CN107709385A - 包含紫外光吸收基团的共聚物和包含该共聚物的组合物 - Google Patents

包含紫外光吸收基团的共聚物和包含该共聚物的组合物 Download PDF

Info

Publication number
CN107709385A
CN107709385A CN201680037150.7A CN201680037150A CN107709385A CN 107709385 A CN107709385 A CN 107709385A CN 201680037150 A CN201680037150 A CN 201680037150A CN 107709385 A CN107709385 A CN 107709385A
Authority
CN
China
Prior art keywords
copolymer
composition
divalent unit
group
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201680037150.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107709385B (zh
Inventor
戴维·B·奥尔森
黛安娜·诺思
帕特丽夏·M·萨武
埃里克·M·彼得森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Innovative Properties Co
Original Assignee
3M Innovative Properties Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 3M Innovative Properties Co filed Critical 3M Innovative Properties Co
Publication of CN107709385A publication Critical patent/CN107709385A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107709385B publication Critical patent/CN107709385B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04Interconnection of layers
    • B32B7/12Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B23/00Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose
    • B32B23/04Layered products comprising a layer of cellulosic plastic substances, i.e. substances obtained by chemical modification of cellulose, e.g. cellulose ethers, cellulose esters, viscose comprising such cellulosic plastic substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/281Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyimides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/285Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyethers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/286Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysulphones; polysulfides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • B32B27/288Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polyketones
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/30Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
    • B32B27/304Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl halide (co)polymers, e.g. PVC, PVDC, PVF, PVDF
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/32Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
    • B32B27/322Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising halogenated polyolefins, e.g. PTFE
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/34Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyamides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/36Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
    • B32B27/365Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters comprising polycarbonates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/38Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising epoxy resins
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/40Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyurethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1808C8-(meth)acrylate, e.g. isooctyl (meth)acrylate or 2-ethylhexyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/34Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate
    • C08F220/343Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate in the form of urethane links
    • C08F220/346Esters containing nitrogen, e.g. N,N-dimethylaminoethyl (meth)acrylate in the form of urethane links and further oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J11/00Features of adhesives not provided for in group C09J9/00, e.g. additives
    • C09J11/08Macromolecular additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/10Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/14Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C09J7/381Pressure-sensitive adhesives [PSA] based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/385Acrylic polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J9/00Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0216Coatings
    • H01L31/02161Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
    • H01L31/02167Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2250/00Layers arrangement
    • B32B2250/24All layers being polymeric
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/40Properties of the layers or laminate having particular optical properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/554Wear resistance
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/50Properties of the layers or laminate having particular mechanical properties
    • B32B2307/558Impact strength, toughness
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/71Resistive to light or to UV
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70Other properties
    • B32B2307/712Weather resistant
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2419/00Buildings or parts thereof
    • B32B2419/06Roofs, roof membranes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/12Photovoltaic modules
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2590/00Signboards, advertising panels, road signs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2605/00Vehicles
    • B32B2605/006Transparent parts other than made from inorganic glass, e.g. polycarbonate glazings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2605/00Vehicles
    • B32B2605/08Cars
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2800/00Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed
    • C08F2800/20Copolymer characterised by the proportions of the comonomers expressed as weight or mass percentages
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/322Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of solar panels
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/33Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for batteries or fuel cells
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/302Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier the adhesive being pressure-sensitive, i.e. tacky at temperatures inferior to 30°C
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/40Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00Presence of (meth)acrylic polymer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/032Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
    • H01L31/0322Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312 comprising only AIBIIICVI chalcopyrite compounds, e.g. Cu In Se2, Cu Ga Se2, Cu In Ga Se2
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/036Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
    • H01L31/0392Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate
    • H01L31/03926Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate comprising a flexible substrate
    • H01L31/03928Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including thin films deposited on metallic or insulating substrates ; characterised by specific substrate materials or substrate features or by the presence of intermediate layers, e.g. barrier layers, on the substrate comprising a flexible substrate including AIBIIICVI compound, e.g. CIS, CIGS deposited on metal or polymer foils
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/541CuInSe2 material PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Abstract

本发明公开了一种共聚物,所述共聚物包含具有侧链紫外线吸收基团的第一二价单元、由式(I)表示的第二二价单元:和由式(II)表示的第三二价单元:每个R1独立地为氢或甲基;R2为具有1至20个碳原子的直链或支链烷基;V为O或NH;W为具有1至10个碳原子的亚烷基;并且每个R'独立地为具有1至6个碳原子的烷基。公开了包含共聚物的组合物,例如压敏粘合剂组合物。公开了包含该组合物的制品。例如,还公开了包括阻挡膜和压敏粘合剂组合物的组件。

Description

包含紫外光吸收基团的共聚物和包含该共聚物的组合物
相关申请的交叉引用
本申请要求于2015年6月25日提交的美国临时申请No.62/184,784的优先权,其公开内容以引用方式全文并入本文中。
背景技术
可期望将紫外线吸收剂(UVA)结合到暴露于紫外线(UV)辐射的材料中例如以保护其免于紫外线劣化。一些UVA可被分散到一些组合物中,但有时它们可由于挥发或迁移到表面而损失。已经提出将UVA共价结合到压敏粘合剂(PSA)组合物中(参见,2012年10月4日公布的JP2012188620)。已经对于包括在PSA组合物中描述了由具有紫外线吸收基团的单体制成的某些共聚物(参见,2000年4月28日公布的JP2000123621)。
发明内容
本公开提供了一种共聚物,该共聚物具有带有侧链紫外线吸收基团的第一二价单元、带有侧链烷基的第二二价单元和带有侧链叔胺基的第三二价单元。该共聚物令人惊讶地与压敏粘合剂相容,例如通过评估雾度来确定,并且不会从粘合剂中迁移出来。包含压敏粘合剂和共聚物的组合物提供保护以免于紫外光并且对于可见光和红外光具有良好的透明性。这些特性通常甚至在加速的UV暴露以及暴露于高温和高湿条件之后仍很好地维持。
在一个方面,本公开提供了包含具有侧链紫外线吸收基团的第一二价单元、由下式表示的第二二价单元:
和由下式表示的第三二价单元的共聚物:
在这些式中,每个R1独立地为氢或甲基,R2为具有1至20个碳原子的直链或支链烷基,V为O或NH,W为具有1至10个碳原子的亚烷基,并且每个R'独立地为具有1至6个碳原子的烷基。
另一方面,本公开提供包含压敏粘合剂和上述共聚物的共混物的组合物,其中R2为具有4至20个碳原子的直链或支链烷基。在一些实施方案中,压敏粘合剂是包含第二二价单元的丙烯酸类压敏粘合剂。
包含压敏粘合剂和共聚物的组合物可以是可用的,例如用于将膜粘附到制品的表面或将任何两个表面粘附在一起。因此,在另一方面,本公开提供了包含该组合物的制品。制品可为例如光伏器件或具有设置在其表面的至少一部分上的组合物的膜。膜可为例如车辆包裹物、图形膜、抗涂鸦膜、建筑膜、窗膜或阻挡膜。
在另一方面,本公开提供组件,该组件包括第一聚合物膜基底,其具有第一表面和与第一表面相背对的第二表面;阻挡膜,其设置在第一聚合物膜的第一表面上;包含上述组合物的压敏粘合剂层,其设置在与第一聚合物膜基底相背对的阻挡膜上,其中压敏粘合剂的第一表面设置在与第一聚合物膜基底相背对的阻挡膜上;以及第二聚合物膜基底,其设置在压敏粘合剂层的第二表面上。
压敏粘合剂(PSA)中的UVA可用于保护PSA和下层膜或结构均免于UV光。对于常规UVA,可存在迁移出粘合剂层以及附聚和所产生的光学缺陷的问题。当相比于如PSA的清晰度和透过率所证实的相同类别的可商购的UVA时,本文所公开的紫外光吸收低聚物在PSA制剂中具有优异的相容性。此外,与具有相同的第一二价单元和第二二价单元的类似共聚物相比,本文所公开的共聚物观察到了由雾度评估证明的出乎意料的与某些PSA的相容性。
在本申请中:
术语诸如“一个”、“一种”和“所述”并非旨在仅指单一实体,而是包括可用于说明的特定示例的一般类别。术语“一个”、“一种”和“所述”可与术语“至少一个(种)”互换使用。
后接列表的短语“包括(含)……中的至少一个(种)”是指包括(含)该列表中任何一个项目以及该列表中两个或更多个项目的任意组合。后接列表的短语“……中的至少一个(种)”是指该列表中任何一个项目或者该列表中两个或更多个项目的任意组合。
术语“紫外线吸收基团”或紫外光吸收基团是指共价连接的紫外线吸收剂(UVA)。UVA能够消散从UV射线吸收的光能(如通过可逆分子内质子传递的热)为本领域中技术人员已知的。选择UVA,由此使得在本文所公开的低聚物或第二低聚物的任何实施方案中的低聚物吸收波长在180纳米(nm)至400nm范围内的入射光的至少70%、80%或90%。
“烷基基团”和前缀“烷-”是包含直链和支链基团以及环状基团的。除非另外指明,否则本文中的烷基基团具有最多至20个碳原子。环状基团可为单环或多环的,并且在一些实施方案中,具有3至10个环碳原子。
例如,对于烷基(其可为氟化的或未氟化的)、亚烷基或芳基亚烷基,短语“插入有至少-O-基团”是指在-O-基团的两侧具有烷基、亚烷基或芳基亚烷基的部分。例如,-CH2CH2-O-CH2-CH2-为插入有-O-的亚烷基基团。
术语“共聚物”是指具有基本上包括多个重复单元的结构的分子,该重复单元实际上或概念上衍生自低相对分子量的分子。术语“共聚物”包括低聚物。
除非另行指出,否则所有数值范围都包括端值以及端值之间的非整数值(例如1至5,包括1、1.5、2、2.75、3、3.80、4、5等)。
具体实施方式
可用于根据本公开的组合物中的紫外光吸收共聚物是直链或支链的。通常,它们是直链低聚物。它们可以是无规共聚物或嵌段共聚物。它们不是共价交联的。因此,与共价交联的聚合物相反,它们可溶解于溶剂中并且具有可测量的分子量,该共价交联的聚合物不可溶解于溶剂并且具有接近无穷大的分子量。在一些实施方案中,共聚物可被认为是热塑性塑料。热塑性塑料通常为可熔融加工的,诸如通过挤出过程。在一些实施方案中,根据本公开的共聚物具有最多至150,000克/摩尔的数均分子量。在这些实施方案中的一些实施方案中,共聚物具有最多至120,000、100,000、90,000、80,000、70,000、60,000、50,000、40,000、30,000、20,000或小于20,000克/摩尔(例如,最多至19,500、19,000或18,500克/摩尔)的数均分子量。在一些实施方案中,共聚物的数均分子量可为至少1000克/摩尔,大于5,000克/摩尔,或大于7,500克/摩尔。可用的紫外光吸收共聚物通常具有分子量和组成的分布。重均和数均分子量可例如采用本领域技术人员已知的技术,通过凝胶渗透色谱法(即尺寸排阻色谱法)测量。
根据本公开的紫外光吸收共聚物在其任何实施方案中包含具有侧链紫外线吸收(UVA)基团的第一二价单元。任何类别的UVA都可用于提供UVA基团。可用类别的示例包括二苯酮、苯并三唑、三嗪、肉桂酸酯、氰丙烯酸酯、二氰基乙烯、水杨酸酯、草酰替苯胺和对氨基苯甲酸酯。在这些实施方案中的一些中,侧链紫外线吸收基团包括三嗪、二苯酮或苯并三唑。在根据本公开的组合物的一些实施方案中,侧链紫外线吸收基团为三嗪。在一些实施方案中,侧链紫外线吸收基团已经在长波UV区域(例如315nm至400nm)中具有增大的光谱覆盖范围,使其能够阻挡可造成聚合物黄变的高波长UV光。该第一二价单元可被视为紫外线吸收共聚物中的重复单元。
在本公开的共聚物或组合物的实施方案中的一些实施方案中,第一二价单元可由下式表示:–[-CH2-C(H)UVA-]-、–[-CH2-C(H)C(O)-O-X-UVA-]-、–[-CH2-C(H)C(O)-NH-X-UVA-]-、–[-CH2-C(CH3)C(O)-O-X-UVA-]-或
-[-CH2-C(CH3)C(O)-NH-X-UVA-]-,其中X为键或具有1至10个(在一些实施方案中,2至6个或2至4个)碳原子并且任选地插入有一个或多个-O-基团且任选地被羟基基团取代的亚烷基或亚烷氧基,并且其中UVA包括UVA基团的以上实施方案中的任一种。在亚烷氧基基团中,氧连接到UVA基团。低聚物可包含(例如,至少2、3、4、5、6、7、8、9、10、15个或至少20个最多至30、35、40、45、50、100、200个或最多至500个)独立选择的这些重复单元。重复单元可衍生自取代的乙烯基、取代的丙烯酸酯或取代的甲基丙烯酸酯基团。在这些实施方案中的一些中,每个第一二价单元独立地由下式表示:
其中每个R1独立地为氢或甲基,V为O或NH,X为键或者X为具有1至10(在一些实施方案中,2至6或2至4)个碳原子并且任选地插入有一个或多个-O-基团且任选地被羟基基团取代的亚烷基或亚烷氧基,R为烷基(例如,具有一至四个碳原子),n为0或1,并且Z为苯甲酰基基团、4,6-二苯基[1,3,5]三嗪-2-基基团或2H-苯并三唑-2-基基团,其中苯甲酰基基团、4,6-二苯基[1,3,5]三嗪-2-基基团以及2H-苯并三唑-2-基基团任选地被一个或多个烷基、芳基、烷氧基、羟基或卤素取代基或这些取代基的组合取代。在一些实施方案中,烷基和/或烷氧基取代基独立地具有1至4或者1至2个碳原子。在一些实施方案中,每个卤素取代基独立地为氯代、溴代或碘代基团。在一些实施方案中,每个卤素取代基为氯代基团。本文所用的术语“芳基”包括碳环型芳族环或环体系,其例如具有1、2或3个环并且任选在环中包含至少一个杂原子(例如O、S或N)。芳基基团的示例包括苯基、萘基、联苯基、芴基以及呋喃基、噻吩基、吡啶基、喹啉基、异喹啉基、吲哚基、异吲哚基、三唑基、吡咯基、四唑基、咪唑基、吡唑基、噁唑基、和噻唑基。在亚烷氧基基团中,氧连接到取代的苯环。在一些实施方案中,每个V为O,并且X为乙烯、丙烯、丁烯、乙烯氧基、丙烯氧基、或丁烯氧基,其中氧连接到取代的苯环。在一些实施方案中,n为0。在一些实施方案中,R为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基,并且n为1。在一些实施方案中,Z为未取代的苯甲酰基基团。在一些实施方案中,Z为4,6-双(2,4-二甲基苯基)[1,3,5]三嗪-2-基;4,6-双(2,4-二乙基苯基)[1,3,5]三嗪-2-基;4,6-双(2,4-二甲氧基苯基)[1,3,5]三嗪-2-基;或4,6-双(2,4-二乙氧基苯基)[1,3,5]三嗪-2-基。在一些实施方案中,Z为2H-苯并三唑-2-基或5-氯-2H-苯并三唑-2-基。在一些实施方案中,Z为4,6-亚联苯基[1,3,5]三嗪-2-基。在一些实施方案中,紫外光吸收共聚物中的第一二价单元中的至少一些包含不同的Z基团。
在其中紫外光吸收基团为三嗪的本文所公开的组合物的实施方案中,第一二价单元中的至少一些可由下式表示:
其中R、R1、X和V如以上在其任何实施方案中所述的,并且其中每个Ar为任选地被一个或多个烷基、芳基、烷氧基、羟基或卤素取代基或这些取代基的组合取代的苯基基团。在一些实施方案中,烷基和/烷氧基取代基独立地具有1至4或1至2个碳原子。在一些实施方案中,每个卤素取代基独立地为氯代、溴代或碘代基团。在一些实施方案中,每个卤素取代基为氯代基团。芳基取代基如以上所定义的。在一些实施方案中,Ar为2,4-二甲基苯基;2,4-二乙基苯基;2,4-二甲氧基苯基或2,4-二乙氧基苯基。
在其中紫外光吸收基团为三嗪的本文所公开的组合物的实施方案中,第一二价单元中的至少一些可由下式表示:
其中R1、X和V如以上在其任何实施方案中所述的。
根据本公开的紫外光吸收共聚物包含独立地由下式表示的至少一个(例如,至少2、3、4、5、6、7、8、9、10、15个或至少20个至最多30、35、40、45、50、100、200、500、1000个或至最多1500或更多个)第二二价单元:
其中每个R1独立地为氢或甲基(在一些实施方案中为氢,在一些实施方案中为甲基),并且其中每个R2独立地为具有1至22个碳原子的烷基(在一些实施方案中为具有1至20个碳原子的烷基)。在一些实施方案中,第二二价单元中的每个R2独立地为具有4至22个碳原子、4至20个碳原子、4至18个碳原子、4至16个碳原子、4至12个碳原子或6至12个碳原子的烷基。在这些实施方案中的一些中,R2具有8个碳原子(例如,R2为乙基己基或异辛基)。
根据本公开的紫外光吸收共聚物包含由下式表示的至少一个(例如,至少2、3、4、5、6、7、8、9、10、15个或至少20个至最多30、35、40、45、50、100、200、500个或至最多1000或更多个)第三二价单元:
其中每个R1独立地为氢或甲基(在一些实施方案中为氢,在一些实施方案中为甲基),V为O或NH(在一些实施方案中为O),W为具有1至10个碳原子的亚烷基,并且每个R'独立地为具有1至6个碳原子的烷基。在一些实施方案中,W为具有1至8、1至6、2至6、2至4或者2个碳原子的亚烷基。在一些实施方案中,每个R'独立地为1至4、2至6或者2至4个碳原子。在一些实施方案中,每个R'是乙基。
可例如通过通常在引发剂的存在下聚合组分的混合物而制得根据本公开的共聚物。术语“聚合”意指形成包含至少一个由于每个所述组分而可识别的结构元素的聚合物或低聚物。通常,如下所述制备紫外光吸收共聚物包含将至少包含具有紫外光吸收基团的第一单体、具有侧链烷基的第二单体和具有侧链叔胺基的第三单体的组分混合。
用于本文所公开的共聚物的一些实施方案的合适的第一单体为包括如下的那些:二苯甲酮、苯并三唑、三嗪、肉桂酸酯、氰基丙烯酸酯、二氰基乙烯、水杨酸酯、草酰替苯胺或对氨基苯甲酸酯基团。合适的第一单体的示例包括2-(氰基-β,β-二苯基丙烯酰氧基)乙基-1-甲基丙烯酸酯、2-(α-氰基-β,β-二苯基丙烯酰氧基)乙基-2-甲基丙烯酰胺、N-(4-甲基丙烯酰基苯酚)-N'-(2-乙基苯基)草酰胺、乙烯基4-乙基-α-氰基-β-苯基肉桂酸酯、2-羟基-4-(2-羟基-3-甲基丙烯酰氧基丙氧基)二苯甲酮、2-羟基-4-甲基丙烯酰氧基二苯甲酮、2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)二苯甲酮、2-羟基-4-(4-丙烯酰氧基丁氧基)二苯甲酮、2,2’-二羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)二苯甲酮、2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)-4’-(2-羟基乙氧基)二苯甲酮、4-(烯丙氧基)-2-羟基二苯甲酮、2-(2'-羟基-3'-甲基丙烯酰胺基甲基-5'-辛基苯基)苯并三唑、2-(2-羟基-5-乙烯基苯基)-2-苯并三唑、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4-甲基-6-(2-丙烯基)苯酚、2-(2'-羟基-5'-甲基丙烯酰氧基乙基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2'-羟基-5'-甲基丙烯酰氧基乙基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2-(2'-羟基-5'-甲基丙烯酰氧基丙基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2'-羟基-5'-甲基丙烯酰氧基丙基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2-(2'-羟基-3'-叔丁基-5'-甲基丙烯酰氧基乙基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2'-羟基-3'-叔丁基-5'-甲基丙烯酰氧基乙基苯基)-5-氯-2H-苯并三唑、2,4-二苯基-6-[2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-甲基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-甲氧基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-乙基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-乙氧基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-[2-羟基-4-(2-甲基丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-甲基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-甲基丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-甲氧基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-甲基丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-乙基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-甲基丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2-乙氧基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-甲基丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2,4-二甲氧基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2,4-二甲基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2,4-二乙氧基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、2,4-二(2,4-二乙基苯基)-6-[2-羟基-4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)]-1,3,5-三嗪、上述丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯和上述甲基丙烯酸酯的丙烯酸酯。这些第一单体的组合可用于制备共聚物。在一些实施方案中,第一单体包含三嗪、二苯甲酮或苯并三唑基团。在这些实施方案中,第一单体可为包含以上列出的三嗪、二苯甲酮或苯并三唑基团的单体中的任一种。在根据本公开的组合物的一些实施方案中,第一单体包含三嗪基团。在这些实施方案中,第一单体可为包含以上列出的三嗪基团的单体中的任一种。
这些第一单体中的许多可从各种化学品供应商商购获得。其它可通过使用常规酯化方法用(甲基)丙烯酸或其等同物处理具有可用羟基基团(例如,除了与三嗪、苯甲酰基或苯并三唑基团邻位的酚羟基之外)的UVA来制备。术语(甲基)丙烯酸是指丙烯酸和甲基丙烯酸两者。就具有可用的酚基团(例如,除了与三嗪、苯甲酰基或苯并三唑基团邻位的酚羟基之外)的UVA而言,酚基团可用碳酸亚乙酯或环氧乙烷处理以形成羟乙基基团,然后可使用常规酯化方法用(甲基)丙烯酸或其等同物处理该羟乙基基团。
根据本公开的共聚物通过包括由式R2-O-C(O)-C(R1)=CH2表示的至少一种化合物作为待聚合的组分中的第二单体来制备。R1和R2如以上在其实施方案的任一个中所定义的。该式的合适的第二单体包括甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸异戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸壬酯、丙烯酸十二烷基酯、甲基丙烯酸十六烷基酯、甲基丙烯酸十八烷基酯、甲基丙烯酸硬脂基酯、甲基丙烯酸二十二烷基酯、前述甲基丙烯酸酯的丙烯酸酯以及前述丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯。许多这些第二单体可购自(例如)若干化学品供应商(例如,威斯康星州密尔沃基西格玛-奥德里奇公司(Sigma-Aldrich Company,Milwaukee,WI);宾夕法尼亚州西切斯特VWR国际公司(VWRInternational,WestChester,PA);宾夕法尼亚州菲斯特维尔单体聚合物与Dajac实验室(Monomer-Polymer&Dajac Labs,Festerville,PA);马萨诸塞州沃德山埃佛卡多有机物公司(Avocado Organics,Ward Hill,MA);瑞士巴塞尔汽巴精化公司(Ciba SpecialtyChemicalsBasel,Switzerland))或可通过常规方法合成。这些第二单体中的一些可以单种化合物的单种异构体(例如,直链异构体)获得。其它第二单体可(例如)以异构体(例如,直链和支链异构体)的混合物、化合物(例如,丙烯酸十六烷基酯和丙烯酸十八烷基酯)及其组合的混合物获得。
根据本公开的共聚物通过包括由式(R’)2-W-V-C(O)-C(R1)=CH2表示的至少一种化合物作为待聚合的组分中的第三单体来制备。合适的第三单体包括甲基丙烯酸N,N-二乙基氨基乙酯、N-(3-二甲基氨基丙基)甲基丙烯酰胺、甲基丙烯酸N,N-二甲基氨基乙基酯、甲基丙烯酸N,N-二甲基氨基丙基酯以及上述甲基丙烯酸酯和甲基丙烯酰胺的丙烯酸酯和丙烯酰胺。
在一些实施方案中,根据本公开的和/或可用于根据本公开的组合物中的紫外光吸收低聚物由下式表示:
在该式中,X、V、Z、n、R、R’、R1、R2和W如以上在其实施方案的任一个中所定义的,x在1至500或更大的范围内,y在1至1500或更大的范围内并且z在1至1000或更大的范围内,或者x、y和z为以上所述范围的任一个。应当理解,在该式中二价单元的顺序的表示仅出于便利目的,并非意在规定共聚物为嵌段共聚物。具有第一二价单元、第二二价单元和任选第三二价单元的无规共聚物也包括在该表示中。
用于制备可用于根据本公开的组合物中的低聚物的聚合反应可在加入的自由基引发剂存在下进行。可使用自由基引发剂(诸如本领域中广为人知和使用的那些)来引发所述组分的聚合。合适的自由基引发剂的示例包括偶氮化合物(例如,2,2'-偶氮二异丁腈(AIBN)、2,2'-偶氮二(2-甲基丁腈)、或偶氮-2-氰基戊酸)、氢过氧化物(例如,异丙基苯、叔丁基或叔戊基过氧化氢)、二烷基过氧化物(例如,二-叔丁基或二枯基过氧化物)、过氧化酯类(例如,过苯甲酸叔丁酯或过氧化苯二甲酸二叔丁酯)、以及二酰基过氧化物(例如,过氧化苯甲酰或月桂基过氧化物)。
自由基引发剂也可为光引发剂。可用的光引发剂的示例包括苯偶姻醚(例如,苯偶姻甲醚或苯偶姻丁醚);苯乙酮衍生物(例如,2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮或2,2-二乙氧基苯乙酮);1-羟基环己基苯基酮;和酰基膦氧化物衍生物和酰基膦酸酯衍生物(例如,双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦、二苯基-2,4,6-三甲基苯甲酰基氧化膦、异丙氧基苯基-2,4,6-三甲基苯甲酰基氧化膦、或二甲基特戊酰基膦酸酯)。许多光引发剂可例如以商品名“IRGACURE”购自新泽西州弗洛勒姆帕克的巴斯夫公司(BASF,Florham Park,N.J.)。可选择光引发剂使得引发聚合所需波长的光不被紫外线吸收基团吸收。
在一些实施方案中,聚合反应在溶剂中进行。所述组分可以任何合适的浓度(例如,基于反应混合物的总重量约5重量%至约80重量%)存在于反应介质中。合适溶剂的例示性示例包括脂族和脂环族烃(例如,己烷、庚烷、环己烷)、芳族溶剂(例如,苯、甲苯、二甲苯)、醚(例如,二乙醚、甘醇二甲醚、二甘醇二甲醚和二异丙基醚)、酯(例如,乙酸乙酯和乙酸丁酯)、醇(例如,乙醇和异丙醇)、酮(例如,丙酮、甲基乙基酮和甲基异丁基酮)、卤化溶剂(例如,甲基氯仿、1,1,2-三氯-1,2,2-三氟乙烷、三氯乙烯或三氟甲苯和例如可以商品名“HFE-7100”和“HFE-7200”得自明尼苏达州圣保罗的3M公司(3M Company,St.Paul,MN)的氢氟醚),和它们的混合物。
聚合可在适于进行有机自由基反应的任何温度下进行。本领域的技术人员可基于诸如试剂的溶解度、使用特定引发剂所需的温度以及期望的分子量的考虑来选择用于特定用途的温度和溶剂。尽管列举出适于所有引发剂和所有溶剂的具体温度是不切实际的,但通常合适的温度范围是从约30℃至约200℃(在一些实施方案中,从约40℃至约100℃,或从约50℃至约80℃)。
自由基聚合可在存在链转移剂的情况下实施。可用于制备根据本发明的组合物的典型链转移剂包括羟基取代的硫醇(例如2-巯基乙醇、3-巯基-2-丁醇、3-巯基-2-丙醇、3-巯基-1-丙醇和3-巯基-1,2-丙二醇(即硫甘油));聚(乙二醇)-取代的硫醇;羧基取代的硫醇(例如巯基丙酸或巯基乙酸);氨基取代的硫醇(例如2-巯基乙胺);双官能硫醇(例如二(2-巯基乙基)硫醚);和脂族硫醇(例如辛基硫醇、十二烷基硫醇和十八烷基硫醇)。
使用本领域中已知的技术调节例如引发剂的浓度和活性、每种活性单体的浓度、温度、链转移剂的浓度以及溶剂可控制低聚物的分子量。
在其实施方案的任一个中第一二价单元、第二二价单元和第三二价单元在本文所公开的低聚物中的重量比可变化。例如,基于低聚物的总重量,第一二价单元可以5%至50%(在一些实施方案中,10%至40%或10%至30%)的范围存在于紫外光吸收低聚物中。基于低聚物的总重量,第二二价单元可以5%至95%的范围存在。在一些实施方案中,基于低聚物的总重量,第二二价单元以最多至90重量%、80重量%、75重量%或70重量%的量存在于低聚物中。基于共聚物的总重量,第三二价单元可以1至20、1.5至15、2至15、1至10或1至15重量%的范围存在。当基于共聚物的总重量,第三二价单元以至少1重量%存在时,根据存在于共聚物中的特定第一二价单元(一种或多种)和特定的PSA,共聚物可能不与PSA相容。
尽管在一些实施方案中,根据本公开的共聚物中的二价单元由第一二价单元、第二二价单元和第三二价单元组成,但是在其它实施方案中,可存在另外的二价单元。例如,N-乙烯基吡咯烷酮和N-乙烯基己内酰胺也可用于制备本文公开的共聚物。包括侧羟烷基的二价单元可能是有用的。此类二价单元可通过将(甲基)丙烯酸羟烷基酯(例如,丙烯酸2-羟乙酯或甲基丙烯酸2-羟乙酯、丙烯酸3-羟丙酯或甲基丙烯酸3-羟丙酯、丙烯酸4-羟丁酯或甲基丙烯酸4-羟丁酯、丙烯酸8-羟基辛酯或甲基丙烯酸8-羟基辛酯或丙烯酸9-羟基壬酯或甲基丙烯酸9-羟基壬酯)包括在待共聚的组分中来结合。
如以下实施例中所示,在一些情况下,将侧链羧酸或氨基羰基引入到包括第一二价单元和第二二价单元的共聚物中提供了与根据本公开的共聚物相比与压敏粘合剂(例如,包括侧链羧酸基团)相容性差的共聚物。因此,在一些实施方案中,根据本公开的共聚物不含侧链羧酸和/或氨基羰基。在这些实施方案中,在待共聚的组分中不包括单体如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、马来酸和富马酸、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-羟乙基丙烯酰胺、N-辛基丙烯酰胺、N-叔丁基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-乙基-N-二羟基乙基丙烯酰胺和上述丙烯酰胺的甲基丙烯酰胺。
尽管在一些实施方案中,侧链四甲基哌啶基可用于根据本公开的共聚物中用作受阻胺光稳定剂,但在一些实施方案中,此类基团可引起与压敏粘合剂的不相容性。在一些实施方案中,根据本公开的共聚物不含例如独立地由下式表示的具有四甲基哌啶基的二价单元:
其中每个R1独立地为氢或甲基,V为O或NH,X为键或者X为具有1至10(在一些实施方案中,2至6或2至4)个碳原子并且任选地插入有一个或多个-O-基团且任选地被羟基基团取代的亚烷基或亚烷氧基,并且R3为氢、烷基、氧基、烷氧基(即,其中氧原子连接到氮原子的-O-烷基)或烷酮(即,其中羰基基团连接到氮原子的-C(O)-烷基)。
在一些实施方案中,根据本公开的组合物包括压敏粘合剂和一种或多种紫外光吸收低聚物的共混物。所谓“共混物”,应当理解,压敏粘合剂和一种或多种紫外光吸收低聚物为不同的组分。它们通常彼此不共价键合。接枝到PSA上的紫外光吸收单体不构成如本文所公开的PSA和一种或多种低聚物的共混物。
如以上在其实施方案的任一项中所述的紫外光吸收低聚物结合到压敏粘合剂组合物中。对本领域中的普通技术人员熟知的PSA具有包括以下的特性:(1)有力而持久的粘着力;(2)用不超过指压的压力即可粘附;(3)足以保持在附着物上的能力;以及(4)足够的内聚强度以便使其从附着物干净地移除。已经发现可良好地用作PSA的材料是这样的聚合物,这种聚合物被设计和配制成表现出所需的粘弹性,从而获得粘着力、剥离粘附力以及剪切保持力的期望平衡。
可用于识别压敏粘合剂的一种方法为达尔奎斯特准则(Dahlquistcriterion)。如“压敏粘合剂技术手册(Handbook of Pressure SensitiveAdhesive Technology)”,Donatas Satas编辑,第2版,第172页,范·诺斯特兰德·瑞因霍德(Van NostrandReinhold)出版,纽约(NY),1989中描述的,该准则将压敏粘合剂定义为具有大于1×10-6厘米2/达因的1秒蠕变柔量的粘合剂。另选地,由于模量大致为蠕变柔量的倒数,所以压敏粘合剂可定义为储能模量小于约1×106达因/厘米2的粘合剂。
可包括根据本公开的紫外光吸收低聚物的可用类别PSA的示例包括丙烯酸、有机硅、聚异丁烯、脲、天然橡胶、合成橡胶(诸如苯乙烯或取代的苯乙烯作为A嵌段和聚丁二烯、氢化聚丁二烯、聚异戊二烯、氢化聚异戊二烯或它们的组合作为B嵌段的ABA三嵌段共聚物以及这些类别的组合。根据本公开的紫外光吸收低聚物可结合到其中的一些可用的可商购获得的PSA包括:UV可固化PSA,诸如可以商品名“ARclear 90453”和“ARclear 90537”商购自宾夕法尼亚州格伦罗克市的粘合剂研究公司(Adhesive Research,Inc.,Glen Rock,PA)的那些,和丙烯酸光学透明PSA,例如可以商品名“OPTICALLY CLEAR LAMINATINGADHESIVE8171”、“OPTICALLY CLEAR LAMINATING ADHESIVE 8172”和“OPTICALLY CLEARLAMINATING ADHESIVE 8172P”商购自明尼苏达州圣保罗的3M公司(3M Company,St.Paul,MN)。
在一些实施方案中,根据本公开的紫外光吸收低聚物可结合到其中的PSA组合物没有流动并且具有足够的阻挡特性以提供氧和水分穿过粘合剂结合线的慢的或最低限度的浸润。另外,PSA组合物可通常能够透过可见光和红外光,由此使得其不妨碍可见光例如透过穿过窗膜或例如通过光伏电池对可见光的吸收。沿法向轴测得,PSA对光谱的可见部分内的平均透射率为至少约75%(在一些实施方案中,为至少约80、85、90、92、95、97或98%)。在一些实施方案中,沿法向轴测得,PSA对400nm至1400nm范围内的平均透过率为至少约75%(在一些实施方案中为至少约80%、85%、90%、92%、95%、97%或98%)。
在一些实施方案中,本文所公开的可用PSA组合物具有最多50,000psi(3.4×108Pa)的模量(拉伸模量)。拉伸模量可以通过例如张力测试仪器诸如可以商品名“INSTRON5900”商购自马萨诸塞州诺伍德郡的英斯特朗公司(Instron,Norwood,MA)的测试系统来测量。在一些实施方案中,PSA的拉伸模量为最多40,000psi、30,000psi、20,000psi或10,000psi(2.8×108Pa、2.1×108Pa、1.4×108Pa或6.9×108Pa)。
在一些实施方案中,包括根据本公开的紫外光吸收低聚物的PSA组合物为丙烯酸PSA。如本文所用,术语“丙烯酸”或“丙烯酸酯”包括具有丙烯酸或甲基丙烯酸基团中的至少一者的化合物。可用丙烯酸PSA可通过例如混合至少两种不同的单体(包括如上所述的第二单体中的某些)来制备。合适的第二单体的示例包括丙烯酸2-甲基丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸异辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸正癸酯、丙烯酸4-甲基-2-戊酯、丙烯酸异戊酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸异壬酯以及前述丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯。可用于制备丙烯酸类PSA的合适的附加单体的示例包括(甲基)丙烯酸(例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、马来酸和富马酸)、(甲基)丙烯酰胺(例如,丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-羟乙基丙烯酰胺、N-辛基丙烯酰胺、N-叔丁基丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-乙基-N-二羟乙基丙烯酰胺以及前述丙烯酰胺的甲基丙烯酰胺)、(甲基)丙烯酸酯(例如,2-羟乙基丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异冰片酯以及前述丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯)、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己内酰胺、α-烯烃、乙烯醚、烯丙醚、苯乙烯单体或马来酸酯。在一些实施方案中,根据本公开的组合物中的PSA包括在制备PSA中通过包括例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、马来酸或富马酸而引入到PSA中的侧链羧酸基团。
在一些实施方案中,压敏粘合剂为包含第二二价单元的丙烯酸压敏粘合剂,并且其中对于压敏粘合剂中的第二二价单元中的至少一些,R2为具有与紫外光吸收低聚物中的第二二价单元中的至少一些的碳原子数相同的烷基。例如,对于基于丙烯酸异辛酯的PSA,其可用于紫外光吸收低聚物以包括其中R2为具有8个碳原子的烷基的第二二价单元。匹配PSA和紫外光吸收低聚物的第二二价单元中的R2基团可改善PSA和低聚物之间的相容性,从而在PSA组合物中获得更高的透光率和清晰度。尽管已经描述使用具有上述第一单体的甲基丙烯酸甲酯共聚物将低聚物结合到PSA中(参见,JP2000123621,2000年4月28日公布),我们已发现这些类型的低聚物比当紫外光吸收低聚物包括匹配PSA中那些的二价单元时导致PSA组合物较低的清晰度(参见于2014年6月26日提交的共同未决申请62/017,666(奥尔森(Olson)等人)的实施例中的表1)。
丙烯酸类PSA还可通过在配方中包括交联剂来制备。交联剂的示例包括可共聚多官能烯键式不饱和单体(例如,1,6-己二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、四丙烯酸季戊四醇酯以及1,2-乙二醇二丙烯酸酯);处于激发态的能够夺取氢的烯键式不饱和化合物(例如,诸如在美国专利4,737,559(Kellen等人)中所述的丙烯酸酯化的二苯甲酮,可商购自宾夕法尼亚州埃克斯顿沙多玛公司(Sartomer Company,Exton,PA)的对-丙烯酰氧基-二苯甲酮,在美国专利5,073,611(Rehmer等人)中所述的单体,其包括对-N-(甲基丙烯酰基-4-氧杂五亚甲基)-氨基甲酰氧基二苯甲酮、N-(苯甲酰基-对亚苯基)-N’-(甲基丙烯酰氧基亚甲基)-碳二亚胺以及对丙烯酰氧基-二苯甲酮);非离子交联剂,其基本上不含烯属不饱和基团并且能够与例如上述第三单体(例如,1,4-双(亚乙基亚氨基羰基氨基)苯、4,4-双(亚乙基亚氨基羰基氨基)二苯甲烷、1,8-双(亚乙基亚氨基羰基氨基)辛烷、1,4-甲苯二异氰酸酯、1,6-六亚甲基二异氰酸酯、N,N'-双-1,2-亚丙基间苯二甲酰胺、二环氧化物、二酸酐、双(酰胺)和双(酰亚胺))中的羧酸基团反应;以及非离子交联剂,其基本上不含烯属不饱和基团,与第一和第二单体不可共聚,并且处于激发态时能够夺取氢(例如,2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基)苯基)-均三嗪;2,4-双(三氯甲基)-6-(3,4-二甲氧基)苯基)-均三嗪;2,4-双(三氯甲基)-6-(3,4,5-三甲氧基)苯基)-均三嗪;2,4-双(三氯甲基)-6-(2,4-二甲氧基)苯基)-均三嗪;如美国专利4,330,590(Vesley)中所述的2,4-双(三氯甲基)-6-(3-甲氧基)苯基)-均三嗪;如美国专利4,329,384(Vesley)中所述的2,4-双(三氯甲基)-6-萘次甲基-均三嗪和2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基)萘次甲基-均三嗪)。
通常,基于100份共聚物的总重量,第二单体以80-100重量份(pbw)的量使用,并且基于100份共聚物的总重量,如上所述的附加的单体以0-20pbw的量使用。基于单体的组合重量,交联剂可以0.005至2重量%,例如约0.01重量%至约0.5重量%或者约0.05重量%至0.15重量%的量使用。
可用于操作本公开的丙烯酸PSA可例如在溶剂中或通过无溶剂批量自由基聚合工艺(例如,使用热、电子束辐射或紫外线辐射)来制备。通常通过聚合引发剂(例如,光引发剂或热引发剂)来促进此类聚合。合适的聚合引发剂的示例包括用于制备紫外光吸收低聚物的上述那些。聚合引发剂以有效促进单体聚合的量使用(例如,基于100份总单体含量,0.1重量份至约5.0重量份或0.2重量份至约1.0重量份)。
如果使用光交联剂,那么所涂布的粘合剂可暴露于波长为约250nm至约400nm的紫外线辐射。交联粘合剂所需的该波长范围内的辐射能为约100毫焦/cm2至约1,500毫焦/cm2,或更具体地,约200毫焦/cm2至约800毫焦/cm2
可用的无溶剂聚合方法公开于美国专利4,379,201(Heilmann等人)中。起初,可以用一部分光引发剂通过在惰性环境中将第二与第三单体的混合物暴露于UV辐射,持续足以形成可涂布基础浆料的时间,并且随后添加交联剂和其余光引发剂来使所述混合物聚合。然后可将该包含交联剂的最终浆料(例如,该浆料在23℃下可具有约100厘泊至约6000厘泊的布氏粘度(Brookfield viscosity),如用4号LTV心轴在60转/分钟下所测得)涂布到基底上,例如,聚合物膜基底。在将浆料涂布到基底(例如,聚合物膜基底)上后,可在惰性环境(例如,氮气、二氧化碳、氦气和氩气,不包括氧气)中进行另外的聚合和交联。可通过用聚合物膜(诸如对UV辐射或电子束透明的经过有机硅处理的PET膜)覆盖一层光敏性浆料并且在空气中照射穿过所述膜来实现足够惰性气氛。
PSA通常包括高分子量聚合物。在一些实施方案中,在根据本公开的组合物中,在压敏粘合剂中丙烯酸类聚合物的数均分子量为至少300,00g/mol。低于300,000g/mol的数均分子量可产生具有低耐久性的PSA。在一些实施方案中,PSA的数均分子量在300,000g/mol至3,000,000g/mol、400,000g/mol至2,000,000g/mol、500,000g/mol至2,000,000g/mol或300,000g/mol至1,000,000g/mol的范围内。因此,在一些实施方案中,紫外光吸收低聚物的数均分子量为最多压敏粘合剂的数均分子量的一半。在一些实施方案中,紫外光吸收低聚物的数均分子量为最多压敏粘合剂的数均分子量的三分之一、五分之一或十分之一。
在根据本公开的组合物中具有不同的紫外光吸收共聚物的混合物可为可用的。在一些实施方案中,组合物包含在共混物中的至少两种不同的紫外光吸收共聚物,每种紫外光吸收低聚物独立地包含第一二价单元、第二二价单元以及第三二价单元。每种紫外光吸收低聚物可独立地包含三嗪、二苯酮或苯并三唑。两种不同的紫外光吸收低聚物具有两种不同类型的侧链紫外线吸收基团可为可用的。在这些实施方案中,紫外光吸收低聚物中和第二不同的紫外光吸收低聚物中的第一二价单元包含不同的紫外线吸收基团。在这些实施方案的任一项中,第二不同的紫外光吸收低聚物可包含至少一个(例如,至少2、3、4、5、6、7、8、9、10、15个或至少20个至最多30、35、40、45、50、100、200、500、1000个或至最多1500或更多个)第二二价单元,至少一个(例如,至少2、3、4、5、6、7、8、9、10、15或至少20个至最多30、35、40、45、50、100、200个或至最多500或更多个)第一二价单元以及至少一个(例如,至少2、3、4、5、6、7、8、9、10、15或至少20个至最多30、35、40、45、50、100、200、500个或至最多1000个或更多个)第三二价单元。第一二价单元、第二二价单元和第三二价单元可如以上针对紫外光吸收共聚物所述的实施方案中的任一项所述的。在一些情况下,两种不同的紫外光吸收低聚物的混合物可用于改善相容性或持久性。
可将其它稳定剂加入根据本公开的组合物中以改善对UV光的耐受性。所述稳定剂的示例包括受阻胺光稳定剂(HALS)和抗氧化剂。一些合适的HALS包括四甲基哌啶基团,其中哌啶上的氮原子可以是未取代的或被烷基或酰基取代。合适的HALS包括癸二酸、双(2,2,6,6-四甲基-1-(辛氧基)-4-哌啶基)酯、双(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯、8-乙酰基-3-十二烷基-7,7,9,9-四甲基-1,3,8-三氮杂螺(4,5)-癸烷-2,5-二酮、双(2,2,6,6-四甲基-4-羟基哌啶琥珀酸酯)和双(N-甲基-2,2,6,6-四甲基-4-哌啶基)癸二酸酯。合适的HALS包括例如可以商品名“CHIMASSORB”得自巴斯夫公司(BASF)的那些。示例性抗氧化剂包括以商品名“IRGAFOS 126”、“IRGANOX1010”和“ULTRANOX 626”购自新泽西州弗洛勒姆帕克的巴斯夫公司(BASF,Florham Park,N.J.)而获得的那些。基于组合物的总重量,这些稳定剂当存在时可通常以最多至5重量%、2重量%至1重量%并且通常至少0.1重量%、0.2重量%或0.3重量%的任何有效量包含在根据本公开的组合物中。在一些组合物中方解石也可为可用的添加剂,例如以保护并非由耐腐蚀性刚制成的加工设备不受腐蚀。
在组合物或者制备组合物或膜的方法的一些实施方案中,组合物基本上不含挥发性有机溶剂。挥发性有机溶剂通常为在大气压力下沸点最高至150℃的那些有机溶剂。这些有机溶剂的示例包括酯、酮和甲苯。基于组合物的总重量,“基本上不含挥发性有机溶剂“可意指挥发性有机溶剂存在(例如,来自先前的合成步骤或在可商购获得的单体中)的量可为最多至2.5(在一些实施方案中,最多至2、1、0.5、0.1、0.05或0.01)重量%。有利地,可在没有移除有机溶剂的昂贵的制造步骤的情况下制备本文所公开的组合物及其膜。
根据本公开的组合物可包括在可用量范围内的紫外光吸收低聚物和任选地第二紫外光吸收低聚物。例如,基于组合物的总重量,紫外光吸收低聚物可以最多至25重量%的量存在于组合物中。当存在两种或更多种不同的紫外光吸收低聚物时,基于组合物的总重量,该两种或更多种紫外光吸收低聚物以最多至25合并重量%的量存在于组合物中。基于组合物的总重量,一种或多种紫外光吸收低聚物的可用量可在1重量%至25重量%、2重量%至20重量%、3重量%至15重量%或4重量%至10重量%的范围内。基于组合物的总重量,紫外线吸收基团(换句话说,活性UVA)的可用量可在0.5至20、0.5至15、0.5至10、1至7.5或2至5重量%的范围内。
在一些实施方案中,根据本公开的组合物能够透射可见光和红外光两者。如本文所用的术语“能够透射可见光和红外光”可意指,沿法向轴测得,对光谱的可见部分和红外部分的平均透射率为至少约75%(在一些实施方案中为至少约80%、85%或90%、92%、95%、97%或98%)。在一些实施方案中,沿法向轴测得,组合物对400nm至1400nm范围内的平均透射率为至少约75%(在一些实施方案中为至少约80%、85%、90%、92%、95%、97%或98%)。
根据本公开的组合物可用于各种户外应用。例如,根据本公开的组合物可例如用作交通或其它标志的PSA层、其它图形膜、抗涂鸦膜、汽车外饰、屋顶材料或其它构造膜、阻挡膜或窗膜。
根据本公开的组合物例如可用于太阳能器件。在一些实施方案中,组合物(例如,在任何实施方案中为膜的形式)被设置在光伏电池上、上方或周围。因此,本公开提供包括本文所公开的组合物的光伏器件,其中在光伏器件中组合物用作PSA。光伏器件包括已用多种材料开发出的光伏电池,所述材料各自具有将太阳能转化为电的独特吸收光谱。各种类型的半导体材料具有特征性带隙能量,该特征性带隙能量使得其在光的某些波长下最高效地吸收光,或更准确地说,在一部分太阳光谱上吸收电磁辐射。根据本公开的组合物通常不妨碍例如光伏电池对可见光和红外光的吸收。在一些实施方案中,沿法向轴测得,组合物对光伏电池是可用的光波长的范围内的平均透过率为至少约75%(在一些实施方案中为至少约80%、85%、90%、92%、95%、97%或98%)。用于制备太阳能电池的材料的示例及其太阳光吸收带边缘波长包括:晶体硅单结(约400nm至约1150nm)、无定形硅单结(约300nm至约720nm)、带状硅(约350nm至约1150nm)、CIS(铜铟硒)(约400nm至约1300nm)、CIGS(铜铟镓二硒)(约350nm至约1100nm)、CdTe(约400nm至约895nm)、GaAs多结(约350nm至约1750nm)。这些半导体材料的较短波长左吸收带边缘通常介于300nm和400nm之间。有机光伏电池也为可用的。本领域的技术人员应理解,正在开发新材料以用于具有其自有独特的较长波长吸收带边缘的更高效的太阳能电池。在一些实施方案中,包括根据本公开的组合物的光伏器件包括CIGS电池。在一些实施方案中,组件所应用到的光伏器件包括柔性膜基底。
根据本公开的组合物可用作阻挡叠层中的PSA(参见,例如美国专利申请公布2012/0227809((Bharti等人),以及美国专利申请公布2012/0003451(Weigel等人),所述专利以引用方式并入本文。
在一些实施方案中,本公开提供了组件,该组件包括第一聚合物膜基底,其具有第一表面和与第一表面相背对的第二表面;阻挡膜,其设置在第一聚合物膜的第一表面上;压敏粘合剂层,其具有第一表面和与第一表面相背对的第二表面,其中压敏粘合剂的第一表面设置在与第一聚合物膜基底相背对的阻挡膜上;以及第二聚合物膜基底,其设置在压敏粘合剂层的第二表面上。压敏粘合剂可为如前述实施方案的任一项中所述并包括如前述实施方案的任一项中所述的至少一种紫外光吸收低聚物。
术语“阻挡膜”是指针对氧或水中的至少一者提供阻挡的膜。阻挡膜通常选择为使它们具有应用所要求的规定水平的氧和水透过率。在一些实施方案中,根据本公开的和/或根据本公开的方法制成的阻挡膜的水蒸气透过率(WVTR)在38℃和100%的相对湿度下低于约0.005g/m2/天;在一些实施方案中,在38℃和100%的相对湿度下,低于约0.0005g/m2/天;并且在一些实施方案中,在38℃和100%的相对湿度下,低于约0.00005g/m2/天。在一些实施方案中,阻挡膜具有在50℃和100%的相对湿度下小于约0.05、0.005、0.0005或0.00005g/m2/天或者在85℃和100%的相对湿度下甚至小于约0.005、0.0005、0.00005g/m2/天的WVTR。在一些实施方案中,阻挡膜具有在23℃和90%的相对湿度下小于约0.005g/m2/天,在一些实施方案中在23℃和90%的相对湿度下小于约0.0005g/m2/天,在一些实施方案中在23℃和90%的相对湿度下小于约0.00005g/m2/天的氧气透过率。
在本文所公开组件的一些实施方案中,阻挡膜包含由无机阻挡层隔开的至少第一聚合物层和第二聚合物层。在一些实施方案中,可为氧化物层的无机层可施加在第二聚合物层上。在一些实施方案中,阻挡膜在第一聚合物层上包含氧化物层与第二聚合物层的多个交替的层。氧化物层和第二聚合物层一起形成“成对层”,并且在一些实施方案中,阻挡膜可包括多于一个成对层。在包括多于一个成对层的多层阻挡膜中的每个氧化物层和/或第二聚合物层可相同或不同。可将任选的无机层(其可为氧化物层)施加在多个交替层或成对层上。在一些实施方案中,无机层包含硅铝氧化物或铟锡氧化物中的至少一种。
第一聚合物层和第二聚合物层可包括适用于沉积在薄膜中的任何聚合物。在一些实施方案中,第一聚合物层和第二聚合物层可由各种前体形成,例如,丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯单体和/或包括丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的低聚物。在阻挡膜和本文所公开方法的一些实施方案中,第一聚合物层或第二聚合物层中的至少一者包含甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯单体。可用的甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯前体的示例包括聚氨酯丙烯酸酯、丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸异冰片酯、五丙烯酸双季戊四醇酯、环氧丙烯酸酯、与苯乙烯共混的环氧丙烯酸酯、双-三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、1,3-丁二醇二丙烯酸酯、五丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、烷氧基化三官能丙烯酸酯、二丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、乙氧基化(4)双酚A二甲基丙烯酸、环己烷二甲醇二丙烯酸酯、甲基丙烯酸异冰片酯、环状二丙烯酸酯和三(2-羟乙基)异氰脲酸三丙烯酸酯、上述甲基丙烯酸酯的丙烯酸酯和上述丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯。可用的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯前体的另外示例包括:三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、二丙烯酸己二醇酯、丙烯酸乙氧基乙基酯、丙烯酸苯氧基乙基酯、(单)丙烯酸氰乙基酯、丙烯酸十八烷基酯、丙烯酸异癸基酯、丙烯酸月桂基酯、丙烯酸β-羧乙基酯、丙烯酸四氢呋喃酯、丙烯酸二腈酯、丙烯酸五氟苯酯、丙烯酸硝基苯酯、丙烯酸2-苯氧基乙基酯、丙烯酸2,2,2-三氟甲酯以及这些丙烯酸酯中的任一项的甲基丙烯酸酯。
第一聚合物层和第二聚合物层均可这样形成:通过将一层单体或低聚物施加至基底并使该层交联以原位形成聚合物,例如,通过辐射可交联单体的闪蒸和气相沉积,之后通过使用例如电子束装置、UV光源、放电装置或其它合适的器件来交联。可通过使所述基底冷却来改善涂布效率。
也可以使用常规的涂布方法诸如辊涂(例如,凹版辊涂布)或喷涂(例如,静电喷雾涂布)将单体或低聚物施加至衬底,然后如上文所述进行交联。第一聚合物层和第二聚合物层也可通过施加溶剂中含有低聚物或聚合物的层并且干燥这样施加的层以去除溶剂来形成。也可在一些情况下采用化学气相沉积(CVD)。
在一些实施方案中,第一聚合物层和第二聚合物层中的至少一个包含聚合(例如,交联)的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。在这些实施方案中的一些实施方案中,丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯为二丙烯酸三环癸烷二甲醇酯、3-(丙烯酰氧基)-2-羟基-丙基甲基丙烯酸酯、三丙烯酰氧基乙基异氰脲酸酯、甘油二丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、三丙烯酸季戊四醇酯、四丙烯酸季戊四醇酯、丙氧基化(3)甘油二丙烯酸酯、丙氧基化(5,5)甘油二丙烯酸酯、丙氧基化(3)三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、丙氧基化(6)三羟甲基丙烷二丙烯酸酯)、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、五丙烯酸二季戊四醇酯或它们的组合。
用于闪蒸和气相沉积之后进行原位交联的可用方法,可见于例如,如以下参考文献:美国专利4,696,719(Bischoff)、美国专利4,722,515(Ham)、美国专利4,842,893(Yializis等人)、美国专利4,954,371(Yializis)、美国专利5,018,048(Shaw等人)、美国专利5,032,461(Shaw等人)、美国专利5,097,800(Shaw等人)、美国专利5,125,138(Shaw等人)、美国专利5,440,446(Shaw等人)、美国专利5,547,908(Furuzawa等人)、美国专利6,045,864(Lyons等人)、美国专利6,231,939(Shaw等人)以及美国专利6,214,422(Yializis);PCT国际公布WO 00/26973(Delta V Technologies公司);D.G.Shaw和M.G.Langlois的“用于涂布纸和聚合物幅材的新型气相沉积工艺(A New VaporDepositionProcess for Coating Paper and Polymer Webs)”,第6届国际真空镀膜会议(1992年);D.G.Shaw和M.G.Langlois的“用于气相沉积丙烯酸酯薄膜的新型高速工艺:最新版(A NewHigh Speed Process FORVapor Depositing Acrylate Thin Films:An Update)”,真空镀膜机协会第36届年度技术会议录(1993年);D.G.Shaw和M.G.Langlois的“用以改善金属化的膜的阻挡特性的气相沉积丙烯酸酯涂层的用途(Use of VaporDeposited AcrylateCoatings to Improve the Barrier Properties of MetallizedFilm)”,真空镀膜机协会第37届年度技术会议录(1994年);D.G.Shaw、M.Roehrig、M.G.Langlois和C.Sheehan的“用以平整聚酯和聚丙烯膜基底表面的蒸发丙烯酸酯涂层的用途(Use of EvaporatedAcrylateCoatings to Smooth the Surface of Polyester and PolypropyleneFilmSubstrates)”,辐射固化年会(RadTech)(1996年);J.Affinito、P.Martin、M.Gross、C.Coronado和E.Greenwell的“用于光学应用的真空沉积聚合物/金属多层膜(Vacuumdeposited polymer/metal multilayer films foroptical application)”,《固体薄膜》,第270卷,第43-48页(1995年);以及J.D.Affinito、M.E.Gross、C.A.Coronado、G.L.Graff、E.N.Greenwell和P.M.Martin的“聚合物-氧化物透明阻挡层(Polymer-OxideTransparentBarrier Layers)”,真空镀膜机协会第39届年度技术会议录(1996年)。
在一些实施方案中,氨基官能硅烷可加入到第一聚合物层或第二聚合物层中的至少一者中。氨基官能硅烷已经加入到聚合物层中以有效地改善多层阻挡膜中无机氧化物层和聚合物层之间的粘附力。在85℃和85%的相对湿度下老化甚至最多250个小时,环状氮杂硅烷已经显示出改善的粘附力。参见美国专利申请公布2012-0003451(Weigel等人)和2012-0003484(Roehrig等人),这些专利申请全文各自以引用方式并入本文。在85℃和85%的相对湿度下老化1000个小时后,具有至少两个硅烷基团的仲或叔氨基官能硅烷保持粘附力并且抵抗分层。参见国际专利公布WO2014/025983(Spagnola等人),该专利全文以引用方式并入本文。在其中第一聚合物层或第二聚合物层中的至少一者包含聚合(例如,交联)丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的一些实施方案中,硅氧烷反应产物包括由仲或叔氨基官能硅烷的氨基基团和丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯之间的反应形成的酰胺键。
氧化物层通常包含至少一种无机氧化物。也可被包括的合适的无机材料为不同原子元素的氮化物、碳化物或硼化物。包括在氧化物层中的无机材料的示例包含来自第IIA族、第IIIA族、第IVA族、第VA族、第族VIA族、第VIIA族、第IB族或第IIB族的原子元素、第IIIB族、第IVB族或第VB族的金属、稀土金属或它们的组合的氧化物、氮化物、碳化物或硼化物。合适的无机材料的示例包括氧化硅诸如二氧化硅、氧化铝诸如矾土、氧化钛诸如二氧化钛、氧化铟、氧化锡、铟锡氧化物(“ITO”)、氧化钽、氧化锆、氧化铌、氮化铝、氮化硅、氮化硼、氮氧化铝、氮氧化硅、氮氧化硼、硼氧化锆、硼氧化钛以及它们的组合。ITO为正确选择各元素成分的相对比例可变得导电的特定类别陶瓷材料的示例。在一些实施方案中,氧化物层包含硅铝氧化物或ITO中的至少一种。虽然本文所公开的阻挡膜包括第一聚合物层和第二聚合物层之间的至少一个氧化物层,但是在一些实施方案中,无机层(例如,无机氧化物层)可施加至最上面的第二聚合物层。
氧化物层可使用膜金属化领域中所采用的诸如溅射(例如,阴极或平面磁控溅射)、蒸发(例如,电阻式或电子束蒸发)、化学气相沉积、电镀等技术形成。在一些实施方案中,氧化物层使用溅射(例如,反应溅射)形成。当氧化物层通过与诸如常规化学气相沉积工艺的较低能量技术相比的高能量沉积技术诸如溅射而形成时,已经观察到增强的阻挡特性。不受理论的约束,据信正如在溅射中所发生,增强的特性是由于到达基底的膜形成物质具有较大的动能,从而由于压实而导致更低的孔隙比率。
在一些实施方案中,在具有惰性和反应性气体(例如分别为氩气和氧气)的气体气氛的存在下,溅射沉积工艺可使用由交流(AC)功率源供电的双靶。AC功率源交替变换双靶中每一个的极性,由此使得对于AC循环的一半来说,一个靶为阴极而另一个靶为阳极。在下一个循环中,极性在双靶之间转换。该转换在设定的频率(例如,约40kHz)下进行,但也可使用其它频率。引入到工艺中的氧气在接收无机组合物的基底上以及靶的表面这两者上形成氧化物层。电介质氧化物可在溅射期间变得带电,从而破坏溅射沉积工艺。极性转换可中和从靶溅射的表面材料,并且可提供沉积材料的均匀度和更好的控制。
在一些实施方案中,在存在具有惰性和反应性气体(例如分别为氩气和氧气)的气体气氛的情况下,溅射沉积工艺可使用由直流(DC)功率源供电的靶。DC功率源独立于其它功率源向每个阴极靶供电(例如,脉冲功率)。在该方面,每个单独的阴极靶和对应的材料可在不同的功率水平下溅射,从而提供对整个层厚度中的组合物的附加控制。DC功率源的脉冲方面类似于AC溅射中的频率方面,从而允许在反应性气体种类(诸如氧气)的存在下对高速率溅射进行控制。脉冲DC功率源允许对极性转换进行控制,可中和从靶溅射的表面材料,并且可提供沉积材料的均匀度和更好的控制。
阻挡膜可在类似于美国专利5,440,446(Shaw等人)和7,018,713(Padiyath等人)中所描述的系统的辊到辊真空室中通过将各个层沉积到基底上来制造,所述专利全文以引用方式并入本文。层的沉积可为内嵌式,并且单次通过系统。在一些情况下,阻挡膜可通过系统若干次,以形成具有若干成对层的多层阻挡膜。
阻挡膜设置在其上的可用的第一聚合物膜基底的示例包括热塑性聚合物膜,其包括例如聚酯、聚丙烯酸酯(例如,聚甲基丙烯酸甲酯)、聚碳酸酯、聚丙烯、高或低密度聚乙烯、聚砜、聚醚砜、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯醇缩丁醛、聚氯乙烯、含氟聚合物(例如,聚偏二氟乙烯以及聚四氟乙烯)、聚乙烯硫化物、烯属共聚物(诸如乙烯和降冰片烯的共聚物(例如,可以“TOPASCOC”商购自肯塔基州佛洛伦萨的Topas先进聚合物(Topas Advanced Polymersof Florence,KY));和热固膜,诸如环氧树脂、纤维素衍生物、聚酰亚胺、聚酰亚胺苯并恶唑以及聚苯并恶唑。
在一些实施方案中,第一聚合物膜基底包含如下中的至少一种:聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚醚酮、聚芳基醚酮、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚芳基砜、聚醚砜、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、乙烯-四氟乙烯共聚物、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、四氟乙烯-六氟丙烯-偏二氟乙烯共聚物或聚偏二氟乙烯,其中的任一种任选地可为热稳定的。
在一些实施方案中,第一聚合物膜基底包含如下中的至少一种:聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、热稳定的PET、热稳定的PEN、聚甲醛、聚乙烯基萘、聚醚醚酮、氟聚合物、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚α-甲基苯乙烯、聚砜、聚苯醚、聚醚酰亚胺、聚醚砜、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺或聚邻苯二甲酰胺。在一些实施方案中,基底包括PET。
可例如使用张力下热定形、退火或将阻止收缩的其它技术进行基底的热稳定,当聚合物膜不受限制时,至最高至少热稳定温度。
在一些实施方案中,第一聚合物膜基底为多层光学膜(“MOF”),诸如在美国专利申请公布2012-0003451(Weigel等人)中所述的那些。
基底可具有多种厚度,例如,约0.01毫米(mm)至约1mm。然而,例如当期望自支承制品时,基底可显著地更厚。还可通过层合或以其它方式将使用柔性基底制成的所公开的膜接合到更厚的、非柔性或柔性较小的补充载体来便利地制成此类制品。
在一些实施方案中,第一聚合物层(以及另外每个氧化物层和第二聚合物层)的光滑性和连续性以及其对下面的基底或层的粘附可通过对第一聚合物膜基底进行适宜的预处理得到增强。合适的预处理方案的示例包括在合适的反应性或非反应性气氛(例如,等离子体、辉光放电、电晕放电、电介质阻挡放电或大气压放电)的存在下放电;化学预处理或火焰预处理。这些预处理有助于使下层的表面更加易于接受随后所施加聚合物(或无机)层的形成物。等离子体预处理可以是尤其可用的。
在一些实施方案中,也可在基底或下面的层顶上使用可具有与第一聚合物层不同组成的单独的接合层以改善粘附性。粘附促进层可为例如单独的聚合物层或含金属层,诸如金属层、金属氧化物层、金属氮化物层、或金属氧氮化物层。接合层可具有数纳米(nm)(例如,1nm或2nm)至约50nm的厚度,并且如果需要可更厚。
第一聚合物层所需的化学组成和厚度将部分取决于基底的性质和表面形貌。厚度通常足以提供可将后续的氧化物层施加至其上的光滑、无缺陷的表面。例如,第一聚合物层可以具有数纳米(例如2nm或3nm)至约5微米的厚度,并且如果需要可以更厚。
借助根据本公开的压敏粘合剂,将阻挡膜的主表面附着到第二聚合物膜基底。第二聚合物膜基底可形成例如在用于光伏器件的阻挡组件中的顶部片材。可形成顶部片材的可用材料包括聚酯、聚碳酸酯、聚醚、聚酰亚胺、聚烯烃、含氟聚合物以及它们的组合。
在其中使用根据本公开的阻挡组件来例如封装太阳能器件的实施方案中,通常期望顶部片材能耐紫外(UV)光降解并耐候。由UV光(例如,在280nm至400nm范围内)所致的光氧化降解可导致聚合物膜的变色以及光学和机械性能的劣化。本文所述的顶部片材可为光伏器件提供例如耐用的、抗寒耐热的面涂层。基底为大体耐磨且耐冲击的,并且当例如光伏器件暴露于户外元素时可防止其降解。
可向顶部片材中加入多种稳定剂,以改善其对紫外光的耐受性。此类稳定剂的示例包括紫外线吸收剂(UVA)(例如,红移紫外线吸收剂)、受阻胺光稳定剂(HALS)或抗氧化剂中的至少一种。这些添加剂更详细地描述于下文中。在一些实施方案中,短语“耐紫外光降解”意指顶部片材包括至少一种紫外线吸收剂或受阻胺光稳定剂。在一些实施方案中,短语“耐紫外光降解”意指顶部片材至少反射或吸收至少300纳米至400纳米的波长范围内的至少30纳米范围上的入射紫外光的至少50%。在这些实施方案中的一些中,顶部片材不必包含UVA或HALS。
在一些实施方案中,在本文所公开的组件中的第二聚合物膜基底包含含氟聚合物。含氟聚合物通常耐UV降解,甚至在不存在稳定剂诸如UVA、HALS和抗氧化剂的情况下也耐UV降解。可用的含氟聚合物包括乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)、四氟乙烯-六氟丙烯-偏二氟乙烯共聚物(THV)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、它们的共混物及它们与其它含氟聚合物的共混物。
包含含氟聚合物的基底还可包含非氟化材料。例如,可使用聚偏二氟乙烯与聚甲基丙烯酸甲酯的共混物。可用的柔性的、可透过可见光和红外光的基底还可包括多层膜基底。多层膜基底在不同的层中可具有不同的含氟聚合物或者可包括至少一层含氟聚合物和至少一层非氟化聚合物。多层膜可包括几层(例如,至少2层或3层)或者可包括至少100层(例如,在总共100至2000层的范围内或更多)。不同的多层膜基底中的不同聚合物可经选择例如以反射在300nm至400nm波长范围内的显著部分(例如,至少30%、40%或50%)的UV光,如在例如美国专利5,540,978(Schrenk)中描述。
可用的包含含氟聚合物的顶部片材可例如以商品名“TEFZEL ETFE”和“TEDLAR”从特拉华州威明顿市的杜邦公司(E.I.duPont De Nemoursand Co.,Wilmington,DE),以商品名“DYNEON ETFE”、“DYNEONTHV”、“DYNEON FEP”和“DYNEON PVDF”从明尼苏达州奥克代尔的泰良有限责任公司(Dyneon LLC,Oakdale,MN),以商品名“NORTONETFE”从新泽西州韦恩的圣戈班高功能塑料公司(St.Gobain PerformancePlastics,Wayne,NJ),以商品名“CYTOPS”从旭硝子公司(Asahi Glass)和以商品名“DENKA DX FILM”从日本东京的登卡化学工业株式会社(Denka Kagaku Kogyo KK,Tokyo,Japan)商购获得。
在一些实施方案中,第一聚合物膜基底的第二表面附接到具有封装层的光伏电池上。虽然其它封装材料可以是可用的,但是在一些实施方案中,封装层包含乙烯基乙酸亚乙酯。
在一些实施方案中,本文所公开组件中的PSA层的厚度为至少0.005mm(在一些实施方案中,为至少0.01mm、0.02mm、0.03mm、0.04mm或0.05mm)。在一些实施方案中,PSA层具有至多约0.2mm的厚度(在一些实施方案中,至多0.15、0.1或0.075mm)。例如,PSA层的厚度可在0.005mm至0.2mm、0.005mm至0.1mm、或0.01mm至0.1mm的范围内。
不仅PSA充当用于将第二聚合物膜基底附接到本文公开组件中的阻挡膜的便利手段,而且据信PSA层用于保护阻挡组件免受可由其可为含氟聚合物的第二聚合物膜基底和阻挡膜设置在其上的第一聚合物膜基底之间的CTE失配造成的热应力。根据本公开的PSA层包括紫外光吸收低聚物,还提供对阻挡膜的保护免受由UV光引起的降解。
PSA的UV耐性和所提供保护的耐久性可例如使用加速风化研究来评估。通常使用类似于ASTM G-155“使非金属材料暴露于使用实验室光源的加速试验器件的标准操作规程(Standard practice for exposing non-metallicmaterials in accelerated testdevices that use laboratory light sources)”中所述那些的技术在膜上执行加速风化研究。所述ASTM技术被视为户外耐久性的合理预测因子,其对材料性能进行正确地分级。一种用于检测物理特性变化的机制是使用ASTM G155中所述的风化循环以及在反射模式中操作D65光源。在所述测试下,并且当UV保护层被施加到制品上时,在开始明显开裂、剥离、分层或浑浊前,在使用CIE L*a*b*空间获得的b*值增加5或更小、4或更小、3或更小、或者2或更小之前,制品应当能经受在340nm下至少18,700kJ/m2的暴露。
根据本公开的共聚物也可用于例如室外应用中使用的聚合物膜。聚合物膜可以是例如上面结合阻挡膜组件描述的第一聚合物膜基底或第二聚合物膜基底中的任一个。除了用于光伏组件的阻挡膜之外,包含根据本公开的共聚物的膜可以是交通标志或其它标志的顶层、另一图形膜(例如用于建筑物或汽车外部)、屋顶材料或其他建筑膜、抗涂鸦膜或窗膜。聚合物膜可以是含氟聚合物膜,其包括例如上述任何氟化聚合物中任一种并且任选地还包括非氟化材料(例如PMMA)。
共聚物也可包含在多层膜的一层或多层中。多层膜为通常在膜的厚度方向上具有多于一层的任何膜。例如,多层膜可具有至少两层或三层最多至10、15或20层。在一些实施方案中,在镜膜中可包含该组合物,该镜膜可具有一层(或多层)根据本公开的组合物以及金属层。在一些实施方案中,在多层光学膜(即,具有光学层堆叠)中可包含该组合物,例如,诸如在美国专利申请公布2009/0283144(Hebrink等人)和2012/0011850(Hebrink等人)中所述的那些。多层光学膜可具有例如至少100、250、500个或甚至至少1000个光学层。此类多层光学膜可用作紫外光反射镜、可见光反射镜、红外光反射镜或这些的任何组合(例如,宽带反射镜)。在这些实施方案中的一些中,多层光学膜反射与所选择的光伏电池的吸收带宽对应的整个波长范围的平均光照的至少大部分,并且不反射光伏电池的吸收带宽之外的光照的大部分。在其它实施方案中,多层光学膜可与金属层组合以提供宽带反射器。在一些实施方案中,根据本公开的组合物可用作例如逆向反射片材。
本公开的一些实施方案
在第一实施方案中,本公开提供一种共聚物,该共聚物包含:
第一二价单元,该第一二价单元包含侧链紫外线吸收基团;
第二二价单元,该第二二价单元由下式表示:
第三二价单元,该第三二价单元由下式表示:
其中
每个R1独立地为氢或甲基;
R2为具有1至20个碳原子的直链或支链烷基;
V为O或NH;
W为具有1至10个碳原子的亚烷基;并且
每个R’独立地为具有1至6个碳原子的烷基。
在第二实施方案中,本公开提供第一实施方案所述的共聚物,其中每个侧链紫外线吸收基团独立地包括三嗪、二苯酮或苯丙三唑。
在第三实施方案中,本公开提供第一实施方案或第二实施方案所述的共聚物,其中每个第一二价单元独立地由下式表示:
其中
R1独立地为氢或甲基;
V为O或NH;
X为键、亚烷基或亚烷氧基,其中该亚烷基或亚烷氧基具有1至10个碳原子并且任选地插入有一个或多个-O-基团且任选地被羟基基团
取代;
R为具有一至四个碳原子的烷基;
n为0或1;并且
Z为任选地被羟基、烷基、卤素或羟基取代的苯甲酰基基团;4,6-
二苯基[1,3,5]三嗪-2-基基团,其中每个苯基任选独立地被一个或多个
烷基或烷氧基基团取代;或任选地被一个或多个卤素取代的2H-苯并
三唑-2-基基团。
在第四实施方案中,本公开提供第三实施方案所述的共聚物,其中紫外光吸收低聚物中的第一二价单元中的至少一些包含不同的Z基团。
在第五实施方案中,本公开提供第一实施方案至第四实施方案中任一项所述的共聚物,其中基于共聚物的总重量,第三二价单元以至少1重量%的量存在于共聚物中。
在第六实施方案中,本公开提供第一实施方案至第五实施方案中任一项所述的共聚物,其中R2为具有4至20个碳原子的直链或支链烷基。
在第七实施方案中,本公开提供第六实施方案所述的共聚物,其中R2为具有6至12个碳原子的直链或支链烷基。
在第八实施方案中,本公开提供第七实施方案所述的共聚物,其中R2为具有8个碳原子的烷基。
在第九实施方案中,本公开提供包含压敏粘合剂和第六实施方案至第八实施方案中任一项所述的共聚物的共混物的组合物。
在第十实施方案中,本公开提供第九实施方案所述的组合物,其中压敏粘合剂为包含第二二价单元的丙烯酸类压敏粘合剂。
在第十一实施方案中,本公开提供第十实施方案所述的组合物,其中任选地对于压敏粘合剂中的第二二价单元中的至少一些,R2为碳原子数与紫外光吸收低聚物中的第二二价单元中的至少一些碳原子数相同的烷基。
在第十二实施方案中,本公开第九实施方案至第十一实施方案中任一项所述的组合物,其中压敏粘合剂还包含含有侧链羧酸基团的第四二价单元。
在第十三实施方案中,本公开提供第九实施方案至第十二实施方案中任一项所述的组合物,其中共聚物具有最多压敏粘合剂的数均分子量的一半的数均分子量。
在第十四实施方案中,本公开提供第九实施方案至第十三实施方案中任一项所述的组合物,其中基于组合物的总重量,共聚物为0.5重量%至25重量%的范围内的量存在于组合物中。
在第十五实施方案中,本公开提供第九实施方案至第十三实施方案中任一项所述的组合物,其中该组合物包含在共混物中含有第一二价单元、第二二价单元和第三二价单元的第二不同共聚物,并且其中共聚物中和第二不同共聚物中的第一二价单元包含不同的侧链紫外线吸收基团。
在第十六实施方案中,本公开提供第十五实施方案所述的组合物,其中基于组合物的总重量,共聚物和第二不同共聚物以0.5重量%至25重量%的组合量存在于组合物中。
在第十七实施方案中,本公开提供第九实施方案至第十六实施方案中任一项所述的组合物,其中基于组合物的总重量,紫外线吸收基团以0.5重量%至20重量%的范围内的量存在于组合物中。
在第十八实施方案中,本公开提供包含第九实施方案至第十七实施方案中任一项所述的组合物的制品。
在第十九实施方案中,本公开提供第十八实施方案所述的制品,其中制品为光伏器件。
在第二十实施方案中,本公开提供第十八实施方案或第十九实施方案所述的制品,其中组合物设置在膜表面的至少一部分上。
在第二十一实施方案中,本公开提供第二十实施方案所述的制品,其中膜为图形膜、建筑膜、抗涂鸦膜、窗膜或车辆包裹物中的至少一种。
在第二十二实施方案中,本公开提供第二十实施方案所述的制品,其中膜为阻挡膜。
在第二十三实施方案中,本公开提供了包含第一实施方案至第八实施方案中任一项所述的共聚物的制品。
在第二十四实施方案中,本公开提供第二十三实施方案所述的制品,其中制品为膜。
在第二十五实施方案中,本公开提供第二十四实施方案所述的制品,其中膜为图形膜、建筑膜、抗涂鸦膜、窗膜或车辆包裹物中的至少一种。
在第二十六实施方案中,本公开提供第二十四实施方案所述的制品,其中膜为多层膜。
在第二十七实施方案中,本公开提供一种组件,该组件包括:
第一聚合物膜基底,其具有第一表面和与第一表面相背对的第二
表面;
阻挡膜,其设置在第一聚合物膜的第一表面上;
压敏粘合剂层,其具有第一表面和与第一表面相背对的第二表
面,其中压敏粘合剂的第一表面设置在与第一聚合物膜基底相背对的
阻挡膜上,并且其中压敏粘合剂组合物包含第九实施方案至第十六实
施方案中任一项所述的组合物;和
第二聚合物膜基底,其设置在压敏粘合剂层的第二表面上。
在第二十八实施方案中,本公开提供第二十七实施方案所述的组件,其中阻挡膜包括至少第一聚合物层和第二聚合物层,第一聚合物层和第二聚合物层由无机阻挡层分开。
在第二十九实施方案中,本公开提供第二十八实施方案所述的组件,其中无机阻挡层为氧化物层。
在第三十实施方案中,本公开提供第二十七实施方案至第二十九实施方案中任一项所述的组件,其中阻挡膜包含在第一聚合物膜基底上的多个交替的氧化物层和第二聚合物层。
在第三十一实施方案中,本公开提供第二十七实施方案至第三十实施方案中任一项所述的组件,其中第一聚合物膜基底包含如下中的至少一种:聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚醚醚酮、聚芳基醚酮、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺、聚芳基砜、聚醚砜、聚酰胺酰亚胺、聚酰亚胺、乙烯-四氟乙烯共聚物、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、四氟乙烯-六氟丙烯-偏二氟乙烯共聚物或聚偏二氟乙烯,其中的任一种任选地可为热稳定的。
在第三十二实施方案中,本公开提供第二十七实施方案至第三十一实施方案中任一项所述的组件,其中第一聚合物层或第二聚合物层中的至少一种包含聚合的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
在第三十三实施方案中,本公开提供第三十二实施方案所述的组件,其中丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯为二丙烯酸三环癸烷二甲醇酯、3-(丙烯酰氧基)-2-羟基-丙基甲基丙烯酸酯、三丙烯酰氧基乙基异氰脲酸酯、甘油二丙烯酸酯、乙氧基化三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、三丙烯酸季戊四醇酯、四丙烯酸季戊四醇酯、丙氧基化(3)甘油二丙烯酸酯、丙氧基化(5,5)甘油二丙烯酸酯、丙氧基化(3)三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、丙氧基化(6)三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、五丙烯酸二季戊四醇酯、或它们的组合。
在第三十四实施方案中,本公开提供第二十八实施方案至第三十三实施方案中任一项所述的组件,其中第一聚合物层或第二聚合物层中的至少一种包含氨基官能硅烷的硅氧烷反应产物。
在第三十五实施方案中,本公开提供第三十四实施方案所述的组件,其中硅氧烷反应产物与氧化物层共用硅氧烷键。
在第三十六实施方案中,本公开提供第二十七实施方案至第三十五实施方案中任一项所述的组件,其中第二聚合物膜基底包含乙烯-四氟乙烯共聚物、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、四氟乙烯-六氟丙烯-偏二氟乙烯共聚物或聚偏二氟乙烯中的至少一种。
在第三十七实施方案中,本公开提供第二十七实施方案至第三十六实施方案中任一项所述的组件,其中第一聚合物膜基底的第二表面设置在光伏电池上。
在第三十八实施方案中,本公开提供第三十七实施方案所述的组件,其中光伏电池为CIGS电池。
在第三十九实施方案中,本公开提供第三十七实施方案或第三十八实施方案所述的组件,其中第一聚合物膜基底的第二表面附接至具有封装层的光伏电池。
在第四十实施方案中,本公开提供第三十九实施方案所述的组件,其中封装层包含乙烯基乙酸亚乙酯。
在第四十一实施方案中,本公开提供第二十七实施方案至第四十实施方案中任一项所述的组件,其中阻挡膜具有在23℃和90%的相对湿度下小于0.005g/m2/天的氧气透过率或在50℃和100%的相对湿度下小于0.005g/m2/天的水蒸气透过率中的至少一者。
以下实施例另外说明了本文所公开的组合物和方法的实施方案,但这些实施例中所提到的特定材料及其量以及其它条件和细节均不应理解为对本发明的不当限制。
实施例
除非另外指明,在实施例和说明书的其余部分中的所有份数、百分数、比率等按重量计,并且在实施例中使用的所有试剂可从一般的化学供应商(例如马萨诸塞州麻省的阿法埃莎公司(Alfa Aesar,Ward Hill,Mass))获得。
表1:材料
测试方法
分子量测定
在下列低聚物实施例中,使用凝胶渗透色谱法(GPC),通过与线型聚苯乙烯聚合物标准物相比较来确定分子量。使用两个300毫米(mm)×7.5mm线性PL-Gel-2柱,在WatersReliant e2695系统(得自马萨诸塞州米尔福德市的沃特世公司(Waters Corporation,Milford,MA))上进行GPC测量:一个3微米混合-E(标称MW范围高达30,000道尔顿);和一个5微米混合D(标称MW范围200-400,000道尔顿)。使用Waters 2414型蒸发光散射检测器(70℃漂移管,30psi氮气流,30℃喷雾器温度)进行检测。将50毫克(mg)低聚物样品溶解在10毫升(mL)四氢呋喃中(以250ppm BHT抑制),并通过0.45微米针筒过滤器过滤。将30微升体积样品注射到柱上,柱温为40℃。流速为1mL/分钟,移动相为四氢呋喃。使用窄分散聚苯乙烯标准物执行分子量校正,峰值平均分子量范围为4.8×105克/摩尔至580克/摩尔。使用合适的GPC软件执行校准和分子量分布计算,使用三阶多项式拟合分子量校准曲线。每个报告结果为重复两次注入的平均值。
雾度测量
根据ASTM D1003-13(2013年11月)使用BYK HAZE GUARDPLUS雾度计(马里兰州哥伦比亚的美国BYK加德纳公司)((BYK-Gardner USA,Columbia,MD))进行雾度测量。
加速紫外光暴露
使用如ASTM G155中所定义的日光滤光片使膜在连续的氙弧辐射下风化。辐照度在340nm处设定为1.3W/m2/nm。黑色面板温度设定在70℃,并且腔室温度设定在47℃。相对湿度设定为30%。不使用水喷雾。在任何暴露于这些加速风化条件之前评估样品,并且然后在约662MJ/m2的总UV剂量下用于评估。
制备例1(“PE-1”)
2-[4-(4,6-二苯基)-[1,3,5]三嗪-2-基]-3-羟基-苯氧基}-丙-2-烯酸乙酯
部分A
两升3-颈圆底烧瓶配备有温度探针、冷凝器和机械搅拌器。烧瓶装入有400克(1.17摩尔)4-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-1,3-苯二酚、115.5克(1.31摩尔)碳酸亚乙酯、16.7克(0.085摩尔)溴化四乙基铵和440克二甲基甲酰胺(DMF)。将批料加热至150℃,并在该温度下保持五个小时。观察到从批料中逸出CO2。五个小时后,加入10克附加的碳酸亚乙酯。将批料在150℃下加热三个小时,并且然后加入15克附加的碳酸亚乙酯和2克附加的溴化四乙铵。将批料在150℃下再加热三个小时,在该时间之后经薄层色谱法观察不到起始材料。
使批料冷却到80℃,并且加入730克异丙醇(IPA)。混合物是浓稠的,并且加入50/50的IPA/水的混合物以改善搅拌。然后,通过过滤将固体产物收集到布氏漏斗上。将固体产物溶于2500克DMF中,在回流下加热,冷却到室温,并且通过过滤收集到布氏漏斗上。空气干燥产物,以得到373克(83%)灰白色固体产物2-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-5-(2-羟基乙氧基)苯酚。
部分B
两升的3颈圆底烧瓶配备有温度探针、带有冷凝器的迪安斯达克榻分水器和机械搅拌器。烧瓶装入有部分A中制备的150克(0.389摩尔)2-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2-基)-5-(2-羟基乙氧基)苯酚、790克甲苯、0.24克4-甲氧基苯酚(MEHQ)抑制剂、0.38克吩噻嗪抑制剂、8.5克对甲苯磺酸以及30.8克(0.43摩尔)丙烯酸。在回流下采用中等搅动将批料加热(约115℃)六个小时,并且在迪安斯达克榻分水器中收集共沸水。五个小时之后,加入五克附加的丙烯酸,并且将批料再加热三个小时。通过用50/50的乙酸乙酯/己烷洗脱的薄层色谱法分析显示批料没有残余原料。
使批料冷却到80℃,并且加入65克三乙胺。在大气压下,在回流下加热批料以移除大部分甲苯。罐温为120℃,并收集约650克甲苯。使批料冷却到75℃,并且加入500克IPA。在回流下(约82℃),加热混合物以共沸掉甲苯和IPA。收集约500克溶剂。用冰浴将反应混合物冷却到约20℃,并且在搅拌下加入500克IPA。通过过滤将沉淀出的产物收集到布氏漏斗上。将固体溶解回到700克水和700克IPA的混合物中,并且充分搅拌且过滤混合物。空气干燥该产物,以得到161.8克(95%)淡黄色固体产物,mp=125℃-127℃。
为了进一步纯化,将约90克淡黄色固体与1200克MEK混合,并加热到40℃。加入五克木炭,并充分搅拌混合物,并将其过滤通过助滤床。使用旋转蒸发仪移除溶剂,并然后加入400克IPA。充分搅拌混合物,通过过滤收集固体产物2-[4-(4,6-二苯基)-[1,3,5]三嗪-2-基]-3-羟基-苯氧基}-丙-2-烯酸乙酯。mp=126℃至128℃。通过1H NMR光谱学来确认结构。
示例性低聚物实施例1(“IOE-1”):80重量%IOA、10重量%制备1和10重量% BTZ-MA的无规共聚物
在0.5品脱(约240mL)瓶中,将IOA(8g)与1g制备例1、1g BTZ-MA、0.05g VAZO 67和30g EtOAc混合。将瓶中的内含物用氮气曝气1分钟,然后用盖子和胶带密封瓶子。然后将瓶子放入洗涤器中并在65℃下搅拌20小时。
实施例1和示例性低聚物实施例2至4(“IOE-2至IOE-5”)
使用与IOE-1相同的聚合条件,根据下表2中列出的材料和量来制备实施例1和示例性低聚物实施例2至4的无规共聚物,其为70重量%IOA、10重量%制备例1、10重量%BTZ-MA和10重量%加入的单体。
表2
实施例2和比较例A至D:“PSA中的UVA”的制备
为了获得“PSA中的UVA”样品,将实施例1和IOE-1至IOE-4的溶液各自共混到包含45%固体的94/6的丙烯酸异辛酯/丙烯酸的溶剂基型压敏粘合剂(PSA)组合物中。如美国专利RE24906中所述制备压敏粘合剂组合物。以组合物中4%活性UVA为目标。
实施例1和IOE-1至IOE-4在乙酸乙酯中为25%固体。将这些加入到玻璃广口瓶中的湿PSA中,并利用空气混合器将内含物剧烈混合2分钟。不加入交联剂或其它添加剂。在混合后,将内含物静置过夜以脱气。针对雾度和/或浑浊度目视检查PSA中的实施例1和IOE-1至IOE-4的这些“PSA中的UVA”样品,其结果汇总在下表3中。
表3
低聚物实施例3至10:DEAEMA作为加入的单体
使用与实施例1中相同的聚合程序制备附加的低聚物实施例,使用下表4中所示的材料和量,并且包括DEAEMA作为加入的单体。
表4
*实施例3和实施例1具有相同的配方
用上述GPC方法测定实施例4和实施例7低聚物的分子量,其结果汇总于表5中(Mw=重均分子量;Mn=数均分子量;所有值以道尔顿计)。
表5
样品 Mw Mn 多分散性
实施例4 90590 58290 1.55
实施例7 19933 14900 1.3
实施例11至18:在具有DEAEMA作为加入的单体的PSA中的UVA
使用与上述实施例2的制备相同的程序将低聚物实施例3至10的低聚物样品共混到PSA中,并且针对雾度和/或浑浊度目视检查这些“PSA中的UVA”实施例11-18,其结果汇总于表6。
以组合物中4%或10%活性UVA作为目标,在实施例11中加入16%活性UVA。
表6
**实施例2和实施例11在PSA中的UVA的重量百分比彼此不同。
示例性低聚物实施例5至9:DMAA作为加入的单体
使用与实施例1中相同的聚合程序,使用下表7中所示的材料和量,并且包括DMAA作为加入的单体来制备另外的示例性低聚物实施例。
表7
示例性实施例10至14:在具有DMAA作为加入的单体的PSA中的UVA
使用与上述实施例2的制备相同的程序,通过将IOE-5至IOE-9的样品共混到PSA中提供了几个示例性实施例,针对雾度和/或浑浊度目视检查这些“PSA中的UVA”示例性实施例,其结果汇总于表8中。以组合物中4%活性UVA为目标。
表8
PSA样品中的UVA的雾度测量
如下制备PSA中的UVA样品。将UVA材料和“TINUVIN 123”溶解在甲苯中,并且随后使用表9中所示的相对重量百分比量的材料将其加入放在透明玻璃广口瓶中的实施例2中所述的PSA组合物中。将该混合物制成100克批料并通过在40rpm下辊10分钟而结合。将美国专利No.6,777,079(Zhou等人)所述的双酰胺交联剂(基于PSA和交联剂重量,0.2重量%)加入到混合物中,然后使混合物在40rpm下再辊20分钟。UVA的重量百分比是活性UVA的重量百分比。
表9
样品 UVA类型* UVA重量% TINUVIN 123,重量%
实施例19 实施例4 10 1
实施例20 实施例7 10 1
比较例E TINUVIN 928 10 1
比较例F TINUVIN 479 10 1
比较例G IOE-1 10 1
*对于实施例4和实施例7的组合物参见表4;两者均具有作为加入的单体的DEAEMA
然后将该混合物刮涂到PET剥离衬件上至2密耳(约51微米)的厚度并置于250℉(121℃)的烘箱中5分钟以固化。然后将样品从PET剥离衬件上取下并手工层压在两个1密耳(约25微米)聚(乙烯-共-四氟乙烯)(“ETFE”)膜Saint-Gobain之间进行分析。
如上所述针对雾度测量对汇总在表9中的PSA样品中的UVA进行分析,其结果汇总在表10中。
表10
样品 雾度值(n=5)
实施例19 4.84
实施例20 8.74
比较例E 86.6*
比较例F 5.4
比较例G 11.31
*TINUVIN 479表现出溶解度差
降解研究
根据表9中样品的说明来制备样品,其中进行了如下修改:实施例19和20以及比较例E的活性UVA百分比为1%,并且比较例F的活性UVA百分比为2%。以上述加速紫外光暴露测试方法对层合物进行研究。在该风化过程中定期进行吸光度测量,并监测350nm处的吸光度峰值作为UV剂量的函数。测定作为350nm处吸光度对光照剂量的函数的斜率,其结果汇总在表11中。
各种UVA的降解速率通过2004年测试和评估杂志的第32卷第3期(Journal ofTesting and Evaluation,2004,Vol.32No 3.)的杰姆斯E.皮克特(James E.Pickett)编著的“紫外线吸收剂持久性和涂层寿命(UVAbsorber Permanence and Coating Lifetimes)”中概述的一级动力学“当测量膜或涂层的吸光度作为光剂量的函数时,绘制log(10^(Abs))与暴露应该呈现具有斜率k的直线”测定。
表11
样品 平均斜率(n=4) 标准偏差
实施例19 -7.50E-04 5.77E-05
实施例20 -2.00E-04 0
比较例E -6.75E-04 9.57E-05
比较例F -1.38E-03 5.00E-05
与商业UVA相比,实施例7表现出显著降低的降解速率。另外,实施例4与“TINUVIN479”的降解速率大致相同,与“TINUVIN 479”相比,与PSA组合物的相溶性更好,与“TINUVIN928”相比降解速率好得多。
在不脱离本公开的范围和实质的情况下,本领域的技术人员可对本公开做出各种变型和更改,并且应当理解,本发明不应不当地受限于本文中所阐述的示例性实施方案。

Claims (15)

1.一种共聚物,所述共聚物包含:
第一二价单元,所述第一二价单元包含侧链紫外线吸收基团;
第二二价单元,所述第二二价单元由下式表示:
第三二价单元,所述第三二价单元由下式表示:
其中
每个R1独立地为氢或甲基;
R2为具有1至20个碳原子的直链或支链烷基;
V为O或NH;
W为具有1至10个碳原子的亚烷基;并且
每个R’独立地为具有1至6个碳原子的烷基。
2.根据权利要求1所述的共聚物,其中所述侧链紫外线吸收基团包括三嗪、二苯甲酮或苯并三唑。
3.根据权利要求2所述的共聚物,其中每种第一二价单元独立地由下式表示:
其中
R1独立地为氢或甲基;
V为O或NH;
X为键、亚烷基或亚烷氧基,其中所述亚烷基或亚烷氧基具有1至10个碳原子并且任选地插入有一个或多个-O-基团且任选地被羟基基团取代;
R为具有一至四个碳原子的烷基;
n为0或1;并且
Z为任选地被羟基、烷基、卤素或羟基取代的苯甲酰基基团;4,6-二苯基[1,3,5]三嗪-2-基基团,其中每个苯基任选独立地被一个或多个烷基或烷氧基基团取代;或任选地被一个或多个卤素取代的2H-苯并三唑-2-基基团。
4.根据权利要求3所述的共聚物,其中所述共聚物中的所述第一二价单元中的至少一些包含不同的Z基团。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的共聚物,其中基于所述共聚物的总重量,所述第三二价单元以至少1重量%的量存在于所述共聚物中。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的共聚物,其中R2为具有4至20个碳原子的直链或支链烷基。
7.一种组合物,所述组合物包含压敏粘合剂和根据权利要求6所述的共聚物的共混物。
8.根据权利要求7所述的组合物,其中所述压敏粘合剂为包含所述第二二价单元的丙烯酸类压敏粘合剂。
9.根据权利要求8所述的组合物,其中所述压敏粘合剂还包含含有侧链羧酸基团的第四二价单元。
10.根据权利要求7至9中任一项所述的组合物,其中所述共聚物具有最多为所述压敏粘合剂的数均分子量的一半的数均分子量。
11.根据权利要求7至10中任一项所述的组合物,其中基于所述组合物的总重量,所述共聚物以0.5重量%至25重量%范围内的量存在于所述组合物中。
12.根据权利要求7至11中任一项所述的组合物,其中所述组合物包含在所述共混物中含有所述第一二价单元、第二二价单元和第三二价单元的第二不同共聚物,并且其中所述共聚物中和所述第二不同共聚物中的所述第一二价单元包含不同的侧链紫外线吸收基团。
13.一种制品,所述制品包含设置在其至少表面上的根据权利要求7至12中任一项所述的组合物,其中所述制品为光伏器件、车辆包裹物、图形膜、抗涂鸦膜、建筑膜或窗膜。
14.一种组件,所述组件包括:
第一聚合物膜基底,所述第一聚合物膜基底具有第一表面和与所述第一表面相背对的第二表面;
阻挡膜,所述阻挡膜设置在所述第一聚合物膜的所述第一表面上;
压敏粘合剂层,所述压敏粘合剂层具有第一表面和与所述第一表面相背对的第二表面,其中所述压敏粘合剂的所述第一表面设置在与所述第一聚合物膜基底相背对的所述阻挡膜上,并且其中所述压敏粘合剂组合物包含根据权利要求7至12中任一项所述的组合物;和
第二聚合物膜基底,所述第二聚合物膜基底设置在所述压敏粘合剂层的所述第二表面上。
15.根据权利要求14所述的组件,其中所述组件设置在光伏电池上。
CN201680037150.7A 2015-06-25 2016-06-23 包含紫外光吸收基团的共聚物和包含该共聚物的组合物 Active CN107709385B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201562184784P 2015-06-25 2015-06-25
US62/184,784 2015-06-25
PCT/US2016/039033 WO2016210140A1 (en) 2015-06-25 2016-06-23 Copolymer including ultraviolet light-absorbing group and compositions including the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107709385A true CN107709385A (zh) 2018-02-16
CN107709385B CN107709385B (zh) 2020-06-12

Family

ID=57586416

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680037150.7A Active CN107709385B (zh) 2015-06-25 2016-06-23 包含紫外光吸收基团的共聚物和包含该共聚物的组合物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10519350B2 (zh)
EP (1) EP3313906B1 (zh)
JP (1) JP6940418B2 (zh)
KR (1) KR20180021094A (zh)
CN (1) CN107709385B (zh)
WO (1) WO2016210140A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111499811A (zh) * 2020-06-05 2020-08-07 中国科学院兰州化学物理研究所 一种耐磨防雾树脂及其制备方法以及一种防雾涂层

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI624519B (zh) 2012-12-20 2018-05-21 3M新設資產公司 包含具有吸收紫外線基團之寡聚物之氟聚合物組合物
US11110689B2 (en) 2014-06-25 2021-09-07 3M Innovative Properties Company Pressure sensitive adhesive composition including ultraviolet light-absorbing oligomer
US10125251B2 (en) 2014-06-25 2018-11-13 3M Innovative Properties Company Fluoropolymer composition including at least one oligomer
US11254104B2 (en) 2016-04-01 2022-02-22 3M Innovative Properties Company Multilayer fluoropolymer films
CN108753214A (zh) * 2018-06-22 2018-11-06 西安航天三沃化学有限公司 一种防紫外线压敏胶及制备方法
JPWO2020105586A1 (ja) * 2018-11-19 2021-10-07 日産化学株式会社 光照射剥離用接着剤組成物及び積層体並びに積層体の製造方法及び剥離方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5723513A (en) * 1990-02-07 1998-03-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymers containing halomethyl-1,3,5-triazine moieties
JP2000154497A (ja) * 1998-11-13 2000-06-06 Nicca Chemical Co Ltd インクジェット記録用紙用耐水性向上剤及びインクジェット記録用紙
JP2002146155A (ja) * 2000-11-16 2002-05-22 Daicel Chem Ind Ltd 水性樹脂分散液及びそれを含む水性塗料
WO2014100580A1 (en) * 2012-12-20 2014-06-26 3M Innovative Properties Company Fluoropolymer composition including an oligomer having an ultraviolet absorbing group
WO2014100551A1 (en) * 2012-12-20 2014-06-26 3M Innovative Properties Company Copolymers including ultraviolet absorbing groups and fluoropolymer compositions including them

Family Cites Families (145)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT610737A (zh) 1955-11-18 1900-01-01
US2803615A (en) 1956-01-23 1957-08-20 Minnesota Mining & Mfg Fluorocarbon acrylate and methacrylate esters and polymers
CH485484A (de) 1964-12-04 1970-02-15 Ciba Geigy Verwendung von neuen Hydroxyphenyl-1,3,5-triazinen als Schutzmittel gegen Ultraviollettstrahlung für organische Materialien ausserhalb der Textilindustrie
US3553179A (en) 1968-05-06 1971-01-05 Du Pont Acrylate-type esters of perfluoropoly-oxa-alkaneamidoalkyl alcohols and their polymers
GB1407670A (en) * 1973-06-29 1975-09-24 Oreal Anti-sunburn polymers
JPS5176345A (ja) 1974-12-27 1976-07-01 Kureha Chemical Ind Co Ltd Horifutsukabiniridennoshinkinasoseibutsu
US4330590A (en) 1980-02-14 1982-05-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photoactive mixture of acrylic monomers and chromophore-substituted halomethyl-2-triazine
US4329384A (en) 1980-02-14 1982-05-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Pressure-sensitive adhesive tape produced from photoactive mixture of acrylic monomers and polynuclear-chromophore-substituted halomethyl-2-triazine
JPS56163140A (en) 1980-05-21 1981-12-15 Kureha Chem Ind Co Ltd Vinylidene fluoride resin composition
US4379201A (en) 1981-03-30 1983-04-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Multiacrylate cross-linking agents in pressure-sensitive photoadhesives
US4508882A (en) 1981-08-24 1985-04-02 Asahi Glass Company Ltd. Benzotriazole compound and homopolymer or copolymers thereof
CS231209B1 (en) * 1981-11-25 1984-10-15 Andrej Romanov Polyprophylene mixture suitable for fibre or foil production
US5097800A (en) 1983-12-19 1992-03-24 Spectrum Control, Inc. High speed apparatus for forming capacitors
US5018048A (en) 1983-12-19 1991-05-21 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making
US4842893A (en) 1983-12-19 1989-06-27 Spectrum Control, Inc. High speed process for coating substrates
US5125138A (en) 1983-12-19 1992-06-30 Spectrum Control, Inc. Miniaturized monolithic multi-layer capacitor and apparatus and method for making same
US5032461A (en) 1983-12-19 1991-07-16 Spectrum Control, Inc. Method of making a multi-layered article
US4722515A (en) 1984-11-06 1988-02-02 Spectrum Control, Inc. Atomizing device for vaporization
EP0242460A1 (en) 1985-01-18 1987-10-28 SPECTRUM CONTROL, INC. (a Pennsylvania corporation) Monomer atomizer for vaporization
US5084537A (en) 1985-01-29 1992-01-28 Bausch & Lomb, Incorporated UV-absorbing extended-wear Lenses
US4737559A (en) 1986-05-19 1988-04-12 Minnesota Mining And Manufacturing Co. Pressure-sensitive adhesive crosslinked by copolymerizable aromatic ketone monomers
US4954371A (en) 1986-06-23 1990-09-04 Spectrum Control, Inc. Flash evaporation of monomer fluids
US4804717A (en) 1987-05-28 1989-02-14 Ferro Corporation Polymeric hindered amine light stabilizers
EP0380667A4 (en) 1987-10-07 1991-04-24 Terumo Kabushiki Kaisha Ultraviolet-absorbing polymer material and photoetching process
DE3914374A1 (de) 1989-04-29 1990-10-31 Basf Ag Durch ultraviolette strahlung unter luftsauerstoffatmosphaere vernetzbare copolymerisate
US5254608A (en) 1989-10-19 1993-10-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Ultraviolet screener blends
US5198498A (en) 1990-02-06 1993-03-30 Ciba-Geigy Corporation Light-stabilized binders for coating compositions
US5324834A (en) 1990-06-13 1994-06-28 Ciba-Geigy Corporation Piperidine-triazine co-oligomers for use as stabilizers for organic materials
JP3133078B2 (ja) 1990-12-18 2001-02-05 旭化成工業株式会社 含フッ素樹脂及びこれを主成分とするフッ素系塗料
JP3137351B2 (ja) 1991-04-10 2001-02-19 旭硝子株式会社 フッ素樹脂組成物、および該組成物を成形した成形体
US5286781A (en) 1991-04-18 1994-02-15 Sekisui Chemical Co., Ltd. Pressure sensitive adhesive composition and pressure sensitive adhesive tape or sheet making use of the same
DE59203814D1 (de) 1991-07-29 1995-11-02 Ciba Geigy Ag Lichtstabilisierte Copolymer-Zusammensetzungen als Bindemittel für Lacke.
AU3224293A (en) 1992-02-25 1993-09-13 Dow Chemical Company, The All-polymeric ultraviolet reflecting film
JPH06299132A (ja) 1993-04-20 1994-10-25 Otsuka Chem Co Ltd 粘着剤組成物
JPH073242A (ja) 1993-06-18 1995-01-06 Asahi Glass Co Ltd 含フッ素紫外線吸収剤、およびその用途
JP2825736B2 (ja) 1993-07-30 1998-11-18 京セラ株式会社 誘電体磁器組成物および半導体素子収容用パッケージ
BR9407741A (pt) 1993-10-04 1997-02-12 Catalina Coatings Inc Revestimento de acrilato
US5440446A (en) 1993-10-04 1995-08-08 Catalina Coatings, Inc. Acrylate coating material
JP3730266B2 (ja) * 1994-05-19 2005-12-21 一方社油脂工業株式会社 遮光フィルム
US5672704A (en) 1994-10-04 1997-09-30 Ciba-Geigy Corporation 2-Hydroxyphenyl-s-Triazines substituted with ethylenically unsaturated moieties
US6083628A (en) 1994-11-04 2000-07-04 Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. Hybrid polymer film
JP3404160B2 (ja) 1995-01-06 2003-05-06 旭電化工業株式会社 メタクリル系ラッカー組成物
FR2731943B1 (fr) 1995-03-24 1997-07-18 Atochem Elf Sa Materiau complexe a proprietes ameliorees constitue de polyfluorure de vinylidene et d'un thermoplastique non compatible
JPH0952916A (ja) 1995-08-11 1997-02-25 Asahi Denka Kogyo Kk 紫外線吸収性組成物
JPH0959560A (ja) 1995-08-17 1997-03-04 Asahi Glass Co Ltd 水性塗料用組成物
US5637646A (en) 1995-12-14 1997-06-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Bulk radical polymerization using a batch reactor
JPH09239921A (ja) 1996-03-13 1997-09-16 Toray Ind Inc 積層フイルム
JP3638727B2 (ja) 1996-06-05 2005-04-13 株式会社日本触媒 熱可塑性樹脂組成物およびそのフィルム
JPH107998A (ja) 1996-06-26 1998-01-13 Sekisui Chem Co Ltd 装飾用粘着シート
JP3674195B2 (ja) 1996-11-01 2005-07-20 Jsr株式会社 水系分散体
JPH10168408A (ja) 1996-12-13 1998-06-23 Oji Paper Co Ltd 粘着テープまたはシート
US5807635A (en) 1997-01-24 1998-09-15 Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation Telephone cables
DE19807209A1 (de) 1997-02-20 1998-08-27 Mitsubishi Paper Mills Ltd Träger für Abbildungsmaterial
JP3988201B2 (ja) 1997-04-02 2007-10-10 旭硝子株式会社 紫外線硬化型被覆剤組成物およびその用途
IT1290462B1 (it) 1997-04-08 1998-12-03 Ausimont Spa Polimeri idrogenati modificati
US6008302A (en) 1997-04-29 1999-12-28 3M Innovative Properties Company Polyolefin bound ultraviolet light absorbers
US6045864A (en) 1997-12-01 2000-04-04 3M Innovative Properties Company Vapor coating method
JPH11317475A (ja) 1998-02-27 1999-11-16 Canon Inc 半導体用封止材樹脂および半導体素子
US5985444A (en) 1998-04-03 1999-11-16 3M Innovative Properties Company Amide functional ultraviolet light absorbers for fluoropolymers
JP4895413B2 (ja) 1998-04-06 2012-03-14 新日本製鐵株式会社 耐候性及び耐汚染性に優れたプレコート塗装鋼板用塗料とプレコート塗装鋼板及びその製造方法とその用途
JPH11293181A (ja) 1998-04-06 1999-10-26 Nippon Steel Corp 耐候性に優れたプレコート塗装鋼板用塗料及びプレコート塗装鋼板とその用途
JP3920460B2 (ja) 1998-06-10 2007-05-30 株式会社日本触媒 紫外線吸収性複合フィルム
JP2000123621A (ja) * 1998-10-13 2000-04-28 Otsuka Chem Co Ltd 蛍光灯被覆材
CA2353506A1 (en) 1998-11-02 2000-05-11 3M Innovative Properties Company Transparent conductive oxides for plastic flat panel displays
KR20010106124A (ko) 1999-04-12 2001-11-29 이와시타 마사히로 고분자재료 조성물
JP2001001478A (ja) 1999-06-22 2001-01-09 Nakae Bussan Kk ポリカーボネート又はポリエチレンテレフタレートの成形物
US6414236B1 (en) 1999-06-30 2002-07-02 Canon Kabushiki Kaisha Solar cell module
JP2001019895A (ja) 1999-07-05 2001-01-23 Nakae Bussan Kk フッ素樹脂含有コーティング用組成物
JP4220620B2 (ja) 1999-07-09 2009-02-04 株式会社日本触媒 高耐光性ポリウレタン繊維および該繊維の製造方法
US6251521B1 (en) 1999-08-09 2001-06-26 3M Innovative Properties Company Polymeric compositions
JP2001123107A (ja) 1999-10-25 2001-05-08 Honny Chem Ind Co Ltd 電着塗料用水溶性樹脂組成物およびこれを用いて構成した電着塗料ならびにこれにより形成された電着塗膜
DE60042561D1 (de) 1999-10-27 2009-08-27 3M Innovative Properties Co Fluorochemische sulfonamide tenside
US6352778B1 (en) 1999-12-20 2002-03-05 General Electric Company Coating compositions containing silylated aroylresorcinols, method, and articles coated therewith
JP2001323209A (ja) 2000-05-12 2001-11-22 Mitsubishi Rayon Co Ltd 水性被覆組成物
US7236290B1 (en) 2000-07-25 2007-06-26 E Ink Corporation Electrophoretic medium with improved stability
JP2002060575A (ja) 2000-08-17 2002-02-26 Asahi Glass Co Ltd 水性樹脂組成物
AU2001283381A1 (en) 2000-08-18 2002-03-04 3M Innovative Properties Company Fluoroalkyl (meth)acrylate copolymer coating compositions
KR100842969B1 (ko) 2000-12-01 2008-07-01 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 고온 적용에 유용한 가교결합된 감압성 접착제 조성물, 이를 기재로 하는 접착제 물품 및 이 물품을 사용하여 기판을 보호하는 방법
JP2002194266A (ja) 2000-12-26 2002-07-10 Mitsubishi Rayon Co Ltd 被覆組成物
JP4843846B2 (ja) 2000-12-28 2011-12-21 旭硝子株式会社 紫外線吸収剤を含有する水性塗料用組成物およびその製造方法
JP4843852B2 (ja) 2001-02-28 2011-12-21 旭硝子株式会社 塗料用組成物
JP2003040937A (ja) 2001-07-27 2003-02-13 Ipposha Oil Ind Co Ltd 高分子光安定剤
JP2003129033A (ja) 2001-10-23 2003-05-08 Otsuka Chem Co Ltd 紫外線吸収性重合体、ポリオレフィン系材料及び該材料からなるシート、フィルム
JP4142306B2 (ja) * 2002-02-18 2008-09-03 株式会社日本触媒 紫外線遮蔽層形成用樹脂組成物および紫外線遮蔽性積層体
JP2003266449A (ja) 2002-03-15 2003-09-24 Matsushita Electric Works Ltd 人造大理石の製造方法
DE10239422A1 (de) 2002-08-28 2004-03-18 Hartmetall-Werkzeugfabrik Paul Horn Gmbh Werkzeug zur spanenden Bearbeitung
JP2004148542A (ja) 2002-10-28 2004-05-27 Sekisui Chem Co Ltd 光学フィルムおよび偏光板
JP2004161800A (ja) 2002-11-08 2004-06-10 Toray Ind Inc 2軸配向ポリエステルフィルム
US6923921B2 (en) 2002-12-30 2005-08-02 3M Innovative Properties Company Fluorinated polyether compositions
JP4163520B2 (ja) * 2003-01-09 2008-10-08 株式会社日本触媒 水系紫外線吸収性樹脂組成物およびその製造方法
US20040191550A1 (en) 2003-03-27 2004-09-30 Sumitomo Chemical Company, Limited Resin plate
US7018713B2 (en) 2003-04-02 2006-03-28 3M Innovative Properties Company Flexible high-temperature ultrabarrier
JP2005042019A (ja) 2003-07-23 2005-02-17 Ipposha Oil Ind Co Ltd フッ素塗料添加用高分子紫外線吸収剤およびそれを含む塗料組成物
EP1680465A1 (en) 2003-11-04 2006-07-19 Cytec Technology Corp. Uv stabilizing additive composition
US20050129569A1 (en) 2003-12-15 2005-06-16 Becton, Dickinson And Company Terminal sterilization of prefilled containers
JP2005187662A (ja) 2003-12-25 2005-07-14 Panac Co Ltd 紫外線吸収性粘着剤および紫外線吸収性粘着シート
JP2005290269A (ja) 2004-04-01 2005-10-20 Sekisui Chem Co Ltd 硬化性組成物、シーリング材及び接着剤
US7101618B2 (en) 2004-05-07 2006-09-05 3M Innovative Properties Company Article comprising fluorochemical surface layer
US20050277729A1 (en) 2004-05-26 2005-12-15 Nippon Shokubai Co., Ltd. Pressure-sensitive adhesive composition
US7452602B2 (en) 2004-08-11 2008-11-18 Kaneka Corporation Vinylidene fluoride-based resin film
US7682771B2 (en) 2004-12-29 2010-03-23 3M Innovative Properties Company Compositions containing photosensitive fluorochemical and uses thereof
JP4604048B2 (ja) 2005-05-26 2010-12-22 三菱レイヨン株式会社 水性樹脂組成物及びそれを用いた水性塗料用耐候性向上材、熱可塑性樹脂用耐候性向上材、溶剤系塗料用耐候性向上材
KR20060130397A (ko) 2005-06-14 2006-12-19 조선대학교산학협력단 실리콘 아크릴레이트를 함유한 자외선 경화형 감압성점착제 조성물 및 상기 조성물로 광경화 접착된 물품
KR101177912B1 (ko) 2005-11-03 2012-08-29 도레이첨단소재 주식회사 우수한 신뢰성과 자외선 흡수성을 구비한 감압성 접착제조성물
US7901778B2 (en) 2006-01-13 2011-03-08 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Weatherable multilayer film
JP4947764B2 (ja) 2006-02-03 2012-06-06 三菱レイヨン株式会社 水性被覆材
CA2644773C (en) 2006-03-10 2015-01-27 Teijin Chemicals Ltd. Laminate
JP2007297619A (ja) 2006-04-06 2007-11-15 Nippon Shokubai Co Ltd 熱可塑性樹脂組成物、及び、押出しフィルム又はシート
US9371471B2 (en) 2006-05-11 2016-06-21 Henkel Ag & Co. Kgaa Acrylic hot melt adhesives
EP2038332B1 (en) 2006-06-29 2013-11-06 Avery Dennison Corporation Polyvinylidene fluoride films and laminates thereof
DE602006017124D1 (de) 2006-12-18 2010-11-04 3M Innovative Properties Co (meth)acrylharzzusammensetzung und folien daraus
JP5255213B2 (ja) * 2007-02-21 2013-08-07 株式会社日本触媒 紫外線吸収性樹脂組成物、および該紫外線吸収性樹脂組成物を用いた積層体
DE102007029263A1 (de) 2007-06-22 2008-12-24 Evonik Röhm Gmbh PMMA/PVDF-Folie mit besonders hoher Witterungsbeständigkeit und hoher UV-Schutzwirkung
KR20090089088A (ko) 2008-02-18 2009-08-21 한국세라믹기술원 벤조트리아졸계 아크릴 공중합체를 포함하는 자외선 흡수제및 이의 제조를 위한 자외선 흡수제 조성물
US20090283144A1 (en) 2008-05-14 2009-11-19 3M Innovative Properties Company Solar concentrating mirror
JP5681488B2 (ja) 2008-06-10 2015-03-11 株式会社カネカ フッ素樹脂フィルム及びそれを含む成形品
US8003132B2 (en) 2008-06-30 2011-08-23 Johnson & Johnson Consumer Companies, Inc. Compositions comprising an ultraviolet radiation-absorbing polymer
JP2010126690A (ja) 2008-11-28 2010-06-10 Nippon Shokubai Co Ltd 電気絶縁性付与用樹脂組成物
CN102333998B (zh) 2008-12-30 2015-08-05 3M创新有限公司 宽带反射器、集光型太阳能发电系统、以及使用它们的方法
TW201043460A (en) 2009-04-30 2010-12-16 Mitsubishi Plastics Inc Solar cell sheet and solar cell module
TWI448492B (zh) 2009-07-30 2014-08-11 Dainichiseika Color Chem Masterbatch, and such a liquid composition of use
JP5583376B2 (ja) * 2009-09-15 2014-09-03 富士フイルム株式会社 インクジェット用インク組成物
JP2011068708A (ja) 2009-09-24 2011-04-07 Nippon Kayaku Co Ltd 耐光性に優れたレンズシート用エネルギー線硬化型樹脂組成物及びその硬化物
WO2011062932A1 (en) 2009-11-18 2011-05-26 3M Innovative Properties Company Flexible assembly and method of making and using the same
CN102666715B (zh) 2009-11-30 2014-06-25 电气化学工业株式会社 聚偏氟乙烯系树脂组合物、薄膜、背板及太阳能电池组件
US20110297228A1 (en) 2009-12-07 2011-12-08 Rongfu Li Uv blocking fluoropolymer film
EP2544896A4 (en) 2010-03-12 2015-12-02 Saint Gobain Performance Plast MULTI-LAYER FILM FOR PHOTOVOLTAIC APPLICATIONS
US9254506B2 (en) 2010-07-02 2016-02-09 3M Innovative Properties Company Moisture resistant coating for barrier films
TWI559472B (zh) * 2010-07-02 2016-11-21 3M新設資產公司 具封裝材料與光伏打電池之阻隔組合
JP5798727B2 (ja) 2010-09-29 2015-10-21 富士フイルム株式会社 重合体、高分子組成物、紫外線吸収剤、塗料及び樹脂成形物
JP5685424B2 (ja) 2010-11-22 2015-03-18 Agcコーテック株式会社 Led装置用塗料組成物、それを用いたled装置及びledランプ
JP5722090B2 (ja) 2011-03-14 2015-05-20 日東電工株式会社 粘着剤組成物、及び、粘着シート
ES2638897T3 (es) 2011-09-16 2017-10-24 Benz Research And Development Corporation Materiales absorbentes de luz ultravioleta para lentes intraoculares y usos de los mismos
US9293739B2 (en) 2011-12-20 2016-03-22 E I Du Pont De Nemours And Company Process and materials for making contained layers and devices made with same
JPWO2013147101A1 (ja) 2012-03-30 2015-12-14 リンテック株式会社 自動車ホイール保護用粘着フィルム
WO2013172930A1 (en) 2012-05-15 2013-11-21 Illinois Tool Works Inc. Replaceable solar wavelength - converting film
JP6363072B2 (ja) 2012-06-19 2018-07-25 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 低表面エネルギー基及びヒドロキシル基を含む添加剤、並びにコーティング組成物
TWI610806B (zh) 2012-08-08 2018-01-11 3M新設資產公司 障壁膜,製造該障壁膜之方法,及包含該障壁膜之物件
CN103627056B (zh) 2012-08-23 2018-01-12 普立万聚合体(上海)有限公司 紫外稳定的聚烯烃混合物
JP2014111715A (ja) 2012-10-31 2014-06-19 Nitto Denko Corp 紫外線硬化型アクリル系粘着剤層を有する粘着シートの製造方法
KR20140074581A (ko) 2012-12-10 2014-06-18 동우 화인켐 주식회사 아크릴계 공중합체, 이를 함유하는 점착제 조성물 및 이를 이용한 편광판
US20160200884A1 (en) 2013-08-14 2016-07-14 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Film comprising vinylidene fluoride resin, laminated film, and laminate
US11110689B2 (en) * 2014-06-25 2021-09-07 3M Innovative Properties Company Pressure sensitive adhesive composition including ultraviolet light-absorbing oligomer
JP2017528537A (ja) 2014-06-25 2017-09-28 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー トリアジン基を含むコポリマー、並びにそれらを含む組成物
US10125251B2 (en) 2014-06-25 2018-11-13 3M Innovative Properties Company Fluoropolymer composition including at least one oligomer

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5723513A (en) * 1990-02-07 1998-03-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Polymers containing halomethyl-1,3,5-triazine moieties
JP2000154497A (ja) * 1998-11-13 2000-06-06 Nicca Chemical Co Ltd インクジェット記録用紙用耐水性向上剤及びインクジェット記録用紙
JP2002146155A (ja) * 2000-11-16 2002-05-22 Daicel Chem Ind Ltd 水性樹脂分散液及びそれを含む水性塗料
WO2014100580A1 (en) * 2012-12-20 2014-06-26 3M Innovative Properties Company Fluoropolymer composition including an oligomer having an ultraviolet absorbing group
WO2014100551A1 (en) * 2012-12-20 2014-06-26 3M Innovative Properties Company Copolymers including ultraviolet absorbing groups and fluoropolymer compositions including them

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111499811A (zh) * 2020-06-05 2020-08-07 中国科学院兰州化学物理研究所 一种耐磨防雾树脂及其制备方法以及一种防雾涂层
CN111499811B (zh) * 2020-06-05 2022-02-11 中国科学院兰州化学物理研究所 一种耐磨防雾树脂及其制备方法以及一种防雾涂层

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018527420A (ja) 2018-09-20
EP3313906B1 (en) 2020-08-05
JP6940418B2 (ja) 2021-09-29
CN107709385B (zh) 2020-06-12
KR20180021094A (ko) 2018-02-28
EP3313906A4 (en) 2019-03-13
US10519350B2 (en) 2019-12-31
WO2016210140A1 (en) 2016-12-29
EP3313906A1 (en) 2018-05-02
US20180187053A1 (en) 2018-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106661400B (zh) 包括紫外光吸收低聚物的压敏粘合剂组合物
CN107709385A (zh) 包含紫外光吸收基团的共聚物和包含该共聚物的组合物
CN103079816B (zh) 具有包封剂和光伏电池的阻挡组件
TWI624519B (zh) 包含具有吸收紫外線基團之寡聚物之氟聚合物組合物
CN104768758B (zh) 阻隔膜、阻隔膜的制备方法以及包括阻隔膜的制品
KR101447311B1 (ko) 점착시트, 터치패널용 상부전극 및 화상표시장치
KR101411682B1 (ko) 다층 필름 및 이를 포함하는 광전지 모듈
US11110689B2 (en) Pressure sensitive adhesive composition including ultraviolet light-absorbing oligomer
CN103988578B (zh) 边缘受保护的阻隔组件
KR20150016876A (ko) 점착제 조성물, 점착 필름 및 이를 이용한 유기전자장치의 봉지방법
US20150243816A1 (en) Methods of making barrier assemblies
CN103733725A (zh) 阻隔组件
CN107848278A (zh) 超薄阻挡层合件和装置
CN103733305B (zh) 制备抗分层组件的方法
WO2016052133A1 (ja) 積層体
CN103733726B (zh) 边缘受保护的阻隔组件
WO2017031298A1 (en) Composite article and methods of making the same
KR20130121349A (ko) 고차단성 코팅층 함유 태양전지 모듈용 백시트
JP4660865B2 (ja) 易接着性ポリアミドフィルム
JP6469605B2 (ja) ガスバリアフィルム
KR20120070091A (ko) 태양전지 이면 보호 시트 및 이를 포함하는 태양전지 모듈

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant