JP2023054069A - 薄い耐久性の反射防止構造を有する無機酸化物物品 - Google Patents
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Abstract
Description
基板110は、無機酸化物材料を含むことがあり、非晶質基板、結晶質基板またはその組合せを含むことがある。1つ以上の実施の形態において、その基板は、約1.45から約1.55の範囲にある屈折率、例えば、1.45、1.46、1.47、1.48、1.49、1.50、1.51、1.52、1.53、1.54、1.55、およびそれらの間の全ての屈折率を示す。
図1に示されるように、物品100の反射防止コーティング120は、複数の層120A、120B、120Cを備えることがある。いくつかの実施の形態において、1つ以上の層が、基板110の反射防止コーティング120と反対側(すなわち、主面114上)に配置されている(図示せず)。物品100のいくつかの実施の形態において、図1に示されるような層120Cは、キャッピング層(例えば、図2Aおよび2Bに示され、下記の欄に記載されるようなキャッピング層131)の機能を果たすことができる。
69モル%のSiO2、10モル%のAl2O3、15モル%のNa2O、および5モル%のMgOの公称組成を有するガラス基板を提供し、図2Bおよび下記の表1に示されるように、そのガラス基板上に5層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例1の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング(例えば、本開示に概説された反射防止コーティング120と一致するような)は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。
69モル%のSiO2、10モル%のAl2O3、15モル%のNa2O、および5モル%のMgOの公称組成を有するガラス基板を提供し、図2Bおよび下記の表2に示されるように、そのガラス基板上に5層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例2の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング(例えば、本開示に概説された反射防止コーティング120と一致するような)は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。
69モル%のSiO2、10モル%のAl2O3、15モル%のNa2O、および5モル%のMgOの公称組成を有するガラス基板を提供し、図2Bおよび下記の表3に示されるように、そのガラス基板上に5層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例3の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング(例えば、本開示に概説された反射防止コーティング120と一致するような)は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。
69モル%のSiO2、10モル%のAl2O3、15モル%のNa2O、および5モル%のMgOの公称組成を有するガラス基板を提供し、図2Bおよび下記の表3Aに示されるように、そのガラス基板上に5層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例3Aの製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング(例えば、本開示に概説された反射防止コーティング120と一致するような)は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。
69モル%のSiO2、10モル%のAl2O3、15モル%のNa2O、および5モル%のMgOの公称組成を有するガラス基板を提供し、図2Aおよび下記の表4に示されるように、そのガラス基板上に7層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例4の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング(例えば、本開示に概説された反射防止コーティング120と一致するような)は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。
69モル%のSiO2、10モル%のAl2O3、15モル%のNa2O、および5モル%のMgOの公称組成を有するガラス基板を提供し、図2Bおよび下記の表5Aに示されるように、そのガラス基板上に5層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例5の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング(例えば、本開示に概説された反射防止コーティング120と一致するような)は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。
69モル%のSiO2、10モル%のAl2O3、15モル%のNa2O、および5モル%のMgOの公称組成を有するガラス基板を提供し、図2Bおよび下記の表5Bに示されるように、そのガラス基板上に5層を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例5Aの製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング(例えば、本開示に概説された反射防止コーティング120と一致するような)は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。
実施例6は二組のモデル化試料に関する。詳しくは、実施例6のモデル化試料(「実施例3-M」および「実施例6-M」)は、この実施例の製造したままの試料に用いたガラス基板と同じ組成を有するガラス基板を使用すると仮定した。実施例6における実施例3-Mのモデル化試料は、実施例3に用いたような反射防止コーティングと同じ構成、すなわち、実施例3-Mを使用していることに留意のこと。しかしながら、実施例6-Mの試料は、類似しているが、より厚い低RI層が基板と接触している、反射防止コーティングの構成を有する。より詳しくは、そのモデル化試料の各々の反射防止コーティングは、下記の表6に示されたような層材料および物理的厚さを有すると仮定した。表6に示されたデータから明らかなように、実施例6-Mの試料は、モデル化試料の実施例3-Mと比べて、さらに低い明所視平均反射率(すなわち、Y値)を示す。
69モル%のSiO2、10モル%のAl2O3、15モル%のNa2O、および5モル%のMgOの公称組成を有するガラス基板を提供し、図2Aと2Bおよび下記の表7に示されるように、そのガラス基板上に5層(実施例7、7Aおよび7B)および7層(実施例7C)を有する反射防止コーティングを配置することによって、実施例7(「実施例7、7A、7Bおよび7C」)の製造したままの試料を形成した。この実施例における製造したままの試料の各々の反射防止コーティング(例えば、本開示に概説された反射防止コーティング120と一致するような)は、反応性スパッタリング法を使用して堆積させた。この実施例における試料の選択された光学的性質と機械的性質も、表7において下記に与えられている。
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約50nmから500nm未満の物理的厚さを有し、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含む光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記物品は、約100nmの圧入深さで測定して8GPa以上の硬度または約100nmから約500nmの圧入深さ範囲に亘り測定して9GPa以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
さらに前記物品は、1%未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。
前記物品は、約100nmの圧入深さで測定して10GPa以上の硬度または約100nmから約500nmの圧入深さ範囲に亘り測定して11GPa以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、前記光学フイルム構造の物理的厚さは約200nmから約450nmであり、さらに該物品は、0.6%未満の片面明所視平均反射率を示す、実施の形態1の物品。
前記物品が、反射で約-10から+5のa*値、および反射で-10から+2のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態1または実施の形態2の物品。
前記物品が、反射で約-4から+4のa*値、および反射で-6から-1のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態1または実施の形態2の物品。
前記物品が、約100nmから約500nmの圧入深さ範囲に亘りバーコビッチ圧子硬度試験によって測定して約12GPa以上の最大硬度を示す、実施の形態1から4のいずれか1つの物品。
前記光学フイルム構造が、約-1000MPa(圧縮)から約+50MPa(引張)の範囲の残留応力を有する、実施の形態1から5のいずれか1つの物品。
前記光学フイルム構造が、ケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施の形態1から6のいずれか1つの物品。
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施の形態1から7のいずれか1つの物品。
前記ガラスが、化学強化されており、250MPa以上のピークCSを持つ圧縮応力(CS)層を有し、該CS層は、前記第1の主面から約10マイクロメートル以上の圧縮深さ(DOC)まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施の形態8の物品。
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか1つ以上をさらに備える、実施の形態1から9のいずれか1つの物品。
前記物品が、Alumina SCE試験にしたがって測定して、0.2%以下の正反射光除去(SEC)値を示す、実施の形態1から10のいずれか1つの物品。
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約50nmから500nm未満の物理的厚さを有し、該第1の主面上に第1の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含み、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約1.8未満であるような前記基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、1.8超の屈折率を有し、
前記高屈折率層は、前記無機酸化物基板上に約2マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約100nmから約500nmの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して18GPa以上の最大硬度を示し、
さらに前記物品は、1%未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。
前記高屈折率層が示す最大硬度が、前記無機酸化物基板上に約2マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる前記硬度試験積層体上で約100nmから約500nmの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して22GPa以上であり、前記光学フイルム構造の物理的厚さが約200nmから約450nmであり、さらに前記物品が、0.6%未満の片面明所視平均反射率を示す、実施の形態12の物品。
前記物品が、反射で約-10から+5のa*値、および反射で-10から+2のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態12または実施の形態13の物品。
前記物品が、反射で約-4から+4のa*値、および反射で-6から-1のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態12または実施の形態13の物品。
前記光学フイルム構造が、約-1000MPa(圧縮)から約+50MPa(引張)の範囲の残留応力を有する、実施の形態12から15のいずれか1つの物品。
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施の形態12から16のいずれか1つの物品。
前記ガラスが、化学強化されており、250MPa以上のピークCSを持つ圧縮応力(CS)層を有し、該CS層は、前記第1の主面から約10マイクロメートル以上の圧縮深さ(DOC)まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施の形態17の物品。
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか1つ以上をさらに備える、実施の形態12から18のいずれか1つの物品。
前記複数の交互の高屈折率層と低屈折率層が少なくとも4層であり、各層がケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物の1つ以上を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施の形態12から19のいずれか1つの物品。
前記キャッピング低屈折率層に隣接する前記高屈折率層の物理的厚さが約70nm以上であり、該キャッピング低屈折率層の物理的厚さが約80nm以上である、実施の形態12から20のいずれか1つの物品。
前記物品が、Alumina SCE試験にしたがって測定して、0.2%以下の正反射光除去(SEC)値を示す、実施の形態12から21のいずれか1つの物品。
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約50nmから500nm未満の物理的厚さを有し、該基板の第1の主面上に第1の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含み、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約1.8未満であるような前記無機酸化物基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、1.8超の屈折率を有し、
前記光学フイルム構造はさらに、体積で30%以上の前記高屈折率層を含み、
さらに前記物品は、1%未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。
前記光学フイルム構造はさらに、体積で50%以上の前記高屈折率層を含む、実施の形態23の物品。
前記物品が、反射で約-10から+5のa*値、および反射で-10から+2のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態23または実施の形態24の物品。
前記物品が、反射で約-4から+4のa*値、および反射で-6から-1のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施の形態23または実施の形態24の物品。
前記光学フイルム構造が、約-1000MPa(圧縮)から約+50MPa(引張)の範囲の残留応力を有する、実施の形態23から26のいずれか1つの物品。
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施の形態23から27のいずれか1つの物品。
前記ガラスが、化学強化されており、250MPa以上のピークCSを持つ圧縮応力(CS)層を有し、該CS層は、前記第1の主面から約10マイクロメートル以上の圧縮深さ(DOC)まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施の形態28の物品。
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか1つ以上をさらに備える、実施の形態23から29のいずれか1つの物品。
前記複数の交互の高屈折率層と低屈折率層が少なくとも4層であり、各層がケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物の1つ以上を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施の形態23から30のいずれか1つの物品。
前記キャッピング低屈折率層に隣接する前記高屈折率層が約70nm以上の物理的厚さを有し、該キャッピング低屈折率層が約80nm以上の物理的厚さを有する、実施の形態23から31のいずれか1つの物品。
前記物品が、Alumina SCE試験にしたがって測定して、0.2%以下の正反射光除去(SEC)値を示す、実施の形態23から32のいずれか1つの物品。
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、該基板の第1の主面上に第1の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約1.8未満であるような前記基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、1.8超の屈折率を有し、
前記物品は、約100nmの圧入深さで測定して8GPa以上の硬度または約100nmから約500nmの圧入深さ範囲に亘り測定して9GPa以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
前記物品は、1%未満の片面明所視平均反射率を示し、
前記光学フイルム構造はさらに、体積で35%以上の前記高屈折率層を含み、
前記高屈折率層は、前記無機酸化物基板上に約2マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約100nmから約500nmの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して18GPa以上の最大硬度を示し、
さらに前記物品は、反射で約-10から+5のa*値、および反射で-10から+2のb*値を示し、このa*値およびb*値の各々は、垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、物品。
前記高屈折率層が、前記無機酸化物基板上に約2マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約100nmから約500nmの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して21GPa以上の最大硬度を示す、実施の形態34の物品。
前記物品が、Alumina SCE試験にしたがって測定して、0.2%以下の正反射光除去(SEC)値を示す、実施の形態34または実施の形態35の物品。
前記物品が、900nmから1000nmの赤外スペクトルにおいて87%以上の片面平均透過率を示す、実施の形態1から11のいずれか1つの物品。
前記物品が、900nmから1000nmの赤外スペクトルにおいて87%以上の片面平均透過率を示す、実施の形態12から22のいずれか1つの物品。
前記物品が、900nmから1000nmの赤外スペクトルにおいて87%以上の片面平均透過率を示す、実施の形態23から33のいずれか1つの物品。
前記物品が、900nmから1000nmの赤外スペクトルにおいて87%以上の片面平均透過率を示す、実施の形態34から36のいずれか1つの物品。
前面、背面、および側面を有する筐体、
前記筐体の少なくとも部分的に内部にあり、制御装置、メモリ、および該筐体の前面にまたはそれに隣接したディスプレイを含む電気部品、および
前記ディスプレイ上に配置されたカバー基板、
を備えた家庭用電子機器であって、
前記筐体の一部または前記カバー基板の少なくとも一方が、実施の形態1から40のいずれか1つの物品から作られている、家庭用電子機器。
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約50nmから500nm未満の物理的厚さを有し、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含む光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記物品は、約100nmの圧入深さで測定して8GPa以上の硬度または約100nmから約500nmの圧入深さ範囲に亘り測定して9GPa以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
さらに前記物品は、1%未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。
前記物品は、約100nmの圧入深さで測定して10GPa以上の硬度または約100nmから約500nmの圧入深さ範囲に亘り測定して11GPa以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、前記光学フイルム構造の物理的厚さは約200nmから約450nmであり、さらに該物品は、0.6%未満の片面明所視平均反射率を示す、実施形態1に記載の物品。
前記物品が、反射で約-10から+5のa*値、および反射で-10から+2のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態1または2に記載の物品。
前記物品が、反射で約-4から+4のa*値、および反射で-6から-1のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態1または2に記載の物品。
前記物品が、約100nmから約500nmの圧入深さ範囲に亘りバーコビッチ圧子硬度試験によって測定して約12GPa以上の最大硬度を示す、実施形態1から4のいずれか1つに記載の物品。
前記光学フイルム構造が、約-1000MPa(圧縮)から約+50MPa(引張)の範囲の残留応力を有する、実施形態1から5のいずれか1つに記載の物品。
前記光学フイルム構造が、ケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施形態1から6のいずれか1つに記載の物品。
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施形態1から7のいずれか1つに記載の物品。
前記ガラスが、化学強化されており、250MPa以上のピークCSを持つ圧縮応力(CS)層を有し、該CS層は、前記第1の主面から約10マイクロメートル以上の圧縮深さ(DOC)まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施形態8に記載の物品。
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか1つ以上をさらに備える、実施形態1から9のいずれか1つに記載の物品。
前記物品が、Alumina SCE試験にしたがって測定して、0.2%以下の正反射光除去(SEC)値を示す、実施形態1から10のいずれか1つに記載の物品。
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約50nmから500nm未満の物理的厚さを有し、該第1の主面上に第1の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含み、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約1.8未満であるような前記基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、1.8超の屈折率を有し、
前記高屈折率層は、前記無機酸化物基板上に約2マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約100nmから約500nmの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して18GPa以上の最大硬度を示し、
さらに前記物品は、1%未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。
前記高屈折率層が示す最大硬度が、前記無機酸化物基板上に約2マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる前記硬度試験積層体上で約100nmから約500nmの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して22GPa以上であり、前記光学フイルム構造の物理的厚さが約200nmから約450nmであり、さらに前記物品が、0.6%未満の片面明所視平均反射率を示す、実施形態12に記載の物品。
前記物品が、反射で約-10から+5のa*値、および反射で-10から+2のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態12または13に記載の物品。
前記物品が、反射で約-4から+4のa*値、および反射で-6から-1のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態12または13に記載の物品。
前記光学フイルム構造が、約-1000MPa(圧縮)から約+50MPa(引張)の範囲の残留応力を有する、実施形態12から15のいずれか1つに記載の物品。
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施形態12から16のいずれか1つに記載の物品。
前記ガラスが、化学強化されており、250MPa以上のピークCSを持つ圧縮応力(CS)層を有し、該CS層は、前記第1の主面から約10マイクロメートル以上の圧縮深さ(DOC)まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施形態17に記載の物品。
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか1つ以上をさらに備える、実施形態12から18のいずれか1つに記載の物品。
前記複数の交互の高屈折率層と低屈折率層が少なくとも4層であり、各層がケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物の1つ以上を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施形態12から19のいずれか1つに記載の物品。
前記キャッピング低屈折率層に隣接する前記高屈折率層の物理的厚さが約70nm以上であり、該キャッピング低屈折率層の物理的厚さが約80nm以上である、実施形態12から20のいずれか1つに記載の物品。
前記物品が、Alumina SCE試験にしたがって測定して、0.2%以下の正反射光除去(SEC)値を示す、実施形態12から21のいずれか1つに記載の物品。
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約50nmから500nm未満の物理的厚さを有し、該基板の第1の主面上に第1の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含み、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約1.8未満であるような前記無機酸化物基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、1.8超の屈折率を有し、
前記光学フイルム構造はさらに、体積で30%以上の前記高屈折率層を含み、
さらに前記物品は、1%未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。
前記光学フイルム構造はさらに、体積で50%以上の前記高屈折率層を含む、実施形態23に記載の物品。
前記物品が、反射で約-10から+5のa*値、および反射で-10から+2のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態23または24に記載の物品。
前記物品が、反射で約-4から+4のa*値、および反射で-6から-1のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態23または24に記載の物品。
前記光学フイルム構造が、約-1000MPa(圧縮)から約+50MPa(引張)の範囲の残留応力を有する、実施形態23から26のいずれか1つに記載の物品。
前記無機酸化物基板が、ソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスから作られている、実施形態23から27のいずれか1つに記載の物品。
前記ガラスが、化学強化されており、250MPa以上のピークCSを持つ圧縮応力(CS)層を有し、該CS層は、前記第1の主面から約10マイクロメートル以上の圧縮深さ(DOC)まで該化学強化されたガラス内に延在する、実施形態28に記載の物品。
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか1つ以上をさらに備える、実施形態23から29のいずれか1つに記載の物品。
前記複数の交互の高屈折率層と低屈折率層が少なくとも4層であり、各層がケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物の1つ以上を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施形態23から30のいずれか1つに記載の物品。
前記キャッピング低屈折率層に隣接する前記高屈折率層が約70nm以上の物理的厚さを有し、該キャッピング低屈折率層が約80nm以上の物理的厚さを有する、実施形態23から31のいずれか1つに記載の物品。
前記物品が、Alumina SCE試験にしたがって測定して、0.2%以下の正反射光除去(SEC)値を示す、実施形態23から32のいずれか1つに記載の物品。
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、該基板の第1の主面上に第1の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約1.8未満であるような前記基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、1.8超の屈折率を有し、
前記物品は、約100nmの圧入深さで測定して8GPa以上の硬度または約100nmから約500nmの圧入深さ範囲に亘り測定して9GPa以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
前記物品は、1%未満の片面明所視平均反射率を示し、
前記光学フイルム構造はさらに、体積で35%以上の前記高屈折率層を含み、
前記高屈折率層は、前記無機酸化物基板上に約2マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約100nmから約500nmの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して18GPa以上の最大硬度を示し、
さらに前記物品は、反射で約-10から+5のa*値、および反射で-10から+2のb*値を示し、このa*値およびb*値の各々は、垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、物品。
前記高屈折率層が、前記無機酸化物基板上に約2マイクロメートルの物理的厚さを有する該高屈折率層が配置されてなる硬度試験積層体上で約100nmから約500nmの圧入深さに亘りバーコビッチ圧子硬度試験により測定して21GPa以上の最大硬度を示す、実施形態34に記載の物品。
前記物品が、Alumina SCE試験にしたがって測定して、0.2%以下の正反射光除去(SEC)値を示す、実施形態34または35に記載の物品。
前記物品が、900nmから1000nmの赤外スペクトルにおいて87%以上の片面平均透過率を示す、実施形態1から11のいずれか1つに記載の物品。
前記物品が、900nmから1000nmの赤外スペクトルにおいて87%以上の片面平均透過率を示す、実施形態12から22のいずれか1つに記載の物品。
前記物品が、900nmから1000nmの赤外スペクトルにおいて87%以上の片面平均透過率を示す、実施形態23から33のいずれか1つに記載の物品。
前記物品が、900nmから1000nmの赤外スペクトルにおいて87%以上の片面平均透過率を示す、実施形態34から36のいずれか1つに記載の物品。
前面、背面、および側面を有する筐体、
前記筐体の少なくとも部分的に内部にあり、制御装置、メモリ、および該筐体の前面にまたはそれに隣接したディスプレイを含む電気部品、および
前記ディスプレイ上に配置されたカバー基板、
を備えた家庭用電子機器であって、
前記筐体の一部または前記カバー基板の少なくとも一方が、実施形態1から40のいずれか1つに記載の物品から作られている、家庭用電子機器。
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約50nmから500nm未満の物理的厚さを有し、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含む光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記物品は、約100nmの圧入深さで測定して8GPa以上の硬度または約100nmから約500nmの圧入深さ範囲に亘り測定して9GPa以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定され、
さらに前記物品は、1%未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。
前記物品が、反射で約-10から+5のa*値、および反射で-10から+2のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態42に記載の物品。
前記物品が、反射で約-4から+4のa*値、および反射で-6から-1のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、実施形態42に記載の物品。
前記光学フイルム構造が、約-1000MPa(圧縮)から約+50MPa(引張)の範囲の残留応力を有する、実施形態42から44のいずれか1つに記載の物品。
前記光学フイルム構造が、ケイ素含有酸化物およびケイ素含有窒化物を含み、該ケイ素含有酸化物が酸化ケイ素であり、該ケイ素含有窒化物が窒化ケイ素である、実施形態42から45のいずれか1つに記載の物品。
前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか1つ以上をさらに備える、実施形態42から46のいずれか1つに記載の物品。
前記物品が、Alumina SCE試験にしたがって測定して、0.2%以下の正反射光除去(SEC)値を示す、実施形態42から47のいずれか1つに記載の物品。
前記無機酸化物基板がガラスセラミック基板である、実施形態42から48のいずれか1つに記載の物品。
前面、背面、および側面を有する筐体、
前記筐体の少なくとも部分的に内部にあり、制御装置、メモリ、および該筐体の前面にまたはそれに隣接したディスプレイを含む電気部品、および
前記ディスプレイ上に配置されたカバー基板、
を備えた家庭用電子機器であって、
前記筐体の一部または前記カバー基板の少なくとも一方が、実施形態42から49いずれか1つに記載の物品から作られている、家庭用電子機器。
互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、約50nmから500nm未満の物理的厚さを有し、該基板の第1の主面上に第1の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含み、
前記低屈折率層の屈折率は、該低屈折率層の屈折率が約1.8未満であるような前記無機酸化物基板の屈折率の範囲内にあり、前記高屈折率層は、1.8超の屈折率を有し、
前記光学フイルム構造はさらに、体積で30%以上の前記高屈折率層を含み、
さらに前記物品は、1%未満の片面明所視平均反射率を示す、物品。
110 基板
112、114 主面
116、118 覆面
120 反射防止コーティング
120A、120B、120C 複数の層
122 反射防止表面
130 複数の周期
130A 低RI層
130B 高RI層
131 キャッピング層
140 追加のコーティング
400 家庭用電子機器
402 筐体
404 前面
406 背面
408 側面
410、564、576、592 ディスプレイ
412 カバー基板
540 乗物内装
544、548、552 乗物内装システム
556 センターコンソールベース
560、572、588 表面
568 ダッシュボードベース
580 計器盤
586 ハンドルベース
Claims (10)
- 互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、50nmから500nm未満の物理的厚さを有し、該無機酸化物基板の第1の主面上に第1の低屈折率層がある複数の交互の高屈折率層と低屈折率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各低屈折率層は、ケイ素含有酸化物を含み、各高屈折率層は、ケイ素含有窒化物またはケイ素含有オキシ窒化物を含み、
前記物品は、100nmの圧入深さで測定して8GPa以上の硬度、または100nmから300nmの圧入深さ範囲に亘り測定して9GPa以上の最大硬度を示し、該硬度および該最大硬度は、バーコビッチ圧子硬度試験によって測定される、物品。 - 互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、50nmから500nm未満の物理的厚さを有し、該無機酸化物基板の第1の主面上に第1の低率層がある複数の交互の高率層と低率層およびキャッピング低屈折率層を有する光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
各層は、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含み、
前記低率層の屈折率は、前記無機酸化物基板の屈折率の範囲内であって1.8未満であり、前記高率層は、1.8超の屈折率を有し、
前記高率層の各々の全体積は、前記光学フイルム構造の体積の30%以上50%未満である、物品。 - 互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面上に配置された光学フイルム構造であって、200nmから450nm未満の物理的厚さを有し、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含む光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記光学フイルム構造は、キャッピング層および前記基板の第1の主面に第1の低率層を含み6層以下の複数の交互の高率層と低率層とを有し、さらに前記キャッピング層および各低率層はケイ素含有オキシ窒化物であり、各高率層はケイ素含有窒化物またはケイ素含有酸化物であり、
前記キャッピング層の物理的厚さが80nm以上であり、
前記高率層の組み合わされた物理的厚さが前記光学フイルム構造の物理的厚さの30%から45%である、物品。 - 互いに反対の主面を有する無機酸化物基板、および
前記無機酸化物基板の第1の主面に直接接触した光学フイルム構造であって、200nmから450nm未満の物理的厚さを有し、ケイ素含有酸化物、ケイ素含有窒化物およびケイ素含有オキシ窒化物の1つ以上を含む光学フイルム構造、
を備えた物品であって、
前記光学フイルム構造は、キャッピング層および前記基板の第1の主面に第1の低率層を含み4層以下の複数の交互の高率層と低率層とを有し、さらに前記キャッピング層および各低率層はケイ素含有オキシ窒化物であり、各高率層はケイ素含有窒化物またはケイ素含有酸化物であり、
前記キャッピング層の物理的厚さが75nmから125nmであり、
前記高率層の組み合わされた物理的厚さが前記光学フイルム構造の物理的厚さの35%以上である、物品。 - 前記第1の低屈折率層が、前記基板の第1の主面に直接接触している、請求項1から4いずれか1項記載の物品。
- 前記無機酸化物基板が、ガラスセラミック、またはソーダ石灰ガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、アルカリ含有ホウケイ酸ガラス、およびアルカリアルミノホウケイ酸塩ガラスからなる群より選択されるガラスを含む、請求項1から5いずれか1項記載の物品。
- 前記光学フイルム構造上に配置された、洗浄し易いコーティング、ダイヤモンド状コーティング、および耐引掻性コーティングのいずれか1つ以上をさらに備える、請求項1から6いずれか1項記載の物品。
- 前記物品は、2%未満の片面明所視平均反射率を示す、請求項1から7いずれか1項記載の物品。
- 前記物品が、反射で-10から+5のa*値、および反射で-10から+2のb*値を示し、該a*値および該b*値の各々は、ほぼ垂直入射照明角度で前記光学フイルム構造に測定される、請求項1から8いずれか1項記載の物品。
- 前面、背面、および側面を有する筐体、
前記筐体の少なくとも部分的に内部にあり、制御装置、メモリ、および該筐体の前面にまたはそれに隣接したディスプレイを含む電気部品、および
前記ディスプレイ上に配置されたカバー基板、
を備えた家庭用電子機器であって、
前記筐体の一部の少なくとも一方または前記カバー基板が、請求項1から9いずれか1項記載の物品を含む、家庭用電子機器。
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A621 | Written request for application examination |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A02 | Decision of refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
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