JP2010514765A - シラン化コアポリスルフィド、その製造および充填剤配合エラストマー組成物における使用 - Google Patents

Abstract

本発明は、新規の硫黄含有シランカップリング剤、および炭素−炭素二重結合を有した有機ポリマーに関する。これら新規のシランは有機および無機充填剤に含まれ得る。本発明はまた、ここに記載のエラストマー組成物から製造される製造品、特にタイヤに関する。
【選択図】
なし

Description

本出願は、３５Ｕ．Ｓ．Ｃ．１０３条（Ｃ）に該当する、共同研究契約に従って開発された発明を対象とする。補正されたように、コンチネンタルＡＧと、現在ではモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社である、ＧＥアドバンスドマテリアルズのシリコーン部門の代表としてのゼネラル・エレクトリック社との間の共同契約は、２００１年５月７日付である。

関連出願への相互参照
本出願は、本出願と同日付で出願された、以下の出願と関連しており、それぞれの出願の開示は参照によりその全文をここに組み入れる。

本出願と同日付で出願された、「シラン化環状コアポリスルフィドを含有する、タイヤ組成物および成分」というタイトルの米国特許出願シリアル番号１１／６１７，６８３。

本出願と同日付で出願された、「自由流動性充填剤組成物を含有する、タイヤ組成物および成分」というタイトルの米国特許出願シリアル番号１１／６１７，６４９。

本出願と同日付で出願された、「自由流動性充填剤組成物を含有する、タイヤ組成物および成分」というタイトルの米国特許出願シリアル番号１１／６１７，６７８。

本出願と同日付で出願された、「シラン化コアポリスルフィドを含有する、タイヤ組成物および成分」というタイトルの米国特許出願シリアル番号１１／６１７，６６３。

本出願と同日付で出願された、「ブロック化メルカプトシランカップリング剤を含有する、タイヤ組成物および成分」というタイトルの米国特許出願シリアル番号１１／６１７，６５９。

本出願と同日付で出願された、「シラン化環状コアポリスルフィド、その製造および充填剤配合エラストマー組成物における使用」というタイトルの米国特許出願シリアル番号１１／６４７，９０１。

本出願と同日付で出願された、「自由流動性充填剤組成物およびそれを含有するラバー組成物」というタイトルの米国特許出願シリアル番号１１／６４８，４６０。

本出願と同日付で出願された、「自由流動性充填剤組成物およびそれを含有するラバー組成物」というタイトルの米国特許出願シリアル番号１１／６４７，９０３。

本出願と同日付で出願された、「ブロック化メルカプトシランカップリング剤、製造プロセス、およびラバーにおける使用」というタイトルの米国特許出願シリアル番号１１／６４７，７８０。

本発明は、シラン化コアポリスルフィド組成物、その製造方法、およびそれを含有するラバー組成物に関する。

無機充填剤配合エラストマーのための硫黄含有カップリング剤は、硫黄原子の鎖のそれぞれの端に二つのアルコキシシリルアルキル基が結合するシランを含有する。二つのアルコキシシリル基は、硫黄分子の鎖に、二つの似た、多くの場合、同一の炭化水素フラグメントによって結合する。以下、「単純ビスポリスルフィドシラン」と述べられる、一般的なシラン構造は、通常、三つのメチレン基の鎖を二つの仲介する炭化水素単位として有している。ある場合では、メチレン鎖は短く、鎖当たり、一つもしくは二つのメチレンのみ有している。これらの化合物の使用は、主として、無機充填剤配合エラストマーのカップリング剤としてである。これらのカップリング剤は、ラバーの用途に用いられるとき、シリカもしくは他の無機充填剤をポリマーと化学結合させることによって機能する。カップリングは、シランの硫黄とポリマーとの間の化学結合形成によって、および、アルコキシシリル基の加水分解と後に続くシリカのヒドロキシ基との縮合によって達成される。シランの硫黄とポリマーとの反応は、Ｓ−Ｓ結合が破壊され、生じたフラグメントがポリマーに付加する時に起こる。ポリマーへの単一結合は、シリカに結合したそれぞれのシリル基に起こる。この結合は単一の、ポリマーとシリカとの間に弱い結合を形成する、比較的弱いＣ−Ｓ結合および／もしくはＳ−Ｓ結合を有する。高い負荷において、この単一のＣ−Ｓ結合および／もしくはＳ−Ｓ結合は壊れ、その結果、充填剤配合エラストマーの磨耗に寄与する。

ラバー作成におけるポリスルフィドシランカップリング剤の使用は良く知られている。それらシランは、それらのそれぞれが二置換された炭化水素基に結合する二つのケイ素原子と、少なくとも一つは加水分解によってケイ素から除去されうる他の三つの基を有する。それぞれシリル基と結合している二つのそのような炭化水素基は、少なくとも二つの硫黄元素の鎖のそれぞれの端とさらに結合している。これらの構造はこのように、二つのケイ素原子と、硫黄原子の連続した単一の可変長の鎖とを有している。

硫黄−硫黄結合によって分子中のケイ素から隔てられた中心の分子コアを特徴とする、炭化水素コアポリスルフィドシランは当分野に良く知られている。単一の硫黄およびポリスルフィド基によって、ケイ素分子から隔てられているアミノアルキル基であるコアを有し、ポリスルフィド基が第２級炭素原子においてコアと結合している、ポリスルフィドシランはまた、当分野に知られている。二つのポリスルフィド基のみがコアに連結したコアフラグメントもまたしかりである。

ポリスルフィド基が芳香族コアに直接に連結するとき、ポリマー（ラバー）との反応性は減ぜられる。芳香族コアは、反応を阻害するように立体的にかさ高い。その中でビニルシクロヘキセンから誘導された環状脂肪族フラグメントに、ポリスルフィドが直接的に連結する組成物は、一つ以上のシラン化コアを有し、大きい環を形成する。シクロヘキシルコアは芳香族コアよりも、立体的により妨害され、そしてより反応性が低い。これらの組成物は、カップリング剤のシリカに対するシリル基を介してのそれぞれの連結に対して、一つ以上の硫黄結合をポリマーラバーに対して形成するが、その低い反応性のためその効率は低い。

低い反応性は、環状コア構造の第２級炭素に対するポリスルフィドの連結のためである。ポリスルフィド基の位置は、促進剤との反応およびポリマーとの反応のためには最適ではない。

本発明は、先に述べたシランカップリング剤を有した組成物の欠点を、いくつかの方法で克服する。ここに記載された本発明のシランは、二つのシリル基にも硫黄原子の一つの鎖にも限定されない。実際、複数のポリスルフィド鎖が、同一線上でない配置で並んでいる（すなわち、分岐点が、ポリスルフィド鎖を相互に連結している炭素骨格中に起こるという意味で、分岐している）分子構造は新規である。

本発明のシランは、ケイ素の充填剤に連結する点当たり、複数の硫黄のポリマーに対して連結する点を達成するための手段を提供することによって、従来技術におけるものを超えた利点を有する。ここに記載されるシランは、硫黄鎖の二つの端の基に関して非対象であり得る。シリル基は、分子の端に生じるよりむしろ、より中心において生じ、炭素−炭素もしくは炭素−ケイ素結合を介してコアと化学結合される傾向にある。コアはまた、第１級炭素原子に連結した複数のポリスルフィド基を有する。この連結は、有意にコアの立体障害を減らし、ポリスルフィドのポリマーとの反応性を高める。この特徴が、本発明のシランを用いて、シランのケイ素をポリマーに対して複数の点で（共有化学結合の連続の仲介を介して）結合させそして結合させたままにするものである。

また、理論に縛られず、本発明のシラン化コアのシランはＹコア構造を含む。このＹコア構造は、ポリマーを二つの異なった点で結合させることが出来るか、もしくは二つの異なったポリマー鎖を架橋させることが出来、そしてまた、充填剤へと結合によるもののように連結させると信じられている。

ここに示された例は、本発明のシランが、これらエラストマーから製造された製品に対して、物理特性（無機充填剤配合エラストマー組成物に対する性能）とより良い磨耗特性との望ましいバランスを授けることを明示する。タイヤの用途に用いられるエラストマーに対する、転がり抵抗における改善もまた明らかである。

本発明の最初の実施態様において、
一般式（１）：
［Ｙ^１Ｒ^１Ｓ_ｘ−］_ｍ［Ｇ^１（Ｒ^２ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）_ａ］_ｎ［Ｇ^２］_ｏ［Ｒ^３Ｙ^２］_ｐ （１）
の新規のシラン化コアポリスルフィドが提供され、
ここでＧ^１の各々は、式（２）によって表されるポリスルフィド基を含む、１から約３０の炭素原子を持つ多価の炭化水素種から独立して選択され、
［（ＣＨ_２）_ｂ−］_ｃＲ^４［−（ＣＨ_２）_ｄＳ_ｘ−］_ｅ； （２）
Ｇ^２の各々は、式（３）によって表されるポリスルフィド基を含む、１から約３０の炭素原子の多価の炭化水素種から独立して選択され、
［（ＣＨ_２）_ｂ−］_ｃＲ^５［−（ＣＨ_２）_ｄＳ_ｘ−］_ｅ； （３）
Ｒ^１およびＲ^３の各々は、一つの水素原子がＹ^１もしくはＹ^２基で置換された分岐のおよび直鎖の、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、もしくはアラルキル基を含む、１から約２０の炭素原子を有した二価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；
Ｙ^１およびＹ^２の各々は、シリル（−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）、カルボン酸（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ）、エステル（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^６）〔ここで、Ｒ^６が、分岐のもしくは直鎖の、アルキル、アルケニル、アリールもしくはアラルキル基を含む、１から２０の炭素原子を有した任意の一価の炭化水素基である〕、水素などから独立して選択されるが、それらに限定はされず；
Ｒ^２の各々は、−（ＣＨ_２）_ｆ−で表される直鎖炭化水素であり；
Ｒ^４の各々は、ａ＋ｃ＋ｅ−１個の水素が置き換えられた環状の、分岐の、および直鎖のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、およびアラルキル基を含む、ａ＋ｃ＋ｅの合計に等しい水素原子の置換によって得られる１から約２８の炭素原子の多価の炭化水素フラグメント、または、１から２７の炭素原子の多価のヘテロカーボン（ｈｅｔｅｒｏｃａｒｂｏｎ）フラグメントから独立して選択され；
Ｒ^５の各々は、ｃ＋ｅ−１個の水素が置き換えられた環状の、分岐の、および直鎖のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、およびアラルキル基を含む、ｃ＋ｅの合計に等しい水素原子の置換によって得られる１から約２８の炭素原子の、多価の炭化水素フラグメント、または、１から２７の炭素原子の多価のヘテロカーボンフラグメントから独立して選択され；
Ｘ^１の各々は、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＨ、−ＯＲ^６、およびＲ^６Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる加水分解性の基から独立して選択され、ここでＲ^６は、分岐のもしくは直鎖の、アルキル、アルケニル、アリール、もしくはアラルキル基を含む、１から２０の炭素原子を持つ任意の一価の炭化水素基であり；
Ｘ^２およびＸ^３の各々は、水素、Ｒ^６のために上に列挙された要素、Ｘ^１のために上に列挙された要素、および、シラノールの縮合によって生じる−ＯＳｉ含有基からなる群から独立して選択され；
下付き文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、およびｘは、ａは１から約３；ｂは１から約５；ｃは１から約３；ｄは１から約５；ｅは１から約３；ｆは０から約５；ｍは１から約１００；ｎが１から約１５；ｏが０から約１０；ｐが１から約１００；ならびにｘが１から約１０、によって独立して与えられる。

本発明の第二の実施態様において、ビニル基を有する炭化水素もしくはヘテロカーボンとＨＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３とを反応させることを含有し、生じたシラン化炭化水素もしくはシラン化ヘテロカーボンがチオ酸と反応させられ、アシル基が取り除かれ、そして、メルカプト基が塩基と硫黄と反応させられ、そしてハロ含有炭化水素シランの反応が後に続く、シラン化コアポリスルフィド組成物作成のためのプロセスが開示される。

本発明の第三の実施態様によると、ラバー組成物は、（ａ）ラバー成分；（ｂ）無機充填剤；および一般式：
［Ｙ^１Ｒ^１Ｓ_ｘ−］_ｍ［Ｇ^１（Ｒ^２ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）_ａ］_ｎ［Ｇ^２］_ｏ［Ｒ^３Ｙ^２］_ｐ
を有するシラン化コアポリスルフィド組成物とを含有して提供され、ここでＹ^１、Ｒ^１、Ｓ、Ｇ^１、Ｒ^２、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３、Ｇ^２、Ｒ^３、Ｙ^２、ａ、ｏ、ｐ、ｘ、ｍ、およびｎは前述の意味を有する。

本発明の組成物は、充填剤のすぐれた分散を示し、すぐれた加工性と加硫における改善された生産性とを達成することが出来る。

図１は実施例１の産物のＨＰＬＣ分析を示す。

本発明の、新規のシラン化コアポリスルフィドは式（１）：
［Ｙ^１Ｒ^１Ｓ_ｘ−］_ｍ［Ｇ^１（Ｒ^２ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）_ａ］_ｎ［Ｇ^２］_ｏ［Ｒ^３Ｙ^２］_ｐ （式１）
で表され、
式中、Ｇ^１の各々は、式（２）で表されるポリスルフィド基を含む、１から約３０の炭素原子を持つ多価の炭化水素種から独立して選択され、
［（ＣＨ_２）_ｂ−］_ｃＲ^４［−（ＣＨ_２）_ｄＳ_ｘ−］_ｅ； （式２）
Ｇ^２の各々は、式（３）で表されるポリスルフィド基を含む、１から約３０の炭素原子の多価の炭化水素種から独立して選択され、
［（ＣＨ_２）_ｂ−］_ｃＲ^５［−（ＣＨ_２）_ｄＳ_ｘ−］_ｅ； （式３）
Ｒ^１およびＲ^３の各々は、一つの水素原子がＹ^１もしくはＹ^２基で置換された分岐のおよび直鎖の、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、もしくはアラルキル基を含む、１から約２０の炭素原子を持つ二価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；
Ｙ^１およびＹ^２の各々は、シリル（−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）、カルボン酸（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ）、エステル（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^６）〔ここで、Ｒ^６が、分岐のもしくは直鎖の、アルキル、アルケニル、アリールもしくはアラルキル基を含む、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基である〕、水素などから独立して選択されるが、それらに限定はされず；
Ｒ^２の各々は、−（ＣＨ_２）_ｆ−で表される直鎖炭化水素であり；
Ｒ^４の各々は、ａ＋ｃ＋ｅ−１個の水素が置き換えられた環状の、分岐の、および直鎖のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、およびアラルキル基を含む、ａ＋ｃ＋ｅの合計に等しい水素原子の置換によって得られる１から約２８の炭素原子の多価の炭化水素フラグメント、または、１から２７の炭素原子の多価のヘテロカーボンフラグメントから独立して選択され；
Ｒ^５の各々は、ｃ＋ｅ−１個の水素が置き換えられた環状の、分岐の、および直鎖のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、およびアラルキル基を含む、ｃ＋ｅの合計に等しい水素原子の置換によって得られる１から約２８の炭素原子の多価の炭化水素フラグメント、または、１から２７の炭素原子の多価のヘテロカーボンフラグメントから独立して選択され；
Ｘ^１の各々は、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＨ、−ＯＲ^６、およびＲ^６Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる加水分解性の基から独立して選択され、ここでＲ^６は、分岐のもしくは直鎖の、アルキル、アルケニル、アリール、もしくはアラルキル基を含む、１から２０の炭素原子を持つ任意の一価の炭化水素基であり；
Ｘ^２およびＸ^３の各々は、水素、Ｒ^６のために上に列挙された要素、Ｘ^１のために上に列挙された要素、および、シラノールの縮合によって生じる−ＯＳｉ含有基からなる群から独立して選択され；
下付き文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、およびｘは、ａは１から約３；ｂは１から約５；ｃは１から約３；ｄは１から約５；ｅは１から約３；ｆは０から約５；ｍは１から約１００；ｎが１から約１５；ｏが０から約１０；ｐが１から約１００；ならびにｘが１から約１０、によって独立して与えられる。

ヘテロカーボン（ｈｅｔｅｒｏｃａｒｂｏｎ）という用語はここで用いられる時に、炭素−炭素結合骨格が、窒素および／もしくは酸素の原子に対する結合によって分断される任意の炭化水素構造、または、炭素−炭素結合骨格が、たとえばシアヌール酸塩（Ｃ_３Ｎ_３）のような窒素および／もしくは酸素を含む原子の基に対する結合によって分断される、任意の炭化水素構造の事である。ヘテロカーボンフラグメントはまた、炭素に結合する、水素または二つもしくはそれ以上の水素が、たとえば、第一級アミン（−ＮＨ_２）およびオキソ（＝Ｏ）などのような窒素、酸素もしくは窒素原子と置き換えられている、任意の炭化水素構造をも指す。

このようにＲ^４およびＲ^５の各々は、任意選択で、その各々が二つの分離した炭素原子に結合する酸素原子を介したエーテル官能性、ポリスルフィド基（−Ｓｘ−）がＧ^１もしくはＧ^２上の二つの分離した炭素原子に結合して環を形成するポリスルフィド官能性、それの各々が三つの分離した炭素原子に結合する窒素原子を介した第四級アミン官能性、シアン（ＣＮ）基、および／もしくはシアヌール（Ｃ_３Ｎ_３）基を有する、分岐の、直鎖の、環状の、および／もしくは、多価の脂肪族炭水化物；芳香族炭化水素；ならびに、先に述べた芳香族化合物の、分岐のまたは直鎖の、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリールおよび／もしくはアラルキル基による置換によって誘導されるアレーンを含むが、それらに限定されない。

ここで使用される時に、「アルキル」は直鎖の、分岐の、および環状の、アルキル基を含む；「アルケニル」は、一つもしくはそれ以上の炭素−炭素二重結合を有した任意の直鎖の、分岐の、もしくは環状のアルケニル基を含み、ここで置換の場所は、炭素−炭素二重結合においてか、または基の中の他の場所の、いずれか一方であり得る；「アルキニル」は、一つもしくはそれ以上の炭素−炭素三重結合を、ならびに任意選択で同様に一つもしくはそれ以上の炭素−炭素二重結合を有する任意の直鎖の、分岐の、もしくは環状のアルキニル基を含み、ここで置換の場所は、炭素−炭素三重結合においてか、炭素−炭素二重結合においてか、または基の中の他の場所の、いずれかであり得る。アルキルの例は、メチル、エチル、プロピル、イソブチルを含むがそれらに限定されない。アルケニルの例はビニル、プロペニル、アリル、メタリル、エチリデニル（ｅｔｈｙｌｉｄｅｎｙｌ）ノルボルナン、エチリデンノルボルニル（Ｎｏｒｂｏｒｎｙｌ）、エチリデニルノルボルネン、およびエチリデンノルボルネニルを含むがそれらに限定されない。アルキニルのいくつかの例は、アセチレニル、プロバルギル、およびメチルアセチレニルを含むがそれらに限定されない。

ここで使用される時に、「アリール」は、そこから一つの水素原子が取り除かれた、任意の芳香族炭水化物を含む；「アラルキル」は、一つもしくはそれ以上の水素原子が、同じ数の同類のおよび／もしくは異なった（ここで定義されるような）アリールの置換基によって置換されている上述のアルキル基の任意のものを含む；ならびに「アレニル」は、一つもしくはそれ以上の水素原子が、同じ数の同類および／もしくは異なった（ここで定義された）アルキルの置換基によって置換されている上述のアリール基の任意のものを含む。アリールのいくつかの例はフェニルおよびナフタレニルを含むがそれらには限定されない。アラルキルの例はベンジルおよびフェネチルを含むがそれらには限定されず、そしてアレニルのいくつかの例はトリルおよびキシリルを含むがそれらには限定されない。

ここで使用される時に、「環状アルキル」、「環状アルケニル」、および「環状アルキニル」はまた、二環式の、三環式の、およびより高次の環状構造をも含み、ならびに、上述の環状構造はまた、アルキル、アルケニル、および／もしくはアルキニル基によって置換される。代表例は、ノルボルニル、ノルボルネニル、エチルノルボルニル、エチルノルボルネニル、シクロヘキシル、エチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキセニル、シクロヘキシルシクロヘキシル、およびシクロドデカトリエニルなどを含むがそれらには限定されない。

Ｘ^１の代表例は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、クロロ、およびアセトキシを含むがそれらには限定されない。Ｘ^２およびＸ^３の代表例はＸ^１のために上に列挙された代表例、および、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、フェニル、ビニル、シクロヘキシル、ならびにブチル、ヘキシル、オクチル、ラウリル、およびオクタデシルなどのより高次な直鎖アルキルを含む。

Ｒ^１およびＲ^３の代表例は、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−のような、他の端もまたさらに末端で置換された、末端直鎖アルキル、ならびに−ＣＨ_２（ＣＨ_２）_ｕＣＨ（ＣＨ_３）−（ここでｕはゼロから１７である）のようなそれらのベータ置換類似体；−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−のような、メタリルクロライドから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２ＣＨ_２（Ｃ_６Ｈ_４）ＣＨ_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２（Ｃ_６Ｈ_４）ＣＨ（ＣＨ_３）−（ここでＣ_６Ｈ_４の表記が二置換されたベンゼン基を示す）のような、ジビニルベンゼンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−のような、ジアリルエーテルから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−、および−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）−のような、ブタジエンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）−、および−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）−のような、ピペリレンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２−、および−ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ（ＣＨ_３）_２］−のような、イソプレンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２ＣＨ_２−ノルボルニル−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−シクロヘキシル−の異性体の任意のもの；ノルボルナン、シクロヘキサン、シクロペンタン、テトラヒドロジシクロペンタジエン、もしくはシクロドデセンから二つの水素原子の消失によって得られる、ジラジカルの任意のもの；リモネンから誘導可能な構造、−ＣＨ_２ＣＨ（４−メチル−１−Ｃ_６Ｈ_９−）ＣＨ_３−、ここでＣ６Ｈ９の表記が２の位置での置換を欠いた三置換のシクロヘキサン環の異性体を示す；−ＣＨ_２ＣＨ_２（ビニルＣ_６Ｈ_９）ＣＨ_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ_２（ビニルＣ_６Ｈ_９）ＣＨ（ＣＨ_３）−（ここでＣ_６Ｈ_９の表記が三置換のシクロヘキサン環の異性体の任意のものを示す）のような、トリビニルシクロヘキサンから誘導可能なモノビニル含有構造の任意のもの；−ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ_２Ｃ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］（ＣＨ_２ＣＨ_３）−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２（Ｃ−）（ＣＨ_３）［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］、および−ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ（ＣＨ_３）［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］］−のような、三置換のＣ＝Ｃを有する、ミルセンから誘導可能な単不飽和構造の任意のもの；ならびに、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ＝ＣＨ_２）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２− 、−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ＝ＣＨ_２）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ（ＣＨ_３）_２］−、−ＣＨ_２Ｃ（＝ＣＨ−ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＨ_２Ｃ（＝ＣＨ−ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ（ＣＨ_３）_２］−、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（＝ＣＨ_２）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（＝ＣＨ_２）ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ（ＣＨ_３）_２］−、−ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２−、および−ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ（ＣＨ_３）_２］のような、三置換のＣ＝Ｃを欠いた、ミルセンから誘導可能な単不飽和構造の任意のものを含む。

三座のＧ^１の代表例は、−ＣＨ_２（ＣＨ_２）_ｑ＋１ＣＨ（ＣＨ_２−）−および−ＣＨ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_ｑＣＨ（ＣＨ_２−）_２（式中、ｑはゼロから２０）のような、非共役末端のジオレフィンから誘導可能な構造；−ＣＨ_２ＣＨ_２（Ｃ_６Ｈ_４）ＣＨ（ＣＨ_２−）−および−ＣＨ_２ＣＨ_２（Ｃ_６Ｈ_３−）ＣＨ_２ＣＨ_２−（式中、Ｃ_６Ｈ_４の表記は二置換のベンゼン環を示し、そしてＣ_６Ｈ_３−の表記は三置換の環を示す）のようなジビニルベンゼンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２（ＣＨ−）ＣＨ_２ＣＨ_２−のような、ブタジエンから誘導可能な構造；−ＣＨ_２（Ｃ−）（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）（ＣＨ−）ＣＨ_２−のような、イソプレンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２（ＣＨ−）（ビニルＣ_６Ｈ_９）ＣＨ_２ＣＨ_２−、（−ＣＨ_２ＣＨ_２）_３Ｃ_６Ｈ_９、および（−ＣＨ_２ＣＨ_２）_２Ｃ_６Ｈ_９ＣＨ（ＣＨ_３）−（ここでＣ_６Ｈ_９の表記は三置換シクロヘキサン環の任意の異性体を示す）のような、トリビニルシクロヘキサンから誘導可能な任意の構造；−ＣＨ_２（Ｃ−）［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］ＣＨ_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］（ＣＨ−）ＣＨ_２−のようなミルセンから誘導可能な構造の任意のもの；ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２−）_３およびＣＨ_３ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２−）_３のような、トリメチロールアルカンから誘導可能な構造；その構造が−ＣＨ_２（ＣＨ−）ＣＨ_２−であるグリセロール、およびその構造が−ＣＨ_２（−ＣＣＨ_３）ＣＨ_２−であるそれのメチル類似体；ならびにトリエタノールアミン誘導体、（−ＣＨ_２ＣＨ_２）_３Ｎ、を含むが、それらには限定されない。

多価のＧ^１の代表例は、−ＣＨ（ＣＨ_２−）（ＣＨ_２）_ｑＣＨ（ＣＨ_２−）−（式中、ｑは１から２０である）のような、非共役末端のジオレフィンから誘導可能な構造；−ＣＨ_２（ＣＨ−）（Ｃ_６Ｈ_４）ＣＨ（ＣＨ_２−）−（式中、Ｃ_６Ｈ_４の表記は二置換のベンゼン環を示す）のような、ジビニルベンゼンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２（ＣＨ−）ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_２−）−のような、ジアリルエーテルから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２（ＣＨ−）（ＣＨ−）ＣＨ_２−のような、ブタジエンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２（ＣＨ−）（ＣＨ−）ＣＨ_２（ＣＨ_３）−のような、ピペリレンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２（Ｃ−）（ＣＨ_３）（ＣＨ−）ＣＨ_２−のような、イソプレンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２（ＣＨ−）（ビニルＣ_６Ｈ_９）（ＣＨ−）ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ_６Ｈ_９［（ＣＨ−）ＣＨ_２−］_２、−ＣＨ（ＣＨ_３）Ｃ_６Ｈ_９［（ＣＨ−）ＣＨ_２−］_２、およびＣ_６Ｈ_９［（ＣＨ−）ＣＨ_２−］_３ （ここでＣ_６Ｈ_９の表記は三置換シクロヘキサン環の任意の異性体を示す）のような、トリビニルシクロヘキサンから誘導可能なビニル含有構造の任意のもの；−ＣＨ_２（ＣＨ−）Ｃ_６Ｈ_９［ＣＨ_２ＣＨ_２−］_２および−ＣＨ_２（ＣＨ−）Ｃ_６Ｈ_９［ＣＨ（ＣＨ_３）−］［ＣＨ_２ＣＨ_２−］（ここでＣ_６Ｈ_９の表記は三置換シクロヘキサン環の任意の異性体を示す）のような、トリビニルシクロヘキサンから誘導可能な飽和構造の任意のもの；−ＣＨ_２（Ｃ−）［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］（ＣＨ−）ＣＨ_２−のような、三置換のＣ＝Ｃを有する、ミルセンから誘導可能な単不飽和構造の任意のもの；ならびに、その構造がＣ（ＣＨ_２−）_４である、ペンタエリトリチルを含むが、それらには限定されない。

二座Ｇ^２の代表例は、−ＣＨ_２（ＣＨ_２）_ｑ＋１ＣＨ_２（ＣＨ_２−）およびＣＨ_２（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_ｑＣＨ（ＣＨ_２−）_２（ここで、Ｑはゼロから２０である）のような、非共役末端のジオレフィンから誘導可能な構造；−ＣＨ_２ＣＨ_２（Ｃ_６Ｈ_４）ＣＨ_２ＣＨ_２−（ここで、Ｃ_６Ｈ_４の表記は二置換のベンゼン環を示す）のような、ジビニルベンゼンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−のような、ブタジエンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２（ＣＨ）（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−および−ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２−のような、イソプレンから誘導可能な構造の任意のもの；−ＣＨ_２ＣＨ_２（ビニルＣ_６Ｈ_９）ＣＨ_２ＣＨ_２−および（−ＣＨ_２ＣＨ_２）Ｃ_６Ｈ_９ＣＨ_２ＣＨ_３（ここでＣ_６Ｈ_９の表記は、三置換のシクロヘキサン環の任意の異性体を示す）のような、トリビニルシクロヘキサンから誘導可能な任意の構造；−ＣＨ_２（ＣＨ）［ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ＝Ｃ（ＣＨ_３）_２］ＣＨ_２ＣＨ_２−のような、ミルセンから誘導可能な構造の任意のもの；ならびに、ジエタノールアミン誘導体、（−ＣＨ_２ＣＨ_２）ＮＣＨ_３を含むが、それらには限定されない。

三座のＧ^２の代表例は、−ＣＨ_２（ＣＨ_２）_ｑ＋１ＣＨ（ＣＨ_２−）−（ここでｑはゼロから２０である）のような、非共役末端ジオレフィンから誘導可能な構造；（−ＣＨ_２ＣＨ_２）_３Ｃ_６Ｈ_９（ここでＣ_６Ｈ_９の表記は三置換のシクロヘキサン環の任意の異性体を示す）のような、トリビニルシクロヘキサンから誘導可能な構造；ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２−）_３および ＣＨ_３ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_２−）_３のような、トリメチロールアルカンから誘導可能な構造；ならびに、トリエタノールアミン誘導体、（−ＣＨ_２ＣＨ_２）_３Ｎを含むが、それらに限定されない。

本発明のシラン化コアポリスルフィドシランの代表例は、２−トリエトキシシリル−１，３−ビス−（３−トリエトキシシリル−１−プロピルテトラチア）プロパン、４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−ジエトキシメチルシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１０−トリエトキシシリル−３，４，５，６，７−ペンタチアデシル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（１０−トリエトキシシリル−３，４，５，６，７−ペンタチアデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル；−１−エチル）−１，２−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）−２−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）ベンゼン；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド；ビス−２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）フェニル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−３−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−ジエトキシメチルシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィドの任意の異性体を含む。

本発明の他の実施態様の、式（１）、（２）および（３）が記載され、式中、Ｒ^１およびＲ^３の各々は、一つの水素原子がＹ^１もしくはＹ^２基によって置換されている分岐のおよび直鎖の、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、もしくはアラルキル基を含み、１から約５の炭素原子を有する二価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；Ｙ^１およびＹ^２の各々は、シリル（−ＳｉＸ^１，Ｘ^２，Ｘ^３）から独立して選択され；Ｒ^２の各々は、−（ＣＨ_２）_ｆ−によって表される直鎖の炭化水素であって、式中ｆは約０から約３までの整数であり；Ｒ^４の各々は、ａ＋ｃ＋ｅ−１個の水素が置き換えられた環状のアルキルおよびアリールを含む、ａ＋ｃ＋ｅの合計に等しい水素原子の置換によって得られる３から約１０の炭素原子の多価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；Ｒ^５の各々は、ｃ＋ｅ−１の水素が置き換えられた分岐のおよび直鎖のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、およびアラルキル基を含む、ｃ＋ｅの合計に等しい水素原子の置換によって得られる３から約１０の炭素原子の多価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；Ｘ^１の各々は、−ＯＨおよび−ＯＲ^６からなる加水分解性の基のセットから独立して選択され、ここでＲ^６は、分岐のもしくは直鎖の、アルキル、アルケニル、アリール、もしくはアラルキル基を含む、１から５の炭素原子を持つ任意の一価の炭化水素基であり；Ｘ^２およびＸ^３の各々は、Ｒ^６のために上に列挙された要素、Ｘ^１のために上に列挙された要素、およびシラノールの縮合によって生じる−ＯＳｉ含有基からなる群から独立して選択され；下付き文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、およびｘの各々は、ａは１から約２；ｂは１から約３；ｃは１；ｄは１から約３；ｅは１；ｆは０から約３；ｍは１；ｎが１から約１０；ｏが０から約１；ｐが１；ならびにｘが１から約４、によって独立して与えられる。

他の実施態様において、３０から９９重量パーセントの本発明のシラン化コアポリスルフィドは、７０から１重量パーセントの、式（４）で表される構造のシランを含む他のシランと混合される。
［Ｘ^１Ｘ^２Ｘ^３ＳｉＲ^１Ｓ_ｘＲ^３ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３］ （式４）
式４で記載されるシランの代表例は、参照によってここに組み入れる米国特許３，８４２，１１１号に列挙され、ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド；ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）トリスルフィド；ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド；ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）ペンタスルフィド；ビス−（３−ジエトキシメチルシリルプロピル）ジスルフィド；ビス−（３−エトキシジメチルシリルプロピル）ジスルフィド；ビス−（トリエトキシシリルメチル）ジスルフィド；ビス−（４−トリエトキシシリルベンジル）ジスルフィド；ビス−（３−トリエトキシシリルフェニル）ジスルフィドなどを含む。

Ｒ^４およびＲ^５上のメチレン基に対する硫黄の結合は、メリレン基がシランと充填剤およびポリマーとの間の過剰な立体的な相互作用を軽減するために、望まれる。二つの連続したメチレン基は、立体相互作用をさらに軽減し、シランの化学構造に自由度を与え、それによって、界面におけるラバーと充填剤の両方の表面の形態によって強制される、分子レベルの位置的および方向的な制約に対して適応するそれの能力を高める。Ｇ^１およびＧ^２へと結合するケイ素および硫黄原子の総数が３から４まで、およびそれ以上に増加するにともなって、シランの自由度はますます重要になってくる。ポリスルフィド基が、第２級炭素原子および第３級炭素原子、環状構造、そして特に、芳香族構造に結合した構造は、硬直しており、そして立体的に妨害されている。促進剤および硬化剤は、ポリスルフィド基を伴ってそれらの向きを簡単に変えて、反応に影響を与えることが出来ず、シラン化コアポリスルフィドは容易にそれ自身の向きを変えて、シリカおよびポリマー上の可能な結合部位と遭遇することが出来ない。これは硫黄基をポリマーと結合しない状態に置く傾向があり、それにより、シランのポリマーへの、シランの多重硫黄基を介した多重結合の原理が現実化する効率を減らす。

混合液中の、他のシランの機能はシリカの表面上の部位を占めることであり、それはシリカを分散させるのと、ポリマーとカップリングするのとに助けとなる。

シラン化コアポリスルフィド作成のためのプロセス
本発明の他の実施態様において、シラン化コアポリスルフィドは、（ａ）ＨＳｉ（Ｘ^１Ｘ^２Ｘ^３）の構造のヒドロシランを、反応性の二重結合を有した炭化水素と反応させ；（ｂ）ステップ（ａ）からの中間産物を、フリーラジカル剤の存在下で、Ｒ^６Ｃ（＝Ｏ）ＳＨ（式中、Ｒ^６は上に定義されたとおりである）から選択される硫化剤と反応させる；（ｃ）プロトン供与体を用いてメルカプと基を脱ブロック化させる；（ｄ）ステップ（ｃ）の中間体のメルカプタンを、塩基および硫黄の混合物と反応させる；（ｅ）ステップ（ｄ）の中間体を、塩素、臭素もしくはヨウ素から選択される脱離基を有した、置換のもしくは非置換の炭化水素と反応させることによって作成される。

ステップ（ａ）の反応性の二重結合を含む炭化水素の構造を、式（５）によって示される化学構造で表す事ができる。

（式５）
式中、各々は上に記載されており、下付き文字ｇ、ｈ、およびｉは、ｇが約０から３；ｈが０から約３；ならびにｉが０から約３によって独立して与えられる。

フリーラジカル試薬は、酸化剤を含み、チオカルボン酸を、チオカルボン酸ラジカル、すなわち

へと転換する事が可能であり、酸素、ペルオキシド、ヒドロペルオキシドなどを含むがそれらに限定されない。

プロトン供与体種は、任意の水素含有ヘテロカーボンもしくは置換へテロカーボンであって、ステップ（ｃ）においてチオカルボン酸エステル中間体と反応して、脱ブロック化したメルカプタンを生成する事が可能である。それらの水素供与体種の代表例は、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、プロパノールなどのようなアルコール；アンモニア、メチルアミン、プロピルアミン、ジエタノールアミンなどのようなアミン；プロピルメルカプタン、ブチルメルカプタンなどのようなメルカプタンなどを含むが、それらに限定されない。

脱離基を含む、置換のもしくは非置換の炭化水素の構造は、式（６）および（７）によって表され、
Ｙ^１Ｒ^１Ｚ （式６）
Ｙ^２Ｒ^３Ｚ （式７）
ここで、Ｙ^１、Ｙ^２、Ｒ^１およびＲ^２は上に定義されたとおりで、ＺはＣｌ、ＢｒおよびＩの群から選択される。

反応は、アルコール、エーテル、炭化水素溶媒などを含む、有機溶媒の存在下もしくは非存在下で実施された。適切な有機溶媒の代表例は、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレンならびにそれらの混合物などを含むが、それらに限定されない。

ラバー組成物における使用
本発明の一つの実施態様はラバー組成物であって：
（ａ）ラバー；
（ｂ）本発明のシラン化コアポリスルフィド（式１）；
（ｃ）充填剤；
を含有する。

本発明の他の実施態様は硬化ラバー組成物であって：
（ａ）ラバー；
（ｂ）本発明のシラン化コアポリスルフィド（式１）；
（ｃ）充填剤；
（ｄ）硬化剤；そして
（ｅ）任意選択で他の添加剤、
を含有する。

ここに記載のカップリング剤を含む有用なラバーは、共役ジエンホモポリマーおよび共役ジエンコポリマー、ならびに少なくとも一つの共役ジエンおよび芳香族ビニル化合物の共重合体を含む、硫黄加硫ラバーを含む。ラバー組成物作成のための適切な有機ポリマーは当分野によく知られており、Ｔｈｅ Ｖａｎｄｅｒｂｉｌｔ Ｒｕｂｂｅｒｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ、Ｏｈｍ， Ｒ．Ｆ．編集、Ｒ．Ｔ．Ｖａｎｄｅｒｂｉｌｔ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．，１９９０、および、Ｍａｎｕａｌ ｆｏｒ ｔｈｅ Ｒｕｂｂｅｒ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ，Ｋｅｍｐｅｒｍａｎｎ，ＴおよびＫｏｃｈ，Ｓ．Ｊｒ．、Ｂａｙｅｒ ＡＧ，Ｌｅｖｅｋｕｓｅｎ，１９９３、を含むさまざまな参考書に記載されている。

ここでの利用に適切なポリマーの一つの例は、溶液重合スチレンブタジエンラバー（ｓＳＢＲ）である。溶液重合作成ＳＢＲ（ＳＳＢＲ）は典型的には、結合スチレン含量が５から５０パーセントの範囲であり、好ましくは９から３６パーセントである。他の有用なポリマーは、エマルション重合スチレン−ブタジエンゴム（ＥＳＢＲ）、天然ラバー（ＮＲ）、エチレンプロピレンコポリマーおよびｔｅｒ−ポリマー（ＥＰ、ＥＰＤＭ）、アクリロニトリルブタジエンラバー（ＮＢＲ）、ポリブタジエン（ＢＲ）などを含む。

他の実施態様において、ラバー組成物は、少なくとも一つのジエン系エラストマー、もしくはラバーからなる。適切な共役ジエンは、イソプレンおよび１，３−ブタジエンを含むがそれらに限定せず、適切なビニル芳香族化合物はスチレンおよびα−メチルスチレンを含むがそれらに限定しない。ポリブタジエンは当初は励起していると特徴づけられ、典型的に９０重量％であり、シス−１，４ブタジエン形態であり得るが、他の組成物もまた、ここに記載の目的に使用される。

このように、ラバーは硫黄硬化可能なラバーである。そのようなジエン系エラストマーもしくはラバーは、たとえば、シス−１，４−ポリイソプレンラバー（天然および／もしくは合成の）、エマルション重合製造スチレン／ブタジエンコポリマーラバー、有機溶液重合製造スチレン／ブタジエンラバー、３，４−ポリイソプレンラバー、イソプレン／ブタジエンラバー、スチレン／イソプレン／ブタジエンｔｅｒ−ポリマーラバー、シス−１，４−ポリブタジエン、中ビニルポリブタジエンラバー（３５〜５０パーセントビニル）、高ビニルポリブタジエンラバー（５０〜７５パーセントビニル）、スチレン／イソプレンコポリマー、エマルション重合製造スチレン／ブタジエン／アクリロニトリルｔｅｒ−ポリマーラバー、ならびにブタジエン／アクリロニトリルコポリマーラバー、の少なくとも一つから選択される。いくつかの用途には、比較的汎用の２０から２８パーセント結合スチレンのスチレン含量のエマルション重合由来のスチレン／ブタジエン（ＥＳＢＲ）、もしくは、中程度から比較的高い結合スチレン含量、すなわち、３０〜４５パーセントの結合スチレン含量を有したＥＳＢＲが、用いられ得る。

ｔｅｒ−ポリマー中に２から４０重量パーセントの結合アクリロニトリルを有したエマルション重合作成のスチレン／ブタジエン／アクリロニトリルｔｅｒ−ポリマーラバーはまた、ジエン系ラバーとして本発明における使用が意図される。

シリカの充填剤、カーボンブラック等の微粒子充填剤を、本発明の架橋可能なエラストマー組成物に加えても良い。ここで有用な充填剤物質は、シリカ（焼成および／もしくは沈降）、二酸化チタン、アルミノケイ酸塩、アルミナのような、金属酸化物、粘土、タルク、ならびにカーボンブラックなどを含むが、それらに限定されない。

微粒子の沈降シリカはまた、しばしばそのような目的、特にシリカがシランとの結合に用いられるときに、に用いられる。いくつかの例では、シリカとカーボンブラックの組み合わせが、タイヤの接地面を含むラバー製品の強化充填剤として用いられる。アルミナは、単独でもシリカと組み合わせてでも用いられ得る。用語「アルミナ」はここでは酸化アルミニウムもしくはＡｌ_２Ｏ_３として記載され得る。充填剤は、水和物もしくは無水物であり得る。

シラン化コアポリスルフィドは、充填剤粒子と予備混合、もしくは予備反応され、またはラバーおよび充填剤の加工中または混合段階において、ラバー混合物へと添加される。もし、シラン化コアポリスルフィドと充填剤とが、ラバーおよび充填剤の混合中にもしくは加工段階でラバー混合物中へ別々に添加されるなら、シラン化コアポリスルフィドはその場で（ｉｎ ｓｉｔｕ）充填剤と結合すると考えられる。

加硫したラバー組成物は、合理的に高いモジュラスと高い耐摩耗性に寄与するのに充分な量の充填剤を含有すべきである。本発明の一つの実施態様において、混合された充填剤の重量は、１００部のラバー当たり、約５から約１００部（ｐｈｒ）という低さである。他の実施態様において、混合された充填剤の重量は、約２５ｐｈｒから約８５ｐｈｒであり、少なくとも一つの沈降シリカが充填剤として用いられる。シリカは、窒素ガスを用いて計測される、好ましくは約４０から約６００ｍ^２／ｇの範囲の、ＢＥＴ表面積を有する事で特徴付けられる。本発明の他の実施態様において、シリカは、約５０から約３００ｍ^２／ｇの範囲の、ＢＥＴ表面積を有する。表面積を測定するＢＥＴ法は、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ ｔｈｅ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ， Ｖｏｌｕｍｅ ６０， ｐａｇｅ ３０４（１９３０）に記載される。シリカは典型的には、約１００から約３５０の範囲の、より通常には、約１５０から約３００の、フタル酸ジブチル（ＤＢＰ）吸収値を有する事によって特徴付けられる。さらに、シリカは、前述のアルミナおよびアルミノケイ酸塩と同様、約１００から約２２０の範囲のＣＴＡＢ表面積を有すると予想される。ＣＴＡＢ表面積は、ｐＨ９の臭化セチルトリメチルアンモニウムによって評価されるような外部表面である。この方法はＡＳＴＭ Ｄ ３８４９に記載される。

水銀多孔度表面積は、水銀ポロシメトリーによって決定される特定の表面積である。この方法を用いて、揮発物を取り除くための温度処理ののち、水銀はサンプルの孔に浸透させられる。セットアップ条件は１００ｍｇの試料を用いて適切に記載され；環境大気圧（周囲環境から２０００バールの圧力測定範囲）で、２時間、１０５℃の間に揮発物が取り除かれる。そのような評価は、ＡＳＴＭ公報３９ページ（１９５９）のＷｉｎｓｌｏｗ，Ｓｈａｐｉｒｏ記載の方法、もしくはＤＩＮ６６１３３に従って実施される。そのような評価のため、ＣＡＲＬＯ−ＥＲＢＡ Ｐｏｒｏｓｉｍｅｔｅｒ２０００が使用されるかも知れない。シリカの平均水銀多孔度の特定の表面積は約１００から約３００ｍ^２／ｇの範囲であるべきである。

一つの実施態様において、そのような水銀多孔度評価による、シリカ、アルミナ、およびアルミノケイ酸塩の適切な細孔径分布は、その孔の５％もしくはそれ以下が、約１０ｎｍ以下の直径を有し、その孔の約６０パーセントから約９０パーセントが、約１０から約１００ｎｍの直径を有し、その孔の約１０パーセントから約３０パーセントが約１００から約１０００ｎｍの直径を有し、そして、その孔の約５パーセントから約２０パーセントが約１０００ｎｍより大きい直径を有する、とここでは考えられる。

第二の実施態様において、シリカは、電子顕微鏡によって決定されるように、たとえば約１０から約５０ｎｍの範囲の平均素粒子径を有すると予想されるが、シリカ粒子がサイズとして、より小さくもしくは場合によってより大きい可能性がある。ＰＲＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓからの、ＨＩ−ＳＩＬ ２１０，２４３などの呼称を持つＨＩ−ＳＩＬの商標によるもの；Ｒｈｏｎｅ−Ｐｏｕｌｅｎｃから入手可能な、たとえばＺＥＯＳＩＬ １１６５ＭＰの呼称によるシリカ；Ｄｅｇｕｓｓａから入手可能な、たとえばＶＮ２およびＶＮ３などの呼称によるシリカ；Ｈｕｂｅｒから市販される、たとえばＨＵＢＥＲＳＩＬ７ ８７４５の呼称を持つシリカのような、種々の市販のシリカは、本発明での使用を考えても良い。

本発明のさらに他の実施態様において、組成物は、シリカ、アルミナおよび／もしくはアルミノケイ酸塩のようなシリカ充填剤を、カーボンブラック強化顔料と組み合わせて用いてよい。組成物は、約１５から約９５重量パーセントのシリカ充填剤と約５から約８５重量パーセントのカーボンブラックとの充填剤混合物を含有し、ここでカーボンブラックは約８０から約１５０の範囲のＣＴＡＢ値を有する。一つの実施態様においてシリカ充填剤のカーボンブラックに対する重量比が少なくとも約３／１のもの、他の実施態様において、少なくとも約１０／１のものを用いるのが、より典型的には望ましい。このように、シリカ充填剤のカーボンブラックに対する重量比は約３／１から約３０／１の範囲にあるだろう。

本発明の他の実施態様において、充填剤は約６０から約９５重量パーセントの、前記シリカ、アルミナ、および／もしくはアルミノケイ酸塩、そして対応する約４０から約５重量パーセントのカーボンブラックからなる。シリカ充填剤とカーボンブラックは加硫ラバーの製造において予備混合されるかもしくは一緒に混合できる。

本発明のさらに他の実施態様において、本発明のラバー組成物は、一つもしくはそれ以上のシラン化コアポリスルフィドシランと有機ポリマーとを、充填剤を有機ポリマーへと配合する前に、最中に、もしくはその後において、混合することによって、作成される。他の実施態様において、シラン化コアポリスルフィドシランは、これらのシランが充填剤の分散を促進し、向上するため、充填剤を有機ポリマーへと配合する前もしくは配合する間に、加えられる。他の実施態様において、生成する混合物に存在するシラン化コアポリスルフィドシランの全量は、有機ポリマーの１００重量部当たり、約０．０５から約２５重量部（ｐｈｒ）であるべきで、他の実施態様においては、１から１０ｐｈｒである。さらに他の実施態様において、充填剤は、約５から約１２０ｐｈｒの間の範囲の量で用いることが出来、さらに他の実施態様において、充填剤は、約２５から約１１０ｐｈｒ、もしくは約２５から約１０５ｐｈｒの間の範囲の量で用いることが出来る。

実施面では、硫黄加硫ラバー産物は典型的には、順次的な段階的な方法で、ラバーとさまざまな成分とを熱力学的に混合することによって作成され、加硫産物を作成するために、配合されたラバーを成型し硬化することが後に続く。最初に、典型的に硫黄と硫黄硫化促進剤（まとめて「硬化剤」）を除いた前述のラバーとさまざまな成分との混合のために、ラバーとさまざまなラバー配合成分は、典型的には、適切なミキサー内における、予備的な熱力学的混合の少なくとも一つ、そしてしばしば（シリカ充填剤配合低転がり抵抗のタイヤの場合）二つもしくはそれ以上の段階で混合される。そのような予備的な混合は、非生産的混合または非生産的混合ステップもしくは段階と呼ばれる。そのような予備的な混合は通常、約１４０℃から約２００℃で、そしてある成分の場合には、約１５０℃から約１８０℃において実施される。そのような予備的な混合段階に続いて、しばしば生産的混合段階と呼ばれる最終混合段階において、硬化剤、ならびに場合によっては一つもしくはそれ以上の補足的な成分が、ラバー組成物もしくは成分と、典型的には、しばしばラバー組成物のスコーチと呼ばれる、硫黄硬化ラバーの早期加硫を防ぐかまたは遅らせるため、予備的な混合段階と比較してより低い温度である、約５０℃から約１３０℃の範囲の温度において、混合される。しばしばラバー組成物もしくは成分と呼ばれるラバー混合物は、前述のさまざまな混合のステップの間で、しばしば、中間的なミル混合の後もしくはその最中に、たとえば約５０℃もしくはそれより低い温度へと、典型的には冷まされる。ラバーを成型したり硬化することが望まれるなら、最低約１３０℃から約２００℃までにおいて、ラバーは適切な型へと置かれ、これは、シラン化コアポリスルフィドシラン上のＳ−Ｓ結合含有基（すなわち、ジスルフィド、トリスルフィド、テトラスルフィドなど；ポリスルフィド）とラバー混合物中の任意の他の遊離硫黄源によってラバーの加硫を引き起こす。

熱力学的な混合とは、それによって、せん断と関連した摩擦とが、高せん断ミキサーにおける、ラバー組成物の混合、またはラバーの成分それ自身およびラバー配合成分の混合の結果生じるような、ラバーミキサー内の高いせん断条件において、温度が自己生産的に上昇する、すなわち「温まる」という現象を示す。いくつかの化学反応は、混合もしくは硬化プロセスにおけるさまざまな段階において起こるであろう。

最初の反応は、比較的速い反応であり、ここでは充填剤とシラン化コアポリスルフィドのケイ素アルコキシド基との間で起こると考えられている。そのような反応は、たとえば、約１２０℃という比較的低い温度で起こる。第二の反応は、ここではシラン化コアポリスルフィドの硫黄含有部分と硫黄加硫ラバーとの間で、たとえば、約１４０℃というより高い温度において起こる反応である。

それに限定しないが、たとえば、Ｓ_８としての元素硫黄の形状のような、他の硫黄源も用いられ得る。硫黄供給体は、ここでは、遊離のもしくは元素の硫黄を、約１４０℃から約１９０℃の範囲の温度において解放する、硫黄含有化合物であると考えられる。そのような硫黄供給体は、たとえば、そのポリスルフィド架橋において少なくとも二つの結合硫黄原子をもつポリスルフィド加硫促進剤およびオルガノシランポリスルフィド化物であり得るが、それらに限定されない。混合物へ添加する遊離の硫黄源の量は、前述のシラン化コアポリスルフィドシランの添加から比較的独立した選択の問題として、制御されるか操作され得る。このように、たとえば、硫黄源の独立した添加は、それ自身の添加の量、およびラバー混合物への他の成分の添加と比較した添加の順序によって操作され得る。

本発明の一つの実施態様において、ラバー組成物はそれゆえ、共役ジエンホモポリマーおよび共役ジエンコポリマー、ならびに少なくとも一つの共役ジエンおよび芳香族ビニル化合物の共重合体、からなる群から選択される、少なくとも一つの硫黄加硫可能なラバーを約１００重量部、１００重量部のラバー当たり約５−１００重量部、好ましくは約２５−８０重量部、の少なくとも一つの微粒子充填剤、１００重量部のラバー当たり約５重量部までの硬化剤、そして、１００部のポリマー当たり約０．０５から約２５部の少なくとも一つの、本発明に記載されるようなシラン化コアポリスルフィドシランを含有する。

本発明の他の実施態様において、充填剤は、充填剤の全重量をもとにして約１から約８５重量パーセントのカーボンブラックと、充填剤の全重量をもとにして０から約２０重量部の少なくとも一つのシラン化コアポリスルフィドシランとを含有する。

さらの他の実施態様において、ラバー組成物は、約１４０℃から約２００℃の温度への、約２から約２０分の間の最初の熱力学的な混合ステップで、ラバー、充填剤、およびシラン化コアポリスルフィドシランを、またはラバー、シラン化コアポリスルフィドシランで予備処理された充填剤、および任意の残りのシラン化コアポリスルフィドシランを、最初に混合する事によって作成される。他の実施態様において、全部分の、もしくは一部分のシラン化コアポリスルフィドシランで予備処理された充填剤および任意の残りのシラン化コアポリスルフィドシランは、約１４０℃から約２００℃の温度への、約４から約１５分の間の最初の熱力学的な混合ステップになる。任意選択で、硬化剤は、約５０℃の温度での他の熱力学的な混合ステップへと加えられ、約１から約３０分の間、混合される。その温度はその後、再び約１３０℃から約２００℃の間にまで温められ、約５から約６０分までに硬化が達成される。

本発明の他の実施態様において、プロセスはまた、本発明によって作成されたラバー組成物からなるタイヤもしくは接地面を持つ硫黄硬化可能なラバーの部品を作成し、その部品を約１３０℃から約２００℃の範囲の温度において加硫する、追加的なステップを含有する。

他の任意選択の成分を本発明のラバー組成物に加えても良く、硬化助剤、すなわち硫黄化合物、活性化剤、遅延剤、促進剤、オイルのような加工添加剤、可塑剤、粘着付与樹脂（ｔａｃｋｉｆｙｉｎｇ ｒｅｓｉｎｓ）、シリカ、他の充填剤、顔料、脂肪酸、酸化亜鉛、ワックス、坑酸化剤およびオゾン劣化防止剤、素練り促進剤、および、たとえばカーボンブラックのような強化剤などを含んでいる。そのような添加剤は、意図される使用と、使用すると選択された硫黄加硫可能な物質とに基づいて選択され、そのような選択は当業者の知識の範囲内であり、そのような添加剤の要求される量は当業者に知られる事である。

加硫は追加的な硫黄加硫剤の存在下で行われる。適切な硫黄加硫剤の例は、たとえば、最終的な生産的なラバー組成物混合ステップにおいて慣例的に添加される、たとえば、アミノジスルフィド、ポリマーポリスルフィド、もしくは硫化オレフィン付加物のような元素硫黄（遊離硫黄）もしくは硫黄供与加硫剤を含む。硫黄加硫剤（当分野で一般的に用いられる）は、約０．４から約３ｐｈｒの範囲の量で、ある状況では約８ｐｈｒまで、約１．５から約２．５ｐｈｒの範囲で、およびそれらのすべての副範囲（ｓｕｂｒａｎｇｅ）で、一つの実施態様においては約２から約２．５ｐｈｒで、およびそれらのすべての副範囲で、生産的な混合段階において添加される。

任意選択で、加硫促進剤、すなわち、追加的な硫黄供与体はここでも用いる事が出来る。以下の例、ベンゾチアゾール、アルキルチウラムジスルフィド、グアニジン誘導体、およびチオカーバメートを含むようなものが、評価される。そのような促進剤の代表はたとえば、メルカプトベンゾチアゾール（ＭＢＴ）、テトラメチルチウラムジスルフィド（ＴＭＴＤ）、テトラメチルチウラムモノスルフィド（ＴＭＴＭ）、ベンゾチアゾールジスルフィド（ＭＢＴＳ）、ジフェニルグアニジン（ＤＰＧ）、ジチオカルバメート亜鉛（ＺＢＥＣ）、アルキルフェノールジスルフィド、キサント酸イソプロピル亜鉛（ＺＩＸ）、Ｎ−ジシクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド（ＤＣＢＳ）、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド（ＣＢＳ）、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド（ＴＢＢＳ）、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンイミド（ＴＢＳＩ）、テトラベンジルチウラムジスルフィド（ＴＢｚＴＤ）、テトラエチルチウラムジスルフィド（ＴＥＴＤ）、Ｎ−オキシジエチレンベンゾチアゾール−２−スルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジフェニルチオウレア、ジチオカルバミルスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルベンゾチオゾール−２−スルフェンアミド、２‐メルカプトトルイミダゾール亜鉛、ジチオビス（Ｎ−メチルピペラジン）、ジチオビス（Ｎ−ベータ−ヒドロキシエチルピペラジン）、およびジチオビス（ジベンジルアミン）であるが、それらに限定されない。他の追加的な硫黄供与体はたとえば、チウラムおよびモルフォリン誘導体であり得る。そのような供与体の代表はたとえば、ジモルフォリンジスルフィド、ジモルフォリンテトラスルフィド、テトラメチルチウラムテトラスルフィド、ベンゾチアジル−２，Ｎ−ジチオモルフォリド、チオプラスト、ジペンタメチレンチウラムヘキサスルフィド、およびジスルフィドカプロラクタムであるが、それらに限定されない。

促進剤は、加硫に必要な時間および／もしくは温度を制御し、加硫の性質を改善するために用いられる。一つの実施態様において、単一の促進剤系、すなわち一次促進剤が用いられ得る。慣例として、一次促進剤は、一つの実施態様において約０．５から約４ｐｈｒの範囲およびそれらのすべての副範囲の、他の実施態様において、約０．８から約１．５ｐｈｒの範囲およびそれらのすべての副範囲の総量で用いられる。活性化し加硫の性能を向上するために、一次および二次促進剤の組み合わせを使用することが出来、二次促進剤はより少ない量（約０．０５から約３ｐｈｒおよびそれらのすべての副範囲）で用いる。作用遅延促進剤もまた用いる事が出来る。加硫遅延剤もまた用いても良いだろう。適切な促進剤のタイプは、アミン、ジスルフィド、グアニジン、チオウレア、チアゾール、チウラム、スルフェンアミド、ジチオカーバメート、およびキサンテートである。一つの実施態様において、一次促進剤はスルフェンアミドである。もし二次促進剤を用いるなら、二次促進剤は好ましくは、グアニジン、ジチオカーバメート、および／もしくはチオウラム化合物である。好ましくは、テトラベンジルチウラムジスルフィドが、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミドとジフェニルグアニジンと組み合わせて、またはジフェニルグアニジン無しのＮ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミドと組み合わせて、二次促進剤として用いられる。テトラベンジルチウラムジスルフィドは、たとえばテトラメチルチウラムジスルフィドのようなニトロン化剤の産生を導かないので、好ましい促進剤である。

もし用いるとするならば、粘着付与樹脂の典型的な量は、約０．５から約１０ｐｈｒおよびそれらのすべての副範囲、通常は約１から約５ｐｈｒおよびそれらのすべての副範囲を含有する。加工助剤の典型的な量は約１から約５０ｐｈｒおよびそれらのすべての副範囲を含有する。そのような加工助剤はたとえば、芳香族の、ナフテン酸の、および／もしくはパラフィンの加工オイルを含む。坑酸化剤の典型的な量は約１から約５ｐｈｒを含む。代表的な坑酸化剤は、たとえば、ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、および、Ｖａｎｄｅｒｂｉｌｔ Ｒｕｂｂｅｒ Ｈａｎｄｂｏｏｋ（１９７８）、３４４−４６ページに開示されるような他の物であり得る。坑酸化剤の典型的な量は約１から約５ｐｈｒおよびそれらのすべての副範囲を含有する。脂肪酸は、もし用いられるならステアリン酸を含み、典型的な量は０．約５から約３ｐｈｒおよびそれらのすべての副範囲を含有する。酸化亜鉛の典型的な量は約２から約５ｐｈｒを含有する。ワックスの典型的な量は約１から約５ｐｈｒおよびそれらのすべての副範囲を含有する。しばしばマイクロクリスタリンワックスが用いられる。素練り促進剤の典型的な量は約０．１から約１ｐｈｒおよびそれらのすべての副範囲を含む。典型的な素練り促進剤は、たとえば、ペンタクロロチオフェノールおよびジベンザミドジフェニルジスルフィドであり得る。

本発明のラバー組成物はさまざまな目的に用いる事が出来る。たとえば、それはさまざまなタイヤ調合物、隙間充填材および靴底に用いる事が出来る。本発明の一つの実施態様において、ここに記載されるラバー組成物は、特にタイヤ接地面に有用であるが、タイヤの他のすべての部分に対してもまた同様に有用であろう。そのようなタイヤは、当業者にとって明白なよく知られたさまざまな方法によって、作られ、成型され、型に入れられ、そして硬化される。

他の実施態様において、本発明のシラン化コアポリスルフィドは、たとえば、多孔性ポリマー、カーボンブラック、シリカなどのような担体もしくは充填剤に乗せられ、それゆえにそれらが、ラバーへの送達に便利な乾燥した自由流動性形態になることが出来る。一つの実施態様において、担体はラバーにおいて用いられる無機充填剤の一部であり得る。

本発明の一つの実施態様において、乾燥した自由流動性組成物は、一つもしくはそれ以上の前述の担体物質と、たとえば、約０．１から約６０の重量パーセントの重量比において予備混合された、本発明によるシランを含有する。シリカのようなそのような担体のＢＥＴ表面積は、広範囲で変化し得、一つの実施態様において、約１００ｍ^２／ｇから約３００ｍ^２／ｇへと変化し得る。そのような担体の他の性質はそれらのＤＯＰ吸収、つまり油吸収指標である。シリカのような無孔性担体の場合、ＤＯＰ吸収は、約１００ｍｌ／１００ｇｍから約約４００ｍｌ／１００ｇｍまでの範囲であり得る。発泡ポリオレフィンのような多孔性ポリマーは、本発明のシランの約１０ｍｌから約２５０ｍｌ／１００ｇｍ（約９から約７０重量パーセント）を有利にも吸収することが出来る。

充填剤は、カーボンブラックもしくは有機ポリマーの場合、それと予備混合されたシランに対して実質的に不活性であり得、または、たとえば、表面シラノール機能性を有するシランもしくはシラン微粒子のような、たとえば、メタルヒドロキシ表面機能性を有する担体の場合、それらと反応性であり得る。

下に示された実施例は、ここに記載されるシランのシリカ充填剤配合ラバーにおけるカップリング剤としてのその性能において、従来技術のものと比較した上での大きな優位性を例証する。

実施例１
（２−トリエトキシシリルエチル）−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサンの作成
この実施例は、二つのビニル基を有するシランからの、中間体であるチオアセタートシランの生成を介したシラン化コアジスルフィドの作成を例示する。（２−トリメトキシシリルエチル）ジビニルシクロヘキサンの作成はヒドロシリル化によって作成された。マグネチックスターラーバー、温度プローブ／コントローラ、加熱マントル、添加ロート、コンデンサー、および気体吸入口を備えた、５リットルの三口丸底フラスコに、１，２，４−トリビニルシクロヘキサン（２，００１．１グラム、１２．３モル）およびＶＣＡＴ触媒（１．９６グラム、０．０１５３４グラム白金）が充填された。チューブがシランの表面より下にある気体吸入口によって、空気を泡立てながらビニルシランへ入れた。反応混合物は１１０℃に温められ、トリメトキシシラン（１，２０４グラム、９．９モル）は３．５時間にわたって添加された。反応混合物の温度は最高値１３０℃まで増加した。反応混合物は室温に冷まされ、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン（３グラム、０．００４モル）が添加された。反応混合物は１２２℃および１ｍｍＨｇにおいて蒸留され、１，４２７グラムの（２−トリメトキシシリルエチル）ジビニルシクロヘキサンを提供した。収率は５１パーセントであった。

（２−トリエトキシシリルエチル）ジビニルシクロヘキサンはエステル交換によって作成された。マグネチックスターラーバー、温度プローブ／コントローラ、加熱マントル、添加ロート、ト字管、および、コンデンサー、ならびに窒素注入口を備えた、３リットルの三口丸底フラスコに、（２−トリメトキシシリルエチル）ジビニルシクロヘキサン（２８４グラム、２．３３モル）、ナトリウムエトキシド・エタノール溶液（４９グラムの２１％ナトリウムエトキシド、Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌより購入）およびエタノール（７７７グラム、１６．９モル）を充填した。反応混合物は温められ、メタノールとエタノールは大気圧における蒸留により取り除かれた。粗生成物はその後、１０６℃、０．４ｍｍＨｇという減圧において蒸留され、６７５グラムの産物で８９パーセントの収率を提供した。

（２−トリエトキシシリルエチル）ビス−（３−チア−４−オキソペンチル）シクロヘキサンはチオ酢酸をジビニルシランへ添加する事によって作成された。マグネチックスターラーバー、温度プローブ／コントローラ、加熱マントル、添加ロート、コンデンサー、気体注入口、および水酸化ナトリウムスクラバーを備えた、１リットル三口丸底フラスコに、チオ酢酸（２１０グラム、２．７１モル）が充填された。（２−トリエトキシシリルエチル）ジビニルシクロヘキサン（４００グラム、１．２３モル）は３０分にわたり、室温で、添加ロートを介してゆっくりと添加された。反応は発熱性の反応であった。混合物の温度は９４．６℃に上昇した。混合物は２．５時間かく拌され３８．８℃まで冷された。追加的なチオ酢酸（１０グラム、０．１３モル）が添加され、わずかな発熱反応が観察された。反応混合物は２５℃で終夜（１８時間）かく拌された。分析は、反応混合物が２パーセント以下のチオ酢酸を有している事を示した。その全体的な純度は９１パーセントであった。反応混合物は、減圧下でクーゲル装置によって蒸留する事でさらに精製された。

ジメルカプトシランである中間産物は、（２−トリエトキシシリルエチル）ビス−（３−チア−４−オキソペンチル）シクロヘキサンからアセチル基を取り除くことによって作成された。マグネチックスターラーバー、温度プローブ／コントローラ、加熱マントル、添加ロート、ト字管、およびコンデンサー、１０段Ｏｌｄｅｒｓｈａｗカラム、ならびに窒素注入口を備えた５リットルの三口丸底フラスコに、（２−トリエトキシシリルエチル）ビス−（３−チア−４−オキソペンチル）シクロヘキサン（２，０００グラム、４．１モル）、エタノール（５４６．８グラム、１１．８モル）およびナトリウムエトキシド・エタノール溶液（１０８グラムの２１％ナトリウムエトキシド・エタノール溶液）を充填した。反応混合物のｐＨは約８であった。反応混合物は、２４時間、８８℃に温められ、酢酸エチルおよびエタノールが反応混合物から取り除かれた。二度、エタノール（１リットル）が混合物へと添加され、２１％ナトリウムエトキシド・エタノール溶液（２１グラム）の添加によって、反応混合物のｐＨが約１０にまで上昇し、そして追加で６．５時間温められた。反応混合物は冷され、加圧ろ過された。反応混合物は、９５℃以下の温度と１ｍｍＨＧの圧力においてストリップされた。ストリップされた産物はろ過され（２−トリエトキシシリルエチル）ビス（２−メルカプトエチル）シクロヘキサン（１３９８グラム、３．５モル、８６％の収率）を提供した。

産物である（２−トリエトキシシリルエチル）−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン、関連するオリゴマーおよびポリスルフィド、ならびにビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）ポリスルフィドの混合物は、ジメルカプタンシランと塩基、硫黄および３−クロロプロピルトリエトキシシランとを反応させることによって作成された。マグネチックスターラーバー、温度プローブ／コントローラ、加熱マントル、添加ロート、ト字管、および、フリードリヒコンデンサー、ならびに窒素注入口を備えた、３リットルの三口丸底フラスコに、（２−トリエトキシシリルエチル）−ビス−（２−メルカプトエチル）シクロヘキサン（５４０．３グラム、１．２８モル）を充填した。２１％ナトリウムエトキシド・エタノール溶液（８２９グラム、２．５６モル）に、１５０グラムのエタノールおよび硫黄（Ａｌｄｏｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌからの昇華された粉、８６．４グラム、２．７モル）を急速なかく拌により、追加。溶液は、３．５時間還流され、１．５時間かけて３−クロロプロピルトリエトキシシラン（６１６．５グラム、２．５６モル）で、その後１７．５時間還流された。溶液は冷まされ、２マイクロメートル、その後、０．１マイクロメートルのフィルターを介して加圧ろ過された。ろ過したものは、その後、エタノールを取り除くために、６０℃で９ｍｍＨｇでストリップされた。産物（１０２７グラム）はＨＰＬＣで分析され、クロマトグラムが図１に示される。

（２−トリエトキシシリルエチル）−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサンの一つの異性体は以下の構造を有する：

実施例２
（２−トリエトキシシリルエチル）−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサンの作成
ジメルカプタンシラン中間体、（２−トリエトキシシリルエチル）ビス（２−メルカプトエチル）シクロヘキサンは、実施例１に記載される手順によって作成された。

産物である、２−トリエトキシシリルエチル）−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン、関連するオリゴマーおよびポリスルフィド、ならびにビス−（トリエポキシシリルプロピル）ポリスルフィド混合物は、ジメルカプタンシランと塩基、硫黄および３−クロロプロピルトリエトキシシランとを反応させることによって作成された。マグネチックスターラーバー、温度プローブ／コントローラ、加熱マントル、添加ロート、ト字管、および、フリードリヒコンデンサー、ならびに窒素注入口を備えた、５リットルの三口丸底フラスコに、（２−トリエトキシシリルエチル）−ビス−（２−メルカプトエチル）シクロヘキサン（５９６．３グラム、１．５モル）を充填した。２１％ナトリウムエトキシド・エタノール溶液（９７９．０グラム、３．０モル）に、６００グラムのエタノールおよび硫黄（Ａｌｄｏｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌからの昇華された粉、２９９．０グラム、９．１モル）を急速なかく拌により、追加。溶液は、終夜還流され、３−クロロプロピルトリエトキシシラン（７４０．０グラム、３．０７モル）が添加され、その後１６時間還流された。溶液は冷まされ、０．１マイクロメートルのフィルターを介して加圧ろ過された。ろ過したものは、その後、エタノールを取り除くために、Ｒｏｔａｖａｐｏｒを用いてストリップされた。産物（１，３７５グラム）はＨＰＬＣ、ＮＭＲおよびＧＣで分析された。

（２−トリエトキシシリルエチル）−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサンの一つの異性体は以下の構造を有している：

比較例Ａ−Ｅ、実施例３−７
低転がり抵抗のタイヤ接地面調合物におけるシランの使用
表１に記載されるような低転がり抵抗の乗用車用タイヤ接地面調合物のモデルと混合手順とは、本発明のシランの代表例を評価するために用いられた。実施例２のシランは後述のように、１６９０ｍｌ（１０３ｃｕ．ｉｎ．）のチャンバ容量の「Ｂ」ＢＡＮＢＵＲＹ（登録商標）（Ｆａｒｒｅｌｌ Ｃｏｒｐ．）ミキサーにおいて混合された。ラバーの混合は２ステップで行われた。ミキサーを８０ｒｐｍにし、冷却水を７１℃にして、ミキサーを起動した。ラバーポリマーはミキサーに添加され、３０秒間ラムダウン（ｒａｍ ｄｏｗｎ）混合された。シランおよびオイルを除く、表１のマスターバッチのシリカおよび他の成分がミキサーに添加され、６０秒間ラムダウン混合された。ミキサーの速度が３５ｒｐｍに減ぜられ、そしてマスターバッチのシランおよびオイルがミキサーに添加され、６０秒間ラムダウン混合された。ミキサー口（ｍｉｘｅｒ ｔｈｒｏａｔ）は塊を落とされ、成分は温度が１４９℃に達するまでラムダウン混合された。成分は追加的に３分３０秒間混合された。ミキサーの速度は、温度が１５２℃と１５７℃に維持されるように調整された。ラバーは投げ下ろされ（ミキサーから取り出され）、約８５℃から８８℃にセットされたロールミルの上でシートが形成され、その後、室温に冷まされた。

第二のステップにおいて、マスターバッチはミキサーに再び充填された。ミキサーの速度は８０ｒｐｍであり、冷却水は７１℃で、そしてバッチの圧は６ＭＰａにセットされた。マスターバッチは３０秒間ラムダウン混合され、マスターバッチの温度は１４９℃にまでされ、ミキサーの速度は３２ｒｐｍに減ぜられた。ラバーは３分２０秒、１５２℃と１５７℃の間の温度で混合された。混合中、（もし必要なら）トリメチロールプロパンが添加された。混合の後、ラバーは投げ下ろされ（ミキサーから取り出され）、約８５℃から８８℃にセットされたロールミルの上でシートが形成され、その後、室温に冷された。

ラバーマスターバッチと硬化剤は、４８℃と５２℃の間に温められた１５ｃｍ×３３ｃｍの２ロールミルにおいて混合された。硫黄と促進剤はラバーに添加され（マスターバッチ）、ロールミル上で完全に混合され、シートを形成させた。シートは、硬化される前に、室温にて２４時間冷された。硬化条件は１６０℃で２０分間であった。実施例２のシランは、上述の手順によってタイヤ接地面調合物へと配合された。実施例２で作成されたシランの性能は、従来技術において作成されたシラン、ビス−（３−トリエトキシシリル−１−プロピル）ジスルフィド（ＴＥＳＰＤ）、およびプロピルトリエトキシシラン、比較例Ａ−Ｅの性能と比較された。試験手順は下記のＡＳＴＭ法に記載される：
ムーニースコーチ ＡＳＴＭ Ｄ１６４６
ムーニー粘度 ＡＳＴＭ Ｄ１６４６
振動ディスクレオメーター（ＯＤＲ）
ＡＳＴＭ Ｄ２０８４
貯蔵モジュラス、ロスモジュラス、
張力および伸長 ＡＳＴＭ Ｄ４１２およびＤ２２４
ＤＩＮ磨耗 ＤＩＮ手順５３５１６
発熱性 ＡＳＴＭ Ｄ６２３
パーセント永久変形 ＡＳＴＭ Ｄ６２３
ショアＡ硬さ ＡＳＴＭ Ｄ２２４０

この手順の結果は以下の表１で一覧できる。

表１は、実施例３−７に列挙される本発明の炭化水素コアポリスルフィドシラン、ＴＥＳＰＤ、およびプロピルトリエトキシシランの性能パラメーターを示す。実施例２からのシランを配合したラバーの物理的性能は、対照のシランよりも常にそして非常に高い。

本発明のシラン化コアポリスルフィドシランは、より高い強化指数によって示されるような、シリカのラバーへのより良いカップリングを含むより優れた性能を、シリカ充填剤配合エラストマー組成物に対し授ける。より良い強化指数は、エラストマー組成物およびそれらのエラストマーから製造される製品への性能の改善と解釈される。

上の記述は多くの具体例を含んでいるが、これらの具体例は発明の限定と解釈されるべきでなく、単にそれらの好ましい実施態様の例示として取られるべきである。当業者なら、ここに添付された請求項によって定義される、本発明の範囲と精神に含まれる、多くの他の実施態様を想像する事ができよう。

Claims (71)

1. 一般式：
   ［Ｙ^１Ｒ^１Ｓ_ｘ−］_ｍ［Ｇ^１（Ｒ^２ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）_ａ］_ｎ［Ｇ^２］_ｏ［Ｒ^３Ｙ^２］_ｐ
   のシラン化コアポリスルフィドであって、
   式中、Ｇ^１の各々が、一般式：
   ［（ＣＨ_２）_ｂ−］_ｃＲ^４［−（ＣＨ_２）_ｄＳ_ｘ−］_ｅ；
   で表されるポリスルフィド基を含む、１から約３０の炭素原子を持つ多価の炭化水素種から独立して選択され、
   Ｇ^２の各々が、一般式：
   ［（ＣＨ_２）_ｂ−］_ｃＲ^５［−（ＣＨ_２）_ｄＳ_ｘ−］_ｅ；
   で表されるポリスルフィド基を含む、１から約３０の炭素原子の多価の炭化水素種から独立して選択され、
   Ｒ^１およびＲ^３の各々が、１から約２０の炭素原子を持つ二価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；
   Ｙ^１およびＹ^２の各々が、シリル（−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）、水素、カルボン酸、エステル（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^６）〔ここで、Ｒ^６が、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基である〕からなる群から独立して選択され；
   Ｒ^２の各々が、−（ＣＨ_２）_ｆ−で表される直鎖炭化水素であり；
   Ｒ^４の各々が、１から約２８の炭素原子の多価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；
   Ｒ^５の各々が、１から約２８の炭素原子の、多価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；
   Ｘ^１の各々が、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＨ、−ＯＲ^６、およびＲ^６Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から独立して選択され、ここでＲ^６は、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基であり；
   Ｘ^２およびＸ^３の各々が、水素、Ｒ^６〔ここで、Ｒ^６が、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基である〕、Ｘ^１〔ここで、Ｘ^１が、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＨ、−ＯＲ^６、およびＲ^６Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から独立して選択され、式中、Ｒ^６が、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基である〕ならびに、シラノールの縮合によって生じる−ＯＳｉ含有基からなる群から独立して選択され；
   下付き文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、およびｘが、ａ、ｃおよびｅが１から約３；ｂが１から約５；ｄが１から約５；ｆが０から約５；ｍおよびｐが１から約１００；ｎが１から約１５；ｏが０から約１０；ならびにｘが１から約１０、によって独立して与えられる。
2. Ｒ^１およびＲ^３が、一つの水素原子がＹ^１もしくはＹ^２基で置換されている分岐のもしくは直鎖の、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、もしくはアラルキル基である、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
3. Ｒ^６が、分岐のもしくは直鎖の、アルキル、アルケニル、アリール、もしくはアラルキルである、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
4. Ｒ^４が、ａ＋ｃ＋ｅ−１個の水素が置き換えられた環状の、分岐のもしくは直鎖の、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、もしくはアラルキル基である、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
5. Ｒ^４およびＲ^５が、１から約２７の炭素原子の多価ヘテロカーボンフラグメントである、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
6. Ｒ^５が、ａ＋ｃ＋ｅ−１個の水素が置き換えられた環状の、分岐のもしくは直鎖の、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、もしくはアラルキル基である、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
7. Ｒ^４およびＲ^５のヘテロ原子が、硫黄、酸素、窒素およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項６に記載のシラン化コアポリスルフィド。
8. ａ＋ｃ＋ｅ−１個の水素が置き換えられたＲ^４のアルキル、アルキニル、アリール、アラルキルおよびアレニルが、メチル、エチル、プロピル、およびイソブチル、ビニル、プロペニル、アリル、メタリル、エチリデニルノルボルナン、エチリデンノルボルニル、エチリデニルノルボルネン、エチリデンノルボルネニル、アセチレニル、およびプロバルギル、メチルアセチレニル、フェニル、ナフタレニル、ベンジル、フェネチル、トリル、キシリル、ノルボルニル、ノルボルネニル、エチルノルボルニル、エチルノルボルネニル、シクロヘキシル、エチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキセニル、シクロヘキシルシクロヘキシル、およびシクロドデカトリエニルからなる群から選択される、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
9. ｃ＋ｅ−１個の水素が置き換えられたＲ^５のアルキル、アルキニル、アリール、アラルキル基およびアレニルが、メチル、エチル、プロピル、およびイソブチル、ビニル、プロペニル、アリル、メタリル、エチリデニルノルボルナン、エチリデンノルボルニル、エチリデニルノルボルネン、エチリデンノルボルネニル、アセチレニル、プロバルギル、メチルアセチレニル、フェニル、ナフタレニル、ベンジル、フェネチル、トリル、キシリル、ノルボルニル、ノルボルネニル、エチルノルボルニル、エチルノルボルネニル、シクロヘキシル、エチルシクロヘキシル、エチルシクロヘキセニル、シクロヘキシルシクロヘキシル、およびシクロドデカトリエニルからなる群から選択される、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
10. Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６の環状構造が、二環式の、三環式の、およびより高次の環状構造からなる群から選択され、ここで前記環状構造が、アルキル、アルケニル、および／もしくはアルキニル基によって置換されている、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
11. Ｘ^１が、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、クロロ、およびアセトキシからなる群から選択される、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
12. Ｘ^２およびＸ^３が、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、ヒドロキシ、クロロ、アセトキシ、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、フェニル、ビニル、シクロヘキシル、直鎖アルキル、ブチル、ヘキシル、オクチル、ラウリル、およびオクタデシルからなる群から選択される、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
13. Ｒ^１およびＲ^３が、端において、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、ｄ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、ベータ置換類似体およびそれらの混合物によって末端置換された、末端直鎖アルキルである、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
14. 前記ベータ置換類似体が、−ＣＨ_２（ＣＨ_２）_ｕＣＨ（ＣＨ_３）−であり、ここでｕがゼロから１７である、請求項１３に記載のシラン化コアポリスルフィド。
15. Ｒ^１およびＲ^３が、メタリルクロライド、ジビニルベンゼン、ジアリルエーテル、ブタジエン、ピペリレン、イソプレン、ジラジカル、リモネン、トリビニルシクロヘキサンから誘導可能なモノビニル含有構造、三置換のＣ＝Ｃを有するミルセンから誘導可能な単不飽和構造、三置換のＣ＝Ｃを欠いたミルセンから誘導可能な単不飽和構造、およびそれらの混合物から誘導可能な構造である、請求項１３に記載のシラン化コアポリスルフィド。
16. Ｇ^１が非共役末端のジオレフィンから誘導される、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
17. Ｇ^１が、−ＣＨ_２（ＣＨ_２）_ｑ＋１ＣＨ（ＣＨ_２−）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_ｑＣＨ（ＣＨ_２−）_２（式中、ｑはゼロから２０である）からなる群から選択される、請求項１６に記載のシラン化コアポリスルフィド。
18. Ｇ^１が、ジビニルベンゼン、ブタジエン、イソプレン、トリビニルシクロヘキサン、ミルセン、トリエタノールアミン誘導体、およびそれらの混合物から誘導される、請求項１７に記載のシラン化コアポリスルフィド。
19. Ｇ^１が、−ＣＨ（ＣＨ_２−）（ＣＨ_２）_ｑＣＨ（ＣＨ_２−）−（式中、ｑは１から２０である）である、請求項１６に記載のシラン化コアポリスルフィド。
20. Ｇ^１が、ジビニルベンゼン、ジアリルエーテル、ブタジエン、ピペリレン、イソプレン、トリビニルシクロヘキサン、ミルセン、およびそれらの混合物から誘導される、請求項１９に記載のシラン化コアポリスルフィド。
21. Ｇ^２が非共役末端のジオレフィンから誘導される、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
22. Ｇ^２が、−ＣＨ_２（ＣＨ_２）_ｑ＋１ＣＨ（ＣＨ_２−）および−ＣＨ（ＣＨ_３）（ＣＨ_２）_ｑＣＨ（ＣＨ_２−）_２（式中、ｑはゼロから２０である）からなる群から選択される、請求項２１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
23. Ｇ^２が、ジビニルベンゼン、ブタジエン、イソプレン、トリビニルシクロヘキサン、ミルセン、およびそれらの混合物から誘導される、請求項２２に記載のシラン化コアポリスルフィド。
24. Ｇ^２が、−ＣＨ_２（ＣＨ_２）_ｑ＋１ＣＨ（ＣＨ_２−）−（式中、ｑは０から２０である）である、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
25. Ｇ^２が、トリビニルシクロヘキサン、トリメチロールアルカン、トリエタノールアミン、およびそれらの混合物から誘導される、請求項２４に記載のシラン化コアポリスルフィド。
26. 前記シラン化コアポリスルフィドが、２−トリエトキシシリル−１，３−ビス−（３−トリエトキシシリル−１−プロピルテトラチア）プロパン、４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−ジエトキシメチルシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１０−トリエトキシシリル−３，４，５，６，７−ペンタチアデシル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（１０−トリエトキシシリル−３，４，５，６，７−ペンタチアデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）−２−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）ベンゼン；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド；ビス−２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）フェニル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−３−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−ジエトキシメチルシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド、およびそれらの混合物である、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
27. Ｒ^１およびＲ^３が、１から約５の炭素原子を有する二価の炭化水素フラグメントから独立して選択される、請求項１に記載のシラン化コアポリスルフィド。
28. Ｒ^１およびＲ^３が、一つの水素原子がＹ^１もしくはＹ^２基によって置換されている分岐のおよび／もしくは直鎖のアルキル、アルケニル、もしくはアルキニル基である、請求項２７に記載のシラン化コアポリスルフィド。
29. Ｙ^１およびＹ^２が、シリル（−ＳｉＸ^１，Ｘ^２，Ｘ^３）、水素、カルボン酸、エステル（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^６）〔ここで、Ｒ^６が、１から５の炭素原子を有した一価の炭化水素基である〕である、請求項２７に記載のシラン化コアポリスルフィド。
30. Ｒ^２が、−（ＣＨ_２）_ｆ−によって表される直鎖の炭化水素であって、式中ｆが約０から約３までの整数である、請求項２７に記載のシラン化コアポリスルフィド。
31. Ｒ^４が、３から約１０の炭素原子の多価の炭化水素フラグメントである、請求項２７に記載のシラン化コアポリスルフィド。
32. Ｒ^５が、３から約１０の炭素原子の、多価の炭化水素フラグメントである、請求項２７に記載のシラン化コアポリスルフィド。
33. Ｘ^１が、加水分解性の、−ＯＨおよび−ＯＲ^６からなる群から独立して選択され、ここでＲ^６が、１から５の炭素原子を有した一価の炭化水素基である、請求項２７に記載のシラン化コアポリスルフィド。
34. Ｘ^２およびＸ^３が、Ｒ^６（ここでＲ^６は、１から５の炭素原子を有した一価の炭化水素基である）、Ｘ^１（ここでＸ^１は、加水分解性の、−ＯＨおよび−ＯＲ^６からなる群から独立して選択され、ここでＲ^６が、１から５の炭素原子を有した一価の炭化水素基である）ならびに、シラノールの縮合によって生じる−ＯＳｉ含有基からなる群から独立して選択される、請求項２７に記載のシラン化コアポリスルフィド。
35. 下付き文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、およびｘの各々が、ａが１から約２；ｂおよびｄが１から約３；ｃおよびｅが１；ｆが０から約３；ｍおよびｐが１；ｎが１から約１０；ｏが０から約１；ならびにｘが１から約４、によって独立して与えられる、請求項２７に記載のシラン化コアポリスルフィド。
36. 組成物であって、約３０から約９９重量パーセントの、請求項１に記載されるシラン化コアポリスルフィドと、約７０から約１重量パーセントの一般式：
    ［Ｘ^１Ｘ^２Ｘ^３ＳｉＲ^１Ｓ_ｘＲ^３ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３］
    のシランとを含有し、
    ここで、Ｒ^１およびＲ^３の各々が、一つの水素原子がＹ^１もしくはＹ^２基で置換された分岐のおよび直鎖のアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、もしくはアラルキル基を含む、１から約２０の炭素原子を持つ二価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；
    Ｙ^１およびＹ^２の各々が、シリル（−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）から独立して選択され、
    Ｘ^１の各々が、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＨ、−ＯＲ^６、およびＲ^６Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から独立して選択され、ここでＲ^６が、分岐のもしくは直鎖の、アルキル、アルケニル、アリール、もしくはアラルキル基を含む、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基であり、Ｘ^２およびＸ^３の各々が、水素、Ｒ^６、Ｘ^１、およびシラノールの縮合によって生じる−ＯＳｉ含有基からなる群から独立して選択され；そして、ｘが１から約１０である、組成物。
37. 前記シランが、ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）ジスルフィド；ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）トリスルフィド；ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド；ビス−（３−トリエトキシシリルプロピル）ペンタスルフィド；ビス−（３−ジエトキシメチルシリルプロピル）ジスルフィド；ビス−（３−エトキシジメチルシリルプロピル）ジスルフィド；ビス−（トリエトキシシリルメチル）ジスルフィド；ビス−（４−トリエトキシシリルベンジル）ジスルフィド；ビス−（３−トリエトキシシリルフェニル）ジスルフィド、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項３６に記載の組成物。
38. 請求項１によるシラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセスであって：
    （ａ）ＨＳｉ（Ｘ^１Ｘ^２Ｘ^３）の構造を持つヒドロシランを、少なくとも一つの反応性の二重結合を有した炭化水素と反応させ、中間産物を産生するステップ；
    （ｂ）ステップ（ａ）からの中間産物を、フリーラジカル剤の存在下で、Ｒ^６Ｃ（＝Ｏ）ＳＨ（式中、Ｒ^６は、１から２０の炭素原子を有した任意の一価の炭化水素基である）の群から選択される硫化剤と反応させるステップ；
    （ｃ）プロトン供与体を用いてステップ（ｂ）の産物上のメルカプと基を脱ブロック化させるステップ；
    （ｄ）ステップ（ｃ）の中間体のメルカプタンを、塩基および硫黄の混合物と反応させるステップ；
    （ｅ）ステップ（ｄ）の中間体を、塩素、臭素もしくはヨウ素もしくはそれらの混合物から選択される脱離基を有した、置換のもしくは非置換の炭化水素と反応させるステップ；
    からなる、プロセス。
39. Ｒ^６が、１から５の炭素原子の一価の炭化水素基である、請求項３８による、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
40. 前記プロセスが有機溶媒中で行われる、請求項３８による、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
41. 前記有機溶媒が、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項４０による、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
42. ステップ（ａ）の少なくとも一つの反応性の二重結合を有した炭化水素が一般式：
    

    

    を有し、ここでＲ^４が、１から約２８の炭素原子の多価の炭化水素フラグメントであって、下付き文字ｇ、ｈ、およびｉが約０から３である、請求項３８に記載の、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
43. ステップ（ｂ）のフリーラジカル剤が、チオカルボン酸をチオカルボン酸ラジカルへと転換する酸化剤である、請求項３８に記載の、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
44. 前記酸化剤が、酸素、ペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項４３に記載の、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
45. ステップ（ｃ）のプロトン供与体種が、水素含有ヘテロカーボンもしくは置換へテロカーボンであって、ステップ（ｂ）の中間体と反応することが出来る、請求項３８に記載の、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
46. 前記プロトン供与体が、アルコール、アミン、およびメルカプタン、ならびにそれらの混合物からなる群から選択される、請求項４５に記載の、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
47. 前記アルコールが、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、プロパノール、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項４６に記載の、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
48. 前記アミンが、アンモニア、メチルアミン、プロピルアミン、ジエタノールアミン、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項４６に記載の、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
49. 前記メルカプタンが、プロピルメルカプタン、ブチルメルカプタン、およびそれらの混合物からなる群から選択される、請求項４６に記載の、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
50. ステップ（ｅ）の置換のもしくは非置換の、炭化水素の構造が、
    Ｙ^１Ｒ^１Ｚ；もしくは
    Ｙ^２Ｒ^３Ｚ；
    からなる群から選択される一般式を有し、
    ここで、Ｙ^１およびＹ^２の各々が、シリル（−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）、水素、カルボン酸、エステル（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^６）〔ここで、Ｒ^６が、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基である〕からなる群から独立して選択され、
    Ｒ^１およびＲ^３が、１から約２０の炭素原子を有した二価の炭化水素フラグメントから独立して選択され、Ｚが、Ｃｌ、ＢｒおよびＩ、ならびにそれらの混合物からなる群から選択される、請求項３８に記載の、シラン化コアポリスルフィドを作成するためのプロセス。
51. 前記シラン化コアポリスルフィドが、２−トリエトキシシリル−１，３−ビス−（３−トリエトキシシリル−１−プロピルテトラチア）プロパン、４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−ジエトキシメチルシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１０−トリエトキシシリル−３，４，５，６，７−ペンタチアデシル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（１０−トリエトキシシリル−３，４，５，６，７−ペンタチアデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）−２−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）ベンゼン；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド；ビス−２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）フェニル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−３−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−ジエトキシメチルシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド、およびそれらの混合物である、請求項３８に記載のプロセス。
52. ラバー組成物であって：
    （ａ）一般式：
    ［Ｙ^１Ｒ^１Ｓ_ｘ−］_ｍ［Ｇ^１（Ｒ^２ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）_ａ］_ｎ［Ｇ^２］_ｏ［Ｒ^３Ｙ^２］_ｐ
    のシラン化コアポリスルフィド、
    （ｂ）無機充填剤、および、
    （ｃ）ラバー
    を含有し、
    式中、Ｇ^１の各々が、一般式：
    ［（ＣＨ_２）_ｂ−］_ｃＲ^４［−（ＣＨ_２）_ｄＳ_ｘ−］_ｅ；
    で表されるポリスルフィド基を含む、１から約３０の炭素原子を持つ多価の炭化水素種から独立して選択され、
    Ｇ^２の各々が、一般式：
    ［（ＣＨ_２）_ｂ−］_ｃＲ^５［−（ＣＨ_２）_ｄＳ_ｘ−］_ｅ；
    で表されるポリスルフィド基を含む、１から約３０の炭素原子の多価の炭化水素種から独立して選択され、
    Ｒ^１およびＲ^３の各々が、１から約２０の炭素原子を持つ二価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；
    Ｙ^１およびＹ^２の各々が、シリル（−ＳｉＸ^１Ｘ^２Ｘ^３）、カルボン酸、エステル（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^６）〔ここで、Ｒ^６が、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基である〕、ヒドロキシ、水素、からなる群から独立して選択され；
    Ｒ^２の各々が、−（ＣＨ_２）_ｆ−で表される直鎖炭化水素であり；
    Ｒ^４の各々が、１から約２８の炭素原子の多価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；
    Ｒ^５の各々が、１から約２８の炭素原子の多価の炭化水素フラグメントから独立して選択され；
    Ｘ^１の各々が、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＨ、−ＯＲ^６、およびＲ^６Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から独立して選択され、ここでＲ^６は、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基であり；
    Ｘ^２およびＸ^３の各々が、水素、Ｒ^６〔ここで、Ｒ^６が、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基である〕、Ｘ^１〔ここで、Ｘ^１は−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＨ、−ＯＲ^６、およびＲ^６Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から独立して選択され、式中、Ｒ^６は、１から２０の炭素原子を有した一価の炭化水素基である〕ならびに、シラノールの縮合によって生じる−ＯＳｉ含有基からなる群から独立して選択され；
    下付き文字ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、およびｘが、ａ、ｃおよびｅは１から約３；ｂは１から約５；ｄは１から約５；ｆは０から約５；ｍおよびｐは１から約１００；ｎが１から約１５；ｏが０から約１０；ならびにｘが１から約１０、によって独立して与えられる、組成物。
53. （ｄ）硬化剤、ならびに、任意選択で、硫黄化合物、活性化剤、遅延剤、促進剤、加工添加剤、オイル、可塑剤、粘着付与樹脂、シリカ、充填剤、顔料、脂肪酸、酸化亜鉛、ワックス、坑酸化剤およびオゾン劣化防止剤、素練り促進剤、強化剤、およびそらの混合物からなる群から選択される、少なくとも一つの他の添加剤をさらに含有する、請求項５２に記載のラバー組成物。
54. 前記ラバー組成物が、共役ジエンホモポリマーおよび共役ジエンコポリマー、少なくとも一つの共役ジエンおよび芳香族ビニル化合物の共重合体、およびそれらの混合物からなる群から選択される、少なくとも一つの硫黄加硫可能なラバーである、請求項５２に記載のラバー組成物。
55. 前記ラバー組成物が、少なくとも一つの天然ラバーである、請求項５２に記載のラバー組成物。
56. 前記ラバー組成物が、少なくとも一つのエマルション重合由来のラバーである、請求項５２に記載のラバー組成物。
57. 前記エマルション重合由来のラバーが、スチレン／ブタジエンラバー、エマルション製造スチレン／ブタジエンラバー、エチレン−プロピレンコポリマーおよびエチレン−プロピレンｔｅｒ−ポリマー、ブタジエン／アクリロニトリルラバー、ポリブタジエンラバー、ならびにスチレン／ブタジエン／アクリロニトリルラバーからなる群から選択されるような、少なくとも一つのラバーである、請求項５２に記載のラバー組成物。
58. 前記ラバー組成物が、少なくともひとつの溶液重合由来のラバーである、請求項５２に記載のラバー組成物。
59. 前記溶液重合由来ラバーが、約５から約５０パーセントのビニル含量を含むスチレン／ブタジエンラバーである、請求項５２に記載のラバー組成物。
60. 前記溶液重合由来ラバーが、約９から約３６パーセントのビニル含量を含むスチレン／ブタジエンラバーである、請求項５２に記載のラバー組成物。
61. 前記共役ジエンが、イソプレン、１，３−ブタジエン、スチレン、およびα−メチルスチレン、ならびにそれらの混合物である、請求項５２に記載のラバー組成物。
62. 前記ポリブタジエンが約９０重量パーセントであり、シス−１，４ブタジエン形態である、請求項５７に記載のラバー組成物。
63. 前記ラバーが、シス−１，４−ポリイソプレンラバー、エマルション重合製造スチレン／ブタジエンコポリマーラバー、有機溶液重合製造スチレン／ブタジエンラバー、３，４−ポリイソプレンラバー、イソプレン／ブタジエンラバー、スチレン／イソプレン／ブタジエンｔｅｒ−ポリマーラバー、シス−１，４−ポリブタジエン、中ビニルポリブタジエンラバー（ここで、前記中ビニルポリブタジエンラバーは約３５から５０重量パーセントのビニルを含む）、高ビニルポリブタジエンラバー（ここで、前記高ビニルポリブタジエンラバーは約５０から７５重量パーセントのビニルを含む）、スチレン／イソプレンコポリマー、エマルション重合製造スチレン／ブタジエン／アクリロニトリルｔｅｒ−ポリマーラバー、およびブタジエン／アクリロニトリルコポリマーラバーからなる群から選択される、請求項５７に記載のラバー組成物。
64. 前記エマルション重合由来のスチレン／ブタジエンが、約２０から約２８重量パーセントのスチレン含量を含む、請求項５７に記載のラバー組成物。
65. 前記エマルション重合由来のスチレン／ブタジエンが、約３０から約４５重量パーセントのスチレン含量を含む、請求項６４に記載のラバー組成物。
66. 前記エマルション重合由来のスチレン／ブタジエン／アクリロニトリルｔｅｒ−ポリマーラバーが、約２から約４０重量パーセントのアクロニトリルを含む、請求項５２に記載のラバー組成物。
67. 前記シラン化コアポリスルフィドが、２−トリエトキシシリル−１，３−ビス−（３−トリエトキシシリル−１−プロピルテトラチア）プロパン、４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−ジエトキシメチルシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１３−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアトリデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（１０−トリエトキシシリル−３，４，５，６，７−ペンタチアデシル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（１０−トリエトキシシリル−３，４，５，６，７−ペンタチアデシル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；１−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２，４−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，４−ビス−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキサン；２−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）−２−（８−トリエトキシシリル−３，４，５−トリチアオクチル）シクロヘキサン；−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−１，２−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）ベンゼン；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド；ビス−２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−２−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）フェニル］エチル］テトラスルフィド；ビス−［２−［４−（２−トリエトキシシリル−１−エチル）−３−ビス−（９−トリエトキシシリル−３，４，５，６−テトラチアノニル）シクロヘキシル］エチル］トリスルフィド；ビス−［２−［４−（２−ジエトキシメチルシリル−１−エチル）−２−（７−トリエトキシシリル−３，４−ジチアヘプチル）シクロヘキシル］エチル］ジスルフィド、およびそれらの混合物である、請求項５２に記載のラバー組成物。
68. 前記ラバー組成物中に存在するシラン化コアポリスルフィドの全量が、ラバーの１００重量部当たり、約０．０５から約２５重量部である、請求項５２に記載のラバー組成物。
69. 前記ラバー組成物中に存在するシラン化コアポリスルフィドの全量が、ラバーの１００重量部当たり、約１から約１０重量部である、請求項５１に記載のラバー組成物。
70. 前記充填剤が、１００重量部当たり、約５から約１００重量部である、請求項６９に記載のラバー組成物。
71. 前記充填剤が、１００重量部当たり、約２５から約８０重量部である、請求項７０に記載のラバー組成物。

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