措施、方案也可以被交替、更改、重排、分解、组合或删除。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
在本申请的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体状况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本说明书的描述中,具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
应该理解的是,虽然附图的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示,但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明,这些步骤的执行并没有严格的顺序限制,其可以以其他的顺序执行。而且,附图的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个子步骤或者多个阶段,这些子步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成,而是可以在不同的时刻执行,其执行顺序也不必然是依次进行,而是可以与其他步骤或者其他步骤的子步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。
Claims (12)
1.一种触控基板,其特征在于,包括:
衬底,所述衬底包括导电功能区和边框引线区;
导电功能层,所述导电功能层置于所述衬底的一侧;所述导电功能层包括图案化的纳米导电结构、第一保护层和边框引线结构;所述第一保护层与所述纳米导电结构同层设置,所述纳米导电结构部分嵌入所述第一保护层;所述边框引线结构设置在所述纳米导电结构对应于所述边框引线区的区域,并与所述纳米导电结构直接电接触;所述导电功能层对应于所述导电功能区的区域包括第一图案化区域;
第二保护层,所述第二保护层至少覆盖位于所述导电功能区的所述纳米导电结构,并填充所述第一图案化区域。
2.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述导电功能层对应于所述边框引线区的区域包括第二图案化区域;
所述第二保护层覆盖所述边框引线结构,并填充所述第二图案化区域。
3.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述纳米导电结构包括纳米导电材料,所述纳米导电材料的一部分嵌入所述第一保护层。
4.根据权利要求3所述的触控基板,其特征在于,所述纳米导电材料包括:纳米银线、纳米级金属网格或者纳米级透明电极颗粒。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的触控基板,其特征在于,所述纳米导电结构沿着垂直与所述衬底方向的尺寸大于所述第一保护层的沿着垂直于所述衬底方向的尺寸,且所述纳米导电结构远离所述衬底一侧所在的平面与所述第一保护层远离所述衬底一侧所在的平面具有预设间距,所述预设间距为10纳米~300纳米。
6.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述第一保护层和第二保护层均包括中性或者酸含量低、且透明的耐水性材料。
7.根据权利要求6所述的触控基板,其特征在于,所述第一保护层和/或第二保护层的材料包括丙烯酸酯或二氧化硅。
8.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述边框引线结构的材料包括纳米银浆、铜或者石墨烯;
和/或,所述边框引线结构沿着垂直于所述衬底方向的尺寸为0.1微米~2微米。
9.一种触控模组,其特征在于,所述触控模组包括:盖板和一个如权利要求1至8中任一项所述的触控基板,所述盖板设置在所述触控基板包括的第二保护层远离所述触控基板包括的衬底的一侧,所述盖板通过第一透明光学胶层与所述触控基板对位安装;
或者,所述触控模组包括:盖板和两个如权利要求1至8中任一项所述的触控基板,两个所述触控基板层叠设置,所述盖板设置在靠近外层的所述触控基板包括的第二保护层远离所述触控基板包括的衬底一侧;所述盖板通过第二透明光学胶层与靠近外层的所述触控基板对位安装,靠近外层的所述触控基板包括的衬底通过第三透明光学胶层与靠近内层的所述触控基板对位安装。
10.一种显示装置,其特征在于,包括:显示模组和如权利要求9所述的触控模组,所述触控模组与所述显示模组对位设置。
11.一种如权利要求1至8中任一项所述的触控基板的制备方法,其特征在于,包括:
提供一衬底;所述衬底被定义出导电功能区和边框引线区;
在所述衬底的一侧制备纳米导电层;
在所述纳米导电层远离所述衬底的一侧涂覆第一保护涂层,所述第一保护涂层渗透至所述纳米导电层内部,固化后形成第一保护层;
在所述纳米导电层远离所述衬底的一侧且对应与所述边框引线区的区域制备边框引线层;
对所述纳米导电层、第一保护层以及边框引线层进行图案化处理,形成包括图案化的纳米导电结构、第一保护层和边框引线结构的导电功能层,所述导电功能层对应于所述导电功能区的区域包括第一图案化区域;
在所述导电功能层远离所述衬底的一侧制备第二保护层,所述第二保护层至少覆盖位于所述导电功能区的所述纳米导电结构且填充所述第一图案化区域。
12.根据权利要求11所述的触控基板的制备方法,其特征在于,所述在所述衬底的一侧制备纳米导电层,包括:
在所述衬底的一侧形成一层纳米材料溶液涂层,所述纳米材料溶液涂层包括纳米导电材料和基质溶剂;
对所述纳米材料溶液涂层进行固化,从而形成所述纳米导电层。
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