JP3488163B2 - ブロックポリマー及びこれからなる帯電防止剤 - Google Patents

ブロックポリマー及びこれからなる帯電防止剤

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JP3488163B2
JP3488163B2 JP2000032519A JP2000032519A JP3488163B2 JP 3488163 B2 JP3488163 B2 JP 3488163B2 JP 2000032519 A JP2000032519 A JP 2000032519A JP 2000032519 A JP2000032519 A JP 2000032519A JP 3488163 B2 JP3488163 B2 JP 3488163B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ブロックポリマー
及びこれからなる帯電防止剤に関する。さらに詳しく
は、塗装又は印刷される成形物品に適した帯電防止剤用
のブロックポリマー及びこれからなる帯電防止剤に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】ポリオレフィンのブロックと親水性ポリ
マーのブロックとが繰り返し構造を有するブロックポリ
マーは従来知られていない。一方、ポリオレフィンなど
の熱可塑性樹脂に永久帯電防止性を付与する方法として
はポリエーテルエステルアミド等の帯電防止剤を練り込
む方法が一般的に採用されており、ポリオレフィンとポ
リエーテルエステルアミドとの相溶性を良くするために
高分子量の酸変性ポリオレフィンを併用する方法(例え
ば、特開平1−16234号公報、特開平3−2904
64号公報等)が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法では、結晶性のポリオレフィン成形物表面にポリエー
テルエステルアミドが配向しにくく、且つ剪断がかから
ない押出成形や圧縮成形等では、ポリエーテルエステル
アミド等の帯電防止剤を多量に添加する必要があった。
さらに、相溶性が不十分なため、成形時に金型汚染や、
ロール汚染が発生する問題があった。また、樹脂との相
溶性を上げるために多量の相溶化剤が必要となるため、
樹脂の機械的強度や成形性が低下するという問題は依然
として解決されていなかった。このため、成形法にかか
わらず少量の添加量で永久帯電防止性及び機械的強度に
優れたポリオレフィン系樹脂組成物を与える帯電防止剤
が強く求められていた。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、ポリオレフィンと親水
性ポリマーとのブロックポリマーが、樹脂中、特にポリ
オレフィン中で相溶化剤を必要とすることなく微分散
し、剪断がかからない方法で成形しても少量の添加で成
形体が永久帯電防止性を有し、かつ相溶性も良いために
成形時に金型汚染やロール汚染が発生せず、機械的強度
にも優れる熱可塑性樹脂が得られることを見いだし、本
発明に到達した。すなわち、本発明は、ポリオレフィン
(a)のブロックと、体積固有抵抗値が105〜1011
Ω・cmの親水性ポリマー(b)のブロックとが、エス
テル結合、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合及
びイミド結合から選ばれる少なくとも1種の結合を介し
て、繰り返し交互に結合した構造を有し、(b)が、ポ
リエーテル(b1)、ポリエーテル含有親水性ポリマー
(b2)、カチオン性ポリマー(b3)及びアニオン性
ポリマー(b4)からなる群から選ばれ、(a)のブロ
ックと(b)のブロックとの繰り返し単位の平均繰り返
し数が2〜50であることを特徴とするブロックポリマ
ー(A);ポリオレフィン(a)のブロックと、体積固
有抵抗値が105〜1011Ω・cmの親水性ポリマー
(b)のブロックとが、繰り返し交互に結合した構造を
有し、(b)が、分子内に非イオン性分子鎖(c1)で
隔てられた2〜80個のカチオン性基(c2)を有する
カチオン性ポリマー(b3)であり、(c2)の対アニ
オンが、プロトン酸(d1)とルイス酸(d2)との組
み合わせからなる超強酸のアニオンであることを特徴と
するブロックポリマー(A);ポリオレフィン(a)の
ブロックと、体積固有抵抗値が105〜1011Ω・cm
の親水性ポリマー(b)のブロックとが、繰り返し交互
に結合した構造を有し、(b)が、スルホニル基を有す
るジカルボン酸(e1)と、ジオール(b0)又はポリ
エーテル(b1)とを必須構成単位とし、かつ分子内に
2〜80個のスルホニル基を有するアニオン性ポリマー
(b4)であることを特徴とするブロックポリマー
(A);ポリオレフィン(a)のブロックと、体積固有
抵抗値が105〜1011Ω・cmの親水性ポリマー
(b)のブロックとが、(a)−(b)型又は(a)−
(b)−(a)型に結合した構造を有し、(b)が、ポ
リエーテルジオールのセグメントを有するポリエーテル
エステルアミド(b2−1)、ポリエーテルジオールの
セグメントを有するポリエーテルアミドイミド(b2−
2)、ポリエーテルジオールのセグメントを有するポリ
エーテルエステル(b2−3)、ポリエーテルジアミン
のセグメントを有するポリエーテルアミド(b2−4)
及びポリエーテルジオールもしくはポリエーテルジアミ
ンのセグメントを有するポリエーテルウレタン(b2−
5)からなる群から選ばれる、ポリエーテル含有親水性
ポリマー(b2)であることを特徴とするブロックポリ
マー(A);該ブロックポリマー(A)を含有してなる
帯電防止剤;該(A)と熱可塑性樹脂(B)とからなる
樹脂組成物;並びに該(A)を含有してなる樹脂組成物
からなる成形体に塗装又は印刷を施してなる成形物品で
ある。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明のブロックポリマー(A)
は、(a)のブロックと、(b)のブロックとが、エス
テル結合、アミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、
イミド結合から選ばれる少なくとも1種の結合を介して
繰り返し交互に結合した構造を有する。ブロックポリマ
ー(A)を構成するポリオレフィン(a)のブロックと
しては、カルボニル基(好ましくは、カルボキシル基、
以下同じ。)をポリマーの両末端に有するポリオレフィ
ン(a1)、水酸基をポリマーの両末端に有するポリオ
レフィン(a2)、アミノ基をポリマーの両末端に有す
るポリオレフィン(a3)が使用できる。さらに、カル
ボニル基をポリマーの片末端に有するポリオレフィン
(a4)、水酸基をポリマーの片末端に有するポリオレ
フィン(a5)、アミノ基をポリマーの片末端に有する
ポリオレフィン(a6)が使用できる。このうち、変性
のし易さからカルボニル基を有するポリオレフィン(a
1)及び(a4)が好ましい。
【0006】(a1)としては、両末端が変性可能なポ
リオレフィンを主成分(含量50%以上、好ましくは7
5%以上)とするポリオレフィン(a0)の両末端にカ
ルボニル基を導入したものが用いられる。(a2)とし
ては、(a0)の両末端に水酸基を導入したものが用い
られる。(a3)としては、(a0)の両末端にアミノ
基を導入したものが用いられる。(a0)としては、炭
素数2〜30のオレフィンの1種又は2種以上の混合物
(好ましくは炭素数2〜12のオレフィン、特に好まし
くはプロピレン及び/又はエチレン)の重合によって得
られるポリオレフィン、及び高分子量のポリオレフィン
(炭素数2〜30のオレフィン、好ましくは炭素数2〜
12のオレフィンの重合によって得られるポリオレフィ
ン、特に好ましくはポリプロピレン及び/又はポリエチ
レン)の熱減成法によって得られる低分子量ポリオレフ
ィンが挙げられる。
【0007】(a0)のゲルパーミエションクロマトグ
ラフィーによる数平均分子量(以下、Mnと略する。)
は、通常800〜20,000、好ましくは1,000
〜10,000、特に好ましくは1,200〜6,00
0である。なお、Mnの測定条件は以下の通りである
(以下、Mnは同じ条件で測定するものである。) 装 置 :高温ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー(GPC) 溶 媒 :オルトジクロロベンゼン 基準物質 :ポリスチレン サンプル濃度:3mg/ml カラム温度 :135℃ (a0)としては、炭素数1000当たり1〜40個、
好ましくは1〜30個、特に好ましくは4〜20個の二
重結合を有するものである。変性のしやすさの点で、熱
減成法による低分子量ポリオレフィン(特にMnが1,
200〜6,000のポリエチレン及びポリプロピレ
ン)が好ましい。熱減成法による低分子量ポリオレフィ
ンでは、Mnが800〜6,000の範囲で、一分子当
たりの平均末端二重結合量が1.5〜2個のものが得ら
れる〔村田勝英、牧野忠彦、日本化学会誌、p192
(1975)〕。熱減成法による低分子量ポリオレフィ
ンは、例えば特開平3−62804号公報記載の方法に
より得ることができる。
【0008】(a4)としては、片末端が変性可能なポ
リオレフィンを主成分(含量50%以上、好ましくは7
5%以上)とするポリオレフィン(a00)の片末端に
カルボニル基を導入したものが用いられる。(a5)と
しては、(a00)の片末端に水酸基を導入したものが
用いられる。(a6)としては、(a00)の片末端に
アミノ基を導入したものが用いられる。(a00)は、
(a0)と同様にして得ることができ、(a00)のM
nは、通常2,000〜50,000、好ましくは2,
500〜30,000、特に好ましくは3,000〜2
0,000である。(a00)としては、炭素数100
0当たり0.3〜20個、好ましくは0.5〜15個、
特に好ましくは0.7〜10個の二重結合を有するもの
である。変性のしやすさの点で、熱減成法による低分子
量ポリオレフィン(特にMnが2,000〜20,00
0のポリエチレン及び/又はポリプロピレン)が好まし
い。熱減成法による低分子量ポリオレフィンでは、Mn
が5,000〜30,000の範囲で、一分子当たりの
平均末端二重結合量が1〜1.5個のものが得られる。
なお、(a0)及び(a00)は、通常これらの混合物
として得られるが、これらの混合物をそのまま使用して
もよく、精製分離してから使用しても構わない。製造コ
スト等の観点から、混合物として使用するのが好まし
い。
【0009】(a1)としては、(a0)の末端をα、
β不飽和カルボン酸(無水物)で変性したカルボニル基
を有するポリオレフィン(a1−1)、(a1−1)を
ラクタム又はアミノカルボン酸で二次変性したカルボニ
ル基を有するポリオレフィン(a1−2)、(a0)を
酸素及び/若しくはオゾンによる酸化又はオキソ法によ
るヒドロホルミル化により変性したカルボニル基を有す
るポリオレフィン(a1−3)、(a1−3)をラクタ
ム又はアミノカルボン酸で二次変性したカルボニル基を
有するポリオレフィン(a1−4)、及びこれらの2種
以上の混合物が使用できる。
【0010】(a1−1)は、(a0)をα,β−不飽
和カルボン酸(無水物)(α,β−不飽和カルボン酸及
び/又はその無水物を意味し、以下、同様の表現を用い
る)により変性することにより得ることができる。変性
に用いられるα,β−不飽和カルボン酸(無水物)とし
ては、モノカルボン酸、ジカルボン酸及びこれらの無水
物、例えば(メタ)アクリル酸、マレイン酸(無水
物)、フマル酸、イタコン酸(無水物)及びシトラコン
酸(無水物)等が挙げられる。これらのうち好ましいも
のはマレイン酸(無水物)及びフマル酸、特に好ましく
はマレイン酸(無水物)である。変性に使用するα、β
−不飽和カルボン酸(無水物)の量は、ポリオレフィン
(a0)又は(a00)の重量に基づき、通常0.5〜
40%、好ましくは1〜30%である(上記及び以下に
おいて、%は重量%を表わす。)。α,β−不飽和カル
ボン酸(無水物)による変性は、(a0)の末端二重結
合に、溶液法又は溶融法のいずれかの方法で、α,β−
不飽和カルボン酸(無水物)を熱的に付加(エン反応)
させることにより行うことができる。(a0)にα,β
−不飽和カルボン酸(無水物)を反応させる温度は、通
常170〜230℃である。
【0011】(a1−2)は、(a1−1)をラクタム
又はアミノカルボン酸で二次変性することにより得るこ
とができる。二次変性に用いるラクタムとしては、炭素
数6〜12のラクタム、例えば、カプロラクタム、エナ
ントラクタム、ラウロラクタム及びウンデカノラクタム
等が挙げられる。また、アミノカルボン酸としては、炭
素数2〜12のアミノカルボン酸、例えば、グリシン、
アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシン及びフェニ
ルアラニン等のアミノ酸、ω−アミノカプロン酸、ω−
アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノ
ペルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウン
デカン酸、及び12−アミノドデカン酸等が挙げられ
る。これらのうち好ましいのは、カプロラクタム及び1
2−アミノドデカン酸である。二次変性に用いるラクタ
ム又はアミノカルボン酸の量は、(a1−1)中のα、
β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり0.1
〜50個、好ましくは0.3〜20個、特に好ましくは
0.5〜10個、最も好ましくは1個である。
【0012】(a1−3)は、(a0)を酸素及び/若
しくはオゾンにより酸化又はオキソ法によりヒドロホル
ミル化することにより得ることができる。酸化によるカ
ルボニル基の導入は、例えば米国特許第3,692,8
77号明細書記載の方法で行うことができる。
【0013】(a1−4)は、(a1−3)をラクタム
又はアミノカルボン酸で二次変性することにより得るこ
とができる。ラクタム及びアミノカルボン酸は、(a1
−2)で使用できるものと同じものが使用できる。
【0014】(a1)のMnは、通常800〜25,0
00、好ましくは1,000〜20,000、特に好ま
しくは2,500〜10,000である。Mnが800
〜25,000の範囲であると、耐熱性の点及び後述す
る親水性ポリマー(b)との反応性の点で好ましい。ま
た、該(a1)の酸価は、通常4〜280(mgKOH
/g、以下、数値のみを記載する。)、好ましくは4〜
100、特に好ましくは5〜50である。酸価がこの範
囲であると、後述する親水性ポリマー(b)との反応性
の点で好ましい。
【0015】(a2)としては、(a1)をヒドロキシ
ルアミンで変性したヒドロキシル基を有するポリオレフ
ィン、及びこれらの2種以上の混合物が使用できる。変
性に使用できるヒドロキシルアミンとしては、炭素数2
〜10のヒドロキシルアミン、例えば、2−アミノエタ
ノール、3−アミノプロパノール、1−アミノ−2−プ
ロパノール、4−アミノブタノール、5−アミノペンタ
ノール、6−アミノヘキサノール、3−アミノメチル−
3,5,5−トリメチルシクロヘキサノール等が挙げら
れる。これらのうち好ましいのは、2−アミノエタノー
ルである。ヒドロキシルアミンによる変性は、(a1)
とヒドロキシルアミンとを直接反応させることにより行
うことができる。反応温度は、通常120〜230℃で
ある。変性に用いるヒドロキシルアミンのヒドロキシル
基の量は、(a1)中のα、β不飽和カルボン酸(無水
物)の残基1個当たり0.1〜2個、好ましくは0.3
〜1.5個、特に好ましくは0.5〜1.2個、最も好
ましくは1個である。
【0016】(a2)のMnは、通常800〜25,0
00、好ましくは1,000〜20,000、特に好ま
しくは2,500〜10,000である。Mnが800
〜25,000の範囲であると、耐熱性の点及び後述す
る親水性ポリマー(b)との反応性の点で好ましい。ま
た、(a2)の水酸基価は、通常4〜280(mgKO
H/g、以下、数値のみを記載する。)、好ましくは4
〜100、特に好ましくは5〜50である。水酸基価が
この範囲であると、後述する親水性ポリマー(b)との
反応性の点で好ましい。
【0017】(a3)としては、(a1)をジアミン
(Q1−3)で変性したアミノ基を有するポリオレフィ
ン、及びこれらの2種以上の混合物が使用できる。この
変性に用いるジアミン(Q1−3)としては、炭素数2
〜18、好ましくは2〜12のジアミン、例えば、エチ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレ
ンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジ
アミン等が挙げられる。これらのうち好ましいのは、エ
チレンジアミンである。ジアミンによる変性は、(a
1)とジアミン(Q1−3)とを直接反応させることに
より行うことができる。反応温度は、通常120〜23
0℃である。変性に用いるジアミンのアミノ基の量は、
(a1)中のα、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基
1個当たり0.1〜2個、好ましくは0.3〜1.5
個、特に好ましくは0.5〜1.2個、最も好ましくは
1個である。
【0018】(a3)のMnは、通常800〜25,0
00、好ましくは1,000〜20,000、特に好ま
しくは2,500〜10,000である。Mnが800
〜25,000の範囲であると、耐熱性の点及び後述す
る親水性ポリマー(b)との反応性の点で好ましい。ま
た、(a3)のアミン価は、通常4〜280(mgKO
H/g、以下、数値のみを記載する。)、好ましくは4
〜100、特に好ましくは5〜50である。アミン価が
この範囲であると、後述する親水性ポリマー(b)との
反応性の点で好ましい。
【0019】(a4)としては、(a00)の末端を
α、β不飽和カルボン酸(無水物)で変性したカルボニ
ル基を有するポリオレフィン(a4−1)、(a4−
1)をラクタム又はアミノカルボン酸で二次変性したカ
ルボニル基を有するポリオレフィン(a4−2)、(a
00)を酸素及び/若しくはオゾンによる酸化又はオキ
ソ法によるヒドロホルミル化により変性したカルボニル
基を有するポリオレフィン(a4−3)、(a4−3)
をラクタム又はアミノカルボン酸で二次変性したカルボ
ニル基を有するポリオレフィン(a4−4)、及びこれ
らの2種以上の混合物が使用できる。(a4)は、(a
1)と同様にして得ることができる。(a4)のMn
は、通常800〜50,000、好ましくは1,000
〜30,000、特に好ましくは2,000〜20,0
00である。Mnが800〜50,000の範囲である
と、耐熱性の点及び後述する親水性ポリマー(b)との
反応性の点で好ましい。また、(a4)の酸価は、好ま
しくは1〜70、特に好ましくは2〜50である。酸価
がこの範囲であると、後述する親水性ポリマー(b)と
の反応性の点で好ましい。
【0020】(a5)としては、(a4)をヒドロキシ
ルアミンで変性したポリオレフィン(a5−1)、及び
これらの2種以上の混合物が使用できる。(a5)は、
(a2)と同様にして得ることができる。(a5)のM
nは、通常800〜50,000、好ましくは1,00
0〜30,000、特に好ましくは2,000〜20,
000である。Mnが800〜50,000の範囲であ
ると、耐熱性の点及び後述する親水性ポリマー(b)と
の反応性の点で好ましい。また、(a5)の水酸基価
は、好ましくは1〜70、特に好ましくは2〜50であ
る。水酸基価がこの範囲であると、後述する親水性ポリ
マー(b)との反応性の点で好ましい。
【0021】(a6)としては、(a4)をジアミン
(Q1−3)で変性したポリオレフィン、及びこれらの
2種以上の混合物が使用できる。(a6)は、(a3)
と同様にして得ることができる。(a6)のMnは、通
常800〜50,000、好ましくは1,000〜3
0,000、特に好ましくは2,000〜20,000
である。Mnが800〜50,000の範囲であると、
耐熱性の点及び後述する親水性ポリマー(b)との反応
性の点で好ましい。また、(a6)のアミン価は、好ま
しくは1〜70、特に好ましくは2〜50である。アミ
ン価がこの範囲であると、後述する親水性ポリマー
(b)との反応性の点で好ましい。なお、(a1)と
(a4)は、通常これらの混合物として得られるが、こ
れらの混合物をそのまま使用してもよく、精製分離して
から使用しても構わない。製造コスト等の観点から、混
合物として使用するのが好ましい。また、(a2)と
(a5)及び(a3)と(a6)も同様に混合物のまま
使用してもよく、製造コスト等の観点から、混合物とし
て使用するのが好ましい。
【0022】ブロックポリマー(A)を構成する親水性
ポリマー(b)としては、ポリエーテル(b1)、ポリ
エーテル含有親水性ポリマー(b2)、カチオン性ポリ
マー(b3)及びアニオン性ポリマー(b4)が使用で
きる。(b1)としては、ポリエーテルジオール(b1
−1)、ポリエーテルジアミン(b1−2)、及びこれ
らの変性物(b1−3)が使用できる。(b2)として
は、ポリエーテルセグメント形成成分としてポリエーテ
ルジオール(b1−1)のセグメントを有するポリエー
テルエステルアミド(b2−1)、同じく(b1−1)
のセグメントを有するポリエーテルアミドイミド(b2
−2)、同じく(b1−1)のセグメントを有するポリ
エーテルエステル(b2−3)、同じく(b1−2)の
セグメントを有するポリエーテルアミド(b2−4)及
び同じく(b1−1)又は(b1−2)のセグメントを
有するポリエーテルウレタン(b2−5)が使用でき
る。(b3)としては、非イオン性分子鎖(c1)で隔
てられた2〜80個、好ましくは3〜60個のカチオン
性基(c2)を分子内に有するカチオン性ポリマーが使
用できる。(b4)としては、スルホニル基を有するジ
カルボン酸(e1)と、ジオール(b0)又はポリエー
テル(b1)とを必須構成単位とし、かつ分子内に2〜
80個、好ましくは3〜60個のスルホニル基を有する
アニオン性ポリマーが使用できる。
【0023】該親水性ポリマー(b)の体積固有抵抗値
(後述の方法で、23℃,50%RHの雰囲気下で測定
される値)は、105〜1011Ω・cm、好ましくは1
6〜109Ω・cmである。体積固有抵抗値が1×10
11Ω・cmを超えると帯電防止性が低下する。
【0024】(b)のうち、まず、ポリエーテル(b
1)について説明する。(b1)のうち、ポリエーテル
ジオール(b1−1)は、ジオール(b0)にアルキレ
ンオキサイドを付加反応させることにより得られる構造
のものであり、一般式:H−(OA1)m−O−E1−O
−(A1O)m’−Hで示されるものが挙げられる。式
中、E1はジオール(b0)から水酸基を除いた残基、
1は炭素数2〜4のアルキレン基、m及びm’はジオ
ール(b0)の水酸基1個当たりのアルキレンオキサイ
ド付加数を表す。m個の(OA1)とm’個の(A1O)
とは、同一でも異なっていてもよく、また、これらが2
種以上のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形
式はブロック若しくはランダム又はこれらの組合せのい
ずれでもよい。m及びm’は、通常1〜300、好まし
くは2〜250、特に好ましくは10〜100の整数で
ある。また、mとm’とは、同一でも異なっていてもよ
い。
【0025】ジオール(b0)としては、二価アルコー
ル(例えば炭素数2〜12の脂肪族、脂環式若しくは芳
香族二価アルコール)、炭素数6〜18の二価フェノー
ル及び三級アミノ基含有ジオールが挙げられる。脂肪族
二価アルコールとしては、例えば、アルキレングリコー
ル(エチレングリコール、プロピレングリコール)、
1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、
ネオペンチルグリコール、1,12−ドデカンジオール
が挙げられる。脂環式二価アルコールとしては、例え
ば、シクロヘキサンジメタノールが挙げられ、芳香族二
価アルコールとしては、例えば、キシリレンジオール等
が挙げられる。二価フェノールとしては、例えば、単環
二価フェノール(ハイドロキノン、カテコール、レゾル
シン、ウルシオール等)、ビスフェノール(ビスフェノ
ールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、4,
4’−ジヒドロキシジフェニル−2,2−ブタン、ジヒ
ドロキシビフェニル等)及び縮合多環二価フェノール
(ジヒドロキシナフタレン、ビナフトール等)が挙げら
れる。
【0026】三級アミノ基含有ジオールとしては、例え
ば、炭素数1〜12の脂肪族又は脂環式一級モノアミン
(メチルアミン、エチルアミン、シクロプロピルアミ
ン、1−プロピルアミン、2−プロピルアミン、アミル
アミン、イソアミルアミン、ヘキシルアミン、1,3−
ジメチルブチルアミン、3,3−ジメチルブチルアミ
ン、2−アミノヘプタン、3−アミノヘプタン、シクロ
ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミ
ン、ヘプチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウ
ンデシルアミン、ドデシルアミン等)のビスヒドロキシ
アルキル化物及び炭素数6〜12の芳香族一級モノアミ
ン(アニリン、ベンジルアミン等)のビスヒドロキシア
ルキル化物が挙げられる。これらのうち好ましいのは、
脂肪族二価アルコール及びビスフェノール、特に好まし
くはエチレングリコール及びビスフェノールAである。
【0027】ポリエーテルジオール(b1−1)は、ジ
オール(b0)にアルキレンオキサイドを付加反応させ
ることにより製造することができる。アルキレンオキサ
イドとしては、炭素数2〜4のアルキレンオキサイド
(エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、1,2
−、1,4−、2,3−又は1,3−ブチレンオキサイ
ド及びこれらの2種以上の併用系が用いられるが、必要
により他のアルキレンオキサイド又は置換アルキレンオ
キサイド(以下、これらも含めてアルキレンオキサイド
と総称する。)、例えば炭素数5〜12のα−オレフィ
ン、スチレンオキサイド、エピハロヒドリン(エピクロ
ルヒドリン等)を少しの割合(例えば、全アルキレンオ
キサイドの重量に基づいて30%以下)で併用すること
もできる。2種以上のアルキレンオキサイドを併用する
ときの結合形式はランダム及び/又はブロックのいずれ
でもよい。アルキレンオキサイドとして好ましいもの
は、エチレンオキサイド単独及びエチレンオキサイドと
他のアルキレンオキサイドとの併用(ブロック及び/又
はラダム付加)である。アルキレンオキサイドの付加数
は、(b0)の水酸基1個当り、通常1〜300、好ま
しくは2〜250、特に好ましくは10〜100の整数
である。
【0028】アルキレンオキサイドの付加は、公知方
法、例えばアルカリ触媒の存在下、100〜200℃の
温度で行なうことができる。(b1−1)中の炭素数2
〜4のオキシアルキレン単位の含量は、通常5〜99.
8%、好ましくは8〜99.6%、特に好ましくは10
〜98%である。ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエ
チレン単位の含量は、通常5〜100%、好ましくは1
0〜100%、さらに好ましくは50〜100%、特に
好ましくは60〜100%である。
【0029】ポリエーテルジアミン(b1−2)は、一
般式:H2N−A2−(OA1)m−O−E1−O−(A
1O)m’−A2−NH2(式中の記号E1,A1、m及び
m’は前記と同様であり、A2は炭素数2〜4のアルキ
レン基である。A1とA2とは同じでも異なっても良
い。)で示されるものが使用できる。(b1−2)は、
(b1−1)の水酸基を公知の方法によりアミノ基に変
えることにより得ることができ、例えば、(b1−1)
の水酸基をシアノアルキル化しして得られる末端を還元
してアミノ基としたものが使用できる。例えば(b1−
1)とアクリロニトリルとを反応させ、得られるシアノ
エチル化物を水素添加することにより製造することがで
きる。
【0030】変性物(b1−3)としては、例えば、
(b1−1)又は(b1−2)のアミノカルボン酸変性
物(末端アミノ基)、同イソシアネート変性物(末端イ
ソシアネート基)及び同エポキシ変性物(末端エポキシ
基)が挙げられる。アミノカルボン酸変性物は、(b1
−1)又は(b1−2)と、アミノカルボン酸又はラク
タムとを反応させることにより得ることができる。イソ
シアネート変性物は、(b1−1)又は(b1−2)
と、後述のような有機ジイソシアネートとを反応させる
か、(b1−2)とホスゲンとを反応させることにより
得ることができる。エポキシ変性物は、(b1−1)又
は(b1−2)と、ジエポキシド(ジグリシジルエーテ
ル、ジグリシジルエステル、脂環式ジエポキシドなどの
エポキシ樹脂:エポキシ当量85〜600)とを反応さ
せるか、(b1−1)とエピハロヒドリン(エピクロル
ヒドリン等)とを反応させることにより得ることができ
る。
【0031】ポリエーテル(b1)のMnは、通常15
0〜20,000であり、耐熱性及び(a)との反応性
の観点から、好ましくは300〜20,000、さらに
好ましくは1,000〜15,000、特に好ましくは
1,200〜8,000である。
【0032】次に、ポリエーテル含有親水性ポリマー
(b2)について説明する。(b2)には、下記一般式
(19)で示されるものが含まれる。
【化9】 R12−(NH−A2)p−O−E3−O-(A2−NH)p-R13 (19) 式(19)中、E3はポリエーテル基含有親水性ポリマ
ー残基、R12及びR13は水素原子、式−CO−NH−E
2−NHCOO−R14−NH2、式−CO−NH−E2
NCO、式−G又は式−CH2CH(OH)CH2-O−
4−O−Gで示される基、pは0又は1、A2は炭素数
2〜4のアルキレン基又は式−(R15-CO)r−で示さ
れる基、R15は炭素数1〜11の2価の炭化水素基(以
下、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基のいずれをも含
む)、rは1〜10の整数、R14は炭素数2〜12の2
価の炭化水素基、E2は有機ジイソシアネートの残基、
Gはグリシジル基、E4はジグリシジルエーテル(G−
O−E4-O−G)からグリシジルオキシ基を除いた残基
を表す。R12,R13として好ましいのは、水素原子及び
式−CO−NH−E2−NCOで示される基、特に好ま
しくは水素原子である。
【0033】式(19)中のE3としては、下記一般式
(20)で示されるものが挙げられる。
【化10】 −〔E5−D−Z〕w−(D−E5)u− (20) 式(20)中、E5はポリエーテル(b1)の残基、D
は酸素原子及び/又はイミノ基、Zはポリエステルアミ
ド、ポリアミドイミド、ポリエステル、ポリアミド及び
ポリウレタンからなる群から選ばれるポリマーのセグメ
ントであり、好ましくは下記一般式(21)〜(27)
で示される基、uは0又は1である。wは、親水性ポリ
マーの構成単位(E5−D−Z)の繰り返し数を表し、
通常2〜50、好ましくは3〜30の整数である。wを
この範囲にすることが帯電防止性及びブロックポリマー
(A)からなる樹脂組成物の成形性の点から好ましい。
【0034】
【化11】
【0035】式中、E6は炭素数4〜20のジカルボン
酸からカルボキシル基を除いた残基、E7は三価若しく
は四価の芳香族カルボン酸から3個のカルボキシル基を
除いた残基、E8は炭素数4〜12のジカルボン酸と炭
素数2〜12のジアミン(Q1−3)とのモノアミド及
び炭素数6〜12のアミノカルボン酸からなる群から選
ばれるポリアミド形成成分から末端のアミノ基とカルボ
キシル基とを除いた残基、E9は炭素数4〜12のジカ
ルボン酸と前述したジオール(b0)とのエステル及び
炭素数6〜12のオキシカルボン酸からなる群から選ば
れるポリエステル形成成分から末端の水酸基とカルボキ
シル基を除いた残基、s、s’、s”は0又は1〜50
の整数、(s+s’)は少なくとも1、A3は炭素数2
〜4のアルキレン基又は式−R16−CO−で示される
基、R16は炭素数1〜11の2価の炭化水素基、qは0
又は1〜10の整数、E10は式−CO−D−E11−D−
CO−NH−E2−NH−で示される基、E2は有機ジイ
ソシアネートの残基、Dは酸素原子及び/又はイミノ
基、E11は鎖伸張剤の残基である。
【0036】ポリエーテルエステルアミド(b2−1)
は、末端にカルボキシル基を有するポリアミド(Q1)
とポリエーテルジオール(b1−1)とから構成され
る。また、(b2−1)は、一般式(20)で示される
3中のZが一般式(21)で示されるポリアミドセグ
メントであるものである。(Q1)としては、ラクタム
(Q1−1)の開環重合体;アミノカルボン酸(Q1−
2)の重縮合体;ジカルボン酸(Q1−4)とジアミン
(Q1−3)とのアミド(Q1−5);及びこれらの混
合物が用いられる。(Q1−4)は、重合時の分子量調
整剤としても使用できる。
【0037】ラクタム(Q1−1)としては、炭素数6
〜12のラクタム、例えば、カプロラクタム、エナント
ラクタム、ラウロラクタム、ウンデカノラクタム等が挙
げられる。アミノカルボン酸(Q1−2)としては、炭
素数6〜12のアミノカルボン酸、例えば、ω−アミノ
カプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリ
ル酸、ω−アミノペラルゴン酸、ω−アミノカプリン
酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン
酸等が挙げられる。ジアミン(Q1−3)としては、炭
素数2〜20の脂肪族ジアミン(エチレンジアミン、プ
ロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、1,12
−ドデカンジアミン等)、炭素数6〜15の脂環式ジア
ミン(1,4−シクロヘキシレンジアミン、イソホロン
ジアミン、4,4’−ジアミノシクロヘキシルメタン
等)、炭素数8〜15の芳香脂肪族ジアミン(キシリレ
ンジアミン等)、炭素数6〜15の芳香族ジアミン[p
−フェニレンジアミン、2,4−又は2,6−トルエン
ジアミン、2,2−ビス(4,4’−ジアミノフェニ
ル)プロパン等]が挙げられる。ジカルボン酸(Q1−
4)としては、炭素数4〜20のジカルボン酸、例え
ば、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、
スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカンジ
酸、ドデカンジ酸等の脂肪族ジカルボン酸;テレフタル
酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレン−2,6−又
は−2,7−ジカルボン酸、ジフェニル−4,4´ジカ
ルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、3−スル
ホイソフタル酸のスルホン酸アルカリ金属塩(ナトリウ
ム塩、カリウム塩など)等の芳香族ジカルボン酸;1,
4−シクロヘキサンジカルボン酸、ジシクロヘキシル−
4,4´−ジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸が挙げ
られる。また、これらのエステル形成性誘導体{低級ア
ルキル(炭素数1〜6)エステル、無水物など}を用い
ることもできる。
【0038】(Q1)として好ましいものは、カプロラ
クタムの開環重合体、12−アミノドデカン酸の重縮合
体及びアジピン酸とヘキサメチレンジアミンとのアミド
であり、特に好ましいものはカプロラクタムの開環重合
体である。(Q1)は、例えば、炭素数4〜20のジカ
ルボン酸(Q1−4)を分子量調整剤として使用し、こ
れの存在下に上記アミド形成性モノマーを常法により開
環重合あるいは重縮合させることによって得られる。分
子量調整剤として(Q1−4)のうち好ましいものは、
脂肪族ジカルボン酸、芳香族ジカルボン酸及び3−スル
ホイソフタル酸のスルホン酸アルカリ金属塩であり、特
に好ましいものはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル
酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸のスル
ホン酸ナトリウム塩である。(Q1)のMnは、耐熱性
の点から200以上、特に500以上が好ましく、反応
性の点から5,000以下、特に3,000以下が好ま
しい。(b2−1)として、具体的には、例えば特開平
6−287547号公報及び特公平5−413号に記載
のものが挙げられる。
【0039】ポリエーテルアミドイミド(b2−2)
は、少なくとも1個のイミド環を有するポリアミドイミ
ド(Q2)と、ポリエーテルジオール(b1−1)とか
ら構成される。また、(b2−2)は、一般式(20)
で示されるE3中のZが一般式(22)で示されるポリ
アミドイミドセグメントであるものである。(Q2)と
しては、ラクタム(Q1−1)と少なくとも1個のイミ
ド環を形成しうる三価若しくは四価の芳香族ポリカルボ
ン酸(Q2−1)とからなる重合体;アミノカルボン酸
(Q1−2)と(Q2−1)とからなる重合体;ジアミ
ン(Q1−3)とジカルボン酸(Q1−4)とのアミド
(Q1−5)と(Q2−1)とからなる重合体;及びこ
れらの混合物が用いられる。(Q1−4)は、重合時の
分子量調整剤としても使用できる。
【0040】(Q2)成分としては、アミノ基と反応し
て少なくとも1つのイミド環を形成しうる三価若しくは
四価の芳香族カルボン酸又はこれらのカルボン酸の無水
物が用いられる。このような芳香族カルボン酸には、炭
素数が9〜20の単環又は多環カルボン酸が含まれる。
三価のカルボン酸としては、例えば1,2,4−トリメ
リット酸、1,2,5−ナフタレントリカルボン酸、
2,6,7−ナフタレントリカルボン酸、3,3’,4
−ジフェニルトリカルボン酸、ベンゾフェノン−3,
3’,4−トリカルボン酸、ジフェニルスルホン−3,
3’,4−トリカルボン酸、ジフェニルエーテル−3,
3’,4−トリカルボン酸などが挙げられる。また、四
価のカルボン酸としては、例えばピロメリット酸、ジフ
ェニル−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、ベン
ゾフェノン−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、
ジフェニルスルホン−2,2’,3,3’−テトラカル
ボン酸、ジフェニルエーテル−2,2’,3,3’−テ
トラカルボン酸などが挙げられる。(b2−2)の具体
例としては、例えば特公平7−119342号公報に記
載のラクタム(Q1−1)(例えば、カプロラクタ
ム)、芳香族ポリカルボン酸(Q2)及びポリエーテル
ジオール(b1−1)から誘導されるポリエーテルアミ
ドイミドが挙げられる。
【0041】ポリエーテルエステル(b2−3)は、ポ
リエステル(Q3)と、ポリエーテルジオール(b1−
1)とから構成される。また、(b2−3)は、一般式
(20)で示されるE3中のZが一般式(23)又は
(24)で示されるポリエステルセグメントであるもの
である。(Q3)としては、ジカルボン酸(Q1−4)
と(b0)とのポリエステル(Q3−1);炭素数6〜
12のラクトン若しくはオキシカルボン酸のポリエステ
ル(Q3−2);及びこれらの混合物が用いられる。
(Q1−4)は、重合時の分子量調整剤としても使用で
きる。ラクトンとしては、炭素数6〜12のラクトン、
例えば、カプロラクトン、エナントラクトン、ラウロラ
クトン、ウンデカノラクトン等が挙げられる。オキシカ
ルボン酸としては、炭素数6〜12のオキシカルボン
酸、例えば、ω−オキシカプロン酸、ω−オキシエナン
ト酸、ω−オキシカプリル酸、ω−オキシペラルゴン
酸、ω−オキシカプリン酸、11−オキシウンデカン
酸、12−オキシドデカン酸等が挙げられる。(b2−
3)は、(b1−1)又は(b1−2)と、(Q1−
4)若しくはこのエステル形成性誘導体〔低級アルキル
(炭素数1〜6)エステル、無水物など)〕及び必要に
より(b0)又は(Q3−2)とを反応(重縮合,エス
テル交換又は開環)させることにより製造することがで
きる。(b2−3)の具体例としては、例えば特公昭5
8−19696号、特公昭46−11480号、特開昭
56−92919号、特開昭49−33948号、特公
昭38−11298号各公報に記載のポリエーテルエス
テルが挙げられる。
【0042】ポリエーテルアミド(b2−4)は、ポリ
アミド(Q1)とポリエーテルジアミン(b1−2)と
から構成される。また、(b2−4)は、一般式(2
0)で示されるE3中のZが一般式(25)で示される
ポリアミドセグメントであるものである。
【0043】ポリエーテルウレタン(b2−5)は、有
機ジイソシアネート(OCN−E2−NCO)と、(b
1−1)又は(b1−2)及び必要により鎖伸長剤(H
−D−E11−D−H)とから構成される。なお、E2
11及びDは、一般式(26)及び(27)中のE10
のE2、E 11及びDと同じものである。(b2−5)
は、一般式(20)で示されるE3中のZが一般式(2
6)又は(27)で示されるポリウレタン(若しくはポ
リウレタンウレア)セグメントであるものである。
【0044】Zが一般式(26)で示されるポリウレタ
ンセグメントを構成するポリエーテル基含有親水性ポリ
マー(b)としては、有機ジイソシアネート(OCN−
2−NCO)と、ポリエーテルジオール(b1−1)
及び必要により鎖伸長剤を用いたポリエーテルウレタ
ン、例えば特公昭47−35300号、特開昭62−2
36854号、特公平3−296565号各公報に記載
のものが挙げられる。Zが一般式(27)で示されるポ
リウレタンウレアセグメントを構成するポリエーテル基
含有親水性ポリマー(b)としては、有機ジイソシアネ
ート(OCN−E2−NCO)とポリエーテルジオール
(b1−2)及び必要により鎖伸長剤を用いたものが挙
げられる。
【0045】有機ジイソシアネート(OCN−E2−N
CO)としては、炭素数(NCO基中の炭素を除く、以
下同様)6〜20の芳香族ジイソシアネート、炭素数2
〜18の脂肪族ジイソシアネート、炭素数4〜15の脂
環式ジイソシアネート、炭素数8〜15の芳香脂肪族ジ
イソシアネート、これらのジイソシアネートの変性体及
びこれらの2種以上の混合物が使用できる。上記芳香族
ジイソシアネートの具体例としては、1,3−又は1,
4−フェニレンジイソシアネート、2,4−又は2,6
−トリレンジイソシアネート(TDI)、粗製TDI、
2,4’−又は4,4’−ジフェニルメタンジイソシア
ネート(MDI)、4,4’−ジイソシアナトビフェニ
ル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトビ
フェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシア
ナトジフェニルメタン、1,5−ナフチレンジイソシア
ネートなどが挙げられる。上記脂肪族ジイソシアネート
の具体例としては、エチレンジイソシアネート、テトラ
メチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシア
ネート(HDI)、ドデカメチレンジイソシアネート、
2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
ト、リジンジイソシアネート、2,6−ジイソシアナト
メチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)
フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネ
ート、2−イソシアナトエチル−2,6−ジイソシアナ
トヘキサノエートなどが挙げられる。
【0046】上記脂環式ジイソシアネートの具体例とし
ては、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシ
クロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水
添MDI)、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチ
ルシクロヘキシレンジイソシアネート(水添TDI)、
ビス(2−イソシアナトエチル)−4−シクロヘキセン
−1,2−ジカルボキシレート、2,5−又は2,6−
ノルボルナンジイソシアネートなどが挙げられる。上記
芳香脂肪族ジイソシアネートの具体例としては、m−又
はp−キシリレンジイソシアネート(XDI)、α,
α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネ
ート(TMXDI)などが挙げられる。また、上記ジイ
ソシアネートの変性体としては、ウレタン変性体、ウレ
ア変性体、カルボジイミド変性体及びウレトジオン変性
体などが挙げられる。これらのうち、好ましいのはTD
I、MDI及びHDI、特に好ましいのはHDIであ
る。
【0047】ポリウレタン化反応を促進するために、必
要により通常用いられる触媒を使用してもよい。このよ
うな触媒としては、金属触媒、アミン触媒及びこれらの
2種以上の併用が挙げられる。金属触媒として、例えば
錫触媒(トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒ
ドロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチルチ
ンジアセテート、ジブチルチンジラウレート、スタナス
オクトエート、ジブチルチンマレエートなど);鉛触媒
(オレイン酸鉛、2−エチルヘキサン酸鉛、ナフテン酸
鉛、オクテン酸鉛など);その他の金属触媒(ナフテン
酸コバルトなどのナフテン酸金属塩、フェニル水銀プロ
ピオン酸塩など)が挙げられる。アミン触媒として、例
えばトリエチレンジアミン、テトラメチルエチレンジア
ミン、テトラメチルヘキシレンジアミン、ジアザビシク
ロアルケン{1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウ
ンデセン−7(DBU、サンアプロ社製の登録商標)な
ど}、ジアルキルアミノアルキルアミン(ジメチルアミ
ノエチルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエ
チルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノエチルアミ
ン、ジメチルアミノオクチルアミン、ジプロピルアミノ
プロピルアミンなど)及び複素環式アミノアルキルアミ
ン{2−(1−アジリジニル)エチルアミン、4−(1
−ピペリジニル)−2−ヘキシルアミンなど}の炭酸塩
及び有機酸塩(ギ酸塩など)等が挙げられ、このほかN
−メチルモルホリン、N−エチルモルホリン、トリエチ
ルアミン、ジエチルエタノールアミン、ジメチルエタノ
ールアミンが挙げられる。
【0048】これらの触媒の使用量は、反応させる反応
物の合計重量{有機ジイソシアネート(OCN−E2
NCO)と、(b1−1)、(b1−2)又は必要によ
り使用する鎖伸長剤(H−D−E11−D−H)との合計
重量}に基づいて、通常0.0001〜3%、好ましく
は0.001〜2%である。ポリエーテル基含有親水性
ポリマー(b2)のMnは、耐熱性の点から、800以
上、特に1,000以上が好ましく、(a4)〜(a
6)との反応性の点から、50,000以下、特に3
0,000以下が好ましい。また(b2)中のポリエー
テル(b1)セグメントの含量は、成形性の点から、
(b2)の重量に基づいて30〜80%、特に40〜7
0%が好ましい。(b2)中のオキシエチレン基の含量
は、帯電防止性及び成形性の点から、(b2)の重量に
基づいて30〜80%、特に40〜70%が好ましい。
(b2)のうち、帯電防止性と耐熱性の観点から、Zが
前記一般式(21)で示されるポリエステルアミドセグ
メントであるポリエーテルエステルアミド(b2−1)
が好ましく、特に前記一般式(19)中のR12及びR13
が水素原子及び/又は式−CO−NH−E2−NCOで
示される基であるものが好ましい。
【0049】次に、カチオン性ポリマー(b3)につい
て説明する。(b3)は、分子内に非イオン性分子鎖
(c1)で隔てられた2〜80個、好ましくは3〜60
個のカチオン性基(c2)を有する親水性ポリマーであ
る。(c2)としては、4級アンモニウム塩又はホスホ
ニウム塩を有する基が挙げられる。カチオン性基(c
2)の対アニオンとしては、超強酸アニオン及びその他
のアニオンが挙げられる。超強酸アニオンとしては、A
プロトン酸(d1)とルイス酸(d2)との組み合わせ
から誘導される超強酸(四フッ化ホウ酸、六フッ化リン
酸など)のアニオン、Bトリフルオロメタンスルホン酸
などの超強酸のアニオンが挙げられる。その他のアニオ
ンとして、例えばハロゲンイオン(F-、Cl-、B
-、I-等)、OH-、PO4 -、CH3OSO4 -、C25
OSO4 -、ClO4 -等が挙げられる。
【0050】超強酸を誘導する上記プロトン酸(d1)
の具体例としては、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、
ヨウ化水素などが挙げられる。また、ルイス酸(d2)
の具体例としては、三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五
フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、五フッ化タリウムな
どが挙げられる。プロトン酸(d1)とルイス酸(d
2)との組み合わせは任意であるが、これらの組み合わ
せから誘導される超強酸アニオンの好ましい例として
は、BF4 -、PF6 -、SbF6 -、AsF6 -、TlF6 -
BF3Cl-、PF5Cl-、SbF5Cl-、AsF5
-、TlF5Cl-、BF3Br-、PF5Br-、SbF5
Br-、AsF5Br-、TlF5Br-、BF3-、PF5
-、SbF5-、AsF5-及びTlF5-などが挙
げられ、これらの2種以上の組み合わせでもよい。対ア
ニオンのうち、超強酸アニオン、特にHammettの
酸度関数(−H0)が12〜20の超強酸のアニオン
が、耐熱性の点から好ましい。さらに好ましいのは、B
4 -、PF6 -、BF3Cl-及びPF5Cl-、特に好まし
いのはBF4 -及びPF6 -である。
【0051】 (c1)としては、二価の炭化水素基、
又はエーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、
アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート
結合及び/若しくはシロキシ結合を有する炭化水素基並
びに窒素原子若しくは酸素原子を含む複素環構造を有す
る炭化水素基からなる群から選ばれる少なくとも1種の
二価の有機基;及びこれらの2種以上の併用が挙げられ
る。二価の炭化水素基としては、炭素数1〜18(好ま
しくは2〜8)の直鎖又は分岐の脂肪族炭化水素基(ア
ルキレン基、アルケニレン基等)、例えばエチレン、プ
ロピレン、テトラメチレン、ヘキサメチレン、デカメチ
レン、ドデカメチレン、2,2,4−トリメチルヘキサ
メチレンなど;炭素数6〜20の芳香族炭化水素基、例
えば1,3−又は1,4−フェニレン、2,4−又は
2,6−トリレン、4,4’−又は2,4’−メチレン
ビスフェニレン、m−又はp−キシリレン、α,α,
α’,α’−テトラメチルキシリレン、ナフチレンな
ど;炭素数4〜15の脂環式炭化水素基、例えばシクロ
ヘキシレン、メチルシクロヘキシレン、4,4’−メチ
レンビスシクロヘキシレン、2,5−又は2,6−ノル
ボルニレンなどが挙げられる。
【0052】 エーテル結合、チオエーテル結合、エス
テル結合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カ
ーボネート結合及び/若しくはシロキシ結合を有する二
価の炭化水素基としては、(ポリ)オキシアルキレン
基、例えば前記ポリエーテルジオール(b1−1)の残
基{例えば、−(OA1m−O−E1−O−(A1O)m'
−(式中、E1、A1、m及びm’は前記と同様)}及び
一般式−A1−O−E1−で示されるモノエーテルジオー
ルの残基(式中、E1、A1は前記と同様);上記に相当
する(酸素原子がイオウ原子に置き換った)ポリチオエ
ーテルの残基;ポリエステル及び/又はポリアミドの残
基、例えば下記一般式(28)〜(31)で示される
基;ポリウレタン及び/又はポリウレアの残基、例えば
下記一般式(32)で示される基;ポリカーボネート
(前記ジオール(b0)とホスゲンとから誘導される)
の残基;ポリシロキサン(ポリオルガノシロキサン、例
えばポリジメチルシロキサン)の残基などが挙げられ
る。
【0053】
【化12】
【0054】一般式(28)〜(32)中、Dは酸素原
子又はイミノ基、R5は炭素数1〜11の炭化水素基、
20はカチオン性基と結合する二価の有機基、E12はジ
オール(b0)の残基(Dが酸素原子の場合)又はジア
ミン(Q1−3)の残基(Dがイミノ基の場合)、E13
はジカルボン酸(Q1−4)の残基、E2は有機ジイソ
シアネートの残基、u及びvは0又は1、kは1〜20
の整数である。R5には、ラクタムの残基(Dがイミノ
基の場合)及びラクトンの残基(Dが酸素原子の場合)
が含まれ、ラクタムとしては前記(Q1−1)のもの、
ラクトンとしては前記ラクタムに相当するラクトン(カ
プロラクトンなど)が挙げられる。R20としては、炭素
数2〜12の二価の炭化水素基、例えばアルキレン基及
び前記(ポリ)オキシアルキレン基[−A1−O−E
1−、−(OA1)m−O−E1−O−(A1O)m’−]が
挙げられる。E12のうちジオールの残基としては、前述
の(b0)、(b1−1)又はこれらの2種以上の混合
物からヒドロキシル基を除いた残基が挙げられる。
【0055】E12のうちジアミンの残基としては、前述
の(Q1−3)、前記ポリエーテルジアミン(b1−
2)又はこれらの2種以上の混合物からアミノ基を除い
た残基が挙げられる。E13としては、ジカルボン酸(Q
1−4)からカルボキシル基を除いた残基が挙げられ
る。E2は有機ジイソシアネート(例えば、前述のよう
な芳香族、脂肪族、脂環式若しくは芳香脂肪族ジイソシ
アネート、これらの変性体、及びこれらの2種以上の混
合物など)からイソシアネート基を除いた残基が挙げら
れる。非イオン性分子鎖(c1)のMnは、通常28〜
10,000、好ましくは300〜5,000である。
これらの非イオン性分子鎖(c1)のうち好ましいの
は、二価の炭化水素基及びエーテル結合を有する二価の
炭化水素基、さらに好ましくは炭素数1〜8のアルキレ
ン基(ヘキサメチレン基など)、フェニレン基及び(ポ
リ)オキシアルキレン基、特に好ましくは(ポリ)オキ
シエチレン基、(ポリ)オキシプロピレン基である。
(b3)としては、例えば下記一般式(33)で示され
る繰り返し単位を有するものが挙げられる。
【0056】
【化13】
【0057】(33)式中、Mは窒素原子又はリン原
子、J-は対アニオン、dは2〜60の整数、L1は非イ
オン性分子鎖(c1)、R21,R22は一価の非イオン性
有機基である。さらに、(b3)は、下記一般式(3
4)又は(35)のように、一般式(33)の隣接する
21及び/又はR22がそれぞれ互いに結合して二価の非
イオン性有機基(L3、L5)となりM+とともに環を形
成していてもよい。
【0058】
【化14】
【0059】(34)及び(35)式中、Mは窒素原子
又はリン原子、L2,L3,L4及びL5は二価の非イオン
性分子鎖(c1)、R22,R22’は一価の非イオン性有
機基、J-は対アニオン、eは1〜30の整数である。
一般式(33)におけるR21,R22及び一般式(34)
又は(35)におけるR22、R22’としては、エーテル
結合若しくはエステル結合を有していてもよい脂肪族、
脂環式若しくは芳香族の一価炭化水素基(炭素数1〜2
0)が挙げられる。R21,R22、R22’としては、例え
ば、アルキル基(メチル基、エチル基、オクチル基、ド
デシル基等)、アルケニル基(アリル基、1−ブテニル
基、オレイル基等)、(置換)アラルキル基(ベンジル
基、4−メチルベンジル基等)、脂環式炭化水素基(シ
クロヘキシル基等)、アルコキシ(炭素数1〜12)ア
ルキル(炭素数1〜20)基(メトキシエチル基等)、
アシロキシ(炭素数1〜12)アルキル(炭素数1〜2
0)基(アセトキシ基等)などが挙げられる。dは、通
常2〜60の整数であり、帯電防止性及び変性ポリオレ
フィン(a1)との反応性の点から、好ましくは3〜5
0、特に好ましくは5〜30の整数である。また、e
は、通常1〜30の整数であり、帯電防止性及び変性ポ
リオレフィン(a1)との反応性の点から、好ましくは
2〜25、特に好ましくは3〜15の整数である。L1
〜L5としては、前述のような非イオン性分子鎖(c
1)が挙げられる。
【0060】カチオン性ポリマー(b3)の好ましい例
としては、一般式(33)又は(35)の繰り返し単位
を有するものである。さらに好ましい例としては、一般
式(33)において、R21,R22が炭素数1〜8のアル
キル基、L1がポリエステルの残基(特に好ましくは一
般式(29)中、R20が炭素数2〜4のアルキレン基、
Dが酸素原子、kが1であるポリエステル)であるもの
及び一般式(35)において、L2、L3及びL5が炭素
数2〜8のアルキレン基、L4が炭素数2〜20のアル
キレン基であるものである。これらの具体例としては、
下記式(36)及び(37)で示される繰り返し単位を
有するものが挙げられる。
【0061】
【化15】
【0062】
【化16】
【0063】式(36)及び(37)中、J-は対アニ
オン、fは2〜12の整数を表す。カチオン性ポリマー
(b3)の他の例としては、下記一般式(38)で示さ
れる繰り返し単位を有するものが挙げられる。
【0064】
【化17】
【0065】式(38)中、A4は三価の炭化水素基、
M、J-、R21、R22、R22’及びdは前記と同じであ
る。三価の炭化水素基A4としては、炭素数2〜20の
三価の脂肪族炭化水素基、例えば、−CH2(CH2)g
CH<で示される基(gは0又は1〜18の整数)、炭
素数6〜12の3価の芳香族炭化水素基、例えば結合位
置が1,3,5−、1,2, 4−又は1,2,3−で
あるベンゼン環が挙げられる。カチオン性基(c2)と
しては、四級アンモニウム塩又はホスホニウム塩を有す
る基が挙げられる。四級アンモニウム塩を有する基とし
ては二価の四級アンモニウム塩含有複素環基が好まし
い。二価の四級アンモニウム塩基含有複素環基として
は、二価の三級アミノ基含有複素環基[例えば二価のイ
ミダゾール環基(1,4−イミダゾレン基、2−フェニ
ル−1,4−イミダゾレン基など)、二価のピペリジン
環基(2,3−、3,4−又は2,6−ピペリジレン
基)、二価の芳香複素環基(2,3−、2,4−、2,
5−、2,6−、3,4−又は3,5−ピリジレン基、
2,5−ピリミジニレン基、3,6−ピリダジニレン
基、2,5−ピラジニレン基など)]が四級化された構
造の基が挙げられる。(b3)の末端構造は、(a1)
〜(a3)との反応性の観点からカルボニル基、水酸基
又はアミノ基であることが望ましい。(b3)のMn
は、帯電防止性及び(a1)〜(a3)との反応性の観
点から、好ましくは500〜20,000、さらに好ま
しくは1,000〜15,000、特に好ましくは1,
200〜8,000である。
【0066】(b3)の製造方法は何ら限定されるもの
ではないが、例えば以下の(1)〜(5)の方法が例示
できる。 (1) アミノ基(二級若しくは三級)含有ジオールと
四級化剤(該アミノ基1当量あたり、それぞれ2当量若
しくは1当量)を、必要により溶剤の存在下に、反応さ
せ、得られる四級化ジオール又はこれとジオール(b
0)及び/若しくはジアミン(Q1−3)との混合物
と、ジカルボン酸(Q1−4)[又はそのエステル形成
性誘導体(酸無水物、低級アルキルエステル、酸ハライ
ドなど)、以下同様]とをポリエステル化反応又はポリ
エステルアミド化反応させる方法。三級アミノ基含有ジ
オールとしては、一級アミンのアルキレンオキサイド付
加物〔好ましくはN−アルキル(炭素数1〜8)ジアル
カノールアミン、特に好ましくはN−メチルジエタノー
ルアミン、N−エチルジエタノールアミン又はN−メチ
ルジイソプロパノールアミンなど〕、及び三級アミノ基
含有複素環ジオール〔例えば2−フェニル−4,5−ビ
ス(ヒドロキシメチル)イミダゾールなどのイミダゾー
ル誘導体〕が挙げられる。
【0067】二級アミノ基含有ジオールとしては、ヒド
ロキシアルキル基の炭素数が2〜4のジアルカノールア
ミン、例えばジエタノールアミン、ジイソプロパノール
アミン、ジ−n−プロパノールアミンなどが挙げられ
る。四級化剤としては、例えば、炭素数1〜4のアルキ
ルハライド(例えばブロモメタン、クロロメタン、ヨー
ドメタン、ブロモエタン、クロロエタンなど)、ジアル
キル(アルキル基の炭素数1〜4)硫酸(例えばジメチ
ル硫酸、ジエチル硫酸など)、炭酸ジアルキル(炭素数
1〜8)エステル(例えば炭酸ジメチル、炭酸ジエチ
ル、炭酸ジブチルなど)が挙げられる。溶剤としては、
例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブ
タノールなどのアルコールが挙げられる。エステル形成
性誘導体としては、アルキル基の炭素数1〜6の低級ア
ルキルエステル、酸無水物、酸ハライドなどが挙げられ
る。四級化反応の温度は通常50〜100℃である。な
お、カチオン性基(c2)の対イオンに超強酸アニオン
を導入する方法としては、たとえば四級化ジオールを溶
剤(例えば上述のもの)に溶解し、超強酸アニオンのア
ルカリ金属塩(例えばNaBF4、NaPF6など)を加
えて塩交換を行うか、又は超強酸アニオンの酸(例えば
HBF4、HPF6など)を加えて直接アニオン交換を行
う方法が挙げられる。
【0068】(2) 上記四級化ジオール又はこれと他
のジオール(b0)及び/若しくはジアミン(Q1−
3)との混合物と、前述の有機ジイソシアネートの1種
以上とを、一段法若しくは多段法によりポリウレタン
(ウレア)化反応させる方法。 (3) アミノ基(一級、二級若しくは三級)含有ジカ
ルボン酸を四級化剤(該アミノ基1当量当たり、それぞ
れ3当量、2当量若しくは1当量)で四級化した後、該
四級化物、又はこれとジカルボン酸(Q1−4)との混
合物と、(b0)及び/若しくは(Q1−3)とをポリ
エステル化反応若しくはポリエステルアミド化反応させ
る方法。アミノ基含有ジカルボン酸としては、一般式:
【0069】
【化18】
【0070】(式中の記号は前記と同じ)で示されるジ
カルボン酸が使用でき、例えば、5−(N−ジメチルア
ミノ)イソフタル酸、グルタミン酸、アスパラギン酸、
5−アミノイソフタル酸、3−アミノフタル酸、イミノ
ジ酢酸、イミノジ安息香酸など;含窒素複素環ジカルボ
ン酸、例えばイミダゾール−4,5−ジカルボン酸、ピ
ペリジンジカルボン酸、ピリジンジカルボン酸;ジアミ
ノ化合物〔前記ジアミン(Q1−3)、前記ジオール
(b0)と前記ラクタム若しくはアミノカルボン酸との
反応生成物など〕のN,N’−ビス(2−カルボキシア
ルキル)誘導体(アルキル基の炭素数1〜12)、例え
ばN,N’−ビス(2−カルボキシエチル)−N,N’
−エチレングリシンなどが挙げられる。 (4) 上述の三級アミノ基含有ジオール又は三級アミ
ノ基含有ジカルボン酸を予め四級化せずに、ポリエステ
ル(アミド)化反応若しくはポリウレタン(ウレア)化
反応させて三級アミノ基含有ポリマーを形成させた後
に、必要により溶剤の存在下で、該三級アミノ基を四級
化剤で四級化する方法。
【0071】(5) 三級アミノ基を2個有する複素環
式ジアミンと、ジハライドと、末端に官能基を導入する
ためのモノハライドとを、必要により溶媒の存在下、5
0〜100℃で反応させ、四級化反応と重合反応とを同
時に行う方法。三級アミノ基を2個有する複素環式ジア
ミンとしては、炭素数6〜30の単環若しくは多環ジア
ミンが使用でき、例えばN,N’−ジアルキル(炭素数
1〜12)ピペラジン(N,N’−ジメチルピペラジン
等)、トリエチレンジアミン及びそのC−アルキル(炭
素数1〜4)置換体、シクロアミジン[米国特許第4,
524,104号明細書に記載のもの、1,8−ジアザ
−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等]が挙げら
れる。ジハライドとしては、炭素数2〜15のアルキレ
ンジハライドが使用でき、例えば1,2−ジブロモエタ
ン、1−ブロモ−2−クロロエタン、1,2−ジヨード
エタン、1−ブロモ−3−クロロプロパン、1,3−ジ
ブロモプロパン、1,3−ジクロロプロパン、1,3−
ジヨードプロパン、1−ブロモ−4−クロロブタン、
1,4−ジブロモブタン、1,4−ジクロロブタン、
1,4−ジヨードブタン、1−ブロモ−5−クロロペン
タン、1,5−ジブロモペンタン、1,5−ジクロロペ
ンタン、1,5−ジヨードペンタン、1−ブロモ−6−
クロロヘキサン、1,6−ジブロモヘキサン、1,6−
ジクロロヘキサン、1,6−ジヨードヘキサン、1,7
−ジブロモヘプタン、1,7−ジクロロヘプタン、1,
7−ジヨードヘプタン、1,8−ジブロモオクタン、
1,8−ジクロロオクタン、1,8−ジヨードオクタ
ン、1,9−ジブロモノナン、1,9−ジクロロノナ
ン、1,9−ジヨードノナン、1,10−ジブロモデカ
ン、1,10−ジクロロデカン、1,10−ジヨードデ
カン、1,11−ジブロモウンデカン、1,12−ジブ
ロモドデカン等が挙げられる。
【0072】モノハライドとしては、官能基(水酸基、
カルボキシル基、エポキシ基等)を有するモノハロゲン
化合物が使用でき、例えば炭素数2〜12のモノハロゲ
ン化アルコール(2−クロロエタノール、3−クロロ−
1−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、6
−クロロ−1−ヘキサノール、6−ブロモ−1−ヘキサ
ノール、4−クロロ −1−ブタノール、3−クロロ−
2,2−ジメチル−1−プロパノール等);炭素数2〜
12のモノハロゲン化カルボン酸(モノクロロ酢酸、2
−クロロプロパン酸等)、エピハロヒドリン(エピクロ
ルヒドリン等)が挙げられる。また、前述の(a1)〜
(a3)と上記(4)の四級化する前のポリマーとを反
応させて三級アミノ基を有するブロックポリマーを形成
させた後に、該三級アミノ基を四級化及びアニオン交換
する方法もある。上記(1)〜(5)の方法のうち好ま
しいのは、(4)及び(5)の方法である。
【0073】次に、アニオン性ポリマー(b4)につい
て説明する。(b4)は、スルホニル基を有するジカル
ボン酸(e1)と、ジオール(b0)又はポリエーテル
(b1)とを必須構成単位とし、かつ分子内に2〜80
個、好ましくは3〜60個のスルホニル基を有するアニ
オン性ポリマーである。(e1)としては、スルホニル
基を有する芳香族ジカルボン酸、スルホニル基を有する
脂肪族ジカルボン酸及びこれらのスルホニル基のみが塩
となったものが使用できる。
【0074】スルホニル基を有する芳香族ジカルボン酸
としては、例えば5−スルホイソフタル酸、2−スルホ
イソフタル酸、4−スルホイソフタル酸、4−スルホ−
2,6−ナフタレンジカルボン酸及びこれらのエステル
形成性誘導体[低級アルキル(炭素数1〜4)エステル
(メチルエステル、エチルエステルなど)、酸無水物
等]が挙げられる。スルホニル基を有する脂肪族ジカル
ボン酸としては、例えばスルホコハク酸及びそのエステ
ル形成性誘導体[低級アルキル(炭素数1〜4)エステ
ル(メチルエステル、エチルエステルなど)、酸無水物
等]が挙げられる。これらのスルホニル基のみが塩とな
ったものとしては、例えばリチウム,ナトリウム,カリ
ウムなどのアルカリ金属の塩、マグネシウム,カルシウ
ムなどのアルカリ土類金属の塩、アンモニウム塩、ヒド
ロキシアルキル(炭素数2〜4)基を有するモノ、ジ若
しくはトリ−アミン(モノ−、ジ−若しくはトリ−エチ
ルアミン、モノ−、ジ−若しくはトリ−エタノールアミ
ン、ジエチルエタノールアミンなどの有機アミン塩)等
のアミン塩、これらアミンの四級アンモニウム塩及びこ
れらの2種以上の併用が挙げられる。これらのうち好ま
しいものは、スルホニル基を有する芳香族ジカルボン
酸、さらに好ましいのは5−スルホイソフタル酸塩、特
に好ましくは5−スルホイソフタル酸ナトリウム塩及び
5−スルホイソフタル酸カリウム塩である。
【0075】(b4)を構成する(b0)又は(b1)
のうち好ましいものは、炭素数2〜10のアルカンジオ
ール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール
(重合度2〜20)、ビスフェノール(ビスフェノール
A等)のエチレンオキサイド付加物(付加モル数2〜6
0)及びこれらの2種以上の混合物である。(b4)の
製法としては、通常のポリエステルの製法がそのまま適
用できる。ポリエステル化反応は、通常減圧下150〜
240℃の温度範囲で行われ、反応時間は0.5〜20
時間である。また、上記エステル化反応においては、必
要により通常のエステル化反応に用いられる触媒を用い
てもよい。エステル化触媒としては、例えば三酸化アン
チモンなどのアンチモン系触媒;モノブチル錫オキサイ
ド、ジブチル錫オキサイドなどの錫系触媒;テトラブチ
ルチタネートなどのチタン系触媒;テトラブチルジルコ
ネートなどのジルコニウム系触媒;酢酸亜鉛などの酢酸
金属塩系触媒などが挙げられる。
【0076】(b4)のMnは、帯電防止性及び(a
1)〜(a3)との反応性の点から、好ましくは500
〜20,000、さらに好ましくは1,000〜15,
000、特に好ましくは1,200〜8,000であ
る。また、該(b4)は、帯電防止性の点及び(a1)
〜(a3)との反応性の観点から、スルホニル基を分子
中に通常2〜80個、特に3〜60個有するのが好まし
い。本発明のブロックポリマー(A)のMnは、耐電防
止性の観点から、2,000〜60,000が好まし
く、さらに好ましくは5,000〜40,000、特に
好ましくは8,000〜30,000である。
【0077】本発明の第1の実施形態として、(a1)
のブロックと(b1)のブロックとが繰り返し交互に結
合した構造を有するブロックポリマー(A1)について
説明する。(A1)には、下記一般式(1)で示される
繰り返し単位を有するポリマーが含まれる。
【0078】
【化19】
【0079】一般式(1)中、nは2〜50の整数、R
1及びR2の一方は水素原子であり他方は水素原子又は炭
素数1〜10のアルキル基、yは15〜800の整数、
1はジオール(b0)から水酸基を除いた残基、A1
炭素数2〜4のアルキレン基、m及びm’は1〜300
の整数を表し、X及びX’は下記一般式(2)〜(8)
で示される基から選ばれる基及び対応する(2’)〜
(8’)で示される基から選ばれる基、すなわち、Xが
一般式(2)で示される基のとき、X’は一般式
(2’)で示される基であり、一般式(3)〜(8)及
び(3’)〜(8’)についても同様の関係である。
【0080】
【化20】
【0081】一般式(2)〜(8)及び(2’)〜
(8’)中、R3、R3’は炭素数2〜3の三価の炭化水
素基、R4は炭素数1〜11の2価の炭化水素基、R5
水素又は炭素数1〜10のアルキル基、R6は炭素数2
〜22の炭化水素基、E2は有機ジイソシアネート残基
を表し、rは1〜10、u及びvは0又は1である。
又、Q、Q’、T及びT’は次式で示される基である。
【0082】
【化21】
【0083】ただし、R5は水素原子又は炭素数1〜1
0のアルキル基、R7は水素原子又はメチル基、tはR7
がメチル基のとき0、水素原子のとき1である。一般式
(1)で示される繰り返し単位中の{ }内のポリエー
テルセグメント{(OA1)m−O−E1−O−(A1O)
m’}は、前記ポリエーテル(b1)のポリエーテル部
分により構成され、式中のE1,A1、m及びm’は前記
と同様である。一般式(1)におけるE1は、脂肪族二
価アルコール、二価フェノール又は三級アミノ基含有ジ
オールから水酸基を除いた残基であるのが好ましい。
【0084】一般式(1)において、Xが一般式(2)
で示される基、X’が一般式(2’)で示される基であ
るブロックポリマー(A1)は、前記のカルボニル基を
有するポリオレフィン(a1−1)とポリエーテルジオ
ール(b1−1)とを直接反応させることにより得るこ
とができる。一般式(2)及び(2’)中のR3及び
3’は、不飽和ジカルボン酸から形成される式
【0085】
【化22】
【0086】(R4は水素原子又はメチル基、tはR4
素原子のとき1,R4がメチル基のとき0である。)で
示される基であり、例えばポリオレフィンのカルボニル
変性に、マレイン酸又はフマル酸を用いた場合は、R3
は−CH2−CH<であり、 R3’は>CH−CH2−で
ある。(A1)の製法は、特に限定されるものではない
が、(a1−1)に、(b1−1)を加えて減圧下通常
200〜250℃で重合(重縮合)反応を行う方法によ
り製造することができる。また、上記の重合反応には、
通常、公知の触媒を使用することができる。触媒として
は、三酸化アンチモンなどのアンチモン触媒;モノブチ
ルスズオキサイドなどのスズ触媒;テトラブチルチタネ
ートなどのチタン触媒;テトラブチルジルコネートなど
のジルコニウム触媒;酢酸ジルコニル等のジルコニウム
有機酸塩、酢酸亜鉛などの有機酸金属塩触媒;及びこれ
らの2種以上の併用が挙げられる。これらのうち好まし
いものは、ジルコニウム触媒及び酢酸金属塩触媒であ
り、特に好ましいものは酢酸ジルコニルである。触媒の
使用量は、(a1−1)と(b1−1)の合計重量に対
して、通常0.001〜5%である。
【0087】一般式(1)において、Xが一般式(3)
で示される基、及びX’が一般式(3’)で示される基
のブロックポリマー(A1)は、(a1−1)と(b1
−2)とを直接反応させることにより得ることができ
る。(a1−1)と(b1−2)との重合反応は、(a
1−1)と(b1−1)との重合反応と同様の方法で行
うことができる。
【0088】一般式(1)において、Xが一般式(4)
で示される基、及びX’が一般式(4’)で示される基
であるブロックポリマー(A1)は、(a1−2)と
(b1−1)とを直接反応させることにより得ることが
できる。(a1−2)と(b1−1)との重合反応は、
(a1−1)と(b1−1)との重合反応と同様の方法
で行うことができる。
【0089】一般式(1)において、Xが一般式(5)
で示される基、及びX’が一般式(5’)で示される基
であるブロックポリマー(A1)は、(a1−2)と
(b1−2)とを直接反応させることにより得ることが
できる。また、(b1−2)を前記ラクタム若しくはア
ミノカルボン酸で二次変性してから、これと(a1−
1)と反応させて製造しもよい。これらの重合反応は、
(a1−1)と(b1−1)との重合反応と同様の方法
で行うことができる。
【0090】一般式(1)において、Xが一般式(6)
で示される基、及びX’が一般式(6’)で示される基
であるブロックポリマー(A1)は、(a1−3)(r
=1の場合)又は(a1−4)(r≧2の場合)と、
(b1−1)(u=0の場合)又はポリエーテルジアミ
ン(b1−2)(u=1の場合)とを反応させることに
より得ることができる。(a1−3)又は(a1−4)
と、(b1−1)又は(b1−2)との重合反応は、
(a1−1)と(b1−1)との重合反応と同様の方法
で行うことができる。
【0091】一般式(1)において、Xが一般式(7)
で示される基、及びX’が一般式(7’)で示される基
であるブロックポリマー(A1)は、(a2−1)と、
(b1−1)(u=0の場合)又は(b1−2)(u=
1の場合)とを、有機ジイソシアネートを介して結合さ
せたものであり、これらを同時に反応させるか、順次に
反応させて得ることができる。順次反応させる方法とし
て、例えば(a2−1)と有機ジイソシアネートとを反
応させてイソシアネート変性ポリオレフィンを得た後、
これと(b1−1)又は(b1−2)とを反応させるこ
とにより得ることができる。
【0092】一般式(1)において、Xが一般式(8)
で示される基、及びX’が一般式(8’)で示される基
であるブロックポリマー(A1)は、(a1−3)(v
=0の場合)又は(a2−2)(v=1の場合)と、
(b1−1)又は(b1−2)とを、有機ジイソシアネ
ートを介して結合させたものであり、これらを同時に反
応させるか、順次反応させて得ることができる。順次反
応させる方法として、例えば(a1−3)又は(a2−
2)と、有機ジイソシアネートとを反応させてイソシア
ネート変性ポリオレフィンを得た後、これと(b1−
1)又は(b1−2)と反応させることにより得ること
ができる。(a2−1)又は(a2−2)と有機ジイソ
シアネートとの反応、(b1−1)又は(b1−2)と
有機ジイソシアネート反応、及びイソシアネート変性ポ
リオレフィンと(b1−1)又は(b1−2)との反応
は、通常のウレタン化又はウレア化反応と同様の方法で
行うことができる。イソシアネート変性ポリオレフィン
を形成する際の、有機ジイソシアネートと(a2−1)
又は(a2−2)との当量比(NCO/OH比)、及び
イソシアネート変性ポリオレフィンと(b1−1)又は
(b1−2)との当量比(NCO/OH比)は、通常
1.8/1〜3/1、好ましくは2/1である。有機ジ
イソシアネート及び反応を促進するための触媒は前述の
(b2−5)に用いたものが使用できる。
【0093】一般式(1)で示される繰り返し単位を有
するブロックポリマー(A1)のうちで、好ましいのは
Xが一般式(2),(4)で示されるもの、特に好まし
いのは一般式(4)で示されるものである。ブロックポ
リマー(A1)を構成するポリエーテル(b1)の量
は、(a1)と(b1)との合計重量に基づいて、通常
20〜90%、好ましくは25〜90%、特に好ましく
は30〜70%である。(b1)の量がこの範囲である
と帯電防止性の点でより好ましい。また、該(A1)の
Mnは、通常2,000〜60,000、好ましくは
5,000〜40,000、特に好ましくは8,000
〜30,000である。Mnがこの範囲のものが特に帯
電防止性能に優れる。
【0094】ブロックポリマー(A1)の構造におい
て、ポリオレフィン(a)のブロックと、親水性ポリマ
ー(b)のブロックとの繰り返し単位の平均繰り返し数
(Nn)は、通常2〜50、好ましくは2.3〜30、
さらに好ましくは2.7〜20、特に好ましくは3〜1
0である。Nnがこの範囲であると、帯電防止性の観点
から好ましい。Nnは、(A)のMn及び1H−NMR
分析によって求めることができる。例えば、(a1−
1)のブロックと(b1−1)のブロックとが繰り返し
交互に結合した構造を有する(A)の場合について説明
すると、1H−NMR分析において、4.0〜4.1p
pmのエステル結合{−C(C=O)−OCH2−}の
プロトンに帰属されるシグナル、及び3.2〜3.7p
pmのポリエチレングリコールのプロトンに帰属される
シグナルが観測できる。これらのプロトン積分値の比を
求めて、この比とMnとからNnを求めることができ
る。他の(a)のブロックと(b)のブロックとからな
る場合も、同様にしてNnを求めることができる。
【0095】(A1)の両末端は、(b1)由来の水酸
基、アミノ基、イソシアネート基及びエポキシ基、ポリ
オレフィン(a1)由来のカルボニル基、アミノ基、水
酸基、イソシアネート基、アルキル基、アルケニル基並
びに有機ジイソシアネート由来のイソシアネート基から
選ばれるいずれかの末端基を有する。
【0096】次に、本発明における第2の実施形態とし
て、ブロックポリマー(A2)について説明する。(A
2)はポリオレフィン(a)のブロックと親水性ポリマ
ー(b)のブロックとが(a)−(b)型または(a)
−(b)−(a)型に結合されてなるブロックポリマー
である。(A2)は、(b2)と、下記一般式(9)〜
(11)のいずれかで示されるカルボニル基をポリマー
の片末端に有するポリオレフィン(a4)との反応で得
ることができる。
【0097】
【化23】
【0098】式中、R8はポリオレフィン残基、Q’は
式−CH(R10)−CH=C(R10)−CH2−で示さ
れる基、R9は炭素数2〜3の三価の炭化水素基、R10
は水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基、R11は水
素原子又はメチル基である。(b2)としては、上記一
般式(19)で示されるものが好ましい。上記一般式
(19)中、E3は上記一般式(20)で示される基で
あるのが好ましい。上記一般式(20)中、Zは上記一
般式(21)〜(27)のいずれかで示されるセグメン
トであるのが好ましい。(A2)としては、(b2)の
末端の一方又は両方が、下記の一般式(12)〜(1
4)で示される基{(b2)の末端が水酸基又はエポキ
シ基の場合}で置き換えられた構造のもの(エステル結
合を介して結合);一般式(15)〜(17)で示され
る基{(b2)の末端がアミノ基又はイソシアネート基
の場合}で置き換えられた構造のもの(アミド結合を介
して結合);及び一般式(18)で示される基{(b
2)の末端がアミノ基の場合}で置き換えられた構造の
もの(イミド結合を介して結合)が挙げられる。
【0099】
【化24】
【0100】式中の各記号は式(9)〜(11)と同じ
である。ポリオレフィン残基R8は、式R17−{CH
(R18)−CH(R19)}y−(式中、R17は水素原子
又はH2C=CH−で示される基、R18及びR19の一方
は水素原子で他方は水素原子又は炭素数1〜10のアル
キル基、yは15〜800の整数を表す。)で示される
基であり、R12およびR13は水素及び/又は式−CO−
NH−E2−NCOで示される基であり、Zが一般式
(21)で示されるポリエステルアミドセグメントであ
るのが好ましい。
【0101】ブロックポリマー(A2)の製法として
は、(a4)〜(a6)と(b2)とを反応させる方
法、(b2)の製造の過程で、例えば(a4)の存在下
に(b2)の前駆体(反応原料)を反応させてポリマー
(b2)のブロックの形成と共にブロックポリマー(A
2)を形成する方法などが挙げられる。(b2)がポリ
エーテルエステルアミド(b2−1)の場合は、具体的
には下記製法が例示されるが、特に限定されるものでは
ない。また、(b2)がポリエーテルエステルアミド
(b2−1)以外のポリマーセグメントであるブロック
ポリマー(A2)についても同様の方法で製造すること
ができる。 製法1:一般式(9)で表される(a4−1)とポリエ
ーテルエステルアミド(b2−1)とを減圧下200〜
250℃で重合反応を行う方法。 製法2:(a4−1)と(Q1)と(b1−1)とを減
圧下200〜250℃で重合反応を行う方法。 製法3:(a4−1)と(Q1−1)〜(Q1−3)の
1種以上と(Q1−4)とを、水の存在下又は非存在下
に、180〜250℃で加圧反応させることによって
(a4−1)中で(Q1)を形成せしめ、これに(b1
−1)を加えて減圧下200〜250℃で重合反応を行
う方法。 製法4:(a4−1)と(Q1−1)〜(Q1−3)の
1種以上と(Q1−4)と(b1−1)とを、水の存在
下又は非存在下に、180〜250℃で加圧反応させる
ことによって(a4−1)中で(Q1)を形成せしめ、
その後減圧下200〜250℃で重合反応を行う方法。
【0102】また、上記の重合反応には、通常、公知の
触媒を使用することができる。触媒としては、前述の三
酸化アンチモンなどのアンチモン系触媒;モノブチルス
ズオキシドなどのスズ系触媒;テトラブチルチタネート
などのチタン系触媒;テトラブチルジルコネートなどの
ジルコニウム系触媒;酢酸ジルコニル等のジルコニウム
有機酸塩、酢酸亜鉛などの有機酸金属塩系触媒;及びこ
れらの2種以上の併用が挙げられる。これらのうち好ま
しいものは、ジルコニウム系触媒及び有機酸金属塩系触
媒であり、特に好ましいものは酢酸ジルコニルである。
触媒の使用量は、反応させる反応物{例えば製法1の場
合、(a4−1)、(b2−1)}の合計重量に基づい
て、通常0.0001〜5重量%、好ましくは0.00
1〜2%である。(A2)として、具体的に、(a4)
と、前記一般式(19)においてpが0でR12及びR13
が水素原子であるポリエーテル含有親水性ポリマー(b
2)とを、前述の重合反応と同様の方法で反応させるこ
とにより、(a)−(b)型又は(a)−(b)−
(a)型に結合してなるブロックポリマーを製造するこ
とができる。また、(a5)と有機ジイソシアネート化
合物とを反応させた変性ポリオレフィンと、前記一般式
(19)においてpが0でR12及びR13が水素原子であ
るポリエーテル基含有親水性ポリマー(b2)とを、反
応させることにより、(a)−(b)型又は(a)−
(b)−(a)型に結合してなるブロックポリマーを製
造することができる。
【0103】ブロックポリマー(A2)を構成する(b
2)の量は、(A2)の重量に基づいて、通常20〜8
0重量%であり、帯電防止性及び後述する熱可塑性樹脂
との相溶性の観点から30〜70重量%が好ましい。ま
た、(A2)のMnは、通常2,000〜60,00
0、好ましくは5,000〜40,000である。ブロ
ックポリマー(A2)の構造において、ポリオレフィン
(a)のブロックと、親水性ポリマー(b)のブロック
との繰り返し単位の平均繰り返し数(Nn)は、通常
0.4〜2.1、好ましくは0.5〜2.0、さらに好
ましくは0.6〜1.9、特に好ましくは0.7〜1.
8である。Nnがこの範囲であると、帯電防止性の観点
から好ましい。このNnは、(A1)の場合と同様にし
て、(A2)のMn及び1H−NMR分析によって求め
ることができる。
【0104】次に、本発明の第3の実施形態として、ブ
ロックポリマー(A3)について説明する。(A3)
は、該親水性ポリマー(b)として分子内に非イオン性
分子鎖(c1)で隔てられた2〜80個、好ましくは3
〜60個のカチオン性基(c2)を分子内に有するカチ
オン性ポリマー(b3)のブロックを有するものであ
り、(a)と(b3)とが繰り返し交互に結合した構造
を有する。(A3)は、(b3)と(a1)〜(a3)
との重合反応により得ることができ、前述の(a1−
1)と(b1−1)又は(b1−2)との重合反応と同
様の方法で製造することができる。また、必要により
(b2)と(b1−1)又は(b1−2)とを任意の割
合(例えば1:9〜9:1の重量比)で併用することが
できる。(A3)のMnは、通常2,000〜60,0
00、好ましくは5,000〜40,000、特に好ま
しくは8,000〜30,000である。この範囲のも
のが帯電防止性能に優れる。また、(A3)中のカチオ
ン性基(c2)の含量は、(A3)1分子当り、2〜5
00個、好ましくは10〜300個、特に好ましくは1
5〜250個である。この範囲であると、帯電防止性の
点で好ましい。カチオン性基(c2)1個当りの(A
3)のMnは、通常120〜30,000、好ましくは
200〜6,000、特に好ましくは300〜4,00
0である。
【0105】ブロックポリマー(A3)の構造におい
て、ポリオレフィン(a)のブロックと、親水性ポリマ
ー(b)のブロックとの繰り返し単位の平均繰り返し数
(Nn)は、通常2〜50、好ましくは2.3〜30、
さらに好ましくは2.7〜20、特に好ましくは3〜1
0である。Nnがこの範囲であると、帯電防止性の観点
から好ましい。このNnは、(A1)の場合と同様にし
て、(A3)のMn及び1H−NMR分析によって求め
ることができる。
【0106】次に、本発明の第4の実施形態として、ブ
ロックポリマー(A4)について説明する。(A4)
は、(b)として、スルホニル基を有するジカルボン酸
(e1)と、ジオール(b0)又はポリエーテル(b
1)とを必須構成単位とし、かつ分子内に2〜80個、
好ましくは3〜60個のスルホニル基を有するアニオン
性ポリマー(b4)のブロックを有するものであり、
(a)と(b4)が繰り返し交互に結合した構造を有す
る。(A4)は、(b4)と(a1)〜(a3)との重
合反応により得ることができ、前述の(a1)と(b1
−1)との重合反応と同様の方法で製造することができ
る。なお、必要により該(b4)と(b1−1)とを任
意の割合(例えば1:9〜9:1の重量比)で併用して
もよい。(A4)のMnは、通常2,000〜60,0
00、好ましくは5,000〜40,000、特に好ま
しくは8,000〜30,000である。この範囲であ
ると、帯電防止性に優れる。また、(A4)中のスルホ
ニル基の含量は、(A4)1分子当り、2〜500個、
好ましくは10〜300個、特に好ましくは15〜25
0個である。この範囲であると帯電防止性の点で好まし
い。スルホニル基1個当りの(A4)のMnは、通常1
20〜30,000、好ましくは200〜6,000、
特に好ましくは300〜4,000である。
【0107】ブロックポリマー(A4)の構造におい
て、ポリオレフィン(a)のブロックと、親水性ポリマ
ー(b)のブロックとの繰り返し単位の平均繰り返し数
(Nn)は、通常2〜50、好ましくは2.3〜30、
さらに好ましくは2.7〜20、特に好ましくは3〜1
0である。Nnがこの範囲であると、帯電防止性の観点
から好ましい。このNnは、(A1)の場合と同様にし
て、(A4)のMn及び1H−NMR分析によって求め
ることができる。
【0108】本発明の(A)を含有してなる帯電防止剤
において、前記(A1)、(A2)、(A3)及び(A
4)はそれぞれ単独で使用することができるが、それぞ
れ任意の組成で組み合わせて用いてもよい。(A)を含
有してなる本発明の帯電防止剤は、熱可塑性樹脂(B)
に配合することにより該樹脂に帯電防止性を付与するこ
とができる。本発明の(A)と熱可塑性樹脂(B)とか
らなる帯電防止性樹脂組成物も本発明の一つである。熱
可塑性樹脂(B)としては、例えば、ポリオレフィン樹
脂(B1)、ポリスチレン樹脂(B2)、アクリル樹脂
(B3)、ゴム状(共)重合体(B4)などのビニル樹
脂、ポリアミド樹脂(B5)、ポリエステル樹脂(B
6)、ポリアセタール樹脂(B7)、ポリカーボネート
樹脂(B8)、熱可塑性ポリウレタン樹脂(B9)、フ
ッ素樹脂(B10)及びこれらの2種以上の混合物が挙
げられる。ビニル樹脂には、以下のビニルモノマーを公
知の重合法(ラジカル重合法、チーグラー触媒重合法、
メタロセン触媒重合法等)により(共)重合させて得ら
れる樹脂が使用できる。
【0109】ビニルモノマーとしては、脂肪族炭化水素
ビニルモノマー、芳香族ビニルモノマー、アクリルモノ
マー、その他の不飽和モノ−又はジ−カルボン酸及びそ
の誘導体、不飽和アルコールのカルボン酸エステル、不
飽和アルコールのアルキルエーテル、ハロゲン含有ビニ
ルモノマー並びにこれらを2種以上組合せたもの(ラン
ダムおよび/またはブロック)などが挙げられる。脂肪
族炭化水素ビニルモノマーとしては、例えばエチレン、
プロピレン、炭素数4〜30のα−オレフィン(1−ブ
テン、4−メチル−1−ペンテン、1−ペンテン、1−
オクテン、1−デセン、1−ドデセン等)などのオレフ
ィン及び炭素数4〜30のジエン(ブタジエン,イソプ
レン等のアルカジエン、シクロペンタジエン等のシクロ
アルカジエン)が挙げられる。芳香族ビニルモノマーと
しては、例えばスチレン及びその同族体、例えばo−,
m−,p−アルキル(炭素数1〜10)スチレン(例え
ばビニルトルエン等)、α−アルキル(炭素数1〜1
0)スチレン(例えばα−メチルスチレン等)及びハロ
ゲン化スチレン(例えばクロロスチレン等 )など(以
下スチレン類と略す。)が挙げられる。
【0110】アクリルモノマーとしては、例えば(メ
タ)アクリル酸及びその誘導体が挙げられる。(メタ)
アクリル酸の誘導体としては、例えばアルキル(炭素数
1〜20)(メタ)アクリレート{例えばメチル(メ
タ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチ
ル(メタ)アクリレートなど}、モノ−又はジ−アルキ
ル(炭素数1〜4)アミノアルキル(炭素数2〜4)
(メタ)アクリレート{例えばアミノエチル(メタ)ア
クリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレー
トなど}、(メタ)アクリロニトリル及び(メタ)アク
リルアミド等が挙げられる。その他の不飽和モノ−又は
ジ−カルボン酸としては、例えばクロトン酸、マレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などが挙げられ、その誘導
体としては、例えばモノ−又はジ−アルキル(炭素数1
〜20)エステル、酸無水物(無水マレイン酸など)及
びイミド(マレイン酸イミドなど)が挙げられる。不飽
和アルコールのカルボン酸エステルとしては、ビニルア
ルコール、(メタ)アリルアルコール等のカルボン酸
(炭素数2〜4)エステル(酢酸ビニル等)が挙げら
れ、不飽和アルコールのアルキルエーテルとしては、ビ
ニルアルコール、(メタ)アリルアルコール等のアルキ
ル(炭素数1〜20)エーテルが挙げられる。ハロゲン
含有ビニルモノマーとしては、例えば塩化ビニル、塩化
ビニリデン、クロロプレン等が挙げられる。
【0111】ポリオレフィン樹脂(B1)には、前記オ
レフィンモノマー(エチレン、プロピレン、炭素数4〜
30のα−オレフィンなど)の1種以上の(共)重合体
及び上記オレフィンモノマーの1種以上と共重合可能な
ビニルモノマーの1種以上(重量比;通常5/95〜9
5/5、好ましくは50/50〜90/10)との共重
合体が含まれる。共重合可能なビニルモノマーとして
は、オレフィン以外の前記モノマー、例えばビニルエス
テル、アクリルモノマー〔アルキル(炭素数1〜20)
(メタ)アクリレート,アクリロニトリル等〕、芳香族
ビニルモノマー(スチレン類など)が挙げられる。(B
1)の具体例としては、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、プロピレンとエチレンの共重合体、プロピレン及び
/又はエチレンと他のα−オレフィンの1種以上との共
重合体(ランダム又はブロック)、エチレン/酢酸ビニ
ル共重合樹脂(EVA)、エチレン/エチルアクリレー
ト共重合樹脂(EEA)等が挙げられる。(B1)の好
ましい具体例としては、プロピレン及び/又はエチレン
の(共)重合体、プロピレン及び/又はエチレンと炭素
数4〜12のα−オレフィンの1種以上との共重合体
(ランダム又はブロック、重量比9:1〜1:9)が挙
げられる。
【0112】(B1)のメルトフローレート(MFR)
は、通常0.5〜150、好ましくは1〜100であ
る。メルトフローレートは、JIS K6758(ポリ
プロピレン樹脂の場合;温度230℃、荷重2.16k
gf、ポリエチレン樹脂の場合;温度190℃、荷重
2.16kgf)に準じて測定することができる。(B
1)の結晶化度は、通常25〜90%、好ましくは30
〜70%である。結晶化度は、X線回析、赤外吸収スペ
クトル等の方法によって測定することができる〔南篠初
五郎、“高分子の固体構造−高分子実験学講座2”、p
42、共立出版(1958)〕。
【0113】ポリスチレン樹脂(B2)としては、前記
芳香族ビニルモノマー(前記のスチレン類等)の1種以
上の(共)重合体及びこれらのモノマーの1種以上と共
重合可能なビニルモノマーの1種以上との共重合体(重
量比;通常5/95〜95/5、好ましくは50/50
〜90/10)が含まれる。共重合可能なビニルモノマ
ーとしては、芳香族ビニルモノマー以外の前記モノマ
ー、例えばビニルエステル、アクリルモノマー〔アルキ
ル(炭素数1〜20)(メタ)アクリレート,アクリロ
ニトリル等〕、ジエン、ハロゲン含有ビニルモノマーな
どが挙げられる。(B2)の具体例としては、ポリスチ
レン、ポリビニルトルエン等;スチレン類とメタクリル
酸メチル、アクリロニトリル及びブタジエンからなる群
より選ばれる1種以上の単量体との共重合体、例えばス
チレン/アクリロニトリル共重合体(AS樹脂)、アク
リロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS
樹脂)、スチレン/メタクリル酸メチル/アクリロニト
リル共重合体、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチ
レン共重合体(MBS樹脂)、スチレン/ブタジエン共
重合体等が挙げられる。
【0114】アクリル樹脂(B3)としては、前記アク
リルモノマー〔アルキル(炭素数1〜20)(メタ)ア
クリレート,アクリロニトリル等〕の1種以上の(共)
重合体(例えばポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル
酸ブチル等)及びこれらのモノマーの1種以上と共重合
可能なビニルモノマーの1種以上との共重合体(重量比
通常5/95〜95/5、好ましくは50/50〜90
/10)が含まれる。共重合可能なビニルモノマーとし
ては、前記アクリルモノマー以外の前記モノマー、例え
ばビニルエステル、ジエン、ハロゲン含有ビニルモノマ
ーなどが挙げられる。ゴム状(共)重合体(B4)とし
ては、ジエン(共)重合体、例えばポリブタジエン、ポ
リイソプレン、ポリクロロプレン、エチレン/プロピレ
ン/ブタジエン共重合体、アクリロニトリル/ブタジエ
ン共重合体などが挙げられる。
【0115】ポリアミド樹脂(B5)としては、ナイロ
ン66、ナイロン69、ナイロン610、ナイロン61
2、ナイロン6、ナイロン11、ナイロン12、ナイロ
ン46、ナイロン6/66、ナイロン6/12等が挙げ
られる。ポリエステル樹脂(B6)としては、芳香族ポ
リエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレ
ンテレフタレート、及び脂肪族ポリエステル、例えばポ
リブチレンアジペート、ポリエチレンアジペート、ポリ
−ε−カプロラクトン等が挙げられる。ポリアセタール
樹脂(B7)としては、ホルムアルデヒド又はトリオキ
サンのホモポリマー、例えばポリオキシメチレンホモポ
リマー、及びホルムアルデヒド又はトリオキサンと環状
エーテル(前記アルキレンオキサイド、例えばエチレン
オキサイド,プロピレンオキサイド、ジオキソラン等)
との共重合体、例えばポリオキシメチレン/ポリオキシ
エチレンコポリマー(ポリオキシメチレン/ポリオキシ
エチレン重量比90〜99/1〜10ブロック共重合
体)等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂(B8)と
しては、ビスフェノール骨格を有するポリカーボネー
ト、例えばビスフェノールAとホスゲンとの縮合物及び
ビスフェノールAと炭酸ジエステルとの縮合物が挙げら
れる。
【0116】熱可塑性ポリウレタン樹脂(B9)として
は、前記有機ジイソシアネートと、高分子ジオール[分
子量500〜5,000のジオール、例えば前記ポリエ
ーテルジオール、ポリエステルジオール(前記ジオール
HO−Z−OH及び/又はポリエーテルジオールとジカ
ルボン酸(Q1−4)若しくは前記ラクトンとを反応さ
せて得られるポリエステルジオール)、これらのジオー
ル中でビニルモノマー(例えばアクリロニトリル及び/
又はスチレン)を重合させて得られるポリマーポリオー
ル等]、鎖伸長剤〔例えば前記ジオール(b0)及び/
又は前記ジアミン(Q1−3)〕及び必要により反応停
止剤(一価アルコール、一級若しくは二級モノアミン、
又はモノ−若しくはジ−アルカノールアミン)を、ワン
ショット法又はプレポリマー法により、反応させて得ら
れるポリウレタンが挙げられる。フッ素樹脂(B10)
としては、フッ素含有モノマー、例えば2〜10の炭素
原子及び1〜20のフッ素原子を含有するフッ素化オレ
フィン(テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロ
ピレン、パーフルオロヘキシルエチレンなど)、フッ素
化アルキル(炭素数1〜10)(メタ)アクリレート
〔パーフルオロヘキシルエチル(メタ)アクリレート、
パーフルオロオクチルエチル(メタ)アクリレートな
ど〕の1種以上の(共)重合体が挙げられる。
【0117】これらのうち好ましいのは、(B1)、
(B2)、並びに(B1)と(B5)、(B6)及び
(B7)から選ばれる少なくとも1種の樹脂(BB)の
との併用である。本発明の好ましい実施態様において、
(B1)と併用する樹脂(BB)の量は、ブロックポリ
マー(A)による帯電防止性をより一層効果的に発現さ
せる観点及び樹脂の成形性の観点から、(B1)100
部あたり、(BB)を1〜20部、特に3〜15部の割
合で併用するのが好ましい。(B1)と併用する(B
B)のうち好ましいものは、ナイロン6、ポリブチレン
テレフタレート、ポリエチレンテレフタレート及びポリ
アセタールである。
【0118】(BB)のDSC(示差走査熱量測定)に
よる融解ピーク温度(融点)は、帯電防止性[ブロック
ポリマー(A)の樹脂成形物表面への配向し易さ]の点
及び樹脂の混練の容易さの点から、通常140〜270
℃、好ましくは150〜260℃、特に好ましくは16
0〜240℃である。また、(BB)の固有粘度[η]
(ウベローデ型粘度計を使用し、ポリアセタール樹脂の
場合はパラクロロフェノール0.5%溶液中,60℃、
ポリエステル樹脂の場合はオルトクロロフェノール0.
5%溶液中,25℃、ポリアミド樹脂の場合はオルトク
ロロフェノール0.5%溶液中,25℃で測定する。)
は、特に制限はないが、通常0.1〜4である。
【0119】熱可塑性樹脂(B)のMnは、通常20,
000〜500,000である。(B)に配合する
(A)の量は、要求される性能に応じて種々変えること
ができるが、十分な帯電防止性及び機械的強度を付与す
る観点から、(A)と(B)の合計重量に基づいて、
0.5〜40%、特に1〜30%が好ましい。樹脂組成
物中の(B)の量は、(A)と(B)の合計重量に基づ
いて60〜99.5%、特に70〜99%が好ましい。
配合に際しては、予め(A)を高濃度(例えば(A)と
(B)の合計重量に基づいて10〜80%)に含有する
樹脂組成物(マスターバッチ)形成しておいてもよい。
【0120】本発明の樹脂組成物において、特に(A)
とポリオレフィン樹脂(B1)以外の熱可塑性樹脂
(B)との相溶性を向上させる目的で、相溶化剤(E)
を含有させてもよい。なお、(E)は、(A)を含有し
てなる帯電防止剤に含有させておいてもよい。(E)と
しては、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ヒド
ロキシル基及びポリオキシアルキレン基からなる群から
選ばれる少なくとも1種の官能基(極性基)を有する変
性ビニル重合体、具体的には、例えば特開平3−258
850号公報に記載の重合体が挙げられる。また、例え
ば特開平6−345927号に記載のスルホニル基を有
する変性ビニル重合体、ポリオレフィン部分と芳香族ビ
ニル重合体部分とを有するブロック重合体なども使用で
きる。(E)を使用する場合、(E)の使用量は、樹脂
物性の点から、(A)と(B)の合計重量に対して通常
0.1〜15%、好ましくは1〜10%である。
【0121】また、本発明の樹脂組成物中には、帯電防
止性を更に向上させる目的で、必要によりアルカリ金属
及び/又はアルカリ土類金属の塩(C)を含有させても
よい。なお、(C)は、(A)を含有してなる帯電防止
剤に含有させておいてもよい。(C)としては、アルカ
リ金属(リチウム、ナトリウム、カリウムなど)及び/
又はアルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウムな
ど)の有機酸(炭素数1〜12のモノ−若しくはジ−カ
ルボン酸、例えばギ酸,酢酸,プロピオン酸,シュウ
酸,コハク酸など;炭素数1〜20のスルホン酸、例え
ばメタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸など;チ
オシアン酸等)の塩、及び無機酸(ハロゲン化水素酸、
例えば塩酸、臭化水素酸;過塩素酸;硫酸;リン酸等)
の塩が使用できる。(C)として、例えば、酢酸カリウ
ム、酢酸リチウム、塩化リチウム、塩化マグネシウム、
塩化カルシウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、臭化
マグネシウム、過塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウ
ム、過塩素酸カリウム、硫酸カリウム、燐酸カリウム、
チオシアン酸カリウムなどが挙げられる。これらの中で
好ましいのは、ハライド(特に好ましくは塩化リチウ
ム、塩化ナトリウム、塩化カリウム)、酢酸塩(特に好
ましくは酢酸カリウム)及び過塩素酸塩(特に好ましく
は過塩素酸カリウム)である。
【0122】(C)を併用する場合、(C)の使用量
は、樹脂表面に析出せず良好な外観の樹脂を与える観点
から、(A)の重量に対して通常0.001〜3%、好
ましくは0.01〜2%である。(C)を添加する方法
については特に限定はないが、組成物中への効果的な分
散のさせ易さから、ブロックポリマー(A)中に予め分
散させておくことが好ましい。また、(A)中へ(C)
を分散させる場合、(A)の製造(重合)時に予め
(C)を添加し分散させておくのが特に好ましい。
【0123】さらに、本発明の樹脂組成物に非イオン
性、アニオン性、カチオン性若しくは両性の界面活性剤
(D)を含有させ、帯電防止性を一層向上させてもよ
い。なお、(D)は、(A)を含有してなる帯電防止剤
に含有させておいてもよい。非イオン性界面活性剤とし
ては、高級アルコールエチレンオキサイド付加物、脂肪
酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチ
レンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチ
レンオキサイド付加物等のポリエチレングリコール型非
イオン界面活性剤;ポリエチレンオキサイド、グリセリ
ンの脂肪酸エステル、ペンタエリスリットの脂肪酸エス
テル、ソルビット若しくはソルビタンの脂肪酸エステ
ル、多価アルコールのアルキルエーテル、アルカノール
アミンの脂肪族アミド等の多価アルコール型非イオン界
面活性剤などが挙げられる。アニオン性界面活性剤とし
ては、(C)を除く化合物が使用でき、例えば、高級脂
肪酸のアルカリ金属塩等のカルボン酸塩;高級アルコー
ル硫酸エステル塩、高級アルキルエーテル硫酸エステル
塩等の硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸
塩、アルキルスルホン酸塩、パラフィンスルホン酸塩等
のスルホン酸塩;高級アルコールリン酸エステル塩等の
リン酸エステル塩などが挙げられる。カチオン性界面活
性剤としては、アルキルトリメチルアンモニウム塩等の
第4級アンモニウム塩などが挙げられる。両性界面活性
剤としては、高級アルキルアミノプロピオン酸塩等のア
ミノ酸型両性界面活性剤、高級アルキルジメチルベタイ
ン、高級アルキルジヒドロキシエチルベタイン等のベタ
イン型両性界面活性剤などが挙げられる。これらは単独
でも2種以上を併用してもよい。これらのうち好ましい
ものはアニオン性界面活性剤であり、特に好ましいもの
はアルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルスルホン酸
塩、パラフィンスルホン酸塩等のスルホン酸塩である。
【0124】(D)を使用する場合、(D)の使用量
は、(A)及び(B)の合計重量に対して通常0.00
1〜5%、好ましくは0.01〜3%である。(D)を
添加する方法についても特に限定はないが、樹脂組成物
中へ効果的に分散させるためには、(A)中に予め分散
させておくことが好ましい。また、(A)中へ(D)を
分散させる場合、(A)の製造(重合)時に該(D)を
予め添加し分散させておくのが特に好ましい。
【0125】さらに、本発明の樹脂組成物中には、必要
によりポリエーテルエステルアミド等の公知の高分子型
帯電防止剤を含有させてもよい。なお、公知の高分子型
帯電防止剤は、本発明の(A)を含有してなる帯電防止
剤に含有させておいてもよい。高分子型帯電防止剤とし
ては、ポリエーテルエステルアミド、例えば特開平7−
10989号公報に記載のビスフェノールAのポリオキ
シアルキレン付加物からなるポリエーテルエステルアミ
ドが挙げられる。高分子型帯電防止剤の使用量は、
(A)及び(B)の合計重量に対して通常0〜40%、
好ましくは1〜30%、特に好ましくは5〜20%であ
る。
【0126】また、本発明の樹脂組成物には、種々の用
途に応じ、該組成物の特性を阻害しない範囲で他の樹脂
用添加剤を任意に添加することができる。なお、他の樹
脂用添加剤は、本発明の(A)を含有してなる帯電防止
剤に含有させておいてもよい。他の樹脂用添加剤として
は、顔料、染料、充填剤(有機及び/若しくは無機フィ
ラー)、核剤、ガラス繊維、滑剤、可塑剤、離型剤、酸
化防止剤、難燃剤、紫外線吸収剤及び抗菌剤等が挙げら
れる。
【0127】本発明の樹脂組成物は、(A)又は(A)
を含有してなる帯電防止剤と、(B)とを溶融混合する
ことにより得られる。溶融混合する方法としては、通常
の方法が用いられ、一般的にはペレット状又は粉体状の
重合体同士を適切な混合機、例えばヘンシェルミキサー
等で混合した後、押出機で溶融混合してペレット化する
方法が適用できる。混練時の各成分の添加順序について
は特に限定はないが、例えば、A(A)又は(A)を含
有してなる帯電防止剤と(B)とをブレンドし混練する
方法、B少量の(B)と(A)又は(A)を含有してな
る帯電防止剤、(C)及び(D)とをブレンド・混練し
た後、残りの(B)をブレンド・混練する方法、並びに
C(A)又は(A)を含有してなる帯電防止剤、(C)
及び(D)をブレンド・混練した後に(B)をブレンド
・混練する方法等が挙げられる。これらのうちB及びCの
方法は、マスターバッチ法又はマスターペレット法と呼
ばれる方法である。
【0128】マスターバッチを経由して本発明の樹脂組
成物を得る方法としては、例えば、(A)又は(A)を
含有してなる帯電防止剤と(C)と(D)からなる混合
物〔好ましくは、(A)100部当り、(C)を0又は
0.01〜3部、特に好ましくは0又は0.03〜2
部、(D)を0又は0.1〜20部、特に好ましくは0
又は0.2〜10部を含有する〕100部に対して、
(B)を通常0又は0.1〜50部、好ましくは0又は
5〜20部の割合でブレンド・混練してマスターバッチ
とし、このマスターバッチとさらに(B)の残量とをブ
レンド・混練する方法が例示できる。この方法は、特に
大量の(B)中に少量の(A)、(C)及び(D)を均
一に分散できる利点がある。
【0129】本発明の樹脂組成物の成形方法としては、
射出成形、圧縮成形、カレンダ成形、スラッシュ成形、
回転成形、押出成形、ブロー成形、フィルム成形(キャ
スト法、テンター法、インフレーション法等)等が挙げ
られ、目的に応じて任意の方法で成形できる。本発明の
樹脂組成物からなる成形品は、優れた機械的強度及び永
久帯電防止性を有すると共に、良好な塗装性及び印刷性
を有する。本発明の(A)を含有してなる樹脂組成物か
らなる成形体に塗装又は印刷を施してなる成形物品も本
発明の一つである。該成形品を塗装する方法としては、
例えばエアスプレー塗装、エアレススプレー塗装、静電
スプレー塗装、浸漬塗装、ローラー塗装、刷毛塗り等が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。塗料
としては、例えば、ポリエステルメラミン樹脂塗料、エ
ポキシメラミン樹脂塗料、アクリルメラミン樹脂塗料、
アクリルウレタン樹脂塗料等のプラスチックの塗装に一
般に用いられる塗料が挙げられる。塗装膜厚(乾燥膜
厚)は、目的に応じて適宜選択することができるが通常
10〜50μmである。また、該成形品に印刷する方法
としては、一般的にプラスチックの印刷に用いられてい
る印刷法であればいずれも用いることができ、例えばグ
ラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、オフセッ
ト印刷等が挙げられる。印刷インキとしてはプラスチッ
クの印刷に通常用いられるものが使用できる。
【0130】さらに、本発明の(A)又は(A)を含有
してなる帯電防止剤は、公知の塗料や溶剤(例えばキシ
レン、トルエン)等に添加して帯電防止用の塗料として
も用いることができる。
【0131】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以
下において部は重量部を示す。 製造例1 Mnが2,500、密度が0.89である熱減成法で得
られた低分子量ポリプロピレン85部と無水マレイン酸
15部とを、窒素ガス雰囲気下、200℃で溶融し、2
0時間反応を行った。その後、過剰の無水マレイン酸を
減圧下留去して、酸変性ポリプロピレン(a1−1)
を得た。(a1−1)の酸価は39.8、Mnは、
2,800であった。
【0132】製造例2 Mnが2,500、密度が0.89である熱減成法で得
られた低分子量ポリプロピレン80部を160℃で溶融
し、無水マレイン酸7部及び12−アミノドデカン酸1
4部を加え、窒素ガス雰囲気下、160℃で1時間反応
を行った。その後、200℃で20時間反応を行い、酸
変性ポリプロピレン(a1−1)を得た。(a1−1
)の酸価は32.1、Mnは2,800であった。
【0133】製造例3 Mnが1,200、密度が0.89である熱減成法で得
られた低分子量ポリプロピレン65部を160℃で溶融
し、無水マレイン酸11部及び12−アミノドデカン酸
24部を加え、窒素ガス雰囲気下、160℃で1時間反
応を行った。その後、200℃で20時間反応を行い、
酸変性ポリプロピレン(a1−1)を得た。(a1−
1)の酸価は62.3、Mnは1,800であった。
【0134】製造例4 Mnが12,000、密度が0.89である熱減成法で
得られた低分子量ポリプロピレン98.5部と無水マレ
イン酸1.5部とを、窒素下、200℃で溶融し、20
時間反応を行った。その後、過剰の無水マレイン酸を減
圧下で留去して酸変性ポリプロピレン(a1−1)を
得た。(a1−1)の酸価は4.6、Mnは12,2
00であった。
【0135】製造例5 Mnが300、密度が0.89である熱減成法で得られ
た低分子量ポリプロピレン47部を160℃で溶融し、
無水マレイン酸30部及びグリシン23部を加え、窒素
ガス雰囲気下、160℃で1時間反応を行った。その
後、200℃で20時間反応を行い、酸変性ポリプロピ
レン(a1−1)を得た。(a1−1)の酸価は1
70.1、Mnは630であった。
【0136】製造例6 ステンレス製オートクレーブに、製造例1で得られた酸
変性ポリプロピレン(a1−1)41部、Mnが4,
000であるポリエチレングリコール(b1、体積個
有抵抗値:5×108Ω・cm)59部、酸化防止剤
(「イルガノックス1010」、チバガイキー社製、以
下同じ。)0.3部及び酢酸ジルコニル0.5部を加
え、230℃、1mmHg以下の減圧下の条件で3時間
重合し、粘稠なポリマーを得た。このポリマーをベルト
上にストランド状で取り出し、ペレタイズすることによ
って、本発明のブロックポリマー(A1)を得た。
(A1)のMnは、22,000であった。また、こ
のMnと1H−NMR分析より、(A1)の平均繰り
返し数(Nn)は3.2であった。
【0137】製造例7 ステンレス製オートクレーブに、製造例2で得られた酸
変性ポリプロピレン(a1−1)64部、Mnが2,
000であるポリエチレングリコール(b1、体積個
有抵抗値:8×108Ω・cm)36部、酸化防止剤
0.3部及び酢酸ジルコニル0.5部を加え、230
℃、1mmHg以下の減圧下の条件で4時間重合し、粘
稠なポリマーを得た。以下、製造例6と同様の操作を行
いブロックポリマー(A1)を得た。(A1)のM
nは、25,000であった。また、このMnと1H−
NMR分析より、(A1)の平均繰り返し数(Nn)
は5.0であった。
【0138】製造例8 ステンレス製オートクレーブに、製造例3で得られた酸
変性ポリプロピレン(a1−1)55部、Mnが1,
500であるポリエチレングリコール(b1、体積個
有抵抗値1×109Ω・cm)45部、酸化防止剤0.
3部及び酢酸ジルコニル0.5部を加え、230℃、1
mmHg以下の減圧下の条件で5時間重合し、粘稠なポ
リマーを得た。以下、製造例6と同様の操作を行いブロ
ックポリマー(A1)を得た。(A1)のMnは、
35,000であった。また、このMnと1H−NMR
分析より、(A1)の平均繰り返し数(Nn)は1
0.1であった。
【0139】製造例9 ステンレス製オートクレーブに、製造例4で得られた変
性ポリオレフィン(a1−1)30部、12−アミノ
ドデカン酸22.5部、アジピン酸3.3部及び「イル
ガノックス1010」(酸化防止剤、チバガイキー社
製)0.3部を仕込み、オートクレーブ内を窒素ガスで
置換した後、220℃の温度で加圧密閉化4時間加熱攪
拌した。次に、Mnが2,000であるビスフェノール
Aエチレンオキサイド付加物47.5部、酢酸ジルコニ
ル0.3部を加え、230℃、1mmHg以下の減圧下
の条件で5時間重合し、粘稠なポリマーを得た。以下、
製造例6と同様の操作を行い、本発明のブロックポリマ
ー(A2)を得た。(A2)のMnは、32,00
0であった。また、このMnと1H−NMR分析より、
(A2)はa−b型のブロックポリマーであった。
(A2)を構成する(b2)を以下の方法で製造
し、体積個有抵抗値を測定したところ、5×108Ω・
cmであった。ステンレス製オートクレーブに、12−
アミノドデカン酸22.5部、アジピン酸3.3部及び
「イルガノックス1010」(酸化防止剤、チバガイキ
ー社製)0.3部を仕込み、オートクレーブ内を窒素ガ
スで置換した後、220℃の温度で加圧密閉化4時間加
熱攪拌した。次に、Mnが2,000であるビスフェノ
ールAエチレンオキサイド付加物47.5部、酢酸ジル
コニル0.3部を加え、230℃、1mmHg以下の減
圧下の条件で5時間重合し、粘稠なポリマー(b2)
を得た。
【0140】製造例10 ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム1
05部、アジピン酸17.1部、「イルガノックス10
10」0.3部及び水6部を仕込み、窒素置換後、22
0℃で加圧密閉下4時間加熱攪拌し、両末端にカルボキ
シル基を有する酸価110のポリアミドオリゴマー11
7部を得た。次に、製造例4で得られた変性ポリオレフ
ィン(a1−1)125部、Mnが1,500である
ポリエチレングリコール180部及び酢酸ジルコニル
0.5部を加え、230℃、1mmHg以下の減圧下の
条件で5時間重合し、粘稠なポリマーを得た。以下、製
造例6と同様の操作を行いブロックポリマー(A2)
を得た。(A2)のMnは、40.000であった。
また、このMnと1H−NMR分析より、(A2)
は、a−b−a型のブロックポリマーであった。(A2
)を構成する(b2)を以下の方法で製造し、体積
個有抵抗値を測定したところ、2×108Ω・cmであ
った。ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラク
タム105部、アジピン酸17.1部、「イルガノック
ス1010」0.3部及び水6部を仕込み、窒素置換
後、220℃で加圧密閉下4時間加熱攪拌し、両末端に
カルボキシル基を有する酸価110のポリアミドオリゴ
マー117部を得た。次に、Mnが1,500であるポ
リエチレングリコール180部及び酢酸ジルコニル0.
5部を加え、230℃、1mmHg以下の減圧下の条件
で5時間重合し、粘稠なポリマー(b2)を得た。
【0141】製造例11 ガラス製オートクレーブにN−メチルジエタノールアミ
ン41部、アジピン酸49部及び酢酸ジルコニル0.3
部を仕込み、窒素置換後、2時間かけて220℃まで昇
温し、1時間かけて1mmHgまで減圧しポリエステル
化反応を行った。反応終了後、50℃まで冷却し、メタ
ノール100部を加えて溶解した。攪拌しながら反応容
器中の温度を120℃に保ち、炭酸ジメチル31部を3
時間かけて徐々に滴下し、同温度で6時間熟成した。室
温まで冷却後、60%ヘキサフルオロリン酸水溶液10
0部を加え、室温で1時間攪拌した。次いで、溶剤を減
圧留去し、4級アンモニウム塩を有する基を分子内に平
均12個有するカチオン性ポリマー(b3)を得た
(水酸基価30.1、酸価0.5、体積個有抵抗値9×
106Ω・cm)。
【0142】製造例12 ステンレス製オートクレーブに、製造例11で得られた
カチオン性ポリマー(b3)52部、製造例2で得ら
れた酸変性ポリプロピレン(a1−1)48部、酸化
防止剤0.3部及び酢酸ジルコニル0.5部を加え、2
30℃、1mmHg以下の減圧下の条件で4時間重合
し、粘稠なポリマーを得た。以下、製造例6と同様の操
作を行いブロックポリマー(A3)を得た。(A3
)のMnは、28,000であった。このMnと1
−NMR分析より、(A3)の平均繰り返し数(N
n)は4.1であった。
【0143】製造例13 Mnが300であるポリエチレングリコール67部と5
−スルホイソフタル酸ジメチルエステルのナトリウム塩
49部及びジブチル錫オキサイド0.2部を反応容器に
仕込み、5mmHgの減圧下で190℃まで昇温し、メ
タノールを留去しながら6時間エステル交換反応を行
い、1分子内にスルホン酸ナトリウム塩基を平均5個有
するアニオン性ポリマー(b4)を得た(水酸基価2
9.6、酸価0.4、体積個有抵抗値2×108Ω・c
m)。
【0144】製造例14 ステンレス製オートクレーブに、製造例13で得られた
アニオン性ポリマー(b4)52部、製造例2で得ら
れた酸変性ポリプロピレン(a1−1)48部、酸化
防止剤0.3部及び酢酸ジルコニル0.5部を加え、2
30℃、1mmHg以下の減圧下の条件で4時間重合
し、粘稠なポリマーを得た。以下、製造例6と同様の操
作を行いブロックポリマー(A4)を得た。(A4
)のMnは、24,000であった。また、このMn
1H−NMR分析より、(A4)の平均繰り返し数
(Nn)は3.5であった。
【0145】製造例15 ステンレス製オートクレーブに、製造例2で得られた酸
変性ポリプロピレン(a1−1)64部、Mnが2,
000であるポリエチレングリコール(b1、体積個
有抵抗値8×108Ω・cm)36部、酸化防止剤0.
3部及び酢酸ジルコニル0.5部を加え、230℃、1
mmHg以下の減圧下の条件で1時間重合し、粘稠なポ
リマーを得た。以下、製造例6と同様の操作を行いブロ
ックポリマー(A’)を得た。(A’)のMnは、
7,000であった。また、このMnと1H−NMR分
析より、(A’)の平均繰り返し数(Nn)は1.5
であった。
【0146】製造例16 ステンレス製オートクレーブに、製造例3で得られた酸
変性ポリプロピレン(a1−1)55部、Mnが1,
500であるポリエチレングリコール(b1、体積個
有抵抗値1×109Ω・cm)45部、酸化防止剤0.
3部及び酢酸ジルコニル0.5部を加え、230℃、1
mmHg以下の減圧下の条件で0.5時間重合し、粘稠
なポリマーを得た。以下、製造例6と同様の操作を行い
ブロックポリマー(A’)を得た。(A’)のMn
は、3、500であった。このMnと1H−NMR分析
より、(A’)平均繰り返し数は1.0であった。
【0147】製造例17 ステンレス製オートクレーブに、製造例5で得られた酸
変性ポリプロピレン(a1−1)63部、Mnが40
0であるポリエチレングリコール37部、酸化防止剤
0.3部及び酢酸ジルコニル0.5部を加え、230
℃、1mmHg以下の減圧下の条件で30時間重合し、
粘稠なポリマーを得た。以下、製造例6と同様の操作を
行いブロックポリマー(A’)を得た。(A’)の
Mnは、52,000であった。また、このMnと1
−NMR分析より、(A’)の平均繰り返し数(N
n)は55.2であった。
【0148】製造例18 ステンレス製オートクレーブに、12−アミノドデカン
酸110部、アジピン酸16.3部及び「イルガノック
ス1010」0.3部を仕込み、オートクレーブ内を窒
素ガスで置換した後、220℃の温度で加圧密閉化4時
間加熱攪拌し、両末端にカルボキシル基を有するポリア
ミドオリゴマー(酸価は107であった)を117部得
た。次に、Mnが2,000であるビスフェノールAエ
チレンオキサイド付加物225部、酢酸ジルコニル0.
5部を加え、240℃、1mmHg以下の減圧下の条件
で5時間重合し、粘稠なポリマーを得た。以下、製造例
6と同様な操作を行い、ポリエーテルエステルアミド
(A’)を得た。
【0149】製造例19 ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム1
05部、アジピン酸17.1部、「イルガノックス10
10」0.3部及び水6部を仕込み、オートクレーブ内
を窒素ガスで置換した後、220℃の温度で加圧密閉化
4時間加熱攪拌し、両末端にカルボキシル基を有するポ
リアミドオリゴマー(酸価は110であった)を117
部得た。次に、Mnが1,500であるポリエチレング
リコール175部及び酢酸ジルコニル0.5部を加え、
245℃、1mmHg以下の減圧下の条件で5時間重合
し、粘稠なポリマーを得た。以下、製造例6と同様な操
作を行い、ポリエーテルエステルアミド(A’)を得
た。
【0150】製造例20 Mnが12,000、密度が0.89である熱減成法で
得られた低分子量ポリプロピレン95部と無水マレイン
酸5部とを窒素下180℃で溶融し、次いで、これにジ
クミルパーオキサイド1.5部を溶かしたキシレン50
%溶液を15分かけて滴下した後、1時間反応を行っ
た。その後、溶剤を留去して相溶化剤である変性ビニル
重合体(E)を得た。(E)の酸価は、25.7、
Mnは15,000であった。
【0151】実施例1〜16、比較例1〜4 表1に示す処方(部)に従って、ブロックポリマー(A
1、A1、A1、A2、A2、A3、A4
、A’、A’、A’)又はポリエーテルアミド
(A’、A’)と熱可塑性樹脂(B1、B1)
とを、場合によりアルカリ金属塩、活性剤又は変性ビニ
ル重合体(E)と共に、ヘンシェルミキサーで3分間
ブレンドした後、ベント付き2軸押出機にて、240
℃、100rpm、滞留時間5分の条件で溶融混練し
て、本発明の樹脂組成物(実施例1〜13)及び比較の
樹脂組成物(比較例1〜7)を得た。
【0152】
【表1】
【0153】(注1) B1:ポリプロピレン{商品名:ウベポリプロJ60
9、宇部興産(株)製} B2:ABS樹脂{商品名:ABS10、テクノポリ
マー(株)製} C1:塩化リチウム C2:酢酸カリウム D1:ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム C1、C2、D1はブロックポリマー製造時{親
水性ポリマー(b)と同時}に添加した。
【0154】性能試験 本発明の樹脂組成物及び比較の樹脂組成物を射出成形機
を用い、シリンダー温度240℃、金型温度50℃で試
験片を作成し、衝撃強度、曲げ弾性率、相溶性、表面固
有抵抗値、体積固有抵抗値、水洗後の表面固有抵抗値、
一次密着性、耐水性及び塗着効率の評価に用いた。ま
た、圧縮成形機を用い、温度200℃、圧力20kg/
cm2、時間30秒間で試験片を作成し、表面固有抵抗
値の評価に用いた。これらの試験片を下記の試験法に基
づいて樹脂機械強度(衝撃強度、曲げ弾性率、相溶
性)、帯電防止性(表面固有抵抗値、体積固有抵抗値、
水洗後の表面固有抵抗値)及び塗装性(一次密着性、耐
水性、塗着効率)を評価した。その結果を表2に示す。
【0155】 (1)衝撃強度 :ASTM D256(ノッチ付、3.2mm厚) Method Aにて測定 (2)曲げ弾性率 :ASTM D790 試験片(10×4×100mm)、支点間距離60mm (3)相溶性 :試験片(100×100×2mm)を折り曲げ、その破 断面を観察することによって評価した。 評価基準 ○;良好 ×;AとBとの相溶性悪く、層状剥離 (4)表面固有抵抗値:試験片(100×100×2m
m)を用い、超絶縁計(アドバンテスト製)により23
℃、湿度50%RHの雰囲気下で測定した(ASTM
D257に準拠)。 (5)体積固有抵抗値:試験片(100×100×2m
m)を用い、超絶縁計(アドバンテスト製)により23
℃、湿度50%RHの雰囲気下で測定した(ASTM
D257に準拠)。 (6)水洗後の表面固有抵抗値:試験片(100×10
0×2mm)を水洗して、順風乾燥機で80℃で3時間
乾燥した。この操作を10回繰り返し、超絶縁計(アド
バンテスト製)により23℃、湿度50%RHの雰囲気
下で測定した(ASTM D257に準拠)。
【0156】(7)塗装試験 :試験片(100×
100×2mm)をアースし、空気流併用静電霧化静電
塗装機(日本ランズバーグ(株)製ターボニアーGミニ
ベル型自動静電塗装装置)で静電塗装を行った(印加電
圧=−90KV、吐出量=100cc/分、回転数=2
4,000rpm、霧化頭径=70mm、2液ウレタン
塗料:日本油脂製 ハイウレタン#5000を使用)。
塗装板を80℃で2時間、焼き付け処理した後、以下の
試験を行った。 一次密着性:塗装板の塗膜面についてJIS K540
0(1990年)のゴバン目セロテープ試験を行った。 耐水性 :塗装板を50℃の温水に240時間浸漬
後、JIS K5400(1990年)ゴバン目セロテ
ープ試験を行った。 塗着効率 :以下の式に従って求めた。 塗着効率=(試験片の塗装後重量−試験片の塗装前重
量)×100÷(塗出した塗料の絶乾重量) (注)熱可塑性樹脂(B1)を用いた実施例1,3,
5,7,9,11、12,13と比較例1,3、4、
5、7はコロナ放電処理を行い、塗装試験を行った。
【0157】
【表2】
【0158】表2から明らかなように、本発明のブロッ
クポリマーを添加した樹脂の物性は、比較例1〜7と比
較して、樹脂機械強度、帯電防止性を発現する表面固有
抵抗値(1×1013Ω以下)及び塗装性に優れている。
また、本発明のブロックポリマーを添加した樹脂は、成
形法が異なっても帯電防止性を発現する表面固有抵抗値
を示した。また、この帯電防止性は水洗しても効果が落
ちず、半永久的に持続する。また、金属塩又は活性剤を
添加することにより、特に優れた性能(永久帯電防止性
を発現する表面固有抵抗値及び塗着効率)を発揮してい
る。
【0159】
【発明の効果】本発明のブロックポリマー及びこれを含
有してなる帯電防止剤は、従来の技術では達し得なかっ
た優れた永久帯電防止性を樹脂に付与することができ
る。さらに、極めて良好な塗装性も付与することがで
き、かつ機械的特性にも優れるという効果を発揮する。
上記効果を奏することから、本発明のブロックポリマー
は、射出成形、圧縮成型、カレンダ成形、スラッシュ成
形、回転成形、押出成形、ブロー成形、フィルム成形
(キャスト法、テンター法、インフレーション法等)等
の各種成形法で成形される家電・OA機器、ゲーム機
器、事務機器用のハウジング製品、ICトレーなどの各
種プラスチック容器、各種包材用フィルム、床材用シー
ト、人工芝、マット、自動車部品等の帯電防止性を必要
とする各種成形材料の帯電防止剤用のポリマーとして極
めて有用である。
フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願2000−16364(P2000−16364) (32)優先日 平成12年1月25日(2000.1.25) (33)優先権主張国 日本(JP) (56)参考文献 特開 平10−324662(JP,A) 特開 平10−310618(JP,A) 特開 平7−145216(JP,A) 特開 平2−218705(JP,A) 特開 平3−290464(JP,A) 特表 平11−509252(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 81/00 - 81/02 C08L 101/00 - 101/16 C09K 3/16 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (26)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ポリオレフィン(a)のブロックと、体
    積固有抵抗値が105〜1011Ω・cmの親水性ポリマ
    ー(b)のブロックとが、エステル結合、アミド結合、
    エーテル結合、ウレタン結合及びイミド結合から選ばれ
    る少なくとも1種の結合を介して、繰り返し交互に結合
    した構造を有し;(b)が、ポリエーテル(b1)、ポ
    リエーテル含有親水性ポリマー(b2)、カチオン性ポ
    リマー(b3)及びアニオン性ポリマー(b4)からな
    る群から選ばれ;(a)のブロックと(b)のブロック
    との繰り返し単位の平均繰り返し数が2〜50であるこ
    とを特徴とするブロックポリマー(A)。
  2. 【請求項2】 (a)が、ポリオレフィン(a0)の末
    端をα,β−不飽和カルボン酸(無水物)で変性したカ
    ルボニル基を有するポリオレフィン(a1−1)、(a
    1−1)をラクタム又はアミノカルボン酸で二次変性し
    たカルボニル基を有するポリオレフィン(a1−2)、
    ポリオレフィン(a0)を酸素及び/若しくはオゾンに
    よる酸化又はオキソ法によるヒドロホルミル化により変
    性したカルボニル基を有するポリオレフィン(a1−
    3)、(a1−3)をラクタム又はアミノカルボン酸で
    二次変性したカルボニル基を有するポリオレフィン(a
    1−4)、及びこれらの2種以上の混合物からなる群か
    ら選ばれる、ポリマーの両末端にカルボニル基を有する
    ポリオレフィン(a1) である請求項1記載のブロッ
    クポリマー。
  3. 【請求項3】 (A)が下記一般式(1)で示される繰
    り返し単位を有するブロックポリマー(A1)からなる
    請求項1又は2記載のブロックポリマー。 【化1】 一般式(1)中、nは2〜50の整数、R1及びR2の一
    方は水素原子であり他方は水素原子又は炭素数1〜10
    のアルキル基、yは15〜800の整数、E1はジオー
    ル(b0)から水酸基を除いた残基、A1は炭素数2〜
    4のアルキレン基、m及びm’は1〜300の整数を表
    し、X及びX’は下記一般式(2)〜(8)で示される
    基から選ばれる基及び対応する(2’)〜(8’)で示
    される基から選ばれる基、すなわち、Xが一般式(2)
    で示される基のとき、X’は一般式(2’)で示される
    基であり、一般式(3)〜(8)及び(3’)〜
    (8’)についても同様の関係である。 【化2】 一般式(2)〜(8)及び(2’)〜(8’)中、
    3、R3'は炭素数2〜3の三価の炭化水素基、R4は炭
    素数1〜11の2価の炭化水素基、R5は水素又は炭素
    数1〜10のアルキル基、R6は炭素数2〜22の炭化
    水素基、E2は有機ジイソシアネート残基を表し、rは
    1〜10、u及びvは0又は1である。 又、Q、Q’、T及びT’は次式で示される基である。 【化3】 ただし、R5は水素原子又は炭素数1〜10のアルキル
    基、R7は水素原子又はメチル基、tはR7がメチル基の
    とき0、水素原子のとき1である。
  4. 【請求項4】 一般式(1)におけるE1が、脂肪族二
    価アルコール、二価フェノール又は三級アミノ基含有ジ
    オールから水酸基を除いた残基である請求項3記載のブ
    ロックポリマー。
  5. 【請求項5】 (b)が、分子内に非イオン性分子鎖
    (c1)で隔てられた2〜80個のカチオン性基(c
    2)を有するカチオン性ポリマー(b3)である請求項
    1〜4のいずれか記載のブロックポリマー。
  6. 【請求項6】 (c2)が、四級アンモニウム塩又はホ
    スホニウム塩を有する基である請求項5記載のブロック
    ポリマー。
  7. 【請求項7】 ポリオレフィン(a)のブロックと、体
    積固有抵抗値が105〜1011Ω・cmの親水性ポリマ
    ー(b)のブロックとが、繰り返し交互に結合した構造
    を有し、(b)が、分子内に非イオン性分子鎖(c1)
    で隔てられた2〜80個のカチオン性基(c2)を有す
    るカチオン性ポリマー(b3)であり;(c2)の対ア
    ニオンが、プロトン酸(d1)とルイス酸(d2)との
    組み合わせからなる超強酸のアニオンであることを特徴
    とするブロックポリマー(A)。
  8. 【請求項8】 (c2)の対アニオンが、Hammet
    tの酸度関数(−H0)が12〜20の超強酸のアニオ
    ンである請求項7記載のブロックポリマー。
  9. 【請求項9】 (c2)の対アニオンが、BF4 -、PF
    6 -、BF3Cl-及びPF5Cl-からなる群から選ばれる
    少なくとも1種のアニオンである請求項5〜8のいずれ
    か記載のブロックポリマー。
  10. 【請求項10】 (c1)が、二価の炭化水素基、又は
    エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、アミ
    ド結合、ウレタン結合、ウレア結合、カーボネート結合
    及び/若しくはシロキシ結合を有する炭化水素基並びに
    窒素原子若しくは酸素原子を含む複素環構造を有する炭
    化水素基からなる群から選ばれる少なくとも1種の二価
    の有機基である請求項5〜9のいずれか記載のブロック
    ポリマー。
  11. 【請求項11】 ポリオレフィン(a)のブロックと、
    体積固有抵抗値が105〜1011Ω・cmの親水性ポリ
    マー(b)のブロックとが、繰り返し交互に結合した構
    造を有し;(b)が、スルホニル基を有するジカルボン
    酸(e1)と、ジオール(b0)又はポリエーテル(b
    1)とを必須構成単位とし、かつ分子内に2〜80個の
    スルホニル基を有するアニオン性ポリマー(b4)であ
    ることを特徴とするブロックポリマー(A)。
  12. 【請求項12】 (b)が、(e1)と、炭素数2〜1
    0のアルカンジオール、ポリエチレングリコール及びビ
    スフェノールのエチレンオキサイド付加物からなる群か
    ら選ばれる化合物とを必須構成単位とする請求項11記
    載のブロックポリマー。
  13. 【請求項13】 ポリオレフィン(a)のブロックと、
    体積固有抵抗値が105〜1011Ω・cmの親水性ポリ
    マー(b)のブロックとが、(a)−(b)型又は
    (a)−(b)−(a)型に結合した構造を有し;
    (b)が、ポリエーテルジオールのセグメントを有する
    ポリエーテルエステルアミド(b2−1)、ポリエーテ
    ルジオールのセグメントを有するポリエーテルアミドイ
    ミド(b2−2)、ポリエーテルジオールのセグメント
    を有するポリエーテルエステル(b2−3)、ポリエー
    テルジアミンのセグメントを有するポリエーテルアミド
    (b2−4)及びポリエーテルジオールもしくはポリエ
    ーテルジアミンのセグメントを有するポリエーテルウレ
    タン(b2−5)からなる群から選ばれる、ポリエーテ
    ル含有親水性ポリマー(b2)であることを特徴とする
    ブロックポリマー(A)。
  14. 【請求項14】 (a)が下記一般式(9)〜(11)
    のいずれかで示されるカルボニル基をポリマーの片末端
    に有するポリオレフィン(a4)である請求項13記載
    のブロックポリマー。 【化4】 式中、R8はポリオレフィン残基、Q’は式−CH(R
    10)−CH=C(R10)−CH2−で示される基、R9
    炭素数2〜3の三価の炭化水素基、R10は水素原子又は
    炭素数1〜10のアルキル基、R11は水素原子又はメチ
    ル基である。
  15. 【請求項15】 (b2)が下記一般式(19)で示さ
    れるポリマーである請求項13又は14記載のブロック
    ポリマー。 【化5】 R12−(NH−A2p−O−E3−O−(A2−NH)p−R13 (19) 式中、E3はポリエーテル基含有親水性ポリマー残基、
    12及びR13は水素原子、式−CO−NH−E2−NH
    COO−R14−NH2、式−CO−NH−E2−NCO、
    式G−又は式−CH2CH(OH)CH2−O−E4−O
    −Gで示される基、pは0又は1、A2は炭素数2〜4
    のアルキレン基又は式−(R15−CO)r−で示される
    基、R14は炭素数2〜12の2価の炭化水素基、R15
    炭素数1〜11の2価の炭化水素基、rは1〜10の整
    数、E2は有機ジイソシアネートの残基、Gはグリシジ
    ル基、E4はジグリシジルエーテル(GOE4OG)から
    グリシジルオキシ基を除いた残基を表す。
  16. 【請求項16】 E3が下記一般式(20)で示される
    基である請求項15記載のブロックポリマー。 【化6】 −〔E5−D−Z〕w−(D−E5u− (20) 式中、E5はポリエーテル(b1)の残基、Dは酸素原
    子及び/又はイミノ基、Zはポリエステルアミド、ポリ
    アミドイミド、ポリエステル、ポリアミド及びポリウレ
    タンからなる群から選ばれるポリマーのセグメント、u
    は0又は1、wは2〜50の整数を表す。
  17. 【請求項17】 Zが下記一般式(21)〜(27)の
    いずれかで示されるセグメントである請求項16記載の
    ブロックポリマー。 【化7】 式中、E6は炭素数4〜20のジカルボン酸からカルボ
    キシル基を除いた残基、E7は三価若しくは四価の芳香
    族カルボン酸から3個のカルボキシル基を除いた残基、
    8は炭素数4〜12のジカルボン酸と炭素数2〜12
    のジアミン(Q1−3)とのモノアミド及び炭素数6〜
    12のアミノカルボン酸からなる群から選ばれるポリア
    ミド形成成分から末端のアミノ基とカルボキシル基を除
    いた残基、E9は炭素数4〜12のジカルボン酸と炭素
    数2〜12のジオール(b0)とのエステル及び炭素数
    6〜12のオキシカルボン酸からなる群から選ばれるポ
    リエステル形成成分から末端の水酸基とカルボキシル基
    を除いた残基、s、s’、s”は0又は1〜50の整
    数、(s+s’)は少なくとも1、A3は炭素数2〜4
    のアルキレン基又は式−R16−CO−で示される基、R
    16は炭素数1〜11の2価の炭化水素基、qは0又は1
    〜10の整数、E10は式−CO−D−E11−D−CO−
    NH−E2−NH−で示される基、E2は有機ジイソシア
    ネートの残基、Dは酸素原子及び/又はイミノ基、E11
    は鎖伸張剤の残基である。
  18. 【請求項18】 (b2)の末端の一方又は両方が、下
    記一般式(12)〜(18)の何れかで示される基で置
    き換えられた構造のものである請求項13〜17のいず
    れか記載のブロックポリマー。 【化8】 式中、R8はポリオレフィン残基、Q’は式−CH(R
    10)−CH=C(R10)−CH2−で示される基、R9
    炭素数2〜3の三価の炭化水素基、R10は水素原子又は
    炭素数1〜10のアルキル基、R11は水素原子又はメチ
    ル基である。
  19. 【請求項19】 ポリオレフィン残基R8が式R17
    {CH(R18)−CH(R19)}y−(式中、R17は水
    素原子又はH2C=CH−で示される基、R18及びR19
    の一方は水素原子で他方は水素原子又は炭素数1〜10
    のアルキル基、yは15〜800の整数を表す。)で示
    される基であり;(b2)が一般式(19)で示される
    ポリマーであり、 R12−(NH−A2p−O−E3−O−(A2−NH)p−R13 (19) R12及びR13は水素原子及び/又は式:−CO−NH−
    2−NCOで示される基であり、 pは0又は1、A2は炭素数2〜4のアルキレン基又は
    式−(R15−CO)r−で示される基、R15は炭素数1
    〜11の2価の炭化水素基、rは1〜10の整数、E2
    は有機ジイソシアネートの残基、E3は一般式(20)
    で示されるポリエーテル基含有親水性ポリマー残基であ
    り、 −〔E5−D−Z〕w−(D−E5u− (20) E5はポリエーテル(b1)の残基、Dは酸素原子及び
    /又はイミノ基、uは0又は1、wは2〜50の整数、
    Zは一般式(21)で示されるポリエステルアミドセグ
    メントである、請求項18記載のブロックポリマー。 −[C(=O)−E8−NH]S'−C(=O)−E6−C(=O)−[NH−E8−C(=O)]S− (21) [式中、E6は炭素数4〜20のジカルボン酸からカル
    ボキシル基を除いた残基、E8は炭素数4〜12のジカ
    ルボン酸と炭素数2〜12のジアミン(Q1−3)との
    モノアミド及び炭素数6〜12のアミノカルボン酸から
    なる群から選ばれるポリアミド形成成分から末端のアミ
    ノ基とカルボキシル基を除いた残基、s、s’は0又は
    1〜50の整数、(s+s’)は少なくとも1であ
    る。]
  20. 【請求項20】 (A)のゲルパーミエションクロマト
    グラフィーによる数平均分子量が2,000〜60,0
    00である請求項1〜19のいずれか記載のブロックポ
    リマー。
  21. 【請求項21】 請求項1〜20のいずれか記載の
    (A)を含有してなる帯電防止剤。
  22. 【請求項22】 請求項1〜20のいずれか記載の
    (A)と熱可塑性樹脂(B)とからなる帯電防止性樹脂
    組成物。
  23. 【請求項23】 (B)がポリオレフィン樹脂(B1)
    からなる請求項22記載の樹脂組成物。
  24. 【請求項24】 (B)がポリオレフィン樹脂(B1)
    と、ポリアミド樹脂(B5)、ポリエステル樹脂(B
    6)及びポリアセタール樹脂(B7)からなる群から選
    ばれる少なくとも1種の樹脂(BB)とからなり、(B
    B)の含量が(B1)100重量部当たり1〜20重量
    部である請求項22又は23記載の樹脂組成物。
  25. 【請求項25】 さらに、アルカリ金属若しくはアルカ
    リ土類金属の塩(C)、界面活性剤(D)、相溶化剤
    (E)及び他の高分子帯電防止剤からなる群から選ばれ
    る少なくとも1種を含有してなる請求項22〜24のい
    ずれか記載の樹脂組成物。
  26. 【請求項26】 請求項1〜20のいずれか記載の
    (A)を含有してなる樹脂組成物からなる成形体に塗装
    又は印刷を施してなる成形物品。
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