EP1344850B1 - Alkalisches Zink-Nickelbad - Google Patents

Alkalisches Zink-Nickelbad Download PDF

Info

Publication number
EP1344850B1
EP1344850B1 EP03003890A EP03003890A EP1344850B1 EP 1344850 B1 EP1344850 B1 EP 1344850B1 EP 03003890 A EP03003890 A EP 03003890A EP 03003890 A EP03003890 A EP 03003890A EP 1344850 B1 EP1344850 B1 EP 1344850B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
nickel
anode
zinc
bath
alkaline
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP03003890A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP1344850A1 (de
Inventor
Ernst-Walter Hillebrand
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hillebrand Walter GmbH and Co KG
Original Assignee
Hillebrand Walter GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=7875843&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=EP1344850(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Hillebrand Walter GmbH and Co KG filed Critical Hillebrand Walter GmbH and Co KG
Priority to DE29924530U priority Critical patent/DE29924530U1/de
Publication of EP1344850A1 publication Critical patent/EP1344850A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP1344850B1 publication Critical patent/EP1344850B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/02Tanks; Installations therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/565Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/12Process control or regulation

Definitions

  • the invention relates to a galvanic bath for Auf / bring zinc-nickel coatings with an anode, a cathode and an alkaline electrolyte.
  • the alkaline zinc-nickel electroplating baths disclosed in German Patent Specification 37 12 511 have recently been used, which have, for example, the following composition: 11.3 g / l ZnO 4.1 g / l NiSO 4 .6H 2 O 120 g / l NaOH 5.1 g / l polyethyleneimine.
  • the amines contained in the electroplating bath serve as complexing agents for the nickel ions, which are otherwise insoluble in the alkaline medium.
  • the composition of the baths varies according to the manufacturer.
  • the electroplating baths are usually operated with insoluble nickel anodes.
  • the zinc concentration is kept constant by adding zinc and the nickel concentration by adding a nickel solution, for example, a nickel sulfate solution.
  • cyanide can be detected in the baths after a few weeks of use.
  • the cyanide load requires a regular renewal of the bath and a special wastewater treatment, which has a significant effect on the operating costs of the bath. This is all the more true as the effluents have a very high organic concentration and, with a COD value of approx. 15,000 to 20,000 mg / l, make cyanide poisoning more difficult. Compliance with the legislated wastewater values (nickel 0.5 ppm and zinc 2 ppm) is then only possible by extensive addition of chemicals.
  • the formation of the second phase is due to a reaction of the amines, which are reacted in alkaline solution of nickel anodes to nitriles (among others also to cyanide). Due to the decomposition of the amines, the bath must be added continuously new complexing agents, which drives the cost of the process in the air.
  • Anodes other than nickel anodes can not be used because they dissolve in the alkaline electrolyte, which also has adverse effects on the quality of the coating.
  • the invention is based on the problem to provide an alkaline zinc-nickel electroplating bath, which provides low-cost zinc-nickel coatings of high quality.
  • the invention proposes to separate the anode from the alkaline electrolyte through an ion exchange membrane.
  • a cation exchange membrane made of a perfluorinated polymer has proved to be particularly advantageous since these have a negligible electrical resistance but a high chemical and mechanical resistance.
  • the zinc-nickel bath acts as a catholyte in the solution according to the invention.
  • sulfuric acid or phosphoric acid can be used as the anolyte.
  • Suitable anode materials in the galvanic cell according to the invention are customary anodes, such as, for example, platinum-doped titanium anodes, since these are no longer exposed to the basic zinc-nickel bath.
  • Fig. 1 shows the schematic structure of a galvanic bath according to the invention.
  • a galvanic cell 1 which has an anode 2 and a cathode 3, which is to be coated workpiece.
  • the catholyte 4 surrounding the cathode is alkaline and consists of a zinc-nickel electroplating bath of known composition, in which amines are used as complexing agents for the nickel ions.
  • the anolyte 5 surrounding the anode 2 can consist, for example, of sulfuric or phosphoric acid.
  • Anolyte 5 and catholyte 4 are separated from each other by a perfluorinated cation exchange membrane 6.
  • This membrane 6 allows for unimpeded flow of current through the bath, but prevents the catholyte 4, in particular the amines contained therein, from coming into contact with the anode 2, thereby avoiding the reactions set out in detail in the introduction to the description, including the adverse effects thereof.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
  • Electrolytic Production Of Metals (AREA)
  • Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Galvanikbad zum Auf/bringen von Zink-Nickel-Überzügen mit einer Anode, einer Kathode und einem alkalischen Elektrolyten.
  • Es ist bekannt, elektrisch leitende Werkstoffe zur Verbesserung deren Korrosionsbeständigkeit mit Zink-Nickel-Legierungen zu überziehen. Dazu wird in herkömmlicher Weise ein saures Elekrolytbad, beispielsweise mit Sulfat-, Chlorid-, Fluoropromat- oder Sulfamat-Elektrolyten eingesetzt. Bei diesen Verfahren ist die Erzielung einer gleichmäßigen Dicke des Zink-Nickel-Überzuges auf dem zu beschichtenden Werkstoff regelungstechnisch sehr aufwendig und in der Praxis meistens unmöglich.
  • Aus diesem Grund werden in jüngster Zeit die in der deutschen Patentschrift 37 12 511 offenbarten alkalischen Zink-Nickel-Galvanikbäder eingesetzt, die beispielsweise folgende Zusammensetzung aufweisen:
    11,3 g/l ZnO
    4,1 g/l NiSO4*6H2O
    120 g/l NaOH
    5,1 g/l Polyethylenimin.
  • Die in dem Galvanikbad enthaltenen Amine dienen als Komplexbildner für die Nickelionen, welche im alkalischen Medium ansonsten unlöslich sind. Die Zusammensetzung der Bäder variiert je nach Hersteller.
  • Betrieben werden die Galvanikbäder gewöhnlich mit unlöslichen Nickelanoden. Die Zinkkonzentration wird durch Zugabe von Zink und die Nickelkonzentration durch Addition einer Nickellösung, zum Beispiel einer Nickelsulfat-Lösung, konstant gehalten.
  • Diese Bäder zeigen jedoch nach einigen Stunden Betrieb eine Farbänderung von ursprünglich blau-violett nach braun. Nach mehreren Tagen bzw. Wochen verstärkt sich diese Färbung und es ist eine Trennung des Bades in zwei Phasen feststellbar, wobei die obere Phase dunkelbraun ist. Diese Phase bewirkt erhebliche Störungen der Beschichtung der Werkstücke, wie beispielsweise ungleichmäßige Schichtdicken oder Bläschenbildung. Eine kontinuierliche Reinigung des Bades, d.h. ein kontinuierliches Abschöpfen dieser Schicht, ist somit unumgänglich. Diese ist aber zeit- und kostenaufwendig.
  • Des weiteren kann nach einigen Wochen des Betriebs Cyanid in den Bädern nachgewiesen werden. Die Cyanidbelastung erfordert ein regelmäßiges Erneuern des Bades und eine spezielle Abwasserbehandlung, die sich erheblich auf die Betriebskosten des Bades auswirkt. Dies gilt um so mehr, als die Abwässer eine sehr hohe Organikkonzentration aufweisen und mit einem CSB-Wert von ca. 15.000 bis 20.000 mg/l die Cyanidentgiftung erschweren. Das Einhalten der vom Gesetzgeber vorgegebenen Abwasserwerte (Nickel 0,5 ppm und Zink 2 ppm) ist dann nur noch durch umfangreichen Zusatz von Chemikalien möglich.
  • Die Ausbildung der zweiten Phase ist auf eine Reaktion der Amine zurückzuführen, die in alkalischer Lösung an Nickelanoden zu Nitrilen (unter anderen auch zu Cyanid) umgesetzt werden. Aufgrund der Zersetzung der Amine muß dem Bad zudem kontinuierlich neuer Komplexbildnern zugegeben werden, was die Kosten des Prozesses in die Höhe treibt.
  • Andere Anoden als Nickel-Anoden können nicht eingesetzt werden, weil diese sich in dem alkalischen Elektrolyten auflösen, was ebenfalls nachteilige Auswirkungen auf die Qualität der Beschichtung mit sich bringt.
  • Vor diesem Hintergrund liegt der Erfindung das Problem zugrunde, ein alkalisches Zink-Nickel-Galvanikbad zu schaffen, welches kostengünstig Zink-Nickel-Beschichtungen von hoher Qualität liefert.
  • Zur Lösung dieses Problems schlägt die Erfindung vor, die Anode von dem alkalischen Elektrolyt durch eine lonenaustauschermembran zu trennen.
  • Durch diese Trennung wird die Reaktion der Amine an der Nickelanode vermieden, was zur Folge hat, daß keine unerwünschten Nebenreaktionen ablaufen, die Entsorgungsprobleme bereiten oder zu einer zweiten Phase auf dem Bad absetzenden Reaktionsprodukten führen und die Qualität des Zink-Nickel-Überzuges nachteilig beeinflussen. Das aufwendige Abschöpfen dieser Schicht sowie das Erneuern des Bades wird durch die Erfindung überflüssig. Ferner ist eine erhebliche Qualitätsverbesserung der Beschichtung zu verzeichnen.
  • Als besonders vorteilhaft hat sich der Einsatz einer Kationenaustauschermembran aus einem perfluorierten Polymer herausgestellt, da diese einen vernachlässigbaren elektrischen Widerstand, jedoch eine hohe chemische und mechanischer Widerstandsfähigkeit besitzen.
  • Des weiteren entfällt die Cyanidvergiftung des Abwassers, wodurch die gesamte Abwasserreinigung erheblich vereinfacht wird. Darüber hinaus wird das Auffüllen des Elektrolyten mit Komplexbildner überflüssig, da dieser sich nicht mehr zersetzt und seine Konzentration im Bad annähernd konstant bleibt. Das Verfahren wir dadurch erheblich kostengünstiger.
  • Das Zink-Nickelbad fungiert bei der erfindungsgemäßen Lösung als Katholyt. Als Anolyt können beispielsweise Schwefel- oder Phosphorsäure eingesetzt werden. Als Anodenmaterial kommen in der erfindungsgemäßen Galvanikzelle übliche Anoden, wie z.B. platinierte Titan-anoden infrage, da diese nicht mehr dem basischen Zink-Nickelbad ausgesetzt sind.
  • Die vorliegende Erfindung wird anhand des in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert. In der Zeichnung zeigt:
  • Fig. 1 den schematischen Aufbau eines erfindungsgemäßen Galvanikbades.
  • In Fig. 1 ist eine Galvanikzelle 1 dargestellt, die eine Anode 2 und eine Kathode 3, bei der es sich um das zu beschichtende Werkstück handelt, aufweist. Der die Kathode umgebende Katholyt 4 ist alkalisch und besteht aus einem Zink-Nickel-Galvanikbad bekannter Zusammensetzung, bei dem als Komplexbildner für die Nickelionen Amine eingesetzt werden. Der die Anode 2 umgebende Anolyt 5 kann beispielsweise aus Schwefel- oder Phosphorsäure bestehen. Anolyt 5 und Katholyt 4 sind durch eine perfluorierte Kationenaustauschermembran 6 voneinander getrennt. Diese Membran 6 ermöglicht einen ungehinderten Stromfluß durch das Bad, verhindert jedoch, daß der Katholyt 4, insbesondere die darin enthaltenen Amine, mit der Anode 2 in Kontakt kommt, wodurch die in der Beschreibungseinleitung ausführlich dargelegten Reaktionen einschließlich deren nachteiligen Auswirkungen vermieden werden.

Claims (4)

  1. Alkalisches Galvanikbad (1) zum Aufbringen von Zink-Nickel-Überzügen mit einer Anode (2) und einer Kathode (3), dadurch gekennzeichnet, daß die Anode von dem alkalischen Elektrolyten durch eine lonenaustauschermembran (6) getrennt ist.
  2. Galvanikbad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode (2) durch eine perfluorierte Kationenaustauschermembran (6) von dem alkalischen Elektrolyten (4) getrennt ist.
  3. Galvanikbad nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch Schwefelsäure, Phosphorsäure, Methansulfonsäure, Amidosulfonsäure und/oder Phosphonsäure als Anolyt (5).
  4. Galvanikbad nach einem der Ansprüche 1 bis 3, gekennzeichnet durch eine platinierte Titananode.
EP03003890A 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches Zink-Nickelbad Expired - Lifetime EP1344850B1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE29924530U DE29924530U1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches Zink-Nickelbad

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19834353 1998-07-30
DE19834353A DE19834353C2 (de) 1998-07-30 1998-07-30 Alkalisches Zink-Nickelbad
EP99940077A EP1102875B1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad

Related Parent Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP99940077A Division EP1102875B1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad
EP99940077.3 Division 1999-07-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP1344850A1 EP1344850A1 (de) 2003-09-17
EP1344850B1 true EP1344850B1 (de) 2006-11-22

Family

ID=7875843

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP99940077A Revoked EP1102875B1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad
EP03003890A Expired - Lifetime EP1344850B1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches Zink-Nickelbad

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP99940077A Revoked EP1102875B1 (de) 1998-07-30 1999-07-29 Alkalisches zink-nickelbad

Country Status (22)

Country Link
US (4) US6602394B1 (de)
EP (2) EP1102875B1 (de)
JP (2) JP4716568B2 (de)
KR (1) KR20010071074A (de)
CN (1) CN1311830A (de)
AT (2) ATE242821T1 (de)
AU (1) AU5415299A (de)
BG (1) BG105184A (de)
BR (1) BR9912589A (de)
CA (1) CA2339144A1 (de)
CZ (1) CZ298904B6 (de)
DE (3) DE19834353C2 (de)
EE (1) EE200100059A (de)
ES (2) ES2201759T3 (de)
HR (1) HRP20010044B1 (de)
HU (1) HUP0103951A3 (de)
IL (1) IL141086A0 (de)
MX (1) MXPA01000932A (de)
PL (1) PL198149B1 (de)
SK (1) SK285453B6 (de)
TR (1) TR200100232T2 (de)
WO (1) WO2000006807A2 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2384800A1 (de) 2010-05-07 2011-11-09 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Regeneration alkalischer Zinknickelelektrolyte durch Entfernen von Cyanidionen
EP3358045A1 (de) 2017-02-07 2018-08-08 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen
EP3415665A1 (de) 2017-06-14 2018-12-19 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink-nickel-legierungsüberzügen aus einem alkalischen zink-nickel-legierungsbad mit reduziertem abbau von additiven

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19834353C2 (de) 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad
US20060157355A1 (en) * 2000-03-21 2006-07-20 Semitool, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
US8852417B2 (en) 1999-04-13 2014-10-07 Applied Materials, Inc. Electrolytic process using anion permeable barrier
US8236159B2 (en) 1999-04-13 2012-08-07 Applied Materials Inc. Electrolytic process using cation permeable barrier
US20060189129A1 (en) * 2000-03-21 2006-08-24 Semitool, Inc. Method for applying metal features onto barrier layers using ion permeable barriers
DE10026956A1 (de) * 2000-05-30 2001-12-13 Walter Hillebrand Galvanotechn Zink-Legierungsbad
WO2001096631A1 (en) 2000-06-15 2001-12-20 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
US6755960B1 (en) 2000-06-15 2004-06-29 Taskem Inc. Zinc-nickel electroplating
US7628898B2 (en) * 2001-03-12 2009-12-08 Semitool, Inc. Method and system for idle state operation
DE10223622B4 (de) * 2002-05-28 2005-12-08 Walter Hillebrand Gmbh & Co. Kg Galvanotechnik Alkalisches Zink-Nickelbad sowie entsprechende Galvanisierungsverfahren mit erhöhter Stromausbeute
WO2004108995A1 (en) * 2003-06-03 2004-12-16 Taskem Inc. Zinc and zinc-alloy electroplating
US8377283B2 (en) 2002-11-25 2013-02-19 Coventya, Inc. Zinc and zinc-alloy electroplating
DE10261493A1 (de) * 2002-12-23 2004-07-08 METAKEM Gesellschaft für Schichtchemie der Metalle mbH Anode zur Galvanisierung
US20050121332A1 (en) * 2003-10-03 2005-06-09 Kochilla John R. Apparatus and method for treatment of metal surfaces by inorganic electrophoretic passivation
US20050133376A1 (en) * 2003-12-19 2005-06-23 Opaskar Vincent C. Alkaline zinc-nickel alloy plating compositions, processes and articles therefrom
FR2864553B1 (fr) * 2003-12-31 2006-09-01 Coventya Installation de depot de zinc ou d'alliages de zinc
US7442286B2 (en) * 2004-02-26 2008-10-28 Atotech Deutschland Gmbh Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys
DE102004061255B4 (de) 2004-12-20 2007-10-31 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren für den kontinuierlichen Betrieb von sauren oder alkalischen Zink- oder Zinklegierungsbädern und Vorrichtung zur Durchführung desselben
EP1712660A1 (de) * 2005-04-12 2006-10-18 Enthone Inc. Unlösliche Anode
ES2574158T3 (es) * 2005-04-26 2016-06-15 Atotech Deutschland Gmbh Baño galvánico alcalino con una membrana de filtración
EP1717351A1 (de) * 2005-04-27 2006-11-02 Enthone Inc. Galvanikbad
JP4738910B2 (ja) * 2005-06-21 2011-08-03 日本表面化学株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき方法
US20070043474A1 (en) * 2005-08-17 2007-02-22 Semitool, Inc. Systems and methods for predicting process characteristics of an electrochemical treatment process
DE102005051632B4 (de) * 2005-10-28 2009-02-19 Enthone Inc., West Haven Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen und zur Metallisierung von Kunststoffoberflächen
JP4819612B2 (ja) * 2006-08-07 2011-11-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 めっき処理装置および半導体装置の製造方法
DE102007040005A1 (de) 2007-08-23 2009-02-26 Ewh Industrieanlagen Gmbh & Co. Kg Verfahren zum Abscheiden funktioneller Schichten aus einem Galvanikbad
DE102007060200A1 (de) 2007-12-14 2009-06-18 Coventya Gmbh Galvanisches Bad, Verfahren zur galvanischen Abscheidung und Verwendung einer bipolaren Membran zur Separation in einem galvanischen Bad
TWI384094B (zh) * 2008-02-01 2013-02-01 Zhen Ding Technology Co Ltd 電鍍用陽極裝置及包括該陽極裝置之電鍍裝置
EP2096193B1 (de) 2008-02-21 2013-04-03 Atotech Deutschland GmbH Verfahren zur Herstellung von korrosionsresistentem Zink und Zink-Nickel-plattierten linearen oder komplex geformten Teilen
DE102008058086B4 (de) 2008-11-18 2013-05-23 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von galvanischen Bädern zur Abscheidung von Metallen
KR100977068B1 (ko) * 2010-01-25 2010-08-19 한용순 비정질 3가크롬합금도금층을 형성하기 위한 도금장치 및 그 3가크롬합금도금액
DE102010044551A1 (de) 2010-09-07 2012-03-08 Coventya Gmbh Anode sowie deren Verwendung in einem alkalischen Galvanikbad
EP2565297A3 (de) 2011-08-30 2013-04-24 Rohm and Haas Electronic Materials LLC Haftungsförderung von cyanidfreier weißer Bronze
CN103849915B (zh) * 2012-12-06 2016-08-31 北大方正集团有限公司 电镀装置和pcb板导通孔镀铜的方法
CN103911650B (zh) * 2014-04-02 2016-07-06 广东达志环保科技股份有限公司 一种应用于碱性锌镍合金电镀的阳极
DE202015002289U1 (de) 2015-03-25 2015-05-06 Hartmut Trenkner Zweikammer - Elektrodialysezelle mit Anionen- und Kationenaustauschermembran zur Verwendung als Anode in alkalischen Zink- und Zinklegierungselektrolyten zum Zweck der Metallabscheidung in galvanischen Anlagen
WO2016075963A1 (ja) 2015-07-22 2016-05-19 ディップソール株式会社 亜鉛合金めっき方法
WO2016075964A1 (ja) 2015-07-22 2016-05-19 ディップソール株式会社 亜鉛合金めっき方法
WO2017171113A1 (ko) * 2016-03-29 2017-10-05 (주) 테크윈 전해조 및 전해 방법
CN106987879A (zh) * 2016-11-23 2017-07-28 瑞尔太阳能投资有限公司 电沉积装置及其电沉积方法
CN113383118A (zh) * 2019-01-24 2021-09-10 德国艾托特克公司 用于电解锌-镍合金沉积的膜阳极系统
EP3715506A4 (de) 2019-02-15 2021-04-14 Dipsol Chemicals Co., Ltd. Zink- oder zinklegierungen elektropliermethode und -system
JP6750186B1 (ja) 2019-11-28 2020-09-02 ユケン工業株式会社 めっき液の亜鉛濃度の上昇を抑制する方法および亜鉛系めっき部材の製造方法
EP4077771A1 (de) 2019-12-20 2022-10-26 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG Verfahren und system zur abscheidung einer zink-nickel-legierung auf einem substrat
EP4273303A1 (de) 2022-05-05 2023-11-08 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG Verfahren zum abscheiden einer zink-nickel-legierung auf einem substrat, ein wässriges zink-nickel-abscheidungsbad, ein glanzmittel und verwendung davon

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE925264C (de) 1952-11-15 1955-03-17 Hesse & Co Dr Verfahren zum Vernickeln ohne Nickelanoden
GB1349735A (en) 1969-11-20 1974-04-10 Fulmer Res Inst Ltd Electrodeposited metal coatings
US3660170A (en) * 1970-04-08 1972-05-02 Gen Electric Dendrite-inhibiting additive for battery cell having zinc electrode
US3718549A (en) 1971-06-14 1973-02-27 Kewanee Oil Co Alkaline nickel plating solutions
JPS5128533A (en) * 1974-09-04 1976-03-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki
GB1602404A (en) 1978-04-06 1981-11-11 Ibm Electroplating of chromium
US4192908A (en) * 1979-06-15 1980-03-11 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Mass-transport separator for alkaline nickel-zinc cells and cell
JPS5893899A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Sumitomo Metal Ind Ltd 電気メツキの浴管理方法
JPS5893886A (ja) 1981-11-30 1983-06-03 Tokuyama Soda Co Ltd 電気メツキ方法
US4469564A (en) * 1982-08-11 1984-09-04 At&T Bell Laboratories Copper electroplating process
DE3310730A1 (de) 1983-03-24 1984-03-29 Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart Verfahren zum entfernen ueberschuessiger metall-ionen aus sauren chloridhaltigen galvanischen baeder
JPS59193295A (ja) 1983-04-15 1984-11-01 Hitachi Ltd ニツケルめつき方法及び装置
DE3712511C3 (de) * 1986-04-14 1995-06-29 Dipsol Chem Alkalisches cyanidfreies Elektroplattierungsbad und Verwendung dieses Bades
US4889602B1 (en) 1986-04-14 1995-11-14 Dipsol Chem Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating
US4832812A (en) * 1987-09-08 1989-05-23 Eco-Tec Limited Apparatus for electroplating metals
JPH02175894A (ja) * 1988-12-28 1990-07-09 Kosaku:Kk スズ、スズ合金電気めっき方法及び同電気めっき装置
FR2650304B1 (fr) 1989-07-25 1991-10-04 Siderurgie Fse Inst Rech Procede de revetement electrolytique d'une surface metallique, et cellule d'electrolyse pour sa mise en oeuvre
JPH049493A (ja) * 1990-04-27 1992-01-14 Permelec Electrode Ltd 鋼板の電気錫メッキ方法
JP2764337B2 (ja) * 1990-05-10 1998-06-11 新日本製鐵株式会社 Ni又はNi―Zn合金又はNi―Zn―Co合金メッキ方法
JPH0444374A (ja) 1990-06-12 1992-02-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd エキシマレーザ装置
US5310465A (en) * 1990-06-14 1994-05-10 Vaughan Daniel J Electrodialytic oxydation-reduction of metals
JPH0452296A (ja) * 1990-06-20 1992-02-20 Permelec Electrode Ltd 銅めっき方法
JPH08375Y2 (ja) * 1990-08-15 1996-01-10 株式会社アルメックス メッキ装置の陽極構造
EP0483937A1 (de) 1990-10-24 1992-05-06 ATOTECH Deutschland GmbH Membranelektrolysemodul, Verfahren und dessen Verwendung
DE4035316C2 (de) 1990-11-07 1993-11-04 Daimler Benz Ag Verfahren zur elektrolytischen rueckgewinnung von nickel aus chloridhaltigen elektrolytischen baedern
JPH04176893A (ja) 1990-11-08 1992-06-24 Kawasaki Steel Corp Sn―Ni合金めっき方法
US5162079A (en) 1991-01-28 1992-11-10 Eco-Tec Limited Process and apparatus for control of electroplating bath composition
JP2997072B2 (ja) * 1991-02-13 2000-01-11 ディップソール株式会社 亜鉛−ニッケル合金めっき浴及び被めっき物上の黒色析出を防止する方法
JPH059776A (ja) * 1991-07-01 1993-01-19 Fujitsu Ltd プリント配線板のめつき方法
JPH059799A (ja) 1991-07-05 1993-01-19 Kawasaki Steel Corp 硫酸浴Zn−Ni電気めつきにおける金属イオンの供給方法及び装置
JPH05128533A (ja) 1991-11-05 1993-05-25 Nec Eng Ltd 光デイスク再生装置
FR2686352B1 (fr) 1992-01-16 1995-06-16 Framatome Sa Appareil et procede de revetement electrolytique de nickel.
US5417840A (en) * 1993-10-21 1995-05-23 Mcgean-Rohco, Inc. Alkaline zinc-nickel alloy plating baths
US5405523A (en) * 1993-12-15 1995-04-11 Taskem Inc. Zinc alloy plating with quaternary ammonium polymer
JPH10130878A (ja) 1996-11-01 1998-05-19 Asahi Glass Co Ltd 電解ニッケルめっき方法
US5883762A (en) 1997-03-13 1999-03-16 Calhoun; Robert B. Electroplating apparatus and process for reducing oxidation of oxidizable plating anions and cations
DE19834353C2 (de) * 1998-07-30 2000-08-17 Hillebrand Walter Gmbh & Co Kg Alkalisches Zink-Nickelbad

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2384800A1 (de) 2010-05-07 2011-11-09 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Regeneration alkalischer Zinknickelelektrolyte durch Entfernen von Cyanidionen
EP3358045A1 (de) 2017-02-07 2018-08-08 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen
WO2018146041A1 (de) 2017-02-07 2018-08-16 Dr.-Ing. Max Schlötter Gmbh & Co. Kg Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink- und zinklegierungsüberzügen aus einem alkalischen beschichtungsbad mit reduziertem abbau von organischen badzusätzen
RU2724765C1 (ru) * 2017-02-07 2020-06-25 Др.-Инж. Макс Шлёттер Гмбх Унд Ко. Кг Способ гальванического осаждения покрытий из цинка и цинкового сплава из щелочной ванны для нанесения покрытия с пониженным разложением органических добавок в ванне
EP3415665A1 (de) 2017-06-14 2018-12-19 Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink-nickel-legierungsüberzügen aus einem alkalischen zink-nickel-legierungsbad mit reduziertem abbau von additiven

Also Published As

Publication number Publication date
HRP20010044A2 (en) 2001-12-31
EE200100059A (et) 2002-10-15
US8486235B2 (en) 2013-07-16
CA2339144A1 (en) 2000-02-10
EP1102875A2 (de) 2001-05-30
JP4716568B2 (ja) 2011-07-06
HRP20010044B1 (en) 2005-06-30
ES2201759T3 (es) 2004-03-16
ATE242821T1 (de) 2003-06-15
JP2008150713A (ja) 2008-07-03
WO2000006807A2 (de) 2000-02-10
WO2000006807A3 (de) 2000-05-04
KR20010071074A (ko) 2001-07-28
CZ298904B6 (cs) 2008-03-05
AU5415299A (en) 2000-02-21
DE19834353A1 (de) 2000-02-03
EP1102875B1 (de) 2003-06-11
US6602394B1 (en) 2003-08-05
BR9912589A (pt) 2001-05-02
EP1344850A1 (de) 2003-09-17
US20080164150A1 (en) 2008-07-10
CN1311830A (zh) 2001-09-05
SK892001A3 (en) 2001-10-08
US20110031127A1 (en) 2011-02-10
SK285453B6 (sk) 2007-01-04
HUP0103951A2 (hu) 2002-02-28
ES2277624T3 (es) 2007-07-16
JP2002521572A (ja) 2002-07-16
PL198149B1 (pl) 2008-05-30
US7807035B2 (en) 2010-10-05
CZ2001189A3 (cs) 2001-08-15
TR200100232T2 (tr) 2001-06-21
PL345970A1 (en) 2002-01-14
ATE346180T1 (de) 2006-12-15
DE59914011D1 (de) 2007-01-04
MXPA01000932A (es) 2002-06-04
BG105184A (en) 2001-10-31
HUP0103951A3 (en) 2003-05-28
DE59905937D1 (de) 2003-07-17
DE19834353C2 (de) 2000-08-17
IL141086A0 (en) 2002-02-10
US20040104123A1 (en) 2004-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1344850B1 (de) Alkalisches Zink-Nickelbad
EP0878561B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Regenerieren von Verzinnungslösungen
EP2050841A1 (de) Alkalisches Galvanikbad mit einer Filtrationsmembran
DE3208035A1 (de) Galvanisierverfahren
DE4023444A1 (de) Cyanid-freies verfahren zur herstellung eines galvanischen kupferueberzuges
DE2929787C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer porösen Elektrodenoberfläche auf einem Metallsubstrat
DE3012168C2 (de)
WO2004059045A2 (de) Anode zur galvanisierung
DE1222348B (de) Galvanisches Gold- oder Goldlegierungsbad
DE2713507C2 (de) Wässriges galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung von glänzenden Silber-Gold-Legierungen
DE1213697B (de) Saures cyanidisches Bad, Mischung zur Herstellung des Bades und Verfahren zum galvanischen Abscheiden von glaenzenden Gold- oder Goldlegierungsueberzuegen
DE3244092C2 (de)
DE60104361T2 (de) Verfahren zur Metalloberflächenbehandlung
DE3149043A1 (de) "bad zur galvanischen abscheidung duenner weisser palladiumueberzuege und verfahren zur herstellung solcher ueberzuege unter verwendung des bades"
DE2818306A1 (de) Verfahren zur in-situ-reduktion von elektroden-ueberspannung und elektrolysezelle zur durchfuehrung des verfahrens
DE3139641C2 (de) Galvanisches Bad zur Verwendung mit unlöslichen Anoden zur Abscheidung halbglänzender, duktiler und spannungsfreier Nickelüberzüge und Verfahren zu deren Abscheidung
EP3415665B1 (de) Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink-nickel-legierungsüberzügen aus einem alkalischen zink-nickel-legierungsbad mit reduziertem abbau von additiven
DE3045968A1 (de) Elektrolytisches bad, herstellung von palladiumbeschichtungen unter verwendung des elektrolytischen bades und regenerierung des elektrolytischen bades
DE2032867A1 (de) Goldbad und seine Anwendung
DE2948999C2 (de) Wässriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Hartgold unter seiner Verwendung
DE2636552A1 (de) Verfahren zur galvanischen abscheidung einer ferro-nickel-legierung
DE3227723C1 (de) Verfahren zum galvanischen Abscheiden einer Palladium/Nickel-Legierung
DE102020133188A1 (de) Silber-Bismut-Elektrolyt zur Abscheidung von Hartsilberschichten
DE3443420A1 (de) Galvanisches bad zur schnellabscheidung von palladium-legierungen
DE102020131371A1 (de) Rutheniumlegierungsschicht und deren Schichtkombinationen

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

AC Divisional application: reference to earlier application

Ref document number: 1102875

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: P

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE

AX Request for extension of the european patent

Extension state: AL LT LV MK RO SI

17P Request for examination filed

Effective date: 20040315

AKX Designation fees paid

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AC Divisional application: reference to earlier application

Ref document number: 1102875

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: P

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AT BE CH CY DE DK ES FI FR GB GR IE IT LI LU MC NL PT SE

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20061122

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20061122

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: GERMAN

REF Corresponds to:

Ref document number: 59914011

Country of ref document: DE

Date of ref document: 20070104

Kind code of ref document: P

REG Reference to a national code

Ref country code: SE

Ref legal event code: TRGR

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070222

GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

Effective date: 20070214

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070423

ET Fr: translation filed
REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FD4D

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FG2A

Ref document number: 2277624

Country of ref document: ES

Kind code of ref document: T3

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed

Effective date: 20070823

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070731

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20070223

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070731

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070731

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20061122

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20070729

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R097

Ref document number: 59914011

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R040

Ref document number: 59914011

Country of ref document: DE

Effective date: 20120405

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 18

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 19

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: PLFP

Year of fee payment: 20

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20180827

Year of fee payment: 20

Ref country code: ES

Payment date: 20180829

Year of fee payment: 20

Ref country code: IT

Payment date: 20180720

Year of fee payment: 20

Ref country code: FR

Payment date: 20180723

Year of fee payment: 20

Ref country code: NL

Payment date: 20180723

Year of fee payment: 20

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Payment date: 20180725

Year of fee payment: 20

Ref country code: BE

Payment date: 20180723

Year of fee payment: 20

Ref country code: AT

Payment date: 20180719

Year of fee payment: 20

Ref country code: GB

Payment date: 20180725

Year of fee payment: 20

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R071

Ref document number: 59914011

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: MK

Effective date: 20190728

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: PE20

Expiry date: 20190728

REG Reference to a national code

Ref country code: BE

Ref legal event code: MK

Effective date: 20190729

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: MK07

Ref document number: 346180

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20190729

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF EXPIRATION OF PROTECTION

Effective date: 20190728

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FD2A

Effective date: 20200902

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF EXPIRATION OF PROTECTION

Effective date: 20190730