JP4781518B2

JP4781518B2 - 反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置

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Publication number: JP4781518B2
Application number: JP2000345676A
Authority: JP
Inventors: 龍圭張; 永吉朱; 勉求姜
Original assignee: Samsung Electronics Co Ltd
Current assignee: Samsung Electronics Co Ltd
Priority date: 1999-11-11
Filing date: 2000-11-13
Publication date: 2011-09-28
Anticipated expiration: 2020-11-13
Also published as: JP2001201768A; US20040207785A1; US6683666B1; US7068335B2

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置に関して、特に画素電極をなす反射膜と透過膜が画素を調節する薄膜トランジスタのソースと安定にコンタクトされることができる反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置の製作方法は工程マスクの枚数にしたがってトランジスタの構造により多様な変形が可能である。例えば、薄膜トランジスタの構造の場合、トップゲート方式の液晶表示装置においてはボトムゲート方式と違ってソース／ドレインを形成する半導体層活性領域をまず形成し、ゲート絶縁膜とゲートパターンを形成した後、保護膜とコンタクトホールを形成するようになる。
【０００３】
一方、ＬＣＤは、反射形ＬＣＤと透過形ＬＣＤに区分されている。反射形ＬＣＤは、画素電極を金属のような反射膜に形成し、外光を反射して画像を表示する。透過形ＬＣＤは、パネルの後に独立的な光源のバックライトを設け、この光源からの光がパネルを通過したり、あるいは通過しないように液晶の配列を調節して画像と色相が具現可能である。したがって、透過形は画素電極として透過膜、すなわち透明導電膜を使用するようになる。
【０００４】
ノートブックコンピュータのように大画面高品位の画像を要求するところで電力の消耗を減少させながら外光を用いて最大限高品位の画像が具現可能な反射形も多く提示されている。また、反射形と透過形の二つの長所を利用して回り光度の変化にも関わらず、使用環境に合わせて適切な反射透過複合形ＬＣＤが既にＬＣＤ製作会社のシャープ社を通じて紹介されたところがある。
【０００５】
このシャープ社の反射透過複合形ＬＣＤは既存のＴＦＴ側基板の電極形成過程で透過膜画素電極をソース電極と連結されるように形成する。そして、保護膜を積層し、保護膜にコンタクトホールを形成する。その上に金属層を積層しパターニングすればコンタクトホールを通じてソース電極と金属層からなった反射膜画素電極が連結される。このとき、反射膜画素電極は一部画素領域で除去される。したがって、この除去領域、すなわち投光窓には透過膜画素電極のみが存在して透過領域を、反射膜が存在する領域は反射領域を定義するようになる。
【０００６】
ところが、このような反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置の製造方法で、透過膜画素電極と反射膜画素電極の材質にしたがって問題が発生する。すなわち、透過膜画素電極として一番多く使用されるインジウム金属酸化物系列のＩＴＯが反射膜画素電極として一番多く使用するアルミニウム含有金属と接するようになると、界面に絶縁性の酸化膜が形成されやすい。したがって、反射膜画素電極が透過膜画素電極を通じてソース電極と連結されると、絶縁性酸化膜により電圧が正しくかからないようになる。
【０００７】
これを防止するためにソース電極と反射膜のコンタクト接続部には問題性のある二つの物質が接しないように媒介金属を利用し、あるいはソース電極の異なる部分で反射膜画素電極と透明膜画素電極がソース電極とそれぞれ連結されるようにする。しかし、この場合の画素電極は広く形成されることに比べて、ソース電極は比較的限定された領域に形成されるので、透過領域と反射領域の形成及び配置が工程と関連して段階を増加し、または単位工程を難しくする問題がある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
したがって本発明の目的は、反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置において画素電極としてインジウム金属酸化物系列の透過膜と反射膜のアルミニウム含有金属層を使用する場合の問題点を解決するためのもので、二つの物質層が部分的に重なるように構成される場合にも装置動作に問題がなく、画素電極のパターン形成過程や洗浄過程で工程に煩わしさがない反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶装置を提供することにある。
【０００９】
また本発明の目的は、二つの物質層界面の絶縁性物質が生成されて画素電極の一部に電位が正常的に印加されない現象を防ぐことができる反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置を提供することにある。
【００１０】
また他の本発明の目的は、薄膜トランジスタ液晶表示装置を形成するときに通常の反射形または透過形の初期工程を維持でき、工程の付加やレイアウトの変化を減少することができる反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために本発明は、インジウム酸化物系列からなる透明電極層とアルミニウム含有反射電極層が共に画素電極の透明領域と反射領域を形成する反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置において、薄膜トランジスタのソースと前記画素電極を連結するコンタクトで前記画素電極を構成する前記反射電極層と前記透明電極層がそれぞれ保護膜に形成されるコンタクト窓を通じて露出した前記ソースと電気的に接続されるように構成される。
【００１２】
例えば、本発明を従来のボトムゲート形薄膜トランジスタ液晶表示装置に適用すると、その構成は、基板と、前記基板上に少なくとも一つが形成されて画素を調節する薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタ上に形成され、前記薄膜トランジスタのソース領域にコンタクトホールを有する保護膜と、前記コンタクトホールを有する保護膜上に形成され、前記コンタクトホールを通じて前記薄膜トランジスタのソースと直接に接触して連結されるITO層画素電極と、前記保護膜上の前記ITO層画素電極上に形成されるとともに、前記コンタクトホールの一部において前記ソースが露出するように前記ITO層画素電極が除去されたホールを通じて、露出された前記ソースと直接に接触して連結され、アルミニウム含有金属からなる反射層画素電極と、
前記ITO層画素電極と前記反射層画素電極との間の分離絶縁膜と、を備えており、画素領域は前記ITO層画素電極のみ存在する透過領域と前記反射層画素電極が存在する反射領域とからなることを特徴とする。
また、反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置は、
基板と、
前記基板上に少なくとも一つが形成されて画素を調節する薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタ上に形成され、前記薄膜トランジスタのソース領域に、第１コンタクトホール及び第２コンタクトホールを含む少なくとも２つのコンタクトホールを有する保護膜と、
前記コンタクトホールを有する保護膜上に形成され、前記第１コンタクトホールを通じて前記薄膜トランジスタのソースと直接に接触して連結されるITO層画素電極と、
前記保護膜上の前記ITO層画素電極上に形成されるとともに、前記第２コンタクトホールを通じて前記薄膜トランジスタのソースと直接に接触して連結される反射層画素電極と、
前記ITO層画素電極と前記反射層画素電極との間の分離絶縁膜と、
を備えており、
前記第２コンタクトホールで前記ITO層画素電極及び前記分離絶縁膜はホールを有し、前記ソースと前記反射層画素電極のコンタクトがなされるように構成され、画素領域は前記ITO層画素電極のみ存在する透過領域と前記反射層画素電極が存在する反射領域とからなることを特徴とする。
ここで、前記透過領域は前記反射領域の窓に形成される形態からなる。
ここで、前記保護膜は、感光性透明絶縁膜で、前記保護膜の表面は少なくとも一部領域でエンボシング処理されてマイクロレンズを形成する。
【００１３】
薄膜トランジスタ構造は、ゲート位置や層構成にしたがって多様な形態に形成されるが、これら異なる多様な薄膜トランジスタ構造は当該技術分野の通常の知識を有する技術者には公知のものなので、その具体的な説明は省略する。
【００１４】
本発明で、インジウム金属酸化物系列の透過膜はＩＴＯ（Indium Tin Oxide）が挙げられる。また、反射膜画素電極はアルミニウム及びアルミニウムを含んだ金属層からなる。
【００１５】
通常、アルミニウム含有反射膜と透過膜の積層厚さは通常コンタクトホールを通じて露出したソース領域の幅に比べて相対的に小さい。したがって、画素電極を構成するこれら膜のうち先に積層される膜に対してパターニングするとき、通常の絶縁膜にコンタクトホールを形成するように、このコンタクトホール領域の一部でまず積層される膜を除去して小さいホールを形成する。そして、その上に残りの膜を積層して必要なパターンに形成する。すると、追加的な露光及びエッチング工程なしに画素電極をなす各層をパターニングしながら、本発明のソースと画素電極接続構造が形成される。
【００１６】
そして、反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置において画素電極をなす反射膜と透過膜の積層順序は反射効率を考慮するとき、透過膜を下にまず形成し、反射膜を上方に形成するのが望ましいが、順序は後先になることもある。画素領域内で反射領域と透過領域は反射膜画素電極と透過膜画素電極が形成される順序が替わっても同一に形成されうる。
【００１７】
本発明では、ＩＴＯ透明電極層とアルミニウム含有反射電極層の直接的な接触による、洗浄時やパターニングエッチング時の化学的作用による腐食を防ぐために、二つの電極層間に透明度がよく緻密なシリコン窒化膜やシリコン酸化膜を分離絶縁膜で薄く形成する方法を採ることもできる。
【００１８】
上述した目的を達成するための本発明によると、反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置は、基板と、前記基板上に少なくとも一つが形成されて画素を調節する薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタのソースと電気的に接続され、窓領域を有するとともに非酸化性金属層が積層される複層からなるITO電極層を有する窓周り領域を有するITO層包含画素電極と、前記ITO層包含画素電極及び前記薄膜トランジスタの上に形成され、前記ソースのコンタクトホール領域と前記窓領域及び窓回り領域の少なくとも一部で形成されたホールを有する保護膜と、前記保護膜の上に形成された前記窓領域の前記ホールを通じて前記薄膜トランジスタのソースと電気的に接続され、前記窓領域に形成された前記非酸化性金属層を通じて前記ITO層包含画素電極と電気接続される反射層画素電極とを備えてなることを特徴とする。
【００１９】
このとき、保護膜は感光性透明絶縁膜からなることが望ましい。すなわち、保護膜にホールを形成するパターニングが別途のエッチング工程なしにフォトリソグラフィ工程のみで遂行される。また、保護膜の少なくとも一部表面で部分エッチングでエンボシング処理（凸凹模様を形成すること）されて集光レンズの役割をするマイクロレンズの形成が容易である。
【００２０】
なお、保護膜は厚さが液晶層基準で波長の１／４経路に該当するように形成されると、反射領域と透過領域ですべて液晶層厚さが同じ場合、位相差が同時に整合されないのでコントラストの損傷が発生する現象を防止することができるので望ましい。
【００２１】
本発明で、非酸化性金属としてはクロムやタングステン−モリブデンが使用可能である。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の望ましい実施例を添付の図面を参照して詳細に説明する。
（実施例１）
図１〜図７は、本発明による一例で画素部に薄膜トランジスタ及び画素電極を形成する各段階を示す工程側断面図である。
【００２３】
図１〜図３を参照すれば、本実施例の薄膜トランジスタは従来の５枚工程のような順序で基板１０の上にゲート電極１１、ゲート絶縁膜１３、活性層１５を形成するアモルファスシリコン膜及びオームミックコンタクト層１４、ソース電極１６及びドレイン電極が形成される。図３に示すように、ソース電極１６はアクティブ領域を外れてドレイン電極に比べて広く形成されている。
【００２４】
図４を参照すれば、ソース電極１６の上に絶縁層保護膜１７が形成される。そして、ソース電極の一部領域を露出するコンタクトホールが形成される。
図５を参照すれば、まず画素電極領域全体にＩＴＯ膜で透過膜画素電極１８が形成される。このとき、透過膜画素電極１８の形成は通常の積層及びパターニングからなる。パターニング過程で、コンタクトホールの一部領域に再びホールが形成されてソース電極１６が部分的に露出される。
【００２５】
図６及び図７を参照すれば、透過膜画素電極１８が形成される基板の上にシリコン窒化膜からなる分離絶縁膜１９が形成される。分離絶縁膜１９でも、図５のＩＴＯ膜のように、ソース電極１６が露出された部分にホールを形成する。したがって、アルミニウムネオジムからなる反射膜が積層されると、図６の透過膜画素電極１８と分離絶縁膜１９に形成されているホールを通じてソース電極１６と反射膜が電気的に接続される。そして、反射膜はパターニングを通じて反射膜画素電極２０を形成するようになる。このとき、透過領域を形成するために反射膜が除去されて透明層のみを重ねてなる投光窓領域が形成される。したがって、図７に示すように本発明の第１実施例に係るＴＦＴ基板が形成される。反射膜画素電極をエッチングマスクとして分離絶縁膜１９をさらにエッチングすれば、透過膜画素電極１８が露出して透過効率を高めることができる。
【００２６】
（実施例２）
図８及び図９は本発明による第２の工程の例を示すものである。
図８を参照すれば、基板に薄膜トランジスタ構造と保護膜が形成される。そして、まず反射膜画素電極２０が形成される。反射膜画素電極２０は保護膜に形成されたコンタクトホールを通じてソース電極１６と接続される。反射膜画素電極２０が形成されるとき、パターニング過程でコンタクトホール領域の一部にホールを形成して透過膜１８が積層されるとき、自然にソース電極１６と透過膜１８が直接に接続されるようにした。そして、ＩＺＯ透過膜画素電極１８を図９に示すように積層、パターニングして全体画素電極が完成される。
【００２７】
ＩＺＯ材質はＩＴＯ材質の電極に比べてアルミニウム含有層と接触した界面での副作用が少ないので、別途の分離絶縁膜を形成することなく形成することができる。そして、図８で反射膜のパターニングで投光窓の形成されることが分かる。順序を反対にしてＩＺＯ透過膜画素電極をまず形成し、アルミニウム含有反射膜を積層パターニングして投光窓を形成する場合は、二つの膜のエッチャントに対する選択比が大きくないので投光窓領域のＩＺＯ膜が共に除去される可能性があって望ましくない。
【００２８】
（実施例３）
図１０及び図１１を通じて形成される例は、図１〜図９に示す工程からなる例に対する変形により提示される。ここでは、図５及び図６に示すＩＴＯ透過膜画素電極１８とシリコン窒化膜材質の分離絶縁膜１９の形成工程が連続積層と一つの露光マスクを利用するパターニング作業により遂行される。図１１の反射膜画素電極２０の形成は上記図７に示した例のようになされる。投光窓を形成する段階で、投光窓領域のシリコン窒化膜も継続してエッチングにより除去することで、光の透過率を向上させることができる。
【００２９】
（実施例４）
図１２は本発明の第４の例を示す側断面図である。ソース電極１６がアクティブ領域の活性層１５の外に拡張形成され、ソース電極１６の上に保護膜１７に２つのコンタクトホールを形成する。そして、画素電極を形成する過程で、まずＩＴＯ透過膜画素電極１８を積層、パターニングを通じて形成する。パターニング過程で一つのコンタクトホール領域で透過膜を除去する。次に、シリコン窒化膜などの分離絶縁膜１９を積層パターニングしてＩＴＯ透明電極１８を覆うようにする。このとき、透過膜が除去されたコンタクトホール領域で分離絶縁膜１９も除去される。そして、その上に反射膜が積層される。したがって、コンタクトホールのうちの一つではソース電極１６と透過膜画素電極１８が接続され、他の一つのコンタクトホール領域では透過膜と分離絶縁膜にホールが形成されるので、分離絶縁膜の上に反射膜２０が積層されるときに反射膜とソース電極１６が接続される。反射膜パターニングを通じて投光窓を有する反射膜画素電極２０が完成される。
【００３０】
図１３は、図１２のような本発明の実施例に対する平面図である。ソース電極の上に２つのコンタクトが並べて形成され、それぞれ透過膜画素電極、反射膜画素電極と接続されている。また、反射領域の内部で投光窓が広く２つ形成されて透過膜画素電極が露出されている。
【００３１】
以下、実施例１〜実施例４に関連した図１〜図１２の断面図を参照して図１３をより詳細に説明する。
ガラスなどの透明基板上にクロムなどの金属層にゲート電極を含むゲート配線１１０を形成し、且つゲート配線１１０に電気的に連結され、あるいは別途に形成されたキャパシタ配線１１１を形成する。そして、ゲート配線１１０とキャパシタ配線１１１上にシリコン窒化膜などのゲート絶縁膜を形成する。そして、少なくともゲート電極上にアモルファスシリコンに形成される活性層１５０パターンとｎ⁺にドーピングされたアモルファスシリコン材質のオームミックコンタクト層パターンが形成されている。また、このオームミックコンタクト層と電気的に接続されるソース電極１６２とドレイン電極１６１、キャパシタ配線１１１上に形成される金属層パターン１６３、及びゲート配線１１０、キャパシタ配線１１１と交差するデータ配線１６０がクロム、チタニウム、モリブデンなどの金属層の積層とパターニングを通じて得られる。金属層パターン１６３はキャパシタ配線１１１と共に容易に静電容量を確保する手段となる。
【００３２】
そして、ソース／ドレイン電極上に保護膜が形成される。保護膜にはパターニングを通じてコンタクトホールが形成される。コンタクトホールはソース電極上に少なくとも一つ、本例では二つすなわち１７１、１７２が形成され、金属層パターン１６３の上に一つの１７３が形成される。また、ゲート配線の終端のパッドやデータ配線の終端のパッドにもコンタクトホール１７４、１７５が形成される。保護膜は有機絶縁膜に形成する。保護膜の上面には凸凹を形成してマイクロレンズの役割をするが、このとき、マイクロレンズは集光の機能を奏する。保護膜を感光性有機絶縁膜とすれば、工程でエッチング段階を一つ短縮可能なので便利になる。
【００３３】
保護膜の上にＩＴＯ、ＩＺＯのような透明導電膜が積層され、保護膜に形成されるコンタクトホール１７１を通じてソース電極１６２と接続される。そして、透明導電膜パターニングを通じて透過膜画素電極１８０が形成される。透過膜画素電極１８０は透過領域のみカバーすればよいので、反射膜画素電極２００より少なく形成されるのが望ましい。また、透過膜画素電極１８０は金属層パターン１６３の上に形成されるコンタクトホール１７３を通じて金属層パターン１６３と連結されてキャパシタ電極を形成し、ゲート配線やデータ配線のパッドにも透明導電膜を置いて補助パッドとして使用可能である。
【００３４】
透過膜画素電極１８０の上には分離絶縁膜１９をシリコン窒化膜または有機絶縁膜により形成する。ソース電極１６２上の他のコンタクトホール１７２を通じてソース電極が露出するように保護膜１７、透過膜画素電極１８０、分離絶縁膜１９は他のコンタクトホール１７２の領域で除去されている。そして、他のコンタクトホール１７２を通じてソース電極１６２と連結される反射膜画素電極２００が形成される。反射膜画素電極はアルミニウム含有合金、銀合金などに形成される。反射膜画素電極２００を形成するパターニング過程で透過領域の反射膜導電層は除去されたが、外郭線は画素領域全体を含むように形成される。反射領域を広げるために反射膜画素電極２００をデータ配線やゲート配線と重ねるように形成することができる。
【００３５】
一方、本説明においては保護膜１７の上面にマイクロレンズを形成するが、マイクロレンズは保護膜の代わりに分離絶縁膜の表面に形成されることもできる。特に、分離絶縁膜が感光性有機絶縁膜からなる場合、マイクロレンズの形成が容易である。また、透過膜画素電極１８０の代わりに反射膜画素電極を金属層パターンとコンタクトに連結してキャパシタ電極の役割を果たすようにする。そして、本説明ではソース電極にコンタクトホールが１７１、１７２の二つである場合を主にして説明したが、（実施例１）〜（実施例３）に関連してコンタクトホールが一つの場合も考えられる。
【００３６】
（実施例５）
図１４は本発明の第５の実施例を示す断面図である。ボトムゲート形トランジスタ構造でソース電極１６が広く形成されており、有機絶縁膜からなる保護膜１７が厚く積層されている。その上に画素電極が形成されており、画素電極は保護膜１７に形成されるコンタクトホールを通じてソース電極１６と電気的に接続されている。画素電極は複層からなって、最下側が透過膜画素電極１８であり、最上側がアルミニウムからなる反射膜画素電極２０である。２種類の画素電極間にはシリコン窒化膜のような分離絶縁膜１９の層が形成されてアルミニウムとＩＴＯ透明電極層が接する場合に生じるアルミニウム酸化膜による問題点をより確実に防ぐ。反射膜画素電極２０と透過膜画素電極１８とは保護膜１７のコンタクトホールを通じてそれぞれソース電極１６と接している。反射膜画素電極をなす層が除去される透過領域部分では保護膜１７がコンタクトホールの形成時に共に除去されて窓が形成されている。すなわち、画素電極で透明電極層のみがある透過領域は保護膜１７が除去されるだけ液晶層の厚さが厚くなって位相が整合されて透過領域を通過する光の光量が増加するように構成されている。図１５は前述の説明を要約して示す。
【００３７】
図１５では、反射領域と透過領域における画像の表示について示している。
反射領域のＴＦＴがオフの領域では、外部から入射した光は、反射膜電極によって反射され、元の経路から戻り、明るく表示される。反射領域のＴＦＴがオンの領域では、外部から入射した光は、反射膜電極によって反射されるが、偏光板を再び通過することができず、暗く表示される。
【００３８】
一方、透過領域のＴＦＴがオフの領域では、バックライトからの光が偏光板・１／４λ位相差板・透過画素電極・液晶・１／４λ位相差板・偏光板を通過して、明るく表示される。透過領域のＴＦＴがオンの領域では、バックライトからの光が偏光板・１／４λ位相差板・透過画素電極・液晶・１／４λ位相差板を通過するが、偏光板を通過できず、暗く表示される。
【００３９】
（実施例６）
図１６及び図１７は本発明のまた他の一側面に関するものである。
図１６は、本発明の一実施例で薄膜トランジスタ基板の画素部及びパッド部の平面図を示すものである。反射膜画素電極と透過膜画素電極パターンは相互に後先になることができる。反射電極と透明電極の境界部で二つの電極層は直接あるいは中間金属を介した状態で間接的に接触されて電気的に連結されている。
【００４０】
図１７は、図１６に示す実施例の平面をＡ-Ａ´に沿って切断した薄膜トランジスタ基板画素部の断面を示すものである。このような構造を形成する方法の一例を説明すれば、まず、ガラス基板１０に透過膜５１とクロム層６１からなる複層膜を積層しパターニングしてゲート電極、ゲート配線、ゲートパッド、及び透過膜包含画素電極を形成する。透過膜５１はＩＴＯ、ＩＺＯなどをスパッタリングで形成し、クロム層６１もスパッタリングで形成すればよい。透過膜包含画素電極はゲートパターンと電気的に分離される。ゲート絶縁膜１３をＣＶＤ積層しパターニングしてシリコン窒化膜あるいはシリコン酸化膜を使用してゲート電極及びゲート配線をキャッピングする。
【００４１】
アモルファスシリコン活性層１５と不純物がドーピングされたアモルファスシリコンオームコンタクト層１４をＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）方法で積層し、パターニングを通じて活性領域を残す。活性領域は薄膜トランジスタのソース／ドレイン領域及びチャンネル領域となる。アルミニウムなどの金属膜をスパッタリングに積層しパターニングしてドレイン電極及びソース電極１６とデータライン及びパッドを形成する。そして、ドレイン電極及びソース電極１６をエッチングマスクでオームミックコンタクト層１４をエッチングして除去する。
【００４２】
以上のように、ガラス基板１０に薄膜トランジスタ及び透過膜包含画素電極が形成された状態で有機絶縁膜の保護膜１７を積層し、ソース電極１６及び透過膜包含画素電極の少なくとも一部が露出するようにホールを形成する。保護膜１７は感光性膜を使用してフォトリソグラフィ工程のみでパターニングが可能にし、有機膜の厚さは該当厚さの液晶層のΔｎｄ値が１／４波長となるようにする。このとき、透過膜含み画素電極は大部分露出される。次に、アルミニウムなどの金属で反射膜を形成しパターニングして反射膜画素電極２０を形成する。
【００４３】
反射膜画素電極２０は保護膜のホールを通じてソース電極１６及び透過膜包含画素電極の一部領域と接触されて電気的に連結され、透過膜包含画素電極の大部分領域は反射膜画素電極２０のパターニング過程を通じて反射膜が除去されて露出される。この状態で、透過膜包含画素電極５１の上部のクロム層６１は反射膜画素電極２０をエッチングマスクでエッチングして除去する。透過膜包含画素電極と反射膜画素電極２０が接触された部分のクロム層６１は反射膜画素電極２０のマスクにより保護されて残留して透過膜１５をなすインジウム酸化物系列の透明電極とアルミニウムの直接接触を防ぐことができる。ソース電極と透過膜包含画素電極は反射膜画素電極を通じて間接的に連結される。
【００４４】
以上の例で透過膜包含画素電極はゲート電極などのように形成されず、ソース／ドレイン電極と同一の層に形成されうる。この場合、ゲート電極などはアルミニウムに形成し、ソース／ドレイン電極層を透過膜とクロムを積層して形成し、反射膜はクロムやアルミニウムを使用するのが望ましい。また、ソース電極と透過膜包含画素電極が連結されるようにパターニングすることもできる。
【００４５】
有機絶縁膜を使用する場合でも絶縁膜の上面を平らに形成せず、予め設計された曲面凸凹を形成して集光レンズの役割をするようにすることも可能である。基板内面の配向膜の配向角、チルト角などの異なる要因は考慮されない場合に通常の透過領域の液晶層の厚さが反射領域の液晶層厚さより２倍になるようにすればよく、２倍にならない場合にも透過領域で少なくとも更に厚く形成されると、それだけ効果がある。そして、配向膜の処理が両領域で異なるように調節される場合には液晶層の厚さの差は異なるようになる。
【００４６】
（実施例７）
図１８は本発明の第７の実施例の画素部を示す断面図である。透過領域で保護膜１７の一部を除いた大部分が除去されている。画素電極の構造を調べると、保護膜１７により分離されることなくソース電極１６と連結される透過膜画素電極１８がある。透過膜画素電極１８の上に保護膜１７が形成される。そして、ソース電極１６の上側の一部領域のコンタクト領域の保護膜１７の全厚さと透過領域の上側の保護膜１７の大部分の厚さが除去された状態でアルミニウムなどで反射膜導電層が全体的に積層される。次に、透過領域では反射膜導電層が除去されて透過膜画素電極１８と一部厚さの保護膜１７のみが残ってバックライトの光を大部分通過させるようになる。ソース電極１６の上側に積層された反射膜画素電極２０はソース電極１６とコンタクトを形成する。この例において、透過領域で透過膜画素電極１８と反射膜画素電極２０が保護膜１７の一部により分離されている。
【００４７】
（実施例８）
図１９は、図１８のような例の短所を補完する本発明の他の例である。図１８ではソース電極１６の上と透過領域の絶縁膜を除去するとき、ソース電極１６の上には全部を除去し、透過領域の上には一部を残さなければならないという難しさがあった。
【００４８】
したがって、ここではソース電極１６を形成し、保護膜１７を形成する前にソース電極１６と連結して透過膜画素電極１８をまず形成する。このとき、透過膜画素電極１８の上部に絶縁膜３９を形成して投光窓を形成するとき、透過領域で保護膜１７が全部除去されるときにも透過膜画素電極１８のすぐ上に形成された絶縁膜３９は除去されない。したがって、絶縁膜３９はアルミニウムからなる反射画素電極２０を形成する過程でアルミニウム層と透過膜画素電極１８のＩＴＯ膜が相互に接しないようにする。
【００４９】
（実施例９）
図２０を参照すれば、本実施例では透過膜画素電極１８のすぐ上に絶縁膜３９の代わりに透過膜画素電極１８と反射膜画素電極２０とをなすアルミニウム層間にバッファの役割をする金属層２８を使用する。透過膜画素電極１８をソース電極１６と連結して形成する過程を変形してソース／ドレイン電極を形成する過程で、同一の層に透過膜画素電極を形成することもできる。このとき、透過膜導電層のみを利用してソース／ドレイン電極を画素電極の透明電極層と一体に形成する場合、通常、これらと共に形成されるデータラインで導電率が低くなるという問題が生じる。したがって、この場合には透過膜導電層の上にクロムのような伝導用金属層を更に形成する複層のソース／ドレイン電極を形成するのが望ましい。勿論、本発明の特徴的な構造を形成するためには保護膜１７を形成するとき、透過領域の保護膜１７はパターニングを通じて除去し、アルミニウム含有金属層を積層してから透過領域で投光窓を形成するためにアルミニウム含有金属層を除去するときに連続して透過膜画素電極１８の上のクロムのような伝導用金属層も除去する。
【００５０】
保護膜１７としては比較的厚い有機絶縁膜を使用する。このような有機絶縁膜としてはエッチング工程を備えないようにフォトリソグラフィ工程のみでパターニング作業がなされる感光性ポリアミドなどの感光性透明有機絶縁膜を多く使用することが望ましい。
【００５１】
そして、反射透過複合形薄膜トランジスタの液晶表示装置で画素電極をなす反射電極層と透過電極層の積層順序は反射効率及び２つの電極層のエッチング率による製造工程上の便宜を考慮して透明電極層を下にまず形成し、反射電極層を上側に形成するのが望ましい。特に、本発明の場合、透過領域で液晶層の厚さが厚くなることが一般的なので、反射膜層と絶縁膜層の厚さを利用できるように反射電極を上側に形成するのが望ましい。
【００５２】
以上の実施例ではアモルファスシリコン形薄膜トランジスタ液晶表示装置に対して説明しているが、ポリシリコン形薄膜トランジスタ液晶表示装置に対しても同一の原理で本発明は適用されることができる。
【００５３】
【発明の効果】
上述したように本発明によれば、反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置で画素電極をなすアルミニウム含有反射金属層とインジウム金属酸化物系列の透明電極層界面で酸化膜が形成されて接触抵抗が高くなり、これにより反射金属層に液晶配列のための電位が正確に印加されない問題点を解決することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その１）。
【図２】第１実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その２）。
【図３】第１実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その３）。
【図４】第１実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その４）。
【図５】第１実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その５）。
【図６】第１実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その６）。
【図７】第１実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その７）。
【図８】第２実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その１）。
【図９】第２実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その２）。
【図１０】第３実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その１）。
【図１１】第３実施例による薄膜トランジスタ基板を形成する工程を示す画素部工程側断面図（その２）。
【図１２】第４実施例による薄膜トランジスタ基板画素部を示す画素部側断面図。
【図１３】図１２に示す本発明の第４実施例に対する平面図。
【図１４】本発明の第５実施例を示す断面図。
【図１５】本発明の第５実施例においての光の位相変化を概念的に示す断面図。
【図１６】本発明の第６実施例で下層基板の画素部及びパッド部平面を示す図。
【図１７】図１５による第６実施例の平面をＡ-Ａ’に沿って切断した下層基板の画素部断面図。
【図１８】本発明の第７実施例の画素部を示す断面図。
【図１９】本発明の第８実施例の画素部を示す断面図。
【図２０】本発明の第９の実施例を示す図。
【符号の説明】
１０ガラス基板
１１ゲート電極
１３ゲート絶縁体
１４オーミックコンタクト層
１５活性層
１６ソース電極
１８透過膜画素電極
１９分離絶縁体
２０反射膜電極
５１透過膜
６１クロム層

Claims

基板と、
前記基板上に少なくとも一つが形成されて画素を調節する薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタ上に形成され、前記薄膜トランジスタのソース領域にコンタクトホールを有する保護膜と、
前記コンタクトホールを有する保護膜上に形成され、前記コンタクトホールを通じて前記薄膜トランジスタのソースと直接に接触して連結されるITO層画素電極と、
前記保護膜上の前記ITO層画素電極上に形成されるとともに、前記コンタクトホールの一部において前記ソースが露出するように前記ITO層画素電極が除去されたホールを通じて、露出された前記ソースと直接に接触して連結され、アルミニウム含有金属からなる反射層画素電極と、
前記ITO層画素電極と前記反射層画素電極との間の分離絶縁膜と、
を備えており、
画素領域は前記ITO層画素電極のみ存在する透過領域と前記反射層画素電極が存在する反射領域とからなることを特徴とする反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置。
基板と、
前記基板上に少なくとも一つが形成されて画素を調節する薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタ上に形成され、前記薄膜トランジスタのソース領域に、第１コンタクトホール及び第２コンタクトホールを含む少なくとも２つのコンタクトホールを有する保護膜と、
前記コンタクトホールを有する保護膜上に形成され、前記第１コンタクトホールを通じて前記薄膜トランジスタのソースと直接に接触して連結されるITO層画素電極と、
前記保護膜上の前記ITO層画素電極上に形成されるとともに、前記第２コンタクトホールを通じて前記薄膜トランジスタのソースと直接に接触して連結される反射層画素電極と、
前記ITO層画素電極と前記反射層画素電極との間の分離絶縁膜と、
を備えており、
前記第２コンタクトホールで前記ITO層画素電極及び前記分離絶縁膜はホールを有し、前記ソースと前記反射層画素電極のコンタクトがなされるように構成され、画素領域は前記ITO層画素電極のみ存在する透過領域と前記反射層画素電極が存在する反射領域とからなることを特徴とする、反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置。
前記透過領域は前記反射領域の窓に形成される形態からなる、請求項１記載の反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置。
前記保護膜は、感光性透明絶縁膜で、前記保護膜の表面は少なくとも一部領域でエンボシング処理されてマイクロレンズを形成する、請求項１記載の反射透過複合形薄膜トランジスタ液晶表示装置。