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  1. 第1の画素と、第2の画素と、を有し、
    前記第1の画素は、光を反射する機能を有する第1の画素電極と、第1のトランジスタと、を有し、
    前記第2の画素は、光を透過する機能を有する第2の画素電極と、第2のトランジスタと、構造体と、を有し、
    前記構造体は、側面と、底面と、上面と、を有し、
    前記構造体の側面は、光を反射する機能を有する層によって覆われ、
    前記構造体の底面の面積は、前記構造体の上面の面積よりも大きく、
    前記構造体の底面は、酸化物半導体と接し、
    前記構造体の屈折率は、前記酸化物半導体の屈折率よりも大きいことを特徴とする半導体装置。
  2. 請求項1において、
    前記第1のトランジスタ及び前記第2のトランジスタは、酸化物半導体を有することを特徴とする半導体装置。
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Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011081041A1 (en) 2009-12-28 2011-07-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the semiconductor device
KR101842865B1 (ko) * 2009-12-28 2018-03-28 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 액정 표시 장치 및 전자 기기
CN102844806B (zh) * 2009-12-28 2016-01-20 株式会社半导体能源研究所 液晶显示装置及电子设备
US8830424B2 (en) * 2010-02-19 2014-09-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device having light-condensing means
JP5827104B2 (ja) 2010-11-19 2015-12-02 株式会社半導体エネルギー研究所 照明装置
TWI605590B (zh) 2011-09-29 2017-11-11 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置及其製造方法
WO2013054823A1 (en) * 2011-10-14 2013-04-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
KR20130043063A (ko) * 2011-10-19 2013-04-29 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 반도체 장치의 제작 방법
KR101976212B1 (ko) * 2011-10-24 2019-05-07 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 반도체 장치 및 반도체 장치의 제작 방법
CN102778778B (zh) * 2012-07-05 2014-08-06 京东方科技集团股份有限公司 一种透反式液晶显示面板及透反式液晶显示器
JP6317059B2 (ja) * 2012-11-16 2018-04-25 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置及び表示装置
JP6023657B2 (ja) * 2013-05-21 2016-11-09 株式会社ジャパンディスプレイ 薄膜トランジスタ及びその製造方法
KR102389622B1 (ko) * 2015-09-17 2022-04-25 삼성디스플레이 주식회사 투명 표시 장치 및 투명 표시 장치의 제조 방법
WO2017064593A1 (en) 2015-10-12 2017-04-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and manufacturing method thereof
WO2017081575A1 (en) 2015-11-11 2017-05-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and method for manufacturing the same
US20170153695A1 (en) * 2015-11-30 2017-06-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device, input/output device, data processing device, and driving method of data processing device
US10302983B2 (en) 2016-03-29 2019-05-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display panel, input/output device, and data processor
WO2017217703A1 (en) * 2016-06-13 2017-12-21 Seoul Semiconductor Co., Ltd Display apparatus and manufacturing method thereof
KR20180016271A (ko) * 2016-08-05 2018-02-14 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시 장치
KR20180020091A (ko) * 2016-08-17 2018-02-27 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시 장치
JP2018049208A (ja) * 2016-09-23 2018-03-29 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置
US11588137B2 (en) 2019-06-05 2023-02-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Functional panel, display device, input/output device, and data processing device
US11659758B2 (en) 2019-07-05 2023-05-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display unit, display module, and electronic device
WO2021009587A1 (ja) 2019-07-12 2021-01-21 株式会社半導体エネルギー研究所 機能パネル、表示装置、入出力装置、情報処理装置
JP2023102547A (ja) * 2022-01-12 2023-07-25 株式会社ジャパンディスプレイ ルーバー、視野角制御素子、及び、表示装置

Family Cites Families (215)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60198861A (ja) 1984-03-23 1985-10-08 Fujitsu Ltd 薄膜トランジスタ
EP0252646B1 (en) 1986-07-07 1993-09-29 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Paperless portable book
JPH0244256B2 (ja) 1987-01-28 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn2o5deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPS63210023A (ja) 1987-02-24 1988-08-31 Natl Inst For Res In Inorg Mater InGaZn↓4O↓7で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法
JPH0244260B2 (ja) 1987-02-24 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn5o8deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244258B2 (ja) 1987-02-24 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn3o6deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244262B2 (ja) 1987-02-27 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn6o9deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
JPH0244263B2 (ja) 1987-04-22 1990-10-03 Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho Ingazn7o10deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho
DE69123770T2 (de) 1990-03-23 1997-06-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Hand-Datenverarbeitungsgerät mit reduziertem Leistungsverbrauch
US6941481B2 (en) 1990-03-23 2005-09-06 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Data processing apparatus
JPH05251705A (ja) 1992-03-04 1993-09-28 Fuji Xerox Co Ltd 薄膜トランジスタ
JP3056631B2 (ja) 1994-03-15 2000-06-26 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP3479375B2 (ja) 1995-03-27 2003-12-15 科学技術振興事業団 亜酸化銅等の金属酸化物半導体による薄膜トランジスタとpn接合を形成した金属酸化物半導体装置およびそれらの製造方法
JPH11505377A (ja) 1995-08-03 1999-05-18 フィリップス エレクトロニクス ネムローゼ フェンノートシャップ 半導体装置
JPH0990337A (ja) 1995-09-28 1997-04-04 Sharp Corp 透過型液晶表示装置
JP3625598B2 (ja) 1995-12-30 2005-03-02 三星電子株式会社 液晶表示装置の製造方法
JPH09230827A (ja) 1996-02-23 1997-09-05 Oki Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置のバックライト制御方法
JPH09251162A (ja) 1996-03-15 1997-09-22 Matsushita Electron Corp 集光素子付画像表示装置
JP2955277B2 (ja) 1997-07-28 1999-10-04 シャープ株式会社 液晶表示装置
US6330047B1 (en) 1997-07-28 2001-12-11 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device and method for fabricating the same
US6195140B1 (en) 1997-07-28 2001-02-27 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display in which at least one pixel includes both a transmissive region and a reflective region
JPH11142810A (ja) 1997-11-12 1999-05-28 Nintendo Co Ltd 携帯型情報処理装置
US6295109B1 (en) 1997-12-26 2001-09-25 Sharp Kabushiki Kaisha LCD with plurality of pixels having reflective and transmissive regions
JP4223094B2 (ja) 1998-06-12 2009-02-12 株式会社半導体エネルギー研究所 電気光学表示装置
JP4170454B2 (ja) 1998-07-24 2008-10-22 Hoya株式会社 透明導電性酸化物薄膜を有する物品及びその製造方法
US7317438B2 (en) 1998-10-30 2008-01-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Field sequential liquid crystal display device and driving method thereof, and head mounted display
JP2000150861A (ja) 1998-11-16 2000-05-30 Tdk Corp 酸化物薄膜
JP3276930B2 (ja) 1998-11-17 2002-04-22 科学技術振興事業団 トランジスタ及び半導体装置
US6597348B1 (en) 1998-12-28 2003-07-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Information-processing device
JP3916334B2 (ja) * 1999-01-13 2007-05-16 シャープ株式会社 薄膜トランジスタ
US7145536B1 (en) 1999-03-26 2006-12-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device
JP3431856B2 (ja) 1999-04-19 2003-07-28 シャープ株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP2001075091A (ja) 1999-07-07 2001-03-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半透過型液晶表示装置
CN1254710C (zh) 1999-07-07 2006-05-03 松下电器产业株式会社 半透射型液晶显示装置
US7242449B1 (en) 1999-07-23 2007-07-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and integral image recognition/display apparatus
TW460731B (en) 1999-09-03 2001-10-21 Ind Tech Res Inst Electrode structure and production method of wide viewing angle LCD
JP3428529B2 (ja) 1999-10-13 2003-07-22 日本電気株式会社 表示装置および情報端末装置
JP4781518B2 (ja) 1999-11-11 2011-09-28 三星電子株式会社 反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置
US7129918B2 (en) 2000-03-10 2006-10-31 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronic device and method of driving electronic device
JP4089858B2 (ja) 2000-09-01 2008-05-28 国立大学法人東北大学 半導体デバイス
JP2002082331A (ja) * 2000-09-06 2002-03-22 Toshiba Corp 液晶表示装置
US7385579B2 (en) 2000-09-29 2008-06-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and method of driving the same
JP2003050405A (ja) 2000-11-15 2003-02-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜トランジスタアレイ、その製造方法およびそれを用いた表示パネル
KR20020038482A (ko) 2000-11-15 2002-05-23 모리시타 요이찌 박막 트랜지스터 어레이, 그 제조방법 및 그것을 이용한표시패널
JP3880356B2 (ja) * 2000-12-05 2007-02-14 キヤノン株式会社 表示装置
JP2002229021A (ja) 2001-02-02 2002-08-14 Tdk Corp バックライトおよびそれを使用した表示装置
JP3997731B2 (ja) 2001-03-19 2007-10-24 富士ゼロックス株式会社 基材上に結晶性半導体薄膜を形成する方法
JP2002289859A (ja) 2001-03-23 2002-10-04 Minolta Co Ltd 薄膜トランジスタ
JP2002311211A (ja) 2001-04-18 2002-10-23 Dainippon Printing Co Ltd レンズシート及びその製造方法
JP3895952B2 (ja) 2001-08-06 2007-03-22 日本電気株式会社 半透過型液晶表示装置及びその製造方法
JP3925839B2 (ja) 2001-09-10 2007-06-06 シャープ株式会社 半導体記憶装置およびその試験方法
JP4090716B2 (ja) 2001-09-10 2008-05-28 雅司 川崎 薄膜トランジスタおよびマトリクス表示装置
JP4111785B2 (ja) 2001-09-18 2008-07-02 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP4050119B2 (ja) 2001-10-02 2008-02-20 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP4164562B2 (ja) 2002-09-11 2008-10-15 独立行政法人科学技術振興機構 ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ
US7061014B2 (en) 2001-11-05 2006-06-13 Japan Science And Technology Agency Natural-superlattice homologous single crystal thin film, method for preparation thereof, and device using said single crystal thin film
JP3951694B2 (ja) 2001-12-11 2007-08-01 セイコーエプソン株式会社 半透過・反射型電気光学装置、電子機器、および半透過・反射型電気光学装置の製造方法
JP3714244B2 (ja) 2001-12-14 2005-11-09 セイコーエプソン株式会社 半透過・反射型電気光学装置の製造方法、半透過・反射型電気光学装置、および電子機器
JP2003195329A (ja) 2001-12-27 2003-07-09 Sharp Corp 表示装置およびその製造方法
JP4161582B2 (ja) 2002-02-05 2008-10-08 セイコーエプソン株式会社 マイクロレンズアレイ板、電気光学装置、及び電子機器
JP2003241184A (ja) 2002-02-15 2003-08-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置及び半透過型液晶表示装置
JP4083486B2 (ja) 2002-02-21 2008-04-30 独立行政法人科学技術振興機構 LnCuO(S,Se,Te)単結晶薄膜の製造方法
JP4087620B2 (ja) 2002-03-01 2008-05-21 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置の作製方法
JP4101533B2 (ja) 2002-03-01 2008-06-18 株式会社半導体エネルギー研究所 半透過型の液晶表示装置の作製方法
JP4237442B2 (ja) 2002-03-01 2009-03-11 株式会社半導体エネルギー研究所 半透過型液晶表示装置
CN1445821A (zh) 2002-03-15 2003-10-01 三洋电机株式会社 ZnO膜和ZnO半导体层的形成方法、半导体元件及其制造方法
JP2003279967A (ja) 2002-03-25 2003-10-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置とその製造方法
JP3933591B2 (ja) 2002-03-26 2007-06-20 淳二 城戸 有機エレクトロルミネッセント素子
US7339187B2 (en) 2002-05-21 2008-03-04 State Of Oregon Acting By And Through The Oregon State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University Transistor structures
JP2004022625A (ja) 2002-06-13 2004-01-22 Murata Mfg Co Ltd 半導体デバイス及び該半導体デバイスの製造方法
US7105868B2 (en) 2002-06-24 2006-09-12 Cermet, Inc. High-electron mobility transistor with zinc oxide
JP2004126199A (ja) 2002-10-02 2004-04-22 Toppoly Optoelectronics Corp 液晶ディスプレイのディスプレイ回路構造
US7067843B2 (en) 2002-10-11 2006-06-27 E. I. Du Pont De Nemours And Company Transparent oxide semiconductor thin film transistors
JP4220231B2 (ja) 2002-12-24 2009-02-04 東芝松下ディスプレイテクノロジー株式会社 表示パネル用基板製造方法
TWI230305B (en) * 2002-12-31 2005-04-01 Au Optronics Corp Dual mode liquid crystal display
JP2003262863A (ja) 2003-01-10 2003-09-19 Seiko Epson Corp 半透過・反射型電気光学装置、電子機器、および半透過・反射型電気光学装置の製造方法
JP2004226612A (ja) 2003-01-22 2004-08-12 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
TWI363206B (en) 2003-02-28 2012-05-01 Samsung Electronics Co Ltd Liquid crystal display device
JP4166105B2 (ja) 2003-03-06 2008-10-15 シャープ株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2004273732A (ja) 2003-03-07 2004-09-30 Sharp Corp アクティブマトリクス基板およびその製造方法
JP2004279669A (ja) 2003-03-14 2004-10-07 Sharp Corp 表示システム
JP4108633B2 (ja) 2003-06-20 2008-06-25 シャープ株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに電子デバイス
JP4093127B2 (ja) 2003-06-24 2008-06-04 カシオ計算機株式会社 液晶表示装置
JP2005024680A (ja) 2003-06-30 2005-01-27 Toppoly Optoelectronics Corp 透過・反射両用液晶表示装置
US7262463B2 (en) 2003-07-25 2007-08-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Transistor including a deposited channel region having a doped portion
JP4377631B2 (ja) 2003-08-15 2009-12-02 アルプス電気株式会社 半透過型液晶表示装置及びそれを備えた電子機器
JP3708112B2 (ja) 2003-12-09 2005-10-19 シャープ株式会社 マイクロレンズアレイ付き表示パネルの製造方法および表示装置
JP2005190295A (ja) 2003-12-26 2005-07-14 Toshiba Corp 携帯情報端末
KR100979385B1 (ko) 2003-12-30 2010-08-31 엘지디스플레이 주식회사 반투과형 액정표시장치 및 그 제조 방법
KR20050079430A (ko) * 2004-02-05 2005-08-10 삼성전자주식회사 Tft lcd 기판의 알루미늄 배선 형성방법과 이에의한 tft lcd 기판
WO2005080529A1 (ja) 2004-02-20 2005-09-01 Asahi Glass Company, Limited 光学素子用液晶材料および光変調素子
US7145174B2 (en) 2004-03-12 2006-12-05 Hewlett-Packard Development Company, Lp. Semiconductor device
US7282782B2 (en) 2004-03-12 2007-10-16 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Combined binary oxide semiconductor device
KR101019337B1 (ko) 2004-03-12 2011-03-07 도꾸리쯔교세이호징 가가꾸 기쥬쯔 신꼬 기꼬 아몰퍼스 산화물 및 박막 트랜지스터
US7297977B2 (en) 2004-03-12 2007-11-20 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Semiconductor device
KR101089199B1 (ko) 2004-04-22 2011-12-05 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광장치 및 그 구동방법
TW200600916A (en) 2004-05-27 2006-01-01 Alps Electric Co Ltd Color liquid crystal display device
KR101057779B1 (ko) 2004-06-05 2011-08-19 엘지디스플레이 주식회사 반투과형 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
US7211825B2 (en) 2004-06-14 2007-05-01 Yi-Chi Shih Indium oxide-based thin film transistors and circuits
JP4974493B2 (ja) * 2004-08-20 2012-07-11 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置及び電子機器
JP2006100760A (ja) 2004-09-02 2006-04-13 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタおよびその製造方法
JP4111180B2 (ja) 2004-09-02 2008-07-02 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置、及び電子機器
US7285501B2 (en) 2004-09-17 2007-10-23 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of forming a solution processed device
JP2006119416A (ja) 2004-10-22 2006-05-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 画像表示システム
US7298084B2 (en) 2004-11-02 2007-11-20 3M Innovative Properties Company Methods and displays utilizing integrated zinc oxide row and column drivers in conjunction with organic light emitting diodes
US7829444B2 (en) 2004-11-10 2010-11-09 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor manufacturing method
US7453065B2 (en) 2004-11-10 2008-11-18 Canon Kabushiki Kaisha Sensor and image pickup device
US7791072B2 (en) 2004-11-10 2010-09-07 Canon Kabushiki Kaisha Display
EP1815530B1 (en) 2004-11-10 2021-02-17 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor employing an amorphous oxide
CN101057333B (zh) 2004-11-10 2011-11-16 佳能株式会社 发光器件
US7863611B2 (en) 2004-11-10 2011-01-04 Canon Kabushiki Kaisha Integrated circuits utilizing amorphous oxides
US7601984B2 (en) 2004-11-10 2009-10-13 Canon Kabushiki Kaisha Field effect transistor with amorphous oxide active layer containing microcrystals and gate electrode opposed to active layer through gate insulator
JP2006162680A (ja) 2004-12-02 2006-06-22 Nec Corp 液晶表示装置及び移動体通信端末
JP4121997B2 (ja) 2004-12-28 2008-07-23 大日本印刷株式会社 視野角制御シート及びこれを用いた画像表示装置
US8023074B2 (en) 2005-01-12 2011-09-20 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display unit
US20060158587A1 (en) 2005-01-20 2006-07-20 Au Optronics Corporation Transflective liquid crystal display
US7579224B2 (en) 2005-01-21 2009-08-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing a thin film semiconductor device
TWI412138B (zh) 2005-01-28 2013-10-11 Semiconductor Energy Lab 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
TWI569441B (zh) 2005-01-28 2017-02-01 半導體能源研究所股份有限公司 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法
US7858451B2 (en) 2005-02-03 2010-12-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Electronic device, semiconductor device and manufacturing method thereof
US7948171B2 (en) 2005-02-18 2011-05-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
US20060197092A1 (en) 2005-03-03 2006-09-07 Randy Hoffman System and method for forming conductive material on a substrate
US8681077B2 (en) 2005-03-18 2014-03-25 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device, and display device, driving method and electronic apparatus thereof
US7544967B2 (en) 2005-03-28 2009-06-09 Massachusetts Institute Of Technology Low voltage flexible organic/transparent transistor for selective gas sensing, photodetecting and CMOS device applications
US7645478B2 (en) 2005-03-31 2010-01-12 3M Innovative Properties Company Methods of making displays
US8300031B2 (en) 2005-04-20 2012-10-30 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device comprising transistor having gate and drain connected through a current-voltage conversion element
KR100648223B1 (ko) 2005-05-11 2006-11-24 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 반투과형 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치
JP4817718B2 (ja) * 2005-05-27 2011-11-16 シャープ株式会社 表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置
JP2006344849A (ja) 2005-06-10 2006-12-21 Casio Comput Co Ltd 薄膜トランジスタ
US7691666B2 (en) 2005-06-16 2010-04-06 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7402506B2 (en) 2005-06-16 2008-07-22 Eastman Kodak Company Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby
US7507618B2 (en) 2005-06-27 2009-03-24 3M Innovative Properties Company Method for making electronic devices using metal oxide nanoparticles
KR100711890B1 (ko) 2005-07-28 2007-04-25 삼성에스디아이 주식회사 유기 발광표시장치 및 그의 제조방법
JP2007059128A (ja) 2005-08-23 2007-03-08 Canon Inc 有機el表示装置およびその製造方法
JP2007071939A (ja) 2005-09-05 2007-03-22 Sanyo Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置及び電子機器
JP5116225B2 (ja) 2005-09-06 2013-01-09 キヤノン株式会社 酸化物半導体デバイスの製造方法
JP4280736B2 (ja) 2005-09-06 2009-06-17 キヤノン株式会社 半導体素子
JP2007073705A (ja) 2005-09-06 2007-03-22 Canon Inc 酸化物半導体チャネル薄膜トランジスタおよびその製造方法
JP4850457B2 (ja) 2005-09-06 2012-01-11 キヤノン株式会社 薄膜トランジスタ及び薄膜ダイオード
JP5078246B2 (ja) 2005-09-29 2012-11-21 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、及び半導体装置の作製方法
JP5064747B2 (ja) 2005-09-29 2012-10-31 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、電気泳動表示装置、表示モジュール、電子機器、及び半導体装置の作製方法
EP1770788A3 (en) 2005-09-29 2011-09-21 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufacturing method thereof
JP5037808B2 (ja) 2005-10-20 2012-10-03 キヤノン株式会社 アモルファス酸化物を用いた電界効果型トランジスタ、及び該トランジスタを用いた表示装置
JP2007121804A (ja) * 2005-10-31 2007-05-17 Mitsubishi Electric Corp 薄膜積層基板、及びその製造方法、並びに薄膜積層基板を備える液晶表示装置
CN101577293B (zh) 2005-11-15 2012-09-19 株式会社半导体能源研究所 半导体器件及其制造方法
US7821613B2 (en) 2005-12-28 2010-10-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device and manufacturing method thereof
TWI292281B (en) 2005-12-29 2008-01-01 Ind Tech Res Inst Pixel structure of active organic light emitting diode and method of fabricating the same
JP2007183323A (ja) 2006-01-05 2007-07-19 Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置及び電子機器
US7867636B2 (en) 2006-01-11 2011-01-11 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transparent conductive film and method for manufacturing the same
JP4977478B2 (ja) 2006-01-21 2012-07-18 三星電子株式会社 ZnOフィルム及びこれを用いたTFTの製造方法
JP2007199441A (ja) 2006-01-27 2007-08-09 Hitachi Displays Ltd 画像表示装置
EP1832915B1 (en) 2006-01-31 2012-04-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device with improved contrast
US7576394B2 (en) 2006-02-02 2009-08-18 Kochi Industrial Promotion Center Thin film transistor including low resistance conductive thin films and manufacturing method thereof
KR101337459B1 (ko) 2006-02-03 2013-12-06 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시장치 및 그 표시장치를 구비한 전자기기
US7977169B2 (en) 2006-02-15 2011-07-12 Kochi Industrial Promotion Center Semiconductor device including active layer made of zinc oxide with controlled orientations and manufacturing method thereof
KR20070101595A (ko) 2006-04-11 2007-10-17 삼성전자주식회사 ZnO TFT
CN101059612B (zh) * 2006-04-19 2012-04-18 奇美电子股份有限公司 半穿透半反射式液晶面板与主动元件阵列基板的制造方法
JP2007293153A (ja) 2006-04-27 2007-11-08 Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置
US20070252928A1 (en) 2006-04-28 2007-11-01 Toppan Printing Co., Ltd. Structure, transmission type liquid crystal display, reflection type display and manufacturing method thereof
JP2007304384A (ja) * 2006-05-12 2007-11-22 Epson Imaging Devices Corp 液晶装置、液晶装置の製造方法、および電子機器
EP2038684B1 (en) 2006-05-31 2016-03-16 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
US8154493B2 (en) 2006-06-02 2012-04-10 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device, driving method of the same, and electronic device using the same
JP5028033B2 (ja) 2006-06-13 2012-09-19 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP2008052259A (ja) 2006-07-26 2008-03-06 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
JP4609797B2 (ja) 2006-08-09 2011-01-12 Nec液晶テクノロジー株式会社 薄膜デバイス及びその製造方法
JP4999400B2 (ja) 2006-08-09 2012-08-15 キヤノン株式会社 酸化物半導体膜のドライエッチング方法
JP4332545B2 (ja) 2006-09-15 2009-09-16 キヤノン株式会社 電界効果型トランジスタ及びその製造方法
JP4274219B2 (ja) 2006-09-27 2009-06-03 セイコーエプソン株式会社 電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機薄膜半導体装置
JP5098272B2 (ja) 2006-09-27 2012-12-12 カシオ計算機株式会社 液晶表示装置
JP5164357B2 (ja) 2006-09-27 2013-03-21 キヤノン株式会社 半導体装置及び半導体装置の製造方法
US7622371B2 (en) 2006-10-10 2009-11-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Fused nanocrystal thin film semiconductor and method
JP4866703B2 (ja) * 2006-10-20 2012-02-01 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
US7772021B2 (en) 2006-11-29 2010-08-10 Samsung Electronics Co., Ltd. Flat panel displays comprising a thin-film transistor having a semiconductive oxide in its channel and methods of fabricating the same for use in flat panel displays
JP2008140684A (ja) 2006-12-04 2008-06-19 Toppan Printing Co Ltd カラーelディスプレイおよびその製造方法
JP4513027B2 (ja) * 2006-12-20 2010-07-28 ソニー株式会社 表示装置の製造方法
KR101303578B1 (ko) 2007-01-05 2013-09-09 삼성전자주식회사 박막 식각 방법
US8207063B2 (en) 2007-01-26 2012-06-26 Eastman Kodak Company Process for atomic layer deposition
KR100851215B1 (ko) 2007-03-14 2008-08-07 삼성에스디아이 주식회사 박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기 전계 발광표시장치
JP2008261944A (ja) 2007-04-10 2008-10-30 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
US7795613B2 (en) 2007-04-17 2010-09-14 Toppan Printing Co., Ltd. Structure with transistor
KR101325053B1 (ko) 2007-04-18 2013-11-05 삼성디스플레이 주식회사 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법
KR20080094300A (ko) 2007-04-19 2008-10-23 삼성전자주식회사 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법과 박막 트랜지스터를포함하는 평판 디스플레이
KR101334181B1 (ko) 2007-04-20 2013-11-28 삼성전자주식회사 선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법
CN101663762B (zh) 2007-04-25 2011-09-21 佳能株式会社 氧氮化物半导体
JP5542297B2 (ja) 2007-05-17 2014-07-09 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置、表示モジュール及び電子機器
JP5542296B2 (ja) 2007-05-17 2014-07-09 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置、表示モジュール及び電子機器
JP5037221B2 (ja) 2007-05-18 2012-09-26 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置及び電子機器
JP4989309B2 (ja) 2007-05-18 2012-08-01 株式会社半導体エネルギー研究所 液晶表示装置
KR20080101680A (ko) 2007-05-18 2008-11-21 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 액정 표시장치, 전자 기기, 및 그의 구동방법
KR101345376B1 (ko) 2007-05-29 2013-12-24 삼성전자주식회사 ZnO 계 박막 트랜지스터 및 그 제조방법
US8809203B2 (en) 2007-06-05 2014-08-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing semiconductor device using a microwave plasma CVD apparatus
TWI338805B (en) * 2007-06-26 2011-03-11 Au Optronics Corp Transflective liquid crystal display panel and pixel structure thereof
JP2009047965A (ja) 2007-08-21 2009-03-05 Seiko Epson Corp 画像処理装置、画像処理方法、表示装置およびプログラム
JP5472773B2 (ja) 2007-08-30 2014-04-16 Nltテクノロジー株式会社 半透過型液晶表示装置
JP4566226B2 (ja) 2007-09-07 2010-10-20 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置
US8202365B2 (en) 2007-12-17 2012-06-19 Fujifilm Corporation Process for producing oriented inorganic crystalline film, and semiconductor device using the oriented inorganic crystalline film
KR20090075554A (ko) 2008-01-04 2009-07-08 삼성전자주식회사 액정 표시 장치와 그 제조 방법
JP2009200355A (ja) 2008-02-22 2009-09-03 Sharp Corp Tft基板、tft基板の製造方法、及び液晶表示装置
JP2009229967A (ja) 2008-03-25 2009-10-08 Epson Imaging Devices Corp 液晶表示装置
EP2128686B1 (en) 2008-05-29 2017-07-05 LG Electronics Inc. Mobile terminal with a solar cell module integrated under the display and method for controlling the display
KR101470636B1 (ko) 2008-06-09 2014-12-09 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치
KR101495203B1 (ko) 2008-06-24 2015-02-25 삼성디스플레이 주식회사 액정표시장치의 구동방법, 어레이 기판, 이의 제조방법 및이를 갖는 액정표시장치
JP5430248B2 (ja) 2008-06-24 2014-02-26 富士フイルム株式会社 薄膜電界効果型トランジスタおよび表示装置
JP4623179B2 (ja) 2008-09-18 2011-02-02 ソニー株式会社 薄膜トランジスタおよびその製造方法
KR101579050B1 (ko) 2008-10-03 2015-12-23 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시장치
JP5451280B2 (ja) 2008-10-09 2014-03-26 キヤノン株式会社 ウルツ鉱型結晶成長用基板およびその製造方法ならびに半導体装置
JP5615540B2 (ja) 2008-12-19 2014-10-29 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
KR101987790B1 (ko) 2009-11-13 2019-06-11 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 표시 장치 및 이 표시 장치를 구비한 전자 기기
KR101842865B1 (ko) 2009-12-28 2018-03-28 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 액정 표시 장치 및 전자 기기
CN102844806B (zh) 2009-12-28 2016-01-20 株式会社半导体能源研究所 液晶显示装置及电子设备
WO2011081011A1 (en) 2009-12-28 2011-07-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device and manufacturing method thereof
WO2011081041A1 (en) 2009-12-28 2011-07-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing the semiconductor device
KR101082286B1 (ko) 2010-02-11 2011-11-09 삼성모바일디스플레이주식회사 액정표시장치 및 그의 구동방법
US8830424B2 (en) 2010-02-19 2014-09-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Liquid crystal display device having light-condensing means
US8823624B2 (en) 2010-08-13 2014-09-02 Au Optronics Corporation Display device having memory in pixels

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