JP2016021079A - 液浸リソグラフィ装置用の減圧排出を含む環境システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】流体バリア(254)はデバイス(30)の近傍に位置付けられ、液浸流体システム(252)は、ギャップ(246)を満たす液浸流体(248)を送出する。液浸流体システム(252)は、
流体バリア(254)とデバイス(30)との間に直に存在する液浸流体(248)を回収し、流体バリア(254)はデバイス(30)の近傍に位置付けられる排出インレットを含むことができ、液浸
流体システム(252)は排出インレットに連通する低圧源を含むことができる。環境システ
ム(26)は、デバイス(30)に対して流体バリア(254)を支持するように、流体バリア(254)とデバイス(30)との間にベアリング流体を向けるベアリング流体源を含む。
【選択図】図2B
Description
484,476号に基づく優先権を主張している。許容される範囲において、仮出願第60/462,112号及び第60/484,476号の内容をここに援用して本文の記載の一部とする。
57nm)とすることができる。光学アセンブリ16は、レチクル28を透過する光をウェハ30へ投影及び/又は合焦する。露光装置10の設計に応じて、光学アセンブリ16はレチクル28上に照射された像を拡大若しくは縮小することができる。光学アセンブリ16は等倍の拡大システムとすることもできる。
る米国特許第5,668,672号並びに、特開平10−20195号及びそれに対応する米国特許第5,835,275号の開示に含まれている。これらの場合において、反射型光学デバイスは、ビームスプリッター及び凹面鏡を組み込こむカタディオプトリック型光学システムであることができる。特許公開公報に公開された特開平8−334695号及びそれに対応する米国特許第5,689,377号並びに、特開平10−3039号及びそれに対応する米国特許第873,605号(出願日:1997年6月12日)はまた、凹面鏡等を組み込んでいるがビーム分配器を持たない反射−屈折型光学システムを用いており、それらは本発明にも用いることができる。許容される範囲において、上記米国特許及び特許公開公報に記載の日本国特許出願における開示をここに援用して本文の記載の一部とする。
又は電機子コイルユニットのいずれか一方はステージ基盤に連結され、他のユニットはステージの移動平面上に載置される。
10、100又は500μm以内にあることを意味している。その結果、コンテインメントフレーム264の底面270Bとウェハ30との間の距離は、コンテインメントフレーム264の底面270Bとデバイスステージ42との間の距離とほぼ等しい。一実施形態において、例えば、デバイスステージ42はウェハ30を受け取るためのディスク型の凹部282を含むことができる。デバイスステージ42の別の設計は以下に明らかにされる。
が中心から外れたとき、液浸流体248の温度が高くなりすぎたとき、及び/又はギャップ246の液浸流体248中の混入物の濃度が許容範囲を超えたときに、前記比率は増やすことができる。
記要素及び図2Dに示された要素に似ている。しかしながら、この実施形態では、コンテインメントフレーム464Cは、底面470Bに位置付けられる1つのベアリングアウトレット490Cと2つの排出インレット486Cとを含む。排出インレット486Cは注入/排出源260(図2Bに図示)と連通しており、ベアリングアウトレットはベアリング流体源(図2Dに図示)と連通している。しかしながら、この実施形態において、ベアリングアウトレット490Cは2つの排出インレット486Cの間に位置付けられる。換言すれば、内側の排出インレット486Cはベアリングアウトレット490Cよりも小さな径を有し、ベアリングアウトレット490Cは外側の排出インレット486Cよりも小さな径を有する。この設計では、内側の排出インレット486Cはベアリングアウトレット490Cよりも光学アセンブリ16に近くにある。
矩形の平板形状である。デバイスホルダ652はウェハ630を保持する。この実施形態において、デバイスホルダ652はチャック又はデバイステーブル650に固定される別種のクランプである。ガード654はウェハ630を取り囲む、及び/又ウェハ630の周りを一周する。一実施形態において、ガード654は概して矩形の平面形状であり、ウェハ630を入れるための円形の開口658を含む。
イスコイルモータ、リニアモータ、電磁アクチュエータ及び/又は別なタイプの力によるアクチュエータを含むことができる。一実施形態において、ホルダ駆動アセンブリ756は、制御システム24(図1に図示)の制御の下で、Z軸に沿って、X軸周りに及びY軸周りに移動し、且つ位置付ける。
Claims (63)
- デバイスステージによって保持されるデバイスと光学アセンブリとの間のギャップの環境を制御するための環境システムであって、
前記デバイスの近傍に位置付けられている流体バリアと、
前記ギャップを満たす液浸流体を送出し、前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接に存在する液浸流体を回収する液浸流体システムとを備える環境システム。 - 前記流体バリアは前記ギャップを取り囲み、且つ、前記流体バリアは流体蒸気を含む前記液浸流体が前記ギャップ近傍の領域から出てゆくことを抑制する請求項1に記載の環境システム。
- 前記流体バリアが前記デバイス近傍に位置付けられる排出インレットを含み、且つ、前記液浸流体システムは前記排出インレットと連通する低圧源を含む請求項1に記載の環境システム。
- さらに、前記デバイス及び前記デバイステーブルのうち少なくとも一方に対して前記流体バリアを支持するために、前記デバイス及び前記デバイステーブルのうち少なくとも一方と前記流体バリアとの間にベアリング流体を向かわせるベアリング流体源を備える請求項3に記載の環境システム。
- 前記流体バリアは前記デバイスの近傍に位置付けられたベアリングアウトレットを含み、前記ベアリングアウトレットは前記ベアリング流体源と連通しており、前記排出インレットは前記ベアリングアウトレットよりも前記ギャップの近くにある請求項4に記載の環境システム。
- 前記流体バリアは前記デバイスの近傍に位置付けられたベアリングアウトレットを含み、前記ベアリングアウトレットは前記ベアリング流体源と連通し、前記排出インレットは前記ベアリングアウトレットよりも前記ギャップから遠くにある請求項4に記載の環境システム。
- さらに、前記デバイス及び前記デバイステーブルのうち少なくとも一方に対して前記流体バリアを支持するために、前記デバイス及び前記デバイステーブルのうち少なくとも一方と前記流体バリアとの間にベアリング流体を向かわせるベアリング流体源を備える請求項1に記載の環境システム。
- 前記流体バリアは、前記デバイスの近傍に位置付けられた一対の間隔をあけて並ぶ排出インレットと前記デバイスの近傍に位置付けられた一つのベアリングアウトレットとを含み、前記液浸流体システムは前記排出インレットと連通する低圧源を含み、前記ベアリング流体源は前記ベアリングアウトレットと連通する請求項7に記載の環境システム。
- 前記ベアリングアウトレットが前記排出インレットの間に位置付けられる請求項8に記載の環境システム。
- 前記一対の排出インレットが前記ベアリングアウトレットよりも前記ギャップの近くに位置付けられている請求項7に記載の環境システム。
- さらに、前記ギャップの圧力を前記流体バリア外部の圧力とほぼ同一にさせる圧力イコライザを備える請求項1に記載の環境システム。
- 前記圧力イコライザは前記流体バリアを通じて延在する通路である請求項11に記載の環境システム。
- 像をデバイスに転写するための露光装置であって、前記露光装置は光学アセンブリと、前記デバイスを保持するデバイスステージと、前記光学アセンブリ及び前記デバイスの間のギャップの環境を制御する請求項1に記載の環境システムとを備える露光装置。
- 前記デバイスステージは、前記デバイスのデバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含む請求項13に記載の露光装置。
- 基板を供給する工程と、請求項13に記載の装置にて前記基板に像を転写する工程とを含むデバイスを製造するための方法。
- デバイスステージによって保持されるデバイスと光学アセンブリとの間のギャップの環境を制御するための環境システムであって、
前記デバイスの近傍に位置付けられる流体バリアと、
前記ギャップを満たす液浸流体を送出する液浸流体システムと、
前記デバイス及び前記ステージの少なくとも一方に対して前記流体バリアを支持するために、前記デバイス及びデバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間にベアリング流体を向かわせるベアリング流体源とを備える環境システム。 - 前記流体バリアは前記ギャップを取り囲み、且つ、前記流体バリアは流体蒸気を含む前記液浸流体が前記ギャップ近傍の領域から出てくることを抑制する請求項16に記載の環境システム。
- 前記液浸流体システムは、前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と流体バリアとの間に直接存在する液浸流体を回収する請求項16に記載の環境システム。
- 前記流体バリアは前記デバイスの近傍に位置付けられた排出インレットを含み、前記液浸流体システムは前記排出インレットと連通する低圧源を含む請求項18に記載の環境システム。
- 前記液浸流体は前記ベアリング流体と異なる組成を有する請求項16に記載の環境システム。
- 前記液浸流体は前記ベアリング流体とほぼ同一の組成を有する請求項16に記載の環境システム。
- 前記流体バリアは前記デバイスの近傍に位置付けられたベアリングアウトレットを含み、前記ベアリングアウトレットは前記ベアリング流体源と連通する請求項16に記載の環境システム。
- さらに、前記ギャップの圧力を前記流体バリア外部の圧力とほぼ同一にさせる圧力イコライザを備える請求項16に記載の環境システム。
- 前記圧力イコライザは前記流体バリアを通じて延在する通路である請求項23に記載の環境システム。
- 像をデバイスに転写するための露光装置であって、前記露光装置は光学アセンブリと、
前記デバイスを保持するデバイスステージと、前記光学アセンブリ及び前記デバイスの間のギャップの環境を制御する請求項16に記載の環境システムとを備える露光装置。 - 前記デバイスステージは、前記デバイスのデバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含む請求項25に記載の露光装置。
- 基板を供給する工程と、請求項25に記載の装置により前記基板に像を転写する工程とを含むデバイスを製造するための方法。
- デバイス露光面を含むデバイスに像を転写するための露光装置であって、
前記デバイスの近傍に、光学アセンブリと前記デバイスとの間にギャップを有するように位置付けられる光学アセンブリと、
前記ギャップの環境を制御する環境システムであって、前記デバイスの近傍に位置付けられる流体バリア及び前記ギャップを満たす液浸流体を送出する液浸流体システムを含む環境システムと、
デバイスを保持するデバイスステージであって、前記デバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含むデバイスステージとを備える露光装置。 - 前記デバイスステージは、前記デバイスを保持するデバイスホルダと、前記ステージ表面を規定するガードと、前記デバイス露光面が前記ステージ表面とほぼ面一になるように、前記ステージホルダ及び前記ガードの一方を移動させる駆動アセンブリとを含む請求項28に記載の露光装置。
- 前記駆動アセンブリは前記ガードを前記デバイス及び前記デバイスホルダに対して移動させる請求項29に記載の露光装置。
- 前記駆動アセンブリは前記ガードに対して前記デバイスホルダ及び前記デバイスを移動させる請求項29に記載の露光装置。
- 前記ガードは移動されて、前記デバイスへのアクセスをもたらすことが可能である第1の部分を含む請求項29に記載の露光装置。
- 前記液浸流体システムは、前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接存在する液浸流体を回収する請求項28に記載の露光装置。
- さらに、前記デバイス及び前記デバイステーブルのうち少なくとも一方に対して前記流体バリアを支持するために、前記デバイス及び前記デバイステーブルのうち少なくとも一方と前記流体バリアとの間にベアリング流体を向かわせるベアリング流体源を備える請求項28に記載の露光装置。
- さらに、前記ギャップの圧力を前記流体バリア外部の圧力とほぼ同一にさせる圧力イコライザを備える請求項28に記載の露光装置。
- 基板を供給する工程と、請求項28に記載の装置にて前記基板に像を転写する工程とを含むデバイスを製造するための方法。
- デバイスステージによって保持されているデバイスと光学アセンブリとの間のギャップの環境を制御するための方法であって、
流体バリアを前記デバイスの近傍に位置付ける工程と、
液浸流体システムを用いて液浸流体で前記ギャップを満たす工程と、
前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と前記流体バリアとの間に直接存在する液浸流体を回収する工程とを含む方法。 - 前記流体バリアは前記デバイスの近傍に位置付けられた排出インレットを含み、且つ、液浸流体を回収する工程が低圧源を前記排出インレットに接続する工程を含む請求項37に記載の方法。
- さらに、前記デバイス及び前記デバイステーブルの少なくとも一方に対して前記流体バリアを支持するために、前記デバイス及び前記デバイステーブルの少なくとも一方と前記流体バリアとの直接的な間にベアリング流体源でベアリング流体を向かわせる工程を含む請求項37に記載の方法。
- さらに、圧力イコライザで前記ギャップの圧力を前記流体バリア外部の圧力とほぼ同一にする工程を含む請求項37に記載の方法。
- 像をデバイスに転写するための露光装置の製作方法であって、光学アセンブリを設ける工程と、請求項37に記載の方法によって前記ギャップの前記環境を制御する工程とを含む方法。
- 基板を供給する工程と、請求項41に記載の方法によって製作された前記露光装置で像を前記基板に転写する工程とを含むデバイス製造方法。
- デバイスステージによって保持されるデバイスと光学アセンブリとの間のギャップの環境を制御するための方法であって、
前記デバイスの近傍に流体バリアを位置付ける工程と、
液浸流体システムを用いて液浸流体で前記ギャップを満たす工程と、
前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方に対して前記流体バリアを支持するために、前記デバイス及び前記デバイステーブルの少なくとも一方と前記流体バリアとの直接的な間にベアリング流体源でベアリング流体を向かわせる工程とを含む方法。 - さらに、前記デバイス及び前記デバイスステージの少なくとも一方と、前記流体バリアとの間に直接存在する液浸流体を回収する工程を含む請求項43に記載の方法。
- 前記流体バリアは前記デバイスの近傍に位置付けられた排出インレットを含み、且つ、液浸流体を回収する工程が低圧源を前記排出インレットに接続する工程を含む請求項44に記載の方法。
- さらに、圧力イコライザで前記ギャップの圧力を前記流体バリア外部の圧力とほぼ同一にする工程を含む請求項43に記載の方法。
- 像をデバイスに転写するための露光装置の製作方法であって、光学アセンブリを設ける工程と、請求項43に記載の方法によって前記ギャップの前記環境を制御する工程とを含む方法。
- 基板を供給する工程と、請求項47に記載の方法によって製作された前記露光装置で像を前記基板に転写する工程とを含むデバイス製造方法。
- デバイス露光面を含むデバイスに像を転写するための方法であって、
光学アセンブリを前記デバイスの近傍に、前記光学アセンブリと前記デバイスとの間にギャップを有するように位置付ける工程と、
前記デバイスの近傍に位置付けられる流体バリア及び前記ギャップを満たす液浸流体を送出する液浸流体システムを含む環境システムで、前記ギャップの環境を制御する工程と、前記デバイス露光面とほぼ面一であるステージ表面を含むデバイスステージで、前記デバイスを保持する工程とを有する方法。 - 前記デバイスステージは前記デバイスを保持するデバイスホルダと、前記ステージ表面を規定するガードと、前記ステージ表面が前記デバイス露光面とほぼ面一になるように前記デバイスホルダ及び前記ガードの一方を移動する駆動アセンブリとを含む請求項49に記載の方法。
- 前記駆動アセンブリは、前記ガードを前記デバイス及び前記デバイスホルダに対して移動させる請求項50に記載の方法。
- 前記駆動アセンブリは、前記デバイスホルダ及び前記デバイスを前記ガードに対して移動させる請求項50に記載の方法。
- さらに、前記ガードの第1の部分を移動してデバイスに対するアクセスを提供する工程を有する請求項50に記載の方法。
- 基板を供給する工程と、請求項49に記載の方法によって製作された前記露光装置を用いて前記基板に像を転写する工程とを含むデバイスを製造する方法。
- 露光面を含むワークピースに像を転写するための露光装置であって、
前記ワークピースを保持するステージであって、前記ワークピースの前記露光面とほぼ面一であるステージ表面を含むステージと、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と光学アセンブリとの間にギャップを有して位置付けられた光学アセンブリと、
前記ギャップの環境を制御する環境システムであって、前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方に対向する第1の表面を有する囲い部材、前記ギャップを満たすために液浸流体を前記囲い部材内に送出する液浸流体システム、並びに、前記液浸流体の漏れを抑えるための前記囲い部材の前記第1の表面上のインレット部分とを備え、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記第1の表面との間の距離は、前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記光学アセンブリの終端面との間の距離よりも短い露光装置。 - 前記インレット部分が前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記第1の表面との間のギャップに流体ベアリングを形成するように配置されている請求項55に記載の露光装置。
- 前記環境システムは、前記囲み部材の前記第1の表面上に液浸流体の漏れを抑えるためのアウトレット部分を含む請求項55に記載の露光装置。
- 前記アウトレット部分が加圧された気体を提供するように配置された請求項57に記載の露光装置。
- 前記アウトレット部分は、前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と、前記第1の表面との間のギャップに気体ベアリングを形成するように配置された請求項58に記載の露光装置。
- 前記アウトレット部分は前記光学アセンブリに隣接する前記ギャップに対して前記イン
レット部分の外側に置かれた請求項58に記載の露光装置。 - 露光面を含むワークピースに像を転写するための露光装置であって、
前記ワークピースを保持するステージであって、前記ワークピースの前記露光面とほぼ面一であるステージ表面を含むステージと、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方、並びに光学アセンブリの間にギャップを有して位置付けられた光学アセンブリと、
前記ギャップの環境を制御する環境システムであって、前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方に対向する第1の表面を有する囲い部材、前記ギャップを満たすために液浸流体を前記囲い部材内に送出する液浸流体システム、並びに、前記液浸流体の漏れを抑えるための前記囲い部材の前記第1の表面上のアウトレット部分とを備え、
前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記第1の表面との間の距離は、前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と前記光学アセンブリの終端面との間の距離よりも短い露光装置。 - 前記アウトレット部分は加圧された気体を提供するように配置された請求項61に記載の露光装置。
- 前記アウトレット部分が前記ワークピース及び前記ステージの少なくとも一方と、前記第1の表面との間のギャップに気体ベアリングを形成するように配置された請求項55に記載の露光装置。
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