KR102454959B1 - 열 템퍼링된 유리 및 유리를 열 템퍼링하는 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

본 개시는 강화된 유리 시트 제품 및 상기 제품을 제조하는 공정 및 장치에 관한 것이다. 상기 공정은 유리 시트의 표면 압축 및 중심 인장을 고정시키기 위해 충분히 오랫 동안 비-접촉 열 전도에 의해 유리 시트를 냉각하는 단계를 포함한다. 상기 공정은 개선된 파손 특성을 가지는 열적으로 강화된 유리 시트를 결과한다.

Description

열 템퍼링된 유리 및 유리를 열 템퍼링하는 방법 및 장치{THERMALLY TEMPERED GLASS AND METHODS AND APPARATUSES FOR THERMAL TEMPERING OF GLASS}
본 출원은 2014년 7월 31일에 출원된 미국 특허출원 제62/031,856호, 2014년 11월 4일에 출원된 미국 특허출원 제62/074,838호, 및 2015년 4월 14일에 출원된 미국 특허출원 제62/147,289호의 우선권을 주장하며, 이의 전체적인 내용은 여기에 참조로서 병합된다.
본 개시는 개선된 열적으로 컨디셔닝된 (강화된 또는 템퍼링된) 유리, 특히 유리 시트, 및 유리, 특히 유리 시트의 열 강화를 위한 개선된 방법 및 장치에 관한 것이다.
유리 시트의 열적 (또는 "물리적 (physical)") 강화에서, 유리 시트는 유리의 유리 전이 온도보다 높은 온도로 가열된 후, 시트의 표면은 급히 냉각 ("켄칭 (quench)")되고, 반면에 시트의 내부 영역은, 유리의 매우 낮은 열 전도율 및 두께에 의해 절연되어서, 더 낮은 속도로 냉각된다. 이 차별 냉각은, 유리의 중심 영역에서 잔류 인장 응력과 균형을 이루는, 잔류 압축 응력을 유리 표면 영역에서 생성한다. 이것은 유리의 화학적 강화와 구별되는데, 화학적 강화에서 표면 압축 응력은 이온 확산과 같은 것에 의해서 중심에 비하여 표면과 더 가까운 영역에서 유리의 화학적 조성을 변화시킴으로써 생성된다. 이것은 상이한 열팽창 계수를 갖는 유리 조성물들의 고온 층들을 서로 조합하거나 또는 적층하는 유리 강화와 또한 구별되는데, 낮은 팽창 층들은 일반적으로 가장 바깥쪽에 있고, 주변 온도로 복귀시 표면 압축 응력을 야기한다. 화학적 강화 및 적층과 비교하여, 열적 강화 공정은 일반적으로 더 저렴하고 더 빨리 수행된다.
열적으로 강화된 유리는 강화되지 않은 유리와 비교하여 장점을 갖는다. 강화된 유리의 표면 압축은 강화되지 않은 유리보다 파괴에 대하여 더 큰 저항을 제공한다. 강도 (strength)의 증가는 일반적으로 표면 압축의 양에 비례한다. 시트가 두께에 비해 충분한 수준의 열 강화를 보유한다면, 시트가 깨질 때 및 깨진다면, 날카로운 모서리를 갖는 크거나 또는 길쭉한 파편보다는 둔한 모서리를 갖는 작은 파편으로 나뉘어질 것이다. 충분히 작은 파편으로, 또는 여러 확립된 표준에 의해 정의된 "다이스 (dices)"로 깨지는 유리는 안전 유리, 또는 "완전히 템퍼링된" 유리, 또는 때로는 간단히 "템퍼링된" 유리라고 알려져 있을 수 있다.
강화의 정도는 유리 시트의 표면 및 중심 사이의 온도 차이에 의존하기 때문에, 얇은 유리일 수록 소정의 응력을 달성하기 위해 더 높은 냉각 속도를 필요로 한다. 또한, 더 얇은 유리일수록 깨질 때 작은 입자들로 다이싱 (dicing)하는 것을 달성하기 위해 표면 압축 응력 및 중심 인장의 더 높은 최종값을 필요로 한다.
따라서, 약 3 mm 이하 시트 두께를 갖는 유리에서, 완전 템퍼링 (다이싱)을 달성하는 것은 불가능하지는 않더라도 매우 힘든 일이었다.
본 개시는, 바람직하게는 가스만으로 유리를 접촉시키면서, 또한 공정의 전력 요건을 감소시키면서, 유리의 대류 가스 열 강화 기술의 현재 상태를 초과하여 과거에 달성되지 않았던 두께에서 유리 시트의 열 강화의 놀라울 정도의 높은 수준을 달성하는 장치, 공정 방법 및 고도로 강화된 얇은 유리 시트에 부분적으로 관한 것이다. 개시된 장치 및 방법은 적어도 0.1 mm 만큼 얇은 것에까지의 두께를 갖는 유리 시트에서, "완전 템퍼링 (full temper)" 또는 다이싱 거동까지를 포함하는 열 강화를 가능하게 한다.
도 1 (종래 기술)은 유리 두께의 함수로서 "완전 템퍼링 (full tempering)"에 필요한 송풍기 전력의 그래프이다.
도 2 (종래 기술)는 이전의 공정 또는 기계 (O) 및 새로운 공정 또는 기계 (N)에 대하여 유리 두께의 함수로서 "완전 템퍼링 (full tempering)"에 필요한 송풍기 전력의 그래프이다.
도 3 (종래 기술)은 도 1의 그래프 상에 중첩되고, 맞추도록 스케일된 도 2의 이전의 곡선 (O) 및 새로운 곡선 (N)의 그래프이다.
도 4는 본 개시의 하나 이상의 구체예에 따른 열적으로 강화된 유리 시트의 개략적인 부분 단면도이다.
도 5는 본 개시의 방법 및 장치의 하나 이상의 구체예에 의해 얻어진 가상 (fictive) 온도에 대한 무-차원적 표면 가상 온도 파라미터 (θs)의 그래프이다.
도 6은 상이한 유리 조성물들에 대하여 모사에 의해 계산된 표면 압축 응력의 그래프로서, 나타낸 다양한 조성물을 위해, 제안된 템퍼링가능성 (temperability) 파라미터 (Ψ)에 대하여 도시된다.
도 7 및 8은 열 전달 계수 (h)의 함수로서, 두 파라미터 P1 및 P2의 그래프이다.
도 9는 밀리미터로 나타낸 유리 시트의 두께의 함수인 MPa로 나타낸 유리 시트의 표면 압축의 그래프서, 본 개시의 장치 및 방법의 하나 이상의 구체예에 의해 새롭게 공개된 성능의 영역을 나타낸다.
도 10은 본 개시의 템퍼링된 유리 시트의 선택된 실시예에 대하여 도시된, 두께의 함수로서 압축 응력을 나타내는 그래프이다.
도 11은 본 개시에 따른 방법의 몇몇 관점들을 예시하는 흐름도이다.
도 12는 본 개시에 따른 다른 방법의 몇몇 관점들을 예시하는 흐름도이다.
도 13a는 종래 기술과 대조되는, 본 개시의 방법, 장치 및 공정이 작동을 허용하는 영역을 나타내도록 표시된 영역 R 및 지점 A, B, A' 및 B'을 갖는 도 3의 그래프이다.
도 13b는 도 12의 감소된 크기의 복사본에 인접하게 나타낸 (및 스케일에 비례하여 위치된) 도 13a의 영역 R 및 지점 A, B, A' 및 B'의 또 다른 묘사이다.
도 14 (종래 기술)는 유리 두께의 함수로서 템퍼링에 필요한 요구되는 열 전달 계수의 그래프이다.
도 15는 본 개시에 따른 대류에 의해서 보다는 전도에 의해서 냉각되는 유리 시트의 개략적인 단면도이다.
도 16은 본 개시에 따른 실험 장치의 개략적인 단면도이다.
도 17a는 도 16의 장치와 유사한 장치의 또 다른 구체예의 절취 사시도이다.
도 17b는 도 17a의 삽입된 특징의 대안적 구체예의 절취 사시도이다.
도 17c는 도 17a의 삽입된 특징의 또 다른 대안적 구체예의 절취 사시도이다.
도 18은 본 개시에 따른 또 다른 방법의 몇몇 관점들을 예시하는 흐름도이다.
유리를 열적으로 강화하고 열적으로 강화된 시트 자체를 결과하기 위한 방법 및 장치에서 유리를 열 가공하는데 있어서 개선이 필요하다. 예를 들어, 휴대용 전자기기에서 더 얇고 그러나 더 강한 광학-품질의 유리 시트 물질 및 그러한 유리 시트를 포함하는 제품에 대한 요구가 있다. 유리는 압축에서 매우 강하지만, 표면에서 인장에 대하여 상대적으로 약하다. 시트의 표면에서 압축을 제공하고, 노출된 표면이 없는 중앙의 인장에 의해 균형을 이룸으로써, 유리 시트의 유용한 강도가 극적으로 증가된다. 그러나, 열 강화는 일반적으로 대체 강화 방법에 비해 저렴하고 빠르지만, 얇은, 예를 들어, 2-3 mm 이하 유리 시트를 강화하는데 사용될 수 있는 능력에 한계를 겪고 있는데, 왜냐하면, 강화의 수준이 유리 시트의 표면 및 중심 사이의 온도 차이에 의존하고, 얇은 유리 시트의 표면 및 중심 사이에서 상당한 차이를 얻기 어렵기 때문이다. 본 개시는 고도로 강화된 얇은 유리 시트를 제조하기 위해 열 강화를 이용하는 개선된 방법 및 장치를 제공한다. 상기 방법 및 장치는 현재 공정의 한계를 해결하여, 약 3 mm 미만, 2 mm 미만, 1.5 mm 미만, 1.0 mm 미만, 0.5 mm 미만, 약 0.25 mm 미만, 및 약 0.1 mm 미만의 두께를 갖는 유리 시트에서 높은 강화 수준을 허용한다.
유리를 열적으로 강화하기 위한 표준 산업 공정은 소정의 온도로 복사 에너지 로 (furnace) 또는 대류 로 (또는 두 기술 모두를 사용하는 "조합된 모드 (combined mode)")에서 유리 시트를 가열하는 단계, 그 다음 일반적으로 유리 표면에 대하여 또는 유리 표면을 따라 다량의 주변 공기를 불어주는 형태로 가스 냉각 ("켄칭 (quenching)")하는 단계를 포함한다. 이 가스 냉각 공정은 대부분 대류작용이고, 이에 의해 열 전달은 확산 및 이류를 통해 유체의 질량 운동 (집단 운동)에 의해 이루어지며, 가스는 고온 유리 시트로부터 멀리 열을 운반한다.
어떤 요인들은 유리 시트에서 가능한 강화의 양을 제한할 수 있다. 한정사항들이 부분적으로 존재할 수 있는데, 왜냐하면 마감된 시트 상에서 압축 응력의 양은 켄칭 동안 달성된 시트의 표면 및 중심 사이의 온도 차이의 크기에 직접적으로 관련되기 때문이다. 그러나, 켄칭 동안 온도 차이가 클수록, 유리는 더 쉽게 깨진다. 주어진 냉각 속도에 대하여, 시트의 더 높은 초기 온도로부터 켄칭을 시작함으로써 깨짐은 감소될 수 있다. 또한, 더 높은 시작 온도는 더 높은 냉각 속도의 완전 강화 포텐셜을 달성하는데 필요하다고 알려져 있다. 그러나, 켄칭의 시작시에 시트의 온도를 증가시키는 것은 시트가 더 연화되고, 다시 실질적으로 달성가능한 온도 차이를 한정하기 때문에 시트의 과도한 변형을 야기할 수 있다.
시트 두께는 또한 켄칭 동안 달성 가능한 온도 차이에 상당한 제한을 부과한다. 시트가 얇을수록 켄칭 동안 주어진 냉각 속도에 대하여 표면 및 중심 사이의 온도 차이가 더 낮아지는데, 왜냐하면 표면으로부터 중심을 단열시키기 위한 유리의 두께가 더 작기 때문이다. 따라서, 얇은 유리의 열 강화는 더 높은 냉각 속도를 필요로 하고, 따라서 유리의 외부 표면으로부터 열의 더 빠른 제거가 필요하며, 상당한 에너지 소비가 필요하다. 도 1은 지난 약 35년의 산업 표준 열 강화 공정에 기초하여, 밀리미터의 유리 두께의 함수로서, 소다 석회 유리 (soda lime glass, "SLG")를 "완전 템퍼링 (fully temper)"하기 위해 충분한 주변 공기를 불어주도록 사용된 공기 송풍기에 필요한 유리 시트 면적의 제곱 미터 당 킬로와트로 나타낸 전력을 나타낸다. 필요한 전력은 사용되는 유리가 더 얇아질수록 기하급수적으로 증가하고, 따라서 약 3 mm 두께의 유리 시트는 수년 동안 활용가능한 가장 얇은 완전 경화된 상용 유리였다. 또한, 시트가 얇을수록, 유리의 주어진 연성 (softness)에서 (즉, 주어진 점도에서) 변형의 가능성이 더 커진다. 그러므로, 두께를 감소시키는 것은 달성 가능한 온도 차이를 직접적으로 감소시키고, 시트의 변형의 위험이 증가하기 때문에, 더 높은 냉각 속도의 완전한 이점을 달성하기 위하여, 및 더 높은 냉각 속도에 의해 야기되는 유리 깨짐을 방지하기 위하여 더 높은 시트 온도를 사용하는 기회를 감소시키는 경향이 있다.
좀 더 최근에, 도 2 (종래 기술)의 성능 곡선은 최첨단 유리 열 강화 장치를 사용하여 공개되었다. 이 개선된 장치는 종래 공기가 송풍된 대류 공정을 계속 사용하여 유리를 냉각시키지만, 가열하는 동안 유리를 지지하도록 사용된 롤러를 가열의 적어도 마지막 단계 동안 유리를 지지하도록 공기를 사용하는 시스템으로 교체한다. 롤러 접촉 없이, 유리는 켄칭 전에 더 높은 온도로 (및 더 높은 연성 / 더 낮은 점도)로 가열될 수 있고, 2 mm 두께에서 완전 템퍼링된 유리의 생산을 허용한다고 보고되고 있다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 2 mm 두께 시트를 강화하는데 필요한 보고된 송풍기 전력은, 롤러 (곡선 O)을 사용하는 것과 비교하여 유리를 지지하도록 공기를 사용하는 것 (곡선 N)에 의해서 사용 가능한 높은 온도에서, 1200 kW/m2으로부터 400 kW/m2 으로 감소된다.
비록 그것은 완전 템퍼링된 2 mm 유리를 생산할 수 있는 진보를 나타내지만, 도 1의 스케일에 맞도록 도 2의 종전 및 새로운 곡선 (O 및 N)을 스케일링하면, 도 3 (종래 기술)에서 나타낸 바와 같이, 새로운 공정에 의한 성능에서의 개선은 비교적 작고, 에너지의 이전의 이해에 있어서 단순히 점진적 변화가 유리 시트의 대류 강화에서 필요하다는 것을 나타낸다. 도 3에서, 도 2의 종전 및 새로운 곡선 (O 및 N)은 도 1의 그래프와 맞도록 스케일되고,(새로운 곡선 (N)을 좀더 쉽게 보기 위하여 240 kW/m2에서 종전 곡선 (O)를 상부에서 절단하여) 그 위에 중첩된다. 도 3으로부터, 곡선 (N)으로 나타내는 기술은 얇은 유리 측을 향해 대류적 가스 켄칭 공정의 성능 곡선을 단지 약간 변화시킨다는 것이 분명하다. 높은 작동점 (2 mm 유리를 위한 400 kW/m2의 송풍기 전력)은 이 방법에 의해 더 얇은 유리를 가공하기 위해 여전히 필요한 전력에서의 극단적인 증가를 나타낸다. 공기흐름에서 급격한 증가 및, 따라서 필요한 전력은, 공학적 실행 및 경제성 모두의 문제로서, 종래의 대류적 가스 강화 방법을 사용하여 완전 템퍼링된 유리를 생산하면서, 2 mm 두께 밑으로 가는데 어려움이 있다는 것을 암시한다. 또한, 필요한 매우 높은 공기흐름은 더 얇은 시트의 형상을 변형시킬 수 있다. 따라서, 2 mm 미만의 두께를 갖는 유리의 완전 템퍼링에 도달하기 위해서, 또는 소다 석회 유리의 것보다 더 낮은 열 팽창 계수 (coefficients of thermal expansion,"CTE")를 갖는 유리의 2 mm에서 완전 템퍼링에 도달하기 위해서는, 또 다른 방법이 필요하다.
현재 상업적 대류적 가스 강화를 대체하는 방법들이 또한 시도되고 있으나, 각각은 대류적 가스 강화에 비해 어떤 단점들을 갖고 있다. 특히, 더 높은 냉각 속도를 달성하는 방법은 시트 표면과 오직 가스만이 아니라 적어도 약간의 액체 또는 고체 접촉을 일반적으로 필요로 한다. 아래에서 좀더 상세히 설명하는 바와 같이, 유리 시트와의 이런 접촉은 유리 표면 품질, 유리 평탄도, 및/또는 강화 공정의 균등성에 악영향을 줄 수 있다. 이러한 결함은 때때로 인간의 눈으로, 특히 반사광에서 볼 때 감지될 수 있다.
액체 접촉 강화는, 액체 욕 또는 유동하는 액체에서 침지시키는 형태에서 뿐만 아니라 분무하는 형태에서, 대류적 가스 강화보다 더 높은 냉각 속도를 달성하는데 사용되어 왔지만, 냉각 공정 동안 시트 전체에 과도한 열 변화를 일으키는 단점이 있다. 침지 또는 침지-유사 분무 또는 액체의 유동에서, 작은 영역에 걸쳐 큰 열 변화는 액체 욕 또는 액체 흐름 내에서 자발적으로 일어나는 대류에 기인하여 발생할 수 있다. 더 미세한 분무에서, 이산 (discrete) 분무 액적 및 노즐 스프레이 패턴은 상당한 열 변화를 또한 생산한다. 과도한 열 변화는 열 강화 동안 액체 접촉에 의해 유리 깨짐을 발생시키는 경향이 있고, 냉각 속도 및 달성될 수 있는 결과적인 강도를 제한한다. 시트의 필요한 취급 (액체 욕 또는 액체 흐름 또는 액체 분무 내에 위치시키거나 또는 유지시키는 것)은 시트와 물리적 접촉으로부터 물리적 스트레스 및 과도한 열 변화를 또한 발생시키고, 강화 동안 깨짐을 발생시키는 경향이 또한 있고, 냉각 속도 및 결과적인 강도를 제한한다. 마지막으로, 오일 침지에 의한 고 냉각 속도 켄칭 및 다양한 분무 기술들과 같은 몇몇 액체 냉각 방법은 이러한 냉각 동안 유리 표면을 변경시킬 수 있어서, 만족스러운 마무리를 생성시키기 위해 시트 표면으로부터 유리 물질을 나중에 제거하는 것이 필요하다.
고체 접촉 열 강화는 고온 유리의 표면을 더 저온인 고체 표면과 접촉시키는 단계를 포함한다. 액체 접촉 강화와 마찬가지로, 액체 접촉 강화에서 본 것과 같은 과도한 열 변화는 켄칭 공정 동안 쉽게 발생할 수 있다. 유리 시트의 표면 마감에서, 또는 표면을 켄칭하는 단계에서, 또는 시트 두께의 일관성에서 어떤 불완전함은 시트의 일부 영역에 걸쳐 불완전한 접촉을 결과하고, 가공 동안 유리를 깨뜨리는 경향이 있는 큰 열 변화를 야기하고, 시트가 남아있는다면 원하지 않는 복굴절을 결과한다. 추가적으로, 고온 유리 시트를 고체 물체와 접촉시키는 것은 칩, 체크무늬 (checks), 균열, 스크래치 등과 같은 표면 결함의 형성을 초래할 수 있다. 또한, 시트의 표면의 전체에 걸쳐 좋은 접촉을 달성하는 것은 시트의 치수가 증가함에 따라 증가하는 어려움일 수 있다. 또한, 고체 표면과 물리적 접촉은 켄칭 동안 시트에 기계적으로 스트레스를 줄 수 있고, 공정 동안 시트를 깨뜨릴 가능성을 높인다. 또한, 접촉의 개시에서 극도로 높은 속도의 온도 변화는 시트 가공 동안 파손을 야기할 수 있고, 따라서 얇은 유리 기판의 접촉 냉각은 상업적으로 실행 가능하지 않았다.
본 개시는 전술한 종래의 공정을 능가하여, 유리의 표면을 손상시키지 않고, 복굴절이나 또는 불균등한 강화를 유도하지 않고, 또는 용인할 수 없는 파손을 야기하지 않고, 효과적으로, 효율적으로, 및 균등하게 상업적 규모에서 얇은 유리 시트를 열적으로 강화한다. 통상적으로 대류 가스 유리 강화에서, 냉각의 더 높은 속도는, 공기 흐름의 속도를 증가시키고, 유리 시트 표면에 대한 공기 노즐 개구의 거리를 감소시키고, 유리의 온도를 (냉각 시작시에) 증가시키고, 선택적으로 냉각 공기의 온도를 감소시킴으로써 달성된다.
이전에 얻을 수 없었던 유리 시트는 여기에 개시된 하나 이상의 구체예에 의해 생산될 수 있다. 이것은 유리를 물리적으로 잘 제어하고, 부드럽게 처리하여, 정밀한 방식으로 매우 높은 열 전달 속도를 제공한 결과이다. 작은-갭 가스 베어링에서 (형태 및) 평탄도 (flatness)의 제어는 냉각의 시작시에 더 높은 상대적 온도에서 시트를 가공하는 것을 허용하여 더 높은 열 강화 수준을 결과한다. 아래에서 기재하는 바와 같이, 결과는 고유한 특성을 갖는 유리 시트이다.
본 개시에 따른 방법 및/또는 장치에 의해 처리된 유리 시트의 몇몇 구체예는 이전에 알려진 것보다 더 높은 수준의 영구적인 열적으로 유도된 응력을 갖는다. 이론에 구속되기를 바라지 않고, 이것은 상기 열적으로 유도된 응력의 달성된 수준이 여러 이유들의 조합 때문에 얻어질 수 있다고 믿어진다. 여기에서 설명된 공정에서 열 전달의 고 균일성은 유리에서 물리적 및 원하지 않는 열 응력을 감소시키거나 또는 제거하고, 파손 없이 더 높은 열 전달 속도에서 유리 시트가 템퍼링되는 것을 허용한다. 또한, 본 방법은 더 낮은 유리 시트 점도 (켄칭 시작시에 더 높은 초기 온도)에 수행될 수 있으면서, 여전히 원하는 (형태 및) 평탄도를 보존하고, 이것은 냉각 공정에서 온도에서의 훨씬 더 큰 변화를 제공하는 것이며, 따라서 열 강화 수준을 증가시키는 것이 달성된다.
제1 구체예는 고 표면 압축 응력 또는 고 중심 인장을 갖는 열적으로 강화된 유리 시트를 포함한다. 도 4는 하나 이상의 구체예에 따른 열적으로 강화된 유리 시트 (500)의 개략적인 부분 단면도이다. 유리 시트 (500)는 두께 (t) 및 두께 (t)에 의해 분리된 제1 및 제2 주 표면 (510, 520)을 갖는다. 또한, 유리 시트 (500)는 길이 (l) 및 너비 (w)을 포함한다. 예시적인 구체예에 있어서, 유리 시트 (500)의 두께 (t)는 유리 시트 (500)의 길이 (l)보다 작다. 다른 예시적인 구체예에 있어서, 유리 시트 (500)의 두께 (t)는 유리 시트 (500)의 너비 (w)보다 작다. 또 다른 예시적인 구체예에 있어서, 유리 시트 (500)의 두께 (t)는 유리 시트 (500)의 길이 (l) 및 너비 (w)보다 작다. 유리 시트 (500)는 제 1 및 제2 주 표면 (510, 520) 에서 및/또는 근처에서 영구적인 열적으로 유도된 압축 응력 (530 및 540)의 영역을 더욱 갖고, 이것은 시트의 중심 부분에서 영구적인 열적으로 유도된 중심 인장 응력 (550) (즉, 장력)의 영역과 균형을 이룬다.
여기에 개시된 공정으로부터 결과하는 유리의 압축 응력은 유리의 두께의 함수로서 변할 수 있다. 구체예에 있어서, 3 mm 이하의 두께를 갖는 유리는 80 MPa, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa, 적어도 300 MPa, 적어도 350 MPa, 적어도 400 MPa, 및/또는 1 GPa 이하의 압축 응력을 갖는다. 고려된 구체예에 있어서, 2 mm 이하의 두께를 갖는 유리는 적어도 80 MPa, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 175 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa, 적어도 300 MPa, 적어도 350 MPa, 적어도 400 MPa, 및/또는 1 GPa 이하의 압축 응력을 갖는다. 고려된 구체예에 있어서, 1.5 mm 이하의 두께를 갖는 유리는 적어도 80 MPa, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 175 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa, 적어도 300 MPa, 적어도 350 MPa, 및/또는 1 GPa 이하의 압축 응력을 갖는다. 고려된 구체예에 있어서, 1 mm 이하의 두께를 갖는 유리는 적어도 80 MPa, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 175 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa, 적어도 300 MPa, 및/또는 1 GPa 이하의 압축 응력을 갖는다. 고려된 구체예에 있어서, 0.5 mm 이하의 두께를 갖는 유리는 적어도 50 MPa, 적어도 80 MPa, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 175 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa, 및/또는 1 GPa 이하의 압축 응력을 갖는다.
몇몇 구체예에 있어서, 열적으로 유도된 중심 인장은 40 MPa 초과, 또는 50 MPa 초과, 또는 75 MPa 초과, 또는 100 MPa 초과일 수 있다. 다른 구체예에 있어서, 열적으로 유도된 중심 인장은 300 MPa 미만, 또는 400 MPa 미만일 수 있다. 열적으로 유도된 중심 인장은 약 50 MPa 내지 약 300 MPa, 약 60 MPa 내지 약 200 MPa, 약 70 MPa 내지 약 150 MPa, 또는 약 80 MPa 내지 약 140 MPa일 수 있다.
충분한 에너지가 인장 응력 (550)의 영역에 저장되면, 유리는 충분히 손상될 때, 안전 유리 또는 "다이스 (dice)"처럼 깨질 것이다. 여기서 사용된 바와 같이, 25 cm2 유리 시트의 면적이 깨질 때, 유리 시트는 40 이상의 조각으로 다이싱된다고 여겨진다. 몇몇 구체예에 있어서, 다이싱은 유리 시트가 "완전 템퍼링"된 것을 보여주는 정성적 측정으로서 사용된다 (즉, 2 mm 이상 두꺼운 유리에 대하여, 여기서 유리 시트는 적어도 65 MPa의 압축 응력 또는 적어도 67 MPa의 에지 압축을 갖는다).
또 다른 관점은 고 가상 온도 및 증가된 손상 저항을 갖는 열적으로 강화된 유리 시트를 포함한다. 표면 가상 온도는 시차 주사 열량 측정법, 브리유앵 (Brillouin) 분광법, 또는 라만 (Raman) 분광법을 포함하는 임의의 적합한 방법에 의해 결정될 수 있다.
표면 가상 온도를 결정하는 몇몇 방법에서, 가상 온도를 합리적으로 정확하게 측정하기 위해서, 열 강화 공정에 의해 유도된 "템퍼링 응력"을 완화하기 위해 유리를 깨뜨리는 것이 필요할 수 있다. 라만 분광법에 의해 측정된 특징적 구조 밴드는 가상 온도 및 실리케이트 유리에서 적용된 응력 모두에 대해서 제어된 방식으로 시프트한다고 잘 알려져 있다. 이 시프트는, 만약 템퍼링 응력이 알려진다면, 열적으로 강화된 유리 시트의 가상 온도를 비-파괴적으로 측정하는데 사용될 수 있다.
실리카 유리의 라만 스펙트럼에 대한 응력 효과는 디.알. 탈란트 (D.R. Tallant), 티.에이. 미칼스케 (T.A. Michalske), 및 더블유.엘.스미스, "The effects of tensile stress on the Raman spectrum of silica glass," J. Non-Cryst. Solids, 106 380-383 (1988)에서 보고된다. 65 wt% 실리카 이상의 상업적 유리는 실질적으로 동일한 응답을 갖는다. 보고된 응력 응답은 단축 (uniaxial) 응력에 대한 것이지만, 템퍼링된 유리에서 관찰되는 것, σxx = σy 와 같은 단양축 (unibiaxial) 응력 상태의 경우에서, 피크는 단축 응력에 의해 예측되는 것의 두배 만큼 시프트할 것이라고 예측될 수 있다. 소다-석회 유리에서 및 유리 2 유리에서 1090 cm-1 부근의 피크는 실리카 유리에서 관찰되는 1050 cm-1 피크에 대응된다. 실리카에서 1050 피크에 대하여, 및 SLG 및 다른 실리케이트 유리에서 대응하는 피크에 대하여, 응력의 효과는 MPa로 나타내는 응력 σ의 함수로서, a) ω(cm-1) = 1054.93 - 0.00232·σ에 의하여 나타낼 수 있다.
캘리브레이션 곡선은 SLG 및 또 다른 유리, 유리 2에 대한 가상 온도의 함수로서 라만 밴드 위치로부터 생성되었다. 유리 샘플은 다양한 시간 동안, τ = 10*η/G 로 계산된 구조적 완화 시간보다 2-3배 더 길게 열-처리되었고, 여기서 η는 점도이고, G는 전단 모듈러스이다. 열-처리 후, 유리는 열-처리 온도에서 가상 온도를 동결하기 위해 물에서 켄칭되었다. 그 다음, 유리 표면은 442 nm 레이저, 10-30 s 노출 시간, 및 100% 파워를 사용하여, 200-1800 cm-1 영역에 걸쳐, 1-2 ㎛ 스팟 크기 및 50x 배율에서, 마이크로 라만에 의해 측정되었다. 1000-1200 cm-1에서 피크의 위치는 이 경우 Renishaw WiRE 버전 4.1 컴퓨터 소프트웨어를 사용하여 맞춰졌다 (fit). 가상 온도 Tf (℃)의 함수로서 공기 측 위의 SLG에서 측정된 1090 cm-1 라만 피크의 좋은 맞춤 (fit)은 b) ω(cm-1) = 1110.66 - 0.0282·Tf에 의해 주어진다. 유리 2에 대하여, 좋은 맞춤은 c) ω(cm-1) = 1102.00 - 0.0231·Tf에 의해 주어진다.
식 a), b), 및 c)로 설정된 관계를 사용하여, 표면 압축 응력에 기인한 보정 인자로, 측정된 라만 피크 위치의 함수로서 유리의 가상 온도를 표현하는 것이 가능하다.
100 MPa의 압축 응력, σc는 가상 온도에서 근사적으로 15 내지 20 ℃ 감소(reduction)에 해당하는 라만 밴드 위치를 이동시킨다. 다음 식은 SLG에 적용할 수 있다:
Figure 112017020043382-pct00001
다음 식은 유리 2에 적용할 수 있다:
Figure 112017020043382-pct00002
이들 식에서, ω는 1090 cm-1 부근의 피크에 대해 측정된 피크 파수(wavenumber)이고, σc는 임의의 적절한 기술에 의해 측정된 표면 압축 응력이며, ℃로 나타낸 가상 온도의 응력-보정된 측정을 산출한다.
증가된 손상 저항을 증명하기 위해, 4개의 유리 시트 샘플이 준비되었는 데, 종래의 템퍼링 방법에 의해 약 70 및 110 MPa 표면 압축 응력 (compressive stress, CS)에 대하여 2개의 6 mm 소다 석회 유리 (soda lime glass, SLG) 시트, 여기에 개시된 방법 및 장치에 의해 약 동일 수준의 CS에 대하여 2개의 1.1 mm SLG가 준비되었다. 2개의 추가적인 시트, 각각의 두께 중 하나는 대조구로 사용되었다. 각각의 테스트 시트의 표면은 표준 비커스 압입 (Vickers indentation)을 받았다. 다양한 수준의 힘이 각각 15 초 동안 적용되었고, 24 시간 대기 후에, 압입이 각각 검사되었다. 표 1에서 나타낸 바와 같이, 50% 균열 임계치 (균열이 개시되는 경향이 있는 압자의 4 점 중 균열이 나타나는 평균 개수인 2 점에서 하중으로 정의됨)가 각각의 샘플에 대하여 결정되었다.
이 표는, 종래의 대류 가스 템퍼링 (6 mm 시트에서 반영됨)에 의해 가공된 SLG에 대한 비커스 균열 개시 임계치는 0 및 1 뉴톤 사이로부터 약 1 내지 2 뉴톤 미만으로 상승하는, 어닐링된 또는 막-배달된 (as-delivered) SLG 시트에 대한 것과 실질적으로 동일하다는 것을 보여준다. 이것은 종래의 템퍼링에 의해 제공된 유리 전이 온도 (η=1012-13.3 Poise로 정의된, SLG의 경우 Tg= 550 ℃)에 비해 ~25 내지 35 ℃의 표면 가상 온도 (Tfs 또는 Tfsurface)에서 상대적으로 완만하게 상승하는 것과 관련있다. 대조적으로, 본 방법 및 장치를 사용하여 템퍼링함으로써, 비커스 균열 개시 임계 값은 10 N 초과로 개선되고, 종래의 템퍼링에 의해 부여된 비커스 손상 저항보다 10 배 증가한다. 구체화된 유리에서, Tfs 빼기 Tg는 적어도 50 ℃, 또는 적어도 75 ℃, 또는 적어도 90 ℃, 또는 약 75 ℃ 내지 100 ℃ 범위였다. 심지어 더 낮은 수준의 열 강화를 포함하는 구체예에서도, 구체화된 유리는 예를 들어, 5 N과 같은 수준에서 증가된 저항을 여전히 제공할 수 있다. 어떤 고려된 구체예에 있어서, 15 초 비커스 균열 개시 테스트 후의 50% 균열 임계치는 5 N, 10N, 20N, 또는 30 N 이상일 수 있다.
표 I
샘플 두께 (mm) CS
(MPa)
표면 Tf (℃) 균열 임계치 (N)
대조구 1.1 어닐링 ~Tg (550) 0 - 1
대조구 6 어닐링 ~Tg (550) 0 - 1
얇은 저 강도 1.1 -72 626 10 - 20
두꺼운 저 강도 6 -66 575 1 - 2
얇은 중간 강도 1.1 -106 642 10 - 20
두꺼운 중간 강도 6 -114 586 1 - 2
다음 무-차원 가상 온도 파라미터 θ는 생성된 가상 온도 관점에서 열 강화 공정의 상대적 성능을 비교하는데 사용될 수 있다. 이 경우에서 표면 가상 온도 (θs) 관점에서 다음과 같이 주어진다:
θs = (Tfs- Tanneal)/(Tsoft - Tanneal) (3)
여기서, Tfs는 표면 가상 온도이고, Tanneal (η=1013.2 Poise의 점도에서 유리의 온도)는 어닐링점이고,Tsoft (η=107.6 Poise의 점도에서 유리의 온도)는 시트의 유리의 연화점이다. 도 5는 두 개의 다른 유리에 대해 열 강화 동안 적용된 열 전달 속도 (h)의 함수로서 측정된 표면 가상 온도에 대한 θs의 그래프이다. 도면에서 보는 바와 같이, 두 개의 다른 유리들에 대한 결과는 서로 상당히 밀접하게 겹쳐있다. 이것은 파라미터 (θ)가 유리를 생산하는데 필요한 열 전달 속도 (h)와 관련하여, 직접적으로 비교되는 다른 유리들의 가상 온도를 비교하는 수단을 제공한다는 것을 의미한다. 각 h에서의 결과의 수직 범위는 켄칭의 시작시에서 초기 온도인 T0의 값에서의 변화에 대응한다. 구체예들에 있어서, 파라미터 θs는 약 0.2 내지 약 0.9, 또는 약 0.21 내지 약 0.09, 또는 약 0.22 내지 약 0.09, 또는 약 0.23 내지 약 0.09, 또는 약 0.24 내지 약 0.09, 또는 약 0.25 내지 약 0.09, 또는 약 0.30 내지 약 0.09, 또는 약 0.40 내지 약 0.09, 또는 약 0.5 내지 약 0.9, 또는 약 0.51 내지 약 0.9, 또는 약 0.52 내지 약 0.9, 또는 약 0.53 내지 약 0.9, 또는 약 0.54 내지 약 0.9, 또는 약 0.54 내지 약 0.9, 또는 약 0.55 내지 약 0.9, 또는 약 0.6 내지 약 0.9, 또는 심지어 약 0.65 내지 약 0.9를 포함한다.
다른 관점은 고 템퍼링가능성 (temperability) 및/또는 열 전달값을 갖는 열적으로 강화된 유리 시트를 포함한다. 유리의 "비열 응력 (specific thermal stress)"은 다음과 같이 주어진다:
Figure 112017020043382-pct00003
여기서, α는 유리의 (저온 선형) CTE이고, E는 탄성 계수 (modulus)이고 μ는 푸아송 비 (Poisson's ratio)이다. 이 값은 온도 구배를 받을 때, 주어진 유리 조성물 내에서 생성된 응력의 수준을 나타내는데 사용된다. 그것은 열적 "템퍼링가능성 (temperability)" 추정치로 또한 사용될 수 있다. 그러나, 더 높은 열 전달 속도에서 (예를 들어, 약 800 W/m2K 이상에서), 유리의 고온 또는 "액상 (liquidus)" CTE는 템퍼링 성능에 영향을 주기 시작하고, 그러므로, 이런한 조건 하에서, 템퍼링가능성 파라미터 (Ψ)는, 점도 곡선 전체에 걸쳐 변하는 CTE 값에 걸쳐 통합의 근사에 기초하여, 유용하다는 것이 발견된다:
Figure 112017020043382-pct00004
여기서, αS CTE는 1/℃ (℃-1)로 표현되는 저온 선형 CTE (유리에 대한 0-300℃에서 평균 선팽창 계수에 해당)이고, αL CTE는 1/℃ (℃-1)로 표현되는 고온 선형 CTE (유리 전이 및 연화 점 탄성 모듈러스 사이의 어느 곳에서 일어나는 것이 관찰되는 고온 정체기 (plateau) 값에 해당)이고, E는 GPa (MPa가 아님)로 표현되는 유리의 탄성 모듈러스 (이것은 일반적으로 0 및 1 사이의 범위로 (무-차원) 파라미터 Ψ의 값을 허용함)이고, Tstrain는 ℃로 표현되는 유리의 변형 (strain)점 온도 (η=1014.7 Poise의 점도에서 유리의 온도)이고, Tsoft는 ℃로 표현되는 유리의 연화점 온도 (η=107.6 Poise의 점도에서 유리의 온도)이다.
열 강화 공정 및 결과하는 표면 압축 응력 템퍼링 파라미터 (Ψ)를 결정하기 위해 다양한 특성을 갖는 유리에 대해 모델링되었다. 유리는 108.2 Poise의 동일한 시작 점도에서 및 다양한 열 전달 계수에서 모델링되었다. 다양한 유리의 특성은 108.2 포이즈 (Poise)에서 각각의 유리에 대한 온도 및 각각에 대한 템퍼링가능성 파라미터 (Ψ)의 계산된 값과 함께 표 2에 나타나 있다.
유리 모듈러스 CTE 저 CTE 고 108.2 Poise ℃ 연화점 ℃ 변형점 ℃ Ψ
SLG 72 8.8 27.61 705 728 507 0.76
2 73.3 8.53 20.49 813 837 553 0.77
3 65.5 8.26 26 821 862 549 0.83
4 65 8.69 20.2 864 912 608 0.74
5 63.9 10.61 22 849 884 557 0.84
6 58.26 3.5 20.2 842 876 557 0.49
7 73.6 3.6 13.3 929 963 708 0.44
8 81.1 3.86 12.13 968 995 749 0.48
표 3의 결과는 Ψ가 유리의 열 강화 성능에 비례함을 나타낸다. 이 상관관계는 도 6에서 더욱 나타나고, 도 6은 높은 열 전달 속도 (2093 W/m2K (0.05 cal/s·cm2·℃)의 열 전달 계수) 및 단지 1mm의 유리 시트 두께에 대한 구체화된 실시예를 제공한다. 상기 도면에서 보는 바와 같이, 7 개의 다른 유리가 결과하는 압축 응력의 변화는 제안된 템퍼링가능성 파라미터 (Ψ)의 변화와 상관관계를 잘 보여준다.
다른 관점에 있어서, 임의의 주어진 열 전달 계수 (h) (cal/cm2·s·℃으로 표현) 값에서, 표면 압축 응력 (σCS, MPa로 표현) 대 두께 (t, mm로 표현)의 곡선은 (0 내지 6 mm의 t의 범위에 걸쳐서) 쌍곡선에 의해 맞을 수 있다는 것이 발견되고, 여기서 P1 및 P2 는 다음과 같이 h의 함수이고:
Figure 112017020043382-pct00005
또는 Ψ에 대한 표현을 대입하면, 압축 응력 σCS(Glass,h,t)의 곡선은 다음과 같이 주어지고:
Figure 112017020043382-pct00006
여기서, 위의 (6) 또는 (7)에서, 상수 P1, P2는 다음과 같이 주어진 열 전달 값 (h)의 연속 함수이다:
Figure 112017020043382-pct00007
Figure 112017020043382-pct00008
상수 P1, P2는 도 7 및 8에서 각각 h의 함수로서 그래프화 된다. 따라서, 상기 식 (6) 또는 (7)에서, 주어진 h에 대하여 P1의 값을 사용하고, 상기 동일한 h에 대하여 대응하는 P2를 사용함으로써, 곡선은, 두께 (t)의 함수로서, h에서 얻을 수 있는 표면 압축 응력 (CS)에 대응하면서 특정된다.
몇몇 구체예에 있어서, 특히 6mm 이하의 두께, 및 800 W/m2K 이상과 같은 열 전달 계수에서, 열적으로 강화된 유리 시트의 중심 인장 (CT)을 예측하기 위해, 동일한 전도 하에서 예측된 압축 응력을 2로 단순히 나눔으로써, 유사한 표현이 사용될 수 있다. 따라서, 예상되는 중심 인장은 다음과 같이 주어질 수 있다.
Figure 112017020043382-pct00009
여기서, P1CT 및 P2CT는 다음과 같이 주어진다:
Figure 112017020043382-pct00010
Figure 112017020043382-pct00011
몇몇 구체예에 있어서, h 및 hCT는 열 강화의 주어진 물리적 경우 (instance)에 대해 동일한 값을 가질 수 있다. 그러나, 몇몇 구체예에 있어서, 그들은 가변적일 수 있고, 개별 변수들을 제공하는 것 및 그들 사이에서 변화를 허용하는 것은 2:1 CS/CT의 통상적인 비가 유지되지 않는 설명하는 성능 곡선 경우 (instances) 내에서 캡처를 허용한다.
현재 개시된 공정 및 장치의 하나 이상의 구체예는 표 3에서 나타낸 모든 열 전달 속도 값들 (h 및 hCT)에서, 열적으로 강화된 SLG 시트를 생산한다.
표 4 (예시적 구체예에 따른 h 및 hCT 값)
cal/s·cm2·℃ W/m2K cal/s·cm2·℃ W/m2K cal/s·cm2·℃ W/m2K
0.010 418.68 0.042 1758.456 0.070 2930.76
0.013 544.284 0.045 1884.06 0.071 2972.628
0.018 753.624 0.047 1967.796 0.078 3265.704
0.019 795.492 0.048 2009.664 0.080 3349.44
0.020 837.36 0.049 2051.532 0.081 3391.308
0.021 879.228 0.050 2093.4 0.082 3433.176
0.022 921.096 0.051 2135.268 0.095 3977.46
0.023 962.964 0.052 2177.136 0.096 4019.328
0.027 1130.436 0.053 2219.004 0.102 4270.536
0.028 1172.304 0.054 2260.872 0.104 4354.272
0.029 1214.172 0.055 2302.74 0.105 4396.14
0.030 1256.04 0.060 2512.08 0.127 5317.236
0.031 1297.908 0.061 2553.948 0.144 6028.992
0.033 1381.644 0.062 2595.816 0.148 6196.464
0.034 1423.512 0.063 2637.684 0.149 6238.332
0.038 1590.984 0.065 2721.42 0.184 7703.712
0.040 1674.72 0.067 2805.156    
0.041 1716.588 0.069 2888.892    
몇몇 구체예에 있어서, 열 전달 속도 값 (h and hCT)는 약 0.024 내지 약 0.15, 약 0.026 내지 약 0.10, 또는 약 0.026 내지 약 0.075 cal/s·cm2·℃일 수 있다.
도 9는, 표 3에서 SLG에 대한 Ψ의 값에 대응하는 Ψ(SLG)를 갖는, 상기 식 6-9에 따른 h의 선택된 값들에 대한 C(h,t)·Ψ(SLG)의 그래프에 의해, 두께 t (mm로 표현)의 함수로서 MPa로 나타낸 유리 시트의 표면 압축의 새롭게 공개된 성능 공간을 나타낸다. GC로 표시된 자취는 0.02 cal/s·cm2·℃ (또는 840W/m2K) 내지 0.03cal/s·cm2·℃ (또는 1250 W/m2K)의 가스 대류 템퍼링에 의해 달성할 수 있는 SLG 시트의 두께에 대한 최대 응력의 추정된 범위를 나타내고, 이 수준의 열 전달 계수는 108.2 Poises의 가열된 유리 점도 또는 대류 가스 공정의 능력 이상인 온도인 약 704℃에서의 그 공정에서 사용될 수 있다고 가정한다.
가스 대류 템퍼링 공정에 기초하여 가장 높게 보고된 시트 CS의 실시예는 범례에서 Gas (가스)라고 표시된 삼각형 표식으로 나타낸다. 값 601은 상업적 장치의 광고된 제품 수행 능력을 나타내고, 반면에 값 602는 유리 가공 회의에서 구두 보고에 기초한다. LC로 표시된 자취는 열 전달 속도 h가 0.0625 cal/s·㎠·℃ (또는 약 2600 W/㎡K)로 주어진 액체 접촉 템퍼링에 의해 달성될 수 있는 것으로 예정되는 SLG 시트의 얇은 두께에 대하여 최대 응력의 곡선을 나타내고, 108.2 Poises의 초기 가열된 유리 점도 또는 약 704 ℃에서의 가공을 가정한다. 액체 접촉 템퍼링 공정에 기초하여 가장 높게 보고된 시트 CS 값의 실시예는 범례에서 액체 (Liquid)라고 표시된 원 표식에 의해 나타내어진다. 2 mm 두께에서의 두 값 중 더 높은 것은 보로실리케이트 (borosilicate) 유리 시트의 템퍼링의 보고서에 기초한 것이고, 달성된 응력은 스케일된 직접 비교를 위해 (ΨSLG)/(Ψborosilicate)에 의해 도면 (figure)을 위해 스케일되었다.
704로 표시된 자취는 0.20 cal/s·㎠·℃ (또는 약 8370 W/m2K)의 열 전달 속도 및 704℃의 초기 온도에서, 켄칭 단계 직전에 본 개시의 방법 및 장치의 하나 이상의 구체예에 의해 달성가능한 응력을 나타낸다. 그렇게 달성 가능한 유리 시트 상에서의 응력의 수준은 액체 템퍼링 강도 수준에 대해, 액체 템퍼링이 첨단 가스 대류 템퍼링에 대해 나타낸 것과, 거의 동일한 범주의 개선을 나타낸다. 그러나, 704 경계는 상한이 아니며, 구체예는 이 값 이상에서 실행가능한 것으로 나타났는데, 훨씬 더 높은 온도에서 (유리의 더 낮은 점도에서)의 작은-갭 가스 베어링 열 강화에서 달성가능한 형태 및 평탄도의 양호한 제어에 기인한다. 730으로 표시된 자취는 유리의 연화점 위에서 또는 바로 부근에서 730℃의 SLG 시트에 대한 시작 온도에서 0.20 cal/s·㎠·℃ (또는 약 8370 W/m2K)의 열 전달 속도에 의해 달성된 몇몇의 추가적인 강화 성능을 나타낸다. 압축 응력에서 및 따라서 유리 시트 강도에서의 현저한 개선은 타이트한 가스 베어링으로 시트 평탄도 및 형태의 양호한 취급 및 제어에 의해 가능해진 초기 온도의 사용 및 높은 열 전달 속도의 조합에 의해 특히 달성되고, 상기 개선은 2 mm 이하 두께에서 특히 두드러진다.
도 10은 2 mm 이하에서 전술한 도 9의 자취를 나타내지만, 본 개시의 하나 이상의 구체예에 의해 생산된 템퍼링된 유리 시트의 선택된 실시예에 대하여 두께의 함수로서 그래프화된 압축 응력을 포함하고, 본 개시에 의해 가능해진 열 강화 수준 및 얇은 두께의 극도의 조합을 나타낸다.
또 다른 구체예에 있어서, 여기서 개시된 열적으로 강화된 유리 시트는 높은 열 응력 및 낮고, 형성된대로의 (as-formed) 표면 거칠기의 모두를 갖는다. 여기서 개시된 공정 및 방법은 형성된대로의 표면의 표면 거칠기를 증가시키지 않고 유리 시트를 열적으로 강화시킬 수 있다. 예를 들어, 들어오는 플로트 유리 공기-측 표면, 및 들어오는 융합 형성된 유리 표면은 가공 전후에 원자력 현미경 (AFM)에 의해 특징지어진다. Ra 표면 거칠기는 들어오는 1.1 mm 소다 석회 플로트 유리에 대하여 1 nm 미만 (0.6-0.7 nm) 이었고, 본 공정에 따른 열 강화에 의해 증가되지 않았다. 유사하게, 융합 형성된 유리의 1.1 mm 시트에 대한 0.3 nm 미만 (0.2 - 0.3)의 Ra 표면 거칠기는 본 개시에 따른 열 강화에 의해 유지되었다. 따라서, 열적으로 강화된 유리 시트는 적어도 제1 표면에서 적어도 10 x 10 ㎛의 면적에 걸쳐서 0.2 내지 1.5 nm Ra 거칠기, 0.2 내지 0.7 nm, 0.2 내지 0.4 또는 심지어 0.2 내지 0.3 nm 범위의 표면 거칠기를 갖는다. 표면 거칠기는 예시적인 구체예에서는 10 x 10 ㎛의 면적에 걸쳐서, 또는 몇몇 구체예에서는 15 x 15 ㎛ 면적에 걸쳐서 측정될 수 있다.
몇몇 구체예에 있어서, 유리 시트는 유리 시트의 열 강화 단계 전에 유리 상에 배치되는 하나 이상의 코팅을 갖는다. 본 공정은 하나 이상의 코팅을 갖는 강화된 유리 시트를 생산하도록 사용될 수 있고, 여기서 코팅은 열 강화 단계 전에 유리 상에 배치되고, 공정에 의해 영향을 받지 않는다. 본 개시의 유리 시트 상에서 유리하게 보존되는 특정 코팅은 저 E 코팅, 반사 코팅, 반사방지 코팅, 지문-방지 코팅, 차단 필터, 열분해 코팅 등을 포함한다.
또 다른 구체예에 있어서, 여기서 개시된 열적으로 강화된 유리 시트는 고 평탄도(flatness)를 갖는다. 제어된 가스 베어링은 이송 및 가열에서 바람직하게 사용되고, 몇몇 구체예에 있어서, 유리 시트의 평탄도를 제어 및/또는 개선시키고, 특히 얇고 및/또는 고도로 강화된 시트에 대하여 이전에 얻을 수 있는 것보다 더 높은 평탄도를 결과하는데 보조하도록 사용될 수 있다. 예를 들어, 적어도 0.6 mm 시트는 개선된 후-강화 평탄도로 강화될 수 있다. 여기서 구체화된 열적으로 강화된 유리 시트의 평탄도는 시트의 제1 또는 제2 표면 중 하나를 따라 임의의 50 mm 길이를 따라 100 ㎛ 이하의 총 표시기 런-아웃 (total indicator run-out, TIR), 제1 또는 제2 표면 중 하나 상에서 50 mm 길이 내에서 300 ㎛ TIR 이하, 제1 또는 제2 표면 중 하나 상에서 50 mm 길이 내에서 200 ㎛ TIR 이하, 100 ㎛ TIR 이하, 또는 70 ㎛ TIR 이하를 포함할 수 있다. 예시적인 구체예에 있어서, 유리 시트의 임의의 50 mm 이하 프로파일을 따라 측정된다. 고려된 구체예에 있어서, 여기서 개시된 두께를 갖는 시트는 제1 또는 제2 표면 중 하나 상에서 20 mm 길이 내에서 200 ㎛ TIR 이하 평탄도, 예를 들면 100 ㎛ TIR 이하 평탄도, 70 ㎛ TIR 이하 평탄도, 50 ㎛ TIR 이하 평탄도를 갖는다.
본 방법 및 장치의 구체예는 0.1 mm 내지 5.7 또는 6.0 mm의 범위, 끝점값들에 더하여, 0.2 mm, 0.28 mm, 0.4 mm, 0.5 mm, 0.55 mm, 0.7 mm, 1 mm, 1.1 mm, 1.5 mm, 1.8 mm, 2 mm, 및 3.2 mm의 두께를 갖는 유리 시트에 적용된다. 고려된 구체예는 0.1 내지 20 mm, 0.1 내지 16 mm, 0.1 내지 12 mm, 0.1 내지 8 mm, 0.1 내지 6 mm, 0.1 내지 4 mm, 0.1 내지 3 mm, 0.1 내지 2 mm, 0.1 내지2 mm 미만, 0.1 내지 1.5 mm, 0.1 내지 1 mm, 0.1 내지 0.7 mm, 0.1 내지 0.5 mm 및 0.1 내지 0.3 mm 범위의 두께를 갖는 열적으로 강화된 유리 시트를 포함한다.
몇몇 구체예에 있어서, 열적으로 강화된 유리 시트는 고 종횡비를 가지며, 즉, 길이 및 너비 대 두께 비는 크다. 사용된 공정이 고압 또는 큰 부피의 공기에 의존하지 않기 때문에, 평탄도는 가스 베어링의 사용에 의해 공정 동안 유지될 수 있고, 고 종횡비 (aspect ratio) 유리 시트 (즉, 길이 대 두께, 또는 너비 대 두께의 높은 비를 갖는 유리 시트)는 원하는 또는 필요한 형상을 보유하면서 열적으로 강화될 수 있다. 구체적으로, 약 적어도 10:1, 적어도 20:1, 및 1000:1 까지 및 이상의 길이 대 두께 및/또는 너비 대 두께 비 ("종횡비 (aspect ratios)")를 갖는 시트는 강화될 수 있다. 고려된 구체예에 있어서, 적어도 200:1, 적어도 500:1, 적어도 1000:1, 적어도 2000:1, 적어도 4000:1의 종횡비를 갖는 시트는 가공될 수 있다.
또 다른 관점은 열적으로 강화된 저 열 팽창 계수 (coefficient of thermal expansion, CTE) 유리 시트를 포함한다. 전술한 바와 같이, 열 강화 효과는 유리 시트에 포함되는 유리의 CTE에 상당히 의존적이다. 그러나, 저 CTE 유리의 열 강화는 증가된 화학적 저항성, 또는 저 알칼리 함량에 기인한 전자 장치와의 더 좋은 호환성과 같은 유리한 성질을 갖는 강화된 유리 조성물을 제공할 수 있다. 65, 60, 55, 50, 45, 40, 및 심지어 35 x 10-6 -1 이하의 CTE를 갖는 유리 시트는 4 mm 미만, 3.5 mm 미만, 3 mm 미만, 및 심지어 2 mm 이하의 두께에서 안전-유리와 같은 깨짐 패턴 ("다이싱 (dicing)")이 가능할 수 있다. 40 x 10-6 -1 이하의 CTE 값을 갖는 유리는 여기서 개시된 공정을 사용하여 강화될 수 있다. 이러한 유리는 동일 두께에서 종래 상업적 (가스 대류적) 공정에 의해 강화된 SLG 시트와 유사한 표면 압축을 가질 수 있다. 몇몇 구체예에 있어서, 저 CTE 유리의 압축 응력은 적어도 50 MPa, 적어도 100 MPa, 적어도 125 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa, 적어도 300 MPa, 또는 적어도 400 MPa를 유리 시트에 대하여 포함할 수 있고, 상기 유리시트는 1 cm 이하, 5 mm 이하, 3 mm 이하, 2 mm 이하, 1.5 mm 이하, 1 mm 이하, 0.75 mm 이하, 0.5 mm 이하, 0.3 mm 이하, 0.2 mm 이하, 0.1 mm 이하의 두께를 갖는다.
본 개시에 따라 형성된 유리 시트는, 예를 들어, 전자 장치, 디스플레이, 및 자동차 유리 사이드라이트에 사용되는 유리-중간층-유리와 같은 적층체 (laminates)와 같은 적층체에서 다수의 적용을 갖는다. 더 강하고 더 얇은 적층체가 생산될 수 있어서, 중량 및 비용 절감, 및 연비 향상을 결과한다. 바람직하게는, 열적으로 강화된 얇은 시트는 냉간 굽힘되고 (cold bent), 형성된 더 두꺼운 유리에 적층될 수 있어서, 얇은 시트의 어떤 고온 성형을 필요로하지 않는 쉽고 신뢰성있는 제조 공정을 제공한다.
공정
일 관점에서, 유리 시트를 강화하기 위한 전체적인 공정은 상기 제1 표면 및 제1 열 싱크 사이의 갭으로 전달된 가스의 흐름 또는 압력에 의해, 적어도 부분적으로, 제1 표면 상에 전이 온도를 갖는 유리 시트의 적어도 일부를 지지 또는 가이딩(guiding)하는 단계 및 상기 시트 온도는 상기 유리의 전이 온도 이상이고, 상기 유리 시트를 대류에 의해서 보다는 열 전도에 의해서 냉각시키는 단계를 포함한다. 전도는 인접한 분자 사이의 상호작용을 통해 에너지가 전달되는 열 전달 공정이며, 대류는 가열된 유체가 열원으로부터 멀리 이동하고 보다 시원한 유체로 교체되는 것과 같은 유체의 운동(예: 공기, 헬륨 등)을 통해 에너지가 전달되는 열 전달 공정이다. 적어도 몇몇 구체예에서, 용어 "유리 세라믹" 또는 "세라믹"은 용어 "유리"가 사용되는 곳에 대체될 수 있고 및/또는 동등하게 적용될 수 있다.
몇몇 구체예에서, 유리 시트를 강화시키는 전체 공정은 유리 시트를 고온 영역에서 가열하는 단계 및 상기 유리 시트를 냉각하는 단계를 포함한다. 상기 유리 시트는 유리의 점도가 η= 1012-1013.3 포이즈(poise)의 값을 갖는 지점에서 발생하는 전이 온도를 가진다. 유리는 유리 시트를 전이 온도 이상으로 가져오기 위해 충분히 가열된다. 선택적으로, 유리는 전환 영역을 통해 고온 영역에서 냉각 영역으로 전환될 수 있다. 유리 시트의 표면들은 열 싱크들에 인접하여 위치하며, 유리 표면 하나는 유리 표면 및 열 싱크 사이에 갭을 가진다. 가스는 열 싱크들의 다중 구멍(aperture))을 통해 갭으로 전달된다. 유리 시트는 대류에 의해서 보다는 전도에 의해서 냉각되고, 시트의 열적으로 유도된 표면 압축 및 열적으로 유도된 중심 인장을 고정시키거나 또는 생성하기에 충분하게 냉각된다.
개시된 공정을 가능하게 하기 위한 장치는 유리 시트를 전이 온도 이상으로 가열하기 위한 가열 영역 및 상기 가열된 유리 시트를 냉각하기 위한 냉각 영역을 포함할 수 있고, 이로부터 강화된 유리 시트를 제공할 수 있다. 상기 장치는 가열 영역 및 냉각 영역 사이에 선택적인 전환 영역을 포함할 수 있다. 상기 냉각 영역은 갭의 반대 측면 상에 배치된 한 쌍의 가스 베어링을 포함할 수 있고, 이는 대류에 의해서 보다 전도에 의해서 가열된 유리 시트를 냉각시키기 위해 갭으로 가스를 전달하도록 배열(configure)될 수 있다. 몇몇 구체예에서, 상기 가스 베어링은 가스를 갭에 전달하기 위한 복수의 구멍들 및 대류에 의해서 보다 전도에 의해서 가열된 유리 시트로부터 열을 전도시킬 수 있는 열 싱크를 제공하는 가스 베어링 표면들을 포함할 수 있다.
본 개시에 따른 방법의 일 구체예가 도 11의 흐름도에 도시되어 있다. 방법 또는 공정(100)은 적어도 부분적으로 가스에 의해(몇몇 대류적인 가스 강화 공정에서처럼 가스 흐름 및 압력을 통해) 유리 시트를 지지하는 단계(160)를 포함한다. 상기 시트는 유리 전이 온도 이상으로 가열될 수 있으며, 이와 동시에 시트는 다음과 같이 냉각된다: 1) 열 싱크로의 가스를 통한, 대류에 의해서 보다는 전도에 의해서 냉각, 및 2) 상온에서 시트의 열적-유도된 표면 압축 및 열적-유도된 중심 인장을 생성 또는 고정하기에 충분하게 냉각.
도 12의 흐름도에서 방법(100')으로 도시된, 도 11의 구체예에 대한 변형에 따르면, 상기 방법은 시트가 유리의 전이 온도 이상이 되도록 유리 시트를 충분히 가열하는 단계(110)를 포함할 수 있다. 단계(130A)에서, 상기 방법은 제1 시트 표면을 제1 갭을 가로질러 제1 열 싱크 표면과 대면하게 위치시키는 단계를 더 포함하고, 단계(130B)에서, 상기 방법은 제2 시트 표면을 제2 열 싱크 표면의 제2 갭을 가로질러 제2 열 싱크 표면과 대면하게 위치시키는 단계를 더 포함한다. 상기 열 싱크 표면은 구멍들을 포함할 수 있거나 및/또는 다공성일 수 있다. 방법(100)은 단계(160)에서, 열 싱크 표면들 각각으로의 가스를 통한 대류에 의해서 보다는 전도에 의해서, 유리를 강화시키기에 충분하게, 즉 시트에 열적-유도된 표면 압축 및 열적-유도된 중심 인장을 생성 또는 고정하기에 충분하게, 시트를 냉각하는 단계를 더 포함할 수 있다. 시트를 냉각하는 단계(160)는 구멍들 또는 다공성 열 싱크를 통해 가스를 제1 및 제2 갭으로 전달하는 단계를 또한 포함할 수 있다. 몇몇 구체예에서, 가스는 열 싱크의 구멍들을 통해서만 또는 다공성 열 싱크의 기공들 또는 기공들 및 구멍들을 통해서만 전달된다.
본 개시의 이러한 방법들 및 다른 관련된 방법들은 대류 대신에, 냉각의 주된 방법으로서 전도를 이용함으로써, 현재 주된 가스-대류-냉각 기술에 반대한다. 고체-대-가스(유리 대 공기) 열 교환 대신에, 본원에 개시된 방법들은 소량의 가스에 의해 작은 갭을 가로질러 중개된 고체-대-고체(유리 대 열 싱크) 열 교환을 포함하여, 열적 강화를 일으키는 냉각의 시작 및 완료를 할 수 있다. 비록 약간의 대류는 중개 가스(mediating gas)가 작은 갭으로 유입되고, 따뜻해지며, 유출됨에 따라 존재하지만, 가스를 통해 갭을 직접 가로지르는, 열 싱크 내로의 전도가 냉각의 주요 방법이다. 전술한 고체 및 액체 냉각 방법과는 다르게, 전도는 가스 배리어 층을 통해 중개된다. 액체 또는 고체 물질에 의한 시트의 접촉 없이, 중간 전도체로서의 가스의 사용은 가스 이외의 다른 접촉을 피함으로써 가공된 제품의 표면 품질을 보존할 수 있다. 이는 액체 및 고체 냉각에서 보이는 유리 표면의 오염, 강화에 따른 공간적 변형, 및 원치 않는 뒤틀림(distortion)의 도입을 피할 수 있다. 본원에 개시된 구체예는 열 템퍼링 분야에서 이전에 이용 가능하지 않았던 매우 빠른 냉각 속도를 가능하게 하는 독특하고, 비-접촉, 전도성 냉각(quench)을 제공한다.
전도, 궁극적으로는 고체-대-고체의 전도는 대류보다 빠른 열 흐름을 가능하게 하기 때문에, 보다 얇은 유리 시트에 필요한 냉각 속도의 증가는 가스 속도 및 양에 얽매이지 않는다. 대신에, 가스 흐름 및 갭 크기는 본 개시의 방법 및 장치의 다양한 구체예 및 변형예에 따른 다른 목적, 예를 들어 갭 내의 가스 쿠션(cushion)의 강성을 위한 것, 시트를 지지, 또는 평탄화, 및/또는 다르게 성형하는 것, 열 전도를 최적화하는 것, 또는 열적 강화동안 시트의 평탄도 및/또는 형상을 단순히 유지하는 것, 뿐만 아니라 빠른 냉각 속도와 시트 취급의 용이성의 균형을 이루는 것과 같은 목적을 위해서 최적화될 수 있다. 예를 들어, 헬륨은 낮은 유량에서 경제적으로 실행 가능한 대안이 되고, 공기의 약 5배의 열 전도도를 제공한다.
냉각 중 유리 시트 위로 유동하는 공기의 양의 감소는, 얇은 시트를 강화하는데 필요한 고속, 대량의 공기 흐름에 의한, 뜨겁고 얇은 시트의 변형에 대한 잠재적인 위험을 줄이고, 보다 부드럽고 높은 온도의 시트를 뒤틀림이 없이 또는 최소한으로 하여 취급할 수 있게 하며, 달성 가능한 강화의 정도를 더욱 향상시킨다. 빠른 공기 유량을 제거하는 것은 시트를 냉각실(quenching chamber)로 전달(높은 공기 흐름에 대항하여 이동함)하는 단계에서 때때로 나타나는 문제들을 또한 완화시키고, 고-흐름의 차가운 공기가 시트를 가열하기 위해 사용되는 로(furnace)의 보다 인접한 부분으로 들어가서 냉각시키는 것을 방지한다.
빠른 공기 유량을 피하는 것의 또 다른 이점은 낮은 가스 흐름 및 고체-가스-고체 전도를 사용함으로써 달성되는 전력 및 에너지 절감에 있다. 도 13a 및 13b의 점 A 및 B는 상대적으로 빠른 흐름에서의 압축 공기 공급에 의한 유리 시트의 제곱 미터 당 피크 전력 사용의 상-한 추정치를 나타낸다. 압축 공기의 실용적인 하-한 피크 전력 사용은 도시된 값의 1/16으로 작을 수 있다. 점 A 및 B는 열 싱크의 활성(active) 냉각을 포함하지 않으나, 열 싱크의 활성 냉각은 몇몇 구체예에서, 특히 기계가 연속, 준-연속, 또는 고 빈도(frequency) 운전을 하는 경우에 포함될 수 있다.
도 13a 및 13b를 다시 참조하면, 열 싱크 표면의 활성 냉각이 고려될 때, 유리 시트 온도에서 300℃ 감소에 상응하는 열 부하가, 점 A'의 경우 2.1초, 점 B'의 경우 1초 내에 열-대-기계(또는 전기) 효율 비 7.5 대 1을 가지는 활성 냉각 시스템에 의해 달성된다고 가정하면, 점 A' 및 B'는 점 A 및 B에서의 운전을 위한 보수적으로 추정된 피크 전력 수준을 나타낸다(상기 점들은 본원에 개시된 실험적인 장치에서 실제로 템퍼링된 유리 시트와 거의 상응한다). 비록 도 13a 및 13b의 영역 R 내의 상기 4개의 점이 본 개시의 방법 및 장치에 의해 얻을 수 있는 개량의 중요성을 어느 정도 나타내지만, 전력 요구량이 나타난 양이기 때문에, 전체적인 이점은 도면에서 상당히 과소 평가될 수 있다. 예를 들어, 곡선 N으로 나타난 송풍기의 피크 전력은 효율적으로 켜고 끌 수 없으며, 공기가 필요하지 않을 때도 여전히(그러나 감소된 부하에서) 회전하는 대형 팬을 막기 위해서 게이트 공기통로가 필요하다. 본 개시에 따라 쉽게 달성될 수 있는 예로서 점 A' 및 B'로서 나타난, 냉각수 성비와 같은 유동 냉각 시스템의 피크 전력 요구량은 일반적으로 훨씬 더 효율적으로 조정될 수 있고, 유효 피크 전력은 상당히 낮아질 수 있으며, 완전 연속 운전에 가까워질 때만 A' 및 B'에 가까워진다. 따라서, 전체 에너지 요구량의 차이는 도면에 나타난 피크 전력 요구량의 차이보다 커지는 경향이 있다. 몇몇 구체예에서, 본원에 개시된 공정들은 2 mm 두께 이하의 유리 시트를 열적으로 강화시키기 위해 120 KW/m2 미만, 100 KW/m2 미만, 80 KW/m2 미만의 피크 전력을 갖는다.
본 개시의 장치를 사용하는 공정에서 구체화된 조건에서의 전도량은 다음을 통해 결정될 수 있다. 먼저, 본 개시와 같은 전도에 의한 열적 강화와 관련하여, 가스의 열 전도도은 열 슬로프를 따르는 전도의 방향에서 평가되어야 한다. 고온의, 시트의 표면 또는 근처에서 냉각되는(또는 냉각될) 공기는 열 싱크의 표면 및 그 근처에서 실온 또는 그 근처의 공기((건조) 실온 공기(25℃)의 공칭(nominal) 열 전도도는 약 0.026 W/m·K이다)와 같은, 보다 저온의 공기보다 상당히 더 높은 열 전도도를 갖는다. 냉각이 시작될 때, 전체 갭에 걸친 공기가 2개의 대면하는 표면들의 평균 온도가 되도록 가정하는 근사값이 사용된다. 예를 들어, 유리 시트는 670℃의 온도일 수 있으며, 열 싱크 표면은 예컨대 30℃에서 시작할 수 있다. 따라서, 갭 내의 공기의 평균 온도는 350℃일 것이며, 여기서 건조 공기는 약 0.047 W/m·K의 열 전도도를 가지고, 이는 실온에서의 열 전도도보다 75% 이상 높으며, 후술하는 바와 같이 실용적인 크기의 갭을 통해 다량의 열 에너지를 전달하기에 충분히 높다.
설명을 위해, 갭이 면적 Ag(갭 거리 g의 방향에 수직인 모든 방향에서의 면적)를 가지는, 거리 g의 갭을 통한 열 전달률의 전도성 성분인 Qcond는 다음과 같이 주어진다.
Figure 112017020043382-pct00012
(13)
여기서 k는 열 전도 방향(또는 반대 방향)으로 평가된 갭 내의 물질(가스)의 열 전도도이고, TS는 유리 표면의 온도이며, THS는 열 싱크 표면(또는 다른 구체예에서는 열원 표면)의 온도이다. 전술한 바와 같이, 가스의 열 전도도가 온도에 따라 변하기 때문에, k를 엄격하게 평가하기 위해서는 전도성 열 흐름의 방향을 따르는(또는 이에 대항하는) 가스의 열 전도도를 통합하는 것이 요구될 것이다. 그러나 좋은 근사값으로, k는 두 표면의 온도 TS 및 THS의 평균에서의 갭 내의 가스의 k의 값으로 정해질 수 있다.
식 (13)을 열 전달 계수의 단위(켈빈 온도 당 제곱 미터 당 열 흐름 전력 단위)로 재구성한 것은 다음과 같이 주어진다:
Figure 112017020043382-pct00013
(14)
따라서 갭을 가로지르는 전도에 대한 유효 열 전달 계수는 갭 내 매질(이 경우 공기)의 열 전도도(W/mK 단위)를 갭의 길이(미터)에 의해 나눈 값이다. 상기 계수는 온도 차의 정도 당 제곱 미터 당 와트의 값을 제공한다.
표 4는 공기와 헬륨으로 채워진 갭에 대한, 전도만에 의한 열 전달 계수(k/g)를 10㎛부터 200㎛까지 10㎛ 단위로 보여준다. 도 14(종래 기술)는 특정 가정된 조건하에서 mm 두께의 함수로서 유리의 시트를 완전히 템퍼링하는데 요구되는 열 전달 계수를 보여주는 약 35년 전의 산업-표준 곡선(2mm 참조선이 추가됨)을 보여준다. 표 4 및 도 14의 비교로부터 알 수 있는 바와 같이, 약 40㎛의 공기가 채워진 갭은 전도에 의해 2mm 두께의 유리를 완전히 템퍼링할 수 있다. 가스로서 헬륨(또는 유사한 열 전도도를 가지는 수소)을 사용하면, 약 200㎛의 갭은 2mm 두께의 유리를 완전히 템퍼링하는데 사용될 수 있다.
Figure 112017020043382-pct00014
가스로서 헬륨 또는 수소를 사용하는 것은 동일한 열 전달 계수에 대해 약 5배 큰 갭 크기를 가능하게 한다. 즉, 갭 내의 가스로서 헬륨 또는 수소를 사용하는 것은 같은 갭 크기에서 약 5배까지 냉각에 사용할 수 있는 열 전달 계수를 증가시킨다.
대류에 의해서 보다는 전도에 의해서, 가스를 통해 냉각하는 것에 더하여, 다른 구체예는 대류에 의해서 보다는 전도에 의해서, 가스를 통해 가열(또는 가열 및/또는 냉각)하는 것을 포함한다. 전도 및 대류의 상대적인 기여에 관하여는, 가열 또는 냉각 여부를 불문하고, 갭(또는 갭들)을 가로지르는 열 전달률의 대류성 성분 Qconv는 다음에 의해 주어질 수 있다:
Figure 112017020043382-pct00015
(15)
여기서, m은 가스의 질량 유량이고, Cp는 가스의 비열 용량이고, Ti는 갭으로 흘러들어가는 가스의 입구 온도이며, e는 갭, 시트 표면 및 열 싱크/열원(갭의 "벽")의 표면에 흐르는 가스 사이의 열 교환의 유효도(effectiveness)이다. e의 값은 0(표면-대-가스 열 교환이 없음을 나타냄) 에서 1(표면의 온도에 완전히 도달하는 가스를 나타냄)까지 다양하다. 상기 e의 값은 예컨대, e-NTU 방법을 사용하여 열 전달 기술 분야의 당업자에 의해 계산될 수 있다.
그러나 일반적으로, 만약 시트의 표면 및 열 싱크/열원의 표면 사이의 갭이 작다면, e의 값은 1과 거의 동일할 것이고, 이는 가스가 갭을 떠나기 전에 거의 완전히(즉, 평균적으로 양 측에 있는 두 표면의 평균 온도로) 가열된다는 것을 의미한다. e=1(대류 열 전달률의 약간의 과대 평가)이고, 가스는 열 싱크/열원의 표면을 통해 갭으로 공급된다고 가정하면, 갭 내의 가스의 초기 온도는 열 싱크/열원의 표면의 온도와 동일하다고 가정될 수 있다(TI=THS). 대류로 인한 열 전달률은 다음과 같이 단순화될 수 있다:
Figure 112017020043382-pct00016
(16)
갭의 면적에서 주로 전도에 의하여 시트를 냉각(열이 너무 높지 않을 때, 열원으로부터의 복사량을 가정하면)하기 위해서는 다음이 요구된다:
Figure 112017020043382-pct00017
(17)
Combining (17) with equations (13) and (16) gives the following conditional:
식 (17)을 식 (13) 및 (16)과 조합하면 다음의 조건이 제공된다:
Figure 112017020043382-pct00018
(18)
이는, 유지될 때, 문제의 갭 면적에서 시트가 주로 전도에 의해 냉각(또는 가열)되는 것을 실질적으로 보장한다. 따라서 가스의 질량 유량
Figure 112017020043382-pct00019
은 갭 면적 제곱 미터 당 2kAg/gCp, 또는 2k/gCp 미만이어야 한다. 일 구체예에서,
Figure 112017020043382-pct00020
<B·(2kAg/gCp)이고, 여기서 B는 전도성 냉각에 대한 대류성 냉각 비이다. 본 개시에서 사용된 바와 같이, B는 1 보다 작고 0 보다 큰 양의 상수이다. 대류성 냉각 대 전도성 냉각의 비는 1 미만에서 1x10-8까지의 값이 될 수 있다. 몇몇 구체예에서, B는 0.9, 0.8, 0.7, 0.6, 0.5, 0.4, 0.1, 5x10-2, 1x10-2, 5x10-3, 1x10-3, 5x10-4, 1x10-4, 5x10-5, 1x10-5, 5x10-6, 1x10-6, 5x10-7, 1x10-7, 5x10-8, 또는 1x10-8 미만이다. 몇몇 구체예에서,
Figure 112017020043382-pct00021
은 열 싱크 표면(들)에 대한 시트 위치를 지지하고 조절하기 위해 가스 흐름을 사용할 필요성에 부합하여 최소화된다. 다른 구체예에서,
Figure 112017020043382-pct00022
은 시트에 대한 열교환 표면 자체의 위치를 제어하기 위해서 선택되어야 한다.
대류에 의해서 보다는 전도에 의해서 냉각되는 유리 시트의 개략적인 단면도는 도 15에 도시된다. 고온 유리 시트(200)는 제1 및 제2 (주) 표면들(200a, 200b)를 가지고, 이들은 각각 갭(204a, 204b)을 가로질러 제1 및 제2 열 싱크(201a, 202a)의 제1 및 제2 표면(201b, 202b) 각각과 대면한다. 가스(230)는 화살표로 나타난 바와 같이, 제1 및 제2 표면(201b, 202b)을 통해 공급되어, 갭(204a, 204b)에 공급되고, 유리 시트를 열 싱크(201a, 202a) 사이의 중심 또는 다른 위치에서 유지시키는 것을 돕는다. 공기 또는 다른 가스는 화살표(240)로 도시된 바와 같이 열 싱크(201a, 202a)의 가장자리(edge)를 지나서 나갈 수 있다. 위의 단락 및 위의 다른 논의에 따라 갭(204a, 204b)의 크기, 가스, 및 가스(230)의 유량을 선택함으로써, 유리 시트(200)은 대류에 의해서 보다는 전도에 의해서 냉각될 것이다.
몇몇 구체예에서, 갭(204a, 204b)은 가열된 유리 시트가 대류에 의해서 보다는 전도에 의해서 냉각되기에 충분한 갭을 가로지르는 두께 또는 거리를 가지도록 배열된다. 몇몇 구체예에서, 갭(204a 및 204b)은 약 100㎛ 이상의 두께를 가질 수 있다(예를 들어, 약 100 내지 약 200㎛, 약 100 내지 약 190㎛, 약 100 내지 180㎛, 약 100 내지 약 170㎛, 약 100 내지 약 160㎛, 약 100 내지 약 150㎛, 약 110 내지 약 200㎛, 약 120 내지 약 200㎛, 약 130 내지 약 200㎛, 또는 약 140 내지 약 200㎛ 범위의 두께). 다른 구체예에서, 갭(204a 및 204b)은 약 100㎛ 이하의 두께를 가질 수 있다(예를 들어, 약 10 내지 약 100㎛, 약 20 내지 약 100㎛, 약 30 내지 약 100㎛, 약 40 내지 약 100㎛, 약 10 내지 약 90㎛, 약 10 내지 약 80㎛, 약 10 내지 약 70㎛, 약 10 내지 약 60㎛, 또는 약 10 내지 약 50㎛ 범위의 두께).
열 싱크(201a, 202a)는 고체 또는 다공성 배열을 포함할 수 있다. 적절한 물질로는 알루미늄, 청동, 탄소, 또는 흑연, 스테인레스 강 등을 포함하는 이에 제한되지는 않는다. 열 싱크의 치수(dimension)는 유리 시트의 크기를 다루고, 열 싱크 온도의 상당한 변화 없이 열을 효율적이고 효과적으로 전달하는데 충분하게 설계될 수 있다. 히트 싱크(201a 및/또는 202a)가 다공성인 경우, 이들은 가스를 흐르게 하기 위한 추가적인 구멍 또는 홀(hole)을 여전히 포함하거나, 흐름을 제공하기 위하여 다공성 구조를 사용하거나, 또는 상기 구멍 또는 홀을 포함하면서 다공성 구조를 사용할 수 있다. 몇몇 구체예에서, 상기 열 싱크는 열 싱크의 온도를 제어하기 위해 유체 흐름을 허용하는 통로를 더 포함한다. 이는 도 17a-17c 및 이하에서 보다 상세하게 개시된다.
종래 기술의 빠른 가스 유량을 제거하는 것은 갭 내의 가스를 제공하기 위하여 열 싱크 면에 매우 작은 구멍 또는 기공의 사용을 가능하게 한다. 몇몇 구체예에서, 가장 작은 방향(예를 들어, 직경)으로 측정될 때, 구멍은 2mm 미만, 1.5mm 미만, 1mm 미만, 0.5mm 미만, 0.25mm 미만, 또는 200, 150, 100, 50, 30, 20, 10㎛ 이하일 수 있다. 몇몇 구체예에서, 구멍은 약 10㎛ 내지 약 1mm, 약 20㎛ 내지 약 1mm, 또는 약 50㎛ 내지 약 1mm이다. 작은 구멍 또는 기공은 개별적인 흐름 제한 장치로서 기능할 수 있다. 이는 시트를 위치시키고 갭 크기를 제어하기 위해, 높은 수준의 시트 지지체의 강성 및 지속성과 같은 고-성능 가스-베어링-타입 동역학(dynamics)을 제공하고, 응력 복굴절을 피하거나 감소시키기 위해서 열 강화 효과의 높은 균질성을 가능하게 한다. 또한, 매우 작은 기공 또는 구멍이 사용될 수 있기 때문에, 갭(들)을 가로질러 시트 표면과 대면하는 열 싱크 표면에서의 고체 물질의 상대적인 양은 최대화되어, 전도성 열 흐름을 증가시킬 수 있다. 일 구체예에 따르면, 갭(들)에 가스를 제공하고 열 싱크 표면에 수직에 가까운 방향으로 구멍을 배열하기 위한 유일한 경로와 같은 구멍의 사용은 가스-베어링-타입 동역학을 최적화할 수 있다. 이는 구멍으로부터의 흐름이 예를 들어, 추가적인 보다 큰 구멍, 시트에 인접한 열 싱크 표면(들)을 통한 것 이외의 공급원, 또는 다른 측면 흐름으로부터의 가스 흐름에 의해 손상되지 않을 수 있기 때문이다.
도 16 및 17a-17c는 본 개시에 따른 장치(300)의 예시적인 구체예를 도시한다. 도 16은 전도성 열 싱크로 가스를 통해 냉각될 수 있는 장치(300)의 개략적인 단면도를 도시한다. 상기 장치는 고온 영역(310), 저온 영역(330), 및 유리 제품이 고온 영역(310)으로부터 저온 영역(330)으로 이동될 수 있는 전이 가스 베어링(320)을 포함한다. 따라서 상기 유리 및 베어링 사이에 접촉이 없거나 실질적으로 접촉이 발생하지 않는다. 고온 영역(310)은 고온 영역 플레넘(318)으로부터 각각 공급되는 가스 베어링(312)을 가진다. 상기 베어링(312)은 베어링(312)을 통해 홀에 삽입된 카트리지 가열기(314)를 가지고, 상기 가열기는 소정의 초기 공정 온도까지 고온 영역 가스 베어링(312)을 가열하는 작용을 한다. 유리 시트(고온 영역)(400a)는 소정의 예비-냉각 온도가 되도록 충분히 오랜 기간 동안 고온 영역 가스 베어링(312) 사이에 유지된다.
몇몇 구체예에서, 고온 영역에서 시트를 가열하는 것은 얇은 가스 배리어를 통한 열 싱크로부터의 열의 전도를 통해서 우세하게 행해질 수 있다. 고온 영역에서 사용되는 전도성 가열 공정은 유사할 수 있지만, 전술한 냉각 공정과 반대(즉, 유리 시트 내로 열을 가하는 것)일 수 있다.
몇몇 구체예에서, 고온 영역 가스 베어링(312)과 유리 시트(400a) 사이의 갭(316)은 0.05" (1.27 mm) 내지 0.125" (3.175 mm) 또는 그보다 큰 수치의 순서대로 상대적으로 클 수 있고, 이는 유리 시트(400a)가 상대적으로 천천히 가열될 수 있고 유리 시트 (400a)로의 고온 가스 베어링(312)으로부터의 열 복사는 이 목적에 적합하기 때문이다. 다른 구체예에서, 고온 영역 갭의 값은 측면 당 150 미크론 또는 측면 당 500 미크론 정도로 작을 수 있다. 보다 작은 갭들이 유리할 수 있다. 이는 상기 갭들이 베어링이 더 좋은 "강성"(즉, 유리를 집중시키고 연화 된 상태에있는 동안 유리를 평탄화하는 능력)을 가지는 것을 가능하게 하기 때문이다. 몇몇 구체예에서, 상기 공정은 유리 시트를 초기 가열 단계에서 재-성형할 수 있다(유리 시트를 평탄화함). 일부 구체예에서, 상단 및 하단 고온 영역 베어링들은 액추에이터(actuator) 상에 있을 수 있다. 이는 갭 폭을 연속적인 방법으로 변화하는 것을 가능하게 하거나, 대안적으로 갭이 클 때 유리를 고온 영역으로 가져가서, 유리가 아직 부드러울 때 유리를 평탄화하기 위해서 갭을 압축하는 것을 가능하게 한다.
공정 온도는 유리 조성, 유리 두께, 유리 특성(CTE 등), 및 원하는 강화 수준을 포함하는 여러 요인에 의존한다. 일반적으로, 초기 공정 온도는 유리 전이 온도와 리틀턴(Littleton) 연화점 사이의 임의의 값일 수 있고, 또는 몇몇 구체예에서는 더 높을 수도 있다. 예를 들어, SLG의 경우, 범위 공정 온도는 약 640 내지 약 730℃ 또는 약 690 내지 약 730℃일 수 있다. 몇몇 구체예에서, 공정 온도 범위는 약 620 내지 약 800℃, 약 640 내지 약 770℃, 약 660 내지 약 750℃, 약 680 내지 약 750℃, 약 690 내지 약 740℃, 또는 약 690 내지 약 730℃일 수 있다.
유리 시트(400a)는 원하는 초기 공정 온도로 가열되고, 임의의 적절한 수단을 이용하여 고온 영역(310)에서 저온 영역(330)으로 이동될 수 있다. 몇몇 구체예에서, 유리 시트(400a)를 고온 영역(310)에서 저온 영역(330)으로 이동시키는 것은 예를 들어, (1) 전체 어셈블리를 기울여서, 유리 시트에 작용하는 중력이 유리 시트를 저온 영역으로 강제로 이동시키는 것, (2) 고온 영역(310)의 가장 좌측 출구로부터의 가스 흐름을 차단하여(본 구체예에는 측면이 밀폐됨), 모든 가스 베어링으로부터 나오는 모든 가스를 저온 영역의 가장 우측 출구로부터 강제로 배출시키는 것, 이는 유체의 힘이 유리 시트(400a) 상에 가해지게 하고, 유리 시트가 저온 영역(330)으로 이동하게 하며, 또는 (3) (1) 및 (2)의 조합에 의해 달성될 수 있다. 전이 가스 베어링(320)은 전이 베어링 플레넘(328)에 의해 가스가 공급 될 수 있다. 전이 가스 베어링(320)의 표면 뒤의 고체 물질 두께는 얇고 및/또는 낮은 열 질량 및/또는 낮은 열 전도도를 가질 수 있으며, 이는 고온 영역(310)으로부터 저온 영역(330)으로의 감소된 열 전도를 가능하게 하고, 여기서 저온 영역은 별도의 플레넘(338)에 의하여 공급된다. 전이 가스 베어링(320)은 두 영역(310 및 330) 사이의 열적 단절 또는 열적 전이의 작용을 할 수 있고, 고온 영역의 보다 큰 갭(316)으로부터 저온 영역(330)의 작은 갭(336)으로 전이하는 작용을 할 수 있다. 유리 시트(저온 구역)(400b)가 저온 구역(330) 및 채널(330a) 내로 이동하면, 상기 유리 시트는 도시되지 않은 기계적 정지에 의해 우측 배출구를 빠져 나가지 않게 된다. 유리 시트(400b)가 충분히 냉각되어 중심이 유리 전이를 통과하면(예를 들어, 1mm 두께의 SLG의 경우, 이 예의 표면에서 약 325℃에 대응하는 약 490℃ 미만으로), 정지 게이트는 제거될 수 있고, 유리 시트(400b)는 장치(300)로부터 제거될 수 있다. 원한다면, 유리 시트(400b)는 제거되기 전에 실온 근처의 어딘가까지 냉각 영역(330)에 남겨질 수 있다.
도 16에 도시된 구체예에서, 저온 영역(330)은 입구(330b)를 통해 유리 시트(400b)(고온 영역에서 유리 시트의 유리 전이 온도를 초과하는 온도로 가열됨)를 수용하고, 유리 시트(400b)를 운반하며, 저온 영역에서 유리 시트(400b)를 냉각시키기 위한 채널(330a)을 포함한다. 하나 이상의 구체예에서, 상기 채널(330a)은 운반 시스템을 포함하고, 이는 가스 베어링, 롤러 휠, 컨베이어 벨트, 또는 차가운 영역을 통해 유리 시트를 물리적으로 운반하는 다른 수단을 포함 할 수 있다. 냉각은 실질적으로 고체 대 고체로 발생하기 때문에, 대류-주도형 냉각에서 제시되지 않는 문제가 다뤄질 필요가 있을 수 있다. 예를 들어, 큰 얇은 시트의 템퍼링의 경우, 시트는 (1) 선택적으로 대류-계 냉각에서 일반적으로 사용되는 속도보다 빠른 속도로, 저온 영역으로 신속하게 도입될 수 있으며, 또는 (2) 공정은 준-연속 방법으로 운전될 수 있고, 여기서 복수의 시트는 이들 사이에 공간이 거의 없는 연속적인 스트림에서 차례로 가열되고 냉각되며, 여기서 열 싱크는 열적 평형에 도달하기 위해서 활발이 냉각된다. 따라서 상기 큰 시트의 전단 및 후단의 가장자리는 유사한 열 이력을 가진다.
몇몇 구체예에서, 저온 영역(330)은 채널(330a)에 인접하게 배치된 하나 이상의 열 싱크(331)를 포함한다. 2개의 열 싱크가 이용되는 곳에서, 이러한 열 싱크는 채널(330a)의 반대되는 측면 상에 배치될 수 있으며, 채널 갭(330a)을 가로질러 서로 대면한다. 몇몇 구체예에서, 열 싱크는 가스 베어링(332)의 일부를 형성하는 복수의 구멍(331a)을 포함하고, 저온 영역(330)의 저온 가스 베어링(332)의 표면은 2개의 열 싱크 표면으로서 작용 한다. 몇몇 구체예에서, 열 싱크 및/또는 이의 표면은 분할될 수 있다. 전술한 바와 같이, 몇몇 구체예에서, 상기 열 싱크는 다공성일 수 있다. 다른 구체예에서, 상기 열 싱크는 다공성일 수 있고, 구멍은 상기 다공성 열 싱크의 기공이다. 복수의 구멍(332b), 가스 소스 및 채널 갭(330a)은 유체 연통 될 수 있다. 몇몇 구체예에서, 가스는 구멍(331a)을 통해 흘러 채널 갭(330a) 내에 가스 쿠션을 형성한다. 몇몇 구체예의 가스 쿠션은 유리 시트(400b)가 열 싱크(331) 표면과 접촉하는 것을 방지한다. 상기 가스는 유리 시트(400b)가 대류에 의해서 보다 전도에 의해서 냉각되는 가스로서 또한 작용한다. 몇몇 구체예에서, 구멍을 통해 흐르는 가스는 열 싱크를 냉각시킨다. 몇몇 구체예에서, 구멍을 통해 흐르는 가스는 대류에 의해서 보다 열 싱크로 갭을 가로지르는 전도에 의해 유리를 냉각시키고 열 싱크(331)를 냉각시킨다. 몇몇 구체예에서, 별도의 가스 또는 유체가 열 싱크(331)를 냉각시키는데 사용될 수 있다. 예를 들어, 열 싱크(331)는 냉각 유체를 유동시키기 위한 통로(334)를 포함할 수 있고, 이를 통해 열 싱크(331)를 냉각시킬 수 있으며, 이는 도 17a와 관련하여 보다 충분히 개시된다. 상기 통로(334)는 밀폐될 수 있다.
2개의 열 싱크(즉, 제1 열 싱크 및 제2 열 싱크)가 사용되는 경우, 하나 이상의 가스 소스가 채널 갭(330a)에 가스를 제공하는데 사용될 수 있다. 가스 소스는 서로 같은 가스 또는 다른 가스들을 포함할 수 있다. 따라서, 채널 갭(330a)은 하나의 가스 또는 다른 가스 소스 또는 동일한 가스 소스로부터의 가스들의 혼합물을 포함할 수 있다. 예시적인 가스들은 공기, 질소, 이산화탄소, 헬륨 또는 다른 비활성 가스(noble gas), 수소 및 이들의 다양한 조합을 포함한다. 가스가 유리 시트(400b)를 전도적으로 냉각하는 것을 시작하기 직전에 가스가 채널(330a)에 들어갈 때, 상기 가스는 이의 열 전도도에 의해 기술될 수 있다. 몇몇 예에서, 상기 가스는 약 0.02W/(m·K) 이상, 약 0.025W/(m·K) 이상, 약 0.03W/(m·K) 이상, 약 0.035W/(m·K) 이상, 약 0.04W/(m·K) 이상, 약 0.045W/(m·K) 이상, 약 0.05W/(m·K) 이상, 약 0.06W/(m·K) 이상, 약 0.07W/(m·K) 이상, 약 0.08W/(m·K) 이상, 약 0.09W/(m·K) 이상, 약 0.1W/(m·K) 이상, 약 0.15W/(m·K) 이상, 또는 약 0.2W/(m·K) 이상의 열 전도도를 가질 수 있다.
상기 개시된 공정은 높은 열 전달률을 가능하게 한다. 가스로서 공기를 사용하면, 350, 450, 550, 650, 750, 1000, 및 1200 kW/m2 이상의 높은 열 전달률은 전도만을 통해서 가능하다. 헬륨 또는 수소를 사용하면, 5000 kW/m2 이상의 열 전달률을 얻을 수 있다.
하나 이상의 구체예의 열 싱크(331)는 고정될 수 있거나 또는 채널 갭(330a)의 두께를 변경하기 위해 이동 가능할 수있다. 유리 시트(400b)의 두께는 채널 갭(300a)의 두께의 약 0.4 배 내지 약 0.6 배의 범위일 수 있고, 여기서 채널 갭은 열 싱크(331)의 대면하는 표면들 사이의 거리로서 정의된다. 몇몇 예에서, 채널 갭은 충분한 두께를 갖도록 배열되어서, 가열된 유리 시트는 대류에 의해서 보다는 전도에 의해 냉각된다. 몇몇 구체예에서, 채널 갭은, 유리 시트(400b)가 채널을 통해 운반될 때, 유리 시트 및 열 싱크 표면 사이의 거리(갭)가 약 100㎛ 이상(예를 들어, 약 100 내지 약 200㎛, 약 100 내지 190㎛, 약 100 내지 180㎛, 약 100 내지 170㎛, 약 100 내지 160㎛, 약 100 내지 150㎛, 약 110 내지 200㎛, 약 120 내지 200㎛, 약 130 내지 200㎛, 또는 약 140 내지 200㎛)이 되도록 두께를 가질 수 있다. 몇몇 구체예에서, 채널 갭은, 유리 시트(400b)가 채널을 통해 운반될 때, 유리 시트 및 열 싱크 표면 사이의 거리(갭 또는 갭들(336))가 약 100㎛ 이하(예를 들어, 약 10 내지 약 100㎛, 약 20 내지 약 100㎛, 약 30 내지 약 100㎛, 약 40 내지 약 100㎛, 약 10 내지 약 90㎛, 약 10 내지 약 80㎛, 약 10 내지 약 70㎛, 약 10 내지 약 60㎛, 또는 약 10 내지 약 50㎛)가 되도록 두께를 가질 수 있다. 채널 갭(330a)의 총 두께는 유리 시트(400b)의 두께에 의존하고, 일반적으로 열 싱크 표면과 유리 시트 사이의 거리의 2배에 더하기 유리 시트의 두께로 특성화될 수 있다. 몇몇 구체예에서, 유리 시트와 열 싱크 사이의 거리 또는 갭(336)은 동일하지 않을 수 있다. 이러한 구체예에서, 채널 갭(330a)의 총 두께는 유리 시트 및 각 열 싱크 표면 사이의 거리들 및 유리 시트의 두께의 합으로 특성화될 수 있다.
몇몇 예에서, 채널 갭의 총 두께는 약 2500㎛ 이하(예를 들어, 약 120 내지 약 2500㎛, 약 150 내지 약 2500㎛, 약 200 내지 약 2500㎛, 약 300 내지 약 2500㎛, 약 400 내지 약 2500㎛, 약 500 내지 약 2500㎛, 약 600 내지 약 2500㎛, 약 700 내지 약 2500㎛, 약 800 내지 약 2500㎛, 약 900 내지 약 2500㎛, 약 1000 내지 약 2500㎛, 약 120 내지 약 2250㎛, 약 120 내지 약 2000㎛, 약 120 내지 약 1800㎛, 약 120 내지 약 1600㎛, 약 120 내지 약 1500㎛, 약 120 내지 약 1400㎛, 약 120 내지 약 1300㎛, 약 120 내지 약 1200㎛, 또는 약 120 내지 약 1000㎛)일 수 있다. 몇몇 예에서, 채널 갭의 총 두께는 약 2500㎛(예를 들어, 약 2500 내지 10,000㎛, 약 2500 내지 9,000㎛, 약 2500 내지 8,000㎛, 약 2500 내지 7,000㎛, 약 2500 내지 6,000㎛, 약 2500 내지 5,000㎛, 약 2500 내지 4,000㎛, 약 2750 내지 10,000㎛, 약 3000 내지 10,000㎛, 약 3500 내지 10,000㎛, 약 4000 내지 10,000㎛, 약 4500 내지 10,000㎛, 또는 약 5000 내지 10,000㎛) 이상일 수 있다.
열 싱크(331)의 구멍들(331a)은 상기 열 싱크 표면에 대해 수직으로 위치될 수 있다. 또는 상기 구멍들은 열 싱크 표면에 대해 수직으로부터 20도 이하(예를 들어, 약 15도 이하, 약 10도 이하, 또는 약 5도 이하)의 각도로 위치될 수 있다.
몇몇 구체예에서, 열 싱크 표면 뒤의 물질(저온 베어링(332)) 높은 열 전달률을 가지는 임의의 적절한 물질일 수 있고, 이는 금속(예를 들어, 스테인레스 강, 구리, 알루미늄), 세라믹, 탄소 등을 포함한다. 상기 물질은 도면에 도시된 바와 같이, 전이 베어링(320)의 표면 뒤의 물질에 비해 상대적으로 두꺼울 수 있으므로, 열 싱크는 상대적으로 많은 양의 열에너지를 쉽게 받아들일 수 있다. 도 17a는 도 16의 장치와 유사한 장치의 절개된 투시 단면도이다. 다만, 도 17a의 장치는 좌우가 반대이고, 장치(300)의 저온 영역(330) 옆에 로드/언로드 영역(340)을 추가로 포함하며, 유리 시트 (400c)에 위치된 로드/언로드 가스 베어링(342)을 포함한다. 또한, 도 17a의 장치는 타이트한 채널 갭(도시되지 않음)을 각 고온, 전이 베어링, 및 저온 영역(310, 320, 및 330) 모두에서 사용한다.
도 17a의 삽입 도면은 저온 영역 가스 베어링(332a)의 대안적인 구체예를 도시하며, 여기서 가스 베어링(322a)은 가스 베어링 공급 홀(333) 사이의 냉각제 채널(334)에 의해 활성적으로 냉각되고, 여기서 공급 홀은 베어링(322a)의 표면에서 구멍을 공급한다. 상기 냉각 채널(334)은 유리 시트(400b)와 대면하는 열 싱크 세그먼트(segment)의 표면 및 열 싱크(332a)를 형성하기 위해 함께 조립되는 열 싱크 세그먼트들의 사이로 정의된다. 냉각 채널(334)은 가스 베어링(332)의 고체 물질에서 열 싱크(331)의 표면에 매우 근접하게 위치될 수 있고, 여기서 가스 베어링은 열 싱크/가스 베어링 표면 및 냉각제 채널(334)의 가장 가까운 표면 가장자리 사이에 고체 베어링 물질의 영역을 가지며, 여기서 냉각제 채널은 냉각제 채널(334)의 가장 가까운 표면 가장자리와 동일한 폭을 가진다. 따라서, 몇몇 구체예들에서, 열 싱크(331)/가스 베어링(332a)의 고체 물질에서 감소된 단면 영역은 존재하지 않는다. 이는 일반적인 대류 가스 냉각 장치와 다르다. 왜냐하면, 빠른 가스 유량은 빠져나가는 가스 흐름을 위해서 가스 노즐의 어레이의 중간에 상당한 공간이 제공될 것을 요구하기 때문이다. 활성 냉각이 사용되는 경우, 유리 표면에 가장 가까운 고체 물질에 비해 가스 노즐 설계의 고체 물질에서 감소된 단면 영역을 일반적으로 가져야 한다. 시트로부터 돌아오는 대량의 가열된 가스를 위한 대-용량 경로를 제공하기 위해서, 감소된 단면 영역은 활성 냉각 유체 및 처리 중인 유리 시트 사이에 일반적으로 위치된다.
도 17b는 도 17a의 삽입 도면과 유사한 저온 영역 가스 베어링(332b)의 또 다른 대안 구체예를 도시한다. 본 구체예에서, 냉각제 채널(334)은 가스 베어링 공급 홀(333)을 포함하는 가스 베어링 공급 부재(member)(335) 및 가스 베어링(332b)의 표면에 대면하는 유리 시트(400b)를 제공하는 가스 베어링 면 부재(337a) 사이에 형성된다. 도 17c는 도 17b의 구체예와 유사한 구조의 또 다른 저온 영역 가스 베어링(332c)을 도시하며, 이는 베어링 플레이트 부재(337b) 사이에 다공성 부재(339)를 가진다. 여기서 다공성 부재(339)는 유리 시트(440b)에 대면하는 표면을 형성한다.
본원에 개시된 공정 및 장치는 일반적으로 거의 모든 유리 조성물과 함께 사용될 수 있고, 몇몇 구체예는 유리 라미네이트, 유리 세라믹 및/또는 세라믹과 함께 사용될 수 있다. 구체예에서, 상기 공정은 높은 CTE를 가지는 유리 조성물과 함께 사용될 수 있다. 구체예에서, 사용되는 유리들은 Corning's® Gorilla® 유리, SLG, 무-소다 또는 무-알칼리 유리 등과 같은 알칼리 알루미노실리케이트를 포함한다. 몇몇 구체예에서, 사용되는 유리들은 약 40x10-7/℃ 이상, 약 50x10-7/℃ 이상, 약 60x10-7/℃ 이상, 약 70x10-7/℃ 이상, 약 80x10-7/℃ 이상, 또는 약 90x10-7/℃ 이상의 CTE를 가진다.
본원에 개시된 공정 및 장치는 일반적으로 임의의 두께의 유리와 함께 사용될 수 있다. 몇몇 구체예에서는, 두께 3mm 이하의 유리 시트가 사용된다. 몇몇 구체예에서는, 유리 두께는 약 8mm 이하, 약 6mm 이하, 약 3mm 이하, 약 2.5mm 이하, 약 2mm 이하, 약 1.8mm 이하, 약 1.6mm 이하, 약 1.4mm 이하, 약 1.2mm 이하, 약 1mm 이하, 약 0.8mm 이하, 약 0.7mm 이하, 약 0.6mm 이하, 약 0.5mm 이하, 약 0.4mm 이하, 약 0.3mm 이하, 또는 약 0.28mm 이하이다. 몇몇 구체예에서는, 상기 유리는 플렉시블 유리 시트이다. 다른 구체예에서는, 상기 유리는 2 이상의 유리 시트 라미네이트를 포함한다.
본원 개시된 공정들로 인한 유리의 압축 응력은 유리의 두께의 함수로서 변화한다. 몇몇 구체예에서, 3mm 이하의 두께를 가지는 유리는 예컨대, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa, 적어도 300 MPa, 적어도 350 MPa, 적어도 400 MPa과 같은, 적어도 80 MPa, 및/또는 1GPa 이하의 압축 응력을 가진다. 고려된 구체예에서, 2mm 이하의 두께를 가지는 유리는 예컨대, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 175 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa, 적어도 300 MPa, 적어도 350 MPa, 적어도 400 MPa과 같은, 적어도 80 MPa, 및/또는 1GPa 이하의 압축 응력을 가진다. 고려된 구체예에서, 1.5mm 이하의 두께를 가지는 유리는 예컨대, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 175 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa, 적어도 300 MPa, 적어도 350 MPa과 같은, 적어도 80 MPa, 및/또는 1GPa 이하의 압축 응력을 가진다. 고려된 구체예에서, 1mm 이하의 두께를 가지는 유리는 예컨대, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 175 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa, 적어도 300 MPa과 같은, 적어도 80 MPa, 및/또는 1GPa 이하의 압축 응력을 가진다. 고려된 구체예에서, 0.5mm 이하의 두께를 가지는 유리는 예컨대, 적어도 80 MPa, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 175 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 250 MPa과 같은, 적어도 50 MPa, 및/또는 1GPa 이하의 압축 응력을 가진다.
본원에 개시된 공정을 거친 유리 시트는 그 강도를 더욱 향상시키기 위해 이온 교환을 통해 추가 처리될 수 있다. 고려된 몇몇 구체예에서, 본원에 개시된 열 강화된 유리를 이온-교환하는 것은 전술한 압축 응력을 예컨대 적어도 50 MPa, 적어도 70 MPa, 적어도 80 MPa, 적어도 100 MPa, 적어도 150 MPa, 적어도 200 MPa, 적어도 300 MPa, 적어도 400 MPa, 적어도 500 MPa, 적어도 600 MPa, 적어도 20 MPa 및/또는 1 GPa 이하 증가시킬 수 있다.
얇은 유리 시트를 열적 템퍼링하는 것에 더하여, 본원에 개시된 공정 및 장치는 추가적인 공정에도 사용될 수 있다. 냉각이 구체적으로 언급된다면, 상기 장치 및 공정은 전도성 방법을 통해 유리 시트로 열을 전달하는데 동등하게 잘 사용될 수 있다. 이러한 공정 또는 방법은 도 18의 흐름도에 도시된다. 상기 도시된 방법(700)은 2개의 주요 단계를 포함한다. 제1 단계, 단계(710)는 단순히 표면을 가지는 제품을 제공하는 단계를 포함한다. 제2 단계, 단계(720)는 제품의 전체 표면을 포함하는 표면의 일부분을 가열 또는 냉각시키는 것을 포함한다. 단계(720)는 서브-파트(720a)에 도시된 바와 같이 열원 또는 열 싱크 소스로부터 또는 그로의 가스를 통한, 대류에 의해서 보다는 전도에 의해서 수행된다. 그리고 단계(720)는, 서브-파트(720b)에서, 제품 또는 제품의 표면의 일부의 열적 컨디셔닝을 완료하기에 충분하게 수행되고, 단계(720)의 냉각/가열의 전도는, 서브-파트(720b)에서 일부 면적의 적어도 450 kW/m2의 높은 열 전도율에서 수행된다.
예를 들어, 제품은 제품의 전체 표면을 포함하는 제품의 표면의 일부를 냉각 또는 가열하는 것에 의해, 여기서 상기 표면의 일부는 면적을 가지고, 대류에 의해서 보다는 전도에 의해, 열적 컨디셔닝(즉, 가열 또는 냉각됨)될 수 있다. 여기서 전도는 열 싱크 또는 열원으로부터 또는 그로의 가스를 통해 중개되고, 고체 대 고체 접촉을 통해 중개되지는 않으며, 제품 또는 제품의 표면의 일부의 열적 컨디셔닝을 완료하기에 충분하고, 상기 전도는 가열 또는 냉각의 적어도 소정의 시간 동안, 제곱 미터 당 적어도 450, 550, 650, 750, 800, 900, 1000, 1100, 1200, 1500, 2000, 3000, 4000, 또는 심지어 5000 이상의 KW의 속도로 수행된다.
템퍼링에 더하여, 열 전력 전달률은 템퍼링, 유리의 가장자리 강화, 세라믹, 유리, 또는 다른 물질의 소성 또는 소결, 기타 등등 동안에 가열 및 냉각을 포함하는 모든 종류의 열적 공정을 가능하게 한다. 또한, 열이 주로 전도에 의하여 추출되거나 전달되기 때문에, 표면의 부드러움과 품질을 유지함과 동시에 타이트한 제어가 처리된 제품의 열 이력 및 열 분포에 따라 제공된다. 따라서, 본 개시의 장치 및 방법은, 갭 변화, 열 싱크/열원 물질의 변화, 열 싱크 /열원 온도의 변화, 가스 혼합물의 변화에 의하여, 두께 방향 및 시트의 평면이 놓이는 방향 모두에서, 강화 공정으로부터 응력 프로파일을 의도적으로 변화시키는 것에 사용될 수 있을 것이다.
실시예
장치 설정
전술한 바와 같이, 장치는 3개 영역(고온 영역, 전이 영역, 및 냉각 영역)을 포함한다. 고온 영역 및 냉각 영역의 상부 및 하부 열 베어링 (열 싱크) 사이의 갭은 원하는 간격으로 설정된다. 고온 영역, 전이 영역 및 냉각 영역에서의 가스 유량은 공기-베어링 상의 일부의 센터링을 보장하도록 설정된다. 고온 영역은 원하는 T0로 예열되고, 상기 온도로부터 유리 제품이 이후 냉각될 것이다. 균일한 가열을 보장하기 위해, 유리 제품은 배치(batch) 또는 연속 노(furnace)와 같은 별도의 예열 장치에서 예열된다. 일반적으로, 유리 시트는 고온 영역에 로드하기 전에 5분 이상 예열된다. 소다 석회 유리의 경우, 예열은 약 450℃에서 이루어진다. 예열 단계 후에, 유리 제품은 고온 영역에 로드되고 평형이 가능하게 된다. 여기서 평형은 유리가 균일하게 T0에 있는 것이다. T0는 원하는 템퍼링에 의해 결정될 수 있지만, 일반적으로 연화점과 유리 전이 온도 사이의 범위로 유지된다. 평형까지의 시간은 적어도 유리의 두께에 의존한다. 예를 들어, 약 1.1mm 이하의 유리 시트의 경우, 평형은 약 10초 내에 발생한다. 3mm 유리 시트의 경우, 약 10초 내지 30초 내에 평형이 발생한다. 약 6mm까지의 보다 두꺼운 시트의 경우, 평형 시간은 약 60초 정도일 수 있다(두께 약 6mm의 경우). 유리가 T0로 평형이 되면 유리는 공기 베어링의 전이 영역을 통해, 냉각 영역으로 신속하게 전달된다. 유리 제품은 냉각 영역에서 유리 전이 온도, Tg 미만의 온도로 빠르게 냉각한다. 유리 시트는 원하는 급랭의 정도 및/또는 제거 시 유리의 원하는 온도에 따라, 1초, 10초, 또는 수 분 이상의 임의의 시간 동안 냉각 영역에서 유지될 수 있다. 유리를 제거한 후에, 유리는 취급 전에 선택적으로 냉각하는 것이 가능하다.
하기 실시예는 표 5에서 요약된다.
실시예 1
5.7mm 두께의 소다-라임 실리케이트 유리 플레이트는 60초 동안 690℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 450℃로 10분 동안 예열된다. T0로 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 91㎛의 갭(여기서 갭은 유리 시트의 표면 및 가장 가까운 열 싱크 사이의 거리이다)을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지된다. 결과 제품은 표면 압축 -312 MPa, 중심 인장 127 MPa, 및 평탄도 83㎛를 가진다.
실시예 2
5.7mm 두께의 소다-라임 실리케이트 유리 플레이트는 60초 동안 690℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 450℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 91㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지된다. 결과 제품은 표면 압축 -317 MPa, 중심 인장 133 MPa, 및 평탄도 90㎛를 가진다.
실시예 3
1.1mm 두께의 소다-라임 실리케이트 유리 플레이트는 10초 동안 700℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 450℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 56㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지된다. 결과 제품은 측정된 표면 가상(fictive) 온도 661℃, 표면 압축 -176 MPa, 중심 인장 89 MPa, 평탄도 190㎛ 및 비커스 크래킹 임계값(Vicker's cracking threshold) 10-20N를 가진다.
실시예 4
0.55mm 두께의 소다-라임 실리케이트 유리 플레이트는 10초 동안 720℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 450℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 25㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지되며, 이로 인해 유효 열 전도율은 0.184 cal/(cm2-s-℃)이다. 결과 제품은 표면 압축 -176 MPa, 중심 인장 63 MPa, 및 평탄도 125㎛를 가진다.
실시예 5
1.5mm 두께의 Corning® Gorilla® 유리 플레이트는 30초 동안 790℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 550℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 226㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지된다. 유리 제품은 공정 전 113 ㎛ 및 공정 후 58 ㎛로 측정된 평탄도의 개선을 갖는다.
실시예 6
0.7mm 두께의 소다-라임 실리케이트 유리 플레이트는 10초 동안 730℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 450℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 31㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지되며, 이로 인해 유효 열 전도율은 0.149 cal/(cm2-s-℃)이다. 결과 제품은 표면 압축 -206 MPa, 중심 인장 100 MPa, 및 평탄도 82㎛를 가진다. 균열에서, 유리 시트는 "다이스(dice)"(2mm 두께 이상의 시트 다이싱에 대한 표준 용어로 사용됨 - 즉, 5x5cm2의 유리 시트가 40개 이상의 조각으로 부서짐)로 관찰되어, 시트가 완전히 템퍼링된 것으로 시사된다.
실시예 7
3.3mm 두께의 보로플로트-33 유리 플레이트는 30초 동안 800℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 550℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 119㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지된다. 결과 제품은 평탄도 120㎛를 가진다. 일부의 균열에서, 유리 시트는 "다이스(dice)"(2mm 두께 이상의 시트 다이싱에 대한 표준 용어로 사용됨 - 즉, 5x5cm2의 유리 시트가 40개 이상의 조각으로 부서짐)로 관찰되어, 시트가 완전히 템퍼링된 것으로 시사된다.
실시예 8
3.2mm 두께의 소다-라임 실리케이트 유리 플레이트는 30초 동안 690℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 450℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 84㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지된다. 결과 제품은 표면 압축 -218 MPa, 중심 인장 105 MPa, 및 평탄도 84㎛를 가진다.
실시예 9
0.3mm 두께의 소다-라임 실리케이트 유리 플레이트는 10초 동안 630℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 450℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 159㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지된다. 결과 제품은 그래이 필드 편광 분석(gray field polarimetry)에 의해 관찰 가능한 멤브레인 응력을 가지고, 이는 유리가 열 응력을 통합했다는 것을 시사한다.
실시예 10
0.1mm 두께의 Corning® Gorilla® 유리 플레이트는 10초 동안 820℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 550℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 141㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지되며, 이로 인해 유효 열 전도율은 0.033 cal/(cm2-s-℃)이다. 균열에서, 결과 제품은 잔류 응력이 있는 유리와 일치하는 행동을 보인다.
실시예 11
1.1mm 두께의 소다-라임 실리케이트 유리 플레이트는 10초 동안 700℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 450℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 65㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지되며, 이로 인해 유효 열 전도율은 0.07 cal/(cm2-s-℃)이다. 결과 제품은 측정된 표면 가상(fictive) 온도 657℃, 표면 압축 -201 MPa, 중심 인장 98 MPa, 평탄도 158㎛ 및 비커스 크래킹 임계값 10-20N를 가진다.
실시예 12
1.1mm 두께의 Corning® Gorilla® 유리 플레이트는 10초 동안 810℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 550℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 86㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지되며, 이로 인해 유효 열 전도율은 0.058 cal/(cm2-s-℃)이다. 결과 제품은 측정된 표면 가상(fictive) 온도 711℃, 표면 압축 -201 MPa, 중심 인장 67 MPa, 및 비커스 크래킹 임계값 20-30N를 가진다.
실시예 13 - 1.1mm 두께의 Corning® Gorilla® 유리 플레이트는 10초 동안 800℃의 T0로 유지되는 고온 영역으로 전달되기 전에 550℃로 10분 동안 예열된다. 평형을 이룬 후, 상기 유리 플레이트는 91㎛의 갭을 가지는 냉각 영역으로 신속히 전달되고, 여기서 유리 플레이트는 10초간 유지된다. 결과 제품은 측정된 표면 가상(fictive) 온도 747℃, 표면 압축 -138 MPa, 중심 인장 53 MPa, 평탄도 66 ㎛ 및 비커스 크래킹 임계값 20-30N를 가진다.
실시예 두께 (mm) 조성물
(㎛)
T0 가스 CS (MPa) CT (MPa) Flatmaster (㎛) 가상
(℃)
비커스
(N)
1 5.7 SLG 91 690 헬륨 -312 127 83 -- --
2 5.7 SLG 91 690 헬륨 -317 133 90 -- --
3 1.1 SLG 56 700 헬륨 -176 89 190 661.3 10-20
4 0.55 SLG 25 720 헬륨 -176 63 125 -- --
5 1.5 GG 226 790 헬륨 -- -- 전 113 /
후 58
-- --
6 0.7 SLG 31 730 헬륨 -206 100 82 -- --
7 3.3 Borofloat 33 119 800 헬륨 -- -- 121 -- --
8 3.2 SLG 84 690 헬륨 -218 105 81 -- --
9 0.3 SLG 159 630 헬륨 -- -- -- -- --
10 0.1 GG 141 820 헬륨 -- -- -- -- --
11 1.1 SLG 65 700 헬륨 -201 98 158 657 10-20
12 1.1 GG 86 810 헬륨 -201 67 -- 711 20-30
13 1.1 GG 91 800 헬륨 -138 53 66 747 20-30
다른 관점들 및 이점들은 전체 명세서 및 첨부된 청구 범위의 검토로부터 명백할 것이다.

Claims (97)

  1. 유리 시트를 강화시키는 방법으로서, 상기 방법은 물질을 포함하는 유리 시트를 냉각하는 단계를 포함하고, 상기 유리 시트는 제1 및 제2 유리 시트 표면을 갖고, 상기 물질은 전이온도를 가지며, 상기 유리 시트는 상기 냉각 단계의 시작시에 전이 온도 보다 높은 온도에 있으며, 여기에서, 상기 냉각 단계는 하기 단계로 수행되는 것을 특징으로 하는 유리 시트를 강화시키는 방법,
    a. 상기 제1 유리 시트 표면으로부터 제1 열 싱크 표면으로 열 전도가 발생하도록, 제1 유리 시트 표면 및 제1 열 싱크 표면 사이에 제1 갭을 갖게끔 제1 열 싱크 표면에 인접하게 상기 제1 유리 시트 표면을 위치시키는 단계, 여기서 상기 제1 갭은 g1의 제1 갭을 가로지른 길이 및 Ag1의 제1 갭의 면적을 갖고,
    b. 상기 제2 유리 시트 표면으로부터 제2 열 싱크 표면으로 열 전도가 발생하도록, 제2 유리 시트 표면 및 제2 열 싱크 표면 사이에 제2 갭을 갖게끔 제2 열 싱크 표면에 인접하게 상기 제2 유리 시트 표면을 위치시키는 단계, 여기서 상기 제2 갭은 g2의 제2 갭을 가로지른 길이 및 Ag2의 제2 갭의 면적을 갖고,
    c. 상기 제1 갭으로 Cp1의 열용량 및 k1의 열전도도를 갖는 제1 가스의 제1 흐름을 m1의 질량 유량으로 제공하는 단계, 및 상기 제2 갭으로 Cp2의 열용량 및 k2의 열전도도를 갖는 제2 가스의 제2 흐름을 m2의 질량 유량으로 제공하는 단계, 여기서, 제1 갭으로의 m1은 0 보다 크고 (2k1Ag1)/(g1Cp)보다 작으며, 제2 갭으로의 m2는 0 보다 크고 (2k2Ag2)/(g2Cp2) 보다 작으며, 여기서, 상기 제1 및 제2 흐름은 상기 유리 시트와 접촉하고, 상기 유리 시트는 대류에 의해서 보다는 더 많이 전도에 의해서 냉각되며,
    d. 상기 유리 시트의 표면 압축 응력 및 중심 인장을 충분히 생성하는 단계.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 열 싱크 표면은 다중 제1 구멍을 갖고, 상기 제2 열 싱크 표면은 다중 제2 구멍을 가지며, 제1 갭으로 제1 가스의 제1 흐름을 제공하는 단계는 오직 다중 제1 구멍을 통해서만 제1 갭으로 제1 가스를 유동시키는 단계를 포함하고, 제2 갭으로 제2 가스의 제2 흐름을 제공하는 단계는 오직 다중 제2 구멍을 통해서만 제2 갭으로 제2 가스를 유동시키는 단계로 이루어지는 유리 시트를 강화시키는 방법.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 유리 시트의 제1 표면의 표면 가상 (fictive) 온도는, 라만 분광법에 의해 측정되었을 때, 상기 유리 시트의 유리 전이 온도보다 적어도 50 ℃ 높은, 유리 시트를 강화시키는 방법.
  4. 유리 시트를 강화시키는 방법으로서,
    a. 유리 시트의 제1 표면 및 제1 열 싱크 사이의 갭으로 전달된 가스의 흐름 또는 압력에 의해, 적어도 부분적으로, 유리 시트의 제1 표면 상에서 유리 시트의 적어도 일부를 지지하는 단계, 여기서 상기 유리 시트는 전이 온도를 갖는 유리를 포함하고, 상기 유리 시트는 상기 유리의 전이 온도보다 높은 온도에 있으며;
    b. 상기 유리 시트의 제1 표면으로부터 상기 가스를 통하여 열 싱크로, 대류에 의해서 보다는 더 많이 열 전도에 의해서 상기 유리 시트를 냉각시키는 단계를 포함하는 유리 시트를 강화시키는 방법.
  5. 장치로서,
    제1 열 싱크 표면을 갖는 제1 열 싱크;
    상기 제1 열 싱크로부터 반대편에 (opposite) 배치된 제2 열 싱크 표면을 갖는 제2 열 싱크; 및
    상기 제1 열 싱크 표면 및 상기 제2 열 싱크 표면 사이의 갭을 포함하고,
    여기서, 상기 갭은 가스로 이루어지고, 및 상기 갭은 가열된 유리 시트를 수용하고, 및 열적으로 강화된 시트를 제공하도록 대류보다는 더 많이 전도에 의해서 상기 가열된 유리 시트를 냉각시키도록 배열된 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 제1 열 싱크 및 상기 제2 열 싱크는 상기 갭 및 가스 소스와 유체 연통하는 복수의 구멍을 포함하고, 여기서 가스는 상기 가스 소스로부터 상기 갭으로 흐르는 장치.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 복수의 구멍은 1 mm 미만의 가장 작은 단면 치수를 포함하고, 상기 복수의 구멍은 각각의 제1 및 제2 열 싱크 표면에 대하여 수직으로부터 20 도 이하의 각도에서 위치되는 장치.
  8. 열적으로 강화된 유리 시트로서,
    상기 유리 시트는 밀리미터로 나타내는 t의 두께, 밀리미터로 나타내는 l의 길이, 밀리미터로 나타내는 w의 너비를 갖고, t는 l 보다 작고, w 보다 작으며;
    상기 유리 시트는 상기 t의 두께에 의해 분리된 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 갖고, 상기 시트의 제1 주 표면은 제1 주 표면의 임의의 50 mm 이하 프로파일을 따라 100 ㎛ 총 표시기 런-아웃 (total indicator run-out, TIR)으로 평탄하며;
    상기 유리 시트는 1/℃로 나타내는 αS CTE의 저온 선형 CTE, 1/℃로 나타내는 αL CTE의 고온 선형 CTE, GPa로 나타내는 E의 탄성 모듈러스, ℃의 단위로 나타내는 Tstrain의 변형 온도, ℃의 단위로 나타내는 Tsoft의 연화 온도를 갖는 유리를 포함하고;
    상기 유리 시트의 제1 주 표면은, 600 MPa보다 작고 MPa의 단위로 나타내는
    Figure 112020079720652-pct00023
    보다 큰, 열적으로 유도된 표면 압축 응력을 갖고,
    여기서 P1
    Figure 112020079720652-pct00024
    로 주어지고,
    P2
    Figure 112020079720652-pct00025
    로 주어지며,
    h는 0.020 cal/s·cm2·℃ 이상인, 열적으로 강화된 유리 시트.
  9. 청구항 8에 있어서,
    상기 제1 주 표면은 10 ㎛ x 10 ㎛의 영역에 걸쳐 0.2 내지 0.7 nm Ra 범위의 조도 (roughness)를 갖는 열적으로 강화된 유리 시트.
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