JP2007183323A - 液晶表示装置及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】液晶表示装置の透過表示領域に光を効率良く集光し、透過型の表示を明るくする。
【解決手段】液晶層12を挟持する一対の基板7a及び8aと、一方の基板7aと液晶層12との間に設けられた樹脂膜23と、樹脂膜23と液晶層12との間に設けられた光反射膜24と、サブ画素D内において樹脂膜23内に設けられた凹部28と、凹部28の内部の中央部に設けられた集光レンズ29とを有する液晶表示装置である。凹部28の周面形状は基板7aと直交する方向に長軸を有する楕円体Qの周面形状と一致する。光反射膜24は凹部28の表面を覆って集光レンズ29に接触又は近接する位置まで延在する。集光レンズ29で屈折した光は凹部28内の光反射膜24で反射して、対向基板8側の着色膜41へ集光する。
【選択図】図2
【解決手段】液晶層12を挟持する一対の基板7a及び8aと、一方の基板7aと液晶層12との間に設けられた樹脂膜23と、樹脂膜23と液晶層12との間に設けられた光反射膜24と、サブ画素D内において樹脂膜23内に設けられた凹部28と、凹部28の内部の中央部に設けられた集光レンズ29とを有する液晶表示装置である。凹部28の周面形状は基板7aと直交する方向に長軸を有する楕円体Qの周面形状と一致する。光反射膜24は凹部28の表面を覆って集光レンズ29に接触又は近接する位置まで延在する。集光レンズ29で屈折した光は凹部28内の光反射膜24で反射して、対向基板8側の着色膜41へ集光する。
【選択図】図2
Description
本発明は、液晶を用いて光を制御する液晶表示装置に関する。また、本発明は、その液晶表示装置を用いて構成する電子機器に関する。
現在、携帯電話機、携帯情報端末機といった各種の電子機器では、例えば、当該電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するための表示部として、液晶表示装置が用いられている。この液晶表示装置として、例えば、透光性のガラス基板上にTFT(Thin-Film-Transistor)素子等といったスイッチング素子や信号線等といった導電パターンを形成し、その上に樹脂膜と光反射膜を形成した構造のものが知られている。このような構造の液晶表示装置として、例えば半透過反射型の液晶表示装置がある。半透過反射型液晶表示装置において、表示が行われるときのサブ画素内には、室内光等といった外部光を光反射膜によって反射しその反射光を表示に用いる反射表示領域と、照明装置等から供給される光を透過して表示に用いる透過表示領域とが設けられる。
上記のような構成の液晶表示装置として、従来、基板上に設けられた樹脂膜の膜厚を調節することにより、反射表示領域における液晶層の層厚を、透過表示領域における液晶層の層厚に比べて薄くした構造のものが知られている(例えば、特許文献1参照)。このように反射表示領域と透過表示領域とで液晶層の層厚を変えることにより、液晶表示装置の表示領域の全域において液晶のリタデーションを均一にしている。
ところで、特許文献1に開示された液晶表示装置において、照明装置からは面状の光が照明光として出射され、その照明光が液晶パネルの表示領域の全域に照射されることになる。この照明光は、透過表示領域内に入射して透過型表示に利用されるのであるが、その一部は透過表示領域以外の領域、例えば反射表示領域に照射されていた。このように反射表示領域に照射された照明光は液晶パネルを透過できないので、表示に利用できない光である。従って、特許文献1等に開示された従来の液晶表示装置においては、照明装置からの光の利用効率が低い傾向にあった。特に、透過型表示が暗い傾向にあった。
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、液晶表示装置の透過表示領域に光を効率良く集光し、透過型の表示を明るくすることを目的とする。
本発明に係る液晶表示装置は、液晶層を挟持する一対の基板と、前記液晶層と前記一対の基板のうちの一方の基板との間に設けられた樹脂膜と、該樹脂膜と前記液晶層との間に設けられた光反射膜と、サブ画素内において前記樹脂膜内に設けられた凹部と、該凹部の中央部に設けられた集光レンズとを有する液晶表示装置であり、前記凹部の周面形状は前記一方の基板と直交する方向に長軸を有する楕円体の周面形状と一致し、前記光反射膜は前記凹部の表面を覆って前記集光レンズに接触又は近接する位置まで延在することを特徴とする。
上記構成において、「楕円体」とは、楕円をその軸のまわりに1回転させて生じる立体のことである。「楕円」は二次曲線の一つであり、幾何学的には、平面上において2つの定点からの距離の和が一定である点の軌跡のことである。すなわち、図12に示すように、定点F0と点P0の間の距離をd0とし、定点F0’と点P0の間の距離をd0’としたとき、d0+d0’が一定である点P0の軌跡Eが楕円である。なお、定点F0及びF0’が楕円の2つの焦点である。本発明において、楕円体の周面形状とは、当該楕円体を形成する曲面である楕円面のことである。
また、上記構成の液晶表示装置では、サブ画素内の領域には、光反射膜が設けられた部分と光反射膜が設けられない部分とがある。光反射膜が設けられた領域では、例えば室内光等といった外部光を光反射膜によって反射して、その反射光を液晶表示装置の表示に利用する、すなわち反射型の表示が行われる。他方、光反射膜が設けられない領域(すなわち、凹部の内部の中央部)では、例えばバックライト等といった照明手段からの光が基板を透過して液晶層に供給されることによって、その透過光を液晶表示装置の表示に利用する、いわゆる透過型の表示が行われる。
本発明の液晶表示装置では、サブ画素内に設けられた凹部の周面形状を一方の基板と直交する方向に長軸を有する楕円体の周面形状と一致させ、さらに、集光レンズが設けられる凹部の内部の中央部を除いて前記凹部を光反射膜で覆うことにした。凹部を覆う光反射膜は、凹部の周面形状に従って楕円体の周面形状を呈している。照明手段等から出射して凹部の中央の所定領域を透過して凹部の内側の領域に入射した光は、集光レンズによって集光されることにより、楕円体の周面形状に形成された光反射膜で反射して所定領域へ向かって進行する。これにより、透過型の表示において明るい表示を行うことができる。
また、本発明の液晶表示装置では、サブ画素内の樹脂膜に設けた凹部のうち、光反射膜で覆われない中央の所定領域に対応して集光レンズを設けるようにした。この集光レンズは液晶層と反対側の基板の面から当該基板を透過する光を凹部の内側の領域内に集光できる。このように、光を凹部の内側の領域内に集光すれば、多くの光を表示のために利用できるので、透過型表示において光を効率良く利用できる。
次に、本発明に係る液晶表示装置において、前記集光レンズは前記楕円体の2つの焦点のうちの集光レンズに近い方の第1の焦点に光を集光することが望ましい。先に図12を用いて説明したように、楕円の性質はd0+d0’が一定である。仮に、楕円Eを樹脂膜のうちの透過表示領域を形成する部分の側面に設けられた光反射膜の形状としたとき、焦点F0から楕円E上の点P0に向けて出射した光L0は、光反射膜によって反射して他方の焦点F0’に集光することができる。
本発明態様では、集光レンズが楕円体の焦点へ向けて光を集光させるので、集光レンズによって焦点に集光された光のうち、透過表示領域を形成している樹脂膜の凹部の側面に設けられた光反射膜によって反射した光は楕円体の他方の焦点に集光できる。これにより、透過型表示を明るくすることができる。
本発明に係る液晶表示装置は、前記液晶層を挟んで前記一方の基板に対向する他の基板と、該他の基板上に設けられた着色膜とをさらに有することができ、その場合、前記着色膜は前記楕円体の第2の焦点の位置又はその近傍に配置されることが望ましい。透過表示領域を形成している樹脂膜の凹部の側面に設けられた光反射膜によって楕円体の第2の焦点、すなわち、着色膜に光を集光でき、明るいカラー表示を行うことができる。
本発明に係る液晶表示装置は、前記一方の基板を挟んで前記液晶層と反対側であって個々の前記サブ画素に対応する位置に配置された他の集光レンズを有することができ、その場合には、該他の集光レンズは前記集光レンズへ光を集光することを特徴とする。サブ画素の領域内において光反射膜で覆われない凹部の中央の所定領域に光を集光できるので、例えば照明手段等から供給される光を効率良く利用できる。
本発明に係る電子機器は、上記構成の液晶表示装置を有することを特徴とする。本発明に係る液晶表示装置においては、一方の基板と直交する方向に長軸を有する楕円体の周面形状と、サブ画素内に設けられた凹部の周面形状とを一致させ、さらに凹部の内部の中央部を除いて前記凹部を覆う形状に光反射膜を設けたので、照明手段等から凹部の中央の所定領域を透過して凹部の内側の領域に入射した光は、楕円体の周面形状に形成された光反射膜によって所定の範囲内に反射される。さらに、サブ画素内の樹脂膜に設けた凹部のうち、光反射膜で覆われない中心の所定領域に対応して集光レンズを設けたので、集光レンズは液晶層と反対側の基板面から当該基板を透過する光を凹部の内側領域内に集光でき、透過型表示において光を効率良く利用でき、液晶表示装置を用いた本発明に係る電子機器においても、光を効率良く利用して明るい透過型表示を行うことができる。
(電気光学装置の第1実施形態)
以下、本発明に係る液晶表示装置を実施形態に基づいて説明する。本実施形態では、チャネルエッチ型でシングルゲート構造のアモルファスシリコンTFT(Thin Film Transistor)素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を示している。なお、本発明がこの実施形態に限定されないことはもちろんである。また、以下の説明で用いる図面では、特徴部分を分かり易く示すために、複数の構成要素の寸法を実際とは異なった比率で示す場合がある。
以下、本発明に係る液晶表示装置を実施形態に基づいて説明する。本実施形態では、チャネルエッチ型でシングルゲート構造のアモルファスシリコンTFT(Thin Film Transistor)素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を示している。なお、本発明がこの実施形態に限定されないことはもちろんである。また、以下の説明で用いる図面では、特徴部分を分かり易く示すために、複数の構成要素の寸法を実際とは異なった比率で示す場合がある。
図1は、本発明に係る液晶表示装置の全体の側面断面構造を示し、図3のZ3−Z3線に従った断面図である。また、図2は、図1において矢印Z1で示す部分を拡大して示している。図3は、図1の矢印Aに従った平面構造を示し、図4は、図3のZ2−Z2線に従った断面図であり、主にTFT素子を示している。
図1において、液晶表示装置1は、電気光学パネルである液晶パネル2と、この液晶パネル2に付設された照明手段である照明装置3とを有する。この液晶表示装置1は矢印Aが描かれた側が観察側であり、照明装置3は液晶パネル2の観察側の反対側に配置され、バックライトとして機能する。
液晶パネル2は、矢印A方向から見て長方形又は正方形で環状のシール材6によって互いに貼り合わされた一対の基板7及び8を有する。基板7はスイッチング素子が形成された素子基板である。また、基板8はカラーフィルタが形成されるカラーフィルタ基板であり、観察側にカラーフィルタ基板8が配置され、観察側から見て背面に素子基板7が配置される。
シール材6は素子基板7とカラーフィルタ基板8との間に間隙、いわゆるセルギャップGを形成する。シール材6はその一部に液晶注入口(図示せず)を有し、液晶注入口を介して素子基板7とカラーフィルタ基板8との間に電気光学物質である液晶が注入される。注入された液晶はセルギャップG内で電気光学物質層として液晶層12を形成する。液晶注入口は液晶の注入が完了した後に樹脂によって封止される。液晶の注入方法としては、上記液晶注入口を通して行う方法以外に、液晶注入口を持たない連続する環状のシール材6によって囲まれる領域内に液晶滴を滴下によって供給する方法でも良い。
セルギャップGの間隔、従って液晶層12の層厚は、セルギャップG内に設けられる複数のスペーサ(図示せず)によって一定に維持される。このスペーサは、複数の球状の樹脂部材を素子基板7又はカラーフィルタ基板8の表面上にランダム(無秩序)に置くことによって形成できる。また、スペーサは、フォトリソグラフィ処理によって所定の位置に柱状に形成しても良い。
照明装置3は、LED(Light Emitting Diode)光源13と、導光体14とを有する。光源としては、LEDのような点状光源以外に、冷陰極管のような線状光源を用いることもできる。導光体14は、例えば、透光性を有する樹脂を材料の成形加工によって形成され、LED光源13に対向する側面が光入射面14aであり、液晶パネル2に対向する面が光出射面14bである。矢印Aで示す観察側から見て導光体14の背面には、必要に応じて、光反射層16が設けられ、導光体14の光出射面14bには、必要に応じて、光拡散層17が設けられる。
素子基板7は、第1の透光性基板7aを有する。この第1透光性基板7aは、例えば、透光性のガラスやプラスチック等によって形成される。第1透光性基板7aの外側表面には偏光板18aが、例えば、貼着によって装着される。必要に応じて、偏光板18a以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。他方、第1透光性基板7aの内側表面には、矢印Z1で示す部分の拡大図である図2にも示すように、ソース線19が列方向Y(すなわち、図2の左右方向)に延びている。また、ゲート線20が行方向X(図2の紙面垂直方向)に延びている。そして、スイッチング素子として機能するアクティブ素子であるTFT(Thin Film Transistor)素子21がソース線19及びゲート線20に接続して形成されている。
それらのTFT素子21、ソース線19及びゲート線20の上に、それらを覆う樹脂膜の保護膜22が形成され、その上に樹脂膜としての凹凸樹脂膜23光反射膜24、画素電極25、配向膜26aの順番に形成されている。この配向膜26aに配向処理、例えばラビング処理が施され、素子基板7の近傍における液晶分子の初期配向が決められる。
通常、保護膜22は、透光性と絶縁性を有する窒化膜(SiN)や二酸化ケイ素膜(SiO2)を用いて形成される。また、凹凸樹脂膜23は、例えば、透光性、感光性、及び絶縁性を有する樹脂、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等をフォトリソグラフィ処理によりパターニングすることで形成される。凹凸樹脂膜23の表面には、複数の凹部及び複数の凸部から成る凹凸パターンが設けられている。
光反射膜24は、例えば、Al(アルミニウム)、Al合金等の光反射性材料をフォトエッチング処理によりパターニングすることで形成される。画素電極25は、例えばITO等の金属酸化物をフォトエッチング処理によりパターニングすることで形成されて、配向膜26aは、例えばポリイミド等を印刷等を塗布することにより形成される。
光反射膜24及び画素電極25は、矢印A方向から平面的に見て素子基板7上に行方向X及び列方向Yに沿ってマトリクス状に複数形成される。これらの光反射膜24及び画素電極25は、図3に示すように、各ソース線19と各ゲート線20とが交差する位置の近傍に設けられていて、個々のTFT素子21に接続されている。
図2において、保護膜22及び凹凸樹脂膜23には、画素電極25とTFT素子21とを電気的に接続するための開口部としての貫通穴であるコンタクトホール27が形成されている。このコンタクトホール27は、矢印A方向から平面的に見てTFT素子21の素子本体部分に重ならない位置であって、画素電極25と重なる位置に形成される。
TFT素子21はアモルファスシリコンTFTであり、このTFT素子21は、図4に示すように、ゲート電極31、ゲート絶縁膜32、a−Si(アモルファスシリコン)によって形成された半導体膜33、N+−Si膜34a,34b、ソース電極35、そしてドレイン電極36を有する。本実施形態のTFT素子21は、ボトムゲート構造及びシングルゲート構造のチャネルエッチ型のTFT素子として構成されている。
TFT素子21から少し離れて補助容量37が設けられている。補助容量37は画素電極25に付随する容量が小さくなり過ぎることを防止するために設けられている。補助容量37は、ゲート電極31と同じ層内に同じ材料によって形成された第1電極31aと、ゲート絶縁膜32と同じ層内に同じ材料によって形成されていて第1電極31aを覆う絶縁膜32aと、ドレイン電極36と同じ層内に形成されていて絶縁膜32aを覆う第2電極36aとによって構成されている。図3に示すように、補助容量37の第1電極31aは、ゲート線20に平行で、ソース線19に交差して延びている。また、第2電極36aは面積の広い長方形状に形成されている。
図4において、ドレイン電極36は、その一端がN+−Si膜34bを介して半導体膜33に接続し、その他端が補助容量37の第2電極36aとなる所まで延びている。また、ドレイン電極36はコンタクトホール27を介して画素電極25に電気的に接続している。ソース電極35は、図3に示すように、ソース線19から分岐して形成されている。また、ゲート電極31は、ソース線19と直角の方向に延びるゲート線20から分岐して延びている。
画素電極25の下に保護膜22と凹凸樹脂膜23とから成る層間絶縁膜を設けることにより、画素電極25の層とTFT素子21の層は別々の層に分けられている。画素電極25とTFT素子21とを同じ層に形成する構造に比べて、素子基板7の表面を有効に活用できる。例えば、画素電極25の層とTFT素子21の層とを別層とすることにより、画素電極25の面積、すなわち画素面積をTFT素子21によって阻害されることなく大きくすることができ、そのため、液晶表示装置において鮮明な表示を行うことができる。
図1において、素子基板7に対向するカラーフィルタ基板8は、矢印A方向から見て長方形又は正方形の第2の透光性基板8aを有する。この第2透光性基板8aは、例えば、透光性のガラスやプラスチック等によって形成され、第2透光性基板8aの外側表面には偏光板18bが貼着され、偏光板18b以外の光学要素、例えば位相差板を付加的に設けることもできる。
図2に示すように、第2透光性基板8aの内側表面には、カラーフィルタを構成する着色膜41が形成され、その周囲に遮光膜42が形成され、着色膜41及び遮光膜42の上にオーバーコート膜43、共通電極44、配向膜26bが順番に形成されている。オーバーコート膜43は、カラーフィルタの保護膜として機能する。配向膜26bは、例えばポリイミド等を印刷等により塗布して形成される。
個々の着色膜41は矢印A方向から見て長方形又は正方形のドット状に形成されている。また、着色膜41は複数個が矢印A方向から見て行方向X及び列方向Yにマトリクス状に配列されている。遮光膜42はそれらの着色膜41を囲む格子状に形成されている。
着色膜41の個々はB(青)、G(緑)、R(赤)の1つを通過させる光学的特性に設定され、それらB,G,Rの着色膜41が矢印A方向から見て所定の配列、例えばストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列で並べられている。着色膜41の光学的特性はB,G,Rの3原色に限られず、C(シアン)、M(マゼンタ)、Y(イエロー)の3原色を通過させる特性とすることもできる。遮光膜42は、異なる色の着色膜41を重ねたり、あるいは、所定の材料(例えば、Cr)によって形成される。
図1において、共通電極44は、カラーフィルタ基板8の表面の全面に設けられている。一方、素子基板7上に設けられた複数の画素電極25は矢印A方向から平面的に見て行方向X及び列方向Yに沿ってマトリクス状に並んでいる。これらの画素電極25とカラーフィルタ基板8上に設けられた共通電極44とは、矢印A方向から平面的に見て複数のドット状の領域で重なっている。このように重なり合った領域が表示のための最小単位であるサブ画素Dが、複数の行方向X及び列方向Yにマトリクス状に並ぶことにより、矢印A方向から見て長方形状又は正方形状の表示領域Vが形成され、この表示領域V内に文字、数字、図形等が表示される。
図2に示すように、サブ画素D内の一部の領域には、保護膜22及び凹凸樹脂膜23を貫通する凹部28が設けられている。この凹部28の周面形状は、基板7aの表面と直交する方向(図2の上下方向)に長軸を有する楕円体Qの周面形状と一致している。凹部28は、当該凹部28の中央の領域Tを除いて光反射膜24に覆われ、光反射膜24に覆われていない領域T内で、基板7a上に集光レンズ29が設けられている。この集光レンズ29は球の一部分の形状を有している。
集光レンズ29は、例えば凹凸樹脂膜23を形成するときに同じ工程において同じ材料によって形成することができる。光反射膜24は凹部28の表面を覆って集光レンズ29に接触する位置まで延在している。なお、光反射膜24は集光レンズ29に近接する状態(わずかな間隙を持つ状態)であっても良い。これらの凹部28及び集光レンズ29に関しては後に詳しく説明する。
本実施形態のように、B,G,Rの3色から成る着色膜41を用いてカラー表示を行う場合は、B,G,Rの3色に対応する3つの着色膜41に対応する3つのサブ画素Dによって1つの画素が形成される。他方、白黒又は任意の2色でモノカラー表示を行う場合は、1つのサブ画素Dによって1つの画素が形成される。
光反射膜24は、フォトエッチング処理により形成され、サブ画素Dのうちの一部の領域Rに設けられ、残りの領域Tには設けられない。領域Tは、図3に示すように、サブ画素D内の一部の円形状の領域であり、領域Rはサブ画素D内の領域T以外の領域である。
個々のサブ画素Dの中で光反射膜24が存在する領域が反射表示領域Rであり、光反射膜24が存在しない領域が透過表示領域Tである。図2において、矢印Aで示す観察側から入射した外部光L0は反射表示領域Rにおいて光反射膜24で反射する。一方、図1の照明装置3の導光体14から出射した図2の光L1は、透過表示領域Tを透過する。
なお、透過表示領域Tにおいて集光レンズ29に入射した光L1の経路は2種類が考えられる。1つは、集光レンズ29で屈折して凹部28の周面の光反射膜24で反射した後に凹部28の外部へ進むものである。他の1つは、集光レンズ29で屈折して又は屈折せずに、且つ光反射膜24で反射することもなく凹部28の外部へ進むものである。光L1の進行経路を考えたとき、透過表示領域Tは必ずしも照明光L1が通過できる領域(集光レンズ29の底面径に相当する領域)に限られず、それよりもう少し広い領域となる。しかしながら、本明細書では、便宜上、照明光L1が素子基板7を通過できる領域Tを透過表示領域として考えるものとする。
凹凸樹脂膜23の表面であって個々のサブ画素D内の反射表示領域Rに対応する部分には複数の凹部及び複数の凸部が矢印A方向から見て平面的にランダムに形成されることにより、凹凸樹脂膜23の表面に凹凸パターンが形成される。光反射膜24は、凹凸パターンが形成さた凹凸樹脂膜23の上に一定の膜厚で形成され、それ自身も同じ凹凸パターンの形状を有している。光反射膜24に凹凸パターンを形成することにより、光反射膜24で反射する光L0を、鏡面反射ではなく、適度の散乱光や適切な指向性を持った光とすることができる。
保護膜22及び凹凸樹脂膜23は、反射表示領域Rに設けられており、透過表示領域Tには設けられていない。このため、反射表示領域R内の液晶層12の層厚t0は、透過表示領域T内の液晶層12の層厚t1よりも薄くなっている。望ましくはt0=(t1)/2になっている。液晶層12の層厚の調整は、反射表示領域R内で光L0が液晶層12を2回通過する反射型表示の場合と、透過表示領域T内で光L1が液晶層12を1回しか通過しない透過型表示の場合とで、光路長が不均一になることを補償する措置である。この層厚調整により、反射型表示と透過型表示との間で均一な色表示が可能となる。
次に、図1において、素子基板7を構成する第1透光性基板7aはカラーフィルタ基板8の外側へ張り出す張出し部45を有している。張出し部45の表面には、配線46がフォトエッチング処理等によって形成されている。配線46は矢印A方向から見て複数本形成されており、紙面垂直方向に沿って互いに等間隔で平行に並べられている。また、張出し部45の辺端には複数の外部接続用端子47が紙面垂直方向に沿って互いに等間隔で平行に並ぶように形成されている。外部接続用端子47が設けられた張出し部45の辺端には、FPC(Flexible Printed Circuit)基板(図示せず)が接続される。
複数の配線46は、シール材6に囲まれた領域内に向けて列方向Yに延びるように形成されている。配線46の一部は、素子基板7上のソース線19(図2参照)に直接に繋がってデータ線として機能する。また、配線46の他の一部は、シール材6によって囲まれた領域内において素子基板7の側辺に沿ってY方向に延びるように形成され、さらに折れ曲って行方向Xに延びるように形成されている。これらの曲がった状態の配線46は、素子基板7上のゲート線20(図2参照)に直接に繋がって走査線として機能する。
図1の張出し部45の表面には、ACF(Anisotropic Conductive Film:異方性導電膜)48を用いたCOG(Chip On Glass)技術によって、駆動用IC49が実装されている。駆動用IC49は、ソース線19へデータ信号を伝送し、ゲート線20へ走査信号を伝送する。駆動用IC49は1つのICチップで形成、あるいは必要に応じて複数のICチップで形成しても良い。駆動用IC49を複数のICチップによって構成する場合には、それらのICチップが張出し部45上で図1の紙面垂直方向に並べて実装される。
図1における上記構成の液晶表示装置1では、液晶表示装置1が明るい室外や明るい室内に置かれる場合は、太陽光や室内光等の外部光を用いて反射型の表示が行う一方で、液晶表示装置1が暗い室外や暗い室内に置かれる場合は、照明装置3をバックライトとして用いて透過型の表示が行われる。
図2において、上記反射型表示を行う場合、観察側の矢印A方向からカラーフィルタ基板8を通して液晶パネル2内へ入射した外部光L0は、液晶層12を通過して素子基板7内へ入った後、反射表示領域Rにおいて光反射膜24で反射して再び液晶層12へ供給される。他方、上記の透過型表示を行う場合、図1の照明装置3の光源13が点灯し、その光が導光体14の光入射面14aから導光体14へ導入され、さらに、光出射面14bから面状の光として出射する。この出射光は、図2の符号L1で示すように光反射膜24が存在しない領域を通って透過表示領域T内の液晶層12へ供給される。
以上のようにして液晶層12へ光が供給される間、素子基板7側の画素電極25とカラーフィルタ基板8側の共通電極44との間には、走査信号およびデータ信号によって特定される所定の電圧が印加され、これにより、液晶層12内の液晶分子の配向がサブ画素Dごとに制御され、この結果、液晶層12に供給された光がサブ画素Dごとに変調される。この変調された光が、カラーフィルタ基板8側の偏光板18b(図1参照)を通過するとき、その偏光板18bの偏光特性に従ってサブ画素Dごとに通過を規制され、素子基板7の表面に文字、数字、図形等が表示され、矢印A方向から視認される。
次に、透過型表示が行われる場合について考える。図5は透過表示領域Tを構成する凹部28、集光レンズ29、及びその周辺の構成を示している。凹部28の周面が楕円体Qの形状に一致することは既述の通りである。図では、説明の都合上、凹部28の表面を覆う光反射膜24の表面形状として楕円体Qが描かれている。実際の使用上では、凹部28の楕円体と光反射膜24の楕円体は同じものと考えて差し支えないと考えられる。楕円体Qは、周知の通り、その長軸上に2つの焦点を有している。図では、集光レンズ29に近い側の第1の焦点を符号F1で示し、遠い側の第2の焦点を符号F2で示している。
また、周知の通り、球の一部分の形状を有する集光レンズ29は、光入射面へ入射した光L1を所定の集光点へ集光する機能を持っている。集光レンズ29の集光点を楕円体Qの第1焦点F1に一致させている。楕円体Qの第2焦点F2が対向基板であるカラーフィルタ基板8上の着色膜41の表面上又はその近傍に位置するように楕円体Qの形状を規定している。
凹部28及び楕円体Qに関する構成により、図1の照明装置3の光出射面14bから出た光L1が図5に示した集光レンズ29へ入射すると、光L1は集光レンズ29で屈折してそのレンズの集光点である楕円体Qの第1焦点F1へ集光する。この集光した光は楕円体Qの性質により凹部28上の光反射膜24で反射した後に第2焦点F2へ集光する。第2焦点F2は着色膜41の表面又はその近傍に位置設定されているので、着色膜41は光量の大きい光で照明される。この結果、カラーフィルタ基板8の外部に明るい色光を出射でき、透過型表示を明るく表示することができる。
(凹部28の形成手法)
本実施形態における透過表示領域Tに凹部28を設けて透過型表示を明るくする効果を得る凹部28の形成方法について説明する。
本実施形態における透過表示領域Tに凹部28を設けて透過型表示を明るくする効果を得る凹部28の形成方法について説明する。
凹部28は、例えば、凹凸樹脂膜23をフォトリソグラフィ処理によって形成する。具体的には、露光マスクとしてハーフトーンマスクを用い、そのハーフトーンマスクの光透過率に変化を持たせることにより、凹部の周面に楕円体形状を形成する。なお、ハーフトーンマスクは、光を減衰させて透過させるハーフトーン材料をガラス基板上に適宜のパターンで形成した露光マスクである。一般的には、多階調の露光マスクを作製するためにこのハーフトーンマスクが広く用いられる。ハーフトーン材料(光を減衰して透過させる材料)としては、例えば、モリブデンシリサイド(MoSi又はMoSi2)を用いる。
(I)まず、図6(a)に示すような楕円曲面について考える。図6(b)はその楕円曲面の平面透視図である。また、図6(c)はその楕円曲面の垂直透視図である。図6(a)に示す楕円曲面を数式で表すと、
(x2/a2)+(y2/b2)+(z2/c2)=1
である。
(x2/a2)+(y2/b2)+(z2/c2)=1
である。
本発明について考える場合は、原点を通りxy平面の射影が円である系を選ぶのが、楕円ミラーの系に最も近いといえる。この系は、
(x2/a2)+(y2/a2)+{(z−b)2/b2}=1 …(1)
となる。(1)式より、
(z−b)/b=±√{1−(x2+y2)/a2}
であり、さらに、z<bより、
z=b[1−√{1−(x2+y2)/a2}]
である。
(x2/a2)+(y2/a2)+{(z−b)2/b2}=1 …(1)
となる。(1)式より、
(z−b)/b=±√{1−(x2+y2)/a2}
であり、さらに、z<bより、
z=b[1−√{1−(x2+y2)/a2}]
である。
今、図6(d)のようなミラーの断面を考える。y=0より、
z=b{1−√(1−x2/a2)} …(2)
となる。
z=b{1−√(1−x2/a2)} …(2)
となる。
(II)次に、マスクの透過率と感光性樹脂(いわゆる、レジスト)の掘れ量との関係を考える。「掘れ量」は逆に見れば「残膜量」と考えることもできる。
一定の露光量の条件下、透過率Tと残膜量Lは図7(b)に示すように一次の関係にある。図7(b)においてL0の膜厚の残膜量が0(ゼロ)になる最少の透過率をT0とし、図7(a)においてL0の膜厚の残膜量がLであるとすれば、
L=L0{1−(T/T0)} …(3)
である。但し、L0及びT0はマスクに固有の量である。
一定の露光量の条件下、透過率Tと残膜量Lは図7(b)に示すように一次の関係にある。図7(b)においてL0の膜厚の残膜量が0(ゼロ)になる最少の透過率をT0とし、図7(a)においてL0の膜厚の残膜量がLであるとすれば、
L=L0{1−(T/T0)} …(3)
である。但し、L0及びT0はマスクに固有の量である。
(III)上記の(2)式と(3)式より、楕円ミラーを形成するためには、
Z0{1−(T/T0)}=b[1−√{1−(x2/a2)}] …(4)
の関係を満たしていれば良いことが分かる。
なお、この際、離心率eは
e={√(b2−a2)}/b
であり、焦点fは
f=be=√(b2−a2)
となる。また、原点から焦点fまでの距離は、
b−√(b2−a2)
となる。
Z0{1−(T/T0)}=b[1−√{1−(x2/a2)}] …(4)
の関係を満たしていれば良いことが分かる。
なお、この際、離心率eは
e={√(b2−a2)}/b
であり、焦点fは
f=be=√(b2−a2)
となる。また、原点から焦点fまでの距離は、
b−√(b2−a2)
となる。
(IV)以上のように、上記(3)式において、原点からの距離xと、その点に要求される透過率Tが求められれば、ハーフトーンマスクを用いた露光マスクを描画露光によって作製する際に、その(x、T)に基づいてハーフトーン材料の透過率を制御すれば、樹脂膜に楕円体の凹部を形成できる露光マスクを作製することができる。
(電気光学装置の第2実施形態)
次に、本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態を説明する。図8は、本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態を示す。本実施形態が第1実施形態と異なる点は次の点である。第1実施形態では、図1に示すように、個々のサブ画素D内の基板7a上であって、凹部28の内側の領域(透過表示領域)Tに集光レンズ(以下、第1集光レンズという)29を設けているが、本実施形態では、図8に示すように、基板7a上の第1集光レンズ29に加えて、基板7aと照明装置3との間に第2の集光レンズ59を設けている。以下、図8の液晶表示装置51を、図1の液晶表示装置1と異なる点を中心に説明する。
次に、本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態を説明する。図8は、本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態を示す。本実施形態が第1実施形態と異なる点は次の点である。第1実施形態では、図1に示すように、個々のサブ画素D内の基板7a上であって、凹部28の内側の領域(透過表示領域)Tに集光レンズ(以下、第1集光レンズという)29を設けているが、本実施形態では、図8に示すように、基板7a上の第1集光レンズ29に加えて、基板7aと照明装置3との間に第2の集光レンズ59を設けている。以下、図8の液晶表示装置51を、図1の液晶表示装置1と異なる点を中心に説明する。
図8は、本発明に係る液晶表示装置の全体の側面断面構造を示している。また、図9は、図8において矢印Z4で示す部分、すなわち凹部28の部分を拡大して示している。図8の液晶表示装置51において、液晶パネル2は任意に構成できるが、本実施形態では図1に示す液晶パネル2と同じ構成とする。また、図8における照明装置3も任意に構成できるが、本実施形態では図1に示す照明装置3と同じ構成とする。なお、図8及び図9に示す要素と図1及び図5に示す要素とが同じものである場合はそれらを同じ符号によって示し、各要素の詳しい説明は省略する。
図8において、素子基板7の外側の表面(偏光板18aの表面)には、複数の第2の集光レンズ59が設けられている。第2集光レンズ59は、個々のサブ画素Dに対して1つずつ設けられている。この第2集光レンズ59は、球の一部分の形状又は半円筒形状(かまぼこ形状)に形成されている。
図9に示すように、第2集光レンズ59は第1集光レンズ29と同様に、光入射面へ入射した光L1を所定の集光点へ集光する機能を持っている。本実施形態では、第2集光レンズ59の集光点を、第1集光レンズ29の場合と同様に楕円体Qの第1焦点F1に一致させている。
図1に示した第1実施形態においては、照明装置3の光出射面14bから出た出射光は略平行に進むので、集光レンズ29に入射する光はその集光レンズ29に対応した位置の光出射面14bから出射した光に限られるが、本実施形態では、液晶パネル2と照明装置3との間の個々のサブ画素Dに対応し、個々の第1集光レンズ29に対応して第2集光レンズ59を設けることにより、照明装置3から出射する光を広い領域から集めて第1集光レンズ29へ供給することができ、透過型表示をより一層明るい表示にできる。
(電気光学装置に関するその他の実施形態)
以上、実施形態を挙げて本発明に係る電気光学装置を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
以上、実施形態を挙げて本発明に係る電気光学装置を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
例えば、上記の各実施形態では、基板7a上に設けた集光レンズ29は、透光性の樹脂を用いて形成しているが、集光レンズ29は、樹脂以外の材料を用いて形成することもできる。例えば、集光レンズ29はガラスを用いて形成することができ、この場合には、基板7aの表面に、当該基板7aと一体に形成することができる。
また、上記の実施形態は、チャネルエッチ型でシングルゲート構造のアモルファスシリコンTFT素子をスイッチング素子として用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に本発明を適用したものであるが、本発明はチャネルエッチ型以外のアモルファスシリコンTFT素子を用いる液晶表示装置にも適用できる。また、本発明は、アモルファスシリコンTFT素子以外のTFT素子、例えば高温ポリシリコンTFT素子や、低温ポリシリコンTFT素子等をスイッチング素子として用いるアクティブマトリクス方式の液晶表示装置にも適用できる。
また、本発明は、シングルゲート構造以外のTFT素子、例えばダブルゲート構造又はマルチゲート構造のTFT素子を用いる液晶表示装置にも適用できる。また、上記実施形態は3端子型スイッチング素子であるTFT素子を用いる電気光学装置に本発明を適用したものであるが、本発明は、TFD(Thin Film Diode)素子等といった2端子型スイッチング素子を用いる電気光学装置にも適用できる。
(電子機器の第1実施形態)
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
図10は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示す。ここに示す電子機器は、液晶表示装置101と、これを制御する制御回路102とを有する。制御回路102は、表示情報出力源105、表示情報処理回路106、電源回路107及びタイミングジェネレータ108によって構成され、液晶表示装置101は液晶パネル103及び駆動回路104を有する。
表示情報出力源105は、RAM(Random Access Memory)等のメモリや、各種ディスク等のストレージユニット、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ108により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の表示情報を表示情報処理回路106に供給する。
次に、表示情報処理回路106は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号CLKと共に駆動回路104へ供給する。ここで、駆動回路104は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路107は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。
液晶表示装置101は、例えば、図1に示した液晶表示装置1又は図8に示した液晶表示装置51を用いて構成する。これらの液晶表示装置を用いれば、集光レンズとそれを取り囲む凹部内光反射膜との協働作用により、明るい透過型表示となるので、液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、明るい透過型表示を行うことができ、電子機器に関する情報を鮮明に表示できる。
(電子機器の第2実施形態)
図11は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機110は、本体部111と、これに開閉可能に設けられた表示体部112とを有する。液晶表示装置等の電気光学装置によって構成された表示装置113は、表示体部112の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部112において表示画面114によって視認できる。本体部111には操作ボタン115が配列されている。
図11は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここに示す携帯電話機110は、本体部111と、これに開閉可能に設けられた表示体部112とを有する。液晶表示装置等の電気光学装置によって構成された表示装置113は、表示体部112の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部112において表示画面114によって視認できる。本体部111には操作ボタン115が配列されている。
表示体部112の一端部には伸縮自在のアンテナ116が取付けられている。表示体部112の上部に設けられた受話部117の内部には、スピーカ(図示なし)が配置される。また、本体部111の下端部に設けられた送話部118の内部にはマイク(図示なし)が内蔵されている。表示装置113の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又は制御部とは別に、本体部111又は表示体部112の内部に格納される。
表示装置113は、例えば、図1に示した液晶表示装置1又は図8に示した液晶表示装置51を用いて構成できる。この液晶表示装置を用いることにより、集光レンズとそれを取り囲む凹部内光反射膜との協働作用で、明るい透過型表示を行うことができる。液晶表示装置を用いた本実施形態の電子機器においても、明るい透過型表示を行うことができ、電子機器に関する情報を鮮明に表示できる。
なお、電子機器として、以上に説明した携帯電話機等の他に、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末器等が挙げられる。
1,51.液晶表示装置、 2.液晶パネル、 3.照明装置、 6.シール材、
7.素子基板、 7a.第1透光性基板、 8.カラーフィルタ基板、
8a.第2透光性基板、 12.液晶層、 13.LED、 14.導光体、
16.光反射層、 17.光拡散層、 18a,18b.偏光板、 19.ソース線、
20.ゲート線、 21.TFT素子、 22.保護膜、
23.凹凸樹脂膜(樹脂膜)、 24.光反射膜、 25.画素電極、
26a,26b.配向膜、 27.コンタクトホール、 28.凹部、
29.集光レンズ、 31.ゲート電極、 32.ゲート絶縁膜、 33.半導体層、
34a,34b.N+−Si膜、 35.ソース電極、 36.ドレイン電極、
37.補助容量、 41.着色膜、 42.遮光膜、 43.オーバーコート膜、
44.共通電極、 45.張出し部、 46.配線、 47.外部接続用端子、
48.ACF、 49.駆動用IC、 51.液晶表示装置、 59.第2集光レンズ、
101.液晶表示装置(電気光学装置)、 102.制御回路、
103.液晶パネル(電気光学パネル)、 104.駆動回路、
110.携帯電話機(電子機器)、 D.サブ画素、 G.セルギャップ、
L0,L1.光、 R.反射表示領域、 T.透過表示領域、 t0,t1.層厚、
V.表示領域
7.素子基板、 7a.第1透光性基板、 8.カラーフィルタ基板、
8a.第2透光性基板、 12.液晶層、 13.LED、 14.導光体、
16.光反射層、 17.光拡散層、 18a,18b.偏光板、 19.ソース線、
20.ゲート線、 21.TFT素子、 22.保護膜、
23.凹凸樹脂膜(樹脂膜)、 24.光反射膜、 25.画素電極、
26a,26b.配向膜、 27.コンタクトホール、 28.凹部、
29.集光レンズ、 31.ゲート電極、 32.ゲート絶縁膜、 33.半導体層、
34a,34b.N+−Si膜、 35.ソース電極、 36.ドレイン電極、
37.補助容量、 41.着色膜、 42.遮光膜、 43.オーバーコート膜、
44.共通電極、 45.張出し部、 46.配線、 47.外部接続用端子、
48.ACF、 49.駆動用IC、 51.液晶表示装置、 59.第2集光レンズ、
101.液晶表示装置(電気光学装置)、 102.制御回路、
103.液晶パネル(電気光学パネル)、 104.駆動回路、
110.携帯電話機(電子機器)、 D.サブ画素、 G.セルギャップ、
L0,L1.光、 R.反射表示領域、 T.透過表示領域、 t0,t1.層厚、
V.表示領域
Claims (7)
- 液晶層を挟持する一対の基板と、前記液晶層と前記一対の基板のうちの基板の一方の基板との間に設けられた樹脂膜と、該樹脂膜と前記液晶層との間に設けられた光反射膜と、サブ画素内において前記樹脂膜内に設けられた凹部と、該凹部の内部の中央部に設けられた集光レンズとを有する液晶表示装置であり、
前記凹部の周面形状は前記一方の基板と直交する方向に長軸を有する楕円体の周面形状と一致し、前記光反射膜は前記凹部の表面を覆って前記集光レンズに接触又は近接する位置まで延在することを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1記載の液晶表示装置において、前記一方の基板を挟んで前記液晶層の反対側に設けられた照明手段を有し、
前記集光レンズは前記照明手段から出射して前記一方の基板を通過した光を集光することを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1又は請求項2記載の液晶表示装置において、前記サブ画素内に設けられた反射表示領域及び透過表示領域を有し、前記光反射膜で反射した光によって前記反射表示領域が規定され、前記集光レンズを通過した後に前記凹部を覆う前記光反射膜で反射した光、及び前記集光レンズを通過した後に前記凹部を覆う前記光反射膜で反射することなく前記凹部を通過した光の両方の光によって透過表示領域が規定されることを特徴とする液晶表示装置。
- 請求項1から請求項3のいずれか1つに記載の液晶表示装置において、前記集光レンズは、前記楕円体の2つの焦点のうちの前記集光レンズに近い方の第1の焦点に光を集光することを特徴とする液晶表示装置。
- 請求項1から請求項4のいずれか1つに記載の液晶表示装置において、前記液晶層を挟んで前記一方の基板に対向する他の基板と、該他の基板上に設けられた着色膜とを有する液晶表示装置において、
前記着色膜は前記楕円体の第2の焦点の位置又はその近傍に配置されることを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項1から請求項5のいずれか1つに記載の液晶表示装置において、前記基板を挟んで前記液晶層と反対側であって個々の前記サブ画素に対応する位置に配置された他の集光レンズを有し、該他の集光レンズは前記集光レンズへ光を集光することを特徴とする液晶表示装置。
- 請求項1から請求項6のいずれか1つに記載の液晶表示装置を有することを特徴とする電子機器。
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-
2006
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