TW201514802A - 觸控螢幕以及包含其之觸控裝置 - Google Patents

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Soung-Kyu Park
Ji-Chang Ryu
Do-Youb Kwon
Mun-Suk Kang
Gyu-Rin Lee
Jin-Seok Lee
Jae-Hak Her
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Lg Innotek Co Ltd
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Abstract

本發明之觸控螢幕包含一基板及位於基板上用以偵測位置之一電極部。電極部包含具有一電極之一基底。

Description

觸控螢幕以及包含其之觸控裝置
本發明係有關一種觸控螢幕以及包含其之觸控裝置。
近年來，觸控面板已被應用到各種電子用品上，其藉著使用觸控筆或手來碰觸在觸控裝置上顯示的圖像來執行輸入功能。
觸控面板主要可分成電阻式觸控面板以及電容式觸控面板，電阻式觸控面板係藉由施加於輸入裝置的壓力造成玻璃與電極形成短路來偵測觸控點，電容式觸控面板係由使用者的手指觸摸到電容式觸控面板時，偵測電極間的電容變化來偵測觸控點。
奈米線，係為銦錫氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)的替代材料，用來作為觸控面板的電極。奈米線在各方面都優於銦錫氧化物，如透射率或導電性。
奈米線具有將入射至奈米線的光線散射的特性，使得包含奈米線的電極不容易被看見，因此而降低觸控面板的能見度。此外，當電極使用奈米線形成時，需要添加一保護層(overcoating layer)以防止奈米線氧化，因此而增加觸控面板的厚度。
此外，當觸控面板被圖案化時，而且電極皆使用相同的材料，此時不容易進行選擇性圖案化。換句話說，不同類型的圖案都必須藉由圖案化來形成，但當使用相同材料進行圖案化時，任一圖案化製程都會給另一個圖案化製程帶來影響。因此而造成了對觸控面板結構的限制。
本實施例提供一種具有較薄厚度的觸控螢幕及包含其之觸控裝置。
本實施例提供一觸控螢幕可確保具有多樣化結構，以及包含其之觸控裝置。
根據本實施例，提供一觸控螢幕包含一基板及位於基板上用以偵測位置的電極部。電極部包含具有一電極之一基底。
如上所述，根據一實施例之觸控螢幕包含一電極部具有感光材料及奈米線，電極部包含奈米薄膜，因此使得電極部的厚度可被減少。也就是說，電極部包含奈米線使得整體厚度可被減少。根據先前技術，當電極部包含奈米線時，額外形成的保護層可防止奈米線氧化，但此也使得製程變得複雜而且增加觸控螢幕的厚度。然而，根據本實施例，奈米線被包含於感光材料中，所以不需要保護層也可以防止奈米線被氧化。
此外，電極部包含奈米線，所以可撓式觸控螢幕及觸控裝置可被實現。
根據本實施例之觸控螢幕，可減少電極及未形成電極的區域之間的高度差，因此而改善電極的能見度。此外，當電極薄膜接合後，可減少因為階差(step difference)而產生的氣泡，進而提高觸控螢幕的可靠度。
此外，當連接至電極部的導線被去除後，可改善因電極部的厚度而產生導線的階差，進而防止導線短路或斷裂。
10‧‧‧觸控螢幕
20‧‧‧顯示面板
21‧‧‧上基板
22‧‧‧下基板
30‧‧‧光源部
100‧‧‧基板
120‧‧‧基板
200‧‧‧電極部
210‧‧‧第一電極部
210’‧‧‧電極材料
211‧‧‧基底
212‧‧‧電極
220‧‧‧第二電極部
221‧‧‧基底
222‧‧‧電極
230‧‧‧第一電極部
230’‧‧‧電極材料
231‧‧‧基底
231a‧‧‧第一基底
231b‧‧‧第二基底
232‧‧‧電極
240‧‧‧第二電極部
241a‧‧‧第三基底
241b‧‧‧第四基底
242‧‧‧電極
250‧‧‧第一感測連接部
251‧‧‧基底
252‧‧‧電極
300‧‧‧導線
310‧‧‧第一導線
320‧‧‧第二導線
350‧‧‧導線連接部
400‧‧‧中間層
400h‧‧‧孔洞
420‧‧‧絕緣部
500‧‧‧保護層
600‧‧‧光罩
700‧‧‧接合層
AA‧‧‧作用區
D‧‧‧區域
UA‧‧‧非作用區
圖1為根據實施例繪示之觸控螢幕的平面示意圖。
圖2為根據實施例繪示之觸控螢幕的立體圖。
圖3為圖2中沿著I-I'線的剖面圖。
圖4為根據另一實施例繪示之觸控螢幕的平面示意圖。
圖5為圖4中沿著A-A'線的剖面圖。
圖6至圖7為根據實施例繪示之製造觸控螢幕方法的剖面圖。
圖8至圖10為根據另一實施例繪示之觸控螢幕的剖面圖。
圖11為根據另一實施例繪示之觸控螢幕的立體圖。
圖12為圖11中沿著Ⅱ-Ⅱ'線的剖面圖。
圖13至圖17為根據另一實施例繪示之製造觸控螢幕方法的剖面圖。
圖18至圖24為根據另一實施例繪示之觸控螢幕的剖面圖。
圖25為根據實施例繪示之觸控螢幕與觸控裝置組裝的剖面圖。
圖26至圖33為根據另一實施例繪示之觸控螢幕的剖面圖。
圖34為根據另一實施例繪示之觸控螢幕在圖1中A部分的放大圖。
圖35為圖34中沿著Ⅱ-Ⅱ'線的剖面圖。
圖36為根據另一實施例繪示之觸控螢幕的剖面圖。
圖37為根據另一實施例繪示之觸控螢幕的放大圖。
圖38為圖37中沿著Ⅲ-Ⅲ'線的剖面圖。
圖39為根據另一實施例繪示之觸控螢幕的剖面圖。
圖40至圖42為根據實施例解說之製造觸控螢幕的方法剖面圖。
圖43為根據實施例繪示之觸控螢幕與顯示器組裝的剖面圖。
在以下描述的實施例中，當一層板(或膜)、一區域、一圖案、或一結構被提到在另一基板、另一層板(或膜)、另一區域、另一墊子、或另一圖案之上或下時，它表示直接或間接地在該基板(或膜)、該區域、該墊子、或該圖案上，或者有一或多個夾層。參照附圖已描述了該層板這樣的位置。
為了方便或清楚起見，圖示中所示的每層厚度及尺寸會被誇大、省略或概要的繪製。此外，元件的尺寸並不完全反映實際尺寸。
以下，將參考附圖來描述實施例。
根據本發明實施例的觸控螢幕及其製造方法將配合圖1至圖8來詳細說明。
參照圖1及圖2，根據實施例之觸控螢幕10包含一基板100具有一作用區AA用以偵測輸入裝置(例如手指)之位置，以及一非作用區UA位於作用區AA的週邊區域。
基板100包含一玻璃基板或含有聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)薄膜或樹脂的一塑膠基板，但本實施例不限於此。換句話說，基板100包含各種材料以形成電極部200及位於其上之導線300。
作用區AA位於電極部200內部以感測輸入裝置。電極部200具有條狀形狀，如圖2所示，但本實施例不限於此。因此，電極部200具有各 種形狀以偵測輸入裝置如手指觸碰。
電極部包含一第一電極部210延伸於一方向，及一第二電極部220延伸於一相反方向並與該一方向交叉。根據本實施例之觸控螢幕具有單層的結構是將第一及第二電極部210、220形成於同一基板100上。換句話說，第一及第二電極部210、220位於基板100的同一平面上。然而，本實施例不限於此，觸控螢幕具有多種結構，其中包含將第一及第二電極部210、220形成於彼此不同的基板上的雙層結構。
當輸入裝置如手指觸碰於觸控螢幕上時，電容差值會發生於輸入裝置中進行觸碰的部分，而呈現電容差值的觸碰部分會被偵測作為觸碰點。
此時，即使未繪示於圖1及圖2，亦可包含一保護螢幕(cover window)位於基板100上，保護螢幕包含玻璃。詳細地說，保護螢幕包含化學強化玻璃，化學強化玻璃指的是經過化學程序強化過的玻璃。例如，化學強化玻璃包含鹼石灰玻璃(Na2O-CaO-SiO2)或矽酸鋁玻璃(aluminosilicate glass)。保護螢幕具有一預定角度以保護基板100、電極部200及導線300。
參照圖3，第一電極部210包含一基底211及位於基底211上的電極212，電極212主要提供一電功能(electrical function)於基底211之上部。
基底211及電極212具有相同的圖案。換句話說，當第一電極部210具有條狀圖案延伸於一方向時，基底211及電極212亦具有條狀圖案延伸於該一方向。
基底211包含感光材料，由於基底211包含感光材料，使得第一電極部210可透過曝光及顯影製程形成。
電極212包含互連(interconnecting)的結構，互連結構具有直徑在10nm至200nm範圍內的精細結構。較佳地，互連結構具有直徑在20nm至100nm範圍內的精細結構。如此一來，電極212可包含奈米線，例如，電極212可包含金屬奈米線。
互連結構位於第一電極部210的上部。互連結構存在於具有距離第一電極部210的上部1μm深度的D區域內。較佳地，奈米線存在於具有距離第一電極部210的上部100nm深度的D區域內。
此外，互連結構的密集度朝向基底212的表面而越來越高，如 此，互連結構的密集度則是表示互連結構在同樣體積中的數量。此外，當互連結構逐漸遠離基板100時，互連結構的密集度逐漸變高。
第一電極部210包含感光奈米線薄膜，第一電極部210包含感光奈米線薄膜，以減少第一電極部210的厚度。換句話說，由於第一電極部210包含奈米線而減少第一電極210的整體厚度。根據先前技術所示，當電極部包含奈米線時，需要額外形成保護層以防止奈米線氧化，此也導致製造過程變得複雜，且增加觸控螢幕的厚度。然而，根據本實施例，包含奈米線的互連結構被包在感光材料中，因此不需要保護層也可以防止奈米線氧化。
第一電極部210的厚度在1μm至6μm的範圍內。更詳細地說，第一電極部210的厚度在2μm至5μm的範圍內。
當第一電極部210的厚度在1μm至6μm的範圍內時，其表面電阻(surface resistance)在120Ω/平方(Ω/square)至180Ω/平方的範圍內。較佳地，當第一電極部210的厚度在2μm至5μm的範圍內，其表面電阻在140Ω/平方至160Ω/平方的範圍內。更佳地，當第一電極部210的厚度為5μm時，其表面電阻為150Ω/平方。
此外，當第一電極部210的厚度在1μm至6μm的範圍內時，聚碳酸酯(polycarbonate)上的霧化程度在0.1%至0.9%的範圍內。較佳地，當第一電極部210的厚度在2μm至5μm的範圍內時，聚碳酸酯上的霧化程度在0.3%至0.7%的範圍內。更佳地，當第一電極部210的厚度為5μm時，聚碳酸酯上的霧化程度為0.5%。
此外，當第一電極部210的厚度在1μm至6μm的範圍內時，聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜上的霧化程度在0.8%至1.6%的範圍內。較佳地，當第一電極部210的厚度在2μm至5μm的範圍內時，聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上的霧化程度在1.0%至1.4%的範圍內。更明確地，當第一電極部210的厚度為5μm時，聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上的霧化程度為1.2%。
當第一電極部210的厚度在1μm至6μm的範圍內時，聚碳酸酯上的透明度在87%至95%的範圍內。較佳地，當第一電極部210的厚度在2μm至5μm的範圍內時，聚碳酸酯上的透明度在89%至93%的範圍內。更佳地，當第一電極部210的厚度為5μm時，聚碳酸酯上的透明度為91%。
甚至，當第一電極部210的厚度在1μm至6μm的範圍內時，聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上的透明度在85%至93%的範圍內。較佳地，當第一電極部210的厚度在2μm至5μm的範圍內時，聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上的透明度在87%至91%的範圍內。更佳地，當第一電極部210的厚度為5μm時，聚對苯二甲酸乙二酯薄膜上的透明度為89%。
同樣地，第二電極部220包含一基底221及位於基底221上的電極222。電極222主要提供一電功能於基底221的上部。
基底221及電極222具有相同的圖案。換句話說，當第二電極部220具有條狀圖案延伸於一相反方向時，基底221及電極222亦具有條狀圖案延伸於該相反方向。
基底221包含感光材料，由於基底221包含感光材料，使得第二電極部220可透過曝光及顯影製程而形成。
電極222包含一互連結構。互連結構具有直徑在10nm至200nm範圍內的精細結構。較佳地，互連結構具有直徑在20nm至100nm範圍內的精細結構。如此一來，電極222可包含奈米線。例如，電極222可包含金屬奈米線。
互連結構位於第二電極部220的上部。互連結構存在於具有距離第二電極部220的上部1μm深度的D區域內。較佳地，奈米線存在於具有距離第二電極部220的上部100nm深度的D區域內。
此外，電極222的密集度朝向位於基板100上部的保護螢幕而越來越高。換句話說，互連結構的密集度朝向基底212的表面而越來越高。如此一來，互連結構的密集度則表示互連結構在同樣體積中的數量。此外，當互連結構逐漸遠離基板100時，互連結構的密集度逐漸變高。
第二電極部220包含感光奈米線薄膜。第二電極部220包含感光奈米線薄膜，以減少第二電極部220的厚度。換句話說，由於第二電極部220包含奈米線而可減少第二電極部220的整體厚度。根據先前技術所示，當第二電極部220包含奈米線時，需要額外形成保護層以防止奈米線氧化，而此也導致製造過程變得複雜，且增加觸控螢幕的厚度。然而，根據本實施例，包含奈米線的互連結構被包在感光材料中，因此不需要保護層也可以預防奈米線氧化。
第二電極部220的厚度在1μm至6μm的範圍內。更詳細地說，第二電極部220的厚度在2μm至5μm的範圍內。中間層400另外設置於第一及第二電極部210、220之間。中間層400將第一電極部210與第二電極部220絕緣。中間層400接合第一電極部210至第二電極部220。此外，中間層400經過平整化，因此第二電極部220可穩定地形成於第一電極部210上。
中間層400包含光學透明膠(optical clear adhesive，OCA)。此外，中間層400包含感光薄膜。
此外，中間層400包含介電材料。由於中間層400包含介電材料，使得觸控螢幕的厚度相較於先前技術中觸控螢幕的厚度更薄，其中先前技術的觸控螢幕具有第一電極部210形成於一基板、第二電極部220形成於另一基板，以及該基板透過一黏著層接合至該另一基板的結構。換句話說，該基板、該另一基板及黏著層其中之一可被省略。如此一來，中間層400的厚度比基板100的厚度更薄。詳細地說，中間層400的厚度為基板100的厚度的0.05倍至0.5倍。例如，基板100的厚度為0.05mm，而中間層400的厚度為0.005mm。
觸控螢幕的厚度因為中間層400而減少，使得觸控螢幕的透光度得以改善，並防止第一及第二電極部210、220斷裂。因此可提高觸控螢幕的彎曲性質及可靠度。
由於第一及第二電極部210、220的厚度減少，使得觸控面整體厚度得以減少。此外，第一及第二電極部210、220的基底211、221可防止奈米線氧化而保護奈米線。因此可省略使用額外的保護層保護奈米線。
基板100及電極部200的整體厚度在60μm至140μm的範圍內。換句話說，基板100、第一電極部210、中間層400及第二電極部220的整體厚度可在60μm至140μm的範圍內。較佳地，基板100、第一電極部210、中間層400及第二電極部220的整體厚度可在80μm至120μm的範圍內。更佳地，基板100、第一電極部210、中間層400及第二電極部220的整體厚度可在90μm至110μm的範圍內。
導線300形成於非作用區UA內以電性連接電極部200，導線300包含第一導線310用以連接第一電極部210，以及第二導線320用以連接第二電極部220。
導線300包含金屬以呈現優越的導電性，例如，導線300可包含鉻(Cr)、鎳(Ni)、銅(Cu)、鋁(Al、銀(Ag)、鉬(Mo)及其合金，尤其導線300可包含多種金屬膏使得導線300可透過壓印製程(printing process)而形成。
然而，本實施例不限於此，導線300可包含金屬氧化物如銦錫氧化物(indium tin oxide)、銦鋅氧化物(indium zinc oxide)、銅氧化物(copper oxide)、鋅氧化物(zinc oxide)或鈦氧化物(titanium oxide)。此外，導線300可包含奈米線、感光奈米線薄膜(photosensitive nanowire film)、奈米碳管(carbon nano-tube)、石墨烯(graphene)或導電聚合物。
此時，導線300可包含導電圖案。也就是說，導線300可為網格(mesh)圖案。因此，導線300被隱藏使得非作用區UA呈現透明。因此觸控螢幕可應用至透明觸控裝置上。
電極墊位於導線300之一端。電極墊連接至一印刷電路板。詳細地說，即使未繪示於圖式中，連接端可位於印刷電路板之一表面，而電極墊連接至連接端。電極墊具有對應於連接端的尺寸。
各種形式的印刷電路板都能應用於此。例如，可撓式印刷電路板(FPCB)可用來作為印刷電路板。
同時，參照圖4及圖5，根據另一實施例之觸控螢幕，位於基板100上的第二電極部220透過導線連接部350連接至第二導線320。詳細地說，中間層400包含孔洞400h，而導線連接部350透過孔洞400h連接至第二導線320。
如此一來，第二導線320與第一導線310及第一電極部210一起位於基板100的上表面。因此，第二導線320透過導線連接部350而連接至位於不同平面的第二電極部220。
因此，可縮小邊框(bezel)的尺寸，並確保有寬廣的作用區AA。
接著，根據實施例繪示之觸控螢幕的製造方法將配合圖6至圖7敘述。
先參照圖6，電極材料210’形成於基板100上。電極材料210’包含感光奈米線薄膜。電極材料210’藉由層壓製程(lamination process)而形成。因此，保護層500形成於電極材料210’上。
再參照圖7，把要形成圖案的光罩600設置於基板100上。在光罩600上進行照射紫外光的曝光製程以形成圖案。
接著，移除保護層500，並將電極材料210’顯影，進而形成具有圖案的第一電極部210。第二電極部220也是透過相同的製程而形成。
接著，根據另一實施例之觸控螢幕將配合圖8至圖10進行敘述。
先參照圖8，介於第一及第二電極部210、220的中間層400設置於第一電極部210的間隔中。換句話說，中間層400與第一電極部210之間沒有空隙。
再參照圖9，第一電極部210的電極212位於第一電極部210的上部，第二電極部220的電極222位於第二電極部220的上部，而中間層400在圖8中被省略。換句話說，電極212、222分別僅位於第一及第二電極部210、220的上部，使得電極212、222不需要額外的絕緣層即可彼此絕緣。因此可省略中間層400。
再參照圖10，第一電極部210的電極212位於第一電極部210的整個部分中，而第二電極部220的電極222位於第二電極部的整個部分中。如此一來，中間層400位於第一及第二電極部210、220之間，使得第一及第二電極部210、220彼此絕緣。
接著，根據另一實施例之觸控螢幕將配合圖11至圖17進行敘述。為了清楚及簡明描述，與第一實施例相同或類似的結構或元件將不再另外說明。
參照圖11及圖12，第一電極部230包含第一基底231a、第二基底231b及電極232。
第一基底231a位於第一電極部230的下部。第一基底231a包含感光材料。
第二基底231b位於第一基底231a上。第二基底231b包含感光材料。第二基底231b具有條狀圖案延伸於一方向。
電極232位於第二基底231b上。電極232具有條狀圖案延伸至一方向。換句話說，第二基底231b及電極232具有相同圖案。
電極232的可見度因為第一基底231a而改善。也就是說，電極 232與未形成電極232的區域之間的高度差因為第一基底231a的關係而降低，因此而改善電極232的可見度。此外，當第一電極部230接合至第二電極部240時，可減少因階差而產生的氣泡，進而改善觸控螢幕的可靠度。
此外，當連接至第一電極部230的導線被移除時，將改善因第一電極部230的高度而產生的階差，進而避免導線短路或斷裂。
同樣地，第二電極部240包含一第三基底241a、一第四基底241b及一電極242。
第三基底241a位於第二電極部240的下部。第三基底241a包含感光材料。
第四基底241b位於第三基底241a上。第三基底241b包含感光材料。第四基底241b具有條狀圖案延伸於一相反方向。
電極242位於第四基底241b上。電極242具有條狀圖案延伸於一相反方向。也就是說，第四基底241b及電極242具有相同的圖案。
接下來，根據另一實施例繪示之觸控螢幕的製造方法將配合圖13至圖17進行說明。
先參照圖13，電極材料230’及保護層500形成於基板100上。
接著，參照圖14，將要形成有圖案的光罩600放置於基板100上。光罩600的圖案係透過一第一曝光製程將紫外光照射至光罩600上而形成。當第一曝光製程在保護層500上進行時，電極材料230’與氧氣隔絕。因此而將電極材料230’硬化。如此一來，第一曝光製程的曝光量(light exposure)在10mJ至50mJ的範圍內。
再參照圖15，此時保護層500被移除。
參照圖16，在不使用保護層500的情形下，第二曝光製程將紫外光照射至電極材料230’上。在第二曝光製程中進行全面曝光製程(flood exposure process)。當第二曝光製程在電極材料230’上不使用保護層500的情形下進行時，電極材料230’與氧氣發生反應。因此電極材料230’將不會硬化，所以電極材料230’的顯影區域將被減少。也就是說，透過第二曝光製程，可減少在第一電極部230上部的電極232以及未形成電極232的上表面之間的階差。如此一來，第二曝光製程的曝光量在50mJ至500mJ的範圍內。第二曝光製程的 曝光量能量(energy)大於第一曝光製程的曝光量能量。
參照圖17，電極材料230’進行顯影，因此而形成具有圖案的第一電極部230。第二電極部240亦透過此步驟而形成。
接著，根據另一實施例之觸控螢幕將配合圖18至圖24進行說明。
先參照圖18，位於第一電極部230及第二電極部240之間的中間層400可被設置於第一電極部230的間隔內。也就是說，中間層400及第一電極部230之間沒有空隙。
再參照圖19，第一電極部230的電極232僅位於第一電極部230的上部，第二電極部240的電極242僅位於第二電極部2240的上部，而中間層400在圖18中被省略。也就是說，電極232、242分別僅位於第一電極部230及第二電極部240的上部，所以電極232、242不需要中間層也可彼此絕緣。因此可省略中間層400。
因此可減少觸控螢幕的厚度。如圖20所示，用以連接第二電極部240的第二導線320可在不產生階差的情形下形成。
接著，如圖21所示，第一電極部230具有圓弧狀。也就是說，第一電極部230具有圓弧結構。
接著，第一電極部230及第二電極部240分別位於基板100的兩側。也就是說，第一電極部230及第二電極部240位於互不相同的平面。
接著，如圖23所示，第一電極部230及第二電極部240分別位於互不相同的基板100、120上，亦包含用以將基板100、120彼此接合的接合層700。也就是說，第一電極部230及第二電極部240位於互不相同的平面上。
接著，如圖24所示，觸控螢幕包含一可彎曲區域。第一電極部230及第二電極部240分別包含電極232及電極242，而電極232、242包含奈米線。奈米線具有彎曲特性使得基板可捲曲或彎折。因此，電極232、242實現可彎曲的觸控螢幕。
接著，如圖25所示，觸控螢幕可接合至驅動部20及光源部30以構成觸控裝置。特別是，圖25中的觸控螢幕具有可彎曲結構，使用該觸控螢幕的觸控裝置包含了可彎曲式觸控裝置。
特別是，驅動部20包含顯示面板。驅動部20根據觸控裝置的實 施例類型而包含各種不同的驅動部。也就是說，根據實施例之觸控裝置包含液晶顯示裝置(liquid crystal display，LCD)、場發射顯示器(field emission display)、電漿顯示面板(plasma display panel，PDP)、有機發光顯示器(organic light emitting display，OLED)及電泳顯示器(electrophoretic display，EPD)。因此，顯示面板包含各種不同類型的顯示面板。
此外，觸控螢幕不僅應用於通訊終端，亦可應用至車輛上，因此觸控螢幕可應用至車輛導航系統之個人導航顯示器(personal navigation display，PND)。甚至，觸控螢幕可應用至儀表板以實現中央資訊顯示器(center information display，CID)，但本實施例不限於此。觸控裝置可應用至各種不同的電子產品。
再參照圖26，第一電極部210及第二電極部220包含互不相同的材料。第一電極部210包含一第一材料，第二電極部220包含與第一材料不同的第二材料。第一電極部210及第二電極部220透過互不相同的製程進行圖案化。也就是說，第一電極部210的圖案化製程與第二電極部220的圖案化製程不同。因此，在選擇性圖案化時，各圖案化製程對另一圖案化製程不會造成影響。因此可進行更精密的圖案化製程，使得觸控螢幕可具有各種結構。
第一電極部210具條狀圖案延伸至一方向。
第一電極部210包含透明導電材料以使電流流動不影響光線傳輸。第一電極部210包含一第一材料。第一材料包含金屬氧化物如銦錫氧化物、銦鋅氧化物、錫氧化物、鋅氧化物及鈦氧化物。此外，第一電極部210包含與第一材料不同的第二材料。第二材料包含各種金屬如奈米線、感光奈米線薄膜、奈米碳管、石墨烯及導電聚合物。例如，第一電極部210包含金屬如鉻(Cr)、鎳(Ni)、銅(Cu)、鋁(Al)、銀(Ag)、鉬(Mo)及其合金。上述材料具有彎曲特性使得基板可彎曲或彎折。當第一電極部210包含金屬材料時，第一電極部210呈現網格狀(shape of mesh)。上述材料可透過旋轉塗覆法(spin coating scheme)、噴霧塗覆法(spray coating scheme)及浸塗法(dip coating scheme)塗覆於基板100上，但本實施例不限於此。也就是說，第一材料及第二材料包含透過不同圖案化方法形成的圖案化材料。
第二電極部220具有條狀圖案延伸至一相反方向。
第二電極部220包含基底221及位於基底221上的電極222。電 極222位於基底221的上部。電極222主要在基底221的上部提供一電功能。
基底221及電極222具有相同的圖案。也就是說，當第二電極部220具有條狀圖案延伸於相反方向時，基底221及電極222亦具有條狀圖案延伸於相反方向。
基底221包含感光材料。由於基底221包含感光材料，使得第二電極部220可透過曝光顯影製程而形成，此步驟將在以下說明。
電極222包含互連結構(interconnecting structure)。互連結構具有直徑在10nm至200nm的精密結構。例如，電極222包含金屬奈米線。
互連結構位於第二電極部220的上部。互連結構位於具有第二電極部220的上部深度為1μm的D區域內。較佳地，互連結構位於具有第二電極部220上部深度100nm的D區域內。
此外，電極222的密集度朝向位於基板100上部的保護螢幕而變高。也就是說，互連結構的密集度朝向基底212的表面而變高。如此一來，互連結構的密集度表示在相同體積中的互連結構數量。此外，當互連結構逐漸遠離基板100時，互連結構的密集度逐漸變高。
第二電極部220包含感光奈米線薄膜。由於第二電極部220包含感光奈米線薄膜，可減少第二電極部220的厚度。根據先前技術，當第二電極部220包含奈米線時，額外形成的保護層可防止奈米線氧化。因此使得製程變得複雜，而且增加觸控螢幕的厚度。然而，根據本實施例，具有奈米線的互連結構被包含於感光材料中，所以不需要保護層也可以防止奈米線被氧化。
第二電極部220的厚度在1μm至6μm的範圍內。更詳細地說，第二電極部220的厚度在2μm至5μm的範圍內。
中間層400位於第一電極部210及第二電極部220之間。中間層400將第一電極部210及第二電極部220彼此絕緣。中間層400接合第一電極部210及第二電極部220。此外，中間400經過平整化，所以第二電極部220可穩定地形成於第一電極部210上。
中間層400包含光學透明膠(OCA)。此外，中間層400包含感光薄膜。
此外，中間層400包含介電材料。如此一來，中間層400的厚度 小於基板100的厚度。詳細地說，中間層400的厚度為基板100的厚度的0.05倍至0.5倍。例如，基板100的厚度為0.05mm，而中間層400的厚度為0.005mm。
觸控螢幕的厚度因為中間層400而減少，使得觸控螢幕的透光度得以改善，並防止第一及第二電極部210、220斷裂。因此可提高觸控螢幕的彎曲性質及可靠度。
根據本實施例，第二電極部220透過曝光顯影製程而被圖案化，第一電極部210透過不同於該曝光顯影製程的方法被圖案化，使得圖案化製程各自獨立進行。也就是說，第一電極部210的圖案化製程不影響第二電極部220的圖案化製程，因此可進行選擇性圖案化製程。
此外，第二電極部220形成為薄的厚度，使得觸控螢幕的整體厚度得以減少。此外，第二電極部220的基底221可防止奈米線氧化而保護奈米線。因此而可省略使用額外的保護層保護奈米線。
同時，導線300形成於非作用區UA內以電性連接電極部200。導線300包含第一導線310用以連接第一電極部210，以及第二導線320用以連接第二電極部220。
導線300包含金屬以呈現優越的導電性。例如，導線300可包含鉻(Cr)、鎳(Ni)、銅(Cu)、鋁(Al、銀(Ag)、鉬(Mo)及其合金。尤其導線300可包含多種金屬膏使得導線300可透過壓印製程(printing process)而形成。
電極墊位於導線300之一端。電極墊連接至一印刷電路板。詳細地說，即使未繪示於圖式中，連接端可位於印刷電路板之一表面，而電極墊連接至連接端。電極墊具有對應於連接端的尺寸。
各種形式的印刷電路板都能應用於此。例如，可撓式印刷電路板(FPCB)可用來作為印刷電路板。
接著，根據另一實施例之觸控螢幕將配合圖27至圖39進行說明。為了清楚及簡明描述，與第一實施例相同或類似的結構或元件將不再另外說明。
先參照圖27，第二電極部220包含基底221及電極222。電極222位於基底221的下部。電極222主要在基底221的下部提供電功能。
電極222包含一互連結構。互連結構具有直徑在10nm至200nm 範圍內的精細結構。較佳地，互連結構具有直徑在20nm至100nm範圍內的精細結構。如此一來，電極222可包含奈米線。例如，電極222可包含金屬奈米線。第二電極部220包含感光奈米線薄膜。
互連結構位於第二電極部220的下部。互連結構存在於具有距離第二電極部220的下部1μm深度的D區域內。較佳地，奈米線存在於具有距離第二電極部220的下部100nm深度的D區域內。
此外，互連結構的密集度朝向基底212的底面而越來越高。如此一來，互連結構的密集度表示互連結構在同樣體積中的數量。
同時，參照圖28，第一電極部210包含基底211及位於基底211上的電極212。電極212位於基底211的上部。
電極212包含互連結構。互連結構具有直徑在10nm至200nm範圍內的精細結構。較佳地，互連結構具有直徑在20nm至100nm範圍內的精細結構。如此一來，電極212可包含奈米線。例如，電極212可包含金屬奈米線。第一電極部210包含感光奈米線薄膜。
第二電極部220包含與第一電極部210不同的材料。也就是說，第二電極部220包含之材料使其可透過與第一電極部210不同的製程進行圖案化。
第二電極部220包含透明導電材料以使電流流動不影響光線傳輸。第二電極部220包含一第一材料。第一材料包含金屬氧化物如銦錫氧化物、銦鋅氧化物、銅氧化物、錫氧化物、鋅氧化物及鈦氧化物。此外，第二電極部220包含與第一材料不同的第二材料。第二材料包含各種金屬如奈米線、感光奈米線薄膜、奈米碳管、石墨烯及導電聚合物。例如，第一電極部210包含金屬如鉻(Cr)、鎳(Ni)、銅(Cu)、鋁(Al)、銀(Ag)、鉬(Mo)及其合金。上述材料具有彎曲特性使得基板可彎曲或彎折。當第一電極部210包含金屬材料時，第一電極部210呈現網格狀(shape of mesh)。然而，本實施例不限於此，上述材料可透過不同於第一材料及第二材料之圖案化方法進行圖案化。
接著，參照圖29，第一電極部210包含基底211及位於基底211內的電極212。電極212位於基底211的下部。
先參照圖30，介於第一及第二電極部210、220的中間層400設 置於第一電極部210的間隔中。換句話說，中間層400與第一電極部210之間沒有空隙。
再參照圖31，第二電極部220的電極222位於第二電極部220的上部，而圖30中的中間層400被省略。換句話說，電極222位於第二電極部220的上部，使得電極222不需要額外的中間層即可進行絕緣。因此可省略中間層400。
再參照圖32，第二電極部220的電極222位於第二電極部220的整個部分中。如此一來，中間層400位於第一及第二電極部210、220之間，使得第一及第二電極部210、220彼此絕緣。
參照圖33，第一電極部210的電極212位於第一電極部210的整個部分中。如此一來，中間層400位於第一及第二電極部210、220之間，使得第一及第二電極部210、220彼此絕緣。
接著，根據另一實施例之觸控螢幕將配合圖34至圖35進行說明。
第一電極部210包含第一感測部230及用以連接第一感測部230的第一感測連接部250。第二電極部220包含第二感測部240。
第一感測部230及第二感測部240位於基板100上。第一感測部230及第二感測部240直接與基板100接觸。第一感測部230及第二感測部240位於相同平面上。
第一感測連接部250與第一感測部230電性連接。如此一來，絕緣部420位於第一感測連接部250及第二感測部240之間。藉由絕緣部420可防止第一感測連接部250及第二感測部240之間的電性短路。絕緣部420包含一透明絕緣材料以將第一感測連接部250與第二感測部240絕緣。例如，絕緣部420包含非金屬氧化物如矽氧化物或壓克力樹脂。
如此一來，第一感測部230、第一感測連接部250及第二感測部240之至少其一包含與其他不同之材料。例如，組成第一感測連接部250的材料不同於組成第一及第二感測部230、240的材料。因此，當第一及第二感測部230、240包含一第一材料時，第一感測連接部250包含與第一材料不同的第二材料。
詳細地說，參照圖35，第一感測連接部250包含一基底251及位於基底251內的電極252，而且電極252位於基底251的下部。電極252包含 奈米線。如此一來，第二材料包含感光奈米線薄膜。第二材料可透過曝光顯影製程而被圖案化。
第一及第二感測部230、240包含一第一材料。也就是說，第一及第二感測部230、240包含一材料可透過與第一感測連接部250不同的圖案化製程被圖案化。
因此，在施加第一材料後，第一及第二感測部230、240可透過第一圖案化製程形成，而絕緣部420可形成於第一及第二感測部230、240之上。接著，在施加第二材料於上述生成物後，第一感測連接部250透過第二圖案化製程形成。
同時，參照圖36，第一感測連接部250之電極252位於第一感測連接部250的整個部分上。
參照圖37及圖38，根據另一實施例之觸控螢幕包含第一感測部230、第一感測連接部250及第二感測部240。
第一感測連接部250位於基板100上。第一感測連接部250直接與基板100接觸。
第一感測連接部250的組成材料與第一感測部230及第二感測部240之組成材料不同。因此，當第一感測連接部250包含第一材料，第一感測部230及第二感測部240包含與第一材料不同的第二材料。
第一感測部230及第二感測部240包含基底231、241，而電極232、242位於基底231、241內，且電極232、242位於基底231、241之下部。電極232、242包含奈米線。如此一來，第二材料包含感光奈米線薄膜。第一材料透過曝光顯影製程被圖案化。
第一感測連接部250包含第一材料。也就是說，第一感測連接部250包含一材料可透過與第一及第二感測部230、240不同的圖案化製程被圖案化。
因此，在施加第一材料後，第一感測連接部250透過第一圖案化製程形成，絕緣部420形成於第一感測連接部250上。接著，在施加第二材料在上述生成物後，第一及第二感測部230、240透過第二圖案化製程形成。
同時，參照圖36，第一及第二感測部230、240的電極232、242 位於第一及第二感測部230、240的整個部分上。
接著，根據一實施例之觸控螢幕的製造方法將配合圖40至圖42進行說明。特別是，第二圖案化製程將配合圖40至圖42進行說明。
先參照圖40，電極材料210’形成於基板100上。電極材料210’包含感光奈米線薄膜。電極材料210’透過層壓製程形成。接著，保護層500形成於電極材料210’上。
接著，參照圖41，將要形成有圖案的光罩600形成於基板100上。在光罩600上進行照射紫外光的曝光製程以形成圖案。
再參照圖42，移除保護層500，並將電極材料210’顯影，進而形成具有圖案的電極部210。
接著，如圖43所示，觸控螢幕10位於當作驅動部使用的顯示面板20上。觸控螢幕10及驅動部(顯示面板)20相互結合，使其組成為一顯示器。
顯示面板20(驅動部)具有一顯示區域以輸出影像。應用於顯示裝置之顯示面板通常包含上下基板21、22。下基板22包含資料線、閘極線及薄膜電晶體(thin film transistor，TFT)。上基板21接合至下基板22以保護在下基板22上的元件。
顯示面板20(驅動部)根據顯示器的實施例類型而包含各種不同的顯示面板。也就是說，根據實施例之顯示器包含液晶顯示裝置、場發射顯示器、電漿顯示面板、有機發光顯示器及電泳顯示器。因此，驅動部(顯示面板)20包含各種不同類型的顯示面板。
在本說明書中的任何參考文獻對一實施例、實施例、示範實施例等表示特定特徵、結構或特性被包含在本發明之至少一實施例中。在本說明書中各個地方出現這類的句子不一定都指向相同的實施例。此外，當一特定特徵、結構或特性與任何實施例結合描述時，熟習本領域的技術人員可用其他實施例來實現相同的特徵、結構或特性來達到相同的效果。
雖然已經參考了一些示範實例來描述其中的實施例，熟習本領域的技術人員可以設計出許多在本領域及範圍內的其他修改方法和實施例。更具體地說，本揭露、圖示及附屬請求項範圍的物件組合配置中元件及/或配置的各種變化及修改都是可能的。除了組成元件及/或配置的變化和修改，替代用途對 熟習本領域的技術人員是顯而易見的。
100‧‧‧基板
200‧‧‧電極部
210‧‧‧第一電極部
220‧‧‧第二電極部
300‧‧‧導線
310‧‧‧第一導線
320‧‧‧第二導線
400‧‧‧中間層

Claims (20)

  1. 一種觸控螢幕，包含：一基板；以及一電極部，位於該基板上用以偵測位置，其中該電極部包含有一電極之一基底。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，更包含一保護螢幕位於該基板上。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，其中該電極部具有1μm至6μm範圍內的一厚度。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，其中該電極部具有2μm至5μm範圍內的一厚度。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，其中該基底包含一第一基底及位於該第一基底上的一第二基底。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之觸控螢幕，其中該電極位於該第二基底上，且該電極與該第二基底具有相同的圖案。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，其中該基底包含一感光材料。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，其中該電極具有互連結構。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，其中該電極部包含一感光奈米線薄膜。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，其中該電極之密集度朝向該基底的表面而變高。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，其中當該電極逐漸遠離該基板時，該基底中之該電極的密集度逐漸增加。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，其中該電極位於該基底之表面1μm的距離內。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之觸控螢幕，其中該電極位於該基底之表面100nm的距離內。
  14. 一種觸控螢幕，包含：一基板；以及一第一及第二電極部，位於該基板上，其中該第一及第二電極部包含彼此不同的材料。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之觸控螢幕，其中該第一及第二電極部形成於同一平面上。
  16. 如申請專利範圍第14項所述之觸控螢幕，其中該第一及第二電極部形成於互不相同的平面上。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之觸控螢幕，更包含一中間層介於該第一及第二電極部之間，其中該中間層之厚度小於該基板之厚度。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之觸控螢幕，其中該中間層之厚度為該基板之厚度的0.05倍至0.5倍。
  19. 如申請專利範圍第14項所述之觸控螢幕，其中該第一及第二電極部之至少一者包含具有一電極之基底。
  20. 一種觸控螢幕，包含：一基板；以及一第一及第二電極部，位於該基板上，其中該第一電極部包含一第一感測部及連接該第一感測部的一第一 感測連接部，該第二電極部包含一第二感測部，以及該第一感測連接部包含一材料不同於組成該第一及第二感測部之材料。
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