JP2014512688A - フリップチップ、フェイスアップおよびフェイスダウンセンターボンドメモリワイヤボンドアセンブリ - Google Patents

フリップチップ、フェイスアップおよびフェイスダウンセンターボンドメモリワイヤボンドアセンブリ Download PDF

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    • H01L2224/48225Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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    • H01L2224/49112Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting a common bonding area on the semiconductor or solid-state body to different bonding areas outside the body, e.g. diverging wires
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    • H01L2225/1047Details of electrical connections between containers
    • H01L2225/1058Bump or bump-like electrical connections, e.g. balls, pillars, posts
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    • H01L2225/1011All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the containers being in a stacked arrangement
    • H01L2225/1047Details of electrical connections between containers
    • H01L2225/107Indirect electrical connections, e.g. via an interposer, a flexible substrate, using TAB
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • H01L23/498Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
    • H01L23/49811Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
    • H01L23/49816Spherical bumps on the substrate for external connection, e.g. ball grid arrays [BGA]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/12Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
    • H01L24/13Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
    • HELECTRICITY
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    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/10Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L24/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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    • H01L2924/151Die mounting substrate
    • H01L2924/153Connection portion
    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
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    • H01L2924/1532Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
    • H01L2924/1533Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate
    • H01L2924/15331Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate the connection portion being formed both on the die mounting surface of the substrate and outside the die mounting surface of the substrate being a ball array, e.g. BGA
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Abstract

超小型電子アセンブリ10は、第1および第2の表面34,58と、それらの間に延在する開口39と、端子36とを有する基板30を備えている。アセンブリ10は、第1の表面34と向き合う前面16を有する第1の超小型電子素子12と、第1の超小型電子素子の縁29を超えて突出する前面22を有する第2の超小型電子素子14と、超小型電子素子の接点20,52を端子に電気的に接続する第1および第2のリード70,76と、第1および第2の超小型電子素子の接点を電気的に相互接続する第3のリード73と、をさらに備えている。第1の超小型電子12の接点20は、縁29に隣接して配置されている。第2の超小型電子素子14の接点26は、その前面の中央領域19に配置されている。リード70,76,99は、開口39と真っ直ぐ並んだ部分を有している。

Description

[関連出願の相互参照]
本願は、2011年4月21日に出願された米国仮特許出願第61/477,967号および2011年11月29日に出願された米国特許出願第13/306,099号の出願日の利得を主張するものであり、これらの開示内容は、参照することによって、ここに含まれるものとする。以下の本願の譲渡人に譲渡された出願:いずれも2011年4月21日に出願された米国仮特許出願第61/477,820号、第61/477,877号、および第61/477,883号も、参照することによって、ここに含まれるものとする。
[発明の分野]
本発明は、積層超小型電子アセンブリ、このようなアセンブリを製造する方法、およびこのようなアセンブリに有用な構成要素に関する。
半導体チップは、一般的に、個々の予めパッケージ化されたユニットとして供給されている。標準的なチップは、チップの内部回路に接続された接点を有する大きな前面を備える平坦な矩形体を有している。各チップは、典型的には、パッケージ内に実装され、該パッケージが、印刷回路基板のような回路パネルに実装され、チップの接点が回路パネルの導体に接続されることになる。多くの従来設計では、チップパッケージは、チップ自体の面積よりも著しく大きい回路パネルの面積を占めている。本開示において前面を有する平坦なチップに関して用いられる「チップの面積」という用語は、前面の面積を指すと理解されたい。「フリップチップ」設計では、チップの前面は、パッケージ基板、すなわち、チップキャリアの面と向き合っており、チップの接点は、半田ボールまたは他の接続要素によって、チップキャリアの接点に直接接合されるようになっている。次いで、このチップキャリアは、チップの前面の上に位置する端子を介して回路パネルに接合されることになる。「フリップチップ」設計は、比較的コンパクトな配置をもたらし、各チップは、例えば、本願の譲渡人に譲渡された特許文献1,2,3のいくつかの実施形態に開示されているように、チップの前面の面積と等しいかまたはいくらか大きい回路パネルの面積を占めることになる。なお、これらの文献の開示内容は、参照することによって、それらの全体がここに含まれるものとする。
いくつかの革新的な実装技術が、従来のフリップチップボンディングのコンパクト性に近いかまたは等しいコンパクト性をもたらしている。単一チップをチップ自体の面積と等しいかまたはいくらか大きい回路パネルの面積内に収容するパッケージは、一般的に、「チップサイズパッケージ」と呼ばれている。
超小型電子アセンブリによって占有される回路パネルの平面面積を最小化することに加えて、回路パネルの全高さ、すなわち、回路パネルの面と直交する全寸法を短縮するチップパッケージを製造することも望まれている。このような薄い超小型電子パッケージによって、パッケージが実装された回路パネルを隣接する構造体に近接して配置し、これによって、該回路パネルを含む製品の全体の寸法を短縮することができる。単一パッケージまたは単一モジュール内に複数のチップを実装する種々の提案がなされてきている。従来の「マルチチップモジュール」では、チップは、単一パッケージ基板上に並んで実装され、次いで、該パッケージ基板が回路パネルに実装されるようになっている。しかし、この手法では、チップによって占有される回路パネルの総面積の縮小に限りがある。総面積は、依然として、モジュール内の個々のチップの全表面積よりも大きくなっている。
複数のチップを「積層」配置に、すなわち、複数のチップを上下に重ねる配置にパッケージ化することも提案されてきている。積層配置では、いくつかのチップをこれらのチップの全面積よりも小さい回路パネルの面積内に実装することができる。いくつかの積層チップ配置が、例えば、特許文献1,3,4のいくつかの実施形態に開示されている。これらの開示内容は、参照することによって、それらの全体がここに含まれるものとする。特許文献5は、チップを上下に積層し、チップに付随して設けられた、所謂、「配線フィルム」の導体によって、チップを相互接続するようになっている装置を開示している。この開示内容も、参照することによって、ここに含まれるものとする。
米国特許第5,148,265号明細書 米国特許第5,148,266号明細書 米国特許第5,679,977号明細書 米国特許第5,347,159号明細書 米国特許第4,941,033号明細書
当技術分野におけるこれらの努力にも関わらず、チップの中央領域に実質的に配置された接点を有するチップに対するマルチチップパッケージにおけるさらなる改良が望まれている。いくつかの半導体チップ、例えば、いくつかのメモリチップは、一般的に、チップの中心軸に実質的に沿って配置された1列または2列の接点を有するものとして作製されている。
本開示は、超小型電子アセンブリおよび該超小型電子アセンブリを製造する方法に関する。本発明の一態様によれば、超小型電子アセンブリは、互いに反対側を向く第1および第2の表面および第1および第2の表面間に延在する開口を有する基板と、基板の第1の表面と向き合う前面を有する第1の超小型電子素子と、第1の超小型電子素子と向き合う前面を有する第2の超小型電子素子と、を備えている。基板は、その第2の表面に露出した第1の端子を有しているとよい。第1の超小型電子素子は、前面から遠く離れた裏面、および前面と裏面との間に延在する縁も有しているとよい。第1の超小型電子素子は、第1の超小型電子素子の縁に隣接してその前面に露出した複数の接点を有しているとよい。第2の超小型電子素子は、互いに向き合った第1および第2の縁を有しているとよい。第2の超小型電子素子の前面は、第1および第2の縁間に延在しているとよい。
第2の超小型電子素子は、第1および第2の縁から遠く離れたその前面の中央領域に配置された複数の接点を有しているとよい。第2の超小型電子素子の前面は、第1の超小型電子素子の縁を超えて突出しているとよい。超小型電子アセンブリは、第1の超小型電子素子の接点を第1の端子に電気的に接続する第1のリード、および第2の超小型電子素子の接点を第1の端子に接続する第2のリードも備えているとよい。第1および第2のリードは、開口と真っ直ぐに並んだ部分を有しているとよい。超小型電子アセンブリは、基板の第2の表面と反対側の超小型電子アセンブリの表面に露出した第2の端子も備えているとよい。第2の端子の少なくともいくつかは、超小型電子素子の少なくとも1つの上に重なっているとよい。
一実施形態では、第2の端子の少なくともいくつかは、ワイヤボンドによって、基板の第1の表面に露出した導電要素に電気的に接続されている。特定の例では、超小型電子アセンブリは、第1および第2の超小型電子素子およびワイヤボンドの少なくとも一部を少なくとも部分的に覆う封止材もさらに備えている。第2の端子が露出している超小型電子アセンブリの表面は、封止材の表面であるとよい。一例では、ワイヤボンドは、導電要素に取り付けられた基部および導電要素から遠く離れた未封止端面を有しており、縁面が、基部と未封止端面との間に延在している。未封止端面は、封止材によって被覆されていないとよい。第2の端子は、未封止端面に電気的に接続されているとよい。例示的な実施形態では、ワイヤボンドの少なくとも1つの縁面の少なくとも一部は、封止されておらず、 第2の端子の少なくとも1つは、ワイヤボンドの少なくとも1つの封止されていない縁面および未封止端面に電気的に接続されている。
特定の実施形態では、ワイヤボンドは、導電要素に取り付けられたワイヤボンドの基部と導電要素から遠く離れたワイヤボンドの端との間に未封止縁面を有している。第2の端子は、未封止縁面に電気的に接続されるようになっていてもよい。一実施形態では、超小型電子素子の少なくとも1つは、揮発性ランダム・アクセス・メモリ(RAM)を含んでおり、超小型電子素子の少なくとも1つは、不揮発性フラッシュメモリを含んでいる。例示的な実施形態では、超小型電子アセンブリは、第1の超小型電子素子の接点を第2の超小型電子素子の接点に電気的に相互接続する第3のリードをさらに備えている。第1,第2,および第3のリードは、開口と真っ直ぐに並んだ部分を有しているとよい。一例では、第1または第2のリードの少なくとも1つは、第1または第2の超小型電子素子の少なくとも1つの接点から延在するワイヤボンドを含んでいる。
特定の例では、開口と真っ直ぐに並んだ第1のリードおよび第2のリードの少なくとも1つの部分は、基板に沿って端子に延在する第2の部分を有する一体化導電要素の一部である。例示的な実施形態では、超小型電子アセンブリは、第2の超小型電子素子の前面と基板の第1の表面との間にスペーサ要素も備えている。一例では、第1の超小型電子素子は、論理機能を主に果たすように構成されたチップを含んでいる。特定の実施形態では、第2の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している。一実施形態では、第1の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している。例示的な実施形態では、超小型電子アセンブリは、第1の超小型電子素子の接点を端子に電気的に接続する第3のリードも備えている。第1のリードおよび第3のリードは、開口の両側の端子に接続されているとよい。第1,第2,および第3のリードは、開口と真っ直ぐに並んだ部分を有しているとよい。
一例では、超小型電子アセンブリは、基板の第1の表面と第2の超小型電子素子の前面との間に配置された第3の超小型電子素子と、第3の超小型電子素子の接点を端子に電気的に接続する第3のリードと、第1および第3の超小型電子素子の接点を電気的に相互接続する第4のリードと、をさらに備えている。第3の超小型電子素子は、互いに向き合った第1および第2の縁と、第1および第2の縁間に延在する前面と、第3の超小型電子素子の第1の縁に隣接してその前面上に配置された複数の接点と、を有しているとよい。第3の超小型電子素子の前面は、基板の前記第1の表面と向き合っているとよい。第1および第3の超小型電子素子の接点は、開口の両側に位置しているとよい。第1,第2,第3,および第4のリードは、開口と真っ直ぐに並んだ部分を有しているとよい。例示的な実施形態では、超小型電子アセンブリは、第1および第2の超小型電子素子の接点を電気的に相互接続する第5のリードをさらに備えている。特定の実施形態では、超小型電子アセンブリは、第2および第3の超小型電子素子の接点を電気的に相互接続する第6のリードをさらに備えている。
一実施形態では、超小型電子コンポーネントは、前述の第1および第2の超小型電子アセンブリを備えている。第1の超小型電子アセンブリは、第2の超小型電子アセンブリの上に少なくとも部分的に重なっているとよい。第1の超小型電子アセンブリの第1の端子は、第2の超小型電子アセンブリの第2の端子に接合されているとよい。例示的な実施形態では、第1の超小型電子素子の少なくとも1つは、論理機能を果たすように主に構成されている。第2の超小型電子素子の少なくとも1つは、任意の他の機能よりもメモリ記憶アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有しているとよい。特定の実施形態では、第1の超小型電子アセンブリの第1の端子の少なくともいくつかおよび第2の超小型電子アセンブリの第2の端子の少なくともいくつかは、エリアアレイで配置されている。第1および第2の超小型電子アセンブリは、接合金属の導電塊である接合ユニットによって、互いに接合されているとよい。
例示的な実施形態では、超小型電子アセンブリは、超小型電子コンポーネントの周辺に隣接して配置された接合ユニットを介して互いに電気的に接続されている。一例では、 接合ユニットは、超小型電子コンポーネントの過疎中央領域の外側に配置されている。特定の例では、システムは、前述の超小型電子アセンブリと、該超小型電子アセンブリに電気的に接続された1つまたは複数の他の電子コンポーネントと、を備えている。特定の実施形態では、端子の少なくともいくつかが、回路パネルに電気的に接続されている。一例では、システムは、ハウジングも備えており、超小型電子アセンブリおよび他の電子コンポーネントは、ハウジングに実装されている。
本発明の他の態様によれば、超小型電子アセンブリは、互いに反対側を向く第1および第2の表面および第1および第2の表面間に延在する開口を有する基板と、基板の第1の表面と向き合う前面を有する第1の超小型電子素子と、第1の超小型電子素子と向き合う前面を有する第2の超小型電子素子と、を備えている。基板は、端子を有しているとよい。第1の超小型電子素子は、前面から遠く離れた裏面、および前面と裏面との間に延在する縁を有しているとよい。第1の超小型電子素子は、第1の超小型電子素子の縁に隣接してその前面に露出した複数の接点を有しているとよい。第2の超小型電子素子は、互いに向き合った第1および第2の縁を有しているとよい。第2の超小型電子素子の前面は、第1および第2の縁間に延在しているとよい。
第2の超小型電子素子は、第1および第2の縁から遠く離れたその前面の中央領域に配置された複数の接点を有しているとよい。第2の超小型電子素子の前面は、第1の超小型電子素子の縁を超えて突出しているとよい。超小型電子アセンブリは、第1の超小型電子素子の接点を端子に電気的に接続する第1のリードと、第2の超小型電子素子の接点を端子に接続する第2のリードと、第1の超小型電子素子の接点を第2の超小型電子素子の接点に電気的に相互接続する第3のリードと、をさらに備えているとよい。第1、第2,および第3のリードは、開口と真っ直ぐに並ぶ部分を有しているとよい。
例示的な実施形態では、第1または第2のリードの少なくとも1つは、第1または第2の超小型電子素子の少なくとも1つの接点から延在するワイヤボンドを含んでいる。一実施形態では、開口と真っ直ぐに並んだ第1のリードおよび第2のリードの少なくとも1つの部分は、基板に沿って端子に延在する第2の部分を有する一体化導電要素の一部である。特定の実施形態では、超小型電子アセンブリは、第2の超小型電子素子の前面と基板の第1の表面との間にスペーサ要素も備えている。特定の実施形態では、第1の超小型電子素子は、論理機能を主に果たすように構成されたチップを含んでいる。例示的な実施形態では、第2の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している。一実施形態では、第1の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している。
本発明のさらに他の態様は、本発明の前述の態様による超小型電子アセンブリを該超小型電子アセンブリに電気的に接続された他の電子コンポーネントと連結させて組み入れるシステムを提供している。例えば、端子が回路パネルに電気的に接続されているとよい。他の例では、システムは、携帯ハウジングとすることができる単一ハウジングに配置され、および/または実装されるようになっているとよい。本発明のこの態様における好ましい実施形態によるシステムは、同等の従来システムよりも小形化することができる。
一実施形態では、超小型電子コンポーネントは、前述の第1および第2の超小型電子アセンブリを備えている。第1の超小型電子アセンブリは、第2の超小型電子アセンブリに電気的に接続されており、第2の超小型電子アセンブリの上に少なくとも部分的に重なっているとよい。例示的な実施形態では、超小型電子アセンブリは、超小型電子コンポーネントの周辺に隣接して配置された接合ユニットを介して互いに電気的に接続されている。特定の実施形態では、接合ユニットは、超小型電子コンポーネントの過疎中央領域の外側に配置されている。一実施形態では、超小型電子素子のいくつかは、揮発性ランダム・アクセス・メモリ(RAM)を含んでおり、超小型電子素子のいくつかは、不揮発性フラッシュメモリを含んでいる。特定の実施形態では、第1の超小型電子素子の少なくとも1つは、論理機能を果たすように主に構成されており、第2の超小型電子素子の少なくとも1つは、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している。
本発明のさらに他の態様によれば、超小型電子アセンブリは、互いに反対側を向く第1および第2の表面および第1および第2の表面間に延在する開口を有する基板と、基板の第1の表面と向き合う前面を有する第1の超小型電子素子と、第1の超小型電子素子と向き合う前面を有する第2の超小型電子素子と、を備えている。基板は、端子を有しているとよい。第1の超小型電子素子は、前面から遠く離れた裏面、および前面と裏面との間に延在する縁も備えているとよい。第1の超小型電子素子は、第1の超小型電子素子の縁に隣接してその前面に露出した複数の接点を有しているとよい。第2の超小型電子素子は、互いに向き合った第1および第2の縁を有しているとよい。第2の超小型電子素子の前面は、第1および第2の縁間に延在しているとよい。
第2の超小型電子素子は、第1および第2の縁から遠く離れたその前面の中央領域に配置された複数の接点を有しているとよい。第2の超小型電子素子の前面は、第1の超小型電子素子の縁を超えて突出しているとよい。超小型電子アセンブリは、第1の超小型電子素子の接点を端子に電気的に接続する第1のリードと、第2の超小型電子素子の接点を端子に接続する第2のリードと、第1の超小型電子素子の接点を端子に電気的に接続する第3のリードと、をさらに備えているとよい。第1のリードおよび第3のリードは、開口の両側の端子に接続されているとよい。第1,第2,および第3のリードは、開口と真っ直ぐに並んだ部分を有しているとよい。
特定の実施形態では、第1の超小型電子素子は、論理機能を主に果たすように構成されたチップを含んでいる。例示的な実施形態では、第2の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している。一実施形態では、第1の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している。
本発明のさらに他の態様によれば、超小型電子アセンブリは、互いに反対側を向く第1および第2の表面および第1および第2の表面間に延在する開口を有する基板と、基板の第1の表面と向き合う前面を有する第1の超小型電子素子と、第1の超小型電子と向き合う前面を有する第2の超小型電子素子と、基板の第1の表面と第2の超小型電子素子の前面との間に配置された第3の超小型電子素子と、を備えている。基板は、端子を備えているとよい。
第1の超小型電子素子は、前面から遠く離れた裏面、および前面と裏面との間に延在する縁も有しているとよい。第1の超小型電子素子は、第1の超小型電子素子の縁に隣接してその前面に露出した複数の接点を有しているとよい。第2の超小型電子素子は、互いに向き合った第1および第2の縁を有しているとよい。第2の超小型電子素子の前面は、第1および第2の縁間に延在しているとよい。第2の超小型電子素子は、第1および第2の縁から遠く離れたその前面の中央領域に配置された複数の接点を有しているとよい。第2の超小型電子素子の前面は、第1の超小型電子素子の縁を超えて突出しているとよい。第3の超小型電子素子は、互いに向き合った第1および第2の縁、第1および第2の縁間に延在する前面、および第3の超小型電子素子の第1の縁に隣接してその前面に配置された複数の接点を有しているとよい。第3の超小型電子素子の前面は、基板の第1の表面と向き合っているとよい。
超小型電子アセンブリは、第1の超小型電子素子の接点を端子に電気的に接続する第1のリードと、第2の超小型電子素子の接点を端子に電気的に接続する第2のリードと、第3の超小型電子素子の接点を前記端子に電気的に接続する第3のリードと、第1および第3の超小型電子素子の接点を電気的に相互接続する第4のリードと、をさらに備えているとよい。第1および第3の超小型電子素子の接点は、開口の両側に位置しているとよい。第1,第2,第3、および第4のリードは、開口と真っ直ぐに並んだ部分を有しているとよい。
一実施形態では、超小型電子アセンブリは、第1および第2の超小型電子素子の接点を電気的に相互接続する第5のリードも備えている。特定の実施形態では、超小型電子アセンブリは、第2および第3の超小型電子素子の接点を電気的に相互接続する第6のリードも備えている。特定の実施形態では、第1の超小型電子素子は、論理機能を主に果たすように構成されたチップを含んでいる。例示的な実施形態では、第2の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している。一実施形態では、第1の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している。
以下、添付の図面を参照して、本発明の種々の実施形態について説明する。これらの図面は、本発明のいくつかの実施形態しか示しておらず、それ故、本発明の範囲を制限するとみなされるべきではないことを理解されたい。
本発明の一実施形態による積層超小型電子アセンブリの略横断立面図である。 本発明の一実施形態による積層超小型電子アセンブリの略横断立面図である。 本発明の一実施形態による積層超小型電子アセンブリの部分断面図である。 図1Aに示されている超小型電子アセンブリの平面図である。 本発明の他の実施形態による積層超小型電子アセンブリの略横断立面図である。 図3Aに示されている実施形態をさらに示す部分断面図である。 本発明のさらに他の実施形態による積層超小型電子アセンブリの略横断立面図である。 図4に示されている積層超小型電子アセンブリの一部を示す断面図である。 本発明の一実施形態による積層超小型電子アセンブリの略横断立面図である。 本発明の他の実施形態による積層超小型電子アセンブリの略横断立面図である。 本発明のさらに他の実施形態による積層超小型電子アセンブリの略横断立面図である。 本発明の他の実施形態による積層超小型電子アセンブリの略横断立面図である。 図9Aに示されている積層超小型電子アセンブリの平面図である。 本発明のさらに他の実施形態による積層超小型電子アセンブリの略横断立面図である。 本発明の一実施形態によるシステムの概略図である。
図1A,2を参照すると、本発明の一実施形態による積層超小型電子アセンブリ10は、基板30と向き合うフェイスダウン位置にある第1の超小型電子素子12および第1の超小型電子素子12の少なくとも一部の上に重なるフェイスダウン位置にある第2の超小型電子素子14を備えている。いくつかの実施形態では、第1および第2の超小型電子素子12,14は、その前面16に接点を有する半導体チップまたは半導体チップを含む素子であるとよい。半導体チップは、シリコンまたはガリウムヒ素のような半導体材料の薄い平板であり、個々の予めパッケージ化されたユニットとして供給されるようになっている。半導体チップは、シリコンまたはガリウムヒ素のような半導体材料の薄い平板であり、個々の予めパッケージ化されたユニットとして供給されるようになっている。半導体チップは、能動回路素子、とりわけ、トランジスタまたはダイオード、または受動回路素子、とりわけ、レジスタ、キャパシタ、またはインダクタ、または能動回路素子と受動回路素子との組合せから構成されているとよい。「能動」半導体チップでは、各超小型電子素子における能動回路素子は、典型的には、互いに電気的に接続されており、1つまたは複数の「集積回路」をもたらしている。第1および第2の超小型電子素子は、いずれも、以下に詳細に説明するように、基板30に電気的に接続されている。次いで、この基板30が、その表面の端子36を介して、印刷回路基板のような回路パネルに電気的に接続されることになる。特定の実施形態では、超小型電子アセンブリ10は、回路パネル、とりわけ、印刷回路基板の面上の対応する接点に電気的に接続されるように構成された端子を有する超小型電子「パッケージ」であるとよい。
特定の実施形態では、基板は、例えば、ポリマー材料またはセラミックまたはガラスのような無機材料からなる種々の構造の誘電体要素とすることができる。基板は、その上に端子のような導電要素、トレースおよび基板接点のような導電要素、または端子に電気的に接続される他の導電要素を有している。他の例では、基板は、シリコンのような半導体材料から本質的になっていてもよいし、または代替的に、半導体材料の層および1つまたは複数の誘電体層を含んでいてもよい。このような基板は、1℃当たり7パーツ・パー・ミリオン(7ppm/℃)未満の熱膨張係数を有しているとよい。さらに他の実施形態では、基板は、リードフィンガーを有するリードフレームであってもよく、この場合、端子がリードフィンガーの一部、例えば、リードの端部分であってもよい。さらに他の実施形態では、基板は、リードフィンガーを有するリードフレームであってもよく、この場合、端子がリードフィンガーの一部、例えば、リードの端部分であってもよい。
第1の超小型電子素子12は、論理機能を果たすように主に構成された半導体チップ、とりわけ、マイクロプロセッサ、特定用途向け集積回路(ASIC)、現場プログラム可能ゲートアレイ(FPGA)、または他の論理チップを含むことができる。特定の実施形態では、超小型電子素子12は、論理機能を主にもたらすとともに、メモリ記憶アレイも含むコントローラまたはチップオンシステム(SOC)とすることができる。他の例では、第1の超小型電子素子12は、フラッシュ(NORまたはNAND)メモリチップ、ダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)チップ、またはスタテックランダムアクセスメモリ(SRAM)チップのようなメモリチップを含むことができ、またはそのようなチップであってもよく、またはいくつかの他の機能を果たすように主に構成されていてもよい。このようなメモリチップは、メモリ記憶アレイを含んでいるとよく、典型的には、極めて多数の能動回路要素、例えば、チップの他の要素よりもメモリ記憶アレイ機能をもたらすように構成されたトランジスタのような能動素子を有している。第1の超小型電子素子12は、前面16、そこから遠く離れた裏面18、および前面と裏面との間に延在する第1および第2の縁27、29を有している。電気接点20が、第2の縁29に隣接して第1の超小型電子素子12の前面16に露出している。この開示に用いられる「導電要素が構造体の表面に「露出している(exposed)」」という記述は、該導電要素が、構造体の外側から表面に向かって該表面と直交する方向に移動する理論点との接触に利用できることを示している。従って、構造体の表面に露出した端子または他の導電要素は、このような表面から突出していてもよいし、このような表面と同一面をなしていてもよいし、またはこのような表面に対して窪んでいるが、構造体の孔または凹みを通して露出していてもよい。電気接点20は、ボンドパッド、またはバンプ、ポストなどのような導電構造を含んでいる。ボンドパッドは、銅、ニッケル、金、アルミニウムのような一種または複数種の金属から構成されているとよく、約0.5μmの厚みを有しているとよい。ボンドパッドの大きさは、デバイスの形式によって変更可能であるが、典型的には、片側において10μm−100μmの大きさを有している。
第2の超小型電子素子14は、前面22、そこから遠く離れた裏面24、前面と裏面との間に延在する第1および第2の縁35,37、および前面22に露出した接点26を有している。図1Aに示されているように、第1および第2の超小型電子素子12,14は、第2の超小型電子素子14の少なくとも一部が第1の超小型電子素子12の少なくとも一部に重なるように、互いに積層されている。図1Aに示されているような特定の実施形態では、第2の超小型電子素子14の前面22は、第1および第2の端領域21、23および第1および第2の端領域21,23間に延在する中央領域19を備えている。第1の端領域21は、中央領域19と第1の縁35との間に延在しており、第2の端領域23は、中央領域19と第2の縁37との間に延在している。中央領域は、第2の超小型電子素子14の第1および第2の端領域35,37間の距離の3分の1にわたって延在しており、第1および第2の端領域も、各々、これらの縁35,37間の距離の3分の1にわたって延在している。電気接点26が、第2の超小型電子素子14の前面22に露出している。例えば、接点26は、第1の表面22の中心に隣接して1列または互いに平行の2列に配置されている。第2の超小型電子素子14は、DRAMチップを含んでいてもよいし、またはDRAMチップであってもよい。このようなDRAMチップは、メモリ記憶アレイを含んでいるとよく、典型的には、極めて多数の能動回路要素、例えば、他の要素よりもメモリ記憶アレイ機能をもたらすように構成されたトランジスタのような能動素子を有している。第2の超小型電子素子14の中央領域19の少なくとも一部は、第2の超小型電子素子の接点26が第1の超小型電子素子12の第2の縁29を超えて露出するように、第1の超小型電子素子12の第2の縁29を超えて突出している。前述したように、一実施形態では、基板30は、互いに反対側を向く第1および第2の表面34,32を有する誘導体要素を含んでいる。1つまたは複数の導電要素または端子36が、基板30の第2の表面32に露出している。特定の実施形態では、端子36のいくつかまたは全てが、第1および/または第2の超小型電子素子12,14に対して移動可能になっているとよい。
基板30は、その互いに向き合った第1および第2の表面間、例えば、誘電体要素30の互に反対側を向いた第1および第2の表面間に延在する1つまたは複数の開口をさらに備えている。図1Aに示されている実施形態では、基板30は、開口39を備えており、少なくともいくつかの接点26が基板30の開口39と真っ直ぐに並んでいる。複数のリードが、第2の超小型電子素子の接点26を超小型電子アセンブリの端子36に電気的に接続している。リードは、開口39と真っ直ぐに並んだ部分を有している。例えば、リードは、基板接点に接合されたワイヤボンド50を含んでおり、該基板接点は、半導体素子または誘電体要素30に沿って延在する金属トレースのようなリードの他の一部を介して、端子36に接続されており、またはもし基板がリードフレームから構成されているなら、リードは、そのリードフィンガーの一部であってもよい。
誘電体要素30の第1の表面34は、第1の超小型電子素子12の前面16と並置されているとよい。図1Aに示されているように、基板30は、第1の超小型電子素子12の第1の縁27および第2の超小型電子素子14の第2の縁35を超えて延在している。一例では、誘電体材料を含む基板は、「誘電体要素」30と呼ばれることもあり、どのような適切な誘電体材料から部分的または全体的に作製されていてもよい。基板30は、どのような適切な誘電体材料から部分的または全体的に作製されていてもよい。例えば、基板30は、柔軟材料の層、例えば、ポリイミド、BT樹脂、またはテープ自動ボンディング(TAB)テープを作製するのに一般的に用いられる他の誘電体材料の層から構成されているとよい。代替的に、基板30は、繊維強化エポキシの厚い層のような比較的剛性のボード状材料、例えば、Fr−4またはFr−5ボードから構成されていてもよい。用いられる材料に関わらず、基板30は、単層から構成されていてもよいし、または複層から構成されていてもよい。
図1Aに戻ると、スペーサ要素または支持要素31が、第2の超小型電子素子14の第1の端領域21と誘電体要素30の一部との間に配置されている。スペーサ要素31は、第2の超小型電子素子を基板30の上方に支持するのを助長するものである。このようなスペーサ要素31は、例えば、二酸化珪素などの誘電体材料、シリコンのような半導体材料、または1つまたは複数の層からなる接着剤または他のポリマー材料から作製されているとよい。特定の実施形態では、スペーサ要素は、金属を含んでいてもよいし、または金属から作製されていてもよい。もしスペーサ要素が接着剤を含んでいるなら、該接着剤は、第2の超小型電子素子14を基板30に接続することができる。一実施形態では、スペーサ要素31は、基板の第1の表面34と実質的に直交する垂直方向において、第1の超小型電子素子12の前面16と裏面18との間の厚みと実質的に同じ厚みを有している。もしスペーサ要素31が接着剤を含んでいるなら、該接着剤は、第2の超小型電子素子14を誘電体要素30に接続することができる。
図1A,2に示されているように、基板30は、第2の表面32に露出した導電要素または基板接点40および導電トレース25を備えている。導電トレース25は、基板接点40を端子36に電気的に連結するものである。トレース25および基板接点40は、本願の譲渡人に譲渡された米国特許出願公開第2005/0181544号に示されている方法を用いて作製することができる。この開示内容は、参照することによって、その全体がここに含まれるものとする。
図1に戻ると、接着層のようなスペーサ要素または支持要素31が、第2の超小型電子素子14の第1の端領域21と基板30の一部との間に配置されている。もしスペーサ要素31が接着剤を含んでいるなら、該接着剤は、第2の超小型電子素子14を基板30に接続することができる。図1Aに示されているように、第2の超小型電子素子14の第2の端領域23は、熱伝導性を有する接着剤のような接合材料60によって、第1の超小型電子素子12の第2の端領域17に接合されている。同様に、接合材料61、例えば、任意選択的に熱伝導性を有する接着剤が、第2の超小型電子素子の第1の端領域をスペーサ要素31に接合している。接合材料71が、第1の超小型電子素子の前面16のかなりの部分と基板30の第1の表面34の一部との間に配置されていてもよい。特定の実施形態では、接合材料60,61および/または71は、ダイ取付け接着剤から部分的または全体的に作製されているとよく、特定の例では、シリコーンエラストマーのような低弾性係数材料から構成されているとよい。しかし、特定の実施形態では、接合材料60,61および/または71は、もし2つの超小型電子素子12,14が同一の材料から形成された従来の半導体チップであるなら、高弾性係数接着剤または半田から全体的または部分的に作製されていてもよい。何故なら、これらの超小型電子素子は、温度変化に応じて、均一に膨張および収縮する傾向にあるからである。用いられる材料に関わらず、スペーサ要素31は、単層から構成されていてもよいし、または複層から構成されていてもよい。図4−8に関連して以下に詳細に説明するように、スペーサ要素31は、1つまたは複数の超小型電子素子と置き換えられてもよい。
図1A,2を参照すると、超小型電子アセンブリは、リード70を備えている。リード70は、第1の超小型電子素子の接点20を少なくともいくつかの端子36に電気的に接続するものである。リード70は、基板の30の開口39と真っ直ぐに並んだ部分を有している。一実施形態では、リードは、ワイヤボンドのようなボンド要素70を含んでおり、ボンド要素70は、開口39内を通って延在し、超小型電子素子の接点20および基板の接点40に接続されるようになっている。トレース(図示せず)が、基板に沿って、接点40と端子36との間に延在しているとよい。一変更形態では、ボンドワイヤ70は、開口39内に延在し、基板接点40に電気的に接続されるワイヤボンド72を含んでいる。ワイヤボンド72の各々は、接点20を基板30の対応する基板接点40に電気的に連結している。ワイヤボンド70は、「熱特性が改良された中央接点を有する拡張された積層超小型電子アセンブリ」と題して2010年10月19日に出願された米国特許出願第12/907,522号に記載されているような多重ワイヤボンド構造を含んでいてもよい。この開示内容は、参照することによって、その全体がここに含まれるものとする。前述したように、また図2に示されているように、トレース25は、基板接点40を端子36に電気的に接続している。従って、リード50は、ワイヤボンド52、少なくともいくつかの基板接点40、および少なくともいくつかのトレース25を含んでいることになる。これらの要素の全てが、第1の超小型電子素子12の接点20と端子36との間に電気的接続をもたらすのに貢献することになる。
図1Bに示されているように、代替的または付加的に、リードボンド76のようなリードが、図示されているように基板30の第1の表面に沿って、または第2の表面に沿って、開口39内に延在し、接点20に接続されるようになっているとよい。リードボンド76は、第1の表面34から基板30の第2の表面32の1つまたは複数の端子36に延在するビア83または任意の他の種類の導電要素に電気的に接続されるようになっているとよい。従って、リード70は、リードボンド76およびビア83を含むことになる。図1Bにさらに示されているように、超小型電子アセンブリ10は、リードボンド85を備えていてもよい。リードボンド85は、第2の超小型電子素子14の接点26を基板の第2の表面32の基板接点40に電気的に相互接続するものである。
超小型電子アセンブリ10は、第2の超小型電子素子14の接点26を基板30の第2の表面32の少なくともいくつかの端子36に電気的に接続するリード50をさらに備えている。リード50は、開口39と真っ直ぐに並んだ部分を有しており、第2の超小型電子素子14の接点26を基板30の第2の表面32の基板接点40に電気的に接続する多重ワイヤボンド52を含んでいるとよい。これらのワイヤボンド52は、開口39を通って延在しているとよい。ワイヤボンド52の各々は、接点26を基板30の対応する基板接点40に電気的に接続している。リード50は、「熱特性が改良された中央接点を有する拡張された積層超小型電子アセンブリ」と題して2010年10月19日に出願された米国特許出願第12/907,522号に記載されているような多重ワイヤボンド構造を含んでいてもよい。この開示内容は、参照することによって、その全体がここに含まれるものとする。図2に示されているように、トレース25が、基板接点40を端子36に電気的に接続している。従って、リード50は、ワイヤボンド52、少なくともいくつかの基板接点40、および少なくともいくつかのトレース25を含んでいることになる。これらの要素の全てが、第2の超小型電子素子14の接点26と端子36との間に電気接続をもたらすのに貢献することになる。代替的または付加的に、リード50は、接点26を基板30の第1の表面34または基板の第2の表面32のいくつかの基板接点に電気的に連結するリードボンドを含んでいてもよい。リードボンドは、必ずしも、基板30の開口39を貫通する必要がなく、開口と少なくとも部分的に真っ直ぐに並んでいてもよい。
超小型電子アセンブリ10は、少なくとも第1の超小型電子素子12および第2の超小型電子素子14を覆うオーバモールド材または封止材11をさらに備えているとよい。図A1に示されているように、オーバモールド材11は、第1の超小型電子素子12の第1の縁27および第2の超小型電子素子14の第1の縁35を超えて延在する基板30の部分も覆っているとよい。その結果、オーバモールド材11は、少なくとも第1の超小型電子素子12の第1の縁27、第2の超小型電子素子14の第1の縁35、および基板30の第1の表面34に接触している。オーバモールド材11は、エポキシなどを含むどのような適切な材料から作製されていてもよい。
超小型電子アセンブリ10は、「熱特性が改良された中央接点を有する拡張された積層超小型電子アセンブリ」と題して2010年10月19日に出願された米国特許出願第12/907,522号に記載されているような、第1または第2の超小型電子素子12,14の1つまたは複数の裏面に取り付けられたヒートスプレッダまたはヒートシンクを追加的に備えていてもよい。なお、この開示内容は、参照することによって、その全体がここに含まれるものとする。いくつかの実施形態では、超小型電子アセンブリ10は、第1および/または第2の超小型電子素子12,14の1つまたは複数の裏面18,24および可能であれば、端領域27,35,37に熱的に連結されたヒートスプレッダを備えている。ヒートスプレッダは、図1Aに示されているオーバモールド材11によって占められた領域の一部を占めることになる。
加えて、超小型電子アセンブリ10は、誘電体要素30の第2の表面32上の端子36に取り付けられた接合ユニット81をさらに備えている。接合ユニット81は、半田ボールであってもよいし、または他の金属、例えば、錫、インジウム、またはその組合せの塊であってもよく、超小型電子アセンブリ10を印刷回路基板のような回路パネルに接合し、電気的に接続するように適合されている。
図1Cに示されているように、超小型電子アセンブリ10のリード50は、付加的または代替的に、第1の超小型電子素子12の少なくともいくつかの接点20を開口39の両側に配置された少なくともいくつかの基板接点40に電気的に接続するワイヤボンド53を含んでいてもよい。従って、ワイヤボンド53は、基板30の開口に跨っていることになる。加えて、リード70は、代替的にまたは付加的に、第1の超小型電子素子12の接点20の少なくともいくつかを第2の超小型電子素子14の接点26の少なくともいくつかに電気的に接続するワイヤボンド73を含んでいてもよい。
図3Aは、図1Aに示されている超小型電子アセンブリ10の変更形態10’を示している。この変更形態では、表面16’の接点20に代わって(または加えて)、第1の超小型電子素子12’は、基板30’から離れる方を向く表面18’に接点20’を備えている。このような表面18’は、第1の超小型電子素子12’の前面とすることができる。表面18’は、第1の超小型電子素子12’の第1の縁27’に隣接する第1の端部分82、第2の縁29’に隣接する第2の端部分84、および第1および第2の端部分82,84間の中央部分86を有している。接点20’は、第1の縁27’に隣接する表面18’の第1の端部分82内、表面18’の中央部分86内、または第1の端部分および中央部分の両方内に配置されているとよい。一実施形態では、接点20’は、表面18’の中央部分86に1列または互いに平行の2列に配置されている。
超小型電子アセンブリ10’は、表面18’の接点20’および端子36に電気的に接続されたリード88を備えることができる。一例では、ワイヤボンドのようなリード88の部分は、第1の超小型電子素子12’の第1の縁27を超えて、接点40’に延在し、該接点40’が、例えば、トレース(図示せず)または他の導電要素を介して、端子に接続されるようになっている。リード88は、接点20’から第1の超小型電子素子の第1の縁27’を超えて、基板30’の第1の表面34’の接点40’に延在するワイヤボンド90を含んでいるとよく、該接点と端子36との間に導電トレースのような基板の他の導電構造を含んでいるとよい。図3Bに示されているように、リード部分52’、例えば、ワイヤボンドが、超小型電子素子14’の接点26を開口39’の片側または両側の接点40’に接続することができる。
図4,5は、図1Aに示されている超小型電子アセンブリ10の変更形態を示している。図1Aに示されている超小型電子アセンブリ100は、フェイスアップ位置にある第1の超小型電子素子101を有する点において、図3Aに示されている超小型電子アセンブリ10に類似している。この変更形態では、フリップチップ位置にある第3の超小型電子素子112が、スペーサ要素31に代わって設けられている。しかし、図示されている特定の例では、第1の超小型電子素子101は、図の右側に位置しており、第3の超小型電子素子112は、図の左側に位置している。第3の超小型電子素子112は、その前面116に複数の接点120を備えている。第3の超小型電子素子112の接点120は、基板130の第2の表面132に少なくともいくつかの端子136に接続されている。
フリップチップ接続部143は、金属のバンプ、例えば、半田のような接合金属を介して、第1の超小型電子素子112の前面116の電気接点120を基板30の第1の表面134の少なくともいくつかの接点141に電気的に接続している。次いで、この超小型電子素子は、反転され、これによって、金属バンプは、超小型電子素子の接点(例えば、ボンドパッド)と基板との間の電気経路をもたらすと共に、基板に対する超小型電子素子の機械的な取付けをもたらすことになる。フリップチッププロセスには多くの変更形態があるが、一般的な一構成では、半田が金属バンプとして用いられ、この場合、半田をボンドパッドおよび基板に固定するための方法として、該半田を熔融させるようになっている。熔融すると、半田は、流動し、切頭球を形成することになる。
フリップチップ相互接続部は、ワイヤボンドを介して誘電体要素に接続された他の超小型電子素子と比較して、第1の超小型電子素子112に極めて多数の(入力/出力)I/Oをもたらすことになる。加えて、フリップチップ相互接続部は、第2の超小型電子素子114と基板130との間のワイヤボンド経路を最小限にし、これによって、ワイヤボンドのインピーダンスを低減させることができる。
図4,5に示されている実施形態では、フリップチップ相互接続部143は、第1の超小型電子素子112と基板130との間に配置された半田ボールのような複数の固体金属バンプ145を備えている。各金属バンプ145は、導電球または導電ポストとすることができる。各固体金属バンプ145は、第1の超小型電子素子112の接点120と基板130の基板接点141との間に配置され(かつ接触し)、これによって、電気接点120と導電要素141との間に電気接続をもたらすことになる。金属バンプ145は、接合金属または任意の他の適切な接合材料から本質的になっている。
アンダーフィル147が、第1の超小型電子素子112を基板130に付着させるために固体金属バンプ145を包囲している。アンダーフィル147は、特に、第1の超小型電子素子112を基板130に連結するために、第1の超小型電子素子112の前面116と基板130の第1の表面134との間に配置されている。例えば、アンダーフィル147は、エポキシ樹脂のようなポリマー接着剤から全体的または部分的に作製されているとよい。しかし、いくつかの実施形態では、アンダーフィル147が全体的に省略されている。
図6は、図4に示されている超小型電子アセンブリ100の変更形態を示している。超小型電子アセンブリ200は、超小型電子アセンブリ100に類似しているが、第1の超小型電子を基板接点に電気的に接続するフリップチップ接続部を備えていない。代わって、第1の超小型電子素子212は、フェイスアップ配置されており、その第1の縁227に隣接して一列または複数列の接点220を備えている。リード270が、接点220を基板230の第2の表面232上の端子236に電気的に接続している。
リード270は、接点220から、第1の超小型電子素子212の第1の縁227を超えて、基板230の第2の表面232の基板接点230に延在するワイヤボンド272を含んでいる。加えて、リード270は、基板接点240を少なくともいくつかの端子236に電気的に接続するビア283または任意の他の適切な導電要素を含んでいる。ビア283は、基板230の第1の表面234から第2の表面232に向かって、基板230を貫通している。
超小型電子アセンブリ200は、第2の超小型電子素子214の前面222の接点226を少なくともいくつかの端子236に電気的に接続するリード250をさらに備えている。リード250の一部は、基板230の開口239と真っ直ぐに並んでいる。この変更形態では、リード250は、接点226から開口239内に延在する多重ワイヤボンド252を含んでいる。ワイヤボンド252は、基板230の第2の表面232において開口239の両側に配置された基板接点240に電気的に接続されるようになっている。
図7は、図6に示されている超小型電子アセンブリ200の変更形態を示している。図7に示されている超小型電子アセンブリ300は、スペーサ要素31に置き換えられた第3の超小型電子素子301を有していることを除けば、図1A,1Bに示されている超小型電子アセンブリ200と実質的に同様である。第3の超小型電子素子は、第1の超小型電子素子12(図1A)と同様の基板に対する電気的相互接続部を有している。
図8は、図7に示されている超小型電子アセンブリ300の変更形態を示している。この変更形態では、図示されている超小型電子アセンブリ400は、回路パネル900、例えば、印刷回路基板のような外部コンポーネントに実装されており、付加的な電気接続部またはリードを備えている。図8は、印刷回路基板のような回路パネルに電気的に実装された1つの超小型電子アセンブリしか示していないが、本明細書に記載された超小型電子アセンブリのいずれが、超小型電子アセンブリの外部の回路パネルまたは他のコンポーネントに実装されてもよい。
超小型電子アセンブリ400は、電気接続部またはリード474を備えている。リード474は、開口439を横切って延在し、第1の超小型電子素子412の接点420を第3の超小型電子素子401の接点490に電気的に接続している。リード474は、ワイヤボンドおよび/またはリードボンドを含んでいる。他の組の電気接続部またはリード476が、基板430の開口439と少なくとも部分的に真っ直ぐに並んでおり、第1の超小型電子素子412の少なくともいくつかの接点420を第2の超小型電子素子414の少なくともいくつかの接点426に電気的に接続している。リード476は、ワイヤボンドおよび/またはリードボンドを含んでいる。さらに他の組の電気接続部またはリード478が、基板430の開口439と少なくとも部分的に真っ直ぐん並んでおり、第2の超小型電子素子414の少なくともいくつかの接点426を第3の超小型電子素子401の少なくともいくつかの接点490に電気的に接続している。リード478は、ワイヤボンドおよび/またはリードボンドを含んでいる。
図9Aは、図1Aに示されている略側断面図を積層した変更形態を示している。超小型電子コンポーネント500は、積層された第1および第2の超小型電子アセンブリ510a,510b(総称的に、超小型電子アセンブリ510)を有している。これらの超小型電子アセンブリ510は、各々、図1A−8を参照して前述した超小型電子アセンブリのいずれであってもよく、これらの超小型電子アセンブリは、互いに同じであってもよいしまたは異なっていてもよい。スタック内にどのような数の超小型電子アセンブリ510、例えば、図9Aに示されているように、2つの超小型電子アセンブリ510a,510bが含まれていてもよい。
半田ボールのような接合ユニット581が、第1および第2の超小型電子アセンブリ510a,510bを互いに接合し、かつ互いに電気的に連結している。このような接合ユニット581は、第1の超小型電子アセンブリ510aの基板530の第2の表面532に露出した端子536と、第2の超小型電子アセンブリ510bの基板530の第1の表面534に露出した端子536’とに取り付けられている。積層超小型電子アセンブリ510を備える超小型電子コンポーネント500は、超小型電子コンポーネント500の上面501または底面502に露出した接合ユニット581を用いて、印刷回路基板のような回路パネルに取り付けられるようになっている。
図9Bに示されているように、超小型電子コンポーネント500は、超小型電子コンポーネントの周辺503に隣接して配置された接合ユニット581を備えている。接合ユニット581は、超小型電子コンポーネント500の過疎(depopulated)中央領域590の外側に配置されている。このような実施形態では、接合ユニット581は、超小型電子アセンブリ510の第1および第2の超小型電子要素512,514の上に重ならないように、配置されている。このような実施形態によって、超小型電子コンポーネント500が中央領域590内に接合ユニット581を含む場合よりも、複数の超小型電子アセンブリ510が互いに接合されたときの積層高さを小さくすることができる。
図9Aに示されているように、超小型電子コンポーネント500は、超小型電子アセンブリ510の第1および第2の超小型電子素子512,514を少なくとも部分的に覆う単一の封止材511を有している。このような実施形態では、これらの超小型電子アセンブリ510は、封止されることなく、互いに接合され、次いで、接合された超小型電子コンポーネント内のそれぞれの超小型電子素子を覆う単一の封止材511が施されることになる。封止材511は、超小型電子コンポーネントの以下の部分、すなわち、超小型電子コンポーネントの外部の1つまたは複数のコンポーネントに電気的に接続されるように構成されていない部分を覆うようになっている。
代替的実施形態では、超小型電子アセンブリ510の各々は、図10に示されている実施形態と同じように、個別に形成され、それぞれ、封止材が施されるようになっていてもよい。各超小型電子アセンブリ510に対して個別に施された封止材を有するこのような実施形態では、このように封止された超小型電子アセンブリは、例えば、図10に示されているような形態で互いに積層され、かつ互いに接合され、それらの間に電気的連通をもたらすようになっている。
特定の例では、超小型電子コンポーネント500は、例えば、スマートフォン用途用の非均質メモリとして機能するように構成されているとよい。このような例では、超小型電子アセンブリ510内の超小型電子素子512,514のいくつかは、揮発性RAMのようなメモリ記憶素子を含むことができ、超小型電子素子512,514のいくつか、不揮発性フラッシュメモリのようなメモリ記憶素子を含むことができる。
図10は、図1Aに示されている略側断面図を積層した変更形態を示している。超小型電子コンポーネント600は、積層された第1および第2の超小型電子アセンブリ610a,610b(総称的に、超小型電子アセンブリ610)を有している。超小型電子アセンブリ610は、各々、図1A−8を参照して前述した超小型電子アセンブリのいずれでもよく、これらの超小型電子アセンブリは、互いに同じであってもよいし、または異なっていてもよい。スタック内にどのような数の超小型電子アセンブリ610、例えば、図10Aに示されているように、2つの超小型電子アセンブリ610a,610bが含まれていてもよい。
超小型電子コンポーネント600は、以下の点、すなわち、接合ユニット681の少なくともいくつかが超小型電子素子612,614の上に重なるように、かつ超小型電子アセンブリ610a,610bの各々が、個別に形成され、それぞれ、封止材611a,610bが施される点を除けば、図9A、9Bに示されている超小型電子コンポーネント500と同じである。代替的な実施形態では、超小型電子コンポーネント600は、図9Aに示されている単一の封止材511と同じように、超小型電子アセンブリ610の第1および第2の超小型電子素子612,614を少なくとも部分的に覆う単一の封止材を有していてもよい。
図10に示されているように、接合ユニット681が、これらの超小型電子アセンブリ610を互いに接合し、かつ電気的に連結するようになっている。このような接合ユニット681は、第1の超小型電子アセンブリ610aの基板630の第2の表面632に露出した端子636と、第2の超小型電子アセンブリ610bの封止材611bの上面603に露出した端子682とに取り付けられている。端子682は、ワイヤボンド604によって、基板630の第1の表面634に露出した導電要素636’に電気的に接続されている。封止材611aまたは611bの上面603に露出した端子682のいくつかは、超小型電子素子612,614の少なくとも1つの上に重なっている。超小型電子素子612,614の少なくとも1つの上に重なる端子682を備える超小型電子アセンブリ610を有するこのような超小型電子コンポーネント600では、各超小型電子アセンブリ610の端子682,636は、超小型電子アセンブリ610のエリアアレイ積層を可能とするエリアアレイに配置されることになる。
封止材611aまたは611bの上面603に露出した端子682は、上面の上方に延在していてもよいし、上面と同じ平面をなしていてもよいし、または上面の下方に凹んでいてもよい。このような端子682は、どのような形状、例えば、パッド状またはボール状であってもよい。端子682およびワイヤボンド604の形状および構成の他の例は、2011年5月3日に出願された同時係属中の共有に係る韓国特許出願第10−2011−0041843号に図示され、かつ記載されている。この開示内容は、参照することによって、ここに含まれるものとする。
ワイヤボンド604は、その基部607において導電要素636’に接合され、基部607および基板630から遠く離れた自由端608に延在している。ワイヤボンド604の自由端608は、超小型電子素子612,614または(超小型電子素子612,614に接続される)超小型電子アセンブリ610a内の任意の他の導電特徴部に電気的に接続または接合されないという点において、自由な端として特徴付けられている。換言すれば、自由端608は、半田ボールまたは本明細書において検討した他の特徴部を介して、超小型電子アセンブリ610aの外部の導電特徴部に直接的または間接的に電気的に接続されることが可能になっている。自由端608は、例えば、封止材611aによって所定位置に保持されてもよいし、または他の導電特徴部に電気的に接続されてもよいという事実は、このような任意の特徴部が超小型電子素子612,614に電気的に接続されていない限り、該自由端608は、ここに述べたように「自由」ではないことを意味するものではない。逆に、基部607は、ここで述べたように、超小型電子素子612,614に直接または間接的に接続されることになるので、自由ではない。
ワイヤボンド604は、銅、金、ニッケル、半田、アルミニウム、などのような導電材料から形成されているとよい。付加的に、ワイヤボンド604は、例えば、銅またはアルミニウムのような導電材料のコアに皮膜が施された組合せ材料から作製されていてもよい。この皮膜は、アルミニウム、ニッケル、などのような第2の導電材料であるとよい。代替的に、皮膜は、絶縁材料、例えば、絶縁被覆であってもよい。一実施形態では、ワイヤボンド604を形成するために用いられるワイヤは、約15μmから150μmの間の厚み、例えば、ワイヤ長さを横断する寸法を有することができる。
ワイヤボンド604の自由端608は、端面638を有している。端面638は、複数のワイヤボンド604のそれぞれの端面638によって形成されたアレイにおける接点の少なくとも一部を形成している。ワイヤボンド604の(未封止部分とも呼ばれる)一部は、封止材611aによって覆われておらず、これによって、ワイヤボンドを封止材の外側に位置する特徴部または要素に対する電気接続に利用することが可能になる。一実施形態では、ワイヤボンド604の端面638は、封止材611aによって覆われておらず、該封止材の上面603に露出している。端面638が封止材によって覆われていない構成に加えて、またはそれに代わって、ワイヤボンド604の縁面605の一部が封止材611aによって覆われないようになっている実施形態も可能である。換言すればと、封止材611aは、ワイヤボンド604の一部、例えば、端面638、縁面605、またはこれらの組合せを除けば、第1の表面634の上方の超小型電子アセンブリ610aの全てを覆っているとよい。
一実施形態では、端面638と縁面605の一部とが、封止材611aによって被覆されないようになっている。このような構成によって、半田ボールなどによって、他の導電要素への接続が可能になる。具体的には、半田が縁面605に沿って濡れることによって、端面638への接合に加えて、縁面605への接合が可能にする。図示されている実施形態では、封止材611aの上面603のような表面が、超小型電子素子612,614を覆うのに十分な距離だけ、基板630の第1の表面634から離間しているとよい。従って、ワイヤボンド604の端638が上面603と同一平面になっている超小型電子アセンブリ610aの実施形態は、超小型電子素子612,614よりも基板630の上方に高く延在するワイヤボンド604を備えているとよい。
積層超小型電子アセンブリ610を備える超小型電子コンポーネント600は、超小型電子コンポーネント600の上面601または底面602に露出した接合ユニット681によって、印刷回路基板のような回路パネルに取り付けられることになる。
特定の例では、超小型電子コンポーネント600は、例えば、スマートフォン用途用の非均質メモリとして機能するように構成されている。このような例では、超小型電子アセンブリ610内の超小型電子アセンブリ612,614のいくつかは、揮発性RAMのようなメモリ記憶要素を含むことができ、超小型電子要素612,614のいくつかは、不揮発性フラッシュメモリのようなメモリ記憶要素を含むことができる。
図9A,9B,10は、ワイヤボンドを介して基板の接点に電気的に接続された超小型電子要素を示しているが、他の実施形態では、このような超小型電子要素は、他の接続構成、例えば、基板の接点への1つまたは複数の超小型電子要素のリードボンド実装およびフリップチップ実装を介して、基板の接点に電気的に接続されてもよい。
前述した超小型電子アセンブリは、図11に示されるような種々の電子システムの構築に利用可能である。例えば、本発明のさらに他の実施形態によるシステム1100は、前述の超小型電子アセンブリ1106を他の電子コンポーネント1108,1110と併用することができる。図示されている例では、コンポーネント1108は、半導体チップであり、コンポーネント1110は、ディスプレイスクリーンであるが、どのような他のコンポーネントが用いられてもよい。もちろん、説明を明瞭にするために、図11には2つの付加的なコンポーネントしか示されていないが、システムは、どのような数のこのようなコンポーネントを備えていてもよい。超小型電子アセンブリ1106は、前述したアセンブリのいずれであってもよい。さらに他の変更形態では、どのような数のこのような超小型電子アセンブリが用いられてもよい。
超小型電子アセンブリ1106およびコンポーネント1108,1110は、破線によって概略的に描かれている共通ハウジング1101内に実装されており、必要に応じて、互いに電気的に相互接続され、所望の回路を形成するようになっている。図示されている例示的なシステムでは、システムは、柔軟な印刷回路基板のような回路パネル1102を含んでおり、回路パネルは、コンポーネントを互いに相互接続する多数の導体1104を備えている。これらの回路の1つのみが図11に示されている。しかし、これは単なる例示にすぎず、電気的接続をなすどのような適切な構造が用いられてもよい。ハウジング1101は、例えば、携帯電話または携帯情報端末に用いられる形式の携帯ハウジングとして描かれており、スクリーン1110がこのハウジングの表面に露出している。構造体1106が撮像チップのような光感応要素を含んでいる場合、レンズ1111または他の光学素子が光を構造体に導くために設けられてもよい。ここでも、図11に示されている簡素化されたシステムは、単なる例示にすぎず、例えば、前述の構造体を用いて、他のシステム、例えば、デスクトップコンピュータ、ルーターなどのような定置構造と一般的に見なされるシステムを作製することも可能である。
本発明をここでは特定の実施形態を参照して説明してきたが、これらの実施形態は、本発明の原理および用途の単なる例示にすぎないことを理解されたい。従って、例示的な実施形態に対して多くの修正がなされてもよいこと、および添付の請求項に記載される本発明の精神および範囲から逸脱することなく、他の構成が考案されてもよいことを理解されたい。
種々の従属請求項およびそこに記載される特徴は、元の請求項に記載されるのと異なる方法によって組み合わされてもよいことを理解されたい。また、個々の実施形態に関連して記載された特徴は、記載された実施形態の他の特徴と共有されてもよいことを理解されたい。

Claims (51)

  1. 超小型電子アセンブリにおいて、
    互いに反対側を向く第1および第2の表面および前記第1および第2の表面間に延在する開口を有する基板であって、前記基板の前記第2の表面に露出した第1の端子を有している、基板と、
    前記基板の前記第1の表面と向き合う前面、そこから遠く離れた裏面、および前記前面と前記裏面との間に延在する縁を有する第1の超小型電子素子であって、前記第1の超小型電子素子の前記縁に隣接してその前記前面に露出した複数の接点を有している、第1の超小型電子素子と、
    互いに向き合った第1および第2の縁、前記第1および第2の縁間に延在する前面、および前記第1および第2の縁から遠く離れたその前記前面の中央領域に配置された複数の接点を有する第2の超小型電子素子であって、前記第2の超小型電子素子の前記前面は、前記第1の超小型電子素子と向き合っており、前記第1の超小型電子素子の前記縁を超えて突出している、第2の超小型電子素子と、
    前記第1の超小型電子素子の前記接点を前記第1の端子に電気的に接続する第1のリードと、
    前記第2の超小型電子素子の前記接点を前記第1の端子に接続する第2のリードであって、前記第1および第2のリードは、前記開口と真っ直ぐに並んだ部分を有している、第2のリードと、
    前記基板の前記第2の表面と反対側の前記超小型電子アセンブリの表面に露出した第2の端子であって、前記第2の端子の少なくともいくつかは、前記超小型電子素子の少なくとも1つの上に重なっている、第2の端子と、
    を備えている、ことを特徴とする超小型電子アセンブリ。
  2. 前記第2の端子の少なくともいくつかは、ワイヤボンドによって、前記基板の前記第1の表面に露出した導電要素に電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  3. 前記第1および第2の超小型電子素子および前記ワイヤボンドの少なくとも一部を少なくとも部分的に覆う封止材をさらに備えており、前記第2の端子が露出している前記超小型電子アセンブリの前記表面は、前記封止材の表面である、ことを特徴とする請求項2に記載の超小型電子アセンブリ。
  4. 前記ワイヤボンドは、前記導電要素に取り付けられた基部および前記導電要素から遠く離れた未封止端面を有しており、縁面が、前記基部と前記未封止端面との間に延在しており、前記未封止端面は、前記封止材によって被覆されておらず、前記第2の端子は、前記未封止端面に電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項3に記載の超小型電子アセンブリ。
  5. 前記ワイヤボンドの少なくとも1つの縁面の少なくとも一部は、封止されておらず、 前記第2の端子の少なくとも1つは、前記ワイヤボンドの前記少なくとも1つの前記封止されていない縁面および前記未封止端面に電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項4に記載の超小型電子アセンブリ。
  6. 前記ワイヤボンドは、前記導電要素に取り付けられた前記ワイヤボンドの基部と前記導電要素から遠く離れた前記ワイヤボンドの端との間に未封止縁面を有しており、前記第2の端子は、前記未封止縁面に電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項3に記載の超小型電子アセンブリ。
  7. 前記超小型電子素子の少なくとも1つは、揮発性ランダム・アクセス・メモリ(RAM)を含んでおり、前記超小型電子素子の少なくとも1つは、不揮発性フラッシュメモリを含んでいる、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  8. 前記第1の超小型電子素子の前記接点を前記第2の超小型電子素子の前記接点に電気的に相互接続する第3のリードをさらに備えており、前記第1,第2,および第3のリードは、前記開口と真っ直ぐに並んだ部分を有している、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  9. 前記第1または第2のリードの少なくとも1つは、前記第1または第2の超小型電子素子の少なくとも1つの前記接点から延在するワイヤボンドを含んでいる、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  10. 前記開口と真っ直ぐに並んだ前記第1のリードおよび前記第2のリードの少なくとも1つの前記部分は、前記基板に沿って前記端子に延在する第2の部分を有する一体化導電要素の一部である、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  11. 前記第2の超小型電子素子の前記前面と前記基板の前記第1の表面との間にスペーサ要素をさらに備えている、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  12. 前記第1の超小型電子素子は、論理機能を主に果たすように構成されたチップを含んでいる、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  13. 前記第2の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  14. 前記第1の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  15. 前記第1の超小型電子素子の前記接点を前記端子に電気的に接続する第3のリードをさらに備えており、前記第1のリードおよび前記第3のリードは、前記開口の両側の前記端子に接続されており、前記第1,第2,および第3のリードは、前記開口と真っ直ぐに並んだ部分を有している、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  16. 前記基板の前記第1の表面と前記第2の超小型電子素子の前記前面との間に配置された第3の超小型電子素子であって、前記第3の超小型電子素子は、互いに向き合った第1および第2の縁と、前記第1および第2の縁間に延在する前面と、前記第3の超小型電子素子の前記第1の縁に隣接してその前記前面上に配置された複数の接点と、を有しており、前記第3の超小型電子素子の前記前面は、前記基板の前記第1の表面と向き合っている、第3の超小型電子素子と、
    前記第3の超小型電子素子の前記接点を前記端子に電気的に接続する第3のリードと、
    前記第1および第3の超小型電子素子の前記接点を電気的に相互接続する第4のリードであって、前記第1および第3の超小型電子素子の前記接点は、前記開口の両側に位置しており、前記第1,第2,第3,および第4のリードは、前記開口と真っ直ぐに並んだ部分を有している、第4のリードと、
    をさらに備えている、ことを特徴とする請求項1に記載の超小型電子アセンブリ。
  17. 前記第1および第2の超小型電子素子の前記接点を電気的に相互接続する第5のリードをさらに備えている、ことを特徴とする請求項16に記載の超小型電子アセンブリ。
  18. 前記第2および第3の超小型電子素子の前記接点を電気的に相互接続する第6のリードをさらに備えている、ことを特徴とする請求項17に記載の超小型電子アセンブリ。
  19. 各々が請求項1に記載されているような第1および第2の超小型アセンブリを備える超小型電子コンポーネントにおいて、前記第1の超小型電子アセンブリは、前記第2の超小型電子アセンブリの上に少なくとも部分的に重なっており、前記第1の超小型電子アセンブリの前記第1の端子は、前記第2の超小型電子アセンブリの前記第2の端子に接合されている、ことを特徴とする超小型電子コンポーネント。
  20. 前記第1の超小型電子素子の少なくとも1つは、論理機能を果たすように主に構成されており、前記第2の超小型電子素子の少なくとも1つは、任意の他の機能よりもメモリ記憶アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している、ことを特徴とする請求項19に記載の超小型電子コンポーネント。
  21. 前記第1の超小型電子アセンブリの前記第1の端子の少なくともいくつかおよび前記第2の超小型電子アセンブリの前記第2の端子の少なくともいくつは、エリアアレイで配置されており、前記第1および第2の超小型電子アセンブリは、接合金属の導電塊である接合ユニットによって、互いに接合されている、ことを特徴とする請求項19に記載の超小型電子コンポーネント。
  22. 前記超小型電子アセンブリは、前記超小型電子コンポーネントの周辺に隣接して配置された接合ユニットを介して互いに電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項19に記載の超小型電子コンポーネント。
  23. 前記接合ユニットは、前記超小型電子コンポーネントの過疎中央領域の外側に配置されている、ことを特徴とする請求項22に記載の超小型電子コンポーネント。
  24. 請求項1に記載の超小型電子アセンブリと、前記超小型電子アセンブリに電気的に接続された1つまたは複数の他の電子コンポーネントと、を備えるシステム。
  25. 前記端子の少なくともいくつかが、回路パネルに電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項24に記載のシステム。
  26. ハウジングをさらに備えており、前記超小型電子アセンブリおよび前記他の電子コンポーネントは、前記ハウジングに実装されている、ことを特徴とする請求項25に記載のシステム。
  27. 超小型電子アセンブリにおいて、
    互いに反対側を向く第1および第2の表面および前記第1および第2の表面間に延在する開口を有する基板であって、端子を有している、基板と、
    前記基板の前記第1の表面と向き合う前面、そこから遠く離れた裏面、および前記前面と前記裏面との間に延在する縁を有する第1の超小型電子素子であって、前記第1の超小型電子素子の前記縁に隣接してその前記前面に露出した複数の接点を有している、第1の超小型電子素子と、
    互いに向き合った第1および第2の縁、前記第1および第2の縁間に延在する前面、および前記第1および第2の縁から遠く離れたその前記前面の中央領域に配置された複数の接点を有する第2の超小型電子素子であって、前記第2の超小型電子素子の前記前面は、前記第1の超小型電子素子と向き合っており、前記第1の超小型電子素子の前記縁を超えて突出している、第2の超小型電子素子と、
    前記第1の超小型電子素子の前記接点を前記端子に電気的に接続する第1のリードと、
    前記第2の超小型電子素子の前記接点を前記端子に電気的に接続する第2のリードと、
    前記第1の超小型電子素子の前記接点を前記第2の超小型電子素子の前記接点に電気的に相互接続する第3のリードであって、前記第1、第2,および第3のリードは、前記開口と真っ直ぐに並ぶ部分を有している、第3のリードと、
    を備えている、ことを特徴とする超小型電子アセンブリ。
  28. 前記第1または第2のリードの少なくとも1つは、前記第1または第2の超小型電子素子の少なくとも1つの接点から延在するワイヤボンドを含んでいる、ことを特徴とする請求項27に記載の超小型電子アセンブリ。
  29. 前記開口と真っ直ぐに並んだ前記第1のリードおよび前記第2のリードの少なくとも1つの前記部分は、前記基板に沿って前記端子に延在する第2の部分を有する一体化導電要素の一部である、ことを特徴とする請求項27に記載の超小型電子アセンブリ。
  30. 前記第2の超小型電子素子の前記前面と前記基板の前記第1の表面との間にスペーサ要素をさらに備えている、ことを特徴とする請求項27に記載の超小型電子アセンブリ。
  31. 前記第1の超小型電子素子は、論理機能を主に果たすように構成されたチップを含んでいる、ことを特徴とする請求項27に記載の超小型電子アセンブリ。
  32. 前記第2の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している、ことを特徴とする請求項27に記載の超小型電子アセンブリ。
  33. 前記第1の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している、ことを特徴とする請求項27に記載の超小型電子アセンブリ。
  34. 請求項27に記載の超小型電子アセンブリと、前記超小型電子アセンブリに電気的に接続された1つまたは複数の他の電子コンポーネントと、を備えるシステム。
  35. 前記端子が回路パネルに電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項34に記載のシステム。
  36. ハウジングをさらに備えており、前記超小型電子アセンブリおよび前記他の電子コンポーネントは、前記ハウジングに実装されている、ことを特徴とする請求項35に記載のシステム。
  37. 各々が請求項27に記載されているような第1および第2の超小型電子アセンブリを備える超小型電子コンポーネントにおいて、前記第1の超小型電子アセンブリは、前記第2の超小型電子アセンブリに電気的に接続されており、前記第2の超小型電子アセンブリの上に少なくとも部分的に重なっている、ことを特徴とする超小型電子コンポーネント。
  38. 前記超小型電子アセンブリは、前記超小型電子コンポーネントの周辺に隣接して配置された接合ユニットを介して互いに電気的に接続されている、ことを特徴とする請求項37に記載の超小型電子コンポーネント。
  39. 前記接合ユニットは、前記超小型電子コンポーネントの過疎中央領域の外側に配置されている、ことを特徴とする請求項38に記載の超小型電子コンポーネント。
  40. 前記超小型電子素子のいくつかは、揮発性ランダム・アクセス・メモリ(RAM)を含んでおり、前記超小型電子素子のいくつかは、不揮発性フラッシュメモリを含んでいる、ことを特徴とする請求項37に記載の超小型電子コンポーネント。
  41. 前記第1の超小型電子素子の少なくとも1つは、論理機能を果たすように主に構成されており、前記第2の超小型電子素子の少なくとも1つは、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している、ことを特徴とする請求項37に記載の超小型電子コンポーネント。
  42. 互いに反対側を向く第1および第2の表面および前記第1および第2の表面間に延在する開口を有する基板であって、端子を有している、基板と、
    前記基板の前記第1の表面と向き合う前面、そこから遠く離れた裏面、および前記前面と前記裏面との間に延在する縁を有する第1の超小型電子素子であって、前記第1の超小型電子素子の前記縁に隣接してその前記前面に露出した複数の接点を有している、第1の超小型電子素子と、
    互いに向き合った第1および第2の縁、前記第1および第2の縁間に延在する前面、および前記第1および第2の縁から遠く離れたその前記前面の中央領域に配置された複数の接点を有する第2の超小型電子素子であって、前記第2の超小型電子素子の前記前面は、前記第1の超小型電子素子と向き合っており、前記第1の超小型電子素子の前記縁を超えて突出している、第2の超小型電子素子と、
    前記第1の超小型電子素子の前記接点を前記端子に電気的に接続する第1のリードと、
    前記第2の超小型電子素子の前記接点を前記端子に電気的に接続する第2のリードと、
    前記第1の超小型電子素子の前記接点を前記端子に電気的に接続する第3のリードであって、前記第1のリードおよび前記第3のリードは、前記開口の両側の端子に接続されており、前記第1,第2,および第3のリードは、前記開口と真っ直ぐに並んだ部分を有している、第3のリードと、
    を備えている、ことを特徴とする超小型電子アセンブリ。
  43. 前記第1の超小型電子素子は、論理機能を主に果たすように構成されたチップを含んでいる、ことを特徴とする請求項42に記載の超小型電子アセンブリ。
  44. 前記第2の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している、ことを特徴とする請求項42に記載の超小型電子アセンブリ。
  45. 前記第1の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している、ことを特徴とする請求項42に記載の超小型電子アセンブリ。
  46. 互いに反対側を向く第1および第2の表面および前記第1および第2の表面間に延在する開口を有する基板であって、端子を有している、基板と、
    前記基板の前記第1の表面と向き合う前面、そこから遠く離れた裏面、および前記前面と前記裏面との間に延在する縁を有する第1の超小型電子素子であって、前記第1の超小型電子素子の前記縁に隣接してその前記前面に露出した複数の接点を有している、第1の超小型電子素子と、
    互いに向き合った第1および第2の縁、前記第1および第2の縁間に延在する前面、および前記第1および第2の縁から遠く離れたその前記前面の中央領域に配置された複数の接点を有する第2の超小型電子素子であって、前記第2の超小型電子素子の前記前面は、前記第1の超小型電子素子と向き合っており、前記第1の超小型電子素子の前記縁を超えて突出している、第2の超小型電子素子と、
    前記基板の前記第1の表面と前記第2の超小型電子素子の前記前面との間に配置された第3の超小型電子素子であって、前記第3の超小型電子素子は、互いに向き合った第1および第2の縁、前記第1および第2の縁間に延在する前面、および前記第3の超小型電子素子の前記第1の縁に隣接してその前記前面に配置された複数の接点を有しており、 前記第3の超小型電子素子の前記前面は、前記基板の前記第1の表面と向き合っている、
    第3の超小型電子素子と、
    前記第1の超小型電子素子の前記接点を前記端子に電気的に接続する第1のリードと、
    前記第2の超小型電子素子の前記接点を前記端子に電気的に接続する第2のリードと、
    前記第3の超小型電子素子の前記接点を前記端子に電気的に接続する第3のリードと、
    前記第1および第3の超小型電子素子の前記接点を電気的に相互接続する第4のリードであって、前記第1および第3の超小型電子素子の前記接点は、前記開口の両側に位置しており、前記第1,第2,第3、および第4のリードは、前記開口と真っ直ぐに並んだ部分を有している、第4のリードと、
    を備えている、ことを特徴とする超小型電子アセンブリ。
  47. 前記第1および第2の超小型電子素子の前記接点を電気的に相互接続する第5のリードをさらに備えている、ことを特徴とする請求項46に記載の超小型電子アセンブリ。
  48. 前記第2および第3の超小型電子素子の前記接点を電気的に相互接続する第6のリードをさらに備えている、ことを特徴とする請求項47に記載の超小型電子アセンブリ。
  49. 前記第1の超小型電子素子は、論理機能を主に果たすように構成されたチップを含んでいる、ことを特徴とする請求項46に記載の超小型電子アセンブリ。
  50. 前記第2の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している、ことを特徴とする請求項46に記載の超小型電子アセンブリ。
  51. 前記第1の超小型電子素子は、任意の他の機能よりもメモリ機能アレイ機能をもたらすように構成された極めて多数の能動素子を有している、ことを特徴とする請求項46に記載の超小型電子アセンブリ。
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Families Citing this family (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7999383B2 (en) * 2006-07-21 2011-08-16 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. High speed, high density, low power die interconnect system
US8553420B2 (en) 2010-10-19 2013-10-08 Tessera, Inc. Enhanced stacked microelectronic assemblies with central contacts and improved thermal characteristics
US9013033B2 (en) 2011-04-21 2015-04-21 Tessera, Inc. Multiple die face-down stacking for two or more die
US8952516B2 (en) 2011-04-21 2015-02-10 Tessera, Inc. Multiple die stacking for two or more die
US8970028B2 (en) 2011-12-29 2015-03-03 Invensas Corporation Embedded heat spreader for package with multiple microelectronic elements and face-down connection
US8928153B2 (en) 2011-04-21 2015-01-06 Tessera, Inc. Flip-chip, face-up and face-down centerbond memory wirebond assemblies
US8304881B1 (en) 2011-04-21 2012-11-06 Tessera, Inc. Flip-chip, face-up and face-down wirebond combination package
US8633576B2 (en) 2011-04-21 2014-01-21 Tessera, Inc. Stacked chip-on-board module with edge connector
US8569884B2 (en) * 2011-08-15 2013-10-29 Tessera, Inc. Multiple die in a face down package
US10163877B2 (en) * 2011-11-07 2018-12-25 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. System in package process flow
US9165906B2 (en) * 2012-12-10 2015-10-20 Invensas Corporation High performance package on package
US9888283B2 (en) 2013-03-13 2018-02-06 Nagrastar Llc Systems and methods for performing transport I/O
USD758372S1 (en) * 2013-03-13 2016-06-07 Nagrastar Llc Smart card interface
US9299736B2 (en) * 2014-03-28 2016-03-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Hybrid bonding with uniform pattern density
JP2015216263A (ja) * 2014-05-12 2015-12-03 マイクロン テクノロジー, インク. 半導体装置
KR102216195B1 (ko) * 2014-12-15 2021-02-16 에스케이하이닉스 주식회사 복수 개의 칩을 적층한 반도체 패키지
TWI589016B (zh) * 2015-01-28 2017-06-21 精材科技股份有限公司 感光模組及其製造方法
USD864968S1 (en) 2015-04-30 2019-10-29 Echostar Technologies L.L.C. Smart card interface
WO2017171888A1 (en) * 2016-04-02 2017-10-05 Intel Corporation Dual-sided package assembly processing
US20180166417A1 (en) * 2016-12-13 2018-06-14 Nanya Technology Corporation Wafer level chip-on-chip semiconductor structure
US10475766B2 (en) * 2017-03-29 2019-11-12 Intel Corporation Microelectronics package providing increased memory component density
CN111566806B (zh) * 2018-01-24 2024-04-30 京瓷株式会社 布线基板、电子装置以及电子模块
KR102542617B1 (ko) * 2018-06-08 2023-06-14 삼성전자주식회사 반도체 패키지, 패키지 온 패키지 장치 및 이의 제조 방법
KR102078936B1 (ko) * 2018-11-07 2020-02-19 주식회사 프로텍 도전성 볼 탑재 방법
US10886149B2 (en) * 2019-01-31 2021-01-05 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor device package and method of manufacturing the same
US11209598B2 (en) 2019-02-28 2021-12-28 International Business Machines Corporation Photonics package with face-to-face bonding
JP2022135003A (ja) * 2021-03-04 2022-09-15 住友電気工業株式会社 光コネクタケーブル

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11145323A (ja) * 1997-11-05 1999-05-28 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2001118876A (ja) * 1999-08-12 2001-04-27 Fujitsu Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2004063767A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2005045251A (ja) * 2003-07-18 2005-02-17 Samsung Electronics Co Ltd スタック半導体チップbgaパッケージ及びその製造方法
JP2006093189A (ja) * 2004-09-21 2006-04-06 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2006514438A (ja) * 2003-02-25 2006-04-27 テッセラ,インコーポレイテッド 接続要素を有する高周波チップパッケージ
JP2006303079A (ja) * 2005-04-19 2006-11-02 Akita Denshi Systems:Kk 積層型半導体装置及びその製造方法
JP2007123595A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Nec Corp 半導体装置及びその実装構造

Family Cites Families (214)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62107391A (ja) 1985-11-06 1987-05-18 Nippon Texas Instr Kk 情報記憶媒体
US5138438A (en) 1987-06-24 1992-08-11 Akita Electronics Co. Ltd. Lead connections means for stacked tab packaged IC chips
JPH02174255A (ja) 1988-12-27 1990-07-05 Mitsubishi Electric Corp 半導体集積回路装置
US5679977A (en) 1990-09-24 1997-10-21 Tessera, Inc. Semiconductor chip assemblies, methods of making same and components for same
US5148265A (en) 1990-09-24 1992-09-15 Ist Associates, Inc. Semiconductor chip assemblies with fan-in leads
US5148266A (en) 1990-09-24 1992-09-15 Ist Associates, Inc. Semiconductor chip assemblies having interposer and flexible lead
US5222014A (en) 1992-03-02 1993-06-22 Motorola, Inc. Three-dimensional multi-chip pad array carrier
US5369552A (en) 1992-07-14 1994-11-29 Ncr Corporation Multi-chip module with multiple compartments
JP3487524B2 (ja) 1994-12-20 2004-01-19 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置及びその製造方法
US5998864A (en) 1995-05-26 1999-12-07 Formfactor, Inc. Stacking semiconductor devices, particularly memory chips
US5861666A (en) 1995-08-30 1999-01-19 Tessera, Inc. Stacked chip assembly
KR100204753B1 (ko) 1996-03-08 1999-06-15 윤종용 엘오씨 유형의 적층 칩 패키지
JP2806357B2 (ja) 1996-04-18 1998-09-30 日本電気株式会社 スタックモジュール
US5892660A (en) 1996-08-29 1999-04-06 Micron Technology, Inc. Single in line memory module adapter
WO1998012568A1 (en) 1996-09-18 1998-03-26 Hitachi, Ltd. Process for producing semiconductor device and semiconductor device
JP3619523B2 (ja) 1996-12-04 2005-02-09 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
JP2978861B2 (ja) 1997-10-28 1999-11-15 九州日本電気株式会社 モールドbga型半導体装置及びその製造方法
JP3718039B2 (ja) 1997-12-17 2005-11-16 株式会社日立製作所 半導体装置およびそれを用いた電子装置
US6343019B1 (en) 1997-12-22 2002-01-29 Micron Technology, Inc. Apparatus and method of stacking die on a substrate
US6742098B1 (en) 2000-10-03 2004-05-25 Intel Corporation Dual-port buffer-to-memory interface
US6021048A (en) 1998-02-17 2000-02-01 Smith; Gary W. High speed memory module
US6150724A (en) 1998-03-02 2000-11-21 Motorola, Inc. Multi-chip semiconductor device and method for making the device by using multiple flip chip interfaces
US6072233A (en) 1998-05-04 2000-06-06 Micron Technology, Inc. Stackable ball grid array package
US6180881B1 (en) 1998-05-05 2001-01-30 Harlan Ruben Isaak Chip stack and method of making same
US6369444B1 (en) 1998-05-19 2002-04-09 Agere Systems Guardian Corp. Packaging silicon on silicon multichip modules
US5977640A (en) 1998-06-26 1999-11-02 International Business Machines Corporation Highly integrated chip-on-chip packaging
US7525813B2 (en) 1998-07-06 2009-04-28 Renesas Technology Corp. Semiconductor device
US6353539B1 (en) 1998-07-21 2002-03-05 Intel Corporation Method and apparatus for matched length routing of back-to-back package placement
US6121576A (en) 1998-09-02 2000-09-19 Micron Technology, Inc. Method and process of contact to a heat softened solder ball array
US6093029A (en) 1998-09-08 2000-07-25 S3 Incorporated Vertically stackable integrated circuit
US6201695B1 (en) 1998-10-26 2001-03-13 Micron Technology, Inc. Heat sink for chip stacking applications
US6815251B1 (en) 1999-02-01 2004-11-09 Micron Technology, Inc. High density modularity for IC's
JP2000243875A (ja) 1999-02-23 2000-09-08 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置
SE519108C2 (sv) 1999-05-06 2003-01-14 Sandvik Ab Belagt skärverktyg för bearbetning av grått gjutjärn
TW409377B (en) 1999-05-21 2000-10-21 Siliconware Precision Industries Co Ltd Small scale ball grid array package
KR100393095B1 (ko) 1999-06-12 2003-07-31 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지와 그 제조방법
JP3360655B2 (ja) 1999-07-08 2002-12-24 日本電気株式会社 半導体装置
JP2001053243A (ja) 1999-08-06 2001-02-23 Hitachi Ltd 半導体記憶装置とメモリモジュール
US6199743B1 (en) 1999-08-19 2001-03-13 Micron Technology, Inc. Apparatuses for forming wire bonds from circuitry on a substrate to a semiconductor chip, and methods of forming semiconductor chip assemblies
JP2001085609A (ja) 1999-09-17 2001-03-30 Hitachi Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2001196407A (ja) 2000-01-14 2001-07-19 Seiko Instruments Inc 半導体装置および半導体装置の形成方法
US6369448B1 (en) 2000-01-21 2002-04-09 Lsi Logic Corporation Vertically integrated flip chip semiconductor package
US6414396B1 (en) 2000-01-24 2002-07-02 Amkor Technology, Inc. Package for stacked integrated circuits
JP3768761B2 (ja) 2000-01-31 2006-04-19 株式会社日立製作所 半導体装置およびその製造方法
JP2001223324A (ja) 2000-02-10 2001-08-17 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US6731009B1 (en) 2000-03-20 2004-05-04 Cypress Semiconductor Corporation Multi-die assembly
KR100583491B1 (ko) 2000-04-07 2006-05-24 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체패키지 및 그 제조방법
JP2002076252A (ja) 2000-08-31 2002-03-15 Nec Kyushu Ltd 半導体装置
JP3874062B2 (ja) 2000-09-05 2007-01-31 セイコーエプソン株式会社 半導体装置
JP3462166B2 (ja) 2000-09-08 2003-11-05 富士通カンタムデバイス株式会社 化合物半導体装置
US6492726B1 (en) 2000-09-22 2002-12-10 Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. Chip scale packaging with multi-layer flip chip arrangement and ball grid array interconnection
TW511405B (en) 2000-12-27 2002-11-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Device built-in module and manufacturing method thereof
SG95637A1 (en) 2001-03-15 2003-04-23 Micron Technology Inc Semiconductor/printed circuit board assembly, and computer system
SG106054A1 (en) 2001-04-17 2004-09-30 Micron Technology Inc Method and apparatus for package reduction in stacked chip and board assemblies
JP2002353398A (ja) 2001-05-25 2002-12-06 Nec Kyushu Ltd 半導体装置
US6472741B1 (en) 2001-07-14 2002-10-29 Siliconware Precision Industries Co., Ltd. Thermally-enhanced stacked-die ball grid array semiconductor package and method of fabricating the same
US6385049B1 (en) 2001-07-05 2002-05-07 Walsin Advanced Electronics Ltd Multi-board BGA package
JP2003101207A (ja) 2001-09-27 2003-04-04 Nec Kyushu Ltd 半田ボールおよびそれを用いた部品接続構造
US6977440B2 (en) 2001-10-09 2005-12-20 Tessera, Inc. Stacked packages
SG118103A1 (en) 2001-12-12 2006-01-27 Micron Technology Inc BOC BGA package for die with I-shaped bond pad layout
KR100480909B1 (ko) 2001-12-29 2005-04-07 주식회사 하이닉스반도체 적층 칩 패키지의 제조 방법
TW523890B (en) 2002-02-07 2003-03-11 Macronix Int Co Ltd Stacked semiconductor packaging device
SG121705A1 (en) 2002-02-21 2006-05-26 United Test & Assembly Ct Ltd Semiconductor package
US7196415B2 (en) 2002-03-22 2007-03-27 Broadcom Corporation Low voltage drop and high thermal performance ball grid array package
DE10215654A1 (de) 2002-04-09 2003-11-06 Infineon Technologies Ag Elektronisches Bauteil mit mindestens einem Halbleiterchip und Flip-Chip-Kontakten sowie Verfahren zu seiner Herstellung
US6924496B2 (en) 2002-05-31 2005-08-02 Fujitsu Limited Fingerprint sensor and interconnect
CN100377347C (zh) 2002-06-05 2008-03-26 株式会社瑞萨科技 半导体器件
US7132311B2 (en) 2002-07-26 2006-11-07 Intel Corporation Encapsulation of a stack of semiconductor dice
US6762942B1 (en) 2002-09-05 2004-07-13 Gary W. Smith Break away, high speed, folded, jumperless electronic assembly
TW557556B (en) 2002-09-10 2003-10-11 Siliconware Precision Industries Co Ltd Window-type multi-chip semiconductor package
JP3866178B2 (ja) 2002-10-08 2007-01-10 株式会社ルネサステクノロジ Icカード
US7495326B2 (en) 2002-10-22 2009-02-24 Unitive International Limited Stacked electronic structures including offset substrates
JP4110992B2 (ja) 2003-02-07 2008-07-02 セイコーエプソン株式会社 半導体装置、電子デバイス、電子機器、半導体装置の製造方法および電子デバイスの製造方法
US7268425B2 (en) 2003-03-05 2007-09-11 Intel Corporation Thermally enhanced electronic flip-chip packaging with external-connector-side die and method
TW200419752A (en) 2003-03-18 2004-10-01 United Test Ct Inc Semiconductor package with heat sink
TWI313049B (en) 2003-04-23 2009-08-01 Advanced Semiconductor Eng Multi-chips stacked package
US7528421B2 (en) 2003-05-05 2009-05-05 Lamina Lighting, Inc. Surface mountable light emitting diode assemblies packaged for high temperature operation
KR20050001159A (ko) 2003-06-27 2005-01-06 삼성전자주식회사 복수개의 플립 칩들을 갖는 멀티칩 패키지 및 그 제조방법
SG148877A1 (en) 2003-07-22 2009-01-29 Micron Technology Inc Semiconductor substrates including input/output redistribution using wire bonds and anisotropically conductive film, methods of fabrication and assemblies including same
US7462936B2 (en) 2003-10-06 2008-12-09 Tessera, Inc. Formation of circuitry with modification of feature height
US7061121B2 (en) 2003-11-12 2006-06-13 Tessera, Inc. Stacked microelectronic assemblies with central contacts
US7095104B2 (en) 2003-11-21 2006-08-22 International Business Machines Corporation Overlap stacking of center bus bonded memory chips for double density and method of manufacturing the same
JP2005166892A (ja) 2003-12-02 2005-06-23 Kingpak Technology Inc スタック型小型メモリカード
US8998620B2 (en) 2003-12-02 2015-04-07 Super Talent Technology, Corp. Molding method for COB-EUSB devices and metal housing package
US7440286B2 (en) 2005-04-21 2008-10-21 Super Talent Electronics, Inc. Extended USB dual-personality card reader
DE10360708B4 (de) * 2003-12-19 2008-04-10 Infineon Technologies Ag Halbleitermodul mit einem Halbleiterstapel, Umverdrahtungsplatte, und Verfahren zur Herstellung derselben
WO2005065207A2 (en) 2003-12-30 2005-07-21 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
US20050173807A1 (en) 2004-02-05 2005-08-11 Jianbai Zhu High density vertically stacked semiconductor device
JP4370513B2 (ja) 2004-02-27 2009-11-25 エルピーダメモリ株式会社 半導体装置
JP2005251957A (ja) 2004-03-04 2005-09-15 Renesas Technology Corp 半導体装置
US7489517B2 (en) 2004-04-05 2009-02-10 Thomas Joel Massingill Die down semiconductor package
US7078808B2 (en) 2004-05-20 2006-07-18 Texas Instruments Incorporated Double density method for wirebond interconnect
CN100552926C (zh) 2004-05-21 2009-10-21 日本电气株式会社 半导体器件、配线基板及其制造方法
KR20050119414A (ko) 2004-06-16 2005-12-21 삼성전자주식회사 에지 패드형 반도체 칩의 스택 패키지 및 그 제조방법
KR100599687B1 (ko) * 2004-06-29 2006-07-13 삼성에스디아이 주식회사 연료 전지 시스템 및 이에 사용되는 개질기
KR20060004298A (ko) * 2004-07-09 2006-01-12 삼성테크윈 주식회사 무선 전자 라벨
US7381593B2 (en) 2004-08-05 2008-06-03 St Assembly Test Services Ltd. Method and apparatus for stacked die packaging
JP4445351B2 (ja) 2004-08-31 2010-04-07 株式会社東芝 半導体モジュール
US20060049513A1 (en) 2004-09-03 2006-03-09 Staktek Group L.P. Thin module system and method with thermal management
US20060097400A1 (en) 2004-11-03 2006-05-11 Texas Instruments Incorporated Substrate via pad structure providing reliable connectivity in array package devices
US7786567B2 (en) 2004-11-10 2010-08-31 Chung-Cheng Wang Substrate for electrical device and methods for making the same
US7217994B2 (en) 2004-12-01 2007-05-15 Kyocera Wireless Corp. Stack package for high density integrated circuits
TWI256092B (en) 2004-12-02 2006-06-01 Siliconware Precision Industries Co Ltd Semiconductor package and fabrication method thereof
JP2006172122A (ja) 2004-12-15 2006-06-29 Toshiba Corp カード状記憶装置
WO2006068643A1 (en) 2004-12-20 2006-06-29 Semiconductor Components Industries, L.L.C. Semiconductor package structure having enhanced thermal dissipation characteristics
JP4086068B2 (ja) 2004-12-27 2008-05-14 日本電気株式会社 半導体装置
KR20060080424A (ko) 2005-01-05 2006-07-10 삼성전자주식회사 멀티 칩 패키지를 장착하는 메모리 카드
US7112875B1 (en) 2005-02-17 2006-09-26 Amkor Technology, Inc. Secure digital memory card using land grid array structure
US7205656B2 (en) 2005-02-22 2007-04-17 Micron Technology, Inc. Stacked device package for peripheral and center device pad layout device
KR100630741B1 (ko) 2005-03-04 2006-10-02 삼성전자주식회사 다중 몰딩에 의한 적층형 반도체 패키지 및 그 제조방법
US7196427B2 (en) 2005-04-18 2007-03-27 Freescale Semiconductor, Inc. Structure having an integrated circuit on another integrated circuit with an intervening bent adhesive element
US7250675B2 (en) 2005-05-05 2007-07-31 International Business Machines Corporation Method and apparatus for forming stacked die and substrate structures for increased packing density
KR101070913B1 (ko) 2005-05-19 2011-10-06 삼성테크윈 주식회사 반도체 칩 적층 패키지
US7402911B2 (en) 2005-06-28 2008-07-22 Infineon Technologies Ag Multi-chip device and method for producing a multi-chip device
SG130066A1 (en) 2005-08-26 2007-03-20 Micron Technology Inc Microelectronic device packages, stacked microelectronic device packages, and methods for manufacturing microelectronic devices
DE102005041451A1 (de) 2005-08-31 2007-03-01 Infineon Technologies Ag Elektronische Steckeinheit
JP4108701B2 (ja) 2005-09-12 2008-06-25 株式会社ルネサステクノロジ Icカードの製造方法
US7602054B2 (en) 2005-10-05 2009-10-13 Semiconductor Components Industries, L.L.C. Method of forming a molded array package device having an exposed tab and structure
JP2007134426A (ja) 2005-11-09 2007-05-31 Renesas Technology Corp マルチチップモジュール
US20070152310A1 (en) * 2005-12-29 2007-07-05 Tessera, Inc. Electrical ground method for ball stack package
JP2007188916A (ja) 2006-01-11 2007-07-26 Renesas Technology Corp 半導体装置
KR100673965B1 (ko) 2006-01-11 2007-01-24 삼성테크윈 주식회사 인쇄회로기판 및 반도체 패키지 제조방법
KR100690247B1 (ko) 2006-01-16 2007-03-12 삼성전자주식회사 이중 봉합된 반도체 패키지 및 그의 제조 방법
US20070176297A1 (en) 2006-01-31 2007-08-02 Tessera, Inc. Reworkable stacked chip assembly
WO2007088757A1 (ja) 2006-02-02 2007-08-09 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. メモリカードおよびメモリカードの製造方法
SG135074A1 (en) 2006-02-28 2007-09-28 Micron Technology Inc Microelectronic devices, stacked microelectronic devices, and methods for manufacturing such devices
KR20070088177A (ko) 2006-02-24 2007-08-29 삼성테크윈 주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US20080029879A1 (en) 2006-03-01 2008-02-07 Tessera, Inc. Structure and method of making lidded chips
US7514780B2 (en) 2006-03-15 2009-04-07 Hitachi, Ltd. Power semiconductor device
US7368319B2 (en) 2006-03-17 2008-05-06 Stats Chippac Ltd. Stacked integrated circuit package-in-package system
US7768075B2 (en) 2006-04-06 2010-08-03 Fairchild Semiconductor Corporation Semiconductor die packages using thin dies and metal substrates
CN100511588C (zh) 2006-04-14 2009-07-08 泰特科技股份有限公司 导线架型芯片级封装方法
US20070241441A1 (en) 2006-04-17 2007-10-18 Stats Chippac Ltd. Multichip package system
SG136822A1 (en) 2006-04-19 2007-11-29 Micron Technology Inc Integrated circuit devices with stacked package interposers
TW200743190A (en) 2006-05-10 2007-11-16 Chung-Cheng Wang A heat spreader for electrical device
JP5026736B2 (ja) 2006-05-15 2012-09-19 パナソニックヘルスケア株式会社 冷凍装置
JP5069745B2 (ja) 2006-06-20 2012-11-07 エヌエックスピー ビー ヴィ 集積回路及びこれを備えるアセンブリ
US20080023805A1 (en) * 2006-07-26 2008-01-31 Texas Instruments Incorporated Array-Processed Stacked Semiconductor Packages
TWI306658B (en) 2006-08-07 2009-02-21 Chipmos Technologies Inc Leadframe on offset stacked chips package
US7638868B2 (en) 2006-08-16 2009-12-29 Tessera, Inc. Microelectronic package
US7906844B2 (en) 2006-09-26 2011-03-15 Compass Technology Co. Ltd. Multiple integrated circuit die package with thermal performance
TWI370515B (en) 2006-09-29 2012-08-11 Megica Corp Circuit component
KR100825784B1 (ko) * 2006-10-18 2008-04-28 삼성전자주식회사 휨 및 와이어 단선을 억제하는 반도체 패키지 및 그제조방법
KR100885911B1 (ko) 2006-11-16 2009-02-26 삼성전자주식회사 열방출 특성을 개선한 반도체 패키지
JP4389228B2 (ja) 2006-11-29 2009-12-24 エルピーダメモリ株式会社 メモリモジュール
US7772683B2 (en) 2006-12-09 2010-08-10 Stats Chippac Ltd. Stacked integrated circuit package-in-package system
EP2509075B1 (en) 2006-12-14 2019-05-15 Rambus Inc. Multi-die memory device
JP2008177241A (ja) 2007-01-16 2008-07-31 Toshiba Corp 半導体パッケージ
CN101232004A (zh) 2007-01-23 2008-07-30 联华电子股份有限公司 芯片堆叠封装结构
JP5120266B6 (ja) 2007-01-31 2018-06-27 富士通セミコンダクター株式会社 半導体装置及びその製造方法
JP5285224B2 (ja) 2007-01-31 2013-09-11 セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー 回路装置
JP2008198841A (ja) 2007-02-14 2008-08-28 Elpida Memory Inc 半導体装置
JP2008235576A (ja) 2007-03-20 2008-10-02 Fujitsu Ltd 電子部品の放熱構造及び半導体装置
US7638869B2 (en) 2007-03-28 2009-12-29 Qimonda Ag Semiconductor device
US20080237844A1 (en) 2007-03-28 2008-10-02 Aleksandar Aleksov Microelectronic package and method of manufacturing same
US20080237887A1 (en) 2007-03-29 2008-10-02 Hem Takiar Semiconductor die stack having heightened contact for wire bond
US7872356B2 (en) 2007-05-16 2011-01-18 Qualcomm Incorporated Die stacking system and method
US20080296717A1 (en) 2007-06-01 2008-12-04 Tessera, Inc. Packages and assemblies including lidded chips
JP2008306128A (ja) 2007-06-11 2008-12-18 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
US8384199B2 (en) 2007-06-25 2013-02-26 Epic Technologies, Inc. Integrated conductive structures and fabrication methods thereof facilitating implementing a cell phone or other electronic system
KR100876889B1 (ko) 2007-06-26 2009-01-07 주식회사 하이닉스반도체 반도체 패키지 및 이를 이용한 멀티칩 반도체 패키지
SG148901A1 (en) 2007-07-09 2009-01-29 Micron Technology Inc Packaged semiconductor assemblies and methods for manufacturing such assemblies
KR101341566B1 (ko) 2007-07-10 2013-12-16 삼성전자주식회사 소켓, 검사 장치, 그리고 적층형 반도체 소자 제조 방법
US8299626B2 (en) 2007-08-16 2012-10-30 Tessera, Inc. Microelectronic package
US7442045B1 (en) 2007-08-17 2008-10-28 Centipede Systems, Inc. Miniature electrical ball and tube socket with self-capturing multiple-contact-point coupling
US20090051043A1 (en) 2007-08-21 2009-02-26 Spansion Llc Die stacking in multi-die stacks using die support mechanisms
US7872340B2 (en) 2007-08-31 2011-01-18 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit package system employing an offset stacked configuration
US7880310B2 (en) 2007-09-28 2011-02-01 Intel Corporation Direct device attachment on dual-mode wirebond die
US7851267B2 (en) 2007-10-18 2010-12-14 Infineon Technologies Ag Power semiconductor module method
JP2009164160A (ja) 2007-12-28 2009-07-23 Panasonic Corp 半導体デバイス積層体および実装方法
US20090166065A1 (en) 2008-01-02 2009-07-02 Clayton James E Thin multi-chip flex module
US8138610B2 (en) 2008-02-08 2012-03-20 Qimonda Ag Multi-chip package with interconnected stacked chips
JP5207868B2 (ja) 2008-02-08 2013-06-12 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
US8354742B2 (en) 2008-03-31 2013-01-15 Stats Chippac, Ltd. Method and apparatus for a package having multiple stacked die
US8159052B2 (en) 2008-04-10 2012-04-17 Semtech Corporation Apparatus and method for a chip assembly including a frequency extending device
US7928562B2 (en) 2008-07-22 2011-04-19 International Business Machines Corporation Segmentation of a die stack for 3D packaging thermal management
US20100044861A1 (en) 2008-08-20 2010-02-25 Chin-Tien Chiu Semiconductor die support in an offset die stack
US8253231B2 (en) 2008-09-23 2012-08-28 Marvell International Ltd. Stacked integrated circuit package using a window substrate
KR101479461B1 (ko) 2008-10-14 2015-01-06 삼성전자주식회사 적층 패키지 및 이의 제조 방법
JP5056718B2 (ja) 2008-10-16 2012-10-24 株式会社デンソー 電子装置の製造方法
JP5176893B2 (ja) 2008-11-18 2013-04-03 日立金属株式会社 はんだボール
US8049339B2 (en) 2008-11-24 2011-11-01 Powertech Technology Inc. Semiconductor package having isolated inner lead
US7951643B2 (en) 2008-11-29 2011-05-31 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with lead frame and method of manufacture thereof
KR101011863B1 (ko) 2008-12-02 2011-01-31 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 반도체 패키지 및 그 제조 방법
US20100193930A1 (en) 2009-02-02 2010-08-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Multi-chip semiconductor devices having conductive vias and methods of forming the same
US8026589B1 (en) * 2009-02-23 2011-09-27 Amkor Technology, Inc. Reduced profile stackable semiconductor package
JP5671681B2 (ja) 2009-03-05 2015-02-18 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. 積層型半導体装置
JP5389956B2 (ja) 2009-03-13 2014-01-15 テッセラ,インコーポレイテッド ボンドパッドを貫通して延在するバイアを有するスタック型マイクロ電子アセンブリ
US8026608B2 (en) * 2009-03-24 2011-09-27 General Electric Company Stackable electronic package
KR101566407B1 (ko) 2009-03-25 2015-11-05 삼성전자주식회사 적층 메모리 소자
TWI401785B (zh) 2009-03-27 2013-07-11 Chipmos Technologies Inc 多晶片堆疊封裝
US8039316B2 (en) 2009-04-14 2011-10-18 Stats Chippac Ltd. Integrated circuit packaging system with stacked integrated circuit and heat spreader with openings and method of manufacture thereof
KR101601847B1 (ko) 2009-05-21 2016-03-09 삼성전자주식회사 반도체 패키지
KR20100134354A (ko) 2009-06-15 2010-12-23 삼성전자주식회사 반도체 패키지, 스택 모듈, 카드 및 전자 시스템
TWM370767U (en) 2009-06-19 2009-12-11 fu-zhi Huang Modulized computer
US20100327419A1 (en) 2009-06-26 2010-12-30 Sriram Muthukumar Stacked-chip packages in package-on-package apparatus, methods of assembling same, and systems containing same
TWI474331B (zh) 2009-06-30 2015-02-21 Hitachi Ltd Semiconductor device
KR20110041843A (ko) 2009-10-16 2011-04-22 엘지전자 주식회사 하이브리드 저장장치 및 그 동작방법
US20110085304A1 (en) 2009-10-14 2011-04-14 Irvine Sensors Corporation Thermal management device comprising thermally conductive heat spreader with electrically isolated through-hole vias
US20110309152A1 (en) 2010-06-22 2011-12-22 Kim Young-Sun Plastic card package and plastic card package manufacturing method
US10128206B2 (en) * 2010-10-14 2018-11-13 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Conductive pillar structure
US8553420B2 (en) 2010-10-19 2013-10-08 Tessera, Inc. Enhanced stacked microelectronic assemblies with central contacts and improved thermal characteristics
US8378478B2 (en) 2010-11-24 2013-02-19 Tessera, Inc. Enhanced stacked microelectronic assemblies with central contacts and vias connected to the central contacts
KR101118711B1 (ko) 2010-12-17 2012-03-12 테세라, 인코포레이티드 중앙 콘택을 구비한 적층형 마이크로전자 조립체
KR101061531B1 (ko) 2010-12-17 2011-09-01 테세라 리써치 엘엘씨 중앙 콘택을 구비하며 접지 또는 배전을 개선한 적층형 마이크로전자 조립체
TW201239998A (en) 2011-03-16 2012-10-01 Walton Advanced Eng Inc Method for mold array process to prevent peripheries of substrate exposed
US9013033B2 (en) 2011-04-21 2015-04-21 Tessera, Inc. Multiple die face-down stacking for two or more die
US8928153B2 (en) 2011-04-21 2015-01-06 Tessera, Inc. Flip-chip, face-up and face-down centerbond memory wirebond assemblies
US8970028B2 (en) 2011-12-29 2015-03-03 Invensas Corporation Embedded heat spreader for package with multiple microelectronic elements and face-down connection
US8304881B1 (en) 2011-04-21 2012-11-06 Tessera, Inc. Flip-chip, face-up and face-down wirebond combination package
US8338963B2 (en) 2011-04-21 2012-12-25 Tessera, Inc. Multiple die face-down stacking for two or more die
US8502390B2 (en) 2011-07-12 2013-08-06 Tessera, Inc. De-skewed multi-die packages
US8436457B2 (en) 2011-10-03 2013-05-07 Invensas Corporation Stub minimization for multi-die wirebond assemblies with parallel windows
US8723327B2 (en) 2011-10-20 2014-05-13 Invensas Corporation Microelectronic package with stacked microelectronic units and method for manufacture thereof

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11145323A (ja) * 1997-11-05 1999-05-28 Shinko Electric Ind Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2001118876A (ja) * 1999-08-12 2001-04-27 Fujitsu Ltd 半導体装置及びその製造方法
JP2004063767A (ja) * 2002-07-29 2004-02-26 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2006514438A (ja) * 2003-02-25 2006-04-27 テッセラ,インコーポレイテッド 接続要素を有する高周波チップパッケージ
JP2005045251A (ja) * 2003-07-18 2005-02-17 Samsung Electronics Co Ltd スタック半導体チップbgaパッケージ及びその製造方法
JP2006093189A (ja) * 2004-09-21 2006-04-06 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2006303079A (ja) * 2005-04-19 2006-11-02 Akita Denshi Systems:Kk 積層型半導体装置及びその製造方法
JP2007123595A (ja) * 2005-10-28 2007-05-17 Nec Corp 半導体装置及びその実装構造

Also Published As

Publication number Publication date
US20150115477A1 (en) 2015-04-30
CN103620778A (zh) 2014-03-05
TW201248812A (en) 2012-12-01
KR102005830B1 (ko) 2019-07-31
WO2012145201A1 (en) 2012-10-26
BR112013027142A2 (pt) 2017-01-10
US20120267796A1 (en) 2012-10-25
CN103620778B (zh) 2017-05-17
TW201546986A (zh) 2015-12-16
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